JP2009241582A - Imprinting method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、微細な凹凸面を有するモールドに電磁波を照射し、微細な凹凸形状を被転写体に転写するインプリント方法に関する。 The present invention relates to an imprint method for irradiating a mold having a fine uneven surface with electromagnetic waves and transferring the fine uneven shape to a transfer target.
近年、ナノオーダーの加工技術を用いて加工された微細構造を有するデバイスの研究開発が盛んに行われている。中でも、ナノインプリント技術は、ナノサイズのパターンを有するモールドを被転写体である基板にプレスすることによって、モールドのパターンを基板上に転写する方法である。この方法は生産性が高く、コストも低く済む。 In recent years, research and development of devices having fine structures processed using nano-order processing techniques have been actively conducted. Among these, the nanoimprint technique is a method of transferring a mold pattern onto a substrate by pressing a mold having a nano-size pattern onto a substrate that is a transfer target. This method is high in productivity and low in cost.
ナノインプリントの方法は熱ナノインプリント法、光ナノインプリント法が主流であるが、より高解像度、高速処理を目指した方法として、レーザー光を用いたナノインプリント(LADI)法が提案されている。LADI法は、溶融水晶に所定のパターンを形成したモールドをシリコン基板に接触させて加圧し、その状態を維持してXeClエキシマレーザパルスを照射する。その際、シリコン基板の表面に溶融及び液化を引き起こし、その結果所定のパターンがシリコン基板にインプリントされるというものである。更に、シリコン基板表面に半導体材料、金属または合金、ポリマー、セラミックを形成することも可能であることが示唆されている(例えば、非特許文献1、特許文献1参照)。
しかしながら、従来から提案されているLADI法には以下のような問題があった。第1に、照射される所定の波長のレーザー光を透過する材料から構成されている基板を用いた場合、レーザー光のほとんどが基板を透過し、基板表面が溶融もしくは液化するのに必要な熱が発生しないため、インプリントが実現できない。すなわち、照射されるレーザー光を透過する材料から構成されている基板を用いることができないという問題があった。 However, the conventionally proposed LADI method has the following problems. First, when a substrate made of a material that transmits laser light having a predetermined wavelength to be irradiated is used, most of the laser light is transmitted through the substrate, and heat necessary for melting or liquefying the substrate surface. Since imprinting does not occur, imprint cannot be realized. That is, there is a problem that a substrate made of a material that transmits the irradiated laser beam cannot be used.
なお、上述のように、特許文献1等には、基板表面に半導体材料、金属または合金、ポリマー、セラミックを形成することも可能であることが示唆されているが、基板表面にこのような材料を設ける目的や、上記第1の問題に対する具体的な解決方法は示されていない。 As described above, Patent Document 1 and the like suggest that it is also possible to form a semiconductor material, metal or alloy, polymer, or ceramic on the substrate surface. There is no indication of the purpose of providing or a specific solution to the first problem.
第2に、照射される所定の波長のレーザー光を透過しない材料から構成されているモールドを用いた場合、レーザー光がモールドに吸収されてしまい、基板表面を溶融及び液化することができないという問題があった。すなわち、照射されるレーザー光を透過する材料から構成されているモールドしか用いることができないという問題があった。 Secondly, when a mold made of a material that does not transmit laser light having a predetermined wavelength to be irradiated is used, the laser light is absorbed by the mold and the substrate surface cannot be melted and liquefied. was there. That is, there is a problem that only a mold made of a material that transmits the irradiated laser beam can be used.
その他にも、エキシマレーザーはガスレーザーであることから、長時間使用の安定性の問題やメンテナンスが必要であること、レーザー光の入射方向が、照射される所定の波長のレーザー光を透過する材料から構成されているモールド側からに限定されているため、装置設計の自由度が低い等の問題点があった。 In addition, since excimer lasers are gas lasers, they must be stable for a long period of time and require maintenance, and the laser beam is incident on the laser beam with the specified wavelength. Therefore, there is a problem that the degree of freedom in device design is low.
本発明は、上記に鑑みてなされたもので、LADI法の問題点を解決し、より実用性の高いインプリント方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to solve the problems of the LADI method and provide a more practical imprint method.
上記目的を達成するため、第1の発明は、凹凸面を有するモールドの前記凹凸面と、被転写体の被転写面とを当接させた状態で、電磁波を照射して前記被転写面を軟化させ、前記凹凸面の凹凸形状を前記被転写面に転写するインプリント方法であって、前記被転写面に、前記電磁波を吸収して発熱する発熱層を形成する発熱層形成工程と、少なくとも一方が前記電磁波を透過する材料から構成されている前記モールド又は前記被転写体を介して前記発熱層に前記電磁波を照射し、前記発熱層を発熱させて前記被転写面を軟化させる軟化工程と、を有することを特徴とする。 In order to achieve the above object, the first invention is configured to irradiate an electromagnetic wave in a state where the uneven surface of the mold having an uneven surface and the transferred surface of the transferred body are brought into contact with each other. A method of imprinting to soften and transferring the concavo-convex shape of the concavo-convex surface to the transfer surface, the heat generation layer forming step of forming a heat generation layer that absorbs the electromagnetic waves and generates heat on the transfer surface; A softening step of softening the transferred surface by irradiating the heat generating layer with the electromagnetic wave via the mold or the transferred object, one of which is made of a material that transmits the electromagnetic wave, and generating heat in the heated layer; It is characterized by having.
第2の発明は、2つの凹凸面を有するモールドの前記2つの凹凸面と、2つの被転写体の2つの被転写面とを当接させた状態で、電磁波を照射して前記2つの被転写面を軟化させ、前記2つの凹凸面の凹凸形状を前記2つの被転写面に転写するインプリント方法であって、前記2つの被転写面に、前記電磁波を吸収して発熱する発熱層を形成する発熱層形成工程と、前記電磁波を透過する材料から構成されている前記2つの被転写体を介して前記発熱層に前記電磁波を照射し、前記発熱層を発熱させて前記2つの被転写面を軟化させる軟化工程と、を有することを特徴とする。 In a second aspect of the invention, the two uneven surfaces of the mold having two uneven surfaces and the two transferred surfaces of the two transferred objects are brought into contact with each other to irradiate electromagnetic waves to the two transferred objects. An imprinting method for softening a transfer surface and transferring the concavo-convex shape of the two concavo-convex surfaces to the two transferred surfaces, wherein a heat generating layer that absorbs the electromagnetic waves and generates heat on the two transferred surfaces The heat generating layer forming step to be formed, and the heat generating layer is irradiated with the electromagnetic wave through the two transferred objects composed of the material that transmits the electromagnetic wave, and the heat generating layer is heated to generate the two transferred objects. And a softening step for softening the surface.
本発明によれば、LADI法の問題点を解決し、より実用性の高いインプリント方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to solve the problems of the LADI method and to provide a more practical imprint method.
以下、図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態の説明を行う。 The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.
〈第1の実施の形態〉
図1〜図7を参照しながら、本発明の第1の実施の形態に係るインプリント方法について説明する。図1〜図7は本発明の第1の実施の形態に係るインプリント方法を例示する模式図である。図1〜図7において、11は被転写体、12は発熱層、13はモールド、14は電磁波である。又、11aは被転写体11の被転写面を、13aはモールド13の凹凸面を示している。
<First Embodiment>
The imprint method according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 7 are schematic views illustrating an imprint method according to the first embodiment of the invention. 1 to 7, reference numeral 11 denotes an object to be transferred, 12 a heat generating layer, 13 a mold, and 14 an electromagnetic wave. Reference numeral 11a denotes a transfer surface of the transfer body 11, and 13a denotes an uneven surface of the mold 13.
始めに、図1に示す工程では、被転写体11を用意し、被転写体11の被転写面11aに発熱層12を形成する(発熱層形成工程)。被転写体11の材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコン系樹脂、フッ素系樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂などに代表される樹脂や、SiO2、Al2O3などに代表される酸化物や、SiN、AlNなどに代表される窒化物や、SiCやGC(グラッシーカーボン)に代表される炭化物などの結晶またはセラミックス材料、そしてSiなど所謂基板として用いられる材料等を用いることができる。発熱層12は、後述する図4に示す工程において、電磁波14を透過する材料から構成されている被転写体11又はモールド13を介して照射される電磁波14を吸収し、被転写体11の被転写面11aを軟化することができるだけの熱量を発生する発熱材料から構成される層である。 First, in the process shown in FIG. 1, a transfer object 11 is prepared, and a heat generation layer 12 is formed on a transfer surface 11 a of the transfer object 11 (heat generation layer forming process). Examples of the material of the transfer target 11 include polycarbonate resin, acrylic resin, epoxy resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer, polyethylene resin, polypropylene resin, silicon resin, fluorine resin, ABS resin, and urethane resin. Crystals of resins typified by SiO2, oxides typified by SiO 2 , Al 2 O 3 , nitrides typified by SiN, AlN, and carbides typified by SiC and GC (glassy carbon) Alternatively, a ceramic material and a material used as a so-called substrate such as Si can be used. In the process shown in FIG. 4 to be described later, the heat generating layer 12 absorbs the electromagnetic wave 14 irradiated through the transfer target 11 or the mold 13 made of a material that transmits the electromagnetic wave 14, and This is a layer composed of a heat generating material that generates a quantity of heat that can soften the transfer surface 11a.
