JP2009239859A - Method of manufacturing tuning fork vibration reed - Google Patents

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arm
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Takashi Yamazaki
隆 山崎
Tsukasa Funasaka
司 舩坂
Takeo Funekawa
剛夫 舟川
Makoto Furuhata
誠 古畑
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Seiko Epson Corp
Miyazaki Epson Corp
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Seiko Epson Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To expand an adjustment range of an oscillation frequency. <P>SOLUTION: A base material 10 includes a base part 16, and a plurality of arm sections 18 arranged and extended in a direction crossing the thickness direction of the base part 16 from the base part 16. At each of the arm sections 18, the base material 10 is prepared, which has a first side 13 opposing the adjacent arm section 18 and a second side 15 facing a side opposite to the first side 13, and has an exposure region 30 in which at least one of the first and second sides 13, 15 is exposed. The exposure region 30 is etched. By etching, the width of the arm section 18 is reduced, thus lowering flexural rigidity in the width direction of the plurality of arm sections 18. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、音叉型振動片の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a tuning fork type resonator element.

従来、発振器などに使用される振動片の振動周波数を調整するために、レーザービームによって振動腕の金属膜の一部を除去することが知られている(特許文献1)。詳しくは、金属膜の一部を除去することで、その重さが減少して、振動周波数が調整される。しかしながら、重さによる調整では調整量が小さいために調整範囲に限界があった。
特開2002−252546号公報
Conventionally, in order to adjust the vibration frequency of a vibrating piece used in an oscillator or the like, it is known to remove a part of the metal film of the vibrating arm with a laser beam (Patent Document 1). Specifically, by removing a part of the metal film, the weight is reduced and the vibration frequency is adjusted. However, adjustment by weight has a limited adjustment range because the adjustment amount is small.
JP 2002-252546 A

本発明は、振動周波数の調整範囲を拡大することを目的としている。   An object of the present invention is to expand the adjustment range of the vibration frequency.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
[適用例1]本適用例に係る音叉型振動片の製造方法は、
基部及び前記基部から前記基部の厚み方向に交差する方向に並んで延びる複数の腕部を含む基材であって、それぞれの前記腕部は、隣の前記腕部に対向する第1の側面及び前記第1の側面とは反対側を向く第2の側面を有し、前記第1及び第2の側面の少なくとも一方が露出している露出領域を有する基材を用意し、
前記露出領域をエッチングする工程を含み、
前記エッチングによって前記腕部の幅を減らして、前記複数の腕部の前記幅方向に関する曲げ剛性を低くする。本適用例によれば、腕部の幅を調整し、曲げ剛性を調整することによって振動周波数を調整することができる。腕部の幅による周波数調整は重さによる調整よりも調整量が大きいので、振動周波数の調整範囲を拡大することができる。
[適用例2]本適用例に係る音叉型振動片の製造方法は、
基部及び前記基部から前記基部の厚み方向に交叉する方向に並んで延びる複数の腕部を含む基材であって、それぞれの前記腕部は、隣の前記腕部に対向する第1の側面及び前記第1の側面とは反対側を向く第2の側面を有する基材を用意し、
前記第1又は第2の側面に補強膜を形成する工程を含み、
前記補強膜によって、前記複数の腕部の前記幅方向に関する曲げ剛性を高くする。本適用例によれば、腕部の幅を調整し、曲げ剛性を調整することによって振動周波数を調整することができる。腕部の幅による周波数調整は重さによる調整よりも調整量が大きいので、振動周波数の調整範囲を拡大することができる。
[適用例3]本適用例に係る音叉型振動片の製造方法において、
前記複数の腕部の厚みを定義し相互に反対方向を向く第1及び第2の表面の少なくとも一方の表面に、下部電極膜を形成する工程と、圧電膜を形成する工程と、上部電極膜を形成する工程と、をさらに有し、前記下部電極膜と前記上部電極膜とに前記圧電膜が挟まれた第1及び第2の圧電積層体が形成され、前記第1の圧電積層体の前記下部電極膜と前記第2の圧電積層体の前記上部電極膜とが接続され、前記第1の圧電積層体の前記上部電極膜と前記第2の圧電積層体の前記下部電極膜とが接続される。
[適用例4]本適用例に係る音叉型振動片の製造方法は、基部及び前記基部から前記基部の厚み方向に交差する方向に並んで延びる複数の腕部を含み、かつ、圧電性を有する基材であって、それぞれの前記腕部は、隣の前記腕部に対向する第1の側面及び前記第1の側面とは反対側を向く第2の側面を有する基材を用意し、前記第1及び第2の側面と、前記複数の腕部の厚みを定義し相互に反対方向を向く第1及び第2の表面と、表面電極膜を形成する工程と、前記第1及び第2の側面に補強膜を形成する工程と、を有する。
[適用例5]本適用例に係る音叉型振動片の製造方法は、さらに、前記第1及び第2の側面に形成された前記補強膜をエッチングすることにより、前記複数の腕部の前記幅方向に関する曲げ剛性を調整する工程を有する。
SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.
[Application Example 1] A method for manufacturing a tuning fork type resonator element according to this application example is as follows.
A base including a base and a plurality of arms extending side by side in a direction intersecting a thickness direction of the base from the base, each arm being a first side surface facing the adjacent arm and Providing a base material having a second side surface facing away from the first side surface and having an exposed region in which at least one of the first and second side surfaces is exposed;
Etching the exposed region,
The width of the arm portion is reduced by the etching, and the bending rigidity of the plurality of arm portions in the width direction is lowered. According to this application example, the vibration frequency can be adjusted by adjusting the width of the arm and adjusting the bending rigidity. Since the frequency adjustment based on the width of the arm portion has a larger adjustment amount than the adjustment based on the weight, the adjustment range of the vibration frequency can be expanded.
[Application Example 2] A method for manufacturing a tuning fork type resonator element according to this application example is as follows.
A base material including a base and a plurality of arms extending side by side in the direction crossing the base in the thickness direction of the base, each arm being a first side surface facing the adjacent arm; and Providing a substrate having a second side facing the opposite side of the first side;
Forming a reinforcing film on the first or second side surface,
The reinforcement film increases the bending rigidity of the plurality of arm portions in the width direction. According to this application example, the vibration frequency can be adjusted by adjusting the width of the arm and adjusting the bending rigidity. Since the frequency adjustment based on the width of the arm portion has a larger adjustment amount than the adjustment based on the weight, the adjustment range of the vibration frequency can be expanded.
[Application Example 3] In the method of manufacturing a tuning-fork type resonator element according to this application example,
A step of forming a lower electrode film on at least one of the first and second surfaces defining the thicknesses of the plurality of arms and facing in opposite directions; a step of forming a piezoelectric film; and an upper electrode film Forming first and second piezoelectric laminates in which the piezoelectric film is sandwiched between the lower electrode film and the upper electrode film, and the first piezoelectric laminate The lower electrode film and the upper electrode film of the second piezoelectric laminate are connected, and the upper electrode film of the first piezoelectric laminate and the lower electrode film of the second piezoelectric laminate are connected. Is done.
Application Example 4 A method for manufacturing a tuning fork type resonator element according to this application example includes a base portion and a plurality of arm portions extending side by side in a direction intersecting the thickness direction of the base portion from the base portion, and has piezoelectricity. Each of the arm portions is provided with a base material having a first side surface facing the adjacent arm portion and a second side surface facing the opposite side to the first side surface; Forming first and second side surfaces, first and second surfaces defining thicknesses of the plurality of arm portions and facing opposite directions, forming a surface electrode film, and the first and second surfaces Forming a reinforcing film on the side surface.
Application Example 5 In the method for manufacturing a tuning-fork type resonator element according to this application example, the width of the plurality of arm portions is further increased by etching the reinforcing film formed on the first and second side surfaces. Adjusting the bending stiffness with respect to the direction.

