JP2009232376A - Method of manufacturing piezoelectric oscillator - Google Patents

Method of manufacturing piezoelectric oscillator Download PDF

Info

Publication number
JP2009232376A
JP2009232376A JP2008077995A JP2008077995A JP2009232376A JP 2009232376 A JP2009232376 A JP 2009232376A JP 2008077995 A JP2008077995 A JP 2008077995A JP 2008077995 A JP2008077995 A JP 2008077995A JP 2009232376 A JP2009232376 A JP 2009232376A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal film
package
piezoelectric
manufacturing
piezoelectric vibrator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008077995A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009232376A5 (en
JP5170405B2 (en
Inventor
Hideo Endo
秀男 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Miyazaki Epson Corp
Original Assignee
Miyazaki Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Miyazaki Epson Corp filed Critical Miyazaki Epson Corp
Priority to JP2008077995A priority Critical patent/JP5170405B2/en
Publication of JP2009232376A publication Critical patent/JP2009232376A/en
Publication of JP2009232376A5 publication Critical patent/JP2009232376A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5170405B2 publication Critical patent/JP5170405B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a piezoelectric oscillator capable of minimizing frequency variation. <P>SOLUTION: A piezoelectric oscillating piece 10, which includes an oscillating arm 16 and in which a metal film 34 and an exciting electrode film 24 are formed in the oscillating arm 16, is prepared. By forming ruggedness on the metal film 34 using a laser beam, a surface area of the metal film 34 is enlarged. The piezoelectric oscillating piece 10 is mounted in a package 40 thereafter. The metal film 34 is etched by an ion beam thereafter. An internal space of the package 40 is air-tightly sealed thereafter. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、圧電振動子の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a piezoelectric vibrator.

従来、圧電振動片の振動腕の先端に金属膜からなる錘を形成し、金属膜をレーザービームによって蒸発させることで振動腕の重さを調整して周波数を調整することが知られている(特許文献1)が、蒸発した金属材料が再付着するという問題があり、部品の汚染や特性の変動をもたらすおそれがあった。また、完成した圧電振動子が高温下にさらされると、再付着した金属材料が蒸発して周波数変化が生じる可能性があった。ここで、レーザービームによる周波数粗調整後に、圧電振動片をパッケージに取り付けた後、金属膜をイオンビームエッチングによって除去して周波数微調整を行う製造方法が考えられる。しかし、イオンビームエッチングによる周波数調整レートは低いため、イオンビームエッチングの所要時間が長くなる。あるいは、圧電振動片をパッケージに取り付けた後、イオンビームエッチング前にレーザービームによる周波数微調整工程をさらに設ける必要があった。
特開2003−133879号公報
Conventionally, it is known that a weight made of a metal film is formed at the tip of a vibrating arm of a piezoelectric vibrating piece, and the frequency is adjusted by adjusting the weight of the vibrating arm by evaporating the metal film with a laser beam ( However, Patent Document 1) has a problem that the evaporated metal material is reattached, which may cause contamination of components and fluctuation of characteristics. Further, when the completed piezoelectric vibrator is exposed to a high temperature, the reattached metal material may evaporate and a frequency change may occur. Here, a manufacturing method is considered in which after the frequency coarse adjustment by the laser beam, the piezoelectric vibrating piece is attached to the package, and then the metal film is removed by ion beam etching to finely adjust the frequency. However, since the frequency adjustment rate by ion beam etching is low, the time required for ion beam etching becomes long. Alternatively, after the piezoelectric vibrating piece is attached to the package, it is necessary to further provide a frequency fine adjustment step using a laser beam before ion beam etching.
JP 2003-133879 A

本発明は、周波数変化を最小にとどめることができる圧電振動子の製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a piezoelectric vibrator capable of minimizing frequency changes.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
[適用例1]本適用例に係る圧電振動子の製造方法は、
(a)振動腕を有し、前記振動腕に金属膜及び励振電極膜が形成された圧電振動片を用意する工程と、
(b)前記金属膜にレーザービームで凹凸を形成することで、前記金属膜の表面積を拡大する工程と、
(c)前記(b)工程後に、前記圧電振動片をパッケージに取り付ける工程と、
(d)前記(c)工程後に、前記金属膜を、イオンビームによってエッチングする工程と、
(e)前記(d)工程後に、前記パッケージの内部空間を気密に封止する工程と、
を含む。本発明によれば、圧電振動片をパッケージに取り付けてからイオンビームで金属膜をエッチングするので、レーザービームで蒸発して再付着した金属材料を除去することができる。また、イオンビームによって周波数の微調整が可能になる。さらに、レーザービームで金属膜に凹凸を形成するので、イオンビームが照射される面積が大きくなって、イオンビームによるエッチング時間を短縮することができる。
[適用例2]本適用例に係る圧電振動子の製造方法において、
前記(a)工程で、複数の前記圧電振動片を、相互に連結された状態で用意し、
前記(b)工程を、相互に連結された複数の前記圧電振動片に対して行い、
前記(b)工程後、前記(c)工程前に、複数の前記圧電振動片を個片に切断する工程をさらに含み、
前記(c)工程で、個片の前記圧電振動片を前記パッケージに取り付ける。
[適用例3]本適用例に係る圧電振動子の製造方法において、
前記(b)工程で、前記レーザービームで前記金属膜の材料を蒸発させて凹部を形成し、蒸発した前記材料を前記金属膜に再付着させて凸部を形成する。
[適用例4]本適用例に係る圧電振動子の製造方法において、
前記(d)工程で、前記イオンビームを、マスクを介して、前記金属膜に照射する。
[適用例5]本適用例に係る圧電振動子の製造方法において、
前記パッケージは、開口及び貫通穴を有し、
前記(c)工程で、前記開口から前記圧電振動片を前記パッケージに取り付け、前記開口に蓋を取り付け、
前記(d)工程で、前記イオンビームを、前記貫通穴を介して、前記金属膜に照射し、
前記(e)工程で、前記貫通穴を塞ぐ。
[適用例6]本適用例に係る圧電振動子の製造方法において、
前記パッケージは、開口を有し、
前記(c)工程で、前記開口から前記圧電振動片を前記パッケージに取り付け、前記開口に蓋を取り付け、
前記蓋は、貫通穴を有し、
前記(d)工程で、前記イオンビームを、前記貫通穴を介して、前記金属膜に照射し、
前記(e)工程で、前記貫通穴を塞ぐ。
SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.
[Application Example 1] A method of manufacturing a piezoelectric vibrator according to this application example is as follows:
(A) preparing a piezoelectric vibrating piece having a vibrating arm and having a metal film and an excitation electrode film formed on the vibrating arm;
(B) expanding the surface area of the metal film by forming irregularities on the metal film with a laser beam;
(C) After the step (b), attaching the piezoelectric vibrating piece to a package;
(D) After the step (c), the step of etching the metal film with an ion beam;
(E) after the step (d), hermetically sealing the internal space of the package;
including. According to the present invention, since the metal film is etched by the ion beam after the piezoelectric vibrating piece is attached to the package, the metal material evaporated and reattached by the laser beam can be removed. Further, the frequency can be finely adjusted by the ion beam. Furthermore, since the unevenness is formed on the metal film with the laser beam, the area irradiated with the ion beam is increased, and the etching time by the ion beam can be shortened.
[Application Example 2] In the method of manufacturing a piezoelectric vibrator according to this application example,
In the step (a), a plurality of the piezoelectric vibrating pieces are prepared in a mutually connected state,
Performing the step (b) on a plurality of the piezoelectric vibrating pieces connected to each other;
After the step (b) and before the step (c), the method further includes a step of cutting the plurality of piezoelectric vibrating pieces into individual pieces,
In the step (c), the piece of the piezoelectric vibrating piece is attached to the package.
[Application Example 3] In the method of manufacturing a piezoelectric vibrator according to this application example,
In the step (b), the material of the metal film is evaporated by the laser beam to form a concave portion, and the evaporated material is reattached to the metal film to form a convex portion.
Application Example 4 In the method for manufacturing a piezoelectric vibrator according to the application example,
In the step (d), the metal film is irradiated with the ion beam through a mask.
Application Example 5 In the method for manufacturing a piezoelectric vibrator according to this application example,
The package has an opening and a through hole;
In the step (c), the piezoelectric vibrating piece is attached to the package from the opening, and a lid is attached to the opening.
In the step (d), the ion beam is irradiated to the metal film through the through hole,
In the step (e), the through hole is closed.
Application Example 6 In the method for manufacturing a piezoelectric vibrator according to the application example,
The package has an opening;
In the step (c), the piezoelectric vibrating piece is attached to the package from the opening, and a lid is attached to the opening.
The lid has a through hole;
In the step (d), the ion beam is irradiated to the metal film through the through hole,
In the step (e), the through hole is closed.

