JP2009271286A - Plastic optical element, and method for manufacturing electronic equipment - Google Patents

Plastic optical element, and method for manufacturing electronic equipment Download PDF

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Yasumitsu Fujino
泰光 藤野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plastic optical element which is excellent in transparency and maintains its characteristics in a production process including heat treatment and in various use environments, and to provide a method for manufacturing electronic equipment which executes reflow processing using the plastic optical element. <P>SOLUTION: The plastic optical element contains a resin composition having alicyclic hydrocarbon structure and a water-absorption rate of 0.5 mass% or less and has a water-absorption rate of 1.0-2.0 mass% and a size-variation rate of 0.1-0.5% due to water absorption. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、プラスチック光学素子、及び電子機器の製造方法に関する。   The present invention relates to a plastic optical element and a method for manufacturing an electronic apparatus.

一般に、光を透過させて所望の光学的機能を達成する光学素子としては、ガラス製、或いはプラスチック製の光学素子が用いられている。光学素子としては、様々な光学機器に用いられる光学レンズや補正素子等が挙げられ、例えば、銀塩カメラやデジタルカメラ、医療用撮影装置等の撮像装置に用いられる撮像光学系や、光ピックアップ装置の光学系、光通信モジュール等に用いられる光学素子などが挙げられる。   Generally, an optical element made of glass or plastic is used as an optical element that transmits light and achieves a desired optical function. Examples of the optical element include an optical lens and a correction element used in various optical devices. For example, an imaging optical system or an optical pickup device used in an imaging apparatus such as a silver salt camera, a digital camera, or a medical imaging apparatus. And optical elements used in optical systems and optical communication modules.

特にプラスチック製の光学素子は、射出成形や押し出し成形等により容易に成形が可能であり、また、比較的低温度で成形できる等、ガラス製の光学素子よりも低コストで製造可能である為、プラスチック製光学素子への置き換えが強く望まれている。   In particular, plastic optical elements can be easily molded by injection molding or extrusion molding, and can be molded at a relatively low temperature, and can be manufactured at a lower cost than glass optical elements. There is a strong demand for replacement with plastic optical elements.

従来、撮像光学系や光ピックアップ装置の光学系に用いられる光学素子としては、熱可塑性樹脂を用いた光学素子が広く知られている。例えば、光ピックアップ装置の光学素子に適用可能な熱可塑性樹脂として、環状オレフィンとαオレフィンの共重合体が提案されている(例えば、特許文献1)。しかしながら、熱可塑性樹脂を用いた光学素子は、ガラス製の光学素子と比較して耐熱性が低く、高温下にさらされたときに光学特性が変動する可能性がある為、高い光学精度が求められる撮像光学系や光ピックアップ装置の光学系での光学素子として用いられる場合には素子物性の信頼性が問題となる場合があった。   Conventionally, an optical element using a thermoplastic resin is widely known as an optical element used in an imaging optical system or an optical system of an optical pickup device. For example, a copolymer of a cyclic olefin and an α olefin has been proposed as a thermoplastic resin applicable to an optical element of an optical pickup device (for example, Patent Document 1). However, optical elements using thermoplastic resins have low heat resistance compared to glass optical elements, and optical characteristics may change when exposed to high temperatures, so high optical accuracy is required. When used as an optical element in an imaging optical system or an optical system of an optical pickup device, reliability of element physical properties may be a problem.

例えば、回路基板上にIC(Integrated Circuits)チップその他の電子部品を実装する場合において、回路基板の所定位置に予め導電性材料のペーストを塗布(ポッティング)しておき、その位置に電子部品を載置した状態で当該回路基板をリフロー処理(加熱処理)し、導電性材料のペーストを溶融させることで、当該回路基板に電子部品を実装する技術が知られているが、撮像装置に用いられる撮像モジュールを製造する際には、このような電子部品が搭載された電子モジュールに光学素子も載置した状態でリフロー処理を行うことで、低コストで撮像モジュールを製造できる。このようなリフロー処理における温度は導電性材料のペーストが溶融できる温度であり、通常、180〜270℃程度の温度で行われる為、プラスチック製の光学素子をこのリフロー処理工程に適用する際には、処理温度において素子の物性変動の無い、高い耐熱性が求められる。   For example, when an IC (Integrated Circuits) chip or other electronic component is mounted on a circuit board, a paste of a conductive material is previously applied (potted) to a predetermined position on the circuit board, and the electronic component is mounted on the position. A technique for mounting electronic components on the circuit board by reflowing (heating) the circuit board in a placed state and melting a paste of a conductive material is known. When a module is manufactured, an imaging module can be manufactured at low cost by performing a reflow process in a state where an optical element is also mounted on the electronic module on which such an electronic component is mounted. The temperature in such a reflow process is a temperature at which the conductive material paste can be melted, and is usually performed at a temperature of about 180 to 270 ° C. Therefore, when applying a plastic optical element to this reflow process, Therefore, high heat resistance is required without any change in the physical properties of the element at the processing temperature.

これに対し、近年、樹脂の耐熱性を改善させた光学材料として、熱、或いは活性エネルギー線硬化性樹脂中に無機微粒子を分散させた有機無機複合材料が提案されている(例えば、特許文献2〜4)。しかしながら、これら開示の材料においてもリフロー処理工程といった比較的高温の製造適用した場合には加熱処理に基づく素子の変形やクラックが発生し、光学素子としての透明性を十分に確保することが困難であった。従って、光学素子としての透明性を確保した上で、高温耐久性を満足するプラスチック製光学素子材料については未だ得られていないのが実情である。
特開2002−105131号公報 特開平4−254406号公報 特開平8−157735号公報 特開2005−146042号公報
On the other hand, in recent years, an organic-inorganic composite material in which inorganic fine particles are dispersed in heat or active energy ray-curable resin has been proposed as an optical material in which the heat resistance of the resin is improved (for example, Patent Document 2). ~ 4). However, even in these disclosed materials, when a relatively high temperature manufacturing application such as a reflow process is applied, the element is deformed or cracked due to the heat treatment, and it is difficult to sufficiently secure transparency as an optical element. there were. Therefore, the actual situation is that a plastic optical element material satisfying high temperature durability while ensuring transparency as an optical element has not yet been obtained.
JP 2002-105131 A JP-A-4-254406 JP-A-8-157735 JP 2005-146042 A

(メタ)アクリル基等の重合反応性基を有する透明な硬化性化合物を硬化させた樹脂組成物は、眼鏡用レンズや各種光学機器の光学系で用いられる光学素子材料として用いられているが、近年、各種光学機器に用いられる光学素子に対し要求されてきている環境変動に対する高度な物性の信頼性を確保するには、耐熱性が不十分であることや線膨張係数が大きい等の問題があった。また、電子部品が搭載された電子機器に光学素子も載置した状態でリフロー処理を行うことで低コストで撮像モジュールを製造できるが、プラスチック光学素子をこのようなリフロー処理工程に適用する際には、処理温度において素子の物性変動の無い、高い耐熱性が求められる。従来、プラスチック光学素子に適用される樹脂の耐熱性の向上や線膨張係数を低減させる手段として、有機樹脂中に無機微粒子を分散させる技術が開示されているが、このような樹脂からなる光学素子をリフロー工程で用いた場合、加熱処理後に素子が変形したり、素子内部のクラック発生により透明性が損なわれるといった問題があった。原因としては、樹脂の吸湿により吸湿した水分が急激に気化膨張して大きな応力が発生し、その応力に基づく変形によるものと推測される。   A resin composition obtained by curing a transparent curable compound having a polymerization reactive group such as a (meth) acryl group is used as an optical element material used in an optical system of a spectacle lens or various optical devices. In recent years, problems such as insufficient heat resistance and a large coefficient of linear expansion are required to ensure the reliability of advanced physical properties against environmental fluctuations required for optical elements used in various optical instruments. there were. In addition, an imaging module can be manufactured at low cost by performing a reflow process in a state where an optical element is also mounted on an electronic device on which an electronic component is mounted, but when applying a plastic optical element to such a reflow process, Is required to have high heat resistance with no variation in the physical properties of the device at the processing temperature. Conventionally, as a means for improving the heat resistance of a resin applied to a plastic optical element and reducing the linear expansion coefficient, a technique for dispersing inorganic fine particles in an organic resin has been disclosed. An optical element made of such a resin is disclosed. Is used in the reflow process, there is a problem that the element is deformed after the heat treatment or the transparency is impaired due to the occurrence of cracks inside the element. The cause is presumed to be due to the deformation caused by the stress due to the rapid absorption of moisture absorbed by the absorption of the resin, resulting in rapid vaporization and expansion.

