JP2010001511A - Method of manufacturing plated product, and plated product manufactured thereby - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a uniformly plated product having a metal plating film with excellent adhesiveness to a base material, and having no exposed portions (irregularities) on a surface of the film. <P>SOLUTION: A method of manufacturing a plated product comprises: (A) a step of forming a coating film layer including reducing polymer particles and binder on a base material; (B) a step of adsorbing catalyst metal on the coating film layer; (C) a step of reducing the adsorbed catalyst metal; and (D) a step of executing the electroless plating by immersing the base material subjected to the reduction in a plating bath. Conductive polymer particles which are reduced through the de-doping treatment are used as the reducing polymer particles. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、無電解めっき法を用いる、基材との密着性に優れる金属めっき膜を有し、該膜の表面には露出部(ムラ)がなく均一であるめっき物の製造方法及びそれにより製造されるめっき物に関するものである。   The present invention has a metal plating film having excellent adhesion to a substrate using an electroless plating method, and there is no exposed portion (unevenness) on the surface of the film. The present invention relates to a plated product to be manufactured.

基材上に導電性高分子層を形成し該導電性高分子層上にめっきを施すことにより電気回路を作製する無電解めっき法が幾つか提案されている。   Several electroless plating methods for producing an electric circuit by forming a conductive polymer layer on a substrate and plating the conductive polymer layer have been proposed.

特許第3208735号公報(特許文献1)は、金属化される物質がポリアニリンを含有する被覆を施され、ポリアニリンが還元により活性化され、及び、被覆を施された物質を金属のイオン含有溶液と接触せしめることにより、非電気化学的方法で金属が物質に付着されることを特徴とする金属化物質の製造方法を開示している。
上記プロセスの具体例としては、
1)ポリアニリン含有ポリアミド系混合物(オーメコン 900187/34)をポリアミドフィルムに層の厚みが100μmのドクターブレードを用いて被覆する、
2)13g/Lの硫酸ヒドラジニウムを含んだ1N水酸化ナトリウム溶液に浸漬され、還元のために24時間室温で窒素雰囲気下に維持される、
3)0.1N銅トシレート/0.01Nドデシルベンゼンスルホン酸(pH4)の溶液に移され、銅の付着のために5時間窒素雰囲気下で放置する、
ことによるブロンズ色のフィルムを得る方法が開示されている。
Japanese Patent No. 3208735 (Patent Document 1) discloses that a metallized substance is coated with polyaniline, polyaniline is activated by reduction, and the coated substance is treated with a metal ion-containing solution. Disclosed is a method for producing a metallized material, characterized in that the metal is attached to the material by non-electrochemical methods by contacting.
As a concrete example of the above process,
1) A polyaniline-containing polyamide-based mixture (Omecon 9000018/34) is coated on a polyamide film using a doctor blade having a layer thickness of 100 μm.
2) Soaked in 1N sodium hydroxide solution containing 13 g / L hydrazinium sulfate and kept under nitrogen atmosphere at room temperature for 24 hours for reduction;
3) It is transferred to a solution of 0.1N copper tosylate / 0.01N dodecylbenzenesulfonic acid (pH 4) and left in a nitrogen atmosphere for 5 hours for copper adhesion.
A method for obtaining a bronze film is disclosed.

特開2007−270180号公報(特許文献1)は、基材フィルム上にパターン化された金属膜が形成されためっきフィルムの製造方法であって、
1)有機溶媒と、水と、アニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤を混合撹拌してなるO/W型の乳化液中に、ピロール及び/又はピロール誘導体のモノマーを添加し、該モノマーを酸化重合することにより、有機溶媒に分散した導電率が0.01S/cm未満である微粒子を得る工程、
2)前記微粒子が分散された塗料を基材フィルム上に印刷してパターン化されたポリマー層を形成する工程、
3)前記ポリマー層に無電解めっき液から金属膜を化学めっきする工程、
よりなる製造方法を開示する。
上記プロセスの具体例としては、
1)アニオン性界面活性剤とノニオン界面活性剤、トルエン、イオン交換水を加えて乳化するまで攪拌し、得られた乳化剤にピロールモノマーを加え、過硫酸アンモニウムを加えて酸化重合を行い、反応終了後に有機相を回収してトルエンに分散した還元性能を有するポリピロール微粒子(0.001S/cm)を得る、
2)バインダーとしてスーパーベッカミンJ−820を加え、ポリピロール:バインダー樹脂=1:3(固形分5%)になる還元性を有したポリピロール塗料を調整し、これを厚み:100μmのポリエステルフィルムにインクジェット印刷機を用いて印刷してパターン化されたポリマー層を形成する、
3)ポリマー層が形成されたフィルムを塩化パラジウム溶液中に浸漬−水洗した後、無電解めっき浴に浸漬する、
ことによる、印刷膜(ポリマー層)が形成された部分にのみ銅めっきが施されたポリエステルフィルムの製造方法を開示する。
特許第3208735号公報 特開2007−270180号公報
JP 2007-270180 A (Patent Document 1) is a method of manufacturing a plated film in which a patterned metal film is formed on a base film,
1) A monomer of pyrrole and / or a pyrrole derivative is added to an O / W emulsion obtained by mixing and stirring an organic solvent, water, an anionic surfactant and a nonionic surfactant, and the monomer. A step of obtaining fine particles having an electrical conductivity dispersed in an organic solvent of less than 0.01 S / cm by oxidative polymerization of
2) A step of printing a paint in which the fine particles are dispersed on a base film to form a patterned polymer layer;
3) a step of chemically plating a metal film from an electroless plating solution on the polymer layer;
A manufacturing method is disclosed.
As a concrete example of the above process,
1) Add an anionic surfactant and a nonionic surfactant, toluene, and ion-exchanged water and stir until emulsified. Add pyrrole monomer to the resulting emulsifier, add ammonium persulfate to perform oxidative polymerization. Collecting the organic phase and obtaining polypyrrole fine particles (0.001 S / cm) having a reducing performance dispersed in toluene,
2) Superbecamine J-820 was added as a binder, and a polypyrrole paint having a reducing property of polypyrrole: binder resin = 1: 3 (solid content 5%) was prepared, and this was ink jetted onto a polyester film having a thickness of 100 μm. Printing with a printing press to form a patterned polymer layer;
3) The film on which the polymer layer is formed is immersed in a palladium chloride solution and washed with water, and then immersed in an electroless plating bath.
The manufacturing method of the polyester film by which copper plating was given only to the part in which the printing film (polymer layer) was formed by this.
Japanese Patent No. 3208735 JP 2007-270180 A

特許文献1は、ポリアニリン等の既に重合された導電性高分子を用いる金属化物質の製造方法を開示する。特許文献1に記載の製造方法においては、非電気化学的方法(=無電解)で導電性高分子層上にめっきを行って金属を付着させる前に、該導電性高分子をヒドラジン等の化学的還元剤で還元(=脱ドープ)して活性化する必要があり、しかも、脱ドープ後、Pd等の触媒を用いずにめっきを行って金属を付着させるため、導電性高分子層を厚く塗布する必要があった。その結果、該導電性高分子の化学的還元(=脱ドープ)は、水酸化ナトリウム等の強アルカリ中において24時間という長時間の間、室温で浸漬して還元(=脱ドープ)状態にしなければならなかった。そのため、このアルカリ処理液に長時間耐えられる基材フィルムしか使用できず、使用できる基材が特定のものに限定されてしまうこと、また、該処理によりポリアニリン自身の塗膜の強度が低下し、基材フィルムとの密着性が低下する問題があった。   Patent Document 1 discloses a method for producing a metallized material using an already polymerized conductive polymer such as polyaniline. In the production method described in Patent Document 1, before conducting plating on a conductive polymer layer by a non-electrochemical method (= electroless) to deposit a metal, the conductive polymer is treated with a chemical such as hydrazine. It is necessary to reduce (= de-dope) with an active reducing agent to activate, and after de-doping, plating is performed without using a catalyst such as Pd to deposit the metal, so that the conductive polymer layer is thickened. It was necessary to apply. As a result, the chemical reduction (= de-doping) of the conductive polymer must be immersed in a strong alkali such as sodium hydroxide for 24 hours at room temperature for a reduced (= de-doped) state. I had to. Therefore, only the base film that can withstand this alkaline treatment liquid for a long time can be used, and the base material that can be used is limited to a specific one, and the treatment reduces the strength of the coating film of polyaniline itself, There was a problem that the adhesiveness with the base film was lowered.

特許文献2は、基材上に還元性を有したポリピロールとバインダーを含むポリマー層を形成し、該層上にPd等の触媒の吸着を介して無電解めっき液から金属膜を化学めっきするめっきフィルムの製造方法を開示するが、該方法は、還元性を有したポリピロールを使用するため、化学的還元(=脱ドープ)処理を必要とせず、そのため、特許文献1において生じる密着性の低下の問題が起こり得ないという点で優れた方法といえる。
特許文献2に記載のめっきフィルムにおいて、塗膜層中のバインダーの比率を上げてゆくと、相対的に塗膜層に存在する還元性を有したポリピロールが少なくなり、そうすると、塗膜層上に吸着したPd等の触媒の還元能力が減少してゆき、めっきの析出にむらが見られたり、完全にめっきが析出しなくなるという問題があった。
Patent Document 2 discloses plating in which a polymer layer containing a reducing polypyrrole and a binder is formed on a substrate, and a metal film is chemically plated from an electroless plating solution through adsorption of a catalyst such as Pd on the layer. Although a method for producing a film is disclosed, since this method uses a polypyrrole having reducibility, it does not require a chemical reduction (= de-doping) treatment. This is an excellent method in that no problems can occur.
In the plated film described in Patent Document 2, when the ratio of the binder in the coating layer is increased, the polypyrrole having reducibility that is relatively present in the coating layer is decreased. There has been a problem that the reducing ability of the catalyst such as adsorbed Pd is decreased, uneven plating is observed, or plating is not completely deposited.

