JP2009264865A - Device for inspecting defect of flat panel display and its method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、有機EL(Electro luminescence )表示パネルや液晶表示パネル等のフラットパネルディスプレイの欠陥検査装置およびその方法に関するものである。 The present invention relates to a defect inspection apparatus and method for a flat panel display such as an organic EL (Electro luminescence) display panel or a liquid crystal display panel.
フラットパネルディスプレイの製造は、通常、TFT(Thin Film Transistor)プロセスと呼ばれるTFT基板製造過程とカラーフィルタープロセスと呼ばれるカラーフィルター基板製造過程と、TFT基板とカラーフィルター基板を張り合わせる。その後、個々のフラットパネルディスプレイに分割する組立と呼ばれる製造過程とに分けられる。 In manufacturing a flat panel display, a TFT substrate manufacturing process called a TFT (Thin Film Transistor) process, a color filter substrate manufacturing process called a color filter process, and a TFT substrate and a color filter substrate are bonded together. Then, it is divided into a manufacturing process called assembling to divide into individual flat panel displays.
TFTプロセスとカラーフィルタープロセスは、マザー基板と呼ばれる長方形ガラス上への加工であり、マザー基板は現在、たとえば、720mm×600mmサイズが用いられ、1枚のマザー基板上に数個〜数百個のフラットパネルディスプレイを同時に製作する方式で生産されている。 The TFT process and the color filter process are processes on a rectangular glass called a mother substrate, and the mother substrate is currently used in a size of, for example, 720 mm × 600 mm, and several to several hundreds of pieces are formed on one mother substrate. It is produced by the method of manufacturing a flat panel display at the same time.
TFTプロセスとカラーフィルタープロセスを終了したマザー基板は、フラットパネルディスプレイ(パネル)に切断され、組立工程においては、電気的接触用の導体部の取り出しおよびパネルを樹脂で封止する。 The mother substrate that has finished the TFT process and the color filter process is cut into a flat panel display (panel), and in the assembly process, the conductor portion for electrical contact is taken out and the panel is sealed with resin.
ところで、上記のような手法で製作されるフラットパネルディスプレイに、製造履歴情報を付与しておくと品質管理や生産管理等々に大いに役立つことが期待できる。
このようにフラットパネルディスプレイに製造履歴情報を付与するようにした技術としては、たとえば特許文献1に開示された液晶パネルの工程管理システムが知られている。
As a technique for providing manufacturing history information to a flat panel display in this way, for example, a process management system for a liquid crystal panel disclosed in
しかしながら、上記した技術では、パネル上の履歴情報の活用が十分でなはなく、欠陥原因の究明などを、短期間で効率よく行えないという不利益がある。
また、上記した技術では、欠陥検査した検査情報から特定することで、リペア装置にリペア箇所を的確に指示することが困難である。
However, the above-described technique has a disadvantage that the history information on the panel is not sufficiently utilized, and the cause of the defect cannot be efficiently investigated in a short period of time.
Further, with the above-described technique, it is difficult to accurately indicate the repair location to the repair device by specifying from the inspection information subjected to the defect inspection.
本発明は、欠陥原因の究明などを、短期間で効率よく行えることはもとより、欠陥検査した検査情報から特定することで、リペア装置にリペア箇所を的確に指示することが可能なフラットディスプレイパネルの欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 The present invention provides a flat display panel capable of accurately instructing the repair location to a repair device by identifying the cause of the defect in a short period of time and identifying from the inspection information of the defect inspection. A defect inspection apparatus and method thereof are provided.
本発明の第1の観点のフラットディスプレイパネルの欠陥検査装置は、第1基板と第2基板の製造時に欠陥検査した検査情報を保持するデータベースと、表示パネルを形成する第1基板と第2基板と、を張り合わせた後、個々に分割され、それぞれに識別子が付与されたフラットパネルディスプレイの点灯検査を行い、上記欠陥検査した検査情報と個々に分割したフラットパネルディスプレイを点灯検査した検査情報を識別子で照合させ、個々に分割したフラットパネルディスプレイの点灯検査情報を基に、上記第1基板と上記第2基板の製造時に欠陥検査した検査情報を自動分類し、点灯検査で検出された線欠陥の欠陥箇所を上記第1基板と上記第2基板の製造時に欠陥検査した検査情報から特定することで、リペア箇所を指示する処理部とを含む。 A flat display panel defect inspection apparatus according to a first aspect of the present invention includes a database that holds inspection information subjected to defect inspection during manufacturing of a first substrate and a second substrate, and a first substrate and a second substrate that form a display panel. Are attached individually, and each flat panel display is individually inspected and subjected to lighting inspection, and the inspection information subjected to the defect inspection and the inspection information obtained by inspecting the individually divided flat panel display are identified as identifiers. Based on the lighting inspection information of the flat panel display individually divided, the inspection information subjected to defect inspection at the time of manufacturing the first substrate and the second substrate is automatically classified, and the line defects detected by the lighting inspection are classified. A processing unit that indicates a repair location by specifying a defect location from inspection information that has been inspected for defects when manufacturing the first substrate and the second substrate. Including the.
好適には、上記各フラットパネルディスプレイに付与される識別子には、少なくともフラットパネルディスプレイの製造順を示す情報を含む。 Preferably, the identifier assigned to each flat panel display includes at least information indicating the manufacturing order of the flat panel display.
好適には、上記識別子には、フラットパネルディスプレイの製造プロセス中のフラットパネルディスプレイの製造位置の情報が含まれる。 Preferably, the identifier includes information on a manufacturing position of the flat panel display during the flat panel display manufacturing process.
好適には、上記識別子を、製造工程中のフォトリソグラフィー法を用いて、フラットパネルディスプレイの基板上に付与されている。 Preferably, the identifier is provided on the substrate of the flat panel display using a photolithographic method during the manufacturing process.
好適には、上記識別子は、フラットパネルディスプレイ内部の記憶領域に識別子情報として記憶され、この識別子情報は、フラットパネルディスプレイの動作状態に関与しない特殊な命令により読み出し可能である。 Preferably, the identifier is stored as identifier information in a storage area inside the flat panel display, and the identifier information can be read by a special command not related to the operating state of the flat panel display.
好適には、上記処理部は、点灯検査で欠陥を発生したフラットパネルディスプレイの識別子から、組立製造ライン、組立条件、組立時期、TFTプロセス製造ライン、カラーフィルタープロセス製造ライン、製造時期、製造工程順、製造装置、製造パネル位置の情報を順次検索できるようにし、欠陥の原因となった工程、製造装置、製造条件を特定可能である。 Preferably, the processing unit determines, from the identifier of the flat panel display in which a defect has occurred in the lighting inspection, from the assembly manufacturing line, the assembly conditions, the assembly time, the TFT process manufacturing line, the color filter process manufacturing line, the manufacturing time, and the manufacturing process order. In addition, it is possible to sequentially retrieve information on the manufacturing apparatus and the manufacturing panel position, and it is possible to specify the process, the manufacturing apparatus, and the manufacturing conditions that cause the defect.
好適には、上記処理部は、点灯検査で線欠陥が発生したフラットパネルディスプレイの識別子から、線欠陥の原因となった工程、欠陥位置座標を特定可能である。 Suitably, the said process part can identify the process and defect position coordinate which caused the line defect from the identifier of the flat panel display in which the line defect generate | occur | produced by the lighting test | inspection.