発熱層12で発生させる熱量については、発熱層12を構成する材料の、電磁波14に対する吸収量、熱伝導率、そして発熱層12の膜厚により調整を行う。図8は、電磁波14に対する吸収量、熱伝導率及び発熱層12の膜厚と発熱層12で発生する熱量との関係を模式的に例示する図である。図8において、三角形に囲まれた斜線部の面積が発熱層12で発生する熱量であり、図8に示す電磁波14に対する吸収量、熱伝導率、発熱層12の膜厚のバランスを、インプリントする被転写体11に対して最適化することで良好なインプリントが実現できる。 The amount of heat generated in the heat generating layer 12 is adjusted by the amount of absorption of the material constituting the heat generating layer 12 with respect to the electromagnetic wave 14, the thermal conductivity, and the film thickness of the heat generating layer 12. FIG. 8 is a diagram schematically illustrating the relationship between the amount of absorption with respect to the electromagnetic wave 14, the thermal conductivity, the thickness of the heat generating layer 12, and the amount of heat generated in the heat generating layer 12. In FIG. 8, the area of the shaded area surrounded by the triangle is the amount of heat generated in the heat generating layer 12, and the imbalance between the amount of absorption with respect to the electromagnetic wave 14, the thermal conductivity, and the film thickness of the heat generating layer 12 shown in FIG. By optimizing the transfer target 11, a good imprint can be realized.
例えば、電磁波14に対して所定の吸収量及び所定の熱伝導率を有する材料を選定し、所定の吸収量及び所定の熱伝導率を考慮して、発熱層12が必要な熱量を発生するための、発熱層12の最適な膜厚を決定する。吸収量及び熱伝導率は、例えば、50〜100%及び20〜400W/m/k程度の範囲であることが好ましい。 For example, a material having a predetermined absorption amount and a predetermined thermal conductivity with respect to the electromagnetic wave 14 is selected, and the heat generation layer 12 generates a necessary amount of heat in consideration of the predetermined absorption amount and the predetermined thermal conductivity. The optimum film thickness of the heat generating layer 12 is determined. The amount of absorption and the thermal conductivity are preferably in the range of about 50 to 100% and about 20 to 400 W / m / k, for example.
発熱層12を構成する材料としては、被転写体11との剥離性が良く、複数回の電磁波14の照射に対しても同様な発熱を起こす材料であることが好ましい。具体的には、半導体であるSi、Ge、半金属であるSn、Sb、Bi、貴金属であるCu、Au、Pt、Pdなど、遷移金属であるZn、Ni、Co、Crなど又はこれらの合金、そしてSiC、TiC等に代表される炭化物、SiOxやGeOx等に代表される酸素欠損酸化物のようなセラミックス材料及びそれらの複合物等であることが好ましい。又、発熱層12を構成する材料は、相変化材料を含むことがより好ましい。相変化材料は、電磁波14に対する吸収量、発熱量が大きいため、発熱層12が必要な熱量を発生するための最適な膜厚を薄くすることが可能であり、生産性を向上できるからである。 The material constituting the heat generating layer 12 is preferably a material that has good releasability from the transfer target 11 and that generates the same heat upon multiple irradiations of the electromagnetic wave 14. Specifically, Si, Ge as a semiconductor, Sn, Sb, Bi as semimetals, Cu, Au, Pt, Pd as noble metals, Zn, Ni, Co, Cr as transition metals, or alloys thereof In addition, a carbide represented by SiC, TiC or the like, a ceramic material such as an oxygen-deficient oxide represented by SiOx or GeOx, or a composite thereof is preferable. Moreover, it is more preferable that the material constituting the heat generating layer 12 includes a phase change material. This is because the phase change material has a large amount of absorption and heat generation with respect to the electromagnetic wave 14, and therefore the heat generation layer 12 can reduce the optimum film thickness for generating the necessary amount of heat and can improve productivity. .
相変化材料としては、書き換え型光記録媒体の記録層の材料として用いられているものの中から適宜選択することができ、例えば、Sb、Ge、Ga、In、Zn、Mn、Sn、Ag、Mg、Ca、Ag、Bi、Se、及びTeから選ばれる1種以上の元素を含む材料を用いることが好ましい。これら相変化材料としては、熱的特性及び光学特性から所望の材料を用いることが可能であるが、GeSbTe合金、AgInSbTe合金、AgInSbTeGe合金、GaSbSnGe合金、GeSbSnMn合金、GeInSbTe合金、GeSbSnTe合金などが好ましい。 The phase change material can be appropriately selected from those used as the material of the recording layer of the rewritable optical recording medium. For example, Sb, Ge, Ga, In, Zn, Mn, Sn, Ag, Mg It is preferable to use a material containing one or more elements selected from Ca, Ag, Bi, Se, and Te. As these phase change materials, desired materials can be used from the viewpoint of thermal characteristics and optical characteristics, but GeSbTe alloy, AgInSbTe alloy, AgInSbTeGe alloy, GaSbSnGe alloy, GeSbSnMn alloy, GeInSbTe alloy, GeSbSnTe alloy and the like are preferable.
又、発熱層12は、単層構成のみではなく、複数の層が積層された多層構成であっても構わない。多層構成にすることにより、発熱量のみならず、温度の維持や冷却速度などの調整を行うことが可能となり、より良好なインプリントが実現できる。 In addition, the heat generating layer 12 may have not only a single layer configuration but also a multilayer configuration in which a plurality of layers are stacked. By adopting a multilayer structure, it is possible to adjust not only the amount of heat generated but also the maintenance of temperature and the cooling rate, and better imprinting can be realized.
次いで、図2に示す工程では、凹凸面13aを有するモールド13を作製する(モールド作製工程)。凹凸面13aは、例えば、ナノスケールの凹凸パターンを有する面である。モールド13の材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコン系樹脂、フッ素系樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂などに代表される樹脂や、SiO2、Al2O3などに代表される酸化物や、SiN、AlNなどに代表される窒化物や、SiCやGC(グラッシーカーボン)に代表される炭化物などの結晶またはセラミックス材料、そしてNiやTaなどに代表される金属材料など、一般にナノインプリント法で用いられるモールド材等を用いることができる。モールド13の凹凸面13aは、例えば、FIB(Focused Ion Beam)加工等により形成することができる。FIB(Focused Ion Beam)加工とは、周知のように、細く絞ったGa(ガリウム)イオンビームを使用する加工方法であり、サブミクロンレベルの精度で複雑な形状を作製することができる。 Next, in a process shown in FIG. 2, a mold 13 having an uneven surface 13a is manufactured (mold manufacturing process). The uneven surface 13a is, for example, a surface having a nanoscale uneven pattern. Examples of the material of the mold 13 include polycarbonate resin, acrylic resin, epoxy resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer, polyethylene resin, polypropylene resin, silicon resin, fluorine resin, ABS resin, and urethane resin. Resins, oxides typified by SiO 2 , Al 2 O 3 , nitrides typified by SiN, AlN, etc., crystals or ceramics such as carbides typified by SiC or GC (glassy carbon) Materials, and metal materials such as Ni and Ta, which are generally used in the nanoimprint method, can be used. The uneven surface 13a of the mold 13 can be formed by, for example, FIB (Focused Ion Beam) processing. As is well known, FIB (Focused Ion Beam) processing is a processing method that uses a finely focused Ga (gallium) ion beam, and a complicated shape can be produced with submicron level accuracy.
次いで、図3に示す工程では、被転写体11の被転写面11aに形成された発熱層12とモールド13の凹凸面13aの凸部とを当接させる。当接は、被転写体11とモールド13とを外圧で強く圧着させることにより行う。当接の具体的な方法としては、専用の押圧機を用いて機械的な力で押圧する方法でもよいが、発熱層12とモールド13の凹凸面13aの間を真空にし、外部の気圧により圧着させる真空吸着を用いる方法が好ましい(真空吸着工程)。 Next, in the step shown in FIG. 3, the heat generating layer 12 formed on the transfer surface 11 a of the transfer body 11 and the convex portion of the uneven surface 13 a of the mold 13 are brought into contact with each other. The contact is performed by strongly pressing the transfer body 11 and the mold 13 with external pressure. As a specific method of contact, a method of pressing with a mechanical force using a dedicated pressing machine may be used, but the space between the heat generating layer 12 and the uneven surface 13a of the mold 13 is evacuated, and pressure bonding is performed by an external air pressure. A method using vacuum adsorption is preferable (vacuum adsorption step).
真空吸着は、汎用の装置を用いて実現可能であり、吸着状態を維持することも容易である。又、被転写体11やモールド13の機械的強度が強くない場合でも、被転写体11やモールド13を破壊しない程度の必要最低限の圧着力が得られる。真空吸着を用いることにより、良好なインプリントを実現することができる。真空吸着は、例えば、周知の光記録媒体であるDVD−ROMを構成する2枚の基板を、気泡の元となるガスが存在しない真空中で貼り合わせるために用いる既存の真空貼り合わせ装置により実現することができる。 Vacuum adsorption can be realized using a general-purpose apparatus, and it is easy to maintain the adsorption state. Further, even when the mechanical strength of the transfer target 11 or the mold 13 is not strong, a minimum necessary pressure can be obtained so as not to destroy the transfer target 11 or the mold 13. By using vacuum suction, a good imprint can be realized. For example, the vacuum suction is realized by an existing vacuum bonding apparatus used for bonding two substrates constituting a DVD-ROM, which is a well-known optical recording medium, in a vacuum in which there is no gas that causes bubbles. can do.
