JP2009276555A - Method for manufacturing color filter for semi-transmissive liquid crystal display and its manufacturing apparatus - Google Patents

Method for manufacturing color filter for semi-transmissive liquid crystal display and its manufacturing apparatus Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a color filter for a semi-transmissive liquid crystal display for enlarging a thickness difference between coloring layers of a reflection region and a transmissive region to enhance reflection brightness. <P>SOLUTION: The method for manufacturing the color filter includes: an applying process for applying a coating liquid for forming the coloring layer including a photosensitive resin composition for the coloring layer so as to cover an optical path difference adjusting part of a color filter substrate having a transparent base material and the optical path difference adjusting part formed on the transparent base material; a heating process for heating the coating liquid for forming the coloring layer on the optical path difference adjusting part in order to flow the coating liquid for forming the coloring layer applied on the optical path difference adjusting part into a transmissive light region; a drying process for pressure-decreasing and drying the coating liquid for forming the coloring layer after the heating process and forming the coloring layer; and a prebaking process for heating the layer for forming the coloring layer formed in the drying process. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、半透過型液晶表示装置等に用いられる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタに関し、より詳しくは、反射光用領域および透過光用領域の着色層の厚み差が大きく、半透過型液晶表示装置に用いた場合に、反射表示時の輝度を高いものとすることができる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a color filter for a transflective liquid crystal display device used for a transflective liquid crystal display device and the like, and more specifically, there is a large difference in thickness between colored layers in a reflected light region and a transmitted light region. The present invention relates to a method for manufacturing a color filter for a transflective liquid crystal display device, which can increase the luminance during reflection display when used in a liquid crystal display device.

近年、液晶表示装置として、外光の反射と、バックライト光の透過光とを利用した半透過型液晶表示装置が開発され、この半透過型液晶表示装置は、外光を利用して表示を行なう従来の反射型カラー液晶表示装置に、バックライトを兼ね備え、周囲が暗い場合でもバックライトによる表示(透過表示)が行なえる、という利点を有する。   In recent years, a transflective liquid crystal display device utilizing external light reflection and backlight transmitted light has been developed as a liquid crystal display device. The transflective liquid crystal display device uses external light to display. The conventional reflective color liquid crystal display device is advantageous in that it also has a backlight and can perform display (transmission display) using the backlight even when the surroundings are dark.

しかしながら、このような半透過型液晶表示装置は、反射光用領域では進入してきた外光が通常2回カラーフィルタを通過するのに対し、透過光用領域では通常1回のみカラーフィルタを通過することになり、透過表示時と反射表示時とは色特性が異なるという問題点を有していた。   However, in such a transflective liquid crystal display device, outside light that has entered in the reflected light region normally passes through the color filter twice, whereas in the transmitted light region, it usually passes through the color filter only once. In other words, there is a problem in that color characteristics are different between transmissive display and reflective display.

上記問題点を解決するために、透過光用領域に形成される着色層と、反射光用領域に形成される着色層との膜厚比を調節することで、透過光用領域および反射光用領域の色特性をコントロールする方法が試みられている。
ここで、着色層の厚みを調整する方法としては、各色の着色パターンの厚い層および薄い層をそれぞれ形成する方法が用いられてきた。しかしながら、着色層を、一般的にカラーフィルタの着色層の形成に用いられるフォトリソグラフィー法を用いて形成した場合には、着色層が、赤、緑、青の3色の着色パターンを有する場合には、赤、緑、青の各色の着色パターンについて厚い層および薄い層を形成する必要があることから、露光・現像を6回行う必要があり、非常に生産性が低いものとなるといった問題点があった。
In order to solve the above problems, the transmitted light region and the reflected light region are adjusted by adjusting the film thickness ratio between the colored layer formed in the transmitted light region and the colored layer formed in the reflected light region. Attempts have been made to control the color characteristics of the areas.
Here, as a method of adjusting the thickness of the colored layer, a method of forming a thick layer and a thin layer of colored patterns of respective colors has been used. However, when the colored layer is formed using a photolithography method that is generally used for forming a colored layer of a color filter, the colored layer has a colored pattern of three colors of red, green, and blue. Has a problem that the productivity is very low because it is necessary to perform exposure and development six times because it is necessary to form a thick layer and a thin layer for the coloring patterns of each color of red, green, and blue. was there.

このような問題点に対して、例えば特許文献1では、反射光用領域に対応する箇所が半透明部であり、透過光用領域に対応する箇所が透明部であるような、露光光の透過度の異なる箇所を有するハーフトーンマスクを用いた着色層の形成方法が開示されている。この方法によれば、ハーフトーンマスクの露光光の透過度の違いにより、反射光用領域に対応する着色層の膜厚を薄いものとし、透過光用領域に対応する着色層の膜厚を厚いものとすることができ、厚い層および薄い層を一括で形成することができる。したがって、着色層が、赤、緑、青の3色の着色パターンを有する場合には、赤、緑、青の各色の着色パターンについて、厚い層および薄い層を一括で形成することが可能であることから、露光・現像を3回行うことで形成することができる。
しかしながら、このようなハーフトーンマスクのみを用いて反射光領域の着色層の薄膜化を行う方法では、カラーフィルタの全面に均一な露光をすることが困難であることから、反射光用領域の着色層の厚みにバラツキを生じる恐れがあるといった問題があった。また、透過光用領域および反射光用領域の着色層の厚みの調整は可能であるものの、カラーフィルタを液晶表示装置に用いた場合に、透過光用領域および反射光用領域における液晶層を通過する光路差の調整まではできないといった問題があった。
For example, in Patent Document 1, transmission of exposure light in which a portion corresponding to the reflected light region is a translucent portion and a portion corresponding to the transmitted light region is a transparent portion is disclosed. A method for forming a colored layer using a halftone mask having portions of different degrees is disclosed. According to this method, the thickness of the colored layer corresponding to the reflected light region is reduced and the thickness of the colored layer corresponding to the transmitted light region is increased due to the difference in the transmittance of the exposure light of the halftone mask. A thick layer and a thin layer can be formed at a time. Therefore, when the colored layer has three colored patterns of red, green, and blue, it is possible to form a thick layer and a thin layer at once for the colored patterns of red, green, and blue. Therefore, it can be formed by performing exposure and development three times.
However, in the method of thinning the colored layer in the reflected light region using only such a halftone mask, it is difficult to uniformly expose the entire surface of the color filter. There was a problem that the thickness of the layer may vary. Although the thickness of the colored layer in the transmitted light area and reflected light area can be adjusted, when the color filter is used in a liquid crystal display device, it passes through the liquid crystal layer in the transmitted light area and reflected light area. There was a problem that it was impossible to adjust the optical path difference.

また、上述したハーフトーンマスクを用いた場合における着色層の厚みのバラツキを生じさせず、光路差の調整をも行う方法としては、例えば、図5に示すように、透明基材101と、透明基材101のうち、反射表示に用いられる反射光用領域(rで示される領域)にのみ形成され、所定の膜厚を有する光路差調整部102と、その光路差調整部102を覆うように形成された着色層106とを有し、反射光用領域(rで示される領域)と、透過光用領域(tで示される領域)とが形成された半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ100を用いることにより、光路差を調整する方法が開示されている(特許文献2)。
この方法によれば、液晶層を通過する光路差を調整することができ、さらに製造時において、着色層形成用塗工液のような液状物質は、非塗布先の表面の凹凸により、凸部表面上において薄く塗布され、凹部表面上において厚く塗布される性質を有するため、着色層形成用塗工液が、光路差調整部を覆うように透明基材上に塗布された場合には、反射光用領域である上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の膜厚は薄く、透過光用領域の着色層形成用塗工液の膜厚は厚いものとなる。このため、透過光用領域における着色層の厚みを厚く、反射光用領域における着色層の厚みを薄いものとすることができる。
しかしながら、このような方法では、上記透過光用領域および反射光用領域の膜厚の差を大きなものとすることが困難であり、このようなカラーフィルタを用いて液晶表示装置とした場合には、反射表示時の輝度が低いものとなってしまうといった問題があった。
In addition, as a method for adjusting the optical path difference without causing variation in the thickness of the colored layer in the case of using the halftone mask described above, for example, as shown in FIG. Of the base material 101, the optical path difference adjustment unit 102 having a predetermined film thickness, which is formed only in the reflected light region (region indicated by r) used for reflection display, and covers the optical path difference adjustment unit 102. The color filter 100 for a transflective liquid crystal display device, which includes the formed colored layer 106 and includes a reflected light region (region indicated by r) and a transmitted light region (region indicated by t). A method of adjusting the optical path difference by using is disclosed (Patent Document 2).
According to this method, the optical path difference passing through the liquid crystal layer can be adjusted. Further, during production, a liquid material such as a coating liquid for forming a colored layer has a convex portion due to irregularities on the surface of the non-application destination. Since it has the property of being thinly applied on the surface and thickly applied on the surface of the recesses, it is reflected when the colored layer forming coating liquid is applied on the transparent substrate so as to cover the optical path difference adjusting part. The film thickness of the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting portion which is the light region is thin, and the film thickness of the colored layer forming coating solution in the transmitted light region is thick. For this reason, the thickness of the colored layer in the area | region for transmitted light can be made thick, and the thickness of the colored layer in the area | region for reflected light can be made thin.
However, with such a method, it is difficult to increase the difference in film thickness between the transmitted light region and the reflected light region. When such a color filter is used as a liquid crystal display device, There is a problem that the luminance at the time of reflective display becomes low.

特開2004−365422号公報JP 2004-365422 A 特開2004−102243号公報JP 2004-102243 A

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、反射光用領域および透過光用領域の着色層の厚み差が大きく、かつ反射光用領域の着色層の厚みの均一性に優れた半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを製造可能な半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and has a large thickness difference between the colored layer in the reflected light region and the transmitted light region, and excellent uniformity in the thickness of the colored layer in the reflected light region. It is a main object of the present invention to provide a method for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device capable of producing a color filter for a transflective liquid crystal display device.

本発明者等は、上記課題を解決すべく研究を重ねた結果、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層形成用塗工液を、反射光用領域に光路差調整部が形成されたカラーフィルタ用基板上に塗布した後、上記カラーフィルタ用基板を静置することにより、上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を、上記カラーフィルタ用基板の透過光用領域に流れ込ませることができ、反射光用領域および透過光用領域の着色層の厚み差を大きくすることができること、特に加熱時にその傾向が大きいことを見出し、本発明を完成させるに至ったのである。   As a result of repeated research to solve the above problems, the present inventors have formed a colored layer forming coating liquid containing a photosensitive resin composition for a colored layer, and an optical path difference adjusting portion is formed in the reflected light region. After coating on the color filter substrate, the color filter substrate is allowed to stand, so that the colored layer forming coating solution applied on the optical path difference adjusting unit is transmitted through the color filter substrate. Since it was found that the difference in thickness of the colored layer between the reflected light region and the transmitted light region can be increased, particularly that the tendency is large during heating, and the present invention has been completed. is there.

すなわち、本発明は、透明基材と、透明基材上に形成され、透明樹脂からなる光路差調整部と、上記光路差調整部を覆うように形成され、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層とを有し、上記透明基材と、上記光路差調整部と、上記着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、上記透明基材と、上記着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、上記透明基材と、上記透明基材上に形成された光路差調整部とを有するカラーフィルタ用基板の上記光路差調整部を覆うように、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層形成用塗工液を塗布する塗布工程と、上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を、上記透過光用領域内に流れ込ませるために、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の加熱を行う加熱工程と、上記加熱工程後の上記着色層形成用塗工液を減圧乾燥し、着色層形成用層を形成する乾燥工程と、上記乾燥工程によって形成された上記着色層形成用層を加熱するプリベーク工程とを有することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供する。   That is, the present invention provides a transparent base material, an optical path difference adjusting portion formed on the transparent base material and made of a transparent resin, and a photosensitive resin composition for a colored layer formed so as to cover the optical path difference adjusting portion. The transparent substrate and the colored layer are laminated using a region where the transparent substrate, the optical path difference adjusting unit, and the colored layer are laminated as a region for reflected light. A method for manufacturing a color filter for a transflective liquid crystal display device using the formed region as a region for transmitted light, the color filter having the transparent base material and an optical path difference adjusting unit formed on the transparent base material A coating step of applying a coating solution for forming a colored layer containing a photosensitive resin composition for a colored layer so as to cover the optical path difference adjusting portion of the substrate for forming, and formation of a colored layer applied on the optical path difference adjusting portion In order to allow the coating liquid to flow into the transmitted light region, A heating step of heating the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit; a drying step of drying the colored layer forming coating solution after the heating step under reduced pressure to form a colored layer forming layer; and And a pre-baking step of heating the colored layer forming layer formed by the drying step. A method for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device is provided.

本発明によれば、上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を、上記透過光用領域内に流れ込ませるために、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の加熱を行う加熱工程を、上記塗布工程と、上記乾燥工程との間に行うことにより、上記反射光用領域の着色層の膜厚を、上記透過光用領域の着色層の膜厚よりも薄く、さらにその差が大きいものとすることができる。また、上記反射光用領域の着色層の膜厚を均一性に優れたものとすることができる。   According to the present invention, in order to cause the colored layer forming coating solution applied on the optical path difference adjusting unit to flow into the transmitted light region, the colored layer forming coating on the optical path difference adjusting unit is applied. By performing the heating process for heating the liquid between the coating process and the drying process, the thickness of the colored layer in the reflected light region is more than the thickness of the colored layer in the transmitted light region. Can also be made thin and the difference between them can be large. In addition, the thickness of the colored layer in the reflected light region can be excellent in uniformity.