本発明は、無電解めっき法を用いる、基材との密着性に優れる金属めっき膜を有し、該膜の表面には露出部(ムラ)がなく均一であるめっき物の製造方法及びそれにより製造されるめっき物の提供を課題とする。   The present invention has a metal plating film having excellent adhesion to a substrate using an electroless plating method, and a method for producing a plated product that is uniform with no exposed portions (unevenness) on the surface of the film, and thereby An object is to provide a plated product to be manufactured.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、基材上に形成した還元性高分子微粒子及びバインダーを含む塗膜層上に、触媒金属の吸着を介して無電解めっき法により金属めっき膜を形成する工程において、触媒金属を吸着させた後に、還元処理を行うと、塗膜層上に吸着した触媒金属の還元能力が向上し、これにより、還元性高分子微粒子の僅かな量の存在下においても効率よく表面に露出部(ムラ)がなく均一である金属めっき膜が形成されることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of diligent investigations to solve the above problems, the present inventors have conducted electroless plating on the coating layer containing reducing polymer fine particles and a binder formed on a substrate through adsorption of a catalytic metal. In the process of forming the metal plating film by the above, if the reduction treatment is performed after the catalytic metal is adsorbed, the reducing ability of the catalytic metal adsorbed on the coating layer is improved, thereby reducing the amount of reducing polymer fine particles. The present invention was completed by finding that a uniform metal plating film having no exposed portion (unevenness) on the surface can be efficiently formed even in the presence of a large amount.

即ち、本発明は、
(1)めっき物の製造方法であって、
A)基材上に還元性高分子微粒子とバインダーを含む塗膜層を形成する工程、
B)前記塗膜層上に触媒金属を吸着させる工程
C)吸着された前記触媒金属を還元処理する工程
D)前記還元処理がなされた基材をめっき浴に浸漬して無電解めっきを行う工程
からなる方法、
(2)前記還元性高分子微粒子として、導電性高分子微粒子を脱ドープ処理して還元性とした微粒子を用いる前記(1)記載の方法、
(3)前記(1)又は(2)記載のめっき物の製造方法により製造されるめっき物、
(4)前記還元性高分子微粒子の平均粒径が10ないし100nmである前記(3)記載のめっき物、
に関するものである。
That is, the present invention
(1) A method for producing a plated article,
A) a step of forming a coating layer containing reducing fine polymer particles and a binder on a substrate;
B) Step of adsorbing catalyst metal on the coating layer C) Step of reducing the adsorbed catalyst metal D) Step of performing electroless plating by immersing the substrate subjected to the reduction treatment in a plating bath A method consisting of,
(2) The method according to the above (1), wherein the reducing polymer fine particle is a fine particle which is reduced by conducting a conductive polymer fine particle.
(3) A plated product manufactured by the method for manufacturing a plated product according to (1) or (2),
(4) The plated product according to (3), wherein the average particle diameter of the reducing polymer fine particles is 10 to 100 nm,
It is about.

本発明により、還元性高分子微粒子の僅かな量の存在下においても、基材との密着性に優れる金属めっき膜を有し、該膜の表面には露出部(ムラ)がなく均一であるめっき物を製造することができる。
また、本発明においては、高価な還元性高分子微粒子の僅かな量の存在下においても効率よくめっきできることから、経済的な面からも優れた方法といえる。
例えば、還元性高分子微粒子1質量部に対するバインダーの使用量は、通常0.1ないし10質量部程度であって、該使用量が10質量部を超える場合には、必ずしも露出部(ムラ)がなく均一である金属めっき膜が形成できない場合があったのに対し、本発明のめっき物の製造方法においては、前記使用量が10質量部を超える場合でも安定して露出部(ムラ)がなく均一である金属めっき膜が形成でき、且つ該金属めっき膜は、基材との密着性に優れる(テープ試験において1.0kgf/cm以上の剥離強度を有する。)ものである。
According to the present invention, even in the presence of a small amount of reducing polymer fine particles, a metal plating film having excellent adhesion to a substrate is provided, and the surface of the film is uniform without any exposed portions (unevenness). A plated product can be manufactured.
In the present invention, the plating can be efficiently performed even in the presence of a small amount of expensive reducing polymer fine particles, so that it can be said to be an excellent method from the economical aspect.
For example, the amount of binder used is usually about 0.1 to 10 parts by weight per 1 part by weight of the reducing fine polymer particles. When the amount used exceeds 10 parts by weight, the exposed part (unevenness) is not necessarily present. However, in the method for producing a plated product according to the present invention, there is no exposed portion (unevenness) stably even when the amount used exceeds 10 parts by mass. A uniform metal plating film can be formed, and the metal plating film has excellent adhesion to the substrate (having a peel strength of 1.0 kgf / cm or more in a tape test).

本発明のめっき物は、還元性高分子微粒子だけでなく、導電性高分子微粒子を用いても同様に製造することができる。この場合、無電解めっきを行う前に、導電性高分子微粒子を脱ドープして還元性にしておく必要があるが、本発明のめっき物においては、比較的薄い層(導電性高分子微粒子層)においても優れた密着性及び均一性を維持できる。
そして導電性高分子微粒子層を比較的薄くできることから短時間のアルカリ処理でも前記脱ドープを達成して塗膜層とすることができ、これにより特許文献1に記載の長時間のアルカリ処理による密着性低下の問題を回避することができる。
The plated product of the present invention can be produced in the same manner by using not only reducing polymer fine particles but also conductive polymer fine particles. In this case, before conducting electroless plating, it is necessary to dedope the conductive polymer fine particles to make them reducible. However, in the plated product of the present invention, a relatively thin layer (conductive polymer fine particle layer) ) Can maintain excellent adhesion and uniformity.
And since the conductive polymer fine particle layer can be made relatively thin, the de-doping can be achieved even in a short time alkali treatment to form a coating film layer. The problem of deterioration in performance can be avoided.

また、本発明のめっき物は、例えば、基材上に形成された還元性高分子微粒子を含む塗膜層上に、パラジウム等の触媒金属を還元・吸着させ、該パラジウム等の触媒金属が吸着された塗膜層上に金属めっき膜を形成することにより製造されるものであるが、塗膜層上に吸着されたパラジウム等の触媒金属は、XPSの分析結果から、還元されて吸着されるもの(例えば、0価のパラジウム)と還元されずに吸着されるもの(例えば、2価のパラジウム)が混在して存在することが判った。
パラジウム等の触媒金属が還元されて高分子微粒子へ吸着される場合は、例えば、ポリピロールの場合、下図で示される状態になると考えられる。

Figure 2010001511
即ち、還元性の高分子微粒子(ポリピロール)がパラジウムイオンを還元することにより、高分子微粒子上にパラジウム(金属)が吸着されるが、これにより、高分子微粒子(ポリピロール)はイオン化される、即ち、パラジウムによりドーピングされた状態となり、結果として導電性を発現する。 In addition, the plated product of the present invention, for example, reduces and adsorbs a catalytic metal such as palladium on a coating layer containing reducible polymer fine particles formed on a substrate, and adsorbs the catalytic metal such as palladium. It is manufactured by forming a metal plating film on the coated film layer, but the catalytic metal such as palladium adsorbed on the coated film layer is reduced and adsorbed from the XPS analysis result. It has been found that there is a mixture of a substance (for example, zero-valent palladium) and a substance that is adsorbed without reduction (for example, divalent palladium).
When a catalytic metal such as palladium is reduced and adsorbed on the polymer fine particles, for example, in the case of polypyrrole, it is considered that the state shown in the following figure is obtained.
Figure 2010001511
That is, the reducing polymer fine particles (polypyrrole) reduce palladium ions to adsorb palladium (metal) on the polymer fine particles, whereby the polymer fine particles (polypyrrole) are ionized. And doped with palladium, and as a result, develops conductivity.

