JP2009251366A - Method for manufacturing imaging lens, imaging lens, and imaging apparatus - Google Patents

Method for manufacturing imaging lens, imaging lens, and imaging apparatus Download PDF

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JP2009251366A JP2008100428A JP2008100428A JP2009251366A JP 2009251366 A JP2009251366 A JP 2009251366A JP 2008100428 A JP2008100428 A JP 2008100428A JP 2008100428 A JP2008100428 A JP 2008100428A JP 2009251366 A JP2009251366 A JP 2009251366A
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由紀 直井
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an imaging lens for achieving shortening of the entire length of a lens while securing optical performance, and an imaging lens and an imaging apparatus. <P>SOLUTION: A plurality of through-holes are provided to the material of a substrate, a lens part is formed inside the through-hole, and then the material of the substrate is cut, so that the entire length of the imaging lens can be restrained while securing the axial thickness of the lens part without making a lens substrate thin. It is possible to optionally set the quality of the material of the lens part differently from that of the lens substrate, and sufficient aberration correction can be attained. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、CCD(Charge Coupled Devices)型イメージセンサやCMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)型イメージセンサ等の固体撮像素子を用いた撮像装置に好適な撮像レンズに関するものであり、より詳しくは、大量生産に適するウェハスケールのレンズを用いた光学系における撮像レンズ製造方法、撮像レンズ及び撮像装置に関するものである。   The present invention relates to an imaging lens suitable for an imaging apparatus using a solid-state imaging device such as a CCD (Charge Coupled Devices) type image sensor or a CMOS (Complementary Metal-Oxide Semiconductor) type image sensor. The present invention relates to an imaging lens manufacturing method, an imaging lens, and an imaging apparatus in an optical system using a wafer-scale lens suitable for production.

コンパクトで薄型の撮像装置(以下、カメラモジュールとも称す)が、携帯電話機やPDA(Personal Digital Assistant)等のコンパクトで、薄型の電子機器である携帯端末に搭載されるようになり、これにより遠隔地へ音声情報だけでなく画像情報も相互に伝送することが可能となっている。   Compact and thin imaging devices (hereinafter also referred to as camera modules) are now installed in portable terminals that are compact and thin electronic devices such as mobile phones and PDAs (Personal Digital Assistants). It is possible to transmit not only audio information but also image information to each other.

これらの撮像装置に使用される撮像素子としては、CCD型イメージセンサやCMOS型イメージセンサ等の固体撮像素子が使用されている。近年では撮像素子の高画素化が進んでおり、高解像・高性能化が図られてきている。また、これら撮像素子上に被写体像を形成するためのレンズは、低コスト化のために、安価に大量生産できる樹脂材料で形成されるレンズが用いられるようになってきた。樹脂材料によって構成されるレンズは、加工性が良いにも関わらず複雑な非球面形状を精度良く転写形成できるため、高解像・高性能化された撮像素子にも対応できる。   As an image pickup element used in these image pickup apparatuses, a solid-state image pickup element such as a CCD type image sensor or a CMOS type image sensor is used. In recent years, the number of pixels of an image sensor has been increased, and higher resolution and higher performance have been achieved. Further, as a lens for forming a subject image on these image sensors, a lens made of a resin material that can be mass-produced at low cost has been used for cost reduction. A lens made of a resin material can accurately transfer and form a complicated aspherical shape despite having good processability, and therefore can be applied to a high-resolution and high-performance imaging device.

ここで、撮像装置に用いる撮像レンズとして、樹脂材料レンズで構成される光学系や、ガラスレンズと樹脂材料レンズで構成される光学系が従来からよく知られている。しかるに、特に携帯端末の撮像装置に用いるためには、従来の光学系では不十分であり、これらの光学系の更なる超コンパクト化と携帯端末に求められる量産性を両立することが強く求められているが、かかる両立を低コストで実現することは困難であるといえる。   Here, as an imaging lens used in an imaging apparatus, an optical system configured by a resin material lens and an optical system configured by a glass lens and a resin material lens are well known. However, the conventional optical system is not sufficient particularly for use in an imaging device of a portable terminal, and there is a strong demand to achieve further ultra-compactness of these optical systems and mass productivity required for the portable terminal. However, it can be said that it is difficult to realize such compatibility at low cost.

このような問題点を克服するため、数インチのウェハ上にレプリカ法によってレンズ要素を同時に大量に並べて成形し、それらのウェハをセンサウェハと組み合わせた後、切り離すことにより、カメラモジュールを大量生産する手法が提案されている。こうした製法によって製造されたレンズはウェハスケールレンズ、また、カメラモジュールはウェハスケールカメラモジュールと呼ばれることもある。このような技術に関して、特許文献1にレンズ基板上にレンズ部を備えた撮像レンズが開示されている。
特開2006−323365号
In order to overcome such problems, a method of mass-producing camera modules by simultaneously forming a large number of lens elements on a several inch wafer by a replica method, combining them with a sensor wafer, and then separating them. Has been proposed. The lens manufactured by such a manufacturing method is sometimes called a wafer scale lens, and the camera module is sometimes called a wafer scale camera module. Regarding such a technique, Patent Document 1 discloses an imaging lens including a lens portion on a lens substrate.
JP 2006-323365 A

ところで、製造容易性を確保する為には、基板の厚さを厚くして剛性を高める必要があるため、従来のウェハスケールレンズにおいては、撮像レンズの全長がある程度長くなる傾向がある。ところが、携帯電話等においてはコンパクト化を厳しく要求されており、撮像レンズの全長を極力短くしたいという要求がある。一方で、必要な光学特性を確保するために、レンズ部の光軸厚さを薄くすることには限界がある。   By the way, in order to ensure manufacturability, it is necessary to increase the rigidity of the substrate by increasing the thickness of the substrate. Therefore, in the conventional wafer scale lens, the total length of the imaging lens tends to be increased to some extent. However, downsizing is strictly demanded in mobile phones and the like, and there is a demand for minimizing the overall length of the imaging lens. On the other hand, there is a limit to reducing the optical axis thickness of the lens portion in order to ensure the necessary optical characteristics.

本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、光学特性を確保しながらも、レンズ全長を短縮できる撮像レンズの製造方法、撮像レンズ及び撮像装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to provide an imaging lens manufacturing method, an imaging lens, and an imaging apparatus that can shorten the entire lens length while ensuring optical characteristics.

請求項1に記載の撮像レンズの製造方法は、レンズ基板とレンズ部とを有する撮像レンズの製造方法において、
複数の貫通穴を設けた基板素材を作る工程と、
前記貫通穴内にレンズ部を形成する工程と、
前記レンズ部毎に前記基板素材を分割し、前記レンズ部と一体となったレンズ基板を製作する工程と、を有することを特徴とする。
The manufacturing method of the imaging lens according to claim 1, wherein the imaging lens includes a lens substrate and a lens unit.
Creating a substrate material with a plurality of through holes;
Forming a lens portion in the through hole;
Dividing the substrate material for each lens portion, and manufacturing a lens substrate integrated with the lens portion.

本発明によれば、前記基板素材に複数の貫通穴を設け、その内部に前記レンズ部を形成した後に切断しているので、前記レンズ基板を薄くすることなく、前記レンズ部の軸上厚を確保しながらも、前記撮像レンズの全長を抑えることが可能になる。また、レンズ部の材質をレンズ基板と異なる材質とすることが任意に出来、十分な収差補正が達成できる。   According to the present invention, since the substrate material is provided with a plurality of through holes, and the lens portion is cut after the lens portion is formed therein, the axial thickness of the lens portion is reduced without reducing the thickness of the lens substrate. It is possible to suppress the overall length of the imaging lens while ensuring it. Further, the lens portion can be arbitrarily made of a material different from that of the lens substrate, and sufficient aberration correction can be achieved.

請求項2に記載の撮像レンズは、貫通穴を有するレンズ基板と、前記貫通穴内に形成されたレンズ部とを有することを特徴とする。本発明によれば、さらに、前記レンズ基板の最大厚みを確保しながら、前記レンズ部の軸上厚を薄くすることが可能になり、前記撮像レンズの全長が短縮することができる。また、前記レンズ部の材質を前記レンズ基板と異なる材質とすることが任意に出来、十分な収差補正が達成できる。このような撮像レンズは、請求項1に記載の製造方法により製造されると好ましい。   The imaging lens according to claim 2 includes a lens substrate having a through hole and a lens portion formed in the through hole. Further, according to the present invention, it is possible to reduce the axial thickness of the lens portion while ensuring the maximum thickness of the lens substrate, and the overall length of the imaging lens can be shortened. Further, the lens portion can be arbitrarily made of a material different from that of the lens substrate, and sufficient aberration correction can be achieved. Such an imaging lens is preferably manufactured by the manufacturing method according to claim 1.

