JP2009266564A - Sample device of charged particle beam device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、傾斜機構を有する荷電粒子ビーム装置の試料装置に関する。 The present invention relates to a sample apparatus for a charged particle beam apparatus having a tilt mechanism.
走査型電子顕微鏡は観察すべき試料上の所定領域を電子ビームで走査し、該走査によって前記所定領域から発生した二次電子等の二次的電子に基づく試料像等を得るもので、試料の観察や分析等に重宝されている。 A scanning electron microscope scans a predetermined region on a sample to be observed with an electron beam, and obtains a sample image based on secondary electrons such as secondary electrons generated from the predetermined region by the scanning. It is useful for observation and analysis.
図1は、この様な走査型電子顕微鏡の1概略例を示したものである。 FIG. 1 shows one schematic example of such a scanning electron microscope.
図中1は電子銃、2、3は、それぞれ、該電子銃からの電子ビームを試料4上に収束させるためのコンデンサレンズ、対物レンズである。
In the figure, 1 is an electron gun, 2 and 3 are a condenser lens and an objective lens for converging an electron beam from the electron gun on the
5X、5Yは、前記電子銃1からの電子ビームで前記試料4上をX方向、Y方向に走査するためのX方向走査コイル、Y方向走査コイルである。
7は制御装置であり、各入力に対し、各種指令を発生する。又、試料位置移動指定、角度移動指定の入力も受け付ける。
A
6は各種演算を行ったり、制御装置7からの走査信号生成指令により走査信号を生成する走査信号生成回路で、生成したX方向走査信号を前記X方向走査コイル5Xに、Y方向走査信号を前記Y方向走査コイル5Yそれぞれ供給するものである。
6 is a scanning signal generation circuit that performs various calculations and generates a scanning signal in response to a scanning signal generation command from the
8は前記電子ビームによる前記試料4上の走査により、該試料から発生した二次電子を検出する二次電子検出器、9はAD変換器10を介した前記二次電子検出器8からの二次電子信号に種々の画像処理を施し、該画像処理を施した二次電子信号を前記制御装置7に送る画像処理装置である。
11は前記試料4を傾斜させるための傾斜ステージで、電子光学軸Oに直交する様に試料室12の側壁に取り付けられた傾斜回転体13によって傾斜可能に支持されている。この傾斜ステージの上に、前記試料4をY方向に移動するためのY方向ステージ14と、X方向に移動するためのX方向ステージ15が設けられている。
図2は該傾斜ステージ11、Y方向ステージ14、X方向ステージ15を備えた試料装置の詳細を示したもので、前記電子銃1側から見たものである。
FIG. 2 shows details of the sample apparatus provided with the
図2中、16はギア歯を有するウォームギアで、試料室外(或いは試料室外壁)に設けられた傾斜用モータ17の回転軸18に繋がり、前記傾斜ステージ11に取り付けられた軸受け19A、19Bにより回転可能に支持されている。
In FIG. 2,
20はこのウォームギアのギア歯と噛み合う様に該傾斜ステージ端部の周囲に取り付けられたウォームホイールである。
A
21は前記傾斜ステージ端部側面と前記試料室側壁との間に設けられたベアリングで、前記図1で示した傾斜回転体13を成しており、前記傾斜用モータ17の作動により、回転軸18の回転が前記ウォームギア16から前記ウォームホイール20へと伝わり、前記傾斜ステージ11が電子光学軸Oに垂直な水平軸Qを軸として傾斜する様に構成されている。尚、前記水平軸Qは前記試料表面と同じ高さに上にある。
