JP2009192826A - Electro-optic device and electronic equipment - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce sequential stripes on a display screen and to display high-quality images in an electro-optic device such as a liquid crystal device. <P>SOLUTION: The electro-optic device includes: a plurality of gate wiring lines (701) each being electrically connected to the gate of a selection switch (71) and to a corresponding one selection signal supply line in N pieces of selection signal supply lines (6) and having a gate wiring portion (701b) extending along a second direction (Y direction) intersecting a first direction (X direction); and a plurality of image signal lines (300) provided to the respective N pieces of selection switches corresponding to a data line group (6ag), each having an image signal line portion (320a) which is electrically connected to the source of the corresponding selection switch in the N pieces of switches and extends along the second direction and is formed with wiring width wider than the gate wiring portion. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた、例えば液晶プロジェクタ等の電子機器の技術分野に関する。   The present invention relates to a technical field of an electro-optical device such as a liquid crystal device, and an electronic apparatus such as a liquid crystal projector including the electro-optical device.

この種の電気光学装置では、例えば特許文献1に開示されているように、複数のデータ線をN本(但し、Nは2以上の整数)のデータ線を一群とするデータ線群毎に駆動するために、各データ線に選択スイッチが設けられる。各選択スイッチは選択信号に基づいて、データ線群毎に画像信号を供給する。なお、特許文献1では、データ線群毎に、これに対応する選択スイッチの各々のソースに電気的に接続されるソース側配線について、各々の配線幅を互いに同等にする技術が開示されている。   In this type of electro-optical device, for example, as disclosed in Patent Document 1, a plurality of data lines are driven for each data line group including a group of N data lines (where N is an integer of 2 or more). For this purpose, a selection switch is provided for each data line. Each selection switch supplies an image signal for each data line group based on the selection signal. Patent Document 1 discloses a technique for making each wiring width equal to each other for each source line connected electrically to each source of a selection switch corresponding to each data line group. .

ここに、N本のデータ線に供給すべき画像信号を時分割で入力すると共に、時分割でN本のデータ線を選択して供給する駆動方式(即ち、デマルチプレクサ方式或いはハイブリッド方式)が採用されることがある。このようなデマルチプレクサ方式が採用された電気光学装置では、画像信号線から供給される画像信号が、複数の選択スイッチに入力される。各データ線群においてN本のデータ線は夫々N系列の選択信号のいずれかに基づいて選択スイッチにより選択され、画像信号が供給される。   Here, a driving method (that is, a demultiplexer method or a hybrid method) is adopted in which image signals to be supplied to the N data lines are input in a time division manner and N data lines are selected and supplied in a time division manner. May be. In an electro-optical device employing such a demultiplexer method, an image signal supplied from an image signal line is input to a plurality of selection switches. In each data line group, N data lines are selected by a selection switch based on one of N series of selection signals, and an image signal is supplied.

特開平5−307165号公報JP-A-5-307165

しかしながら、ハイブリッド方式により駆動される電気光学装置では、N系列の選択信号により駆動される各選択スイッチでは、ソースに接続された配線においてN系列の各系列毎にノイズが画像信号に生じることがある。このような画像信号が選択スイッチからデータ線に供給されることにより、N系列の各系列毎のデータ線に沿う縦方向のスジ状のムラ(以下、このようなスジ状のムラを「系列スジ」と称して説明することがある)が表示画面上で発生し、視認されるおそれがある。その結果、電気光学装置における表示品位が劣化するという問題点が生じる。   However, in an electro-optical device driven by a hybrid system, in each selection switch driven by an N-sequence selection signal, noise may occur in the image signal for each N-sequence in the wiring connected to the source. . By supplying such an image signal from the selection switch to the data line, vertical streak-like unevenness along the data line for each of the N series (hereinafter referred to as “series streak”). May occur on the display screen and may be visually recognized. As a result, there arises a problem that display quality in the electro-optical device is deteriorated.

