JP2009302534A - サブセグメント化されたアライメントマーク構成 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上のアライメントマークが、複数の第1のエレメントと複数の第2のエレメントとの周期構造を含む。これらのエレメントは、第1の方向で交互に繰り返す順序で配置される。周期構造の全体的なピッチが、第1の方向で第1のエレメントの幅と第2のエレメントの幅との和に等しい。各第1のエレメントが、第1のサブピッチを有する第1の周期的なサブ構造を有し、各第2のエレメントが、第2のサブピッチを有する第2の周期的なサブ構造を有する。波長λを有する放射ビームと相互作用するための第1のエレメントの光学特性が、第2のエレメントの前記光学特性と異なる。全体的なピッチが波長λより大きく、第1のサブピッチおよび第2のサブピッチのそれぞれがその波長より小さい。
【選択図】図3
Description
−放射ビームB(たとえば、UV放射またはEUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
−パターニングデバイス(たとえば、マスク)MAを支持するように構築され、且つ、いくつかのパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続されたサポート構造(たとえば、マスクテーブル)MTと、
−基板(たとえば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、且つ、いくつかのパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(たとえば、ウェーハテーブル)WTと、
−パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wの(たとえば、1つまたは複数のダイを含む)ターゲット部分C上に投影するように構成された投影システム(たとえば、屈折投影レンズシステム)PSとを備える。
P>λ [1]
P1=SLW1+SSW1 [2]
P2=SLW2+SSW2 [3]
P1<λ [4]
P2<λ [5]
P1≠P2 [6]
P1=P2 [7]
SLW1≠SLW2 [8]
飽和モード:PS<λ/max(nr) [9]
共振モード:λ/max(nr)<PS<λ [10]
Claims (17)
- 基板上のアライメントマークであって、該アライメントマークは第1の複数の第1のエレメントと第2の複数の第2のエレメントとの周期構造を備え、前記第1のエレメントおよび前記第2のエレメントは第1の方向で交互に繰り返す順序で配置され、前記周期構造の全体的なピッチは前記第1の方向で前記第1のエレメントの幅と前記第2のエレメントの幅との和に等しく、
各第1のエレメントが、第1のサブピッチを有する第1の周期的なサブ構造を備え、
各第2のエレメントが、第2のサブピッチを有する第2の周期的なサブ構造を備え、
放射ビームと相互作用するための前記第1のエレメントの光学特性が、前記第2のエレメントの前記光学特性と異なっており、前記放射ビームがある波長を有し、
前記全体的なピッチが前記波長より大きく、前記第1のサブピッチおよび前記第2のサブピッチのそれぞれが前記波長より小さい、アライメントマーク。 - 前記第1の周期的なサブ構造が、複数の第1のサブラインと複数の第1のサブスペースとを備え、前記第1のサブラインおよび前記第1のサブスペースが、第1のサブピッチ方向で交互に繰り返す順序で配置され、前記第1の周期的なサブ構造の前記第1のサブピッチが、前記第1のサブピッチ方向で前記第1のサブラインの幅と前記第1のサブスペースの幅との和に等しく、前記第1のサブラインが、前記第1のサブピッチ方向に対して実質的に垂直な方向で前記基板の表面に沿って延びる、請求項1に記載のアライメントマーク。
- 前記第2のサブ構造が、複数の第2のサブラインと複数の第2のサブスペースとを備え、前記第2のサブラインおよび前記第2のサブスペースが、第2のサブピッチ方向で交互に繰り返す順序で配置され、前記第2の周期的なサブ構造の前記第2のサブピッチが、前記第2のサブピッチ方向で前記第2のサブラインの幅と前記第2のサブスペースの幅との和に等しく、前記第2のサブラインが、前記第2のサブピッチ方向に対して実質的に垂直な方向で前記基板の表面に沿って延びる、請求項1に記載のアライメントマーク。