請求項3に記載の撮像レンズは、請求項2に記載の発明において、前記レンズ基板の厚みをd1、前記レンズ部の空気と接する面と前記基板の厚み方向の中心面との距離の最小値をd2としたときに、下記の条件を満たすことを特徴とする。
0.01<d2/d1<0.5 (1)
According to a third aspect of the present invention, there is provided the imaging lens according to the second aspect of the present invention, wherein the thickness of the lens substrate is d1, and the minimum value of the distance between the surface of the lens unit in contact with air and the central surface in the thickness direction of the substrate. Where d2 is the following condition.
0.01 <d2 / d1 <0.5 (1)

値d2/d1が上限を下回ることによって、前記レンズ部の空気と接する面のうち少なくとも一面の一部分が、前記貫通穴の内部に隠れることとなるため、前記撮像レンズの全長を短縮することが出来る。一方、値d2/d1が下限を上回ることよって、前記レンズ部の厚みが適度に厚くなり、製造が容易な形状となる。   When the value d2 / d1 is less than the upper limit, at least a part of the surface of the lens portion that comes into contact with air is hidden inside the through hole, so that the overall length of the imaging lens can be shortened. . On the other hand, when the value d2 / d1 exceeds the lower limit, the thickness of the lens portion is appropriately increased, and the shape is easy to manufacture.

請求項4に記載の撮像レンズは、請求項2又は3に記載の発明において、前記レンズ部の空気と接する面と前記基板の厚み方向の中心面との距離の最大値d3が、下記の条件を満たすことを特徴とする。
0.01<d3/d1<0.5 (2)
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the imaging lens according to the second or third aspect, wherein a maximum value d3 of a distance between a surface of the lens unit that is in contact with air and a central surface in the thickness direction of the substrate is as follows. It is characterized by satisfying.
0.01 <d3 / d1 <0.5 (2)

値d3/d1が上限を下回ることによって、前記レンズ部の空気と接する面のうち少なくとも一面が完全に前記貫通穴の内部に隠れるため、例えば2枚玉以上の撮像レンズとする場合において、前記レンズ基板同士を重ね合わせることで、鏡枠の機能を持たせることができる。そのため、前記撮像レンズの全長を短縮することが出来ると共に、光軸直交方向においてもコンパクトな構成を提供できる。また、部品点数を削減することができ、コスト削減を達成できる。一方、値d3/d1が下限を上回ることよって、前記レンズ部の厚みが適度に厚くなり、製造が容易な形状となる。   When the value d3 / d1 is less than the upper limit, at least one of the surfaces of the lens portion that come into contact with air is completely hidden inside the through hole. By overlapping the substrates, the function of a mirror frame can be provided. Therefore, the overall length of the imaging lens can be shortened, and a compact configuration can be provided in the direction orthogonal to the optical axis. In addition, the number of parts can be reduced, and cost reduction can be achieved. On the other hand, when the value d3 / d1 exceeds the lower limit, the thickness of the lens portion is appropriately increased, and the shape is easy to manufacture.

請求項5に記載の撮像レンズは、請求項2〜4のいずれかに記載の発明において、前記貫通穴内部に形成される前記レンズ部が、複数の光学部材から形成されていることを特徴とするので、これにより十分な収差補正が可能になる。   The imaging lens according to claim 5 is characterized in that, in the invention according to any one of claims 2 to 4, the lens portion formed inside the through hole is formed of a plurality of optical members. Thus, sufficient aberration correction is possible.

請求項6に記載の撮像レンズは、請求項5に記載の発明において、前記複数の光学部材の境界面は非球面であることを特徴とするので、境界面の形状を光軸からの距離に応じて最適な形状とすることが出来、十分な収差補正が可能となる。   According to a sixth aspect of the present invention, in the invention of the fifth aspect, the boundary surfaces of the plurality of optical members are aspherical surfaces. Therefore, the shape of the boundary surface is set to a distance from the optical axis. Accordingly, an optimum shape can be obtained, and sufficient aberration correction can be performed.

請求項7に記載の撮像レンズは、請求項2〜6のいずれかに記載の発明において、前記貫通穴の側面に遮光層が形成されていることを特徴とするので、迷光の原因となる不要な光線を遮断することが可能になり、撮影画像の画質を向上させることが出来る。   The imaging lens according to claim 7 is characterized in that, in the invention according to any one of claims 2 to 6, a light shielding layer is formed on a side surface of the through hole. Therefore, it is possible to block the light rays and improve the image quality of the photographed image.

請求項8に記載の撮像レンズは、請求項2〜7のいずれかに記載の発明において、前記レンズ部と前記基板部の境界面に開口絞りを有することを特徴とする。   An imaging lens according to an eighth aspect is characterized in that, in the invention according to any one of the second to seventh aspects, an aperture stop is provided at a boundary surface between the lens portion and the substrate portion.

前記レンズ基板に穴をあけた状態で、遮光性を有する部材を塗布あるいは真空蒸着することで、容易に開口絞りをレンズ基板上に形成することができる。特に前記レンズ部と前記基板部の境界面に、開口絞りを形成すると好ましい。これにより、光学部材を削減できると共に、レンズ基板へのIR(Infra Red)カットコートやAR(Anti-Reflection)コートの蒸着処理をする際に、開口絞りも同時に、蒸着処理をすることが可能となり、低コスト化と量産性を向上させることができる。   An aperture stop can be easily formed on the lens substrate by coating or vacuum depositing a light-shielding member with the lens substrate having a hole. In particular, it is preferable to form an aperture stop at the boundary surface between the lens portion and the substrate portion. As a result, the number of optical members can be reduced, and the aperture stop can also be vapor-deposited at the same time as IR (Infra Red) cut coat and AR (Anti-Reflection) coat vapor-deposit process on the lens substrate. , Cost reduction and mass productivity can be improved.

請求項9に記載の撮像レンズは、請求項2〜8のいずれかに記載の発明において、前記レンズ部における空気と接するレンズ面が非球面であることを特徴とする。   The imaging lens according to a ninth aspect is characterized in that, in the invention according to any one of the second to eighth aspects, the lens surface in contact with the air in the lens portion is an aspherical surface.

空気と接しているレンズ部の境界面において最も屈折率差が大きくなるため、空気と接するレンズ面を非球面形状とすることで、非球面の効果を最大限に活用できる。また、レンズ面をすべて非球面形状とすることで、諸収差の発生を最小限に押さえることができ、高性能化が容易に可能となる。   Since the refractive index difference becomes the largest at the boundary surface of the lens portion in contact with air, the effect of the aspheric surface can be maximized by making the lens surface in contact with air aspherical. Further, by making the lens surfaces all aspherical, the occurrence of various aberrations can be minimized, and high performance can be easily achieved.

請求項10に記載の撮像レンズは、請求項2〜9のいずれかに記載の発明において、前記レンズ基板と前記レンズ部が光学薄膜及び/又は接着剤(接着層)等を介して間接的に接着されていることを特徴とする。   An imaging lens according to a tenth aspect is the invention according to any one of the second to ninth aspects, wherein the lens substrate and the lens portion are indirectly connected via an optical thin film and / or an adhesive (adhesive layer). It is bonded.

前記レンズ部と前記レンズ基板との間に、開口絞りやIRカットコートといった光学薄膜を介して接着することにより、固有の機能を有する光学部材の簡略化が可能となり、低コスト化が実現できる。また、レンズ基板とレンズ部を直接固着することが困難な場合には、接着層等を介してレンズ基板上にレンズ部を形成することができ、これによりレンズ部の素材として密着性の悪い樹脂も用いることができるので、光学特性を優先して選択するなど選択の範囲が広がり、高性能化、高機能化が実現できる。   By adhering between the lens portion and the lens substrate via an optical thin film such as an aperture stop or an IR cut coat, it is possible to simplify an optical member having a specific function, thereby realizing cost reduction. In addition, when it is difficult to directly fix the lens substrate and the lens portion, the lens portion can be formed on the lens substrate through an adhesive layer or the like, and thereby the resin having poor adhesion as the material of the lens portion. Therefore, the selection range is widened, for example, by selecting the optical characteristics with priority, and high performance and high functionality can be realized.