次いで、図4に示す工程では、電磁波14を透過する材料から構成されている被転写体11又はモールド13を介して、発熱層12に電磁波14を照射し、発熱層12を発熱させて被転写体11の被転写面11aを軟化させる(軟化工程)。被転写体11とモールド13とは、発熱層12を介して、例えば、真空吸着により強く圧着されているため、電磁波14の照射により発熱層12が発熱して被転写体11の被転写面11aが軟化すると、被転写体11の被転写面11aは、モールド13の凹凸面13aの凹凸形状に従って変形する。なお、モールドを構成する材料の軟化点もしくは融点は、被転写体を構成する材料の軟化点もしくは融点と同等もしくは高い必要がある事は言うまでもない。 Next, in the process shown in FIG. 4, the heat generating layer 12 is irradiated with the electromagnetic wave 14 through the transferred object 11 or the mold 13 made of a material that transmits the electromagnetic wave 14, and the heat generating layer 12 generates heat to be transferred. The transferred surface 11a of the body 11 is softened (softening step). Since the transfer body 11 and the mold 13 are strongly bonded to each other by, for example, vacuum adsorption via the heat generation layer 12, the heat generation layer 12 generates heat by irradiation of the electromagnetic wave 14, and the transfer surface 11a of the transfer body 11 is transferred. Is softened, the transfer surface 11a of the transfer body 11 is deformed according to the uneven shape of the uneven surface 13a of the mold 13. Needless to say, the softening point or melting point of the material constituting the mold must be equal to or higher than the softening point or melting point of the material constituting the transfer target.
ここで、被転写体11及びモールド13の少なくとも一方が電磁波14を透過する材料から構成されていることが必要である。モールド13が電磁波14を透過する材料から構成されている場合には、図4(a)に示すように、モールド13を介して発熱層12に電磁波14を照射する。又、被転写体11が電磁波14を透過する材料から構成されている場合には、図4(b)に示すように、被転写体11を介して発熱層12に電磁波14を照射する。 Here, it is necessary that at least one of the transfer target 11 and the mold 13 is made of a material that transmits the electromagnetic wave 14. When the mold 13 is made of a material that transmits the electromagnetic wave 14, the heat generation layer 12 is irradiated with the electromagnetic wave 14 through the mold 13 as shown in FIG. When the transfer body 11 is made of a material that transmits the electromagnetic wave 14, the heat generation layer 12 is irradiated with the electromagnetic wave 14 through the transfer body 11 as shown in FIG.
又、被転写体11及びモールド13のいずれもが電磁波14を透過する材料から構成されている場合には、図4(a)に示すように、モールド13を介して発熱層12に電磁波14を照射しても構わないし、図4(b)に示すように、被転写体11を介して発熱層12に電磁波14を照射しても構わないが、図4(b)に示すように、被転写体11を介して発熱層12に電磁波14を照射する方が好ましい。 Further, when both the transfer target 11 and the mold 13 are made of a material that transmits the electromagnetic wave 14, the electromagnetic wave 14 is transmitted to the heat generating layer 12 through the mold 13 as shown in FIG. As shown in FIG. 4B, the heat generation layer 12 may be irradiated with the electromagnetic wave 14 through the transfer target 11, but as shown in FIG. It is preferable to irradiate the heat generating layer 12 with the electromagnetic wave 14 through the transfer body 11.
なぜなら、モールド13を介して発熱層12に電磁波14を照射する場合には、モールド13の凹凸面13aの凹凸形状によって電磁波14に干渉が生じる虞がある。干渉が生じると、電磁波14が発熱層12に均一に照射されないため、被転写体11の被転写面11aに転写される凹凸形状の精度が低下する要因となりうるからである。一方、被転写体11を介して発熱層12に電磁波14を照射する場合には、発熱層12が発熱して被転写体11の被転写面11aが軟化するまでは、被転写体11の被転写面11aは平坦であるため、上記のような問題は発生しない。 This is because when the electromagnetic wave 14 is irradiated to the heat generating layer 12 through the mold 13, there is a possibility that the electromagnetic wave 14 may be interfered by the uneven shape of the uneven surface 13 a of the mold 13. This is because when the interference occurs, the electromagnetic wave 14 is not uniformly applied to the heat generating layer 12, which may cause a decrease in the accuracy of the concavo-convex shape transferred to the transfer surface 11 a of the transfer target 11. On the other hand, in the case where the heat generating layer 12 is irradiated with the electromagnetic wave 14 via the transfer target 11, the transfer of the transfer target 11 is continued until the heat generation layer 12 generates heat and the transfer surface 11a of the transfer target 11 is softened. Since the transfer surface 11a is flat, the above problem does not occur.
電磁波14の波長は、2000nm以下であることが好ましい。2000nmよりも長波長では、電磁波を十分に吸収する発熱材料が少ないからである。電磁波14として最も好ましいのはレーザー光である。レーザー光を用いることで、発熱層12上での単位面積あたりの光強度、すなわち、エネルギー密度を大きくすることができるからである。更に、レーザー光を出射するレーザーとしては、半導体レーザーが特に好ましい。半導体レーザーは小型でメンテナンス性が良く、低コストで長寿命だからである。 The wavelength of the electromagnetic wave 14 is preferably 2000 nm or less. This is because there are few heat generating materials that sufficiently absorb electromagnetic waves at wavelengths longer than 2000 nm. Laser light is most preferable as the electromagnetic wave 14. This is because by using laser light, the light intensity per unit area on the heat generating layer 12, that is, the energy density can be increased. Furthermore, a semiconductor laser is particularly preferable as the laser that emits laser light. This is because the semiconductor laser is small and easy to maintain, low cost and long life.
又、図4に示す軟化工程は、光源から出射される電磁波14を発熱層12に合焦させるフォーカシング工程を含むことが好ましい。フォーカシング工程により、電磁波14の照射を効率良く行うことができる。更に、電磁波14を出射する光源を有する光学ヘッド(図示せず)もしくは被転写体11及びモールド13、あるいは両方を2次元的に動かしてインプリントを行う場合には、フォーカシング工程において、フォーカスサーボを実行することが好ましい。フォーカスサーボを実行することで、機械的な誤差を解消して確実に電磁波14を発熱層12に合焦させることが可能となり、良好なインプリントを実現することができる。 The softening process shown in FIG. 4 preferably includes a focusing process for focusing the electromagnetic wave 14 emitted from the light source on the heat generating layer 12. The electromagnetic wave 14 can be efficiently irradiated by the focusing process. Further, when imprinting is performed by two-dimensionally moving an optical head (not shown) having a light source that emits electromagnetic waves 14 or the transfer target 11 and the mold 13 or both, focus servo is performed in the focusing process. It is preferable to carry out. By executing the focus servo, it is possible to eliminate the mechanical error and reliably focus the electromagnetic wave 14 on the heat generating layer 12, and to realize a good imprint.
ここで、電磁波14を出射する光源を有する光学ヘッド(図示せず)もしくは被転写体11及びモールド13、あるいは両方を2次元的に動かしてインプリントを行う場合とは、例えば、後述する実施例1等に示すように、真空吸着させたモールドと被転写体とをターンテーブル上に載置して回転させながら、電磁波を照射するような場合を指す。フォーカスサーボは、光記録媒体の記録又は再生時に、回転する光記録媒体に追従するようにレーザー光を合焦(集光)させるときに用いる周知の方法で実現することができる。 Here, the case where imprinting is performed by two-dimensionally moving an optical head (not shown) having a light source that emits the electromagnetic wave 14 or the transfer target 11 and the mold 13 or both, is, for example, an embodiment described later. As shown in 1 etc., it refers to a case where an electromagnetic wave is irradiated while a vacuum-adsorbed mold and a transfer object are placed on a turntable and rotated. The focus servo can be realized by a known method used when focusing (condensing) laser light so as to follow the rotating optical recording medium during recording or reproduction of the optical recording medium.
次いで、図5に示す工程では、被転写体11からモールド13を離型する(離型工程)。次いで、図6に示す工程では、被転写体11の被転写面11aに形成されている発熱層12を除去することにより(発熱層除去工程)、図7に示すように、モールド13の凹凸面13aの凹凸形状が、被転写体11の被転写面11aに転写される。なお、発熱層12は、例えば、ウェットエッチングにより除去することができる。ウェットエッチングとは、目的とする金属等を腐食溶解する性質を持つ液体の薬品を使ったエッチングである。 Next, in the step shown in FIG. 5, the mold 13 is released from the transfer target 11 (release step). Next, in the step shown in FIG. 6, by removing the heat generation layer 12 formed on the transfer surface 11a of the transfer body 11 (heat generation layer removal step), as shown in FIG. The uneven shape 13 a is transferred to the transfer surface 11 a of the transfer body 11. The heat generating layer 12 can be removed by wet etching, for example. Wet etching is etching using a liquid chemical having a property of corrosive dissolution of a target metal or the like.
従来のインプリント方法では、電磁波を透過しない材料から構成されている被転写体の被転写面に、電磁波を透過する材料から構成されているモールドを介して電磁波を照射することで、被転写体の被転写面を軟化させ、モールドの凹凸面の凹凸形状を被転写体の被転写面に転写していた。すなわち、モールドを構成する材料は、電磁波を透過する材料に限定され、被転写体を構成する材料は、電磁波を透過しない材料(電磁波を吸収し発熱する材料)に限定されていた。 In the conventional imprinting method, a transfer surface of a transfer object that is made of a material that does not transmit electromagnetic waves is irradiated with electromagnetic waves through a mold that is made of a material that transmits electromagnetic waves. The transfer surface of the mold was softened, and the uneven shape of the uneven surface of the mold was transferred to the transfer surface of the transfer body. That is, the material constituting the mold is limited to a material that transmits electromagnetic waves, and the material that forms the transfer target is limited to a material that does not transmit electromagnetic waves (a material that absorbs electromagnetic waves and generates heat).
本発明の第1の実施の形態に係るインプリント方法では、被転写体11の被転写面11aに、電磁波14を吸収して発熱する発熱層12を形成し、発熱層12に電磁波14を照射し、発熱層12を発熱させて被転写体11の被転写面11aを軟化させるため、被転写体11及びモールド13の少なくとも一方が電磁波を透過する材料から構成されていればよい。 In the imprint method according to the first embodiment of the present invention, the heat generation layer 12 that absorbs the electromagnetic wave 14 and generates heat is formed on the transfer surface 11a of the transfer body 11, and the heat generation layer 12 is irradiated with the electromagnetic wave 14. In order to heat the heat generating layer 12 and soften the transferred surface 11a of the transferred body 11, it is sufficient that at least one of the transferred body 11 and the mold 13 is made of a material that transmits electromagnetic waves.
