JP2009197068A - 液状樹脂組成物および半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】1分子中に二つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(A)、1分子中に二つ以上のフェノール性水酸基を有する硬化剤(B)、溶剤(C)、およびフィラー(D)を含有する半導体素子を支持体に接着させる液状樹脂組成物であって、前記エポキシ樹脂が、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂(A1)と液状のエポキシ樹脂(A2)を含むものであることを特徴とする液状樹脂組成物およびそれを用いて作製した半導体装置である。
【選択図】なし
Description
そこで液状のダイアタッチ材の替わりにフィルム状のダイアタッチ材を用い、フィルム状のダイアタッチ材を支持体に貼り付けた後、加熱しながら半導体素子を搭載する方法、半導体ウエハ裏面にフィルム状ダイアタッチ材を貼り付けた状態でダイシングシートに貼り付けた後個片化することで得られたダイアタッチ材付き半導体素子を加熱しながら支持体に搭載する方法、ダイシングシート機能を有するダイアタッチフィルムに半導体ウエハを貼り付け個片化することで得られたダイアタッチ材付き半導体素子を加熱しながら支持体に搭載する方法などが採用されている。(例えば、特許文献1、2参照。)
そのため、ダイアタッチ材層を印刷によって支持基板上に形成し、乾燥半硬化して、フィルム材の代用とする方法が行われるようになってきている。このような用途で使用されるダイアタッチ材は、乾燥半硬化後において半導体素子搭載工程の自動搬送の面から室温でタックフリーであることが望ましく、さらに半導体素子搭載後から接着剤硬化工程までの間基板のたわみなどによって半導体素子が取れない十分な密着強度(半導体素子保持力)が必要であり、その必要性は有機基板が薄化傾向にある現在において極めて大きくなっている。また、環境対応の一環で鉛フロー半田の使用が急激に広まるなかで、耐半田クラック性の向上がより強く求められており、ダイアタッチ材の要求特性として半田処理時の応力緩和が必須となっている。しかし、印刷用のダイアタッチ材において室温でタックフリーでありながら高い半導体素子保持力を有し、かつ低弾性率で耐半田クラック性などの信頼性に優れた材料の実現は困難であった。
、液状樹脂組成物の乾燥、または、乾燥および半硬化後に室温においてタックフリーであり、その後半導体素子搭載後の半導体素子保持力に優れ、且つ硬化後に低弾性で耐半田クラック性に優れるなどの信頼性に優れる液状樹脂組成物およびそれを用いて作製した半導体装置を提供することにある。
[1]1分子中に二つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(A)、1分子中に二つ以上のフェノール性水酸基を有する硬化剤(B)、溶剤(C)、およびフィラー(D)を含有する半導体素子を支持体に接着させる液状樹脂組成物であって、前記エポキシ樹脂(A)として、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂(A1)と液状のエポキシ樹脂(A2)を含むことを特徴とする液状樹脂組成物。
[2]前記ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂(A1)が、一般式(1)で示されるエポキシ樹脂であることを特徴とする前記[1]項に記載の液状樹脂組成物。
[4]前記ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂(A1)100重量部に対する液状のエポキシ樹脂(A2)の含有量が、50重量部以上1500重量部以下であることを特徴とする前記[1]項に記載の液状樹脂組成物。
[5]前記硬化剤(B)が、下記一般式(2)で示される硬化剤であることを特徴とする前記[1]または[2]項に記載の液状樹脂組成物。
あって、液状樹脂組成物の乾燥、または乾燥および半硬化後に室温においてタックフリーであり、その後半導体素子搭載後の半導体素子保持力に優れ、且つ硬化後に低弾性で耐半田クラック性に優れるなどの信頼性に優れる液状樹脂組成物を提供することができる。また、本発明によれば、耐半田クラック性に優れるなどの信頼性に優れる半導体装置を提供することができる。
また、液状のエポキシ樹脂(A2)の分子量は、200〜3000であることが好ましく、250〜2000であることが特に好ましい。
本発明の液状樹脂組成物は、上記ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂(A1)と上記液状のエポキシ樹脂(A2)以外に、特性を損なわない範囲で、他の1分子中に二つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(以下、他のエポキシ樹脂(A3)とも記載する。)、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、その他トリフェニルメチン骨格を有するエポキシ樹脂、アントラセン骨格を有するエポキシ樹脂などを含んでいてもよい。
