JP2009193021A - フォトマスク、パターンの形成方法および電子デバイスの製造方法 - Google Patents
フォトマスク、パターンの形成方法および電子デバイスの製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】フォトマスクPMは、透明基板TSと、複数の開口部OPを有するハーフトーン位相シフト膜HTと、複数の遮光部SPを形成する遮光膜LSとを有している。フォトマスクPMの表面における仮想の格子の特定の格子点LPがハーフトーン位相シフト部HTPとされ、その特定の格子点LPに対して単位格子ULの対角線DL方向に隣り合う4つの格子点LPの各々には開口部OPが形成され、その特定の格子点LPに対して縦線VL方向または横線HL方向に隣り合う4つの格子点LPの各々には遮光部SPが形成されている。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の一実施の形態におけるフォトマスクの構成を概略的に示す平面図である。図2は、図1のII−II線に沿う概略断面図である。主に図2を参照して、本実施の形態のフォトマスクPMは、透明基板TSと、ハーフトーン位相シフト膜HTと、遮光膜LSとを有している。
Claims (9)
- 透明基板と、
前記透明基板上に形成され、かつ複数の開口部を有するハーフトーン位相シフト膜と、
前記透明基板上に形成され、かつ複数の遮光部を形成する遮光膜とを備え、
平面視において複数の縦線と複数の横線とが交差してなる格子を仮想したときに、前記格子の複数の格子点のうち特定の格子点を、前記遮光膜から露出した前記ハーフトーン位相シフト膜を開口せずに前記ハーフトーン位相シフト膜を残すことによりハーフトーン位相シフト部とし、
前記ハーフトーン位相シフト部とされた前記特定の格子点に対して単位格子の対角線方向に隣り合う4つの格子点の各々には前記開口部が形成され、
前記ハーフトーン位相シフト部とされた前記特定の格子点に対して前記縦線方向に隣り合う2つの格子点と前記横線方向に隣り合う2つの格子点との各々には前記遮光部が形成されている、フォトマスク。 - 前記ハーフトーン位相シフト膜の透過率が10%以上30%以下である、請求項1に記載のフォトマスク。
- 前記開口部となるべき複数の格子点がハーフトーン位相シフト部とされ、複数のハーフトーン位相シフト部のうち互いに最も近くに配置される2つのハーフトーン位相シフト部間の距離が格子ピッチの2倍以上である、請求項1または2に記載のフォトマスク。
- 前記ハーフトーン位相シフト部に隣り合う前記遮光部と前記ハーフトーン位相シフト部に隣り合わない前記遮光部とは、平面視において互いに異なる形状を有している、請求項1〜3のいずれかに記載のフォトマスク。
- 前記ハーフトーン位相シフト部に隣り合う前記遮光部のうち、2つの前記ハーフトーン位相シフト部に隣り合う前記遮光部と1つの前記ハーフトーン位相シフト部に隣り合う前記遮光部とは、平面視において互いに異なる形状を有している、請求項1〜4のいずれかに記載のフォトマスク。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の前記フォトマスクを照明した露光光により基板上のポジ型のフォトレジストを露光することで、前記ハーフトーン位相シフト部の位置に明点像を形成する工程と、
露光された前記フォトレジストを現像することにより、前記フォトレジストの前記明点像を露光された部分にホールパターンを形成する工程とを備えた、パターンの形成方法。 - 前記格子ピッチをP、前記露光光の波長をλ、露光系の開口数をNAとしたとき、前記格子ピッチPが0.6×λ/NA<P<0.7×λ/NAの関係を満たす、請求項6に記載のパターンの形成方法。
- 前記露光に適用される照明が4重極照明である、請求項6または7に記載のパターンの形成方法。
- 請求項6〜8のいずれかのパターン形成方法により電子デバイスを製造する、電子デバイスの製造方法。
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