JP2009254832A - 低レベル濃度の殺菌剤を介した領域汚染除去 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この方法は、領域に殺菌源から殺菌剤を放出することと、領域中の殺菌剤の濃度を、許容曝露限度を超えない予め定められた濃度に制御することと、領域中の微生物を殺菌剤に接触させて、領域を汚染除去することとを含む。この装置は、放出用機構を具備し、この放出用機構は、殺菌源から殺菌剤を、領域に予め定められた濃度で放出するように構成されており、領域中の殺菌剤の予め定められた濃度が、許容曝露限度を超えないようになっている。
【選択図】図1
Description
本開示は、低レベル濃度の殺菌剤を介した領域汚染除去、およびこれを提供するための装置に向けられている。
病院の患者の部屋のような領域の環境表面を汚染する微生物の能力は、よく知られている。したがって、衛生および健康に関わる設備のオペレーターは、消費者、患者、または職員に、これらの表面から微生物が移るのを防止するために、環境汚染を減らすか、または排除する厳密な措置を有している。環境表面から患者または働き手に微生物を移す主たる媒介物は、患者または働き手の手である。このため、標準の環境の清掃は、高度に手に触れる表面、例えばベッドレールに最も関わっており、低度に手に触れる表面、例えば床および天井にはあまり関わっていない。
本開示の実施形態は、領域を利用できないようにする必要がない、低濃度の殺菌剤でこの領域中の微生物を汚染除去する装置、およびこれに関連する方法を提供する。したがって、病室のような領域は、汚染除去が進行中の間、継続して、またはほぼ継続して占有されることができる。
したがって、本開示の実施形態は、領域を使えなくする必要がない、低濃度の殺菌剤で、領域中の微生物を汚染除去する装置およびこれに関連する方法を提供する。したがって、病室といった領域は、汚染除去が進行中の間、連続的に、あるいはほぼ連続的に占有されることができる。
<実施例1>
ステンレス鋼表面上において生存可能なG. stearothermophilus胞子の減少を実証するために、公称レベル(nominal level)0.6ppmの尿素複合体から放出された過酸化水素蒸気を用いて、以下のように実験を行った。6x104胞子を含む接種材料10μLをステンレス鋼メス刃に接種した。その後、接種材料を刃表面上で乾燥させた。9つの接種された刃を、アクリルで構成された1ft3(28.32L)の封止されたチャンバーに配置した。チャンバーにおいて、チャンバー中の過酸化物の濃度が制御されるようにする流動制限が設けられたガラス管に、尿素複合体を封じ込めた。3つの等しく接種された刃を、カバーが設けられたペトリ皿(petrie dish)の中に配置し、対照として役立つチャンバーの近くに配置した。3日間おいて、3つの刃をチャンバーから回収すると共に、1つの対照も回収した。これらの刃を標準の回復、プレーティング、およびインキュベーションの手順に供した。かかる手順から、生存可能な胞子数および対数減少値(log reduction)を決定することができた。曝露の間の、対数減少値、ならびに、平均、高、および低過酸化物濃度を表1に示す。
過酸化物濃度に対するG. stearothermophilus胞子の対数減少値の依存性を実証するために、実施例1で説明されたように準備したメス刃を公称H2O2濃度0.35ppmに曝露した。この場合、接種された刃を連続的に曝露したので、結果として、曝露期間の間、平均過酸化物濃度においていくらかの変動が生じた。3日間、6日間、および9日間の曝露後の対数減少値、ならびに、曝露の間の平均、高、および低過酸化物濃度を表2に示す。
Claims (27)
- 領域を汚染除去する方法において、
前記領域に殺菌源から殺菌剤を放出することと、
前記領域中の前記殺菌剤の濃度を、許容曝露限度を超えない予め定められた濃度に制御することと、
前記領域中の微生物を前記殺菌剤に接触させて、前記領域を汚染除去することと、
を含む、方法。 - 請求項1に記載の方法において、
前記放出することは、ガス、蒸気、ミスト、およびこれらのいずれかの組み合わせからなる群より選択される形態で生じる、方法。 - 請求項1に記載の方法において、
前記殺菌剤は、過酸化水素、およびオゾンからなる群より選択される、方法。 - 請求項1に記載の方法において、
前記殺菌剤は、過酸化水素であり、
前記殺菌源は、過酸化水素溶液、および固体過酸化物複合体からなる群より選択される、方法。 - 請求項1に記載の方法において、
前記殺菌剤は、オゾンであり、
前記殺菌源は、酸素である、方法。 - 請求項1に記載の方法において、
