JP2009283162A - プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法および誘電体ペースト - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は刺激値ｂ^*の上昇を抑制し、高精細表示であっても、高信頼性・高品位画質を確保したプラズマディスプレイパネルを実現することを目的としている。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルは、少なくとも一方の基板上に電極と誘電体層とを形成したプラズマディスプレイパネルであって、誘電体層は誘電体ペーストを用いて形成し、誘電体ペーストに含まれる可塑剤の誘電体ガラス材料に対する体積分率で表記した含有量が１．０％〜５．０％であることを特徴とする。
【選択図】図２

Description

本発明は、表示デバイスなどに用いるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法によるものである。

プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと呼ぶ）は、高精細化、大画面化の実現が可能であることから、１００インチクラスのテレビなどが製品化されている。近年、ＰＤＰは従来のＮＴＳＣ方式に比べて走査線数が２倍以上のハイディフィニションテレビへの適用が進んでいるとともに、環境問題に配慮して鉛成分を含まないＰＤＰも製品化されている。

ＰＤＰは、基本的には、前面板と背面板とで構成されている。前面板は、フロート法による硼硅酸ナトリウム系ガラスのガラス基板と、その一方の主面上に形成されたストライプ状の透明電極とバス電極とで構成される表示電極と、この表示電極を覆ってコンデンサとしての働きをする誘電体層と、この誘電体層上に形成された酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層とで構成されている。一方、背面板は、ガラス基板と、その一方の主面上に形成されたストライプ状のアドレス電極と、アドレス電極を覆う下地誘電体層と、下地誘電体層上に形成された隔壁と、各隔壁間に形成された赤色、緑色および青色それぞれに発光する蛍光体層とで構成されている。

前面板と背面板とはその電極形成面側を対向させて気密封着され、隔壁によって仕切られた放電空間にＮｅ−Ｘｅの放電ガスが５５ｋＰａ〜８０ｋＰａの圧力で封入されている。ＰＤＰは、表示電極に映像信号電圧を選択的に印加することによって放電させ、その放電によって発生した紫外線が各色蛍光体層を励起して赤色、緑色、青色の発光をさせてカラー画像表示を実現している。

表示電極のバス電極には導電性を確保するための銀電極が用いられ、誘電体層としては酸化鉛を主成分とする低融点ガラスが用いられているが、近年の環境問題への配慮から誘電体層として鉛成分を含まない例が開示されている（例えば、特許文献１、２など参照）。
特開２００３−１２８４３０号公報 特開２００２−０５３３４２号公報

近年、ＰＤＰは従来のＮＴＳＣ方式に比べて走査線数が２倍以上のハイディフィニションテレビへの適用が進んでいる。

このようなハイビジョン化によって、走査線数が増加して表示電極の数が増加し、さらに表示電極間隔が小さくなる。そのため、表示電極を被覆する誘電体層も小さくなった表示電極間隔に空隙などなく形成される必要がある。空隙などが存在した場合、誘電体層に求められる絶縁耐圧特性が低下してしまう。そこで従来ではそうした誘電体層の形成にはスクリーン印刷法やダイコート法を用いて複数回の誘電体形成を行って誘電体層を形成していた。

しかしながらそうした複数回の誘電体形成方法では多くの生産設備が必要になるだけでなく、製造時エネルギー消費の増大などコストアップにつながり、安価で高性能なＰＤＰを提供することが困難となる。またドライフィルム法ではドライフィルムを形成するためのベースフィルムが必要となるため、その分のコストアップに繋がるだけでなくベースフィルムはラミネート後廃棄物となるため環境問題という点でも望ましくない。さらにドライフィルム法では形成時に表示電極間隔での流動性が乏しいため空隙などなく形成することが困難である。