本発明は、例えば上記問題点に鑑みなされたものであり、系列スジを低減することができ、高品質な画像を表示可能な電気光学装置及び該電気光学装置を備えた電子機器を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above problems, for example, and provides an electro-optical device capable of reducing series stripes and displaying a high-quality image, and an electronic apparatus including the electro-optical device. Is an issue.

本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、基板上に、複数の画素電極と、該複数の画素電極が設けられた画素領域で互いに交差する複数の走査線及び複数のデータ線と、前記画素領域の周辺に位置する周辺領域に前記データ線毎に1つずつ設けられると共にトランジスタから夫々なり、N本(但し、Nは2以上の整数)の前記データ線を一群とするデータ線群毎に、N系列の選択信号に基づいて前記データ線群に属するN本のデータ線を互いに異なるタイミングで夫々選択して画像信号を出力する複数の選択スイッチと、前記周辺領域に前記走査線が延びる第1方向に沿って形成され、前記選択信号を前記N系列の各系列毎に供給するN本の選択信号供給線と、前記選択スイッチのゲート及び前記N本の選択信号供給線のうち対応する一本の選択信号供給線に電気的に接続されると共に、前記第1方向に交わる第2方向に沿って延びるゲート配線部分を夫々有する複数のゲート配線と、前記データ線群に対応するN個の前記選択スイッチ毎に設けられ、且つ、前記N個の選択スイッチの各々のソースに電気的に接続され、前記第2方向に沿って延びると共に前記ゲート配線部分よりも広い配線幅で形成された画像信号線部分を夫々有する複数の画像信号線とを備える。   In order to solve the above problems, an electro-optical device of the present invention includes a plurality of pixel electrodes on a substrate, a plurality of scanning lines and a plurality of data lines intersecting each other in a pixel region provided with the plurality of pixel electrodes. One data line is provided for each data line in a peripheral area located around the pixel area, and each of the data lines includes N transistors (where N is an integer of 2 or more). For each group, a plurality of selection switches for selecting N data lines belonging to the data line group at different timings based on N series selection signals and outputting image signals, and the scanning lines in the peripheral region N selection signal supply lines for supplying the selection signal for each of the N series, a gate of the selection switch, and the N selection signal supply lines. Correspondence A plurality of gate lines each having a gate line portion extending along a second direction intersecting the first direction and N corresponding to the data line group. Provided for each of the selection switches and electrically connected to the sources of the N selection switches, extending along the second direction, and having a wiring width wider than the gate wiring portion. A plurality of image signal lines each having an image signal line portion.

本発明の電気光学装置によれば、その動作時には、外部に設けられた例えば画像信号供給回路から例えば画像信号端子を介して画像信号線に画像信号が供給される。画像信号線に供給された画像信号は複数の選択スイッチに対して、データ線群に対応する数、即ちN個の選択スイッチ毎に供給される。複数の選択スイッチはN系列の選択信号に基づいて夫々駆動され、各系列毎にデータ線を選択して画像信号を供給する。これにより、各データ線群について、N個の選択スイッチからN系列の選択信号に基づいてN本のデータ線の各々に対して画像信号が供給され、対応する画素に入力される。これと共に、例えば走査線駆動回路から走査線を介して走査信号が各画素に供給される。画素毎に設けられた例えば画素スイッチング用トランジスタは、走査信号に応じて画像信号を画素電極へ選択的に供給する。その結果、電気光学装置においてアクティブマトリクス駆動が行われる。   According to the electro-optical device of the present invention, during the operation, an image signal is supplied to an image signal line from an image signal supply circuit provided outside, for example, via an image signal terminal. The image signals supplied to the image signal lines are supplied to a plurality of selection switches corresponding to the number corresponding to the data line group, that is, every N selection switches. The plurality of selection switches are driven based on N series selection signals, respectively, and select data lines for each series to supply image signals. Thus, for each data line group, an image signal is supplied from each of the N selection switches to each of the N data lines based on the N series of selection signals, and is input to the corresponding pixel. At the same time, for example, a scanning signal is supplied to each pixel from the scanning line driving circuit via the scanning line. For example, a pixel switching transistor provided for each pixel selectively supplies an image signal to the pixel electrode in accordance with the scanning signal. As a result, active matrix driving is performed in the electro-optical device.

