JP2009200064A - Method of manufacturing light-emitting device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えばホログラム再生装置に使用される発光装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a light emitting device used in, for example, a hologram reproducing device.
下記の特許文献に記載されているように、ホログラムデータの再生では、再生参照光を、ホログラムデータが記録された記録媒体に入射させると、ブラッグ条件式により、前記再生参照光が前記データの干渉縞で回折され、再生光が発せられる。そして、前記再生光に含まれるホログラムデータの内容が、CCDやCMOSセンサなどからなる撮像素子により読み出される。 As described in the following patent document, in reproduction of hologram data, when reproduction reference light is incident on a recording medium on which hologram data is recorded, the reproduction reference light is interfered with the data by Bragg conditional expression. The light is diffracted by the fringes and emitted. Then, the content of the hologram data contained in the reproduction light is read out by an image pickup device such as a CCD or CMOS sensor.
ところで下記の特許文献に記載されているように、前記再生参照光を発光する発光装置には、例えば、複数の面発光レーザ(VCSEL)が配置された面発光レーザアレイが使用される。 By the way, as described in the following patent document, for example, a surface emitting laser array in which a plurality of surface emitting lasers (VCSEL) are arranged is used for the light emitting device that emits the reproduction reference light.
このように複数の面発光レーザを用いる利点は、容易に且つ安価に、前記再生参照光の波長帯域を広くできるためである。すなわち再生参照光の波長帯域の異なる複数の面発光レーザを組み合わせることで、広範な波長帯域を得ることが可能である。このように広範な波長帯域を有する面発光レーザアレイであれば、複数のホログラムデータが波長多重にて広範な波長帯域で記録されている場合に、その波長帯域の全域をカバーすることが可能である。よって適切に各ホログラムデータを再生することが出来る。 The advantage of using a plurality of surface emitting lasers in this way is that the wavelength band of the reproduction reference light can be widened easily and inexpensively. That is, a wide wavelength band can be obtained by combining a plurality of surface emitting lasers having different wavelength bands of the reproduction reference light. Such a surface emitting laser array having a wide wavelength band can cover the entire wavelength band when multiple hologram data are recorded in a wide wavelength band by wavelength multiplexing. is there. Therefore, each hologram data can be reproduced appropriately.
また、波長αで記録されたホログラムデータが、例えば記録媒体の異方性熱膨張等により、前記ホログラムデータを波長αで再生できず前記波長αと異なる波長βで再生しなければならない場合、上記の面発光レーザであれば、その波長を有する面発光レーザに切り替えることで、適切に前記ホログラムデータを再生することが可能である。
しかしながら、面発光レーザの製造過程で、前記面発光レーザに厚さのばらつきが生じた。 However, in the process of manufacturing the surface emitting laser, the surface emitting laser has a thickness variation.
前記面発光レーザに厚さのばらつきが生じると以下の問題点が生じた。その問題点を下記に説明する。 When the thickness of the surface emitting laser varies, the following problems occur. The problem will be described below.
図15に示すように基板1上には例えば、2つの面発光レーザ2,3が設置されている。前記基板1と面発光レーザ2,3とを有して面発光レーザアレイ6が構成される。
As shown in FIG. 15, for example, two
図15に示すように、前記面発光レーザアレイ6と記録媒体5との間にはレンズ4が設けられている。このレンズ4にて、前記面発光レーザ2,3から照射された再生参照光2a,3aが平行光に調整される。
As shown in FIG. 15, a lens 4 is provided between the surface emitting laser array 6 and the recording medium 5. With this lens 4, the
ところで、図15に示すように、前記面発光レーザ2,3の厚さは違うため、前記基板1から見て前記面発光レーザ2,3の発光面(発光部の表面)2b,3bの高さは異なる。よって、前記面発光レーザ2の発光面2bと前記レンズ4の主点4aとの距離H1と、前記面発光レーザ3の発光面3bと前記レンズ4の主点4aとの距離H2とは異なってしまう。
By the way, as shown in FIG. 15, since the
このため例えば、前記面発光レーザ3の前記発光面3bと前記レンズ4の主点4aとの距離H2を制御して、再生参照光3aを平行光に調整しても、もう一方の再生参照光2aは、前記発光面2bと主点4aとの距離H1が前記距離H2よりも短いため、図15に示すように拡散光になったり、あるいは前記距離H1が前記距離H2よりも長くなると集束光となってしまう。拡散光や集束光となった場合、前記ホログラムデータ7全体に平行光が照射されなくなり、ホログラムの各干渉縞に対する入射角度が異なり、前記ホログラムデータ7を再生できないといった問題が生じる。
Therefore, for example, even if the
また、前記面発光レーザの厚さが同一である場合でも、前記面発光レーザを基板上に固定するための前記面発光レーザと基板間に介在する接着層の厚さのばらつきにより、面発光レーザの発光面の高さ位置がばらつくこともある。 In addition, even when the thickness of the surface emitting laser is the same, the surface emitting laser is caused by a variation in the thickness of the adhesive layer interposed between the surface emitting laser and the substrate for fixing the surface emitting laser on the substrate. The height position of the light emitting surface may vary.
そこで本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、特に、適切且つ容易に複数の発光素子の各各発光面の高さのばらつきを従来より抑制することが可能な発光装置の製造方法を提供することを目的としている。 Therefore, the present invention is for solving the above-described conventional problems, and in particular, manufacturing a light-emitting device capable of appropriately and easily suppressing variations in height of each light-emitting surface of a plurality of light-emitting elements than in the past. It aims to provide a method.
本発明は、基板上に複数の発光素子が設けられた発光装置の製造方法において、
複数の前記発光素子の各発光面を前記基板上にて同一高さに合わせた状態で、前記発光素子を前記基板上に接着剤を介して密着させ、
その後、前記接着剤を硬化して、前記発光素子を前記基板上に固定することを特徴とするものである。
The present invention relates to a method for manufacturing a light emitting device in which a plurality of light emitting elements are provided on a substrate.
With the light emitting surfaces of the plurality of light emitting elements being adjusted to the same height on the substrate, the light emitting elements are adhered to the substrate via an adhesive,
Thereafter, the adhesive is cured to fix the light emitting element on the substrate.
これにより、複数の前記発光素子の厚さがばらついていても(少なくとも一つの発光素子が、他の発光素子と異なる膜厚で形成されている)、適切且つ容易に前記発光素子の各発光面を同一高さに合わせることが可能である。また、一度に、各発光素子の発光面を同一高さに合わせた状態で、接着工程及び固定工程を行うので、各発光素子を別々に接着固定せず、製造工程を簡略化できる。そして本発明の製造方法にて製造された発光装置をホログラム再生装置に使用した場合、高精度な再生機能を有するホログラム再生装置を製造できる。 Thereby, even if the thickness of the plurality of light emitting elements varies (at least one light emitting element is formed with a different film thickness from other light emitting elements), each light emitting surface of the light emitting element can be appropriately and easily obtained. Can be adjusted to the same height. In addition, since the bonding process and the fixing process are performed at a time with the light emitting surfaces of the respective light emitting elements being set to the same height, the manufacturing process can be simplified without separately bonding and fixing the respective light emitting elements. And when the light-emitting device manufactured with the manufacturing method of this invention is used for a hologram reproduction apparatus, the hologram reproduction apparatus which has a highly accurate reproduction | regeneration function can be manufactured.
本発明では、複数の前記発光素子を治具に取り付けて、各発光面を同一高さに合わせ、前記同一高さを維持しながら前記発光素子を基板上に接着剤を介して密着させ、前記接着剤を硬化した後、前記治具を除去することが好ましい。これに各発光面の高さ位置合わせ、さらにその後の接着剤への密着工程、及び固定工程を、前記治具を用いて行うことが出来るので、高精度に前記発光素子を基板上に位置を合わせて固定できるとともに、製造工程を簡略化できる。 In the present invention, a plurality of the light emitting elements are attached to a jig, the respective light emitting surfaces are matched to the same height, and the light emitting elements are brought into close contact with a substrate via an adhesive while maintaining the same height, It is preferable to remove the jig after the adhesive is cured. Since it is possible to perform the height alignment of each light emitting surface, and the subsequent adhesion step to the adhesive and the fixing step using the jig, the light emitting element is positioned on the substrate with high accuracy. It can be fixed together, and the manufacturing process can be simplified.
また本発明では、以下の工程を有することが好ましい。
(a) 前記発光面と対向する対向面が同一平面で形成された前記治具を用意し、前記同一平面に複数の前記発光素子の各発光面を当接させた状態にて、前記発光素子を前記治具に固定する工程と、
(b) 前記治具を前記基板上に対向させ、このとき、複数の前記発光素子の各発光面を同一高さに合わせ、前記同一高さを維持しながら、前記基板と前記発光素子間を前記接着剤を介して密着させる工程と、
(c) 前記接着剤を硬化して、前記発光素子を前記基板上に固定する工程と、
(d) 前記発光素子と前記治具間の固定状態を解除し、前記治具を除去する工程。
Moreover, in this invention, it is preferable to have the following processes.
(A) The light emitting element is prepared in a state in which the light emitting surface is opposed to the light emitting surface, the jig having the same plane formed thereon, and the light emitting surfaces of the plurality of light emitting elements in contact with the same plane. Fixing to the jig;
(B) The jig is opposed to the substrate, and at this time, the light emitting surfaces of the plurality of light emitting elements are matched to the same height, and the gap between the substrate and the light emitting elements is maintained while maintaining the same height. Adhering via the adhesive;
(C) curing the adhesive and fixing the light emitting element on the substrate;
(D) A step of releasing the fixed state between the light emitting element and the jig and removing the jig.
上記した治具を用いることで、より簡単且つより高精度に、複数の前記発光素子の各発光面が同一高さに調製された発光装置を製造できる。 By using the jig described above, it is possible to manufacture a light emitting device in which the light emitting surfaces of the plurality of light emitting elements are adjusted to the same height more easily and with higher accuracy.
また本発明は、基板上に複数の発光素子が設けられた発光装置の製造方法において、
複数の前記発光素子の各発光面と対向する対向面が同一平面で形成された治具を用意し、各発光素子を発光面側から前記治具の前記同一平面に当接させて前記治具に固定した状態で、前記発光素子を前記基板上に接着剤を介して密着させ、
その後、前記接着剤を硬化して、前記発光素子を前記基板上に固定し、さらに、前記発光素子と前記治具間の固定状態を解除し、前記治具を除去することを特徴とするものである。
The present invention also relates to a method for manufacturing a light emitting device in which a plurality of light emitting elements are provided on a substrate.
A jig is prepared in which opposing surfaces facing the respective light emitting surfaces of the plurality of light emitting elements are formed on the same plane, and each light emitting element is brought into contact with the same plane of the jig from the light emitting surface side. In a state of being fixed to, the light emitting element is closely attached to the substrate via an adhesive,
Thereafter, the adhesive is cured, the light emitting element is fixed on the substrate, the fixing state between the light emitting element and the jig is released, and the jig is removed. It is.
これにより、簡単且つ適切に、複数の前記発光素子の各発光面の高さのばらつきを従来より抑制できる。 Thereby, the dispersion | variation in the height of each light emission surface of the said several light emitting element can be suppressed conventionally and easily.
また本発明では、前記発光素子の前記発光面との反対面、及び前記基板の表面には、夫々、電極が設けられており、発光素子側電極と、基板側電極の少なくとも一方には溝が形成され、前記溝を除く前記電極上に前記接着剤を設けることが好ましい。前記溝を、前記発光素子を前記基板上に密着させた際に例えば余分な前記接着剤を逃がすための逃げ溝として機能させることが出来る。 In the present invention, electrodes are provided on the surface opposite to the light emitting surface of the light emitting element and the surface of the substrate, respectively, and a groove is formed on at least one of the light emitting element side electrode and the substrate side electrode. Preferably, the adhesive is provided on the electrode formed and excluding the groove. The groove can function as an escape groove for, for example, releasing excess adhesive when the light emitting element is brought into close contact with the substrate.
また本発明では、前記発光素子の前記発光面との反対面、及び前記基板の表面には、夫々、電極が設けられており、前記接着剤には導電性接着剤を使用し、発光素子側電極と、基板側電極間を前記導電性接着剤を介して導通接続させることが好ましい。 In the present invention, electrodes are provided on the surface opposite to the light emitting surface of the light emitting element and the surface of the substrate, respectively, and a conductive adhesive is used as the adhesive, and the light emitting element side It is preferable that the electrode and the substrate-side electrode are electrically connected via the conductive adhesive.
このとき、前記導電性接着剤には半田を用いることが好ましい。これにより、容易に前記基板側電極と前記発光素子側電極間を導通接続させることが出来る。しかも半田を用いた場合は、基板側電極と前記発光素子側電極間を金属結合にて強固に結合でき、例えば前記治具を除去した際に、接着層の膜厚が変動したり、環境温度変化等による熱収縮や熱膨張を極力抑えることができ、製造後に、前記発光素子の各発光面の高さが変動することを適切に抑制できる。 At this time, it is preferable to use solder for the conductive adhesive. Thereby, the substrate side electrode and the light emitting element side electrode can be easily connected to each other. In addition, when solder is used, the substrate-side electrode and the light-emitting element-side electrode can be firmly bonded by metal bonding. For example, when the jig is removed, the thickness of the adhesive layer varies, Thermal shrinkage and thermal expansion due to changes and the like can be suppressed as much as possible, and fluctuations in the height of each light emitting surface of the light emitting element can be appropriately suppressed after manufacturing.
また本発明では、前記導電性接着剤には有機成分を含む導電性ペーストを用い、前記導電性接着剤の硬化の際、加熱処理にて前記有機成分を除去することが好ましい。硬化後においても有機成分が含まれると、例えば前記治具を除去した際に、接着層の膜厚が変動したり、また製造後、環境温度変化等によって熱収縮や熱膨張が起こりやすいが、前記有機成分を除去することで、製造後に、前記発光素子の各発光面の高さが変動することを適切に抑制できる。 Moreover, in this invention, it is preferable to use the electrically conductive paste containing an organic component for the said electrically conductive adhesive, and to remove the said organic component by heat processing in the case of hardening of the said electrically conductive adhesive. When organic components are contained even after curing, for example, when the jig is removed, the film thickness of the adhesive layer varies, and after production, thermal shrinkage and thermal expansion are likely to occur due to environmental temperature changes, etc. By removing the organic component, it is possible to appropriately suppress the fluctuation of the height of each light emitting surface of the light emitting element after manufacturing.
また本発明では、前記接着剤を、各発光素子と基板間に点在させることが好ましい。前記基板と前記発光素子間の全面を前記接着剤にて密着させると、前記基板と接着剤間の界面や、前記発光素子と前記接着剤間の界面等に密閉された空孔が生じやすい。かかる場合、環境温度変化等によって前記空孔内に存在する空気が熱収縮や熱膨張を起こすことで前記基板と発光素子間の密着性が低下しやすい。また、前記発光素子と基板間を密着させたときに余分な接着剤が前記発光素子の周囲に広がる可能性もある。したがって前記接着剤を点在させることで、上記問題を解決することが出来る。 In the present invention, the adhesive is preferably interspersed between each light emitting element and the substrate. When the entire surface between the substrate and the light emitting element is brought into close contact with the adhesive, pores sealed at the interface between the substrate and the adhesive, the interface between the light emitting element and the adhesive, and the like are likely to be generated. In such a case, the air existing in the holes due to a change in environmental temperature or the like causes thermal contraction or thermal expansion, so that the adhesion between the substrate and the light emitting element tends to be lowered. Further, when the light emitting element and the substrate are brought into close contact with each other, there is a possibility that excess adhesive spreads around the light emitting element. Therefore, the said problem can be solved by interspersing the said adhesive agent.
本発明によれば、複数の発光素子の厚さがばらついていても、適切且つ容易に前記発光素子の各発光面を同一高さに合わせることが可能である。したがって本発明の製造方法にて製造された発光装置をホログラム再生装置に使用した場合、高精度な再生機能を有するホログラム再生装置を製造できる。 According to the present invention, even if the thickness of the plurality of light emitting elements varies, it is possible to appropriately and easily match the light emitting surfaces of the light emitting elements to the same height. Therefore, when the light emitting device manufactured by the manufacturing method of the present invention is used in a hologram reproducing device, a hologram reproducing device having a highly accurate reproducing function can be manufactured.
図1は、ホログラム再生装置によって記録媒体からホログラムデータを再生する概念図である。図2〜図5は、本実施形態における発光装置(面発光レーザアレイ)の製造方法を示す一工程図(いずれも厚さ方向から切断した部分断面図)である。図6は、図2工程に示す面発光レーザ及び治具を真上から見た部分平面図である。図7、図8は、本実施形態における発光装置の製造方法の好ましい一例を示す一工程図(図7は、図3の工程に代わる工程図であり、図3に比べて拡大して示す部分拡大断面図、図8は、図4の工程に代わる工程図であり、図4に比べて拡大して示す部分拡大断面図)である。図9、図10は、本実施形態における発光装置の製造方法の好ましい一例を示す一工程図(図9は、図11に示すA−A線に沿って厚み方向に切断し矢印方向から見た前記基板及び接着剤(半田)の部分拡大断面図、図10は、図9工程後、前記面発光レーザと基板とを接合した状態を示す前記基板、面発光レーザ及び接着剤(半田)の部分拡大断面図)である。図11は、図9に示す基板及び接着剤(半田)を真上から見た部分拡大平面図である。図12は、図11とは異なる基板の形状を示す前記基板及び接着剤(半田)を真上から見た部分拡大平面図である。図13は、図12に示す基板上に面発光レーザを接合させた前記基板、前記接着剤(半田)及び前記面発光レーザを厚さ方向から切断した部分断面図(切断位置を、図13工程の一工程前の図12で示すと、図12に示すB−B線である。図13の部分断面図は、このB−B線に沿って厚み方向に切断し矢印方向から見たものである)である。図14は、本実施形態による製造方法によって製造された面発光レーザアレイをホログラム再生装置に組み込み、各面発光レーザから照射される再生参照光の照射状態を説明するための概念図である。 FIG. 1 is a conceptual diagram of reproducing hologram data from a recording medium by a hologram reproducing apparatus. 2 to 5 are process diagrams (both are partial cross-sectional views cut from the thickness direction) showing a method for manufacturing the light emitting device (surface emitting laser array) in the present embodiment. FIG. 6 is a partial plan view of the surface emitting laser and the jig shown in FIG. 7 and 8 are process diagrams showing a preferred example of the method for manufacturing a light-emitting device according to the present embodiment (FIG. 7 is a process diagram replacing the process of FIG. 3 and is an enlarged view of FIG. 3. FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view, and FIG. 8 is a process diagram in place of the process of FIG. 9 and 10 are process diagrams showing a preferred example of the method for manufacturing the light emitting device according to the present embodiment (FIG. 9 is cut in the thickness direction along the line AA shown in FIG. 11 and viewed from the arrow direction. FIG. 10 is a partial enlarged cross-sectional view of the substrate and the adhesive (solder), and FIG. 10 shows the substrate, the surface-emitting laser, and the adhesive (solder) part in a state where the surface-emitting laser and the substrate are joined after the step of FIG. FIG. FIG. 11 is a partially enlarged plan view of the substrate and the adhesive (solder) shown in FIG. 9 viewed from directly above. FIG. 12 is a partially enlarged plan view of the substrate and the adhesive (solder) showing the shape of the substrate different from that in FIG. 13 is a partial cross-sectional view of the substrate in which a surface emitting laser is bonded to the substrate shown in FIG. 12, the adhesive (solder), and the surface emitting laser are cut in the thickness direction (the cutting position is shown in FIG. 13). 12 before one step is the BB line shown in Fig. 12. The partial cross-sectional view of Fig. 13 is cut in the thickness direction along the BB line and viewed from the arrow direction. Yes). FIG. 14 is a conceptual diagram for explaining the irradiation state of the reproduction reference light irradiated from each surface emitting laser by incorporating the surface emitting laser array manufactured by the manufacturing method according to the present embodiment into the hologram reproducing apparatus.
図1に示すホログラム再生装置10は、同一の基板50上に複数の面発光レーザ(VCSEL)(発光素子)12,13が形成された面発光レーザアレイ14と、レンズアレイ17と、CCDやCMOSセンサなどからなる撮像素子18と、ピンホールフィルタ19と、記録媒体20を設置するための設置部(図示しない)と、を有して構成される。
A
図1に示すように記録媒体20には、図示しないホログラム記録装置によってホログラムデータ21が記録されている。前記ホログラムデータ21は干渉縞として現れる。図1では前記ホログラムデータ21は一つだけ図示されているが、実際には多数の前記ホログラムデータ21が波長多重や角度多重にて記録されている。
As shown in FIG. 1,
今、図1に示すホログラム再生装置の前記面発光レーザ12から再生参照光22を前記記録媒体20に向けて照射する。前記再生参照光22の光径は、前記マイクロレンズ15にて広げられ、さらにコリメートレンズ16にて平行光にされる。
Now, the
前記再生参照光22は前記記録媒体20に照射角度θ1で照射される。前記再生参照光22が前記ホログラムデータ21に照射されると、ブラッグ条件式を満たす干渉縞では光が回折して、再生光(回折光)23が前記記録媒体20から前記撮像素子18に向けて放出される。このとき前記再生光23は前記ピンホールフィルタ19に設けられたピンホール19aを通って前記撮像素子8に到達する。前記撮像素子8では、前記ホログラムデータ21の内容が再生される。前記ピンホールフィルタ19を設ける理由は、前記再生参照光22を前記記録媒体20に照射したときに、前記記録媒体20から複数のホログラムデータの再生光が放射されたとき、そのうちの一つの再生光23のみを適切に前記撮像素子18にて受光させるために設けられたものである。前記ピンホールフィルタ19を設けることで、複数の前記ホログラムデータ21を夫々適切に再生することが可能である。
The
本実施形態では、前記基板50上に設置された複数の面発光レーザ12,13の発光面が基準面から見て同じ高さ位置に形成されている。以下、本実施形態における面発光レーザアレイ14の製造方法について説明する。
In the present embodiment, the light emitting surfaces of the plurality of
図2に示すように、各面発光レーザ12,13の表面側には発光部12a,13aが形成され、前記面発光レーザ12、13の表面が発光面12b,13bとなっている。前記発光面12b,13bには表面電極31,32が現れている。
As shown in FIG. 2,
ここで図2では、発光面12b,13bを、各面発光レーザ12,13全体の表面として示しているが、「発光面」とは、前記面発光レーザ12、3から光が照射される表面を言い、厳密には前記発光部12a,13aの露出面、あるいは前記発光部12a、3aと対向する面を指す。
Here, in FIG. 2, the
本実施形態では、前記発光部12,13の表面(発光面)が平坦化面となるように平面加工されていることが好ましい。また前記発光部12,13の表面とその周囲の少なくとも一部の表面が平面加工されていることがより好ましく、さらに、図2のように、前記面発光レーザ12,13の表面全体が平面加工されていることが最も好ましい。図2では、前記表面電極31,32の表面が前記発光面12b、3bと同一平面で形成されているが、例えば図2に示す表面電極31,32が、発光部12,13の表面(発光面)上に設けられ、前記発光部12,13の表面から前記表面電極31,32の表面が突出しているような形態であってもよい。
In the present embodiment, it is preferable that the surface processing (light emitting surface) of the
なお以下の説明では、特に断らない限り、図2のように、前記表面電極31,32の表面が前記発光面12b、3bと同一平面で形成され、前記面発光レーザ12,13の表面全体を「発光面12b,13b」として説明する。
In the following description, unless otherwise specified, as shown in FIG. 2, the surfaces of the
また図2に示すように、前記面発光レーザ12,13の前記発光面12b,13bと反対側の面、すなわち裏面12c,13cには裏面電極(発光素子側電極)33、34が現れている。
Further, as shown in FIG. 2, back surface electrodes (light emitting element side electrodes) 33 and 34 appear on the surfaces of the
図2に示すように、前記面発光レーザ12の厚さ寸法はH3で、前記面発光レーザ13の厚さ寸法はH4であり、前記厚さ寸法H3,H4は異なっている。ここで、厚さ寸法は、発光面12b,13bから裏面12c,13c(このとき、裏面電極33,34の厚みを加えてもよい)までの厚さ寸法を指す。本実施形態において、前記面発光レーザ12,13の厚さ寸法H3,H4が異なることは必須要件ではない。すなわち前記厚さ寸法H3,H4は同じであってもよい。ただし前記厚さ寸法H3,H4が異なる場合に、本実施形態における面発光レーザアレイ14の製造方法を用いることが本発明の効果が適切に発揮され好適である。
As shown in FIG. 2, the thickness dimension of the
図2に示すように、前記面発光レーザ12,13の発光面12b,13bとの対向面30aが同一平面Cで形成された治具30を用意する。この明細書において、「治具」とは、前記面発光レーザ12,13を取り付けた状態にて、前記面発光レーザ12,13を基板50上の所定位置まで運ぶための工具を言う。前記治具30の材質は特に限定されるものではないが後述するように透明あるいは半透明であり、前記治具30の表面30c側から前記面発光レーザ12、13の発光面12b,13bが透けて見えることが好ましい。また図6に示すように前記治具30の平面面積は、各面発光レーザ12,13の平面面積を足し合わせた面積よりも大きい。前記治具30の平面形状は特に限定されるものではない。図6では、前記治具30の平面形状は矩形状となっている。
As shown in FIG. 2, a
前記治具30には、前記面発光レーザ12、13の発光面12b、13bの一部と対向する位置に吸引孔30bが形成されている。前記治具30とは別に、あるいは一体に図示しない吸引機構が設けられており、前記発光面12b,13bを前記治具30の前記対向面30aに当接させた状態にて、前記吸引孔30bから空気を上方に引き前記面発光レーザ12、13を前記前記治具30の対向面30aに吸引力にて吸着固定させる。ただし固定方法は別の方法であってもよい。
A
前記「当接」とは、ここでは前記発光面12b,13b全体と前記対向面30a全体とが完全に接触している場合のみならず、若干隙間がある場合も含む。すなわち少なくとも一部が接触し、前記治具30にて前記面発光レーザ12,13が固定された状態であればよい。例えば上記したように、前記表面電極31,32が前記発光面12b,13b上に突出して形成されている場合、前記発光面12b,13bと、前記表面電極31,32の表面間は段差が生じるため、厳密には、前記発光面12b,13全体と前記対向面30a全体とが完全に接触せず隙間が生じるが、かかる場合も本実施形態では「当接」した状態という。
Here, the “contact” includes not only the case where the entire
上記したように前記治具30の対向面30aは同一平面Cで形成されており、図2の工程では、複数の前記面発光レーザ12、13の各発光面12b,13bを対向面30aに当接させた状態にて、各面発光レーザ12,13を前記治具30にて固定している。
As described above, the facing
各面発光レーザ12,13の前記治具30への位置決めは、前記治具30が透明あるいは半透明であり、図6のように前記治具30の表面30cから前記面発光レーザ12,13の発光面12b,13bが透けて見える場合は、前記治具30の前記表面30cあるいは前記対向面30aに、及び前記面発光レーザ12、13の発光面12b,13b上に位置決め用のマーク部40,41を設けておき、前記マーク部40,41にて位置合わせすることが可能である。図6に示す符号40の位置決めマーク部40は、前記治具30側に形成されたものであり、符号41の位置決め用マーク部41は前記面発光レーザ12,13の発光面12b、3bに設けられたものである。例えば、前記マーク部40,41が図示Y方向(長さ方向)と平行な仮想線D上及び図示X方向(図示Y方向と直交する方向、幅方向)と平行な仮想線E上に夫々一直線に並ぶように前記面発光レーザ12、13を前記治具30に対し位置決めする。これにより、前記面発光レーザ12、13を図示X方向及び図示Y方向の双方に正確に位置決めできる。
The positioning of the
次に図3に示す工程では、基板50を、基台54上に設置する。前記基板50の表面には前記面発光レーザ12、13と対向する位置に基板側電極51,52が形成されている。図3の工程では、前記基板側電極51,52上に導電性接着剤53を塗布する。
Next, in the step shown in FIG. 3, the
この実施形態では、前記導電性接着剤53には半田を使用する。以下では、符号53を半田として説明する。
In this embodiment, solder is used for the
前記半田53には特にすず(Sn)を主成分とする合金が好適に用いられる。この場合、Snは全半田粒子中の50質量%以上、より好ましくは90質量%以上を占める。Snと合金を形成する金属としては、半田の融点の高低、あるいは電気伝導率の高低の目的に応じて、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、ビスマス(Bi)、アンチモン(Sb)、亜鉛(Zn)、インジウム(In)から1種あるいは2種以上を選択することができる。例えば、金、銀、銅は電気伝導率が高いので、Sn−Au、Sn−Ag、Sn−Cu、Sn−Ag−Cu系合金等は、電気伝導率の高い半田を形成するが、融点が200〜300℃と高い。また、Sn−Bi系合金からなる半田は融点が60〜200℃と低く、加工性に優れており、基板や面発光レーザに熱損傷を与えにくい。また特にSn−Biは、融点が140℃程度であって低融点半田としては最適である。
For the
本実施形態では、前記半田53にはSn−Auはんだが好適に使用される。
前記半田53の厚みを10〜30μm程度にする。前記半田53の厚みは、従来に比べて厚い。本実施形態では、前記面発光レーザ12,13の厚みがばらついていると、図4工程で説明するように、半田53を介した前記面発光レーザ12,13と基板50間の間隔に差が生じる。このように間隔に差が生じても全ての前記面発光レーザ12と基板50間を適切に半田53にて固定するために、前記半田53の膜厚を従来よりも厚く設定する。
In the present embodiment, Sn—Au solder is preferably used for the
The thickness of the
図3に示すように、前記治具30に固定された前記面発光レーザ12、13を、前記基板50上に対向させるが、このとき、前記面発光レーザ12,13の各発光面12b,13bが同じ高さ位置となるように、前記治具30を調整する。前記面発光レーザ12,13の各発光面12b,13bの高さ位置の基準面は任意に設定できる。例えば、前記基準面は、図3に示す基台54の表面(基板50の裏面)54aである。かかる場合、前記治具30の対向面30a(同一平面C)と前記表面54aとが平行となるように前記治具30を調整する。これによって、前記表面54aから、各発光面12b,13bの高さを同一高さに出来る。あるいは前記基板50の表面が前記高さの基準面であってもよい。
As shown in FIG. 3, the
前記半田53をレーザ照射等により加熱して溶融した状態にする。そして上記した各発光面12b,13bの同一高さ状態を保ちながら、すなわち高さの基準面が前記基台54の表面54aである場合には、前記治具30の対向面30aと前記表面54aとを平行状態に保ちながら前記治具30を徐々に前記基板50に近付ける。
The
そして、図4に示すように、各面発光レーザ12,13を前記半田53に同時に押し当て、前記面発光レーザ12,13と前記基板50間を溶融状態の前記半田53を介して同時に密着させる。
Then, as shown in FIG. 4, the
図2で説明したように、前記面発光レーザ12のほうが、前記面発光レーザ13に比べて厚さが薄い。よって図4のように各面発光レーザ12,13と基板50間を半田53を介して密着させた状態では、前記面発光レーザ12と前記基板50間の間隔H6は、前記面発光レーザ13と前記基板50間の間隔H5よりも大きくなる。上記したように本実施形態では前記半田53の厚みを従来よりも厚くしているから広い間隔H6内に適切に前記半田53を介在させることが出来る。
As described with reference to FIG. 2, the
図4に示すように、前記面発光レーザ12,13を前記治具30にて固定し、各発光面12b,13bの高さを同一高さにして、各面発光レーザ12,13と前記基板50間を前記半田53を介して密着させた状態を維持したまま、前記半田53を硬化させる。前記半田53の硬化は温度が下がることで徐々に促進される。前記半田53の硬化を早めたい場合は図示しない冷却機構にて強制的に前記半田53を冷却してもよい。
As shown in FIG. 4, the
これにより前記面発光レーザ12、13を前記基板50上に半田53を介して同時に固定できる。そして前記治具30の吸引孔30bからの吸引を停止し、前記治具30と前記面発光レーザ12,13間の固定状態を解除して、前記治具30を除去する。
As a result, the
そして図5に示すように、前記面発光レーザ12,13の表面電極31,32と、前記基板50の表面に形成された基板側電極55,56間を例えばワイヤ57にて導通接続させる(ワイヤボンディング)。
As shown in FIG. 5, the
図5に示すように、前記面発光レーザ12,13と基板50間は半田53にて固定されており、これにより前記面発光レーザ12,13の裏面電極33,34と前記基板50の基板側電極51,52間を導通接続させることができる。
As shown in FIG. 5, the surface-emitting
上記した本実施形態の製造方法によれば、前記面発光レーザ12,13の各発光面12b,13bを基準面から見て同一高さにて形成できる。ここで前記「同一高さ」とは、±2μm程度の誤差を含むものである。
According to the manufacturing method of this embodiment described above, the
本実施形態では、対向面30aが同一平面Cで形成された治具30を用いることで、前記面発光レーザ12,13の基板50上への取り付けを簡単且つ適切に行うことが可能である。すなわち各面発光レーザ12,13の発光面12b,13bの高さ位置を夫々、別々に調整する必要がなく、前記同一平面Cを基準面(例えば図3に示す表面54a)に平行にした状態を維持しながら、前記面発光レーザ12,13を基板50上に半田53を介して密着させればよいので、各発光面12b,13bの高さ位置合わせを、一度に行うことが出来、さらに各面発光レーザ12,13の基板50への密着工程を同時に行うことができるとともに、一度に半田53を硬化させて、前記面発光レーザ12、13を同時に、基板50上に固定出来るため、製造工程を簡略化できる。
In this embodiment, by using the
図2〜図5工程では、半田53を使用している。半田53は金属だけで形成され、有機成分を含んでいない。前記面発光レーザ12,13と基板50間(半田53と前記面発光レーザ12,13間、前記半田53と基板50間、及び半田53内部)は金属結合で強固に結合されている。前記有機成分を含む場合は、前記治具30を除去して前記治具30による基板50方向への押圧状態を解除すると、若干、接着層の高さが変動して、前記発光面12b,13bの高さが変動する可能性がある。また有機成分を含むと、金属との熱膨張係数の違いから環境温度変化によって各発光面12b,13bの高さが変動したり、あるいは接着層と面発光レーザ12,13や前記接着層と基板50間の密着性が低下することもある。したがって有機成分を含まないほうがよい。
2 to 5,
前記有機成分は、図5工程後、すなわち接着剤の硬化工程後において含まなければよい。 The organic component should not be included after the step of FIG. 5, that is, after the step of curing the adhesive.
したがって前記基板50と前記面発光レーザ12,13間に介在する導電性接着剤には有機成分を含む導電性ペーストを用い、前記導電性接着剤を硬化の際、加熱処理して前記有機成分を除去してもよい。前記導電性ペーストには、例えば金属レジネートや、金属粒子と有機ビヒクル(有機溶剤と樹脂バインダー)とを有するものを使用できる。前記有機成分を、加熱処理の際に、熱分解して蒸発させる。これにより最終的に前記接着層には前記有機成分が残存せず金属だけで形成することが可能になる。なお前記有機成分を前記接着層中、数質量%含んでいても、前記導電性接着剤として、例えば、異方性導電ペースト(ACP)や異方性導電フィルム(ACF)を用いる場合に比べて前記治具30を除去したときの前記接着層の膜厚変動を小さくできる。また上記したように金属レジネート等を使用する場合は、有機成分が除去されるため、図3工程で、導電性接着剤を前記基板50上に塗布したときの膜厚と、加熱処理後の接着層の膜厚とは大きく変動する。したがって膜厚減少量と、図4に示す間隔H5,H6を考慮して、前記導電性接着剤の膜厚を調整することが必要である。
Therefore, a conductive paste containing an organic component is used as the conductive adhesive interposed between the
なお図2〜図5の工程では、一つの面発光レーザアレイ14を製造するための方法であったが、例えば複数の面発光レーザアレイ14を一度に製造するために、大きな基板上に多数の面発光レーザを図2ないし図5に示す工程にて固定し、その後、前記基板を、各面発光レーザアレイ14毎に切断することで、複数の前記面発光レーザアレイ14を一度に形成することが可能である。
2 to 5 are methods for manufacturing one surface emitting
ところで図2工程では、前記基板50上の基板側電極51,52上の全面に、半田53を塗布していた。ただし、前記基板側電極51,52上の全面に半田53を塗布すると、図4に示すように、特に、より押圧される側の前記面発光レーザ13と基板50間に介在する半田53は、その余分量が多く、余分な半田53が面発光レーザ13の周囲から流れ出て思わぬ箇所に付着する可能性がある。また、前記半田53を介して前記基板50と面発光レーザ12,13とを密着させたとき、前記半田53と前記基板50との間や、前記半田53と前記面発光レーザ12,13との間に密閉された空孔が形成されやすい。空孔が形成されると、この空孔内に存在する空気が環境温度変化等により熱膨張や熱圧縮して前記半田53と前記面発光レーザ12,13間、及び前記半田53と前記基板50間の密着性を低下させる危険性がある。
In the process of FIG. 2, the
したがって図7に示すように、前記基板50上の基板側電極51,52上に複数の球状の半田60を点在させることが好ましい。前記半田60の形状は、球状に限定されない。前記半田60が点在されていれば形状を限定するものではない。
Therefore, as shown in FIG. 7, it is preferable that a plurality of
図7のように前記半田60を前記基板側電極51,52上に点在した後、前記半田60を溶融する。
After the
そして図8に示すように、前記半田60を介して前記面発光レーザ12,13と基板50間を密着させる。このとき、厚みの厚いほうの面発光レーザ13と前記基板50間に介在する半田60は、面発光レーザ12と基板50間に介在する半田60に比べてより押し潰される。
そして図8の状態にて前記半田60を硬化させ、前記治具30を除去する。
Then, as shown in FIG. 8, the
Then, the
図7,図8工程では、このとき、厚みの厚いほうの面発光レーザ13と前記基板50間に介在する半田60は、面発光レーザ12と基板50間に介在する半田60に比べてより押し潰されるが、前記半田60を点在させることで、押し潰された状態でも半田60が前記面発光レーザ13と前記基板50間に適切に収まり、思わぬ箇所に半田60が付着するのを回避できる。さらに前記面発光レーザ12,13と半田60間や、前記基板50と前記半田60間に密閉された空孔が形成されにくくなり前記面発光レーザ12,13と基板50間の密着性を強固に出来る。
7 and 8, the
また図7工程では、前記半田60の大きさが均一であるが、大きさが異なっていても、前記面発光レーザ12と基板50間、及び前記面発光レーザ13と基板50間で少なくとも一つの半田60が密着していれば、導電性を確保できる。
In the process of FIG. 7, the size of the
また図9,図11に示すように、前記基板側電極51には、溝51aが設けられていることが好ましい。なお前記基板側電極52も同様に溝が設けられているが、ここでは、前記基板側電極51で説明する。図9,図11に示す構造では、前記溝51aは、前記電極51を分断せず、前記溝51aの底面には前記電極51,52が現れている。
As shown in FIGS. 9 and 11, the
図9,図11に示す溝51aは、幅方向(図示X方向)及び前記幅方向に直交する長さ方向(図示Y方向)に直線状で複数条設けられている。前記溝51aの形状は図9,図11に示す形状に限定されないが、少なくとも前記電極51のいずれか一の側面51bから抜ける形状(前記側面51bにまで繋がる形状)で形成されることが好適である。
A plurality of
図9,図11に示すように、前記溝51aを除く前記電極51の表面51c(凸形状の表面)に、球状の半田61を点在させる。
As shown in FIGS. 9 and 11,
そして前記半田61を溶融し、図10に示すように、前記半田61を介して前記面発光レーザ12と基板50間を密着させる。このとき前記半田61は押し潰される。この実施形態では、前記溝51aの底面には電極51が現れているので、前記溝51a内も半田濡れ性に優れた状態である。したがって図10に示すように、押し潰された半田61の一部は前記溝51a内に逃げる。このように前記溝51aを余分な半田61が逃げる逃げ溝として機能させることが出来る。またこのように逃げ溝を設けることで、前記半田61を押し潰したときに、空気が密閉された状態で前記半田61と前記電極51間に溜まりにくくなり前記空気が前記逃げ溝から抜けやすくなる。
Then, the
前記半田61を介して前記面発光レーザ12と基板50間を密着させた後、前記半田61を硬化して、前記面発光レーザ12を前記基板50上に固定する。
After the
あるいは図12に示すように前記溝51aの形成によって、前記電極51を複数の小電極51dに分割してもよい。前記溝51aからは前記基板50の表面が現れている。
Alternatively, as shown in FIG. 12, the
図12に示すように各小電極51dの表面に、半田62を点在させる。そして前記半田62を溶融し、前記半田62を介して前記面発光レーザ12と基板50間を密着させた後、前記半田62を硬化して、前記面発光レーザ12を前記基板50上に固定する。
As shown in FIG. 12,
ところで図12では、前記小電極51d間の溝51aには基板50の表面が露出しているので、前記半田62が押し潰されたとき、前記半田62は前記基板50上に流れにくい。前記基板50表面は半田濡れ性が悪いためである。ただし前記溝51aを上記した空気逃げとして機能させることは出来る。
In FIG. 12, since the surface of the
図12に示す構造では、導電性接着剤として、例えば半田と有機成分(樹脂)を含む半田接着剤等を使用した場合に効果的である。前記有機成分には例えば熱硬化性樹脂が設けられ、加熱によって前記半田と分離して熱硬化させられる。このとき図13のように樹脂65は主として前記溝51a内に逃げ、一方、半田66は、前記小電極51dと前記面発光レーザ12の裏面電極33間に介在して、前記小電極51dと前記裏面電極33間を接合する。このように前記溝51aを樹脂65の逃げ溝として機能させることができる。
The structure shown in FIG. 12 is effective when, for example, a solder adhesive containing solder and an organic component (resin) is used as the conductive adhesive. The organic component is provided with a thermosetting resin, for example, and is thermally cured by being separated from the solder by heating. At this time, as shown in FIG. 13, the
以上のように本実施形態によれば、面発光レーザアレイ14に取り付けられる複数の面発光レーザ12,13の発光面12b,13bを基準面から見て同一高さで形成することが出来る。
As described above, according to the present embodiment, the
よって、図14に示すように、複数の前記面発光レーザ12,13の各発光面12b,13bとレンズ16の主点16a間の距離H7,H8を同じにでき、したがって前記面発光レーザ12から放射される再生参照光22、及び前記面発光レーザ13から放射される再生参照光71を共に、前記レンズ16にて平行光に調整できる。よって、前記ホログラムデータ21を再生可能な波長を得るべく、前記面発光レーザ12,13を切り替えても平行光で一定の光強度以上の再生参照光22,71を得ることができ、前記ホログラムデータ21を適切に再生できる。以上により本実施形態により製造された面発光レーザアレイ14を用いて前記ホログラム再生装置10を製造すれば、広範な波長帯域にて再生参照光を一定の光強度以上の平行光で得ることができ、よってホログラム再生機能に優れたホログラム再生装置を製造できる。
Therefore, as shown in FIG. 14, the distances H7 and H8 between the light emitting
ところで、図2のように、面発光レーザ12,13の発光面12b,13b及びその周囲全体を含む素子表面が平坦化面で形成されているか、あるいは、発光面12b,13b上に表面電極31,32が形成されている程度の段差である場合はともかく、前記面発光レーザ12,13の素子表面が明らかに凹凸面として形成され、前記素子表面を平坦化面で形成していない場合がある。かかる場合、凸部表面(最表面)に前記発光面12b,13bが現れる形態である場合には、この発光面12b,13bを、前記治具30の前記対向面30aに当接させれば足りるが、凹部表面に前記発光面12b,13bが現れる形態である場合、前記対向面30aに前記凹部表面を当接させることができないので、最表面である凸部表面を前記治具30の前記対向面30aに当接させる。かかる場合、各面発光レーザ12、13において、凸部表面と、凹部表面との間の高さ寸法に多少ばらつきが生じている場合、本形態の製造方法を実効すると、、凸部表面と、凹部表面との間の高さ寸法のばらつきが、面発光レーザ12,13の発光面12b,13bの高さのばらつきとして反映されるが、本形態では、従来に比べて面発光レーザ12,13の高さ寸法H3,H4のばらつき、及び接着層の膜厚のばらつきの累積誤差はない。したがって本形態では、治具30にて各面発光レーザ12,13を支持するとき、上記のように厳密に、各発光面12b,13bを同一高さに合わせていない場合でも、発光面12b、13b側から本実施形態の治具30を用いて支持し、その状態にて、各面発光レーザ12、13を基板50上に接着層を介して固定することで、従来に比べて発光面12b,13bの高さのばらつきを小さくすることが可能である。なおこのときの高さ寸法のばらつきは±2μm程度であり、これ以上ばらつきが広がる場合には、治具30に各面発光レーザ12、13を支持するとき、前記面発光レーザ12、13の各発光面12b,13bを同一高さに合わせた状態にして、治具30に各面発光レーザ12、13を固定することが必要となる。
Incidentally, as shown in FIG. 2, the
なお実施形態では基板50上に設けられた面発光レーザ12,13は2個であったが、さらに多くの面発光レーザが搭載されてもよい。かかる場合、少なくとも一個の面発光レーザの膜厚が、他の面発光レーザの膜厚と異なる場合、本実施形態における製造方法を適用すると効果的である。
In the embodiment, the number of
また図7以降では、導電性接着剤を半田として説明したが、有機成分を含む導電性ペーストにも適用できる。かかる導電性ペーストは、硬化の際、加熱処理にて前記有機成分が除去されることが好ましい。 In FIG. 7 and subsequent figures, the conductive adhesive is described as solder, but it can also be applied to a conductive paste containing an organic component. In the conductive paste, it is preferable that the organic component is removed by heat treatment at the time of curing.
本実施形態では、面発光レーザアレイ14の用途してホログラム再生装置10を説明したが、ホログラム再生装置に限定されるものではない。複数の面発光レーザを使用し、各面発光レーザの発光面が同一高さであることが要求される用途であれば適用可能である。
In the present embodiment, the
また「発光素子」として面発光レーザを用いたが、前記面発光レーザに限定されるものではない。 Further, although the surface emitting laser is used as the “light emitting element”, it is not limited to the surface emitting laser.
また図3の前記半田53等の導電性接着剤の塗布工程であるが、前記導電性接着剤を、前記面発光レーザ12,13の裏面電極33,34に塗布していてもよいし、あるいは前記基板側電極51,52上及び前記裏面電極33,34の双方に塗布してもよい。ただし、前記基板側電極51,52上に塗布することが簡単に導電性接着剤を塗布できて好適である。
Further, in the process of applying a conductive adhesive such as the
また前記導電性接着剤の形態は、ペースト状、フィルム状、粉状等、特に限定されるものではない。 Moreover, the form of the said conductive adhesive is not specifically limited, such as a paste form, a film form, and a powder form.
また前記導電性接着剤の基板側電極51,52上への形成方法は、スクリーン印刷、インクジェット方式、スパッタ法等、特に限定されない。
Further, the method for forming the conductive adhesive on the substrate-
また、本実施形態では、前記面発光レーザ12、13の発光面12b,13bに表面電極31,32が設けられていたが、前記面発光レーザ12、3の裏面12c,13cに夫々、2つの電極が設けられていてもよい。かかる場合、各電極毎に半田等の導電性接着剤を介して基板50上に固定する。
In the present embodiment, the
また、前記面発光レーザ12,13と基板50間を半田等の導電性接着剤にて固定したが、これは電極間を導通接続することが一つの理由である。よって前記面発光レーザ12,13と基板50間を導通接続する必要のない場合は、導電性接着剤以外の接着剤を使用することが可能である。
Further, the
10 ホログラム再生装置
12、13 面発光レーザ
12b、13b 発光面
14 面発光レーザアレイ
17 レンズアレイ
18 撮像素子
19 ピンホールフィルタ
20 記録媒体
21 ホログラムデータ
22、71 再生参照光
23 再生光
30 治具
30a 対向面
33 裏面電極(発光素子側電極)
40、41 マーク部
50 基板
51 基板側電極
51a 溝
53、60、61、62、66 半田(導電性接着剤)
54 基台
57 ワイヤ
65 樹脂
C 同一平面
DESCRIPTION OF
40, 41
54
Claims (9)
複数の前記発光素子の各発光面を前記基板上にて同一高さに合わせた状態で、前記発光素子を前記基板上に接着剤を介して密着させ、
その後、前記接着剤を硬化して、前記発光素子を前記基板上に固定することを特徴とする発光装置の製造方法。 In a method for manufacturing a light emitting device in which a plurality of light emitting elements are provided on a substrate,
With the light emitting surfaces of the plurality of light emitting elements being adjusted to the same height on the substrate, the light emitting elements are adhered to the substrate via an adhesive,
Then, the said adhesive agent is hardened | cured and the said light emitting element is fixed on the said board | substrate, The manufacturing method of the light-emitting device characterized by the above-mentioned.
(a) 前記発光面と対向する対向面が同一平面で形成された前記治具を用意し、前記同一平面に複数の前記発光素子の各発光面を当接させた状態にて、前記発光素子を前記治具に固定する工程と、
(b) 前記治具を前記基板上に対向させ、このとき、複数の前記発光素子の各発光面を同一高さに合わせ、前記同一高さを維持しながら、前記基板と前記発光素子間を前記接着剤を介して密着させる工程と、
(c) 前記接着剤を硬化して、前記発光素子を前記基板上に固定する工程と、
(d) 前記発光素子と前記治具間の固定状態を解除し、前記治具を除去する工程。 The manufacturing method of the light-emitting device of Claim 2 which has the following processes.
(A) The light emitting element is prepared in a state in which the light emitting surface is opposed to the light emitting surface, the jig having the same plane formed thereon, and the light emitting surfaces of the plurality of light emitting elements in contact with the same plane. Fixing to the jig;
(B) The jig is opposed to the substrate, and at this time, the light emitting surfaces of the plurality of light emitting elements are matched to the same height, and the gap between the substrate and the light emitting elements is maintained while maintaining the same height. Adhering via the adhesive;
(C) curing the adhesive and fixing the light emitting element on the substrate;
(D) A step of releasing the fixed state between the light emitting element and the jig and removing the jig.
複数の前記発光素子の各発光面と対向する対向面が同一平面で形成された治具を用意し、各発光素子を発光面側から前記治具の前記同一平面に当接させて前記治具に固定した状態で、前記発光素子を前記基板上に接着剤を介して密着させ、
その後、前記接着剤を硬化して、前記発光素子を前記基板上に固定し、さらに、前記発光素子と前記治具間の固定状態を解除し、前記治具を除去することを特徴とする発光装置の製造方法。 In a method for manufacturing a light emitting device in which a plurality of light emitting elements are provided on a substrate,
A jig is prepared in which opposing surfaces facing the respective light emitting surfaces of the plurality of light emitting elements are formed on the same plane, and each light emitting element is brought into contact with the same plane of the jig from the light emitting surface side. In a state of being fixed to, the light emitting element is closely attached to the substrate via an adhesive,
Then, the adhesive is cured, the light emitting element is fixed on the substrate, the fixing state between the light emitting element and the jig is released, and the jig is removed. Device manufacturing method.
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