本発明の第2の観点のフラットパネルディスプレイの欠陥検査方法は、表示パネルを形成する第1基板と第2基板と、を張り合わせた後、個々に分割し、当該分割前または分割後にそれぞれに識別子が付与されたフラットディスプレイパネルを形成するステップと、上記第1基板と上記第2基板の製造時に欠陥検査した検査情報を取得するステップと、個々に分割した上記フラットパネルディスプレイの点灯検査を行うステップと、上記欠陥検査した検査情報と個々に分割したフラットパネルディスプレイを点灯検査した検査情報を識別子で照合させるステップと、個々に分割したフラットパネルディスプレイの点灯検査情報を基に、上記第1基板と上記第2基板の製造時に欠陥検査した検査情報を自動分類するステップと、点灯検査で検出された線欠陥の欠陥箇所を上記第1基板と上記第2基板の製造時に欠陥検査した検査情報から特定することで、リペア箇所を指示するステップとを含む。 According to a second aspect of the present invention, there is provided a flat panel display defect inspection method in which a first substrate and a second substrate forming a display panel are bonded together, and then individually divided, and an identifier is assigned before or after the division. Forming a flat display panel to which the first substrate and the second substrate are manufactured, obtaining inspection information subjected to defect inspection at the time of manufacturing the first substrate and the second substrate, and performing a lighting inspection of the individually divided flat panel display And the step of collating the inspection information of the defect inspection with the inspection information of lighting inspection of the individually divided flat panel display by the identifier, and the first substrate based on the lighting inspection information of the individually divided flat panel display A step of automatically classifying inspection information subjected to defect inspection at the time of manufacturing the second substrate and detection by lighting inspection The defect portion of the line defect by identifying the examination information defect inspection during manufacturing of the first substrate and the second substrate, and a step of instructing a repair location.
本発明によれば、処理部により、表示パネルを形成する第1基板と第2基板と、を張り合わせた後、個々に分割され、それぞれに識別子が付与されたフラットパネルディスプレイの点灯検査が行われる。
処理部においては、欠陥検査した検査情報と個々に分割したフラットパネルディスプレイが点灯検査した検査情報を識別子で照合され、個々に分割したフラットパネルディスプレイの点灯検査情報を基に、第1基板と第2基板の製造時に欠陥検査した検査情報が自動分類される。
そして、処理部において、点灯検査で検出された線欠陥の欠陥箇所が第1基板と第2基板の製造時に欠陥検査した検査情報から特定され、リペア箇所が指示される。
According to the present invention, after the first substrate and the second substrate forming the display panel are bonded to each other by the processing unit, a lighting test is performed on the flat panel display that is divided individually and assigned with an identifier. .
In the processing unit, the inspection information on the defect inspection and the inspection information on the individually divided flat panel display are inspected by the identifier, and the first substrate and the first substrate are checked based on the lighting inspection information on the individually divided flat panel display. Inspection information subjected to defect inspection at the time of manufacturing two substrates is automatically classified.
Then, in the processing unit, the defect location of the line defect detected by the lighting inspection is specified from the inspection information subjected to the defect inspection at the time of manufacturing the first substrate and the second substrate, and the repair location is indicated.
本発明によれば、欠陥原因の究明などを、短期間で効率よく行えることはもとより、欠陥検査した検査情報から特定することで、リペア装置にリペア箇所を的確に指示することができる。 According to the present invention, the cause of the defect can be investigated efficiently in a short period of time, and the repair location can be accurately instructed to the repair device by specifying the defect inspection information.
以下、本発明の実施形態を図面に関連付けて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
本実施形態においては、基本的に、フラットパネルディスプレイとしての液晶表示パネルのTFT基板とカラーフィルター基板と、を張り合わせた後、個々に分割したフラットパネルディスプレイにそれぞれ識別子を持たせている。そして、TFT基板とカラーフィルター基板の製造時(張り合わせ時)に欠陥検査した検査情報と個々に分割したフラットパネルディスプレイ時に点灯検査した検査情報を識別子で照合させる。さらに、個々に分割したフラットパネルディスプレイの点灯検査情報を基に、TFT基板とカラーフィルター基板の製造時に欠陥検査した検査情報を自動分類し、欠陥原因の究明などを短期間で効率よく行えるようにするシステムを実現している。
さらに、本実施形態においては、点灯検査で検出された線欠陥の欠陥箇所をTFT基板とカラーフィルター基板の製造時(張り合わせ時)に欠陥検査した検査情報から特定することで、リペア装置にリペア箇所を指示することができるシステムを実現している。
以下、本システムについて具体的に説明する。
In the present embodiment, basically, after a TFT substrate and a color filter substrate of a liquid crystal display panel as a flat panel display are bonded together, each flat panel display divided individually has an identifier. Then, the inspection information subjected to the defect inspection at the time of manufacturing (bonding) the TFT substrate and the color filter substrate and the inspection information subjected to the lighting inspection at the time of individually dividing the flat panel display are collated with an identifier. Furthermore, based on the lighting inspection information of the flat panel display that is divided individually, inspection information that has been inspected for defects when manufacturing TFT substrates and color filter substrates is automatically classified so that the cause of defects can be investigated efficiently in a short period of time. The system which realizes is realized.
Further, in the present embodiment, the repair location of the repair device is determined by specifying the defect location of the line defect detected by the lighting inspection from the inspection information inspected at the time of manufacturing (bonding) the TFT substrate and the color filter substrate. The system that can be instructed is realized.
The system will be specifically described below.
まず、本発明の実施形態で用いられる製品の識別子について説明する。
図1は、本実施形態において用いられる製品の識別子について説明するための図である。
First, an identifier of a product used in the embodiment of the present invention will be described.
FIG. 1 is a diagram for explaining product identifiers used in the present embodiment.
本実施形態において、製品識別子は、製品の製造履歴等の情報をコード化したものである。このコードをもとにして、生産管理、進捗度管理、品質管理、欠陥特定等が行われるようになっている。
上記製品識別子の付け方について説明する。
In the present embodiment, the product identifier is obtained by coding information such as a product manufacturing history. Based on this code, production management, progress management, quality management, defect identification, and the like are performed.
A method of attaching the product identifier will be described.