本発明の電気光学装置では、N系列の選択信号が供給されるN本の選択信号供給線が第1方向(言い換えれば、X方向)に沿って設けられており、各選択スイッチのゲートには、N系列の各系列毎に選択信号供給線からゲート配線部分を介して選択信号が供給される。ゲート配線部分は、第1方向に沿って設けられた選択信号供給線から分岐されて、第2方向(即ち、第1方向に交わる方向、言い換えれば、Y方向)に沿って延びるように形成される。各選択スイッチのソースには、対応する画像信号線の一部を構成する画像信号線部分から画像信号が供給される。画像信号線部分は、第2方向に沿って延びるように形成される。ここで、典型的には、同一の選択スイッチに夫々電気的に接続されるゲート配線部分及び画像信号線部分は、少なくとも部分的に隣り合う。尚、複数の画像信号線は夫々、データ線群に対応するN個の選択スイッチ毎に画像信号を供給する。   In the electro-optical device of the present invention, N selection signal supply lines to which N series selection signals are supplied are provided along the first direction (in other words, the X direction), and the gates of the selection switches are provided at the gates of the selection switches. The selection signal is supplied from the selection signal supply line via the gate wiring portion for each of the N series. The gate wiring portion is branched from a selection signal supply line provided along the first direction, and is formed to extend along the second direction (that is, the direction intersecting the first direction, in other words, the Y direction). The An image signal is supplied to the source of each selection switch from an image signal line portion constituting a part of the corresponding image signal line. The image signal line portion is formed so as to extend along the second direction. Here, typically, the gate wiring portion and the image signal line portion that are respectively electrically connected to the same selection switch are at least partially adjacent to each other. Each of the plurality of image signal lines supplies an image signal to each of the N selection switches corresponding to the data line group.

本発明では特に、画像信号線部分は、ゲート配線部分よりも広い配線幅で形成される。よって、例えば、仮に画像信号線部分をゲート配線部分と同等の幅で形成する場合と比較して、画像信号線部分の配線抵抗をより低くすることが可能となる。   Particularly in the present invention, the image signal line portion is formed with a wider wiring width than the gate wiring portion. Therefore, for example, as compared with the case where the image signal line portion is formed with the same width as the gate wiring portion, the wiring resistance of the image signal line portion can be further reduced.

例えば、仮に、何らの対策も施さず、各選択スイッチについてゲート配線部分及び画像信号線部分が互いに近接するように配置された場合、ゲート配線部分との間の電気的な悪影響により、画像信号線部分における画像信号に各系列毎にノイズが発生するおそれがある。しかるに本発明によれば、画像信号線部分の配線抵抗を上述したようにより低くすることができるため、ゲート配線部分との間の電気的な悪影響をより低減することが可能となる。言い換えれば、本発明によれば、画像信号線部分は、ゲート配線部分よりも広い配線幅を有するので、選択信号が供給されることによりゲート配線部分の電位が変動するのに伴って、画像信号線部分の電位が変動してしまうのを抑制或いは防止することができる。よって、画像信号線部分における画像信号のノイズをより低減することができ、表示画面において顕著に視認されない程度に系列スジを低減する或いは実践上無くすことが可能となる。   For example, if no measures are taken and the gate wiring portion and the image signal line portion are arranged close to each other for each selection switch, the image signal line is caused by an electrical adverse effect between the gate wiring portion and the selection switch. There is a risk that noise may occur for each series in the image signal in the portion. However, according to the present invention, since the wiring resistance of the image signal line portion can be lowered as described above, it is possible to further reduce the adverse electrical effect between the image signal line portion and the gate wiring portion. In other words, according to the present invention, since the image signal line portion has a wider wiring width than the gate wiring portion, the image signal is changed as the potential of the gate wiring portion varies due to the supply of the selection signal. It is possible to suppress or prevent the potential of the line portion from fluctuating. Therefore, it is possible to further reduce the noise of the image signal in the image signal line portion, and it is possible to reduce or eliminate the series streak to such an extent that it is not noticeable on the display screen.