(第1の実施の形態)
図1〜図2は、本発明の第1の実施の形態に係る音叉型振動片の製造方法を説明する図である。本実施の形態では、基材10を用意する。基材10は、水晶などの圧電材料(例えば、Zカット板、ATカット板、Xカット板)から構成してもよいし、シリコンから構成してもよい。基材10は、相互に反対を向いて厚みを定義する第1及び第2の表面12,14を有する。基材10は、基部16と、基部16からその厚み方向に直交して並んで延びる複数(一対)の腕部18を含む。この形状は、板材をエッチング(ウエットエッチング及びドライエッチングの少なくとも一方)することによって得ることができる。腕部18は、隣の腕部18に対向する第1の側面13と、第1の側面13とは反対を向く第2の側面15を有する。第1及び第2の側面13,15の間隔が腕部18の幅である。基材10は、第1及び第2の側面13,15の少なくとも一方が露出領域30(電極膜などで覆われていない領域)を有する。
(First embodiment)
1 to 2 are diagrams for explaining a method for manufacturing a tuning fork type resonator element according to the first embodiment of the invention. In the present embodiment, a base material 10 is prepared. The substrate 10 may be made of a piezoelectric material such as quartz (for example, a Z cut plate, an AT cut plate, an X cut plate), or may be made of silicon. The substrate 10 has first and second surfaces 12, 14 that define a thickness facing away from each other. The base material 10 includes a base portion 16 and a plurality (a pair) of arm portions 18 that extend from the base portion 16 so as to be orthogonal to the thickness direction thereof. This shape can be obtained by etching the plate material (at least one of wet etching and dry etching). The arm portion 18 includes a first side surface 13 that faces the adjacent arm portion 18 and a second side surface 15 that faces away from the first side surface 13. The distance between the first and second side surfaces 13 and 15 is the width of the arm portion 18. The base material 10 has an exposed region 30 (a region not covered with an electrode film or the like) at least one of the first and second side surfaces 13 and 15.

腕部18の第1及び第2の側面13,15を除く面(第1又は第2の表面12,14)には下部電極膜20が形成されている。図示は省略するが、下部電極膜20は、基部16上に至るように形成されている。下部電極膜20の形成は、スパッタリングや蒸着によって導電膜を形成し、その後、導電膜をエッチングによってパターニングするプロセスを含んでもよい。あるいは、パターニングされたマスクを基材10に形成してから、基材10のマスクに覆われていない領域に導電膜を形成してもよい。下部電極膜20上には圧電膜22が形成されている。圧電膜22は、ZnO、AlN、PZTなどの、水晶よりも圧電性の高い材料からなる。圧電膜22は、腕部18に形成される。圧電膜22の形成には、材料を除いて、下部電極膜20を形成する技術の他、CVD法、PVD法、ゾルゲル法などを適用することができる。圧電膜22上には上部電極膜24が形成されている。上部電極膜24の形成には、下部電極膜20を形成する技術を適用することができる。上部電極膜24も、基部16上に至るように形成されている。   A lower electrode film 20 is formed on the surface (first or second surface 12, 14) excluding the first and second side surfaces 13, 15 of the arm portion 18. Although not shown, the lower electrode film 20 is formed so as to reach the base 16. The formation of the lower electrode film 20 may include a process of forming a conductive film by sputtering or vapor deposition and then patterning the conductive film by etching. Or after forming the patterned mask in the base material 10, you may form a electrically conductive film in the area | region which is not covered with the mask of the base material 10. FIG. A piezoelectric film 22 is formed on the lower electrode film 20. The piezoelectric film 22 is made of a material having higher piezoelectricity than quartz, such as ZnO, AlN, PZT. The piezoelectric film 22 is formed on the arm portion 18. For forming the piezoelectric film 22, a CVD method, a PVD method, a sol-gel method, or the like can be applied in addition to the technology for forming the lower electrode film 20 except for the material. An upper electrode film 24 is formed on the piezoelectric film 22. A technique for forming the lower electrode film 20 can be applied to the formation of the upper electrode film 24. The upper electrode film 24 is also formed so as to reach the base 16.

