JP2009258194A - Liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device capable of reducing a liquid crystal orientation defect which may be generated at the boundary between a transmission display region and a reflection display region and improving the contrast. <P>SOLUTION: The liquid crystal display device has opposite sides opposing mutually and includes a CF substrate 2 and a TFT substrate 3 on which transmission display regions 6, 8 and reflection display regions 7, 9 are arranged on the opposing sides, respectively, with aligning their positions. This liquid crystal display device includes an overcoat layer 25 formed on the upper side of the transmission display region 6 and on the upper side of the reflection display region 7 of the CF substrate 2, and a liquid crystal layer 1 which is formed between the TFT substrate 3 and the overcoat layer 25 and has a positive type liquid crystal. The overcoat layer 25 has a flat face on the liquid crystal layer 1 side, where the thickness of the liquid crystal layer 1 between the transmission display region 8 of the TFT substrate 3 and the overcoat layer 25 and the thickness of the liquid crystal layer 1 between the reflection display region 9 of the TFT substrate 3 and the overcoat layer 25 are substantially equal. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示装置に関し、特に、透過領域と反射領域とを有する液晶表示装置に関する発明である。   The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device having a transmissive region and a reflective region.

現在、１画素ごとに、透過領域と反射領域とを有する半透過型の液晶表示装置が提案されている。この半透過型液晶表示装置は、装置周囲が明所では、装置周囲の外光を光源として使用する。具体的には、画素内に設けた反射領域で装置周囲の外光を視認側へと反射させて表示を行う。また、半透過型液晶表示装置は、装置周囲が暗所では、主に背面に設けられた装置内部の光源装置、例えば、バックライトを光源として使用する。具体的には、画素内に設けた透過領域でバックライトからの光を視認側に通過させて表示を行う。このように、半透過型液晶表示装置では、内部の光源装置からの光、または、外部からの周辺光の双方を用いて表示を行うことができる。これにより、どのような周囲光下でも視認性の高い表示を行うことができる。そのため、半透過型液晶表示装置は、主として、屋内のみならず屋外でも使用される携帯電話の表示ディスプレイとして実用化されている。   Currently, a transflective liquid crystal display device having a transmissive region and a reflective region for each pixel has been proposed. This transflective liquid crystal display device uses external light around the device as a light source in a bright place. Specifically, display is performed by reflecting external light around the apparatus toward the viewing side in a reflection area provided in the pixel. Further, the transflective liquid crystal display device uses a light source device inside the device mainly provided on the back surface, for example, a backlight as a light source in the dark around the device. Specifically, display is performed by allowing light from the backlight to pass through to the viewing side in a transmission region provided in the pixel. Thus, in the transflective liquid crystal display device, display can be performed using both light from the internal light source device or ambient light from the outside. Thereby, display with high visibility can be performed under any ambient light. For this reason, transflective liquid crystal display devices have been put to practical use as display displays for mobile phones that are used not only indoors but also outdoors.

従来の半透過型液晶表示パネルの多くは、透過・反射表示領域ともにＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）方式を採用している。ＥＣＢ方式の液晶表示パネルは、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板と、ＣＦ（Color Filter）基板との間に封止された液晶に、それら基板面とほぼ垂直方向に電界を印加する。この電界により、基板面と平行方向にホモジニアス配向していた液晶分子を垂直方向に配向させることで表示動作を行う。しかし、この方式では、液晶分子が電界によって配向する方向が、基板と垂直方向に対して少し傾いているため、特に透過領域の表示において、見る方向によって明るさが異なり、視野角を広くできないという問題点を有している。   Many of the conventional transflective liquid crystal display panels employ an ECB (Electrically Controlled Birefringence) system in both the transmissive and reflective display areas. An ECB liquid crystal display panel applies an electric field to liquid crystal sealed between a TFT (Thin Film Transistor) substrate and a CF (Color Filter) substrate in a direction substantially perpendicular to the substrate surfaces. By this electric field, the display operation is performed by orienting liquid crystal molecules that are homogeneously aligned in the direction parallel to the substrate surface in the vertical direction. However, in this method, the direction in which the liquid crystal molecules are aligned by the electric field is slightly tilted with respect to the direction perpendicular to the substrate. Therefore, particularly in the display of the transmissive region, the brightness varies depending on the viewing direction and the viewing angle cannot be widened. Has a problem.

一方、液晶モニタや液晶テレビなどに用いられ、反射領域がない透過型の液晶パネルでは、ＩＰＳ（In Plane Switching）方式やＶＡ（Vertical Alignment）方式を始めとする視野角の広い表示方式を採用している。ＩＰＳ方式やＶＡ方式の液晶表示パネルは、ＥＣＢ方式の液晶表示パネルに比べコントラストが高く、優れた表示特性を示す。従って、透過型の液晶パネルに広く普及しているＩＰＳ方式やＶＡ方式と比べ、半透過型液晶パネルで用いられるＥＣＢ方式では、視野角が狭く、かつ、コントラストが低いという問題点を有している。   On the other hand, transmissive liquid crystal panels that are used in liquid crystal monitors and liquid crystal televisions and that do not have a reflective area employ display methods with a wide viewing angle, such as the IPS (In Plane Switching) method and VA (Vertical Alignment) method. ing. An IPS liquid crystal display panel or a VA liquid crystal display panel has a higher contrast than an ECB liquid crystal display panel and exhibits excellent display characteristics. Therefore, the ECB method used in the transflective liquid crystal panel has a problem that the viewing angle is narrow and the contrast is low as compared with the IPS method and the VA method which are widely used in the transmissive liquid crystal panel. Yes.

そこで、半透過型の液晶表示装置においても、ＶＡ方式を採用したパネルが提案されている。このＶＡ方式の液晶パネルでは、ＥＣＢ方式のパネルに比べ、視野角が広く、かつ、コントラストが高くなる。しかしながら、パネルを見る角度が変わると色も大きく変化し、特に、パネルを斜めから見たときには、色が白くなってしまう問題がある。   Therefore, a panel using the VA method has been proposed for a transflective liquid crystal display device. This VA liquid crystal panel has a wider viewing angle and higher contrast than the ECB panel. However, when the angle at which the panel is viewed changes, the color changes greatly. In particular, when the panel is viewed obliquely, there is a problem that the color becomes white.

そこで、半透過型の液晶表示装置において、横電界駆動方式の表示方式であるＩＰＳ方式や、ＩＰＳ方式を改良したＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式を用いて広視野角を実現する技術が特許文献１および非特許文献１に開示されている。ＩＰＳ方式やＦＦＳ方式では、液晶分子の長軸は、基板面とほぼ平行であり、電界が印加されても基板面と垂直方向に液晶分子が立ち上がることがないので、視角方向を変えたときの明るさの変化が小さく、いわゆる視野角依存性が殆どない。そのため、視野角が広く、コントラストが高く、かつ、パネルを見る角度を変えたときの色の変化が小さいという優れた表示特性を示す。   Therefore, in a transflective liquid crystal display device, Patent Document 1 discloses a technique for realizing a wide viewing angle by using an IPS method, which is a display method of a lateral electric field drive method, or an FFS (Fringe Field Switching) method improved from the IPS method. And Non-Patent Document 1. In the IPS method and the FFS method, the major axis of the liquid crystal molecules is almost parallel to the substrate surface, and even when an electric field is applied, the liquid crystal molecules do not rise in the direction perpendicular to the substrate surface. The change in brightness is small and there is almost no so-called viewing angle dependency. Therefore, the display characteristics are excellent such that the viewing angle is wide, the contrast is high, and the color change is small when the viewing angle of the panel is changed.

以上のように、ＩＰＳ方式やＦＦＳ方式はＥＣＢ方式に比べて優れた表示特性を示す。一方、ＩＰＳ方式やＦＦＳ方式は、ＥＣＢ方式に比べて反射率が低くなる問題がある。そこで、透過領域にＩＰＳまたはＦＦＳ方式を採用し、反射領域にＥＣＢ方式を採用して、透過領域の表示特性や、反射領域の明るさを改善する技術が、非特許文献２および非特許文献３に開示されている。   As described above, the IPS method and the FFS method show superior display characteristics compared to the ECB method. On the other hand, the IPS method and the FFS method have a problem that the reflectance is lower than that of the ECB method. Therefore, a technique for improving the display characteristics of the transmissive region and the brightness of the reflective region by adopting the IPS or FFS method for the transmissive region and the ECB method for the reflective region is described in Non-Patent Document 2 and Non-Patent Document 3. Is disclosed.

特開２００３−３４４８３７号公報JP 2003-344837 A J.H.Song et.al.,"Electro-optic Characteristics of Fringe-Field Driven Transflective LCD with Dual Cell Gap",IDW/AD'05,LCTp1-3,p.103-106J.H.Song et.al., "Electro-optic Characteristics of Fringe-Field Driven Transflective LCD with Dual Cell Gap", IDW / AD'05, LCTp1-3, p.103-106 Norio Noma et.al.,"A Transflective In Plane-Switching LCD with a Higher-Optical-Performance Reflective Area",SID'07,DIGEST,p.1270-1273Norio Noma et.al., "A Transflective In Plane-Switching LCD with a Higher-Optical-Performance Reflective Area", SID'07, DIGEST, p.1270-1273 Shoichi Hirota et.al.,"Transflective LCD Combining Transmissive IPS and Reflective In-Cell Retarder ECB",SID'07,DIGEST,p.1661-1664Shoichi Hirota et.al., "Transflective LCD Combining Transmissive IPS and Reflective In-Cell Retarder ECB", SID'07, DIGEST, p.1661-1664

上記いずれの文献においても、反射領域の液晶層は、透過領域の液晶層のおよそ半分の厚さとなっている。このため、透過領域と反射領域との境界には、液晶層に１から２μｍ程度の段差が存在する。しかしながら、この段差近傍では、液晶配向が乱れやすく、特に、透過領域のコントラストを低下させているという問題があった。その問題を解決するため、境界部分を遮光すればコントラストの低下を防ぐことも考えられるが、この構成では、開口率が低下して輝度が低下してしまう。   In any of the above documents, the liquid crystal layer in the reflective region is approximately half as thick as the liquid crystal layer in the transmissive region. For this reason, a step of about 1 to 2 μm exists in the liquid crystal layer at the boundary between the transmission region and the reflection region. However, in the vicinity of the step, the liquid crystal alignment is likely to be disturbed, and in particular, there is a problem that the contrast of the transmission region is lowered. In order to solve this problem, it may be possible to prevent the contrast from being lowered by shielding the boundary portion. However, in this configuration, the aperture ratio is lowered and the luminance is lowered.

この段差近傍の液晶配向不良は、ＥＣＢ方式を採用した従来の半透過型液晶パネルでも透過・反射領域両方に発生していたが、ＥＣＢ方式では元々コントラストが高くないため、画素中の一部に液晶配向不良が発生した際のコントラスト低下はあまり問題にならなかった。しかしながら、ＩＰＳ方式やＦＦＳ方式ではコントラストが高いため、画素中の一部に液晶配向不良が発生すると、急激にコントラストが低下してしまう。   This liquid crystal alignment defect near the step occurs in both the transmissive and reflective areas even in the conventional transflective liquid crystal panel adopting the ECB method. However, since the contrast is not originally high in the ECB method, A decrease in contrast when a liquid crystal alignment defect occurred was not a problem. However, since the contrast is high in the IPS method and the FFS method, when a liquid crystal alignment defect occurs in a part of the pixel, the contrast is rapidly lowered.

本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、透過表示領域と反射表示領域との境界に生じる液晶配向不良を低減して、コントラストを向上可能な液晶表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and provides a liquid crystal display device capable of improving contrast by reducing liquid crystal alignment defects that occur at the boundary between a transmissive display area and a reflective display area. The purpose is to provide.