本発明の目的は、透明性に優れ、且つ高温処理を伴う製造工程や様々な使用環境において、その特性を維持することができるプラスチック光学素子(以後、単に光学素子とも言う)、及びそれを用いたリフロー処理を行う電子機器の製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is a plastic optical element (hereinafter simply referred to as an optical element) that is excellent in transparency and can maintain its characteristics in a manufacturing process involving high-temperature processing and various usage environments, and uses the same. An object of the present invention is to provide an electronic device manufacturing method for performing reflow processing.

上記問題に対し、無機微粒子を含有する樹脂組成物について、樹脂構造と吸水率、含有する無機微粒子の吸水率に基づく材料処方設計を検討した結果、前記特定の構造と特定範囲の吸水率を有する脂環式炭化水素骨格を有する樹脂と、特定範囲の吸水率(吸水能)を有する無機微粒子の少なくとも一種を含む樹脂組成物からなるプラスチック光学素子は、リフロー処理工程を有する電子機器の製造に適用した場合でも加熱による変形やクラックが発生することなく、素子の透明性を確保できることを見出した。また、前記脂環式炭化水素骨格を有する樹脂と無機微粒子に加え、必要に応じて多官能性化合物を添加して架橋構造を制御することで、様々な使用環境における耐熱性等の素子の耐久性を向上させることができることが判明した。   As a result of studying the material prescription design based on the resin structure and the water absorption rate, the water absorption rate of the inorganic fine particles contained in the resin composition containing the inorganic fine particles, the specific structure and the water absorption rate in the specific range are obtained. A plastic optical element comprising a resin composition containing a resin having an alicyclic hydrocarbon skeleton and at least one kind of inorganic fine particles having a water absorption rate (water absorption capacity) in a specific range is applied to manufacture of an electronic device having a reflow process step. It has been found that the transparency of the element can be secured without causing deformation or cracks due to heating even in the case of the above. Moreover, in addition to the resin having the alicyclic hydrocarbon skeleton and the inorganic fine particles, a polyfunctional compound is added as necessary to control the cross-linked structure, so that the durability of the element such as heat resistance in various usage environments can be obtained. It has been found that the property can be improved.

本発明の上記課題は以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

1.脂環式炭化水素骨格を有し吸水率が0.5質量%以下である樹脂組成物を含有し、吸水率が1.0〜2.0質量%、吸水による寸法変化率が0.1〜0.5%であることを特徴とするプラスチック光学素子。   1. It contains a resin composition having an alicyclic hydrocarbon skeleton and a water absorption of 0.5% by mass or less, a water absorption of 1.0 to 2.0% by mass, and a dimensional change rate of 0.1 to 0.1% by water absorption. A plastic optical element characterized by being 0.5%.

2.前記樹脂組成物において、吸水率が1.0〜3.0質量%の無機微粒子を含むことを特徴とする前記1に記載のプラスチック光学素子。   2. 2. The plastic optical element as described in 1 above, wherein the resin composition contains inorganic fine particles having a water absorption rate of 1.0 to 3.0% by mass.

3.前記無機微粒子が、半導体結晶組成物、無機酸化物、または半導体結晶組成物と無機酸化物の混合物であることを特徴とする前記2に記載のプラスチック光学素子。   3. 3. The plastic optical element as described in 2 above, wherein the inorganic fine particles are a semiconductor crystal composition, an inorganic oxide, or a mixture of a semiconductor crystal composition and an inorganic oxide.

4.前記樹脂組成物が、下記一般式(1)〜(3)で表される脂環式炭化水素系化合物から選ばれる一種以上の重合性単量体の組成物を硬化させて得られることを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載のプラスチック光学素子。   4). The resin composition is obtained by curing a composition of one or more polymerizable monomers selected from alicyclic hydrocarbon compounds represented by the following general formulas (1) to (3). The plastic optical element according to any one of 1 to 3 above.

Figure 2009271286
Figure 2009271286

(上記一般式(1)において、Xは−CH−O−CO−CHR=CHで表される基であり、Rは水素原子、または炭素数1から10のアルキル基を表す。) (In the general formula (1), X is a group represented by —CH 2 —O—CO—CHR 1 ═CH 2 , and R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. )

Figure 2009271286
Figure 2009271286

(上記一般式(2)中、Yは−O−CO−CHR=CH、または−CO−R−CHR=CH、または−O−R−CHR=CHで表される基であり、Rは水素原子、またはメチル基を表し、Rは単結合、或いは炭素数1〜10の置換、もしくは無置換のアルキレン基を表し、R、Rはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1から10までの炭化水素基を表し、mは1〜3の整数を表す。) (In the general formula (2), Y is represented by —O—CO—CHR 1 ═CH 2 , or —CO—R 2 —CHR 1 ═CH 2 , or —O—R 2 —CHR 1 ═CH 2. R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and R 3 and R 4 are each independently A hydrogen atom and a C1-C10 hydrocarbon group are represented, and m represents an integer of 1-3.)

Figure 2009271286
Figure 2009271286

(上記一般式(3)中、Zは−O−CO−CHR=CH、または−CHR=CHで表される基であり、Aは単結合、または炭素−炭素二重結合を表し、Rは水素原子、またはメチル基を表し、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1から10までの炭化水素基を表す。)
5.電子部品とともにリフロー処理により基板に実装される撮像装置に用いられることを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載のプラスチック光学素子。
(In the general formula (3), Z is a group represented by -O-CO-CHR 1 = CH 2 or -CHR 1 = CH 2,, A is a single bond or a carbon - carbon double bonds R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 5 to R 7 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.)
5. 5. The plastic optical element as described in any one of 1 to 4 above, which is used in an imaging device that is mounted on a substrate together with an electronic component by reflow processing.

6.前記1〜5のいずれか1項に記載のプラスチック光学素子を有する撮像装置を電子部品とともに基板上に載置する工程、及び、前記撮像装置と前記電子部品と前記基板とをリフロー処理に供し、前記撮像装置と前記電子部品とを前記基板に実装する工程、を有することを特徴とする電子機器の製造方法。   6). The step of placing the imaging device having the plastic optical element according to any one of 1 to 5 on a substrate together with an electronic component, and subjecting the imaging device, the electronic component, and the substrate to a reflow process, A method for manufacturing an electronic device, comprising: mounting the imaging device and the electronic component on the substrate.

本発明によれば、透明性に優れ、且つ高温処理を伴う製造工程や様々な使用環境において、その特性を維持することができるプラスチック光学素子、及びそれを用いたリフロー処理を行う電子機器の製造方法を提供することにある。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is excellent in transparency and can manufacture the plastic optical element which can maintain the characteristic in the manufacturing process with high temperature processing, and various use environment, and the manufacture of the electronic device which performs reflow processing using the same It is to provide a method.

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited thereto.

本発明におけるプラスチック光学素子は、脂環式炭化水素構造を有し、吸水率が0.5質量%以下である樹脂組成物を含有し、吸水率が1.0〜2.0質量%、寸法変化率が0.1〜0.5%であることを特徴としている。   The plastic optical element in the present invention contains a resin composition having an alicyclic hydrocarbon structure and a water absorption of 0.5% by mass or less, a water absorption of 1.0 to 2.0% by mass, and dimensions. The change rate is 0.1 to 0.5%.