従って、以上説明したような本発明の電気光学装置によれば、高品質な画像を表示することが可能となる。   Therefore, according to the electro-optical device of the present invention as described above, it is possible to display a high-quality image.

本発明の電気光学装置の一の態様では、前記画像信号線部分は、前記ゲート配線部分と互いに同一層に配置される。   In one aspect of the electro-optical device of the present invention, the image signal line portion is arranged on the same layer as the gate wiring portion.

この態様によれば、各選択スイッチについて、ゲート配線部分及び画像信号線部分が互いに同一層に位置し、互いに近接する場合に、画像信号線部分におけるゲート配線部分との間の電気的な悪影響をより低減することが可能となる。   According to this aspect, for each selection switch, when the gate wiring portion and the image signal line portion are located in the same layer and close to each other, there is an electrical adverse effect between the image signal line portion and the gate wiring portion. This can be further reduced.

本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置(但し、その各種態様も含む)を具備する。   In order to solve the above problems, an electronic apparatus according to the present invention includes the above-described electro-optical device according to the present invention (including various aspects thereof).

本発明の電子機器によれば、上述した本発明に係る電気光学装置を具備してなるので、表示画面上の系列スジを低減することができる。よって、高品質な表示を行うことが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明の電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置等も実現することも可能である。   According to the electronic apparatus of the present invention, since the above-described electro-optical device according to the present invention is provided, the series streaks on the display screen can be reduced. Therefore, a projection display device, television, mobile phone, electronic notebook, word processor, viewfinder type or monitor direct-view type video tape recorder, workstation, videophone, POS terminal, touch panel capable of high-quality display Various electronic devices such as can be realized. Further, as the electronic apparatus of the present invention, for example, an electrophoretic device such as electronic paper can be realized.

本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための最良の形態から明らかにされる。   The operation and other advantages of the present invention will become apparent from the best mode for carrying out the invention described below.

以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。以下の実施形態では、本発明の電気光学装置の一例であるアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例にとる。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, an active matrix driving type liquid crystal device, which is an example of the electro-optical device of the present invention, is taken as an example.

先ず、本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図1及び図2を参照して説明する。ここに図1は、本実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す平面図であり、図2は、図1のH−H´線での断面図である。   First, the overall configuration of the liquid crystal device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a plan view showing the overall configuration of the liquid crystal device according to the present embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line HH ′ of FIG.

図1及び図2において、本実施形態に係る液晶装置100では、素子基板10と対向基板20とが対向配置されている。素子基板10と対向基板20との間に液晶層50が封入されており、素子基板10と対向基板20とは、本発明に係る「画素領域」の一例としての画像表示領域10aの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材52により相互に接着されている。シール材52は、両基板を貼り合わせるための、紫外線硬化樹脂からなり、製造プロセスにおいて素子基板10上に塗布された後、紫外線照射により硬化させられたものである。また、シール材52中には、素子基板10と対向基板20との間隔(基板間ギャップ)を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材(図示せず)が散布されている。   1 and 2, in the liquid crystal device 100 according to the present embodiment, the element substrate 10 and the counter substrate 20 are disposed to face each other. A liquid crystal layer 50 is sealed between the element substrate 10 and the counter substrate 20, and the element substrate 10 and the counter substrate 20 are positioned around an image display area 10a as an example of the “pixel area” according to the present invention. They are bonded to each other by a sealing material 52 provided in the sealing area. The sealing material 52 is made of an ultraviolet curable resin for bonding the two substrates together, and is applied on the element substrate 10 in the manufacturing process and then cured by ultraviolet irradiation. Further, a gap material (not shown) such as glass fiber or glass bead is sprayed in the sealing material 52 to set the distance between the element substrate 10 and the counter substrate 20 (inter-substrate gap) to a predetermined value. .