請求項11に記載の撮像レンズは、請求項2〜10のいずれかに記載の発明において、前記レンズ基板はガラス材料から形成されていることを特徴とする。   An imaging lens according to an eleventh aspect is characterized in that, in the invention according to any one of the second to tenth aspects, the lens substrate is made of a glass material.

ガラスは樹脂に比べて軟化温度が高く、レンズ基板をガラス材料から形成することで、実装電子部品のハンダ付けのために高温下に曝される、いわゆるリフロー処理を撮像レンズと共に行っても容易に変形せず、また低コスト化できる。レンズ基板を高軟化温度のガラス材料から形成するとより望ましい。   Glass has a higher softening temperature than resin, and by forming the lens substrate from a glass material, it is easily exposed to high temperatures for soldering mounted electronic components, so-called reflow processing can be easily performed with an imaging lens. There is no deformation and the cost can be reduced. It is more desirable to form the lens substrate from a glass material having a high softening temperature.

請求項12に記載の撮像レンズは、請求項2〜10のいずれかに記載の発明において、前記レンズ基板は不透明な部材から形成されていることを特徴とするので、金属やセラミックなどを用いることができる。特に前記レンズ基板の材質を金属にした場合、ガラスや樹脂などと比較し厚みを薄くすることが出来るので、撮像レンズの全長を更に短くできる。   The imaging lens according to claim 12 is characterized in that, in the invention according to any one of claims 2 to 10, the lens substrate is formed of an opaque member, so that metal, ceramic, or the like is used. Can do. In particular, when the lens substrate is made of metal, the thickness can be reduced as compared with glass or resin, so that the overall length of the imaging lens can be further reduced.

請求項13に記載の撮像レンズは、請求項12に記載の発明において、前記貫通穴の最大径をS1、前記レンズ部の直径をS2としたとき、下記の条件式を満たすことを特徴とする。
1.0<S2/S1<5.0 (3)
The imaging lens according to claim 13 is characterized in that, in the invention according to claim 12, when the maximum diameter of the through hole is S1 and the diameter of the lens portion is S2, the following conditional expression is satisfied. .
1.0 <S2 / S1 <5.0 (3)

値S2/S1が下限を上回ることよって、レンズ面の有効径外となる端部部分が貫通穴径の外側に形成されることになるので、これによりレンズ面の有効径内での面精度を向上させることが出来る。一方、値S2/S1が上限を下回ることによって、レンズ面のうち有効径外の面積を削減することが出来るため、レンズ部の材料の使用量を削減することが出来、コストが削減できる。   When the value S2 / S1 exceeds the lower limit, the end portion that is outside the effective diameter of the lens surface is formed outside the diameter of the through hole, and thus the surface accuracy within the effective diameter of the lens surface is improved. Can be improved. On the other hand, when the value S2 / S1 is below the upper limit, the area outside the effective diameter of the lens surface can be reduced, so that the amount of material used for the lens portion can be reduced and the cost can be reduced.

請求項14に記載の撮像レンズは、請求項2〜13のいずれかに記載の発明において、一部が基板表面から突出した第1のレンズ部を有する第1のレンズ基板と、一部が基板表面から引っ込んだ第2のレンズ部を有する第2のレンズ基板とからなり、
前記第1のレンズ部と前記第2のレンズ部の光軸同士を一致させるように、前記第1のレンズ基板と前記第2のレンズ基板とを密着させてなることを特徴とする。
According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided the imaging lens according to any one of the second to thirteenth aspects, wherein the first lens substrate includes a first lens portion that partially protrudes from the substrate surface, and a portion thereof is the substrate. A second lens substrate having a second lens part retracted from the surface;
The first lens substrate and the second lens substrate are in close contact so that the optical axes of the first lens unit and the second lens unit coincide with each other.

ウェハスケールレンズの製造工程においては、複数のレンズウェハを持った撮像レンズを製造する場合、大量にレンズ部が成形されたレンズウェハ上に、大量にレンズ部が成形された別のレンズウェハをスペーサ部材を介して積層させ接着するという方法が採られるが、この方法では例えば、第1レンズウェハ上に第2レンズウェハを積層させる際に、第1レンズウェハ上のレンズ部の内の一つと、第2レンズウェハ上のレンズ部の内の一つの光軸を合わせることで、他の第1レンズウェハ上に形成されたレンズ部と第2レンズウェハ上に形成されたレンズ部の光軸をも同時且つ同様の精度で合わせることができる。従って、例えば複数のガラスレンズまたはプラスチックレンズからなる撮像レンズを一つずつ作成する方法と比較し、ウェハスケールレンズの製造工程において撮像レンズを作成する方法は、各レンズウェハ上に形成されたレンズ部の光軸が高精度に合わせられた撮像レンズを短時間に大量生産することに向いているといえる。さらに、ウェハスケールレンズの製造工程では接着を行なうため、作成後に各レンズ部の光軸がずれてしまうことを阻止できる。このようなウェハスケールレンズの製造工程に本発明を適用すれば、第1のレンズ基板と前記第2のレンズ基板とを密着させることで、スペーサ部材が不要となり、部品点数の削減やコスト低減を図れる。   In the manufacturing process of a wafer scale lens, when manufacturing an imaging lens having a plurality of lens wafers, another lens wafer formed with a large amount of lens parts is spacerd on a lens wafer formed with a large amount of lens parts. In this method, for example, when the second lens wafer is laminated on the first lens wafer, one of the lens portions on the first lens wafer; and By aligning the optical axis of one of the lens portions on the second lens wafer, the optical axes of the lens portion formed on the other first lens wafer and the lens portion formed on the second lens wafer can be obtained. It is possible to match at the same time and with the same accuracy. Therefore, for example, in comparison with a method of creating an imaging lens made up of a plurality of glass lenses or plastic lenses one by one, a method of creating an imaging lens in the manufacturing process of a wafer scale lens has a lens portion formed on each lens wafer. It can be said that this is suitable for mass-producing imaging lenses in which the optical axes of these are aligned with high accuracy in a short time. Further, since the bonding is performed in the manufacturing process of the wafer scale lens, it is possible to prevent the optical axis of each lens unit from being shifted after the production. If the present invention is applied to the manufacturing process of such a wafer scale lens, the first lens substrate and the second lens substrate are brought into close contact with each other, thereby eliminating the need for a spacer member and reducing the number of components and the cost. I can plan.

請求項15に記載の撮像レンズは、請求項2〜14のいずれかに記載の発明において、前記レンズ部が樹脂材料から形成されていることを特徴とするので、レンズ部を樹脂材料で構成することにより、ガラスを用いる場合に比べて、加工成形性がよくなり、また低コスト化できる。   The imaging lens according to claim 15 is characterized in that, in the invention according to any one of claims 2 to 14, the lens portion is made of a resin material, and therefore the lens portion is made of a resin material. As a result, the processability is improved and the cost can be reduced as compared with the case of using glass.

請求項16に記載の撮像レンズは、請求項2〜14のいずれかに記載の発明において、前記レンズ部がエネルギー硬化型樹脂材料から形成されていることを特徴とする。   An imaging lens according to a sixteenth aspect is characterized in that, in the invention according to any one of the second to fourteenth aspects, the lens portion is formed of an energy curable resin material.

レンズ部をエネルギー硬化型の樹脂材料によって構成することにより、ウェハ状のレンズ基板に金型によって同時に大量にレンズ部を種々の手段によって硬化させることが可能となり、量産性を向上させることができるようになる。ここでエネルギー硬化型の樹脂材料とは、熱によって硬化する樹脂材料や光によって硬化する樹脂材料等を指す。なお、エネルギー硬化型の樹脂材料はUV硬化型の樹脂材料によって構成されることが望ましい。UV硬化型の樹脂材料で構成されることにより、硬化時間を短くでき量産性を改善できる。また、近年では耐熱性に優れた樹脂および硬化型の樹脂材料が開発されており、リフロー処理にも耐えるものがある。   By constructing the lens portion with an energy curable resin material, it becomes possible to cure the lens portion in a large amount simultaneously with a mold on the wafer-like lens substrate by various means, so that mass productivity can be improved. become. Here, the energy curable resin material refers to a resin material that is cured by heat, a resin material that is cured by light, or the like. The energy curable resin material is preferably composed of a UV curable resin material. By using a UV curable resin material, the curing time can be shortened and mass productivity can be improved. In recent years, resins having excellent heat resistance and curable resin materials have been developed, and some of them can withstand reflow treatment.