前記傾斜ステージ11上には、Y方向レール22とY方向送りネジ23が互いに対向し且つ並行に一定距離離して設けられており、前記Y方向ステージ14の前記Y方向レール22に接触する部分に該レールと勘合するY方向溝(図示せず)が設けられている。又、前記Y方向ステージ14の前記Y方向送りネジ23と対向する部分に該送りネジが螺合するナット(図示せず)が取り付けられている。尚、前記Y方向送りネジ23は軸受け24A、24Bにより回転可能に傾斜ステージ11に支持されており、自在継手25A、25B、連結棒26を介して試料室外(或いは試料室外壁)に設けられたY方向移動用モータ27の回転軸27Rに繋がっており、該Y方向移動用モータ27の作動による前記回転軸27Rの回転が前記自在継手25B、連結棒26、自在継手25Aを介して前記Y方向送りネジ23に伝えられることにより、前記Y方向ステージ14が前記傾斜ステージ上でY方向に移動する様に構成されている。
A Y-
前記Y方向ステージ14上には、X方向レール33とX方向送りネジ28が互いに対向し且つ並行に一定距離離して設けられており、前記X方向ステージ15の前記X方向レール33に接触する部分に該レールと勘合するX方向溝(図示せず)が設けられている。又、前記X方向ステージ15の前記X方向送りネジ28と対向する部分に該送りネジが螺合するナット(図示せず)が取り付けられている。尚、前記X方向送りネジ28は軸受け29A、29Bにより回転可能にY方向ステージ14に支持されており、自在継手30A、30B、連結棒31を介して試料室外(或いは試料室外壁)に設けられたX方向移動用モータ32の回転軸32Rに繋がっており、該X方向移動用モータ32の作動による前記回転軸32Rの回転が前記自在継手30B、連結棒31、自在継手30Aを介して前記X方向送りネジ28に伝えられることにより、前記X方向ステージ15が前記Y方向ステージ14上でX方向に移動する様に構成されている。
An
図1に戻って、図中34、35、36は、それぞれ、前記制御装置7からの指令を受けて傾斜駆動信号、Y方向移動駆動信号、X方向移動駆動信号を発生し、該各信号をそれぞれ、前記傾斜用モータ17、Y方向移動用モータ27、X方向移動用モータ32に送る傾斜用ドライバ、Y方向移動用ドライバ、X方向移動用ドライバである。
Returning to FIG. 1,
尚、37は前記制御装置7の指令に従って試料像などを表示するディスプレイである。
この様な構成の走査型電子顕微鏡において、前記制御装置7の指令により前記Y方向移動用ドライバ35から所定のY方向移動駆動信号が、X方向移動用ドライバ36から所定のX方向移動駆動信号が、それぞれ、前記Y方向移動用モータ27、X方向移動用モータ32に送られ、それにより、前記Y方向ステージ14が前記傾斜ステージ11上で所定の距離Y方向に移動し、X向ステージ15が前記Y方向ステージ14上で所定の距離X方向に移動する。この結果、前記試料4上の所定領域が中心が電子光学軸O上に来る。
In the scanning electron microscope having such a configuration, a predetermined Y-direction movement drive signal is received from the Y-
この状態において、前記電子銃1からの電子ビームがコンデンサレンズ2及び対物レンズ3により前記試料4上に集束される。そして、前記制御装置7の指令に従って生成された走査信号生成回路6からのX方向、Y方向走査信号がX方向走査コイル5X、Y方向走査コイル5Yに供給されることにより、前記電子ビームは前記試料4上の所定の領域を走査する。
In this state, the electron beam from the
該走査により前記試料上の所定領域から発生した二次電子は二次電子検出器8に検出され、AD変換器10を介して画像処理装置9に送られる。
Secondary electrons generated from a predetermined region on the sample by the scanning are detected by the
そして、ここで画像処理された信号は前記制御装置7に送られ、ディスプレイ37に前記試料上の所定領域の二次電子像が表示される。
The signal subjected to the image processing is sent to the
所で、試料を傾けた状態で所定領域の観察を行う場合には、上記X方向,Y方向移動を行う前或いは後に、前記制御装置7の指令により前記傾斜用ドライバ34から傾斜駆動信号を傾斜用モータ17に送り、それにより、前記傾斜ステージ11を所定の角度(θ)傾斜させ、この状態において、前記試料を電子光学軸Oに垂直な状態で観察する場合と同じ様に、電子ビームで前記試料上の所定領域を走査して、該所定領域の二次電子像を得る。
この様に前記傾斜ステージ11を傾けると、該傾斜ステージに載置されている前記Y方向ステージ14とX方向ステージ15も一緒に傾く。
Y方向ステージ14、X方向ステージ15を停止させている時は、外的力によってステージ位置が動かないように、Y方向用移動ドライバ35からY軸方向移動用モータ27にX方向移動用ドライバ36からX方向移動用モータ32に拘束電流を流し拘束磁束を発生させ回転軸27Rと回転軸32Rを回転しないように拘束させる。