本発明においては、上記加熱工程の上記着色層形成用塗工液を加熱する温度が、上記プリベーク工程において、上記着色層形成用層を加熱する温度よりも20℃〜100℃の範囲内で低いことが好ましい。
上記加熱工程の上記着色層形成用塗工液を加熱する温度と、上記プリベーク工程において、上記着色層形成用層を加熱する温度との差が上記範囲より大きい、すなわち、上記加熱工程における加熱温度が、非常に低い温度であると、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液を、上記透過光用領域に十分な量で流れ込ませることが困難となる可能性があるからであり、上記範囲より小さい、すなわち、上記加熱工程における加熱温度が、上記プリベーク工程における加熱温度に近い温度であると、本発明の製造方法によって製造される着色層に色ムラを生じる可能性があるからである。
In this invention, the temperature which heats the said coating liquid for colored layer formation of the said heating process is lower in the range of 20 to 100 degreeC than the temperature which heats the said layer for colored layer formation in the said prebaking process. It is preferable.
The difference between the temperature for heating the colored layer forming coating solution in the heating step and the temperature for heating the colored layer forming layer in the prebaking step is larger than the above range, that is, the heating temperature in the heating step. However, if the temperature is very low, it may be difficult to cause the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit to flow into the transmitted light region in a sufficient amount. If the heating temperature in the heating step is smaller than the above range, that is, the heating temperature in the prebaking step is close to the heating temperature in the prebaking step, color unevenness may occur in the colored layer manufactured by the manufacturing method of the present invention. It is.

本発明においては、上記加熱工程が、上記着色層形成用塗工液が塗布されたカラーフィルタ用基板を、ホットプレート上に静置することにより、上記着色層形成用塗工液を加熱することが好ましい。
上記加熱工程が、ホットプレートを用いて、上記着色層形成用塗工液を加熱することにより、上記光路差調整部上の上記着色層形成用塗工液の上記透過光用領域への流れ込み量を増加させ、上記反射光用領域の薄膜化が可能となるからである。また、上記透過光用領域への流れ込み量の均一化および上記着色層形成用塗工液の厚みの均一化が容易であり、さらに上記加熱工程を簡便なものとすることができるからである。
In the present invention, the heating step heats the colored layer forming coating solution by allowing the color filter substrate coated with the colored layer forming coating solution to stand on a hot plate. Is preferred.
The heating step heats the colored layer forming coating solution using a hot plate, thereby allowing the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit to flow into the transmitted light region. This is because the thickness of the reflected light region can be reduced. Further, it is easy to equalize the amount of flow into the transmitted light region and the thickness of the colored layer forming coating solution, and further simplify the heating step.

本発明においては、上記着色層形成用塗工液の25℃と、40℃とにおける粘度差が、0.2mPa・s〜4.0mPa・sの範囲内であることが好ましい。上記着色層形成用塗工液の粘度差が上記範囲内であることにより、上記加熱工程において、上記光路差調整部上の上記着色層形成用塗工液の、上記透過光用領域への流れ込み量を十分大きなものとすることができるからである。   In this invention, it is preferable that the viscosity difference in 25 degreeC and 40 degreeC of the said coating liquid for colored layer formation exists in the range of 0.2 mPa * s-4.0 mPa * s. When the viscosity difference of the colored layer forming coating solution is within the above range, in the heating step, the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit flows into the transmitted light region. This is because the amount can be made sufficiently large.

本発明は、透明基材と、上記透明基材上に形成され、透明樹脂からなる光路差調整部と、上記光路差調整部を覆うように形成され、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層とを有し、上記透明基材と、上記光路差調整部と、上記着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、上記透明基材と、上記着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置であって、上記透明基材と、上記透明基材上に形成された光路差調整部とを有するカラーフィルタ用基板の上記光路差調整部を覆うように、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層形成用塗工液を塗布する塗布手段と、上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を、上記透過光用領域内に流れ込ませるために、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の加熱を行う加熱手段と、上記加熱手段により加熱後の上記着色層形成用塗工液を減圧乾燥し、着色層形成用層を形成する乾燥手段と、上記乾燥手段により形成された上記着色層形成用層を加熱するプリベーク手段とが、この順で連続して配置されていることを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置を提供する。   The present invention includes a transparent base material, an optical path difference adjusting portion formed on the transparent base material and made of a transparent resin, and a photosensitive resin composition for a colored layer formed to cover the optical path difference adjusting portion. The transparent substrate and the colored layer are laminated using a region where the transparent substrate, the optical path difference adjusting unit, and the colored layer are laminated as a region for reflected light. Apparatus for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device using the region as a region for transmitted light, the color filter having the transparent base material and an optical path difference adjusting unit formed on the transparent base material Application means for applying a coating solution for forming a colored layer containing a photosensitive resin composition for a colored layer so as to cover the optical path difference adjusting part of the substrate, and for forming a colored layer applied on the optical path difference adjusting part In order to allow the coating liquid to flow into the transmitted light region, the optical path A heating means for heating the colored layer forming coating liquid on the adjusting portion; and a drying means for drying the colored layer forming coating liquid heated by the heating means under reduced pressure to form a colored layer forming layer. An apparatus for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device, characterized in that pre-baking means for heating the colored layer forming layer formed by the drying means is continuously arranged in this order. provide.

本発明によれば、上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を、上記透過光用領域内に流れ込ませるために、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の加熱を行う加熱手段を、上記塗布手段と、上記乾燥手段との間に有するものであることにより、本発明の製造装置によって製造される半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを、反射光用領域の着色層と、透過光用領域の着色層との膜厚の差が大きいものとすることができる。また、上記半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを、上記反射光用領域の着色層の膜厚の均一性に優れたものとすることができる。   According to the present invention, in order to cause the colored layer forming coating solution applied on the optical path difference adjusting unit to flow into the transmitted light region, the colored layer forming coating on the optical path difference adjusting unit is applied. By providing a heating means for heating the liquid between the coating means and the drying means, the color filter for a transflective liquid crystal display device manufactured by the manufacturing apparatus of the present invention is reflected light. The difference in film thickness between the colored layer in the area for use and the colored layer in the area for transmitted light can be made large. Further, the color filter for a transflective liquid crystal display device can be made excellent in the uniformity of the thickness of the colored layer in the reflected light region.

本発明においては、上記加熱手段が、ホットプレートであることが好ましい。上記加熱手段が、ホットプレートであることにより、上記光路差調整部上の上記着色層形成用塗工液の上記透過光用領域への流れ込み量を増加させ、上記反射光用領域の薄膜化が可能となるからである。また、上記透過光用領域への流れ込み量の均一化および上記着色層形成用塗工液の厚みの均一化が容易であるからである。また、上記加熱工程を簡便なものとすることができるからである。   In the present invention, the heating means is preferably a hot plate. When the heating means is a hot plate, the amount of the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit flowing into the transmitted light region is increased, and the reflected light region is thinned. This is because it becomes possible. Moreover, it is because it is easy to equalize the amount of flow into the transmitted light region and the thickness of the colored layer forming coating solution. Moreover, it is because the said heating process can be made simple.

本発明においては、反射光用領域および透過光用領域の着色層の厚み差が大きく、半透過型液晶表示装置に用いた場合に、反射表示時の輝度を高いものとすることができる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供できるという効果を奏する。   In the present invention, there is a large difference in thickness between the colored layers in the reflected light region and the transmitted light region, and when used in a transflective liquid crystal display device, the brightness at the time of reflective display can be increased. There is an effect that a method for manufacturing a color filter for a liquid crystal display device can be provided.

本発明は、半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法およびそれに用いる製造装置に関するものである。
以下、本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法および半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置について詳細に説明する。
The present invention relates to a method for manufacturing a color filter for a transflective liquid crystal display device and a manufacturing apparatus used therefor.
Hereinafter, the manufacturing method of the color filter for transflective liquid crystal display devices and the manufacturing apparatus of the color filter for transflective liquid crystal display devices of the present invention will be described in detail.

A.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法
まず、本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法について説明する。本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法は、透明基材と、透明基材上に形成され、透明樹脂からなる光路差調整部と、上記光路差調整部を覆うように形成され、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層とを有し、上記透明基材と、上記光路差調整部と、上記着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、上記透明基材と、上記着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、上記透明基材と、上記透明基材上に形成された光路差調整部とを有するカラーフィルタ用基板の上記光路差調整部を覆うように、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層形成用塗工液を塗布する塗布工程と、上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を、上記透過光用領域内に流れ込ませるために、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の加熱を行う加熱工程と、上記加熱工程後の上記着色層形成用塗工液を減圧乾燥し、着色層形成用層を形成する乾燥工程と、上記乾燥工程によって形成された上記着色層形成用層を加熱するプリベーク工程とを有することを特徴とするものである。
A. First, a method for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device according to the present invention will be described. The method for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device according to the present invention is formed so as to cover a transparent base material, an optical path difference adjusting portion formed on the transparent base material and made of a transparent resin, and the optical path difference adjusting portion. A colored layer containing a photosensitive resin composition for a colored layer, and a region where the transparent base material, the optical path difference adjusting unit, and the colored layer are laminated is used as a reflected light region. A method for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device, which uses a region where a transparent substrate and the colored layer are laminated as a region for transmitted light, and is formed on the transparent substrate and the transparent substrate. A coating process for applying a colored layer forming coating solution containing a photosensitive resin composition for a colored layer so as to cover the optical path difference adjusting part of the color filter substrate having the optical path difference adjusting part formed, and the optical path The colored layer forming coating liquid applied on the difference adjusting portion is In order to flow into the overlight region, a heating step for heating the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit, and the colored layer forming coating solution after the heating step are dried under reduced pressure. And a drying step for forming the colored layer forming layer, and a pre-baking step for heating the colored layer forming layer formed by the drying step.

このような本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法について図面を参照しながら説明する。図1は本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。図1に例示するように、本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法は、透明基材1と、上記透明基材1上に形成され、透明樹脂からなる光路差調整部2とを有するカラーフィルタ用基板20を準備し、上記光路差調整部2を覆うように、赤色着色層用感光性樹脂組成物を含む赤色着色層形成用塗工液3を塗布する塗布工程(図1(a))と、上記光路差調整部2上に塗布された赤色着色層形成用塗工液3を、上記透過光用領域内に流れ込ませるために、上記赤色着色層形成用塗工液3の加熱を所定の時間行うことにより、上記光路差調整部2上の赤色着色層形成用塗工液3の膜厚を薄くする加熱工程(図1(b))と、上記赤色着色層形成用塗工液3を減圧乾燥して赤色着色層形成用層4を形成する乾燥工程および上記赤色着色層形成用層4を加熱し上記赤色着色層形成用層4を固化させるプリベーク工程(図1(c))とを行う。   A method for producing such a color filter for a transflective liquid crystal display device of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a process diagram showing an example of a method for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device of the present invention. As illustrated in FIG. 1, the method for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device according to the present invention includes a transparent substrate 1 and an optical path difference adjusting unit 2 formed on the transparent substrate 1 and made of a transparent resin. And applying a red colored layer forming coating solution 3 containing a photosensitive resin composition for a red colored layer so as to cover the optical path difference adjusting unit 2 (see FIG. 1 (a)) and the red colored layer forming coating solution 3 applied on the optical path difference adjusting unit 2 to flow into the transmitted light region. The heating process (FIG. 1 (b)) which makes the film thickness of the coating liquid 3 for red colored layer formation on the said optical path difference adjustment part 2 thin by performing heating of 3 for a predetermined time, and said red colored layer formation Drying step of drying coating liquid 3 under reduced pressure to form red colored layer forming layer 4 and the above red color Heating the color layer forming layer 4 performs a pre-bake step of solidifying the red colored layer forming layer 4 (FIG. 1 (c)).

続いて、赤色着色層を形成させる領域に、紫外線を透過する開口領域31を有し、赤色着色層を形成しない領域に紫外線を透過しない遮光領域32を有するフォトマスク30を介して紫外線による露光を行い、次いで、未露光領域の赤色着色層形成用層4を現像により除去する露光・現像工程(図1(d))を行うことにより、パターン状の赤色着色パターン5Rを形成する(図1(e))。その後、緑色着色層形成用塗工液、青色着色層形成用塗工液を用い、上記赤色着色パターンを形成したのと同様に、上述した塗布工程、加熱工程、乾燥工程、プリベーク工程、および露光・現像工程を行うことにより、緑色着色パターン5Gおよび青色着色パターン5Bを形成し、赤色着色パターン5R、緑色着色パターン5Gおよび青色着色パターン5Bからなる着色層6を有する半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ10を形成する(図1(f))。
ここで、上記半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ10において、上記透明基材1と、上記光路差調整部2と、上記着色層6とが積層する領域が、反射光用領域(rで示される領域)であり、上記透明基材1と、上記着色層6とが積層する領域が、透過光用領域(tで示される領域)である。
Subsequently, exposure with ultraviolet rays is performed through a photomask 30 having an opening region 31 that transmits ultraviolet light in a region where a red colored layer is formed and a light shielding region 32 that does not transmit ultraviolet light in a region where a red colored layer is not formed. Next, by performing an exposure / development step (FIG. 1 (d)) in which the red colored layer forming layer 4 in the unexposed area is removed by development, a patterned red colored pattern 5R is formed (FIG. 1 ( e)). Then, using the coating liquid for forming the green colored layer and the coating liquid for forming the blue colored layer, the coating process, the heating process, the drying process, the pre-baking process, and the exposure described above are performed in the same manner as the red colored pattern is formed. A color for a transflective liquid crystal display device having a colored layer 6 formed of a red colored pattern 5R, a green colored pattern 5G, and a blue colored pattern 5B by forming a green colored pattern 5G and a blue colored pattern 5B by performing a development process The filter 10 is formed (FIG. 1 (f)).
Here, in the color filter 10 for a transflective liquid crystal display device, a region where the transparent substrate 1, the optical path difference adjusting unit 2, and the colored layer 6 are laminated is a reflected light region (indicated by r). A region where the transparent base material 1 and the colored layer 6 are laminated is a transmitted light region (a region indicated by t).

本発明によれば、上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を、上記透過光用領域内に流れ込ませるために、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の加熱を行う加熱工程を、上記塗布工程と、上記乾燥工程との間に行うことにより、上記反射光用領域の着色層の膜厚を、上記透過光用領域の着色層の膜厚よりも薄く、さらにその差が大きいものとすることができる。また、上記反射光用領域の着色層の膜厚を均一性に優れたものとすることができる。
ここで、上記加熱工程を、上記塗布工程と、上記乾燥工程との間に行うことにより、上述したような効果を発揮する理由としては、以下のように推測される。
According to the present invention, in order to cause the colored layer forming coating solution applied on the optical path difference adjusting unit to flow into the transmitted light region, the colored layer forming coating on the optical path difference adjusting unit is applied. By performing the heating process for heating the liquid between the coating process and the drying process, the thickness of the colored layer in the reflected light region is more than the thickness of the colored layer in the transmitted light region. Can also be made thin and the difference between them can be large. In addition, the thickness of the colored layer in the reflected light region can be excellent in uniformity.
Here, the reason why the above-described effects are exhibited by performing the heating step between the coating step and the drying step is estimated as follows.