導体とホルムアルデヒドとの反応により得られる化合物、フェノールまたはその誘導体とベンズアルデヒドとの反応により得られる化合物、フェノールアラルキル型フェノール樹脂、ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂、その他ナフタレン骨格を有するもの、アントラセン骨格を有するもので1分子内にフェノール性水酸基を2つ以上有する化合物などが挙げられる。なかでも、硬化剤(B)としては、常温(20〜30℃)で固形の硬化剤が好ましい。また、硬化剤(B)は、複数種の併用でも構わない。常温(20〜30℃)で固形の硬化剤(B)としては、軟化点55℃以上の硬化剤が好ましい。また、硬化剤(B)としては、フェノールノボラック、フェノールアラルキル型フェノール樹脂、ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂、ビスフェノールFなどが挙げられ、好ましくはフェノールアラルキル型フェノール樹脂である。また、硬化剤(B)の軟化点が高くてもエポキシ樹脂と混合した場合、混合物の軟化点としては下がるので、硬化剤(B)としては、例えば軟化点が150℃位のものでも問題なく使用することが可能である。
溶剤(C)のエポキシ樹脂(A)および硬化剤(B)の溶解性がよいと、印刷または乾燥半硬化後の樹脂組成物層の表面が平滑になり、半導体素子搭載時において半導体素子の傾きやボイドの発生を引き起こし難くなる。
このような溶剤(C)としては、使用するエポキシ樹脂(A)、硬化剤(B)の溶解性が十分であれば特に限定されないが、半導体用途であるためハロゲン系の溶剤は好ましくない。また、第1アミン、第2アミンを含むアミン系溶剤など液状樹脂組成物の保存性を悪化させるような溶剤も好ましくない。使用可能な溶剤(C)は以下のようなものでこれらは単独での使用も複数種を併用することも可能である。
キシルオキシ)エタノール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチルグリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、サリチル酸メチル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタートなどが挙げられる。なかでも特に好ましい溶剤は、沸点が210℃以上250℃以下のものであり、特に好ましいものは、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、γ−ブチロラクトン、シュウ酸ジブチル、マレイン酸ジエチル、エチレングリコールモノ酪酸エステル、炭酸プロピレン、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチルグリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、サリチル酸メチル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタートなどである。
用いられるフィラー(D)としては、有機シリコーンやウレタン粒子などの有機フィラーやシリカや炭酸カルシウムなどの無機フィラーが挙げられ、主に作業性を調整するために使用される。このため、液状樹脂組成物の作業性の調整材として機能するものなら特に限定されるものではない。
本発明に用いられるフィラー(D)の平均粒径は、5μm以下であることが好ましい。フィラー(D)の平均粒径が5μm以下であることにより、乾燥半硬化後において樹脂組成物層の表面が滑らかになり、半導体素子搭載時に空気の巻き込みによるボイドが発生し難くなる。
また、溶剤(C)の含有量は、溶剤を除く液状樹脂組成物(液状樹脂組成物−溶剤(C))100重量部に対して、好ましくは0.5〜70重量部、特に好ましくは10〜45重量部である。
以下、本発明の液状樹脂組成物を用いて作製した半導体装置の一例について説明する。しかし、これに限定されるものではない。
乾燥半硬化する。乾燥半硬化時の温度は、生産性などの観点から120分以内に完了させるために80℃以上が好ましい。また、封止前の支持基板の反りを防ぐために乾燥半硬化時の温度は、150℃以下が好ましく、120℃以下がより好ましい。なお、本発明において、乾燥半硬化とは、所定の温度で、液状樹脂組成物を加熱することより、印刷後の液状樹脂組成物中の溶剤(C)を蒸発させたこと、または、溶剤(C)を蒸発させ且つ後工程での半導体素子の搭載および接着を阻害しない程度に一部を硬化させたことである。
以下、実施例を用いて本発明の説明を行うが、本発明は、これらに限定されるものではない。
・液状樹脂組成物A
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート(沸点247℃)
23.5重量部