これによって、回転軸27Rに連なって繋がっている自在継ぎ手26、Y方向送りネジ23及び、回転軸32Rに連なって繋がっている自在継ぎ手31、X方向送りネジ28も回転を拘束される。
この状態で傾斜ステージ11を所定の角度(θ)傾けると、傾斜ステージ11に載置されたY方向ステージ14も角度(θ)傾斜する。試料室12に固定されたY軸方向移動用モータ27は前記したように、拘束磁束により拘束され、Y軸方向移動用モータ27連結されているY方向送りネジ23も拘束されるので、Y方向ステージ14が角度(θ)傾いた事により、傾いたY方向ステージ14側から見ると、Y方向送りネジ23に角度(θ)の回転が発生してしまう事になる。
同様に、傾斜ステージ11を所定の角度(θ)傾けると、傾斜ステージ11に載置されたX方向ステージ15も角度(θ)回転する。拘束されて、試料室12に固定された状態になっているX方向送りネジ28と、X方向ステージ15との間に角度(−θ)の回転が発生してしまう。
When a predetermined region is observed with the sample tilted, the tilt drive signal is tilted from the
When the
When the Y-
As a result, the
When the
Similarly, when the
その為、前記Y方向ステージ14がY方向に、前記X方向ステージ15がX方向にそれぞれ、Y方向送りネジ23とX方向送りネジ28が角度(−θ)の回転に対応する距離だけ、前記傾斜ステージ11に対して移動してしまう。
Therefore, the
この様な移動が発生した状態において電子ビームで試料上を走査すると、傾斜前に設定した観察領域が正確に走査されないことになり、その為に、観察すべき領域以外の情報を得てしまう事が発生してしまう。 When the sample is scanned with an electron beam in such a state, the observation area set before tilting is not scanned accurately, and therefore information other than the area to be observed is obtained. Will occur.
そこで、前記傾斜ステージ11上にY方向移動用モータ27及びX方向移動用モータ32を取り付けることにより、前記傾斜ステージ11を傾かせ、前記Y方向ステージ14とX方向ステージ15も一緒に傾かせても、前記Y方向移動用モータ27及びX方向移動用モータ32自身も一緒に傾く様にして、前記傾斜ステージ11に対するY方向ステージ14とX方向ステージ15の移動が発生しない様にする対策が提案されている。
Therefore, by attaching the Y
しかし、前記試料室12内にY方向移動用モータ27及びX方向移動用モータ32を入れることになり、前記試料室12が極めて大型化してしまい、走査電子顕微鏡自体が大型化してしまう。
However, the Y-
又、試料室が大型化すると、該試料室を排気するためのポンプとして排気能力の極めて高いものを用意しなければ成らず、著しく費用が掛かってしまう。 In addition, when the sample chamber is enlarged, a pump having a very high exhaust capacity must be prepared as a pump for exhausting the sample chamber, which is extremely expensive.
又、モータからの熱が各ステージに伝導され、該各ステージの熱膨張に基づく試料のドリフトが発生する。また、モータからの放出ガスによる試料の汚染等が発生する。 Further, heat from the motor is conducted to each stage, and a sample drift is generated based on thermal expansion of each stage. In addition, the sample is contaminated by the gas released from the motor.
本発明は、この様な問題点を解決するために成されたもので、新規な荷電粒子ビーム装置の試料装置を提供することを目的とするものである。 The present invention has been made to solve such problems, and an object of the present invention is to provide a sample apparatus for a novel charged particle beam apparatus.