本発明に係る液晶表示装置は、互いに対向する対向面を有し、当該対向面それぞれに透過表示領域と反射表示領域とが位置を揃えて配置された第１，第２の基板を備える。そして、前記第１，第２の基板のいずれか一方の基板の前記透過表示領域上側および前記反射表示領域上側に形成されたオーバーコート層と、他方の基板と前記オーバーコート層との間に挟まれて形成され、ポジ型液晶を有する液晶層とを備える。前記オーバーコート層は、前記液晶層側に平坦な面を有し、前記他方の基板の前記透過表示領域と前記オーバーコート層との間の前記液晶層の厚みと、前記他方の基板の前記反射表示領域と前記オーバーコート層との間の前記液晶層の厚みとは略等しい。   The liquid crystal display device according to the present invention includes first and second substrates that have opposing surfaces that face each other, and a transmissive display area and a reflective display area that are arranged on each of the opposing surfaces. Then, an overcoat layer formed on the upper side of the transmissive display area and the upper side of the reflective display area of either one of the first and second substrates is sandwiched between the other substrate and the overcoat layer. And a liquid crystal layer having a positive type liquid crystal. The overcoat layer has a flat surface on the liquid crystal layer side, the thickness of the liquid crystal layer between the transmissive display region of the other substrate and the overcoat layer, and the reflection of the other substrate. The thickness of the liquid crystal layer between the display area and the overcoat layer is substantially equal.

本発明の液晶表示装置によれば、透過表示領域と反射表示領域との境界における液晶層の段差は、オーバーコート層により平滑化される。そのため、当該境界における液晶配向不良を低減して、コントラストを向上させることができる。   According to the liquid crystal display device of the present invention, the step of the liquid crystal layer at the boundary between the transmissive display area and the reflective display area is smoothed by the overcoat layer. Therefore, it is possible to reduce the liquid crystal alignment defect at the boundary and improve the contrast.

＜実施の形態１＞
図１は、本実施の形態に係る液晶表示装置の全体構造を示す斜視図である。図１に示すように、本実施の形態に係る液晶表示装置は、液晶表示パネル５０と、駆動回路５１と、光源５３と、光源制御回路５４とを備える。 <Embodiment 1>
FIG. 1 is a perspective view showing the overall structure of the liquid crystal display device according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device according to the present embodiment includes a liquid crystal display panel 50, a drive circuit 51, a light source 53, and a light source control circuit 54.

液晶表示パネル５０は、液晶層１と、透明なＣＦ基板２と、透明なＴＦＴ基板３とを備える。液晶表示パネル５０のＣＦ基板２とＴＦＴ基板３は、周辺部において互いにシールされており、それら基板の間に液晶が封入されて液晶層１が形成されている。ＣＦ基板２およびＴＦＴ基板３には、例えば、ガラス基板が用いられる。液晶表示パネル５０の表示領域５５には、複数の画素５６がマトリックス状に配列される。   The liquid crystal display panel 50 includes a liquid crystal layer 1, a transparent CF substrate 2, and a transparent TFT substrate 3. The CF substrate 2 and the TFT substrate 3 of the liquid crystal display panel 50 are sealed from each other at the periphery, and liquid crystal is sealed between the substrates to form the liquid crystal layer 1. For the CF substrate 2 and the TFT substrate 3, for example, a glass substrate is used. A plurality of pixels 56 are arranged in a matrix in the display area 55 of the liquid crystal display panel 50.

光源５３は、液晶表示パネル５０の背面側から正面方向（図１の上方向）へ光を照射する。光源５３には、例えば、一端にランプやＬＥＤを設置した導光板、または、面発光型のＬＥＤを用いる。光源制御回路５４には、駆動回路５１から画像の表示に関する信号が入力される。光源制御回路５４は、その信号に応じて光源５３を点滅したり明暗を変化させたりする。こうして、光源制御回路５４は、光源５３を制御する。   The light source 53 irradiates light from the back side of the liquid crystal display panel 50 in the front direction (upward direction in FIG. 1). As the light source 53, for example, a light guide plate having a lamp or LED installed at one end or a surface emitting LED is used. A signal relating to image display is input from the drive circuit 51 to the light source control circuit 54. The light source control circuit 54 blinks the light source 53 or changes the brightness according to the signal. Thus, the light source control circuit 54 controls the light source 53.

駆動回路５１は、液晶表示パネル５０を制御する。駆動回路５１のデータ入力部５２には、表示すべき画像データに対応する電気信号が入力される。駆動回路５１は、入力された電気信号に基づいて、液晶表示パネル５０の画素５６の光透過率を、画素５６ごとに制御する。こうして、液晶表示パネル５０から出射される光の明暗が、画素５６ごとに制御されることにより、表示領域５５に画像が表示される。なお、駆動回路５１は、表示領域５５外側のＴＦＴ基板３上に形成されていてもよい。   The drive circuit 51 controls the liquid crystal display panel 50. An electric signal corresponding to image data to be displayed is input to the data input unit 52 of the drive circuit 51. The drive circuit 51 controls the light transmittance of the pixels 56 of the liquid crystal display panel 50 for each pixel 56 based on the input electrical signal. Thus, the brightness of the light emitted from the liquid crystal display panel 50 is controlled for each pixel 56, so that an image is displayed in the display area 55. The drive circuit 51 may be formed on the TFT substrate 3 outside the display area 55.

図２は、本実施の形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネル５０の画素５６の構造を示す断面図である。上述したように、液晶表示パネル５０は、液晶層１と、ＣＦ基板２と、ＴＦＴ基板３とを備える。液晶表示パネル５０は、ＣＦ基板２側に、カラーフィルタ２１と、透明導電膜２２と、配向膜２３と、位相差層２４と、オーバーコート層２５と、配向膜２６と、偏光板２７とを備える。また、液晶表示パネル５０は、ＴＦＴ基板３側に、有機膜３１と、共通電極３２と、画素電極３３と、反射画素電極３４と、配向膜３５と、偏光板３６とを備える。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing the structure of the pixel 56 of the liquid crystal display panel 50 of the liquid crystal display device according to the present embodiment. As described above, the liquid crystal display panel 50 includes the liquid crystal layer 1, the CF substrate 2, and the TFT substrate 3. The liquid crystal display panel 50 includes a color filter 21, a transparent conductive film 22, an alignment film 23, a retardation layer 24, an overcoat layer 25, an alignment film 26, and a polarizing plate 27 on the CF substrate 2 side. Prepare. The liquid crystal display panel 50 includes an organic film 31, a common electrode 32, a pixel electrode 33, a reflective pixel electrode 34, an alignment film 35, and a polarizing plate 36 on the TFT substrate 3 side.

本実施の形態に係る液晶表示装置では、画素５６ごとに透過領域４および反射領域５が設けられ、透過領域４では光源５３の光を透過した場合に白表示し、反射領域５では液晶表示装置外部からの光を反射した場合に白表示する。   In the liquid crystal display device according to the present embodiment, the transmissive region 4 and the reflective region 5 are provided for each pixel 56, and the transmissive region 4 displays white when the light from the light source 53 is transmitted, and the reflective region 5 displays the liquid crystal display device. When external light is reflected, white is displayed.

本実施の形態に係る液晶表示装置が備える一方の基板（第２の基板）であるＣＦ基板２，他方の基板（第１の基板）であるＴＦＴ基板３は、互いに対向する対向面を有し、当該対向面それぞれに透過表示領域６，８と反射表示領域７，９とが位置を揃えて配置される。本実施の形態では、ＣＦ基板２の透過表示領域６は、透過領域４に配置されたＣＦ基板２の対向面であり、ＣＦ基板２の反射表示領域７は、反射領域５に配置されたＣＦ基板２の対向面である。同様に、ＴＦＴ基板３の透過表示領域８は、透過領域４に配置されたＴＦＴ基板３の対向面であり、ＴＦＴ基板３の反射表示領域９は、反射領域５に配置されたＴＦＴ基板３の対向面である。液晶層１は、ＴＦＴ基板３と、ＣＦ基板２のオーバーコート層２５との間に挟まれて形成される。   The CF substrate 2 which is one substrate (second substrate) included in the liquid crystal display device according to the present embodiment, and the TFT substrate 3 which is the other substrate (first substrate) have opposing surfaces facing each other. The transmissive display areas 6 and 8 and the reflective display areas 7 and 9 are arranged at the same position on the opposing surfaces. In the present embodiment, the transmissive display area 6 of the CF substrate 2 is the opposite surface of the CF substrate 2 disposed in the transmissive area 4, and the reflective display area 7 of the CF substrate 2 is the CF disposed in the reflective area 5. This is the opposite surface of the substrate 2. Similarly, the transmissive display area 8 of the TFT substrate 3 is a surface facing the TFT substrate 3 disposed in the transmissive area 4, and the reflective display area 9 of the TFT substrate 3 is the surface of the TFT substrate 3 disposed in the reflective area 5. It is an opposite surface. The liquid crystal layer 1 is formed between the TFT substrate 3 and the overcoat layer 25 of the CF substrate 2.

ＣＦ基板２とＴＦＴ基板３のうち、まず、ＴＦＴ基板３側の構成について説明する。共通電極３２および画素電極３３は、ＴＦＴ基板３の透過表示領域８上に、有機膜３１を介して形成される。これら画素電極３３と共通電極３２は、それぞれが異なる配線から電圧を印加されると、ＴＦＴ基板３面と平行方向の横電界を発生する。こうして、本実施の形態に係る液晶表示装置が備える共通電極３２および画素電極３３からなる電極対は、有機膜３１を介して、ＴＦＴ基板３の透過表示領域８上に形成され、横電界を発生する。共通電極３２および画素電極３３は、この横電界により、液晶層１の液晶分子１１の配向方向を制御する。   Of the CF substrate 2 and the TFT substrate 3, the configuration on the TFT substrate 3 side will be described first. The common electrode 32 and the pixel electrode 33 are formed on the transmissive display region 8 of the TFT substrate 3 via the organic film 31. The pixel electrode 33 and the common electrode 32 generate a lateral electric field in a direction parallel to the surface of the TFT substrate 3 when a voltage is applied from different wirings. Thus, an electrode pair including the common electrode 32 and the pixel electrode 33 provided in the liquid crystal display device according to the present embodiment is formed on the transmissive display region 8 of the TFT substrate 3 via the organic film 31, and generates a lateral electric field. To do. The common electrode 32 and the pixel electrode 33 control the alignment direction of the liquid crystal molecules 11 in the liquid crystal layer 1 by this lateral electric field.

本実施の形態に係る液晶表示装置が備える電極である反射画素電極３４は、有機膜３１を介して、ＴＦＴ基板３の反射表示領域９上に形成される。本実施の形態に係る反射表示領域９は、液晶表示装置外部からＣＦ基板２を介して入射された光を、正面側（図２上側）に向けて反射する。反射画素電極３４下の有機膜３１表面には、凹凸形状が形成されており、その有機膜３１上に形成された反射画素電極３４表面も凹凸形状となる。本実施の形態に係る液晶表示装置は、反射画素電極３４の凹凸形状により、液晶表示装置外部からの光を広い角度に反射し、光を拡散させることで視野角を広げている。なお、この図には示していないが、本実施の形態では、有機膜３１とＴＦＴ基板３との間に、反射画素電極３４の下方に、反射画素電極３４と接続する電極と絶縁膜を介して補助容量電極が形成されている。   The reflective pixel electrode 34 that is an electrode provided in the liquid crystal display device according to the present embodiment is formed on the reflective display region 9 of the TFT substrate 3 via the organic film 31. The reflective display area 9 according to the present embodiment reflects light incident from the outside of the liquid crystal display device via the CF substrate 2 toward the front side (upper side in FIG. 2). An uneven shape is formed on the surface of the organic film 31 below the reflective pixel electrode 34, and the surface of the reflective pixel electrode 34 formed on the organic film 31 also has an uneven shape. In the liquid crystal display device according to the present embodiment, due to the uneven shape of the reflective pixel electrode 34, light from the outside of the liquid crystal display device is reflected at a wide angle, and the viewing angle is widened by diffusing the light. Although not shown in this figure, in the present embodiment, an electrode connected to the reflective pixel electrode 34 and an insulating film are interposed between the organic film 31 and the TFT substrate 3 below the reflective pixel electrode 34. Thus, an auxiliary capacitance electrode is formed.

配向膜３５は、透過表示領域８上側では、有機膜３１、共通電極３２、画素電極３３上に形成され、反射表示領域９上側では、反射画素電極３４上に形成される。この配向膜３５、および、後述する配向膜２６は、それらの膜に接する液晶層１の液晶分子１１を一定方向に配向させるためのものである。   The alignment film 35 is formed on the organic film 31, the common electrode 32, and the pixel electrode 33 above the transmissive display region 8, and is formed on the reflective pixel electrode 34 above the reflective display region 9. The alignment film 35 and the alignment film 26 described later are for aligning the liquid crystal molecules 11 of the liquid crystal layer 1 in contact with these films in a certain direction.