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(軟化点60℃、エポキシ当量265)
(nが0〜3の整数である式(1)のエポキシ樹脂) 7.4重量部
ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(分子量700、25℃で液状、エポキシ当量350) 29.8重量部
フェノールアラルキル樹脂(軟化点65℃、水酸基当量175) 19.8重量部上記の原料をセパラブルフラスコに配合し、80℃2時間攪拌することで褐色透明のワニスを得た。これを室温まで冷却した後に以下の原料を添加し、室温で三本ロールにより混練し液状樹脂組成物Aを得た。
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 0.2重量部
硬化促進剤 0.2重量部
アエロジルR805(DEGUSSA社製) 5.8重量部
平均粒径2μmの有機フィラー(KMP−590、信越化学工業(株)製)
13.2重量部
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート(沸点247℃)
23.5重量部
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(軟化点60℃、エポキシ当量265)
(nが0〜3の整数である式(1)のエポキシ樹脂) 18.0重量部
ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(分子量700、25℃で液状、エポキシ当量350) 18.0重量部
フェノールアラルキル樹脂(軟化点65℃、水酸基当量175) 20.9重量部
上記の原料をセパラブルフラスコに配合し、80℃2時間攪拌することで褐色透明のワニスを得た。これを室温まで冷却した後に以下の原料を添加し、室温で三本ロールにより混練し液状樹脂組成物Bを得た。
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 0.2重量部
硬化促進剤 0.2重量部
アエロジルR805(DEGUSSA社製) 5.8重量部
平均粒径2μmの有機フィラー(KMP−590、信越化学工業(株)製)
13.2重量部
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート(沸点247℃)
23.5重量部
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(軟化点60℃、エポキシ当量265)
(nが0〜3の整数である式(1)のエポキシ樹脂) 3.8重量部
ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(分子量700、25℃で液状、エポキシ当量350) 33.9重量部
フェノールアラルキル樹脂(軟化点65℃、水酸基当量175) 19.4重量部
上記の原料をセパラブルフラスコに配合し、80℃2時間攪拌することで褐色透明のワニスを得た。これを室温まで冷却した後に以下の原料を添加し、室温で三本ロールにより混練し液状樹脂組成物Cを得た。
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 0.2重量部
硬化促進剤 0.2重量部
アエロジルR805(DEGUSSA社製) 5.8重量部
平均粒径2μmの有機フィラー(KMP−590、信越化学工業(株)製)
13.2重量部
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート(沸点247℃)
23.5重量部
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(軟化点60℃、エポキシ当量265)
(nが0〜3の整数である式(1)のエポキシ樹脂) 21.5重量部
ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(分子量700、25℃で液状、エポキシ当量350) 14.3重量部
フェノールアラルキル樹脂(軟化点65℃、水酸基当量175) 21.3重量部
上記の原料をセパラブルフラスコに配合し、80℃2時間攪拌することで褐色透明のワ
ニスを得た。これを室温まで冷却した後に以下の原料を添加し、室温で三本ロールにより混練し液状樹脂組成物Dを得た。
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 0.2重量部
硬化促進剤 0.2重量部
アエロジルR805(DEGUSSA社製) 5.8重量部
平均粒径2μmの有機フィラー(KMP−590、信越化学工業(株)製)
13.2重量部
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート(沸点247℃)
23.5重量部
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(軟化点60℃、エポキシ当量265)