下部電極膜20と、上部電極膜24とに挟まれた圧電膜22から圧電積層体26が構成される。1つの腕部18には、第1及び第2の表面12,14のそれぞれに、一対の圧電積層体26が設けられている。一対の圧電積層体26は、それぞれ、腕部18の長さ方向に沿って延び、腕部18の幅方向に隣り合っている。また、一対の圧電積層体26は基部16まで延長して形成されても良いが、基部16の領域の基部圧電積層体26が腕部18を励振する効果は小さい。一対の圧電積層体26は、腕部18の幅方向の両端部に位置しており、一方の圧電積層体26の圧電膜22が伸びるときに他方の圧電積層体26の圧電膜22が縮むように駆動される。   A piezoelectric laminate 26 is constituted by the piezoelectric film 22 sandwiched between the lower electrode film 20 and the upper electrode film 24. One arm portion 18 is provided with a pair of piezoelectric laminates 26 on each of the first and second surfaces 12 and 14. Each of the pair of piezoelectric laminates 26 extends along the length direction of the arm portion 18 and is adjacent to the width direction of the arm portion 18. Further, the pair of piezoelectric laminates 26 may be formed to extend to the base portion 16, but the effect of exciting the arm portion 18 by the base piezoelectric laminate body 26 in the region of the base portion 16 is small. The pair of piezoelectric laminates 26 are located at both ends in the width direction of the arm portion 18 so that when the piezoelectric film 22 of one piezoelectric laminate 26 expands, the piezoelectric film 22 of the other piezoelectric laminate 26 contracts. Driven.

図1に示すように、腕部18の第1及び第2の表面12,14の少なくとも一方には錘金属膜28を形成する。錘金属膜28は、腕部18の、基部16とは反対側の先端部に形成する。   As shown in FIG. 1, a weight metal film 28 is formed on at least one of the first and second surfaces 12 and 14 of the arm portion 18. The weight metal film 28 is formed on the distal end portion of the arm portion 18 on the side opposite to the base portion 16.

図2に示すように、第1及び第2の側面13,15の露出領域30をエッチングする。エッチングには、CF、Cなどのプラズマガスを使用したドライエッチングを適用することができる。露出領域30をエッチングするときに、第1及び第2の表面12,14がエッチングされてもよい。 As shown in FIG. 2, the exposed regions 30 of the first and second side surfaces 13 and 15 are etched. For the etching, dry etching using a plasma gas such as CF 4 or C 2 F 6 can be applied. When etching the exposed region 30, the first and second surfaces 12, 14 may be etched.

本実施の形態によれば、露出領域30をエッチングするので、腕部18の幅が減り、腕部18を幅方向に曲がりやすくすることができる。そして、複数の腕部18の幅を調整することによって、腕部18の幅方向の曲がりやすさを調整し、振動周波数を調整することができる。複数の腕部18の幅による周波数調整は、重さによる調整よりも調整量が大きいので、振動周波数の調整範囲を拡大することができる。   According to the present embodiment, since the exposed region 30 is etched, the width of the arm portion 18 is reduced, and the arm portion 18 can be easily bent in the width direction. And by adjusting the width | variety of the some arm part 18, the ease of bending of the width direction of the arm part 18 can be adjusted, and a vibration frequency can be adjusted. Since the frequency adjustment by the width of the plurality of arm portions 18 has a larger adjustment amount than the adjustment by weight, the adjustment range of the vibration frequency can be expanded.

腕部18の曲がりにくさ・曲がりやすさの指標として、幅方向に関する曲げ剛性EIを用いる。図12に示すように、腕部18(広義には、梁)に曲げモーメントM(Sは中立面を指す。)が加わった際に、腕部18が曲率1/ρ(=dθ/dx)で静的に撓んでいる場合は、
1/ρ=M/EI
の関係を有する。曲げ剛性EIが高いほど曲がりにくい。
The bending rigidity EI in the width direction is used as an index of the difficulty and ease of bending of the arm 18. As shown in FIG. 12, when a bending moment M (S indicates a neutral surface) is applied to the arm portion 18 (beam in a broad sense), the arm portion 18 has a curvature 1 / ρ (= dθ / dx). )
1 / ρ = M / EI
Have the relationship. The higher the bending stiffness EI, the less likely it is to bend.

なお、Eは材料固有のヤング率、Iは断面2次モーメントである。   E is the Young's modulus specific to the material, and I is the second moment of section.

断面2次モーメントIは、微小断面要素dAに、曲げた際に引張応力が0である中立軸AXからの距離yの2乗を、掛けた値の総和であり、式で表わすと次のように定義される。   The secondary moment of section I is the sum of the values obtained by multiplying the small cross-sectional element dA by the square of the distance y from the neutral axis AX where the tensile stress is 0 when it is bent. Defined in

I=∫dA
図13のように、中立軸AXに平行な辺の長さ(厚み)t、中立軸AXに垂直な辺の長さ(幅)wの長方形の断面を有する腕部18の断面2次モーメントIは、
=tw/12
となる。したがって、幅方向に関する断面2次モーメントおよび曲げ剛性は、腕部18の幅wの3乗に比例するため、幅を調整することで、幅方向の曲がりやすさを大きく制御することができる。
I = ∫ A y 2 dA
As shown in FIG. 13, the secondary moment I of the cross section of the arm portion 18 having a rectangular cross section having a side length (thickness) t parallel to the neutral axis AX and a side length (width) w perpendicular to the neutral axis AX. w is
I w = tw 3/12
It becomes. Therefore, since the cross-sectional secondary moment and the bending rigidity in the width direction are proportional to the cube of the width w of the arm portion 18, the ease of bending in the width direction can be largely controlled by adjusting the width.

なお、腕部18の幅方向の振動周波数F、腕部18の長さL、腕部18の幅(振動する方向の長さ)wは、
F=k・w/L(k:比例定数)
の関係を有する。腕部18の厚みの変化は、幅方向の振動周波数に影響しない。
The vibration frequency F in the width direction of the arm 18, the length L of the arm 18, and the width (length in the vibrating direction) w of the arm 18 are:
F = k · w / L 2 (k: proportional constant)
Have the relationship. The change in the thickness of the arm portion 18 does not affect the vibration frequency in the width direction.