(第1の実施の形態)
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法で用意する圧電振動片の集合体の一部を示す平面図である。図2は、図1に示す圧電振動片のII−II線断面図である。図3は、図1に示す圧電振動片のIII−III線断面の一部を示す図である。図4〜7は、本発明の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法を説明する図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is a plan view showing a part of an assembly of piezoelectric vibrating reeds prepared by the method for manufacturing a piezoelectric vibrator according to the first embodiment of the present invention. 2 is a cross-sectional view of the piezoelectric vibrating piece shown in FIG. 1 taken along the line II-II. FIG. 3 is a view showing a part of a cross section taken along line III-III of the piezoelectric vibrating piece shown in FIG. 4-7 is a figure explaining the manufacturing method of the piezoelectric vibrator which concerns on embodiment of this invention.

図1には、1つの圧電振動片10が示されているが、本実施の形態では、複数の圧電振動片10の集合体を用意する。集合体は、圧電材料(水晶、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム等)からなる。集合体は、複数の圧電振動片10の連結部12を有する。   Although one piezoelectric vibrating piece 10 is shown in FIG. 1, in this embodiment, an assembly of a plurality of piezoelectric vibrating pieces 10 is prepared. The aggregate is made of a piezoelectric material (crystal, lithium tantalate, lithium niobate, etc.). The assembly has a connecting portion 12 of a plurality of piezoelectric vibrating pieces 10.

圧電振動片10は、基部14と、基部14から延びる振動腕16と、を含む。図1に示す圧電振動片10は、一対の振動腕16を有するが、1本の振動腕だけを有していてもよいし、3本以上の振動腕を有していてもよい。振動腕16には、表裏面に、長手方向に延びる溝18(図8参照)がそれぞれ形成されていてもよい。溝18によって振動腕16が動きやすくなって効率的に振動するのでCI値を下げることができる。   The piezoelectric vibrating piece 10 includes a base portion 14 and a vibrating arm 16 extending from the base portion 14. The piezoelectric vibrating piece 10 illustrated in FIG. 1 includes a pair of vibrating arms 16, but may include only one vibrating arm or may include three or more vibrating arms. The vibrating arm 16 may be formed with grooves 18 (see FIG. 8) extending in the longitudinal direction on the front and back surfaces. Since the vibrating arm 16 is easily moved by the groove 18 and vibrates efficiently, the CI value can be lowered.

圧電振動片10は、一対の支持腕20を有してもよい。一対の支持腕20は、基部14から振動腕16が延びる方向とは交差方向であってそれぞれ相互に反対方向に延び、基部14から振動腕16が延びる方向に屈曲してさらに延びる。屈曲することで、支持腕20は小型化される。支持腕20は、パッケージ40(後述)に取り付けられる部分であり、支持腕20での取り付けによって、振動腕16及び基部14は浮いた状態になる。   The piezoelectric vibrating piece 10 may have a pair of support arms 20. The pair of support arms 20 extend in directions opposite to the direction in which the vibrating arm 16 extends from the base portion 14 and extend in directions opposite to each other, and further bend and extend in the direction in which the vibrating arm 16 extends from the base portion 14. By bending, the support arm 20 is reduced in size. The support arm 20 is a part attached to a package 40 (described later), and the attachment of the support arm 20 causes the vibrating arm 16 and the base 14 to be in a floating state.