真空室、該真空室内に設けられ試料を載置し回転する駆動軸により少なくとも一方向に移動可能な移動ステージ、該移動ステージを載置し、傾斜軸を中心として回転させる事により試料傾斜を行う傾斜ステージ、前記傾斜ステージを傾斜軸を中心として回転させるための傾斜ステージ用駆動機構、及び前記移動ステージを駆動するための駆動機構であって、前記傾斜軸と離れた位置に独立して配置され前記移動ステージの駆動軸と自在継ぎ手により接続される移動ステージ用駆動機構を備えた荷電粒子ビーム装置の試料装置において、前記傾斜用ステージの傾斜にかかわらず前記移動ステージが移動しないよう、前記傾斜用ステージの傾斜に関連させて前記移動ステージ用駆動機構を制御する制御手段を設けたことを特徴とする荷電粒子ビーム装置の試料装置。 A vacuum chamber, a movable stage provided in the vacuum chamber and movable in at least one direction by a driving shaft on which the sample is placed and rotated, and the movable stage is placed, and the sample is tilted by rotating around the tilt axis. A tilt stage, a tilt stage drive mechanism for rotating the tilt stage about a tilt axis, and a drive mechanism for driving the moving stage, which are arranged independently from the tilt axis. In the sample apparatus of a charged particle beam apparatus having a moving stage drive mechanism connected to a drive shaft of the moving stage by a universal joint, the tilting stage is prevented from moving regardless of the tilt of the tilting stage. A charged particle beam comprising control means for controlling the moving stage drive mechanism in relation to the tilt of the stage Sample unit of the device.
本発明によれば、真空排気される試料室内において試料がセットされる移動用ステージが傾斜用ステージに載置され、該移動用ステージを移動させるためのモータが試料室外に設けられた荷電粒子ビーム装置の試料装置において、移動用ステージが傾斜用ステージの傾斜に伴って傾斜すると共に移動しても、該傾斜に伴って発生する移動がキャンセルされる様に成しているので、試料室を大型化する必要が無く、又、モータからの熱による試料のドリフトの発生がない状態において、正確に試料中の観察或いは分析すべき領域に荷電粒子ビームを照射することが出来る。 According to the present invention, the charged particle beam in which the moving stage on which the sample is set in the sample chamber to be evacuated is placed on the tilting stage, and the motor for moving the moving stage is provided outside the sample chamber. In the sample apparatus of the apparatus, even if the moving stage is tilted and moved with the tilt of the tilting stage, the movement generated with the tilt is canceled, so the sample chamber is made large. Therefore, the charged particle beam can be accurately irradiated to the region to be observed or analyzed in the sample in a state where there is no drift of the sample due to heat from the motor.
以下、添付図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
先ず、本発明の原理について説明する。 First, the principle of the present invention will be described.
傾斜ステージを角度(θ)傾斜させた時に、該傾斜ステージに乗っているY方向ステージがY方向に、X方向ステージがX方向に、それぞれ、角度(−θ)に対応する距離だけ、前記傾斜ステージに対して移動するので、該傾斜ステージを角度(θ)傾斜させた時に、角度(θ)に対応する距離だけ、前記Y方向ステージをY方向に、前記X方向ステージをX方向に、それぞれ、前記傾斜ステージ11に対して移動させる、即ち、前記移動と逆に方向に同じ移動量だけ移動させれば、前記傾斜ステージの傾斜により、該傾斜ステージに乗っているY方向ステージ及びX方向ステージが一緒に傾斜しても、該X方ステージ及びY方向ステージの移動は結果的に零となる。
When the tilt stage is tilted at an angle (θ), the Y direction stage on the tilt stage is in the Y direction, and the X direction stage is in the X direction by a distance corresponding to the angle (−θ). Since the tilt stage is tilted by an angle (θ), the Y direction stage is moved in the Y direction and the X direction stage is moved in the X direction by a distance corresponding to the angle (θ). The Y-direction stage and the X-direction stage on the tilt stage are moved by the tilt of the tilt stage if the
図3はこの様な原理に基づいて成された試料装置を備えた荷電粒子ビーム装置の一例である走査型電子顕微鏡の一概略例を示す。尚、図中、前記図1及び図2で使用した記号と同一記号の付したものは同一構成要素である。 FIG. 3 shows a schematic example of a scanning electron microscope which is an example of a charged particle beam apparatus provided with a sample apparatus based on such a principle. In the figure, the same reference numerals as those used in FIGS. 1 and 2 denote the same components.