すなわち、本発明の第1の実施の形態に係るインプリント方法によれば、従来のインプリント方法である電磁波を透過する材料から構成されているモールドと電磁波を透過しない材料から構成されている被転写体との組み合わせはもちろんのこと、電磁波を透過しない材料から構成されているモールドと電磁波を透過する材料から構成されている被転写体との組み合わせや、電磁波を透過する材料から構成されているモールドと電磁波を透過する材料から構成されている被転写体との組み合わせにおいてもインプリントすることが可能となり、より実用性の高いインプリント方法を実現することができる。 That is, according to the imprint method according to the first embodiment of the present invention, a mold made of a material that transmits electromagnetic waves, which is a conventional imprint method, and a cover made of a material that does not transmit electromagnetic waves. Of course, it is composed of a combination of a mold that is made of a material that does not transmit electromagnetic waves and a transfer body that is made of a material that transmits electromagnetic waves, and a material that transmits electromagnetic waves. Imprinting can be performed even in a combination of a mold and a transfer target composed of a material that transmits electromagnetic waves, and a more practical imprinting method can be realized.
〈第2の実施の形態〉
図9〜図15を参照しながら、本発明の第2の実施の形態に係るインプリント方法について説明する。本発明の第2の実施の形態に係るインプリント方法は、2つの凹凸面を有するモールドを用い、2つの凹凸面を2つ被転写体の被転写面に転写する点が、本発明の第1の実施の形態に係るインプリント方法と異なる。
<Second Embodiment>
The imprint method according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The imprint method according to the second embodiment of the present invention is characterized in that a mold having two concavo-convex surfaces is used and two concavo-convex surfaces are transferred to the transfer surface of the transfer object. This is different from the imprint method according to the first embodiment.
図9〜図15は本発明の第2の実施の形態に係るインプリント方法を例示する模式図である。図9〜図15において、21及び31は被転写体、22及び32は発熱層、23はモールド、24は電磁波である。又、21a及び31aは被転写体21及び31の被転写面を、23a及び23bはモールド23の凹凸面を示している。 9 to 15 are schematic views illustrating an imprint method according to the second embodiment of the invention. 9 to 15, reference numerals 21 and 31 denote transferred materials, reference numerals 22 and 32 denote heat generating layers, reference numeral 23 denotes a mold, and reference numeral 24 denotes an electromagnetic wave. Reference numerals 21a and 31a denote transfer surfaces of the transfer bodies 21 and 31, and 23a and 23b denote uneven surfaces of the mold 23.
始めに、図9に示す工程では、被転写体21及び31を用意し、被転写体21及び31の被転写面21a及び31aに発熱層22及び32を形成する(発熱層形成工程)。被転写体21及び31の材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコン系樹脂、フッ素系樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂などに代表される樹脂や、SiO2、Al2O3などに代表される酸化物や、SiN、AlNなどに代表される窒化物や、SiCやGC(グラッシーカーボン)に代表される炭化物などの結晶またはセラミックス材料、そしてSiなど所謂基板として用いられる材料等を用いることができる。発熱層22及び32は、後述する図12に示す工程において、電磁波24を透過する材料から構成されている被転写体21及び31を介して照射される電磁波24を吸収し、被転写体21及び31の被転写面21a及び31aを軟化することができるだけの熱量を発生する発熱材料から構成される層である。発熱層22及び32で発生させる熱量の調整や発熱層22及び32を構成する材料等は、本発明の第1の実施の形態に係るインプリント方法における発熱層12の場合と同じであるため、その説明は省略する。 First, in the process shown in FIG. 9, transferred objects 21 and 31 are prepared, and heat generating layers 22 and 32 are formed on the transferred surfaces 21 a and 31 a of the transferred objects 21 and 31 (heat generating layer forming process). Examples of the material of the transferred bodies 21 and 31 include polycarbonate resin, acrylic resin, epoxy resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer, polyethylene resin, polypropylene resin, silicon resin, fluorine resin, ABS resin, and urethane. Resins typified by resins, oxides typified by SiO 2 , Al 2 O 3 , nitrides typified by SiN, AlN, carbides typified by SiC and GC (glassy carbon), etc. A material used as a so-called substrate such as Si or a ceramic material, or Si can be used. The heat generating layers 22 and 32 absorb the electromagnetic wave 24 irradiated through the transferred bodies 21 and 31 made of a material that transmits the electromagnetic wave 24 in the step shown in FIG. This is a layer composed of a heat generating material that generates a quantity of heat sufficient to soften the 31 transfer surfaces 21a and 31a. Since the adjustment of the amount of heat generated in the heat generating layers 22 and 32 and the materials constituting the heat generating layers 22 and 32 are the same as in the case of the heat generating layer 12 in the imprint method according to the first embodiment of the present invention, The description is omitted.
次いで、図10に示す工程では、凹凸面23a及び23bを有するモールド23を作製する(モールド作製工程)。凹凸面23a及び23bは、例えば、ナノスケールの凹凸パターンを有する面である。モールド23の材料としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコン系樹脂、フッ素系樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂などに代表される樹脂や、SiO2、Al2O3などに代表される酸化物や、SiN、AlNなどに代表される窒化物や、SiCやGC(グラッシーカーボン)に代表される炭化物などの結晶またはセラミックス材料、そしてNiやTaなどに代表される金属材料など、一般にナノインプリント法で用いられるモールド材等を用いることができるが、特にフィルム状のものが好ましい。モールド23の凹凸面23a及び23bは、例えば、FIB(Focused Ion Beam)加工等により形成することができる。FIB(Focused Ion Beam)加工とは、周知のように、細く絞ったGa(ガリウム)イオンビームを使用する加工方法であり、サブミクロンレベルの精度で複雑な形状を作製することができる。 Next, in a process shown in FIG. 10, a mold 23 having uneven surfaces 23a and 23b is manufactured (mold manufacturing process). The uneven surfaces 23a and 23b are surfaces having a nanoscale uneven pattern, for example. Examples of the material of the mold 23 include polycarbonate resin, acrylic resin, epoxy resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer, polyethylene resin, polypropylene resin, silicon resin, fluorine resin, ABS resin, and urethane resin. Resins, oxides typified by SiO 2 , Al 2 O 3 , nitrides typified by SiN, AlN, etc., crystals or ceramics such as carbides typified by SiC or GC (glassy carbon) A material and a mold material generally used in a nanoimprint method such as a metal material typified by Ni or Ta can be used, but a film-like material is particularly preferable. The uneven surfaces 23a and 23b of the mold 23 can be formed by, for example, FIB (Focused Ion Beam) processing or the like. As is well known, FIB (Focused Ion Beam) processing is a processing method that uses a finely focused Ga (gallium) ion beam, and a complicated shape can be produced with submicron level accuracy.
次いで、図11に示す工程では、被転写体21及び31の被転写面21a及び31aに形成された発熱層22及び32とモールド23の凹凸面23a及び23bの凸部とを当接させる。当接は、被転写体21及び31とモールド23とを外圧で強く圧着させることにより行う。当接の具体的な方法としては、専用の押圧機を用いて機械的な力で押圧する方法でもよいが、発熱層22及び32とモールド23の凹凸面23a及び23bの間を真空にし、外部の気圧により圧着させる真空吸着を用いる方法が好ましい(真空吸着工程)。真空吸着に関しては、本発明の第1の実施の形態に係るインプリント方法の場合と同じであるため、その説明は省略する。 Next, in the step shown in FIG. 11, the heat generation layers 22 and 32 formed on the transfer surfaces 21a and 31a of the transfer bodies 21 and 31 are brought into contact with the convex portions of the uneven surfaces 23a and 23b of the mold 23. The contact is performed by strongly pressing the transferred bodies 21 and 31 and the mold 23 with an external pressure. As a specific method of contact, a method of pressing with a mechanical force using a dedicated pressing machine may be used. However, a vacuum is applied between the heat generation layers 22 and 32 and the concave and convex surfaces 23a and 23b of the mold 23 to externally. A method using vacuum adsorption in which pressure bonding is performed by the atmospheric pressure is preferable (vacuum adsorption step). Since vacuum suction is the same as in the case of the imprint method according to the first embodiment of the present invention, description thereof is omitted.
次いで、図12に示す工程では、電磁波24を透過する材料から構成されている被転写体21及び31を介して、発熱層22及び32に電磁波24を照射し、発熱層22及び32を発熱させて被転写体21及び31の被転写面21a及び31aを軟化させる(軟化工程)。被転写体21及び31とモールド23とは、発熱層22及び32を介して、例えば、真空吸着により強く圧着されているため、電磁波24の照射により発熱層22及び32が発熱して被転写体21及び31の被転写面21a及び31aが軟化すると、被転写体21及び31の被転写面21a及び31aは、モールド23の凹凸面23a及び23bの凹凸形状に従って変形する。なお、モールドを構成する材料の軟化点もしくは融点は、被転写体を構成する材料の軟化点もしくは融点と同等もしくは高い必要がある事は言うまでもない。 Next, in the process shown in FIG. 12, the heat generating layers 22 and 32 are irradiated with the electromagnetic wave 24 through the transferred bodies 21 and 31 made of a material that transmits the electromagnetic wave 24, thereby causing the heat generating layers 22 and 32 to generate heat. Thus, the transfer surfaces 21a and 31a of the transfer bodies 21 and 31 are softened (softening step). Since the transfer bodies 21 and 31 and the mold 23 are strongly bonded by, for example, vacuum suction via the heating layers 22 and 32, the heating layers 22 and 32 generate heat by irradiation of the electromagnetic wave 24, and the transfer body is transferred. When the transferred surfaces 21 a and 31 a of 21 and 31 are softened, the transferred surfaces 21 a and 31 a of the transferred bodies 21 and 31 are deformed according to the uneven shape of the uneven surfaces 23 a and 23 b of the mold 23. Needless to say, the softening point or melting point of the material constituting the mold must be equal to or higher than the softening point or melting point of the material constituting the transfer target.