本発明においては、特に、無電解めっきにおいてパラジウム等の触媒金属を吸着させた
後に、還元処理を行って、パラジウム等の触媒金属の還元能力を向上させることが大きな特徴であるが、還元処理を行うことによる、パラジウム等の触媒金属の還元能力が向上する機構は、以下のように考えられる。
Pdが無電解めっきの触媒としての作用を発現するためには、0価(金属状態)で存在することが重要であり、還元性高分子微粒子の量が多い場合は、還元されるPd(0価)も多くなり、これにより無電解めっきの触媒としての作用を発現し易く、その結果、金属めっき膜が形成され易い。
一方、還元性高分子微粒子の量が少なくなると、塗膜層上に吸着されるPd(0価)及びPd(2価)の総量が減少し、その結果、相対的にPd(0価)の存在量が少なくなるため、触媒作用が弱くなり、めっきが析出しにくくなる。
還元処理は、上記のように、Pd(0価)及びPd(2価)の総量が減少した場合であっても、Pd(2価)をPd(0価)に還元して、相対的なPd(0価)の存在量を多くし、これにより、触媒活性を増強して、めっきの析出を向上させたものと考えられる。
上記機構は、例えば、図1に示すように、XPSの分析結果から確認することができる。
図1から判るように、還元処理した塗膜(実線)は、還元処理してない塗膜(点線)よりもPd(2価)(表中、Pd2+と記載される)が減少し、Pd(0価)(表中、Pdと記載される)が増加していることが判る。
In the present invention, the main feature is to improve the reduction ability of the catalyst metal such as palladium by performing a reduction treatment after adsorbing the catalyst metal such as palladium in electroless plating. The mechanism by which the reducing ability of the catalytic metal such as palladium is improved is as follows.
In order for Pd to exhibit an action as a catalyst for electroless plating, it is important that it exists in a zero valence (metal state). When the amount of reducing polymer fine particles is large, Pd (0 The amount of the metal plating film is easily increased, and as a result, the metal plating film is easily formed.
On the other hand, when the amount of the reducing fine polymer particles decreases, the total amount of Pd (0 valence) and Pd (2 valence) adsorbed on the coating layer decreases, and as a result, the relative amount of Pd (0 valence) is relatively reduced. Since the abundance is reduced, the catalytic action is weakened and the plating is difficult to deposit.
As described above, the reduction treatment reduces Pd (divalent) to Pd (zero valent) even when the total amount of Pd (zero valent) and Pd (divalent) decreases, It is considered that the abundance of Pd (zero valence) was increased, thereby enhancing the catalytic activity and improving the deposition of the plating.
The above mechanism can be confirmed from the XPS analysis result, for example, as shown in FIG.
As can be seen from FIG. 1, the reduced coating film (solid line) has a lower Pd (divalent) (denoted as Pd2 + in the table) than the non-reduced coating film (dotted line), and Pd ( 0 value) (denoted as Pd in the table) increases.

更に詳細に本発明を説明する。
本発明は、めっき物の製造方法であって、
A)基材上に還元性高分子微粒子とバインダーを含む塗膜層を形成する工程、
B)前記塗膜層上に触媒金属を吸着させる工程
C)吸着された前記触媒金属を還元処理する工程
D)前記還元処理がなされた基材をめっき浴に浸漬して無電解めっきを行う工程
からなる方法に関する。
The present invention will be described in more detail.
The present invention is a method for producing a plated article,
A) a step of forming a coating layer containing reducing fine polymer particles and a binder on a substrate;
B) Step of adsorbing catalyst metal on the coating layer C) Step of reducing the adsorbed catalyst metal D) Step of performing electroless plating by immersing the substrate subjected to the reduction treatment in a plating bath Relates to a method comprising:

本発明に使用する還元性高分子微粒子は、有機溶媒と水とアニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤とを混合撹拌してなるO/W型の乳化液中に、π−共役二重結合を有するモノマーを添加し、該モノマーを酸化重合することにより製造される。   The reducing polymer fine particle used in the present invention is a π-conjugated double in an O / W type emulsion obtained by mixing and stirring an organic solvent, water, an anionic surfactant and a nonionic surfactant. It is produced by adding a monomer having a bond and subjecting the monomer to oxidative polymerization.

π−共役二重結合を有するモノマーとしては、導電性高分子を製造するために使用されるモノマーであれば特に限定されないが、例えば、ピロール、N−メチルピロール、N−エチルピロール、N−フェニルピロール、N−ナフチルピロール、N−メチル−3−メチルピロール、N−メチル−3−エチルピロール、N−フェニル−3−メチルピロール、N−フェニル−3−エチルピロール、3−メチルピロール、3−エチルピロール、3−n−ブチルピロール、3−メトキシピロール、3−エトキシピロール、3−n−プロポキシピロール、3−n−ブトキシピロール、3−フェニルピロール、3−トルイルピロール、3−ナフチルピロール、3−フェノキシピロール、3−メチルフェノキシピロール、3−アミノピロール、3−ジメチルアミノピロール、3−ジエチルアミノピロール、3−ジフェニルアミノピロール、3−メチルフェニルアミノピロール及び3−フェニルナフチルアミノピロール等のピロール誘導体、アニリン、o−クロロアニリン、m−クロロアニリン、p−クロロアニリン、o−メトキシアニリン、m−メトキシアニリン、p−メトキシアニリン、o−エトキシアニリン、m−エトキシアニリン、p−エトキシアニリン、o−メチルアニリン、m−メチルアニリン及びp−メチルアニリン等のアニリン誘導体、チオフェン、3−メチルチオフェン、3−n−ブチルチオフェン、3−n−ペンチルチオフェン、3−n−ヘキシルチオフェン、3−n−ヘプチルチオフェン、3−n−オクチルチオフェン、3−n−ノニルチオフェン、3−n−デシルチオフェン、3−n−ウンデシルチオフェン、3−n−ドデシルチオフェン、3−メトキシチオフェン、3−ナフトキシチオフェン及び3,4−エチレンジオキシチオフェン等のチオフェン誘導体が挙げられ、好ましく
は、ピロール、アニリン、チオフェン及び3,4−エチレンジオキシチオフェン等が挙げられ、より好ましくはピロールが挙げられる。
The monomer having a π-conjugated double bond is not particularly limited as long as it is a monomer used for producing a conductive polymer, and examples thereof include pyrrole, N-methylpyrrole, N-ethylpyrrole, and N-phenyl. Pyrrole, N-naphthylpyrrole, N-methyl-3-methylpyrrole, N-methyl-3-ethylpyrrole, N-phenyl-3-methylpyrrole, N-phenyl-3-ethylpyrrole, 3-methylpyrrole, 3- Ethyl pyrrole, 3-n-butyl pyrrole, 3-methoxy pyrrole, 3-ethoxy pyrrole, 3-n-propoxy pyrrole, 3-n-butoxy pyrrole, 3-phenyl pyrrole, 3-toluyl pyrrole, 3-naphthyl pyrrole, 3 -Phenoxypyrrole, 3-methylphenoxypyrrole, 3-aminopyrrole, 3-dimethyla Pyrrole derivatives such as nopyrrole, 3-diethylaminopyrrole, 3-diphenylaminopyrrole, 3-methylphenylaminopyrrole and 3-phenylnaphthylaminopyrrole, aniline, o-chloroaniline, m-chloroaniline, p-chloroaniline, o- Aniline derivatives such as methoxyaniline, m-methoxyaniline, p-methoxyaniline, o-ethoxyaniline, m-ethoxyaniline, p-ethoxyaniline, o-methylaniline, m-methylaniline and p-methylaniline, thiophene, 3 -Methylthiophene, 3-n-butylthiophene, 3-n-pentylthiophene, 3-n-hexylthiophene, 3-n-heptylthiophene, 3-n-octylthiophene, 3-n-nonylthiophene, 3-n- Decylthiophene, Examples include thiophene derivatives such as 3-n-undecylthiophene, 3-n-dodecylthiophene, 3-methoxythiophene, 3-naphthoxythiophene and 3,4-ethylenedioxythiophene, preferably pyrrole, aniline, thiophene And 3,4-ethylenedioxythiophene and the like, more preferably pyrrole.

また前記製造に用いるアニオン系界面活性剤としては、種々のものが使用できるが、疎水性末端を複数有するもの(例えば、疎水基に分岐構造を有するものや、疎水基を複数有するもの)が好ましい。このような疎水性末端を複数有するアニオン系界面活性剤を使用することにより、安定したミセルを形成させることができ、重合後において水相と有機溶媒相との分離がスムーズであり、有機溶媒相に分散した還元性高分子微粒子が入手し易い。
疎水性末端を複数有するアニオン系界面活性剤の中でも、スルホコハク酸ジ−2−エチルヘキシルナトリウム(疎水性末端4つ)、スルホコハク酸ジ−2−エチルオクチルナトリウム(疎水性末端4つ)および分岐鎖型アルキルベンゼンスルホン酸塩(疎水性末端2つ)が好適に使用できる。
Various anionic surfactants used in the production can be used, but those having a plurality of hydrophobic ends (for example, those having a branched structure in a hydrophobic group or those having a plurality of hydrophobic groups) are preferred. . By using such an anionic surfactant having a plurality of hydrophobic ends, stable micelles can be formed, and separation between the aqueous phase and the organic solvent phase is smooth after the polymerization. Reducible polymer fine particles dispersed in are easily available.
Among anionic surfactants having multiple hydrophobic ends, di-2-ethylhexyl sodium sulfosuccinate (4 hydrophobic ends), di-2-ethyloctyl sodium sulfosuccinate (4 hydrophobic ends) and branched type Alkyl benzene sulfonate (two hydrophobic ends) can be preferably used.

反応系中でのアニオン系界面活性剤の量は、π−共役二重結合を有するモノマー1molに対し0.05mol未満であることが好ましく、さらに好ましくは0.005mol〜0.03molである。0.05mol以上では添加したアニオン性界面活性剤がドーパントとして作用し、得られる微粒子は導電性を発現するため、これを用いて無電解めっきを行うためには脱ドープの工程が必要となる。   The amount of the anionic surfactant in the reaction system is preferably less than 0.05 mol, more preferably 0.005 mol to 0.03 mol, with respect to 1 mol of the monomer having a π-conjugated double bond. When the amount is 0.05 mol or more, the added anionic surfactant acts as a dopant, and the resulting fine particles exhibit conductivity. Therefore, in order to perform electroless plating using this, a dedoping step is required.