次に、ＣＦ基板２側の構成について説明する。図２に示すように、本実施の形態に係る液晶表示装置が備えるカラーフィルタ２１は、ＣＦ基板２とオーバーコート層２５との間に形成される。本実施の形態では、カラーフィルタ２１は、ＣＦ基板２の透過表示領域６上および反射表示領域７上に形成される。カラーフィルタ２１は、色材膜であり、例えば、青、赤、緑の色のいずれかの光を透過する樹脂からなる。   Next, the configuration on the CF substrate 2 side will be described. As shown in FIG. 2, the color filter 21 provided in the liquid crystal display device according to the present embodiment is formed between the CF substrate 2 and the overcoat layer 25. In the present embodiment, the color filter 21 is formed on the transmissive display area 6 and the reflective display area 7 of the CF substrate 2. The color filter 21 is a color material film, and is made of, for example, a resin that transmits blue, red, or green light.

本実施の形態に係る液晶表示装置が備える透明導電膜２２は、ＣＦ基板２の透過表示領域６および反射表示領域７と、オーバーコート層２５との間に形成され、反射画素電極３４との間に縦電界を発生する。また、本実施の形態では、透明導電膜２２は、カラーフィルタ２１とオーバーコート層２５との間に形成される。また、本実施の形態に係る透明導電膜２２は、ＣＦ基板２の透過表示領域６上および反射表示領域７上のカラーフィルタ２１上に形成され、反射画素電極３４との間に縦電界を発生する。透明導電膜２２および反射画素電極３４は、ＣＦ基板２およびＴＦＴ基板３それぞれの基板面と垂直方向の縦電界を発生することにより、液晶層１の液晶分子１１をこれら基板と垂直に立ち上がらせる制御を行う。   The transparent conductive film 22 included in the liquid crystal display device according to the present embodiment is formed between the transmissive display region 6 and the reflective display region 7 of the CF substrate 2 and the overcoat layer 25, and between the reflective pixel electrode 34. Generates a vertical electric field. In the present embodiment, the transparent conductive film 22 is formed between the color filter 21 and the overcoat layer 25. The transparent conductive film 22 according to the present embodiment is formed on the color filter 21 on the transmissive display area 6 and the reflective display area 7 of the CF substrate 2, and generates a vertical electric field between the reflective pixel electrode 34. To do. The transparent conductive film 22 and the reflective pixel electrode 34 generate a vertical electric field in the direction perpendicular to the substrate surfaces of the CF substrate 2 and the TFT substrate 3, respectively, and thereby control the liquid crystal molecules 11 of the liquid crystal layer 1 to stand up perpendicularly to these substrates. I do.

ＣＦ基板２の透過表示領域６上側および反射表示領域７上側の透明導電膜２２上には、位相差層２４の遅相軸を定める配向膜２３が設けられている。本実施の形態に係る液晶表示装置が備える位相差層２４は、ＣＦ基板２の反射表示領域７上側の透明導電膜２２とオーバーコート層２５との間に形成され、１／４波長（以下、可視光の波長をλとして、λ／４と記すこともある）の位相差を生じさせる。位相差層２４の遅相軸は、配向膜２３により定められ、本実施の形態では、ＣＦ基板２側の偏光板２７の透過軸と４５°の角度をなす配置で設けられている。   On the transparent conductive film 22 on the upper side of the transmissive display area 6 and the upper side of the reflective display area 7 of the CF substrate 2, an alignment film 23 that defines the slow axis of the retardation layer 24 is provided. The retardation layer 24 included in the liquid crystal display device according to the present embodiment is formed between the transparent conductive film 22 and the overcoat layer 25 on the reflective display region 7 of the CF substrate 2, and has a quarter wavelength (hereinafter referred to as “the wavelength layer”). A phase difference of λ / 4 is also generated, where λ is the wavelength of visible light. The slow axis of the retardation layer 24 is determined by the alignment film 23, and in the present embodiment, the slow axis is provided at an angle of 45 ° with the transmission axis of the polarizing plate 27 on the CF substrate 2 side.

本実施の形態に係る液晶表示装置が備えるオーバーコート層２５は、ＣＦ基板２の透過表示領域６上側および反射表示領域７上側に形成される。図に示すように、オーバーコート層２５は、液晶層１側に平坦な面を有する。液晶層１の液晶分子１１を一定方向に配向させる配向膜２６は、透過表示領域６上側および反射表示領域７上側のオーバーコート層２５上に形成される。   The overcoat layer 25 provided in the liquid crystal display device according to the present embodiment is formed on the upper side of the transmissive display area 6 and the upper side of the reflective display area 7 of the CF substrate 2. As shown in the figure, the overcoat layer 25 has a flat surface on the liquid crystal layer 1 side. An alignment film 26 that aligns the liquid crystal molecules 11 of the liquid crystal layer 1 in a certain direction is formed on the overcoat layer 25 on the upper side of the transmissive display region 6 and the upper side of the reflective display region 7.

液晶層１は、ＴＦＴ基板３とオーバーコート層２５との間に挟まれて形成される。液晶層１の液晶分子１１には、正の誘電異方性を有するポジ型液晶を用いる。こうして、本実施の形態に係る液晶層１は、ポジ型液晶を有し、ＴＦＴ基板３とオーバーコート層２５との間に挟まれて形成される。本実施の形態に係る液晶表示装置では、ＴＦＴ基板３の透過表示領域８とオーバーコート層２５との間の液晶層１の厚みと、ＴＦＴ基板３の反射表示領域９とオーバーコート層２５との間の液晶層１の厚みとは略等しくしている。また、上述したように、オーバーコート層２５は、液晶層１側に平坦な面を有している。このため、液晶層１は、透過表示領域６，８と反射表示領域７，９との境界に段差がない構造となる。   The liquid crystal layer 1 is formed by being sandwiched between the TFT substrate 3 and the overcoat layer 25. As the liquid crystal molecules 11 of the liquid crystal layer 1, positive type liquid crystal having positive dielectric anisotropy is used. Thus, the liquid crystal layer 1 according to the present embodiment has a positive type liquid crystal and is formed so as to be sandwiched between the TFT substrate 3 and the overcoat layer 25. In the liquid crystal display device according to the present embodiment, the thickness of the liquid crystal layer 1 between the transmissive display region 8 of the TFT substrate 3 and the overcoat layer 25, the reflection display region 9 of the TFT substrate 3, and the overcoat layer 25. The thickness of the liquid crystal layer 1 between them is substantially equal. Further, as described above, the overcoat layer 25 has a flat surface on the liquid crystal layer 1 side. Therefore, the liquid crystal layer 1 has a structure in which there is no step at the boundary between the transmissive display areas 6 and 8 and the reflective display areas 7 and 9.

配向膜２６，３５は、紙面の手前奥行方向に対して５〜１５°ずれた方向にラビングされている。ＴＦＴ基板３の配向膜３５のラビング方向は、ＣＦ基板２の配向膜２６ラビング方向と１８０°変えている。これら配向膜２６，３５により、図２に示すように、液晶分子１１は、ホモジニアス配向する。   The alignment films 26 and 35 are rubbed in a direction shifted by 5 to 15 ° with respect to the front depth direction of the paper surface. The rubbing direction of the alignment film 35 of the TFT substrate 3 is changed by 180 ° from the rubbing direction of the alignment film 26 of the CF substrate 2. With these alignment films 26 and 35, the liquid crystal molecules 11 are homogeneously aligned as shown in FIG.

こうして、液晶分子１１は、配向膜２６，３５により、共通電極３２と画素電極３３との間に生じる横電界に沿うように配向される。有機膜３１を介して透過表示領域８上に互いに対向して形成された共通電極３２および画素電極３３は、液晶層１内に、ＴＦＴ基板３の基板面と平行方向の横電界を発生する。この横電界は、液晶分子１１を液晶表示パネル５０の面に平行な面内で回転させる。液晶分子１１が回転すると、液晶層１を通過する光の偏光の状態が変化する。こうして、共通電極３２および画素電極３３は、横電界を発生することにより、液晶層１を通過する光の偏光の状態を制御する。共通電極３２および画素電極３３の横電界の強度は、図１の駆動回路５１によって制御される。   Thus, the liquid crystal molecules 11 are aligned along the lateral electric field generated between the common electrode 32 and the pixel electrode 33 by the alignment films 26 and 35. The common electrode 32 and the pixel electrode 33 formed opposite to each other on the transmissive display region 8 through the organic film 31 generate a lateral electric field in the liquid crystal layer 1 in a direction parallel to the substrate surface of the TFT substrate 3. This lateral electric field rotates the liquid crystal molecules 11 in a plane parallel to the plane of the liquid crystal display panel 50. When the liquid crystal molecules 11 rotate, the polarization state of light passing through the liquid crystal layer 1 changes. Thus, the common electrode 32 and the pixel electrode 33 control the polarization state of light passing through the liquid crystal layer 1 by generating a lateral electric field. The strength of the transverse electric field of the common electrode 32 and the pixel electrode 33 is controlled by the drive circuit 51 in FIG.

液晶層１に対して反対側のＣＦ基板２の表面上には、透過領域４と反射領域５に共通の偏光板２７が設けられ、液晶層１に対して反対側のＴＦＴ基板３の表面上には、透過領域４と反射領域５に共通の偏光板３６が設けられる。この偏光板２７，３６のうち一方の偏光板の透過軸は、液晶層１の液晶配向方向と平行となるように配置し、他方の偏光板の透過軸は、液晶配向方向と垂直となるように配置する。   On the surface of the CF substrate 2 opposite to the liquid crystal layer 1, a common polarizing plate 27 is provided for the transmission region 4 and the reflection region 5, and on the surface of the TFT substrate 3 opposite to the liquid crystal layer 1. A common polarizing plate 36 is provided in the transmissive region 4 and the reflective region 5. Among the polarizing plates 27 and 36, the transmission axis of one polarizing plate is arranged to be parallel to the liquid crystal alignment direction of the liquid crystal layer 1, and the transmission axis of the other polarizing plate is perpendicular to the liquid crystal alignment direction. To place.

図２には図示しないが、液晶表示パネル５０のＴＦＴ基板３側（図２の下側）には、図１の光源５３が配置される。この光源５３からの光は、透過領域４では、ＴＦＴ基板３の偏光板３６を経て直線偏光となり、液晶層１を経た後、カラーフィルタ２１を通る。このカラーフィルタ２１で特定の波長の光が強い着色され、ＣＦ基板２の偏光板２７を通じて、液晶表示パネル５０の正面側（図２上側）に光が出射する。液晶表示パネル５０から正面側に出射される光の強度は、偏光板２７，３６の透過軸の方向と、液晶層１を通過する際に変化する光の偏光の状態により変わる。液晶層１の偏光の状態は、上述したように、共通電極３２および画素電極３３により制御される。そのため、共通電極３２および画素電極３３は、横電界を制御して、液晶表示パネル５０から正面側に出射される光の強度を変更する。   Although not shown in FIG. 2, the light source 53 of FIG. 1 is arranged on the TFT substrate 3 side (lower side of FIG. 2) of the liquid crystal display panel 50. In the transmissive region 4, the light from the light source 53 becomes linearly polarized light through the polarizing plate 36 of the TFT substrate 3, passes through the liquid crystal layer 1, and then passes through the color filter 21. Light of a specific wavelength is strongly colored by the color filter 21, and light is emitted to the front side (upper side in FIG. 2) of the liquid crystal display panel 50 through the polarizing plate 27 of the CF substrate 2. The intensity of the light emitted from the liquid crystal display panel 50 to the front side varies depending on the direction of the transmission axis of the polarizing plates 27 and 36 and the polarization state of the light that changes when passing through the liquid crystal layer 1. The polarization state of the liquid crystal layer 1 is controlled by the common electrode 32 and the pixel electrode 33 as described above. Therefore, the common electrode 32 and the pixel electrode 33 change the intensity of light emitted from the liquid crystal display panel 50 to the front side by controlling the lateral electric field.

このように、本実施の形態に係る液晶表示装置は、透過領域４では、液晶表示パネル５０と平行な面内で液晶分子１１を回転させて、正面側に出射される光を制御する横電界方式のＩＰＳ方式を採用している。一方、本実施の形態に係る液晶表示装置は、反射領域５では、上述したように、液晶表示パネル５０とほぼ垂直な方向に液晶分子１１を立ち上がらせて、正面側に出射される光を制御する縦電界方式のＥＣＢ方式を採用している。   As described above, in the liquid crystal display device according to the present embodiment, in the transmissive region 4, the liquid crystal molecules 11 are rotated in a plane parallel to the liquid crystal display panel 50 to control the light emitted to the front side. The IPS method is adopted. On the other hand, in the liquid crystal display device according to the present embodiment, in the reflection region 5, as described above, the liquid crystal molecules 11 are raised in a direction substantially perpendicular to the liquid crystal display panel 50 to control the light emitted to the front side. The vertical electric field type ECB method is adopted.