すなわち、従来は、着色層形成用塗工液のような液状物質が、非塗布先の表面の凹凸により、凸部表面上において薄く塗布され、凹部表面上において厚く塗布される性質を利用することで、光路差調整部が形成された透明基材上に塗布された着色層形成用塗工液の膜厚を、反射光用領域である上記光路差調整部上において薄く、透過光用領域において厚いものとしていた。このような方法によれば、透過光用領域における着色層の厚みを厚く、反射光用領域における着色層の厚みを薄いものとすることができるが、その膜厚の差は十分なものではなかった。   That is, conventionally, a liquid material such as a coating liquid for forming a colored layer is applied thinly on the surface of the convex portion and unevenly applied on the surface of the concave portion due to the unevenness on the surface of the non-application destination. The thickness of the colored layer forming coating solution applied on the transparent substrate on which the optical path difference adjusting unit is formed is thin on the optical path difference adjusting unit, which is the reflected light region, and in the transmitted light region. It was supposed to be thick. According to such a method, the thickness of the colored layer in the transmitted light region can be increased and the thickness of the colored layer in the reflected light region can be decreased, but the difference in film thickness is not sufficient. It was.

一方、発明者等は、上記塗布工程によって、上記着色層形成用塗工液が塗布されたカラーフィルタ用基板を、所定の時間静置することにより、上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を、上記透過光用領域に流れ込ませることができ、上記反射光用領域の着色層形成用塗工液の厚みをより薄いものとすることができることを見出した。
また、上記塗布工程後のカラーフィルタ用基板を所定の時間静置することにより、上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を、上記透過光用領域に流れ込ませる、いわゆる、引き置きを、上記塗布工程と、記乾燥工程との間であり、上記塗布工程によって塗布された上記着色層形成用塗工液が十分に溶剤を含み、粘度が低い状態のときに行うことにより、上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を、上記透過光用領域に効果的に流れ込ませることができ、上記反射光用領域および透過光用領域の着色層形成用塗工液の厚みの差を大きいものとすることができる。
さらに、このような引き置きを、上記反射光用領域、すなわち光路差調整部上の、着色層形成用塗工液の加熱を行いながら実施することにより、上記着色層形成用塗工液の粘度の低下を図ることができ、上記着色層形成用塗工液の、上記光路差調整部上から、上記透過光用領域への流れ込み量をより大きいものとすることができる。
On the other hand, the inventors applied the color filter substrate coated with the colored layer forming coating solution in the coating step, by leaving the substrate for a predetermined time, thereby coloring the optical path difference adjusting unit. It has been found that the layer-forming coating solution can be caused to flow into the transmitted light region, and the thickness of the colored layer-forming coating solution in the reflected light region can be made thinner.
Further, by leaving the color filter substrate after the coating step for a predetermined time, the colored layer forming coating liquid applied on the optical path difference adjusting unit is allowed to flow into the transmitted light region. , Leaving is performed between the application step and the drying step, and the colored layer forming coating solution applied by the application step sufficiently contains a solvent and has a low viscosity. Thus, the colored layer forming coating liquid applied on the optical path difference adjusting unit can be effectively flowed into the transmitted light region, and the reflected light region and the transmitted light region are formed in the colored layer. The difference in the thickness of the coating liquid can be made large.
Furthermore, the viscosity of the coating liquid for forming the colored layer is obtained by carrying out such placement while heating the coating liquid for forming the colored layer on the reflected light region, that is, the optical path difference adjusting unit. The amount of the colored layer forming coating solution flowing from the optical path difference adjusting section into the transmitted light region can be increased.

したがって、上記着色層形成用塗工液の加熱を所定の時間行う加熱工程を、上記塗布工程と、上記乾燥工程との間に行うことで、上記塗布工程後のカラーフィルタ用基板を、塗布された着色層形成用塗工液の粘度が低い状態で、所定の時間静置することとなり、上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を、上記透過光用領域に流れ込ませることができる。さらに上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の加熱を同時に行うことで、上記着色層形成用塗工液の上記透過光用領域内への流れ込み量をより大きな量とすることができる。このため、本発明の製造方法によって形成される半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを、上記反射光用領域の着色層の膜厚が、上記透過光用領域の着色層の膜厚よりも十分に薄いものとすることができる。また、ハーフトーンマスクを用いないため、ハーフトーンマスクを用いた際に生じる、上記反射光用領域の着色層の膜厚ムラを生じさせず、上記反射光用領域の着色層の膜厚を均一性に優れたものとすることができる。   Therefore, the heating process for heating the colored layer forming coating solution for a predetermined time is performed between the coating process and the drying process, so that the color filter substrate after the coating process is applied. The colored layer forming coating solution is allowed to stand for a predetermined time in a low viscosity state, and the colored layer forming coating solution applied on the optical path difference adjusting unit flows into the transmitted light region. Can be made. Further, by simultaneously heating the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit, the amount of the colored layer forming coating solution flowing into the transmitted light region can be increased. it can. For this reason, in the color filter for a transflective liquid crystal display device formed by the manufacturing method of the present invention, the thickness of the colored layer in the reflected light region is sufficiently larger than the thickness of the colored layer in the transmitted light region. It can be thin. In addition, since the halftone mask is not used, the thickness of the colored layer in the reflected light region is uniform without causing unevenness in the thickness of the colored layer in the reflected light region that occurs when the halftone mask is used. It can be made excellent in properties.

また、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の、上記透過光用領域への流れ込み量は、上記着色層形成用塗工液の粘度、すなわち、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の温度によって調整することができるため、上記反射光用領域の着色層の膜厚の調整が容易であるといった利点を有する。   The amount of the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit flowing into the transmitted light region is the viscosity of the colored layer forming coating solution, that is, the coloring on the optical path difference adjusting unit. Since it can be adjusted by the temperature of the layer forming coating solution, it has an advantage that the thickness of the colored layer in the reflected light region can be easily adjusted.

本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法は、塗布工程と、加熱工程と、乾燥工程と、プリベーク工程とを少なくとも有するものである。以下、本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法の各工程について説明する。   The method for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device of the present invention comprises at least a coating process, a heating process, a drying process, and a pre-baking process. Hereinafter, each process of the manufacturing method of the color filter for transflective liquid crystal display devices of this invention is demonstrated.

1.塗布工程
本発明における塗布工程は、上記透明基材と、上記透明基材上に形成された光路差調整部とを有するカラーフィルタ用基板の上記光路差調整部を覆うように、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層形成用塗工液を塗布する工程である。
1. Coating process The coating process in the present invention is a color layer photosensitive so as to cover the optical path difference adjusting portion of the color filter substrate having the transparent base material and the optical path difference adjusting portion formed on the transparent base material. It is the process of apply | coating the coating liquid for colored layer formation containing a conductive resin composition.

(1)着色層形成用塗工液
本工程に用いられる着色層形成用塗工液は、後述するカラーフィルタ用基板の光路差調整部を覆うように塗布されるものであり、着色層用感光性樹脂組成物を含むものである。
(1) Colored layer forming coating solution The colored layer forming coating solution used in this step is applied so as to cover an optical path difference adjusting portion of a color filter substrate described later, and is a colored layer photosensitive. Containing a functional resin composition.

本工程に用いられる着色層用感光性樹脂組成物は、通常、本発明の製造方法によって製造される半透過型液晶表示装置用カラーフィルタに含まれる着色層の各着色パターンを形成する各色の着色剤と、バインダ樹脂とを少なくとも含むものである。   The photosensitive resin composition for the colored layer used in this step is usually colored by each color forming each colored pattern of the colored layer included in the color filter for a transflective liquid crystal display device produced by the production method of the present invention. And at least a binder resin.

本工程に用いられる各色の着色剤としては、一般的にカラーフィルタの製造に用いられるものを用いることができ、本発明の製造方法によって着色層を形成した際に、赤(R)、緑(G)、青(B)の3色、または、赤(R)、緑(G)、青(B)、黄(Y)の4色、または、赤(R)、緑(G)、青(B)、黄(Y)、シアン(C)の5色等の着色パターンを含む着色層を形成することができるものを挙げることができる。   As the colorant for each color used in this step, those generally used in the production of color filters can be used. When the colored layer is formed by the production method of the present invention, red (R), green ( G), three colors of blue (B), or four colors of red (R), green (G), blue (B), yellow (Y), or red (R), green (G), blue ( Examples thereof include those capable of forming a colored layer including a colored pattern such as five colors of B), yellow (Y), and cyan (C).

赤(R)の着色パターンに用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
緑(G)の着色パターンに用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
青(B)の着色パターンに用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
Examples of the colorant used in the red (R) coloring pattern include perylene pigments, lake pigments, azo pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, anthracene pigments, and isoindoline pigments. These pigments may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the colorant used in the green (G) coloring pattern include phthalocyanine pigments such as halogen polysubstituted phthalocyanine pigments or halogen polysubstituted copper phthalocyanine pigments, triphenylmethane basic dyes, isoindoline pigments, Examples include isoindolinone pigments. These pigments or dyes may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the colorant used in the blue (B) coloring pattern include copper phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, indanthrene pigments, indophenol pigments, cyanine pigments, dioxazine pigments, and the like. These pigments may be used alone or in combination of two or more.

本工程に用いられる着色層用感光性樹脂組成物における、上記各色の着色剤の含有量としては、本発明の製造方法によって製造される半透過型液晶表示装置用カラーフィルタに含まれる着色層を、所望の発色とすることができるものであれば特に限定されるものではないが、上記着色層用感光性樹脂組成物中において10質量%〜70質量%の範囲内であることが好ましく、なかでも10質量%〜50質量%の範囲内であることが好ましい。上記範囲であることにより、本発明の製造方法によって形成される着色層を、所望の発色を有するものとすることができるからである。   In the photosensitive resin composition for a colored layer used in this step, the content of the colorant for each color is a colored layer contained in a color filter for a transflective liquid crystal display device produced by the production method of the present invention. The color layer is not particularly limited as long as it can achieve a desired color, but is preferably in the range of 10% by mass to 70% by mass in the photosensitive resin composition for the colored layer. However, it is preferably in the range of 10% by mass to 50% by mass. It is because the colored layer formed by the manufacturing method of this invention can have a desired color development by being the said range.

本工程に用いられるバインダ樹脂としては、透明で、感光性を有するものであれば良く、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有するものを用いることができる。   The binder resin used in this step is not particularly limited as long as it is transparent and photosensitive, and has, for example, a reactive vinyl group such as an acrylate, methacrylate, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber. Things can be used.

本工程に用いられる着色層形成用塗工液は、通常、上記着色層用感光性樹脂組成物を均一に分散、または溶解可能な溶剤を含むものである。
このような溶剤としては、例えば酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチルセルソルブ、3−メトキシブチルアセテート等が挙げられる。
The coating solution for forming a colored layer used in this step usually contains a solvent capable of uniformly dispersing or dissolving the photosensitive resin composition for the colored layer.
Examples of such a solvent include butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl cellosolve, 3-methoxybutyl acetate and the like.

本工程に用いられる溶剤の含有量としては、本工程に用いられる着色層形成用塗工液のうち、溶剤を除いた成分の含有量が5質量%〜40質量%の範囲内であることが好ましく、なかでも10質量%〜30質量%の範囲内となるように溶剤を配合することが好ましい。これにより、塗布に適した粘度とすることができるからである。   As content of the solvent used for this process, it is that content of the component except a solvent is in the range of 5 mass%-40 mass% among the coating liquids for colored layer formation used for this process. It is preferable to mix | blend a solvent so that it may become in the range of 10 mass%-30 mass% especially. This is because a viscosity suitable for coating can be obtained.

本工程に用いられる着色層形成用塗工液の粘度としては、本工程において、後述するカラーフィルタ用基板の光路差調整部上に塗布された上記着色層形成用塗工液を、後述する加熱工程において、上記カラーフィルタ用基板の透過光用領域内に流れ込ませることができるものであれば特に限定されるものではないが、上記着色層形成用塗工液の25℃と、40℃とにおける粘度差が、0.2mPa・s〜4.0mPa・sの範囲内であることが好ましく、なかでも0.5mPa・s〜4.0mPa・sの範囲内であることが好ましく、特に1.0mPa・s〜4.0mPa・sの範囲内であることが好ましい。上記着色層形成用塗工液の粘度差が上記範囲内であることにより、後述する加熱工程において、上記光路差調整部上の上記着色層形成用塗工液の、上記透過光用領域への流れ込み量を十分大きなものとすることができるからである。
ここで、上記着色層形成用塗工液の25℃における粘度としては、具体的には、2.0mPa・s〜15.0mPa・sの範囲内であることが好ましく、なかでも2.0mPa・s〜10.0mPa・sの範囲内であることが好ましく、特に2.0mPa・s〜8.0mPa・sの範囲内であることが好ましい。
また、上記着色層形成用塗工液の40℃における粘度としては、具体的には、1.5mPa・s〜13mPa・sの範囲内であることが好ましく、なかでも1.5mPa・s〜8.0mPa・sの範囲内であることが好ましく、特に1.5mPa・s〜6.0mPa・sの範囲内であることが好ましい。上記着色層形成用塗工液の各温度における粘度が上記範囲内であることにより、上記着色層形成用塗工液を温度変化に対する粘度変化の割合が大きいものとすることができる。このため、後述する加熱工程において、上記光路差調整部上の上記着色層形成用塗工液の、上記透過光用領域への流れ込み量を十分大きなものとすることができるからである。
As the viscosity of the colored layer forming coating solution used in this step, the colored layer forming coating solution applied on the optical path difference adjusting portion of the color filter substrate described later in this step is heated as described later. In the process, it is not particularly limited as long as it can flow into the transmitted light region of the color filter substrate, but at 25 ° C. and 40 ° C. of the colored layer forming coating solution. The viscosity difference is preferably in the range of 0.2 mPa · s to 4.0 mPa · s, more preferably in the range of 0.5 mPa · s to 4.0 mPa · s, particularly 1.0 mPa · s. -It is preferable to be in the range of s to 4.0 mPa · s. When the viscosity difference of the colored layer forming coating liquid is within the above range, in the heating step described later, the colored layer forming coating liquid on the optical path difference adjusting unit is applied to the transmitted light region. This is because the flow amount can be made sufficiently large.
Here, the viscosity at 25 ° C. of the colored layer forming coating liquid is specifically preferably in the range of 2.0 mPa · s to 15.0 mPa · s, particularly 2.0 mPa · s. It is preferably within a range of s to 10.0 mPa · s, and particularly preferably within a range of 2.0 mPa · s to 8.0 mPa · s.
In addition, the viscosity at 40 ° C. of the colored layer forming coating solution is specifically preferably in the range of 1.5 mPa · s to 13 mPa · s, and more preferably 1.5 mPa · s to 8 It is preferably within a range of 0.0 mPa · s, and particularly preferably within a range of 1.5 mPa · s to 6.0 mPa · s. When the viscosity at each temperature of the colored layer forming coating solution is within the above range, the colored layer forming coating solution can have a large ratio of viscosity change to temperature change. For this reason, in the heating process to be described later, the amount of the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit flowing into the transmitted light region can be made sufficiently large.