本発明は、このような上記の課題を解決して、高精細表示でも、高信頼性を確保したＰＤＰを実現することを目的としている。

上記の課題を解決するために、本発明のＰＤＰは少なくとも一方の基板上に電極と誘電体層とを形成したＰＤＰであって、誘電体層は誘電体ペーストを用いて形成し、誘電体ペーストに含まれる可塑剤の誘電体ガラス材料に対する体積分率で表記した含有量が１．０％〜５．０％であることを特徴とする。ここで、誘電体層は誘電体ペーストを用いて形成し、誘電体層を形成する工程において誘電体ペーストを用いた塗布工程が１回のみであってもよい。また可塑剤がフタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリブチルのいずれかであってもよい。

また、本発明のＰＤＰの製造方法は、少なくとも一方の基板上に電極と誘電体層とを形成するＰＤＰの製造方法であって、誘電体層は誘電体ペーストを用いて形成し、誘電体層を形成する工程において誘電体ペーストを用いた塗布工程が１回のみであって、誘電体ペーストに含まれる可塑剤の誘電体ガラス材料に対する体積分率で表記した含有量が１．０％〜５．０％であることを特徴とする。ここで可塑剤がフタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリブチルのいずれかであってもよい。

また、本発明の誘電体ペーストは、ＰＤＰの誘電体層を形成する誘電体ペーストであって、可塑剤の誘電体ガラス材料に対する体積分率で表記した含有量が１．０％〜５．０％であることを特徴とする。ここで可塑剤がフタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリブチルのいずれかであってもよい。

以上のように本発明は、高精細表示であっても、高信頼性・高品位画質を確保したＰＤＰを実現することができる。

以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。図１は本実施の形態におけるＰＤＰ１の構造を示す斜視図である。

前面板２の前面ガラス基板３上には、走査電極４および維持電極５よりなる一対の帯状の表示電極６と遮光層（ブラックストライプ）７が互いに平行にそれぞれ複数列配置されている。前面ガラス基板３上には表示電極６と遮光層７とを覆うようにコンデンサとしての働きをする誘電体層８が形成され、さらにその表面に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）などからなる保護層９が形成されている。

また、背面板１０の背面ガラス基板１１上には、前面板２の走査電極４および維持電極５と直交する方向に、複数の帯状のアドレス電極１２が互いに平行に配置され、これを下地誘電体層１３が被覆している。さらに、アドレス電極１２間の下地誘電体層１３上には放電空間１６を区切る所定の高さの隔壁１４が形成されている。隔壁１４間の溝にアドレス電極１２毎に、紫外線によって赤色、青色および緑色にそれぞれ発光する蛍光体層１５が順次塗布して形成されている。走査電極４および維持電極５とアドレス電極１２とが交差する位置に放電セルが形成され、表示電極６方向に並んだ赤色、青色、緑色の蛍光体層１５を有する放電セルがカラー表示のための画素になる。

このようにして形成された前面板２と、背面板１０が対向して配置され、その外周部をガラスフリットなどからなる封着材によって気密封着される。封着されたＰＤＰ１内部の放電空間１６には、ＮｅおよびＸｅなどの放電ガスが５５ｋＰａ〜８０ｋＰａの圧力で封入される。

図２は、本実施の形態におけるＰＤＰの誘電体層８の構成を示す前面板２の断面図である。図２は図１と上下反転させて示している。図２に示すように、フロート法などにより製造された前面ガラス基板３に、走査電極４と維持電極５よりなる表示電極６と遮光層７がパターン形成されている。走査電極４と維持電極５はそれぞれＩＴＯやＳｎＯ₂などからなる透明電極４ａ、５ａと、銀材料を主成分とする導電性材料などからなる金属バス電極４ｂ、５ｂと、ルテニウム化合物やルテニウム酸化物、銅−鉄系、コバルトの黒色の複合酸化物とガラス粉末などからなる黒色電極４ｃ、５ｃとで構成されている。

金属バス電極４ｂ、５ｂは透明電極４ａ、５ａの長手方向に導電性を付与する目的として用いられ、黒色電極４ｃ、５ｃは外光反射を抑えて明所コントラストを向上させる目的として用いられている。よって、これらの目的のために、透明電極４ａ、５ａ上に黒色電極４ｃ、５ｃが形成され、黒色電極４ｃ、５ｃ上に金属バス電極４ｂ、５ｂが形成される。