図3は、本発明の第1の実施の形態に係る方法で製造された音叉型振動片を使用した音叉型振動子の製造方法を説明する図である。本実施の形態では、上述したプロセスによって、第1及び第2の側面13,15の少なくとも一方の露出領域30をエッチングし、エッチングによって腕部18の幅を減らして、腕部18が幅方向に曲がりやすくなった音叉型振動片1を得る。   FIG. 3 is a diagram for explaining a method for manufacturing a tuning fork vibrator using the tuning fork vibrating piece manufactured by the method according to the first embodiment of the present invention. In the present embodiment, the exposed region 30 of at least one of the first and second side surfaces 13 and 15 is etched by the process described above, the width of the arm portion 18 is reduced by etching, and the arm portion 18 is moved in the width direction. The tuning-fork type vibrating piece 1 that is easy to bend is obtained.

音叉型振動子の製造方法では、パッケージ32を用意する。パッケージ32は、音叉型振動片1を固定するための底部34と、底部34を囲む枠壁部36と、を含む。パッケージ32は、その全体を金属で形成してもよいが、主としてセラミックス等の非金属で形成する場合には、枠壁部36の上端面はメタライズされている。底部34には、真空引きを行うための通気孔38が形成されている。パッケージ32(底部34)の内面には固定電極40が形成されている。パッケージ32(底部34)の外面には外部端子42が形成されている。固定電極40と外部端子42は図示しない配線で電気的に接続されている。外部端子42は、ハンダなどによって回路基板の配線パターン(図示せず)に実装される。パッケージ32の枠壁部36には、ロウ接合によってリング44を固定しておく。   In the tuning fork vibrator manufacturing method, a package 32 is prepared. The package 32 includes a bottom portion 34 for fixing the tuning fork type vibrating piece 1 and a frame wall portion 36 surrounding the bottom portion 34. The package 32 may be entirely formed of metal, but when it is mainly formed of non-metal such as ceramics, the upper end surface of the frame wall portion 36 is metallized. The bottom 34 is formed with a vent hole 38 for evacuation. A fixed electrode 40 is formed on the inner surface of the package 32 (bottom 34). External terminals 42 are formed on the outer surface of the package 32 (bottom 34). The fixed electrode 40 and the external terminal 42 are electrically connected by a wiring (not shown). The external terminals 42 are mounted on a circuit board wiring pattern (not shown) by soldering or the like. A ring 44 is fixed to the frame wall portion 36 of the package 32 by brazing.

そして、音叉型振動片1をパッケージ32の内部に収容する。音叉型振動片1は、第1又は第2の表面12,14を底部34に向けて、上部電極膜24が固定電極40に対向するように配置する。ここで、望ましくは後述する錘金属膜28がパッケージ32の底部34を向くように配置する。音叉型振動片1は、腕部18が基部16から枠壁部36に向かって延びるように固定する。基部16を底部34に固定して、腕部18をパッケージ32から浮かす。底部34は、腕部18の先端部と対向する領域が低くなっており、腕部18が曲がっても底部34に接触し難いようになっている。   Then, the tuning fork type resonator element 1 is accommodated in the package 32. The tuning fork type resonator element 1 is disposed such that the upper electrode film 24 faces the fixed electrode 40 with the first or second surface 12 or 14 facing the bottom 34. Here, it is desirable that the weight metal film 28 described later is disposed so as to face the bottom 34 of the package 32. The tuning fork type resonator element 1 is fixed so that the arm portion 18 extends from the base portion 16 toward the frame wall portion 36. The base portion 16 is fixed to the bottom portion 34, and the arm portion 18 is lifted from the package 32. The bottom portion 34 has a low area facing the tip portion of the arm portion 18, so that it is difficult to contact the bottom portion 34 even if the arm portion 18 is bent.

パッケージ32と音叉型振動片1の固定は接合部材46によって図る。接合部材46は、導電性樹脂材料やハンダ等の金属材料であってもよい。金属材料は加熱してもガスが出ないので好ましい。接合部材46は、基部16とパッケージ32を接合し、腕部18をパッケージ32から浮いた状態に保持する。接合部材46は、基部16にある上部電極膜24と固定電極40を電気的及び機械的に接合する。   The package 32 and the tuning fork type resonator element 1 are fixed by the joining member 46. The joining member 46 may be a metal material such as a conductive resin material or solder. Metallic materials are preferred because they do not emit gas when heated. The joining member 46 joins the base portion 16 and the package 32 and holds the arm portion 18 in a state of floating from the package 32. The joining member 46 electrically and mechanically joins the upper electrode film 24 and the fixed electrode 40 in the base portion 16.

リング44には、蓋48を固定する。蓋48は、音叉型振動片1が固定されるパッケージ32とオーバーラップしてパッケージ32の開口を塞ぐ。蓋48は、表面及び裏面を貫通する貫通穴50を有する。貫通穴50は、円形の開口形状をなしている。蓋48は、ガラス又は樹脂などの材料からなる光透過性部材52を含む。光透過性部材52は、貫通穴50の内面に密着してなる。   A lid 48 is fixed to the ring 44. The lid 48 overlaps the package 32 to which the tuning fork type vibrating piece 1 is fixed and closes the opening of the package 32. The lid 48 has a through hole 50 that penetrates the front surface and the back surface. The through hole 50 has a circular opening shape. The lid 48 includes a light transmissive member 52 made of a material such as glass or resin. The light transmissive member 52 is in close contact with the inner surface of the through hole 50.

パッケージ32の開口を蓋48によって塞いだ後に、パッケージ32に形成された通気孔38を介して、蓋48によって塞がれたパッケージ32内を真空にし、その後、ロウ材54で通気孔38を塞ぐ。   After the opening of the package 32 is closed by the lid 48, the inside of the package 32 closed by the lid 48 is evacuated through the ventilation hole 38 formed in the package 32, and then the ventilation hole 38 is closed by the brazing material 54. .