ここで、被転写体21及び31の両方が電磁波24を透過する材料から構成されていることが必要である。電磁波24は、被転写体21又は31を介して、発熱層22及び32に順次照射しても構わないが、電磁波24を被転写体21及び31の両側から発熱層22及び32に同時に照射することで生産性を向上させることができる。電磁波24の波長等は、本発明の第1の実施の形態に係るインプリント方法における電磁波14の場合と同じであるため、その説明は省略する。 Here, it is necessary that both the transfer target members 21 and 31 are made of a material that transmits the electromagnetic wave 24. The electromagnetic wave 24 may be sequentially applied to the heat generating layers 22 and 32 via the transfer target 21 or 31, but the electromagnetic wave 24 is simultaneously applied to the heat generating layers 22 and 32 from both sides of the transfer target 21 and 31. Productivity can be improved. Since the wavelength of the electromagnetic wave 24 is the same as that of the electromagnetic wave 14 in the imprint method according to the first embodiment of the present invention, the description thereof is omitted.
又、図12に示す軟化工程は、光源から出射される電磁波24を発熱層22及び32に合焦させるフォーカシング工程を含むことが好ましい。フォーカシング工程により、電磁波24の照射を効率良く行うことができる。更に、電磁波24を出射する光源を有する光学ヘッド(図示せず)もしくは被転写体21及び31とモールド23、あるいは両方を2次元的に動かしてインプリントを行う場合には、フォーカシング工程において、フォーカスサーボを実行することが好ましい。フォーカスサーボを実行することで、機械的な誤差を解消して確実に電磁波24を発熱層22及び32に合焦させることが可能となり、その結果良好なインプリントを実現することができる。 The softening process shown in FIG. 12 preferably includes a focusing process for focusing the electromagnetic wave 24 emitted from the light source on the heat generating layers 22 and 32. The electromagnetic wave 24 can be efficiently irradiated by the focusing process. Further, when imprinting is performed by two-dimensionally moving an optical head (not shown) having a light source that emits an electromagnetic wave 24 or the transferred objects 21 and 31 and the mold 23, or both, It is preferable to execute the servo. By executing the focus servo, it is possible to eliminate the mechanical error and reliably focus the electromagnetic wave 24 on the heat generating layers 22 and 32. As a result, it is possible to realize a good imprint.
ここで、電磁波24を出射する光源を有する光学ヘッド(図示せず)もしくは被転写体21及び31とモールド23、あるいは両方を2次元的に動かしてインプリントを行う場合とは、例えば、後述する実施例1等に示すように、真空吸着させたモールドと被転写体とをターンテーブル上に載置して回転させながら、電磁波を照射するような場合を指す。フォーカスサーボは、光記録媒体の記録又は再生時に、回転する光記録媒体に追従するようにレーザー光を合焦(集光)させるときに用いる周知の方法で実現することができる。 Here, the case where imprinting is performed by two-dimensionally moving an optical head (not shown) having a light source that emits the electromagnetic wave 24 or the transferred bodies 21 and 31 and the mold 23, or both, will be described later, for example. As shown in Example 1 or the like, it refers to a case in which electromagnetic waves are irradiated while a vacuum-adsorbed mold and a transfer target are placed on a turntable and rotated. The focus servo can be realized by a known method used when focusing (condensing) laser light so as to follow the rotating optical recording medium during recording or reproduction of the optical recording medium.
なお、真空吸着させたモールドと被転写体とをターンテーブル上に載置して回転させながら、被転写体の両側から同時に電磁波を照射する場合には、例えば、被転写体の両側に2つの光学ヘッドを有するような、従来の情報記録再生装置とは異なる機構が必要であるが、そのような機構は、従来技術の範囲内で実現できる。 When electromagnetic waves are simultaneously irradiated from both sides of the transferred body while the vacuum-adsorbed mold and the transferred body are placed on the turntable and rotated, for example, two A mechanism different from that of a conventional information recording / reproducing apparatus having an optical head is required, but such a mechanism can be realized within the scope of the prior art.
次いで、図13に示す工程では、被転写体21及び31からモールド23を離型する(離型工程)。次いで、図14に示す工程では、被転写体21及び31の被転写面21a及び31aに形成されている発熱層22及び32を除去することにより(発熱層除去工程)、図15に示すように、モールド23の凹凸面23a及び23bの凹凸形状が、被転写体21及び31の被転写面21a及び31aに転写される。なお、発熱層22及び32は、例えば、ウェットエッチングにより除去することができる。ウェットエッチングとは、目的とする金属等を腐食溶解する性質を持つ液体の薬品を使ったエッチングである。 Next, in the step shown in FIG. 13, the mold 23 is released from the transferred bodies 21 and 31 (release step). Next, in the step shown in FIG. 14, the heat generation layers 22 and 32 formed on the transfer surfaces 21a and 31a of the transfer bodies 21 and 31 are removed (heat generation layer removal step), as shown in FIG. The uneven shapes of the uneven surfaces 23 a and 23 b of the mold 23 are transferred to the transfer surfaces 21 a and 31 a of the transfer bodies 21 and 31. The heat generating layers 22 and 32 can be removed by wet etching, for example. Wet etching is etching using a liquid chemical having a property of corrosive dissolution of a target metal or the like.
従来のインプリント方法では、電磁波を透過しない材料から構成されている被転写体の被転写面に、電磁波を透過する材料から構成されているモールドを介して電磁波を照射することで、被転写体の被転写面を軟化させ、モールドの凹凸面の凹凸形状を被転写体の被転写面に転写していた。すなわち、モールドを構成する材料は、電磁波を透過する材料に限定され、被転写体を構成する材料は、電磁波を透過しない材料(電磁波を吸収し発熱する材料)に限定されていたため、モールドの両側に被転写体を当接して両面インプリントを行うことはできなかった。 In the conventional imprinting method, a transfer surface of a transfer object that is made of a material that does not transmit electromagnetic waves is irradiated with electromagnetic waves through a mold that is made of a material that transmits electromagnetic waves. The transfer surface of the mold was softened, and the uneven shape of the uneven surface of the mold was transferred to the transfer surface of the transfer body. That is, the material constituting the mold is limited to a material that transmits electromagnetic waves, and the material that forms the transfer target is limited to a material that does not transmit electromagnetic waves (a material that absorbs electromagnetic waves and generates heat). It was not possible to perform double-sided imprinting by contacting the transfer object.
本発明の第2の実施の形態に係るインプリント方法では、被転写体21及び31の被転写面21a及び31aに電磁波24を吸収して発熱する発熱層22及び32を形成し、発熱層22及び32に電磁波24を照射し、発熱層22及び32を発熱させて、電磁波を透過する材料から構成されている被転写体21及び31の被転写面21a及び31aを軟化させて、モールド23の凹凸面23a及び23bの凹凸形状を、被転写体21及び31の被転写面21a及び31aに転写する。 In the imprint method according to the second embodiment of the present invention, the heat generation layers 22 and 32 that generate heat by absorbing the electromagnetic wave 24 are formed on the transfer surfaces 21 a and 31 a of the transfer bodies 21 and 31. And 32 are irradiated with the electromagnetic wave 24, the heat generating layers 22 and 32 are heated, and the transferred surfaces 21a and 31a of the transferred bodies 21 and 31 made of a material that transmits the electromagnetic waves are softened. The concavo-convex shapes of the concavo-convex surfaces 23 a and 23 b are transferred to the transfer surfaces 21 a and 31 a of the transfer bodies 21 and 31.
すなわち、本発明の第2の実施の形態に係るインプリント方法によれば、従来のインプリント方法とは異なり、電磁波を透過する材料から構成されている被転写体を用いることが可能となり、より実用性の高いインプリント方法(両面インプリント方法)を実現することができる。又、本発明の第2の実施の形態に係るインプリント方法によれば、高速で生産性に優れたインプリント方法(両面インプリント方法)を実現することができる。 That is, according to the imprint method according to the second embodiment of the present invention, unlike the conventional imprint method, it is possible to use a transfer body made of a material that transmits electromagnetic waves. A highly practical imprint method (double-sided imprint method) can be realized. In addition, according to the imprint method according to the second embodiment of the present invention, it is possible to realize an imprint method (double-sided imprint method) that is fast and excellent in productivity.
〈実施例1〉
図16は、本発明の実施例1で用いたモールド43の概略形状を例示する平面図である。図17は、本発明の実施例1で用いたモールド43の概略形状を例示する断面図である。図16及び図17に示すモールド43は、直径約φ120mm、厚さ約0.6mm、中心の穴径約φ15mmのポリカーボネート樹脂で構成されたHD DVD-RWディスクに用いられる基板である。モールド43の片面側の直径約φ48〜φ118mmの範囲には、トラックピッチTP1=約400nm、グルーブ(凹部)幅W1=約200nm、深さD1=約27nmの溝45が、スパイラル状に形成されている。実施例1では特に断らない限り、モールドパターンは、スパイラル状の溝45を指す。モールド43の溝45が形成されている面を凹凸面43aとする。
<Example 1>
FIG. 16 is a plan view illustrating a schematic shape of the mold 43 used in Example 1 of the present invention. FIG. 17 is a cross-sectional view illustrating the schematic shape of the mold 43 used in Example 1 of the present invention. The mold 43 shown in FIGS. 16 and 17 is a substrate used for an HD DVD-RW disc made of polycarbonate resin having a diameter of about φ120 mm, a thickness of about 0.6 mm, and a central hole diameter of about φ15 mm. A groove 45 having a track pitch TP1 = about 400 nm, a groove (recess) width W1 = about 200 nm, and a depth D1 = about 27 nm is formed in a spiral shape in the range of about φ48 to φ118 mm on one side of the mold 43. Yes. Unless otherwise specified in the first embodiment, the mold pattern indicates the spiral groove 45. The surface of the mold 43 on which the groove 45 is formed is referred to as an uneven surface 43a.