請求項17に記載の撮像レンズは、請求項15又は16に記載の発明において、前記樹脂材料には、長さ30ナノメートル以下の無機微粒子が分散されていることを特徴とする。   An imaging lens according to a seventeenth aspect is the invention according to the fifteenth or sixteenth aspect, wherein inorganic fine particles having a length of 30 nanometers or less are dispersed in the resin material.

前記レンズ部に、30ナノメートル以下の無機微粒子を分散させることで、温度が変化しても性能の劣化や、像点位置変動を低減でき、しかも光透過率を低下させることなく、環境変化に関わらず優れた光学特性を有する撮像レンズを提供できる。   By dispersing inorganic fine particles of 30 nanometers or less in the lens part, it is possible to reduce performance deterioration and image point position fluctuations even when the temperature changes, and to change the environment without lowering the light transmittance. Regardless, an imaging lens having excellent optical characteristics can be provided.

一般に、透明な樹脂材料に微粒子を混合させると、光の散乱が生じ透過率が低下するため、光学材料として使用することは困難であったが、微粒子の大きさを透過光束の波長より小さくすることにより、散乱が実質的に発生しないようにできる。また、樹脂材料はガラス材料に比べて屈折率が低いことが欠点であったが、屈折率の高い無機粒子を母材となる樹脂材料に分散させると、屈折率を高くできることがわかってきた。   In general, when fine particles are mixed in a transparent resin material, light scattering occurs and the transmittance decreases, so that it was difficult to use as an optical material. However, the size of the fine particles is made smaller than the wavelength of the transmitted light beam. Thus, the scattering can be substantially prevented. In addition, the resin material has a disadvantage that the refractive index is lower than that of the glass material, but it has been found that the refractive index can be increased by dispersing inorganic particles having a high refractive index in the resin material as a base material.

具体的には、母材となる樹脂材料に30ナノメートル以下、なお、望ましくは、母材となる樹脂材料に20ナノメートル以下、さらに望ましくは15ナノメートル以下の無機粒子を分散させることにより、任意の温度依存性を有する材料を提供できる。
さらに、樹脂材料は湿度が上昇することにより屈折率が低下してしまうが、温度が上昇すると屈折率が上昇する無機粒子を母材となる樹脂材料に分散させると、これらの性質を打ち消しあうように作用するので、温度変化に対する屈折率変化を小さくできることも知られている。また、逆に、温度が上昇すると屈折率が低下する無機粒子を母材となる樹脂材料に分散させると、温度変化に対する屈折率変化を大きくできることも知られている。具体的には、母材となる樹脂材料に30ナノメートル以下、なお、望ましくは、母材となる樹脂材料に20ナノメートル以下、さら望ましくは15ナノメートル以下の無機粒子を分散させることにより、任意の温度依存性を有する材料を提供できる。
Specifically, by dispersing inorganic particles of 30 nanometers or less in the resin material as the base material, preferably 20 nanometers or less, more preferably 15 nanometers or less in the resin material as the base material, A material having any temperature dependency can be provided.
Furthermore, although the refractive index of the resin material decreases as the humidity increases, if inorganic particles whose refractive index increases as the temperature rises are dispersed in the resin material as the base material, these properties will cancel each other. It is also known that the refractive index change with respect to the temperature change can be reduced. On the other hand, it is also known that when the inorganic particles whose refractive index decreases as the temperature rises are dispersed in the resin material as the base material, the refractive index change with respect to the temperature change can be increased. Specifically, by dispersing inorganic particles of 30 nanometers or less in the resin material as the base material, preferably 20 nanometers or less, more preferably 15 nanometers or less in the resin material as the base material, A material having an arbitrary temperature dependency can be provided.

例えば、アクリル系樹脂に酸化アルミニウム(Al23)やニオブ酸リチウム(LiNbO3)の微粒子を分散させることにより、高い屈折率の樹脂材料が得られるとともに、温度に対する屈折率変化を小さくすることができる。 For example, by dispersing fine particles of aluminum oxide (Al 2 O 3 ) or lithium niobate (LiNbO 3 ) in an acrylic resin, a resin material with a high refractive index can be obtained, and the refractive index change with respect to temperature can be reduced. Can do.

次に、屈折率の温度変化Aについて詳細に説明する。屈折率の温度変化Aは、ローレンツ・ローレンツの式に基づいて、屈折率nを温度tで微分することにより、以下の数1で表される。   Next, the temperature change A of the refractive index will be described in detail. The temperature change A of the refractive index is expressed by the following formula 1 by differentiating the refractive index n with respect to the temperature t based on the Lorentz-Lorentz equation.

但し、αは線膨張係数、[R]は分子屈折である。 Where α is the linear expansion coefficient and [R] is molecular refraction.

樹脂材料の場合は、一般に式中第1項に比べ第2項の寄与が小さく、ほぼ無視できる。例えば、PMMA樹脂の場合、線膨張係数αは7×10-5であり、上記式に代入すると、dn/dt=−1.2×10-4[/℃]となり、実測値とおおむね一致する。
ここで、微粒子、望ましくは無機微粒子を樹脂材料中に分散させることによって実質的に上記式の第2項の寄与を大きくし、第1項の線膨張による変化と打ち消しあうようにさせている。具体的には、従来は−1.2×10-4程度であった変化を、絶対値で8×10-5未満に抑えることが望ましい。
In the case of a resin material, the contribution of the second term is generally smaller than the first term in the formula, and can be almost ignored. For example, in the case of the PMMA resin, the linear expansion coefficient α is 7 × 10 −5 , and if it is substituted into the above formula, dn / dt = −1.2 × 10 −4 [/ ° C.], which is almost the same as the actually measured value. .
Here, by dispersing fine particles, preferably inorganic fine particles, in the resin material, the contribution of the second term of the above formula is substantially increased, so that the change due to the linear expansion of the first term can be counteracted. Specifically, it is desirable to suppress the change of about −1.2 × 10 −4 in the past to an absolute value of less than 8 × 10 −5 .

また、第2項の寄与をさらに大きくして、母材の樹脂材料とは逆の温度特性を持たせることも可能である。つまり、温度が上昇することによって屈折率が低下するのではなく、逆に、届折率が上昇するような素材を得ることもできる。また、これと同様にして、樹脂材料は吸水によって屈折率が上昇してしまうが、逆に、屈折率が低下するような素材を得ることができる。   In addition, the contribution of the second term can be further increased to have temperature characteristics opposite to those of the base resin material. In other words, it is possible to obtain a material whose refractive index increases instead of decreasing the refractive index as the temperature increases. Similarly, although the refractive index of the resin material increases due to water absorption, a material whose refractive index decreases can be obtained.

微粒子の混合割合は、屈折率の温度に対する変化の割合をコントロールするために、適宜増減できるし、複数種類のナノサイズの無機粒子をブレンドして分散させることも可能である。   The mixing ratio of the fine particles can be appropriately increased or decreased in order to control the rate of change of the refractive index with respect to the temperature, and a plurality of types of nano-sized inorganic particles can be blended and dispersed.

請求項18に記載の撮像装置は、請求項2〜17のいずれかに記載の撮像レンズを備えたことを特徴とする。   An imaging device according to an eighteenth aspect includes the imaging lens according to any one of the second to seventeenth aspects.

本発明によれば、基板の厚みを確保しながらも、光学系の全長が短縮できる撮像レンズの製造方法、撮像レンズ及びそれを用いた撮像装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an imaging lens manufacturing method, an imaging lens, and an imaging apparatus using the imaging lens that can reduce the overall length of the optical system while securing the thickness of the substrate.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1は、本実施の形態にかかる撮像装置50の斜視図であり、図2は、図1の構成を矢印II-II線で切断して矢印方向に見た断面図である。図2に示すように、撮像装置50は、光電変換部51aを有する固体撮像素子としてのCMOS型イメージセンサ51と、このイメージセンサ51の光電変換部51aに被写体像を撮像させる撮像レンズ10と、イメージセンサ51を保持すると共にその電気信号の送受を行う外部接続用端子(不図示)を有するプリント基板52とを備え、これらが一体的に形成されている。尚、撮像レンズ10は、レンズ基板LSとレンズ部L1,L2とを有する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of an imaging apparatus 50 according to the present embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view of the configuration of FIG. 1 taken along the line II-II and viewed in the direction of the arrow. As shown in FIG. 2, the imaging device 50 includes a CMOS image sensor 51 as a solid-state imaging device having a photoelectric conversion unit 51 a, an imaging lens 10 that causes the photoelectric conversion unit 51 a of the image sensor 51 to capture a subject image, A printed circuit board 52 having an external connection terminal (not shown) that holds the image sensor 51 and transmits and receives the electric signal is integrally formed. The imaging lens 10 includes a lens substrate LS and lens portions L1 and L2.