音叉型振動子の製造方法は、腕部18の先端部にある錘金属膜28をトリミングする工程をさらに含んでもよい。この工程は、パッケージ32の開口を蓋48によって塞いだ後(例えばさらに真空引き工程後)に行う。この工程は、光透過性部材52を通して、錘金属膜28に対してレーザービームを照射して行う。こうすることで、錘金属膜28を軽くすることができる。錘金属膜28が形成された腕部18の先端部の重さが重いほど腕部18の振動周波数が低くなり、軽いほど腕部18の振動周波数が高くなる。これを利用して周波数調整を行うことができる。上述した腕部18のエッチングによる周波数調整を粗調といい、錘金属膜28のトリミングによる周波数調整を微調ということができる。なお、錘金属膜28のトリミングは、レーザービームの代わりにイオンビームを使用して行ってもよい。その場合には、音叉型振動片1をパッケージ32に取り付ける前にイオンビーム照射を行うか、或いは、錘金属膜28がパッケージ32の開口を向くように配置して蓋48で開口を塞ぐ前にイオンビーム照射を行う。   The method for manufacturing a tuning fork vibrator may further include a step of trimming the weight metal film 28 at the tip of the arm 18. This step is performed after the opening of the package 32 is closed by the lid 48 (for example, after the evacuation step). This step is performed by irradiating the weight metal film 28 with a laser beam through the light transmissive member 52. By doing so, the weight metal film 28 can be lightened. The heavier the tip part of the arm part 18 on which the weight metal film 28 is formed, the lower the vibration frequency of the arm part 18, and the lighter the vibration frequency of the arm part 18 becomes. This can be used to adjust the frequency. The above-described frequency adjustment by etching the arm portion 18 is referred to as coarse adjustment, and the frequency adjustment by trimming the weight metal film 28 can be referred to as fine adjustment. The trimming of the weight metal film 28 may be performed using an ion beam instead of the laser beam. In that case, ion beam irradiation is performed before the tuning fork type vibrating piece 1 is attached to the package 32, or before the weight metal film 28 faces the opening of the package 32 and the cover 48 closes the opening. Ion beam irradiation is performed.

図4は、本発明の第1の実施の形態に係る音叉型振動子の動作を説明する断面図である。本実施の形態により製造される音叉型振動子は、上記プロセスから自明な構成を含む。   FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining the operation of the tuning fork vibrator according to the first embodiment of the present invention. The tuning fork vibrator manufactured according to the present embodiment includes a configuration that is obvious from the above process.

本実施の形態では、上部電極膜24と下部電極膜20は、クロス配線によって交流電源に接続され、駆動電圧としての交番電圧が印加されるようになっている。上部電極膜24と下部電極膜20の間の電界の方向によって、圧電膜22が伸びるか縮むかが決まる。一つの腕部18において、第1の側面13に近い端部に位置するように第1及び第2の表面12,14に設けられた一対の圧電積層体26は、第1の表面12側の圧電膜22が延びると、第2の表面14側の圧電膜22も延びるように、それぞれの圧電積層体26の下部電極膜20同士、上部電極膜24同士が電気的に接続されている。第2の側面15に近い端部に位置する圧電積層体26についても同様である。また、一方の圧電積層体26の下部電極膜20と、他方の圧電積層体26の上部電極膜24が電気的に接続されている。このように電気的に接続するのは、圧電膜22が成長方向によって結晶軸方向が決定するため、第1の表面12側と第2の表面14側では、圧電膜22の結晶方位が面対称になるからである。   In the present embodiment, the upper electrode film 24 and the lower electrode film 20 are connected to an AC power supply by a cross wiring, and an alternating voltage as a drive voltage is applied. The direction of the electric field between the upper electrode film 24 and the lower electrode film 20 determines whether the piezoelectric film 22 expands or contracts. In one arm 18, the pair of piezoelectric laminates 26 provided on the first and second surfaces 12 and 14 so as to be positioned at the end close to the first side surface 13 is formed on the first surface 12 side. When the piezoelectric film 22 extends, the lower electrode films 20 and the upper electrode films 24 of the respective piezoelectric laminates 26 are electrically connected so that the piezoelectric film 22 on the second surface 14 side also extends. The same applies to the piezoelectric laminate 26 located at the end close to the second side surface 15. Further, the lower electrode film 20 of one piezoelectric laminate 26 and the upper electrode film 24 of the other piezoelectric laminate 26 are electrically connected. The electrical connection is made in this way because the crystal axis direction is determined by the growth direction of the piezoelectric film 22, so the crystal orientation of the piezoelectric film 22 is plane-symmetrical on the first surface 12 side and the second surface 14 side. Because it becomes.

また、一方の腕部18の第1の側面13に近い圧電積層体26と、他方の腕部18の第1の側面13に近い圧電積層体26とは、下部電極膜20同士の電位が同じで、上部電極膜24同士の電位が同じになるように電気的に接続されている。第2の側面15に近い圧電積層体26についても同様である。   In addition, the piezoelectric laminate 26 near the first side surface 13 of one arm 18 and the piezoelectric laminate 26 near the first side 13 of the other arm 18 have the same potential between the lower electrode films 20. Thus, the upper electrode films 24 are electrically connected so as to have the same potential. The same applies to the piezoelectric laminate 26 close to the second side surface 15.

上部電極膜24と下部電極膜20の間に電圧を印加し、第2の側面15に近い圧電膜22を伸ばし、第1の側面13に近い圧電膜22を縮めることで、基材10の腕部18が互いに接近する向きに屈曲させる。次に第1の側面13に近い圧電膜22を伸ばし、第2の側面15に近い圧電膜22を縮めることで、腕部18は、第1又は第2の側面13,15が離れる方向に屈曲する。圧電膜22の伸縮を繰り返すことで腕部18を屈曲振動させる。基本波モードの固有振動周波数で駆動すると、一対の腕部18は、互いに逆相振動となるように励振されて屈曲振動する。   A voltage is applied between the upper electrode film 24 and the lower electrode film 20 to stretch the piezoelectric film 22 close to the second side face 15 and to shrink the piezoelectric film 22 close to the first side face 13. The portions 18 are bent so as to approach each other. Next, by extending the piezoelectric film 22 close to the first side surface 13 and contracting the piezoelectric film 22 close to the second side surface 15, the arm portion 18 is bent in the direction in which the first or second side surfaces 13 and 15 are separated. To do. The arm 18 is bent and vibrated by repeating expansion and contraction of the piezoelectric film 22. When driven at the natural vibration frequency of the fundamental wave mode, the pair of arm portions 18 are excited to be in antiphase vibrations and bend and vibrate.

