JP2009203262A - Thermally conductive material, heat dissipation substrate using it, and manufacturing method of heat dissipation substrate - Google Patents

Thermally conductive material, heat dissipation substrate using it, and manufacturing method of heat dissipation substrate Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem of greatly limited use of a conventional heat dissipation substrate which uses a crystalline resin and is hardly usable for a circuit board and the like requiring predetermined shock resistance, since the crystalline resin itself is hard and brittle. <P>SOLUTION: When a thermally conductive material 17 comprising an epoxy resin containing 40 vol.% or more of a crystalline epoxy resin, a curing agent, a flame-retardant epoxy resin in an amount of 3-15 vol.% of the total of the epoxy resin and the curing agent, an inorganic filler in an amount of 70-88 vol.% of the total of the epoxy resin, the curing agent, and the flame-retardant epoxy resin, and a flame-retardant assistant filler in amount of 0.6-3.5 vol% of the total of the epoxy resin and the curing agent, is used for a thermally conductive insulating layer 11, the heat dissipation substrate excellent in both of high thermal conductivity and high flame retardancy can be obtained. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子機器の小型化のために発熱密度が向上しているパワー系の半導体、高機能半導体、発光素子等の放熱が要求される各種電子部品に用いられる熱伝導性材料及びこれを用いた放熱基板とその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a heat conductive material used for various electronic parts that require heat dissipation, such as power semiconductors, high-performance semiconductors, and light-emitting elements whose heat generation density is improved for downsizing of electronic devices, and the like. The present invention relates to a heat dissipation substrate used and a manufacturing method thereof.

従来、電子部品の実装用の放熱基板としては、金属板の上に、絶縁材層を積層し、配線パターンを形成した金属コア基板が多く使われている。次に図5を用いて従来の金属コア基板について説明する。   Conventionally, as a heat dissipation substrate for mounting electronic components, a metal core substrate in which an insulating material layer is laminated on a metal plate to form a wiring pattern is often used. Next, a conventional metal core substrate will be described with reference to FIG.

図5は従来の放熱基板の断面図である。図5において、金属板1の上には、電気絶縁層2が形成されている。そしてこの電気絶縁層2の上に銅箔3が積層されている。そしてこの上に、半田4を用いて、電子部品5や半導体6、端子7等を実装する。ここで電気絶縁層2の熱伝導率が高いほど、電子部品5や半導体6からの熱を金属板1に熱を伝えることができ、温度上昇を抑えることができる。電気絶縁層2としては樹脂とフィラの混合物を用いることが多い。   FIG. 5 is a cross-sectional view of a conventional heat dissipation substrate. In FIG. 5, an electrical insulating layer 2 is formed on the metal plate 1. A copper foil 3 is laminated on the electrical insulating layer 2. On top of this, the electronic component 5, the semiconductor 6, the terminal 7, etc. are mounted using the solder 4. Here, the higher the thermal conductivity of the electrical insulating layer 2, the more heat from the electronic component 5 and the semiconductor 6 can be transferred to the metal plate 1, and the temperature rise can be suppressed. As the electrical insulating layer 2, a mixture of resin and filler is often used.

熱伝導率を高める方法として、電気絶縁層2のフィラとして熱伝導率を高い材料を用いる、フィラの充填量を向上させるといった手法がよく用いられる。また、樹脂の熱伝導率を高めることも効果があり、図6を用いて説明する。例えば樹脂の熱伝導率を高める手段として、結晶性樹脂を用いることが提案されている。   As a method for increasing the thermal conductivity, a method of using a material having a high thermal conductivity as the filler of the electrical insulating layer 2 or a method of improving the filling amount of the filler is often used. Further, increasing the thermal conductivity of the resin is also effective and will be described with reference to FIG. For example, it has been proposed to use a crystalline resin as a means for increasing the thermal conductivity of the resin.

図6は、メソゲン基を有するモノマーの重合反応中の変化の模式図である。図6(A)〜(C)に示すようにして、メソゲン基8を有するモノマー9は、互いに重合することによって、電気絶縁性でかつ優れた熱伝導性を得ようとするものである。しかし結晶性樹脂を用いて高放熱性(あるいは高熱伝導性)を得るには、結晶性樹脂の結晶化率を高める必要がある。しかし結晶性樹脂において、その結晶化率を高めるほど、できあがった基板が硬くて脆い(曲がらずに折れてしまう、あるいは欠けやひびが入りやすい)と言う課題が発生してしまう。また、樹脂そのものが燃えやすく、結晶性を保ったまま基板に難燃性を付与することが難しく、そのため結晶性樹脂を用いて、電子部品を実装するための放熱基板を作製しても、その使用用途が大きく限られていた。   FIG. 6 is a schematic view of a change during a polymerization reaction of a monomer having a mesogenic group. As shown in FIGS. 6A to 6C, the monomers 9 having mesogenic groups 8 are intended to obtain electrical insulation and excellent thermal conductivity by polymerizing each other. However, in order to obtain high heat dissipation (or high thermal conductivity) using a crystalline resin, it is necessary to increase the crystallization rate of the crystalline resin. However, in the crystalline resin, the higher the crystallization rate, the more difficult the substrate is to be hard and brittle (they are bent without bending or are easily cracked or cracked). In addition, the resin itself is flammable, and it is difficult to impart flame retardancy to the substrate while maintaining crystallinity. Therefore, even if a heat dissipation substrate for mounting electronic components is produced using crystalline resin, Usage was greatly limited.

なお、この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1、2が知られている。
特許第3255315号公報 特開平11−323162号公報
As prior art document information related to the invention of this application, for example, Patent Documents 1 and 2 are known.
Japanese Patent No. 3255315 JP-A-11-323162

このように従来の結晶性樹脂は、結晶性樹脂特有の特性(硬くて脆い、欠けやすい、割れやすい、燃えやすい等)のため、放熱基板用の用途が限定されていた。   As described above, the conventional crystalline resin has limited properties for the heat dissipation substrate due to the characteristic properties of the crystalline resin (hard and brittle, easy to chip, easy to break, easy to burn, etc.).

強度を向上させる方法として、網目構造をとりやすい硬化剤を配合する方法等があるが、結晶性エポキシ樹脂の場合、立体的な結合を作ることで、結晶性が阻害され、高い熱伝導率が得られない場合が多い。   As a method of improving the strength, there is a method of blending a curing agent that easily takes a network structure, etc., but in the case of a crystalline epoxy resin, by forming a three-dimensional bond, the crystallinity is inhibited and high thermal conductivity is obtained. In many cases, it cannot be obtained.

難燃性を負荷する方法として、有機系の難燃剤もしくは、無機系の難燃剤を転化する方法が考えられる。しかし、有機系の難燃剤として、構造的に大きく異なる樹脂を配合すると結晶化が阻害されるため添加量が制限されるため、結晶性を保ったまま難燃化が達成できない。また、無機系の難燃剤の場合、難燃剤の熱伝導率が低いため、量を多くすると高い熱伝導率が得られなくなる。   As a method for loading the flame retardancy, a method of converting an organic flame retardant or an inorganic flame retardant can be considered. However, when an organic flame retardant is blended with structurally different resins, crystallization is inhibited and the amount of addition is limited, so that flame retardancy cannot be achieved while maintaining crystallinity. In addition, in the case of an inorganic flame retardant, since the thermal conductivity of the flame retardant is low, a high thermal conductivity cannot be obtained if the amount is increased.

本発明は、従来の課題を解決するもので、結晶性樹脂の硬くて脆い、また、燃えやすいという課題を解決し、結晶性樹脂を用いた放熱基板に高熱伝導性と丈夫さを両立し、難燃性を付与させられる熱伝導性材料及びそれを用いた放熱基板とその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention solves the conventional problem, solves the problem that the crystalline resin is hard and brittle, and easily burns, and achieves both high thermal conductivity and robustness to the heat dissipation substrate using the crystalline resin, It aims at providing the heat conductive material which can give a flame retardance, the heat dissipation board using the same, and its manufacturing method.

前記従来の課題を解決するために、本発明は、結晶性エポキシ樹脂を40vol%以上含有するエポキシ樹脂と、硬化剤と、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤に対して3vol%以上15vol%以下の難燃性エポキシ樹脂と前記エポキシ樹脂と前記硬化剤と前記難燃性エポキシに対して70vol%以上88vol%以下の無機フィラと、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤に対して0.6vol%以上3.5vol%以下の難燃助剤フィラと、からなる熱伝導性材料とするものである。   In order to solve the conventional problems, the present invention provides an epoxy resin containing 40 vol% or more of a crystalline epoxy resin, a curing agent, and a difficulty of 3 vol% or more and 15 vol% or less with respect to the epoxy resin and the curing agent. Inorganic filler of 70 vol% or more and 88 vol% or less with respect to the flammable epoxy resin, the epoxy resin, the curing agent and the flame retardant epoxy, and 0.6 vol% or more and 3.5 vol with respect to the epoxy resin and the curing agent. % Or less flame retardant auxiliary filler, and a heat conductive material.

このように難燃性エポキシと難燃助剤フィラを同様に結晶化が崩れない割合で転化することで難燃性を付与することで、高い熱伝導率を維持したまま放熱基板の難燃性を向上するものである。   In this way, the flame retardant epoxy and the flame retardant auxiliary filler are similarly converted at a rate that does not cause crystallization to break down. Is to improve.

本発明の熱伝導性材料及びそれを用いた放熱基板と放熱基板の製造方法によれば、結晶性樹脂をその一成分として用いた高放熱基板において、部品実装用基板として要求される高熱伝導性及び難燃性を付与する。その結果、放熱基板において高放熱性と丈夫さ・難燃性を両立させることができる。   According to the heat conductive material of the present invention and the heat dissipation substrate using the heat conductive material and the method of manufacturing the heat dissipation substrate, high heat conductivity required as a component mounting substrate in a high heat dissipation substrate using a crystalline resin as one component thereof. And imparts flame retardancy. As a result, the heat dissipation substrate can achieve both high heat dissipation and durability / flame resistance.

そして熱伝導性材料(あるいは熱伝導性材料が硬化してなる熱伝導性絶縁層)に応力が集中しにくくなるため、金属板との間の密着力も向上させる。   And since it becomes difficult for stress to concentrate on a heat conductive material (or heat conductive insulating layer formed by hardening a heat conductive material), the adhesive force between the metal plate is also improved.

(実施の形態)
以下、本発明の実施の形態における熱伝導性材料及びこれを用いた放熱基板について説明する。まず本発明の熱伝導性材料(あるいは熱伝導性樹脂)を用いた放熱基板について、図1を用いて説明する。
(Embodiment)
Hereinafter, the thermally conductive material and the heat dissipation substrate using the same in the embodiment of the present invention will be described. First, a heat dissipation board using the heat conductive material (or heat conductive resin) of the present invention will be described with reference to FIG.

図1は、実施の形態における放熱基板の切り欠き図である。図1において、10は配線パターンであり、リードフレームや銅箔等を所定形状(あるいは所定配線パターン形状)に加工したものに相当する。また11は熱伝導性絶縁層であり、後述する図3等(図3では熱伝導性材料17としている)で説明するものである。この熱伝導性絶縁層11を形成する熱伝導性材料は、結晶性エポキシ樹脂と、硬化剤と、難燃性エポキシ樹脂と、無機フィラと、難燃助剤フィラとからなる熱伝導性材料で構成する。そしてこの熱伝導性材料をシート状に加工し、熱伝導性絶縁層11とする。12は金属板であり、銅やアルミニウム等の熱伝導性に優れた金属材料から構成する。   FIG. 1 is a cutaway view of a heat dissipation board in the embodiment. In FIG. 1, reference numeral 10 denotes a wiring pattern, which corresponds to a lead frame, copper foil or the like processed into a predetermined shape (or a predetermined wiring pattern shape). Reference numeral 11 denotes a heat conductive insulating layer, which will be described later with reference to FIG. 3 and the like (referred to as a heat conductive material 17 in FIG. 3). The heat conductive material forming the heat conductive insulating layer 11 is a heat conductive material composed of a crystalline epoxy resin, a curing agent, a flame retardant epoxy resin, an inorganic filler, and a flame retardant auxiliary filler. Constitute. Then, this heat conductive material is processed into a sheet shape to form a heat conductive insulating layer 11. A metal plate 12 is made of a metal material having excellent thermal conductivity such as copper or aluminum.

図1において、配線パターン10の一部分以上を埋め込んだシート状の熱伝導性絶縁層11は、金属板12の表面に固定している。そして配線パターン10の一面を、前記熱伝導性絶縁層11から露出させる。そして熱伝導性絶縁層11に一部分以上を埋め込んだ配線パターン10の、露出面に電子部品(図示していない)を実装することになる。   In FIG. 1, a sheet-like thermally conductive insulating layer 11 in which a part or more of the wiring pattern 10 is embedded is fixed to the surface of the metal plate 12. Then, one surface of the wiring pattern 10 is exposed from the thermally conductive insulating layer 11. Then, an electronic component (not shown) is mounted on the exposed surface of the wiring pattern 10 in which a part or more is embedded in the heat conductive insulating layer 11.

次に図2を用いて、図1の放熱基板の放熱メカニズムについて説明する。図2(A)(B)は、共に配線パターン10を埋め込んだ放熱基板の放熱メカニズムを説明する断面図である。図2(A)(B)において、13は電子部品であり、発熱を伴う半導体(例えば、パワートランジスタやパワーFET)、あるいは発光ダイオード(LED)等である。14a、14bは矢印である。   Next, the heat dissipation mechanism of the heat dissipation substrate of FIG. 1 will be described with reference to FIG. 2A and 2B are cross-sectional views illustrating the heat dissipation mechanism of the heat dissipation board in which the wiring pattern 10 is embedded. 2A and 2B, reference numeral 13 denotes an electronic component, which is a semiconductor that generates heat (for example, a power transistor or a power FET), a light emitting diode (LED), or the like. 14a and 14b are arrows.

まず図2(A)に示すように、電子部品13を配線パターン10の上に実装する。なお図2(A)(B)において、配線パターン10の上に形成したソルダーレジストは図示していない(配線パターン10の上にソルダーレジストを形成することが望ましい。これは配線パターン10の上にソルダーレジストを形成することで、配線パターン10の表面で、実装用の半田(図示していない)が広がりすぎることを防止する。)。   First, as shown in FIG. 2A, the electronic component 13 is mounted on the wiring pattern 10. 2A and 2B, the solder resist formed on the wiring pattern 10 is not shown (It is desirable to form a solder resist on the wiring pattern 10. This is because the solder resist is formed on the wiring pattern 10. By forming the solder resist, mounting solder (not shown) is prevented from spreading on the surface of the wiring pattern 10).

次に図2(B)を用いて配線パターン10の上に実装した電子部品13に発生した熱を放熱する様子を説明する。図2(B)において、矢印14bは、熱が伝わる(あるいは放熱する)方向を示す。電子部品13に発生した熱は、矢印14bが示すように、配線パターン10を介して広面積に広がる(ヒートスプレッドする)。そして配線パターン10の熱は、配線パターン10を一部分以上埋め込んだ熱伝導性樹脂層11に伝わる。そして熱伝導性絶縁層11の熱は、金属板12に伝わる。こうして電子部品13を冷却する。なお金属板12を機器の筐体やシャーシ(共に図示していない)に固定することで、金属板12に伝わった熱を外部に伝える。   Next, how the heat generated in the electronic component 13 mounted on the wiring pattern 10 is radiated will be described with reference to FIG. In FIG. 2B, an arrow 14b indicates a direction in which heat is transmitted (or radiated). The heat generated in the electronic component 13 spreads over a wide area (heat spread) through the wiring pattern 10 as indicated by the arrow 14b. The heat of the wiring pattern 10 is transmitted to the heat conductive resin layer 11 in which the wiring pattern 10 is partially embedded. The heat of the heat conductive insulating layer 11 is transmitted to the metal plate 12. In this way, the electronic component 13 is cooled. In addition, by fixing the metal plate 12 to a housing or chassis (both not shown) of the device, heat transmitted to the metal plate 12 is transmitted to the outside.

こうして電子部品13を冷却することで、電子部品13の効率アップ(例えばLEDの場合の光量アップ、あるいは電源回路における効率アップや小型化)や、高寿命化、高信頼性化が可能となる。なお図2(A)、(B)において、電子部品13と配線パターン10との実装部分(例えば半田やワイヤー、表面実装用のバンプ等)は図示していない。次に放熱基板に用いる熱伝導性材料について説明する。   By cooling the electronic component 13 in this way, it is possible to increase the efficiency of the electronic component 13 (for example, increase the amount of light in the case of an LED, increase the efficiency or reduce the size of the power supply circuit), increase the lifetime, and increase the reliability. 2A and 2B, a mounting portion (for example, solder, wire, bump for surface mounting, etc.) between the electronic component 13 and the wiring pattern 10 is not shown. Next, the thermally conductive material used for the heat dissipation substrate will be described.

まず結晶性エポキシ樹脂と硬化剤と難燃性エポキシ樹脂と無機フィラと難燃助剤フィラを配合比に従って秤量し混合する。   First, a crystalline epoxy resin, a curing agent, a flame retardant epoxy resin, an inorganic filler, and a flame retardant auxiliary filler are weighed and mixed according to the blending ratio.

混合装置としては、市販の加熱混練装置(例えば、プラネタリーミキサーやニーダー、あるいは株式会社東洋精機製作所のラボプラストミル)や二軸混練機を使う。なお混練装置の内部には、攪拌羽根としてΣ型、Z型、ハイブリッド型等の攪拌羽根をつけても良い。また羽根以外の形状を用いることもできる。また混練装置はヒーター等で所定温度に加熱できるものを用いることが望ましい。混練装置を加熱することで、室温では固体状態であった樹脂材料を溶解(あるいは液化)できるため他の部材との親和性を高められる。   As the mixing device, a commercially available heat kneading device (for example, a planetary mixer or kneader, or a laboratory plast mill manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.) or a twin screw kneader is used. Note that a stirring blade of Σ type, Z type, hybrid type or the like may be attached as a stirring blade inside the kneading apparatus. Moreover, shapes other than a blade | wing can also be used. It is desirable to use a kneading apparatus that can be heated to a predetermined temperature by a heater or the like. By heating the kneading apparatus, the resin material that is in a solid state at room temperature can be dissolved (or liquefied), so that the affinity with other members can be increased.

ここで無機フィラとしては、アルミナ、窒化アルミ、窒化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化亜鉛から選ばれた少なくとも1種類からなる無機フィラを用いることが望ましい。このような熱伝導性の高い無機フィラを用いることで、熱伝導性絶縁層11の熱伝導性を更に高めることができる。なお結晶性エポキシ樹脂の温度を、その溶解温度以上(例えば50〜200℃)の範囲とすることで、結晶性エポキシ樹脂の溶融粘度を低く保ち、無機フィラの樹脂への均一分散を可能にする。   Here, as the inorganic filler, it is desirable to use at least one inorganic filler selected from alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, silicon nitride, magnesium oxide, and zinc oxide. By using such an inorganic filler having a high thermal conductivity, the thermal conductivity of the thermal conductive insulating layer 11 can be further increased. By setting the temperature of the crystalline epoxy resin within the melting temperature (for example, 50 to 200 ° C.), the melt viscosity of the crystalline epoxy resin can be kept low and the inorganic filler can be uniformly dispersed in the resin. .

なおこれら部材の最低液化温度以上(液化状態を保てる最低温度以上、例えば100℃以上)とすることが望ましい。そしてこの最低液化温度以上で、混練することで、均一化させやすい。   In addition, it is desirable to set it as more than the minimum liquefaction temperature of these members (above the minimum temperature which can maintain a liquefied state, for example, 100 degreeC or more). And it is easy to make it uniform by kneading above this minimum liquefaction temperature.

なお硬化促進剤の添加時に、混練装置(あるいはその中にセットした樹脂部材)の温度を一段下げておくことで、添加後の樹脂の熱硬化反応(あるいは経時変化)を抑えることもできる。こうして、熱伝導性材料を作製する。   When the curing accelerator is added, the temperature of the kneading apparatus (or the resin member set therein) is lowered one step so that the thermosetting reaction (or change with time) of the resin after the addition can be suppressed. In this way, a heat conductive material is produced.

また、必要に応じて、他の添加物を加えることができる。例えば可塑剤、酸アミド類、エステル類、パラフィン類などの離型剤、ニトリルゴム、ブタジエンゴム等の応力緩和剤、リン酸エステル、メラミン等の有機系難燃剤、五酸化アンチモン、酸化モリブデン、硼酸亜鉛、酸化錫、メタ硼酸バリウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、アルミン酸カルシウム等の無機系難燃剤、シラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等のカップリング剤、染料や顔料等の着色剤、ガラス繊維、ボロン繊維、シリコンカーバイト繊維、アルミナ繊維、シリカアルミナ繊維などの無機系繊維、アラミド繊維、ポリエステル繊維、セルロース繊維などの有機系繊維、酸化安定剤、光安定剤、耐湿性向上剤、チキソトロピー付与剤、希釈剤、消泡剤、他の各種の樹脂、粘着付与剤、帯電防止剤、滑剤、紫外線吸収剤等を配合することもできる。   Moreover, other additives can be added as needed. For example, release agents such as plasticizers, acid amides, esters and paraffins, stress relieving agents such as nitrile rubber and butadiene rubber, organic flame retardants such as phosphate esters and melamine, antimony pentoxide, molybdenum oxide, boric acid Inorganic flame retardants such as zinc, tin oxide, barium metaborate, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium aluminate, silane coupling agents, titanate coupling agents, coupling agents such as aluminum coupling agents, Colorants such as dyes and pigments, inorganic fibers such as glass fibers, boron fibers, silicon carbide fibers, alumina fibers and silica alumina fibers, organic fibers such as aramid fibers, polyester fibers and cellulose fibers, oxidation stabilizers, light Stabilizer, moisture resistance improver, thixotropy imparting agent, diluent, antifoaming agent, various other It fat, tackifiers, antistatic agents, lubricants, also be incorporated an ultraviolet absorber and the like.

次に熱伝導性材料の予備成形について説明する。こうして作製した熱伝導絶縁材は、混練装置から出すと同時に、シート状、丸棒状、ペレット状等の成形しやすい形状成形することが望ましい。熱伝導絶縁材をシート状、丸棒状、あるいはペレット状等に予備成形することで、熱伝導絶縁材の取り扱い性を改善できる。   Next, the preforming of the heat conductive material will be described. The heat conductive insulating material thus produced is desirably formed into a shape that is easy to form, such as a sheet shape, a round bar shape, or a pellet shape, at the same time as being taken out from the kneading apparatus. By pre-molding the heat conductive insulating material into a sheet shape, a round bar shape, a pellet shape, or the like, the handleability of the heat conductive insulating material can be improved.

次に図3を用いて、熱伝導性材料の予備成形(例えばシート状の成形例)について説明する。   Next, with reference to FIG. 3, a pre-formation (for example, a sheet-like molding example) of the heat conductive material will be described.

なお図3〜図4では、シート状としているが丸棒状、ペレット状としても良い。丸棒状とすることで熱伝導性材料の表面積を減らせ、経時変化を抑えられる。またプレス時に金属板12等との界面に空気残り(ボイドとも呼ばれる)を発生させにくい。なおペレット状とすることで、取り扱い性、秤量性を改善する。   3 to 4, the sheet shape is used, but a round bar shape or a pellet shape may be used. By using a round bar shape, the surface area of the heat conductive material can be reduced, and the change with time can be suppressed. Further, it is difficult to generate an air residue (also referred to as a void) at the interface with the metal plate 12 or the like during pressing. In addition, handling property and weighing property are improved by making it into a pellet form.

図3は熱伝導絶縁材の予備成形(シート状)について説明する断面図である。図3において、15はフィルム、16は成形装置、17は熱伝導性材料である。図3において、熱伝導性材料17は、少なくとも結晶性エポキシ樹脂と無機フィラ、硬化剤、難燃性エポキシ樹脂とからなるものである。そしてこの熱伝導性材料17を、成形装置16にセットし、矢印14に示すように駆動し、シート状に予備成形する。なおこの時、熱伝導性材料17と、成形装置16の間にフィルム15を挟んでおくことで、成形装置16の加工部表面(例えば、ロール回転部分等)の、熱伝導性材料17での汚れを防止する。またフィルム15を、シート化した熱伝導性材料17の表面に、一種の表面保護用のフィルム15として残しておく。   FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining the preforming (sheet shape) of the heat conductive insulating material. In FIG. 3, 15 is a film, 16 is a molding apparatus, and 17 is a thermally conductive material. In FIG. 3, the heat conductive material 17 is composed of at least a crystalline epoxy resin, an inorganic filler, a curing agent, and a flame retardant epoxy resin. Then, the heat conductive material 17 is set in the molding device 16 and is driven as indicated by an arrow 14 to be preformed into a sheet shape. At this time, the film 15 is sandwiched between the heat conductive material 17 and the molding device 16, so that the surface of the processed part of the molding device 16 (for example, a rotating part of the roll, etc.) Prevent dirt. The film 15 is left as a kind of surface protecting film 15 on the surface of the heat conductive material 17 formed into a sheet.

なおフィルム15としては、市販の表面をシリコン処理や撥水処理、離型処理したPET等の樹脂フィルムを用いることができる。また予備成形した熱伝導性材料17の厚みは、0.02mm以上5.00mm以下が望ましい。厚みが0.02mm以下とした場合、熱伝導樹脂材21にピンホールが発生する場合がある。またその厚みが5.00mmを超えると、放熱基板としての放熱性に影響を与える場合がある。なお成形装置16の成形部(例えば加圧ロール部分)を加熱しておくことで、熱伝導性材料17の成形性を高められ、できあがったシートの厚みバラツキも低減できる。そしてシート状に呼び成形した熱伝導性材料17の表面に、フィルム15を一種の保護シートとして残しておくことで、ゴミ等の汚れが付着したりすることを防止できる。   As the film 15, a resin film such as PET whose commercially available surface is treated with silicon, water repellent, or released can be used. The thickness of the preliminarily formed heat conductive material 17 is preferably 0.02 mm or more and 5.00 mm or less. When the thickness is 0.02 mm or less, pinholes may occur in the heat conductive resin material 21. Moreover, when the thickness exceeds 5.00 mm, the heat dissipation as a heat sink may be affected. In addition, by heating the molding part (for example, pressure roll part) of the molding apparatus 16, the moldability of the heat conductive material 17 can be improved, and the thickness variation of the completed sheet can also be reduced. Then, by leaving the film 15 as a kind of protective sheet on the surface of the heat conductive material 17 which has been call-molded into a sheet shape, it is possible to prevent dirt such as dust from adhering.

また、コーターを用いて塗工や、押出成型機を用いることもできる。   Also, coating using a coater or an extrusion molding machine can be used.

また、粘度を調整するために溶剤を添加してもよい。   A solvent may be added to adjust the viscosity.

また、あらかじめ溶剤に溶かした状態で混練してもよい。   Moreover, you may knead | mix in the state previously melt | dissolved in the solvent.

なお、製造方法は、図3に限定されるものではない。   In addition, the manufacturing method is not limited to FIG.

次にシート化した熱伝導性材料17を用いて、放熱基板を作製する様子について、図4(A)(B)を用いて説明する。図4(A)(B)は、共に放熱基板の製造方法の一例を説明する断面図である。図4(A)(B)において、18はプレスである。   Next, how a heat dissipation substrate is manufactured using the sheet-shaped heat conductive material 17 will be described with reference to FIGS. 4A and 4B are cross-sectional views illustrating an example of a method for manufacturing a heat dissipation board. 4A and 4B, 18 is a press.

まず図4(A)に示すように、金属板12と配線パターン10の間に、事前にフィルム15を除去しておいた熱伝導性材料17をセットする。そして金属板12と熱伝導性材料17と配線パターン10を、プレス18等の成形装置16の間に挟み、矢印14に示すように加熱加圧する。なお金属板12と成形装置16の間や、配線パターン10とプレス18の間に、汚れ防止用のフィルム15等をセットしておくことで、プレス18の表面等が熱伝導性材料17で汚れない。なお図4(A)(B)において、プレス18にセットする金型等は図示していない。そしてプレス18を矢印14に示すようにして、これら部材を所定温度、圧力し、固定する。   First, as shown in FIG. 4A, a heat conductive material 17 from which the film 15 has been removed in advance is set between the metal plate 12 and the wiring pattern 10. The metal plate 12, the heat conductive material 17, and the wiring pattern 10 are sandwiched between forming devices 16 such as a press 18 and heated and pressed as indicated by an arrow 14. In addition, by setting a dirt prevention film 15 between the metal plate 12 and the molding device 16 or between the wiring pattern 10 and the press 18, the surface of the press 18 is stained with the heat conductive material 17. Absent. 4 (A) and 4 (B), a die set on the press 18 is not shown. Then, as shown by the arrow 14, the press 18 is fixed by pressing these members at a predetermined temperature.

その後、図4(B)に示すようにプレス18を矢印14の方向に引き離す。その後、フィルム15を剥がす。このように配線パターン10を、その一面だけが露出するようにして、熱伝導性絶縁層11に埋め込んだ放熱基板(図1相当品)を作製する。   Thereafter, the press 18 is pulled away in the direction of the arrow 14 as shown in FIG. Thereafter, the film 15 is peeled off. In this manner, a heat dissipation substrate (a product equivalent to FIG. 1) is produced in which the wiring pattern 10 is exposed only on one surface thereof, and is embedded in the heat conductive insulating layer 11.

こうして配線パターン10を、熱伝導性絶縁層11に埋め込むことによって、配線パターン10と熱伝導性絶縁層11の接触面積を増加でき、放熱性を高める。また埋め込むことで、熱伝導性絶縁層11の表面に突き出す配線パターン10の厚みを小さくする効果が得られる。こうして配線パターン10に、例えば肉厚0.3mmのリードフレームを用いた場合でも、熱伝導性絶縁層11に埋め込むことで、熱伝導性絶縁層11からの配線パターン10の突き出し量(あるいは段差)を50μm以下(望ましくは20μm以下、更には10μm以下)に抑える。こうして突き出し量を抑えることで、配線パターン10の上に形成するソルダーレジストの形成が容易となり、ソルダーレジストの膜厚も薄層、均一化でき、放熱基板の放熱性を高める。   By embedding the wiring pattern 10 in the heat conductive insulating layer 11 in this way, the contact area between the wiring pattern 10 and the heat conductive insulating layer 11 can be increased, and heat dissipation is improved. Further, by embedding, an effect of reducing the thickness of the wiring pattern 10 protruding from the surface of the heat conductive insulating layer 11 can be obtained. Thus, even when a lead frame having a thickness of 0.3 mm, for example, is used as the wiring pattern 10, the protrusion amount (or step) of the wiring pattern 10 from the heat conductive insulating layer 11 is obtained by embedding it in the heat conductive insulating layer 11. Is suppressed to 50 μm or less (preferably 20 μm or less, more preferably 10 μm or less). By suppressing the protruding amount in this way, it becomes easy to form the solder resist formed on the wiring pattern 10, the thickness of the solder resist can be made thin and uniform, and the heat dissipation property of the heat dissipation substrate is improved.

更に配線パターン10の一部分以上を熱伝導性絶縁層11に埋め込むことで、配線パターン10と熱伝導性絶縁層11との接続強度を高める。そして配線パターン10の引張り強度を高められる(引張り強度の測定方法については、プリント配線基板における銅箔の引張り強度評価方法等を参考にすればよい)。   Further, by embedding a part or more of the wiring pattern 10 in the heat conductive insulating layer 11, the connection strength between the wiring pattern 10 and the heat conductive insulating layer 11 is increased. Then, the tensile strength of the wiring pattern 10 can be increased (for the method of measuring the tensile strength, a method for evaluating the tensile strength of the copper foil in the printed wiring board and the like can be referred to).

次に、熱伝導性材料17を構成する部材である、結晶性エポキシ樹脂について個別に説明する。   Next, the crystalline epoxy resin which is a member constituting the heat conductive material 17 will be individually described.

次に(化1)〜(化8)を用いて、結晶性エポキシ樹脂について説明する。   Next, the crystalline epoxy resin will be described using (Chemical Formula 1) to (Chemical Formula 8).

Figure 2009203262
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(化1)〜(化8)は、共に結晶性エポキシ樹脂の一例を示す構造式を示すものである。(化1)において、結晶性エポキシ樹脂の構造式におけるXは、S(硫黄)もしくはO(酸素)、C(炭素)、なし(短結合)である。またR1、R2、R3、R4はCH3、H、t−Bu等である。またR1〜R4は同じであっても良い。このエポキシ基を有する樹脂を主剤ともいう。 (Chemical Formula 1) to (Chemical Formula 8) are structural formulas showing an example of a crystalline epoxy resin. In (Chemical Formula 1), X in the structural formula of the crystalline epoxy resin is S (sulfur) or O (oxygen), C (carbon), or none (short bond). R1, R2, R3, and R4 are CH 3 , H, t-Bu, and the like. R1 to R4 may be the same. This resin having an epoxy group is also called a main agent.

(化2)は、結晶性エポキシ樹脂の硬化に用いる硬化剤の構造式を示すものである。(化2)の構造式においてXは、S(硫黄)O(酸素)もしくは短結合である。(化1)の主剤と、(化2)の硬化剤を混合し、重合させたものも結晶質エポキシ樹脂と呼んでもよい。   (Chemical Formula 2) shows the structural formula of the curing agent used for curing the crystalline epoxy resin. In the structural formula of (Chemical Formula 2), X is S (sulfur) O (oxygen) or a short bond. A polymer obtained by mixing the main component of (Chemical Formula 1) and the curing agent of (Chemical Formula 2) and polymerizing may also be called a crystalline epoxy resin.

なお主剤と硬化剤の割合は、エポキシ当量から計算する。また、この硬化剤は難燃性エポキシ樹脂の硬化剤としても作用する。また硬化剤として(化4)以外の硬化剤を使っても良い。なお結晶性エポキシ樹脂としては、(化3)〜(化8)に示したものも使うことができる。(化3)〜(化8)に示す結晶性エポキシ樹脂は、融点が50〜121℃程度で、更に溶解粘度も低い(例えば、150℃における粘度は6〜20mPa・s)ため、無機フィラを混合、分散させやすい効果が得られる。   The ratio between the main agent and the curing agent is calculated from the epoxy equivalent. The curing agent also acts as a curing agent for the flame retardant epoxy resin. A curing agent other than (Chemical Formula 4) may be used as the curing agent. As the crystalline epoxy resin, those shown in (Chemical Formula 3) to (Chemical Formula 8) can also be used. The crystalline epoxy resins represented by (Chemical Formula 3) to (Chemical Formula 8) have a melting point of about 50 to 121 ° C. and a low dissolution viscosity (for example, the viscosity at 150 ° C. is 6 to 20 mPa · s). The effect of being easy to mix and disperse is obtained.

次に結晶性エポキシ樹脂とエポキシ樹脂の比率について説明する。主剤となるエポキシ樹脂に対して、結晶性エポキシ樹脂は40vol%以上含有している事が望ましい。結晶性エポキシ樹脂が40vol%未満だと結晶性が発現しにくくなる。また、結晶化した部分が少なく、熱伝導率等に十分な効果が得られない。   Next, the ratio between the crystalline epoxy resin and the epoxy resin will be described. It is desirable that the crystalline epoxy resin is contained in an amount of 40 vol% or more with respect to the epoxy resin as the main agent. When the crystalline epoxy resin is less than 40 vol%, the crystallinity is hardly expressed. Moreover, there are few crystallized parts and a sufficient effect on the thermal conductivity and the like cannot be obtained.

次にエポキシ樹脂と硬化剤に対しての難燃性エポキシ樹脂の比率について説明する。結晶性エポキシ樹脂は、構造的な形状が結晶性に大きく起因しており、Brの様な大きい置換基が多くあると結晶性が阻害されてしまう。また、難燃性を付与するためには、それなりの難燃性エポキシ樹脂の量が必要である。難燃性のエポキシ樹脂の量はエポキシ樹脂と硬化剤の量に対して3vol%以上15vol%以下の範囲内が望ましい。3vol%以下だと、十分な難燃性が付与できない。また、15vol%より多くだと結晶性が発現せず熱伝導が低くなってしまう。この難燃性の付与に関しては、難燃助剤フィラと組み合わせることで、難燃性エポキシ樹脂の量が少なくても実現することができる。   Next, the ratio of the flame retardant epoxy resin to the epoxy resin and the curing agent will be described. In the crystalline epoxy resin, the structural shape is largely attributed to crystallinity, and if there are many large substituents such as Br, the crystallinity is hindered. Further, in order to impart flame retardancy, an appropriate amount of flame retardant epoxy resin is required. The amount of the flame retardant epoxy resin is desirably in the range of 3 vol% or more and 15 vol% or less with respect to the amount of the epoxy resin and the curing agent. When it is 3 vol% or less, sufficient flame retardancy cannot be imparted. On the other hand, if it is more than 15 vol%, the crystallinity is not expressed and the heat conduction is lowered. This imparting flame retardancy can be realized even when the amount of the flame retardant epoxy resin is small by combining with the flame retardant aid filler.

また、難燃助剤フィラはエポキシ樹脂と硬化剤に対して0.6vol%以上3.5vol%以下が望ましい。難燃助剤フィラの熱伝導率が低いため、3.5vol%より多い場合は、熱伝導率の低下が激しい。また、0.6vol%以下では難燃性(難燃性エポキシ樹脂、無機フィラとの混合効果)を付与することができなくなる。難燃助剤フィラは水酸化合物、ホウ素化合物、アンチモン化合物、モリブデン化合物、金属酸化物塩などを用いることができる。特に三酸化アンチモン(Antimony Trioxide)は難燃性の効果が大きく望ましい。三酸化アンチモンの粒径は、0.1〜20μm(望ましくは0.3〜10.0μm)が小さい方が良い。0.1μmより小さい場合は、高価であり熱伝導性材料17への分散が難しい場合がある。また粒径が20μmを超えた場合、熱伝導性絶縁層11の表面が粗面化し、リードフレーム等からなる配線パターン10との密着性に影響を与える可能性がある。   Further, the flame retardant auxiliary filler is preferably 0.6 vol% or more and 3.5 vol% or less with respect to the epoxy resin and the curing agent. Since the thermal conductivity of the flame retardant aid filler is low, when it exceeds 3.5 vol%, the thermal conductivity is drastically reduced. Moreover, if it is 0.6 vol% or less, flame retardancy (mixing effect with flame retardant epoxy resin and inorganic filler) cannot be imparted. As the flame retardant auxiliary filler, a hydroxyl compound, a boron compound, an antimony compound, a molybdenum compound, a metal oxide salt, or the like can be used. In particular, antimony trioxide is desirable because of its great flame retardant effect. The particle size of antimony trioxide is preferably as small as 0.1 to 20 μm (desirably 0.3 to 10.0 μm). If it is smaller than 0.1 μm, it is expensive and may be difficult to disperse in the heat conductive material 17. Further, when the particle diameter exceeds 20 μm, the surface of the heat conductive insulating layer 11 becomes rough, which may affect the adhesion with the wiring pattern 10 made of a lead frame or the like.

なお三酸化アンチモンの粒径は、吸湿性にも影響を与える場合がある。そのため吸湿性が課題となる放熱基板の場合、三酸化アンチモンの粒径が細かいほど、吸湿しやすい。そのため吸湿性が課題となる場合、三酸化アンチモンの粒径は0.1μm以上とすることが望ましい。これは0.1μm未満の細かい三酸化アンチモンは吸湿性が高いためである。   The particle size of antimony trioxide may affect the hygroscopicity. Therefore, in the case of a heat dissipation substrate in which hygroscopicity is a problem, the smaller the particle size of antimony trioxide, the easier it is to absorb moisture. Therefore, when hygroscopicity is a problem, the particle size of antimony trioxide is desirably 0.1 μm or more. This is because fine antimony trioxide of less than 0.1 μm is highly hygroscopic.

なお三酸化アンチモンの粒径は、無機フィラの粒径とマッチングさせる(無機フィラ粒径に近い粒径)とさせることで、エポキシ樹脂等への分散を容易にできる。この場合、複数の異なる粒径の無機フィラ(例えば、大きな粉と小さな粉)を組み合わせて用いる場合、小さな粉(例えば0.2〜0.6μm)、あるいは大きな粉(例えば1.0〜10.0μm)となるものの、どちらか一方と、その粒径を揃えることが望ましい。こうすることで、これら粉体の分散性を高める。   The particle size of antimony trioxide can be easily dispersed in an epoxy resin or the like by matching the particle size of the inorganic filler (particle size close to the inorganic filler particle size). In this case, when a plurality of inorganic fillers having different particle sizes (for example, large powder and small powder) are used in combination, small powder (for example, 0.2 to 0.6 μm) or large powder (for example, 1.0 to 10 .mu.m). 0 μm), it is desirable to have the same particle size as either one. By doing so, the dispersibility of these powders is enhanced.

なお無機フィラと全樹脂(ここで全樹脂とは、結晶性エポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂と硬化剤と燃性エポキシ樹脂の合計の意味であり、樹脂バインダーに相当する)の比率において、無機フィラは70〜88vol%(樹脂バインダーは30〜12vol%)の範囲内が望ましい。無機フィラの割合が70vol%未満の場合、熱伝導性材料17が硬化してなる熱伝導性絶縁層11の熱伝導率が低下する場合がある。また、難燃性にも影響を与える。また無機フィラの割合が88vol%より大きくなると、熱伝導樹脂材21の成形性に影響を与える場合がある。なおここでvol%は体積%を意味する。   In addition, in the ratio of the inorganic filler and the total resin (herein, the total resin means the total of the epoxy resin including the crystalline epoxy resin, the curing agent, and the flammable epoxy resin, which corresponds to the resin binder), the inorganic filler is The range of 70-88 vol% (the resin binder is 30-12 vol%) is desirable. When the proportion of the inorganic filler is less than 70 vol%, the thermal conductivity of the thermally conductive insulating layer 11 formed by curing the thermally conductive material 17 may be reduced. It also affects flame retardancy. Moreover, when the ratio of an inorganic filler becomes larger than 88 vol%, the moldability of the heat conductive resin material 21 may be affected. Here, vol% means volume%.

無機フィラとしては、熱伝導率、絶縁性等の観点からアルミナ、窒化アルミ、窒化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化亜鉛等が望ましい。また、これらの無機フィラを組み合わせることも可能である。また無機フィラ19の平均粒径は、0.1μm以上100μm以下の範囲が望ましい。平均粒径が0.1μm以下になると、比表面積が大きくなり、熱伝導性材料17の混練が難しくなり、熱伝導性絶縁層11の成形性にも影響を与える場合がある。また100μmを超えると、熱伝導性絶縁層11の薄層化が難しくなり、放熱基板としての放熱性に影響を与え、製品の小型化に影響を与える可能性がある。なお無機フィラ19の充填率を増加するために、異なる粒度分布を有する複数種の無機フィラ19を選び、これらを混合して使用しても良い。   As the inorganic filler, alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, silicon nitride, magnesium oxide, zinc oxide, and the like are desirable from the viewpoint of thermal conductivity, insulation, and the like. It is also possible to combine these inorganic fillers. The average particle size of the inorganic filler 19 is preferably in the range of 0.1 μm to 100 μm. When the average particle size is 0.1 μm or less, the specific surface area becomes large, the kneading of the heat conductive material 17 becomes difficult, and the moldability of the heat conductive insulating layer 11 may be affected. On the other hand, if the thickness exceeds 100 μm, it is difficult to reduce the thickness of the thermally conductive insulating layer 11, which may affect the heat dissipation as a heat dissipation substrate and may affect the miniaturization of the product. In order to increase the filling rate of the inorganic filler 19, a plurality of kinds of inorganic fillers 19 having different particle size distributions may be selected and used in combination.

なお配線パターン10としては、放熱基板の用途に応じて、配線パターン10の厚みとして0.002〜0.10mmの範囲が必要な場合は銅箔を、0.10〜1.00mmの範囲が必要な場合はリードフレームをと、互いに使い分けることができる。なおリードフレームの部材としては銅を主体としたもの(例えばタフピッチ銅や無酸素銅等と呼ばれているもの)を用いることが望ましい。銅を主体とすることで、高放熱性と低抵抗性を両立することができる。また配線パターン10の一部分以上を熱伝導性絶縁層11に埋めることで、放熱基板における配線パターン10に起因する段差(厚み段差)を低減できる。   In addition, as the wiring pattern 10, depending on the use of the heat dissipation board, when the thickness of the wiring pattern 10 requires a range of 0.002 to 0.10 mm, a copper foil is required, and a range of 0.10 to 1.00 mm is required. In this case, the lead frames can be used differently. As the lead frame member, it is desirable to use a material mainly composed of copper (for example, a material called tough pitch copper or oxygen-free copper). By mainly using copper, both high heat dissipation and low resistance can be achieved. Further, by embedding a part or more of the wiring pattern 10 in the heat conductive insulating layer 11, a step (thickness step) due to the wiring pattern 10 in the heat dissipation substrate can be reduced.

実施例1
以下に実験1として、結晶性エポキシ樹脂を40vol%以上含有するエポキシ樹脂と、硬化剤と、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤との合計に対して3vol%以上15vol%以下の難燃性エポキシ樹脂と、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤と前記難燃性エポキシに対して70vol%以上88vol%以下の無機フィラと、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤に対して0.6vol%以上3.5vol%以下の難燃助剤フィラと、からなる熱伝導性材料17について実験した結果を示す。
Example 1
Hereinafter, as Experiment 1, an epoxy resin containing 40 vol% or more of a crystalline epoxy resin, a curing agent, and a flame retardant epoxy resin of 3 vol% or more and 15 vol% or less with respect to the total of the epoxy resin and the curing agent; Inorganic fillers of 70 vol% or more and 88 vol% or less with respect to the epoxy resin, the curing agent, and the flame retardant epoxy, and 0.6 vol% or more and 3.5 vol% or less of the epoxy resin and the curing agent with respect to the inorganic filler. The result of having experimented about the heat conductive material 17 which consists of a fuel filler filler is shown.

結晶性エポキシ含有樹脂としてジャパンエポキシレジン製「YL6121H」、エポキシ樹脂として「YX4000H」、硬化剤として、4、4’−ジアミノビフェニル、4、4’−ジハイドロキシビフェニルエーテル、難燃性エポキシ樹脂として日本化薬製臭素化エポキシ「BREN−S」、無機フィラとしてアルミナ、難燃助剤フィラとして三酸化アンチモンを用意した。   "YL6121H" made by Japan Epoxy Resin as crystalline epoxy-containing resin, "YX4000H" as epoxy resin, 4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-dihydroxybiphenyl ether as curing agent, Japan as flame retardant epoxy resin Brominated epoxy “BREN-S” manufactured by Kayaku, alumina as an inorganic filler, and antimony trioxide as a flame retardant auxiliary filler were prepared.

上記の材料と、硬化促進剤として、ジャパンエポキシレジン製「P−200 」イミダゾール(アミンアダクト)を混合攪拌し、エポキシ樹脂、硬化剤が融解する温度まで加熱し、二軸混練機を用いて混合した。混合後、各種試験に応じた形状に成形し、180℃×5Hourの条件で加熱硬化し、熱伝導性絶縁層11とした。   “P-200” imidazole (amine adduct) manufactured by Japan Epoxy Resin as a curing accelerator is mixed and stirred, heated to a temperature at which the epoxy resin and curing agent melt, and mixed using a biaxial kneader. did. After mixing, it was molded into a shape corresponding to various tests and heat-cured under the conditions of 180 ° C. × 5 Hour to obtain a thermally conductive insulating layer 11.

次に難燃性について評価した一例を、表1を用いながら説明する。   Next, an example of evaluating the flame retardancy will be described with reference to Table 1.

結晶性エポキシ含有樹脂としてジャパンエポキシレジン製「YL6121H」、エポキシ樹脂として「YX4000H」、硬化剤として、4−4ジアミノビフェニル、4−4,ジハイドロキシビフェニルエーテル、難燃性エポキシ樹脂として日本化薬製臭素化エポキシ「BREN−S」、熱可塑性樹脂としてゼオン化成製コアシェルアクリレート共重合体「F351」、無機フィラとしてアルミナ、難燃助剤フィラとして三酸化アンチモンを用意した。   "YL6121H" made by Japan Epoxy Resin as a crystalline epoxy-containing resin, "YX4000H" as an epoxy resin, 4-4 diaminobiphenyl, 4-4, dihydroxybiphenyl ether as a curing agent, and Nippon Kayaku as a flame retardant epoxy resin Brominated epoxy “BREN-S”, Zeon Kasei core-shell acrylate copolymer “F351” as a thermoplastic resin, alumina as an inorganic filler, and antimony trioxide as a flame retardant auxiliary filler were prepared.

上記の材料と、硬化促進剤として、ジャパンエポキシレジン製「P−200 」イミダゾール(アミンアダクト)を混合攪拌し、エポキシ樹脂、硬化剤が融解する温度まで加熱し、二軸混練機を用いて混合した。混合後、各種試験に応じた形状に成形し、180℃×5Hourの条件で加熱硬化した。   “P-200” imidazole (amine adduct) manufactured by Japan Epoxy Resin as a curing accelerator is mixed and stirred, heated to a temperature at which the epoxy resin and curing agent melt, and mixed using a biaxial kneader. did. After mixing, it was molded into a shape corresponding to various tests and heat-cured under conditions of 180 ° C. × 5 Hour.

難燃性試験用として、サンプル1:125±5mm×13±0.5mm×1.6mm、サンプル2:125±5mm×13±0.5mm×0.4mmの形状で作製し、UL94の規格に基づく難燃性試験を実施した。   For flame retardant test, sample 1: 125 ± 5mm × 13 ± 0.5mm × 1.6mm, sample 2: 125 ± 5mm × 13 ± 0.5mm × 0.4mm, manufactured in the shape of UL94 Based on the flame retardancy test.

10秒接炎後、炎をはなし、消火までの燃焼時間(t1)を計り、消化後、10秒接炎後、炎をはなし、消火までの燃焼時間(t2)を計った。   After 10 seconds of flame contact, the flame was released and the combustion time (t1) until extinction was measured. After digestion, after 10 seconds of flame contact, the flame was released and the combustion time until extinction (t2) was measured.

試料の配合条件は燃えやすい結晶性エポキシ樹脂が多く、フィラが少ない条件で行い、難燃性エポキシ、難燃助剤フィラの割合を変化させて行った。   The sample was mixed under the condition that there were many flammable crystalline epoxy resins and few fillers, and the ratio of the flame retardant epoxy and the flame retardant auxiliary filler was changed.

難燃性エポキシ、難燃助剤フィラを加えることで難燃性が向上する(熱伝導率的には低下する)。表1に結果を示す。   Addition of flame retardant epoxy and flame retardant aid filler improves flame retardancy (decreases thermal conductivity). Table 1 shows the results.

表1は、エポキシ樹脂と前記硬化剤との合計に対して3vol%以上15vol%以下の難燃性エポキシ樹脂と、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤との合計に対して0.6vol%以上3.5vol%以下の難燃助剤フィラと、難燃性エポキシを3vol%以上かつ難燃助剤フィラを0.6vol%以上混合したときに難燃性を付加した例について説明する。   Table 1 shows that 3 vol% or more and 15 vol% or less flame retardant epoxy resin with respect to the total of the epoxy resin and the curing agent, and 0.6 vol% or more with respect to the total of the epoxy resin and the curing agent. An example in which flame retardancy is added when a flame retardant auxiliary filler of 5 vol% or less and a flame retardant epoxy of 3 vol% or more and a flame retardant auxiliary filler of 0.6 vol% or more are mixed will be described.

Figure 2009203262
Figure 2009203262

表1より、難燃性エポキシを3vol%以上かつ難燃助剤フィラを0.6vol%以上混合したときに難燃性を付加できる。   From Table 1, the flame retardancy can be added when 3 vol% or more of the flame retardant epoxy and 0.6 vol% or more of the flame retardant auxiliary filler are mixed.

次に熱伝導率の測定結果の一例について、表2を用いながら説明する。   Next, an example of the measurement result of thermal conductivity will be described with reference to Table 2.

熱伝導率測定用のサンプルはφ1/2インチ、t1mmの円板状に作製し、ブルカーエイエックスエス社製キセノンレーザーフラッシュを用いて測定を行った。   A sample for measuring thermal conductivity was prepared in a disk shape of φ1 / 2 inch and t1 mm, and measurement was performed using a xenon laser flash manufactured by Bruker AXS.

試料の配合条件は熱伝導率が大きくなる結晶性エポキシ樹脂が多く、フィラが多い条件で行い、難燃性エポキシ、難燃助剤フィラの割合を変化させて行った。表2に結果を示す。   The sample was blended under the condition that there were many crystalline epoxy resins having a high thermal conductivity and a large amount of filler, and the ratio of the flame retardant epoxy and the flame retardant auxiliary filler was changed. Table 2 shows the results.

Figure 2009203262
Figure 2009203262

3%以上の難燃性エポキシ樹脂が難燃性を付加するために必要だが、難燃性エポキシ樹脂を加えることで熱伝導率は低下し、18%以上加えたときに、エポキシ樹脂は結晶性を取ることができなくなり、熱伝導率が極端に低下する。   A flame retardant epoxy resin of 3% or more is necessary to add flame retardancy, but adding a flame retardant epoxy resin decreases the thermal conductivity, and when added over 18%, the epoxy resin is crystalline. Can not be taken, and the thermal conductivity is extremely reduced.

次に難燃助剤フィラの効果について、表3を用いて説明する。   Next, the effect of the flame retardant aid filler will be described with reference to Table 3.

表3に難燃助剤フィラの結果を示す。   Table 3 shows the results of the flame retardant aid filler.

Figure 2009203262
Figure 2009203262

0.6%以上の難燃助剤フィラが難燃性を付加するために必要だが、難燃助剤フィラを加えることで熱伝導率は低下(フィラ量が増えるため極端な低下はしない)し、4.0%以上加えたときに、エポキシ樹脂は結晶性を取ることができなくなり、熱伝導率が極端に低下する。以上より3.5vol%以下が良いことが判る。   A flame retardant aid filler of 0.6% or more is necessary to add flame retardancy, but the addition of the flame retardant aid filler reduces the thermal conductivity (the amount of filler does not increase drastically). When added in an amount of 4.0% or more, the epoxy resin cannot take crystallinity, and the thermal conductivity is extremely lowered. From the above, it can be seen that 3.5 vol% or less is good.

以上のようにして、結晶性エポキシ樹脂を40vol%以上含有するエポキシ樹脂と、硬化剤と、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤との合計に対して3vol%以上15vol%以下の難燃性エポキシ樹脂と、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤と前記難燃性エポキシ樹脂との合計に対して70vol%以上88vol%以下の無機フィラと、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤との合計に対して0.6vol%以上3.5vol%以下の難燃助剤フィラと、からなる熱伝導性材料17(あるいは熱伝導性材料17を硬化してなる熱伝導性絶縁層11)を用いることで、放熱基板等における高熱伝導化と難燃化を実現する。   As described above, an epoxy resin containing 40 vol% or more of a crystalline epoxy resin, a curing agent, and a flame retardant epoxy resin of 3 vol% or more and 15 vol% or less with respect to the total of the epoxy resin and the curing agent, The inorganic filler of 70 vol% or more and 88 vol% or less with respect to the total of the epoxy resin, the curing agent and the flame retardant epoxy resin, and 0.6 vol% or more with respect to the total of the epoxy resin and the curing agent By using a heat conductive material 17 (or a heat conductive insulating layer 11 formed by curing the heat conductive material 17) comprising a flame retardant auxiliary filler of 3.5 vol% or less, high heat conduction in a heat dissipation substrate or the like. Realization and flame retardancy.

エポキシ樹脂と硬化剤を反応させ硬化したエポキシ樹脂硬化物が結晶性を有している熱伝導性材料17(あるいは熱伝導性材料17を硬化してなる熱伝導性絶縁層11)を用いることで、放熱基板等における高熱伝導化と難燃化を両立する。   By using a thermally conductive material 17 (or a thermally conductive insulating layer 11 formed by curing the thermally conductive material 17), a cured epoxy resin cured by reacting an epoxy resin and a curing agent has crystallinity. , To achieve both high thermal conductivity and flame resistance in heat dissipation substrates.

また難燃性エポキシ樹脂として臭素化エポキシ(あるいは臭素化エポキシ樹脂)を用いることで、熱伝導性材料17(あるいは熱伝導性材料17を硬化してなる熱伝導性絶縁層11)や、これら部材を用いた放熱基板等における高熱伝導化と難燃化を実現する。なお臭素化エポキシ樹脂は、分子量を選定することで他の樹脂との相溶性に優れブリードアウト(ブリードアウトとは、熱伝導性材料17中の各種添加物が経時変化によって凝集し表面に粉化する現象や、硬化物の周囲に発生する低分子樹脂や溶剤の「しみ出し」等の現象)を減らせる。特にブリードアウトを減らすことで、放熱性や難燃化を高められる。   Further, by using brominated epoxy (or brominated epoxy resin) as the flame retardant epoxy resin, the heat conductive material 17 (or the heat conductive insulating layer 11 formed by curing the heat conductive material 17), or these members Achieves high thermal conductivity and flame retardance in heat dissipation boards using heat. Brominated epoxy resin has excellent compatibility with other resins by selecting the molecular weight. Bleed-out (Bleed-out is the aggregation of various additives in the thermal conductive material 17 over time and pulverization on the surface. Phenomenon and phenomenon of “bleeding out” of low molecular resin and solvent generated around the cured product). In particular, by reducing bleed-out, heat dissipation and flame retardancy can be improved.

また硬化剤が、2価のOH基及び/またはNH2基を有しているものを用いることで、熱伝導性材料17(あるいは熱伝導性材料17を硬化してなる熱伝導性絶縁層11)の反応性や硬化性、あるいは難燃化材等とのマッチングを改善し、放熱基板等における高熱伝導化と難燃化を両立する。 Further, by using a hardener having a divalent OH group and / or NH 2 group, the heat conductive material 17 (or the heat conductive insulating layer 11 formed by curing the heat conductive material 17 is used. ) Reactivity and curability, or matching with flame retardants, etc., and achieves both high thermal conductivity and flame retardant properties in heat dissipation substrates.

なお無機フィラは、アルミナ、窒化アルミ、窒化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化亜鉛から選ばれた少なくとも1種類以上からなる無機フィラとすることが望ましい。これはこれらが高熱伝導性と難燃性を有するためである。   The inorganic filler is preferably an inorganic filler composed of at least one selected from alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, silicon nitride, magnesium oxide, and zinc oxide. This is because they have high thermal conductivity and flame retardancy.

なお難燃助剤フィラが三酸化アンチモンとすることで、難燃性を更に高める。   In addition, a flame-retardant auxiliary | assistant filler makes an antimony trioxide further raise a flame retardance.

また結晶性エポキシ樹脂を40vol%以上含有するエポキシ樹脂と、硬化剤と、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤に対して3vol%以上15vol%以下の難燃性エポキシ樹脂と、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤と前記難燃性エポキシに対して70vol%以上88vol%以下の無機フィラと、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤との合計に対して0.6vol%以上2.5vol%以下の難燃助剤フィラとからなる熱伝導性絶縁層11(あるいは熱伝導性材料17が硬化してなる熱伝導性絶縁層11)と、前記熱伝導性絶縁層11に接着された金属板12と、前記熱伝導性絶縁層11に少なくとも一部分以上を埋め込んだ配線パターン10と、からなる放熱基板とすることで、放熱基板等における高熱伝導化と難燃化を両立する。   Further, an epoxy resin containing 40 vol% or more of a crystalline epoxy resin, a curing agent, a flame retardant epoxy resin of 3 vol% or more and 15 vol% or less with respect to the epoxy resin and the curing agent, the epoxy resin and the curing agent. And an inorganic filler of 70 vol% or more and 88 vol% or less with respect to the flame retardant epoxy, and a flame retardant auxiliary filler of 0.6 vol% or more and 2.5 vol% or less with respect to the total of the epoxy resin and the curing agent, A heat conductive insulating layer 11 (or a heat conductive insulating layer 11 formed by curing a heat conductive material 17), a metal plate 12 adhered to the heat conductive insulating layer 11, and the heat conductive insulating layer. By using a heat dissipation board composed of the wiring pattern 10 in which at least a part is embedded in the layer 11, both high thermal conductivity and flame retardancy are achieved in the heat dissipation board and the like.

少なくとも、金属板12上に、シート状に予備成形した結晶性エポキシ樹脂を40vol%以上含有するエポキシ樹脂と、硬化剤と、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤に対して3vol%以上15vol%以下の難燃性エポキシ樹脂と、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤と前記難燃性エポキシとの合計に対して70vol%以上88vol%以下の無機フィラと、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤に対して0.6vol%以上2.5vol%以下の難燃助剤フィラとからなる熱伝導性材料17と、配線パターン10と、をセットする工程と、前記金属板12上に前記熱伝導性材料17と、前記配線パターン10と、を一体化する工程と、を含む放熱基板の製造方法によって、高熱伝導化と難燃化の両方に優れた放熱基板を製造する。   At least an epoxy resin containing 40 vol% or more of a crystalline epoxy resin preformed in a sheet form on the metal plate 12, a curing agent, and a difficulty of 3 vol% or more and 15 vol% or less with respect to the epoxy resin and the curing agent. A flame retardant epoxy resin, an inorganic filler of 70 vol% to 88 vol% with respect to the total of the epoxy resin, the curing agent and the flame retardant epoxy, and 0.6 vol% with respect to the epoxy resin and the curing agent The step of setting the heat conductive material 17 composed of the flame retardant aid filler of 2.5 vol% or less and the wiring pattern 10, the heat conductive material 17 on the metal plate 12, and the wiring pattern 10 is manufactured by the manufacturing method of the heat dissipation board including the step of integrating the heat dissipation board 10 and the heat dissipation board excellent in both high thermal conductivity and flame retardance.

以上のように、本発明に係る熱伝導性材料及びそれを用いた放熱基板と放熱基板の製造方法によって、PDPテレビ(PDPはプラズマディスプレイパネル)の電源回路や、液晶テレビの発光ダイオードを用いたバックライトのような放熱性が必要な機器の小型化、低コスト化が可能となる。   As described above, the power supply circuit of the PDP television (PDP is a plasma display panel) and the light emitting diode of the liquid crystal television are used by the thermally conductive material according to the present invention and the method of manufacturing the heat dissipation substrate and the heat dissipation substrate. It is possible to reduce the size and cost of a device that requires heat dissipation such as a backlight.

実施の形態における放熱基板の切り欠き図Cutaway view of heat dissipation board in the embodiment (A)(B)は、共に配線パターンを埋め込んだ放熱基板の放熱メカニズムを説明する断面図(A) (B) is sectional drawing explaining the heat dissipation mechanism of the heat dissipation board | substrate which embedded both the wiring patterns. 熱伝導絶縁材の予備成形(シート状)について説明する断面図Sectional drawing explaining pre-formation (sheet form) of heat conductive insulating material (A)(B)は、共に放熱基板の製造方法の一例を説明する断面図(A) (B) is sectional drawing explaining an example of the manufacturing method of a heat sink. 従来の放熱基板の断面図Sectional view of a conventional heat dissipation board メソゲン基を有するモノマーの重合反応中の変化の模式図Schematic diagram of changes during polymerization of monomers with mesogenic groups

符号の説明Explanation of symbols

10 配線パターン
11 熱伝導性絶縁層
12 金属板
13 電子部品
14 矢印
15 フィルム
16 成形装置
17 熱伝導性材料
18 プレス
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Wiring pattern 11 Thermal conductive insulating layer 12 Metal plate 13 Electronic component 14 Arrow 15 Film 16 Molding apparatus 17 Thermal conductive material 18 Press

Claims (9)

結晶性エポキシ樹脂を40vol%以上含有するエポキシ樹脂と、
硬化剤と、
前記エポキシ樹脂と前記硬化剤との合計に対して3vol%以上15vol%以下の難燃性エポキシ樹脂と、
前記エポキシ樹脂と前記硬化剤と前記難燃性エポキシ樹脂との合計に対して70vol%以上88vol%以下の無機フィラと、
前記エポキシ樹脂と前記硬化剤との合計に対して0.6vol%以上3.5vol%以下の難燃助剤フィラと、
からなる熱伝導性材料。
An epoxy resin containing 40 vol% or more of a crystalline epoxy resin;
A curing agent;
3 vol% or more and 15 vol% or less flame retardant epoxy resin with respect to the total of the epoxy resin and the curing agent;
Inorganic filler of 70 vol% or more and 88 vol% or less with respect to the total of the epoxy resin, the curing agent and the flame retardant epoxy resin,
0.6 vol% or more and 3.5 vol% or less flame retardant aid filler with respect to the total of the epoxy resin and the curing agent;
Thermally conductive material consisting of
前記エポキシ樹脂に含有する結晶性エポキシ樹脂が以下の構造式である請求項1記載の熱伝導性材料。
Figure 2009203262
The thermally conductive material according to claim 1, wherein the crystalline epoxy resin contained in the epoxy resin has the following structural formula.
Figure 2009203262
前記エポキシ樹脂と前記硬化剤を反応させ硬化したエポキシ樹脂硬化物が結晶性を有している請求項1記載の熱伝導性材料。 The thermally conductive material according to claim 1, wherein the cured epoxy resin obtained by reacting the epoxy resin with the curing agent has crystallinity. 前記難燃性エポキシ樹脂が臭素化エポキシである請求項1記載の熱伝導性材料。 The heat conductive material according to claim 1, wherein the flame retardant epoxy resin is a brominated epoxy. 前記硬化剤が、2価のOH基及び/またはNH2基を有している請求項1記載の熱伝導性材料。 The thermally conductive material according to claim 1, wherein the curing agent has a divalent OH group and / or an NH 2 group. 前記無機フィラは、アルミナ、窒化アルミ、窒化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化亜鉛から選ばれた少なくとも1種類以上からなる無機フィラである請求項1記載の熱伝導性材料。 The thermally conductive material according to claim 1, wherein the inorganic filler is an inorganic filler made of at least one selected from alumina, aluminum nitride, boron nitride, silicon carbide, silicon nitride, magnesium oxide, and zinc oxide. 前記難燃助剤フィラが三酸化アンチモンである請求項1記載の熱伝導性材料。 The heat conductive material according to claim 1, wherein the flame retardant auxiliary filler is antimony trioxide. 結晶性エポキシ樹脂を40vol%以上含有するエポキシ樹脂と、硬化剤と、
前記エポキシ樹脂と前記硬化剤に対して3vol%以上15vol%以下の難燃性エポキシ樹脂と、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤と前記難燃性エポキシに対して70vol%以上88vol%以下の無機フィラと、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤との合計に対して0.6vol%以上2.5vol%以下の難燃助剤フィラとからなる熱伝導性絶縁層と、
前記熱伝導性絶縁層に接着された金属板と、
前記熱伝導性絶縁層に少なくとも一部分以上を埋め込んだ配線パターンと、からなる放熱基板。
An epoxy resin containing 40 vol% or more of a crystalline epoxy resin, a curing agent,
3 vol% or more and 15 vol% or less flame retardant epoxy resin with respect to the epoxy resin and the curing agent, and 70 vol% or more and 88 vol% or less inorganic filler with respect to the epoxy resin, the curing agent or the flame retardant epoxy A thermally conductive insulating layer comprising a flame retardant aid filler of 0.6 vol% or more and 2.5 vol% or less with respect to the total of the epoxy resin and the curing agent;
A metal plate adhered to the thermally conductive insulating layer;
A heat dissipation board comprising: a wiring pattern in which at least a part is embedded in the thermally conductive insulating layer.
少なくとも、金属板上に、
シート状に予備成形した結晶性エポキシ樹脂を40vol%以上含有するエポキシ樹脂と、硬化剤と、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤に対して3vol%以上15vol%以下の難燃性エポキシ樹脂と、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤と前記難燃性エポキシとの合計に対して70vol%以上88vol%以下の無機フィラと、前記エポキシ樹脂と前記硬化剤に対して0.6vol%以上3.5vol%以下の難燃助剤フィラとからなる熱伝導性材料と、
配線パターンと、をセットする工程と、
前記金属板上に前記熱伝導性材料と、前記配線パターンと、を一体化する工程と、
を含む放熱基板の製造方法。
At least on a metal plate,
An epoxy resin containing 40 vol% or more of a crystalline epoxy resin preformed into a sheet, a curing agent, a flame retardant epoxy resin of 3 vol% or more and 15 vol% or less with respect to the epoxy resin and the curing agent, and the epoxy 70 to 88 vol% inorganic filler with respect to the total of the resin, the curing agent and the flame retardant epoxy, and 0.6 to 3.5 vol% with respect to the epoxy resin and the curing agent. A thermally conductive material comprising a fuel filler filler;
A step of setting a wiring pattern;
Integrating the thermally conductive material and the wiring pattern on the metal plate;
The manufacturing method of the thermal radiation board | substrate containing this.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102360835A (en) * 2011-08-03 2012-02-22 扬州华鼎电器有限公司 Epoxy resin pouring dry type transformer
WO2012091320A2 (en) * 2010-12-27 2012-07-05 Lg Innotek Co., Ltd. Epoxy resin compound and radiant heat circuit board using the same
WO2013035164A1 (en) * 2011-09-06 2013-03-14 日立化成株式会社 Adhesive composition and connection body
CN103632818A (en) * 2013-11-15 2014-03-12 宁夏天地经纬电力设备工程有限公司 Dry type transformer

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012091320A2 (en) * 2010-12-27 2012-07-05 Lg Innotek Co., Ltd. Epoxy resin compound and radiant heat circuit board using the same
WO2012091320A3 (en) * 2010-12-27 2012-09-13 Lg Innotek Co., Ltd. Epoxy resin compound and radiant heat circuit board using the same
CN102360835A (en) * 2011-08-03 2012-02-22 扬州华鼎电器有限公司 Epoxy resin pouring dry type transformer
WO2013035164A1 (en) * 2011-09-06 2013-03-14 日立化成株式会社 Adhesive composition and connection body
JPWO2013035164A1 (en) * 2011-09-06 2015-03-23 日立化成株式会社 Adhesive composition and connector
CN103632818A (en) * 2013-11-15 2014-03-12 宁夏天地经纬电力设备工程有限公司 Dry type transformer

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