以下、本発明を更に詳しく説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

<樹脂組成物>
本発明において用いられる樹脂組成物としては、脂環式炭化水素骨格を有する重合性単量体を重合硬化させて得られるもので、特に好ましい化合物としては、前記一般式(1)で表される化合物、例えば、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートや、前記一般式(2)で表される化合物、例えば、アダマンチルメタクリレート、アダマンチルアクリレート等や、前記一般式(3)で表される化合物、例えば、イソボロニルメタクリレート、イソボロニルアクリレート、ビニルノルボルネン等が挙げられる。これらの脂環式炭化水素系化合物は、前記重合硬化性組成物を処方する際にその1種、或いは2種以上を併用して用いても差し支えないが、リフロー処理等の加熱処理を有する製造工程において、加熱による素子の変形やクラックの発生を抑制する為には、樹脂組成物を構成する透明樹脂の吸水率を一定範囲内に制御する必要がある。ここで、樹脂組成物の吸水率とは、脂環式炭化水素系単量体組成物を硬化して得られた樹脂組成物を、ドライオーブン中、85℃で168時間乾燥処理した直後の質量を測定した後(得られた値をAとする。)、次にこの乾燥させた樹脂組成物を、恒温恒湿器中に60℃、相対湿度90%の条件で168時間保存した後の質量を測定し(得られた値をBとする。)、得られた測定結果から、下記の数式により算出した値として定義する。
<Resin composition>
The resin composition used in the present invention is obtained by polymerizing and curing a polymerizable monomer having an alicyclic hydrocarbon skeleton, and a particularly preferable compound is represented by the general formula (1). Compounds such as tricyclodecane dimethanol dimethacrylate, tricyclodecane dimethanol diacrylate, compounds represented by the general formula (2) such as adamantyl methacrylate, adamantyl acrylate, etc., and the general formula (3) Examples of the compound represented include isobornyl methacrylate, isobornyl acrylate, and vinyl norbornene. These alicyclic hydrocarbon-based compounds may be used alone or in combination of two or more when the polymerization curable composition is formulated. In the process, in order to suppress the deformation and cracking of the element due to heating, it is necessary to control the water absorption rate of the transparent resin constituting the resin composition within a certain range. Here, the water absorption rate of the resin composition is the mass immediately after drying the resin composition obtained by curing the alicyclic hydrocarbon monomer composition at 85 ° C. for 168 hours in a dry oven. (The obtained value is A.) Then, the dried resin composition was stored in a thermo-hygrostat at 60 ° C. and 90% relative humidity for 168 hours. (The obtained value is defined as B), and defined as a value calculated from the obtained measurement result by the following mathematical formula.

吸水率(質量%)=((B−A)/A)×100
本発明で用いられる樹脂組成物の吸水率は、0.5質量%以下であることが好ましく、更に好ましくは0.3質量%以下である。吸水率が0.5質量%を超える場合、素子を構成する樹脂成分の吸水に基づく加熱時の応力を緩和できずに素子の変形やクラックが発生し、光学素子として適さない。
Water absorption (mass%) = ((B−A) / A) × 100
The water absorption of the resin composition used in the present invention is preferably 0.5% by mass or less, and more preferably 0.3% by mass or less. When the water absorption rate exceeds 0.5% by mass, the stress at the time of heating based on the water absorption of the resin component constituting the element cannot be relaxed, and the element is deformed or cracked, which is not suitable as an optical element.

<無機微粒子>
本発明において用いられる無機微粒子としては、無機酸化物微粒子が挙げられ、具体的には、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化セリウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化鉛、これら酸化物より構成される複酸化物であるニオブ酸リチウム、ニオブ酸カリウム、タンタル酸リチウム等、これら酸化物との組み合わせで形成されるリン酸塩、硫酸塩等を挙げることができる。
<Inorganic fine particles>
Examples of the inorganic fine particles used in the present invention include inorganic oxide fine particles. Specifically, for example, titanium oxide, zinc oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, magnesium oxide, oxide Calcium, strontium oxide, barium oxide, yttrium oxide, lanthanum oxide, cerium oxide, indium oxide, tin oxide, lead oxide, complex oxides composed of these oxides such as lithium niobate, potassium niobate, lithium tantalate, etc. And phosphates and sulfates formed in combination with these oxides.

これら無機微粒子は透明樹脂中に分散された状態で存在するため、透明性を確保する上で平均粒子径が1nm以上、50nm以下が好ましい。更に好ましくは1nm以上、30nm以下、或いは1nm以上、20nm以下がより好ましく、最も好ましくは1nm以上、10nm以下である。平均粒子径が1nm以上、50nm以下であると、製造時における無機微粒子の分散性が良好であり、得られるプラスチック光学素子材料の透明性が良く、光線透過率が70%以上となり好ましい。ここで言う平均粒子径は粒子と同体積の球に換算した時の直径を言う。   Since these inorganic fine particles exist in a state dispersed in a transparent resin, the average particle diameter is preferably 1 nm or more and 50 nm or less in order to ensure transparency. More preferably, it is 1 nm or more and 30 nm or less, or 1 nm or more and 20 nm or less, and most preferably 1 nm or more and 10 nm or less. When the average particle diameter is 1 nm or more and 50 nm or less, the dispersibility of the inorganic fine particles at the time of production is good, the resulting plastic optical element material has good transparency, and the light transmittance is preferably 70% or more. The average particle diameter here refers to the diameter when converted to a sphere having the same volume as the particles.

無機微粒子の形状は特に限定されるものではないが、好適には球状の微粒子が用いられる。また、粒子径の分布に関しても特に制限されるものではないが、広範な分布を有するものよりも比較的狭い分布を持つものが好適に用いられる。   The shape of the inorganic fine particles is not particularly limited, but spherical fine particles are preferably used. Further, the particle size distribution is not particularly limited, but those having a relatively narrow distribution than those having a wide distribution are preferably used.

また、本発明の無機微粒子を含むプラスチック光学素子をリフロー処理等の加熱処理を有する製造工程に適用する場合、加熱による素子の変形やクラックの発生を抑制する為には無機微粒子の吸水率が一定範囲内に制御される必要がある。ここで無機微粒子の吸水率とは、得られた無機微粒子を、ドライオーブン中で、85℃、168時間乾燥処理した直後の質量を測定した後(得られた値をAとする。)、次にこの乾燥させた樹脂組成物を、恒温恒湿器中に60℃、相対湿度90%の条件で168時間保存した後の質量を測定し(得られた値をBとする。)、得られた測定結果から、下記の数式により算出した値として定義する。   In addition, when the plastic optical element containing the inorganic fine particles of the present invention is applied to a manufacturing process having a heat treatment such as a reflow process, the water absorption rate of the inorganic fine particles is constant in order to suppress the deformation of the element and the generation of cracks due to heating. Need to be controlled within range. Here, the water absorption rate of the inorganic fine particles is obtained by measuring the mass immediately after drying the obtained inorganic fine particles in a dry oven at 85 ° C. for 168 hours (the obtained value is A). The dried resin composition was stored in a thermo-hygrostat at a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90% for 168 hours to measure the mass (the obtained value is B). It is defined as a value calculated by the following mathematical formula from the measured results.

吸水率(質量%)=((B−A)/A)×100
本発明で用いられる無機微粒子は、吸水率が1.0質量%〜3.0質量%が好ましく、更に好ましくは1.2〜2.0質量%である。吸水率が1.0質量%未満の場合は樹脂成分の吸水に基づく加熱時の応力を緩和できずに素子の変形やクラックが発生し、また3.0質量%を超える場合は素子自体の環境変動に対する光学特性の変動が大きくなる為、光学素子として適さない。
Water absorption (mass%) = ((B−A) / A) × 100
The inorganic fine particles used in the present invention preferably have a water absorption rate of 1.0 to 3.0% by mass, more preferably 1.2 to 2.0% by mass. If the water absorption is less than 1.0% by mass, the stress during heating based on the water absorption of the resin component cannot be relieved, and the element is deformed or cracked. If it exceeds 3.0% by mass, the environment of the element itself Since the variation of the optical characteristics with respect to the variation becomes large, it is not suitable as an optical element.

これら無機微粒子は樹脂組成物中に1種のみでなく、複数種を併用して用いてもよい。   These inorganic fine particles may be used in combination of not only one type but also a plurality of types in the resin composition.

<多官能性化合物>
本発明で用いられる多官能性化合物としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、メルカプト基等の反応性基を2つ以上有する化合物であって、前記脂環式炭化水素系化合物と反応し、樹脂中に架橋構造を形成するものである。
<Polyfunctional compound>
The polyfunctional compound used in the present invention is a compound having two or more reactive groups such as a vinyl group, a (meth) acryloyl group, an epoxy group, an oxetanyl group, a mercapto group, and the alicyclic hydrocarbon. It reacts with a system compound to form a crosslinked structure in the resin.

例えば、多官能(メタ)アクリレートとして(メタ)アクリロイル基を2つ以上有する、ジエチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコーリジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート等が、多官能エポキシ化合物として、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、フタル酸ジグリシジルエステル及びダイマー酸ジグリシジルエステル、トリグリシジルエーテルトリフェニルメタン、テトラグリシジルエーテルテトラフェニルエタン、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、クレゾールノボラックグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、テトラブロムビスフェノールAジグリシジルエーテル等が、多官能オキセタン化合物として、多官能フェノール化合物とオキセタンクロライドの反応生成物、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型、ビフェニル型、カルド型等の2官能オキセタン化合物、トリスフェノールメタン型、トリスクレゾールメタン型等の3官能オキセタン化合物、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、カリックスアレーン型等の多官能オキセタン化合物等が挙げられる。   For example, diethylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane triacrylate having two or more (meth) acryloyl groups as polyfunctional (meth) acrylate Methacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate and the like are polyfunctional epoxy compounds, glycidyl ether type epoxy resins such as bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, diglycidyl phthalate, and Dimer acid diglycidyl ester, triglycidyl ether trif Nylmethane, tetraglycidyl ether tetraphenyl ethane, bisphenol S diglycidyl ether, cresol novolac glycidyl ether, triglycidyl isocyanurate, tetrabromobisphenol A diglycidyl ether, etc., as polyfunctional oxetane compounds, reaction of polyfunctional phenolic compounds with oxetane chloride Products, for example, bifunctional oxetane compounds such as bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type, biphenyl type and cardo type, trifunctional oxetane compounds such as trisphenol methane type and triskresol methane type, phenol novolac type, cresol Examples thereof include polyfunctional oxetane compounds such as novolak type and calixarene type.