本工程に用いられる着色層形成用塗工液は、必要に応じて、他の添加剤を含むものであっても良い。このような添加剤としては、光重合開始剤、増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を挙げることができる。   The colored layer forming coating solution used in this step may contain other additives as necessary. Examples of such additives include photopolymerization initiators, sensitizers, coatability improvers, development improvers, crosslinking agents, polymerization inhibitors, plasticizers, flame retardants, and the like.

(2)カラーフィルタ用基板
本工程に用いられるカラーフィルタ用基板は、上記透明基材と、上記光路差調整部とを有するものであり、さらに本発明の製造方法によって製造される、上記透明基材と、上記透明基材上に形成され、上記透明樹脂からなる上記光路差調整部と、上記光路差調整部を覆うように形成され、上記着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層とを有する半透過型液晶表示装置用カラーフィルタにおいて、上記透明基材と、上記光路差調整部と、上記着色層とが積層される領域に、反射光用領域を有し、上記透明基材と、上記着色層とが積層される領域に、透過光用領域を有するものである。
(2) Color filter substrate The color filter substrate used in this step has the transparent substrate and the optical path difference adjusting unit, and is further manufactured by the manufacturing method of the present invention. And a colored layer formed on the transparent base material and formed of the transparent resin so as to cover the optical path difference adjusting unit and including the photosensitive resin composition for the colored layer. In the color filter for a transflective liquid crystal display device, a region for reflected light is provided in a region where the transparent substrate, the optical path difference adjusting unit, and the colored layer are laminated, and the transparent substrate In the region where the colored layer is laminated, a transmitted light region is provided.

(i)光路差調整部
本工程に用いられるカラーフィルタ用基板に含まれる光路差調整部は、上記カラーフィルタ用基板の反射光用領域にパターン状に形成され、透明樹脂からなるものである。
(I) Optical path difference adjustment part The optical path difference adjustment part contained in the color filter substrate used in this step is formed in a pattern on the reflected light region of the color filter substrate and is made of a transparent resin.

本工程に用いられる光路差調整部を形成する透明樹脂としては、半透過型液晶表示装置用カラーフィルタに入射した外光およびその外光が反射された反射光に対する高い透過率を有するものであれば特に限定されるものではない。このような透明樹脂としては、例えば、感光性アクリル樹脂、感光性ポリイミド、ポジレジスト、カルド樹脂、ポリシロキサン、ベンゾシクロブテン等が挙げられる。   The transparent resin that forms the optical path difference adjusting unit used in this step may have high transmittance with respect to external light incident on the color filter for a transflective liquid crystal display device and reflected light from which the external light is reflected. There is no particular limitation. Examples of such transparent resins include photosensitive acrylic resins, photosensitive polyimides, positive resists, cardo resins, polysiloxanes, benzocyclobutenes, and the like.

本工程に用いられる光路差調整部の膜厚としては、通常1.0μm〜5.0μmの範囲内であることが好ましく、なかでも、2.0μm〜4.5μmの範囲内であることが好ましく、特に2.5μm〜3.5μmの範囲内であることが好ましい。これにより、本発明の製造方法によって製造された半透過型液晶表示装置用カラーフィルタが半透過型液晶表示装置に用いられた際に、反射光用領域および透過光用領域における光路差を調整することが可能となるからである。
なお、光路差調整部の膜厚とは、後述する透明基材の表面から、垂直方向に、上記光路差調整部の頂点までの距離のうち、最も長い距離をいうものである。
The film thickness of the optical path difference adjusting part used in this step is usually preferably in the range of 1.0 μm to 5.0 μm, and more preferably in the range of 2.0 μm to 4.5 μm. In particular, it is preferably in the range of 2.5 μm to 3.5 μm. Thereby, when the color filter for a transflective liquid crystal display device manufactured by the manufacturing method of the present invention is used for the transflective liquid crystal display device, the optical path difference between the reflected light region and the transmitted light region is adjusted. Because it becomes possible.
The film thickness of the optical path difference adjusting unit refers to the longest distance among the distances from the surface of the transparent base material to be described later to the apex of the optical path difference adjusting unit in the vertical direction.

本工程に用いられる光路差調整部の形成方法としては、後述する透明基材上に、所望の膜厚で、かつ所望の位置にパターン状に形成することができる方法であれば良い。このような光路差調整部の形成方法としては、例えば、フォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法等を挙げることができる。   As a method for forming the optical path difference adjusting unit used in this step, any method can be used as long as it can be formed in a desired film thickness and in a desired pattern on a transparent substrate described later. Examples of a method for forming such an optical path difference adjusting unit include a photolithography method, a printing method, and an ink jet method.

(ii)透明基材
本工程に用いられる透明基材は、上記光路差調整部を形成可能であり、可視光に対して透明な基板であれば特に限定されるものではなく、一般的な半透過型液晶表示装置用カラーフィルタに用いられる透明基材と同様のものとすることができる。
(Ii) Transparent base material The transparent base material used in this step is not particularly limited as long as it can form the optical path difference adjusting portion and is a transparent substrate with respect to visible light. It can be the same as the transparent base material used for the color filter for transmissive liquid crystal display devices.

このような透明基材としては、具体的には、石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材等が挙げられる。   As such a transparent substrate, specifically, a non-flexible transparent rigid material such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, synthetic quartz plate, transparent resin film, optical resin plate, etc. And a transparent flexible material having the above flexibility.

(iii)カラーフィルタ用基板
本工程に用いられるカラーフィルタ用基板は、上記透明基材および光路差調整部に加えて、通常、半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの画素領域を区分けする遮光部を有するものである。
(Iii) Color filter substrate In addition to the transparent base material and the optical path difference adjusting unit, the color filter substrate used in this step is usually a light shielding unit that divides a pixel region of a color filter for a transflective liquid crystal display device. It is what has.

本工程に用いられる遮光部は、上記透明基材上にパターン状に形成されるものであって、一般的なカラーフィルタに遮光部として用いられるものと同様とすることができる。   The light-shielding part used in this step is formed in a pattern on the transparent substrate, and can be the same as that used as a light-shielding part in a general color filter.

上記遮光部のパターン形状としては、特に限定されるものではなく、例えば、ストライプ状、マトリクス状等の形状が挙げられる。   The pattern shape of the light shielding part is not particularly limited, and examples thereof include a stripe shape and a matrix shape.

上記遮光部としては、例えば、黒色顔料をバインダ樹脂中に分散または溶解させたものや、クロム、酸化クロム等の金属薄膜等が挙げられる。この金属薄膜は、CrO膜(xは任意の数)およびCr膜が2層積層されたものであってもよく、また、より反射率を低減させたCrO膜(xは任意の数)、CrN膜(yは任意の数)およびCr膜が3層積層されたものであってもよい。 Examples of the light-shielding portion include those obtained by dispersing or dissolving a black pigment in a binder resin, and metal thin films such as chromium and chromium oxide. This metal thin film may be a CrO x film (x is an arbitrary number) and a laminate of two Cr films, and a CrO x film (x is an arbitrary number) with a reduced reflectance. , CrN y film (y is an arbitrary number) and three layers of Cr film may be laminated.

上記遮光部が黒色着色剤をバインダ樹脂中に分散または溶解させたものである場合、この遮光部の形成方法としては、遮光部をパターニングすることができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、遮光部用感光性樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法等を挙げることができる。   When the light-shielding part is a material in which a black colorant is dispersed or dissolved in a binder resin, the method for forming the light-shielding part is not particularly limited as long as the light-shielding part can be patterned. Examples thereof include a photolithography method, a printing method, and an ink jet method using the photosensitive resin composition for the light shielding part.

上記遮光部が黒色着色剤をバインダ樹脂中に分散または溶解させたものである場合であって、遮光部の形成方法として印刷法やインクジェット法を用いる場合、バインダ樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
また、上記の場合であって、遮光部の形成方法としてフォトリソグラフィー法を用いる場合、バインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。この場合、黒色着色剤および感光性樹脂を含有する遮光部用感光性樹脂組成物には、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架
橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
In the case where the light shielding part is a dispersion or solution of a black colorant in a binder resin, and the printing method or the ink jet method is used as a method for forming the light shielding part, the binder resin may be, for example, polymethyl methacrylate Resin, polyacrylate resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinylpyrrolidone resin, hydroxyethyl cellulose resin, carboxymethyl cellulose resin, polyvinyl chloride resin, melamine resin, phenol resin, alkyd resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, maleic acid Examples thereof include resins and polyamide resins.
In the above case, when a photolithography method is used as a method for forming the light shielding portion, the binder resin may be, for example, an acrylate-based, methacrylate-based, polyvinyl cinnamate-based, or cyclized rubber-based reactive material. A photosensitive resin having a vinyl group is used. In this case, a photopolymerization initiator may be added to the photosensitive resin composition for a light-shielding part containing a black colorant and a photosensitive resin, and further a sensitizer, a coating property improver, if necessary. A development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, and the like may be added.

一方、遮光部が金属薄膜である場合、この遮光部の形成方法としては、遮光部をパターニングすることができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、フォトリソグラフィー法、マスクを用いた蒸着法、印刷法等を挙げることができる。   On the other hand, when the light shielding part is a metal thin film, the method for forming the light shielding part is not particularly limited as long as the light shielding part can be patterned. For example, a photolithography method or a mask is used. The vapor deposition method, the printing method, etc. can be mentioned.

遮光部の膜厚としては、金属薄膜の場合は0.2μm〜0.4μm程度で設定され、黒色着色剤をバインダ樹脂中に分散または溶解させたものである場合は0.5μm〜2μm程度で設定される。   The thickness of the light shielding portion is set to about 0.2 μm to 0.4 μm in the case of a metal thin film, and about 0.5 μm to 2 μm in the case where a black colorant is dispersed or dissolved in a binder resin. Is set.

(3)塗布工程
本工程は、上記着色層形成用塗工液を、上記カラーフィルタ用基板の光路差調整部を覆うように塗布する工程である。
(3) Application Step This step is a step of applying the colored layer forming coating solution so as to cover the optical path difference adjusting portion of the color filter substrate.

本工程において、上記着色層形成用塗工液を上記カラーフィルタ用基板上に塗布する方法としては、上記着色層形成用塗工液を、上記カラーフィルタ用基板の光路差調整部上に均一に塗布することができる方法であれば良く、一般的にカラーフィルタの着色層の形成に使用される方法を用いることができる。具体的には、スピンコート法、スプレーコート法、ディップコート法、ロールコート法、ビードコート法等を用いることができる。   In this step, as a method of applying the colored layer forming coating solution on the color filter substrate, the colored layer forming coating solution is uniformly applied on the optical path difference adjusting portion of the color filter substrate. Any method can be used as long as it can be applied, and a method generally used for forming a colored layer of a color filter can be used. Specifically, spin coating, spray coating, dip coating, roll coating, bead coating, and the like can be used.

本工程において、上記着色層形成用塗工液を塗布する際の、上記着色層形成用塗工液の温度としては、10℃〜30℃の範囲内であることが好ましく、なかでも20℃〜25℃の範囲内であることが好ましい。上記範囲以外の場合には、上記着色層形成用塗工液を、上記光路差調整部上に均一に塗布することが困難となる恐れがあるからである。
また、上記範囲より高い温度で塗布する場合には、均一塗布のために、塗布時の粘度を所定の範囲内にする必要がある。このため、上記着色層形成用塗工液の粘度は、同温度において、上記範囲内の温度で塗布する際に用いるものと比較し高いものとなる。その結果、本工程後に行なわれる加熱工程において、上記光路差調整部上の上記着色層形成用塗工液の、上記透過光用領域への流れ込み量を十分に大きなものとすることが困難となるからである。また、流れ込み量を大きなものとするために、加熱工程における加熱温度を高温とした場合には、上記プリベーク工程における加熱温度に近いものとなり、着色層に色ムラを生じるおそれがあるからである。
In this step, the temperature of the colored layer forming coating solution when applying the colored layer forming coating solution is preferably within the range of 10 ° C to 30 ° C, and in particular, 20 ° C to 20 ° C. It is preferably within the range of 25 ° C. This is because, in cases other than the above range, it may be difficult to uniformly apply the colored layer forming coating solution onto the optical path difference adjusting unit.
Moreover, when apply | coating at temperature higher than the said range, it is necessary to make the viscosity at the time of application | coating into a predetermined range for uniform application | coating. For this reason, the viscosity of the coating liquid for forming the colored layer is higher at the same temperature than that used when coating at a temperature within the above range. As a result, in the heating step performed after this step, it becomes difficult to sufficiently increase the amount of the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit flowing into the transmitted light region. Because. In addition, when the heating temperature in the heating process is set to a high temperature in order to increase the flow-in amount, the heating temperature in the pre-baking process is close to that, which may cause color unevenness in the colored layer.