本実施形態では、製品識別子は、図1に示すように、TFT識別子101と、カラーフィルター識別子102と、パネル識別子103から構成されている。
TFT識別子101は、「TFTロット番号」、「TFT基板番号」により構成される。
カラーフィルター識別子102は、「カラーフィルターロット番号」、「カラーフィルター基板番号」により構成される。
パネル識別子103は、「TFTロット番号」、「TFT基板番号」、「カラーフィルターロット番号」、「カラーフィルター基板番号」、「パネル位置番号」により構成される。
これらのコード形態は、図1に示した通りである。TFT識別子101の「TFTロット番号」は、製品タイプ名や1ロット当りのTFT基板枚数やロット投入時期を示すもので、英数字10文字で表される。
In the present embodiment, the product identifier includes a
The
The
The
These code forms are as shown in FIG. The “TFT lot number” of the
「TFT基板番号」は、図2に示すように、搬送キャリア201の何番目に格納されたTFT基板であるかを表すものである。
As shown in FIG. 2, the “TFT substrate number” indicates the number of the TFT substrate stored in the
図2では、搬送キャリア201の下から上にTFT番号が割り振られ、202は、下から1番目でTFT番号=1、203は、下からN番目でTFT番号=Nに格納されて搬送されることを示している。
カラーフィルター識別子102の「カラーフィルターロット番号」は、製品タイプ名や1ロット当りのカラーフィルター基板枚数やロット投入時期を示すもので、英数字10文字で表される。
「カラーフィルター基板番号」は、図2に示すように、搬送キャリア201の何番目に格納されたカラーフィルター基板であるかを表すものである。
図2では、搬送キャリア201の下から上にカラーフィルター番号が割り振られ、202は、下から1番目でカラーフィルター基板=1、203は、下からN番目でカラーフィルター基板=Nに格納されて搬送されることを示している。
In FIG. 2, TFT numbers are assigned from the bottom to the top of the
The “color filter lot number” of the
As shown in FIG. 2, the “color filter substrate number” represents the number of the color filter substrate stored in the
In FIG. 2, color filter numbers are assigned from the bottom to the top of the
パネル識別子103の、「TFTロット番号」、「TFT基板番号」は、TFT基板とカラーフィルター基板を張り合わせた時のTFT識別子101の「TFTロット番号」、「TFT基板番号」であり、「カラーフィルターロット番号」、「カラーフィルター基板番号」も、TFT基板とカラーフィルター基板を張り合わせた時のカラーフィルター識別子102の「カラーフィルターロット番号」、「カラーフィルター基板番号」である。
“TFT lot number” and “TFT substrate number” of the
「パネル位置番号」は、TFT基板301の場合、図3(a)に示すように、TFT基板301のTFT基板オリフラ302を左下にして、X軸(横軸)、Y軸(縦軸)を取り、たとえば、基板原点300からX軸方向に4パネル目、Y軸方向に4パネル目のパネル番号は、(4,4)というように、行列形式で表現する。
TFT側パネル304のパネル単位のX軸方向のピッチをXP,Y軸方向のピッチをYPとする。
In the case of the
The pitch in the X axis direction of the panel unit of the
カラーフィルター基板307の場合、図3(b)に示すように、カラーフィルター基板307のカラーフィルター基板オリフラ308を右下にして、X軸(横軸)、Y軸(縦軸)を取り、たとえば、基板原点311からX軸方向に4パネル目、Y軸方向に4パネル目のパネル番号は、(4,4)というように、行列形式で表現する。
In the case of the
このようにTFT基板301の座標系とカラーフィルター基板307の座標系を左右対称とすることで、TFT基板とカラーフィルター基板のパターン加工面同士を基板原点基準で張り合わせた時、TFT基板301とカラーフィルター基板307のパネル番号は、同一となる。カラーフィルター側パネル310のパネル単位のX軸方向のピッチはXP,Y軸方向のピッチはYPとなる。
Thus, by making the coordinate system of the
図4は、TFT基板301の基板原点300とX軸とY軸を求めるためのアライメントパターン401を示したものである。
FIG. 4 shows an
図4で示したアライメントパターン401は、TFT側パネル304の4角近辺にパターニングされている。パターニング位置は、基板を分割してもパターニングが残るような位置に設計されている。基板のアライメントには、TFT側パネル304の左下のアライメントパターン401を使用する。
The
TFT基板301のX軸は、X方向の最下部で任意の2パネルのアライメントパターン401のアライメントパターン中心で求める。
アライメント精度を向上させるためには、両端のTFT側パネル304で求めるのがいい。TFT基板301のY軸は、Y方向の最左部で任意の2パネルのアライメントパターン401のアライメントパターン中心で求める。
アライメント精度を向上させるためには、両端のTFT側パネル304で求めるのがいい。求めたX軸とY軸の交点を基板原点300とする。
カラーフィルター基板307の基板原点311とX軸とY軸の求め方については図示しないが、図4のTFT基板301と同様にして求める。
The X-axis of the
In order to improve the alignment accuracy, it is preferable to obtain with
In order to improve the alignment accuracy, it is preferable to obtain with
Although the method of obtaining the
次に、識別子の付与方式として、レーザや電子ビーム等を用いてTFT基板やカラーフィルター基板やパネルの表面に刻印する方法、および、パネル(もしくは製品)内に専用記憶領域を持たせ、その領域内に識別子等の必要な情報を電気的に書き込む方法について説明する。 Next, as an identifier assigning method, a method of engraving on the surface of a TFT substrate, a color filter substrate or a panel using a laser or an electron beam, and a dedicated storage area in the panel (or product) A method of electrically writing necessary information such as an identifier in the inside will be described.
レーザマーキングの場合、たとえば、炭酸ガスやYAGレーザ(イットリウムアルミニウムガーネットレーザ)等を用いて行うと効果的である。レーザマーキングの刻印形式は、英数字で構成された識別子を直接、刻印してもいいし、バーコードや2次元コードに変換して刻印してもいい。
2次元コードに変換して刻印したほうが、小スペース化が可能である。
In the case of laser marking, for example, it is effective to use carbon dioxide gas, YAG laser (yttrium aluminum garnet laser) or the like. Laser marking may be performed by directly marking an identifier composed of alphanumeric characters, or by converting it into a bar code or a two-dimensional code.
The space can be reduced by converting to a two-dimensional code and engraving.
なお、製造工程中に、製造工程中のフォトリソグラフィー法を用いて識別子を刻印する際に、露光装置のマスクに液晶のマスク形成装置を用いれば、パネル個々で異なる識別子の記号の形成が容易に行える。
また、電気的に識別子情報を記憶させる場合、TFT基板のパネルの周辺部(有効画素領域以外の部分)にEEPROM(Electrically Erasable and Programmable Read Only Memory )等の専用メモリを設け、そこに情報を記憶させる。
During the manufacturing process, when an identifier is engraved using the photolithographic method in the manufacturing process, if a liquid crystal mask forming apparatus is used as the mask of the exposure apparatus, it is easy to form a symbol with a different identifier for each panel. Yes.
In addition, when identifier information is electrically stored, a dedicated memory such as EEPROM (Electrically Erasable and Programmable Read Only Memory) is provided in the peripheral part (part other than the effective pixel area) of the TFT substrate panel, and information is stored there. Let
この方法は、専用メモリに情報を記憶させるので、識別子以外にも必要な情報を保持することができる。たとえば、各パネルの電気的特性の検査後、この検査結果情報等を含めて識別子情報とともにパネルの識別子専用記憶領域に情報を書き込むことも可能である。
あるいは、製品の出荷前最終電気特性検査時に、この検査と同時に、製品の識別子専用記憶領域へ、識別子情報とともに最終電気特性検査情報等を書き込むことも可能である。 なお、電気的に識別子情報を記憶させた場合には、書き込んだ識別子情報は、読み出し専用ピン、または、読み出し専用命令(フラットパネルディスプレイの動作状態に関与しない特殊な命令)によって、読み出されるようにされる。
In this method, information is stored in the dedicated memory, so that necessary information can be held in addition to the identifier. For example, after inspecting the electrical characteristics of each panel, it is also possible to write information in the identifier dedicated storage area of the panel together with the identifier information including the inspection result information.
Alternatively, at the time of final electrical characteristic inspection before product shipment, simultaneously with this inspection, it is also possible to write final electrical characteristic inspection information and the like together with identifier information into the product identifier dedicated storage area. When identifier information is electrically stored, the written identifier information is read by a read-only pin or a read-only command (a special command not related to the operation state of the flat panel display). Is done.
次に、各識別子の刻印位置と刻印するタイミングについて図3(a)および(b)に関連付けて説明する。 Next, the marking position of each identifier and the timing of marking will be described with reference to FIGS. 3 (a) and 3 (b).