誘電体層８は、前面ガラス基板３上に形成されたこれらの透明電極４ａ、５ａと金属バス電極４ｂ、５ｂと遮光層７を覆って設けられ、さらに誘電体層８上に保護層９を形成している。

次に、ＰＤＰ１の製造方法について説明する。まず、前面ガラス基板３上に、走査電極４および維持電極５と遮光層７とを形成する。これらの透明電極４ａ、５ａと金属バス電極４ｂ、５ｂと黒色電極４ｃ、５ｃは、フォトリソグラフィ法などを用いてパターニングして形成される。透明電極４ａ、５ａは薄膜プロセスなどを用いて形成され、金属バス電極４ｂ、５ｂは銀材料を含むペーストを所望の温度で焼成して固化している。また、黒色電極４ｃ、５ｃと遮光層７は同工程において、黒色顔料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や黒色顔料をガラス基板の全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、焼成することにより形成される。

次に、走査電極４、維持電極５および遮光層７を覆うように前面ガラス基板３上に誘電体ペーストをダイコート法などにより塗布して誘電体ペースト層（誘電体材料層）を形成する。誘電体ペーストを塗布した後、所定の時間放置することによって塗布された誘電体ペースト表面がレベリングされて平坦な表面になる。その後、誘電体ペースト層を焼成固化することにより、走査電極４、維持電極５および遮光層７を覆う誘電体層８が形成される。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料、バインダーおよび溶剤を含む塗料である。次に、誘電体層８上に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層９を真空蒸着法により形成する。以上の工程により前面ガラス基板３上に所定の構成物（走査電極４、維持電極５、遮光層７、誘電体層８、保護層９）が形成され、前面板２が完成する。

一方、背面板１０は次のようにして形成される。まず、背面ガラス基板１１上に、銀（Ａｇ）材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や、金属膜を全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングする方法などによりアドレス電極１２用の構成物となる材料層を形成し、それを所望の温度で焼成することによりアドレス電極１２を形成する。次に、アドレス電極１２が形成された背面ガラス基板１１上にダイコート法などによりアドレス電極１２を覆うように誘電体ペーストを塗布して誘電体ペースト層を形成する。その後、誘電体ペースト層を焼成することにより下地誘電体層１３を形成する。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料とバインダーおよび溶剤を含んだ塗料である。

次に下地誘電体層１３上に隔壁材料を含む隔壁形成用ペーストを塗布して所定の形状にパターニングすることにより、隔壁材料層を形成した後、焼成することにより隔壁１４を形成する。ここで、下地誘電体層１３上に塗布した隔壁用ペーストをパターニングする方法としては、フォトリソグラフィ法やサンドブラスト法を用いることができる。次に、隣接する隔壁１４間の下地誘電体層１３上および隔壁１４の側面に蛍光体材料を含む蛍光体ペーストを塗布し、焼成することにより蛍光体層１５が形成される。以上の工程により、背面ガラス基板１１上に所定の構成部材を有する背面板１０が完成する。

このようにして所定の構成部材を備えた前面板２と背面板１０とを走査電極４とアドレス電極１２とが直交するように精度良く対向配置して、その周囲をガラスフリットで封着し、放電空間１６にＮｅ、Ｘｅなどを含む放電ガスを封入することによりＰＤＰ１が完成する。

次に前面板２の誘電体層８について詳細に説明する。従来、誘電体層を形成する方法として、誘電体ガラス粉体成分（以下、誘電体ガラス材料とする）とバインダー樹脂、可塑剤、溶剤などの成分で構成されたペーストをスクリーン印刷法やダイコート法などを用いて、電極を形成した基板上に塗布し、乾燥後４５０℃から６００℃程度で焼成する方法や、誘電体ペーストをフィルム上に塗布、乾燥して、電極を形成した基板上に転写し、４５０℃から６００℃程度で焼成するドライフィルム法が知られている。