図３は、透過領域４における液晶表示パネル５０の構造を示す断面図である。この図を用いて、液晶層１、オーバーコート層２５、共通電極３２、画素電極３３、透明導電膜２２の距離関係を説明する。なお、本実施の形態に係る液晶表示パネル５０は、図に示すように、ＣＦ基板２側に黒色樹脂からなるブラックマトリックス層２８をさらに備える。このブラックマトリックス層２８は、カラーフィルタ２１の各色を表示する画素５６ごとに、遮光部として形成される。図に示すように、カラーフィルタ２１は、平面視においてブラックマトリックス層２８により囲われている。   FIG. 3 is a cross-sectional view showing the structure of the liquid crystal display panel 50 in the transmissive region 4. The distance relationship among the liquid crystal layer 1, the overcoat layer 25, the common electrode 32, the pixel electrode 33, and the transparent conductive film 22 will be described with reference to this figure. The liquid crystal display panel 50 according to the present embodiment further includes a black matrix layer 28 made of a black resin on the CF substrate 2 side as shown in the figure. The black matrix layer 28 is formed as a light shielding portion for each pixel 56 that displays each color of the color filter 21. As shown in the figure, the color filter 21 is surrounded by a black matrix layer 28 in plan view.

上述の共通電極３２および画素電極３３からなる電極対同士は、互いに距離ｄ１だけ離れて形成されている。ＣＦ基板２とＴＦＴ基板３との間には、液晶層１の厚みｄ２を決める図示しないスペーサが配置されている。透明導電膜２２と、共通電極３２および画素電極３３との間の距離ｄ３は、液晶層１、配向膜２３，２６、オーバーコート層２５それぞれの厚みの和である。このうち、配向膜２３，２６の厚みは、例えば、１００ｎｍ程度であり、液晶層１の厚みｄ２や、オーバーコート層２５の厚みｄ４の１／１０以下であるため無視できる。そのため、透明導電膜２２と、共通電極３２および画素電極３３との間の距離ｄ３は、液晶層１の厚みｄ２と、オーバーコート層２５の厚みｄ４との和で決まる。   The electrode pairs composed of the common electrode 32 and the pixel electrode 33 described above are formed apart from each other by a distance d1. A spacer (not shown) that determines the thickness d2 of the liquid crystal layer 1 is disposed between the CF substrate 2 and the TFT substrate 3. The distance d3 between the transparent conductive film 22, the common electrode 32, and the pixel electrode 33 is the sum of the thicknesses of the liquid crystal layer 1, the alignment films 23 and 26, and the overcoat layer 25. Among these, the thickness of the alignment films 23 and 26 is, for example, about 100 nm, and can be ignored because it is 1/10 or less of the thickness d2 of the liquid crystal layer 1 and the thickness d4 of the overcoat layer 25. Therefore, the distance d3 between the transparent conductive film 22, the common electrode 32, and the pixel electrode 33 is determined by the sum of the thickness d2 of the liquid crystal layer 1 and the thickness d4 of the overcoat layer 25.

本実施の形態では、透過領域４の透過率を最大にするため、液晶層１の厚みｄ２が、液晶層１の液晶の複屈折Δｎとの積、つまり、ｄ２×Δｎがおよそλ／２となるように設計する。ＩＰＳ方式の液晶表示パネルに用いられる液晶の複屈折Δｎの範囲を、０．０８〜０．１１程度とし、可視光の波長λを５６０ｎｍとすると、液晶層１の厚みｄ２の範囲は、２．５〜３．５μｍとなる。このように、液晶層１の厚みｄ２の自由度が小さいため、オーバーコート層２５の厚みｄ４で調整することにより、液晶層１の厚みｄ２と、オーバーコート層２５の厚みｄ４との和が、画素電極３３と共通電極３２との距離ｄ１よりも大きくする。   In the present embodiment, in order to maximize the transmittance of the transmissive region 4, the thickness d2 of the liquid crystal layer 1 is the product of the birefringence Δn of the liquid crystal of the liquid crystal layer 1, that is, d2 × Δn is approximately λ / 2. Design to be. When the range of the birefringence Δn of the liquid crystal used in the IPS liquid crystal display panel is about 0.08 to 0.11, and the wavelength λ of visible light is 560 nm, the range of the thickness d2 of the liquid crystal layer 1 is 2. 5 to 3.5 μm. Thus, since the degree of freedom of the thickness d2 of the liquid crystal layer 1 is small, the sum of the thickness d2 of the liquid crystal layer 1 and the thickness d4 of the overcoat layer 25 is adjusted by adjusting the thickness d4 of the overcoat layer 25. The distance d1 between the pixel electrode 33 and the common electrode 32 is set larger.

このように形成することで、本実施の形態に係る液晶表示装置は、透過表示領域６上の透明導電膜２２と、共通電極３２および画素電極３３からなる電極対との間の距離ｄ３（≒ｄ２＋ｄ４）は、画素電極３３と共通電極３２との間の距離ｄ１よりも大きくしている。なお、画素電極３３の高さと、共通電極３２の高さとが互いに異なる電極構造を有する場合には、それらの電極のうち透明導電膜２２に近い方の電極と透明導電膜２２との間の距離を、上述の距離ｄ３とする。   By forming in this way, the liquid crystal display device according to the present embodiment has a distance d3 (≈) between the transparent conductive film 22 on the transmissive display region 6 and the electrode pair including the common electrode 32 and the pixel electrode 33. d2 + d4) is larger than the distance d1 between the pixel electrode 33 and the common electrode 32. When the pixel electrode 33 and the common electrode 32 have different electrode structures, the distance between the electrode closer to the transparent conductive film 22 and the transparent conductive film 22 among these electrodes. Is the above-mentioned distance d3.

以上は透過領域４の構成の位置関係について説明した。一方、反射領域５では、図２に示すように、ＣＦ基板２の透明導電膜２２と、ＴＦＴ基板３の反射画素電極３４との間に、液晶層１、および、配向膜２３，２６，３５、および、位相差層２４、および、オーバーコート層２５が存在する。透明導電膜２２と反射画素電極３４との間に印加された電圧は、これら各層、各膜に分圧される。そのため、オーバーコート層２５の厚みｄ４が変わると、液晶層１に印加される電圧も変わる。   The positional relationship of the configuration of the transmissive region 4 has been described above. On the other hand, in the reflective region 5, as shown in FIG. 2, the liquid crystal layer 1 and the alignment films 23, 26, 35 are disposed between the transparent conductive film 22 of the CF substrate 2 and the reflective pixel electrode 34 of the TFT substrate 3. The retardation layer 24 and the overcoat layer 25 exist. The voltage applied between the transparent conductive film 22 and the reflective pixel electrode 34 is divided into these layers and films. Therefore, when the thickness d4 of the overcoat layer 25 changes, the voltage applied to the liquid crystal layer 1 also changes.

そこで、上述の条件（ｄ２＋ｄ４＞ｄ１）を満たす範囲で、オーバーコート層２５の厚みｄ４を調整することにより、反射領域５における電圧の分圧比を調整する。本実施の形態では、透過領域４の液晶表示パネル５０の透過率を最大にする電圧を、反射領域５の透明導電膜２２と反射画素電極３４との間に印加して縦電界を発生したときに、液晶層１の位相差がλ／４となるように厚みｄ４を調整する。これにより、本実施の形態に係る液晶表示パネル５０は、透過領域４の電圧−透過率特性と、反射領域５の電圧−透過率特性とを揃えたものになっている。   Therefore, the voltage division ratio in the reflective region 5 is adjusted by adjusting the thickness d4 of the overcoat layer 25 within a range that satisfies the above-described condition (d2 + d4> d1). In the present embodiment, when a voltage that maximizes the transmittance of the liquid crystal display panel 50 in the transmissive region 4 is applied between the transparent conductive film 22 and the reflective pixel electrode 34 in the reflective region 5 to generate a vertical electric field. In addition, the thickness d4 is adjusted so that the phase difference of the liquid crystal layer 1 is λ / 4. Thereby, the liquid crystal display panel 50 according to the present embodiment has the voltage-transmittance characteristics of the transmissive region 4 and the voltage-transmittance characteristics of the reflective region 5 aligned.

図４は、本実施の形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネル５０の動作を示す断面図である。共通電極３２および画素電極３３は、本実施の形態では、後述するように櫛型に形成されているため、以下、これら電極をあわせて櫛型電極３２，３３と記すこともある。また、透明導電膜２２と反射画素電極３４とをあわせて上下電極２２，３４と記すこともある。   FIG. 4 is a cross-sectional view showing the operation of the liquid crystal display panel 50 of the liquid crystal display device according to the present embodiment. In the present embodiment, the common electrode 32 and the pixel electrode 33 are formed in a comb shape as will be described later. Therefore, these electrodes may be collectively referred to as comb electrodes 32 and 33 hereinafter. The transparent conductive film 22 and the reflective pixel electrode 34 may be collectively referred to as upper and lower electrodes 22 and 34.

図４（ａ）は、透過領域４では櫛型電極３２，３３同士の間、および、反射領域５では上下電極２２，３４の間に電圧を印加しない非駆動状態を示す。非駆動状態では、液晶層１の液晶は水平配向、つまり、ホモジニアス配向状態となる。図４（ｂ）は、透過領域４では櫛型電極３２，３３同士の間、および、反射領域５では上下電極２２，３４の間に電圧を印加した駆動状態を示す。駆動状態では、図の矢印に示すように、透過領域４では横電界が生じ、反射領域５では縦電界が生じる。   FIG. 4A shows a non-driven state in which no voltage is applied between the comb electrodes 32 and 33 in the transmissive region 4 and between the upper and lower electrodes 22 and 34 in the reflective region 5. In the non-driven state, the liquid crystal of the liquid crystal layer 1 is in a horizontal alignment, that is, a homogeneous alignment state. FIG. 4B shows a driving state in which a voltage is applied between the comb electrodes 32 and 33 in the transmission region 4 and between the upper and lower electrodes 22 and 34 in the reflection region 5. In the driving state, as indicated by the arrows in the figure, a horizontal electric field is generated in the transmissive region 4 and a vertical electric field is generated in the reflective region 5.

駆動状態にすると、図４（ｂ）に示すように、透過領域４および反射領域５それぞれにおいて、液晶分子１１が電界方向を示す電気力線に沿って回転する。このとき、液晶配向方向と電極奥行き方向とを５〜１５°ずらしているため、これら電極間に電圧を印加したときの液晶分子１１の回転方向が一様に定まり、ドメインの発生を抑えられる。電圧印加をなくし、非駆動状態に戻すと、図４（ａ）のように、液晶層１中の液晶分子１１は、配向膜２６，３５に従ったホモジニアス配向に戻る。次に、非駆動状態、駆動状態それぞれでの透過領域４、反射領域５それぞれの光の進み方について説明する。   In the driving state, as shown in FIG. 4B, in each of the transmission region 4 and the reflection region 5, the liquid crystal molecules 11 rotate along the electric lines of force indicating the electric field direction. At this time, since the liquid crystal alignment direction and the electrode depth direction are shifted by 5 to 15 °, the rotation direction of the liquid crystal molecules 11 when a voltage is applied between these electrodes is uniformly determined, and the occurrence of domains can be suppressed. When the voltage application is removed and the non-driving state is restored, the liquid crystal molecules 11 in the liquid crystal layer 1 return to the homogeneous alignment according to the alignment films 26 and 35 as shown in FIG. Next, how light travels in the transmissive region 4 and the reflective region 5 in the non-driven state and the driven state, respectively, will be described.