TFT識別子101の場合、図3(a)に示すように、TFT基板301の表面のパネル領域以外の周辺部分303に識別子101を刻む。
識別子を刻む時期は、TFTプロセスにロットを投入し、基板における第一処理を行う直前のタイミングとすることが望ましい。この時期にTFT識別子101を入れることで、以後基板として処理された時の情報を枚葉で管理することができる。
In the case of the
It is desirable that the time for engraving the identifier be the time immediately before the first process is performed on the substrate after the lot is put into the TFT process. By inserting the
カラーフィルター識別子102の場合、図3(b)に示すように、カラーフィルター基板307の表面のパネル領域以外の周辺部分309に識別子102を刻む。
識別子を刻む時期は、カラーフィルタープロセスにロットを投入し、基板における第一処理を行う直前のタイミングとすることが望ましい。
この時期にカラーフィルター識別子102を入れることで、以後基板として処理された時の情報を枚葉で管理することができる。
In the case of the
The timing for engraving the identifier is preferably the timing immediately before the first processing is performed on the substrate after the lot is put into the color filter process.
By inserting the
図5(a)は、TFT基板301とカラーフィルター基板307のパターン加工面同士を基板原点基準で張り合わせた後、パネル単位に分割した図である。
310はカラーフィルター基板307のカラーフィルター側パネルを示し、304はTFT基板301のTFT側パネルを示す。
FIG. 5A is a diagram in which the pattern processing surfaces of the
パネル識別子103の場合は、図5(b)のカラーフィルター側パネル310の311(有効画素領域312以外の周辺のパターンを形成していない領域)、あるいは、図5の(c)に示すように、TFT側パネル304の領域(有効画素領域306以外の周辺のパターンを形成していない領域)305、あるいは、図5の(d)に示すように、パネル分割後のカラーフィルター側パネル310とTFT側パネル304の側面501に、パネル識別子103を刻む。
In the case of the
レーザや電子ビーム等を用いてパネル識別子103を刻む時期としては、TFT基板とカラーフィルター基板を張り合わせた後、個々のフラットパネルディスプレイに分割する前に、パネル識別子103を刻む(印す)のが望ましい。
なぜなら、図5の(d)は、分割後にパネル識別子103を刻むことになる。しかし、分割してパネルの順番がバラバラになった後は、TFT側パネル304のTFT識別子101や、カラーフィルター側パネル310のカラーフィルター識別子102や、パネル番号が何らかの方法で確認または管理されていないと、パネル識別子103を刻むことができないからである。
As the timing for engraving the
This is because (d) in FIG. 5 engraves the
上記のような方法、タイミングで刻印された製品識別子は、各プロセスの製造装置や検査装置で読み込まれ、生産管理、進捗度管理、品質管理、欠陥特定等が行われるようになる。 The product identifier engraved with the above method and timing is read by the manufacturing apparatus and inspection apparatus of each process, and production management, progress management, quality management, defect identification, and the like are performed.
次に、本発明の実施例で用いられる前記した製品識別子を用いた欠陥分類システムについて説明する。 Next, the defect classification system using the above-described product identifier used in the embodiment of the present invention will be described.
図6は、本発明の実施形態に係る製品識別子を用いた液晶ディスプレイの製造工程と欠陥分類システムの概略フロー図である。 FIG. 6 is a schematic flow diagram of a liquid crystal display manufacturing process using a product identifier and a defect classification system according to an embodiment of the present invention.
液晶ディスプレイの製造工程は、TFTプロセス610とカラーフィルタープロセス620と組立630と、大きく3つに分けられる。
TFTプロセス610は、ガラス基板の上にTFT(薄膜トランジスタ)と駆動のための配線回路を作りこむ。このプロセスでは成膜工程、露光工程、エッチング工程の繰り返しを経て、ガラス基板上にTFT回路を作りこむ。
TFT回路が作りこまれた後、液晶を配向させるための配向膜を印刷する。各工程の直後に欠陥検査611を行い、欠陥がどの工程で発生したかがわかるように欠陥検査611を行う。
TFTプロセス610で完成したTFT基板301とは別のガラス基板上にRGBの三原色の層を作りこんだカラーフィルター基板307を作るプロセスが、カラーフィルタープロセス620である。
カラーフィルタープロセス620でも成膜工程、露光工程、エッチング工程の繰り返しを経てRGBの三原色の層を作りこむ。RGBの三原色の層が作りこまれた後、液晶を配向させるための配向膜を印刷する。
各工程の直後に欠陥検査621を行い、TFTプロセス610と同様に、欠陥がどの工程で発生したかがわかるように欠陥検査611を行う。
TFTプロセス610で完成したTFT基板301とカラーフィルタープロセス620で完成したカラーフィルター基板307を張り合わせ、パネル単位に分割し、分割したパネルに液晶を注入する。
注入された液晶をUV樹脂などで封止したあと、パネルから配線するための端子を取り出し、端子が取り出されたら電気信号を入力して、パネルの点灯検査631を行い、良品と欠陥品の判定をする。
TFTプロセス610で完成したTFT基板301とカラーフィルタープロセス620で完成したカラーフィルター基板307の張り合わせから点灯検査631までを組立630とする。
The manufacturing process of the liquid crystal display is roughly divided into three processes: a
In the
After the TFT circuit is built, an alignment film for aligning the liquid crystal is printed. Immediately after each process,
The color filter process 620 is a process for producing a
Even in the color filter process 620, layers of RGB three primary colors are formed through repetition of a film forming process, an exposure process, and an etching process. After the layers of the three primary colors of RGB are formed, an alignment film for aligning the liquid crystal is printed.
Immediately after each step, a
The
After sealing the injected liquid crystal with UV resin or the like, a terminal for wiring is taken out from the panel, and when the terminal is taken out, an electric signal is inputted, a
An assembly 630 includes a process from the bonding of the
TFTプロセス610の欠陥検査611の検査結果と、カラーフィルタープロセス620の欠陥検査621の検査結果は、欠陥解析データベース640の欠陥検査データベース641に格納される。
また、組立630の点灯検査631の検査結果は、欠陥解析データベース640の点灯検査データベース642に格納される。
処理部としての欠陥解析システム用コンピュータ650で予め設定された不良品条件と満たしたパネルは、リペア装置632でリペアされる。
点灯検査で検出された線欠陥の欠陥箇所をTFT基板とカラーフィルター基板時に欠陥検査した検査情報から特定することで、リペア装置にリペア箇所を指示することができるので効率的なリペアができる。
リペア装置でのリペア方法は、後で一例を挙げて説明する。
The inspection result of the
The inspection result of the
A defective product preset by a defect
By specifying the defect location of the line defect detected by the lighting inspection from the inspection information inspected for defects at the time of the TFT substrate and the color filter substrate, the repair location can be indicated to the repair device, so that efficient repair can be performed.
A repair method in the repair device will be described later with an example.