本工程によって上記カラーフィルタ用基板上に塗布された直後の、反射光用領域の着色層形成用塗工液の膜厚および透過光用領域の着色層形成用塗工液の膜厚としては、上記光路差調整部の膜厚や、上記着色層形成用塗工液に含まれる溶剤の含有量等によって適宜設定されるものである。   As the film thickness of the colored layer forming coating liquid in the reflected light region and the film thickness of the colored layer forming coating liquid in the transmitted light region immediately after being applied on the color filter substrate in this step, It is appropriately set depending on the film thickness of the optical path difference adjusting part, the content of the solvent contained in the colored layer forming coating solution, and the like.

また、本工程によって上記カラーフィルタ用基板上に塗布された直後の、上記反射光用領域の着色層形成用塗工液の膜厚と、上記透過光用領域の着色層形成用塗工液の膜厚との比(反射光用領域/透過光用領域)としては、上記光路差調整部の膜厚や、上記着色層形成用塗工液に含まれる溶剤の含有量等によって適宜設定されるものである。   The film thickness of the colored layer forming coating solution in the reflected light region immediately after being applied on the color filter substrate in this step and the colored layer forming coating solution in the transmitted light region The ratio to the film thickness (reflected light region / transmitted light region) is appropriately set depending on the film thickness of the optical path difference adjusting unit, the content of the solvent contained in the colored layer forming coating solution, and the like. Is.

2.加熱工程
本発明における加熱工程は、上記塗布工程において、上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を、上記透過光用領域内に流れ込ませるために、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の加熱を行う工程であり、より具体的には、上記塗布工程後によって着色層形成用塗工液が塗布されたカラーフィルタ用基板を所定の時間静置し、上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を、上記カラーフィルタ用基板の透過光用領域内に流れ込ませる、いわゆる、引き置きを、加熱しながら行う工程である。
2. Heating step The heating step in the present invention is the optical path difference adjusting unit in order to cause the colored layer forming coating solution applied on the optical path difference adjusting unit to flow into the transmitted light region in the applying step. It is a step of heating the upper colored layer forming coating solution, and more specifically, the color filter substrate coated with the colored layer forming coating solution after the coating step is allowed to stand for a predetermined time. This is a step of performing so-called leaving while heating the colored layer forming coating solution applied on the optical path difference adjusting section into the transmitted light region of the color filter substrate.

本工程において、上記着色層形成用塗工液を加熱する加熱方法としては、オーブン、遠赤外線ヒーター、ホットプレート等を用いる方法を挙げることができる。
本工程においては、なかでも、上記着色層形成用塗工液が塗布されたカラーフィルタ用基板を、ホットプレート上に静置することにより、上記着色層形成用塗工液を加熱する方法が好ましい。ホットプレートを用いて、上記着色層形成用塗工液を加熱することにより、上記光路差調整部上の上記着色層形成用塗工液の、上記透過光用領域への流れ込み量の均一化および上記着色層形成用塗工液の厚みの均一化が容易であるからである。また、本工程を簡便なものとすることができるからである。
In this step, examples of the heating method for heating the colored layer forming coating solution include a method using an oven, a far infrared heater, a hot plate, and the like.
In this step, among them, a method of heating the colored layer forming coating solution by standing the color filter substrate coated with the colored layer forming coating solution on a hot plate is preferable. . By using a hot plate to heat the colored layer forming coating solution, the amount of the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit is uniformly flowed into the transmitted light region and This is because it is easy to make the thickness of the colored layer forming coating solution uniform. Moreover, it is because this process can be made simple.

本工程において、上記着色層形成用塗工液を加熱する温度は、上記着色層形成用塗工液に含まれる溶剤の沸点より低く、かつ後述するプリベーク工程において、後述する着色層形成用層を加熱する温度よりも20℃〜100℃の範囲内、なかでも20℃〜70℃の範囲内で低いことが好ましい。上記加熱工程の上記着色層形成用塗工液を加熱する温度と、上記プリベーク工程において、後述する着色層形成用層を加熱する温度との差が、上記範囲より大きい、すなわち、上記加熱工程における加熱温度が、低すぎると、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液を、上記透過光用領域に十分な量を流れ込ませることが困難となる可能性があるからであり、上記範囲より小さい、すなわち、上記加熱工程における加熱温度が、上記プリベーク工程における加熱温度に近いと、本発明の製造方法によって製造される着色層に色ムラを生じる可能性があるからである。
なお、上記着色層形成用塗工液を加熱する温度とは、本工程を実施することにより到達した、上記着色層形成用塗工液全体の平均温度をいうものであり、上記着色層形成用塗工液を加熱する装置の温度ではない。
In this step, the temperature for heating the colored layer forming coating solution is lower than the boiling point of the solvent contained in the colored layer forming coating solution, and in the prebaking step described later, the colored layer forming layer described later is used. It is preferable that the temperature is lower than the heating temperature within a range of 20 ° C to 100 ° C, particularly within a range of 20 ° C to 70 ° C. The difference between the temperature for heating the colored layer forming coating solution in the heating step and the temperature for heating the colored layer forming layer described later in the prebaking step is larger than the above range, that is, in the heating step. If the heating temperature is too low, it may be difficult to flow a sufficient amount of the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit into the transmitted light region. This is because if the heating temperature in the heating step is smaller than the range, that is, if the heating temperature in the prebaking step is close to the heating temperature in the prebaking step, color unevenness may occur in the colored layer manufactured by the manufacturing method of the present invention.
In addition, the temperature which heats the said coating liquid for colored layer formation means the average temperature of the whole coating liquid for said colored layer formation which reached | attained by implementing this process, and is for said colored layer formation It is not the temperature of the device that heats the coating liquid.

本工程において、上記着色層形成用塗工液を加熱する時間としては、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液を、上記カラーフィルタ用基板の透過光用領域に所望量流れ込ませることができるものであれば良い。具体的には、上記着色層形成用塗工液を昇温し、所定の温度に到達させることができる時間以上であれば良い。本工程においては、なかでも上記着色層形成用塗工液を昇温し、所定の温度に到達させることができる時間であることが好ましい。所定の温度に到達させることができる時間以上静置しても、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の透過光用領域への流れ込み量に変化がないからである。このため、所定の温度に到達させることができる時間とすることにより、生産性の向上を図ることができるからである。
このような加熱時間としては、加熱方法によって異なるものであるが、具体的には、1.0分〜15.0分の範囲内であることが好ましく、なかでも1.0分〜10.0分の範囲内であることが好ましく、特に3.0分〜8.0分の範囲内であることが好ましい。上記範囲より短いと所望の温度に加熱することが困難である可能性があるからであり、上記範囲より長くても効果が変わらず生産性が低下する恐れがあるからである。
In this step, as the time for heating the colored layer forming coating solution, a desired amount of the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit is allowed to flow into the transmitted light region of the color filter substrate. Anything can be used. Specifically, it is sufficient that the colored layer forming coating solution is heated for at least a time during which it can reach a predetermined temperature. In this step, it is particularly preferable that the time is such that the colored layer forming coating solution is heated to reach a predetermined temperature. This is because the amount of the colored layer forming coating liquid flowing into the transmitted light region on the optical path difference adjusting portion does not change even if the liquid is allowed to stand for a time that can reach the predetermined temperature. For this reason, it is because productivity can be aimed at by setting it as time which can be made to reach predetermined temperature.
Such heating time varies depending on the heating method, but specifically, it is preferably in the range of 1.0 minute to 15.0 minutes, and more preferably 1.0 minute to 10.0. It is preferably within a range of minutes, and particularly preferably within a range of 3.0 minutes to 8.0 minutes. This is because if it is shorter than the above range, it may be difficult to heat to a desired temperature, and even if it is longer than the above range, the effect does not change and the productivity may decrease.

本工程において、加熱しながらの引き置きが終了した後の、上記反射光用領域の着色層形成用塗工液の膜厚および透過光用領域の着色層形成用塗工液の膜厚としては、上記光路差調整部の膜厚や、上記着色層形成用塗工液に含まれる溶剤の含有量等によって適宜設定されるものである。   In this step, as the thickness of the colored layer forming coating liquid in the reflected light region and the thickness of the colored layer forming coating liquid in the transmitted light region after the holding while heating is completed, The film thickness of the optical path difference adjusting unit, the content of the solvent contained in the colored layer forming coating solution, and the like are appropriately set.

また、本工程において、加熱しながらの引き置きが終了した後の、上記反射光用領域の着色層形成用塗工液の膜厚と、上記透過光用領域の着色層形成用塗工液の膜厚との比(反射光用領域/透過光用領域)としては、上記光路差調整部の膜厚や、上記着色層形成用塗工液に含まれる溶剤の含有量等によって適宜設定されるものである。   In addition, in this step, the thickness of the colored layer forming coating solution in the reflected light region and the colored layer forming coating solution in the transmitted light region after the heating and placing are finished. The ratio to the film thickness (reflected light region / transmitted light region) is appropriately set depending on the film thickness of the optical path difference adjusting unit, the content of the solvent contained in the colored layer forming coating solution, and the like. Is.

3.乾燥工程
本発明における乾燥工程は、上記加熱工程後の上記着色層形成用塗工液に含まれる溶剤を減圧乾燥により除去し、着色層形成用層を形成する工程である。
3. Drying Step The drying step in the present invention is a step of forming a colored layer forming layer by removing the solvent contained in the colored layer forming coating solution after the heating step by drying under reduced pressure.

本工程において、上記溶剤を除去する際の減圧度は、上記着色層形成用塗工液を構成する溶剤の含有量等に応じて適宜設定することができる。   In this step, the degree of reduced pressure when removing the solvent can be appropriately set according to the content of the solvent constituting the colored layer forming coating solution.

本工程においては、上記着色層形成用塗工液を加熱しながら、上記溶剤の除去を行うものであっても良い。乾燥時間の短縮を図ることができるからである。
また、必要に応じて、減圧乾燥前に、上記着色層形成用塗工液の予備加熱を行うものであっても良い。
In this step, the solvent may be removed while heating the colored layer forming coating solution. This is because the drying time can be shortened.
Moreover, you may pre-heat the said coating liquid for colored layer formation before drying under reduced pressure as needed.

4.プリベーク工程
本発明におけるプリベーク工程は、上記乾燥工程によって形成されたカラーフィルタ用基板上の着色層形成用層を、加熱することにより、上記着色層形成用層を固化する工程である。
4). Prebaking process The prebaking process in this invention is a process of solidifying the said layer for colored layer formation by heating the layer for color layer formation on the board | substrate for color filters formed of the said drying process.

本工程において、上記着色層形成用層を加熱する方法としては、一般的なカラーフィルタの着色層の形成に用いられるものと同様の方法を用いることができる。具体的には、上記「2.加熱工程」の項に記載した方法と同様の方法を用いることができる。   In this step, as a method for heating the colored layer forming layer, the same method as that used for forming a colored layer of a general color filter can be used. Specifically, a method similar to the method described in the above section “2. Heating step” can be used.

本工程において、上記着色層形成用層を加熱する温度としては、80℃〜110℃の範囲内であることが好ましく、なかでも80℃〜100℃の範囲内であることが好ましい。上記範囲であることにより、上記着色層形成用層を十分に固化することができるからである。
なお、上記着色層形成用層を加熱する温度とは、本工程を実施することにより到達した、上記着色層形成用層全体の平均温度をいうものであり、上記着色層形成用層を加熱する装置の温度ではない。
In this step, the temperature for heating the colored layer forming layer is preferably in the range of 80 ° C to 110 ° C, and more preferably in the range of 80 ° C to 100 ° C. It is because the said layer for colored layer formation can fully solidify because it is the said range.
The temperature at which the colored layer forming layer is heated means the average temperature of the entire colored layer forming layer reached by carrying out this step, and the colored layer forming layer is heated. It is not the temperature of the device.

本工程において、加熱が終了した後の、反射光用領域の着色層形成用層の膜厚および透過光用領域の着色層形成用層の膜厚としては、上記反射光用領域の着色層形成用層の膜厚が、0.1μm〜2.0μmの範囲内であることが好ましく、なかでも0.2μm〜1.5μmの範囲内であることが好ましい。
また、上記透過光用領域の着色層形成用層の膜厚が0.5μm〜8.0μmの範囲内であることが好ましく、なかでも1.0μm〜5.0μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲内であることにより、本発明の製造方法によって製造される半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを、透過光用領域の着色層と、反射光用領域の着色層との膜厚の差が大きなものとすることができるからである。
In this step, after the heating is finished, the thickness of the colored layer forming layer in the reflected light region and the thickness of the colored layer forming layer in the transmitted light region are as follows. The film thickness of the application layer is preferably in the range of 0.1 μm to 2.0 μm, and more preferably in the range of 0.2 μm to 1.5 μm.
The thickness of the colored layer forming layer in the transmitted light region is preferably in the range of 0.5 μm to 8.0 μm, and more preferably in the range of 1.0 μm to 5.0 μm. . By being within the above range, the color filter for the transflective liquid crystal display device manufactured by the manufacturing method of the present invention has a difference in film thickness between the colored layer in the transmitted light region and the colored layer in the reflected light region. This is because it can be large.

また、本工程において、加熱が終了した後の、上記透過光用領域の着色層形成用層の膜厚と、上記反射光用領域の着色層形成用層の膜厚との比(透過光用領域/反射光用領域)としては、1.4〜7.0の範囲内であることが好ましく、なかでも1.8〜3.3の範囲内であることが好ましい。上記範囲内であることにより、本発明の製造方法によって製造される半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを、透過光用領域の着色層と、反射光用領域の着色層との膜厚の差が大きなものとすることができるからである。   Further, in this step, the ratio of the thickness of the colored layer forming layer in the transmitted light region to the thickness of the colored layer forming layer in the reflected light region after heating is finished (for transmitted light). (Region / region for reflected light) is preferably in the range of 1.4 to 7.0, and more preferably in the range of 1.8 to 3.3. By being within the above range, the color filter for the transflective liquid crystal display device manufactured by the manufacturing method of the present invention has a difference in film thickness between the colored layer in the transmitted light region and the colored layer in the reflected light region. This is because it can be large.