図４（ａ）の非駆動状態の透過領域４では、ＴＦＴ基板３下側の光源５３から発せられた光は、偏光板３６を通過して直線偏光となる。この直線偏光と液晶層１の軸は一致しているため、偏光板３６を通過した光の偏光状態は変化することなくＣＦ基板２の偏光板２７に到達する。上述したように、ＣＦ基板２の偏光板２７と、ＴＦＴ基板３の偏光板３６は、互いに透過軸が直交するように設けたため、この到達した直線偏光は、透過軸が直交するＣＦ基板２の偏光板２７に全て吸収される。このため、非駆動状態では、透過領域４において黒表示となる。   In the transmission region 4 in the non-driven state in FIG. 4A, the light emitted from the light source 53 below the TFT substrate 3 passes through the polarizing plate 36 and becomes linearly polarized light. Since the linearly polarized light and the axis of the liquid crystal layer 1 coincide with each other, the polarization state of the light passing through the polarizing plate 36 reaches the polarizing plate 27 of the CF substrate 2 without changing. As described above, the polarizing plate 27 of the CF substrate 2 and the polarizing plate 36 of the TFT substrate 3 are provided so that their transmission axes are orthogonal to each other. All is absorbed by the polarizing plate 27. For this reason, in the non-driving state, black display is performed in the transmissive region 4.

一方、図４（ａ）の非駆動状態の反射領域５では、液晶表示装置外部の光は、ＣＦ基板２の偏光板２７を通過して直線偏光となる。この直線偏光は、ＣＦ基板２のλ／４の位相差を生じさせる位相差層２４を通過して円偏光となる。この円偏光が、λ／２の位相差を生じさせる液晶層１を通過し、反射画素電極３４で反射され、再度、液晶層１を通過すると、元の円偏光とは回転方向が異なる円偏光となる。反射してきた円偏光が、再度、ＣＦ基板２のλ／４の位相差を生じさせる位相差層２４通過すると、元の直線偏光とは軸が直交する直線偏光となるため、ＣＦ基板２の偏光板２７に到達した直線偏光は、偏光板２７に全て吸収される。このため、非駆動状態では、反射領域５においても黒表示となる。   On the other hand, in the reflection region 5 in the non-driven state in FIG. 4A, the light outside the liquid crystal display device passes through the polarizing plate 27 of the CF substrate 2 and becomes linearly polarized light. This linearly polarized light passes through the phase difference layer 24 that causes a phase difference of λ / 4 of the CF substrate 2 and becomes circularly polarized light. When this circularly polarized light passes through the liquid crystal layer 1 causing a phase difference of λ / 2, is reflected by the reflective pixel electrode 34, and passes through the liquid crystal layer 1 again, the circularly polarized light having a rotation direction different from that of the original circularly polarized light. It becomes. When the reflected circularly polarized light passes through the retardation layer 24 that causes the phase difference of λ / 4 of the CF substrate 2 again, it becomes linearly polarized light whose axis is orthogonal to the original linearly polarized light. All the linearly polarized light that reaches the plate 27 is absorbed by the polarizing plate 27. For this reason, in the non-driving state, the reflective area 5 is also displayed in black.

次に、図４（ｂ）の駆動状態の透過領域４では、櫛型電極３２，３３同士の間に電圧が印加されて、液晶分子１１が液晶表示パネル５０と水平な面内で回転している。このとき、透過領域４では、ＴＦＴ基板３下側の光源５３から発せられた光は、偏光板３６を通過して直線偏光となる。この直線偏光は、λ／２の位相差を生じさせる液晶層１を通過して、元の直線偏光とは軸が異なる直線偏光となり、ＣＦ基板２の偏光板２７に到達する。この到達した直線偏光は、ＣＦ基板２の偏光板２７を通過できる。このため、駆動状態では、透過領域４において白表示となる。   Next, in the transmissive region 4 in the driving state shown in FIG. 4B, a voltage is applied between the comb electrodes 32 and 33, and the liquid crystal molecules 11 rotate in a plane parallel to the liquid crystal display panel 50. Yes. At this time, in the transmissive region 4, the light emitted from the light source 53 below the TFT substrate 3 passes through the polarizing plate 36 and becomes linearly polarized light. This linearly polarized light passes through the liquid crystal layer 1 that causes a phase difference of λ / 2, becomes linearly polarized light having an axis different from that of the original linearly polarized light, and reaches the polarizing plate 27 of the CF substrate 2. The reached linearly polarized light can pass through the polarizing plate 27 of the CF substrate 2. For this reason, in the driving state, white display is performed in the transmissive region 4.

一方、図４（ｂ）の駆動状態の反射領域５では、上下電極２２，３４の間に電圧が印加されて、液晶分子１１が液晶表示パネル５０の面に対して立ち上がる。このとき、反射領域５では、液晶表示装置外部の光は、ＣＦ基板２の偏光板２７を通過して直線偏光となる。この直線偏光は、ＣＦ基板２のλ／４の位相差を生じさせる位相差層２４を通過して円偏光となる。この円偏光が、λ／４の位相差を生じさせる液晶層１を通過し、反射画素電極３４で反射され、再度、液晶層１を通過すると、元の円偏光と同じ回転方向の円偏光となる。反射してきた円偏光が、再度、ＣＦ基板２のλ／４の位相差を生じさせる位相差層２４を通過すると、元の直線偏光と軸が一致する直線偏光となるため、ＣＦ基板２の偏光板２７に到達した直線偏光は、偏光板２７を通過することができる。このため、駆動状態では、反射領域５においても白表示となる。   On the other hand, in the reflection region 5 in the driving state in FIG. 4B, a voltage is applied between the upper and lower electrodes 22 and 34, and the liquid crystal molecules 11 rise with respect to the surface of the liquid crystal display panel 50. At this time, in the reflection region 5, the light outside the liquid crystal display device passes through the polarizing plate 27 of the CF substrate 2 and becomes linearly polarized light. This linearly polarized light passes through the phase difference layer 24 that causes a phase difference of λ / 4 of the CF substrate 2 and becomes circularly polarized light. When this circularly polarized light passes through the liquid crystal layer 1 causing a phase difference of λ / 4, is reflected by the reflective pixel electrode 34, and passes through the liquid crystal layer 1 again, circularly polarized light having the same rotational direction as the original circularly polarized light is obtained. Become. When the reflected circularly polarized light passes through the retardation layer 24 that causes the phase difference of λ / 4 of the CF substrate 2 again, it becomes linearly polarized light whose axis coincides with the original linearly polarized light. The linearly polarized light that reaches the plate 27 can pass through the polarizing plate 27. For this reason, in the drive state, white display is also performed in the reflection region 5.

図５は、一の画素５６の領域（以下、画素領域と記すこともある）におけるＴＦＴ基板３の構成を示す平面図である。図の上側には透過領域４、下側には反射領域５が示されており、それぞれの領域の電極が電気的に接続されている。画素電極３３は、反射画素電極３４と接続されている。ソース線Ｓの電位は、ＴＦＴ５７を介して、画素電極３３および反射画素電極３４に伝えられる。   FIG. 5 is a plan view showing the configuration of the TFT substrate 3 in the region of one pixel 56 (hereinafter sometimes referred to as a pixel region). A transmissive region 4 is shown on the upper side of the drawing, and a reflective region 5 is shown on the lower side, and the electrodes of the respective regions are electrically connected. The pixel electrode 33 is connected to the reflective pixel electrode 34. The potential of the source line S is transmitted to the pixel electrode 33 and the reflective pixel electrode 34 through the TFT 57.

本実施の形態では、ＴＦＴ基板３の透過領域４には、平面視で櫛型の形状を有し、その櫛の歯同士が相互に組み合わさった上述の共通電極３２と画素電極３３とが、インターデジタル型の配置で設けられている。共通電極３２の櫛の歯と、画素電極３３の櫛の歯とが、互いに近接して平行に設けられており、また、その間隔は一定となるように設けられている。そのため、共通電極３２の櫛の歯と、画素電極３３の櫛の歯との間それぞれには、面内ではおおむね同じ方向に均一な強度を有する電界が発生する。   In the present embodiment, the transmissive region 4 of the TFT substrate 3 has a comb shape in plan view, and the above-described common electrode 32 and pixel electrode 33 in which the comb teeth are combined with each other, It is provided in an interdigital type arrangement. The comb teeth of the common electrode 32 and the comb teeth of the pixel electrode 33 are provided close to each other in parallel, and the distance between them is set to be constant. For this reason, an electric field having a uniform intensity is generated in the same direction in the plane between the comb teeth of the common electrode 32 and the comb teeth of the pixel electrode 33.

なお、共通電極３２と画素電極３３の形状は、これに限ったものではなく、面内での電界方向が複数となるように、櫛の歯の方向を複数有する共通電極３２と画素電極３３とを組み合わせた構造としてもよい。また、画素電極３３の歯と共通電極３２の歯との間にそれぞれ発生する電界方向と電界強度とがおおむね同じとなるのであれば、それぞれが櫛型でなくてもよい。例えば、一方の電極が魚骨のような形状を有し、他方の電極の櫛の歯がその骨同士の間に位置するような構成してもよい。その構成であれば、歯それぞれの距離が一定で、かつ、互いに平行となる構成となるため、電界方向と電界強度とをおおむね同じにすることができる。また、上述の構成では、共通電極３２の櫛の歯と、画素電極３３の櫛の歯は、相互に平行な直線形状とした。しかし、これに限ったものではなく、それぞれの歯が曲線形状で、かつ、歯同士の間隔が一定の共通電極３２、画素電極３３であってもよい。   Note that the shapes of the common electrode 32 and the pixel electrode 33 are not limited to this, and the common electrode 32 and the pixel electrode 33 having a plurality of comb tooth directions so that there are a plurality of electric field directions in the surface. It is good also as a structure which combined. In addition, as long as the electric field direction and the electric field intensity generated between the teeth of the pixel electrode 33 and the teeth of the common electrode 32 are substantially the same, they may not be comb-shaped. For example, one electrode may have a shape like a fish bone, and the comb teeth of the other electrode may be positioned between the bones. If it is the structure, since the distance of each tooth | gear is constant and it becomes the structure which is mutually parallel, an electric field direction and electric field strength can be made substantially the same. In the above-described configuration, the comb teeth of the common electrode 32 and the comb teeth of the pixel electrode 33 have a linear shape parallel to each other. However, the present invention is not limited to this, and the common electrode 32 and the pixel electrode 33 may be used in which each tooth has a curved shape and the distance between the teeth is constant.

ＴＦＴ基板３の反射領域５には、面状の反射画素電極３４が形成される。この反射画素電極３４は、上述したように、ＣＦ基板２の透明導電膜２２との間に縦電界を発生する。反射画素電極３４の下層には、図示しない絶縁膜を介して上述の補助容量電極３７が形成されている。反射領域５では、液晶表示パネル５０に入射した外部光を反射し、当該反射光を光源に用いるため、反射画素電極３４には、反射率の高い金属で形成することが望ましい。   A planar reflective pixel electrode 34 is formed in the reflective region 5 of the TFT substrate 3. As described above, the reflective pixel electrode 34 generates a vertical electric field with the transparent conductive film 22 of the CF substrate 2. The above-described auxiliary capacitance electrode 37 is formed below the reflective pixel electrode 34 through an insulating film (not shown). In the reflective region 5, the external light incident on the liquid crystal display panel 50 is reflected and the reflected light is used as a light source. Therefore, the reflective pixel electrode 34 is preferably formed of a metal having high reflectance.

なお、本実施の形態では、上述のように、外部光を反射する反射画素電極３４を用いたが、これに限ったものではない。例えば、反射画素電極３４の代わりに、透明な材料からなる電極を形成し、その電極の下層に透明な材料からなる絶縁膜を形成し、その絶縁膜の下層に反射率の高い補助容量電極３７を形成する構成であってもよい。また、透過領域４の画素電極の材料と、反射領域５の画素電極の材料とを同一にした場合には、同一の工程で作成することができ、プロセスが簡便となる。   In the present embodiment, as described above, the reflective pixel electrode 34 that reflects external light is used. However, the present invention is not limited to this. For example, instead of the reflective pixel electrode 34, an electrode made of a transparent material is formed, an insulating film made of a transparent material is formed under the electrode, and an auxiliary capacitance electrode 37 having a high reflectance is formed under the insulating film. The structure which forms may be sufficient. In addition, when the material of the pixel electrode in the transmissive region 4 and the material of the pixel electrode in the reflective region 5 are the same, they can be created in the same process, and the process becomes simple.