図18は、貼り合わせサンプル46について説明するための図である。被転写体41には、外形寸法がモールド43と同様で、溝45が形成されていないポリカーボネート樹脂からなる基板を用意した。被転写体41の被転写面41aに発熱層42としてGe膜(膜厚:約10nm)をスパッタ法で成膜した。図18に示すように、被転写体41の被転写面41aに形成された発熱層42とモールド43の凹凸面43aの凸部とを真空中で当接させ、真空吸着を維持している状態に貼り合わせ、貼り合わせサンプル46を作製した。 FIG. 18 is a diagram for explaining the bonded sample 46. A substrate made of a polycarbonate resin having the same external dimensions as the mold 43 and having no grooves 45 formed thereon was prepared for the transfer target 41. A Ge film (film thickness: about 10 nm) was formed as a heat generating layer 42 on the transfer surface 41a of the transfer body 41 by sputtering. As shown in FIG. 18, the heat generation layer 42 formed on the transfer surface 41 a of the transfer body 41 and the protrusions of the uneven surface 43 a of the mold 43 are brought into contact with each other in a vacuum to maintain vacuum suction. A bonded sample 46 was prepared.
電磁波を照射する照射装置としては、日立コンピュータ機器(株)製POP120−7Aを用いた。この照射装置は相変化型光記録媒体の初期化に用いられるもので、電磁波の光源である波長約830nmの半導体レーザーを有する光学ヘッドが搭載されている。この光学ヘッドは、オートフォーカスサーボ機構を有し、電磁波の光源である半導体レーザーから出射されたレーザー光を、貼り合わせサンプル46の発熱層42に集光する。集光されたビームのサイズは、貼り合わせサンプル46の半径方向に、長さ約75μm、幅約1μmである。 POP120-7A manufactured by Hitachi Computer Equipment Co., Ltd. was used as the irradiation device that radiates electromagnetic waves. This irradiation apparatus is used for initialization of a phase change optical recording medium, and is equipped with an optical head having a semiconductor laser having a wavelength of about 830 nm, which is an electromagnetic wave light source. This optical head has an autofocus servo mechanism, and condenses laser light emitted from a semiconductor laser, which is an electromagnetic wave light source, on the heat generation layer 42 of the bonded sample 46. The size of the focused beam is about 75 μm long and about 1 μm wide in the radial direction of the bonded sample 46.
インプリント自体は相変化型光記録媒体の初期化とほぼ同じであり、貼り合わせサンプル46を照射装置に設けられたターンテーブル上に載置し、任意の回転数で回転させ、フォーカスサーボを実行しながら被転写体41側からレーザー光を照射した。更に、レーザー光を照射しながら、光学ヘッドを、貼り合わせサンプル46の半径方向に移動させ、溝45が形成されている範囲全体にレーザー光を照射した。 The imprint itself is almost the same as the initialization of the phase change optical recording medium. The bonded sample 46 is placed on the turntable provided in the irradiation device, rotated at an arbitrary rotation number, and the focus servo is executed. The laser beam was irradiated from the transferred object 41 side. Further, while irradiating the laser beam, the optical head was moved in the radial direction of the bonded sample 46, and the entire range where the groove 45 was formed was irradiated with the laser beam.
なお、レーザー光の照射に際して、トラッキングサーボは実行されていない。実施例1では表1に示すような設定条件でインプリントを行った。この条件で1枚辺り約40秒の時間で作業が終了するが、実施例1ではインプリントの様子が分かるように、途中で作業を中止した。 Note that tracking servo is not executed when the laser beam is irradiated. In Example 1, imprinting was performed under the setting conditions as shown in Table 1. Under this condition, the work is completed in about 40 seconds per sheet. However, in Example 1, the work was stopped halfway so that the imprint state could be seen.
更に、被転写体41の被転写面41aにモールド43の凹凸面43aの凹凸形状がインプリントされていることを他の方法で確認するために、被転写体41の被転写面41aにAg膜を約200nm成膜した。又、比較のために、モールド43の凹凸面43aにもAg膜を約200nm成膜した。 Furthermore, in order to confirm by other methods that the uneven shape of the uneven surface 43a of the mold 43 is imprinted on the transfer surface 41a of the transfer body 41, an Ag film is formed on the transfer surface 41a of the transfer body 41. About 200 nm. For comparison, an Ag film having a thickness of about 200 nm was also formed on the uneven surface 43 a of the mold 43.
Ag膜を成膜した後、光ディスク評価装置(パルステック社製ODU−1000)を用いて、トラッキングサーボOffとOnにおける、インプリントされた被転写体41の被転写面41aの信号について確認を行った。図19は、トラッキングサーボOff時の、全光量信号47、トリガー信号48、及び、プッシュプル信号49を示す図である。ここで、全光量信号47は反射率を示す信号、トリガー信号48は1周に当たる時間を表した信号、プッシュプル信号49はトラッキング誤差信号等に用いられる信号である。又、横軸は時間、縦軸は電圧を示している。図19において、プッシュプル信号49が観測されていることから、被転写体41の被転写面41aにモールド43の凹凸面43aの凹凸形状がインプリントされていることが分かる。 After depositing the Ag film, the signal of the imprinted surface 41a of the imprinted object 41 in the tracking servo Off and On is checked using an optical disk evaluation apparatus (ODU-1000 manufactured by Pulstec). It was. FIG. 19 is a diagram showing the total light amount signal 47, the trigger signal 48, and the push-pull signal 49 when the tracking servo is turned off. Here, the total light quantity signal 47 is a signal indicating the reflectance, the trigger signal 48 is a signal representing the time corresponding to one round, and the push-pull signal 49 is a signal used for a tracking error signal or the like. The horizontal axis indicates time, and the vertical axis indicates voltage. In FIG. 19, since the push-pull signal 49 is observed, it can be seen that the uneven shape of the uneven surface 43 a of the mold 43 is imprinted on the transfer surface 41 a of the transfer body 41.
図20は、トラッキングサーボOn時の、全光量信号47、トリガー信号48、及び、プッシュプル信号49を示す図である。ここで、全光量信号47は反射率を示す信号、トリガー信号48は1周に当たる時間を表した信号、プッシュプル信号49はトラッキング誤差信号等に用いられる信号である。又、横軸は時間、縦軸は電圧を示している。図20において、トラッキングサーボが問題なく実行できたことから、被転写体41の被転写面41aにモールド43の凹凸面43aの凹凸形状が、良好にインプリントされていることが分かる。なお、この光ディスク評価装置による評価においては、レーザー照射を行った領域全てに同様な結果が得られた。 FIG. 20 is a diagram showing the total light amount signal 47, the trigger signal 48, and the push-pull signal 49 when the tracking servo is turned on. Here, the total light quantity signal 47 is a signal indicating the reflectance, the trigger signal 48 is a signal representing the time corresponding to one round, and the push-pull signal 49 is a signal used for a tracking error signal or the like. The horizontal axis indicates time, and the vertical axis indicates voltage. In FIG. 20, since the tracking servo can be executed without any problem, it can be seen that the uneven shape of the uneven surface 43a of the mold 43 is imprinted satisfactorily on the transfer surface 41a of the transfer body 41. In the evaluation by this optical disk evaluation apparatus, the same result was obtained in all the areas irradiated with laser.
本発明によれば、従来のインプリント方法とは異なり、被転写体41の被転写面41aに電磁波を吸収して発熱する発熱層42を形成し、発熱層42に電磁波を照射し、発熱層42を発熱させて被転写体41の被転写面41aを軟化させるため、電磁波を透過する材料から構成されている被転写体41にインプリントすることが可能となり、より実用性の高いインプリント方法を実現することができる。 According to the present invention, unlike the conventional imprint method, the heat generation layer 42 that generates heat by absorbing electromagnetic waves is formed on the transfer surface 41a of the transfer body 41, and the heat generation layer 42 is irradiated with electromagnetic waves. Since the surface 42a of the transfer body 41 is softened by generating heat, the imprint method can be imprinted on the transfer body 41 made of a material that transmits electromagnetic waves, and is more practical. Can be realized.
なお、本発明の効果は実施例1で用いた材料や層構成、複製装置、複製方法、評価装置などに制限されるものではない。 The effects of the present invention are not limited to the materials and layer configurations used in Example 1, the duplicating apparatus, the duplicating method, and the evaluation apparatus.
〈実施例2〜9〉
実施例2〜9では、実施例1と同様に被転写体41の被転写面41aに発熱層42をスパッタ法で成膜した。始めに、実施例2〜4では、発熱層42の材料としてGeを用い、表2に示すような膜厚で成膜して、それぞれインプリントを行った。表2に同時にその結果を示すが、Geの膜厚にはインプリントできる最適範囲があることが分かった。この理由は、Geの膜厚が薄過ぎると十分にレーザー光を吸収できずにインプリントに必要な発熱量が発生せず、厚すぎると発熱した熱をGe膜自身が放熱してしまうためと考えられる。
<Examples 2 to 9>
In Examples 2 to 9, as in Example 1, the heat generating layer 42 was formed on the transfer surface 41a of the transfer object 41 by sputtering. First, in Examples 2 to 4, Ge was used as the material of the heat generating layer 42, and the film thicknesses shown in Table 2 were formed and imprinted. The results are shown in Table 2 at the same time, and it has been found that there is an optimum range for imprinting on the Ge film thickness. The reason for this is that if the Ge film is too thin, the laser beam cannot be sufficiently absorbed and the amount of heat generated for imprinting does not occur. Conceivable.