これら多官能性化合物は樹脂組成物中に1種のみでなく、複数種を併用して用いてもよい。   These polyfunctional compounds may be used not only in the resin composition but also in combination of two or more.

<安定剤>
本発明の樹脂組成物では、ヒンダードアミン系安定剤、フェノール系安定剤、リン系安定剤、イオウ系安定剤の中から選ばれた1種以上の安定剤を追加して添加してもよい。これら安定剤を適宜選択し、樹脂組成物に添加することで、光や加熱による樹脂劣化に起因する着色や屈折率の変動等の光学特性変動をより高度に抑制することができる。
<Stabilizer>
In the resin composition of the present invention, one or more stabilizers selected from hindered amine stabilizers, phenol stabilizers, phosphorus stabilizers, and sulfur stabilizers may be additionally added. By suitably selecting these stabilizers and adding them to the resin composition, it is possible to more highly suppress optical property fluctuations such as coloring and refractive index fluctuations caused by resin degradation due to light or heating.

好ましいフェノール系安定剤としては、従来公知のものが使用でき、例えば、2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2,4−ジ−t−アミル−6−(1−(3,5−ジ−t−アミル−2−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニルアクリレート等の特開昭63−179953号公報や特開平1−168643号公報に記載されるアクリレート系化合物;オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス(メチレン−3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニルプロピオネート))メタン[即ち、ペンタエリスリメチル−テトラキス(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオネート))]、トリエチレングリコール ビス(3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオネート)等のアルキル置換フェノール系化合物;6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−2,4−ビスオクチルチオ−1,3,5−トリアジン、4−ビスオクチルチオ−1,3,5−トリアジン、2−オクチルチオ−4,6−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−オキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン等のトリアジン基含有フェノール系化合物;等が挙げられる。   As a preferable phenol-based stabilizer, conventionally known ones can be used, for example, 2-t-butyl-6- (3-t-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 2 , 4-di-t-amyl-6- (1- (3,5-di-t-amyl-2-hydroxyphenyl) ethyl) phenyl acrylate and the like, and JP-A Nos. 63-179953 and 1-168643. Acrylate compounds described in Japanese Patent Publication No. 1; octadecyl-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5 Di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tetrakis (methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenylpropionate)) methane [ie pentaerythrmethyl- Tetrakis (3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylpropionate))], triethylene glycol bis (3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionate) Alkyl-substituted phenolic compounds such as 6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino) -2,4-bisoctylthio-1,3,5-triazine, 4-bisoctylthio-1, 3,5-triazine, 2-octylthio-4,6-bis (3,5-di-t-butyl-4-oxyanilino) -1,3,5-triazine, etc. And triazine group-containing phenolic compounds.

また、好ましいヒンダードアミン系安定剤としては、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−オクトキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−ベンジルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(N−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−ブチルマロネート、ビス(1−アクロイル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)2,2−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−ブチルマロネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルデカンジオエート、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルメタクリレート)、4−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ]−1−[2−(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ)エチル]−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、2−メチル−2−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アミノ−N−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)プロピオンアミド等が挙げられる。   Preferred hindered amine stabilizers include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) succinate, bis ( 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (N-octoxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (N-benzyloxy-2, 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (N-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6) -Pentamethyl-4-piperidyl) 2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-butylmalonate, bis (1-acryloyl-2,2,6 6-tetramethyl-4-piperidyl) 2,2-bis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-butylmalonate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl) -4-piperidyldecanedioate, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidylmethacrylate), 4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy]- 1- [2- (3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy) ethyl] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 2-methyl-2- (2 , 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) amino-N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) propionamide and the like.

また、好ましいリン系安定剤としては、一般の樹脂工業で通常使用されるものであれば格別な限定はなく、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド等のモノホスファイト系化合物;4,4′−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト)、4,4′−イソプロピリデンビス(フェニル−ジ−アルキル(C12〜C15)ホスファイト)等のジホスファイト系化合物等が挙げられる。これらの中でも、モノホスファイト系化合物が好ましく、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト等が特に好ましい。   Further, the preferable phosphorus stabilizer is not particularly limited as long as it is usually used in the general resin industry. For example, triphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris (nonyl) Phenyl) phosphite, tris (dinonylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, 10- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -9 Monophosphite compounds such as 1,4-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide; 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenyl-di-tridecyl phosphite ), 4,4'-isopropylidenebis (phenyl-di-alkyl (C12-C15) phosphine) Ito) diphosphite compounds such as and the like. Among these, monophosphite compounds are preferable, and tris (nonylphenyl) phosphite, tris (dinonylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite and the like are particularly preferable.

また、好ましいイオウ系安定剤としては、例えば、ジラウリル3,3−チオジプロピオネート、ジミリスチル3,3′−チオジプロピオネート、ジステアリル3,3−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル3,3−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス(β−ラウリルチオ−プロピオネート)、3,9−ビス(2−ドデシルチオエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン等が挙げられる。   Further, preferable sulfur stabilizers include, for example, dilauryl 3,3-thiodipropionate, dimyristyl 3,3′-thiodipropionate, distearyl 3,3-thiodipropionate, lauryl stearyl 3,3- Thiodipropionate, pentaerythritol-tetrakis (β-laurylthio-propionate), 3,9-bis (2-dodecylthioethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, etc. It is done.

これらの安定剤の配合量は本発明の目的を損なわれない範囲で適宜選択されるが、樹脂組成物100質量部に対して通常0.01〜2質量部、好ましくは0.01〜1質量部である。   Although the compounding quantity of these stabilizers is suitably selected in the range which does not impair the objective of this invention, it is 0.01-2 mass parts normally with respect to 100 mass parts of resin compositions, Preferably it is 0.01-1 mass. Part.

<プラスチック光学素子>
本発明で用いられる樹脂組成物は紫外線及び電子線照射、或いは加熱処理のいずれかの操作によって硬化し得るもので、前記脂環式炭化水素系単量体、無機微粒子を混合させ、更に必要に応じて多官能性化合物、安定剤等の添加剤を加えた樹脂組成物を調製後、硬化させることによって得られる。透明樹脂の添加量は、樹脂組成物100質量部に対して10〜90質量部とすることが好ましく、20〜70質量部とすることが更に好ましい。無機微粒子の添加量は樹脂組成物100質量部に対して5〜70質量部とすることが好ましく、10〜50質量部とすることが更に好ましい。多官能性化合物の添加量は、樹脂組成物100質量部に対して5〜80質量部とすることが好ましく、10〜60質量部とすることが更に好ましい。
<Plastic optical element>
The resin composition used in the present invention can be cured by either ultraviolet or electron beam irradiation or heat treatment. The alicyclic hydrocarbon-based monomer and inorganic fine particles are mixed and further required. Accordingly, it is obtained by preparing a resin composition to which additives such as a polyfunctional compound and a stabilizer are added and then curing the resin composition. The addition amount of the transparent resin is preferably 10 to 90 parts by mass, more preferably 20 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition. The addition amount of the inorganic fine particles is preferably 5 to 70 parts by mass, more preferably 10 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition. The addition amount of the polyfunctional compound is preferably 5 to 80 parts by mass and more preferably 10 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.

硬化前の樹脂組成物を調製するにあたっては、適宜の手法を採用することができるが、例えば、調製される樹脂組成物の性状が液体状である場合には各成分を所定量配合した後に溶解混合し、またはミキサー、ブレンダー等で均一に混合した後にニーダーやロール等で加熱混練して、液体状の硬化性樹脂組成物を得ることができ、また調製される樹脂組成物の性状が固体状である場合は各成分を所定量配合した後に溶解混合し、またはミキサー、ブレンダー等で均一に混合した後にニーダーやロール等で加熱混練したものを、冷却固化した後粉砕して固体状の樹脂組成物を得ることができる。   In preparing the resin composition before curing, an appropriate method can be employed. For example, when the prepared resin composition is in a liquid state, the components are dissolved after blending a predetermined amount of each component. Mix or mix uniformly with a mixer, blender, etc., and then knead with a kneader or roll to obtain a liquid curable resin composition, and the prepared resin composition is solid. In the case where the components are mixed in a predetermined amount, the components are dissolved and mixed, or mixed uniformly with a mixer, blender, etc. and then heat-kneaded with a kneader, roll, etc., cooled and solidified, and then pulverized to obtain a solid resin composition You can get things.

