JP2009504949A - 深層濾過を備える粒子制御スクリーン - Google Patents
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Abstract
Description
以下の本発明の例と比較例は、説明と例示のために提供される。
スクリーンアセンブリが所望の濾過ミクロン等級140ミクロン(μm)で用意される。該スクリーンアセンブリは、以下の表8に示すように、2枚の支持層と5枚のフィルター層を含む。該フィルター層はスクエア織りである。
スクリーンアセンブリが所望の濾過ミクロン等級125ミクロン(μm)で用意される。該スクリーンアセンブリは、以下の表9に示すように、2枚の支持層と6枚のフィルター層を含む。該内濾過層はオランダ平織りである。
スクリーンアセンブリが所望の濾過ミクロン等級150ミクロン(μm)で用意される。該スクリーンアセンブリは、以下の表10に示すように、1枚の支持層と5枚のフィルター層を含む。該内濾過層はオランダ平綾織である。
スクリーンアセンブリが所望の濾過ミクロン等級180ミクロン(μm)で用意される。該スクリーンアセンブリは、以下の表11に示すように、2枚の支持層と4枚のフィルター層を含む。該内濾過層は綾平方織である。
スクリーンアセンブリが所望の濾過ミクロン等級180ミクロン(μm)で用意される。該スクリーンアセンブリは、以下の表12に示すように、2枚の支持層と3枚のフィルター層を含む。該内濾過層はスクエア平織である。
スクリーンアセンブリが所望の濾過ミクロン等級140ミクロン(μm)で用意される。該スクリーンアセンブリは、以下の表13に示すように、2枚の支持層と4枚のフィルター層を含む。該内濾過層はスクエア平織である。
スクリーンアセンブリが所望の濾過ミクロン等級140ミクロン(μm)で用意される。該スクリーンアセンブリは、以下の表14に示すように、2枚の支持層と5枚のフィルター層を含む。該内濾過層はスクエア平織である。
スクリーンアセンブリが所望の濾過ミクロン等級140ミクロン(μm)で用意される。該スクリーンアセンブリは、以下の図表15に示すように、2枚の支持層と6枚のフィルター層を含む。該内濾過層はスクエア平織である。
比較として、先行技術のスクリーンアセンブリであるPoromax(登録商標)製品は、所望の濾過ミクロン等級125ミクロン(μm)を有している。該スクリーンアセンブリは、以下の表16に示すように、2枚の支持層と1枚のフィルター層を含む。
スクリーンアセンブリが所望の濾過ミクロン等級150ミクロン(μm)で用意される。該スクリーンアセンブリは市販のワイヤラップスクリーンを含む。該ワイヤラップスクリーンは、ワイヤ間に0.15mm(0.006インチ)の隙間を有する2.3mm(0.090インチ)ウェッジワイヤと、15.9mm(8分の5インチ)間隔の直径3.2mm(0.125インチ)支持ワイヤとから成る。
Claims (23)
- 支持層と、
該支持層回りに配置される第一フィルター層と、
第一フィルター層回りに配置される第二フィルター層と、
第二フィルター層回りに配置される第三フィルター層と、
を備え、
該フィルター層がそれぞれ孔寸法を有し、該第三フィルター層の該孔寸法は、該第二フィルター層の該孔寸法より大きく、該第二フィルター層の孔寸法は、該第一フィルター層の該孔寸法より大きい、粒子制御スクリーン。 - 該支持層が第一支持層を備え、更に該第一支持層回りに配置される第二支持層を備えている、請求項1に記載の粒子制御スクリーン。
- 該支持層と該第一フィルター層との間に配置される第四フィルター層を更に備えている、請求項1に記載の粒子制御スクリーン。
- 該フィルター層のうち、少なくとも1枚は金網である、請求項1に記載の粒子制御スクリーン。
- 該粒子制御スクリーンアセンブリの長さに亘って延び、該フィルター層をそれぞれ共に結合している溶接継ぎ目を更に含む、請求項1に記載の粒子制御スクリーン。
- 該第一フィルター層が75ミクロン(μm)から300ミクロン(μm)の間の孔寸法を有し、該第二フィルター層が150ミクロン(μm)から400ミクロン(μm)の間の孔寸法を有し、該第三フィルター層が500ミクロン(μm)から1200ミクロン(μm)の間の孔寸法を有する、請求項1に記載の粒子制御スクリーン。
- 該第一フィルター層が75ミクロン(μm)から300ミクロン(μm)の間の孔寸法を有し、該第二フィルター層が150ミクロン(μm)から400ミクロン(μm)の間の孔寸法を有し、該第三フィルター層が200ミクロン(μm)から500ミクロン(μm)の間の孔寸法を有する、請求項1に記載の粒子制御スクリーン。