5.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法
本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法は、少なくとも、上記塗布工程、加熱工程、乾燥工程、およびプリベーク工程を、この順で実施するものであるが、通常、これらの工程の後に上記カラーフィルタ用基板上に形成された着色層形成用層を、パターン状に露光し、現像することにより、パターン状の着色層を形成する露光・現像工程を有するものである。
また、本発明の製造方法によって製造される半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの着色層が2色以上の着色パターンによって形成されるものである場合には、各色の着色パターン毎に、上述した塗布工程、加熱工程、乾燥工程、プリベーク工程、露光・現像工程をこの順で行うものである。
5. Manufacturing method of color filter for transflective liquid crystal display device The manufacturing method of the color filter for transflective liquid crystal display device of the present invention includes at least the coating step, the heating step, the drying step, and the pre-baking step in this order. Usually, after these steps, the colored layer forming layer formed on the color filter substrate is exposed to a pattern and developed to form a patterned colored layer. -It has a development process.
Moreover, when the colored layer of the color filter for a transflective liquid crystal display device manufactured by the manufacturing method of the present invention is formed by a colored pattern of two or more colors, the above-described color pattern for each color is described above. A coating process, a heating process, a drying process, a pre-baking process, and an exposure / development process are performed in this order.

上記露光・現像工程において、上記着色層形成用層をパターン状に露光し、未露光箇所を現像により除去することによりパターン状の着色層を形成する方法としては、一般的なカラーフィルタの着色層の形成に用いられる方法を用いることができる。
また、必要に応じて、露光時のマスクとして、透過度の異なる領域を有するハーフトーンマスクを用いて、上記反射光用領域の着色層および透過光用領域の着色層の厚みの差をさらに大きなものとしても良い。
In the exposure / development step, the colored layer forming layer is exposed in a pattern, and the unexposed portion is removed by development to form a patterned colored layer. The method used for forming can be used.
Further, if necessary, a halftone mask having regions with different transmittances is used as a mask during exposure, and the difference in thickness between the colored layer in the reflected light region and the colored layer in the transmitted light region is further increased. It is good as a thing.

6.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ
本発明の製造方法によって製造される半透過型液晶表示装置用カラーフィルタは、透明基材と、上記透明基材上に形成され、透明樹脂からなる光路差調整部と、上記光路差調整部を覆うように形成され、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層とを有し、上記透明基材と、上記光路差調整部と、上記着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、上記透明基材と、上記着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いるものである。
本発明の製造方法によって製造される半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの、上記反射光用領域の着色層の膜厚および透過光用領域の着色層の膜厚としては、上記反射光用領域の着色層の膜厚が、0.1μm〜1.6μmの範囲内であることが好ましく、なかでも0.2μm〜1.2μmの範囲内であることが好ましい。
また、上記透過光用領域の着色層の膜厚が、0.5μm〜6.5μmの範囲内であることが好ましく、なかでも1.0μm〜4.0μmの範囲内であることが好ましい。上記範囲内であることにより、上記半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを、半透過型液晶表示装置に用いた場合に、反射表示時の輝度が高いものとすることができるからである。
6). Color filter for transflective liquid crystal display device The color filter for transflective liquid crystal display device manufactured by the manufacturing method of the present invention is formed on a transparent base material and the transparent base material, and the optical path difference adjustment is made of a transparent resin. And a colored layer including the photosensitive resin composition for a colored layer, the transparent substrate, the optical path difference adjusting unit, and the colored layer. The laminated region is used as the reflected light region, and the region where the transparent base material and the colored layer are laminated is used as the transmitted light region.
In the color filter for a transflective liquid crystal display device manufactured by the manufacturing method of the present invention, the thickness of the colored layer in the reflected light region and the thickness of the colored layer in the transmitted light region are the reflected light region. The thickness of the colored layer is preferably in the range of 0.1 μm to 1.6 μm, and more preferably in the range of 0.2 μm to 1.2 μm.
In addition, the thickness of the colored layer in the transmitted light region is preferably in the range of 0.5 μm to 6.5 μm, and more preferably in the range of 1.0 μm to 4.0 μm. By being within the above range, when the color filter for a transflective liquid crystal display device is used in a transflective liquid crystal display device, the luminance during reflective display can be increased.

また、上記半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの、上記透過光用領域の着色層の膜厚と、上記反射光用領域の着色層の膜厚との比(透過光用領域/反射光用領域)としては、1.4〜7.0の範囲内であることが好ましく、なかでも1.8〜3.3の範囲内であることが好ましい。上記範囲内であることにより、上記半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを、半透過型液晶表示装置に用いた場合に、反射表示時の輝度が高いものとすることができるからである。   Further, in the color filter for a transflective liquid crystal display device, the ratio of the thickness of the colored layer in the transmitted light region to the thickness of the colored layer in the reflected light region (transmitted light region / reflected light region). The region is preferably in the range of 1.4 to 7.0, and more preferably in the range of 1.8 to 3.3. By being within the above range, when the color filter for a transflective liquid crystal display device is used in a transflective liquid crystal display device, the luminance during reflective display can be increased.

このような半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの用途としては、半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタを挙げることができる。なかでも、反射表示時の輝度が高いことが要求される半透過型液晶表示装置に用いられるカラーフィルタに好適に用いられる。   Examples of the use of such a color filter for a transflective liquid crystal display device include a color filter used in a transflective liquid crystal display device. Especially, it is used suitably for the color filter used for the transflective liquid crystal display device by which the high brightness | luminance at the time of reflective display is requested | required.

B.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置
次に、本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置について説明する。
本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置は、透明基材と、上記透明基材上に形成され、透明樹脂からなる光路差調整部と、上記光路差調整部を覆うように形成され、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層とを有し、上記透明基材と、上記光路差調整部と、上記着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、上記透明基材と、上記着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置であって、上記透明基材と、上記透明基材上に形成された光路差調整部とを有するカラーフィルタ用基板の上記光路差調整部を覆うように、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層形成用塗工液を塗布する塗布手段と、上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を、上記透過光用領域内に流れ込ませるために、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の加熱を行う加熱手段と、上記加熱手段により加熱後の上記着色層形成用塗工液を減圧乾燥し、着色層形成用層を形成する乾燥手段と、上記乾燥手段により形成された上記着色層形成用層を加熱するプリベーク手段とが、この順で連続して配置されていることを特徴とするものである。
B. Next, an apparatus for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device according to the present invention will be described.
The apparatus for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device according to the present invention covers a transparent base material, an optical path difference adjusting portion formed on the transparent base material and made of a transparent resin, and the optical path difference adjusting portion. A colored layer containing a photosensitive resin composition for a colored layer, and a region where the transparent substrate, the optical path difference adjusting unit, and the colored layer are laminated is used as a reflected light region, An apparatus for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device using a region in which the transparent substrate and the colored layer are laminated as a region for transmitted light, the transparent substrate and the transparent substrate on the transparent substrate A coating means for applying a coating solution for forming a colored layer containing a photosensitive resin composition for a colored layer so as to cover the optical path difference adjusting portion of the color filter substrate having the formed optical path difference adjusting portion; and The colored layer forming coating liquid applied on the optical path difference adjusting unit, The heating means for heating the coating liquid for forming the colored layer on the optical path difference adjusting unit and the coating liquid for forming the colored layer after being heated by the heating means for flowing into the transmitted light region. A drying means for drying under reduced pressure to form a colored layer forming layer and a pre-baking means for heating the colored layer forming layer formed by the drying means are successively arranged in this order. It is what.

このような本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置を、図を参照して説明する。図2は本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置の一例を示す概略図である。図2によれば、本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置40は、上記透明基材と、上記透明基材上に形成された光路差調整部とを有するカラーフィルタ用基板20の上記光路差調整部を覆うように、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層形成用塗工液を塗布する塗布手段41と、上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を、上記透過光用領域内に流れ込ませるために、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の加熱を行う加熱手段42と、上記着色層形成用塗工液を減圧乾燥し、着色層形成用層を形成する乾燥手段43と、上記着色層形成用層を加熱するプリベーク手段44とが、この順で連続して配置されている。さらにその後、上記着色層形成用層を、パターン状に露光し、次いで現像液によって現像する露光・現像手段45を有することにより、パターン状の着色層を有する上記半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ10を形成するものである。また、上記半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置40は、上記カラーフィルタ用基板20を、上記塗布手段41、加熱手段42、乾燥手段43、プリベーク手段44、および露光・現像手段45の順で搬送するベルトコンベア46を有するものである。   An apparatus for producing such a color filter for a transflective liquid crystal display device of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a color filter manufacturing apparatus for a transflective liquid crystal display device according to the present invention. 2, the color filter manufacturing apparatus 40 for a transflective liquid crystal display device according to the present invention includes a color filter substrate having the transparent base material and an optical path difference adjusting unit formed on the transparent base material. Coating means 41 for applying a coating liquid for forming a colored layer containing a photosensitive resin composition for a colored layer so as to cover 20 optical path difference adjusting parts, and formation of a colored layer applied on the optical path difference adjusting part Heating means 42 for heating the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit, and the colored layer forming coating solution to cause the coating solution to flow into the transmitted light region. A drying means 43 for drying under reduced pressure to form a colored layer forming layer and a pre-baking means 44 for heating the colored layer forming layer are successively arranged in this order. Further, the color filter for a transflective liquid crystal display device having a pattern-like colored layer by having exposure / developing means 45 for exposing the colored layer-forming layer in a pattern and then developing with a developer. 10 is formed. Further, the color filter manufacturing apparatus 40 for the transflective liquid crystal display device uses the color filter substrate 20 of the coating means 41, the heating means 42, the drying means 43, the pre-baking means 44, and the exposure / developing means 45. It has the belt conveyor 46 conveyed in order.

本発明によれば、上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を上記透過光用領域内に流れ込ませるために、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の加熱を行う加熱手段を、上記塗布手段と、上記乾燥手段との間に有するものであることにより、本発明の製造装置によって製造される半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを、反射光用領域の着色層と、透過光用領域の着色層との膜厚の差が大きいものとすることができる。また、上記半透過型液晶表示装置用カラーフィルタを、上記反射光用領域の着色層の膜厚の均一性に優れたものとすることができる。   According to the present invention, the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit is used to cause the colored layer forming coating solution applied on the optical path difference adjusting unit to flow into the transmitted light region. The color filter for the transflective liquid crystal display manufactured by the manufacturing apparatus of the present invention is provided for the reflected light by having the heating means for performing the heating between the coating means and the drying means. The difference in film thickness between the colored layer in the region and the colored layer in the transmitted light region can be large. Further, the color filter for a transflective liquid crystal display device can be made excellent in the uniformity of the thickness of the colored layer in the reflected light region.

本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置は、少なくとも塗布手段、加熱手段、乾燥手段、およびプリベーク手段を有するものである。
以下、本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置の各構成を説明する。
The apparatus for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device of the present invention has at least a coating means, a heating means, a drying means, and a pre-baking means.
Hereinafter, each structure of the manufacturing apparatus of the color filter for transflective liquid crystal display devices of this invention is demonstrated.

1.塗布手段
本発明に用いられる塗布手段は、上記透明基材と、上記透明基材上に形成された光路差調整部とを有するカラーフィルタ用基板の上記光路差調整部を覆うように、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層形成用塗工液を塗布するものである。
1. Coating means The coating means used in the present invention is a colored layer so as to cover the optical path difference adjusting portion of the color filter substrate having the transparent base material and the optical path difference adjusting portion formed on the transparent base material. A coating solution for forming a colored layer containing the photosensitive resin composition for coating is applied.

このような塗布手段において、上記カラーフィルタ用基板の上記光路差調整部を覆うように、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層形成用塗工液を塗布する塗布手段としては、形成された反射光用領域の着色層形成用塗工液の膜厚を均一にすることができる手段であれば良く、具体的には、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコート等を用いることができる。   In such a coating means, it is formed as a coating means for applying a colored layer forming coating solution containing a photosensitive resin composition for a colored layer so as to cover the optical path difference adjusting portion of the color filter substrate. Any means that can make the thickness of the coating solution for forming the colored layer in the reflected light region uniform, specifically, spin coating, spray coating, dip coating, roll coating, bead coating, etc. Can be used.

本発明に用いられる塗布手段によって、塗布される着色層形成用塗工液、および上記塗布手段が、上記着色層形成用塗工液を塗布する対象であるカラーフィルタ用基板としては、透明基材と、上記透明基材上に形成された光路差調整部とを有するカラーフィルタ用基板および一般的にカラーフィルタの着色層の形成に用いられる着色層形成用塗工液を用いることができ、具体的には、上記「A.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法」の「1.塗布工程」の項に記載したものと同様のものを用いることができる。   The colored layer forming coating liquid applied by the coating means used in the present invention, and the color filter substrate to which the coating means is to be coated with the colored layer forming coating liquid, are transparent base materials. And a color filter substrate having a light path difference adjusting portion formed on the transparent substrate and a colored layer forming coating solution generally used for forming a colored layer of a color filter can be used. Specifically, the same materials as those described in “1. Application process” of “A. Method for producing color filter for transflective liquid crystal display device” can be used.

2.加熱手段
本発明に用いられる加熱手段は、上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を上記透過光用領域内に流れ込ませるために、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の加熱を行うものである。
2. Heating means The heating means used in the present invention is a colored layer on the optical path difference adjusting unit in order to cause the colored layer forming coating solution applied on the optical path difference adjusting unit to flow into the transmitted light region. The forming coating solution is heated.

このような加熱手段としては、上記着色層形成用塗工液を均一に加熱することができるものであれば特に限定されるものではなく、オーブン、遠赤外線ヒーター、ホットプレート等を挙げることができる。本発明においては、なかでも、ホットプレートであることが好ましい。上記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液の、上記透過光用領域への流れ込み量の均一化、および上記着色層形成用塗工液の厚みの均一化が容易であり、さらに上記加熱手段を簡便なものとすることができるからである。   Such a heating means is not particularly limited as long as the colored layer forming coating solution can be uniformly heated, and examples thereof include an oven, a far infrared heater, a hot plate, and the like. . In the present invention, a hot plate is particularly preferable. It is easy to equalize the amount of the colored layer forming coating solution applied on the optical path difference adjusting portion to flow into the transmitted light region and the thickness of the colored layer forming coating solution. In addition, the heating means can be further simplified.