しかしながら、ドライフィルム法は前述したように生産時のコストが高いことや環境問題といった点で好ましくない。また、誘電体ペーストを用いたスクリーン印刷法やダイコート法では誘電体層の高耐電圧性を確保するため、表示電極６を空隙なく被覆する必要があり従来ではペーストを複数回塗布および焼成する方法がとられてきた。このため多くの生産設備が必要になり、さらに製造時のエネルギー消費の増大などコストアップとなっていた。

すなわち、低コストで誘電体層８を形成するためには、誘電体ペーストを用いて塗布工程を１回のみとしつつ、絶縁耐圧性の高い誘電体層８を形成することが必要となる。そして誘電体ペーストを用いて塗布工程を１回のみとした場合、さらに次のような課題が発生する。

表示電極６の成分に銀が含まれる場合、誘電体層８や前面ガラス基板３への銀イオンの拡散が生じる。そしてこの銀イオンの拡散によって、誘電体層８中のアルカリ金属イオンや前面ガラス基板３中に含まれる２価のスズイオンによって還元作用を受け、銀のコロイドを形成する。

その結果、誘電体層やガラス基板が、黄色や褐色により強く着色するという黄変現象が発生するだけでなく、銀のコロイドの存在は誘電体層８の絶縁耐圧性を低下させることに繋がる。

そして誘電体層８の形成において、誘電体ペーストを用いて塗布工程を１回のみとした場合、このような現象がより顕著に現出することが判明した。特に、近年のハイビジョン化によって、走査線数が増加して表示電極の数が増加し、さらに表示電極間隔が小さくなる。そのため黄変現象・誘電体層絶縁耐圧低下は発生し易くなり、画像品質を著しく損なうとともに誘電体層８の絶縁不良によって生産歩留まりを低下させる。

また、これまで誘電体ペーストをガラス基板に塗布するスクリーン印刷法やダイコート法では前述の黄変において誘電体ガラス材料の改善に関する検討は多くなされてきたが、誘電体ペーストにおける可塑剤の量について黄変などの特性に関して多くは検討されてこなかった。

これに対して、発明者等が検討を行った結果、誘電体層８の誘電体ペーストについて、含まれる可塑剤の誘電体ガラス材料に対する体積分率で表記した含有量を１．０％〜５．０％とすることによって、上記の課題を解消し得ることを見出した。

これは次のような現象に基づいている。誘電体ペーストの可塑剤の量が１．０％より小さい場合、誘電体ペーストを乾燥させた乾燥膜に５０〜５００μｍ程度の微小なクラックが入りやすくなる。そしてこのクラックは、焼成後に誘電体層８の絶縁破壊の発生原因となり、結果的に誘電体層８の絶縁耐圧性を劣化させてしまう。

また逆に、誘電体ペーストの可塑剤の量が５．０％より大きい場合、誘電体層８の焼成の際に表示電極６に存在する銀成分の拡散の程度が大きくなり、黄変現象が顕著になってくる。

ここで、本発明の実施の形態において誘電体ペーストに含有する可塑剤の量は、誘電体ガラス材料に対する体積分率の表記で規定している。これは発明者等が検討した結果、上記現象には、誘電体ペースト全体に対する可塑剤の量よりも、ある一定空間における誘電体ガラス材料に対する可塑剤の量が影響を及ぼしているという推察に至ったからである。

以上のように本発明の実施の形態では、誘電体層８の誘電体ペーストについて、含まれる可塑剤の誘電体ガラス材料に対する体積分率で表記した含有量を１．０％〜５．０％としている。これによって低コストで誘電体層８を形成しつつ、高い絶縁耐圧性を保持し、発光画素の欠点のない表示品質の優れたＰＤＰを実現している。

次に本発明の実施の形態における誘電体層８の製造方法について詳細に説明する。誘電体層８に含まれる誘電体ガラス材料は、鉛（Ｐｂ）系成分以外を主成分とし、さらに酸化銅（ＣｕＯ）やＲ₂Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、ＲｂおよびＣｓから選ばれる少なくとも１種）を含有する材料組成により構成されている。