基部14には、振動腕16の表裏面と同じ側の面に括れた形状が表れるように、相互に対向方向に一対の切り込み22が形成されている。一対の切り込み22は、それぞれ、一対の支持腕20が基部14から延びて屈曲する方向の側で一対の支持腕20に隣接して基部14に形成されている。切り込み22によって、振動腕16の振動の伝達が遮断されるので、振動が基部14や支持腕20を介して外部に伝わること(振動漏れ)を抑制し、CI値の上昇を防止することができる。切り込み22の長さ(深さ)は、基部14の強度を確保できる範囲で長い(深い)ほど、振動漏れ抑制効果は大きい。   A pair of cuts 22 are formed in the base 14 so as to face each other so that a shape confined to the surface on the same side as the front and back surfaces of the vibrating arm 16 appears. The pair of cuts 22 is formed in the base portion 14 adjacent to the pair of support arms 20 on the side where the pair of support arms 20 extends from the base portion 14 and bends. Since the transmission of the vibration of the vibrating arm 16 is blocked by the notch 22, it is possible to suppress the vibration from being transmitted to the outside (vibration leakage) via the base portion 14 and the support arm 20, and to prevent the CI value from increasing. . As the length (depth) of the notch 22 is longer (deeper) within a range in which the strength of the base portion 14 can be secured, the vibration leakage suppressing effect is larger.

振動腕16には、励振電極膜24が形成されている。励振電極膜24は、下地のCr膜とその上に形成されたAu膜を含む多層構造であってもよい。Cr膜は水晶との密着性が高く、Au膜は電気抵抗が低く酸化し難い。励振電極膜24によって、第1及び第2の励振電極26,28が構成される。   An excitation electrode film 24 is formed on the vibrating arm 16. The excitation electrode film 24 may have a multilayer structure including a base Cr film and an Au film formed thereon. The Cr film has high adhesion to the crystal, and the Au film has low electrical resistance and is difficult to oxidize. The excitation electrode film 24 constitutes first and second excitation electrodes 26 and 28.

第1の励振電極26は、溝18に形成されている。表裏面の一方(例えば表面)の溝18に形成された第1の励振電極26と、表裏面の他方(例えば裏面)の溝18に形成された第1の励振電極26とは電気的に接続されている。すなわち、表裏面それぞれに形成された一対の第1の励振電極26は電気的に接続されている。また、一方の振動腕16に形成された一対の第1の励振電極26は、基部14上の表裏面それぞれに形成された引き出し電極30に接続されている。これらの引き出し電極30は、他方の振動腕16の第2の励振電極28に接続されることで電気的に接続される。   The first excitation electrode 26 is formed in the groove 18. The first excitation electrode 26 formed in the groove 18 on one side (for example, the front surface) of the front and back surfaces is electrically connected to the first excitation electrode 26 formed in the groove 18 on the other side (for example, the back surface) of the front and back surfaces. Has been. That is, the pair of first excitation electrodes 26 formed on the front and back surfaces are electrically connected. The pair of first excitation electrodes 26 formed on one vibrating arm 16 is connected to extraction electrodes 30 formed on the front and back surfaces on the base portion 14. These lead electrodes 30 are electrically connected by being connected to the second excitation electrode 28 of the other vibrating arm 16.

第2の励振電極28は、振動腕16の側面(表裏面に接続する面)に形成されている。振動腕16の相互に反対を向く両側面に形成された第2の励振電極28は電気的に接続されている。その電気的接続は、振動腕16の溝18が形成されていない部分において、表裏面の少なくとも一方(あるいは両方)上に形成された接続電極32によってなされている。   The second excitation electrode 28 is formed on the side surface (surface connected to the front and back surfaces) of the vibrating arm 16. The second excitation electrodes 28 formed on both side surfaces of the vibrating arm 16 facing away from each other are electrically connected. The electrical connection is made by a connection electrode 32 formed on at least one (or both) of the front and back surfaces of the vibrating arm 16 where the groove 18 is not formed.

一方の振動腕16に形成された第1の励振電極26と、他方の振動腕16に形成された第2の励振電極28と、は基部14上の引き出し電極30で電気的に接続されている。引き出し電極30は、第2の励振電極28が形成される振動腕16の隣に並ぶ支持腕20上に至るまで形成されている。引き出し電極30は、支持腕20の表裏面(あるいはさらに側面)に形成されている。支持腕20上で、引き出し電極30を外部との電気的接続部にすることができる。   The first excitation electrode 26 formed on one vibrating arm 16 and the second excitation electrode 28 formed on the other vibrating arm 16 are electrically connected by a lead electrode 30 on the base 14. . The extraction electrode 30 is formed up to the support arm 20 arranged next to the vibrating arm 16 where the second excitation electrode 28 is formed. The extraction electrode 30 is formed on the front and back surfaces (or further side surfaces) of the support arm 20. On the support arm 20, the extraction electrode 30 can be used as an electrical connection portion with the outside.

振動腕16には、表裏面の少なくとも一方(詳しくはその先端部)上に、金属膜34が形成されている。金属膜34は、Au、Ag、Alなどから形成する。金属膜34は、振動腕16を構成する材料の面に直接形成されている。金属膜34は、励振電極膜24を避けて(非接触で)形成されている。金属膜34は、振動腕16の錘の役割を果たしており、その一部を除去することで錘の重さを調整することができる。錘が重いほど振動腕16の振動周波数が小さくなり、軽いほど振動腕16の振動周波数が大きくなる。これを利用して周波数調整を行うことができる。   On the vibrating arm 16, a metal film 34 is formed on at least one of the front and back surfaces (specifically, the tip portion). The metal film 34 is made of Au, Ag, Al or the like. The metal film 34 is directly formed on the surface of the material constituting the vibrating arm 16. The metal film 34 is formed avoiding the excitation electrode film 24 (in a non-contact manner). The metal film 34 plays the role of a weight of the vibrating arm 16, and the weight of the weight can be adjusted by removing a part thereof. The heavier the weight, the lower the vibration frequency of the vibrating arm 16, and the lighter the vibration frequency of the vibrating arm 16 becomes. This can be used to adjust the frequency.

圧電振動子の製造方法は、上述した圧電振動片10の形成プロセスを含んでもよい。圧電振動片10は、その構成材料のウエハから形成する。例えば、圧電振動片10を水晶から構成する場合、水晶ウエハは、X軸、Y軸及びZ軸からなる直交座標系において、Z軸を中心に時計回りに0度ないし5度の範囲で回転して切り出した水晶Z板であって所定の厚みに切断研磨して得られるものを用いる。1つのウエハから複数の圧電振動片10を連結された状態で切り出す。また、圧電振動片10には、励振電極膜24及び金属膜34を形成する。   The method for manufacturing the piezoelectric vibrator may include the process of forming the piezoelectric vibrating piece 10 described above. The piezoelectric vibrating piece 10 is formed from a wafer of the constituent material. For example, when the piezoelectric vibrating piece 10 is made of quartz, the quartz wafer rotates in the range of 0 to 5 degrees clockwise around the Z axis in an orthogonal coordinate system composed of the X, Y, and Z axes. A crystal Z plate cut out by cutting and polishing to a predetermined thickness is used. A plurality of piezoelectric vibrating pieces 10 are cut out from one wafer in a connected state. Further, the excitation electrode film 24 and the metal film 34 are formed on the piezoelectric vibrating piece 10.