音叉型振動子を使用して、発振器又はセンサを構成することができる。音叉型振動子を含む発振回路で発振器を構成すると、周波数精度の高い交流信号を得ることができる。また、音叉型振動子を使用したセンサは、物理量に応じて音叉型振動片の周波数が変動することを利用してその物理量を検出するセンサである。例えば、温度、加速度によって発生する応力、角速度によって発生するコリオリ力などを検出するセンサが例に挙げられる。   A tuning fork vibrator can be used to constitute an oscillator or sensor. When an oscillator is constituted by an oscillation circuit including a tuning fork type vibrator, an AC signal with high frequency accuracy can be obtained. A sensor using a tuning fork type vibrator is a sensor that detects the physical quantity by utilizing the change in the frequency of the tuning fork type resonator element according to the physical quantity. For example, a sensor that detects stress generated by temperature, acceleration, Coriolis force generated by angular velocity, and the like can be given as an example.

(変形例)
図5は、本発明の第1の実施の形態に係る音叉型振動片の製造方法の変形例を説明する図である。この変形例では、腕部18をエッチングする代わりに、第1又は第2の側面13,15に補強膜60を形成する。例えば、SiO、Au、Cr、Al等で成膜することで補強膜60を形成する。補強膜60によって腕部18の幅を大きくして、複数の腕部18の幅方向に関する曲げ剛性を高くする。その他の構成及びプロセスは、上記実施の形態で説明した内容が該当する。この変形例でも、腕部18の幅を調整し、曲げ剛性を調整することによって振動周波数を調整することができる。さらに、補強膜60をエッチングすることにより、複数の腕部18の幅方向に関する曲げ剛性を調整してもよい。
(Modification)
FIG. 5 is a diagram for explaining a modification of the method for manufacturing the tuning-fork type resonator element according to the first embodiment of the invention. In this modification, instead of etching the arm portion 18, the reinforcing film 60 is formed on the first or second side surfaces 13 and 15. For example, the reinforcing film 60 is formed by forming a film using SiO 2 , Au, Cr, Al, or the like. The reinforcing film 60 increases the width of the arm portion 18 to increase the bending rigidity of the plurality of arm portions 18 in the width direction. The other configurations and processes correspond to those described in the above embodiment. Also in this modification, the vibration frequency can be adjusted by adjusting the width of the arm portion 18 and adjusting the bending rigidity. Furthermore, the bending rigidity in the width direction of the plurality of arm portions 18 may be adjusted by etching the reinforcing film 60.

(第2の実施の形態)
図6は、本発明の第2の実施の形態に係る音叉型振動片の製造方法を説明する図である。本実施の形態で用意する基材110では、第1の表面112に圧電積層体126が設けられているが、第2の表面114には圧電積層体は設けられていない点で、第1の実施の形態と異なる。本実施の形態でも、第1及び第2の側面113,115の少なくとも一方において、露出領域130をエッチングして、腕部118の幅を調整する。これにより、振動周波数を調整することができる。その他の構造及びプロセスについては、第1の実施の形態で説明した内容が該当する。
(Second Embodiment)
FIG. 6 is a diagram for explaining a method for manufacturing a tuning-fork type vibrating piece according to the second embodiment of the present invention. In the substrate 110 prepared in this embodiment, the piezoelectric laminate 126 is provided on the first surface 112, but the first surface 112 is not provided with the piezoelectric laminate 126. Different from the embodiment. Also in the present embodiment, the exposed region 130 is etched on at least one of the first and second side surfaces 113 and 115 to adjust the width of the arm portion 118. Thereby, the vibration frequency can be adjusted. The contents described in the first embodiment are applicable to other structures and processes.

変形例として、図7に示すように、第1又は第2の側面113,115に補強膜160を形成してもよい。その他の構造及びプロセスについては、第1の実施の形態の変形例で説明した内容が該当する。   As a modification, a reinforcing film 160 may be formed on the first or second side surfaces 113 and 115 as shown in FIG. For other structures and processes, the contents described in the modification of the first embodiment are applicable.

図8は、本発明の第2の実施の形態に係る音叉型振動子の動作を説明する断面図である。本実施の形態により製造される音叉型振動子は、上記プロセスから自明な構成を含む。   FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining the operation of the tuning fork vibrator according to the second embodiment of the present invention. The tuning fork vibrator manufactured according to the present embodiment includes a configuration that is obvious from the above process.

本実施の形態でも、上部電極膜124と下部電極膜120は、クロス配線によって交流電源に接続され、駆動電圧としての交番電圧が印加されるようになっている。ただし、第1の実施の形態とは異なり、第1の表面112にのみ圧電積層体126が設けられているので、腕部118の振動は、屈曲のみならず、ねじれ成分を含む。   Also in this embodiment, the upper electrode film 124 and the lower electrode film 120 are connected to an AC power supply by a cross wiring, and an alternating voltage as a drive voltage is applied. However, unlike the first embodiment, since the piezoelectric laminate 126 is provided only on the first surface 112, the vibration of the arm portion 118 includes not only a bend but also a twist component.

(第3の実施の形態)
図9及び図10は、本発明の第3の実施の形態に係る音叉型振動片の製造方法を説明する図である。本実施の形態で用意する基材310では、第1及び第2の表面312,314には表面電極膜320が形成され、第1及び第2の側面313,315に側面電極膜330が形成されている。本実施の形態では、基材310自体が圧電体(例えば水晶)である。
(Third embodiment)
9 and 10 are views for explaining a method for manufacturing a tuning-fork type resonator element according to the third embodiment of the invention. In the substrate 310 prepared in this embodiment, the surface electrode film 320 is formed on the first and second surfaces 312 and 314, and the side electrode film 330 is formed on the first and second side surfaces 313 and 315. ing. In the present embodiment, the substrate 310 itself is a piezoelectric body (for example, quartz).