ノニオン系界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル類、アルキルグルコシド類、グリセリン脂肪酸エステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビダン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、脂肪酸アルカノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類が挙げられる。これらを一種類または複数混ぜて使用してもよい。特に安定的にO/W型エマルションを形成するものが好ましい。   Nonionic surfactants include, for example, polyoxyethylene alkyl ethers, alkyl glucosides, glycerin fatty acid esters, sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene sorbidic fatty acid esters, polyoxyethylene fatty acid esters, fatty acid alkanolamides, poly Examples include oxyethylene alkylphenyl ethers. These may be used alone or in combination. In particular, those that stably form an O / W emulsion are preferred.

反応系中でのノニオン系界面活性剤の量は、π−共役二重結合を有するモノマー1molに対し、アニオン系界面活性剤と足して0.2mol以下であることが好ましく、さらに好ましくは0.05〜0.15molである。0.05mol未満では収率や分散安定性が低下し、一方、0.2mol以上では合後において、水相と有機溶媒相との分離が困難になり、有機溶媒相にある還元性高分子微粒子を得る事ができなくなる事から好ましくない。 The amount of the nonionic surfactant in the reaction system is preferably 0.2 mol or less, more preferably 0.2 mol or less with respect to 1 mol of the monomer having a π-conjugated double bond, in addition to the anionic surfactant. It is 05-0.15 mol. If it is less than 0.05mol decreases the yield and dispersion stability, whereas, after Polymerization at least 0.2 mol, separation of the aqueous and organic solvent phases becomes difficult, reducing polymer in the organic solvent phase This is not preferable because fine particles cannot be obtained.

前記製造において乳化液の有機相を形成する有機溶媒は疎水性であることが好ましい。なかでも、芳香族系の有機溶媒であるトルエンやキシレンは、O/W型エマルションの安定性およびπ−共役二重結合を有するモノマーとの親和性の観点から好ましい。両性溶媒でもπ−共役二重結合を有するモノマーの重合を行うことはできるが、生成した還元性高分子微粒子を回収する際の有機相と水相との分離が困難になる。   In the production, the organic solvent forming the organic phase of the emulsion is preferably hydrophobic. Among these, toluene and xylene, which are aromatic organic solvents, are preferable from the viewpoint of the stability of the O / W emulsion and the affinity with the monomer having a π-conjugated double bond. Although the amphoteric solvent can polymerize a monomer having a π-conjugated double bond, it is difficult to separate the organic phase and the aqueous phase when the produced reducing polymer fine particles are recovered.

乳化液における有機相と水相との割合は、水相が75体積%以上であることが好ましい。水相が20体積%以下ではπ−共役二重結合を有するモノマーの溶解量が少なくなり、生産効率が悪くなる。   The ratio of the organic phase to the aqueous phase in the emulsion is preferably 75% by volume or more in the aqueous phase. When the water phase is 20% by volume or less, the amount of the monomer having a π-conjugated double bond is reduced, and the production efficiency is deteriorated.

前記製造で使用する酸化剤としては、例えば、硫酸、塩酸、硝酸およびクロロスルホン酸のような無機酸、アルキルベンゼンスルホン酸およびアルキルナフタレンスルホン酸のような有機酸、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムおよび過酸化水素のような過酸化物が使用できる。これらは単独で使用しても、二種類以上を併用してもよい。塩化第二鉄等のルイス酸でもπ−共役二重結合を有するモノマーを重合できるが、生成した粒子が凝集し、微分散できない場合がある。特に好ましい酸化剤は、過硫酸アンモニウム等の過硫酸
塩である。
Examples of the oxidizing agent used in the production include inorganic acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid and chlorosulfonic acid, organic acids such as alkylbenzenesulfonic acid and alkylnaphthalenesulfonic acid, potassium persulfate, ammonium persulfate and peroxidation. Peroxides such as hydrogen can be used. These may be used alone or in combination of two or more. Even a Lewis acid such as ferric chloride can polymerize a monomer having a π-conjugated double bond, but the produced particles may aggregate and be unable to be finely dispersed. Particularly preferred oxidizing agents are persulfates such as ammonium persulfate.

反応系中での酸化剤の量は、π−共役二重結合を有するモノマー1molに対して0.1mol以上、0.8mol以下であることが好ましく、さらに好ましくは0.2〜0.6molである。0.1mol未満ではモノマーの重合度が低下し、ポリマー微粒子を分液回収することが困難になり、一方、0.8mol以上では凝集してポリマー微粒子の粒径が大きくなり、分散安定性が悪化する。   The amount of the oxidizing agent in the reaction system is preferably 0.1 mol or more and 0.8 mol or less, more preferably 0.2 to 0.6 mol with respect to 1 mol of the monomer having a π-conjugated double bond. is there. If the amount is less than 0.1 mol, the degree of polymerization of the monomer decreases, making it difficult to separate and collect the polymer fine particles. On the other hand, if the amount is 0.8 mol or more, the particles are aggregated to increase the particle size of the polymer fine particles, resulting in poor dispersion stability To do.

前記ポリマー微粒子の製造方法は、例えば以下のような工程で行われる:
(a)アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、有機溶媒および水を混合攪拌し乳化液を調製する工程、
(b)π−共役二重結合を有するモノマーを乳化液中に分散させる工程、
(c)モノマーを酸化重合させる工程、
(d)有機相を分液しポリマー微粒子を回収する工程。
The polymer fine particle production method is performed, for example, in the following steps:
(A) a step of preparing an emulsion by mixing and stirring an anionic surfactant, a nonionic surfactant, an organic solvent and water;
(B) a step of dispersing a monomer having a π-conjugated double bond in an emulsion,
(C) oxidative polymerization of the monomer,
(D) A step of separating the organic phase and collecting the polymer fine particles.

前記各工程は、当業者に既知である手段を利用して行うことができる。例えば、乳化液の調製時に行う混合攪拌は、特に限定されないが、例えばマグネットスターラー、攪拌機、ホモジナイザー等を適宜選択して行うことができる。また重合温度は0〜25℃で、好ましくは20℃以下である。重合温度が25℃を越えると副反応が起こるので好ましくない。   Each of the above steps can be performed using means known to those skilled in the art. For example, the mixing and stirring performed at the time of preparing the emulsion is not particularly limited. For example, a magnetic stirrer, a stirrer, a homogenizer, or the like can be selected as appropriate. The polymerization temperature is 0 to 25 ° C, preferably 20 ° C or less. If the polymerization temperature exceeds 25 ° C., side reactions occur, which is not preferable.

酸化重合反応が停止されると、反応系は有機相と水相の二相に分かれるが、この際に未反応のモノマー、酸化剤および塩は水相中に溶解して残存する。ここで有機相を分液回収し、イオン交換水で数回洗浄すると、有機溶媒に分散した還元性高分子微粒子を入手することができる。   When the oxidative polymerization reaction is stopped, the reaction system is divided into an organic phase and an aqueous phase. At this time, unreacted monomers, oxidizing agents and salts remain dissolved in the aqueous phase. When the organic phase is separated and recovered and washed several times with ion-exchanged water, reducing polymer fine particles dispersed in an organic solvent can be obtained.

上記の製造法により得られるポリマー微粒子は、主としてπ−共役二重結合を有するモノマー誘導体のポリマーよりなり、そしてアニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤を含む微粒子である。そしてその特徴は、微細な粒径を有し、有機溶媒中で分散可能であることである。
ポリマー微粒子は球形の微粒子となるが、その平均粒径は、10〜100nmとするのが好ましい。
上記のように平均粒径の小さな微粒子にすることで、微粒子の表面積が極めて大きくなり、同一質量の微粒子でも、より多くの触媒金属を吸着できるようになり、それにより塗膜層の薄膜化が可能となる。
得られたポリマー微粒子の導電率は0.01S/cm未満であり、好ましくは、0.005S/cm以下である。
The polymer fine particles obtained by the above production method are fine particles mainly composed of a polymer of a monomer derivative having a π-conjugated double bond and containing an anionic surfactant and a nonionic surfactant. And the characteristic is that it has a fine particle size and is dispersible in an organic solvent.
The polymer fine particles are spherical fine particles, and the average particle size is preferably 10 to 100 nm.
By making fine particles with a small average particle diameter as described above, the surface area of the fine particles becomes extremely large, and even with fine particles of the same mass, more catalytic metals can be adsorbed, thereby reducing the thickness of the coating layer. It becomes possible.
The conductivity of the obtained polymer fine particles is less than 0.01 S / cm, and preferably 0.005 S / cm or less.

こうして得られた有機溶媒に分散した還元性高分子微粒子は、そのままで、濃縮して、又は乾燥させて塗料の還元性高分子微粒子成分として使用することができる。
また、上記のようにして製造された還元性高分子微粒子でなくとも、例えば、市販で入手できる還元性高分子微粒子を塗料の成分として使用することもできる。
The reductive polymer fine particles dispersed in the organic solvent thus obtained can be used as the reductive polymer fine particle component of the coating as it is, after being concentrated or dried.
Further, for example, commercially available reducing polymer fine particles may be used as a component of the coating material, instead of the reducing polymer fine particles produced as described above.

本発明に使用する塗料は、還元性高分子微粒子とバインダーを含む塗料である。
バインダーとしては、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹
脂、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ABS樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミ
ン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂等が挙げられる。
使用するバインダー量は、還元性高分子微粒子1質量部に対して5質量部ないし50質量部とするのが好ましい。バインダーが50質量部を超えると金属めっきが析出しにくくなる場合があり、バインダーが5質量部未満であると、優れた密着性が得られにくくなる場合がある。
The coating material used in the present invention is a coating material containing reducing fine polymer particles and a binder.
Examples of the binder include polyvinyl chloride, polycarbonate, polystyrene, polymethyl methacrylate, polyester, polysulfone, polyphenylene oxide, polybutadiene, poly (N-vinylcarbazole), hydrocarbon resin, ketone resin, phenoxy resin, polyamide, ethyl cellulose, acetic acid. Examples thereof include vinyl, ABS resin, polyurethane resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, alkyd resin, epoxy resin, and silicon resin.
The amount of the binder used is preferably 5 to 50 parts by mass with respect to 1 part by mass of the reducing polymer fine particles. If the binder exceeds 50 parts by mass, metal plating may be difficult to deposit, and if the binder is less than 5 parts by mass, it may be difficult to obtain excellent adhesion.

塗料に含み得る溶媒としては、バインダーを溶解することができるものであれば特に限定されないが、基材を大きく溶解するものは好ましくない。但し、基材を大きく溶解する溶媒であっても、他の低溶解性の溶媒と混合することにより、溶解性を低下させて使用することが可能である。   The solvent that can be included in the paint is not particularly limited as long as it can dissolve the binder, but those that can largely dissolve the substrate are not preferable. However, it is possible to use a solvent that greatly dissolves the base material by reducing the solubility by mixing it with another low-solubility solvent.

前記溶媒としては、例えば、酢酸ブチル等の脂肪族エステル類、トルエン等の芳香族溶媒、メチルエチルケトン等のケトン類、シクロヘキサン等の環状飽和炭化水素類、n−オクタン等の鎖状飽和炭化水素類、メタノール、エタノール、n−オクタノール等の鎖状飽和アルコール類、安息香酸メチル等の芳香族エステル類、ジエチルエーテル等の脂肪族エーテル類及びこれらの混合物等が挙げられる。
更に、本発明に使用する塗料は用途や塗布対象物等の必要に応じて、分散安定剤、増粘剤、インキバインダ等の樹脂を加えることも可能である。
Examples of the solvent include aliphatic esters such as butyl acetate, aromatic solvents such as toluene, ketones such as methyl ethyl ketone, cyclic saturated hydrocarbons such as cyclohexane, chain saturated hydrocarbons such as n-octane, Examples thereof include chain saturated alcohols such as methanol, ethanol and n-octanol, aromatic esters such as methyl benzoate, aliphatic ethers such as diethyl ether, and mixtures thereof.
Furthermore, the coating material used in the present invention can be added with a resin such as a dispersion stabilizer, a thickening agent, and an ink binder, depending on the application, application object, and the like.

基材としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ガラス等が挙げられる。
また、基材の形状は特に限定されないが、例えば、板状、フィルム状が挙げられる。
他にも、基材として、例えば、射出成形などにより樹脂を成形した樹脂成形品が挙げられる。そして、この樹脂成形品に本発明のめっき物を設けることにより、例えば、自動車向けの装飾めっき品を作成することもできる。
The substrate is not particularly limited, and examples thereof include polyester resins such as polyethylene terephthalate, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, polypropylene resins, polycarbonate resins, polystyrene resins, polyvinyl chloride resins, polyamide resins, polyimide resins, and glass. Can be mentioned.
Moreover, although the shape of a base material is not specifically limited, For example, plate shape and a film form are mentioned.
In addition, examples of the base material include a resin molded product obtained by molding a resin by injection molding or the like. And, by providing the plated product of the present invention on this resin molded product, for example, a decorative plated product for automobiles can be produced.

基材への塗布方法も特に限定されず、例えば、スプレー、スクリーン印刷機、グラビア印刷機、フレキソ印刷機、インクジェット印刷機、オフセット印刷機、ディッピング、スピンコーター、ロールコーター等を用いて、印刷またはコーティングすることができる。   The coating method on the substrate is not particularly limited, for example, using a spray, a screen printing machine, a gravure printing machine, a flexographic printing machine, an inkjet printing machine, an offset printing machine, dipping, a spin coater, a roll coater, etc. Can be coated.

塗膜層の厚さは、20nmないし100μmとするのが好ましい。
厚さが20nm未満であると金属めっきが析出しにくくなる場合があり、厚さが100μmを超えると優れた密着性が得られにくくなる場合がある。
The thickness of the coating layer is preferably 20 nm to 100 μm.
When the thickness is less than 20 nm, metal plating may be difficult to deposit, and when the thickness exceeds 100 μm, it may be difficult to obtain excellent adhesion.

本発明のめっき物は、前記還元性高分子微粒子として導電性高分子微粒子を脱ドープ処理して還元性とした微粒子を用いることによっても同様に製造することができる。   The plated product of the present invention can also be produced in the same manner by using fine particles that have been reduced by conducting conductive polymer fine particles as the reducing polymer fine particles.

使用する導電性高分子微粒子は、例えば、有機溶媒と水とアニオン系界面活性剤とを混合撹拌してなるO/W型の乳化液中に、π−共役二重結合を有するモノマーを添加し、該モノマーを酸化重合することにより製造することができる。   For example, the conductive polymer fine particles used are prepared by adding a monomer having a π-conjugated double bond to an O / W type emulsion obtained by mixing and stirring an organic solvent, water, and an anionic surfactant. The monomer can be produced by oxidative polymerization.

π−共役二重結合を有するモノマー及びアニオン系界面活性剤としては還元性微粒子の製造の際に例示したものと同様のものが挙げられるが、好ましくは、ピロール、アニリン、チオフェン及び3,4−エチレンジオキシチオフェン等が挙げられ、より好ましくはピロールが挙げられる。   Examples of the monomer having an π-conjugated double bond and the anionic surfactant are the same as those exemplified in the production of the reducing fine particles, and preferably pyrrole, aniline, thiophene and 3,4- Ethylenedioxythiophene etc. are mentioned, More preferably, pyrrole is mentioned.

反応系中でのアニオン系界面活性剤の量は、π−共役二重結合を有するモノマー1molに対し0.2mol未満であることが好ましく、さらに好ましくは0.05mol〜0.15molである。0.05mol未満では収率や分散安定性が低下し、一方、0.2
mol以上では得られた導電性高分子微粒子に導電性の湿度依存性が生じてしまう場合がある。
The amount of the anionic surfactant in the reaction system is preferably less than 0.2 mol, more preferably 0.05 mol to 0.15 mol, with respect to 1 mol of the monomer having a π-conjugated double bond. If it is less than 0.05 mol, the yield and dispersion stability decrease, while 0.2%
If it is more than mol, the resulting conductive polymer fine particles may have a conductivity humidity dependency.

前記製造において乳化液の有機相を形成する有機溶媒は疎水性であることが好ましい。なかでも、芳香族系の有機溶媒であるトルエンやキシレンは、O/W型エマルションの安定性およびモノマーとの親和性の観点から好ましい。両性溶媒でもπ−共役二重結合を有するモノマーの重合を行うことはできるが、生成した導電性高分子微粒子を回収する際の有機相と水相との分離が困難になる。   In the production, the organic solvent forming the organic phase of the emulsion is preferably hydrophobic. Among these, toluene and xylene, which are aromatic organic solvents, are preferable from the viewpoint of the stability of the O / W emulsion and the affinity with the monomer. Although the amphoteric solvent can polymerize a monomer having a π-conjugated double bond, it becomes difficult to separate the organic phase and the aqueous phase when the produced conductive polymer fine particles are recovered.

乳化液における有機相と水相との割合は、水相が75体積%以上であることが好ましい。水相が20体積%以下ではπ−共役二重結合を有するモノマーの溶解量が少なくなり、生産効率が悪くなる。   The ratio of the organic phase to the aqueous phase in the emulsion is preferably 75% by volume or more in the aqueous phase. When the water phase is 20% by volume or less, the amount of the monomer having a π-conjugated double bond is reduced, and the production efficiency is deteriorated.

前記製造で使用する酸化剤としては、還元性微粒子の製造の際に例示したものと同様のものが挙げられるが、特に好ましい酸化剤は、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩である。
反応系中での酸化剤の量は、π−共役二重結合を有するモノマー1molに対して0.1mol以上、0.8mol以下であることが好ましく、さらに好ましくは0.2〜0.6molである。0.1mol未満ではモノマーの重合度が低下し、導電性高分子微粒子を分液回収することが困難になり、一方、0.8mol以上では凝集して導電性高分子微粒子の粒径が大きくなり、分散安定性が悪化する。
Examples of the oxidizing agent used in the production include the same as those exemplified in the production of the reducing fine particles, but a particularly preferred oxidizing agent is a persulfate such as ammonium persulfate.
The amount of the oxidizing agent in the reaction system is preferably 0.1 mol or more and 0.8 mol or less, more preferably 0.2 to 0.6 mol with respect to 1 mol of the monomer having a π-conjugated double bond. is there. If the amount is less than 0.1 mol, the degree of polymerization of the monomer decreases, making it difficult to separate and collect the conductive polymer fine particles. On the other hand, if the amount is 0.8 mol or more, the particles are aggregated to increase the particle size of the conductive polymer fine particles. , Dispersion stability deteriorates.

前記導電性高分子微粒子の製造方法は、例えば以下のような工程で行われる:
(a)アニオン系界面活性剤、有機溶媒および水を混合攪拌し乳化液を調製する工程、
(b)π−共役二重結合を有するモノマーを乳化液中に分散させる工程、
(c)モノマーを酸化重合しアニオン系界面活性剤にポリマー微粒子を接触吸着させる工程、
(d)有機相を分液し導電性高分子微粒子を回収する工程。
The method for producing the conductive polymer fine particles is performed, for example, in the following steps:
(A) a step of preparing an emulsion by mixing and stirring an anionic surfactant, an organic solvent and water;
(B) a step of dispersing a monomer having a π-conjugated double bond in an emulsion,
(C) a step of oxidatively polymerizing the monomer and causing the anionic surfactant to contact and adsorb the polymer fine particles;
(D) A step of separating the organic phase and collecting the conductive polymer fine particles.