前記樹脂組成物を硬化させる方法として、樹脂組成物が紫外線及び電子線硬化性の場合は、透光性の所定形状の金型等に必要に応じて光重合開始剤を添加した樹脂組成物を充填、或いは基板上に塗布した後、紫外線及び電子線を照射して硬化させればよい。   As a method of curing the resin composition, when the resin composition is ultraviolet and electron beam curable, a resin composition in which a photopolymerization initiator is added to a light-transmitting mold having a predetermined shape as necessary. After filling or coating on the substrate, it may be cured by irradiation with ultraviolet rays and electron beams.

ここで用いられる光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等の光ラジカル開始剤等が挙げられる。   Examples of the photopolymerization initiator used here include acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, tri Phenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, Michler's ketone, benzoinpropyl ether, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 1- (4- Photoradical initiation such as isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Etc. The.

一方、樹脂組成物が熱硬化性の場合は、必要に応じて熱ラジカル発生剤等の熱重合開始剤を添加した樹脂組成物を調製後、圧縮成形、トランスファー成形、射出成形等により熱硬化成形することができる。ここで用いられる熱重合開始剤としては、例えば、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル、2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2′−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ化合物、ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、t−ブチルペルオキシピバレート、1,1′−ビス(t−ブチルペルオキシ)シクロヘキサン等の有機過酸化物等が挙げられる。   On the other hand, if the resin composition is thermosetting, after preparing a resin composition to which a thermal polymerization initiator such as a thermal radical generator is added, if necessary, thermosetting molding by compression molding, transfer molding, injection molding, etc. can do. Examples of the thermal polymerization initiator used here include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (4- Azo compounds such as methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), organic peroxides such as benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, t-butylperoxypivalate, 1,1′-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, etc. It is done.

本発明のプラスチック光学素子をリフロー処理等の加熱処理を有する製造工程に適用する場合、加熱による変形やクラックの発生を抑制する為に、光学素子の吸水率と寸法変化率が一定範囲内に制御される必要がある。ここで光学素子の吸水率とは、未硬化の樹脂組成物を硬化して得られた素子を、ドライオーブン中で、85℃、168時間乾燥処理した直後の質量を測定した後(得られた値をAとする。)、次にこの乾燥させた樹脂組成物を、恒温恒湿器中に60℃、相対湿度90%の条件で168時間保存した後の質量を測定し(得られた値をBとする。)、得られた質量測定結果から、下記の数式により算出した値として定義する。   When the plastic optical element of the present invention is applied to a manufacturing process having a heat treatment such as a reflow process, the water absorption rate and the dimensional change rate of the optical element are controlled within a certain range in order to suppress deformation and cracking due to heating. Need to be done. Here, the water absorption rate of the optical element means that the element obtained by curing an uncured resin composition was measured in a dry oven immediately after drying at 85 ° C. for 168 hours (obtained). The value is A.) Next, the dried resin composition was measured for mass after being stored in a constant temperature and humidity chamber at 60 ° C. and a relative humidity of 90% for 168 hours (obtained value). Is defined as a value calculated from the obtained mass measurement result by the following mathematical formula.

吸水率(質量%)=((B−A)/A)×100
また、光学素子の寸法変化率とは、未硬化の樹脂組成物を30mm×30mm×3mm厚さの寸法の金型内で硬化して素子を得た後、この素子をドライオーブン中で、85℃、168時間乾燥処理した直後の素子の厚さをマイクロメータを用いて測定した後(得られた値をAとする。)、次にこの乾燥させた素子を、恒温恒湿器中に60℃、相対湿度90%の条件で168時間保存した後の厚さを再度測定し(得られた値をBとする。)、得られた測定結果から、下記の数式により算出した値として定義する。
Water absorption (mass%) = ((B−A) / A) × 100
Further, the dimensional change rate of the optical element refers to an element obtained by curing an uncured resin composition in a mold having a size of 30 mm × 30 mm × 3 mm thickness, After measuring the thickness of the element immediately after drying at 168 ° C. for 168 hours using a micrometer (the obtained value is A), the dried element is then placed in a thermo-hygrostat at 60 ° C. The thickness after storage for 168 hours under the conditions of ° C. and relative humidity of 90% is measured again (the obtained value is B), and is defined as the value calculated by the following formula from the obtained measurement result. .

寸法変化率(%)=((B−A)/A)×100
本発明の光学素子の吸水率は1.0〜2.0質量%以下が好ましく、更に好ましくは1.2〜1.8質量%である。また、素子の吸水による寸法変化率は0.1〜0.5%が好ましく、更に好ましくは0.2〜0.4%である。素子の吸水率が1.0質量%より小さい場合、或いは吸水による素子の寸法変化率が0.1%未満の場合は素子の吸湿による水分の気化膨張に基づく応力緩和が不十分となり、変形やクラックの発生が抑制できない。一方、素子の吸水率が2.0質量%を超える場合、或いは吸水による素子の寸法変化率が0.5%を超える場合は素子自体の環境変動に対する光学特性の変動が大きくなる為、光学素子として適さない。
Dimensional change rate (%) = ((B−A) / A) × 100
The water absorption of the optical element of the present invention is preferably 1.0 to 2.0% by mass, more preferably 1.2 to 1.8% by mass. The dimensional change rate due to water absorption of the element is preferably from 0.1 to 0.5%, more preferably from 0.2 to 0.4%. When the water absorption rate of the element is smaller than 1.0% by mass, or when the dimensional change rate of the element due to water absorption is less than 0.1%, the stress relaxation based on the vaporization and expansion of moisture due to moisture absorption of the element becomes insufficient, The generation of cracks cannot be suppressed. On the other hand, when the water absorption rate of the element exceeds 2.0% by mass, or when the dimensional change rate of the element due to water absorption exceeds 0.5%, the variation of the optical characteristics with respect to the environmental variation of the element itself increases. Not suitable as.

<撮像装置>
本実施形態に係る撮像装置100は、図1に示す通り、携帯電話などの移動情報端末機器の電子回路を構成する電子部品が実装される回路基板1を有しており、回路基板1にはカメラモジュール2が実装されている。カメラモジュール2はCCDイメージセンサとレンズを組み合わせた小型の基板実装用カメラであり、電子部品が実装された回路基板1をカバーケース3内に組み込んだ完成状態では、カバーケース3に設けられた撮像用開口4を介して撮像対象の画像取込ができるようになっている。尚、図1では、カメラモジュール2以外の電子部品の図示を省略している。
<Imaging device>
As shown in FIG. 1, the imaging apparatus 100 according to the present embodiment includes a circuit board 1 on which electronic components constituting an electronic circuit of a mobile information terminal device such as a mobile phone are mounted. A camera module 2 is mounted. The camera module 2 is a small board mounting camera in which a CCD image sensor and a lens are combined. In a completed state in which the circuit board 1 on which electronic components are mounted is incorporated in the cover case 3, the imaging provided in the cover case 3 is performed. The image to be imaged can be captured through the opening 4 for use. In FIG. 1, illustration of electronic components other than the camera module 2 is omitted.

図2に示す通り、カメラモジュール2は基板モジュール5(図3(a)参照)とレンズモジュール6(図3(c)参照)より構成され、基板モジュール5を回路基板1に実装することにより、カメラモジュール2全体が回路基板1に実装される。基板モジュール5は、撮像用の受光素子であるCCDイメージセンサ11をサブ基板10上に実装した受光モジュールであり、CCDイメージセンサ11上面は封止樹脂12で封止されている。   As shown in FIG. 2, the camera module 2 is composed of a board module 5 (see FIG. 3A) and a lens module 6 (see FIG. 3C). By mounting the board module 5 on the circuit board 1, The entire camera module 2 is mounted on the circuit board 1. The substrate module 5 is a light receiving module in which a CCD image sensor 11, which is a light receiving element for imaging, is mounted on a sub-substrate 10. The upper surface of the CCD image sensor 11 is sealed with a sealing resin 12.