(nが0〜3の整数である式(1)のエポキシ樹脂) 2.6重量部
ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(分子量700、25℃で液状、エポキシ当量350) 35.1重量部
フェノールアラルキル樹脂(軟化点65℃、水酸基当量175) 19.3重量部
上記の原料をセパラブルフラスコに配合し、80℃2時間攪拌することで褐色透明のワニスを得た。これを室温まで冷却した後に以下の原料を添加し、室温で三本ロールにより混練し液状樹脂組成物Eを得た。
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 0.2重量部
硬化促進剤 0.2重量部
アエロジルR805(DEGUSSA社製) 5.8重量部
平均粒径2μmの有機フィラー(KMP−590、信越化学工業(株)製)
13.2重量部
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート(沸点247℃)
23.5重量部
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(軟化点60℃、エポキシ当量265)
(nが0〜3の整数である式(1)のエポキシ樹脂) 5.8重量部
ビスフェノールF型エポキシ樹脂
(分子量310、25℃で液状、エポキシ当量165) 23.3重量部
フェノールアラルキル樹脂(軟化点65℃、水酸基当量175) 27.9重量部
上記の原料をセパラブルフラスコに配合し、80℃2時間攪拌することで褐色透明のワニスを得た。これを室温まで冷却した後に以下の原料を添加し、室温で三本ロールにより混練し液状樹脂組成物Fを得た。
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 0.2重量部
硬化促進剤 0.2重量部
アエロジルR805(DEGUSSA社製) 5.8重量部
平均粒径2μmの有機フィラー(KMP−590、信越化学工業(株)製)
13.2重量部
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート(沸点247℃)
23.5重量部
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(軟化点60℃、エポキシ当量265)
(nが0〜3の整数である式(1)のエポキシ樹脂) 5.4重量部
ナフタレン型エポキシ樹脂
(分子量270、25℃で液状、エポキシ当量140) 21.4重量部
フェノールアラルキル樹脂(軟化点65℃、水酸基当量175) 30.3重量部
上記の原料をセパラブルフラスコに配合し、80℃2時間攪拌することで褐色透明のワニスを得た。これを室温まで冷却した後に以下の原料を添加し、室温で三本ロールにより混練し液状樹脂組成物Gを得た。
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 0.2重量部
硬化促進剤 0.2重量部
アエロジルR805(DEGUSSA社製) 5.8重量部
平均粒径2μmの有機フィラー(KMP−590、信越化学工業(株)製)
13.2重量部
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート(沸点247℃)
23.5重量部
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(軟化点60℃、エポキシ当量265)
(nが0〜3の整数である式(1)のエポキシ樹脂) 3.7重量部
オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(軟化点70℃、エポキシ当量210)
3.7重量部
ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(分子量700、25℃で液状、エポキシ当量350) 29.5重量部
フェノールアラルキル樹脂(軟化点65℃、水酸基当量175) 20.2重量部
上記の原料をセパラブルフラスコに配合し、80℃2時間攪拌することで褐色透明のワニスを得た。これを室温まで冷却した後に以下の原料を添加し、室温で三本ロールにより混練し液状樹脂組成物Hを得た。
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 0.2重量部
硬化促進剤 0.2重量部
アエロジルR805(DEGUSSA社製) 5.8重量部
平均粒径2μmの有機フィラー(KMP−590、信越化学工業(株)製)
13.2重量部
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート(沸点247℃)
23.5重量部
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(軟化点60℃、エポキシ当量265)
(nが0〜3の整数である式(1)のエポキシ樹脂) 3.7重量部
フェノールアラルキル型エポキシ樹脂(軟化点52℃、エポキシ当量238)
3.7重量部
ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(分子量700、25℃で液状、エポキシ当量350) 29.6重量部
フェノールアラルキル樹脂(軟化点65℃、水酸基当量175) 20.0重量部
上記の原料をセパラブルフラスコに配合し、80℃2時間攪拌することで褐色透明のワニスを得た。これを室温まで冷却した後に以下の原料を添加し、室温で三本ロールにより混練し液状樹脂組成物Iを得た。
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 0.2重量部
硬化促進剤 0.2重量部
アエロジルR805(DEGUSSA社製) 5.8重量部
平均粒径2μmの有機フィラー(KMP−590、信越化学工業(株)製)
13.2重量部
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート(沸点247℃)
23.5重量部
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(軟化点60℃、エポキシ当量265)
(nが0〜3の整数である式(1)のエポキシ樹脂) 8.7重量部
ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(分子量700、25℃で液状、エポキシ当量350) 34.7重量部
フェノールノボラック樹脂(軟化点110℃、水酸基当量104) 13.7重量部
上記の原料をセパラブルフラスコに配合し、80℃2時間攪拌することで褐色透明のワニスを得た。これを室温まで冷却した後に以下の原料を添加し、室温で三本ロールにより混練し液状樹脂組成物Jを得た。
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 0.2重量部
硬化促進剤 0.2重量部
アエロジルR805(DEGUSSA社製) 5.8重量部
平均粒径2μmの有機フィラー(KMP−590、信越化学工業(株)製)
13.2重量部
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート(沸点247℃)
23.5重量部
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(軟化点60℃、エポキシ当量265)
(nが0〜3の整数である式(1)のエポキシ樹脂) 34.4重量部
フェノールアラルキル樹脂(軟化点65℃、水酸基当量175) 22.7重量部
上記の原料をセパラブルフラスコに配合し、80℃2時間攪拌することで褐色透明のワニスを得た。これを室温まで冷却した後に以下の原料を添加し、室温で三本ロールにより混練し液状樹脂組成物Kを得た。
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 0.2重量部
硬化促進剤 0.2重量部
アエロジルR805(DEGUSSA社製) 5.8重量部
平均粒径2μmの有機フィラー(KMP−590、信越化学工業(株)製)
13.2重量部
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート(沸点247℃)
23.5重量部
ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(分子量700、25℃で液状、エポキシ当量350) 38.1重量部
フェノールアラルキル樹脂(軟化点65℃、水酸基当量175) 19.0重量部
上記の原料をセパラブルフラスコに配合し、80℃2時間攪拌することで褐色透明のワニスを得た。これを室温まで冷却した後に以下の原料を添加し、室温で三本ロールにより混練し液状樹脂組成物Lを得た。
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 0.2重量部
硬化促進剤 0.2重量部
アエロジルR805(DEGUSSA社製) 5.8重量部
平均粒径2μmの有機フィラー(KMP−590、信越化学工業(株)製)
13.2重量部
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート(沸点247℃)
23.5重量部
フェノールアラルキル型エポキシ樹脂(軟化点52℃、エポキシ当量238)
39.7重量部
フェノールノボラック樹脂(軟化点110℃、水酸基当量104) 17.3重量部
上記の原料をセパラブルフラスコに配合し、80℃2時間攪拌することで褐色透明のワニスを得た。これを室温まで冷却した後に以下の原料を添加し、室温で三本ロールにより混練し液状樹脂組成物Mを得た。
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 0.2重量部
硬化促進剤 0.2重量部
アエロジルR805(DEGUSSA社製) 5.8重量部
平均粒径2μmの有機フィラー(KMP−590、信越化学工業(株)製)
13.2重量部
で行った。