図2及び図3に示すように、本実施の形態では、レーザービームで金属膜34の材料を蒸発させて凹部36を形成する。凹部36は、さらに進行させて貫通穴にしてもよい。レーザービームによって、金属膜34の一部を除去する(凹部36を形成する)ことで、振動腕16を軽くして振動しやすくし、周波数調整を行うことできる。なお、金属膜34に対して行う周波数調整プロセスは、おおまかな調整を目的としたもので粗調整ということができる。   As shown in FIGS. 2 and 3, in the present embodiment, the material of the metal film 34 is evaporated with a laser beam to form the recess 36. The recess 36 may be further advanced to form a through hole. By removing a part of the metal film 34 with the laser beam (forming the recess 36), the vibrating arm 16 can be lightened and easily vibrated, and the frequency can be adjusted. The frequency adjustment process performed on the metal film 34 is intended for rough adjustment, and can be called rough adjustment.

また、凹部36の形成時に蒸発した材料を金属膜34に再付着させて凸部38を形成する。凹部36及び凸部38の形成により、金属膜34に凹凸を形成し、金属膜34の表面積を拡大させる。この工程は、相互に連結された複数の圧電振動片10に対して同時に行う。凸部38は凹部36の周囲に形成される。したがって、図2における凸部38の輪郭(点線)はII−II線断面から±Y軸方向にずれている。同様に、図3における凸部の輪郭(点線)はIII−III線断面から±X軸方向にずれている。   Further, the material evaporated during the formation of the concave portion 36 is reattached to the metal film 34 to form the convex portion 38. By forming the concave portions 36 and the convex portions 38, the metal film 34 is formed with irregularities, and the surface area of the metal film 34 is increased. This step is performed simultaneously on the plurality of piezoelectric vibrating pieces 10 connected to each other. The convex portion 38 is formed around the concave portion 36. Therefore, the contour (dotted line) of the convex portion 38 in FIG. 2 is deviated in the ± Y-axis direction from the section taken along the line II-II. Similarly, the contour (dotted line) of the convex portion in FIG. 3 is deviated in the ± X axis direction from the section taken along the line III-III.

図4に示すように、複数の圧電振動片10を個片に切断する。例えば、連結部12を切断する。この工程は、上述したレーザービーム加工を行った後に行う。   As shown in FIG. 4, the plurality of piezoelectric vibrating pieces 10 are cut into individual pieces. For example, the connecting part 12 is cut. This step is performed after the laser beam processing described above is performed.

図5に示すように、個片の圧電振動片10をパッケージ40に取り付ける。パッケージ40は、圧電振動片10が固定される底部42と、底部42を囲む枠壁部44と、を含み、枠壁部44の内側が開口になっている。圧電振動片10は底部42に固定する。   As shown in FIG. 5, the individual piezoelectric vibrating piece 10 is attached to the package 40. The package 40 includes a bottom portion 42 to which the piezoelectric vibrating piece 10 is fixed and a frame wall portion 44 surrounding the bottom portion 42, and the inside of the frame wall portion 44 is an opening. The piezoelectric vibrating piece 10 is fixed to the bottom portion 42.

図6に示すように、金属膜34を、イオンビームによってエッチングする。イオンとしてアルゴンイオンを使用してもよい。イオンビームは、マスク43を介して、金属膜34に照射する。マスク43を使用することで、イオンビームが励振電極膜24に照射されるのを防ぐ。   As shown in FIG. 6, the metal film 34 is etched by an ion beam. Argon ions may be used as ions. The ion beam is applied to the metal film 34 through the mask 43. By using the mask 43, the excitation electrode film 24 is prevented from being irradiated with the ion beam.

本実施の形態によれば、圧電振動片10をパッケージ40に取り付けてからイオンビームで金属膜34をエッチングするので、レーザービームで蒸発して再付着した金属材料を除去することができる。また、イオンビームによって周波数の微調整が可能になる。さらに、レーザービームで先に金属膜34に凹凸を形成しておくので、金属膜34の、イオンビームが照射される面積が大きくなって、イオンビームによるエッチング時間を短縮することができる。   According to the present embodiment, since the metal film 34 is etched by the ion beam after the piezoelectric vibrating piece 10 is attached to the package 40, the metal material evaporated and reattached by the laser beam can be removed. Further, the frequency can be finely adjusted by the ion beam. Furthermore, since the metal film 34 is first formed with irregularities by the laser beam, the area of the metal film 34 irradiated with the ion beam is increased, and the etching time by the ion beam can be shortened.

図7に示すように、パッケージ40の内部空間を気密に封止する。例えば、パッケージ40の枠壁部44と蓋46を、シーム溶接によって接合する。こうして、パッケージ40の開口を蓋46によって塞ぐ。パッケージ40の開口を蓋46によって塞いだ後に、パッケージ40に形成された貫通穴48を介して、蓋46によって塞がれたパッケージ40内を真空にし、その後、ロウ材50で貫通穴48を塞ぐ。   As shown in FIG. 7, the internal space of the package 40 is hermetically sealed. For example, the frame wall 44 and the lid 46 of the package 40 are joined by seam welding. Thus, the opening of the package 40 is closed by the lid 46. After the opening of the package 40 is closed by the lid 46, the inside of the package 40 closed by the lid 46 is evacuated through the through hole 48 formed in the package 40, and then the through hole 48 is closed by the brazing material 50. .

図7は、本発明の実施の形態に係る方法で製造された圧電振動子を示す図でもある。圧電振動子に組み込まれた圧電振動片10では、金属膜34に凹部36が形成されている。凹部36が貫通穴であって振動腕16の表裏面が露出していてもよい。   FIG. 7 is also a diagram showing the piezoelectric vibrator manufactured by the method according to the embodiment of the present invention. In the piezoelectric vibrating piece 10 incorporated in the piezoelectric vibrator, a recess 36 is formed in the metal film 34. The recess 36 may be a through hole, and the front and back surfaces of the vibrating arm 16 may be exposed.