- 前記第1のサブピッチ方向が前記第1の方向に対して平行である、請求項2に記載のアライメントマーク。
- 前記第2のサブピッチ方向が前記第1の方向に対して平行である、請求項2に記載のアライメントマーク。
- 前記第1のサブピッチ方向が前記第2の方向に対して平行である、請求項3に記載のアライメントマーク。
- 前記第2のサブピッチ方向が前記第2の方向に対して平行である、請求項3に記載のアライメントマーク。
- 前記第1のサブラインの前記幅と前記第1のサブスペースの前記幅との比である前記第1の周期的なサブ構造のデューティサイクルが、前記第1のエレメントの有効屈折率を生成するように、且つ前記放射ビームの前記波長について飽和モード条件を満たすように選択され、前記第1のサブピッチが、前記波長と、前記マークを構成する材料のそれぞれの屈折率の最大値との比より小さい、請求項1に記載のアライメントマーク。
- 前記第1のサブラインの前記幅と前記第1のサブスペースの前記幅との比である前記第1の周期的なサブ構造のデューティサイクルが、前記第1のエレメントの有効屈折率を生成するように、且つ前記放射ビームの前記波長について共振モード条件を満たすように選択され、前記第1のサブピッチが、前記波長と、回折格子を構成する材料のそれぞれの屈折率の最大値との比より大きく、且つ前記波長より小さい、請求項1に記載のアライメントマーク。
- 前記第2のサブラインの前記幅と前記第2のサブスペースの前記幅との比である前記第2の周期的なサブ構造のデューティサイクルが、前記第2のエレメントの有効屈折率を生成するように、且つ前記放射ビームの前記波長について飽和モード条件を満たすように選択され、前記第2のサブピッチが、前記波長と、前記マークを構成する材料のそれぞれの屈折率の最大値との比より小さい、請求項1に記載のアライメントマーク。
- 前記第2のサブラインの前記幅と前記第2のサブスペースの前記幅との比である前記第2の周期的なサブ構造のデューティサイクルが、前記第2のエレメントの有効屈折率を生成するように、且つ前記放射ビームの前記波長について共振モード条件を満たすように選択され、前記第2のサブピッチが、前記波長と、前記マークを構成する材料のそれぞれの屈折率の最大値との比より大きく、且つ前記波長より小さい、請求項1に記載のアライメントマーク。
- 前記マークを構成する材料が、光学特性の第1の光学特性値を有する第1の材料と、前記光学特性の第2の光学特性値を有する第2の材料とを含み、前記第1の光学特性値が前記第2の光学特性値と異なる、請求項6に記載のアライメントマーク。
- 第1のアライメントマークおよび第2のアライメントマークの構成であって、
前記第1のアライメントマークが、
第1の複数の第1のエレメントと第2の複数の第2のエレメントとの第1の周期構造を備え、前記第1のエレメントおよび前記第2のエレメントが第1の方向で交互に繰り返す順序で配置され、前記周期構造の全体的なピッチが前記第1の方向で前記第1のエレメントの幅と前記第2のエレメントの幅との和に等しく、
前記第1のアライメントマークの各第1のエレメントが、第1のサブピッチを有する第1の周期的なサブ構造を備え、前記第1のアライメントマークの各第2のエレメントが、第2のサブピッチを有する第2の周期的なサブ構造を備え、
前記第2のアライメントマークが、
前記第1の複数の第1のエレメントと前記第2の複数の第2のエレメントとの第2の周期構造を備え、前記第1のエレメントおよび前記第2のエレメントが前記第1の方向に対して垂直な第2の方向で交互に繰り返す順序で配置され、前記第2のアライメントマークの前記第2の周期構造の全体的なピッチが、前記第1のアライメントマークの前記第1の周期構造の前記全体的なピッチに等しく、
前記第2のアライメントマークの各第1のエレメントが、第1のサブピッチを有する第1の周期的なサブ構造を備え、前記第2のアライメントマークの各第2のエレメントが、第2のサブピッチを有する第2の周期的なサブ構造を備え、
放射ビームと相互作用するための前記第1のエレメントの光学特性が、前記第2のエレメントの前記光学特性と異なっており、前記放射ビームがある波長を有し、