上記液状樹脂組成物Aを用いて作製した樹脂組成物層を形成した半導体素子支持基板と樹脂組成物層を形成したスライドガラスを用いて以下の試験を行った。
[タック性試験]
上記樹脂組成物層を形成したスライドガラスを用い、室温における樹脂組成物層表面のタック力を測定した。測定はタック力測定機(RHESCA社製)により、プローブ下降速度(没入速度)30mm/min、テスト速度600mm/min、密着荷重(先行荷重)0.2N、密着保持時間(押し付け時間)1.0秒、プローブ5.1mmφ(SUS304)の条件で行った。
上記樹脂組成物層を形成した半導体素子支持基板を個片化し、その支持基板に対して6×6mmの半導体素子をダイボンダーにより加熱温度100℃、ボンド加重3.0N、ボンド時間10秒の条件で搭載した後、半導体素子搭載支持基板の両末端を固定し、半導体素子搭載面とは反対側の面からプッシュプルゲージで押したときに半導体素子が剥離するまでの強度を測定した。
上記の液状樹脂組成物Aを用いて4×20×0.1mmのフィルム状の試験片を作製し(硬化条件150℃60分)、動的粘弾性測定機(DMA)にて引っ張りモードでの測定を行った。測定条件は測定範囲−100〜330℃、昇温速度5℃/分、周波数10Hz、荷重100mNで行った。
オートダイボンダーを用いて、回路面側をポリイミド樹脂(CRC−8800 住友ベークライト(株)製)で保護した模擬半導体ウエハ(Phase8 日立ULSI社製)を、10.5×5mmに切断して用意した半導体素子を、搭載条件100℃ 8秒、荷重300gにて、ポリイミド樹脂側の面を上記樹脂組成物層を形成した半導体支持基板(BOC型半導体装置用の基板)であるBT樹脂基板の樹脂組成物層に向けて搭載し、金線にて電気接続を行った。これを、半導体用封止材(EME−G700 住友ベークライト(株)製)にて175℃90秒成形、4時間の後硬化を行い、12.3×8.3mmサイズの半導体装置(BOC型半導体装置)に個片化した。この半導体装置を用いて、乾燥(125℃20時間)、吸湿処理(85℃ 相対湿度60% 168時間、および85℃ 相対湿度85% 168時間)、リフロー半田処理(最高温度255〜260℃、20秒の処理を、連続3回実施)の耐湿半田性試験を行った。吸湿処理条件85℃、相対湿度60%、168時間のものがJEDECレベル2であり、吸湿処理条件85℃、相対湿度60%、168時間のものがJEDECレベル1である。n=10で試験し、内部不良を超音波探傷装置5MHzプローブを用いて透過観察した。内部剥離や割れがある半導体装置の数を不良として数えた。
結果は表1の通りである。
上記印刷用樹脂組成物B〜Jを用いて、樹脂組成物層を形成した半導体支持基板と樹脂組成物層を形成したスライドガラスを作製し、実施例1と同様に試験を行った。
上記印刷用樹脂組成物K〜Mを用いて、樹脂組成物層を形成した半導体支持基板と樹脂組成物層を形成したスライドガラスを作製し実施例1と同様に試験を行った。
Claims (6)
- 1分子中に二つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(A)、1分子中に二つ以上のフェノール性水酸基を有する硬化剤(B)、溶剤(C)、およびフィラー(D)を含有する半導体素子を支持体に接着させる液状樹脂組成物であって、前記エポキシ樹脂(A)として、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂(A1)と液状のエポキシ樹脂(A2)を含むことを特徴とする液状樹脂組成物。
- 前記液状のエポキシ樹脂(A2)が、分子量200〜3000のエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の液状樹脂組成物。
- 前記ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂(A1)100重量部に対する液状のエポキシ樹脂(A2)の含有量が、50重量部以上1500重量部以下であることを特徴とする請求項1に記載の液状樹脂組成物。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の液状樹脂組成物を用いて作製したことを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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---|---|---|---|---|
JPH08328027A (ja) * | 1995-06-02 | 1996-12-13 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 液晶表示素子用シール材組成物及びそれを用いた液晶表示素子 |
JP2005307037A (ja) * | 2004-04-22 | 2005-11-04 | Nagase Chemtex Corp | フィルム状エポキシ樹脂組成物 |
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