圧電振動子は、パッケージ40を有する。パッケージ40は、圧電振動片10が固定される底部42と、底部42を囲む枠壁部44と、を含む。底部42には、真空引きを行うための貫通穴48が形成され、貫通穴48は、ロウ材50(AuGe等)で塞がれている。   The piezoelectric vibrator has a package 40. The package 40 includes a bottom portion 42 to which the piezoelectric vibrating piece 10 is fixed, and a frame wall portion 44 surrounding the bottom portion 42. A through hole 48 for evacuation is formed in the bottom portion 42, and the through hole 48 is closed with a brazing material 50 (AuGe or the like).

パッケージ40の底部42に圧電振動片10が固定されている。支持腕20が底部42に固定されて、振動腕16がパッケージ40から浮いた状態になっている。底部42は、振動腕16の先端部と対向する領域が低くなっており、振動腕16が曲がっても底部42に接触し難いようになっている。導電性接着剤52を使用して、支持腕20上の引き出し電極30(図1参照)と、底部42に形成された配線54と、が電気的に接続されている。配線54は、パッケージ40の底面の外部電極56に電気的に接続されている。なお、圧電振動片10は2つの支持腕20を有し、パッケージ40には2つの外部電極56が形成され、一方の支持腕20上の引き出し電極30が一方の外部電極56に電気的に接続され、他方の支持腕20上の引き出し電極30が他方の外部電極56に電気的に接続されている。外部電極56は、ハンダによって、電気的に接続されて回路基板(図示せず)に実装される。   The piezoelectric vibrating piece 10 is fixed to the bottom 42 of the package 40. The support arm 20 is fixed to the bottom portion 42, and the vibrating arm 16 is lifted from the package 40. The bottom 42 has a low area facing the tip of the vibrating arm 16 so that the bottom 42 is difficult to contact the bottom 42 even if the vibrating arm 16 is bent. Using the conductive adhesive 52, the lead electrode 30 (see FIG. 1) on the support arm 20 and the wiring 54 formed on the bottom 42 are electrically connected. The wiring 54 is electrically connected to the external electrode 56 on the bottom surface of the package 40. The piezoelectric vibrating piece 10 has two support arms 20, two external electrodes 56 are formed on the package 40, and the lead electrode 30 on one support arm 20 is electrically connected to one external electrode 56. The lead electrode 30 on the other support arm 20 is electrically connected to the other external electrode 56. The external electrode 56 is electrically connected by solder and mounted on a circuit board (not shown).

パッケージ40は、その全体を金属で形成してもよいが、主としてセラミックス等の非金属で形成する場合には、枠壁部44の上端面はメタライズされている。例えば、枠壁部44の非金属部上に、Mo(又はW)膜、Ni膜及びAu膜が順に積層されて、上端面はAuからなる。上端面は、底部42の上方を囲む形状をなしている。   The package 40 may be entirely formed of metal, but when it is mainly formed of nonmetal such as ceramics, the upper end surface of the frame wall portion 44 is metallized. For example, a Mo (or W) film, a Ni film, and an Au film are sequentially laminated on the non-metal part of the frame wall part 44, and the upper end surface is made of Au. The upper end surface has a shape surrounding the bottom 42.

図8は、本実施の形態に係る圧電振動片の動作を説明する図である。本実施の形態では、振動腕16の一方の側端を伸ばし、他方の側端を縮ませて振動腕16を屈曲させて振動させる。詳しくは、一方の振動腕16の第1及び第2の励振電極26,28に電圧を印加し、他方の振動腕16の第1及び第2の励振電極26,28に電圧を印加する。ここで、一方(左側)の振動腕16の第1の励振電極26と他方(右側)の振動腕16の第2の励振電極28が同じ電位(図8の例では+電位)となり、一方(左側)の振動腕16の第2の励振電極28と他方(右側)の振動腕16の第1の励振電極26が同じ電位(図8の例では−電位)となるように、第1の励振電極26及び第2の励振電極28は、クロス配線によって交流電源に接続され、駆動電圧としての交番電圧が印加されるようになっている。印加電圧によって、図8に矢印で示すように電界が発生し、これにより、振動腕16は、互いに逆相振動となるように(振動腕16の先端側が互いに接近・離間するように)励振されて屈曲振動する。また、基本モードで振動するように交番電圧が調整されている。   FIG. 8 is a diagram for explaining the operation of the piezoelectric vibrating piece according to the present embodiment. In the present embodiment, one side end of the vibrating arm 16 is extended and the other side end is contracted to bend and vibrate the vibrating arm 16. Specifically, a voltage is applied to the first and second excitation electrodes 26 and 28 of one vibrating arm 16, and a voltage is applied to the first and second excitation electrodes 26 and 28 of the other vibrating arm 16. Here, the first excitation electrode 26 of one (left side) vibrating arm 16 and the second excitation electrode 28 of the other (right side) vibrating arm 16 have the same potential (+ potential in the example of FIG. 8), and one ( The first excitation electrode 28 is set so that the second excitation electrode 28 of the left vibration arm 16 and the first excitation electrode 26 of the other (right) vibration arm 16 have the same potential (-potential in the example of FIG. 8). The electrode 26 and the second excitation electrode 28 are connected to an AC power supply by a cross wiring, and an alternating voltage as a drive voltage is applied. An electric field is generated by the applied voltage as shown by an arrow in FIG. 8, whereby the vibrating arms 16 are excited so as to be in reverse-phase vibration with each other (so that the distal ends of the vibrating arms 16 approach and separate from each other). Bends and vibrates. The alternating voltage is adjusted so as to vibrate in the basic mode.

上述した圧電振動子を使用して、発振器又はセンサを構成することができる。圧電振動子を含む発振回路で発振器を構成すると、周波数精度の高い交流信号を得ることができる。また、圧電振動子を使用したセンサは、物理量に応じて圧電振動片10の周波数が変動することを利用してその物理量を検出するセンサである。例えば、温度、加速度によって発生する応力、角速度によって発生するコリオリ力などを検出するセンサが例に挙げられる。   An oscillator or a sensor can be configured using the piezoelectric vibrator described above. When an oscillator is constituted by an oscillation circuit including a piezoelectric vibrator, an AC signal with high frequency accuracy can be obtained. A sensor using a piezoelectric vibrator is a sensor that detects a physical quantity by utilizing the fact that the frequency of the piezoelectric vibrating piece 10 varies according to the physical quantity. For example, a sensor that detects stress generated by temperature, acceleration, Coriolis force generated by angular velocity, and the like can be given as an example.