前記第1のアライメントマークの前記第1のサブピッチおよび前記第2のサブピッチが前記第1の方向で配向され、前記第2のアライメントマークの前記第1のサブピッチおよび前記第2のサブピッチが前記第1の方向で配向され、前記全体的なピッチが前記波長より大きく、前記第1のアライメントマークの、および前記第2のアライメントマークの前記第1のサブピッチおよび前記第2のサブピッチのそれぞれが前記波長より小さい、構成。 - リソグラフィ装置であって、
少なくとも1つの放射ビームを調節する照明システムと、
前記少なくとも1つの放射ビームにその断面でパターンを与えて少なくとも1つのパターン付き放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持するサポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記少なくとも1つのパターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを備え、
前記基板が、第1の複数の第1のエレメントと第2の複数の第2のエレメントとの周期構造を有するアライメントマークを備え、前記第1のエレメントおよび前記第2のエレメントが第1の方向で交互に繰り返す順序で配置され、前記周期構造の全体的なピッチが、前記第1の方向で前記第1のエレメントの幅と前記第2のエレメントの幅との和に等しく、
各第1のエレメントが、第1のサブピッチを有する第1の周期的なサブ構造を備え、
各第2のエレメントが、第2のサブピッチを有する第2の周期的なサブ構造を備え、
放射ビームと相互作用するための前記第1のエレメントの光学特性が、前記第2のエレメントの前記光学特性と異なっており、前記放射ビームがある波長を有し、
前記全体的なピッチが前記波長より大きく、前記第1のサブピッチおよび前記第2のサブピッチのそれぞれが前記波長より小さい、リソグラフィ装置。 - 前記照明システムが、前記パターニングデバイス上で収束するように2つの放射ビームを調節する極端ダイポール照明設定と共に構成され、入射面に対して垂直な方向で配向される前記第1のエレメントの前記第1のサブピッチおよび前記第2のエレメントの前記第2のサブピッチが、前記ダイポール照明の前記2つの放射ビームを含む、請求項14に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1のエレメントの前記第1のサブピッチが、共振状態となるように選択され、前記第1のエレメントのデューティサイクルが、アライメントビームによる照明中に、前記アライメントビームによって励起される前記第1のエレメントの2つの回折格子モードの有効屈折率が前記アライメントマークの底部で強め合う干渉を有し、前記第1のエレメントによって回折された光の、ゼロ透過回折次数の回折ビームとの最大結合を生み出すように選択され、
前記第2のエレメントの前記第2のサブピッチが、共振状態となるように選択され、前記第2のエレメントのデューティサイクルが、前記アライメントビームによる照明中に、前記アライメントビームによって励起される前記第2のエレメントの2つの回折格子モードの有効屈折率が前記アライメントマークの前記底部で弱め合う干渉を有し、前記第2のエレメントによって回折された光の、ゼロ反射回折次数の回折ビームとの最大結合を生み出すように選択される、請求項14に記載のリソグラフィ装置。 - ある波長を有するアライメントビームと共に使用するために、その上にアライメントマークを有する基板であって、
前記アライメントマークが、複数の第1のエレメントと複数の第2のエレメントとの周期構造を備え、
前記第1のエレメントおよび前記第2のエレメントが、第1の方向で交互に繰り返す順序で配置され、
前記周期構造の全体的なピッチが、前記第1の方向で各第1のエレメントの幅と各第2のエレメントの幅との和に等しく、且つ前記波長より大きく、各第1のエレメントが、前記波長より小さい第1のサブピッチを有する第1の周期的なサブ構造を備え、各第2のエレメントが、前記波長より小さい第2のサブピッチを有する第2の周期的なサブ構造を備え、前記アライメントビームに対する前記第1のエレメントの光学特性が、前記アライメントビームに対する前記第2のエレメントの前記光学特性と異なる、基板。
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