CCDイメージセンサ11の上面には、光電変換を行う画素が多数格子状に配列された受光部(図示略)が形成されており、この受光部に光学画像を結像させることにより各画素に蓄電された電荷を画像信号として出力する。サブ基板10は鉛フリーの半田18によって回路基板1に実装され、これによりサブ基板10が回路基板1に固定されるとともに、サブ基板10の接続用電極(図示略)と回路基板1上面の回路電極(図示略)とが電気的に導通している。   On the upper surface of the CCD image sensor 11, a light receiving portion (not shown) in which a large number of pixels that perform photoelectric conversion are arranged in a grid pattern is formed, and an optical image is formed on the light receiving portion to store each pixel. The charged charges are output as an image signal. The sub board 10 is mounted on the circuit board 1 by lead-free solder 18, whereby the sub board 10 is fixed to the circuit board 1, and connection electrodes (not shown) of the sub board 10 and circuits on the upper surface of the circuit board 1 are provided. An electrode (not shown) is electrically connected.

レンズモジュール6はレンズ16を支持するレンズケース15を備えている。レンズケース15の上部にはレンズ16が保持されており、レンズケース15の上部はレンズ16を保持するホルダ部15aとなっている。レンズケース15の下部はサブ基板10に設けられた装着孔10a内に挿通されてレンズモジュール6をサブ基板10に固定する装着部15bとなっている。この固定には、装着部15bを装着孔10aに圧入して固定する方法や、接着材によって接着する方法などが用いられる。   The lens module 6 includes a lens case 15 that supports the lens 16. A lens 16 is held at the upper part of the lens case 15, and the upper part of the lens case 15 is a holder portion 15 a for holding the lens 16. A lower portion of the lens case 15 is inserted into a mounting hole 10 a provided in the sub-board 10 and serves as a mounting portion 15 b that fixes the lens module 6 to the sub-board 10. For this fixing, a method of pressing and fixing the mounting portion 15b into the mounting hole 10a, a method of bonding with an adhesive, or the like is used.

レンズ16は、被写体からの反射光をCCDイメージセンサ11の受光部上に結像するためのものである。   The lens 16 is for imaging the reflected light from the subject on the light receiving portion of the CCD image sensor 11.

<撮像装置、及び電子機器の製造方法>
図3を参照しながら、本実施形態に係る撮像装置100の製造方法について説明する。
<Imaging apparatus and method for manufacturing electronic device>
A method for manufacturing the imaging device 100 according to the present embodiment will be described with reference to FIG.

始めに、基板モジュール5とレンズモジュール6とを組み立て、図3(a)に示す通り、レンズケース15内に予め装着されたカラー部材17の下端部がサブ基板10の上面に当接するまでレンズケース15の装着部15bをサブ基板10の装着孔10aに挿通・固定し、カメラモジュール2を形成する。   First, the substrate module 5 and the lens module 6 are assembled. As shown in FIG. 3A, the lens case until the lower end portion of the collar member 17 mounted in advance in the lens case 15 comes into contact with the upper surface of the sub-substrate 10. The 15 mounting portions 15b are inserted and fixed in the mounting holes 10a of the sub-board 10 to form the camera module 2.

その後、図3(b)に示す通り、予め半田18が塗布(ポッティング)された回路基板1の所定の実装位置にカメラモジュール2やその他の電子部品を載置する。その後、図3(c)に示す通り、カメラモジュール2やその他の電子部品を載置した回路基板1をベルトコンベア等でリフロー炉(図示略)に移送し、当該回路基板1をリフロー処理に供して260℃程度の温度で加熱する。その結果、半田18が溶融してカメラモジュール2がその他の電子部品と一緒に回路基板1に実装される。   Thereafter, as shown in FIG. 3B, the camera module 2 and other electronic components are placed at a predetermined mounting position of the circuit board 1 to which the solder 18 has been applied (potted) in advance. Thereafter, as shown in FIG. 3C, the circuit board 1 on which the camera module 2 and other electronic components are placed is transferred to a reflow furnace (not shown) by a belt conveyor or the like, and the circuit board 1 is subjected to reflow processing. And heat at a temperature of about 260 ° C. As a result, the solder 18 is melted and the camera module 2 is mounted on the circuit board 1 together with other electronic components.

次に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to these.

(製造例1)
アルミナ(日本アエロジル株式会社製アルミナC、一次粒子径13nm)7.2質量部に対して、純水50質量部、特級エタノール(関東化学製)390質量部、28%アンモニア(関東化学製)22質量部を加えた溶液を調製し、この溶液に対してテトラエトキシシラン(信越化学製LS−2430)0.72質量部を添加した後、溶液をウルトラアペックスミルUAM−015(寿工業株式会社製)で、0.05mmビーズを用いて、周速6m/secで1時間分散した。その後、更に、分散液に対してテトラエトキシシラン(信越化学製LS−2430)0.72質量部を添加して1時間攪拌した。
(Production Example 1)
50 parts by mass of pure water, 390 parts by mass of special grade ethanol (manufactured by Kanto Chemical), 28% ammonia (manufactured by Kanto Chemical) 22 with respect to 7.2 parts by mass of alumina (Alumina C, Nippon Aerosil Co., Ltd., primary particle size 13 nm) A solution to which parts by mass were added was prepared, 0.72 parts by mass of tetraethoxysilane (LS-2430, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added to the solution, and then the solution was ultra-apex mill UAM-015 (manufactured by Kotobuki Industries Co., Ltd.). ) And dispersed for 1 hour at a peripheral speed of 6 m / sec using 0.05 mm beads. Thereafter, 0.72 parts by mass of tetraethoxysilane (LS-2430 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was further added to the dispersion, followed by stirring for 1 hour.

次に、テトラエトキシシラン(信越化学製LS−2430)18.2質量部をエタノール40質量部と純水5質量部との混合液で希釈し、その希釈液を上記分散液に10分間かけて滴下した後、溶液を室温で20時間攪拌して、アルミナの表面にシリカ層を形成した。   Next, 18.2 parts by mass of tetraethoxysilane (LS-2430 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is diluted with a mixed solution of 40 parts by mass of ethanol and 5 parts by mass of pure water, and the diluted solution is added to the above dispersion for 10 minutes. After the dropwise addition, the solution was stirred at room temperature for 20 hours to form a silica layer on the alumina surface.

次に、遠心分離機を用いて上記溶液中から無機微粒子を分離し、80℃で24時間減圧乾燥させた。乾燥後の無機微粒子をナスフラスコに入れ、1.3kPa以下まで減圧し、190℃で1時間加熱した後、ナスフラスコ内をアルゴンで置換し、ヘキサメチルジシラザン(信越化学工業社製HMDS−3)を無機微粒子に対して300質量部加えて300℃でよく攪拌し、無機微粒子Aを得た。この無機微粒子Aについて吸水率を測定した結果、0.4質量%であった。吸水率の測定は、前記方法に従い、無機微粒子をドライオーブン;DS400(ヤマト科学社製)中、85℃で168時間保存した直後の質量を測定し、次に恒温恒湿器;IH400(ヤマト科学社製)中、60℃、相対湿度90%の条件で168時間保存した後の質量を測定して算出した。   Next, inorganic fine particles were separated from the solution using a centrifuge and dried under reduced pressure at 80 ° C. for 24 hours. The dried inorganic fine particles were put into an eggplant flask, depressurized to 1.3 kPa or less, and heated at 190 ° C. for 1 hour, and then the inside of the eggplant flask was replaced with argon. ) Was added to the inorganic fine particles in an amount of 300 parts by mass, and stirred well at 300 ° C. to obtain inorganic fine particles A. The water absorption rate of the inorganic fine particles A was measured and found to be 0.4% by mass. The water absorption is measured in accordance with the above method by measuring the mass immediately after storage of inorganic fine particles in a dry oven; DS400 (manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) at 85 ° C. for 168 hours, followed by a constant temperature and humidity chamber; IH400 (Yamato Scientific) The mass after storage for 168 hours at 60 ° C. and 90% relative humidity was measured and calculated.

(製造例2)
製造例1において、ヘキサメチルジシラザンを無機微粒子に対して200質量部加えること以外は同様の操作にて、無機微粒子Bを得た。この無機微粒子Bについて吸水率を測定した結果、0.6質量%であった。
(Production Example 2)
In Production Example 1, inorganic fine particles B were obtained in the same manner except that 200 parts by mass of hexamethyldisilazane was added to the inorganic fine particles. As a result of measuring the water absorption of the inorganic fine particles B, it was 0.6% by mass.