(第2の実施の形態)
図9は、本発明の第2の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法を説明する図である。本実施の形態では、上述したパッケージ40を使用し、圧電振動片10は開口からパッケージ40に取り付ける。パッケージ40の開口に蓋146を取り付ける。蓋146は、貫通穴148を有している。貫通穴148は金属膜34(特に凹部36及び凸部38)に対向させる。そして、イオンビームを、貫通穴148を介して、金属膜34に照射する。すなわち、蓋146の貫通穴148をマスクとして利用する。その後、貫通穴148は塞ぐ。その他の詳細は、第1の実施の形態で説明した内容が該当する。
(Second Embodiment)
FIG. 9 is a diagram for explaining a method of manufacturing a piezoelectric vibrator according to the second embodiment of the invention. In the present embodiment, the package 40 described above is used, and the piezoelectric vibrating piece 10 is attached to the package 40 through the opening. A lid 146 is attached to the opening of the package 40. The lid 146 has a through hole 148. The through hole 148 is opposed to the metal film 34 (particularly, the concave portion 36 and the convex portion 38). Then, the metal film 34 is irradiated with an ion beam through the through hole 148. That is, the through hole 148 of the lid 146 is used as a mask. Thereafter, the through hole 148 is closed. Other details correspond to the contents described in the first embodiment.

(第3の実施の形態)
図10は、本発明の第3の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法を説明する図である。本実施の形態で使用するパッケージ240は、開口の他に貫通穴248を有する。圧電振動片10は、開口からパッケージ240に取り付ける。なお、この例では、第1及び第2の実施の形態とは異なり、圧電振動片10を、金属膜34がパッケージ240を向くように取り付ける。詳しくは、金属膜34(特に凹部36及び凸部38)を、貫通穴248に対向させる。そして、開口に蓋46を取り付ける。そして、イオンビームを、パッケージ240の貫通穴248を介して、金属膜34に照射する。すなわち、パッケージ240の貫通穴248をマスクとして利用する。その後、貫通穴248を塞ぐ。その他の詳細は、第1の実施の形態で説明した内容が該当する。
(Third embodiment)
FIG. 10 is a diagram for explaining a method of manufacturing a piezoelectric vibrator according to the third embodiment of the invention. The package 240 used in this embodiment has a through hole 248 in addition to the opening. The piezoelectric vibrating piece 10 is attached to the package 240 from the opening. In this example, unlike the first and second embodiments, the piezoelectric vibrating piece 10 is attached so that the metal film 34 faces the package 240. Specifically, the metal film 34 (particularly, the concave portion 36 and the convex portion 38) is opposed to the through hole 248. Then, a lid 46 is attached to the opening. Then, the ion beam is irradiated to the metal film 34 through the through hole 248 of the package 240. That is, the through hole 248 of the package 240 is used as a mask. Thereafter, the through hole 248 is closed. Other details correspond to the contents described in the first embodiment.

本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び結果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made. For example, the present invention includes configurations that are substantially the same as the configurations described in the embodiments (for example, configurations that have the same functions, methods, and results, or configurations that have the same purposes and results). In addition, the invention includes a configuration in which a non-essential part of the configuration described in the embodiment is replaced. In addition, the present invention includes a configuration that exhibits the same operational effects as the configuration described in the embodiment or a configuration that can achieve the same object. Further, the invention includes a configuration in which a known technique is added to the configuration described in the embodiment.

図1は、本発明の第1の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法で用意する圧電振動片の集合体の一部を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a part of an assembly of piezoelectric vibrating reeds prepared by the method for manufacturing a piezoelectric vibrator according to the first embodiment of the present invention. 図2は、図1に示す圧電振動片のII−II線断面図である。2 is a cross-sectional view of the piezoelectric vibrating piece shown in FIG. 1 taken along the line II-II. 図3は、図1に示す圧電振動片のIII−III線断面の一部を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a part of a cross section taken along line III-III of the piezoelectric vibrating piece illustrated in FIG. 1. 図4は、本発明の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法を説明する図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a method for manufacturing a piezoelectric vibrator according to an embodiment of the present invention. 図5は、本発明の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法を説明する図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a method for manufacturing a piezoelectric vibrator according to an embodiment of the present invention. 図6は、本発明の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法を説明する図である。FIG. 6 is a diagram illustrating a method for manufacturing a piezoelectric vibrator according to an embodiment of the present invention. 図7は、本発明の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法を説明する図である。FIG. 7 is a diagram for explaining a method of manufacturing a piezoelectric vibrator according to an embodiment of the present invention. 図8は、本実施の形態に係る圧電振動片の動作を説明する図である。FIG. 8 is a diagram for explaining the operation of the piezoelectric vibrating piece according to the present embodiment. 図9は、本発明の第2の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法を説明する図である。FIG. 9 is a diagram for explaining a method of manufacturing a piezoelectric vibrator according to the second embodiment of the invention. 図10は、本発明の第3の実施の形態に係る圧電振動子の製造方法を説明する図である。FIG. 10 is a diagram for explaining a method of manufacturing a piezoelectric vibrator according to the third embodiment of the invention.