前記制御することは、連続的、間欠的、周期的、およびこれらのいずれかの組み合わせからなる群より選択される頻度で生じる、方法。 - 請求項6に記載の方法において、
プログラム可能な、および手動で選択可能な設定値の少なくとも一方により、前記頻度を調節すること、
をさらに含む、方法。 - 請求項1に記載の方法において、
前記領域は、部屋、オフィス、家、空港、病院の設備、病院の患者の部屋、集中治療室、救急車、手術室、ヘルスクラブの設備、レストラン、実験室、休憩室の設備、動物用設備、およびこれらのいずれかの組み合わせからなる群より選択される、方法。 - 請求項1に記載の方法において、
前記微生物は、ウイルス、植物性細菌、真菌、ミコバクテリア、細菌性胞子、およびこれらのいずれかの組み合わせからなる群より選択される、方法。 - 領域を汚染除去する方法において、
領域に殺菌源から殺菌剤を放出することと、
前記領域中の前記殺菌剤の濃度を、標準作動中、許容曝露限度を超えない予め定められたレベルに制御することと、
ある時間にわたり、急性の汚染除去のために前記許容曝露限度を超えるレベルにまで、前記領域中の前記殺菌剤の前記濃度を増加させることと、
前記領域中の微生物を前記殺菌剤に接触させて、前記領域を汚染除去することと、
を含む、方法。 - 領域を汚染除去する装置において、
放出用機構であって、殺菌源から殺菌剤を予め定められた濃度で前記領域に放出するように構成されており、前記領域中の殺菌剤の前記予め定められた濃度が、許容曝露限度を超えないようになっている、放出用機構、
を具備する、装置。 - 請求項11に記載の装置において、
前記殺菌剤は、過酸化水素、およびオゾンからなる群より選択される、装置。 - 請求項11に記載の装置において、
前記殺菌剤は、過酸化水素であり、
前記殺菌源は、過酸化水素溶液、および固体過酸化物複合体からなる群より選択される、装置。 - 請求項11に記載の装置において、
前記殺菌剤は、オゾンであり、
前記殺菌源は、酸素である、装置。 - 請求項11に記載の装置において、
前記殺菌剤は、ガス、蒸気、ミスト、およびこれらのいずれかの組み合わせからなる群より選択される少なくとも1つの形態で放出される、装置。 - 請求項15に記載の装置において、
前記殺菌剤は、ガス発生装置、ミスト発生装置、加湿器、ヒーター、UV放射装置、アーク放電、およびコロナ放電、ならびにこれらのいずれかの組み合わせからなる群より選択される機構により生み出される、装置。 - 請求項11に記載の装置において、
前記装置の作動を、連続的、間欠的、周期的、およびこれらのいずれかの組み合わせからなる群より選択される頻度に調節するように構成されたコントローラ、
をさらに具備する、装置。 - 請求項17に記載の装置において、
前記コントローラは、プログラム可能な、および手動で選択可能な設定値のうちの少なくとも一方により前記頻度を調節するように構成されている、装置。 - 請求項11に記載の装置において、
フィードバック制御を提供するように構成されたセンサー、
をさらに具備する、装置。 - 請求項19に記載の装置において、
前記センサーは、前記装置上に設けられるか、または前記領域中の遠隔に設けられる、装置。 - 請求項11に記載の装置において、
前記領域は、部屋、オフィス、家、空港、病院の設備、病院の患者の部屋、集中治療室、救急車、手術室、ヘルスクラブの設備、レストラン、実験室、休憩室の設備、動物用設備、およびこれらのいずれかの組み合わせからなる群より選択される、装置。 - 請求項11に記載の装置において、
前記微生物は、ウイルス、植物性細菌、真菌、ミコバクテリア、細菌性胞子、およびこれらのいずれかの組み合わせからなる群より選択される、装置。 - 請求項11に記載の装置において、
前記領域中の前記殺菌剤の前記濃度を制御するように構成された流動コントローラ、
をさらに具備する、装置。 - 請求項11に記載の装置を具備するHVACシステム。
- 請求項11に記載の装置において、
ファン、またはブロワ、
をさらに具備する、装置。 - 請求項11に記載の装置において、
使用寿命インジケータ、
をさらに具備する、装置。 - 領域を汚染除去する装置において、
放出用機構であって、殺菌源から殺菌剤を予め定められた濃度で前記領域に放出するように構成されており、標準作動中、許容曝露限度を超えないようになっている、放出用機構、
を具備し、
前記放出用機構は、ある時間にわたり、急性の汚染除去のために前記許容曝露限度を超える濃度で、前記殺菌源から殺菌剤を放出するようにさらに構成されている、装置。
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