(製造例3)
製造例1において、ヘキサメチルジシラザンを無機微粒子に対して150質量部加えること以外は同様の操作にて、無機微粒子Cを得た。この無機微粒子Cについて吸水率を測定した結果、1.5質量%であった。
(製造例4)
製造例1において、ヘキサメチルジシラザンを無機微粒子に対して100質量部加えること以外は同様の操作にて、無機微粒子Dを得た。この無機微粒子Dについて吸水率を測定した結果、2.8質量%であった。
(製造例5)
製造例1において、ヘキサメチルジシラザンを無機微粒子に対して70質量部加えること以外は同様の操作にて、無機微粒子Eを得た。この無機微粒子Eについて吸水率を測定した結果、3.2質量%であった。
(Production Example 3)
In Production Example 1, inorganic fine particles C were obtained in the same manner except that 150 parts by mass of hexamethyldisilazane was added to the inorganic fine particles. As a result of measuring the water absorption of the inorganic fine particles C, it was 1.5% by mass.
(Production Example 4)
In Production Example 1, inorganic fine particles D were obtained in the same manner except that 100 parts by mass of hexamethyldisilazane was added to the inorganic fine particles. As a result of measuring the water absorption of the inorganic fine particles D, it was 2.8% by mass.
(Production Example 5)
In Production Example 1, inorganic fine particles E were obtained by the same operation except that 70 parts by mass of hexamethyldisilazane was added to the inorganic fine particles. As a result of measuring the water absorption of the inorganic fine particles E, it was 3.2% by mass.

(製造例6)
特開2006−36732号公報に開示された方法により、1−アダマンタノールとメタクリル酸を反応させてアダマンチルメタクリレートを得た。
(Production Example 6)
By the method disclosed in JP-A-2006-36732, 1-adamantanol and methacrylic acid were reacted to obtain adamantyl methacrylate.

(製造例7)
表1に示す配合組成に従って、各原料を混合し、熱硬化性の透明樹脂組成物A〜Dを得た。得られた樹脂組成物をそれぞれ30mm×30mm×3mmの寸法の金型内に充填した後、120℃、10Torrの条件で加熱プレスすることで板状の透明樹脂成形体を得た。得られた樹脂成形体について吸水率を測定した結果を表1に併せて示した。吸水率の測定は前記方法に従い、各透明樹脂成形体をドライオーブン;DS400(ヤマト科学社製)中、85℃で168時間保存した直後の質量測定し、次に恒温恒湿器;IH400(ヤマト科学社製)中、60℃、相対湿度90%の条件で168時間保存した後の質量を測定して算出した。
(Production Example 7)
According to the composition shown in Table 1, the raw materials were mixed to obtain thermosetting transparent resin compositions A to D. The obtained resin composition was filled in a mold having dimensions of 30 mm × 30 mm × 3 mm, respectively, and then heated and pressed under the conditions of 120 ° C. and 10 Torr to obtain a plate-like transparent resin molded body. The results of measuring the water absorption rate of the obtained resin molded body are shown together in Table 1. According to the above method, the water absorption is measured by measuring each mass of the transparent resin molding in a dry oven; DS400 (manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) immediately after being stored at 85 ° C. for 168 hours, and then a constant temperature and humidity chamber; IH400 (Yamato) (Manufactured by Kagakusha), the mass after storage for 168 hours at 60 ° C. and 90% relative humidity was measured and calculated.

Figure 2009271286
Figure 2009271286

〈実施例1〜5、比較例1〜7のプラスチック光学素子の作製〉
表2に示す配合組成に従って、各原料を混合後、混練機を用いて混練することで均一な熱硬化性樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物をそれぞれ30mm×30mm×3mmの寸法の金型内に充填した後、120℃、10Torrの条件で加熱プレスすることで板状のプラスチック光学素子を得た。
<Production of Plastic Optical Elements of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 7>
According to the composition shown in Table 2, after mixing each raw material, it knead | mixed using the kneader and obtained the uniform thermosetting resin composition. Each of the obtained resin compositions was filled in a mold having dimensions of 30 mm × 30 mm × 3 mm, and then heated and pressed at 120 ° C. and 10 Torr to obtain a plate-like plastic optical element.

Figure 2009271286
Figure 2009271286

尚、表1、表2中、無機微粒子以外の各成分の詳細は以下の通りである。   In Tables 1 and 2, details of each component other than the inorganic fine particles are as follows.

脂環式炭化水素系化合物A:トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート
脂環式炭化水素系化合物B:アダマンチルメタクリレート
脂環式炭化水素系化合物C:イソボロニルメタクリレート
多官能性化合物A:ペンタエリスリトールテトラアクリレート
多官能性化合物B:トリメチロールプロパントリメタクリレート
安定剤A:テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)ブタンテトラカルボキシレート
安定剤B:2,2′−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)−2−エチルヘキシルホスファイト
重合開始剤:アゾビスイソブチロニトリル
次に、実施例1〜5、及び比較例1〜7にて得られたプラスチック製光学素子について、以下の方法に基づき物性評価を実施し、結果を表2に示した。
Alicyclic hydrocarbon compound A: Tricyclodecane dimethanol dimethacrylate Alicyclic hydrocarbon compound B: Adamantyl methacrylate Alicyclic hydrocarbon compound C: Isoboronyl methacrylate Polyfunctional compound A: Pentaerythritol tetraacrylate Multifunctional compound B: Trimethylolpropane trimethacrylate Stabilizer A: Tetrakis (1,2,2,6,6-pentamethylpiperidyl) butanetetracarboxylate Stabilizer B: 2,2'-methylenebis (4,6- Di-t-butylphenyl) -2-ethylhexyl phosphite Polymerization initiator: Azobisisobutyronitrile Next, the plastic optical elements obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 7 are described below. The physical properties were evaluated based on the method and the results are shown in Table 2.

〔プラスチック光学素子の評価〕
(吸水率の測定)
各試料について、前記方法に従い、ドライオーブン;DS400(ヤマト科学社製)中、85℃で168時間保存した直後の素子の質量を測定し、次に恒温恒湿器;IH400(ヤマト科学社製)中、60℃、湿度90%の環境下に168時間保存した後の質量を測定して、素子の吸水率を算出した。
[Evaluation of plastic optical elements]
(Measurement of water absorption)
For each sample, according to the method described above, the mass of the element immediately after being stored at 85 ° C. for 168 hours in a dry oven; DS400 (manufactured by Yamato Kagaku) is measured, and then a constant temperature and humidity chamber; IH400 (manufactured by Yamato Kagaku) The water absorption rate of the device was calculated by measuring the mass after storage for 168 hours in an environment of 60 ° C. and 90% humidity.

(寸法変化率の測定)
各試料について、前記方法に従い、ドライオーブン;DS400(ヤマト科学社製)中、85℃で168時間保存した直後の素子の厚さをマイクロメータ;ABSOLUTE 156−101(ミツトヨ社製)を用いて測定し、次に恒温恒湿器;IH400(ヤマト科学社製)中、60℃、相対湿度90%の環境下に168時間保存した後の厚さを測定して、素子の寸法変化率を算出した。
(Measurement of dimensional change rate)
For each sample, according to the above method, the thickness of the element immediately after being stored at 85 ° C. for 168 hours in a dry oven; DS400 (manufactured by Yamato Scientific Co., Ltd.) was measured using a micrometer; ABSOLUTE 156-101 (manufactured by Mitutoyo Corporation). Next, in a constant temperature and humidity chamber; IH400 (manufactured by Yamato Kagaku Co., Ltd.), the thickness after storage for 168 hours in an environment of 60 ° C. and 90% relative humidity was measured, and the dimensional change rate of the element was calculated. .

(高温耐久性の評価)
上記プラスチック光学素子の高温耐久性の評価は、各成型体をリフロー処理に供するとともに、リフロー処理前後の450nmでの光線透過率、及び面形状変化を測定することによって行った。リフロー処理は、高温観察炉;SMT Scope SA−5000(SANYO SEIKO社製)を用い、条件は図4(上部実線部)に示す通りとした。具体的には図4において、「平均ランプアップ速度(TsmaxからTpまでの速度)」を最大3℃/秒とし、「プレヒート最小温度(Tsmin)」を150℃とし、「プレヒート最大温度(Tsmax)」を200℃とし、「プレヒート時間(tsminからtsmaxまでの時間)」を60〜180秒とし、「維持温度(TL)」を217℃とし、「維持時間(tL)」を60〜150秒とし、「ピーク温度(Tp)」を260℃とし、「ピーク時間(tp)」を20〜40秒とし、「ランプダウン速度」を最大6℃/秒とし、「25℃からピーク温度までの時間」を最大8分とした。
(Evaluation of high temperature durability)
Evaluation of the high temperature durability of the plastic optical element was performed by subjecting each molded body to reflow treatment, and measuring the light transmittance at 450 nm before and after the reflow treatment, and the change in surface shape. The reflow treatment was performed using a high-temperature observation furnace; SMT Scope SA-5000 (manufactured by SANYO SEIKO), and the conditions were as shown in FIG. 4 (upper solid line portion). Specifically, in FIG. 4, the “average ramp-up speed (speed from Tsmax to Tp)” is set to 3 ° C./s maximum, the “preheat minimum temperature (Tsmin)” is set to 150 ° C., and the “preheat maximum temperature (Tsmax)” ”Is 200 ° C.,“ Preheat time (time from tsmin to tsmax) ”is 60 to 180 seconds,“ Maintenance temperature (TL) ”is 217 ° C., and“ Maintenance time (tL) ”is 60 to 150 seconds. , “Peak temperature (Tp)” is set to 260 ° C., “Peak time (tp)” is set to 20 to 40 seconds, “Ramp down rate” is set to 6 ° C./second, and “Time from 25 ° C. to peak temperature” The maximum was 8 minutes.