次に、図7に関連付けて欠陥解析データベース640について詳細に説明する。
Next, the
欠陥検査データベース641は、TFTプロセス610の欠陥検査611の検査結果が格納されるTFTプロセス情報と、カラーフィルタープロセス620の欠陥検査621の検査結果が格納されるカラーフィルタープロセス情報で構成されている。
The
TFTプロセス情報は、TFTプロセス610の欠陥検査611で検査された全TFTロット番号(TFT識別子101のTFTロット番号)が格納されている。
The TFT process information stores all TFT lot numbers (TFT lot numbers of the TFT identifier 101) inspected by the
カラーフィルタープロセス情報は、カラーフィルタープロセス620の欠陥検査621で検査された全カラーフィルターロット番号(カラーフィルター識別子102のカラーフィルターロット番号)が格納されている。
In the color filter process information, all color filter lot numbers (color filter lot numbers of the color filter identifier 102) inspected by the
各TFTロット番号には、TFTプロセス610の欠陥検査611で検査された全工程名が格納されている。各工程名には、欠陥検査611で検査されたTFT識別子101のTFT基板番号が格納されている。
Each TFT lot number stores the names of all processes inspected by the
各TFT基板番号には、その基板で検出された欠陥数と、連番の欠陥番号が格納されている。
各欠陥連番は、欠陥検査611で検出された欠陥位置を示す欠陥座標X,欠陥座標Y、その欠陥の面積、欠陥モード、欠陥をCCDカメラ等で画像取得した時の欠陥画像ファイル名で構成されている。
Each TFT substrate number stores the number of defects detected on the substrate and a serial number of defect numbers.
Each defect serial number is composed of a defect coordinate X, a defect coordinate Y indicating a defect position detected by the
欠陥座標Xは、TFT基板301の基板原点300からX軸方向の距離、欠陥座標Yは、TFT基板301の基板原点300からY軸方向の距離である。
各カラーフィルターロット番号は、カラーフィルタープロセス620の欠陥検査621で検査された全工程名が格納されている。
各工程名には、欠陥検査621で検査されたカラーフィルター識別子102のカラーフィルター基板番号が格納されている。
各カラーフィルター基板番号には、その基板で検出された欠陥数と、連番の欠陥番号が格納されている。
The defect coordinate X is a distance in the X axis direction from the
Each color filter lot number stores the names of all processes inspected by the
In each process name, the color filter substrate number of the
Each color filter substrate number stores the number of defects detected on the substrate and the consecutive defect number.
各欠陥連番は、欠陥検査621で検出された欠陥位置を示す欠陥座標X,欠陥座標Y、その欠陥の面積、欠陥モード、欠陥をCCDカメラ等で画像取得した時の欠陥画像ファイル名で構成されている。
欠陥座標Xは、カラーフィルター基板307の基板原点311からX軸方向の距離、欠陥座標Yは、カラーフィルター基板307の基板原点311からY軸方向の距離である。
Each defect serial number is composed of a defect coordinate X, a defect coordinate Y indicating a defect position detected by the
The defect coordinate X is a distance in the X-axis direction from the
次に点灯検査データベース642について説明する。
点灯検査データベース642は、組立630の点灯検査631で検査されたパネル単位の点灯検査結果をTFT側パネルのTFT基板欠陥情報とカラーフィルター側パネルのカラーフィルター基板欠陥情報に分離し、且つ基板単位に集計して構成されている。
Next, the
The
TFT基板欠陥情報は全TFTロット番号(パネル識別子103のTFTロット番号)が格納されている。
各TFTロット番号は、点灯検査631で検査されたパネル識別子103の全TFT基板番号で構成されている。たとえば、TFTロットが20基板で1ロットの場合は、TFT基板1からTFT基板20となる。
The TFT substrate defect information stores all TFT lot numbers (the TFT lot number of the panel identifier 103).
Each TFT lot number is composed of all TFT substrate numbers of the
各TFT基板番号は、点灯検査631で検査されたパネル識別子103の全パネル位置番号で構成されている。
各パネル位置番号は、そのパネルで検出された欠陥数と点灯検査631で分類された欠陥モードで構成されている。
Each TFT substrate number is composed of all panel position numbers of the
Each panel position number is composed of the number of defects detected in the panel and the defect modes classified by the
各欠陥モードには、モード毎の欠陥数と、連番の欠陥番号が格納されている。各欠陥連番は、点灯検査631で検出された欠陥位置を示す点灯欠陥座標X,点灯欠陥座標Yと、欠陥検査611で検出された欠陥位置を示す欠陥座標X,欠陥座標Yで構成されている。
欠陥座標X、欠陥座標Yは、TFT側パネル304の点灯検査原点500からのX軸方向の距離、Y軸方向の距離を基板原点300からの距離に変換して格納される。
In each defect mode, the number of defects for each mode and a sequential defect number are stored. Each defect serial number is composed of a lighting defect coordinate X and a lighting defect coordinate Y indicating a defect position detected in the
The defect coordinate X and the defect coordinate Y are stored by converting the distance in the X-axis direction from the lighting inspection origin 500 of the
図5(c)の欠陥502(px,py)を図3(a)のTFT基板301のn=4、m=4のパネル位置313(KX,KY)への変換例を説明する。
An example of converting the defect 502 (px, py) in FIG. 5C to the panel position 313 (KX, KY) of n = 4 and m = 4 of the
図4で示したTFT側パネル304の左下、右下、左上の3箇所のアライメントパターン401を用いて点灯検査原点500(0,0)、X軸、Y軸を求める。
TFT側パネル304のX軸は、左下、右下のアライメントパターン401のアライメントパターン中心で求める。TFT側パネル304のY軸は、左下、左上のアライメントパターン401のアライメントパターン中心で求める。
求めたX軸とY軸の交点を点灯検査原点500(0,0)とする。欠陥502(px,py)は、点灯検査原点(0,0)からの距離を表したものである。
TFT基板301のX方向のパネルピッチをXP,Y方向のパネルピッチをYPとし、欠陥502(px,py)を図3(a)のTFT基板301のn=4、m=4のパネル位置への変換した座標を313(KX,KY)とすると、KX=XP×4+px、KY= YP×4+pyとなる。
The lighting inspection origin 500 (0, 0), the X axis, and the Y axis are obtained using the
The X axis of the
The obtained intersection of the X axis and the Y axis is set as the lighting inspection origin 500 (0, 0). The defect 502 (px, py) represents the distance from the lighting inspection origin (0, 0).
The panel pitch in the X direction of the
また、図3(a)のTFT基板301のn=4、m=4のパネル位置の欠陥313(KX,KY)を欠陥502(px,py)に変換すると、px=KX−(XP×4)、py=KY−(YP×4)となる。
カラーフィルター基板欠陥情報は全カラーフィルターロット番号(パネル識別子103のカラーフィルターロット番号)が格納されている。各カラーフィルターロット番号は、点灯検査631で検査されたパネル識別子103の全カラーフィルター基板番号で構成されている。
たとえば、カラーフィルターロットが20基板で1ロットの場合は、カラーフィルター基板1からカラーフィルター基板20となる。
各カラーフィルター基板番号は、点灯検査631で検査されたパネル識別子103の全パネル位置番号で構成されている。各パネル位置番号は、そのパネルで検出された欠陥数と点灯検査631の欠陥モードで構成されている。
Further, when the defect 313 (KX, KY) at the panel position of n = 4 and m = 4 of the
In the color filter substrate defect information, all color filter lot numbers (color filter lot numbers of the panel identifier 103) are stored. Each color filter lot number is composed of all color filter substrate numbers of the
For example, when the color filter lot is 20 substrates and 1 lot, the
Each color filter substrate number is composed of all panel position numbers of the
各欠陥モードには、モード毎の欠陥数と、連番の欠陥番号が格納されている。
各欠陥連番は、点灯検査631で検出された欠陥位置を示す点灯欠陥座標X,点灯欠陥座標Yと、欠陥検査611で検出された欠陥位置を示す欠陥座標X,欠陥座標Yで構成されている。
欠陥座標X、欠陥座標Yも、TFT側パネル304の点灯検査原点からのX軸方向の距離、Y軸方向の距離をカラーフィルター基板原点からの距離に変換して格納される。
In each defect mode, the number of defects for each mode and a sequential defect number are stored.