図中38は、Y方向移動用モータ27の回転軸27Rの回転量に対応するパルス発生するY方向用ロータリーエンコーダ、39はX方向移動用モータ32の回転軸32Rの回転量に対応するパルス発生するX方向用ロータリーエンコーダで、共に、回転軸に取り付けられたスリット付き回転板、該回転板を挟んで配置された発光素子、受光素子等から成る既知の構成を有するものである。
In the figure, 38 is a Y-direction rotary encoder that generates pulses corresponding to the rotation amount of the
40は前記Y方向用ロータリーエンコーダ38からのパルス信号に基づいて前記Y方向移動用モータ27の回転軸27Rの回転量を求め、該移動量と制御装置7から送られて来る傾斜角度信号とに基づいて、傾斜角度とY方向回転軸27Rの回転量の特性を求めるY方向用演算装置である。
41は前記X方向用ロータリーエンコーダ39からのパルス信号に基づいて前記X方向移動用モータ32の回転軸32Rの回転量を求め、該移動量と制御装置7から送られて来る傾斜角度信号とに基づいて、傾斜角度とX方向回転軸32Rの回転量の特性を求めるX方向用演算装置である。
41 calculates the amount of rotation of the
42、43は、前記Y方向用演算装置40、X方向用演算装置41が求めた傾斜角度とY方向回転軸27Rの移動量の特性、傾斜角度とX方向回転軸22Rの回転量の特性を、それぞれ記憶するY方向テーブル、X方向テーブルである。
45は、ステージ固定ジグであり、X方向ステージ15とY方向ステージ14を傾斜ステージ11に固定する事ができる。試料ステージとして使用する時は外す。
42 and 43 indicate the characteristics of the tilt angle and the amount of movement of the Y-direction
A
この様な構成の走査型電子顕微鏡において、試料像の観察を行う前に次の操作を行う。 In the scanning electron microscope having such a configuration, the following operation is performed before the sample image is observed.
先ず、ステージ固定ジグ45でX方向ステージ15とY方向ステージ14を傾斜ステージ11に固定する。これによりX方向送りネジ28はX方向ステージ15に、Y方向送りネジ23はY方向ステージ14に固定された事になる。
次に、前記Y方向移動用モータ27とX方向移動用モータ32の拘束磁束発生を一時的に停止し、各々のモータに移動駆動信号が送られていない場合において、外力が加わると各モータの回転軸27R、32Rが回転する状態にしておく。
First, the
Next, in the case where the restraint magnetic flux generation of the Y-
この状態において、傾斜用ドライバ34から前記傾斜用モータ17に、順次傾斜角度が大きくなる傾斜駆動信号が送られる様に、制御装置7から前記傾斜ドライバ34に傾斜指令を発する。
In this state, the
それにより、前記傾斜ステージ11は順次傾斜角度を増して傾いて行く。
As a result, the
この様に傾斜ステージ11を順次傾斜させて行くと、該傾斜ステージの上に乗っているY方向ステージ14とX方向ステージ15も一緒に順次傾斜角度を増して傾いて行く。
When the
この時、前記X方向送りネジ28はX方向ステージ15に、Y方向送りネジ23はY方向ステージ14に固定され、前記各モータの拘束励磁発生が停止され、前記Y軸方向移動用モータ27の回転軸27R及びX方向移動用モータ32の回転軸32Rは外力により動く状態に成っているので、前記回転軸27Rに繋がるY方向送りネジ23と前記回転軸32Rに繋がるX方向送りネジ28が前記傾斜角度に応じて順次回転し、該回転により、前記Y軸方向移動用モータ27の回転軸27R及びX方向移動用モータ32の回転軸32Rも順次回転する。
At this time, the
この時、傾斜ステージ11を傾けた角度に対するY軸方向移動用モータ27の回転軸27R及びX方向移動用モータ32の回転軸32Rの回転量は、それぞれ、Y方向用ロータリーエンコーダ38、X向用ロータリーエンコーダ39で検出され、前記Y方向用演算装置40、X方向用演算装置41は、それぞれ、傾斜角度とY方向ステージ14の移動量の特性、傾斜角度とX向ステージ15の移動量の特性を得る事が出来、各々の特性は、それぞれ、前記Y方向テーブル42、X方向テーブル43に記憶される。該Y方向テーブル、X方向テーブル記憶後、ステージ固定ジグ45を外し、X方向送りネジ28とX方向ステージ15、Y方向送りネジ23とY方向ステージ14の固定を解き、前記Y方向移動用モータ27とX方向移動用モータ32の拘束磁束発生を再び開始し、各々のモータに移動駆動信号が送られていない場合には、外力が加わっても各モータの回転軸27R、32Rが回転しない状態にしておく。