上記イメージセンサ51は、その受光側の平面の中央部に、画素(光電変換素子)が2次元的に配置された、受光部としての光電変換部51aが形成されており、不図示の信号処理回路に接続されている。かかる信号処理回路は、各画素を順次駆動し信号電荷を得る駆動回路部と、各信号電荷をデジタル信号に変換するA/D変換部と、このデジタル信号を用いて画像信号出力を形成する信号処理部等から構成されている。また、イメージセンサ51の受光側の平面の外縁近傍には、多数のパッド(図示略)が配置されており、不図示のワイヤを介してプリント基板52に接続されている。イメージセンサ51は、光電変換部51aからの信号電荷をデジタルYUV信号等の画像信号等に変換し、ワイヤ(不図示)を介してプリント基板52上の所定の回路に出力する。ここで、Yは輝度信号、U(=R−Y)は赤と輝度信号との色差信号、V(=B−Y)は青と輝度信号との色差信号である。なお、固体撮像素子は上記CMOS型のイメージセンサに限定されるものではなく、CCD等の他のものを使用しても良い。   In the image sensor 51, a photoelectric conversion unit 51a as a light receiving unit in which pixels (photoelectric conversion elements) are two-dimensionally arranged is formed in the center of a plane on the light receiving side, and signal processing (not shown) is performed. Connected to the circuit. Such a signal processing circuit includes a drive circuit unit that sequentially drives each pixel to obtain a signal charge, an A / D conversion unit that converts each signal charge into a digital signal, and a signal that forms an image signal output using the digital signal. It consists of a processing unit and the like. A number of pads (not shown) are arranged in the vicinity of the outer edge of the plane on the light receiving side of the image sensor 51, and are connected to the printed circuit board 52 via wires (not shown). The image sensor 51 converts the signal charge from the photoelectric conversion unit 51a into an image signal such as a digital YUV signal, and outputs it to a predetermined circuit on the printed circuit board 52 via a wire (not shown). Here, Y is a luminance signal, U (= R−Y) is a color difference signal between red and the luminance signal, and V (= BY) is a color difference signal between blue and the luminance signal. Note that the solid-state imaging device is not limited to the CMOS image sensor, and other devices such as a CCD may be used.

イメージセンサ51を支持するプリント基板52は、不図示の配線により、イメージセンサ51に対して通信可能に接続されている。   The printed circuit board 52 that supports the image sensor 51 is communicably connected to the image sensor 51 through a wiring (not shown).

プリント基板52は、不図示の外部接続用端子を介して外部回路(例えば、撮像装置を実装した携帯端末の上位装置が有する制御回路)と接続し、外部回路からイメージセンサ51を駆動するための電圧やクロック信号の供給を受けたり、また、デジタルYUV信号を外部回路へ出力したりすることを可能とする。   The printed circuit board 52 is connected to an external circuit (for example, a control circuit included in a host device of a portable terminal mounted with an imaging device) via an external connection terminal (not shown), and drives the image sensor 51 from the external circuit. It is possible to receive a voltage and a clock signal and to output a digital YUV signal to an external circuit.

イメージセンサ51の上部は、筒状のスペーサ部材SPを介してプリント基板52の上面に固定されたレンズ基板LSにより封止されている。ガラス製のレンズ基板LSに形成された貫通穴HL内に、樹脂製のレンズ部L1,L2が嵌合するように配置されている。レンズ基板LSと、物体側のレンズ部L1との間には、光学薄膜による開口絞りSが形成されている。尚、レンズ基板LSの側面、上面、及び貫通穴HLの周面には、遮光層の塗布又は蒸着などがなされていると好ましい。レンズ基板LSとレンズ部L1,L2とは接着されていても良い。   The upper part of the image sensor 51 is sealed by a lens substrate LS fixed to the upper surface of the printed circuit board 52 via a cylindrical spacer member SP. The resin lens portions L1 and L2 are disposed so as to fit into the through holes HL formed in the glass lens substrate LS. An aperture stop S made of an optical thin film is formed between the lens substrate LS and the lens portion L1 on the object side. In addition, it is preferable that a light shielding layer is applied or vapor-deposited on the side surface, the upper surface of the lens substrate LS, and the peripheral surface of the through hole HL. The lens substrate LS and the lens portions L1 and L2 may be bonded.

尚、レンズ部L1,L2は、最大長30ナノメートル以下の無機微粒子を分散させたUV硬化型樹脂材料からなると好ましい。   The lens portions L1 and L2 are preferably made of a UV curable resin material in which inorganic fine particles having a maximum length of 30 nanometers or less are dispersed.

上述した撮像装置50の使用態様について説明する。図3は、撮像装置50をデジタル機器である携帯端末としての携帯電話機100に装備した状態を示す図である。また、図4は携帯電話機100の制御ブロック図である。   A usage mode of the imaging apparatus 50 described above will be described. FIG. 3 is a diagram illustrating a state in which the imaging device 50 is mounted on a mobile phone 100 as a mobile terminal that is a digital device. FIG. 4 is a control block diagram of the mobile phone 100.

撮像装置50は、例えば、撮像レンズの物体側端面が携帯電話機100の背面(液晶表示部側を正面とする)に設けられ、液晶表示部の下方に相当する位置になるよう配設される。   The imaging device 50 is disposed, for example, such that the object-side end surface of the imaging lens is provided on the back surface of the mobile phone 100 (the liquid crystal display unit side is the front surface) and corresponds to a position below the liquid crystal display unit.

撮像装置50の外部接続用端子(不図示)は、携帯電話機100の制御部101と接続され、輝度信号や色差信号等の画像信号を制御部101側に出力する。   An external connection terminal (not shown) of the imaging device 50 is connected to the control unit 101 of the mobile phone 100 and outputs an image signal such as a luminance signal or a color difference signal to the control unit 101 side.

一方、携帯電話機100は、図4に示すように、各部を統括的に制御すると共に、各処理に応じたプログラムを実行する制御部(CPU)101と、番号等をキーにより支持入力するための入力部60と、撮像した画像や映像等を表示する表示部70と、外部サーバとの間の各種情報通信を実現するための無線通信部80と、携帯電話機100のシステムプログラムや各種処理プログラム及び端末ID等の必要な諸データを記憶している記憶部(ROM)91と、制御部101によって実行される各種処理プログラムやデータ、若しくは処理データ、或いは撮像装置50による撮像データ等を一時的に格納する作業領域として用いられる一時記憶部(RAM)92とを備えている。   On the other hand, as shown in FIG. 4, the mobile phone 100 controls each unit in an integrated manner, and also supports a control unit (CPU) 101 that executes a program corresponding to each process, and inputs a number and the like with keys. An input unit 60, a display unit 70 for displaying captured images and videos, a wireless communication unit 80 for realizing various information communications with an external server, a system program and various processing programs for the mobile phone 100, A storage unit (ROM) 91 that stores necessary data such as a terminal ID, and various processing programs and data executed by the control unit 101, processing data, imaging data by the imaging device 50, and the like are temporarily stored. And a temporary storage unit (RAM) 92 used as a work area for storage.

携帯電話機100を把持する撮影者が、被写体に対して撮像装置50の撮像レンズ10を向けると、イメージセンサ51に静止画又は動画の画像信号が取り込まれる。所望のシャッタチャンスで、図3に示すボタンBTを撮影者が押すことでレリーズが行われ、画像信号が撮像装置50に取り込まれることとなる。撮像装置50から入力された画像信号は、上記携帯電話機100の制御系に送信され、記憶部92に記憶されたり、或いは表示部70で表示され、さらには、無線通信部80を介して映像情報として外部に送信されることとなる。   When the photographer holding the mobile phone 100 points the imaging lens 10 of the imaging device 50 toward the subject, the image sensor 51 captures an image signal of a still image or a moving image. When the photographer presses the button BT shown in FIG. 3 at a desired photo opportunity, release is performed, and the image signal is taken into the imaging device 50. The image signal input from the imaging device 50 is transmitted to the control system of the mobile phone 100 and stored in the storage unit 92 or displayed on the display unit 70, and further, video information is transmitted via the wireless communication unit 80. Will be transmitted to the outside.