符号の説明Explanation of symbols

10…圧電振動片、 12…連結部、 14…基部、 16…振動腕、 18…溝、 20…支持腕、 22…切り込み、 24…励振電極膜、 26…第1の励振電極、 28…第2の励振電極、 30…引き出し電極、 32…接続電極、 34…金属膜、 36…凹部、 38…凸部、 40…パッケージ、 42…底部、 43…マスク、 44…枠壁部、 46…蓋、 48…貫通穴、 50…ロウ材、 52…導電性接着剤、 54…配線、 56…外部電極、 146…蓋、 148…貫通穴、 240…パッケージ、 248…貫通穴   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Piezoelectric vibration piece, 12 ... Connection part, 14 ... Base part, 16 ... Vibration arm, 18 ... Groove, 20 ... Support arm, 22 ... Notch, 24 ... Excitation electrode film, 26 ... First excitation electrode, 28 ... First 2 excitation electrode, 30 ... extraction electrode, 32 ... connection electrode, 34 ... metal film, 36 ... concave part, 38 ... convex part, 40 ... package, 42 ... bottom part, 43 ... mask, 44 ... frame wall part, 46 ... lid 48 ... Through hole, 50 ... Brazing material, 52 ... Conductive adhesive, 54 ... Wiring, 56 ... External electrode, 146 ... Cover, 148 ... Through hole, 240 ... Package, 248 ... Through hole

Claims (6)

(a)振動腕を有し、前記振動腕に金属膜及び励振電極膜が形成された圧電振動片を用意する工程と、
(b)前記金属膜にレーザービームで凹凸を形成することで、前記金属膜の表面積を拡大する工程と、
(c)前記(b)工程後に、前記圧電振動片をパッケージに取り付ける工程と、
(d)前記(c)工程後に、前記金属膜を、イオンビームによってエッチングする工程と、
(e)前記(d)工程後に、前記パッケージの内部空間を気密に封止する工程と、
を含む圧電振動子の製造方法。
(A) preparing a piezoelectric vibrating piece having a vibrating arm and having a metal film and an excitation electrode film formed on the vibrating arm;
(B) expanding the surface area of the metal film by forming irregularities on the metal film with a laser beam;
(C) After the step (b), attaching the piezoelectric vibrating piece to a package;
(D) After the step (c), the step of etching the metal film with an ion beam;
(E) after the step (d), hermetically sealing the internal space of the package;
The manufacturing method of the piezoelectric vibrator containing this.
請求項1に記載された圧電振動子の製造方法において、
前記(a)工程で、複数の前記圧電振動片を、相互に連結された状態で用意し、
前記(b)工程を、相互に連結された複数の前記圧電振動片に対して行い、
前記(b)工程後、前記(c)工程前に、複数の前記圧電振動片を個片に切断する工程をさらに含み、
前記(c)工程で、個片の前記圧電振動片を前記パッケージに取り付ける圧電振動子の製造方法。
In the manufacturing method of the piezoelectric vibrator according to claim 1,
In the step (a), a plurality of the piezoelectric vibrating pieces are prepared in a mutually connected state,
Performing the step (b) on a plurality of the piezoelectric vibrating pieces connected to each other;
After the step (b) and before the step (c), the method further includes a step of cutting the plurality of piezoelectric vibrating pieces into individual pieces,
A method of manufacturing a piezoelectric vibrator in which the individual piezoelectric vibrating pieces are attached to the package in the step (c).
請求項1又は2に記載された圧電振動子の製造方法において、
前記(b)工程で、前記レーザービームで前記金属膜の材料を蒸発させて凹部を形成し、蒸発した前記材料を前記金属膜に再付着させて凸部を形成する圧電振動子の製造方法。
In the manufacturing method of the piezoelectric vibrator according to claim 1 or 2,
In the step (b), a method of manufacturing a piezoelectric vibrator in which, in the step (b), the material of the metal film is evaporated with the laser beam to form a concave portion, and the evaporated material is reattached to the metal film to form a convex portion.
請求項1から3のいずれか1項に記載された圧電振動子の製造方法において、
前記(d)工程で、前記イオンビームを、マスクを介して、前記金属膜に照射する圧電振動子の製造方法。
In the manufacturing method of the piezoelectric vibrator according to any one of claims 1 to 3,
In the step (d), the piezoelectric vibrator is manufactured by irradiating the metal film with the ion beam through a mask.
請求項1から3のいずれか1項に記載された圧電振動子の製造方法において、
前記パッケージは、開口及び貫通穴を有し、
前記(c)工程で、前記開口から前記圧電振動片を前記パッケージに取り付け、前記開口に蓋を取り付け、
前記(d)工程で、前記イオンビームを、前記貫通穴を介して、前記金属膜に照射し、
前記(e)工程で、前記貫通穴を塞ぐ圧電振動子の製造方法。
In the manufacturing method of the piezoelectric vibrator according to any one of claims 1 to 3,
The package has an opening and a through hole;
In the step (c), the piezoelectric vibrating piece is attached to the package from the opening, and a lid is attached to the opening.
In the step (d), the ion beam is irradiated to the metal film through the through hole,
A method of manufacturing a piezoelectric vibrator that closes the through hole in the step (e).
請求項1から3のいずれか1項に記載された圧電振動子の製造方法において、
前記パッケージは、開口を有し、
前記(c)工程で、前記開口から前記圧電振動片を前記パッケージに取り付け、前記開口に蓋を取り付け、
前記蓋は、貫通穴を有し、
前記(d)工程で、前記イオンビームを、前記貫通穴を介して、前記金属膜に照射し、
前記(e)工程で、前記貫通穴を塞ぐ圧電振動子の製造方法。
In the manufacturing method of the piezoelectric vibrator according to any one of claims 1 to 3,
The package has an opening;
In the step (c), the piezoelectric vibrating piece is attached to the package from the opening, and a lid is attached to the opening.
The lid has a through hole;
In the step (d), the ion beam is irradiated to the metal film through the through hole,
A method of manufacturing a piezoelectric vibrator that closes the through hole in the step (e).
JP2008077995A 2008-03-25 2008-03-25 Method for manufacturing piezoelectric vibrator Expired - Fee Related JP5170405B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008077995A JP5170405B2 (en) 2008-03-25 2008-03-25 Method for manufacturing piezoelectric vibrator

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008077995A JP5170405B2 (en) 2008-03-25 2008-03-25 Method for manufacturing piezoelectric vibrator

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012285331A Division JP5494994B2 (en) 2012-12-27 2012-12-27 Method for manufacturing vibrator

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2009232376A true JP2009232376A (en) 2009-10-08
JP2009232376A5 JP2009232376A5 (en) 2011-05-06
JP5170405B2 JP5170405B2 (en) 2013-03-27

Family

ID=41247222

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008077995A Expired - Fee Related JP5170405B2 (en) 2008-03-25 2008-03-25 Method for manufacturing piezoelectric vibrator