At this time, the rotation amounts of the
この様な操作が終了した後、試料を傾けた状態での観察操作に入る。例えば、X方向、Y方向に所定量試料移動を行った後、前記制御装置7の指令により前記傾斜用ドライバ34から傾斜駆動信号を傾斜用モータ17に送り、それにより、前記傾斜ステージ11を所定の角度(θ)傾斜させる。
After such operation is completed, the observation operation with the sample tilted is started. For example, after a predetermined amount of sample movement is performed in the X direction and the Y direction, a tilt drive signal is sent from the
この様に前記傾斜ステージ11を傾けると、該傾斜ステージの上に乗っているY方向ステージ14とX方向ステージ15も一緒に傾く。
When the
この時、ステージ固定ジグ45は外されているため、Y方向送りネジ23と、X方向送りネジ28は自由に回転する。前記回転軸27Rに繋がるY方向送りネジ23と前記回転軸32Rに繋がるX方向送りネジ28はY方向移動用モータ27とX方向移動用モータ32の拘束磁束が発生しているため回転しない。よって、前記Y方向送りネジ23がY方向ステージ14から見て角度(θ)、また、前記X方向送りネジ28がX方向ステージ15から見て角度(θ)、それぞれ回転する。それにより、角度(θ)に対応する距離だけ、前記傾斜ステージ11に対してY方向ステージ14とX方向ステージ15は移動する。
At this time, since the
この時に、前記制御装置7は前記Y方向テーブル42、X方向テーブル43から、それぞれ、傾斜角度(θ)に対応するY方向移動モータ回転軸27Rの回転量、X方向移動モータ回転量を読み出し、傾斜によって発生してしまったY方向ステージ14とY方向送りネジ23の回転を補正するY方向移動駆動信号、X方向ステージ15とX方向送りネジ28回転を補正するX方向移動駆動信号を、それぞれ、前記Y方向移動用ドライバ35から前記Y方向移動用モータ27に、X方向移動用ドライバ36から前記X方向移動用モータ32に送られる様に、前記Y方向移動用ドライバ35、X方向移動用ドライバ36に指令を送るので、前記Y方向ステージ14がY方向に、前記X方向ステージ15がX方向に、それぞれ、角度−θに対応する距離だけ、前記傾斜ステージ11に対して移動する。
At this time, the
この様に補正すれば、前記傾斜ステージを角度(θ)傾斜させていることにより、該傾斜ステージに乗っているY方向ステージ14及びX方向ステージ15が一緒に傾斜しても、結果的に、該Y方ステージ及びX方向ステージの移動は零となる。
尚、本実施例では、X方向用ロータリーエンコーダ39、Y方向用ロータリーエンコーダ38を附属させ傾斜角度に対応するモータの回転量を求めてX方向テーブル43、Y方向テーブル42に記憶させたが、予め基準となる装置で測定した傾斜角に対するデータを、X方向テーブル43、Y方向テーブル42に記憶させるようにすれば、X方向用ロータリーエンコーダ39、Y方向用ロータリーエンコーダ38は不要である。
又、傾斜角度と移動量の関係をX方向テーブル43、Y方向テーブル42に記憶させたが、傾斜角度と送りネジの回転量の関係を記憶させるようにしてもよい。
又、傾斜ステージ11の傾斜によるX方向ステージ15、Y方向ステージ14、の補正動作に当たり傾斜ステージ11の傾斜動作中、該動作中の傾斜角度に合わせ逐次補正かける事により、傾斜移動中も電子ビーム照射位置ずれをなくす事が出来る。
If corrected in this way, even if the
In this embodiment, the X-direction
Further, although the relationship between the tilt angle and the movement amount is stored in the X direction table 43 and the Y direction table 42, the relationship between the tilt angle and the rotation amount of the feed screw may be stored.