本実施の形態にかかる撮像レンズの製造方法について説明する。図5は、本実施の形態にかかる撮像レンズを製造する工程を示す図である。まず、図5(a)に上面図を示し、図5(b)に断面図を示す円盤状ガラス製の平行平板である基板素材LSPの面に対して、エッチング等により基板素材LSPを貫通する貫通穴HLを所定の配列で並べて開ける。   A method for manufacturing the imaging lens according to the present embodiment will be described. FIG. 5 is a diagram illustrating a process of manufacturing the imaging lens according to the present embodiment. First, the substrate material LSP is penetrated by etching or the like with respect to the surface of the substrate material LSP which is a parallel plate made of disk-shaped glass whose top view is shown in FIG. The through holes HL are opened in a predetermined arrangement.

次いで、図5(c)に示すように、基板素材LSPの上面、下面及び貫通穴HLの側面に、遮光層SDLを形成する。遮光層SDLの形成方法としては、塗布、蒸着、シート状の遮光材の貼り付けなどがある。基板素材LSPの上面に形成した遮光層SDLは、撮像レンズ10の開口絞りS(図2)を形成し、貫通穴HLの周面に形成した遮光層SDLは、ゴーストの原因となる不要光を遮る機能を有し、これにより画質の向上をはかることが出来る。特に、基板素材の材質がガラスなど透過性が高いものの場合、遮光層SDLを設けることは極めて重要である。   Next, as illustrated in FIG. 5C, the light shielding layer SDL is formed on the upper and lower surfaces of the substrate material LSP and the side surfaces of the through holes HL. Examples of the method for forming the light shielding layer SDL include application, vapor deposition, and application of a sheet-like light shielding material. The light shielding layer SDL formed on the upper surface of the substrate material LSP forms the aperture stop S (FIG. 2) of the imaging lens 10, and the light shielding layer SDL formed on the peripheral surface of the through hole HL emits unnecessary light that causes ghosts. It has a blocking function, which can improve the image quality. In particular, when the material of the substrate material is high in transparency such as glass, it is extremely important to provide the light shielding layer SDL.

次に、図5(d)に示すように、基板素材LSPの下面側から、上部が平面であり貫通穴SDLにほぼ等しい径を有する凸部M1aを形成した型M1を接近させ、凸部M1aを貫通穴HLに挿入して固定する。型M1はガラス素材など透明であることが望ましい。一方、図5(e)に示すように、基板素材LSPの上面側から、貫通穴HLより大径の光学転写面M2aを形成した型M2を接近させ、球面又は非球面形状の光学転写面M2aを貫通穴HLに対向させて固定する。   Next, as shown in FIG. 5D, from the lower surface side of the substrate material LSP, a mold M1 having a convex portion M1a having a flat upper portion and a diameter substantially equal to the through hole SDL is brought close to the convex portion M1a. Is inserted into the through hole HL and fixed. The mold M1 is preferably transparent, such as a glass material. On the other hand, as shown in FIG. 5E, from the upper surface side of the substrate material LSP, a mold M2 having an optical transfer surface M2a having a diameter larger than the through hole HL is approached, and a spherical or aspherical optical transfer surface M2a. Is fixed so as to face the through hole HL.

その後、不図示のランナー及びゲートを介して、貫通穴HLと凸部M1aの上面と光学転写面M2aとで形成されるキャビティ内にUV硬化型樹脂を注入し、型M1側から紫外線を照射する。これにより、キャビティ内で樹脂が硬化し、レンズ部L1が形成されることとなる(図5(e)参照)。尚、一般的なUV硬化型樹脂の常温での粘度は低いので、その表面が水平になる特性を利用して、水平に維持した基板素材LSPの下面側から、光学転写面M2aを形成した型M2を型締めし、UV硬化型樹脂を、貫通穴HLと光学転写面M2aとで形成される上部が開放した空間に注入して紫外線を照射することでレンズ部の形成を行うことも出来、これにより型M1による密閉を不要とできる。   Thereafter, a UV curable resin is injected into a cavity formed by the through hole HL, the upper surface of the projection M1a, and the optical transfer surface M2a through a runner and a gate (not shown), and ultraviolet rays are irradiated from the mold M1 side. . Thereby, resin hardens | cures within a cavity and the lens part L1 will be formed (refer FIG.5 (e)). In addition, since the viscosity at normal temperature of a general UV curable resin is low, a mold in which the optical transfer surface M2a is formed from the lower surface side of the substrate material LSP maintained horizontally by utilizing the characteristic that the surface is horizontal. M2 is clamped, and the lens part can be formed by injecting UV curable resin into an open space formed by the through hole HL and the optical transfer surface M2a and irradiating with ultraviolet rays. This eliminates the need for sealing with the mold M1.

樹脂が固化した後、型M1、M2を離型し、更に図5(f)に示すように、貫通穴HLより大径の光学転写面M3aを形成した型M3を接近させ、球面又は非球面形状の光学転写面M3aを貫通穴HLに対向させて固定する。更に、不図示のランナー及びゲートを介して、貫通穴HLとレンズ部L1の下面と光学転写面M3aとで形成されるキャビティ内にUV硬化型樹脂を注入し、基板素材LSPの上面側から紫外線を照射する。レンズ部L1は透明であるので紫外線を遮ることがない。これにより、キャビティ内で樹脂が硬化し、レンズ部L2が形成されることとなる。   After the resin is solidified, the molds M1 and M2 are released, and as shown in FIG. 5 (f), the mold M3 having an optical transfer surface M3a larger in diameter than the through hole HL is brought close to the spherical or aspherical surface. The shaped optical transfer surface M3a is fixed to face the through hole HL. Further, a UV curable resin is injected into a cavity formed by the through hole HL, the lower surface of the lens portion L1, and the optical transfer surface M3a through a runner and a gate (not shown), and ultraviolet rays are injected from the upper surface side of the substrate material LSP. Irradiate. Since the lens portion L1 is transparent, it does not block ultraviolet rays. Thereby, resin hardens | cures within a cavity and the lens part L2 will be formed.

樹脂が固化した後、型M3を離型し、図5(g)に示すように、中間生成物としてのレンズブロックユニットUTを得る。更に点線で示すように、レンズ部L毎に基板LSPを切断することで、図2に示すように、基板素材LSPの一部であるレンズ基板LSとレンズ部L1,L2とからなる撮像レンズ10を得ることができる。   After the resin is solidified, the mold M3 is released to obtain a lens block unit UT as an intermediate product, as shown in FIG. 5 (g). Further, as shown by a dotted line, by cutting the substrate LSP for each lens portion L, as shown in FIG. 2, the imaging lens 10 composed of a lens substrate LS and lens portions L1, L2 which are part of the substrate material LSP. Can be obtained.

ここで、基板素材LSPは金属やセラミックなど不透明な部材であっても良い。又、貫通穴HLの最大径をS1、レンズ部L1,L2の直径をS2としたとき、下記の条件式を満たすと好ましい。
1.0<S2/S1<5.0 (3)
Here, the substrate material LSP may be an opaque member such as metal or ceramic. Further, when the maximum diameter of the through hole HL is S1 and the diameters of the lens portions L1 and L2 are S2, it is preferable that the following conditional expression is satisfied.
1.0 <S2 / S1 <5.0 (3)

レンズ部L1,L2の樹脂の種類を異ならせても良いが、長さ30ナノメートル以下の無機粒子が分散されていると好ましい。レンズ部L1,L2の空気と接する面は任意の球面形状もしくは非球面形状をとりうる。又、図6に示すようにレンズ部L1のみをレンズ基板LSに形成しても良いし、逆にレンズ部L2のみをレンズ基板LSに形成しても良い。   The resin types of the lens portions L1 and L2 may be different, but it is preferable that inorganic particles having a length of 30 nanometers or less are dispersed. The surfaces of the lens portions L1 and L2 that are in contact with air can take any spherical shape or aspherical shape. Further, as shown in FIG. 6, only the lens portion L1 may be formed on the lens substrate LS, or conversely, only the lens portion L2 may be formed on the lens substrate LS.