また、上記加熱手段がホットプレートである場合、上記加熱手段は、ホットプレートを1枚有するものであっても良く、複数枚有するものであっても良い。
上記加熱手段が、ホットプレートを複数枚有するものである場合の具体例としては、図3に例示するように、高さ方向に多段に積み上げられ、平面視上重なるように配置されたホットプレート52からなるものを挙げることができる。この場合、上記塗布手段によって着色層形成用塗工液が塗布されたカラーフィルタ用基板を把持し、上下に移動させることができ、さらにホットプレート52上に、上記カラーフィルタ用基板を配置させることができるハンドリングロボット47によって、上記ホットプレート52上に上記カラーフィルタ用基板20を静置し、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の加熱を行う。
When the heating means is a hot plate, the heating means may have one hot plate or a plurality of hot plates.
As a specific example in the case where the heating means has a plurality of hot plates, as illustrated in FIG. 3, as illustrated in FIG. 3, hot plates 52 stacked in multiple stages in the height direction and arranged so as to overlap in plan view. Can be mentioned. In this case, the color filter substrate coated with the colored layer forming coating solution can be gripped and moved up and down by the application means, and the color filter substrate is disposed on the hot plate 52. The color filter substrate 20 is allowed to stand on the hot plate 52 by the handling robot 47 that can perform the heating, and the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit is heated.

また、加熱手段の他の例としては、図4に例示するように、平面視上重ならないように配置されたホットプレート52からなるものを挙げることができる。ここで、ホットプレート52は、ベルトコンベア46によって移動するものである。この場合、上記塗布手段によって着色層形成用塗工液が塗布されたカラーフィルタ用基板20を把持し、ホットプレート52が配置されている箇所まで移動させ、ホットプレート52上に、上記カラーフィルタ用基板を配置させることができるハンドリングロボット47によって、上記カラーフィルタ用基板20を、上記ホットプレート52上に静置し、上記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の加熱を行う。その後、加熱が終了したカラーフィルタ用基板20は、ハンドリングロボット47によって、次工程である乾燥工程に搬送される。
なお、上記ホットプレートは、所定の位置に固定されたものであっても良く、移動可能なものであっても良い。
Further, as another example of the heating means, as illustrated in FIG. 4, there can be mentioned one composed of a hot plate 52 arranged so as not to overlap in plan view. Here, the hot plate 52 is moved by the belt conveyor 46. In this case, the color filter substrate 20 coated with the coating liquid for forming the colored layer is gripped by the coating means and moved to a place where the hot plate 52 is disposed, and the color filter substrate is placed on the hot plate 52. The color filter substrate 20 is allowed to stand on the hot plate 52 by the handling robot 47 capable of arranging the substrate, and the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit is heated. Thereafter, the color filter substrate 20 that has been heated is transported by the handling robot 47 to the drying process, which is the next process.
The hot plate may be fixed at a predetermined position, or may be movable.

本発明に用いられる加熱手段の、上記着色層形成用塗工液の加熱能力としては、上記着色層形成用塗工液を所望の粘度まで低下させることができる温度まで加熱可能であれば良く、上記「A.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法」の「2.加熱工程」の項に記載した、上記着色層形成用塗工液を加熱する温度と同様の温度まで加熱可能であることが好ましい。   The heating ability of the heating means used in the present invention is not limited as long as it can be heated to a temperature at which the colored layer forming coating liquid can be reduced to a desired viscosity. It can be heated to the same temperature as the temperature for heating the colored layer forming coating solution described in the section “2. Heating step” of “A. Method for producing color filter for transflective liquid crystal display device”. Preferably there is.

3.乾燥手段
本発明に用いられる乾燥手段は、上記加熱手段により加熱後の上記着色層形成用塗工液を減圧乾燥し、上記着色層形成用塗工液に含まれる溶剤の除去を行い、着色層形成用層を形成するものである。
3. Drying means The drying means used in the present invention comprises drying the colored layer forming coating solution heated by the heating means under reduced pressure, removing the solvent contained in the colored layer forming coating solution, and A forming layer is formed.

本発明に用いられる乾燥手段によって、上記着色層形成用塗工液を減圧乾燥する際の減圧度は、上記着色層形成用塗工液に含まれる溶剤の含有量等に応じて適宜設定することができる。   The degree of vacuum when the colored layer forming coating solution is dried under reduced pressure by the drying means used in the present invention is appropriately set according to the content of the solvent contained in the colored layer forming coating solution. Can do.

また、本発明に用いられる乾燥手段は、上記着色層形成用塗工液からの溶剤の除去を、バッチ処理で行うものであっても良く、連続処理で行うものであっても良い。   Moreover, the drying means used in the present invention may be a batch process or a continuous process for removing the solvent from the colored layer forming coating solution.

本発明に用いられる乾燥手段は、必要に応じて、上記着色層形成用塗工液を加熱する加熱装置を有するものであっても良い。乾燥時間の短縮を図ることができるからである。このような加熱装置としては、公知の加熱装置を用いることができ、具体的には、遠赤外線ヒーター、ホットプレート等を用いることができる。   The drying means used in the present invention may have a heating device that heats the colored layer forming coating solution, if necessary. This is because the drying time can be shortened. As such a heating device, a known heating device can be used, and specifically, a far infrared heater, a hot plate, or the like can be used.

4.プリベーク手段
本発明におけるプリベーク手段は、上記乾燥手段により形成された上記着色層形成用層を加熱することにより、上記着色層形成用層を固化するものである。
4). Pre-baking means The pre-baking means in the present invention solidifies the colored layer forming layer by heating the colored layer forming layer formed by the drying means.

本発明に用いられるプリベーク手段としては、一般的なカラーフィルタの着色層の形成に用いられるものと同様のものを用いることができ、具体的には、オーブン、遠赤外線ヒーター、ホットプレート等を挙げることができる。   As the pre-baking means used in the present invention, the same one as used for forming a colored layer of a general color filter can be used, and specifically, an oven, a far-infrared heater, a hot plate and the like can be mentioned. be able to.

また、上記プリベーク手段の、上記着色層形成用層の加熱能力としては、上記着色層形成用層を所望の硬度まで焼き固めることができる温度まで加熱可能であれば良く、上記「A.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法」の「4.プリベーク工程」の項に記載した、上記着色層形成用層を加熱する温度と同様の温度まで加熱可能であることが好ましい。   The heating capability of the colored layer forming layer of the pre-baking means is not limited as long as it can be heated to a temperature at which the colored layer forming layer can be baked and hardened to a desired hardness. It is preferable that the film can be heated to a temperature similar to the temperature for heating the colored layer forming layer described in the section “4. Pre-baking step” of “Method for producing color filter for liquid crystal display device”.

また、上記プリベーク手段によって形成される固化後の着色層形成用層の膜厚としては、上記「A.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法」の「4.プリベーク工程」の項に記載したものと同様の内容であるため、ここでの記載を省略する。   The thickness of the colored layer forming layer after solidification formed by the pre-baking means is described in “4. Pre-baking step” in “A. Method for producing color filter for transflective liquid crystal display device”. Since it is the same content as what was described, description here is abbreviate | omitted.

5.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置
本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置は、上記塗布手段、加熱手段、乾燥手段、およびプリベーク手段を少なくとも有するものであるが、通常、上記プリベーク手段後のカラーフィルタ用基板の着色層形成用層をパターン状に露光し、現像し、パターン状の着色層を形成する露光・現像手段を有するものである。
5. Manufacturing apparatus for color filter for transflective liquid crystal display device The manufacturing apparatus for a color filter for transflective liquid crystal display device of the present invention has at least the coating means, heating means, drying means, and pre-baking means. Usually, the color layer forming layer of the color filter substrate after the pre-baking means is exposed to a pattern and developed to form a patterned colored layer.

上記露光・現像手段としては、上記着色層形成用層をパターン状に露光し、未露光箇所を現像により除去することによりパターン状の着色層を精度良く形成することができるものであれば良く、一般的なカラーフィルタの着色層の形成に用いられる露光・現像手段を用いることができる。   The exposure / development means may be any one that can accurately form a patterned colored layer by exposing the colored layer forming layer in a pattern and removing unexposed portions by development. An exposure / development means used for forming a colored layer of a general color filter can be used.

上記半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置は、上記カラーフィルタ用基板を、公知の搬送手段、具体的には、搬送ローラ、ベルトコンベア、ハンドリングロボット等によって、上記塗布手段、加熱手段、乾燥手段、およびプリベーク手段の各手段間を移動させるものであってもよい。   The transflective liquid crystal display device color filter manufacturing apparatus includes the color filter substrate that is transferred by a known transfer means, specifically, a transfer roller, a belt conveyor, a handling robot, and the like. You may move between each means of a drying means and a prebaking means.

また、本発明の製造装置によって製造される半透過型液晶表示装置用カラーフィルタとしては、上記「A.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法」の「6.半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ」の項に記載したものと同様のものを用いることができるため、ここでの記載を省略する。   Further, as a color filter for a transflective liquid crystal display device manufactured by the manufacturing apparatus of the present invention, “6. Transflective liquid crystal display device” in “A. Manufacturing method of color filter for transflective liquid crystal display device” described above. Since the thing similar to what was described in the term of "color filter for use" can be used, description here is abbreviate | omitted.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

以下、本発明について実施例を用いて具体的に説明する。
[実施例1]
1.感光性樹脂層形成工程
透明基板として300mm×400mm、厚さ0.7mm、i線透過率91%のガラス基板(コーニング社製1317ガラス)を準備し、この基板を定法にしたがって洗浄した。この透明基板上に下記に示す成分組成に従って調製した透明樹脂を塗布し、減圧乾燥を行った。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.
[Example 1]
1. Photosensitive resin layer forming step A 300 mm × 400 mm transparent substrate having a thickness of 0.7 mm and an i-line transmittance of 91% was prepared, and this substrate was washed according to a conventional method. On this transparent substrate, a transparent resin prepared according to the component composition shown below was applied and dried under reduced pressure.

(透明樹脂層形成用感光性樹脂組成物)
・メタクリル酸メチル−スチレン−アクリル酸共重合体 42重量部
・エピコート180s70(ジャパンエポキシレジン(株)) 18重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート 32重量部
・イルガキュア907(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製) 8重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 300重量部
(Photosensitive resin composition for forming transparent resin layer)
・ Methyl methacrylate-styrene-acrylic acid copolymer 42 parts by weight ・ Epicoat 180s70 (Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) 18 parts by weight ・ Dipentaerythritol pentaacrylate 32 parts by weight ・ Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 8 parts by weight ・ Propylene glycol monomethyl ether acetate 300 parts by weight

次に、80℃のホットプレート上にて180秒間加熱を行った後、プロキシミティ露光機(株式会社トプコン社製 TME-400R)にて所定のフォトマスクを用いて感光性樹脂層側から露光を行った。フォトマスクは石英ガラス製であり、表面の酸化クロム膜上に所定のパターンが描画してあるものを使用した。高圧水銀ランプを光源とし、条件は、露光量100mJ/cm2(波長365nm)とした。KOH系のアルカリ現像液を用いて現像を行い、200℃のオーブンにて30分焼成を行った。これにより、線幅40μm、膜厚3.0μmの透明樹脂層を形成した。 Next, after heating for 180 seconds on a hot plate at 80 ° C., exposure is performed from the photosensitive resin layer side using a predetermined photomask with a proximity exposure machine (TME-400R manufactured by Topcon Corporation). went. The photomask was made of quartz glass, and a photomask having a predetermined pattern drawn on the chromium oxide film on the surface was used. A high pressure mercury lamp was used as the light source, and the conditions were an exposure amount of 100 mJ / cm 2 (wavelength 365 nm). Development was performed using a KOH-based alkaline developer, and baking was performed in an oven at 200 ° C. for 30 minutes. Thereby, a transparent resin layer having a line width of 40 μm and a film thickness of 3.0 μm was formed.

2.着色層形成工程
上記透明基板上に下記に示す成分組成に従って調製した緑色着色層樹脂組成物を塗布した。
2. Colored layer formation process The green colored layer resin composition prepared according to the component composition shown below was apply | coated on the said transparent substrate.

(緑色着色層形成用感光性樹脂組成物)
・緑色顔料(アビシア社製 モナストラルグリーンθY−C) 4.2重量部
・黄色顔料(BASF社製 パリオトールイエローD1819) 1.8重量部
・分散材(ビックケミー社製 ディスパービック161) 3.0重量部
・モノマー(サートマー社製SR399) 4.0重量部
・ポリマーII 5.0重量部
・イルガキュア907(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製) 1.4重量部
・(2,2’ビス(o-クロロフェニル)-4,5,4',5'-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール) 0.6重量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 80.0重量部
(Photosensitive resin composition for forming a green colored layer)
Green pigment (Avisia Monastral Green θY-C) 4.2 parts by weight Yellow pigment (BASF Pariotor Yellow D1819) 1.8 parts by weight Dispersant (Bicchemy Disperbic 161) 3.0 Part by weight / monomer (SR399 manufactured by Sartomer) 4.0 part by weight Polymer II 5.0 part by weight Irgacure 907 (Ciba Specialty Chemicals) 1.4 part by weight (2,2′bis (o- Chlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole) 0.6 part by weight / propylene glycol monomethyl ether acetate 80.0 parts by weight

次に、40℃のホットプレート上にて5分間加熱を行い、次いで、減圧乾燥を行った。その後、80℃のホットプレート上にて180秒間加熱(プリベーク)を行った後、プロキシミティ露光機にて所定のフォトマスクを用いて感光性樹脂層側から露光を行った。条件は、露光量100mJ/cm2(波長365nm)とした。KOH系のアルカリ現像液を用いて現像を行い、200℃のオーブンにて30分焼成を行った。
なお、得られた反射光用着色層の膜厚は、1.2μm、透過光用着色層の膜厚は2.1μmであった。また、透過光用領域の着色層の膜厚と、反射光用領域の着色層の膜厚との比(透過光用領域/反射光用領域)としては1.8であった。
Next, heating was performed on a hot plate at 40 ° C. for 5 minutes, followed by drying under reduced pressure. Then, after heating (prebaking) for 180 seconds on an 80 degreeC hotplate, it exposed from the photosensitive resin layer side using the predetermined photomask with the proximity exposure machine. The conditions were an exposure amount of 100 mJ / cm 2 (wavelength 365 nm). Development was performed using a KOH-based alkaline developer, and baking was performed in an oven at 200 ° C. for 30 minutes.
The thickness of the obtained colored layer for reflected light was 1.2 μm, and the thickness of the colored layer for transmitted light was 2.1 μm. The ratio of the thickness of the colored layer in the transmitted light region to the thickness of the colored layer in the reflected light region (transmitted light region / reflected light region) was 1.8.