そして、第1及び第2の側面313,315(正確には第1及び第2の側面313,315の上方であって側面電極膜330上)に補強膜360を形成する。その詳細は、第1の実施の形態の変形例で説明した通りである。補強膜360は、第1及び第2の表面312,314に付着してもよいが、図10の例では、基材310を、第1の表面312の側からスパッタリング又は蒸着により補強膜360を形成するため、台に対向する第2の表面314には補強膜360が形成されていない。本実施の形態でも、補強膜360をエッチングすることにより腕部318の幅を調整し、曲げ剛性を調整することによって振動周波数を調整することができる。   Then, a reinforcing film 360 is formed on the first and second side surfaces 313 and 315 (precisely above the first and second side surfaces 313 and 315 and on the side electrode film 330). The details are as described in the modification of the first embodiment. The reinforcing film 360 may be attached to the first and second surfaces 312 and 314. However, in the example of FIG. In order to form, the reinforcement film 360 is not formed in the 2nd surface 314 which opposes a stand. Also in this embodiment, the vibration frequency can be adjusted by adjusting the width of the arm portion 318 by etching the reinforcing film 360 and adjusting the bending rigidity.

図11は、本発明の第3の実施の形態に係る音叉型振動子の動作を説明する断面図である。本実施の形態により製造される音叉型振動子は、上記プロセスから自明な構成を含む。   FIG. 11 is a cross-sectional view for explaining the operation of the tuning fork vibrator according to the third embodiment of the present invention. The tuning fork vibrator manufactured according to the present embodiment includes a configuration that is obvious from the above process.

本実施の形態では、第1及び第2の表面312,314に形成された表面電極膜320と、第1及び第2の側面313,315に形成された側面電極膜330との間に電圧を印加する。印加電圧によって、図11に矢印で示すように電界が発生する。表面電極膜320及び側面電極膜330は、クロス配線によって交流電源に接続され、駆動電圧としての交番電圧が印加されるようになっている。これにより、腕部318は、互いに逆相振動となるように(腕部318の先端側が互いに接近・離間するように)励振されて屈曲振動する。また、基本モードで振動するように、駆動電圧としての交番電圧が調整されている。   In the present embodiment, a voltage is applied between the surface electrode film 320 formed on the first and second surfaces 312 and 314 and the side electrode film 330 formed on the first and second side surfaces 313 and 315. Apply. An electric field is generated by the applied voltage as shown by an arrow in FIG. The surface electrode film 320 and the side electrode film 330 are connected to an AC power supply by a cross wiring, and an alternating voltage as a drive voltage is applied. As a result, the arm portions 318 are excited and flexurally vibrated so that the vibrations are in reverse phase with each other (the tip sides of the arm portions 318 are close to and away from each other). Further, the alternating voltage as the drive voltage is adjusted so as to vibrate in the basic mode.

本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び結果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made. For example, the present invention includes configurations that are substantially the same as the configurations described in the embodiments (for example, configurations that have the same functions, methods, and results, or configurations that have the same purposes and results). In addition, the invention includes a configuration in which a non-essential part of the configuration described in the embodiment is replaced. In addition, the present invention includes a configuration that exhibits the same operational effects as the configuration described in the embodiment or a configuration that can achieve the same object. Further, the invention includes a configuration in which a known technique is added to the configuration described in the embodiment.

本発明の第1の実施の形態に係る音叉型振動片の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the tuning fork type vibration piece which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態に係る音叉型振動片の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the tuning fork type vibration piece which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態に係る方法で製造された音叉型振動片を使用した音叉型振動子の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the tuning fork type vibrator using the tuning fork type vibration piece manufactured by the method concerning a 1st embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施の形態に係る音叉型振動子の動作を説明する断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining the operation of the tuning fork vibrator according to the first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施の形態に係る音叉型振動片の製造方法の変形例を説明する図である。It is a figure explaining the modification of the manufacturing method of the tuning fork type vibration piece which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施の形態に係る音叉型振動片の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the tuning fork type vibration piece which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施の形態に係る音叉型振動片の製造方法の変形例を説明する図である。It is a figure explaining the modification of the manufacturing method of the tuning fork type vibration piece which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施の形態に係る音叉型振動子の動作を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining operation | movement of the tuning fork type vibrator according to the second embodiment of the present invention. 本発明の第3の実施の形態に係る音叉型振動片の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the tuning fork type vibration piece which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施の形態に係る音叉型振動片の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the tuning fork type vibration piece which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施の形態に係る音叉型振動子の動作を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining operation | movement of the tuning fork type | formula vibrator concerning the 3rd Embodiment of this invention. 腕部の曲げモーメントとたわみを表わす図である。It is a figure showing the bending moment and deflection of an arm part. 断面2次モーメントを説明する図である。It is a figure explaining a section secondary moment.

符号の説明Explanation of symbols

1…音叉型振動片、 10…基材、 12…第1の表面、 13…第1の側面、 14…第2の表面、 15…第2の側面、 16…基部、 18…腕部、 20…下部電極膜、 22…圧電膜、 24…上部電極膜、 26…圧電積層体、 28…錘金属膜、 30…露出領域、 32…パッケージ、 34…底部、 36…枠壁部、 38…通気孔、 40…固定電極、 42…外部端子、 44…リング、 46…接合部材、 48…蓋、 50…貫通穴、 52…光透過性部材、 54…ロウ材、 60…補強膜、 110…基材、 112…第1の表面、 113…第1の側面、 114…第2の表面、 115…第2の側面、 118…腕部、 120…下部電極膜、 124…上部電極膜、 126…圧電積層体、 130…露出領域、 160…補強膜、 310…基材、 312…第1の表面、 313…第1の側面、 314…第2の表面、 315…第2の側面、 318…腕部、 320…表面電極膜、 330…側面電極膜、 360…補強膜   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Tuning fork type vibration piece, 10 ... Base material, 12 ... 1st surface, 13 ... 1st side surface, 14 ... 2nd surface, 15 ... 2nd side surface, 16 ... Base part, 18 ... Arm part, 20 ... Lower electrode film, 22 ... Piezoelectric film, 24 ... Upper electrode film, 26 ... Piezoelectric laminate, 28 ... Weight metal film, 30 ... Exposed region, 32 ... Package, 34 ... Bottom, 36 ... Frame wall, 38 ... Through Pore, 40 ... fixed electrode, 42 ... external terminal, 44 ... ring, 46 ... joining member, 48 ... lid, 50 ... through hole, 52 ... light transmissive member, 54 ... brazing material, 60 ... reinforcing film, 110 ... base Material: 112: First surface 113: First side 114: Second surface 115: Second side 118: Arm part 120: Lower electrode film 124: Upper electrode film 126: Piezoelectric Laminated body 130 ... exposed area 160 ... reinforcement 310 ... Base material, 312 ... First surface, 313 ... First side, 314 ... Second surface, 315 ... Second side, 318 ... Arm part, 320 ... Surface electrode film, 330 ... Side electrode film 360 ... Reinforcing membrane