これらの組成成分からなる誘電体材料を、湿式ジェットミルやボールミルで平均粒径が０．５μｍ〜３．０μｍとなるように粉砕して誘電体材料粉末を作製する。次に、この誘電体ガラス材料の粉末を誘電体ペーストに対して体積分率の表記で２０％〜５０％と、可塑剤を誘電体ガラス材料に対して体積分率の表記で１％〜５％の量と、バインダー樹脂成分とを、三本ロールでよく混練して分散させて、ダイコート用あるいは印刷用の誘電体ペーストを作製する。なお、混練する装置は三本ロールのほかにもジェットミルやビーズミルなど種々の装置を適宜選択できる。

バインダー樹脂成分はエチルセルロースあるいはアクリル樹脂であるが、ブチラール樹脂やカルボキシルメチルセルロース、ニトロセルロースなどを用いても構わない。

上記成分以外の成分としてはターピネオールあるいはブチルカルビトールアセテートといった溶剤であるが、α−、β−、γ−テルピネオールなどのテルペン類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エチレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、トリプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、トリプロピレングリコールジアルキルエーテル類、トリプロピレングリコールトリアルキルエーテル類、トリプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、トリプロピレングリコールジアルキルエーテルアセテート類、トリプロピレングリコールトリアルキルエーテルアセテート類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１−ブタノールなどのアルコール類等も適宜選択できる。

また、可塑剤としてはフタル酸ジブチルを用いているが、これも適宜フタル酸ジオクチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリブチルなどが選択できる。また必要に応じて分散剤としてグリセロールモノオレート、ソルビタンセスキオレヘート、ホモゲノール（Ｋａｏコーポレーション社製品名）、アルキルアリル基のリン酸エステルなどを添加して印刷性を向上させてもよい。

次に、この誘電体層用ペーストを用い、表示電極６を覆うように前面ガラス基板３に、スクリーン印刷法または、スプレー法または、ブレードコータ法または、ダイコート法にて塗布し、乾燥させ、その後、誘電体材料の軟化点より少し高い温度の４５０℃〜６００℃で焼成する。

なお、誘電体層８の膜厚が小さいほどパネル輝度の向上と放電電圧を低減するという効果は顕著になるので、絶縁耐圧が低下しない範囲内であればできるだけ膜厚を小さく設定するのが望ましい。このような条件と可視光透過率の観点から、本発明の実施の形態では、誘電体層８の膜厚を２５〜４１μｍ以下に設定している。

（実施例）
本発明の実施の形態におけるＰＤＰ１として、放電セルを４２インチクラスのハイビジョンテレビに適合するように、隔壁１４の高さを０．１５ｍｍ、隔壁の間隔（セルピッチ）を０．１５ｍｍ、表示電極６の電極間距離を０．０６ｍｍで電極の膜厚が６．０μｍのものを作成し、Ｘｅの含有量が体積分率１５％のＮｅ−Ｘｅ系の混合ガスを封入圧６０ｋＰａに封入したＰＤＰ１を作製してその性能を評価した。

表１に実施検討した誘電体ペーストの誘電体ガラス成分の含有量と、可塑剤の含有量、そして刺激値ｂ^*、クラック数の測定結果を示す。同表に示す誘電体ペーストを作製し、これらの誘電体層８を有したＰＤＰを作製した。

なお、表１に記載してある誘電体ガラス量や可塑剤量はこれまでの記述のとおり、誘電体ガラス材料に対する体積分率である。また、これら以外の溶剤等の成分、含有量は比較検討した試料で同一にしてある。そして表１に示される誘電体ペーストから構成されるＰＤＰの特性を評価するために、以下の項目について評価を行った。その評価結果も表１に併せて示す。

まず銀（Ａｇ）による黄変の度合いを色彩計（ミノルタ（株）；ＣＲ−３００）で測定し、黄色の度合いを示す刺激値ｂ^*を測定した。また刺激値ｂ^*はＰＤＰ１の表示面側から、ガラス基板面内９点を測定して、平均値と最大値によって比較した。