Further, during the tilting operation of the tilting
又、前記例では走査型電子顕微鏡に本発明の試料装置を応用した場合について説明したが、本発明の試料装置は他の荷電粒子ビーム装置、例えば、電子プローブアナライザ、電子ビーム描画装置、集束イオンビーム加工装置等にも応用可能である。
尚、傾斜ステージの上に置載されたX、Yステージで説明したが、X、Yステージに限らず、傾斜ステージの上に置載され一方方向に移動可能なステージ(例えば回転ステージ、上下動ステージ等)を傾斜軸外から回転駆動によって移動させる機構を備えたステージであれば応用可能である。
In the above example, the case where the sample apparatus of the present invention is applied to a scanning electron microscope has been described. However, the sample apparatus of the present invention may be another charged particle beam apparatus such as an electron probe analyzer, an electron beam drawing apparatus, or a focused ion beam. It can also be applied to beam processing equipment.
The X and Y stages mounted on the tilt stage have been described. However, the present invention is not limited to the X and Y stages, and is a stage mounted on the tilt stage and movable in one direction (for example, a rotary stage, vertical movement). The present invention can be applied to any stage provided with a mechanism for moving the stage and the like from outside the tilt axis by rotational driving.
1…電子銃、2…コンデンサレンズ、3…対物レンズ、4…試料、5X…X方向走査コイル、5Y…Y方向走査コイル、6…走査信号生成回路、7…制御装置、8…二次電子検出器、9…画像処理装置、10…AD変換器、11…傾斜ステージ、12…試料室、13…傾斜回転体、14…Y方向ステージ、15…X方向ステージ、16…ウォームギア、17…傾斜用モータ、18…回転軸、19A、19B…軸受け、20…ウォームホイール、21…ベアリング、22…Y方向レール、23…Y方向送りネジ、24A、24B…軸受け、25A…自在継手、25B…自在継手、26…連結棒、27…Y方向移動用モータ、27R…回転軸、28…X方向送りネジ、29A…軸受け、29B…軸受け30A…自在継手、30B…自在継手、31…連結棒、32…X方向移動用モータ、32R…回転軸、33…X方向レール、34…傾斜用ドライバ、35…Y方向用移動ドライバ、36…X方向用移動ドライバ、37…ディスプレイ、38…Y方向用ロータリーエンコーダ、39…X方向用ロータリーエンコーダ、 40…Y方向用演算器、 41…X方向用演算器、42…Y方向テーブル、43…X方向テーブル、45…ステージ固定ジグ、O…電子光学軸、Q…傾斜軸
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012015033A (en) * | 2010-07-02 | 2012-01-19 | Keyence Corp | Magnification observation apparatus and method |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5413764A (en) * | 1977-07-04 | 1979-02-01 | Jeol Ltd | Concentric goniometer stage |
JPS59184442A (en) * | 1983-04-04 | 1984-10-19 | Internatl Precision Inc | Goniometer stage for electron ray apparatus |
JPS62208533A (en) * | 1986-03-10 | 1987-09-12 | Toshiba Corp | Sample stage for scanning electron microscope |
JPH04104444A (en) * | 1990-08-23 | 1992-04-06 | Jeol Ltd | Sample device in scanning electron microscope |
-
2008
- 2008-04-24 JP JP2008114005A patent/JP5220469B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5413764A (en) * | 1977-07-04 | 1979-02-01 | Jeol Ltd | Concentric goniometer stage |
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JP2012015033A (en) * | 2010-07-02 | 2012-01-19 | Keyence Corp | Magnification observation apparatus and method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5220469B2 (en) | 2013-06-26 |
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