光線透過率は、ASTM D1003に準拠した方法で、TURBIDITY METER T−2600DA(東京電色社製)を用いて3mm厚での透過率を測定した。面形状変化は、3次元測定機(UA3P、松下電器産業製)によって測定した。評価は、リフロー処理前後の素子について、JISB0601に規定される方法で、各素子の10箇所について粗さ曲線の平均線の方向に2mmの基準長さを抜き取り、この抜き取り部分の平均線から最も高い山までの高さ;Ypと最も低い谷;Yvとの和;Ryの値を測定してその平均値を求め、それらのリフロー処理前後の変化量を求めて面形状変化とし、評価を行った。結果を表2に示す。   The light transmittance was measured in accordance with ASTM D1003, and the transmittance at a thickness of 3 mm was measured using TURBIDITY METER T-2600DA (manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd.). The surface shape change was measured with a three-dimensional measuring machine (UA3P, manufactured by Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.). Evaluation is performed on the elements before and after the reflow treatment by a method defined in JISB0601, and a reference length of 2 mm is extracted in the direction of the average line of the roughness curve at 10 points of each element, and is highest from the average line of the extracted portion. Height to mountain; Yp and lowest valley; Sum of Yv; Ry value was measured to determine its average value, and the amount of change before and after the reflow treatment was determined as the surface shape change, and evaluation was performed. . The results are shown in Table 2.

尚、表中の標記は以下の基準に従っている。   In addition, the notation in the table follows the following criteria.

◎:形状差(面形状変化)が200nm未満である。   A: Shape difference (surface shape change) is less than 200 nm.

○:形状差(面形状変化)が200以上、500nm未満である。   A: The shape difference (surface shape change) is 200 or more and less than 500 nm.

×:形状差(面形状変化)が500nm以上である。   X: Shape difference (surface shape change) is 500 nm or more.

表2によれば、本発明に係る樹脂組成物を用いて成形された成形物は、透明性を確保した上でリフロー処理に耐えうる高温耐久性を有することがわかる。   According to Table 2, it turns out that the molded object shape | molded using the resin composition which concerns on this invention has high temperature durability which can endure reflow processing, while ensuring transparency.

本発明の好ましい実施形態で使用される撮像装置の概略斜視図である。It is a schematic perspective view of the imaging device used by preferable embodiment of this invention. 本発明の好ましい実施形態で使用される撮像装置の一部を拡大した概略的な断面図である。1 is an enlarged schematic cross-sectional view of a part of an imaging apparatus used in a preferred embodiment of the present invention. 本発明の好ましい実施形態における撮像装置の製造方法を概略的に説明するための図面である。It is drawing for demonstrating schematically the manufacturing method of the imaging device in preferable embodiment of this invention. 本発明の好ましい実施例におけるリフロー条件(リフロープロファイル)の概略を示す図面である。It is drawing which shows the outline of the reflow conditions (reflow profile) in the preferable Example of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

100 撮像装置
1 回路基板
2 カメラモジュール
3 カバーケース
4 撮像用開口
5 基板モジュール
6 レンズモジュール
10 サブ基板
10a 装着孔
11 CCDイメージセンサ
12 封止樹脂
15 レンズケース
15a ホルダ部
15b 装着部
16 レンズ
17 カラー部材
18 半田
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Imaging device 1 Circuit board 2 Camera module 3 Cover case 4 Imaging opening 5 Board | substrate module 6 Lens module 10 Sub board | substrate 10a Mounting hole 11 CCD image sensor 12 Sealing resin 15 Lens case 15a Holder part 15b Mounting part 16 Lens 17 Color member 18 Solder

Claims (6)

脂環式炭化水素骨格を有し吸水率が0.5質量%以下である樹脂組成物を含有し、吸水率が1.0〜2.0質量%、吸水による寸法変化率が0.1〜0.5%であることを特徴とするプラスチック光学素子。 It contains a resin composition having an alicyclic hydrocarbon skeleton and a water absorption of 0.5% by mass or less, a water absorption of 1.0 to 2.0% by mass, and a dimensional change rate of 0.1 to 0.1% by water absorption. A plastic optical element characterized by being 0.5%. 前記樹脂組成物において、吸水率が1.0〜3.0質量%の無機微粒子を含むことを特徴とする請求項1に記載のプラスチック光学素子。 The plastic optical element according to claim 1, wherein the resin composition contains inorganic fine particles having a water absorption rate of 1.0 to 3.0 mass%. 前記無機微粒子が、半導体結晶組成物、無機酸化物、または半導体結晶組成物と無機酸化物の混合物であることを特徴とする請求項2に記載のプラスチック光学素子。 3. The plastic optical element according to claim 2, wherein the inorganic fine particles are a semiconductor crystal composition, an inorganic oxide, or a mixture of a semiconductor crystal composition and an inorganic oxide. 前記樹脂組成物が、下記一般式(1)〜(3)で表される脂環式炭化水素系化合物から選ばれる一種以上の重合性単量体の組成物を硬化させて得られることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のプラスチック光学素子。
Figure 2009271286
(上記一般式(1)において、Xは−CH−O−CO−CHR=CHで表される基であり、Rは水素原子、または炭素数1から10のアルキル基を表す。)
Figure 2009271286
(上記一般式(2)中、Yは−O−CO−CHR=CH、または−CO−R−CHR=CH、または−O−R−CHR=CHで表される基であり、Rは水素原子、またはメチル基を表し、Rは単結合、或いは炭素数1〜10の置換、もしくは無置換のアルキレン基を表し、R、Rはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1から10までの炭化水素基を表し、mは1〜3の整数を表す。)
Figure 2009271286
(上記一般式(3)中、Zは−O−CO−CHR=CH、または−CHR=CHで表される基であり、Aは単結合、または炭素−炭素二重結合を表し、Rは水素原子、またはメチル基を表し、R〜Rはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1から10までの炭化水素基を表す。)
The resin composition is obtained by curing a composition of one or more polymerizable monomers selected from alicyclic hydrocarbon compounds represented by the following general formulas (1) to (3). The plastic optical element according to any one of claims 1 to 3.
Figure 2009271286
(In the general formula (1), X is a group represented by —CH 2 —O—CO—CHR 1 ═CH 2 , and R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. )
Figure 2009271286
(In the general formula (2), Y is represented by —O—CO—CHR 1 ═CH 2 , or —CO—R 2 —CHR 1 ═CH 2 , or —O—R 2 —CHR 1 ═CH 2. R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and R 3 and R 4 are each independently A hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and m represents an integer of 1 to 3)
Figure 2009271286
(In the general formula (3), Z is a group represented by -O-CO-CHR 1 = CH 2 or -CHR 1 = CH 2,, A is a single bond or a carbon - carbon double bonds R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 5 to R 7 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.)
電子部品とともにリフロー処理により基板に実装される撮像装置に用いられることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のプラスチック光学素子。 The plastic optical element according to any one of claims 1 to 4, wherein the plastic optical element is used in an imaging device mounted on a substrate by reflow processing together with an electronic component. 請求項1〜5のいずれか1項に記載のプラスチック光学素子を有する撮像装置を電子部品とともに基板上に載置する工程、及び、前記撮像装置と前記電子部品と前記基板とをリフロー処理に供し、前記撮像装置と前記電子部品とを前記基板に実装する工程、を有することを特徴とする電子機器の製造方法。 A step of placing the imaging device having the plastic optical element according to any one of claims 1 to 5 on a substrate together with an electronic component; and the reflow processing of the imaging device, the electronic component, and the substrate. And a step of mounting the imaging device and the electronic component on the substrate.
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