なお、黄変がＰＤＰの表示性能に影響を与える刺激値ｂ^*の目安はｂ^*＝３．０以下であり、この値が大きければ大きいほど黄変が目立ちＰＤＰとして色温度が低下し好ましくない。また、表示面側からの刺激値ｂ^*測定領域の表示電極６および遮光層７の面積は同一にしてある。

次に、絶縁耐圧性を劣化させる微小クラックに関しては誘電体層が形成された前面板の誘電体層の表面に存在する微小クラックの個数を計測した。

表１において比較例１および比較例２は可塑剤の含有量がそれぞれ１２．１％、１６．３％とともに５．０％を超えているため刺激値ｂ^*がそれぞれ３．６、４．２と３．０を超えており、好ましくない。

また比較例３は、可塑剤量が０．９％と５．０％以下であるため刺激値ｂ^*が２．３と３．０以下であるが、微小クラックが２個発生しているため好ましくない。

それに対し、実施例１、実施例２および実施例３では可塑剤の含有量が５．０％以下であり、刺激値ｂ^*が３．０以下を満たしている。

以上のように、本発明のＰＤＰは少なくとも一方の基板上に電極と誘電体層とを形成したＰＤＰであって、誘電体層は誘電体ペーストを用いて形成し、誘電体ペーストに含まれる可塑剤の誘電体ガラス材料に対する体積分率で表記した含有量が１．０％〜５．０％であることを特徴とする。ここで、誘電体層は誘電体ペーストを用いて形成し、誘電体層を形成する工程において誘電体ペーストを用いた塗布工程が１回のみであってもよい。可塑剤がフタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリブチルのいずれかであってもよい。

また、本発明の誘電体ペーストは、ＰＤＰの誘電体層を形成する誘電体ペーストであって、可塑剤の誘電体ガラス材料に対する体積分率で表記した含有量が１．０％〜５．０％であることを特徴とする。ここで可塑剤がフタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリブチルのいずれかであってもよい。

このような構成とすることで、高精細表示であっても、高信頼性・高品位画質を確保したＰＤＰを実現することができる。

以上のように本発明により、刺激値ｂ^*の上昇を抑制し、高信頼性・高品位画質を確保したＰＤＰを実現することで極めて有用である。

本発明の実施の形態におけるＰＤＰの構造を示す斜視図 同ＰＤＰの前面板の構成を示す断面図

符号の説明

１ ＰＤＰ
２ 前面板
３ 前面ガラス基板
４ 走査電極
４ａ，５ａ 透明電極
４ｂ，５ｂ 金属バス電極
５ 維持電極
６ 表示電極
７ ブラックストライプ（遮光層）
８ 誘電体層

Claims (7)

1. 少なくとも一方の基板上に電極と誘電体層とを形成したプラズマディスプレイパネルであって、前記誘電体層は誘電体ペーストを用いて形成し、前記誘電体ペーストに含まれる可塑剤の誘電体ガラス材料に対する体積分率で表記した含有量が１．０％〜５．０％であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
2. 前記誘電体層を形成する工程において前記誘電体ペーストを用いた塗布工程が１回のみであることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
3. 前記可塑剤がフタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリブチルのいずれかであることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
4. 少なくとも一方の基板上に電極と誘電体層とを形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記誘電体層は誘電体ペーストを用いて形成し、前記誘電体層を形成する工程において前記誘電体ペーストを用いた塗布工程が１回のみであって、前記誘電体ペーストに含まれる可塑剤の誘電体ガラス材料に対する体積分率で表記した含有量が１．０％〜５．０％であることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
5. 前記可塑剤がフタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリブチルのいずれかであることを特徴とする請求項４記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
6. プラズマディスプレイパネルの誘電体層を形成する誘電体ペーストであって、可塑剤の誘電体ガラス材料に対する体積分率で表記した含有量が１．０％〜５．０％であることを特徴とする誘電体ペースト。
7. 前記可塑剤がフタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリブチルのいずれかであることを特徴とする請求項６記載の誘電体ペースト。

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