Each defect serial number is composed of a lighting defect coordinate X and a lighting defect coordinate Y indicating a defect position detected in the
The defect coordinate X and the defect coordinate Y are also stored by converting the distance in the X-axis direction from the lighting inspection origin of the
図5(c)の点灯点欠陥502(px,py)を図3(b)のカラーフィルター基板307のn=4、m=4のパネル位置314(KX,KY)への変換例を説明する。
A conversion example of the lighting point defect 502 (px, py) in FIG. 5C to the panel position 314 (KX, KY) of n = 4 and m = 4 of the
図4で示したTFT側パネル304の左下、右下、左上の3箇所のアライメントパターン401を用いて点灯検査原点500(0,0)、X軸、Y軸を求める。TFT側パネル304のX軸は、左下、右下のアライメントパターン401のアライメントパターン中心で求める。
TFT側パネル304のY軸は、左下、左上のアライメントパターン401のアライメントパターン中心で求める。求めたX軸とY軸の交点を点灯検査原点500(0,0)とする。
点灯点欠陥502(px,py)は、点灯検査原点(0,0)からの距離を表したものである。カラーフィルター基板307のX方向のパネルピッチをXP,Y方向のパネルピッチをYPとし、点灯点欠陥502(px,py)を図3(b)のカラーフィルター基板307のn=4、m=4のパネル位置への変換した座標を314(KX,KY)とすると、KX=XP×4+px、KY= YP×4+pyとなる。
The lighting inspection origin 500 (0, 0), the X axis, and the Y axis are obtained using the
The Y axis of the
The lighting point defect 502 (px, py) represents a distance from the lighting inspection origin (0, 0). The panel pitch in the X direction of the
また、図3(a)のカラーフィルター基板307のn=4、m=4のパネル位置の欠陥314(KX,KY)を欠陥502(px,py)に変換すると、px=KX−(XP×4)、py=KY−(YP×4)となる。
Further, when the defect 314 (KX, KY) at the panel position of n = 4 and m = 4 of the
図8は、組立630の点灯検査631で検査されたパネル単位の点灯検査結果を基板単位に集計し、点灯検査結果と、TFTプロセス610の欠陥検査611で検査された検査結果と、カラーフィルタープロセス620の欠陥検査621で検査された検査結果を照合することにより、点灯検査結果での欠陥がどのプロセスおよび工程で発生したかを特定する本発明を模式的に示したものである。
FIG. 8 summarizes the lighting inspection results for each panel inspected in the
図8は組立630の点灯検査631で検査されたパネル単位の点灯検査結果をTFT側パネルのTFT基板欠陥情報に分離し、且つ基板単位に集計した点灯検査結果810と、成膜工程後の欠陥検査611の検査結果830と露光工程後の欠陥検査611の検査結果820の照合例を示したものである。
FIG. 8 shows a
点灯検査点欠陥812は、成膜工程後の欠陥検査611の検査結果830の欠陥831が起因していることを表す。
点灯検査点欠陥813は、露光工程後の欠陥検査611の検査結果820の欠陥821が起因していることを表す。点灯検査線欠陥814は、露光工程後の欠陥検査611の検査結果820の欠陥823が起因していることを表す。
点灯検査点欠陥815は、TFTプロセス610の欠陥検査611では、検出されなかったことを表す。
成膜工程後の欠陥検査611の検査結果830の欠陥832と露光工程後の欠陥検査611の検査結果820の欠陥822は、欠陥検査611では欠陥として検出されたが、実際の点灯検査631では欠陥とならなかった欠陥であることを表す。
The lighting
The lighting
The lighting
The
図9は組立630の点灯検査631で検査されたパネル単位の点灯検査結果をカラーフィルター側パネルのカラーフィルター基板欠陥情報に分離し、且つ基板単位に集計した点灯検査結果840と、エッチング工程後の欠陥検査621の検査結果850の照合例を示したものである。
FIG. 9 shows a
点灯検査点欠陥815は、エッチング工程後の欠陥検査621の検査結果850の欠陥852が起因していることを表す。点灯検査点欠陥812と813と点灯検査線欠陥814は、カラーフィルタープロセス620の欠陥検査621では、検出されなかったことを表す。
The lighting
欠陥851は、欠陥検査621では欠陥として検出されたが、実際の点灯検査631では欠陥とならなかった欠陥であることを表す。点灯検査点欠陥812、813、815は、点灯検査631でリペアすべき欠陥箇所が特定された点欠陥である。
The
点灯検査点欠陥814は、点灯検査631のみでは、リペアすべき欠陥箇所が特定できない線欠陥であるが、TFTプロセス610の欠陥検査611で検査された検査結果と、カラーフィルタープロセス620の欠陥検査621で検査された検査結果を照合することにより欠陥箇所を特定し、リペア装置632にリペアすべき箇所を指示することができる。
The lighting
次に、図10に関連付けて点灯検査線欠陥814の欠陥位置910(PX1,PY1)を露光工程後の欠陥検査611の検査結果820の欠陥823(KX1,KY1)から特定する例を説明する。
Next, an example in which the defect position 910 (PX1, PY1) of the lighting
検査結果820の欠陥823(KX1,KY1)座標は、基板原点300から点灯検査原点500に変換された座標とする。
点灯検査線欠陥814は、X軸方向の線欠陥からY座標は既に点灯検査631で特定できている。
特定されたY座標をPY1とする。PY1と一致するY座標を、TFTプロセス610の欠陥検査611で検査された検査結果と、カラーフィルタープロセス620の欠陥検査621で検査された検査結果と照合し、検査結果820の欠陥823のY座標KY1と一致するので点灯検査線欠陥814の欠陥位置910のX座標PX1を検査結果820の欠陥823のX座標KX1から特定することができる。
The defect 823 (KX1, KY1) coordinates of the
In the lighting
Let the identified Y coordinate be PY1. The Y coordinate corresponding to PY1 is collated with the inspection result inspected by the
図11は、本発明で欠陥箇所を特定し、リペアすべき箇所をリペア装置632に指示し、リペア装置632でリペアする方法の概要を示したものである。詳細なリペア方法は、特願2006−348375号に記載されている。
FIG. 11 shows an outline of a method for identifying a defective portion in the present invention, instructing the
リペア装置632では、本発明で特定された欠陥箇所1010にステージを移動させ、特定された欠陥箇所1010を含む1画素領域1000を画像処理で検出する。
In the
次に予め登録されている1画素領域のテンプレート群1030から、欠陥箇所1010を含む1画素領域1000と最も似ているテンプレート1040を抽出する。
Next, a
テンプレート群1030の各テンプレートには、リペアすべき方法とリペア条件が登録されている。抽出されたテンプレート1040の中の1050は、リペアすべき方法を示している。
In each template of the
抽出されたテンプレート1040の中の1050のリペアすべき方法は、2本の配線間をショートさせている欠陥部分を切断する方法である。
The method of repairing 1050 in the extracted
抽出されたテンプレート1050に登録されているリペア条件であるテンプレート情報は以下の通りである。
Template information that is a repair condition registered in the extracted
付加情報(テンプレート情報)としては、以下のような例が考えられる。
・電気回路上の欠陥の特徴情報(オープン、ショートなど)、
・リペア後の回路状態の情報(輝点、滅点など)、
配線基板内での繰り返しパターンの位置、何番目の画素かの番号、RGB情報(色情報)、
・欠陥が目視で確認できるものかどうか、
・同一条件のテンプレートがある場合の優先順位、
・過去に実際に欠陥修正を行った回数(実績のあるものを優先するなど)。
Examples of additional information (template information) include the following.
・ Characteristic information of defects on electrical circuits (open, short, etc.),
・ Circuit status information after repair (bright spot, dark spot, etc.)
The position of the repetitive pattern in the wiring board, the number of the pixel number, RGB information (color information),
・ Whether the defect can be confirmed visually,
・ Priority when templates with the same conditions exist,
-The number of times defect correction has actually been performed in the past (priority is given to actual results).
抽出されたテンプレート1040の中のテンプレート1050でリペアすべき方法を特定できたので、2本の配線間をショートさせている欠陥部分1010を欠陥部分1020のように切断することで、リペアが実現できる。
Since the method to be repaired can be specified by the
以上説明したように、本実施形態によれば、以下の効果を得ることができる。 As described above, according to the present embodiment, the following effects can be obtained.
(1)TFTプロセスに識別子を刻む時期は、TFTプロセスにロットを投入し、基板における第一処理を行う直前のタイミングとすることが望ましい。
この時期にTFT識別子101を入れることで、以後基板として処理された時の情報を枚葉で管理することができる。
(1) It is desirable that the time for engraving the identifier in the TFT process is the time immediately before the first process is performed on the substrate after a lot is put into the TFT process.
By inserting the
(2)カラーフィルタープロセスに識別子を刻む時期は、カラーフィルタープロセスにロットを投入し、基板における第一処理を行う直前のタイミングとすることが望ましい。
この時期にカラーフィルター識別子102を入れることで、以後基板として処理された時の情報を枚葉で管理することができる。
(2) It is desirable that the time when the identifier is engraved in the color filter process is the time immediately before the first processing is performed on the substrate after a lot is put into the color filter process.
By inserting the
(3)製造情報を示す識別子が付与されたフラットパネルディスプレイの点灯検査方法である。この方法では、点灯検査で欠陥を発生したフラットパネルディスプレイの識別子から、組立製造ライン、組立条件、組立時期、TFTプロセス製造ライン、カラーフィルタープロセス製造ライン、製造時期、製造工程順、製造装置、製造パネル位置の情報を順次検索できるようにする。これにより、欠陥の原因となった工程、製造装置、製造条件を特定できる。 (3) A lighting inspection method for a flat panel display provided with an identifier indicating manufacturing information. In this method, from the identifier of the flat panel display that caused the defect in the lighting inspection, the assembly production line, assembly conditions, assembly time, TFT process production line, color filter process production line, production time, production process order, production equipment, production The panel position information can be searched sequentially. Thereby, the process, manufacturing apparatus, and manufacturing condition which caused the defect can be specified.
(4)フラットパネルディスプレイのTFT基板とカラーフィルター基板と、TFT基板とカラーフィルター基板を張り合わせた後、個々に分割したフラットパネルディスプレイにそれぞれ識別子を持たせる。そして、TFT基板とカラーフィルター基板の張り合わせ時に欠陥検査した検査情報と個々に分割したフラットパネルディスプレイ時に点灯検査した検査情報を識別子で照合させる。さらに、個々に分割したフラットパネルディスプレイの点灯検査情報を基に、TFT基板とカラーフィルター基板の張り合わせ時に欠陥検査した検査情報を自動分類する。これにより、欠陥原因の究明などを、短期間で効率よく行える。 (4) After attaching the TFT substrate and the color filter substrate of the flat panel display, and the TFT substrate and the color filter substrate, an identifier is given to each of the divided flat panel displays. Then, the inspection information subjected to the defect inspection at the time of bonding the TFT substrate and the color filter substrate and the inspection information subjected to the lighting inspection at the time of individually dividing the flat panel display are collated with an identifier. Furthermore, based on the lighting inspection information of the flat panel display divided individually, the inspection information subjected to the defect inspection when the TFT substrate and the color filter substrate are bonded is automatically classified. As a result, the cause of the defect can be investigated efficiently in a short period of time.
(5)点灯検査で検出された線欠陥の欠陥箇所を、TFT基板とカラーフィルター基板の張り合わせ時に欠陥検査した検査情報から特定することで、リペア装置にリペア箇所を指示することができるので効率的なリペアができる。 (5) Since the defect location of the line defect detected in the lighting inspection is specified from the inspection information subjected to the defect inspection when the TFT substrate and the color filter substrate are bonded together, it is possible to instruct the repair device to indicate the repair location. Can be repaired.
以上のように本実施形態によれば、欠陥箇所を迅速に特定し対処することで効率の高い製造が可能となり、その産業的価値は多大である。 As described above, according to the present embodiment, it is possible to manufacture with high efficiency by quickly identifying and dealing with a defective portion, and its industrial value is great.
101・・・TFT識別子、102・・・カラーフィルター識別子、103・・・パネル識別子、201・・・搬送キャリア、300・・・基板原点、301・・・TFT基板、302・・・TFT基板オリフラ、304・・・TFT側パネル、307・・・カラーフィルター基板、308・・・カラーフィルター基板オリフラ、310・・・カラーフィルター側パネル、632・・・リペア装置、640・・・欠陥解析データベース、650・・・欠陥解析システム用コンピュータ(処理部)、1000・・・第1画素領域、1010・・・欠陥箇所、1030・・・テンプレート群、1040・・・テンプレート。
DESCRIPTION OF
Claims (14)
示パネルを形成する第1基板と第2基板と、を張り合わせた後、個々に分割され、それぞれに識別子が付与されたフラットパネルディスプレイの点灯検査を行い、上記欠陥検査した検査情報と個々に分割したフラットパネルディスプレイを点灯検査した検査情報を識別子で照合させ、個々に分割したフラットパネルディスプレイの点灯検査情報を基に、上記第1基板と上記第2基板の製造時に欠陥検査した検査情報を自動分類し、点灯検査で検出された線欠陥の欠陥箇所を上記第1基板と上記第2基板の製造時に欠陥検査した検査情報から特定することで、リペア箇所を指示する処理部と
を含むフラットパネルディスプレイの欠陥検査装置。 A database for holding inspection information subjected to defect inspection at the time of manufacturing the first substrate and the second substrate;
After the first substrate and the second substrate forming the display panel are bonded together, the flat panel display that is divided into individual pieces and each assigned an identifier is subjected to lighting inspection, and the inspection information subjected to the defect inspection is divided into pieces. The inspection information on the inspected lighting of the flat panel display is collated with the identifier, and the inspection information that has been inspected for defects at the time of manufacturing the first substrate and the second substrate is automatically based on the lighting inspection information of the flat panel display that is divided individually. A flat panel comprising: a processing unit that indicates a repair location by classifying and identifying a defect location of a line defect detected by a lighting inspection from inspection information that has been inspected for defects when manufacturing the first substrate and the second substrate Display defect inspection equipment.
請求項1記載のフラットパネルディスプレイの欠陥検査装置。 The flat panel display defect inspection apparatus according to claim 1, wherein the identifier assigned to each flat panel display includes at least information indicating a manufacturing order of the flat panel display.