なお、表2及び表3において、膜厚は分光エリプソメーター(JA.Woollam製M2000DI)を用いて測定した。又、光ディスク評価装置による溝信号の有無は、図19に示すトラッキングサーボOff時のプッシュプル信号が観測できるか否かにより判定した。 In Tables 2 and 3, the film thickness was measured using a spectroscopic ellipsometer (JA.Woollam M2000DI). The presence or absence of a groove signal by the optical disk evaluation apparatus was determined by whether or not a push-pull signal at the time of tracking servo off shown in FIG. 19 can be observed.
本発明によれば、従来のインプリント方法とは異なり、被転写体41の被転写面41aに電磁波を吸収して発熱する発熱層42を形成し、発熱層42に電磁波を照射し、発熱層42を発熱させて被転写体41の被転写面41aを軟化させるため、電磁波を透過する材料から構成されている被転写体41にインプリントすることが可能となり、より実用性の高いインプリント方法を実現することができる。 According to the present invention, unlike the conventional imprint method, the heat generation layer 42 that generates heat by absorbing electromagnetic waves is formed on the transfer surface 41a of the transfer body 41, and the heat generation layer 42 is irradiated with electromagnetic waves. Since the surface 42a of the transfer body 41 is softened by generating heat, the imprint method can be imprinted on the transfer body 41 made of a material that transmits electromagnetic waves, and is more practical. Can be realized.
なお、本発明の効果は本実施例で用いた材料や層構成、複製装置、複製方法、評価装置などに制限されるものではない。 The effects of the present invention are not limited to the materials and layer configurations used in this embodiment, the duplicating apparatus, the duplicating method, and the evaluation apparatus.
〈実施例10〉
実施例10では、モールド53として、市販のホログラムシートを用いて、両面インプリントを行った。図21は、モールド53であるホログラムシートの顕微鏡写真である。図21に示すモールド53であるホログラムシートは、外形が25×20×0.1mmの直方体の薄いシートである。図22は、モールド53であるホログラムシートの凹凸の様子を示すAFM像で、AFM装置(キーエンス社製VN−8000)を用いて評価したものである。図22に示すAFM像の評価により、モールド53であるホログラムシートは、高さ約130nm、ピッチ約800nmの凹凸を有することが確認できた(以下、モールド53であるホログラムシートの凹凸を有する面を「凹凸面53a」とする)。
<Example 10>
In Example 10, double-sided imprinting was performed using a commercially available hologram sheet as the mold 53. FIG. 21 is a photomicrograph of the hologram sheet that is the mold 53. The hologram sheet as the mold 53 shown in FIG. 21 is a rectangular parallelepiped thin sheet having an outer shape of 25 × 20 × 0.1 mm. FIG. 22 is an AFM image showing the unevenness of the hologram sheet as the mold 53, which was evaluated using an AFM apparatus (VN-8000 manufactured by Keyence Corporation). The evaluation of the AFM image shown in FIG. 22 confirmed that the hologram sheet as the mold 53 had irregularities with a height of about 130 nm and a pitch of about 800 nm (hereinafter, the hologram sheet as the mold 53 has an irregular surface. (It is referred to as “uneven surface 53a”).
図23は、貼り合わせサンプル56について説明するための図である。モールド53を2枚用意した。又、被転写体51及び61には、外形寸法が図16に示すモールド43と同様で、溝45が形成されていないポリカーボネート樹脂からなる基板を用意し、実施例1と同様の方法により、被転写体51及び61の被転写面51a及び61aに発熱層52及び62としてGe膜(膜厚:約10nm)をスパッタ法で成膜した。図23に示すように、1枚のモールド53の凹凸面53aを上側に向け、もう1枚のモールド53の凹凸面53aを下側に向けた状態で、2枚のモールド53が重ならないように、一方の凹凸面53aの凸部と被転写体51の被転写面51aに形成された発熱層52、及び、他方の凹凸面53aの凸部と被転写体61の被転写面61aに形成された発熱層62とを真空中で当接させ、真空吸着を維持している状態に貼り合わせ、貼り合わせサンプル56を作製した。 FIG. 23 is a diagram for explaining the bonded sample 56. Two molds 53 were prepared. In addition, substrates to be transferred 51 and 61 are prepared by a substrate made of polycarbonate resin having the same outer dimensions as the mold 43 shown in FIG. Ge films (thickness: about 10 nm) were formed as the heat generating layers 52 and 62 on the transfer surfaces 51a and 61a of the transfer bodies 51 and 61 by sputtering. As shown in FIG. 23, the two molds 53 do not overlap with each other with the concave / convex surface 53a of one mold 53 facing upward and the concave / convex surface 53a of the other mold 53 facing downward. The heat generation layer 52 formed on the convex portion of the one uneven surface 53a and the transferred surface 51a of the transferred body 51, and the convex portion of the other uneven surface 53a and the transferred surface 61a of the transferred body 61 are formed. The heat generation layer 62 was brought into contact with each other in a vacuum, and bonded together in a state where the vacuum suction was maintained, whereby a bonded sample 56 was produced.
このようにして作製した貼り合わせサンプル56に、実施例1と同様な装置、手順でレーザー光を照射した。ただし、モールド53と、被転写体51及び61の寸法の関係から、被転写体51及び61の間にはモールド53が挟まれていない部分があり、オートフォーカス機構を用いると、モールド53が無い部分で装置が停止してしまうため、固定フォーカスを用いた。設定条件は表4に示した条件を用いた。 The bonded sample 56 thus produced was irradiated with laser light using the same apparatus and procedure as in Example 1. However, due to the dimensional relationship between the mold 53 and the transferred bodies 51 and 61, there is a portion where the mold 53 is not sandwiched between the transferred bodies 51 and 61. When the autofocus mechanism is used, there is no mold 53. Fixed focus was used because the device stopped at that point. As the setting conditions, the conditions shown in Table 4 were used.
被転写体51及び61の被転写面51a及び61aに転写された凹凸形状は、モールド53であるホログラムシートの凹凸面53aの凹凸形状に対して、高さが約半分程度であることを除けば、良好なインプリントができている。高さが半分程度になる原因はレーザー光のフォーカスを固定フォーカスとしたことにより、フォーカスが不十分であり、十分な発熱量が得られなかったためと考えられる。これより、レーザー光の照射条件(特に光強度に関するパラメーター)を調整する事で被転写体の形状やサイズを調整する事が可能であるといえる。 The concavo-convex shape transferred to the transfer surfaces 51 a and 61 a of the transfer bodies 51 and 61 is about half the height of the concavo-convex shape of the concavo-convex surface 53 a of the hologram sheet as the mold 53. Good imprint. The reason why the height is reduced to about half is considered to be that the focus of the laser beam is fixed and the focus is insufficient, and a sufficient amount of heat generation cannot be obtained. From this, it can be said that the shape and size of the transfer target can be adjusted by adjusting the irradiation condition of the laser beam (particularly the parameter relating to the light intensity).
なお、実施例10では、実験環境の都合上、片面に凹凸面53aを有するホログラムシート2枚をモールド53として用い、1枚のモールド53の凹凸面53aを上側に向け、もう1枚のモールド53の凹凸面53aを下側に向けた状態で、2枚のモールド53が重ならないように、被転写体51及び61の間に挟むようにして真空中で重ね合わせ、真空吸着を維持している状態に貼り合わせ、貼り合わせサンプル56を作製した。 In Example 10, for convenience of the experimental environment, two hologram sheets having a concavo-convex surface 53 a on one side are used as the mold 53, and the other mold 53 is provided with the concavo-convex surface 53 a of one mold 53 facing upward. With the concave and convex surface 53a facing downward, the two molds 53 are overlapped in a vacuum so as to be sandwiched between the transferred bodies 51 and 61 so that the vacuum suction is maintained so that the two molds 53 do not overlap. Bonding and a bonding sample 56 were produced.
しかし、実施例10の結果から、本発明の第2の実施の形態において示したように、両面に凹凸面を有するモールドを用い、電磁波を透過する材料から構成されている2つの被転写体でモールドを挟んで、2つの被転写体を介して電磁波を照射することにより、両面インプリントが実現できることは、容易に想像される。 However, from the results of Example 10, as shown in the second embodiment of the present invention, two transferred objects that are made of a material that transmits electromagnetic waves using a mold having uneven surfaces on both sides are used. It is easily imagined that double-sided imprinting can be realized by irradiating electromagnetic waves through two transferred materials with a mold interposed therebetween.
本発明によれば、両面インプリントが可能となり、より実用性の高いインプリント方法を実現することができる。又、本発明によれば、高速で生産性に優れたインプリント方法を実現することができる。なお、本発明の効果は本実施例で用いた材料や層構成、複製装置、複製方法、評価装置などに制限されるものではない。 According to the present invention, double-sided imprinting is possible, and a more practical imprinting method can be realized. Further, according to the present invention, it is possible to realize an imprint method that is fast and excellent in productivity. The effects of the present invention are not limited to the materials and layer configurations used in this embodiment, the duplicating apparatus, the duplicating method, and the evaluation apparatus.