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5170405B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018079181A1 (en) * 2016-10-31 2018-05-03 株式会社大真空 Frequency adjustment method for piezoelectric oscillation device
CN109891743A (en) * 2016-12-22 2019-06-14 株式会社大真空 Tuning-fork-type vibrating reed, tuning fork type vibrator and its manufacturing method
US11664782B2 (en) 2020-01-30 2023-05-30 Seiko Epson Corporation Vibrator element and vibrator device

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03262310A (en) * 1990-03-13 1991-11-22 Seiko Epson Corp Frequency adjustment method for piezoelectric vibrator
JPH11312948A (en) * 1997-07-29 1999-11-09 Seiko Epson Corp Piezoelectric vibrator and manufacture for the same
JP2002171152A (en) * 2000-12-04 2002-06-14 Seiko Epson Corp Piezoelectric device and method of manufacturing the same
JP2002353766A (en) * 2001-03-19 2002-12-06 Seiko Epson Corp Piezoelectric device
JP2004201105A (en) * 2002-12-19 2004-07-15 Daishinku Corp Method for adjusting oscillation frequency of tuning fork type vibrator and tuning fork type vibrator with oscillation frequency adjusted by the method
JP2008022184A (en) * 2006-07-12 2008-01-31 Seiko Instruments Inc Piezoelectric vibration chip and its manufacturing method, piezoelectric vibrator, atomic clock equipped therewith oscillator, and electronic apparatus

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03262310A (en) * 1990-03-13 1991-11-22 Seiko Epson Corp Frequency adjustment method for piezoelectric vibrator
JPH11312948A (en) * 1997-07-29 1999-11-09 Seiko Epson Corp Piezoelectric vibrator and manufacture for the same
JP2002171152A (en) * 2000-12-04 2002-06-14 Seiko Epson Corp Piezoelectric device and method of manufacturing the same
JP2002353766A (en) * 2001-03-19 2002-12-06 Seiko Epson Corp Piezoelectric device
JP2004201105A (en) * 2002-12-19 2004-07-15 Daishinku Corp Method for adjusting oscillation frequency of tuning fork type vibrator and tuning fork type vibrator with oscillation frequency adjusted by the method
JP2008022184A (en) * 2006-07-12 2008-01-31 Seiko Instruments Inc Piezoelectric vibration chip and its manufacturing method, piezoelectric vibrator, atomic clock equipped therewith oscillator, and electronic apparatus

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018079181A1 (en) * 2016-10-31 2018-05-03 株式会社大真空 Frequency adjustment method for piezoelectric oscillation device
JPWO2018079181A1 (en) * 2016-10-31 2019-09-12 株式会社大真空 Method for adjusting frequency of piezoelectric vibration device
JP2020174393A (en) * 2016-10-31 2020-10-22 株式会社大真空 Frequency adjustment method of piezoelectric vibration device
TWI724249B (en) * 2016-10-31 2021-04-11 日商大真空股份有限公司 Frequency adjustment method of piezoelectric vibrating element
US11075611B2 (en) 2016-10-31 2021-07-27 Daishinku Corporation Frequency adjustment method for piezoelectric resonator device
CN109891743A (en) * 2016-12-22 2019-06-14 株式会社大真空 Tuning-fork-type vibrating reed, tuning fork type vibrator and its manufacturing method
JP2021073787A (en) * 2016-12-22 2021-05-13 株式会社大真空 Tuning fork type vibration piece and tuning fork type vibrator
US11563413B2 (en) 2016-12-22 2023-01-24 Daishinku Corporation Tuning fork-type vibrating reed, tuning fork-type vibrator and manufacturing method therefor
US11824509B2 (en) 2016-12-22 2023-11-21 Daishinku Corporation Tuning fork-type vibrating reed, tuning fork-type vibrator and manufacturing method therefor
CN109891743B (en) * 2016-12-22 2023-12-01 株式会社大真空 Tuning fork type vibrating reed, tuning fork type vibrator and method for manufacturing the same
US11664782B2 (en) 2020-01-30 2023-05-30 Seiko Epson Corporation Vibrator element and vibrator device

Also Published As

Publication number Publication date
JP5170405B2 (en) 2013-03-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4415389B2 (en) Piezoelectric device
JP4442521B2 (en) Piezoelectric vibrating piece and piezoelectric device
US7714484B2 (en) Piezoelectric resonator and manufacturing method therefor
JP5062413B2 (en) Tuning fork type piezoelectric resonator element and tuning fork type piezoelectric vibrator
KR100802865B1 (en) Piezoelectric resonator element and piezoelectric device
JP4594412B2 (en) Piezoelectric vibrating piece and piezoelectric device
JP4301201B2 (en) Piezoelectric oscillator
JP5316748B2 (en) Manufacturing method of vibrating piece
JP2005005896A (en) Piezoelectric oscillating piece, method for manufacturing piezoelectric oscillating piece, piezoelectric oscillator and electronic equipment mounted with piezoelectric oscillator
US7759848B2 (en) Tuning fork type piezoelectric resonator having a node of common mode vibration in constructed part of base
TW201242246A (en) Piezoelectric vibration element, piezoelectric vibrator, piezoelectric oscillator, vibration gyro element, vibration gyro sensor, and electronic apparatus
JP2007096900A (en) Piezoelectric vibrating piece and piezoelectric device
JP2009165006A (en) Piezoelectric vibration piece, piezoelectric device, and method of adjusting frequency of tuning fork piezoelectric vibration piece
JP4407845B2 (en) Piezoelectric vibrator, manufacturing method thereof and lid for piezoelectric vibrator
JP2008306468A (en) Piezoelectric vibration piece and piezoelectric vibrator
JP2008048274A (en) Piezo-electric vibrating piece and piezo-electric device
JP2007251239A (en) Piezoelectric device and manufacturing method thereof
JP2010004456A (en) Piezoelectric vibrating piece and piezoelectric device
JP4784168B2 (en) Piezoelectric vibrating piece and piezoelectric device
JP5170405B2 (en) Method for manufacturing piezoelectric vibrator
JP2011176787A (en) Piezoelectric device and manufacturing method thereof
JP5494994B2 (en) Method for manufacturing vibrator
JP2010246126A (en) Piezoelectric vibration piece and piezoelectric device
JP2009021773A (en) Method for manufacturing piezoelectric vibrator
JP6137277B2 (en) Vibrating piece, vibrator and oscillator

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110318

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110318

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20110729

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20110729

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110819

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120720

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120801

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120913

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121205

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121218

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees