JP2009230115A - Manufacturing method of optical film, optical film, polarizing plate, liquid crystal panel, and liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板、液晶パネルおよび液晶表示装置に関する。 The present invention relates to an optical film manufacturing method, an optical film, a polarizing plate, a liquid crystal panel, and a liquid crystal display device.
従来、各種液晶表示装置には、光学補償を目的として位相差板が使用されている。このような位相差板としては、例えば、ロール間引張り延伸法、ロール間圧縮延伸法、テンター横一軸延伸法等の各種ポリマーフィルム延伸法等や(例えば、特許文献1参照。)、二軸延伸により異方性を持たせる方法等(例えば、特許文献2参照。)によって作製した光学的二軸位相差板が挙げられる。また、この他にも、正の光学異方性を持つ一軸延伸ポリマーフィルムと、面内の位相差値が小さい負の光学異方性を持つ二軸延伸ポリマーフィルムとを併用した位相差板や(例えば、特許文献3参照。)、前述のような延伸方法ではなく、例えば、ポリイミドの性質により、基板上で可溶性ポリイミドをフィルム化した位相差板が挙げられる(例えば、特許文献4参照。)。 Conventionally, in various liquid crystal display devices, a retardation plate is used for the purpose of optical compensation. Examples of such a retardation plate include various polymer film stretching methods such as an inter-roll tensile stretching method, an inter-roll compression stretching method, and a tenter transverse uniaxial stretching method (for example, see Patent Document 1), and biaxial stretching. An optical biaxial retardation plate produced by a method of imparting anisotropy by the method (for example, see Patent Document 2). In addition to this, a retardation plate using both a uniaxially stretched polymer film having positive optical anisotropy and a biaxially stretched polymer film having negative optical anisotropy having a small in-plane retardation value, (For example, refer to Patent Document 3.) Instead of the stretching method as described above, for example, a retardation plate in which a soluble polyimide film is formed on a substrate due to the properties of polyimide (for example, refer to Patent Document 4). .
ポリイミドのような非液晶ポリマーは、その性質上、基板の配向の有無に関わらず、nx=ny>nzの光学特性を示す。また、基板とフィルムとの積層体を、面内の一方向に共に延伸することによって、前記フィルムは面内において屈折差を生じ、nx>ny>nzの屈折率分布を有する光学特性を示す。ここで、nx、ny、nzとは、前記フィルムにおけるX軸、Y軸およびZ軸の屈折率をそれぞれ示し、前記X軸とは、前記フィルム面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Y軸は、前記面内において前記X軸に対して垂直な軸方向であり、Z軸は、前記X軸およびY軸に垂直な厚み方向を示す。このような光学特性を有する複屈折性フィルムは、例えば、液晶表示装置の液晶セルと偏光子との間に配置すれば、前記液晶表示装置の表示特性を広視野角化できるため、前記液晶セルの視角補償フィルムとして有用である。 A non-liquid crystal polymer such as polyimide exhibits optical characteristics of nx = ny> nz regardless of the orientation of the substrate. Further, by stretching the laminate of the substrate and the film together in one direction in the plane, the film exhibits a refractive difference in the plane and exhibits optical characteristics having a refractive index distribution of nx> ny> nz. Here, nx, ny, and nz respectively indicate the refractive indexes of the X-axis, Y-axis, and Z-axis in the film, and the X-axis is an axial direction that indicates the maximum refractive index in the film plane. , Y axis is an axial direction perpendicular to the X axis in the plane, and Z axis indicates a thickness direction perpendicular to the X axis and the Y axis. If the birefringent film having such optical characteristics is disposed between, for example, a liquid crystal cell of a liquid crystal display device and a polarizer, the display characteristics of the liquid crystal display device can be widened. It is useful as a viewing angle compensation film.
しかしながら、このような光学特性のフィルムであっても、ポリマーフィルムを延伸した位相差板は、その厚みが数十〜数百μmとなり、液晶表示装置の薄型化の面で大きな課題を残していた。また、位相差板の厚みを低減するためには、基板上で可溶性ポリイミドをフィルム化する手段が有用であるものの、ポリイミドは非常に高価であるため、生産コスト面で大きな問題となっていた。さらに、ポリイミドにより形成されたフィルムはガラス転移温度(Tg)が高く、分子がスタッキングするため高温でしか延伸できず、また、高倍率に延伸することができなかった。このように、ポリイミドの加工性は良好でないため、位相差板の光学特性の設計範囲は非常に限られ、特にnx>ny≒nzの屈折率分布を有する光学特性を実現させることは困難であった。 However, even with a film having such optical characteristics, a retardation film obtained by stretching a polymer film has a thickness of several tens to several hundreds of μm, which leaves a major problem in terms of thinning a liquid crystal display device. . In order to reduce the thickness of the retardation film, a means for forming a soluble polyimide film on the substrate is useful, but since polyimide is very expensive, it has been a serious problem in terms of production cost. Furthermore, a film formed of polyimide has a high glass transition temperature (Tg), and molecules can be stacked, so that the film can be stretched only at a high temperature and cannot be stretched at a high magnification. Thus, since the processability of polyimide is not good, the design range of the optical characteristics of the retardation plate is very limited, and in particular, it is difficult to realize optical characteristics having a refractive index distribution of nx> ny≈nz. It was.
そこで本発明は、ポリイミドよりも安価であり、かつ加工性に優れた材料を用いた、位相差発現性の高い光学フィルムの製造方法、光学フィルム、それを用いた偏光板、液晶パネルおよび液晶表示装置を提供することを目的とする。 Accordingly, the present invention provides a method for producing an optical film having a high retardation effect using a material that is less expensive than polyimide and has excellent processability, an optical film, a polarizing plate, a liquid crystal panel, and a liquid crystal display using the same An object is to provide an apparatus.
前記目的を達成するために、本発明の光学フィルムの製造方法は、
透明フィルム基材と光学補償層とを含み、下記式で定義されるNz係数が0.9〜2.0の範囲にある光学フィルムの製造方法であって、前記透明フィルム基材上に、ポリエチレン部位を含有するポリビニルアルコール系樹脂を含有する塗工膜を形成する工程と、前記塗工膜および前記透明フィルム基材を延伸する工程とを含むことを特徴とする。
Nz係数=(nx−nz)/(nx−ny)
In order to achieve the above object, the method for producing an optical film of the present invention comprises:
A method for producing an optical film, comprising a transparent film substrate and an optical compensation layer, wherein the Nz coefficient defined by the following formula is in the range of 0.9 to 2.0, wherein polyethylene is formed on the transparent film substrate: It includes a step of forming a coating film containing a polyvinyl alcohol-based resin containing a part, and a step of stretching the coating film and the transparent film substrate.
Nz coefficient = (nx−nz) / (nx−ny)
本発明の光学フィルムは、透明フィルム基材と光学補償層とを含む光学フィルムであって、前記光学補償層が、ポリエチレン部位を含有するポリビニルアルコール系樹脂を含み、前記光学フィルムの下記式で定義されるNz係数が0.9〜2.0の範囲であることを特徴とする。
Nz係数=(nx−nz)/(nx−ny)
The optical film of the present invention is an optical film including a transparent film substrate and an optical compensation layer, wherein the optical compensation layer includes a polyvinyl alcohol-based resin containing a polyethylene moiety, and is defined by the following formula of the optical film: The Nz coefficient is in the range of 0.9 to 2.0.
Nz coefficient = (nx−nz) / (nx−ny)
本発明の偏光板は、光学フィルムと偏光子とを含む偏光板であって、前記光学フィルムが、前記本発明の光学フィルムであることを特徴とする。 The polarizing plate of the present invention is a polarizing plate including an optical film and a polarizer, and the optical film is the optical film of the present invention.
本発明の第1の液晶パネルは、液晶セルと光学部材とを含む液晶パネルであって、前記光学部材が、前記本発明の光学フィルムまたは前記本発明の偏光板であり、前記光学部材が、前記液晶セルの少なくとも一方の側に配置されていることを特徴とする。 The first liquid crystal panel of the present invention is a liquid crystal panel including a liquid crystal cell and an optical member, wherein the optical member is the optical film of the present invention or the polarizing plate of the present invention, and the optical member is It is arranged on at least one side of the liquid crystal cell.
本発明の第2の液晶パネルは、第1の偏光板、第2の偏光板および液晶セルを有し、前記第1の偏光板が、前記液晶セルの視認側に配置され、前記第2の偏光板が、前記液晶セルのバックライト側に配置された液晶パネルであって、
前記第1の偏光板は、第1の偏光子および第1の光学補償層を含み、
前記第1の光学補償層は、前記第1の偏光子と前記液晶セルとの間に配置され、
前記第1の光学補償層の屈折率は、nx>ny≧nzの関係を示し、
前記第2の偏光板は、第2の偏光子および第2の光学補償層を含み、
前記第2の光学補償層は、前記第2の偏光子と前記液晶セルとの間に配置され、
前記第2の光学補償層の屈折率は、nx=ny>nzの関係を示す液晶パネルにおいて、
前記第1の偏光板が、前記本発明の偏光板であり、前記本発明の偏光板に含まれる光学フィルムが、前記第1の光学補償層であることを特徴とする。
The second liquid crystal panel of the present invention has a first polarizing plate, a second polarizing plate, and a liquid crystal cell, the first polarizing plate is disposed on the viewing side of the liquid crystal cell, and the second liquid crystal panel A polarizing plate is a liquid crystal panel disposed on the backlight side of the liquid crystal cell,
The first polarizing plate includes a first polarizer and a first optical compensation layer,
The first optical compensation layer is disposed between the first polarizer and the liquid crystal cell,
The refractive index of the first optical compensation layer has a relationship of nx> ny ≧ nz,
The second polarizing plate includes a second polarizer and a second optical compensation layer,
The second optical compensation layer is disposed between the second polarizer and the liquid crystal cell,
In the liquid crystal panel in which the refractive index of the second optical compensation layer shows a relationship of nx = ny> nz,
The first polarizing plate is the polarizing plate of the present invention, and the optical film contained in the polarizing plate of the present invention is the first optical compensation layer.
本発明の液晶表示装置は、光学部材または液晶パネルを含む液晶表示装置であって、前記光学部材が、前記本発明の光学フィルムまたは前記本発明の偏光板であり、前記液晶パネルが、前記本発明の液晶パネルであることを特徴とする。 The liquid crystal display device of the present invention is a liquid crystal display device including an optical member or a liquid crystal panel, wherein the optical member is the optical film of the present invention or the polarizing plate of the present invention, and the liquid crystal panel is the book of the present invention. It is the liquid crystal panel of the invention.
本発明の光学フィルムの製造方法によれば、加工性に極めて優れたポリビニルアルコール系樹脂を用い、透明フィルム基材上に前記樹脂を塗工して延伸することにより、従来のポリイミド系材料では不可能だった、nx>ny≒nzを満たし、かつ高位相差発現性を備えた光学フィルムを安価に製造することができる。 According to the method for producing an optical film of the present invention, a polyvinyl alcohol resin having extremely excellent processability is used, and the resin is coated on a transparent film substrate and stretched. It was possible to manufacture an optical film satisfying nx> ny≈nz and having high retardation development at low cost.
本発明の光学フィルムの製造方法において、前記延伸工程において、前記透明フィルム基材と前記塗工膜とを共に延伸することが好ましい。 In the method for producing an optical film of the present invention, it is preferable that the transparent film substrate and the coating film are both stretched in the stretching step.
前記延伸工程において、延伸方向が前記透明フィルム基材の幅方向であることが好ましく、前記幅方向の延伸における延伸倍率が、1.3〜6.0倍の範囲であることが好ましい。 In the stretching step, the stretching direction is preferably the width direction of the transparent film substrate, and the stretching ratio in the stretching in the width direction is preferably in the range of 1.3 to 6.0 times.
本発明の光学フィルムの製造方法において、前記延伸工程において、前記幅方向の延伸に伴い、前記透明フィルム基材と前記塗工膜が、長手方向に0.5〜1.0倍の範囲で収縮されることが好ましい。 In the method for producing an optical film of the present invention, in the stretching step, the transparent film substrate and the coating film shrink in a range of 0.5 to 1.0 times in the longitudinal direction along with stretching in the width direction. It is preferred that
本発明の光学フィルムの製造方法において、前記透明フィルム基材の材料として、アクリル系樹脂を用いることが好ましい。 In the method for producing an optical film of the present invention, an acrylic resin is preferably used as the material for the transparent film substrate.
前記アクリル系樹脂として、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、メタクリル酸メチル−アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−メタクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−メタクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−メタクリル酸共重合体、アクリル酸メチル−スチレン共重合体、メタクリル酸メチル−スチレン共重合体および脂環族炭化水素基を有する重合体からなる群から選択される少なくとも一つを用いることが好ましい。 Examples of the acrylic resin include polyacrylic acid ester, polymethacrylic acid ester, methyl methacrylate-acrylic acid copolymer, methyl methacrylate-methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate-acrylic acid ester copolymer, methyl methacrylate. -Methacrylic acid ester copolymer, Methyl methacrylate-Acrylic acid ester-Acrylic acid copolymer, Methyl methacrylate-Acrylic acid ester-Methacrylic acid copolymer, Methyl acrylate-Styrene copolymer, Methyl methacrylate-Styrene It is preferable to use at least one selected from the group consisting of a copolymer and a polymer having an alicyclic hydrocarbon group.
本発明の光学フィルムの製造方法において、前記ポリエチレン部位を含有するポリビニルアルコール系樹脂として、下記構造式(I)および(II)で示される繰り返し単位を含む重合体を含有するものを用いることが好ましく、前記重合体として、前記(I)と前記(II)のモル比が、50:50〜99:1の範囲を満たしているものを用いることがより好ましい。
本発明の光学フィルムの製造方法において、前記延伸工程の後に、さらに架橋処理工程を有することが好ましい。 In the manufacturing method of the optical film of this invention, it is preferable to have a bridge | crosslinking process process after the said extending process.
本発明の光学フィルムの製造方法において、前記塗工膜を形成する工程において、溶媒が添加されていない塗工液を用いることが好ましい。 In the method for producing an optical film of the present invention, it is preferable to use a coating liquid to which no solvent is added in the step of forming the coating film.
本発明の光学フィルムにおいて、前記透明フィルム基材が、アクリル系樹脂であることが好ましい。 In the optical film of the present invention, the transparent film substrate is preferably an acrylic resin.
本発明の光学フィルムは、前記本発明の光学フィルムの製造方法により製造されることが好ましい。 The optical film of the present invention is preferably produced by the method for producing an optical film of the present invention.
つぎに、本発明について詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の記載により制限されない。 Next, the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited by the following description.
本発明の光学フィルムの製造方法では、透明フィルム基材上に、前記光学補償層の形成材料であるポリエチレン部位を含有するポリビニルアルコール系樹脂を塗工して塗工膜を形成し、前記塗工膜および前記透明フィルム基材を延伸することにより、Nz係数が0.9〜2.0の光学フィルムを製造する。ここで、Nz係数は、式:Nz=(nx−nz)/(nx−ny)で定義される値である。 In the method for producing an optical film of the present invention, a coating film is formed on a transparent film substrate by coating a polyvinyl alcohol resin containing a polyethylene moiety, which is a material for forming the optical compensation layer. By stretching the film and the transparent film substrate, an optical film having an Nz coefficient of 0.9 to 2.0 is produced. Here, the Nz coefficient is a value defined by the formula: Nz = (nx−nz) / (nx−ny).
本発明において、屈折率「nx」は、層(複屈折層、フィルム、液晶セルなど、以下同じ)の面内の屈折率が最大となる方向(遅相軸方向)の屈折率である。屈折率「ny」は、層の面内で前記nxの方向と直交する方向(進相軸方向)の屈折率である。屈折率「nz」は、前記nxおよび前記nyの各方向に対し直交する層の厚み方向の屈折率である。 In the present invention, the refractive index “nx” is a refractive index in a direction (slow axis direction) in which the in-plane refractive index of the layer (birefringent layer, film, liquid crystal cell, etc. is the same) is maximum. The refractive index “ny” is a refractive index in a direction (fast axis direction) orthogonal to the nx direction in the plane of the layer. The refractive index “nz” is the refractive index in the thickness direction of the layer orthogonal to the nx and ny directions.
本発明において、層の面内の位相差値(Re[λ])とは、例えば、23℃での波長λ(nm)における層の面内の位相差値である。Re[λ]は、層の厚みをd(nm)としたとき、式:Re[λ]=(nx−ny)×dにより算出される。Re[λ]は、例えば、後述の実施例に記載の方法で測定できる。 In the present invention, the in-plane retardation value (Re [λ]) is, for example, an in-plane retardation value at a wavelength λ (nm) at 23 ° C. Re [λ] is calculated by the formula: Re [λ] = (nx−ny) × d, where d (nm) is the thickness of the layer. Re [λ] can be measured, for example, by the method described in Examples described later.
本発明において、層の厚み方向の位相差値(Rth[λ])とは、例えば、23℃での波長λ(nm)における層の厚み方向の位相差値である。Rth[λ]は、層の厚みをd(nm)としたとき、式:Rth[λ]=(nx−nz)×dにより算出される。Rth[λ]は、例えば、後述の実施例に記載の方法で測定できる。 In the present invention, the retardation value in the thickness direction of the layer (Rth [λ]) is, for example, a retardation value in the thickness direction of the layer at a wavelength λ (nm) at 23 ° C. Rth [λ] is calculated by the formula: Rth [λ] = (nx−nz) × d, where d (nm) is the thickness of the layer. Rth [λ] can be measured, for example, by the method described in Examples described later.
本発明において、Nz係数は、式:Nz係数=Rth[λ]/Re[λ]によっても算出される値である。前記λは、例えば、590nmとすることができる。 In the present invention, the Nz coefficient is a value calculated also by the formula: Nz coefficient = Rth [λ] / Re [λ]. The λ can be set to 590 nm, for example.
本発明において、「nx=ny」または「ny=nz」とは、これらが完全に一致する場合だけでなく、実質的に同一である場合を包含する。したがって、例えば、nx=nyと記載する場合には、Re[590]が10nm未満である場合を包含する。 In the present invention, “nx = ny” or “ny = nz” includes not only the case where they completely match, but also the case where they are substantially the same. Therefore, for example, the description of nx = ny includes the case where Re [590] is less than 10 nm.
本発明において、「直交」とは、実質的に直交している場合を含み、前記実質的に直交している場合とは、例えば、90°±2°の範囲であり、好ましくは、90°±1°の範囲である。また、本発明において、「平行」とは、実質的に平行の場合を含み、前記実質的に平行の場合とは、例えば、0°±2°の範囲であり、好ましくは、0°±1°の範囲である。 In the present invention, the term “orthogonal” includes the case of being substantially orthogonal, and the case of being substantially orthogonal is, for example, a range of 90 ° ± 2 °, and preferably 90 °. The range is ± 1 °. Further, in the present invention, the term “parallel” includes a case of being substantially parallel, and the case of being substantially parallel is, for example, a range of 0 ° ± 2 °, and preferably 0 ° ± 1. It is in the range of °.
[透明フィルム基材]
本発明における透明フィルム基材としては、アクリル、アクリロニトリル・スチレン(AS)、アクリロニトリルアクリルゴムスチレン(AAS)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン(ABS)、環状オレフィンコポリマー(COC)、環状オレフィンポリマー(COP)、エチレン−ビニルアルコール(EVOH)、エチレン−酢酸ビニル(EVA)、エポキシ(EP)、メタクリル-スチレン(MS)、ポリアリレート(PAR)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン(PS)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、水添スチレン・ブタジエン・スチレン(SBS)、ポリアミド(PA)、ポリエチレン(PE)、ポリメチルペンテン(PMP)、ポリサルフォン(PSU)、低密度ポリエチレン(LDPE)、トリアセチルセルロース(TAC)などを用いることができる。
[Transparent film substrate]
As the transparent film substrate in the present invention, acrylic, acrylonitrile styrene (AS), acrylonitrile acrylic rubber styrene (AAS), acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS), cyclic olefin copolymer (COC), cyclic olefin polymer (COP), Ethylene-vinyl alcohol (EVOH), ethylene-vinyl acetate (EVA), epoxy (EP), methacryl-styrene (MS), polyarylate (PAR), polyethylene terephthalate (PET), polyethersulfone (PES), polypropylene (PP ), Polystyrene (PS), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate (PEN), hydrogenated styrene Butadiene styrene (SBS), polyamide (PA), polyethylene (PE), polymethylpentene (PMP), polysulfone (PSU), low density polyethylene (LDPE), triacetyl cellulose (TAC), and the like can be used.
透明フィルム基材としては、アクリル系樹脂を用いることが好ましい。前記アクリル系樹脂としては、ガラス転移温度(Tg)が、115℃以上のものが好ましく、より好ましくは120℃以上、さらに好ましくは125℃以上、特に好ましくは130℃以上である。Tgが115℃以上であることにより、耐久性に優れたものとなる。前記アクリル系樹脂のTgの上限値は特に限定されないが、成形性等の観点から、好ましくは170℃以下である。前記ガラス転移温度(Tg)は、JIS K 7121に準じたDSC法により求めることができる。 As the transparent film substrate, an acrylic resin is preferably used. The acrylic resin preferably has a glass transition temperature (Tg) of 115 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher, still more preferably 125 ° C. or higher, and particularly preferably 130 ° C. or higher. When Tg is 115 ° C. or higher, the durability is excellent. Although the upper limit of Tg of the acrylic resin is not particularly limited, it is preferably 170 ° C. or less from the viewpoint of moldability and the like. The glass transition temperature (Tg) can be obtained by a DSC method according to JIS K7121.
前記アクリル系樹脂としては、本発明の効果を損なわない範囲内で、任意の適切なアクリル系樹脂を採用し得るが、好ましくは、前記アクリル系樹脂として、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル(例えば、ポリメタクリル酸メチルなど)、メタクリル酸メチル−アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−メタクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−メタクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−メタクリル酸共重合体、アクリル酸メチル−スチレン共重合体、メタクリル酸メチル−スチレン共重合体および脂環族炭化水素基を有する重合体(例えば、メタクリル酸メチル−メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸ノルボルニル共重合体、メタクリル酸メチル−メタクリル酸ノルボルニル共重合体など)が挙げられる。より好ましくは、ポリアクリル酸メチルやポリメタクリル酸メチルなどのポリアクリル酸アルキルおよびポリメタクリル酸アルキルである。ここで、前記アルキル基は炭素数1〜6であることが好ましい。さらに好ましくは、メタクリル酸メチルを主成分(50〜100重量%の範囲、好ましくは70〜100重量%の範囲)とするメタクリル酸メチル系樹脂が挙げられる。 Any appropriate acrylic resin can be adopted as the acrylic resin within a range not impairing the effects of the present invention. Preferably, the acrylic resin includes polyacrylic acid ester, polymethacrylic acid ester ( For example, polymethyl methacrylate), methyl methacrylate-acrylic acid copolymer, methyl methacrylate-methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate-acrylic acid ester copolymer, methyl methacrylate-methacrylic acid ester copolymer , Methyl methacrylate-acrylic acid ester-acrylic acid copolymer, methyl methacrylate-acrylic acid ester-methacrylic acid copolymer, methyl acrylate-styrene copolymer, methyl methacrylate-styrene copolymer and alicyclic Polymers having hydrocarbon groups (for example, methacrylic acid methyl ester) - cyclohexyl methacrylate copolymer, a methyl methacrylate - acrylic acid norbornyl copolymer, methyl methacrylate - methacrylate norbornyl copolymer) and the like. More preferred are polyalkyl acrylates and polyalkyl methacrylates such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate. Here, the alkyl group preferably has 1 to 6 carbon atoms. More preferably, a methyl methacrylate resin containing methyl methacrylate as a main component (in the range of 50 to 100% by weight, preferably in the range of 70 to 100% by weight) can be used.
前記アクリル系樹脂の具体例としては、例えば、三菱レイヨン(株)製のアクリペットVHやアクリペットVRL20A、特開2004−70296号公報に記載の分子内に環構造を有するアクリル系樹脂、分子内架橋や分子内環化反応により得られる高Tgアクリル系樹脂等が挙げられる。前記アクリル系樹脂として、ラクトン環構造を有するアクリル系樹脂、グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂、グルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂を用いることも好ましい。これらのアクリル系樹脂は、高い耐熱性、高い透明性、高い機械的強度を有するからである。 Specific examples of the acrylic resin include, for example, Acrypet VH and Acrypet VRL20A manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., an acrylic resin having a ring structure in the molecule described in JP-A-2004-70296, Examples thereof include a high Tg acrylic resin obtained by crosslinking or intramolecular cyclization reaction. As the acrylic resin, it is also preferable to use an acrylic resin having a lactone ring structure, an acrylic resin having a glutaric anhydride structure, or an acrylic resin having a glutarimide structure. This is because these acrylic resins have high heat resistance, high transparency, and high mechanical strength.
(ラクトン環構造を有するアクリル系樹脂)
前記ラクトン環構造を有するアクリル系樹脂としては、特開2000−230016号公報、特開2001−151814号公報、特開2002−120326号公報、特開2002−254544号公報、特開2005−146084号公報などに記載の、ラクトン環構造を有するアクリル系樹脂が挙げられる。前記ラクトン環構造を有するアクリル系樹脂は、好ましくは、下記一般式(1)で表されるラクトン環構造を有する。
Examples of the acrylic resin having a lactone ring structure include JP 2000-230016, JP 2001-151814, JP 2002-120326, JP 2002-254544, and JP 2005-146084. Examples thereof include acrylic resins having a lactone ring structure, which are described in publications and the like. The acrylic resin having a lactone ring structure preferably has a lactone ring structure represented by the following general formula (1).
前記ラクトン環構造を有するアクリル系樹脂中の、前記一般式(1)で表されるラクトン環構造単位の含有割合は、前記ラクトン環構造を有するアクリル系樹脂100重量%中に、好ましくは5〜90重量%の範囲、より好ましくは10〜70重量%の範囲、さらに好ましくは10〜60重量%の範囲、特に好ましくは10〜50重量%の範囲である。前記含有割合が5重量%よりも少ないと、耐熱性、耐溶剤性、表面硬度が不十分になるおそれがあり、90重量%よりも多いと、成形加工性に乏しくなるおそれがある。前記含有割合は、特開2002−254544号公報に記載の方法で算出することができる。 The content of the lactone ring structural unit represented by the general formula (1) in the acrylic resin having the lactone ring structure is preferably 5 to 100% by weight in the acrylic resin having the lactone ring structure. The range is 90% by weight, more preferably 10 to 70% by weight, still more preferably 10 to 60% by weight, and particularly preferably 10 to 50% by weight. If the content is less than 5% by weight, heat resistance, solvent resistance and surface hardness may be insufficient, and if it is more than 90% by weight, molding processability may be poor. The content ratio can be calculated by the method described in JP-A-2002-254544.
前記ラクトン環構造を有するアクリル系樹脂は、重量平均分子量が、好ましくは1,000〜2,000,000の範囲、より好ましくは5,000〜1,000,000の範囲、さらに好ましくは10,000〜500,000の範囲、特に好ましくは50,000〜500,000の範囲である。重量平均分子量が上記範囲から外れると、本発明の効果が十分に発揮できないおそれがある。 The acrylic resin having a lactone ring structure preferably has a weight average molecular weight in the range of 1,000 to 2,000,000, more preferably in the range of 5,000 to 1,000,000, and still more preferably 10, It is in the range of 000 to 500,000, particularly preferably in the range of 50,000 to 500,000. If the weight average molecular weight is out of the above range, the effects of the present invention may not be sufficiently exhibited.
前記ラクトン環構造を有するアクリル系樹脂は、Tgが、好ましくは115℃以上、より好ましくは125℃以上、さらに好ましくは130℃以上、特に好ましくは135℃以上、最も好ましくは140℃以上である。Tgが115℃以上であることにより、例えば、偏光子保護フィルムとして偏光板に組み入れた場合に、耐久性に優れたものとなり得る。前記ラクトン環構造を有するアクリル系樹脂のTgの上限値は特に限定されないが、成形性等の観点から、好ましくは170℃以下である。 The acrylic resin having a lactone ring structure has a Tg of preferably 115 ° C. or higher, more preferably 125 ° C. or higher, still more preferably 130 ° C. or higher, particularly preferably 135 ° C. or higher, and most preferably 140 ° C. or higher. When Tg is 115 ° C. or higher, for example, when incorporated in a polarizing plate as a polarizer protective film, it can be excellent in durability. The upper limit of Tg of the acrylic resin having a lactone ring structure is not particularly limited, but is preferably 170 ° C. or less from the viewpoint of moldability and the like.
前記ラクトン環構造を有するアクリル系樹脂は、射出成形により得られる成形品の、ASTM−D−1003に準じた方法で測定される全光線透過率が、高ければ高いほど好ましく、好ましくは85%以上、より好ましくは88%以上、さらに好ましくは90%以上である。全光線透過率は透明性の目安であり、全光線透過率が85%未満であると、透明性が低下するおそれがある。 The acrylic resin having the lactone ring structure is preferably as the total light transmittance of a molded product obtained by injection molding measured by a method according to ASTM-D-1003 is higher, preferably 85% or more. More preferably, it is 88% or more, and still more preferably 90% or more. The total light transmittance is a measure of transparency. If the total light transmittance is less than 85%, the transparency may be lowered.
(グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂)
前記グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂としては、特開2006−283013号公報、特開2006−335902号公報、特開2006−274118号公報、国際公開WO2007/026659などに記載の、グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂が挙げられる。前記グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂は、好ましくは、下記一般式(2)で表されるグルタル酸無水物構造を含有する。
Examples of the acrylic resin having the glutaric anhydride structure include glutaric acid described in JP-A-2006-283013, JP-A-2006-335902, JP-A-2006-274118, International Publication WO2007 / 026659, and the like. An acrylic resin having an anhydride structure may be mentioned. The acrylic resin having a glutaric anhydride structure preferably contains a glutaric anhydride structure represented by the following general formula (2).
前記グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂は、より好ましくは、(i)前記一般式(2)で表されるグルタル酸無水物構造単位、および、(ii)不飽和カルボン酸アルキルエステル単位を有する共重合体が好ましい。 More preferably, the acrylic resin having a glutaric anhydride structure includes (i) a glutaric anhydride structural unit represented by the general formula (2), and (ii) an unsaturated carboxylic acid alkyl ester unit. The copolymer which has is preferable.
前記グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂中の、前記一般式(2)で表されるグルタル酸無水物構造単位の含有割合は、前記グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂100重量%中に、好ましくは25〜50重量%の範囲、より好ましくは30〜45重量%の範囲である。前記含有割合が25重量%未満である場合、耐熱性向上効果が小さくなるだけでなく、複屈折特性(光学等方性)や耐溶剤性が低下するおそれがある。 The content ratio of the glutaric anhydride structural unit represented by the general formula (2) in the acrylic resin having the glutaric anhydride structure is 100% by weight of the acrylic resin having the glutaric anhydride structure. Preferably, it is in the range of 25 to 50% by weight, more preferably in the range of 30 to 45% by weight. When the said content rate is less than 25 weight%, not only the heat resistance improvement effect will become small, but there exists a possibility that birefringence characteristics (optical isotropy) and solvent resistance may fall.
前記グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂中の上記不飽和カルボン酸アルキルエステル単位の含有割合は、前記グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂100重量%中に、好ましくは50〜75重量%の範囲、より好ましくは55〜70重量%の範囲である。 The content of the unsaturated carboxylic acid alkyl ester unit in the acrylic resin having the glutaric anhydride structure is preferably 50 to 75% by weight in 100% by weight of the acrylic resin having the glutaric anhydride structure. More preferably, it is the range of 55 to 70% by weight.
前記グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂は、(i)前記一般式(2)で表されるグルタル酸無水物構造、および、(ii)不飽和カルボン酸アルキルエステル単位に加えて、さらに、(iii)不飽和カルボン酸単位、および/または、(iv)その他のビニル単量体単位を含有することができる。ここで、(iv)その他のビニル単量体単位とは、上記(i)〜(iii)のいずれにも属さない共重合可能なビニル単量体単位である。 In addition to (i) the glutaric anhydride structure represented by the general formula (2) and (ii) the unsaturated carboxylic acid alkyl ester unit, the acrylic resin having the glutaric anhydride structure, It can contain (iii) unsaturated carboxylic acid units and / or (iv) other vinyl monomer units. Here, (iv) the other vinyl monomer unit is a copolymerizable vinyl monomer unit that does not belong to any of the above (i) to (iii).
前記グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂中の前記不飽和カルボン酸単位の含有割合は、前記グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂100重量%中に、好ましくは0〜10重量%の範囲、より好ましくは0〜5重量%の範囲、最も好ましくは0〜1重量%の範囲である。前記不飽和カルボン酸単位の含有割合が10重量%を超える場合には、無色透明性、滞留安定性が低下するおそれがある。 The content of the unsaturated carboxylic acid unit in the acrylic resin having the glutaric anhydride structure is preferably in the range of 0 to 10% by weight in 100% by weight of the acrylic resin having the glutaric anhydride structure. More preferably, it is in the range of 0 to 5% by weight, and most preferably in the range of 0 to 1% by weight. When the content ratio of the unsaturated carboxylic acid unit exceeds 10% by weight, colorless transparency and residence stability may be deteriorated.
前記グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂中の、前記その他のビニル単量体単位の含有割合は、前記グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂100重量%中に、好ましくは0〜10重量%の範囲である。前記その他のビニル単量体単位としては、芳香環を含まないビニル単量体単位が好ましい。スチレンなどの芳香族ビニル単量体単位を含む場合、前記グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂中の含有割合が高いと、無色透明性、光学等方性、耐溶剤性が低下するおそれがあるので、前記含有割合は、好ましくは0〜5重量%の範囲、より好ましくは0〜3重量%の範囲である。 The content ratio of the other vinyl monomer units in the acrylic resin having the glutaric anhydride structure is preferably 0 to 10% in 100% by weight of the acrylic resin having the glutaric anhydride structure. % Range. As said other vinyl monomer unit, the vinyl monomer unit which does not contain an aromatic ring is preferable. When an aromatic vinyl monomer unit such as styrene is included, if the content ratio in the acrylic resin having the glutaric anhydride structure is high, colorless transparency, optical isotropy, and solvent resistance may be reduced. Therefore, the content is preferably in the range of 0 to 5% by weight, more preferably in the range of 0 to 3% by weight.
前記グルタル酸無水物構造を有するアクリル樹脂中の、各成分単位の含有割合は、特開2006−274118号公報に記載の方法で算出することができる。 The content ratio of each component unit in the acrylic resin having the glutaric anhydride structure can be calculated by the method described in JP-A-2006-274118.
前記不飽和カルボン酸単位としては、下記一般式(3)で表される構造を有するものが好ましい。
前記不飽和カルボン酸アルキルエステル単位としては、下記一般式(4)で表される構造を有するものが好ましい。
前記グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂は、重量平均分子量が、好ましくは30,000〜150,000の範囲、より好ましくは50,000〜130,000の範囲、さらに好ましくは70,000〜110,000の範囲である。重量平均分子量が、この範囲にあることにより、後工程の加熱脱気時の着色を低減でき、黄色度の小さい重合体を得ることができるとともに、成形品の機械的強度も高くすることができる。 The acrylic resin having the glutaric anhydride structure preferably has a weight average molecular weight in the range of 30,000 to 150,000, more preferably in the range of 50,000 to 130,000, still more preferably 70,000 to The range is 110,000. When the weight average molecular weight is within this range, coloring during heat deaeration in the subsequent step can be reduced, a polymer having a small yellowness can be obtained, and the mechanical strength of the molded product can also be increased. .
前記グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂は、Tgが、好ましくは130℃以上、より好ましくは140℃以上、さらに好ましくは150℃以上である。Tgが130℃以上であることにより、例えば、本発明の光学フィルムとして偏光板に組み入れた場合に、耐久性に優れたものとなり得る。前記グルタル酸無水物構造を有するアクリル系樹脂のTgの上限値は、成形性等の観点から、好ましくは170℃以下である。 The acrylic resin having the glutaric anhydride structure has a Tg of preferably 130 ° C. or higher, more preferably 140 ° C. or higher, and further preferably 150 ° C. or higher. When Tg is 130 ° C. or higher, for example, when the optical film of the present invention is incorporated in a polarizing plate, it can be excellent in durability. The upper limit of Tg of the acrylic resin having the glutaric anhydride structure is preferably 170 ° C. or less from the viewpoint of moldability and the like.
(グルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂)
前記グルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂としては、特開2006−309033号公報、特開2006−317560号公報、特開2006−328329号公報、特開2006−328334号公報、特開2006−337491号公報、特開2006−337492号公報、特開2006−337493号公報、特開2006−337569号公報、特開2007−009182号公報などに記載の、グルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂が挙げられる。前記グルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂は、好ましくは、下記一般式(5)で表されるグルタルイミド構造を含有する。
Examples of the acrylic resin having a glutarimide structure include JP-A-2006-309033, JP-A-2006-317560, JP-A-2006-328329, JP-A-2006-328334, and JP-A-2006-337491. Examples thereof include acrylic resins having a glutarimide structure described in JP-A-2006-337492, JP-A-2006-337493, JP-A-2006-337569, JP-A-2007-009182, and the like. The acrylic resin having the glutarimide structure preferably contains a glutarimide structure represented by the following general formula (5).
前記グルタルイミド構造としては、好ましくは、R1、R2が水素又はメチル基であり、R3が水素、メチル基、ブチル基、またはシクロヘキシル基である。より好ましくは、R1がメチル基であり、R2が水素であり、R3がメチル基である。グルタルイミド構造は、単一の種類でもよく、R1、R2、R3が異なる複数の種類を含んでいてもよい。 As the glutarimide structure, R 1 and R 2 are preferably hydrogen or a methyl group, and R 3 is hydrogen, a methyl group, a butyl group, or a cyclohexyl group. More preferably, R 1 is a methyl group, R 2 is hydrogen, and R 3 is a methyl group. The glutarimide structure may be a single type or may include a plurality of types in which R 1 , R 2 , and R 3 are different.
前記グルタルイミド構造は、以下に説明するアクリル酸エステル単位またはメタクリル酸エステル単位をイミド化することにより形成することが可能である。また、無水マレイン酸等の酸無水物またはそれらと炭素数1〜20の直鎖または分岐のアルコールとのハーフエステル;アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、クロトン酸、フマル酸、シトラコン酸等のα,β−エチレン性不飽和カルボン酸;等もイミド化可能であり、前記グルタルイミド構造の形成に用いることができる。
前記グルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂は、好ましくは、下記一般式(6)で表されるアクリル酸エステル単位またはメタクリル酸エステル単位を含有する。
The acrylic resin having the glutarimide structure preferably contains an acrylic ester unit or a methacrylic ester unit represented by the following general formula (6).
前記グルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂を製造する際に、まずアクリル酸エステル−芳香族ビニル共重合体、メタクリル酸エステル−芳香族ビニル共重合体、アクリル酸エステル重合体、またはメタクリル酸エステル重合体を重合し、これを後イミド化して形成する場合、具体的にアクリル酸エステル単位またはメタクリル酸エステル単位を残基として与える原料としては、特に限定するものではないが、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、t−ブチルメタクリレート、ベンジルメタクリレートおよびシクロヘキシルメタクリレート等が挙げられる。これらの中で、メタクリル酸メチルが特に好ましい。 When producing the acrylic resin having the glutarimide structure, first, an acrylate-aromatic vinyl copolymer, a methacrylic ester-aromatic vinyl copolymer, an acrylate polymer, or a methacrylic ester polymer In the case of forming a polymer by polymerizing and post-imidizing it, there are no particular restrictions on the raw material that gives the acrylic ester unit or methacrylic ester unit as a residue, but examples include methyl acrylate and ethyl acrylate. Butyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate, benzyl methacrylate Acrylate and cyclohexyl methacrylate. Of these, methyl methacrylate is particularly preferred.
アクリル酸エステル単位またはメタクリル酸エステル単位は、単一の種類でもよく、R4、R5、R6が異なる複数の種類を含んでいてもよい。同様に、アクリル酸エステル単位またはメタクリル酸エステル単位を残基として与える原料も複数の種類を混合して用いてもよい。 The acrylic ester unit or the methacrylic ester unit may be of a single type, or may include a plurality of types in which R 4 , R 5 , and R 6 are different. Similarly, a raw material that gives an acrylic ester unit or a methacrylic ester unit as a residue may be used in combination of a plurality of types.
前記グルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂は、好ましくは、下記一般式(7)で表される芳香族ビニル単位を含有する。
芳香族ビニル単位としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレンが挙げられる。スチレンが特に好ましい。前記芳香族ビニル単位は、単一の種類でもよく、R7、R8が異なる複数の種類を含んでいてもよい。 Examples of the aromatic vinyl unit include styrene and α-methylstyrene. Styrene is particularly preferred. The aromatic vinyl unit may be of a single type, or may include a plurality of types in which R 7 and R 8 are different.
前記グルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂中の、前記一般式(5)で表されるグルタルイミド構造単位の含有割合は、R3の構造にも依存し得るが、前記グルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂100重量%中に、好ましくは20重量%以上、より好ましくは20〜95重量%の範囲、さらに好ましくは40〜90重量%の範囲、特に好ましくは50〜80重量%の範囲である。前記グルタルイミド構造単位の含有割合が20重量%より小さい場合、得られるグルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂の耐熱性が不足したり、透明性が損なわれたりするおそれがある。また、前記グルタルイミド構造単位の含有割合が95重量%を超えると、不必要に耐熱性、溶融粘度が上がり、成形加工性が悪くなるおそれがあるほか、得られるフィルムの機械的強度が極端に脆くなるおそれや、透明性が損なわれるおそれがある。 The content ratio of the glutarimide structural unit represented by the general formula (5) in the acrylic resin having the glutarimide structure may depend on the structure of R 3 , but the acrylic resin having the glutarimide structure is also included. In 100% by weight of the resin, it is preferably 20% by weight or more, more preferably in the range of 20 to 95% by weight, still more preferably in the range of 40 to 90% by weight, and particularly preferably in the range of 50 to 80% by weight. When the content rate of the said glutarimide structural unit is smaller than 20 weight%, there exists a possibility that the heat resistance of the acrylic resin which has a glutarimide structure obtained may be insufficient, or transparency may be impaired. In addition, if the content ratio of the glutarimide structural unit exceeds 95% by weight, the heat resistance and melt viscosity are unnecessarily increased, and the moldability may be deteriorated, and the mechanical strength of the obtained film is extremely high. There is a risk of becoming fragile and transparency may be impaired.
前記グルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂中の、前記一般式(7)で表される芳香族ビニル単位の含有割合は、グルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂100重量%中に、好ましくは10重量%以上、より好ましくは10〜40重量%の範囲、さらに好ましくは15〜30重量%の範囲、特に好ましくは15〜25重量%の範囲である。前記芳香族ビニル単位の含有割合が40重量%より大きい場合、得られるグルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂の耐熱性が不足するおそれがある。前記芳香族ビニル単位の含有割合が10重量%より小さい場合、得られるフィルムの機械的強度が低下するおそれがある。 The content of the aromatic vinyl unit represented by the general formula (7) in the acrylic resin having a glutarimide structure is preferably 10% by weight in 100% by weight of the acrylic resin having a glutarimide structure. More preferably, it is in the range of 10 to 40% by weight, more preferably in the range of 15 to 30% by weight, and particularly preferably in the range of 15 to 25% by weight. When the content ratio of the aromatic vinyl unit is larger than 40% by weight, the resulting acrylic resin having a glutarimide structure may be insufficient in heat resistance. If the content of the aromatic vinyl unit is less than 10% by weight, the mechanical strength of the resulting film may be lowered.
前記グルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂は、前記一般式(5)、(6)および(7)で表される構造や単位の含有割合を調整することで、各種の要求される物性に調整することが可能である。例えば、グルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂を、メチルメタクリレート−スチレン共重合体等のアクリル酸エステル−芳香族ビニル共重合体またはメタクリル酸エステル−芳香族ビニル共重合体を重合した後に後イミド化して形成する場合、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルと芳香族ビニルの重合割合を調整することで、前記一般式(7)で表される芳香族ビニル単位の含有割合を決め(前記一般式(7)で表される芳香族ビニル単位の含有割合を0としてもよい)、さらに、後イミド化時の一級アミンの添加割合を調整することで、前記一般式(5)で表されるグルタルイミド構造や、前記一般式(6)で表されるまたはアクリル酸エステル単位またはメタクリル酸エステル単位の含有割合を調整することができる。 The acrylic resin having the glutarimide structure is adjusted to various required physical properties by adjusting the structure and the content ratio of the units represented by the general formulas (5), (6), and (7). It is possible. For example, an acrylic resin having a glutarimide structure is polymerized with an acrylic ester-aromatic vinyl copolymer or a methacrylic ester-aromatic vinyl copolymer such as methyl methacrylate-styrene copolymer and then post-imidized. When forming, the content ratio of the aromatic vinyl unit represented by the general formula (7) is determined by adjusting the polymerization ratio of the acrylic ester or methacrylic ester and the aromatic vinyl (the general formula (7) In addition, the content ratio of the aromatic vinyl unit represented by general formula (5) may be set to 0), and further, the glutarimide structure represented by the general formula (5) or , Represented by the general formula (6), or the content ratio of the acrylate unit or methacrylate unit can be adjusted.
前記グルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂には、必要に応じ、さらに、他の構成単位が共重合されていてもかまわない。他の構成単位としては、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のニトリル系単量体;マレイミド、N−メチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド系単量体;などが挙げられる。これらは直接共重合されても良く、グラフト共重合されてもよい。 The acrylic resin having the glutarimide structure may further be copolymerized with other structural units as necessary. Examples of other structural units include nitrile monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; maleimide monomers such as maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide; These may be directly copolymerized or graft copolymerized.
前記グルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂を製造する際に、まず、メチルメタクリレート−スチレン共重合体等のメタクリル酸エステル−芳香族ビニル共重合体若しくはアクリル酸エステル−芳香族ビニル共重合体、または、メタクリル酸メチル重合体等のメタクリル酸エステル重合体若しくはアクリル酸エステル重合体を重合し、これをイミド樹脂化する場合、メタクリル酸エステル−芳香族ビニル共重合体、アクリル酸エステル−芳香族ビニル共重合体、メタクリル酸エステル重合体およびアクリル酸エステル共重合体は、イミド化反応が可能であれば、リニアー(線状)ポリマー、ブロックポリマー、コアシェルポリマー、分岐ポリマー、ラダーポリマー、架橋ポリマーのいずれであってもよい。ブロックポリマーはA−B型、A−B−C型、A−B−A型、またはこれら以外のいずれのタイプのブロックポリマーであってもよい。コアシェルポリマーは、ただ一層のコアおよびただ一層のシェルのみからなるものであってもよいし、それぞれが多層になっているものであってもよい。 In producing the acrylic resin having the glutarimide structure, first, a methacrylic acid ester-aromatic vinyl copolymer or an acrylic acid ester-aromatic vinyl copolymer such as methyl methacrylate-styrene copolymer, or When polymerizing a methacrylic acid ester polymer such as methyl methacrylate polymer or an acrylic acid ester polymer and converting it to an imide resin, a methacrylic acid ester-aromatic vinyl copolymer, acrylic acid ester-aromatic vinyl copolymer The polymer, methacrylic acid ester polymer and acrylic acid ester copolymer may be any of linear (linear) polymer, block polymer, core-shell polymer, branched polymer, ladder polymer, and cross-linked polymer as long as imidization reaction is possible. May be. The block polymer may be an AB type, an ABC type, an ABA type, or any other type of block polymer. The core-shell polymer may be composed of only one core and only one shell, or each may be a multilayer.
前記グルタルイミド構造を有するアクリル系樹脂は、重量平均分子量が、好ましくは10,000〜500,000の範囲である。重量平均分子量が10,000を下回る場合には、フィルムにした場合の機械的強度が不足し、500,000を上回る場合には、溶融押出時の粘度が高く、成形加工性が低下し、成形品の生産性が低下するおそれがある。 The acrylic resin having the glutarimide structure preferably has a weight average molecular weight in the range of 10,000 to 500,000. When the weight average molecular weight is less than 10,000, the mechanical strength in the case of forming a film is insufficient, and when it exceeds 500,000, the viscosity at the time of melt extrusion is high, the molding processability is lowered, and molding is performed. Product productivity may be reduced.
[光学補償層]
本発明において、光学補償層の形成材料としては、ポリエチレン部位を有するポリビニルアルコール系樹脂を用いる。前記ポリエチレン部位を有するポリビニルアルコール系樹脂は、本発明の効果を損なわない範囲内で、任意の適切なポリエチレン部位を有するポリビニルアルコール系樹脂を採用し得る。特に、下記構造式(I)および(II)で示される繰り返し単位を含む、ポリエチレン部位を含有するポリビニルアルコール系樹脂は、水酸基を有するため透明フィルムとの接着性が良好であり、さらにTgが低いため加工性に優れている。また、ポリビニルアルコール部位が延伸応力方向に対して並びやすいため、位相差発現性が良いという優位点を有する。加えて、ポリエチレン部位の存在により、ポリビニルアルコール部位における水酸基の相互作用が軽減され、配向が促進される。そして、光学補償層を形成したときに、nx>ny≒nzという光学特性を付与することができる。さらに、前記ポリビニルアルコール系樹脂はポリイミド系材料と比較して非常に安価であり、生産コストの面でも優れているという利点も有する。
In the present invention, a polyvinyl alcohol resin having a polyethylene moiety is used as a material for forming the optical compensation layer. As the polyvinyl alcohol-based resin having a polyethylene moiety, any suitable polyvinyl alcohol-based resin having a polyethylene moiety can be used within a range not impairing the effects of the present invention. In particular, a polyvinyl alcohol-based resin containing a polyethylene moiety containing a repeating unit represented by the following structural formulas (I) and (II) has a hydroxyl group and thus has good adhesion to a transparent film, and further has a low Tg. Therefore, it is excellent in workability. Moreover, since the polyvinyl alcohol part is easy to line up with respect to the extending | stretching stress direction, it has the advantage that phase difference expression is good. In addition, the presence of the polyethylene moiety reduces the interaction of hydroxyl groups at the polyvinyl alcohol moiety and promotes orientation. Then, when the optical compensation layer is formed, optical characteristics of nx> ny≈nz can be imparted. Furthermore, the polyvinyl alcohol-based resin is very inexpensive as compared with a polyimide-based material, and has an advantage that it is excellent in terms of production cost.
前記ポリエチレン部位を有するポリビニルアルコール系樹脂は、前記構造式(I)および(II)で示される繰り返し単位を含むことが好ましいが、前記(I)および前記(II)以外の成分を含有してもよい。前記(I)と前記(II)のモル比は、50:50〜99:1の範囲であることが好ましい。前記各繰り返し単位を含む重合体において、前記各繰り返し単位の配列順序は、特に制限されず、交互、ランダムまたはブロックのいずれであってもよい。 The polyvinyl alcohol-based resin having a polyethylene moiety preferably contains the repeating units represented by the structural formulas (I) and (II), but may contain components other than (I) and (II). Good. The molar ratio of (I) to (II) is preferably in the range of 50:50 to 99: 1. In the polymer containing each repeating unit, the arrangement order of the repeating units is not particularly limited, and may be any of alternating, random, or block.
前記ポリエチレン部位を有するポリビニルアルコール系樹脂の分子量について特に限定はないが、重量平均分子量(Mw)として、1,000〜1,000,000の範囲が好ましく、2,000〜500,000の範囲がさらに好ましい。 Although there is no limitation in particular about the molecular weight of the polyvinyl alcohol-type resin which has the said polyethylene part, As a weight average molecular weight (Mw), the range of 1,000-1,000,000 is preferable and the range of 2,000-500,000 is preferable. Further preferred.
前記透明フィルム基材上に光学補償層を形成するには、前記透明フィルム基材上に、光学補償層の形成材料を塗工して塗工膜を形成し、前記塗工膜および前記透明フィルム基材を延伸する方法を用いる。前記透明フィルム基材上に形成された塗工膜は共に延伸されて光学補償層を形成して、本発明の光学フィルムを得ることができる。 In order to form an optical compensation layer on the transparent film substrate, a coating film is formed on the transparent film substrate by coating a material for forming the optical compensation layer, and the coating film and the transparent film are formed. A method of stretching the substrate is used. The coating film formed on the transparent film substrate can be stretched together to form an optical compensation layer to obtain the optical film of the present invention.
前記光学補償層の形成材料を塗工する方法としては、例えば、前記形成材料を加熱溶融して塗工する方法や、前記形成材料を溶剤に溶解させた溶液を塗工する方法等が挙げられる。また、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等の塗工方法を適宜選択することができる。 Examples of the method of applying the forming material of the optical compensation layer include a method of applying the melt by heating and melting the forming material, and a method of applying a solution in which the forming material is dissolved in a solvent. . In addition, a coating method such as a spin coating method, a roll coating method, a flow coating method, a printing method, a dip coating method, a casting film forming method, a bar coating method, or a gravure printing method can be appropriately selected.
前記溶剤としては、前記形成材料を溶解できれば特に限定されず、適宜選択することができる。例えば、ポリビニルアルコール系樹脂の溶剤としては、水、ジメチルスルホキシド(DMSO)、イソプロピルアルコール(IPA)等を用いることができる。なお、これらの溶剤は、単独あるいは混合して使用することができる。前記溶液は、粘度の点より、前記溶剤100重量部に対して、前記形成材料を5〜50重量部の範囲、好ましくは10〜40重量部の範囲で混合して用いることが好ましい。 The solvent is not particularly limited as long as the forming material can be dissolved, and can be appropriately selected. For example, water, dimethyl sulfoxide (DMSO), isopropyl alcohol (IPA), or the like can be used as the solvent for the polyvinyl alcohol resin. These solvents can be used alone or in combination. From the viewpoint of viscosity, the solution is preferably used by mixing the forming material in a range of 5 to 50 parts by weight, preferably in a range of 10 to 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solvent.
また、前記形成材料に、前記ポリエチレン部位を有するポリビニルアルコール系樹脂を架橋させる架橋剤を加え、前記延伸工程の後に、加熱、紫外線照射、電子線照射等による架橋処理工程を有することも好ましい。 Moreover, it is also preferable to add the crosslinking agent which bridge | crosslinks the polyvinyl-alcohol-type resin which has the said polyethylene part to the said formation material, and has the crosslinking process process by heating, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, etc. after the said extending | stretching process.
前記架橋剤としては、任意の適切な架橋剤を採用し得る。前記架橋剤は、好ましくは、前記ポリエチレン部位を有するポリビニルアルコール系樹脂と反応性を有する官能基を少なくとも2つ有する化合物である。前記架橋剤としては、例えば、エチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等のアルキレン基とアミノ基とを2個有するアルキレンジアミン類、トリレンジイソシアネート、水素化トリレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリレンジイソシアネートアダクト、トリフェニルメタントリイソシアネート、メチレンビス(4−フェニル)メタントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネートおよびこれらのケトオキシムブロック物またはフェノールブロック物等のイソシアネート類、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミン等のエポキシ類、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド等のモノアルデヒド類、グリオキザール、マロンジアルデヒド、スクシンジアルデヒド、グルタルジアルデヒド、マレインジアルデヒド、フタルジアルデヒド等のジアルデヒド類、メチロール尿素、メチロールメラミン、アルキル化メチロール尿素、アルキル化メチロール化メラミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミンとホルムアルデヒドとの縮合物等のアミノ−ホルムアルデヒド樹脂、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、鉄、ニッケル、チタン等の二価金属または三価金属の塩およびその酸化物等が挙げられる。これらの中でも、アミノ−ホルムアルデヒド樹脂やジアルデヒド類が好ましい。前記アミノ−ホルムアルデヒド樹脂としては、メチロール基を有する化合物が好ましい。前記ジアルデヒド類としては、グリオキザールが好ましい。中でも、メチロール基を有する化合物が好ましく、メチロールメラミンが特に好ましい。前記アルデヒド化合物としては、例えば、日本合成化学(株)製の商品名「グリオキザール」、OMNOVA製の商品名「セクアレッツ755」等が挙げられる。前記アミン化合物としては、例えば、三菱瓦斯化学(株)製の商品名「メタキシレンジアミン」等が挙げられる。前記メチロール化合物としては、例えば、大日本インキ化学工業(株)製の商品名「ウォーターゾール」シリーズ等が挙げられる。 Any appropriate crosslinking agent can be adopted as the crosslinking agent. The crosslinking agent is preferably a compound having at least two functional groups having reactivity with the polyvinyl alcohol resin having the polyethylene moiety. Examples of the crosslinking agent include alkylenediamines having two alkylene groups and amino groups such as ethylenediamine, triethylenediamine, hexamethylenediamine, tolylene diisocyanate, hydrogenated tolylene diisocyanate, trimethylolpropane tolylene diisocyanate adduct, Triphenylmethane triisocyanate, methylenebis (4-phenyl) methane triisocyanate, isophorone diisocyanate and isocyanates such as ketoxime block product or phenol block product, ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether Glycerin triglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, Epoxys such as methylolpropane triglycidyl ether, diglycidyl aniline, diglycidyl amine, monoaldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, butyraldehyde, glyoxal, malondialdehyde, succindialdehyde, glutardialdehyde, maleindialdehyde , Dialdehydes such as phthaldialdehyde, methylol urea, methylol melamine, alkylated methylol urea, alkylated methylolated melamine, acetoguanamine, amino-formaldehyde resins such as condensates of benzoguanamine and formaldehyde, sodium, potassium, magnesium, Examples include divalent or trivalent metal salts such as calcium, aluminum, iron, nickel, titanium, and oxides thereof. . Among these, amino-formaldehyde resins and dialdehydes are preferable. The amino-formaldehyde resin is preferably a compound having a methylol group. Glyoxal is preferred as the dialdehyde. Among them, a compound having a methylol group is preferable, and methylol melamine is particularly preferable. Examples of the aldehyde compound include a product name “Glyoxal” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., a product name “SECARETZ 755” manufactured by OMNOVA, and the like. Examples of the amine compound include trade name “metaxylenediamine” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. Examples of the methylol compound include a trade name “Watersol” series manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
前記架橋剤の配合量は、前記ポリエチレン部位を有するポリビニルアルコール系樹脂100重量部に対して、例えば、1〜60重量部の範囲である。前記配合量を前記の範囲とすることで、透明性、接着性、耐水性に優れた光学補償層を形成することができる。 The amount of the crosslinking agent is, for example, in the range of 1 to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyvinyl alcohol resin having the polyethylene moiety. By setting the blending amount within the above range, an optical compensation layer excellent in transparency, adhesiveness, and water resistance can be formed.
なお、前記構造式(I)および(II)で示される繰り返し単位を含む重合体の重合度が600〜5,000の範囲の前記ポリエチレン部位を有するポリビニルアルコール系樹脂を用いる場合は、溶剤を用いることなく塗工することができる。このような樹脂を使用する場合は、前記架橋処理工程を有する製造方法を用いることが好ましい。 In addition, when using the polyvinyl alcohol-type resin which has the said polyethylene site | part of the polymerization degree of the polymer containing the repeating unit shown by said structural formula (I) and (II) in the range of 600-5,000, use a solvent. It can be applied without any problems. When such a resin is used, it is preferable to use a production method having the crosslinking treatment step.
前記透明フィルム基材と前記塗工膜との積層体の延伸方法は、特に限定されないが、例えば、長手方向に一軸延伸する自由端縦延伸方法、フィルムの長手方向を固定した状態で幅方向に一軸延伸する固定端横延伸方法、長手方向および幅方向の両方に延伸を行う逐次または同時二軸延伸方法、幅方向に延伸し長手方向に収縮する方法等が挙げられる。 The stretching method of the laminate of the transparent film substrate and the coating film is not particularly limited. For example, a free end longitudinal stretching method in which the film is uniaxially stretched in the longitudinal direction, the width direction with the longitudinal direction of the film fixed. Examples thereof include a fixed end transverse stretching method in which uniaxial stretching is performed, a sequential or simultaneous biaxial stretching method in which stretching is performed in both the longitudinal direction and the width direction, and a method in which stretching is performed in the width direction and contracts in the longitudinal direction.
そして、前記積層体の延伸は、例えば、前記透明フィルム基材上に前記ポリエチレン部位を含有するポリビニルアルコール系樹脂を塗工して塗工膜を形成し、ついで、前記塗工膜を乾燥させた後に、前記乾燥した塗工膜と前記透明フィルム基材とを延伸してもよいし、また、前記塗工膜を乾燥させる前に前記塗工膜が形成された透明フィルム基材を延伸してもよい。前記延伸は、前記透明フィルム基材と前記塗工膜との両方を共に引っ張ることによって行ってもよいが、例えば、つぎの理由から、前記透明フィルム基材のみを延伸することにより、前記塗工膜を間接的に延伸することも好ましい。前記透明フィルム基材のみを延伸した場合、この延伸により前記透明フィルム基材に発生する張力によって、前記透明フィルム基材上の前記塗工膜が間接的に延伸される。そして、積層体を延伸するよりも、単層体を延伸するほうが、通常、均一な延伸となるため、前述のように透明フィルム基材のみを均一に延伸すれば、これに伴って、前記透明フィルム基材上の前記塗工膜も均一に延伸できるためである。前記透明フィルム基材のみの延伸によって前記塗工膜を間接的に延伸することで、得られる光学フィルムの光学特性をより均一にすることができ、特に前記X軸方向の特性のばらつきを効果的に防止することができるため、前記で得られる光学フィルムは液晶表示装置の画面大型化にも良好に対応することができる。 And the stretching of the laminate was performed, for example, by coating the transparent film substrate with a polyvinyl alcohol resin containing the polyethylene moiety to form a coating film, and then drying the coating film Later, the dried coating film and the transparent film substrate may be stretched, or the transparent film substrate on which the coating film is formed is stretched before the coating film is dried. Also good. The stretching may be performed by pulling both the transparent film substrate and the coating film together. For example, for the following reason, the coating is performed by stretching only the transparent film substrate. It is also preferred to stretch the membrane indirectly. When only the transparent film substrate is stretched, the coating film on the transparent film substrate is indirectly stretched by the tension generated in the transparent film substrate by this stretching. And, since it is usually uniform stretching rather than stretching the laminate, if only the transparent film substrate is uniformly stretched as described above, the transparent This is because the coating film on the film substrate can also be stretched uniformly. By indirectly stretching the coating film by stretching only the transparent film substrate, the optical characteristics of the obtained optical film can be made more uniform, and in particular, variations in characteristics in the X-axis direction are effective. Therefore, the optical film obtained as described above can cope with a large screen of a liquid crystal display device.
延伸条件としては、特に限定されず、透明フィルム基材や形成材料の種類等に応じて適宜定めることができるが、延伸方向は、前記透明フィルム基材の幅方向であることが好ましい。前記透明フィルム基材の幅方向に延伸することで、本発明の光学フィルムを液晶テレビ用途に用いる場合、液晶テレビ画面の大型化にも対応することができる。前記構造式(I)および(II)を含むポリビニルアルコール系材料を用いる場合の幅方向における延伸倍率は1.3〜6.0倍の範囲であることが好ましく、より好ましくは2.0〜5.0倍の範囲である。また、それに伴う長手方向の収縮倍率は、0.5〜1.0倍の範囲であることが好ましく、より好ましくは0.7〜1.0倍の範囲である。 It does not specifically limit as extending | stretching conditions, Although it can determine suitably according to a transparent film base material, the kind of forming material, etc., it is preferable that an extending | stretching direction is the width direction of the said transparent film base material. By extending in the width direction of the transparent film substrate, when the optical film of the present invention is used for liquid crystal television applications, it is possible to cope with an increase in the size of the liquid crystal television screen. When using a polyvinyl alcohol-based material containing the structural formulas (I) and (II), the draw ratio in the width direction is preferably in the range of 1.3 to 6.0 times, more preferably 2.0 to 5 The range is .0 times. Further, the shrinkage factor in the longitudinal direction associated therewith is preferably in the range of 0.5 to 1.0 times, more preferably in the range of 0.7 to 1.0 times.
本発明における光学フィルムによると、屈折率が、nx>ny>nzの関係のみならず、nx>ny≒nzの関係を満たす光学特性を得ることができる。すなわち、屈折率が、nx>ny≒nzの関係を満たし、所望のΔn(面内最大屈折率と厚み方向の屈折率との差:nx−nz)と、Nz係数とを有する光学フィルムを得ることができる。ここで、ny≒nzとは、nyとnzが厳密に等しい場合のみならず、nyとnzが実質的に等しい場合も包含する。本明細書において、例えば「nyとnzが実質的に等しい」とは、光学フィルムの全体的な光学特性に実用上の影響を与えない範囲でnyとnzが異なる場合も包含する趣旨である。また、本発明におけるΔnは、例えば、0.01〜0.09の範囲であり、好ましくは0.015〜0.06の範囲である。更に好ましくは、0.015〜0.035の範囲である。また、本発明におけるNz係数は、0.9〜2.0の範囲であり、好ましくは1.05〜1.40の範囲である。 According to the optical film of the present invention, it is possible to obtain optical characteristics satisfying not only the relationship of nx> ny> nz but also the relationship of nx> ny≈nz. That is, an optical film having a refractive index satisfying a relationship of nx> ny≈nz and having a desired Δn (difference between the in-plane maximum refractive index and the refractive index in the thickness direction: nx−nz) and an Nz coefficient is obtained. be able to. Here, ny≈nz includes not only the case where ny and nz are strictly equal, but also the case where ny and nz are substantially equal. In the present specification, for example, “ny and nz are substantially equal” is intended to include the case where ny and nz are different within a range that does not practically affect the overall optical characteristics of the optical film. Moreover, (DELTA) n in this invention is the range of 0.01-0.09, for example, Preferably it is the range of 0.015-0.06. More preferably, it is the range of 0.015-0.035. Moreover, the Nz coefficient in this invention is the range of 0.9-2.0, Preferably it is the range of 1.05-1.40.
[本発明の偏光板]
本発明の偏光板は、光学フィルムと偏光子とを含む偏光板であって、前記光学フィルムが、前記本発明の光学フィルムである。本発明の偏光板の構成としては、前記光学フィルムを構成する前記透明フィルム基材側または前記光学補償層側に、偏光子が積層されて構成されている。なお、前記光学補償層を前記透明フィルム基材から剥離した前記光学補償層単層と、偏光子との積層体も偏光板として用いることができる。偏光子上には保護層を形成してもよい。図1の模式断面図に、本発明の偏光板の構成の一例を示す。同図においては、分かりやすくするために、各構成部材の大きさ、比率等は、実際とは異なっている。図示のとおり、この偏光板10は、保護層11、偏光子12、および前記本発明の光学フィルム13が、この順序で積層され構成されている。前記偏光板の全体厚みは、例えば、20〜300μmの範囲である。前記範囲の厚みとすることで、より機械的強度に優れた偏光板を得ることができる。
[Polarizing plate of the present invention]
The polarizing plate of the present invention is a polarizing plate including an optical film and a polarizer, and the optical film is the optical film of the present invention. As a structure of the polarizing plate of this invention, a polarizer is laminated | stacked on the said transparent film base material side or the said optical compensation layer side which comprises the said optical film, and is comprised. In addition, the laminated body of the said optical compensation layer single layer which peeled the said optical compensation layer from the said transparent film base material, and a polarizer can also be used as a polarizing plate. A protective layer may be formed on the polarizer. An example of the configuration of the polarizing plate of the present invention is shown in the schematic cross-sectional view of FIG. In the figure, the size, ratio, and the like of each component are different from actual ones for easy understanding. As shown in the figure, the
前記偏光板の各構成部材(光学部材)の間には、任意の接着層や、任意の光学部材(好ましくは、等方性を示すもの)が配置されてもよい。前記「接着層」とは、隣り合う光学部材の面と面とを接合し、実用上十分な接着力と接着時間で一体化させるものをいう。前記接着層を形成する材料としては、例えば、従来公知の接着剤、粘着剤、アンカーコート剤等が挙げられる。前記接着層は、接着体の表面にアンカーコート層が形成され、その上に接着剤層が形成されたような、多層構造であってもよい。また、肉眼的に認知できないような薄い層(ヘアーラインともいう)であってもよい。 Arbitrary adhesive layers and arbitrary optical members (preferably those exhibiting isotropic properties) may be disposed between the constituent members (optical members) of the polarizing plate. The “adhesive layer” refers to a layer that joins the surfaces of adjacent optical members and integrates them with practically sufficient adhesive force and adhesion time. Examples of the material for forming the adhesive layer include conventionally known adhesives, pressure-sensitive adhesives, anchor coating agents, and the like. The adhesive layer may have a multilayer structure in which an anchor coat layer is formed on the surface of an adhesive body and an adhesive layer is formed thereon. Further, it may be a thin layer (also referred to as a hairline) that cannot be visually recognized.
前記偏光子は、例えば、ヨウ素を含有するポリビニルアルコール系樹脂を含む高分子フィルムを延伸して得ることができる。前記偏光子のヨウ素含有量は、例えば、1.8〜5.0重量%の範囲であり、好ましくは、2.0〜4.0重量%の範囲である。前記偏光子は、さらに、カリウムを含むことが好ましい。前記カリウムの含有量は、例えば、0.2〜1.0重量%の範囲であり、好ましくは、0.3〜0.9重量%の範囲であり、さらに好ましくは、0.4〜0.8重量%の範囲である。前記偏光子は、さらに、ホウ素を含むことが好ましい。前記ホウ素の含有量は、例えば、0.5〜3.0重量%の範囲であり、好ましくは、1.0〜2.8重量%の範囲であり、さらに好ましくは、1.5〜2.6重量%の範囲である。 The polarizer can be obtained, for example, by stretching a polymer film containing a polyvinyl alcohol resin containing iodine. The iodine content of the polarizer is, for example, in the range of 1.8 to 5.0% by weight, and preferably in the range of 2.0 to 4.0% by weight. The polarizer preferably further contains potassium. The potassium content is, for example, in the range of 0.2 to 1.0% by weight, preferably in the range of 0.3 to 0.9% by weight, and more preferably in the range of 0.4 to 0.00. It is in the range of 8% by weight. The polarizer preferably further contains boron. The boron content is, for example, in the range of 0.5 to 3.0% by weight, preferably in the range of 1.0 to 2.8% by weight, and more preferably in the range of 1.5 to 2.%. It is in the range of 6% by weight.
前記ポリビニルアルコール系樹脂は、例えば、ビニルエステル系モノマーを重合して得られるビニルエステル系重合体をケン化することで得ることができる。前記ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、好ましくは、95.0〜99.9モル%の範囲である。ケン化度が前記範囲であるポリビニルアルコール系樹脂を用いることで、より耐久性に優れた偏光子を得ることができる。前記ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、目的に応じて、適宜、適切な値が選択され得る。前記平均重合度は、好ましくは、1200〜3600の範囲である。前記平均重合度は、例えば、JIS K 6726(1994年版)に準じて求めることができる。 The polyvinyl alcohol resin can be obtained, for example, by saponifying a vinyl ester polymer obtained by polymerizing a vinyl ester monomer. The degree of saponification of the polyvinyl alcohol resin is preferably in the range of 95.0 to 99.9 mol%. By using a polyvinyl alcohol-based resin having a saponification degree within the above range, a polarizer having more excellent durability can be obtained. The average degree of polymerization of the polyvinyl alcohol-based resin can be appropriately selected depending on the purpose. The average degree of polymerization is preferably in the range of 1200 to 3600. The average degree of polymerization can be determined according to, for example, JIS K 6726 (1994 edition).
前記ポリビニルアルコール系樹脂を含む高分子フィルムを得る方法としては、任意の適切な成形加工法が採用され得る。前記成形加工法としては、例えば、特開2001−315144号公報[実施例1]に記載の方法が挙げられる。 As a method for obtaining the polymer film containing the polyvinyl alcohol-based resin, any appropriate forming method can be adopted. Examples of the molding method include the method described in JP-A No. 2001-315144 [Example 1].
前記ポリビニルアルコール系樹脂を含む高分子フィルムは、好ましくは、可塑剤および界面活性剤の少なくとも一方を含む。前記可塑剤としては、例えば、エチレングリコールやグリセリン等の多価アルコール等があげられる。前記界面活性剤としては、例えば、非イオン界面活性剤等があげられる。前記可塑剤および前記界面活性剤の含有量は、好ましくは、前記ポリビニルアルコール系樹脂100重量部に対して、1〜10重量部の範囲である。前記可塑剤および前記界面活性剤は、例えば、偏光子の染色性や延伸性を向上させる。 The polymer film containing the polyvinyl alcohol resin preferably contains at least one of a plasticizer and a surfactant. Examples of the plasticizer include polyhydric alcohols such as ethylene glycol and glycerin. Examples of the surfactant include nonionic surfactants. The content of the plasticizer and the surfactant is preferably in the range of 1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyvinyl alcohol resin. For example, the plasticizer and the surfactant improve the dyeability and stretchability of the polarizer.
前記ポリビニルアルコール系樹脂を含む高分子フィルムは、例えば、市販のフィルムをそのまま用いることもできる。前記市販のポリビニルアルコール系樹脂を含む高分子フィルムとしては、例えば、(株)クラレ製の商品名「クラレビニロンフィルム」、東セロ(株)製の商品名「トーセロビニロンフィルム」、日本合成化学工業(株)製の商品名「日合ビニロンフィルム」等が挙げられる。 As the polymer film containing the polyvinyl alcohol-based resin, for example, a commercially available film can be used as it is. Examples of the polymer film containing the commercially available polyvinyl alcohol resin include, for example, “Kuraray Vinylon Film” manufactured by Kuraray Co., Ltd., “Tose Cello Vinylon Film” manufactured by Tosero Co., Ltd., Nippon Synthetic Chemical Industry The product name "Nippon Vinylon Film" manufactured by Co., Ltd. and the like can be mentioned.
前記保護層は、例えば、偏光子が収縮や膨張することを防いだり、紫外線による劣化を防いだりするために用いられる。前記保護層の厚みは、好ましくは、20〜100μmの範囲である。前記保護層の波長590nmにおける透過率(T[590])は、好ましくは、90%以上である。 The protective layer is used, for example, to prevent the polarizer from contracting or expanding, or to prevent deterioration due to ultraviolet rays. The thickness of the protective layer is preferably in the range of 20 to 100 μm. The transmittance (T [590]) at a wavelength of 590 nm of the protective layer is preferably 90% or more.
前記保護層を形成する材料としては、任意の適切なものが選択され得る。前記保護層は、セルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂、またはアクリル系樹脂を含む高分子フィルムであることが好ましい。前記セルロース系樹脂を含む高分子フィルムは、例えば、特開平7−112446号公報の実施例1に記載の方法により得ることができる。前記ノルボルネン系樹脂を含む高分子フィルムは、例えば、特開2001−350017号公報に記載の方法により得ることができる。前記アクリル系樹脂を含む高分子フィルムは、例えば、特開2004−198952号公報の実施例1に記載の方法により得ることができる。 Any appropriate material can be selected as the material for forming the protective layer. The protective layer is preferably a polymer film containing a cellulose resin, a norbornene resin, or an acrylic resin. The polymer film containing the cellulose resin can be obtained, for example, by the method described in Example 1 of JP-A-7-112446. The polymer film containing the norbornene resin can be obtained, for example, by the method described in JP-A-2001-350017. The polymer film containing the acrylic resin can be obtained, for example, by the method described in Example 1 of JP-A-2004-19892.
前記保護層は、前記偏光子側とは反対側に表面処理層を有してもよい。前記表面処理としては、目的に応じて、適宜、適切な処理が採用され得る。前記表面処理層としては、例えば、ハードコート処理、帯電防止処理、反射防止処理(アンチリフレクション処理ともいう)、拡散処理(アンチグレア処理ともいう)等の処理層が挙げられる。これらの表面処理は、画面の汚れや傷つきを防止したり、室内の蛍光灯や太陽光線が画面に映り込むことによって、表示画面が見えづらくなることを防止したりする目的で使用される。前記表面処理層は、一般的には、ベースフィルムの表面に前記の処理層を形成する処理剤を固着させたものが用いられる。前記ベースフィルムは、前記保護層を兼ねていてもよい。さらに、前記表面処理層は、例えば、帯電防止処理層の上にハードコート処理層を積層したような多層構造であってもよい。 The protective layer may have a surface treatment layer on the side opposite to the polarizer side. As the surface treatment, an appropriate treatment can be appropriately employed depending on the purpose. Examples of the surface treatment layer include treatment layers such as hard coat treatment, antistatic treatment, antireflection treatment (also referred to as antireflection treatment), and diffusion treatment (also referred to as antiglare treatment). These surface treatments are used for the purpose of preventing the screen from becoming dirty or damaged, or preventing the display screen from becoming difficult to see due to the reflection of indoor fluorescent light or sunlight on the screen. In general, the surface treatment layer is used in which a treatment agent for forming the treatment layer is fixed on the surface of a base film. The base film may also serve as the protective layer. Further, the surface treatment layer may have a multilayer structure in which a hard coat treatment layer is laminated on an antistatic treatment layer, for example.
前記保護層は、例えば、表面処理が施された市販の高分子フィルムをそのまま用いることができる。若しくは、前記市販の高分子フィルムに任意の表面処理を施して用いることもできる。前記拡散処理(アンチグレア処理)が施された市販のフィルムとしては、例えば、日東電工(株)製の商品名「AG150、AGS1、AGS2」等が挙げられる。前記反射防止処理(アンチリフレクション処理)が施された市販のフィルムとしては、例えば、日東電工(株)製の商品名「ARS、ARC」等が挙げられる。前記ハードコート処理および前記帯電防止処理が施された市販のフィルムとしては、例えば、コニカミノルタオプト(株)製の商品名「KC8UX−HA」等が挙げられる。前記反射防止処理が施された市販のフィルムとしては、例えば、日本油脂(株)製の商品名「ReoLook」シリーズ等が挙げられる。 As the protective layer, for example, a commercially available polymer film subjected to surface treatment can be used as it is. Alternatively, the commercially available polymer film can be used after being subjected to any surface treatment. Examples of the commercially available film subjected to the diffusion treatment (anti-glare treatment) include trade names “AG150, AGS1, AGS2” manufactured by Nitto Denko Corporation. Examples of the commercially available film subjected to the antireflection treatment (antireflection treatment) include trade names “ARS, ARC” manufactured by Nitto Denko Corporation. Examples of the commercially available film subjected to the hard coat treatment and the antistatic treatment include trade name “KC8UX-HA” manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd. Examples of the commercially available film subjected to the antireflection treatment include a product name “ReoLook” series manufactured by NOF Corporation.
[第1の液晶パネル]
前述のとおり、本発明の第1の液晶パネルは、液晶セルと光学部材とを含む液晶パネルであって、前記光学部材が、前記本発明の光学フィルムまたは前記本発明の偏光板であり、前記光学部材が、前記液晶セルの少なくとも一方の側に配置されていることを特徴とする。図2の模式断面図に、本発明の第1の液晶パネルの構成の一例を示す。同図において、図1と同一部分には、同一符号を付している。図示のとおり、この第1の液晶パネル30では、前記本発明の偏光板10が、前記光学フィルム13が前記液晶セル41側に位置する状態で、前記液晶セル41の視認側(同図において上側)およびバックライト側(同図において下側)の双方に配置されている。なお、この例の第1の液晶パネルでは、前記液晶セルの視認側およびバックライト側の双方に、前記本発明の偏光板が配置されている。ただし、本発明は、これに限定されない。本発明の第1の液晶パネルにおいて、前記本発明の偏光板は、前記液晶セルの視認側およびバックライト側の少なくとも一方の側に配置されていればよい。
[First LCD panel]
As described above, the first liquid crystal panel of the present invention is a liquid crystal panel including a liquid crystal cell and an optical member, and the optical member is the optical film of the present invention or the polarizing plate of the present invention, An optical member is disposed on at least one side of the liquid crystal cell. An example of the configuration of the first liquid crystal panel of the present invention is shown in the schematic cross-sectional view of FIG. In this figure, the same parts as those in FIG. As shown in the figure, in the first liquid crystal panel 30, the
前記液晶セルとしては、例えば、薄膜トランジスタを用いたアクティブマトリクス型のもの等が挙げられる。また、前記液晶セルとしては、スーパーツイストネマチック液晶表示装置に採用されているような、単純マトリクス型のもの等も挙げられる。 Examples of the liquid crystal cell include an active matrix type using a thin film transistor. Examples of the liquid crystal cell include a simple matrix type as employed in a super twist nematic liquid crystal display device.
前記液晶セルは、一対の基板により液晶層が挟持されているという構成が一般的である。図4に、液晶セルの構成の一例を示す。図示のように、本例の液晶セル41は、一対の基板411a、411b間に、スペーサー412が配置されることにより、空間が形成され、前記空間に、液晶層413が挟持されている。図示しないが、前記一対の基板のうち、一方の基板(アクティブマトリクス基板)には、例えば、液晶の電気光学特性を制御するスイッチング素子(例えば、TFT)と、このアクティブ素子にゲート信号を与える走査線およびソース信号を伝える信号線とが設けられる。前記一対の基板のうち、他方の基板には、例えば、カラーフィルターが設けられる。
The liquid crystal cell generally has a configuration in which a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates. FIG. 4 shows an example of the configuration of the liquid crystal cell. As illustrated, in the
前記カラーフィルターは、前記アクティブマトリクス基板に設けてもよい。または、例えば、フィールドシーケンシャル方式のように液晶表示装置の照明手段として、RGBの3色光源(さらに、多色の光源を含んでもよい)が用いられる場合には、前記カラーフィルターは、省略してもよい。前記一対の基板の間隔(セルギャップ)は、例えば、スペーサーによって制御される。前記セルギャップは、例えば、1.0〜7.0μmの範囲である。各基板の前記液晶層に接する側には、例えば、ポリイミドからなる配向膜が設けられる。または、例えば、パターニングされた透明基板によって形成されるフリンジ電界を利用して、液晶分子の初期配向が制御される場合には、前記配向膜は、省略してもよい。 The color filter may be provided on the active matrix substrate. Or, for example, when an RGB three-color light source (which may further include a multicolor light source) is used as the illumination means of the liquid crystal display device as in the field sequential method, the color filter is omitted. Also good. The distance (cell gap) between the pair of substrates is controlled by a spacer, for example. The cell gap is, for example, in the range of 1.0 to 7.0 μm. For example, an alignment film made of polyimide is provided on the side of each substrate in contact with the liquid crystal layer. Alternatively, for example, when the initial alignment of liquid crystal molecules is controlled using a fringe electric field formed by a patterned transparent substrate, the alignment film may be omitted.
前記液晶セルの屈折率は、nz>nx=nyの関係を示すことが好ましい。前記屈折率がnz>nx=nyの関係を示す液晶セルとしては、駆動モードの分類によれば、例えば、バーティカル・アラインメント(VA)モード、ツイスティッド・ネマティック(TN)モード、垂直配向型電界制御複屈折(ECB)モード、光学補償複屈折(OCB)モード等が挙げられる。本発明において、前記液晶セルの駆動モードは、前記VAモードであることが好ましい。 The refractive index of the liquid crystal cell preferably shows a relationship of nz> nx = ny. As the liquid crystal cell having a refractive index of nz> nx = ny, according to the drive mode classification, for example, vertical alignment (VA) mode, twisted nematic (TN) mode, vertical alignment type electric field control Birefringence (ECB) mode, optical compensation birefringence (OCB) mode, etc. are mentioned. In the present invention, the driving mode of the liquid crystal cell is preferably the VA mode.
電界が存在しない状態における前記液晶セルのRth[590]は、好ましくは、−500〜−200nmの範囲であり、より好ましくは、−400〜−200nmの範囲である。前記Rth[590]は、例えば、液晶分子の複屈折率および前記セルギャップを調整することにより、適宜、設定される。 Rth [590] of the liquid crystal cell in the absence of an electric field is preferably in the range of −500 to −200 nm, more preferably in the range of −400 to −200 nm. The Rth [590] is appropriately set by adjusting the birefringence of the liquid crystal molecules and the cell gap, for example.
前記VAモードの液晶セルは、電圧制御複屈折効果を利用し、電界が存在しない状態で、ホメオトロピック配列に配向させた液晶分子を、基板に対して法線方向の電界で応答させる。具体的には、例えば、特開昭62−210423号公報や、特開平4−153621号公報に記載されているように、ノーマリーブラック方式の場合、電界が存在しない状態では、液晶分子が基板に対して法線方向に配向しているために、上下の偏光板を直交配列させると、黒表示が得られる。一方、電界が存在する状態では、液晶分子が偏光板の吸収軸に対して、45°方位に倒れるように動作することによって、透過率が大きくなり、白表示が得られる。 The VA mode liquid crystal cell uses a voltage-controlled birefringence effect to cause liquid crystal molecules aligned in a homeotropic alignment to respond to the substrate with an electric field in a normal direction in the absence of an electric field. Specifically, as described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-210423 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-153621, in the case of a normally black method, liquid crystal molecules are formed on a substrate in the absence of an electric field. Therefore, when the upper and lower polarizing plates are arranged orthogonally, black display can be obtained. On the other hand, in the presence of an electric field, the liquid crystal molecules operate so as to tilt in a 45 ° azimuth direction with respect to the absorption axis of the polarizing plate, whereby the transmittance increases and white display is obtained.
前記VAモードの液晶セルは、例えば、特開平11−258605号公報に記載されているように、電極にスリットを形成したものや、表面に突起を形成した基材を用いることによって、マルチドメイン化したものであってもよい。このような液晶セルは、例えば、シャープ(株)製の商品名「ASV(Advanced Super View)モード」、同社製の商品名「CPA(Continuous Pinwheel Alignment)モード」、富士通(株)製の商品名「MVA(Multi−domain Vertical Alignment)モード」、三星電子(株)製の商品名「PVA(Patterned Vertical Alignment)モード」、同社製の商品名「EVA(Enhanced Vertical Alignment)モード」、三洋電機(株)製の商品名「SURVIVAL(Super Ranged Viewing Vertical Alignment)モード」等が挙げられる。 The VA mode liquid crystal cell can be made multi-domain by using a substrate in which slits are formed on electrodes or a substrate on which protrusions are formed on the surface as described in JP-A-11-258605, for example. It may be what you did. Such a liquid crystal cell is, for example, a product name “ASV (Advanced Super View) mode” manufactured by Sharp Corporation, a product name “CPA (Continuous Pinwheel Alignment) mode” manufactured by the same company, and a product name manufactured by Fujitsu Limited. "MVA (Multi-domain Vertical Alignment) mode", product name "PVA (Patterned Vertical Alignment) mode" manufactured by Samsung Electronics Co., Ltd. "SURVIVE (Super Ranged Viewing Vertical Alignment) mode" and the like.
本発明において、前記液晶パネルの駆動モードがインプレーンスイッチング(IPS)モードであることも好ましい。 In the present invention, it is also preferable that the driving mode of the liquid crystal panel is an in-plane switching (IPS) mode.
前記IPSモードの液晶セルは、電圧制御複屈折(ECB:Electrically Controlled Birefringnence)効果を利用し、電界が存在しない状態でホモジニアス配向させた液晶分子を、例えば、金属で形成された対向電極と画素電極とで発生させた基板に平行な電界(横電界ともいう)で応答させる。より具体的には、例えば、テクノタイムズ社出版「月刊ディスプレイ7月号」p.83〜p.88(1997年版)や、日本液晶学会出版「液晶vol.2 No.4」p.303〜p.316(1998年版)に記載されているように、ノーマリーブラック方式では、液晶セルの電界無印加時の配向方向と一方の側の偏光子の吸収軸とを一致させて、上下の偏光板を直交配置させると、電界のない状態で完全に黒表示になる。電界があるときは、液晶分子が基板に平行を保ちながら回転動作することによって、回転角に応じた透過率を得ることができる。なお、前記IPSモードは、V字型電極またはジグザグ電極等を採用した、スーパー・インプレーンスイッチング(S−IPS)モードや、アドバンスド・スーパー・インプレーンスイッチング(AS−IPS)モードを包含する。 The IPS mode liquid crystal cell uses a voltage controlled birefringence (ECB) effect and liquid crystal molecules that are homogeneously aligned in the absence of an electric field, for example, a counter electrode and a pixel electrode formed of metal. The substrate is caused to respond with an electric field (also referred to as a transverse electric field) parallel to the substrate. More specifically, for example, Techno Times Publishing “Monthly Display July” p. 83-p. 88 (1997 edition) and “Liquid Crystal vol.2 No. 4” published by the Japanese Liquid Crystal Society. 303-p. 316 (1998 edition), in the normally black method, the alignment direction of the liquid crystal cell when no electric field is applied is aligned with the absorption axis of the polarizer on one side so that the upper and lower polarizing plates are If they are arranged orthogonally, the display is completely black without an electric field. When an electric field is present, the transmittance according to the rotation angle can be obtained by rotating the liquid crystal molecules while keeping them parallel to the substrate. The IPS mode includes a super-in-plane switching (S-IPS) mode and an advanced super-in-plane switching (AS-IPS) mode employing a V-shaped electrode or a zigzag electrode.
前記ホモジニアス配向させた液晶分子とは、配向処理された基板と液晶分子の相互作用の結果として、前記液晶分子の配向ベクトルが基板平面に対し、平行かつ一様に配向した状態のものをいう。なお、本明細書においては、前記配向ベクトルが基板平面に対し、わずかに傾いている場合、すなわち前記液晶分子がプレチルトをもつ場合も、ホモジニアス配向に包含される。液晶分子がプレチルトをもつ場合は、そのプレチルト角は、20°以下であるほうが、コントラスト比を高く保ち、良好な表示特性が得られる点で好ましい。
前記ネマチック液晶としては、目的に応じて任意の適切なネマチック液晶が採用され得る。例えば、ネマチック液晶は、誘電率異方性が正のものであっても、負のものであっても良い。誘電率異方性が正のネマチック液晶の具体例としては、メルク社製 商品名「ZLI−4535」があげられる。誘電率異方性が負のネマチック液晶の具体例としては、メルク社製 商品名「ZLI−2806」が挙げられる。
The homogeneously aligned liquid crystal molecules are those in which the alignment vector of the liquid crystal molecules is aligned in parallel and uniformly with respect to the substrate plane as a result of the interaction between the aligned substrate and the liquid crystal molecules. In the present specification, the case where the alignment vector is slightly inclined with respect to the substrate plane, that is, the case where the liquid crystal molecules have a pretilt is also included in the homogeneous alignment. When the liquid crystal molecules have a pretilt, the pretilt angle is preferably 20 ° or less from the viewpoint of maintaining a high contrast ratio and obtaining good display characteristics.
As the nematic liquid crystal, any appropriate nematic liquid crystal can be adopted depending on the purpose. For example, the nematic liquid crystal may have a positive or negative dielectric anisotropy. A specific example of a nematic liquid crystal having a positive dielectric anisotropy is a product name “ZLI-4535” manufactured by Merck & Co., Inc. A specific example of a nematic liquid crystal having a negative dielectric anisotropy is a product name “ZLI-2806” manufactured by Merck & Co., Inc.
前記液晶セルとしては、例えば、市販の液晶表示装置に搭載されているものをそのまま用いてもよい。前記VAモードの液晶セルを含む市販の液晶表示装置としては、例えば、シャープ(株)製液晶テレビの商品名「AQUOS」シリーズ、ソニー社製液晶テレビの商品名「BRAVIA」シリーズ、SAMSUNG社製32V型ワイド液晶テレビの商品名「LN32R51B」、(株)ナナオ製液晶テレビの商品名「FORIS SC26XD1」、AU Optronics社製液晶テレビの商品名「T460HW01」等が挙げられる。前記IPSモードの液晶セルを含む市販の液晶表示装置としては、例えば、日立製作所(株)20V型ワイド液晶テレビの商品名「Wooo」、イーヤマ(株)19型液晶ディスプレイの商品名「ProLite E481S−1」、(株)ナナオ製17型TFT液晶ディスプレイの商品名「FlexScan L565」等が挙げられる。 As the liquid crystal cell, for example, a liquid crystal cell mounted on a commercially available liquid crystal display device may be used as it is. Examples of the commercially available liquid crystal display device including the VA mode liquid crystal cell include a product name “AQUAS” series of a liquid crystal television manufactured by Sharp Corporation, a product name “BRAVIA” series of a liquid crystal television manufactured by Sony, and a 32V product manufactured by Samsunung. The product name “LN32R51B” of the type wide liquid crystal television, the product name “FORIS SC26XD1” of the liquid crystal television manufactured by Nanao Co., Ltd., the product name “T460HW01” of the liquid crystal television manufactured by AU Optronics, and the like. As a commercially available liquid crystal display device including the IPS mode liquid crystal cell, for example, Hitachi, Ltd. 20V wide liquid crystal television product name “Wooo”, Eyama Co., Ltd. 19 type liquid crystal display product name “ProLite E481S- 1 ”, the trade name“ FlexScan L565 ”of 17 type TFT liquid crystal display manufactured by Nanao Corporation, and the like.
[第2の液晶パネル]
図3の模式断面図に、本発明の第2の液晶パネルの構成の一例を示す。同図において、図1と同一部分には、同一符号を付している。図示のとおり、この第2の液晶パネル40は、第1の偏光板10と、第2の偏光板20と、液晶セル41とを主要な構成部材として有する。前記第1の偏光板10は、前記本発明の偏光板10である。前記第1の偏光板10において、前記保護層11が、第1の保護層11であり、前記偏光子12が、第1の偏光子12であり、前記光学フィルム13が、第1の光学補償層13である。前記第2の偏光板20は、第2の保護層21、第2の偏光子22および第2の光学補償層23が、この順序に積層され構成されている。前記第1の偏光板10は、前記第1の光学補償層13が前記液晶セル41側に位置する状態で、前記液晶セル41の視認側(同図において上側)に配置されている。前記第2の偏光板20は、前記第2の光学補償層23が前記液晶セル41側に位置する状態で、前記液晶セル41のバックライト側(同図において下側)に配置されている。
[Second LCD panel]
An example of the configuration of the second liquid crystal panel of the present invention is shown in the schematic cross-sectional view of FIG. In this figure, the same parts as those in FIG. As shown in the drawing, the second liquid crystal panel 40 includes a first
前述のとおり、前記第2の液晶パネルにおいて、前記第1の光学補償層の屈折率が、nx>ny≧nzの関係を示し、前記第2の光学補償層の屈折率が、nx=ny>nzの関係を示すように構成する。このようにすることで、従来の液晶パネル(代表的には、液晶セルの両側に配置した2枚の偏光板の透過率が同一であるもの)に比べて、正面方向のコントラスト比が格段に高い液晶パネルを得ることができる。 As described above, in the second liquid crystal panel, the refractive index of the first optical compensation layer shows a relationship of nx> ny ≧ nz, and the refractive index of the second optical compensation layer is nx = ny>. It is configured to show the relationship of nz. By doing so, the contrast ratio in the front direction is significantly higher than that of a conventional liquid crystal panel (typically, the transmittance of two polarizing plates arranged on both sides of the liquid crystal cell is the same). A high liquid crystal panel can be obtained.
前記第2の保護層は、前記保護層(前記第1の保護層)と同様である。 The second protective layer is the same as the protective layer (the first protective layer).
前記第2の偏光子は、前記偏光子(前記第1の偏光子)と同様である。 The second polarizer is the same as the polarizer (the first polarizer).
前記第2の光学補償層の屈折率は、例えば、nx=ny>nzの関係(負の一軸性)を示す。前記第2の光学補償層は、単層であってもよいし、複数の層からなる積層体であってもよい。前記第2の光学補償層の厚みは、好ましくは、0.5〜200μmの範囲である。前記第2の光学補償層の波長590nmにおける透過率(T[590])は、好ましくは、90%以上である。 The refractive index of the second optical compensation layer exhibits, for example, a relationship of nx = ny> nz (negative uniaxiality). The second optical compensation layer may be a single layer or a laminate composed of a plurality of layers. The thickness of the second optical compensation layer is preferably in the range of 0.5 to 200 μm. The transmittance (T [590]) at a wavelength of 590 nm of the second optical compensation layer is preferably 90% or more.
前記第2の光学補償層のRe[590]は、例えば、10nm未満であり、好ましくは、5nm以下であり、より好ましくは、3nm以下である。 Re [590] of the second optical compensation layer is, for example, less than 10 nm, preferably 5 nm or less, and more preferably 3 nm or less.
前記第2の光学補償層のRth[590]は、例えば、液晶セルの厚み方向の位相差値等に応じて、適宜、設定され得る。前記Rth[590]は、例えば、100〜400nmの範囲であり、好ましくは、120〜350nmの範囲であり、さらに好ましくは、150〜300nmの範囲である。 Rth [590] of the second optical compensation layer can be appropriately set according to, for example, a retardation value in the thickness direction of the liquid crystal cell. The Rth [590] is, for example, in the range of 100 to 400 nm, preferably in the range of 120 to 350 nm, and more preferably in the range of 150 to 300 nm.
前記第2の光学補償層を形成する材料としては、屈折率がnx=ny>nzの関係(負の一軸性)を示すものであれば、任意の適切なものが採用され得る。前記材料としては、例えば、ポリ(4,4’−ヘキサフルオロイソプロピリデン−ビスフェノール)テレフタレート−コ−イソフタレート、ポリ(4,4’−ヘキサヒドロ−4,7−メタノインダン−5−イリデン−ビスフェノール)テレフタレート、ポリ(4,4’−イソプロピリデン−2,2’,6,6’−テトラクロロビスフェノール)テレフタレート−コ−イソフタレート、ポリ(4,4’−ヘキサフルオロイソプロピリデン)−ビスフェノール−コ−(2−ノルボルニリデン)−ビスフェノールテレフタレート、ポリ(4,4’−ヘキサヒドロ−4,7−メタノインデン−5−イリデン)−ビスフェノール−コ−(4,4’−イソプロピリデン−2,2’,6,6’−テトラブロモ)−ビスフェノールテレフタレート、ポリ(4,4’−イソプロピリデン−ビスフェノール−コ−4,4’−(2−ノルボルニリデン)ビスフェノール)テレフタレート−コ−イソフタレート、またはこれらのコポリマーを採用してもよい。これらは、1種類を単独で用いてもよいし、2種類以上を併用してもよい。 As the material for forming the second optical compensation layer, any appropriate material can be adopted as long as the refractive index exhibits a relationship (negative uniaxiality) of nx = ny> nz. Examples of the material include poly (4,4′-hexafluoroisopropylidene-bisphenol) terephthalate-co-isophthalate, poly (4,4′-hexahydro-4,7-methanoindane-5-ylidene-bisphenol) terephthalate. Poly (4,4′-isopropylidene-2,2 ′, 6,6′-tetrachlorobisphenol) terephthalate-co-isophthalate, poly (4,4′-hexafluoroisopropylidene) -bisphenol-co- ( 2-norbornylidene) -bisphenol terephthalate, poly (4,4′-hexahydro-4,7-methanoindene-5-ylidene) -bisphenol-co- (4,4′-isopropylidene-2,2 ′, 6,6 ′ -Tetrabromo) -bisphenol terephthalate, poly (4 '- isopropylidene - bisphenol - co-4,4' - (2-norbornylidene) bisphenol) terephthalate - co - isophthalate or may employ these copolymers. These may be used alone or in combination of two or more.
また、前記第2の光学補償層としては、例えば、ポリイミド系樹脂、セルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂等の熱可塑性樹脂を含有する位相差フィルムが用いられ得る。これらの位相差フィルムは、全固形分100重量部に対して、熱可塑性樹脂を、好ましくは、60〜100重量部含む。 In addition, as the second optical compensation layer, for example, a retardation film containing a thermoplastic resin such as a polyimide resin, a cellulose resin, a norbornene resin, a polycarbonate resin, or a polyamide resin may be used. These retardation films preferably contain 60 to 100 parts by weight of a thermoplastic resin with respect to 100 parts by weight of the total solid content.
前記第2の光学補償層は、好ましくは、ポリイミド系樹脂を含有する位相差層(B1)、セルロース系樹脂を含有する位相差層(B2)、および前記位相差フィルム(B1)と前記位相差フィルム(B2)との積層体(C)のいずれかである。前記積層体(C)は、前記位相差フィルム(B1)が、接着層を介して、前記位相差フィルム(B2)に接合されたものであるか、または、前記位相差フィルム(B1)が、前記位相差フィルム(B2)の表面に、溶工等の方法によって、直接形成されたものであることが好ましい。 The second optical compensation layer is preferably a retardation layer (B1) containing a polyimide resin, a retardation layer (B2) containing a cellulose resin, and the retardation film (B1) and the retardation. It is either a laminate (C) with a film (B2). In the laminate (C), the retardation film (B1) is bonded to the retardation film (B2) via an adhesive layer, or the retardation film (B1) is It is preferably formed directly on the surface of the retardation film (B2) by a method such as melting.
[ポリイミド系樹脂]
前記ポリイミド系樹脂がソルベントキャスティング法でシート状に成形された場合、溶剤の蒸発過程で、分子が自発的に配向しやすいため、楕円形がnx=ny>nzの関係(負の一軸性)を示す位相差フィルムを、非常に薄く作製することができる。前記ポリイミド系樹脂を含有する位相差フィルム(B1)の厚みは、好ましくは、0.5〜10μmの範囲であり、より好ましくは、1〜5μmの範囲である。前記位相差フィルム(B1)の厚み方向の複屈折率(Δnxz[590])は、好ましくは、0.01〜0.12の範囲であり、より好ましくは、0.02〜0.08の範囲である。このようなポリイミド系樹脂は、例えば、米国特許第5,344,916号公報に記載の方法によって得ることができる。
[Polyimide resin]
When the polyimide resin is formed into a sheet by the solvent casting method, the molecules are likely to spontaneously orientate during the solvent evaporation process, so the ellipse has a relationship of nx = ny> nz (negative uniaxiality). The retardation film shown can be made very thin. The thickness of the retardation film (B1) containing the polyimide resin is preferably in the range of 0.5 to 10 μm, more preferably in the range of 1 to 5 μm. The birefringence (Δn xz [590]) in the thickness direction of the retardation film (B1) is preferably in the range of 0.01 to 0.12, more preferably 0.02 to 0.08. It is a range. Such a polyimide resin can be obtained, for example, by the method described in US Pat. No. 5,344,916.
好ましくは、前記ポリイミド系樹脂は、ヘキサフルオロイソプロピリデン基およびトリフルオロメチル基の少なくとも一方の基を有する。より好ましくは、前記ポリイミド系樹脂は、下記一般式(8)で表される繰り返し単位、または下記一般式(9)で表される繰り返し単位を少なくとも有する。これらの繰り返し単位を含むポリイミド樹脂は、汎用溶剤に対する溶解性に優れるため、ソルベントキャスティング法によるフィルム形成が可能である。さらに、TACフィルム等の耐溶剤性に乏しい基材上にも、その表面を過度に侵食することなく、前記ポリイミド系樹脂の薄層を形成することができる。 Preferably, the polyimide resin has at least one of a hexafluoroisopropylidene group and a trifluoromethyl group. More preferably, the polyimide resin has at least a repeating unit represented by the following general formula (8) or a repeating unit represented by the following general formula (9). Since the polyimide resin containing these repeating units is excellent in solubility in a general-purpose solvent, film formation by a solvent casting method is possible. Furthermore, a thin layer of the polyimide resin can be formed on a substrate having poor solvent resistance such as a TAC film without excessively eroding the surface.
前記一般式(8)において、Lは、置換基であり、eは、その置換数を表す。Lは、例えば、ハロゲン、炭素原子数1〜3のアルキル基、炭素原子数1〜3のハロゲン化アルキル基、フェニル基、または置換フェニル基であり、Lが複数の場合、各Lは同一でも異なっていてもよい。eは、0〜3までの整数である。
前記一般式(9)中、Qは、置換基であり、fは、その置換数を表す。Qは、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、および置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子または基であって、Qが複数の場合、各Qは同一でも異なっていてもよい。fは、0〜4までの整数であり、gおよびhは、それぞれ、1〜3までの整数である。
In the said General formula (8), L is a substituent and e represents the substitution number. L is, for example, halogen, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a phenyl group, or a substituted phenyl group. May be different. e is an integer from 0 to 3.
In the general formula (9), Q is a substituent, and f represents the number of substitutions. Q is selected from the group consisting of, for example, hydrogen, halogen, alkyl group, substituted alkyl group, nitro group, cyano group, thioalkyl group, alkoxy group, aryl group, substituted aryl group, alkyl ester group, and substituted alkyl ester group. When Q is plural, each Q may be the same or different. f is an integer from 0 to 4, and g and h are integers from 1 to 3, respectively.
前記ポリイミド系樹脂は、例えば、テトラカルボン酸二無水物と、ジアミンとの反応によって得ることができる。前記一般式(8)の繰り返し単位は、例えば、ジアミンとして、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニルを用い、これと芳香環を少なくとも2つ有するテトラカルボン酸二無水物とを反応させて、得ることができる。前記一般式(9)の繰り返し単位は、例えば、テトラカルボン酸二無水物として、2,2’−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン酸二無水物を用い、これと芳香環を少なくとも2つ有するジアミンとを反応させて、得ることができる。前記反応は、例えば、2段階で進行する化学イミド化であってもよいし、1段階で進行する熱イミド化であってもよい。 The polyimide resin can be obtained, for example, by a reaction between tetracarboxylic dianhydride and diamine. As the repeating unit of the general formula (8), for example, 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl is used as a diamine, and a tetracarboxylic acid having at least two aromatic rings. It can be obtained by reacting with dianhydride. As the repeating unit of the general formula (9), for example, 2,2′-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanoic dianhydride is used as a tetracarboxylic dianhydride, and this is combined with an aromatic ring. Can be obtained by reacting with a diamine having at least two. The reaction may be, for example, chemical imidization that proceeds in two stages, or thermal imidization that proceeds in one stage.
前記テトラカルボン酸二無水物は、任意の適切なものが選択され得る。前記テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、2,2’−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’−ジブロモ−4,4’,5,5’ −ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’,5,5’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、4,4’−オキシジフタル酸二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン酸二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ジエチルシラン酸二無水物等があげられる。 Any appropriate tetracarboxylic dianhydride may be selected. Examples of the tetracarboxylic dianhydride include 2,2′-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanoic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride. Anhydride, 2,3,3 ′, 4-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2′-dibromo-4,4 ′, 5,5′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4 ′, 5,5′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4 4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, 4,4′-oxydiphthalic dianhydride, 4,4′-bis (3 , 4-Dicarboki Phenyl) sulfone dianhydride, bis (2,3-carboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-carboxyphenyl) diethyl silane dianhydride, and the like.
前記ジアミンは、任意の適切なものが選択され得る。前記ジアミンとしては、例えば、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノフェニルメタン、4,4’−(9−フルオレニリデン)−ジアニリン、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジアミノフェニルメタン、2,2’−ジクロロ−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルチオエーテル等があげられる。 Any appropriate diamine can be selected. Examples of the diamine include 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl, 4,4′-diaminobiphenyl, 4,4′-diaminophenylmethane, 4,4 ′-( 9-fluorenylidene) -dianiline, 3,3′-dichloro-4,4′-diaminophenylmethane, 2,2′-dichloro-4,4′-diaminobiphenyl, 4,4′-diaminophenyl ether, 3,4 Examples include '-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl thioether, and the like.
前記ポリイミド系樹脂は、ジメチルホルムアミド溶液(10mMの臭化リチウムと10mMのリン酸を加えメスアップして1Lのジメチルホルムアミド溶液としたもの)を展開溶媒とするポリエチレンオキサイド標準の重量平均分子量(Mw)が、好ましくは、20000〜180000の範囲である。前記ポリイミド系樹脂は、イミド化率が、好ましくは、95%以上のものである。前記ポリイミド系樹脂のイミド化率は、例えば、ポリイミドの前駆体であるポリアミック酸由来のプロトンピークと、ポリイミド由来のプロトンピークとの積分強度比から求めることができる。 The polyimide-based resin is a polyethylene oxide standard weight average molecular weight (Mw) using a dimethylformamide solution (a solution obtained by adding 10 mM lithium bromide and 10 mM phosphoric acid to make a 1 L dimethylformamide solution). However, Preferably, it is the range of 20000-180000. The polyimide resin preferably has an imidization ratio of 95% or more. The imidation ratio of the polyimide resin can be determined from, for example, an integral intensity ratio between a proton peak derived from polyamic acid, which is a polyimide precursor, and a proton peak derived from polyimide.
前記ポリイミド系樹脂を含有する位相差フィルム(B1)は、任意の適切な成形加工法によって得ることができる。好ましくは、前記位相差フィルム(B1)は、ソルベントキャスティング法によって、シート状に成形することによって作製される。 The retardation film (B1) containing the polyimide resin can be obtained by any appropriate forming method. Preferably, the retardation film (B1) is produced by being formed into a sheet shape by a solvent casting method.
[セルロース系樹脂]
前記セルロース系樹脂は、任意の適切なものが採用され得る。前記セルロース系樹脂は、好ましくは、セルロースの水酸基の一部または全部がアセチル基、プロピオニル基およびブチル基の少なくとも一つの基で置換された、セルロース有機酸エステルまたはセルロース混合有機酸エステルである。前記セルロース有機酸エステルとしては、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等があげられる。前記セルロース混合有機酸エステルとしては、例えば、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等があげられる。前記セルロース系樹脂は、例えば、特開2001−188128号公報[0040]〜[0041]に記載の方法により得ることができる。
[Cellulosic resin]
Any appropriate cellulose-based resin can be adopted. The cellulose-based resin is preferably a cellulose organic acid ester or a cellulose mixed organic acid ester in which part or all of the hydroxyl groups of cellulose are substituted with at least one group of an acetyl group, a propionyl group, and a butyl group. Examples of the cellulose organic acid ester include cellulose acetate, cellulose propionate, and cellulose butyrate. Examples of the cellulose mixed organic acid ester include cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate. The cellulose resin can be obtained, for example, by the method described in JP 2001-188128 A [0040] to [0041].
前記セルロース系樹脂の重量平均分子量(Mw)は、テトラヒドロフラン溶媒によるゲル・パーミエーション・クロマトグラフ法(ポリスチレン標準)で測定した値が、好ましくは、20000〜1000000の範囲である。前記セルロース系樹脂のガラス転移温度(Tg)は、好ましくは、110〜185℃の範囲である。前記ガラス転移温度(Tg)は、JIS K 7121に準じたDSC法により求めることができる。前記の樹脂であれば、より一層、優れた熱安定性を有し、より一層、機械的強度に優れた位相差フィルムを得ることができる。 The weight average molecular weight (Mw) of the cellulose resin is preferably in the range of 20000 to 1000000, as measured by gel permeation chromatography (polystyrene standard) using a tetrahydrofuran solvent. The glass transition temperature (Tg) of the cellulose resin is preferably in the range of 110 to 185 ° C. The glass transition temperature (Tg) can be obtained by a DSC method according to JIS K7121. If it is said resin, it can have the further excellent thermal stability and can obtain the retardation film which was further excellent in mechanical strength.
前記セルロース系樹脂を含有する位相差フィルム(B2)は、任意の適切な成形加工法によって得ることができる。好ましくは、前記位相差フィルム(B2)は、ソルベントキャスティング法によって、シート状に成形することにより作製される。前記位相差フィルム(B2)は、例えば、市販のセルロース系樹脂を含有する高分子フィルムをそのまま用いることができる。若しくは、前記市販のフィルムに延伸処理および収縮処理の少なくとも一方の処理等の2次的加工を施したものを用いることができる。前記市販のフィルムとしては、例えば、富士写真フイルム(株)製の商品名「フジタック」シリーズ(ZRF80S、TD80UF、TDY−80UL)、コニカミノルタオプト(株)製の商品名「KC8UX2M」等が挙げられる。 The retardation film (B2) containing the cellulose resin can be obtained by any appropriate forming method. Preferably, the retardation film (B2) is produced by being formed into a sheet shape by a solvent casting method. As the retardation film (B2), for example, a polymer film containing a commercially available cellulose resin can be used as it is. Alternatively, a film obtained by subjecting the commercially available film to secondary processing such as at least one of stretching and shrinking can be used. Examples of the commercially available film include “Fujitac” series (ZRF80S, TD80UF, TDY-80UL) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., and “KC8UX2M” manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd. .
前記第2の光学補償層として用いられる位相差フィルムは、さらに、任意の適切な添加剤を含んでもよい。前記添加剤としては、例えば、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、滑剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、難燃剤、着色剤、帯電防止剤、相溶化剤、架橋剤、増粘剤等が挙げられる。前記添加剤の含有量は、好ましくは、主成分の樹脂100重量部に対し、0を超え10重量部以下である。 The retardation film used as the second optical compensation layer may further contain any appropriate additive. Examples of the additive include a plasticizer, a heat stabilizer, a light stabilizer, a lubricant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a flame retardant, a colorant, an antistatic agent, a compatibilizer, a crosslinking agent, and a thickener. Is mentioned. The content of the additive is preferably more than 0 and 10 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the main component resin.
前記第2の光学補償層は、液晶性組成物を用いたものであってもよい。前記液晶性組成物が用いられる場合、前記第2の光学補償層は、プレーナ配列に配向させた棒状液晶化合物を含む液晶性組成物の固化層若しくは硬化層、またはカラムナー配列に配向させたディスコチック液晶化合物を含む液晶性組成物の固化層若しくは硬化層を含む。前記液晶化合物を用いれば、厚み方向の複屈折率が大きいため、薄型の位相差フィルムを得ることができる。 The second optical compensation layer may be a liquid crystal composition. When the liquid crystalline composition is used, the second optical compensation layer is a solidified or cured layer of a liquid crystalline composition containing a rod-like liquid crystal compound aligned in a planar alignment, or a discotic aligned in a columnar alignment. A solidified layer or a cured layer of a liquid crystal composition containing a liquid crystal compound is included. When the liquid crystal compound is used, a thin retardation film can be obtained because the birefringence in the thickness direction is large.
前記プレーナ配列に配向させた棒状液晶化合物を含む液晶性組成物の固化層若しくは硬化層からなる位相差フィルムは、例えば、特開2003−287623号公報に記載の方法により得ることができる。また、前記カラムナー配列に配向させたディスコチック液晶化合物を含む液晶性化合物の固化層若しくは硬化層からなる位相差フィルムは、例えば、特開平9−117983号公報に記載の方法によって得ることができる。 A retardation film composed of a solidified layer or a cured layer of a liquid crystalline composition containing a rod-like liquid crystal compound aligned in the planar arrangement can be obtained, for example, by the method described in JP-A No. 2003-287623. Further, a retardation film comprising a solidified layer or a cured layer of a liquid crystalline compound containing a discotic liquid crystal compound aligned in the columnar arrangement can be obtained by, for example, a method described in JP-A No. 9-117983.
前記液晶セルは、前記第1の液晶パネルにおける液晶セルと同様である。 The liquid crystal cell is the same as the liquid crystal cell in the first liquid crystal panel.
前記第1の偏光板と前記第2の偏光板は、互いに吸収軸が直交する関係で配置されていることが好ましい。前記第2の偏光板の厚みは、前記本発明の偏光板(第1の偏光板)と同様である。 It is preferable that the first polarizing plate and the second polarizing plate are arranged so that their absorption axes are orthogonal to each other. The thickness of the second polarizing plate is the same as that of the polarizing plate of the present invention (first polarizing plate).
前記第1の偏光板および前記第2の偏光板の少なくとも一方の偏光度は、好ましくは、99%以上である。前記偏光度を99%以上とすることで、より一層、正面方向のコントラスト比が高い液晶パネルを得ることができる。前記偏光度は、より好ましくは、99.5%以上であり、さらに好ましくは、99.8%以上である。前記偏光度は、例えば、分光光度計(村上色彩技術研究所(株)製の商品名「DOT−3」)を用いて測定できる。前記偏光度の具体的な測定方法としては、前記第1の偏光板および前記第2の偏光板の平行透過率(H0)および直交透過率(H90)を測定し、式:偏光度(%)={(H0−H90)/(H0+H90)}1/2×100より求めることができる。前記平行透過率(H0)は、同じ偏光板2枚を互いの吸収軸が平行となるように重ね合わせて作製した平行型積層偏光板の透過率の値である。前記直交透過率(H90)は、同じ偏光板2枚を互いの吸収軸が直交するように重ね合わせて作製した直交型積層偏光板の透過率の値である。なお、これらの透過率は、JIS Z 8701(1982年版)の2度視野(C光源)により、視感度補正を行ったY値である。 The degree of polarization of at least one of the first polarizing plate and the second polarizing plate is preferably 99% or more. By setting the degree of polarization to 99% or more, a liquid crystal panel with a higher contrast ratio in the front direction can be obtained. The degree of polarization is more preferably 99.5% or more, and further preferably 99.8% or more. The degree of polarization can be measured using, for example, a spectrophotometer (trade name “DOT-3” manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.). As a specific method for measuring the degree of polarization, parallel transmittance (H 0 ) and orthogonal transmittance (H 90 ) of the first polarizing plate and the second polarizing plate are measured, and the formula: degree of polarization ( %) = {(H 0 −H 90 ) / (H 0 + H 90 )} 1/2 × 100. The parallel transmittance (H 0 ) is a transmittance value of a parallel laminated polarizing plate produced by superposing two identical polarizing plates so that their absorption axes are parallel to each other. The orthogonal transmittance (H 90 ) is a value of the transmittance of an orthogonal laminated polarizing plate prepared by superposing two identical polarizing plates so that their absorption axes are orthogonal to each other. In addition, these transmittance | permeability is Y value which performed visibility correction | amendment by the 2nd visual field (C light source) of JISZ8701 (1982 edition).
本発明の液晶表示装置は、前記本発明の偏光板または液晶パネルを含むことを特徴とする。図5の概略断面図に、本発明の液晶表示装置の構成の一例を示す。同図においては、分かりやすくするために、各構成部材の大きさ、比率等は、実際とは異なっている。図示のとおり、この液晶表示装置200は、液晶パネル100と、前記液晶パネル100の一方の側に配置された直下方式のバックライトユニット80とを少なくとも備える。前記直下方式のバックライトユニット80は、光源81と、反射フィルム82と、拡散板83と、プリズムシート84と、輝度向上フィルム85とを少なくとも備える。なお、本例の液晶表示装置200では、バックライトユニットとして、直下方式が採用された場合を示しているが、本発明は、これに限定されず、例えば、サイドライト方式のバックライトユニットであってもよい。サイドライト方式のバックライトユニットは、前記の直下方式の構成に加え、さらに導光板と、ライトリフレクターとを少なくとも備える。なお、図5に例示した構成部材は、本発明の効果が得られる限りにおいて、液晶表示装置の照明方式や液晶セルの駆動モード等、用途に応じてその一部が省略され得るか、または、他の光学部材で代替され得る。
The liquid crystal display device of the present invention includes the polarizing plate or the liquid crystal panel of the present invention. An example of the configuration of the liquid crystal display device of the present invention is shown in the schematic sectional view of FIG. In the figure, the size, ratio, and the like of each component are different from actual ones for easy understanding. As illustrated, the liquid
本発明の液晶表示装置は、液晶パネルのバックライト側から光を照射して画面を見る透過型であってもよいし、液晶パネルの視認側から光を照射して画面を見る反射型であってもよいし、透過型と反射型の両方の性質を併せ持つ、半透過型であってもよい。 The liquid crystal display device of the present invention may be a transmissive type in which light is irradiated from the backlight side of the liquid crystal panel and the screen is viewed, or a reflective type in which light is irradiated from the viewing side of the liquid crystal panel and the screen is viewed. Alternatively, it may be a transflective type having both transmissive and reflective properties.
本発明の液晶表示装置は、任意の適切な用途に使用される。その用途は、例えば、パソコンモニター、ノートパソコン、コピー機等のOA機器、携帯電話、時計、デジタルカメラ、携帯情報端末(PDA)、携帯ゲーム機等の携帯機器、ビデオカメラ、テレビ、電子レンジ等の家庭用電気機器、バックモニター、カーナビゲーションシステム用モニター、カーオーディオ等の車載用機器、商業店舗用インフォメーション用モニター等の展示機器、監視用モニター等の警備機器、介護用モニター、医療用モニター等の介護・医療機器等である。 The liquid crystal display device of the present invention is used for any appropriate application. Applications include, for example, OA devices such as personal computer monitors, laptop computers, and copy machines, mobile phones, watches, digital cameras, personal digital assistants (PDAs), portable devices such as portable game machines, video cameras, televisions, microwave ovens, etc. Household electrical equipment, back monitor, car navigation system monitor, car audio and other in-vehicle equipment, display equipment for commercial store information monitors, security equipment such as monitoring monitors, nursing care monitors, medical monitors, etc. Nursing care / medical equipment.
本発明の液晶表示装置の好ましい用途は、テレビである。前記テレビの画面サイズは、好ましくは、ワイド17型(373mm×224mm)以上であり、より好ましくは、ワイド23型(499mm×300mm)以上であり、さらに好ましくは、ワイド32型(687mm×412mm)以上である。 A preferred application of the liquid crystal display device of the present invention is a television. The screen size of the television is preferably a wide 17 type (373 mm × 224 mm) or more, more preferably a wide 23 type (499 mm × 300 mm) or more, and further preferably a wide 32 type (687 mm × 412 mm). That's it.
つぎに、本発明の実施例について、比較例と併せて説明する。ただし、本発明は、下記の実施例および比較例により何ら制限されない。なお、各実施例および各比較例における各種物性および特性は、下記の方法により評価若しくは測定した。 Next, examples of the present invention will be described together with comparative examples. However, the present invention is not limited at all by the following examples and comparative examples. In addition, various physical properties and characteristics in each example and each comparative example were evaluated or measured by the following methods.
(波長550nmにおける面内位相差値Re[550]、厚み方向位相差値Rth[550]、ΔnおよびNz係数)
波長550nmにおける面内位相差値Re[550]、厚み方向位相差値Rth[550]、ΔnおよびNz係数は、王子計測機器(株)製、商品名「KOBRA−21ADH」を用いて測定した。
(In-plane retardation value Re [550] at a wavelength of 550 nm, thickness direction retardation value Rth [550], Δn and Nz coefficient)
The in-plane retardation value Re [550], thickness direction retardation value Rth [550], Δn, and Nz coefficient at a wavelength of 550 nm were measured using a product name “KOBRA-21ADH” manufactured by Oji Scientific Instruments.
(厚み)
厚みが10μm未満の場合、薄膜用分光光度計(大塚電子(株)製、商品名「瞬間マルチ測光システム MCPD−2000」)を用いて測定した。厚みが10μm以上の場合、アンリツ製、デジタルマイクロメーター「KC−351C型」を使用して測定した。
(Thickness)
When the thickness was less than 10 μm, the measurement was performed using a thin film spectrophotometer (trade name “instant multiphotometry system MCPD-2000” manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.). When the thickness was 10 μm or more, measurement was performed using a digital micrometer “KC-351C type” manufactured by Anritsu.
[実施例1]
透明フィルム基材として、前記一般式(1)で示されるラクトン環含有アクリル系樹脂(LMMA)90重量部とアクリロニトリル−スチレン樹脂10重量部の混合物を押出成膜し、縦2.0倍、横2.4倍に延伸したフィルム(厚さ40μm、Re=0nm、Rth=0nm)を用いた。前記ラクトン環含有アクリル系樹脂としては、前記一般式(1)中、R1が水素原子、R2およびR3がメチル基であり、メタクリル酸メチルと2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチルとの共重合モノマー重量比が8:2であり、ラクトン環化率が約100%である樹脂を用いた。また、アクリロニトリル−スチレン樹脂としては、東洋スチレン(株)製、商品名「トーヨーAS AS20」を用いた。
[Example 1]
As a transparent film base material, a mixture of 90 parts by weight of a lactone ring-containing acrylic resin (LMMA) represented by the general formula (1) and 10 parts by weight of acrylonitrile-styrene resin was formed by extrusion film formation, 2.0 times in length, A film stretched 2.4 times (thickness 40 μm, Re = 0 nm, Rth = 0 nm) was used. As the lactone ring-containing acrylic resin, in general formula (1), R 1 is a hydrogen atom, R 2 and R 3 are methyl groups, and methyl methacrylate and methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate A resin having a copolymerization monomer weight ratio of 8: 2 and a lactone cyclization rate of about 100% was used. Further, as the acrylonitrile-styrene resin, Toyo Styrene Co., Ltd., trade name “Toyo AS AS20” was used.
一方、光学補償層の形成材料としては、前記構造式(I)および(II)で示される繰り返し単位を含む、ポリエチレン部位を含有するポリビニルアルコール系樹脂((株)クラレ製、商品名「エクセバール」RS−2117)を用いた。これと水を重量比1:9の割合で混合し、室温のもと20分間攪拌した。その後、ウォーターバスにより95℃まで混合溶液を加温し、2時間攪拌を続けた。ついで、ウォーターバスから取り出し、さらに室温で2時間攪拌して形成材料の塗工液を得た。 On the other hand, as a material for forming the optical compensation layer, a polyvinyl alcohol resin containing a repeating unit represented by the structural formulas (I) and (II) and containing a polyethylene moiety (trade name “EXVAL” manufactured by Kuraray Co., Ltd.) RS-2117) was used. This and water were mixed at a weight ratio of 1: 9 and stirred at room temperature for 20 minutes. Thereafter, the mixed solution was heated to 95 ° C. with a water bath, and stirring was continued for 2 hours. Subsequently, it was taken out from the water bath and further stirred at room temperature for 2 hours to obtain a coating liquid of the forming material.
つぎに、前記透明フィルム基材(厚み:40μm)上に、前記塗工液を約150μmの厚みで塗布し、これを100℃で10分間の乾燥処理を行った。その結果、前記透明フィルム基材上に厚みが約16μmのポリビニルアルコール層が積層された積層体を得た。その後、この積層体を160℃の温度で、幅方向に延伸倍率3.00倍で延伸処理を行うことにより、前記透明フィルム基材上に厚みが約5μmのポリビニルアルコール層が積層された光学フィルムを得た。この光学フィルムは、nx>ny≒nzの関係を満たす光学特性を有する光学フィルムであった。 Next, the coating liquid was applied to a thickness of about 150 μm on the transparent film substrate (thickness: 40 μm), and this was subjected to a drying treatment at 100 ° C. for 10 minutes. As a result, a laminate in which a polyvinyl alcohol layer having a thickness of about 16 μm was laminated on the transparent film substrate was obtained. Thereafter, this laminate is stretched at a temperature of 160 ° C. at a stretching ratio of 3.00 in the width direction, whereby an optical film in which a polyvinyl alcohol layer having a thickness of about 5 μm is laminated on the transparent film substrate. Got. This optical film was an optical film having optical characteristics satisfying the relationship of nx> ny≈nz.
[実施例2]
前記延伸処理において、幅方向の延伸倍率3.00倍で延伸処理を行い、長手方向の収縮倍率0.90倍で収縮処理を行ったこと以外は、実施例1と同様の方法で光学フィルムを作製した。その結果、前記透明フィルム基材上に厚みが約5.6μmのポリビニルアルコール層が積層された光学フィルムを得た。
[Example 2]
In the stretching process, the optical film was formed in the same manner as in Example 1 except that the stretching process was performed at a stretching ratio of 3.00 times in the width direction and the shrinking process was performed at a contraction ratio of 0.90 in the longitudinal direction. Produced. As a result, an optical film in which a polyvinyl alcohol layer having a thickness of about 5.6 μm was laminated on the transparent film substrate was obtained.
[実施例3]
前記延伸処理において、幅方向の延伸倍率3.00倍で延伸処理を行い、長手方向の収縮倍率0.70倍で収縮処理を行ったこと以外は、実施例1と同様の方法で光学フィルムを作製した。その結果、前記透明フィルム基材上に厚みが約7μmのポリビニルアルコール層が積層された光学フィルムを得た。
[Example 3]
In the stretching process, the optical film was formed in the same manner as in Example 1 except that the stretching process was performed at a stretching ratio of 3.00 times in the width direction and the shrinking process was performed at a shrinking ratio of 0.70 times in the longitudinal direction. Produced. As a result, an optical film in which a polyvinyl alcohol layer having a thickness of about 7 μm was laminated on the transparent film substrate was obtained.
[実施例4]
前記延伸処理において、幅方向の延伸倍率を1.80倍で延伸処理を行ったこと以外は、実施例1と同様の方法で光学フィルムを作製した。その結果、前記透明フィルム基材上に厚みが約8μmのポリビニルアルコール層が積層された光学フィルムを得た。
[Example 4]
In the stretching process, an optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that the stretching process was performed at a stretching ratio in the width direction of 1.80. As a result, an optical film in which a polyvinyl alcohol layer having a thickness of about 8 μm was laminated on the transparent film substrate was obtained.
[実施例5]
前記延伸処理において、幅方向の延伸倍率を4.00倍で延伸処理を行ったこと以外は、実施例1と同様の方法で光学フィルムを作製した。その結果、前記透明フィルム基材上に厚みが約3.8μmのポリビニルアルコール層が積層された光学フィルムを得た。
[Example 5]
An optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that the stretching treatment was performed at a stretching ratio of 4.00 in the width direction. As a result, an optical film in which a polyvinyl alcohol layer having a thickness of about 3.8 μm was laminated on the transparent film substrate was obtained.
[比較例1]TAC/ポリイミド(1.22倍延伸)
2,2’−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンと、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニルとを出発原料として用い、定法に従ってポリイミドを調整した。得られたポリイミドを15wt%となるようにシクロヘキサノンに溶解することにより調整した溶液を、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(富士フィルム(株)製、商品名「TD−80UL」、厚み:80μm)上に約20μmの厚みで塗布した。ついで、120℃で10分間の乾燥処理を行うことにより、前記TACフィルム上に厚みが約3μmのポリイミド層が積層された積層体を得た。その後、この積層体を160℃の温度で、幅方向に延伸倍率1.22倍で延伸処理を行うことにより、前記TACフィルム上に厚みが約2.4μmのポリイミド層が積層された光学フィルムを得た。この光学フィルムは、nx>ny>nzの関係を満たす光学特性を有する光学フィルムであった。
[Comparative Example 1] TAC / polyimide (stretched 1.22 times)
2,2′-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane and 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl were used as starting materials, and polyimide was prepared according to a conventional method. It was adjusted. A solution prepared by dissolving the obtained polyimide in cyclohexanone so as to be 15 wt% is obtained on a triacetyl cellulose (TAC) film (manufactured by Fuji Film Co., Ltd., trade name “TD-80UL”, thickness: 80 μm). To a thickness of about 20 μm. Subsequently, the laminated body by which the polyimide layer about 3 micrometers thick was laminated | stacked on the said TAC film by performing the drying process for 10 minutes at 120 degreeC. Thereafter, the laminated body is stretched at a temperature of 160 ° C. at a stretching ratio of 1.22 times in the width direction, whereby an optical film in which a polyimide layer having a thickness of about 2.4 μm is laminated on the TAC film. Obtained. This optical film was an optical film having optical properties satisfying the relationship of nx>ny> nz.
[比較例2]
比較例1と同様に調整したポリイミド溶液を、実施例1で用いた透明フィルム基材(LMMA含有フィルム、厚み:40μm)上に約20μmの厚みで塗布した。ついで、120℃で10分間の乾燥処理を行うことにより、前記LMMAフィルム上に厚みが約3μmのポリイミド層が積層された積層体を得た。その後、この積層体を160℃の温度で、幅方向に延伸倍率1.22倍で延伸処理を行うことにより、前記LMMAフィルム上に厚みが約2.4μmのポリイミド層が積層された光学フィルムを得た。この光学フィルムは、nx>ny>nzの関係を満たす光学特性を有する光学フィルムであった。
[Comparative Example 2]
A polyimide solution prepared in the same manner as in Comparative Example 1 was applied on the transparent film substrate (LMMA-containing film, thickness: 40 μm) used in Example 1 with a thickness of about 20 μm. Subsequently, the laminated body by which the polyimide layer about 3 micrometers thick was laminated | stacked on the said LMMA film by performing the drying process for 10 minutes at 120 degreeC. Thereafter, the laminated body is stretched at a temperature of 160 ° C. at a stretching ratio of 1.22 times in the width direction, whereby an optical film in which a polyimide layer having a thickness of about 2.4 μm is laminated on the LMMA film. Obtained. This optical film was an optical film having optical properties satisfying the relationship of nx>ny> nz.
[比較例3]
比較例1と同様に調整したポリイミド溶液を、比較例1で用いたTACフィルム(厚み:50μm)上に約20μmの厚みで塗布した。ついで、120℃で10分間の乾燥処理を行うことにより、TACフィルム上に厚みが約3μmのポリイミド層が積層された積層体を得た。その後、この積層体を160℃の温度で、幅方向に延伸倍率1.23倍で延伸処理を行ったところ、ポリイミド層が白色化した。
[Comparative Example 3]
A polyimide solution prepared in the same manner as in Comparative Example 1 was applied on the TAC film (thickness: 50 μm) used in Comparative Example 1 to a thickness of about 20 μm. Subsequently, the laminated body by which the polyimide layer about 3 micrometers thick was laminated | stacked on the TAC film by performing a drying process for 10 minutes at 120 degreeC. Then, when this laminate was stretched at a temperature of 160 ° C. at a stretch ratio of 1.23 in the width direction, the polyimide layer was whitened.
[比較例4]LMMA/エチレン非含有PVA延伸(3.00倍延伸)
光学補償層の形成材料として、ポリエチレン部位を有しないポリビニルアルコール系樹脂((株)クラレ製、商品名「ポバール124」)を用いた。これと水を重量比1:9の割合で混合し、室温のもと20分間攪拌した。その後、ウォーターバスにより95℃まで水とポバールの混合溶液を加温し、2時間攪拌を続けた。ついで、ウォーターバスから前記混合溶液を取り出し、更に室温で2時間攪拌し、形成材料の塗工液を得た。
[Comparative Example 4] LMMA / ethylene-free PVA stretching (3.00 times stretching)
As a material for forming the optical compensation layer, a polyvinyl alcohol-based resin having no polyethylene portion (trade name “Poval 124” manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was used. This and water were mixed at a weight ratio of 1: 9 and stirred at room temperature for 20 minutes. Thereafter, the mixed solution of water and poval was heated to 95 ° C. with a water bath, and stirring was continued for 2 hours. Subsequently, the mixed solution was taken out from the water bath and further stirred at room temperature for 2 hours to obtain a coating liquid for forming material.
つぎに、実施例1で用いた透明フィルム基材(LMMA含有フィルム、厚み:40μm)上に、前記塗工液を約153μmの厚みで塗布した。ついで、100℃で10分間の乾燥処理を行うことにより、前記透明フィルム基材上に厚みが約15.1μmのポリビニルアルコール層が積層された積層体を得た。その後、この積層体を160℃の温度で、幅方向に延伸倍率3.00倍で延伸処理を行うことにより、前記透明フィルム基材上に厚みが約4.8μmのポリビニルアルコール層が積層された光学フィルムを得た。この光学フィルムは、nx>ny≒nzの関係を満たす光学特性を有する光学フィルムであった。 Next, the coating solution was applied to a thickness of about 153 μm on the transparent film substrate (LMMA-containing film, thickness: 40 μm) used in Example 1. Subsequently, the laminated body by which the polyvinyl alcohol layer about 15.1 micrometers in thickness was laminated | stacked on the said transparent film base material by performing the drying process for 10 minutes at 100 degreeC. Thereafter, the laminate was stretched at a temperature of 160 ° C. at a stretching ratio of 3.00 in the width direction, whereby a polyvinyl alcohol layer having a thickness of about 4.8 μm was laminated on the transparent film substrate. An optical film was obtained. This optical film was an optical film having optical characteristics satisfying the relationship of nx> ny≈nz.
[評価]
上記実施例および比較例で得られた光学フィルムの屈折率異方性、Δn(=nx−nz)、およびNz係数((nx−nz)/(nx−ny))を、表1に示す。実施例1〜5では、nx>ny≒nzを満たし、所望の位相差を発現し、かつNz係数が0.9〜2.0の範囲である光学特性を有する光学フィルムの形成を実現した。一方、比較例1〜4においては、所望の光学特性を得ることはできなかった。なお、比較例3においては、延伸工程においてポリイミド層が白色化したため、光学特性の測定をすることはできなかった。比較例4で得られた光学フィルムについては、nx>ny≒nzを満たす光学特性は得られたが、Δn値が0.0024と非常に小さく、本実施例の光学補償層と同等の位相差を得るためには、約10倍程度の厚さが必要となり、薄型化が望まれる用途に適当なものとはいえなかった。
Table 1 shows the refractive index anisotropy, Δn (= nx−nz), and Nz coefficient ((nx−nz) / (nx−ny)) of the optical films obtained in the above Examples and Comparative Examples. In Examples 1 to 5, formation of an optical film satisfying nx> ny≈nz, expressing a desired phase difference, and having optical characteristics with an Nz coefficient in the range of 0.9 to 2.0 was realized. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 4, desired optical characteristics could not be obtained. In Comparative Example 3, since the polyimide layer was whitened in the stretching step, the optical characteristics could not be measured. For the optical film obtained in Comparative Example 4, optical characteristics satisfying nx> ny≈nz were obtained, but the Δn value was very small as 0.0024, and the same retardation as that of the optical compensation layer of this example. In order to obtain the thickness, a thickness of about 10 times is required, and it cannot be said that it is suitable for applications where a reduction in thickness is desired.
本発明の光学フィルムの製造方法により、従来よりも安価で、光学特性も設計容易に光学フィルムを得ることができる。得られた光学フィルム、前記光学フィルムを含む偏光板、液晶パネルおよびこれらを用いた液晶表示装置の用途は、例えば、デスクトップパソコン、ノートパソコン、コピー機等のOA機器、携帯電話、時計、デジタルカメラ、携帯情報端末(PDA)、携帯ゲーム機等の携帯機器、ビデオカメラ、テレビ、電子レンジ等の家庭用電気機器、バックモニター、カーナビゲーションシステム用モニター、カーオーディオ等の車載用機器、商業店舗用インフォメーション用モニター等の展示機器、監視用モニター等の警備機器、介護用モニター、医療用モニター等の介護・医療機器等が挙げられ、その用途は限定されず、広い分野に適用可能である。 According to the method for producing an optical film of the present invention, it is possible to obtain an optical film that is less expensive than conventional ones and can be easily designed with optical characteristics. Applications of the obtained optical film, polarizing plate including the optical film, liquid crystal panel, and liquid crystal display device using the same include, for example, OA equipment such as desktop personal computers, notebook personal computers, copiers, mobile phones, watches, digital cameras , Portable devices such as personal digital assistants (PDAs), portable game machines, household electrical devices such as video cameras, televisions, and microwave ovens, back monitors, monitors for car navigation systems, in-vehicle devices such as car audio, for commercial stores Display equipment such as information monitors, security equipment such as monitoring monitors, nursing care and medical equipment such as nursing monitors and medical monitors, and the like are not limited and can be applied to a wide range of fields.
10 偏光板(第1の偏光板)
11 保護層(第1の保護層)
12 偏光子(第1の偏光子)
13 光学フィルム(第1の光学補償層)
20 第2の偏光板
21 第2の保護層
22 第2の偏光子
23 第2の光学補償層
30、40、100 液晶パネル
41 液晶セル
411a、411b 基板
412 スペーサー
413 液晶層
80 バックライトユニット
81 光源
82 反射フィルム
83 拡散板
84 プリズムシート
85 輝度向上フィルム
200 液晶表示装置
10 Polarizing plate (first polarizing plate)
11 Protective layer (first protective layer)
12 Polarizer (first polarizer)
13 Optical film (first optical compensation layer)
20
Claims (18)
Nz係数=(nx−nz)/(nx−ny) A method for producing an optical film, comprising a transparent film substrate and an optical compensation layer, wherein the Nz coefficient defined by the following formula is in the range of 0.9 to 2.0, wherein polyethylene is formed on the transparent film substrate: The manufacturing method of the optical film characterized by including the process of forming the coating film containing the polyvinyl alcohol-type resin containing a site | part, and the process of extending | stretching the said coating film and the said transparent film base material.
Nz coefficient = (nx−nz) / (nx−ny)
Nz係数=(nx−nz)/(nx−ny) An optical film comprising a transparent film substrate and an optical compensation layer, wherein the optical compensation layer comprises a polyvinyl alcohol-based resin containing a polyethylene moiety, and the Nz coefficient defined by the following formula of the optical film is 0. An optical film having a range of 9 to 2.0.
Nz coefficient = (nx−nz) / (nx−ny)
前記光学部材が、請求項12から14のいずれか一項に記載の光学フィルムまたは請求項15記載の偏光板であり、
前記光学部材が、前記液晶セルの少なくとも一方の側に配置されていることを特徴とする液晶パネル。 A liquid crystal panel including a liquid crystal cell and an optical member,
The optical member is the optical film according to any one of claims 12 to 14 or the polarizing plate according to claim 15.
The liquid crystal panel, wherein the optical member is disposed on at least one side of the liquid crystal cell.
前記第1の偏光板は、第1の偏光子および第1の光学補償層を含み、
前記第1の光学補償層は、前記第1の偏光子と前記液晶セルとの間に配置され、
前記第1の光学補償層の屈折率は、nx>ny≧nzの関係を示し、
前記第2の偏光板は、第2の偏光子および第2の光学補償層を含み、
前記第2の光学補償層は、前記第2の偏光子と前記液晶セルとの間に配置され、
前記第2の光学補償層の屈折率は、nx=ny>nzの関係を示す液晶パネルにおいて、
前記第1の偏光板が、請求項15記載の偏光板であり、請求項15記載の偏光板に含まれる光学フィルムが、前記第1の光学補償層であることを特徴とする液晶パネル。 A first polarizing plate, a second polarizing plate, and a liquid crystal cell, wherein the first polarizing plate is disposed on a viewing side of the liquid crystal cell, and the second polarizing plate is a backlight of the liquid crystal cell. A liquid crystal panel arranged on the side,
The first polarizing plate includes a first polarizer and a first optical compensation layer,
The first optical compensation layer is disposed between the first polarizer and the liquid crystal cell,
The refractive index of the first optical compensation layer has a relationship of nx> ny ≧ nz,
The second polarizing plate includes a second polarizer and a second optical compensation layer,
The second optical compensation layer is disposed between the second polarizer and the liquid crystal cell,
In the liquid crystal panel in which the refractive index of the second optical compensation layer shows a relationship of nx = ny> nz,
The liquid crystal panel according to claim 15, wherein the first polarizing plate is the polarizing plate according to claim 15, and the optical film contained in the polarizing plate according to claim 15 is the first optical compensation layer.
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013531277A (en) * | 2010-06-30 | 2013-08-01 | 東友ファインケム株式会社 | Composite polarizing plate set and IPS mode liquid crystal display device having the same |
JP2015106122A (en) * | 2013-12-02 | 2015-06-08 | 富士フイルム株式会社 | Retardation film and liquid crystal display device |
WO2018199140A1 (en) * | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 日本合成化学工業株式会社 | Polyvinyl alcohol film, polarizing film and polarizing plate, and polyvinyl alcohol film production method |
WO2018199141A1 (en) * | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 日本合成化学工業株式会社 | Polyvinyl alcohol film, polarizing film and polarizing plate, and polyvinyl alcohol film production method |
WO2018199139A1 (en) * | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 日本合成化学工業株式会社 | Polyvinyl alcohol film, polarizing film and polarizing plate, and polyvinyl alcohol film production method |
WO2018199138A1 (en) * | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 日本合成化学工業株式会社 | Polyvinyl alcohol film, polarizing film and polarizing plate, and polyvinyl alcohol film production method |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0356904A (en) * | 1989-07-26 | 1991-03-12 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | Phase difference plate |
JPH0580215A (en) * | 1991-09-24 | 1993-04-02 | Kuraray Co Ltd | Phase difference plate |
JPH05297221A (en) * | 1992-04-20 | 1993-11-12 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | Phase contrast plate |
JPH08292321A (en) * | 1995-04-24 | 1996-11-05 | Sumitomo Chem Co Ltd | Optical film |
JPH11119022A (en) * | 1997-10-17 | 1999-04-30 | Kuraray Co Ltd | Phase difference film |
JP2004004474A (en) * | 2002-04-18 | 2004-01-08 | Nitto Denko Corp | Optical compensation polarizing plate and display device |
JP2006137881A (en) * | 2004-11-12 | 2006-06-01 | Kaneka Corp | Soluble polyimide and optical compensation member |
JP2007108529A (en) * | 2005-10-14 | 2007-04-26 | Jsr Corp | Method for producing phase difference film, phase difference film and its use |
JP2008003559A (en) * | 2006-05-24 | 2008-01-10 | Nitto Denko Corp | Liquid crystal panel and liquid crystal display apparatus |
WO2008004403A1 (en) * | 2006-07-03 | 2008-01-10 | Nitto Denko Corporation | Liquid crystal panel and liquid crystal display apparatus |
-
2009
- 2009-02-06 JP JP2009026634A patent/JP5534684B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0356904A (en) * | 1989-07-26 | 1991-03-12 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | Phase difference plate |
JPH0580215A (en) * | 1991-09-24 | 1993-04-02 | Kuraray Co Ltd | Phase difference plate |
JPH05297221A (en) * | 1992-04-20 | 1993-11-12 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | Phase contrast plate |
JPH08292321A (en) * | 1995-04-24 | 1996-11-05 | Sumitomo Chem Co Ltd | Optical film |
JPH11119022A (en) * | 1997-10-17 | 1999-04-30 | Kuraray Co Ltd | Phase difference film |
JP2004004474A (en) * | 2002-04-18 | 2004-01-08 | Nitto Denko Corp | Optical compensation polarizing plate and display device |
JP2006137881A (en) * | 2004-11-12 | 2006-06-01 | Kaneka Corp | Soluble polyimide and optical compensation member |
JP2007108529A (en) * | 2005-10-14 | 2007-04-26 | Jsr Corp | Method for producing phase difference film, phase difference film and its use |
JP2008003559A (en) * | 2006-05-24 | 2008-01-10 | Nitto Denko Corp | Liquid crystal panel and liquid crystal display apparatus |
WO2008004403A1 (en) * | 2006-07-03 | 2008-01-10 | Nitto Denko Corporation | Liquid crystal panel and liquid crystal display apparatus |
JP2008014988A (en) * | 2006-07-03 | 2008-01-24 | Nitto Denko Corp | Liquid crystal panel and liquid crystal display device |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013531277A (en) * | 2010-06-30 | 2013-08-01 | 東友ファインケム株式会社 | Composite polarizing plate set and IPS mode liquid crystal display device having the same |
JP2015106122A (en) * | 2013-12-02 | 2015-06-08 | 富士フイルム株式会社 | Retardation film and liquid crystal display device |
WO2018199140A1 (en) * | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 日本合成化学工業株式会社 | Polyvinyl alcohol film, polarizing film and polarizing plate, and polyvinyl alcohol film production method |
WO2018199141A1 (en) * | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 日本合成化学工業株式会社 | Polyvinyl alcohol film, polarizing film and polarizing plate, and polyvinyl alcohol film production method |
WO2018199139A1 (en) * | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 日本合成化学工業株式会社 | Polyvinyl alcohol film, polarizing film and polarizing plate, and polyvinyl alcohol film production method |
WO2018199138A1 (en) * | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 日本合成化学工業株式会社 | Polyvinyl alcohol film, polarizing film and polarizing plate, and polyvinyl alcohol film production method |
JPWO2018199139A1 (en) * | 2017-04-26 | 2020-03-12 | 三菱ケミカル株式会社 | Polyvinyl alcohol-based film, polarizing film, polarizing plate, and method for producing polyvinyl alcohol-based film |
JPWO2018199141A1 (en) * | 2017-04-26 | 2020-03-12 | 三菱ケミカル株式会社 | Polyvinyl alcohol-based film, polarizing film, polarizing plate, and method for producing polyvinyl alcohol-based film |
JPWO2018199140A1 (en) * | 2017-04-26 | 2020-03-12 | 三菱ケミカル株式会社 | Polyvinyl alcohol-based film, polarizing film, polarizing plate, and method for producing polyvinyl alcohol-based film |
JPWO2018199138A1 (en) * | 2017-04-26 | 2020-03-12 | 三菱ケミカル株式会社 | Polyvinyl alcohol-based film, polarizing film, polarizing plate, and method for producing polyvinyl alcohol-based film |
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