前記各工程は、当業者に既知である手段を利用して行うことができる。例えば、乳化液の調製時に行う混合攪拌は、特に限定されないが、例えばマグネットスターラー、攪拌機、ホモジナイザー等を適宜選択して行うことができる。また重合温度は0〜25℃で、好ましくは20℃以下である。重合温度が25℃を越えると副反応が起こるので好ましくない。   Each of the above steps can be performed using means known to those skilled in the art. For example, the mixing and stirring performed at the time of preparing the emulsion is not particularly limited. For example, a magnetic stirrer, a stirrer, a homogenizer, or the like can be selected as appropriate. The polymerization temperature is 0 to 25 ° C, preferably 20 ° C or less. If the polymerization temperature exceeds 25 ° C., side reactions occur, which is not preferable.

酸化重合反応が停止されると、反応系は有機相と水相の二相に分かれるが、この際に未反応のモノマー、酸化剤および塩は水相中に溶解して残存する。ここで有機相を分液回収し、イオン交換水で数回洗浄すると、有機溶媒に分散した導電性高分子微粒子を入手することができる。   When the oxidative polymerization reaction is stopped, the reaction system is divided into an organic phase and an aqueous phase. At this time, unreacted monomers, oxidizing agents and salts remain dissolved in the aqueous phase. When the organic phase is separated and recovered and washed several times with ion-exchanged water, conductive polymer fine particles dispersed in an organic solvent can be obtained.

上記の製造法により得られる導電性高分子微粒子は、主としてπ−共役二重結合を有するモノマー誘導体よりなり、そしてアニオン系界面活性剤を含む微粒子である。そしてその特徴は、微細な粒径と、有機溶媒中で分散可能であることである。
ポリマー微粒子は球形の微粒子となるが、その平均粒径は、10〜100nmとするのが好ましい。
上記のように平均粒径の小さな微粒子にすることで、微粒子の表面積が極めて大きくなり、同一質量の微粒子でも、脱ドープ処理して還元性とした際に、より多くの触媒金属を吸着できるようになり、それにより塗膜層の薄膜化が可能となる。
The conductive polymer fine particles obtained by the above production method are fine particles mainly composed of a monomer derivative having a π-conjugated double bond and containing an anionic surfactant. And the characteristic is that it can disperse | distribute in a fine particle size and an organic solvent.
The polymer fine particles are spherical fine particles, and the average particle size is preferably 10 to 100 nm.
By using fine particles with a small average particle size as described above, the surface area of the fine particles becomes extremely large, and even with fine particles of the same mass, more catalyst metal can be adsorbed when dedoped and reduced. Thus, the coating layer can be made thin.

こうして得られた有機溶媒に分散した導電性高分子微粒子は、そのままで、濃縮して、又は乾燥させて塗料の導電性高分子微粒子成分として使用することができる。
また、上記のようにして製造された導電性高分子微粒子でなくとも、例えば、市販で入手できる導電性高分子微粒子を塗料の成分として使用することもできる。
The conductive polymer fine particles dispersed in the organic solvent thus obtained can be used as the conductive polymer fine particle component of the coating as it is, after being concentrated or dried.
Further, for example, commercially available conductive polymer fine particles can be used as a component of the paint, instead of the conductive polymer fine particles produced as described above.

上記の導電性高分子微粒子とバインダーを含む塗料を基材上に塗布して塗膜層を
形成した後に、微粒子を還元性とするための脱ドープ処理を行うことにより、還元性高分子微粒子が存在する塗膜層を形成する。
The coating material containing the conductive polymer fine particles and the binder described above is applied onto a substrate to form a coating layer, and then a dedoping treatment is performed to make the fine particles reducible. An existing coating layer is formed.

バインダーとしては、前記で例示したものと同様のものが挙げられ、使用するバインダー量は、還元性高分子微粒子1質量部に対して5質量部ないし50質量部とするのが好ましい。バインダーが50質量部を超えると金属めっきが析出しにくくなる場合があり、バインダーが5質量部未満であると、優れた密着性が得られにくくなる場合がある。   Examples of the binder are the same as those exemplified above, and the amount of the binder used is preferably 5 to 50 parts by mass with respect to 1 part by mass of the reducing polymer fine particles. If the binder exceeds 50 parts by mass, metal plating may be difficult to deposit, and if the binder is less than 5 parts by mass, it may be difficult to obtain excellent adhesion.

塗料に含み得る溶媒としては、バインダーを溶解することができるものであれば特に限定されないが、基材を大きく溶解するものは好ましくない。但し、基材を大きく溶解する溶媒であっても、他の低溶解性の溶媒と混合することにより、溶解性を低下させて使用することが可能である。
前記溶媒としては、例えば、酢酸ブチル等の脂肪族エステル類、トルエン等の芳香族溶媒、メチルエチルケトン等のケトン類、シクロヘキサン等の環状飽和炭化水素類、n−オクタン等の鎖状飽和炭化水素類、メタノール、エタノール、n−オクタノール等の鎖状飽和アルコール類、安息香酸メチル等の芳香族エステル類、ジエチルエーテル等の脂肪族エーテル類及びこれらの混合物等が挙げられる。
更に、本発明に使用する塗料は用途や塗布対象物等の必要に応じて、分散安定剤、増粘剤、インキバインダ等の樹脂を加えることも可能である。
The solvent that can be included in the paint is not particularly limited as long as it can dissolve the binder, but those that can largely dissolve the substrate are not preferable. However, it is possible to use a solvent that greatly dissolves the base material by reducing the solubility by mixing it with another low-solubility solvent.
Examples of the solvent include aliphatic esters such as butyl acetate, aromatic solvents such as toluene, ketones such as methyl ethyl ketone, cyclic saturated hydrocarbons such as cyclohexane, chain saturated hydrocarbons such as n-octane, Examples thereof include chain saturated alcohols such as methanol, ethanol and n-octanol, aromatic esters such as methyl benzoate, aliphatic ethers such as diethyl ether, and mixtures thereof.
Furthermore, the coating material used in the present invention can be added with a resin such as a dispersion stabilizer, a thickening agent, and an ink binder, depending on the application, application object, and the like.

基材としては、前記で例示したものと同様のものが挙げられ、その形状は特に限定されないが、例えば、板状、フィルム状が挙げられる。
他にも、基材として、例えば、射出成形などにより樹脂を成形した樹脂成形品が挙げられる。そして、この樹脂成形品に本発明のめっき物を設けることにより、例えば、自動車向けの装飾めっき品を作成することもできる。
Examples of the substrate include those similar to those exemplified above, and the shape thereof is not particularly limited, and examples thereof include a plate shape and a film shape.
In addition, examples of the base material include a resin molded product obtained by molding a resin by injection molding or the like. And, by providing the plated product of the present invention on this resin molded product, for example, a decorative plated product for automobiles can be produced.

基材への塗布方法も特に限定されず、例えば、スプレー、スクリーン印刷機、グラビア印刷機、フレキソ印刷機、インクジェット印刷機、オフセット印刷機、ディッピング、スピンコーター、ロールコーター等を用いて、印刷またはコーティングすることができる。   The coating method on the substrate is not particularly limited, for example, using a spray, a screen printing machine, a gravure printing machine, a flexographic printing machine, an inkjet printing machine, an offset printing machine, dipping, a spin coater, a roll coater, etc. Can be coated.

塗膜層の厚さは、20nmないし100μmとするのが好ましい。
厚さが20nm未満であると金属めっきが析出しにくくなる場合があり、厚さが100μmを超えると優れた密着性が得られにくくなる場合がある。
The thickness of the coating layer is preferably 20 nm to 100 μm.
When the thickness is less than 20 nm, metal plating may be difficult to deposit, and when the thickness exceeds 100 μm, it may be difficult to obtain excellent adhesion.

前記の導電性高分子微粒子を用いて形成された層は、微粒子を還元性とするために脱ドープ処理が行われる。
脱ドープ処理としては、還元剤、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム等の水素化ホウ素化合物、ジメチルアミンボラン、ジエチルアミンボラン、トリメチルアミンボラン、トリエチルアミンボラン等のアルキルアミンボラン、及び、ヒドラジン等を含む溶液で処理して還元する方法、又は、アルカリ性溶液で処理する方法が挙げられる。
The layer formed using the conductive polymer fine particles is subjected to dedoping treatment in order to make the fine particles reducible.
As the dedoping treatment, a reducing agent, for example, a borohydride compound such as sodium borohydride or potassium borohydride, an alkylamine borane such as dimethylamine borane, diethylamine borane, trimethylamine borane, triethylamine borane, hydrazine, etc. The method of processing and reducing with the solution to contain, or the method of processing with an alkaline solution is mentioned.

操作性及び経済性の観点からアルカリ性溶液で処理するのが好ましい。
特に、導電性高分子微粒子を用いて形成された層は、比較的薄いため、緩和な条件下で短時間のアルカリ処理により脱ドープを達成することが可能である。
例えば、1M 水酸化ナトリウム水溶液中で、20ないし50℃、好ましくは30ない
し40℃の温度で、1ないし30分間、好ましくは3ないし10分間処理される。
It is preferable to treat with an alkaline solution from the viewpoint of operability and economy.
In particular, since the layer formed using the conductive polymer fine particles is relatively thin, it is possible to achieve dedoping by a brief alkali treatment under mild conditions.
For example, it is treated in a 1M aqueous sodium hydroxide solution at a temperature of 20 to 50 ° C., preferably 30 to 40 ° C., for 1 to 30 minutes, preferably 3 to 10 minutes.