透過領域４と反射領域５とからなる画素領域内には、ソース線Ｓ、後述するゲート線、後述するコモン線が接続される。これらの線を通じて、図１に示した駆動回路５１から、画素領域に電気信号が送られる。画素領域内には、ゲート線の信号に応じてオンオフが制御されるＴＦＴ５７が設置される。ＴＦＴ５７のソースはソース線Ｓに、ドレインは反射画素電極３４に、ゲートはゲート線に接続される。ゲート線からの電気信号によって、ＴＦＴ５７はオンとなり、ソース線Ｓの電位が反射画素電極３４および画素電極３３に伝えられる。共通電極３２は、コモン線に接続されており、一定の電圧が印加される。こうして、画素電極３３および反射画素電極３４の電位は、ソース線Ｓから与えられ、共通電極３２の電位は、コモン線から与えられる。なお、反射領域５では、反射画素電極３４の下層に補助容量電極３７を設置しているので、次にＴＦＴ５７をオンとする信号が入力されるまで、画素電極３３および反射画素電極３４の電位は保持される。   A source line S, a gate line, which will be described later, and a common line, which will be described later, are connected to the pixel region including the transmissive region 4 and the reflective region 5. Through these lines, an electric signal is sent from the drive circuit 51 shown in FIG. 1 to the pixel region. In the pixel region, a TFT 57 whose on / off is controlled in accordance with a signal of the gate line is provided. The source of the TFT 57 is connected to the source line S, the drain is connected to the reflective pixel electrode 34, and the gate is connected to the gate line. The TFT 57 is turned on by the electrical signal from the gate line, and the potential of the source line S is transmitted to the reflective pixel electrode 34 and the pixel electrode 33. The common electrode 32 is connected to a common line, and a constant voltage is applied. Thus, the potential of the pixel electrode 33 and the reflective pixel electrode 34 is applied from the source line S, and the potential of the common electrode 32 is applied from the common line. In addition, since the auxiliary capacitance electrode 37 is provided in the lower layer of the reflective pixel electrode 34 in the reflective region 5, the potentials of the pixel electrode 33 and the reflective pixel electrode 34 are not changed until a signal for turning on the TFT 57 is input next time. Retained.

図６は、本実施の形態に係る液晶表示装置の構造を示す平面図である。この図６には、画像信号処理回路５８、走査回路５９、信号回路６０、透明導電膜制御回路６１、ＣＦ基板２の透明導電膜２２、ＴＦＴ基板３のＴＦＴ５７が示されている。この図に示される画像信号処理回路５８および走査回路５９および信号回路６０および透明導電膜制御回路６１は、図１に示した駆動回路５１を構成する。この図では、透明導電膜２２は、破線で示されている。本実施の形態に係る透明導電膜２２は、マトリックス状に配列された複数の画素５６からなる表示領域５５の全体に、四角形状のパターンを有する透明導電膜２２が対向して設けられている。   FIG. 6 is a plan view showing the structure of the liquid crystal display device according to the present embodiment. FIG. 6 shows an image signal processing circuit 58, a scanning circuit 59, a signal circuit 60, a transparent conductive film control circuit 61, a transparent conductive film 22 on the CF substrate 2, and a TFT 57 on the TFT substrate 3. The image signal processing circuit 58, the scanning circuit 59, the signal circuit 60, and the transparent conductive film control circuit 61 shown in this figure constitute the drive circuit 51 shown in FIG. In this figure, the transparent conductive film 22 is indicated by a broken line. In the transparent conductive film 22 according to the present embodiment, the transparent conductive film 22 having a square pattern is provided so as to face the entire display area 55 including a plurality of pixels 56 arranged in a matrix.

画素５６それぞれは、走査回路５９からのコモン線Ｃ１〜Ｃ５、および、ゲート線Ｇ１〜Ｇ５と接続され、信号回路６０からのソース線Ｓ１〜Ｓ５と接続される。この図において、コモン線Ｃ２〜Ｃ４、ゲート線Ｇ２〜Ｇ４、ソース線Ｓ２〜Ｓ４の符号は、省略している。この図に示されるソース線Ｓ１〜Ｓ５は、上述のソース線Ｓに相当する。この図では、図の左上の画素５６においてのみ、配線と、共通電極３２および画素電極３３およびＴＦＴ５７との接続関係を図示しているが、他の画素５６も同様であるため、他の画素５６については図示を省略している。   Each of the pixels 56 is connected to the common lines C1 to C5 and the gate lines G1 to G5 from the scanning circuit 59, and is connected to the source lines S1 to S5 from the signal circuit 60. In this drawing, reference numerals of common lines C2 to C4, gate lines G2 to G4, and source lines S2 to S4 are omitted. The source lines S1 to S5 shown in this drawing correspond to the source line S described above. In this figure, only the pixel 56 in the upper left of the figure shows the connection relationship between the wiring and the common electrode 32, the pixel electrode 33, and the TFT 57, but since the other pixels 56 are the same, the other pixels 56 The illustration is omitted for.

表示すべき画像データは、画像信号処理回路５８のデータ入力部５２に入力され、画像信号処理回路５８で液晶表示パネル５０の特性に応じた信号補償などが行われる。そして、画像データに対応した電気信号が、走査回路５９と信号回路６０とに出力される。その電気信号に応じて、走査回路５９は、ゲート線Ｇ１〜Ｇ５に順次走査するように信号を出力し、ゲート線Ｇ１〜Ｇ５に接続された画素５６のＴＦＴ５７を順次オンオフにする。ゲート線Ｇ１〜Ｇ５からの信号により、ＴＦＴ５７がオンとなった画素５６の画素電極３３には、ソース線Ｓ１〜Ｓ５を介して信号回路６０から電位が供給される。一方、画素５６の共通電極３２には、走査回路５９からコモン線Ｃ１〜Ｃ５を介して一定の電位が与えられる。なお、本実施の形態では、共通電極３２（コモン電極）の電位は、コモン線Ｃ１〜Ｃ５を介して走査回路５９から供給されるものとしたが、別の回路から供給されるようにしてもよい。   The image data to be displayed is input to the data input unit 52 of the image signal processing circuit 58, and the image signal processing circuit 58 performs signal compensation according to the characteristics of the liquid crystal display panel 50. Then, an electrical signal corresponding to the image data is output to the scanning circuit 59 and the signal circuit 60. In response to the electric signal, the scanning circuit 59 outputs a signal so as to sequentially scan the gate lines G1 to G5, and sequentially turns on and off the TFTs 57 of the pixels 56 connected to the gate lines G1 to G5. A potential is supplied from the signal circuit 60 to the pixel electrode 33 of the pixel 56 in which the TFT 57 is turned on by signals from the gate lines G1 to G5 via the source lines S1 to S5. On the other hand, a constant potential is applied from the scanning circuit 59 to the common electrode 32 of the pixel 56 via the common lines C1 to C5. In the present embodiment, the potential of the common electrode 32 (common electrode) is supplied from the scanning circuit 59 via the common lines C1 to C5, but may be supplied from another circuit. Good.

透明導電膜制御回路６１は、破線で示した透明導電膜２２の電位を制御する。本実施の形態では、透明導電膜制御回路６１は、走査回路５９と接続され、透明導電膜２２の電位が、コモン線Ｃ１〜Ｃ５の電位と同じになるようにしている。これにより、反射領域５に縦電界を生じさせることができるため、反射領域５の液晶駆動が可能となる。   The transparent conductive film control circuit 61 controls the potential of the transparent conductive film 22 indicated by a broken line. In the present embodiment, the transparent conductive film control circuit 61 is connected to the scanning circuit 59 so that the potential of the transparent conductive film 22 is the same as the potentials of the common lines C1 to C5. As a result, a vertical electric field can be generated in the reflective region 5, so that the liquid crystal driving of the reflective region 5 is possible.

図７〜図９は、本実施の形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネル５０の製造工程を示す断面図である。まず、図７（ａ）に示すように、ＣＦ基板２に、例えば、印刷法や写真製版の方法を用いて、色素や顔料を有する樹脂でカラーフィルタ２１のパターン、黒色の樹脂を用いてブラックマトリックス層２８のパターンを形成する。次いで、図７（ｂ）に示すように、カラーフィルタ２１およびブラックマトリックス層２８の表面上に、例えば、スパッタ法や蒸着法により、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＡＺＯ（ZnO2+Al2O3）からなる透明導電膜２２を形成する。透明導電膜２２にＩＴＯを用いた場合、その厚みは、例えば、２００ｎｍ以下でもよい。 7-9 is sectional drawing which shows the manufacturing process of the liquid crystal display panel 50 of the liquid crystal display device based on this Embodiment. First, as shown in FIG. 7A, the CF substrate 2 is printed on the CF substrate 2 by using, for example, a printing method or a photoengraving method. A pattern of the matrix layer 28 is formed. Next, as shown in FIG. 7B, ITO (Indium Tin Oxide) or AZO (ZnO 2 + Al 2 O 3 ) is formed on the surface of the color filter 21 and the black matrix layer 28 by, for example, sputtering or vapor deposition. A transparent conductive film 22 is formed. When ITO is used for the transparent conductive film 22, the thickness may be, for example, 200 nm or less.

次いで、図７（ｃ）に示すように、透明導電膜２２上に水平配向性の配向膜２３を塗布焼成して、ラビング法により配向処理する。ここで、配向膜２３は、位相差層２４の遅相軸方向を定める。次いで、図７（ｄ）に示すように、位相差層２４を形成する。この位相差層２４を形成する工程として、まず、光反応性のアクリル基を分子末端に有する液晶（光反応性液晶）と、反応開始剤を含む有機溶媒とを配向膜２３上に塗布し、過熱して有機溶媒を除いて感光性樹脂膜を形成する。この時点で、光反応性液晶は、配向膜２３の配向処理方向に配向される。次に、紫外光を照射して、光反応性液晶のアクリル基を光重合し、成膜化して位相差層２４を形成する。上述の塗布時の溶液濃度および塗布条件を適宜調整して、位相差層２４の膜厚を調整し、位相差層２４のリタデーションをλ／４にする。   Next, as shown in FIG. 7C, a horizontal alignment film 23 is applied and baked on the transparent conductive film 22 and subjected to an alignment process by a rubbing method. Here, the alignment film 23 defines the slow axis direction of the retardation layer 24. Next, as shown in FIG. 7D, the retardation layer 24 is formed. As a step of forming the retardation layer 24, first, a liquid crystal having a photoreactive acrylic group at the molecular end (photoreactive liquid crystal) and an organic solvent containing a reaction initiator are applied on the alignment film 23, A photosensitive resin film is formed by heating to remove the organic solvent. At this point, the photoreactive liquid crystal is aligned in the alignment processing direction of the alignment film 23. Next, ultraviolet light is irradiated to photopolymerize the acrylic group of the photoreactive liquid crystal and form a film to form the retardation layer 24. The solution concentration and the coating conditions at the time of coating described above are appropriately adjusted to adjust the film thickness of the retardation layer 24, and the retardation of the retardation layer 24 is set to λ / 4.

このとき、図３で説明したように、透過表示領域８上の透明導電膜２２と、共通電極３２および画素電極３３との間の距離ｄ３が、画素電極３３と共通電極３２との間の距離ｄ１よりも長くなるように、オーバーコート層２５の厚みｄ４を調整する。それとともに、液晶層１側に平坦な面を有するようにオーバーコート層２５を形成する。こうして、オーバーコート層２５は、位相差層２４の厚みにより生じる透過表示領域６，８と反射表示領域７，９との境界の段差を平滑化する。   At this time, as described in FIG. 3, the distance d3 between the transparent conductive film 22 on the transmissive display region 8 and the common electrode 32 and the pixel electrode 33 is the distance between the pixel electrode 33 and the common electrode 32. The thickness d4 of the overcoat layer 25 is adjusted so as to be longer than d1. At the same time, the overcoat layer 25 is formed so as to have a flat surface on the liquid crystal layer 1 side. In this way, the overcoat layer 25 smoothes the steps at the boundaries between the transmissive display areas 6 and 8 and the reflective display areas 7 and 9 caused by the thickness of the retardation layer 24.

次に、位相差層２４が、反射表示領域７の範囲に形成されるようにパターニングする。まず、図８（ａ）に示すように、位相差層２４の上にレジスト４０を塗布して、反射表示領域７の範囲と同じ範囲となるようにパターニングする。それから、図８（ｂ）に示すように、レジスト４０が塗布されていない部分の位相差層２４を、酸素プラズマでアッシングして除去する。その後、図８（ｃ）に示すように、レジスト４０を除去し、図９（ａ）に示すように、ＣＦ基板２上側にオーバーコート層２５を塗布形成する。最後に、図示しないが、オーバーコート層２５の上に、液晶層１の液晶を配向させるための、例えば、ポリイミドからなる上述の配向膜２６を形成する。   Next, the retardation layer 24 is patterned so as to be formed in the range of the reflective display region 7. First, as shown in FIG. 8A, a resist 40 is applied on the retardation layer 24 and patterned so as to be in the same range as the reflective display region 7. Then, as shown in FIG. 8B, the phase difference layer 24 where the resist 40 is not applied is removed by ashing with oxygen plasma. Thereafter, as shown in FIG. 8C, the resist 40 is removed, and as shown in FIG. 9A, an overcoat layer 25 is formed on the upper side of the CF substrate 2 by coating. Finally, although not shown, the alignment film 26 made of polyimide, for example, is formed on the overcoat layer 25 to align the liquid crystal of the liquid crystal layer 1.

以上、ＣＦ基板２側の工程について説明した。次に、ＴＦＴ基板３側の工程を、図９（ｂ）を用いて説明する。まず、ＴＦＴ基板３上に図示しない上述のコモン線Ｃ１〜Ｃ５と、補助容量電極３７と、ゲート線Ｇ１〜Ｇ５とを形成する。そして、ＴＦＴ５７のゲート絶縁膜となる無機絶縁膜、ＴＦＴ５７の半導体層となるａ−Ｓｉを形成した後、ソース線Ｓ１〜Ｓ５とドレイン電極を形成する。そして、有機膜３１を、ＴＦＴ５７およびこれら各配線上に形成し、反射表示領域９の有機膜３１の表面に凹凸を形成する。その後、透過表示領域８では、有機膜３１上に共通電極３２および画素電極３３を形成し、反射表示領域９では、凹凸を形成した有機膜３１に反射画素電極３４を形成する。その後、図示しないが、ＴＦＴ基板３上側に、例えば、ポリイミドからなる上述の配向膜３５を形成する。なお、本実施の形態ではａ−Ｓｉからなる半導体層を有するＴＦＴを用いたが、これに限らず、例えば、ｐｏｌｙ−Ｓｉからなる半導体層を有するＴＦＴを用いてもよい。   The process on the CF substrate 2 side has been described above. Next, the process on the TFT substrate 3 side will be described with reference to FIG. First, the above-described common lines C1 to C5, auxiliary capacitance electrodes 37, and gate lines G1 to G5 (not shown) are formed on the TFT substrate 3. And after forming the inorganic insulating film used as the gate insulating film of TFT57, and a-Si used as the semiconductor layer of TFT57, source lines S1-S5 and a drain electrode are formed. Then, the organic film 31 is formed on the TFT 57 and each of these wirings, and irregularities are formed on the surface of the organic film 31 in the reflective display region 9. Thereafter, in the transmissive display region 8, the common electrode 32 and the pixel electrode 33 are formed on the organic film 31, and in the reflective display region 9, the reflective pixel electrode 34 is formed on the organic film 31 having the unevenness. Thereafter, although not shown, the alignment film 35 made of, for example, polyimide is formed on the TFT substrate 3. In this embodiment, a TFT having a semiconductor layer made of a-Si is used. However, the present invention is not limited to this. For example, a TFT having a semiconductor layer made of poly-Si may be used.

最後に、図９（ａ）に示す工程で形成したＣＦ基板２と、図９（ｂ）に示す工程で形成したＴＦＴ基板３とを、図９（ｃ）で示すように、スペーサ１２を挟んで対向させる。そして、これら基板同士の間隔を一定にした状態で両基板の周辺部同士をシールし、これら基板の間に液晶を注入して液晶層１を形成する。最後に、液晶層１と反対側のＣＦ基板２の表面上およびＴＦＴ基板３の表面上に、図示しない上述の偏光板２７，３６を形成する。以上の工程により、本実施の形態に係る液晶表示パネル５０が形成される。   Finally, the CF substrate 2 formed in the step shown in FIG. 9A and the TFT substrate 3 formed in the step shown in FIG. 9B are sandwiched between the spacers 12 as shown in FIG. 9C. Opposite with. Then, the peripheral portions of both substrates are sealed in a state where the distance between these substrates is constant, and liquid crystal is injected between these substrates to form the liquid crystal layer 1. Finally, the above-described polarizing plates 27 and 36 (not shown) are formed on the surface of the CF substrate 2 opposite to the liquid crystal layer 1 and on the surface of the TFT substrate 3. Through the above steps, the liquid crystal display panel 50 according to the present embodiment is formed.

なお、本実施の形態では、ＣＦ基板２およびＴＦＴ基板３とは別部材の柱状のスペーサ１２を用いたが、これに限ったものではなく、ＣＦ基板２またはＴＦＴ基板３に予め形成した柱状のスペーサを用いてもよい。また、ここでは、柱状のスペーサ１２を用いたが、これに限ったものではなく、ＣＦ基板２またはＴＦＴ基板３に散布され、ＣＦ基板２とＴＦＴ基板３との間に挟まれる球状のスペーサを用いてもよい。   In this embodiment, the columnar spacers 12 which are members different from the CF substrate 2 and the TFT substrate 3 are used. However, the present invention is not limited to this, and the columnar spacers formed in advance on the CF substrate 2 or the TFT substrate 3 are used. A spacer may be used. Here, the columnar spacers 12 are used, but the present invention is not limited to this, and spherical spacers scattered on the CF substrate 2 or the TFT substrate 3 and sandwiched between the CF substrate 2 and the TFT substrate 3 are used. It may be used.

以上のように形成される本実施の形態に係る液晶表示装置によれば、オーバーコート層２５は、液晶層１側に平坦な面を有している。そして、ＴＦＴ基板３の透過表示領域８とオーバーコート層２５との間の液晶層１の厚みと、ＴＦＴ基板３の反射表示領域９とオーバーコート層２５との間の液晶層１の厚みとは略等しくしている。これにより、位相差層２４の厚みにより生じていた透過表示領域６，８と反射表示領域７，９との境界における液晶層１の段差は平滑化される。そのため、当該境界における液晶配向不良を低減して、コントラストを向上させ、かつ、視野角を広げることができる。   According to the liquid crystal display device according to the present embodiment formed as described above, the overcoat layer 25 has a flat surface on the liquid crystal layer 1 side. The thickness of the liquid crystal layer 1 between the transmissive display region 8 of the TFT substrate 3 and the overcoat layer 25 and the thickness of the liquid crystal layer 1 between the reflective display region 9 of the TFT substrate 3 and the overcoat layer 25 are: It is almost equal. Thereby, the level difference of the liquid crystal layer 1 at the boundary between the transmissive display areas 6 and 8 and the reflective display areas 7 and 9 caused by the thickness of the retardation layer 24 is smoothed. Therefore, it is possible to reduce liquid crystal alignment defects at the boundary, improve the contrast, and widen the viewing angle.

さらに、本実施の形態に係る液晶表示装置によれば、ＣＦ基板２のカラーフィルタ２１およびブラックマトリックス層２８を覆うように、透明導電膜２を形成している。これにより、ＣＦ基板２側の外部からの静電気の影響を低減することができる。そのため、櫛型電極３２，３３、および、上下電極２２，３４に必要以上の電界を印加する必要がなくなるため、消費電力を抑えることができる。また、カラーフィルタ２１やブラックマトリックス層２８内の不純物が、液晶層１へ溶出することを防止することができる。   Furthermore, according to the liquid crystal display device according to the present embodiment, the transparent conductive film 2 is formed so as to cover the color filter 21 and the black matrix layer 28 of the CF substrate 2. Thereby, the influence of the static electricity from the outside on the CF substrate 2 side can be reduced. Therefore, it is not necessary to apply an electric field more than necessary to the comb-shaped electrodes 32 and 33 and the upper and lower electrodes 22 and 34, so that power consumption can be suppressed. Further, it is possible to prevent impurities in the color filter 21 and the black matrix layer 28 from eluting into the liquid crystal layer 1.

また、本実施の形態では、透過表示領域８上の透明導電膜２２と、共通電極３２および画素電極３３との間の距離ｄ３は、画素電極３３と共通電極３２との間の距離ｄ１よりも長くしている。これにより、透過領域４において不要な縦電界を軽減することができるため、透過領域４における表示むらを減少させることができる。また、櫛型電極３２，３３に必要以上の電界を印加する必要がなくなるため、消費電力を抑えることができる。   In the present embodiment, the distance d3 between the transparent conductive film 22 on the transmissive display region 8, the common electrode 32, and the pixel electrode 33 is larger than the distance d1 between the pixel electrode 33 and the common electrode 32. It is long. Thereby, an unnecessary vertical electric field in the transmissive region 4 can be reduced, and thus display unevenness in the transmissive region 4 can be reduced. In addition, since it is not necessary to apply an electric field more than necessary to the comb electrodes 32 and 33, power consumption can be suppressed.

なお、本実施の形態では、反射領域５における視野角特性向上のため、ＴＦＴ基板３の反射表示領域９上の反射画素電極３４に凹凸形状を設けるものとした。しかしこれに限ったものではなく、反射画素電極３４を平面とする代わりに、ＣＦ基板２の偏光板２７に光拡散性を持たせるものを用いてもよい。また、本実施の形態では、透過領域４にＩＰＳ方式を採用したが、ＦＦＳ方式を用いてもよい。   In the present embodiment, the reflective pixel electrode 34 on the reflective display region 9 of the TFT substrate 3 is provided with an uneven shape in order to improve the viewing angle characteristics in the reflective region 5. However, the present invention is not limited to this. Instead of using the reflective pixel electrode 34 as a flat surface, the polarizing plate 27 of the CF substrate 2 may have light diffusibility. In the present embodiment, the IPS method is adopted for the transmissive region 4, but the FFS method may be used.

＜実施の形態２＞
図１０は、本実施の形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネルの構造を示す断面図である。以下の実施の形態では、実施の形態１に係る液晶表示装置と同一の構成要素については、同一符号を付すものとし、その説明については省略する。図１０に示すように、本実施の形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネル５０では、ＣＦ基板２の透過表示領域６上の透明導電膜２２は、ＴＦＴ基板３の透過表示領域８上の櫛歯状の画素電極３３の上側にのみ線状に形成される。このようにすることで、透過領域４において不要な縦電界をさらに弱めることができるとともに、オーバーコート層２５をさらに薄くすることができる。また、ＣＦ基板２の透過表示領域６上に線状の透明導電膜２２が存在するため、ＣＦ基板２側の外部からの静電気の影響を低減することができる。ただし、カラーフィルタ２１やブラックマトリックス層２８からの不純物イオンに対する遮蔽効果は小さくなる。 <Embodiment 2>
FIG. 10 is a cross-sectional view showing the structure of the liquid crystal display panel of the liquid crystal display device according to the present embodiment. In the following embodiment, the same components as those of the liquid crystal display device according to Embodiment 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted. As shown in FIG. 10, in the liquid crystal display panel 50 of the liquid crystal display device according to the present embodiment, the transparent conductive film 22 on the transmissive display region 6 of the CF substrate 2 is a comb on the transmissive display region 8 of the TFT substrate 3. It is formed in a linear shape only above the tooth-like pixel electrode 33. By doing in this way, an unnecessary vertical electric field can be further weakened in the transmissive region 4, and the overcoat layer 25 can be further thinned. In addition, since the linear transparent conductive film 22 exists on the transmissive display region 6 of the CF substrate 2, the influence of static electricity from the outside on the CF substrate 2 side can be reduced. However, the shielding effect against impurity ions from the color filter 21 and the black matrix layer 28 is reduced.

＜実施の形態３＞
図１１は、本実施の形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネルの構造を示す断面図である。図１１に示すように、本実施の形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネル５０では、透明導電膜２２は、ＣＦ基板２の反射表示領域７上にのみに形成される。このように形成することで、透過領域４において不要な縦電界をさらに弱めることができるとともに、オーバーコート層２５をさらに薄くすることができる。ただし、透過領域４では、ＣＦ基板２側の外部からの静電気の影響を受けやすくなり、また、カラーフィルタ２１やブラックマトリックス層２８からの不純物イオンに対する遮蔽効果は小さくなる。 <Embodiment 3>
FIG. 11 is a cross-sectional view showing the structure of the liquid crystal display panel of the liquid crystal display device according to the present embodiment. As shown in FIG. 11, in the liquid crystal display panel 50 of the liquid crystal display device according to the present embodiment, the transparent conductive film 22 is formed only on the reflective display region 7 of the CF substrate 2. By forming in this way, an unnecessary vertical electric field in the transmission region 4 can be further weakened, and the overcoat layer 25 can be further thinned. However, the transmission region 4 is easily affected by static electricity from the outside on the CF substrate 2 side, and the shielding effect against impurity ions from the color filter 21 and the black matrix layer 28 is reduced.

＜実施の形態４＞
図１２は、本実施の形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネルの構造を示す断面図である。図１２に示すように、本実施の形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネル５０では、ＣＦ基板２の透過表示領域６上の透明導電膜２２上に、位相差層２４の材質である感光性樹脂膜を等方化処理した等方層２９が設けられている。本実施の形態に係る液晶表示装置の製造工程について説明する。 <Embodiment 4>
FIG. 12 is a cross-sectional view showing the structure of the liquid crystal display panel of the liquid crystal display device according to the present embodiment. As shown in FIG. 12, in the liquid crystal display panel 50 of the liquid crystal display device according to the present embodiment, the photosensitive material that is the material of the retardation layer 24 is formed on the transparent conductive film 22 on the transmissive display region 6 of the CF substrate 2. An isotropic layer 29 obtained by isotropic treatment of the resin film is provided. A manufacturing process of the liquid crystal display device according to the present embodiment will be described.

まず、実施の形態１に係る液晶表示装置の製造工程のうち、図７（ａ）〜（ｃ）に示した工程を行う。そして、図７（ｄ）に示した工程で用いる感光性樹脂膜として、ＵＶ硬化性液晶からなる感光性樹脂膜を用いる。そして、ベーク処理により、感光性樹脂膜を相転位温度（ＮＩ点）を超える温度まで加熱し、当該感光性樹脂膜を光学的に等方性にしておく。   First, among the manufacturing steps of the liquid crystal display device according to the first embodiment, the steps shown in FIGS. Then, a photosensitive resin film made of UV curable liquid crystal is used as the photosensitive resin film used in the step shown in FIG. Then, the photosensitive resin film is heated to a temperature exceeding the phase transition temperature (NI point) by baking, so that the photosensitive resin film is made optically isotropic.

この状態で、反射領域５のみを遮光するマスクを介して、感光性樹脂膜にＵＶ光を照射して露光を行い、感光性樹脂膜を硬化させる。こうして、光学的に等方性の状態で感光性樹脂膜を硬化させた等方層２９を、ＣＦ基板２の透過表示領域６上側に形成する。その後、感光性樹脂膜を常温に戻すと、感光性樹脂膜の未硬化部が異方性の状態に戻る。この状態で、感光性樹脂膜の全面にＵＶ光を照射して、全面露光を行い、感光性樹脂膜を硬化させる。こうして、光学的に異方性を有する位相差層２４を、ＣＦ基板２の反射表示領域７上側に形成する。その後は、実施の形態１に係る液晶表示装置の製造工程のうち、図９（ａ）〜（ｃ）に示した工程と同様の工程を行う。   In this state, the photosensitive resin film is exposed by irradiating the photosensitive resin film with UV light through a mask that shields only the reflective region 5 to cure the photosensitive resin film. Thus, the isotropic layer 29 in which the photosensitive resin film is cured in an optically isotropic state is formed on the upper side of the transmissive display region 6 of the CF substrate 2. Thereafter, when the photosensitive resin film is returned to room temperature, the uncured portion of the photosensitive resin film returns to an anisotropic state. In this state, the entire surface of the photosensitive resin film is irradiated with UV light, and the entire surface is exposed to cure the photosensitive resin film. In this way, the optically anisotropic retardation layer 24 is formed above the reflective display region 7 of the CF substrate 2. After that, among the manufacturing steps of the liquid crystal display device according to Embodiment 1, the same steps as the steps shown in FIGS. 9A to 9C are performed.

以上の工程により形成される本実施の形態に係る液晶表示装置によれば、透過領域４において感光性樹脂膜を除去する工程を省くことができる。ただし、等方層２９に残留位相差が存在すると、透過領域４の表示特性が劣化する。   According to the liquid crystal display device according to the present embodiment formed by the above steps, the step of removing the photosensitive resin film in the transmissive region 4 can be omitted. However, if there is a residual phase difference in the isotropic layer 29, the display characteristics of the transmissive region 4 deteriorate.

実施の形態１に係る液晶表示装置の構造を示す斜視図である。1 is a perspective view showing a structure of a liquid crystal display device according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態１に係る液晶表示装置の構造を示す断面図である。1 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal display device according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態１に係る液晶表示装置の構造を示す断面図である。1 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal display device according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態１に係る液晶表示装置の動作を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing the operation of the liquid crystal display device according to Embodiment 1. 実施の形態１に係る液晶表示装置の構造を示す平面図である。3 is a plan view showing the structure of the liquid crystal display device according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態１に係る液晶表示装置の構造を示す断面図である。1 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal display device according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態１に係る液晶表示装置の製造工程を示す断面図である。5 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the liquid crystal display device according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態１に係る液晶表示装置の製造工程を示す断面図である。5 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the liquid crystal display device according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態１に係る液晶表示装置の製造工程を示す断面図である。5 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the liquid crystal display device according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態２に係る液晶表示装置の構造を示す断面図である。6 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal display device according to Embodiment 2. FIG. 実施の形態３に係る液晶表示装置の構造を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal display device according to a third embodiment. 実施の形態４に係る液晶表示装置の構造を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

１ 液晶層、２ ＣＦ基板、３ ＴＦＴ基板、４ 透過領域、５ 反射領域、６，８ 透過表示領域、７，９ 反射表示領域、１１ 液晶、１２ スペーサ、２１ カラーフィルタ、２２ 透明導電膜、２３，２６，３５ 配向膜、２４ 位相差層、２５ オーバーコート層、２７，３６ 偏光板、２８ ブラックマトリックス層、２９ 等方層、３１ 有機膜、３２ 画素電極、３３ 共通電極、３４ 反射画素電極、３７ 補助容量電極、４０ レジスト、５０ 液晶表示パネル、５１ 駆動回路、５２ データ入力部、５３ 光源、５４ 光源制御回路、５５ 表示領域、５６ 画素、５７ ＴＦＴ、５８ 画像信号処理回路、５９ 走査回路、６０ 信号回路、６１ 透明導電膜制御回路。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Liquid crystal layer, 2 CF board | substrate, 3 TFT substrate, 4 Transmission area, 5 Reflection area, 6, 8 Transmission display area, 7, 9 Reflection display area, 11 Liquid crystal, 12 Spacer, 21 Color filter, 22 Transparent electrically conductive film, 23 , 26, 35 Alignment film, 24 retardation layer, 25 overcoat layer, 27, 36 polarizing plate, 28 black matrix layer, 29 isotropic layer, 31 organic film, 32 pixel electrode, 33 common electrode, 34 reflective pixel electrode, 37 auxiliary capacity electrode, 40 resist, 50 liquid crystal display panel, 51 drive circuit, 52 data input unit, 53 light source, 54 light source control circuit, 55 display area, 56 pixels, 57 TFT, 58 image signal processing circuit, 59 scanning circuit, 60 signal circuit, 61 transparent conductive film control circuit.

Claims (5)

互いに対向する対向面を有し、当該対向面それぞれに透過表示領域と反射表示領域とが位置を揃えて配置された第１，第２の基板と、
前記第１，第２の基板のいずれか一方の基板の前記透過表示領域上側および前記反射表示領域上側に形成されたオーバーコート層と、
他方の基板と前記オーバーコート層との間に挟まれて形成され、ポジ型液晶を有する液晶層とを備え、
前記オーバーコート層は、前記液晶層側に平坦な面を有し、
前記他方の基板の前記透過表示領域と前記オーバーコート層との間の前記液晶層の厚みと、前記他方の基板の前記反射表示領域と前記オーバーコート層との間の前記液晶層の厚みとは略等しい、
液晶表示装置。 First and second substrates having opposing surfaces facing each other, each having a transmissive display area and a reflective display area arranged at the same position;
An overcoat layer formed on the upper side of the transmissive display area and the upper side of the reflective display area of either one of the first and second substrates;
A liquid crystal layer formed between the other substrate and the overcoat layer and having a positive type liquid crystal;
The overcoat layer has a flat surface on the liquid crystal layer side,
The thickness of the liquid crystal layer between the transmissive display region of the other substrate and the overcoat layer, and the thickness of the liquid crystal layer between the reflective display region of the other substrate and the overcoat layer Almost equal,
Liquid crystal display device. 前記一方の基板と前記オーバーコート層との間に形成されたカラーフィルタと、
前記カラーフィルタと前記オーバーコート層との間に形成された透明導電膜とをさらに備える、
請求項１に記載の液晶表示装置。 A color filter formed between the one substrate and the overcoat layer;
A transparent conductive film formed between the color filter and the overcoat layer;
The liquid crystal display device according to claim 1. 前記一方の基板の前記反射表示領域上に１／４波長の位相差を生じさせる位相差層をさらに備える、
請求項１に記載の液晶表示装置。 A phase difference layer for generating a quarter wavelength phase difference on the reflective display region of the one substrate;
The liquid crystal display device according to claim 1. 前記他方の基板の前記透過表示領域上に形成され、横電界を発生する電極対と、
前記他方の基板の前記反射表示領域上に形成された電極と、
前記一方の基板の前記透過表示領域および前記反射透過表示領域と、前記オーバーコート層との間に形成され、前記電極との間に縦電界を発生する透明導電膜とをさらに備え、
前記透過表示領域上の前記透明導電膜と前記電極対との間の距離は、前記電極対同士の間の距離よりも大きい、
請求項１に記載の液晶表示装置。 An electrode pair formed on the transmissive display region of the other substrate and generating a lateral electric field;
An electrode formed on the reflective display region of the other substrate;
A transparent conductive film that is formed between the transmissive display region and the reflective transmissive display region of the one substrate and the overcoat layer and generates a vertical electric field between the electrodes,
A distance between the transparent conductive film on the transmissive display region and the electrode pair is larger than a distance between the electrode pairs;
The liquid crystal display device according to claim 1. 互いに対向する対向面を有し、当該対向面それぞれに透過表示領域と反射表示領域とが位置を揃えて配置された第１，第２の基板と、
前記第１の基板の前記透過表示領域上に形成され、横電界を発生する電極対と、
前記第１の基板の前記反射表示領域上に形成された電極と、
前記第２の基板の前記透過表示領域上および前記反射表示領域上に形成されたカラーフィルタと、
前記第２の基板の前記透過表示領域上および前記反射表示領域上の前記カラーフィルタ上に形成され、前記電極との間に縦電界を発生する透明導電膜と、
前記第２の基板の前記反射表示領域上側の前記透明導電膜上に形成され、１／４波長の位相差を生じさせる位相差層と、
前記第２の基板の前記透過表示領域上側および前記反射表示領域上側に形成されたオーバーコート層と、
前記第１の基板と前記オーバーコート層との間に挟まれて形成され、ポジ型液晶を有する液晶層とを備え、
前記オーバーコート層は、前記液晶層側に平坦な面を有し、
前記第１の基板の前記透過表示領域と前記オーバーコート層との間の前記液晶層の厚みと、前記第１の基板の前記反射表示領域と前記オーバーコート層との間の前記液晶層の厚みとは略等しく、
前記透過表示領域上の前記透明導電膜と前記電極対との間の距離は、前記電極対同士の間の距離よりも大きい、
液晶表示装置。 First and second substrates having opposing surfaces facing each other, each having a transmissive display area and a reflective display area arranged in an aligned manner;
An electrode pair formed on the transmissive display region of the first substrate and generating a lateral electric field;
An electrode formed on the reflective display region of the first substrate;
A color filter formed on the transmissive display area and the reflective display area of the second substrate;
A transparent conductive film which is formed on the color filter on the transmissive display region and the reflective display region of the second substrate and generates a vertical electric field between the electrodes;
A retardation layer formed on the transparent conductive film on the upper side of the reflective display region of the second substrate and causing a quarter-wave phase difference;
An overcoat layer formed on the upper side of the transmissive display area and the upper side of the reflective display area of the second substrate;
A liquid crystal layer formed between the first substrate and the overcoat layer and having a positive type liquid crystal;
The overcoat layer has a flat surface on the liquid crystal layer side,
The thickness of the liquid crystal layer between the transmissive display region of the first substrate and the overcoat layer, and the thickness of the liquid crystal layer between the reflective display region of the first substrate and the overcoat layer. Is almost equal to
A distance between the transparent conductive film on the transmissive display region and the electrode pair is larger than a distance between the electrode pairs;
Liquid crystal display device.
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