〈実施例11〉
実施例11では、実施例1と同様に被転写体41の被転写面41aに発熱層42としてGe膜(膜厚:約10nm)をスパッタ法で成膜した。モールドとしては、実施例1で用いたモールド43と同じ形状の石英基板を準備し、準備した石英基板の表面に図26に示すテクスチャ構造体を作製したものを用いた。図26は、モールドである石英基板の表面に作製したテクスチャ構造体の顕微鏡写真である。図26に示すテクスチャ構造体のサイズは、ドットピッチ400nm、高さ500nmである。図26に示すテクスチャ構造体が、実施例1の凹凸面43aに相当する。なお、テクスチャ構造とは、所定の規則に従って配列されてできる繰り返しパターンを指し、例えば、表面に多数の微小な凹凸形状を有する構造等である。
<Example 11>
In Example 11, similarly to Example 1, a Ge film (film thickness: about 10 nm) was formed as a heat generating layer 42 on the transfer surface 41a of the transfer object 41 by a sputtering method. As the mold, a quartz substrate having the same shape as that of the mold 43 used in Example 1 was prepared, and a textured structure shown in FIG. 26 was prepared on the surface of the prepared quartz substrate. FIG. 26 is a photomicrograph of a textured structure produced on the surface of a quartz substrate that is a mold. The size of the texture structure shown in FIG. 26 is a dot pitch of 400 nm and a height of 500 nm. The texture structure shown in FIG. 26 corresponds to the uneven surface 43a of the first embodiment. The texture structure refers to a repetitive pattern that can be arranged according to a predetermined rule, such as a structure having a large number of minute uneven shapes on the surface.
続いて、実施例1と同様の方法により、モールドである石英基板の表面に作製したテクスチャ構造体を被転写体41の被転写面41aに転写した。図27は、テクスチャ構造体が転写された被転写体41の光透過スペクトルを例示する図である。図27において、△は、被転写面41aにテクスチャ構造体が転写された被転写体41を、×は、転写に用いた表面にテクスチャ構造体が作製されたモールドである石英基板を、○は、表面にテクスチャ構造体が作製されていない石英基板を示している。モールド及び石英基板(テクスチャ構造体なし)の透過率は、被転写体41の透過率と比較するために記載したものである。 Subsequently, the texture structure produced on the surface of the quartz substrate as a mold was transferred to the transfer surface 41a of the transfer target 41 by the same method as in Example 1. FIG. 27 is a diagram illustrating a light transmission spectrum of the transfer target 41 to which the texture structure is transferred. In FIG. 27, Δ is the transferred object 41 having the texture structure transferred to the transferred surface 41a, × is the quartz substrate that is a mold having the texture structure formed on the surface used for transfer, and ○ is FIG. 2 shows a quartz substrate having no texture structure formed on the surface. The transmittance of the mold and the quartz substrate (without the texture structure) is described for comparison with the transmittance of the transfer target 41.
図27に示すように、被転写体41(△)もモールドとして転写に用いた石英基板(×)も同様に、600nm以上の波長領域で、表面にテクスチャ構造体が作製されていない石英基板(○)よりも透過率が高くなっている。これはテクスチャ構造体による反射防止効果に依るもので、被転写体41は、モールドとして転写に用いた石英基板と同等な特性を示している事から、良好な転写が行われている事が分かる。 As shown in FIG. 27, the quartz substrate (×) used for the transfer as the mold 41 (Δ) is also a quartz substrate (600) having a texture structure on the surface in the wavelength region of 600 nm or more. The transmittance is higher than ○). This is due to the antireflection effect of the texture structure, and the transfer target 41 exhibits the same characteristics as the quartz substrate used for transfer as a mold, so that it can be seen that good transfer is performed. .
以上の結果から、本発明は表面にテクスチャ構造体が作製されたようなモールドについてもインプリントする事ができる。 From the above results, the present invention can also imprint a mold having a texture structure on the surface.
なお、本発明の効果は本実施例で用いた材料や層構成、複製装置、複製方法、評価装置などに制限されるものではない。 The effects of the present invention are not limited to the materials and layer configurations used in this embodiment, the duplicating apparatus, the duplicating method, and the evaluation apparatus.
〈実施例12〉
実施例12では、実施例1と同様に被転写体41の被転写面41aに発熱層42としてGe膜(膜厚:約10nm)をスパッタ法で成膜した。そして、実施例1と同様に貼り合わせサンプル46を作製し、貼り合わせサンプル46にモールド43側からレーザー光を照射してインプリントを行った。このようにして作製した被転写体41を実施例1で用いた光ディスク評価装置を用いてトラッキングを行いながら、2500トラック(約1mm幅)スキャニングした。この際、被転写体41の回転線速を表5に示すように変更し、トラッキング外れの有無を確認した。○はトラッキング外れが無く、×はトラッキング外れが有った事を示す。比較の為に、実施例1での場合についても示す。表5に示すように、実施例12でモールド43側からレーザー光を照射してインプリントした被転写体41では、回転線速が所定値より速くなると、トラッキング外れが生じることが確認された。
<Example 12>
In Example 12, as in Example 1, a Ge film (film thickness: about 10 nm) was formed as a heat generating layer 42 on the transfer surface 41a of the transfer object 41 by sputtering. And the bonding sample 46 was produced similarly to Example 1, and it imprinted by irradiating the laser beam to the bonding sample 46 from the mold 43 side. The transferred object 41 thus produced was scanned 2500 tracks (about 1 mm width) while tracking using the optical disk evaluation apparatus used in Example 1. At this time, the rotational linear velocity of the transfer object 41 was changed as shown in Table 5, and the presence or absence of tracking off was confirmed. ○ indicates that there is no tracking error, and × indicates that there is tracking error. For comparison, the case of Example 1 is also shown. As shown in Table 5, it was confirmed that, in the transferred object 41 imprinted by irradiating the laser beam from the mold 43 side in Example 12, the tracking out occurred when the rotational linear velocity was higher than a predetermined value.
なお、本発明の効果は本実施例で用いた材料や層構成、複製装置、複製方法、評価装置などに制限されるものではない。 The effects of the present invention are not limited to the materials and layer configurations used in this embodiment, the duplicating apparatus, the duplicating method, and the evaluation apparatus.
以上、本発明の好ましい実施の形態及び実施例について詳説したが、本発明は、上述した実施の形態及び実施例に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施の形態及び実施例に種々の変形及び置換を加えることができる。 The preferred embodiments and examples of the present invention have been described in detail above. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples, and the above-described embodiments can be performed without departing from the scope of the present invention. Various modifications and substitutions can be added to the embodiments and examples.
11,21,31,41,51,61 被転写体
11a,21a,31a,41a,51a,61a 被転写体の被転写面
12,22,32,42,52 発熱層
13,23,43,53 モールド
13a,23a,23b,43a,53a モールドの凹凸面
14、24 電磁波
45 溝
46,56 貼り合わせサンプル
47 全光量信号
48 トリガー信号
49 プッシュプル信号
11, 21, 31, 41, 51, 61 Transfer object 11a, 21a, 31a, 41a, 51a, 61a Transfer object surface of transfer object 12, 22, 32, 42, 52 Heat generation layer 13, 23, 43, 53 Molds 13a, 23a, 23b, 43a, 53a Uneven surface of the mold 14, 24 Electromagnetic wave 45 Groove 46, 56 Bonded sample 47 Total light quantity signal 48 Trigger signal 49 Push-pull signal
Claims (15)
前記被転写面に、前記電磁波を吸収して発熱する発熱層を形成する発熱層形成工程と、
少なくとも一方が前記電磁波を透過する材料から構成されている前記モールド又は前記被転写体を介して前記発熱層に前記電磁波を照射し、前記発熱層を発熱させて前記被転写面を軟化させる軟化工程と、を有することを特徴とするインプリント方法。 In a state where the uneven surface of the mold having the uneven surface and the transferred surface of the transfer object are in contact with each other, electromagnetic waves are applied to soften the transferred surface, and the uneven shape of the uneven surface is transferred to the transferred surface. An imprint method for transferring to a surface,
A heat generation layer forming step of forming a heat generation layer that absorbs the electromagnetic wave and generates heat on the transfer surface;
A softening step in which at least one of the heat generation layer is irradiated with the electromagnetic wave through the mold or the transfer target body made of a material that transmits the electromagnetic wave, and the heat generation layer generates heat to soften the transfer surface. And an imprint method characterized by comprising:
前記2つの被転写面に、前記電磁波を吸収して発熱する発熱層を形成する発熱層形成工程と、
前記電磁波を透過する材料から構成されている前記2つの被転写体を介して前記発熱層に前記電磁波を照射し、前記発熱層を発熱させて前記2つの被転写面を軟化させる軟化工程と、を有することを特徴とするインプリント方法。 In a state where the two uneven surfaces of the mold having two uneven surfaces and the two transferred surfaces of the two transferred objects are in contact with each other, electromagnetic waves are applied to soften the two transferred surfaces, An imprint method for transferring the uneven shape of the two uneven surfaces to the two transferred surfaces,
A heat generating layer forming step of forming a heat generating layer that absorbs the electromagnetic wave and generates heat on the two transferred surfaces;
A softening step of irradiating the heat generating layer with the electromagnetic waves through the two transferred bodies made of a material that transmits the electromagnetic waves, and heating the heat generating layers to soften the two transferred surfaces; The imprint method characterized by having.
前記軟化工程の後に、前記被転写体から前記モールドを離型する離型工程と、前記被転写面に形成された前記発熱層を除去する発熱層除去工程と、を有することを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項記載のインプリント方法。 Further, before the heat generation layer forming step, a mold manufacturing step of manufacturing the mold having the uneven surface,
The method further comprises: after the softening step, a release step of releasing the mold from the transferred body, and a heat generation layer removing step of removing the heat generation layer formed on the transfer surface. Item 7. The imprint method according to any one of Items 1 to 6.
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