上記のようにして製造された、塗膜層が形成された基材を、触媒金属の吸着を介して無電解めっき法によりめっき物とするが、本発明においては以下の工程を含む。
B)前記塗膜層上に触媒金属を吸着させる工程
C)還元処理する工程
D)めっき浴に浸漬して無電解めっきを行う工程
即ち、前記基材を塩化パラジウム等の触媒金属を付着させるための触媒液に浸漬した後、水洗等を行い、還元処理を行った後に無電解めっき浴に浸漬することによりめっき物を得ることができる。
The base material on which the coating layer is formed as described above is made into a plated product by electroless plating through adsorption of a catalytic metal. In the present invention, the following steps are included.
B) Step of adsorbing catalytic metal on the coating layer C) Step of reduction treatment D) Step of electroless plating by dipping in a plating bath That is, for attaching a catalytic metal such as palladium chloride to the substrate. After being immersed in this catalyst solution, washing with water, etc., and after performing a reduction treatment, a plated product can be obtained by immersing in an electroless plating bath.

B)工程
触媒液は、無電解めっきに対する触媒活性を有する貴金属(触媒金属)を含む溶液であり、触媒金属としては、パラジウム、金、白金、ロジウム等が挙げられ、これら金属は単体でも化合物でもよく、触媒金属を含む安定性の点からパラジウム化合物が好ましく、その中でも塩化パラジウムが特に好ましい。
好ましい、具体的な触媒液としては、0.02%塩化パラジウム−0.01%塩酸水溶液(pH3)が挙げられる。
処理温度は、20ないし50℃、好ましくは30ないし40℃であり、処理時間は、0.1ないし20分、好ましくは、1ないし10分である。
上記の操作により、塗膜中の還元性高分子微粒子は、結果的に、導電性高分子微粒子となる。
Step B) The catalyst solution is a solution containing a noble metal (catalyst metal) having catalytic activity for electroless plating, and examples of the catalyst metal include palladium, gold, platinum, rhodium, etc. Well, a palladium compound is preferable from the viewpoint of stability including a catalytic metal, and among these, palladium chloride is particularly preferable.
A preferred specific catalyst solution includes 0.02% palladium chloride-0.01% hydrochloric acid aqueous solution (pH 3).
The treatment temperature is 20 to 50 ° C., preferably 30 to 40 ° C., and the treatment time is 0.1 to 20 minutes, preferably 1 to 10 minutes.
By the above operation, the reducing polymer fine particles in the coating film become conductive polymer fine particles as a result.

C)工程
次に、塩化パラジウム等の触媒金属が付着された基材に対して還元処理を行う。
還元処理は、還元剤を含有する水溶液に上記基材を接触させることにより行われる。還元剤としては、還元作用を有する水溶性化合物を用いることができ、具体例としては、ジメチルアミンボラン(DMAB)、トリメチルアミンボラン(TMAB)等のアミンボラン類;水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素ナトリウム等の水素化ホウ素化合物;次亜リン酸ナトリウム、次亜リン酸カリウム等の次亜リン酸塩;ホルマリン等のアルデヒド類;ヒドラジン等を挙げることができる。
還元剤は、一種単独又は二種以上を混合して用いることができる。還元剤の濃度は、0.001〜0.5mol/L程度とするのが好ましく、0.01〜0.2mol/L程度とすることがより好ましい。この水溶液のpHは、特に、限定的ではなく、使用する還元剤の種類に応じて、還元性能が良好で還元剤の安定性が阻害されない範囲に適宜設定すればよい。通常は、pH3程度以上とすることが好ましい。
Step C) Next, a reduction treatment is performed on the base material to which a catalytic metal such as palladium chloride is attached.
The reduction treatment is performed by bringing the substrate into contact with an aqueous solution containing a reducing agent. As the reducing agent, a water-soluble compound having a reducing action can be used. Specific examples include amine boranes such as dimethylamine borane (DMAB) and trimethylamine borane (TMAB); potassium borohydride, sodium borohydride and the like. Borohydride compounds; hypophosphites such as sodium hypophosphite and potassium hypophosphite; aldehydes such as formalin; hydrazine and the like.
A reducing agent can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. The concentration of the reducing agent is preferably about 0.001 to 0.5 mol / L, and more preferably about 0.01 to 0.2 mol / L. The pH of the aqueous solution is not particularly limited, and may be appropriately set in a range where the reducing performance is good and the stability of the reducing agent is not hindered according to the type of the reducing agent used. Usually, the pH is preferably about 3 or more.

D)工程
上記で処理された基材は、金属を析出させるためのめっき液に浸され、これにより無電解めっき膜が形成される。
めっき液としては、通常、無電解めっきに使用されるめっき液であれば、特に限定されない。
即ち、無電解めっきに使用できる金属、銅、金、銀、ニッケル、クロム等、全て適用することができるが、銅が好ましい。
無電解銅めっき浴の具体例としては、例えば、ATSアドカッパーIW浴(奥野製薬工業(株)社製)等が挙げられる。
処理温度は、20ないし50℃、好ましくは30ないし40℃であり、処理時間は、1ないし30分、好ましくは、5ないし15分である。
Step D) The substrate treated as described above is immersed in a plating solution for depositing metal, thereby forming an electroless plating film.
The plating solution is not particularly limited as long as it is a plating solution usually used for electroless plating.
That is, metal, copper, gold, silver, nickel, chromium, etc. that can be used for electroless plating can all be applied, but copper is preferred.
Specific examples of the electroless copper plating bath include, for example, an ATS add copper IW bath (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.).
The treatment temperature is 20 to 50 ° C., preferably 30 to 40 ° C., and the treatment time is 1 to 30 minutes, preferably 5 to 15 minutes.

上記した通り、塗膜中の還元性高分子微粒子は、結果的に、導電性高分子微粒子となる
ため、以上の操作により、基材の表面上に導電性高分子微粒子とバインダーを含む塗膜層が形成され、該塗膜層上に金属めっき膜が無電解めっき法により形成されためっき物であって、基材との密着性に優れる金属めっき膜を有し、該膜の表面には露出部(ムラ)がなく均一であるめっき物が製造されることとなる。
As described above, since the reducing polymer fine particles in the coating film become conductive polymer fine particles as a result, the coating film containing the conductive polymer fine particles and the binder on the surface of the substrate by the above operation. A plated product in which a metal plating film is formed by an electroless plating method on the coating layer, and has a metal plating film excellent in adhesion to a substrate, and the surface of the film is A plated product having no exposed portion (unevenness) and uniform is manufactured.

次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
実施例1:めっき物の製造
<還元性ポリピロール微粒子を含む塗料の調製>
アニオン性界面活性剤ペレックスOT−P(花王株式会社製)0.42mmol、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系ノニオン界面活性剤エマルゲン409P(花王株式会社製)2.12mmol、トルエン50mL、イオン交換水100mLを加えて20℃に保持しつつ乳化するまで撹拌した。得られた乳化液にピロールモノマー21.2mmolを加え、1時間撹拌し、次いで過硫酸アンモニウム4mmolを加えて2時間重合反応を行った。反応終了後、有機層を回収し、イオン交換水で数回洗浄して、トルエンに分散した還元性能を有する還元性ポリピロール微粒子を得た。
上記で得られたトルエン分散液中の還元性ポリピロール微粒子の固形分は、約1.2%であったが、ここに、バインダーとしてスーパーベッカミンJ-820(大日本インキ化学
工業(株)社製、ブチル化メラミン樹脂)を還元性ポリピロール微粒子1質量部に対して
30質量部の配合比で加えて還元性ポリピロール塗料を調製した。
<塗膜層の形成>
得られた塗料を厚み100μmのPETフィルムにバーコーター(No.8)で薄くコーティングし、120℃で5分乾燥し塗膜を形成した。
<めっき処理>
上記で製造した塗膜層が形成されたフィルムを、100ppm塩化パラジウム−0.01M塩酸水溶液中に35℃で5分間浸漬後、イオン交換水で水洗した。次に、0.5Mホスフィン酸ナトリウム水溶液に40℃で1分間浸漬後、イオン交換水で水洗した。次に、該フィルムを無電解銅めっき浴 ATSアドカッパーIW浴(奥野製薬工業(株)社製)に浸漬して、35℃で10分間浸漬し銅めっきを施した。その後、硫酸銅めっき(電気めっき)で銅膜厚40μmまで厚付けを施した。
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to an Example.
Example 1: Production of plated product <Preparation of paint containing reducing polypyrrole fine particles>
Anionic surfactant Perex OT-P (manufactured by Kao Corporation) 0.42 mmol, polyoxyethylene alkyl ether nonionic surfactant Emulgen 409P (manufactured by Kao Corporation) 2.12 mmol, toluene 50 mL, ion-exchanged water 100 mL were added. The mixture was stirred until emulsification while maintaining at 20 ° C. To the obtained emulsion, 21.2 mmol of pyrrole monomer was added and stirred for 1 hour, and then 4 mmol of ammonium persulfate was added to conduct a polymerization reaction for 2 hours. After completion of the reaction, the organic layer was collected and washed several times with ion-exchanged water to obtain reducing polypyrrole fine particles having reducing performance dispersed in toluene.
The solid content of the reducing polypyrrole fine particles in the toluene dispersion obtained above was about 1.2%. Superbeccamin J-820 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) was used as a binder here. Manufactured butylated melamine resin) was added at a mixing ratio of 30 parts by mass with respect to 1 part by mass of the reducing polypyrrole fine particles to prepare a reducing polypyrrole paint.
<Formation of coating layer>
The obtained paint was thinly coated on a 100 μm thick PET film with a bar coater (No. 8), and dried at 120 ° C. for 5 minutes to form a coating film.
<Plating treatment>
The film on which the coating layer produced above was formed was immersed in a 100 ppm palladium chloride-0.01 M hydrochloric acid aqueous solution at 35 ° C. for 5 minutes, and then washed with ion-exchanged water. Next, it was immersed in a 0.5 M aqueous sodium phosphinate solution at 40 ° C. for 1 minute and then washed with ion-exchanged water. Next, the film was dipped in an electroless copper plating bath ATS Adcopper IW bath (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.), and dipped at 35 ° C. for 10 minutes for copper plating. Then, thickening was performed to a copper film thickness of 40 μm by copper sulfate plating (electroplating).