図7は、別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図であるが、遮光層は図示を省略している(以下同じ)。本実施の形態においては、レンズ部L1の下方で空気に接するレンズ面L1bは、基板素材LSPの下面と同一な平面であり、レンズ部L1の上方で空気に接するレンズ面L1aは凸状であり、その外径が貫通穴HLの内径以下となっている。基板素材LSPの厚み方向において、レンズ面L1aの面頂点は、基板素材LSPの上面から突出しているが、レンズ面L1aの外径部は、貫通穴HLの上面から引っ込んだ位置にある。   FIG. 7 is a cross-sectional view of the substrate material and the lens portion before cutting according to another embodiment, but the light shielding layer is not shown (the same applies hereinafter). In the present embodiment, the lens surface L1b that contacts the air below the lens portion L1 is the same plane as the lower surface of the substrate material LSP, and the lens surface L1a that contacts the air above the lens portion L1 is convex. The outer diameter is equal to or smaller than the inner diameter of the through hole HL. In the thickness direction of the substrate material LSP, the surface vertex of the lens surface L1a protrudes from the upper surface of the substrate material LSP, but the outer diameter portion of the lens surface L1a is in a position retracted from the upper surface of the through hole HL.

図8は、別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図である。本実施の形態においては、図7の実施の形態に対して、レンズ部L1の上方で空気に接するレンズ面L1aを凹状にした点が異なっている。基板素材LSPの厚み方向において、レンズ面L1aの面頂点は、基板素材LSPの上面から引っ込んだ位置にあるが、レンズ面L1aの外径部は、基板素材LSPの上面から突出している。ここで、基板素材LSPの厚みをd1、レンズ部L1の空気と接するレンズ面L1aと基板素材LSPの厚み方向の中心面との距離の最小値をd2としたときに、下記の条件を満たすと好ましい。
0.01<d2/d1<0.5 (1)
FIG. 8 is a cross-sectional view of a substrate material and a lens portion before cutting according to another embodiment. The present embodiment is different from the embodiment of FIG. 7 in that the lens surface L1a in contact with air above the lens portion L1 is concave. In the thickness direction of the substrate material LSP, the surface vertex of the lens surface L1a is in a position retracted from the upper surface of the substrate material LSP, but the outer diameter portion of the lens surface L1a protrudes from the upper surface of the substrate material LSP. Here, when the thickness of the substrate material LSP is d1, and the minimum value of the distance between the lens surface L1a in contact with the air of the lens portion L1 and the center surface in the thickness direction of the substrate material LSP is d2, the following condition is satisfied. preferable.
0.01 <d2 / d1 <0.5 (1)

図9は、別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図である。本実施の形態においては、図7の実施の形態に対して、上方で空気に接する凸状のレンズ面L1aの面頂点が、基板素材LSPの上面から引っ込んだ位置にある。ここで、レンズ部L1の空気と接するレンズ面L1aと基板素材LSPの厚み方向の中心面との距離の最大値d3が、下記の条件を満たすと好ましい。
0.01<d3/d1<0.5 (2)
FIG. 9 is a cross-sectional view of a substrate material and a lens portion before cutting according to another embodiment. In the present embodiment, with respect to the embodiment of FIG. 7, the surface vertex of the convex lens surface L1a that is in contact with the air above is in a position retracted from the upper surface of the substrate material LSP. Here, it is preferable that the maximum value d3 of the distance between the lens surface L1a in contact with the air of the lens portion L1 and the center surface in the thickness direction of the substrate material LSP satisfies the following condition.
0.01 <d3 / d1 <0.5 (2)

図10は、別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図である。本実施の形態においては、図8の実施の形態に対して、レンズ面L1aの外径部は、基板素材LSPの上面に一致している。尚、これに限らず、レンズ面L1aの外径部を、基板素材LSPの上面から引っ込んだ位置にしても良く、それにより(2)式を満たすこととなる。   FIG. 10 is a cross-sectional view of a substrate material and a lens portion before cutting according to another embodiment. In the present embodiment, the outer diameter portion of the lens surface L1a coincides with the upper surface of the substrate material LSP as compared with the embodiment of FIG. However, the present invention is not limited to this, and the outer diameter portion of the lens surface L1a may be in a position retracted from the upper surface of the substrate material LSP, thereby satisfying the expression (2).

図11は、別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図である。本実施の形態においては、図7の実施の形態に対して、レンズ部を貼り合わせた構成としている点が異なる。より具体的には、基板素材LSPの貫通穴HL内に、境界面L12を密着させた正レンズ部L1と負レンズ部L2とを形成している。これにより、撮像レンズの光学特性を更に向上させることができる。正レンズ部L1と負レンズ部L2の素材は、同じでも異なっていても良い。   FIG. 11 is a cross-sectional view of a substrate material and a lens portion before cutting according to another embodiment. This embodiment is different from the embodiment of FIG. 7 in that the lens unit is bonded. More specifically, the positive lens portion L1 and the negative lens portion L2 in which the boundary surface L12 is in close contact are formed in the through hole HL of the substrate material LSP. Thereby, the optical characteristics of the imaging lens can be further improved. The materials of the positive lens portion L1 and the negative lens portion L2 may be the same or different.

尚、正レンズ部L1と負レンズ部L2の境界面L12は球面形状でも良いが、図12の例に示すように、非球面形状とすると、より設計の自由度が広がる。   Note that the boundary surface L12 between the positive lens portion L1 and the negative lens portion L2 may be spherical, but as shown in the example of FIG.

図13は、別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図である。本実施の形態においては、図11の実施の形態に対して、基板素材LSPの貫通穴HL内に、境界面L12を密着させた負レンズ部L1と正レンズ部L2とを形成している点が異なる。   FIG. 13 is a cross-sectional view of a substrate material and a lens portion before cutting according to another embodiment. In the present embodiment, a negative lens portion L1 and a positive lens portion L2 in which the boundary surface L12 is in close contact are formed in the through hole HL of the substrate material LSP in the embodiment of FIG. Is different.

尚、負レンズ部L1と正レンズ部L2の境界面L12は球面形状でも良いが、図14の例に示すように、非球面形状とすると、より設計の自由度が広がる。   Note that the boundary surface L12 between the negative lens portion L1 and the positive lens portion L2 may be spherical, but as shown in the example of FIG.

図15は、別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図である。本実施の形態においては、図9に示す実施の形態を複数個(ここでは3つ)、重ねたレンズ部L1の光軸同士が一致するように重ね合わせて接着しており、これを点線で示す位置でレンズ部L1毎に切断することで、3枚玉の撮像レンズを容易に製造することができる。   FIG. 15 is a cross-sectional view of a substrate material and a lens portion before cutting according to another embodiment. In this embodiment, a plurality (three in this case) of the embodiment shown in FIG. 9 are overlapped and bonded so that the optical axes of the overlapped lens portions L1 coincide with each other, and this is indicated by a dotted line. By cutting each lens portion L1 at the position shown, a three-lens imaging lens can be easily manufactured.

なお、重ね合わせることができるレンズ部として、基板表面から引っ込んだものに限らず、基板素材の上面から突出したものも用いることができる。例えば、図16に示すように、下側の基板素材LSPの貫通穴HLに形成された第1のレンズ部L1は、図7の例のように、レンズ面L1aの面頂点が基板素材LSPの上面から突出している。一方、上側の基板素材LSPの貫通穴HLに形成された第2のレンズ部L2は、下側のレンズ面L2aが凹状となっている。図16に示すように、基板LSP同士を密着するように重ね合わせたとき、下側のレンズ面L1aの面頂点は、上側のレンズ面L2aに接触しないか、或いは殆ど応力を発生することなく接触した状態に維持される。これを点線で示す位置でレンズ部L1、L2毎に切断することで、レンズ基板が薄く全長の短い2枚玉の撮像レンズを容易に製造することができる。   In addition, as a lens part which can be overlap | superposed, what protruded from the upper surface of the board | substrate raw material can be used not only in what was retracted from the board | substrate surface. For example, as shown in FIG. 16, the first lens portion L1 formed in the through hole HL of the lower substrate material LSP has a surface vertex of the lens surface L1a of the substrate material LSP as in the example of FIG. It protrudes from the upper surface. On the other hand, in the second lens portion L2 formed in the through hole HL of the upper substrate material LSP, the lower lens surface L2a is concave. As shown in FIG. 16, when the substrates LSP are stacked so as to be in close contact with each other, the surface vertex of the lower lens surface L1a is not in contact with the upper lens surface L2a or is hardly contacted with stress. Maintained. By cutting this at the position indicated by the dotted line for each of the lens portions L1 and L2, a two-lens imaging lens having a thin lens substrate and a short overall length can be easily manufactured.