[実施例2]
1.感光性樹脂層形成工程
実施例1と同様成分組成の透明樹脂層形成用感光性樹脂組成物を用いて、実施例1と同様の操作により、線幅40μm、膜厚3.0μmの透明樹脂層を形成した。
[Example 2]
1. Photosensitive resin layer forming step A transparent resin layer having a line width of 40 μm and a film thickness of 3.0 μm was prepared in the same manner as in Example 1 using the photosensitive resin composition for forming a transparent resin layer having the same composition as in Example 1. Formed.

2.着色層形成工程
実施例1と同様成分組成の緑色着色層樹脂組成物を塗布し、次に、50℃のホットプレート上にて5分間加熱を行い、次いで、減圧乾燥を行った。その後、80℃のホットプレート上にて180秒間加熱(プリベーク)を行い、プロキシミティ露光機にて所定のフォトマスクを用いて感光性樹脂層側から露光を行った。条件は、露光量100mJ/cm2(波長365nm)とした。KOH系のアルカリ現像液を用いて現像を行い、200℃のオーブンにて30分焼成を行った。
なお、得られた反射光用着色層の膜厚は、1.1μm、透過光用着色層の膜厚は2.1μmであった。また、透過光用領域の着色層の膜厚と、反射光用領域の着色層の膜厚との比(透過光用領域/反射光用領域)としては1.9であった
2. Colored layer forming step A green colored layer resin composition having the same component composition as in Example 1 was applied, heated on a hot plate at 50 ° C. for 5 minutes, and then dried under reduced pressure. Thereafter, heating (pre-baking) was performed on a hot plate at 80 ° C. for 180 seconds, and exposure was performed from the photosensitive resin layer side using a predetermined photomask with a proximity exposure machine. The conditions were an exposure amount of 100 mJ / cm 2 (wavelength 365 nm). Development was performed using a KOH-based alkaline developer, and baking was performed in an oven at 200 ° C. for 30 minutes.
The thickness of the obtained colored layer for reflected light was 1.1 μm, and the thickness of the colored layer for transmitted light was 2.1 μm. The ratio of the thickness of the colored layer in the transmitted light region to the thickness of the colored layer in the reflected light region (transmitted light region / reflected light region) was 1.9.

[比較例1]
1.感光性樹脂層形成工程
実施例1と同様成分組成の透明樹脂層形成用感光性樹脂組成物を用いて、実施例1と同様の操作により、線幅40μm、膜厚3.0μmの透明樹脂層を形成した。
[Comparative Example 1]
1. Photosensitive resin layer forming step A transparent resin layer having a line width of 40 μm and a film thickness of 3.0 μm was prepared in the same manner as in Example 1 using the photosensitive resin composition for forming a transparent resin layer having the same composition as in Example 1. Formed.

2.着色層形成工程
実施例1と同様成分組成の緑色着色層樹脂組成物を塗布し、その後、加熱せず常温で5分間静置した後、減圧乾燥を行った。その後、80℃のホットプレート上にて180秒間加熱(プリベーク)を行い、プロキシミティ露光機にて所定のフォトマスクを用いて感光性樹脂層側から露光を行った。条件は、露光量100mJ/cm2(波長365nm)とした。KOH系のアルカリ現像液を用いて現像を行い、200℃のオーブンにて30分焼成を行った。
なお、得られた反射光用着色層の膜厚は、1.6μm、透過光用着色層の膜厚は2.1μmであった。また、透過光用領域の着色層の膜厚と、反射光用領域の着色層の膜厚との比(透過光用領域/反射光用領域)としては1.3であった
2. Colored layer forming step A green colored layer resin composition having the same component composition as in Example 1 was applied, and then allowed to stand at room temperature for 5 minutes without heating, and then dried under reduced pressure. Thereafter, heating (pre-baking) was performed on a hot plate at 80 ° C. for 180 seconds, and exposure was performed from the photosensitive resin layer side using a predetermined photomask with a proximity exposure machine. The conditions were an exposure amount of 100 mJ / cm 2 (wavelength 365 nm). Development was performed using a KOH-based alkaline developer, and baking was performed in an oven at 200 ° C. for 30 minutes.
The thickness of the obtained colored layer for reflected light was 1.6 μm, and the thickness of the colored layer for transmitted light was 2.1 μm. The ratio of the thickness of the colored layer in the transmitted light region to the thickness of the colored layer in the reflected light region (transmitted light region / reflected light region) was 1.3.

以上、実施例1,2では、比較例1と比較して反射光用領域の着色層の薄膜化が可能となった。   As described above, in Examples 1 and 2, the colored layer in the reflected light region can be made thinner than in Comparative Example 1.

本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the color filter for transflective liquid crystal display devices of this invention. 本発明の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the manufacturing apparatus of the color filter for transflective liquid crystal display devices of this invention. 本発明に用いられる加熱手段の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the heating means used for this invention. 本発明に用いられる加熱手段の他の例を示す概略図である。It is the schematic which shows the other example of the heating means used for this invention. 一般的な半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the color filter for general transflective liquid crystal display devices.

符号の説明Explanation of symbols

1、101 … 透明基材
2、102 … 光路差調整部
3 … 赤色着色層形成用塗工液
4 … 赤色着色層形成用層
5R、5G、5B … 赤色着色パターン、緑色着色パターン、青色着色パターン
6、106 … 着色層
10、100 … 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ
20 … カラーフィルタ用基板
30 … フォトマスク
31 … 開口領域
32 … 遮光領域
40 … 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置
41 … 塗布手段
42 … 加熱手段
43 … 乾燥手段
44 … プリベーク手段
45 … 露光・現像手段
52 … ホットプレート
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 101 ... Transparent base material 2, 102 ... Optical path difference adjustment part 3 ... Red colored layer forming coating liquid 4 ... Red colored layer forming layer 5R, 5G, 5B ... Red colored pattern, green colored pattern, blue colored pattern 6, 106 ... Colored layer 10, 100 ... Color filter for transflective liquid crystal display device 20 ... Substrate for color filter 30 ... Photomask 31 ... Opening region 32 ... Light-shielding region 40 ... Production of color filter for transflective liquid crystal display device Apparatus 41 ... Application means 42 ... Heating means 43 ... Drying means 44 ... Pre-baking means 45 ... Exposure / development means 52 ... Hot plate

Claims (6)

透明基材と、透明基材上に形成され、透明樹脂からなる光路差調整部と、前記光路差調整部を覆うように形成され、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層とを有し、前記透明基材と、前記光路差調整部と、前記着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、前記透明基材と、前記着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、
前記透明基材と、前記透明基材上に形成された光路差調整部とを有するカラーフィルタ用基板の前記光路差調整部を覆うように、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層形成用塗工液を塗布する塗布工程と、
前記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を、前記透過光用領域内に流れ込ませるために、前記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の加熱を行う加熱工程と、
前記加熱工程後の前記着色層形成用塗工液を減圧乾燥し、着色層形成用層を形成する乾燥工程と、
前記乾燥工程によって形成された前記着色層形成用層を加熱するプリベーク工程と、
を有することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
A transparent substrate, an optical path difference adjusting unit formed on the transparent substrate and made of a transparent resin, and a colored layer formed so as to cover the optical path difference adjusting unit and containing the photosensitive resin composition for the colored layer. Then, the region where the transparent base material, the optical path difference adjusting unit, and the colored layer are laminated is used as a reflected light region, and the region where the transparent base material and the colored layer are laminated is transmitted light. A method for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device used as an area for use,
Formation of a colored layer containing a photosensitive resin composition for a colored layer so as to cover the optical path difference adjusting part of the color filter substrate having the transparent base material and an optical path difference adjusting part formed on the transparent base material An application process for applying a coating liquid;
Heating that heats the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit so that the colored layer forming coating solution applied on the optical path difference adjusting unit flows into the transmitted light region. Process,
A drying step of drying the colored layer forming coating liquid after the heating step under reduced pressure to form a colored layer forming layer;
A pre-baking step of heating the colored layer forming layer formed by the drying step;
A method for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device, comprising:
前記加熱工程の前記着色層形成用塗工液を加熱する温度が、前記プリベーク工程において、前記着色層形成用層を加熱する温度よりも20℃〜100℃の範囲内で低いことを特徴とする請求項1に記載の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。   The temperature for heating the colored layer forming coating solution in the heating step is lower in a range of 20 ° C. to 100 ° C. than the temperature for heating the colored layer forming layer in the pre-baking step. A method for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device according to claim 1. 前記加熱工程が、前記着色層形成用塗工液が塗布されたカラーフィルタ用基板を、ホットプレート上に静置することにより、前記着色層形成用塗工液を加熱することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。   The heating step heats the colored layer forming coating solution by allowing the color filter substrate coated with the colored layer forming coating solution to stand on a hot plate. A method for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device according to claim 1 or 2. 前記着色層形成用塗工液の25℃と、40℃とにおける粘度差が、0.2mPa・s〜4.0mPa・sの範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。   The viscosity difference between 25 ° C. and 40 ° C. of the colored layer forming coating solution is in the range of 0.2 mPa · s to 4.0 mPa · s. A method for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device according to any one of the preceding claims. 透明基材と、前記透明基材上に形成され、透明樹脂からなる光路差調整部と、前記光路差調整部を覆うように形成され、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層とを有し、前記透明基材と、前記光路差調整部と、前記着色層とが積層された領域を反射光用領域として用い、前記透明基材と、前記着色層とが積層された領域を透過光用領域として用いる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置であって、
前記透明基材と、前記透明基材上に形成された光路差調整部とを有するカラーフィルタ用基板の前記光路差調整部を覆うように、着色層用感光性樹脂組成物を含む着色層形成用塗工液を塗布する塗布手段と、
前記光路差調整部上に塗布された着色層形成用塗工液を、前記透過光用領域内に流れ込ませるために、前記光路差調整部上の着色層形成用塗工液の加熱を行う加熱手段と、
前記加熱手段により加熱後の前記着色層形成用塗工液を減圧乾燥し、着色層形成用層を形成する乾燥手段と、
前記乾燥手段により形成された前記着色層形成用層を加熱するプリベーク手段とが、この順で連続して配置されていることを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置。
A transparent base material, an optical path difference adjusting part formed on the transparent base material and made of a transparent resin, and a colored layer formed so as to cover the optical path difference adjusting part and containing a photosensitive resin composition for a colored layer The transparent substrate, the optical path difference adjusting unit, and the region where the colored layer is laminated are used as a region for reflected light, and the region where the transparent substrate and the colored layer are laminated is transmitted. An apparatus for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device used as a light region,
Formation of a colored layer containing a photosensitive resin composition for a colored layer so as to cover the optical path difference adjusting part of the color filter substrate having the transparent base material and an optical path difference adjusting part formed on the transparent base material An application means for applying a coating liquid;
Heating that heats the colored layer forming coating solution on the optical path difference adjusting unit so that the colored layer forming coating solution applied on the optical path difference adjusting unit flows into the transmitted light region. Means,
Drying means for drying the colored layer forming coating liquid after heating by the heating means to form a colored layer forming layer;
An apparatus for producing a color filter for a transflective liquid crystal display device, wherein pre-baking means for heating the colored layer forming layer formed by the drying means is continuously arranged in this order.
前記加熱手段が、ホットプレートであることを特徴とする請求項5に記載の半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置。   6. The color filter manufacturing apparatus for a transflective liquid crystal display device according to claim 5, wherein the heating means is a hot plate.
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04181215A (en) * 1990-11-15 1992-06-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Production of liquid crystal display element substrate
JPH06308313A (en) * 1993-04-20 1994-11-04 Dainippon Printing Co Ltd Color filter
JP2006284668A (en) * 2005-03-31 2006-10-19 Toppan Printing Co Ltd Manufacturing method and manufacturing apparatus of color filter
JP2007114467A (en) * 2005-10-20 2007-05-10 Dainippon Printing Co Ltd Color filter for transrefrective liquid crystal display device
JP2007271898A (en) * 2006-03-31 2007-10-18 Toray Ind Inc Color filter for transflective liquid crystal display device and its manufacturing method, and transflective liquid crystal display device using the same
JP2008007773A (en) * 2006-06-02 2008-01-17 Fujifilm Corp Organic nanoparticles and dispersion thereof, and colored photosensitive resin composition containing the same, ink-ket ink, photosensitive resin transfer material, color filter using the same, liquid crystal display and ccd device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04181215A (en) * 1990-11-15 1992-06-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Production of liquid crystal display element substrate
JPH06308313A (en) * 1993-04-20 1994-11-04 Dainippon Printing Co Ltd Color filter
JP2006284668A (en) * 2005-03-31 2006-10-19 Toppan Printing Co Ltd Manufacturing method and manufacturing apparatus of color filter
JP2007114467A (en) * 2005-10-20 2007-05-10 Dainippon Printing Co Ltd Color filter for transrefrective liquid crystal display device
JP2007271898A (en) * 2006-03-31 2007-10-18 Toray Ind Inc Color filter for transflective liquid crystal display device and its manufacturing method, and transflective liquid crystal display device using the same
JP2008007773A (en) * 2006-06-02 2008-01-17 Fujifilm Corp Organic nanoparticles and dispersion thereof, and colored photosensitive resin composition containing the same, ink-ket ink, photosensitive resin transfer material, color filter using the same, liquid crystal display and ccd device

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