実施例2
還元剤である0.5M ホスフィン酸ナトリウム水溶液を0.1M ホルマリン水溶液に変えた以外は、実施例1と同様の操作を行うことにより、めっき物を得た。
Example 2
A plated product was obtained by performing the same operation as in Example 1 except that the reducing agent 0.5M sodium phosphinate aqueous solution was changed to a 0.1M formalin aqueous solution.

実施例3
還元剤である0.5M ホスフィン酸ナトリウム水溶液を0.1M ジメチルアミンボラン水溶液に変えた以外は、実施例1と同様の操作を行うことにより、めっき物を得た。
Example 3
A plated product was obtained by performing the same operation as in Example 1 except that the reducing agent 0.5M sodium phosphinate aqueous solution was changed to a 0.1M dimethylamine borane aqueous solution.

実施例4
バインダーであるスーパーベッカミンJ-820:メラミン系(大日本インキ化学工業(
株)社製)をバイロン240:ポリエステル系(東洋紡績(株)社製)に変えた以外は、
実施例1と同様の操作を行うことにより、めっき物を得た。
Example 4
Super Becamine J-820 as a binder: Melamine (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.)
Except for changing byron 240: polyester (made by Toyobo Co., Ltd.)
By performing the same operation as in Example 1, a plated product was obtained.

実施例5:還元性ポリアニリン微粒子使用するめっき物の製造
アニオン性界面活性剤ペレックスOT−P(花王株式会社製)0.42mmol、ソルビタン脂肪酸エステル系ノニオン界面活性剤レオドールSP−O30V(花王株式会社製)0.424mmolとポリオキシエチレンソルビダン脂肪酸エステル(商品名:レオドール TW−O320V)2.12mmol(花王株式会社製)、トルエン50mL、イ
オン交換水100mLを加えて20℃に保持しつつ乳化するまで撹拌した。得られた乳化液にアニリンモノマー21.2mmolを加え、1時間撹拌し、次いで過硫酸アンモニウム4mmolを加えて2時間重合反応を行った。反応終了後、有機層を回収し、イオン交換水で数回洗浄して、トルエンに分散した還元性能を有する還元性ポリアニリン微粒子を得た。ここで得られたトルエン分散液中の還元性ポリアニリン微粒子の固形分は、約1.4%であったが、ここに、バインダーとしてスーパーベッカミンJ-820(大日本インキ
化学工業(株)社製)を還元性ポリアニリン微粒子1質量部に対して30質量部の配合比
で加えて還元性ポリアニリン塗料を得た。
得られた塗料を実施例1と同様の操作で、コーティング及びめっき処理を施した。
Example 5: Production of plated product using reducing polyaniline fine particles Anionic surfactant Perex OT-P (manufactured by Kao Corporation) 0.42 mmol, sorbitan fatty acid ester nonionic surfactant rheodol SP-O30V (manufactured by Kao Corporation) ) 0.424 mmol and polyoxyethylene sorbidan fatty acid ester (trade name: Rheodor TW-O320V) 2.12 mmol (manufactured by Kao Corporation), toluene 50 mL, and ion-exchanged water 100 mL until emulsified while maintaining at 20 ° C. Stir. To the obtained emulsion, 21.2 mmol of aniline monomer was added and stirred for 1 hour, and then 4 mmol of ammonium persulfate was added to conduct a polymerization reaction for 2 hours. After completion of the reaction, the organic layer was collected and washed several times with ion-exchanged water to obtain reducible polyaniline fine particles having reducing performance dispersed in toluene. The solid content of the reducing polyaniline fine particles in the toluene dispersion obtained here was about 1.4%. Superbeccamin J-820 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) was used as a binder here. Was added at a compounding ratio of 30 parts by mass with respect to 1 part by mass of the reducing polyaniline fine particles to obtain a reducing polyaniline paint.
The obtained paint was coated and plated in the same manner as in Example 1.

比較例1
還元処理を行わなかった以外は、実施例1と同様の操作を行った結果、基材露出部があり、完全には被覆されなかった。
Comparative Example 1
As a result of performing the same operation as in Example 1 except that the reduction treatment was not performed, the substrate was exposed and was not completely covered.

試験例1
上記で製造した実施例1ないし5及び比較例1のめっき物において、各種の評価試験を行いその結果を表1に纏めた。
尚、評価試験項目及びその評価方法・評価基準は以下の通りである。
・めっき外観
めっき皮膜の状態を目視で観察し、基材露出面積を測定した。
尚、評価基準は以下の通りとした。
○:完全に被覆され、ムラ無く析出。
△:完全に被覆されるが、一部ムラが発生。
×:基材露出部があり、完全には被覆されない。
・テープ試験
JIS H8504テープ試験方法に準じて、カッターで2mm角の条こんを100個した後にテープによる引き剥がし試験を実施した。
尚、評価基準は以下の通りとした。
○:剥離なし
×:剥離有り
・ピール強度
JIS C6741に準じて測定を実施した。
また、表1中のAないしGは以下のものを意味し、また、バインダーの量は、還元性高分子微粒子1質量部に対する使用したバインダーの質量部数を示す。
A:スーパーベッカミンJ-820:メラミン系(大日本インキ化学工業(株)社製)
B:バイロン240:ポリエステル系(東洋紡績(株)社製)
C:還元性ポリピロール
D:還元性ポリアニリン
E:0.5M ホスフィン酸ナトリウム水溶液
F:0.1M ホルマリン水溶液
G:0.1M ジメチルアミンボラン水溶液

Figure 2010001511
Test example 1
The plated products of Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 manufactured above were subjected to various evaluation tests and the results are summarized in Table 1.
The evaluation test items, evaluation methods and evaluation criteria are as follows.
-Plating appearance The state of the plating film was observed visually, and the substrate exposed area was measured.
The evaluation criteria were as follows.
○: Completely covered and deposited without unevenness.
Δ: Completely covered but partially uneven.
X: There is a base material exposed part and it is not completely covered.
-Tape test According to the JIS H8504 tape test method, 100 pieces of 2 mm square strips were made with a cutter, and then a peeling test with a tape was performed.
The evaluation criteria were as follows.
○: No peeling ×: Peeling / peel strength Measurement was performed according to JIS C6741.
Moreover, A thru | or G in Table 1 mean the following, and the quantity of a binder shows the mass part number of the binder used with respect to 1 mass part of reducing polymer microparticles | fine-particles.
A: Super Becamine J-820: Melamine (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.)
B: Byron 240: Polyester (Toyobo Co., Ltd.)
C: Reducing polypyrrole D: Reducing polyaniline E: 0.5 M sodium phosphinate aqueous solution F: 0.1 M formalin aqueous solution G: 0.1 M dimethylamine borane aqueous solution
Figure 2010001511

Pdが吸着された塗膜層を還元処理した場合としない場合のPd(0価)及びPd(2価)の存在状況を表すXPSの分析結果を示すグラフである。It is a graph which shows the analysis result of XPS showing the presence condition of Pd (0 valence) and Pd (2 valence) when not carrying out reduction processing of the coating film layer in which Pd was adsorbed.

Claims (4)

めっき物の製造方法であって、
A)基材上に還元性高分子微粒子とバインダーを含む塗膜層を形成する工程、
B)前記塗膜層上に触媒金属を吸着させる工程
C)吸着された前記触媒金属を還元処理する工程
D)前記還元処理がなされた基材をめっき浴に浸漬して無電解めっきを行う工程
からなる方法。
A method for producing a plated article,
A) a step of forming a coating layer containing reducing fine polymer particles and a binder on a substrate;
B) Step of adsorbing catalyst metal on the coating layer C) Step of reducing the adsorbed catalyst metal D) Step of performing electroless plating by immersing the substrate subjected to the reduction treatment in a plating bath A method consisting of:
前記還元性高分子微粒子として、導電性高分子微粒子を脱ドープ処理して還元性とした微粒子を用いる請求項1記載の方法。 The method according to claim 1, wherein the reducing polymer fine particles are made fine particles that have been reduced by dedoping conductive polymer fine particles. 請求項1又は2記載のめっき物の製造方法により製造されるめっき物。 A plated product produced by the method for producing a plated product according to claim 1 or 2. 前記還元性高分子微粒子の平均粒径が10ないし100nmである請求項3記載のめっき物。 The plated article according to claim 3, wherein the average particle diameter of the reducing polymer fine particles is 10 to 100 nm.
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