Claims (5)

基部及び前記基部から前記基部の厚み方向に交差する方向に並んで延びる複数の腕部を含む基材であって、それぞれの前記腕部は、隣の前記腕部に対向する第1の側面及び前記第1の側面とは反対側を向く第2の側面を有し、前記第1及び第2の側面の少なくとも一方が露出している露出領域を有する基材を用意し、
前記露出領域をエッチングする工程を含み、
前記エッチングによって前記腕部の幅を減らして、前記複数の腕部の前記幅方向に関する曲げ剛性を低くする音叉型振動片の製造方法。
A base including a base and a plurality of arms extending side by side in a direction intersecting a thickness direction of the base from the base, each arm being a first side surface facing the adjacent arm and Providing a base material having a second side surface facing away from the first side surface and having an exposed region in which at least one of the first and second side surfaces is exposed;
Etching the exposed region,
A method for manufacturing a tuning-fork type vibrating piece in which the width of the arm portion is reduced by the etching to lower the bending rigidity of the plurality of arm portions in the width direction.
基部及び前記基部から前記基部の厚み方向に交差する方向に並んで延びる複数の腕部を含む基材であって、それぞれの前記腕部は、隣の前記腕部に対向する第1の側面及び前記第1の側面とは反対側を向く第2の側面を有する基材を用意し、
前記第1又は第2の側面に補強膜を形成する工程を含み、
前記補強膜によって、前記複数の腕部の前記幅方向に関する曲げ剛性を高くする音叉型振動片の製造方法。
A base including a base and a plurality of arms extending side by side in a direction intersecting a thickness direction of the base from the base, each arm being a first side surface facing the adjacent arm; and Providing a substrate having a second side facing away from the first side;
Forming a reinforcing film on the first or second side surface,
A method for manufacturing a tuning-fork type vibrating piece in which bending strength in the width direction of the plurality of arm portions is increased by the reinforcing film.
請求項1又は2に記載された音叉型振動片の製造方法において、
前記複数の腕部の厚みを定義し相互に反対方向を向く第1及び第2の表面の少なくとも一方の表面に、
下部電極膜を形成する工程と、
圧電膜を形成する工程と、
上部電極膜を形成する工程と、
をさらに有し、
前記下部電極膜と前記上部電極膜とに前記圧電膜が挟まれた第1及び第2の圧電積層体が形成され、前記第1の圧電積層体の前記下部電極膜と前記第2の圧電積層体の前記上部電極膜とが接続され、前記第1の圧電積層体の前記上部電極膜と前記第2の圧電積層体の前記下部電極膜とが接続される音叉型振動片の製造方法。
In the manufacturing method of the tuning fork type resonator element according to claim 1 or 2,
At least one of the first and second surfaces defining the thickness of the plurality of arms and facing in opposite directions,
Forming a lower electrode film;
Forming a piezoelectric film;
Forming an upper electrode film;
Further comprising
First and second piezoelectric laminates in which the piezoelectric film is sandwiched between the lower electrode film and the upper electrode film are formed, and the lower electrode film and the second piezoelectric laminate of the first piezoelectric laminate are formed. A method for producing a tuning fork type resonator element, wherein the upper electrode film of the body is connected, and the upper electrode film of the first piezoelectric laminate and the lower electrode film of the second piezoelectric laminate are connected.
基部及び前記基部から前記基部の厚み方向に交差する方向に並んで延びる複数の腕部を含み、かつ、圧電性を有する基材であって、それぞれの前記腕部は、隣の前記腕部に対向する第1の側面及び前記第1の側面とは反対側を向く第2の側面を有する基材を用意し、
前記第1及び第2の側面と、前記複数の腕部の厚みを定義し相互に反対方向を向く第1及び第2の表面と、表面電極膜を形成する工程と、
前記第1及び第2の側面に補強膜を形成する工程と、
を有する音叉型振動片の製造方法。
A base and a plurality of arms extending side by side in a direction intersecting the thickness direction of the base from the base, and a base material having piezoelectricity, and each of the arms is adjacent to the adjacent arm Providing a base material having a first side surface and a second side surface facing the opposite side of the first side surface;
Forming first and second side surfaces, first and second surfaces defining thicknesses of the plurality of arm portions and facing opposite directions, and a surface electrode film;
Forming a reinforcing film on the first and second side surfaces;
A method for manufacturing a tuning-fork type vibrating piece having
請求項4に記載された音叉型振動片の製造方法において、
前記第1及び第2の側面に形成された前記補強膜をエッチングすることにより、前記複数の腕部の前記幅方向に関する曲げ剛性を調整する工程を有する音叉型振動片の製造方法。
In the manufacturing method of the tuning fork type vibration piece according to claim 4,
A method for manufacturing a tuning fork type resonator element, comprising: adjusting a bending rigidity of the plurality of arm portions in the width direction by etching the reinforcing film formed on the first and second side surfaces.
JP2008086872A 2008-03-28 2008-03-28 Method of manufacturing tuning fork vibration reed Withdrawn JP2009239859A (en)

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