本実施の形態にかかる撮像装置50の斜視図である。It is a perspective view of the imaging device 50 concerning this Embodiment. 図1の構成を矢印II-II線で切断して矢印方向に見た断面図である。It is sectional drawing which cut | disconnected the structure of FIG. 1 by the arrow II-II line | wire, and looked at the arrow direction. 撮像装置50を携帯端末としての携帯電話機100に装備した状態を示す図である。It is a figure which shows the state equipped with the imaging device 50 in the mobile telephone 100 as a portable terminal. 携帯電話機100の制御ブロック図である。3 is a control block diagram of the mobile phone 100. FIG. 本実施の形態に用いる撮像レンズを製造する工程を示す図である。It is a figure which shows the process of manufacturing the imaging lens used for this Embodiment. 別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図である。It is sectional drawing of the board | substrate raw material and lens part before cutting concerning another embodiment. 別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図である。It is sectional drawing of the board | substrate raw material and lens part before cutting concerning another embodiment. 別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図である。It is sectional drawing of the board | substrate raw material and lens part before cutting concerning another embodiment. 別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図である。It is sectional drawing of the board | substrate raw material and lens part before cutting concerning another embodiment. 別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図である。It is sectional drawing of the board | substrate raw material and lens part before cutting concerning another embodiment. 別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図である。It is sectional drawing of the board | substrate raw material and lens part before cutting concerning another embodiment. 別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図である。It is sectional drawing of the board | substrate raw material and lens part before cutting concerning another embodiment. 別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図である。It is sectional drawing of the board | substrate raw material and lens part before cutting concerning another embodiment. 別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図である。It is sectional drawing of the board | substrate raw material and lens part before cutting concerning another embodiment. 別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図である。It is sectional drawing of the board | substrate raw material and lens part before cutting concerning another embodiment. 別の実施の形態にかかる、切断前の基板素材とレンズ部の断面図である。It is sectional drawing of the board | substrate raw material and lens part before cutting concerning another embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

10 撮像レンズ
50 撮像装置
51 イメージセンサ
51a 光電変換部
52 基板
60 入力部
70 表示部
80 無線通信部
91 記憶部
92 一時記憶部
100 携帯電話機
101 制御部
LS レンズ基板
LSP 基板素材
L1、L2 レンズ部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Imaging lens 50 Imaging device 51 Image sensor 51a Photoelectric conversion part 52 Board | substrate 60 Input part 70 Display part 80 Wireless communication part 91 Memory | storage part 92 Temporary memory | storage part 100 Cellular phone 101 Control part LS Lens board | substrate LSP Board | substrate material L1, L2 Lens part

Claims (18)

レンズ基板とレンズ部とを有する撮像レンズの製造方法において、
複数の貫通穴を設けた基板素材を作る工程と、
前記貫通穴内にレンズ部を形成する工程と、
前記レンズ部毎に前記基板素材を分割し、前記レンズ部と一体となったレンズ基板を製作する工程と、を有することを特徴とする撮像レンズの製造方法。
In a manufacturing method of an imaging lens having a lens substrate and a lens portion,
Creating a substrate material with a plurality of through holes;
Forming a lens portion in the through hole;
Dividing the substrate material for each of the lens portions, and manufacturing a lens substrate integrated with the lens portion.
貫通穴を有するレンズ基板と、前記貫通穴内に形成されたレンズ部とを有することを特徴とする撮像レンズ。   An imaging lens, comprising: a lens substrate having a through hole; and a lens portion formed in the through hole. 前記レンズ基板の厚みをd1、前記レンズ部の空気と接する面と前記基板の厚み方向の中心面との距離の最小値をd2としたときに、下記の条件を満たすことを特徴とする請求項2に記載の撮影レンズ。
0.01<d2/d1<0.5 (1)
The following condition is satisfied, where d1 is a thickness of the lens substrate, and d2 is a minimum distance between a surface of the lens portion in contact with air and a central surface in the thickness direction of the substrate. 2. The taking lens according to 2.
0.01 <d2 / d1 <0.5 (1)
前記レンズ部の空気と接する面と前記基板の厚み方向の中心面との距離の最大値d3が、下記の条件を満たすことを特徴とする請求項2又は3に記載の撮影レンズ。
0.01<d3/d1<0.5 (2)
The photographic lens according to claim 2 or 3, wherein a maximum value d3 of a distance between a surface of the lens unit that is in contact with air and a center surface in the thickness direction of the substrate satisfies the following condition.
0.01 <d3 / d1 <0.5 (2)
前記貫通穴内部に形成される前記レンズ部が、複数の光学部材から形成されていることを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の撮影レンズ。   The photographic lens according to claim 2, wherein the lens portion formed in the through hole is formed of a plurality of optical members. 前記複数の光学部材の境界面は非球面であることを特徴とする請求項5に記載の撮影レンズ。   The photographic lens according to claim 5, wherein boundary surfaces of the plurality of optical members are aspherical surfaces. 前記貫通穴の側面に遮光層が形成されていることを特徴とする請求項2〜6のいずれかに記載の撮像レンズ。   The imaging lens according to claim 2, wherein a light shielding layer is formed on a side surface of the through hole. 前記レンズ部と前記基板部の境界面に開口絞りを有することを特徴とする請求項2〜7のいずれかに記載の撮像レンズ。   The imaging lens according to claim 2, further comprising an aperture stop at a boundary surface between the lens unit and the substrate unit. 前記レンズ部における空気と接するレンズ面が非球面であることを特徴とする請求項2〜8のいずれかに記載の撮像レンズ。   The imaging lens according to claim 2, wherein a lens surface in contact with air in the lens unit is an aspherical surface. 前記レンズ基板と前記レンズ部が光学薄膜及び/又は接着剤等を介して間接的に接着されていることを特徴とする請求項2〜9のいずれかに記載の撮像レンズ。   The imaging lens according to claim 2, wherein the lens substrate and the lens portion are indirectly bonded via an optical thin film and / or an adhesive. 前記レンズ基板はガラス材料から形成されていることを特徴とする請求項2〜10のいずれかに記載の撮像レンズ。   The imaging lens according to claim 2, wherein the lens substrate is made of a glass material. 前記レンズ基板は不透明な部材から形成されていることを特徴とする請求項2〜10のいずれかに記載の撮像レンズ。   The imaging lens according to claim 2, wherein the lens substrate is formed of an opaque member. 前記貫通穴の最大径をS1、前記レンズ部の直径をS2としたとき、下記の条件式を満たすことを特徴とする請求項12に記載の撮影レンズ。
1.0<S2/S1<5.0 (3)
The photographing lens according to claim 12, wherein the following conditional expression is satisfied, where S1 is a maximum diameter of the through hole and S2 is a diameter of the lens portion.
1.0 <S2 / S1 <5.0 (3)
一部が基板表面から突出した第1のレンズ部を有する第1のレンズ基板と、一部が基板表面から引っ込んだ第2のレンズ部を有する第2のレンズ基板とからなり、
前記第1のレンズ部と前記第2のレンズ部の光軸同士を一致させるように、前記第1のレンズ基板と前記第2のレンズ基板とを密着させてなることを特徴とする請求項2〜13のいずれかに記載の撮像レンズ。
A first lens substrate having a first lens portion partially protruding from the substrate surface, and a second lens substrate having a second lens portion partially retracted from the substrate surface;
3. The first lens substrate and the second lens substrate are brought into close contact with each other so that optical axes of the first lens unit and the second lens unit coincide with each other. The imaging lens in any one of -13.
前記レンズ部が樹脂材料から形成されていることを特徴とする請求項2〜14のいずれかに記載の撮像レンズ。   The imaging lens according to claim 2, wherein the lens portion is made of a resin material. 前記レンズ部がエネルギー硬化型樹脂材料から形成されていることを特徴とする請求項2〜14のいずれかに記載の撮像レンズ。   The imaging lens according to claim 2, wherein the lens portion is formed of an energy curable resin material. 前記樹脂材料には、長さ30ナノメートル以下の無機粒子が分散されていることを特徴とする請求項15又は16のいずれかに記載の撮像レンズ。   The imaging lens according to claim 15, wherein inorganic particles having a length of 30 nanometers or less are dispersed in the resin material. 請求項2〜17のいずれかに記載の撮像レンズを備えたことを特徴とする撮像装置。   An imaging apparatus comprising the imaging lens according to claim 2.
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