- 該第一フィルター層が200ミクロン(μm)から300ミクロン(μm)の間の孔寸法を有し、該第二フィルター層が300ミクロン(μm)から450ミクロン(μm)の間の孔寸法を有し、該第三フィルター層が600ミクロン(μm)から800ミクロン(μm)の間の孔寸法を有する、請求項1に記載の粒子制御スクリーン。
- 該第一フィルター層が100ミクロン(μm)から200ミクロン(μm)の間の孔寸法を有し、該第二フィルター層が250ミクロン(μm)から350ミクロン(μm)の間の孔寸法を有し、該第三フィルター層が500ミクロン(μm)から600ミクロン(μm)の間の孔寸法を有する、請求項1に記載の粒子制御スクリーン。
- 該第四フィルター層が75ミクロン(μm)から150ミクロン(μm)の間の孔寸法を有する、請求項3に記載の粒子制御スクリーン。
- 有孔ベースパイプと、
該ベースパイプ回りに配置される粒子制御スクリーンアセンブリと、を備えるダウンホールアセンブリにおいて、
該粒子制御スクリーンアセンブリは、
支持層と、
該支持層回りに配置され、75ミクロン(μm)から300ミクロン(μm)の間の孔寸法を有する第一フィルター層と、
該第一フィルター層回りに配置され、150ミクロン(μm)から400ミクロン(μm)の間の孔寸法を有する第二フィルター層と、
該第二フィルター層回りに配置され、200ミクロン(μm)から1200ミクロン(μm)の間の孔寸法を有する第三フィルター層と、を備え、
該粒子制御スクリーンアセンブリの少なくとも第一端部が、該ベースパイプに環状に溶接されている、ダウンホールアセンブリ。 - 該支持層が第一支持層を備え、更に該第一支持層回りに配置される第二支持層を備える、請求項11に記載のダウンホールアセンブリ。
- 該支持層と該第一フィルター層との間に配置される、第四フィルター層を更に備える、請求項11に記載のダウンホールアセンブリ。
- 該フィルター層のうち、少なくとも1枚は金網である、請求項11に記載のダウンホールアセンブリ。
- 該粒子制御スクリーンアセンブリの長さに亘って延び、該フィルター層をそれぞれ共に結合している溶接継ぎ目を更に含む、請求項11に記載のダウンホールアセンブリ。
- 該フィルター層が、該ベースパイプ周りに螺旋状に巻き付けられている、請求項11に記載の粒子制御スクリーン。
- 該第一フィルター層が200ミクロン(μm)から300ミクロン(μm)の間の孔寸法を有し、該第二フィルター層が300ミクロン(μm)から400ミクロン(μm)の間の孔寸法を有し、該第三フィルター層が600ミクロン(μm)から800ミクロン(μm)の間の孔寸法を有する、請求項11に記載のダウンホールアセンブリ。
- 該第一フィルター層が100ミクロン(μm)から200ミクロン(μm)の間の孔寸法を有し、該第二フィルター層が250ミクロン(μm)から350ミクロン(μm)の間の孔寸法を有し、該第三フィルター層が500ミクロン(μm)から600ミクロン(μm)の間の孔寸法を有する、請求項11に記載のダウンホールアセンブリ。
- ベースパイプと、
支持層と、該支持層回りに配置される第一フィルター層と、第一フィルター層回りに配置される第二フィルター層とを有する粒子制御スクリーンアセンブリと、
を提供するステップであって、
該フィルター層はそれぞれ、孔寸法を有し、該第二フィルター層の孔寸法は、該第一フィルター層の孔寸法より大きく、かつ、該粒子制御スクリーンアセンブリの少なくとも第一端部が該ベースパイプに環状に溶接されている、粒子制御スクリーンアセンブリを提供するステップと、
該アセンブリを重油を含む流体を有するダウンホール地層内に配置するステップと、
該流体を該地層から該粒子制御スクリーンアセンブリを通って該ベースパイプに汲み上げ、該粒子制御スクリーンアセンブリが該流体を濾過するステップと、
を含む、ダウンホール地層内の流体を濾過する方法。 - 該支持層が第一支持層を備え、更に該第一支持層回りに配置される第二支持層を備える、請求項19に記載の粒子制御スクリーン。
- 該第二フィルター層回りに配置される第三フィルター層を更に備え、該第三フィルター層の孔寸法は、該第二フィルター層の孔寸法より大きい、請求項19に記載の粒子制御スクリーン。
- 該粒子制御スクリーンアセンブリの長さに亘って延び、該フィルター層をそれぞれ共に結合している溶接継ぎ目を更に含む、請求項19に記載の粒子制御スクリーン。
- 該第一フィルター層が100ミクロン(μm)から300ミクロン(μm)の間の孔寸法を有し、該第二フィルター層が200ミクロン(μm)から400ミクロン(μm)の間の孔寸法を有し、該第三フィルター層は、500ミクロン(μm)から800ミクロン(μm)の間の孔寸法を有する、請求項21に記載の粒子制御スクリーン。
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