請求項1記載のフラットパネルディスプレイの欠陥検査装置。 The flat panel display defect inspection apparatus according to claim 1, wherein the identifier includes information on a manufacturing position of the flat panel display during a manufacturing process of the flat panel display.
請求項1記載のフラットパネルディスプレイの欠陥検査装置。 The flat panel display defect inspection apparatus according to claim 1, wherein the identifier is provided on a substrate of the flat panel display using a photolithography method in a manufacturing process.
請求項1から4のいずれか一に記載のフラットパネルディスプレイの欠陥検査装置。 The identifier is stored as identifier information in a storage area inside the flat panel display, and the identifier information can be read by a special command not related to the operation state of the flat panel display. Defect inspection apparatus for flat panel display as described.
点灯検査で欠陥を発生したフラットパネルディスプレイの識別子から、組立製造ライン、組立条件、組立時期、TFTプロセス製造ライン、カラーフィルタープロセス製造ライン、製造時期、製造工程順、製造装置、製造パネル位置の情報を順次検索できるようにし、欠陥の原因となった工程、製造装置、製造条件を特定可能である
請求項1記載のフラットパネルディスプレイの欠陥検査装置。 The processing unit
Information on assembly production line, assembly conditions, assembly time, TFT process manufacturing line, color filter process manufacturing line, manufacturing time, manufacturing process order, manufacturing equipment, manufacturing panel position The defect inspection apparatus for a flat panel display according to claim 1, wherein the process, the manufacturing apparatus, and the manufacturing conditions that cause the defect can be specified.
点灯検査で線欠陥が発生したフラットパネルディスプレイの識別子から、線欠陥の原因となった工程、欠陥位置座標を特定可能である
請求項1記載のフラットパネルディスプレイの欠陥検査装置。 The processing unit
The defect inspection apparatus for a flat panel display according to claim 1, wherein a process and a defect position coordinate that cause the line defect can be identified from an identifier of the flat panel display in which the line defect has occurred in the lighting inspection.
上記第1基板と上記第2基板の製造時に欠陥検査した検査情報を取得するステップと、
個々に分割した上記フラットパネルディスプレイの点灯検査を行うステップと、
上記欠陥検査した検査情報と個々に分割したフラットパネルディスプレイを点灯検査した検査情報を識別子で照合させるステップと、
個々に分割したフラットパネルディスプレイの点灯検査情報を基に、上記第1基板と上記第2基板の製造時に欠陥検査した検査情報を自動分類するステップと、
点灯検査で検出された線欠陥の欠陥箇所を上記第1基板と上記第2基板の製造時に欠陥検査した検査情報から特定することで、リペア箇所を指示するステップと
を含むフラットパネルディスプレイの欠陥検査方法。 After bonding the first substrate and the second substrate forming the display panel, individually dividing, and forming a flat display panel to which an identifier is assigned before or after the division; and
Obtaining inspection information subjected to defect inspection at the time of manufacturing the first substrate and the second substrate;
A step of performing lighting inspection of the flat panel display individually divided;
The step of collating the inspection information for inspecting the defect and the inspection information for inspecting the lighting of the flat panel display individually divided with an identifier,
Automatically classifying inspection information subjected to defect inspection at the time of manufacturing the first substrate and the second substrate, based on lighting inspection information of individually divided flat panel displays;
A defect inspection of a flat panel display including a step of indicating a repair location by specifying a defect location of a line defect detected by a lighting inspection from inspection information subjected to a defect inspection at the time of manufacturing the first substrate and the second substrate. Method.
請求項8記載のフラットパネルディスプレイの欠陥検査方法。 The defect inspection method for a flat panel display according to claim 8, wherein the identifier assigned to each flat panel display includes at least information indicating a manufacturing order of the flat panel display.
請求項8記載のフラットパネルディスプレイの欠陥検査方法。 The flat panel display defect inspection method according to claim 8, wherein the identifier includes information on a manufacturing position of the flat panel display during a manufacturing process of the flat panel display.
請求項8記載のフラットパネルディスプレイの欠陥検査方法。 The defect inspection method for a flat panel display according to claim 8, wherein the identifier is provided on a substrate of the flat panel display using a photolithography method in a manufacturing process.
請求項8から11のいずれか一に記載のフラットパネルディスプレイの欠陥検査方法。 The identifier is stored as identifier information in a storage area inside the flat panel display, and the identifier information can be read by a special command not related to the operation state of the flat panel display. The defect inspection method of the flat panel display as described.
請求項8記載のフラットパネルディスプレイの欠陥検査方法。 Information on assembly production line, assembly conditions, assembly time, TFT process manufacturing line, color filter process manufacturing line, manufacturing time, manufacturing process order, manufacturing equipment, manufacturing panel position The flat panel display defect inspection method according to claim 8, wherein the process, the manufacturing apparatus, and the manufacturing condition that cause the defect can be specified.
請求項8記載のフラットパネルディスプレイの欠陥検査方法。 The defect inspection method for a flat panel display according to claim 8, wherein a process and a defect position coordinate that cause the line defect are specified from an identifier of the flat panel display in which the line defect has occurred in the lighting inspection.
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JP (1) | JP2009264865A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013187430A1 (en) * | 2012-06-12 | 2013-12-19 | シャープ株式会社 | Defect-causing-step analysis device and defect-causing-step analysis method |
WO2014097827A1 (en) * | 2012-12-19 | 2014-06-26 | シャープ株式会社 | Defect occurrence process analysis device and defect occurrence process analysis method |
CN109683358A (en) * | 2019-01-22 | 2019-04-26 | 成都中电熊猫显示科技有限公司 | Detection method, device and storage medium |
CN113837528A (en) * | 2021-08-04 | 2021-12-24 | 山西光兴光电科技有限公司 | Method for determining position of station causing surface defect of substrate glass |
CN115532656A (en) * | 2021-06-30 | 2022-12-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | Display panel defect detection method, device and system |
-
2008
- 2008-04-24 JP JP2008113548A patent/JP2009264865A/en not_active Abandoned
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013187430A1 (en) * | 2012-06-12 | 2013-12-19 | シャープ株式会社 | Defect-causing-step analysis device and defect-causing-step analysis method |
JP2013257208A (en) * | 2012-06-12 | 2013-12-26 | Sharp Corp | Defect causing stage analyzing device and defect causing stage analyzing method |
CN104335029A (en) * | 2012-06-12 | 2015-02-04 | 夏普株式会社 | Defect-causing-step analysis device and defect-causing-step analysis method |
WO2014097827A1 (en) * | 2012-12-19 | 2014-06-26 | シャープ株式会社 | Defect occurrence process analysis device and defect occurrence process analysis method |
CN109683358A (en) * | 2019-01-22 | 2019-04-26 | 成都中电熊猫显示科技有限公司 | Detection method, device and storage medium |
CN109683358B (en) * | 2019-01-22 | 2022-08-12 | 成都中电熊猫显示科技有限公司 | Detection method, device and storage medium |
CN115532656A (en) * | 2021-06-30 | 2022-12-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | Display panel defect detection method, device and system |
CN113837528A (en) * | 2021-08-04 | 2021-12-24 | 山西光兴光电科技有限公司 | Method for determining position of station causing surface defect of substrate glass |
CN113837528B (en) * | 2021-08-04 | 2024-03-22 | 山西光兴光电科技有限公司 | Method for determining position of station causing defect on surface of substrate glass |
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