図1において、シール材52が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域10aの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜53が、対向基板20側に設けられている。周辺領域のうち、シール材52が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、画像信号が供給される画像信号端子を含む外部回路接続端子102が素子基板10の一辺に沿って設けられている。この一辺に沿ったシール領域よりも内側にデマルチプレクサ7が額縁遮光膜53に覆われるようにして設けられている。また、走査線駆動回路104は、この一辺に隣接する2辺に沿ったシール領域の内側に、額縁遮光膜53に覆われるようにして設けられている。また、素子基板10上には、対向基板20の4つのコーナー部に対向する領域に、両基板間を上下導通材107で接続するための上下導通端子106が配置されている。これらにより、素子基板10と対向基板20との間で電気的な導通をとることができる。   In FIG. 1, a light-shielding frame light-shielding film 53 that defines the frame area of the image display region 10a is provided on the counter substrate 20 side in parallel with the inside of the seal region where the sealing material 52 is disposed. Of the peripheral region, an external circuit connection terminal 102 including an image signal terminal to which an image signal is supplied is provided along one side of the element substrate 10 in a region located outside the seal region where the sealing material 52 is disposed. ing. The demultiplexer 7 is provided so as to be covered with the frame light-shielding film 53 on the inner side of the seal region along one side. Further, the scanning line driving circuit 104 is provided so as to be covered with the frame light-shielding film 53 inside the seal region along two sides adjacent to the one side. On the element substrate 10, vertical conduction terminals 106 for connecting the two substrates with the vertical conduction material 107 are arranged in regions facing the four corner portions of the counter substrate 20. Thus, electrical conduction can be established between the element substrate 10 and the counter substrate 20.

素子基板10上には、外部回路接続端子102と、デマルチプレクサ7、走査線駆動回路104、上下導通端子106等とを電気的に接続するための引回配線90が形成されている。   On the element substrate 10, lead wirings 90 are formed for electrically connecting the external circuit connection terminals 102 to the demultiplexer 7, the scanning line driving circuit 104, the vertical conduction terminals 106, and the like.

図2において、素子基板10上には、駆動素子である画素スイッチング用TFTや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。画像表示領域10aには、画素スイッチング用TFTや走査線、データ線等の配線の上層に画素電極9aが設けられている。画素電極9a上には、配向膜(図示せず)が形成されている。他方、対向基板20における素子基板10との対向面上に、遮光膜23が形成されている。そして、遮光膜23上に、ITO(Indium Tin Oxide)等の透明材料からなる対向電極21が複数の画素電極9aと対向して形成されている。対向電極21上には配向膜(図示せず)が形成されている。また、液晶層50は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。   In FIG. 2, a laminated structure in which wirings such as pixel switching TFTs, which are driving elements, scanning lines, and data lines are formed is formed on the element substrate 10. In the image display area 10a, a pixel electrode 9a is provided in an upper layer of wiring such as a pixel switching TFT, a scanning line, and a data line. An alignment film (not shown) is formed on the pixel electrode 9a. On the other hand, a light shielding film 23 is formed on the surface of the counter substrate 20 facing the element substrate 10. A counter electrode 21 made of a transparent material such as ITO (Indium Tin Oxide) is formed on the light shielding film 23 so as to face the plurality of pixel electrodes 9a. An alignment film (not shown) is formed on the counter electrode 21. Further, the liquid crystal layer 50 is made of, for example, a liquid crystal in which one or several types of nematic liquid crystals are mixed, and takes a predetermined alignment state between the pair of alignment films.

尚、ここでは図示しないが、素子基板10上には、デマルチプレクサ7、走査線駆動回路104の他に、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路、検査用パターン等が形成されていてもよい。   Although not shown here, on the element substrate 10, in addition to the demultiplexer 7 and the scanning line driving circuit 104, an inspection circuit for inspecting the quality, defects, etc. of the liquid crystal device during production or at the time of shipment, An inspection pattern or the like may be formed.

次に、本実施形態に係る液晶装置の電気的な構成について、図3を参照して説明する。ここに図3は、本実施形態に係る液晶装置の電気的な構成を示す回路図である。   Next, the electrical configuration of the liquid crystal device according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a circuit diagram showing an electrical configuration of the liquid crystal device according to this embodiment.

図3において、液晶装置100は、素子基板10上に、デマルチプレクサ7及び走査線駆動回路104を備えている。素子基板10上の外部回路接続端子102のうち画像信号端子102vに外部回路としての画像信号供給回路400が電気的に接続されている。   In FIG. 3, the liquid crystal device 100 includes a demultiplexer 7 and a scanning line driving circuit 104 on an element substrate 10. The image signal supply circuit 400 as an external circuit is electrically connected to the image signal terminal 102v among the external circuit connection terminals 102 on the element substrate 10.

素子基板10上の画像表示領域10aには、320行の走査線11aが行方向(即ち、X方向)に延在するように設けられ、また、4本を一群として各データ線群6agにグループ化された480(=120×4)列のデータ線6aが列方向(即ち、Y方向)に延在するように、且つ、各走査線11aと互いに電気的な絶縁を保つように、設けられている。尚、走査線11a及びデータ線6aの本数はそれぞれ320本及び480本に限定されるものではない。各データ線群6agを構成するデータ線数は、本実施形態では「4」としたが、「2」以上であればよい。   In the image display region 10a on the element substrate 10, 320 scanning lines 11a are provided so as to extend in the row direction (that is, the X direction), and four lines are grouped into each data line group 6ag. 480 (= 120 × 4) columns of data lines 6a are provided so as to extend in the column direction (that is, the Y direction) and to keep electrical insulation from each scanning line 11a. ing. The numbers of scanning lines 11a and data lines 6a are not limited to 320 and 480, respectively. The number of data lines constituting each data line group 6ag is “4” in the present embodiment, but may be “2” or more.

画素電極9aは、320本の走査線11aと480本のデータ線6aとの交差部に対応して、それぞれ配列されている。従って、本実施形態では、画素電極9aは、縦320行×横480列で、所定の画素ピッチでマトリクス状に配列することになる。尚、ここでは図示しないが、各画素電極9aとデータ線6aとの間には、走査線11aを介して夫々供給される走査信号に応じて夫々の導通状態及び非導通状態が制御される画素スイッチング用TFTや、画素電極9aに印加した電圧を長く維持する蓄積容量のための容量配線が形成されている。   The pixel electrodes 9a are respectively arranged corresponding to the intersections of 320 scanning lines 11a and 480 data lines 6a. Therefore, in the present embodiment, the pixel electrodes 9a are arranged in a matrix form with a predetermined pixel pitch of 320 rows by 480 columns. Although not shown here, between each pixel electrode 9a and the data line 6a, a pixel whose conduction state and non-conduction state are controlled according to a scanning signal supplied via the scanning line 11a. Capacitance wirings for storage TFTs that maintain the voltage applied to the switching TFT and the pixel electrode 9a for a long time are formed.

ここで本実施形態では、データ線群6agを構成する4列のデータ線6aを区別するために、左から順にそれぞれa、b、c、d系列と呼ぶ場合がある。詳細には、a系列とは1、5、9、…、477列目のデータ線6aであり、b系列とは2、6、10、…、478列目のデータ線6aであり、c系列とは3、7、11、…、479列目のデータ線6aであり、d系列とは4、8、12、…、480列目のデータ線6aである。   Here, in this embodiment, in order to distinguish the four columns of data lines 6a constituting the data line group 6ag, they may be referred to as a, b, c, and d series in order from the left. Specifically, the a series is the data line 6a in the 1, 5, 9,..., 477th column, the b series is the data line 6a in the 2, 6, 10,. Is the data line 6a in the 3, 7, 11, ..., 479th column, and the d series is the data line 6a in the 4, 8, 12, ..., 480th column.

図3において、走査線駆動回路104は、1、2、3、…、320行目の走査線11aに、走査信号G1、G2、G3、…、G320を供給する。詳細には、走査線駆動回路104は、1フレームの期間にわたって1、2、3、…、320行目の走査線11aを順番に選択するとともに、選択した走査線への走査信号を選択電圧に相当するHレベルとし、それ以外の走査線への走査信号を非選択電圧に相当するLレベルとする。   3, the scanning line driving circuit 104 supplies scanning signals G1, G2, G3,..., G320 to the scanning lines 11a in the 1, 2, 3,. More specifically, the scanning line driving circuit 104 sequentially selects the scanning lines 11a in the first, second, third,..., 320th row over a period of one frame, and uses the scanning signal to the selected scanning line as a selection voltage. The scanning signal to other scanning lines is set to the L level corresponding to the non-selection voltage.

画像信号供給回路400は、素子基板10とは別体構成であり、表示動作の際には、画像信号端子102vを介して素子基板10と電気的に接続される。画像信号供給回路400は、走査線駆動回路104によって選択された走査線11aと、各データ線群6agに属する4列のデータ線6aのうち、デマルチプレクサ7によって選ばれるデータ線6aとに対応する画素電極9aに対し、当該画素電極9aが含まれる画素の階調に応じた電圧の画像信号VIDi(i=1、・・・、120)を出力する。画像信号供給回路400から画像信号端子102vに供給された画像信号VIDiは、画像信号線300を介してデマルチプレクサ7へ供給される。   The image signal supply circuit 400 has a separate configuration from the element substrate 10 and is electrically connected to the element substrate 10 via the image signal terminal 102v during a display operation. The image signal supply circuit 400 corresponds to the scanning line 11a selected by the scanning line driving circuit 104 and the data line 6a selected by the demultiplexer 7 among the four columns of data lines 6a belonging to each data line group 6ag. An image signal VIDi (i = 1,..., 120) having a voltage corresponding to the gradation of the pixel including the pixel electrode 9a is output to the pixel electrode 9a. The image signal VIDi supplied from the image signal supply circuit 400 to the image signal terminal 102v is supplied to the demultiplexer 7 through the image signal line 300.

尚、本実施形態では、上述したように、データ線6aの列数は「480」であり、これらが4列毎にグループ化されているので、画像信号端子102vの個数は「120」である。   In the present embodiment, as described above, the number of columns of the data line 6a is “480”, and since these are grouped every four columns, the number of image signal terminals 102v is “120”. .

デマルチプレクサ7は、データ線6a毎に設けられた、本発明に係る「複数の選択スイッチ」の一例としての複数のトランジスタ71を含んで構成されている。   The demultiplexer 7 includes a plurality of transistors 71 provided as an example of the “plurality of selection switches” according to the present invention, provided for each data line 6a.

ここで、図3に加えて図4を参照してトランジスタ71の構成についてより詳細に説明する。図4は、デマルチプレクサにおける一のデータ線群に対応するトランジスタに着目して、その構成をより詳細に示す回路図である。   Here, the configuration of the transistor 71 will be described in more detail with reference to FIG. 4 in addition to FIG. 3. FIG. 4 is a circuit diagram showing in more detail the configuration focusing on the transistor corresponding to one data line group in the demultiplexer.

図3及び図4において、図3中、画像信号VID1〜VID120に対応する1番目から120番目のデータ線群6agのうち、m番目(但し、mは1以上120以下の整数)のデータ線群6agに着目すれば、図4において、トランジスタ71は例えばnチャネル型であり、各ドレインはドレイン配線705を介してデータ線6aの一端に電気的に接続されている。   3 and 4, in FIG. 3, among the first to 120th data line groups 6ag corresponding to the image signals VID1 to VID120, the mth data line group (where m is an integer from 1 to 120). Focusing on 6ag, in FIG. 4, the transistor 71 is, for example, an n-channel type, and each drain is electrically connected to one end of the data line 6 a via the drain wiring 705.

データ線群6agに属するデータ線6aに対応する4個のトランジスタ71のソースは、各々のソース配線703を介してデータ線群6agに対応する画像信号線300と共通接続されている。即ち、m番目のデータ線群6agは、a系列の(4m−3)列目、b系列の(4m−2)列目、c系列の(4m−1)列目およびd系列の(4m)列目のデータ線6aから構成される。これら4列のデータ線6aに対応するトランジスタ71のソースは夫々、ソース配線703が共通に電気的に接続されて、画像信号VID(m)が供給される。   The sources of the four transistors 71 corresponding to the data lines 6a belonging to the data line group 6ag are commonly connected to the image signal lines 300 corresponding to the data line group 6ag via the respective source lines 703. That is, the m-th data line group 6ag includes the (4m-3) th column of the a series, the (4m-2) th column of the b series, the (4m-1) th column of the c series, and the (4m) of the d series. It consists of the data line 6a of the column. The sources of the transistors 71 corresponding to the four columns of data lines 6a are electrically connected to the source wiring 703 in common, and the image signal VID (m) is supplied.

ここに、図3に示す画像信号線300は、図4において例えば、画像信号VID(m)が入力される画像信号入力線310と、画像信号入力線310に対して、4列のデータ線6aに対応するトランジスタ71の各々のソース配線703を共通接続するための引出配線320とが電気的に接続されてなる。引出配線320は、後述するように4個のトランジスタ71のソース配線703との接続のため、トランジスタ71に向けて夫々分岐された4本の画像信号線部分320a(図5及び図6参照)を有する。   Here, the image signal line 300 shown in FIG. 3 includes, for example, an image signal input line 310 to which the image signal VID (m) is input in FIG. Are connected electrically to the lead-out wiring 320 for commonly connecting the source wirings 703 of the transistors 71 corresponding to. As will be described later, the lead-out wiring 320 has four image signal line portions 320a (see FIGS. 5 and 6) branched toward the transistor 71 for connection to the source wiring 703 of the four transistors 71, respectively. Have.

また、素子基板10上には、a系列、b系列、c系列、及びd系列のデータ線6aのいずれかを選択するための4系列の選択信号Sel1〜Sel4が供給される4本の選択信号供給線6が設けられている。4本の選択信号供給線6の各々は、Y方向に沿って延びるように形成されている。4本の選択信号供給線6の各々は、複数のトランジスタ71に対して、4系列の各系列毎に同一の選択信号が供給されるトランジスタ71に共通に配線される。   Also, four selection signals to which four series of selection signals Sel1 to Sel4 for selecting any of the data lines 6a of the a series, b series, c series, and d series are supplied on the element substrate 10. A supply line 6 is provided. Each of the four selection signal supply lines 6 is formed to extend along the Y direction. Each of the four selection signal supply lines 6 is wired in common to a plurality of transistors 71 to which the same selection signal is supplied for each of the four systems.

(4m−3)列目のデータ線6aに対応するトランジスタ71のゲートには、選択信号Sel1がゲート配線701を介して選択信号供給線6から供給され、同様に(4m−2)列目、(4m−1)列目および(4m)列目のデータ線6aに対応するトランジスタ71のゲートには、選択信号Sel2、Sel3およびSel4が供給される。尚、選択信号Sel1、Sel2、Sel3及びSel4は、図示しない外部回路としてのタイミング制御回路から外部回路接続端子102を介して供給される。4本の選択信号供給線6の各々は、対応する外部回路接続端子102から素子基板10上に引き回される。   The selection signal Sel1 is supplied from the selection signal supply line 6 through the gate wiring 701 to the gate of the transistor 71 corresponding to the data line 6a in the (4m-3) th column. Similarly, in the (4m-2) th column, Selection signals Sel2, Sel3, and Sel4 are supplied to the gates of the transistors 71 corresponding to the data lines 6a in the (4m-1) th column and the (4m) th column. The selection signals Sel1, Sel2, Sel3, and Sel4 are supplied via an external circuit connection terminal 102 from a timing control circuit as an external circuit (not shown). Each of the four selection signal supply lines 6 is routed from the corresponding external circuit connection terminal 102 onto the element substrate 10.

ここで、上述のように構成された液晶装置の動作について、図3を参照して説明する。   Here, the operation of the liquid crystal device configured as described above will be described with reference to FIG.

走査線駆動回路104は、ある1フレーム(第nフレーム)の期間にわたって走査信号G1、…、G320を1水平期間毎に順次排他的にHレベル(即ち、選択電圧)とする。   The scanning line driving circuit 104 sets the scanning signals G1,..., G320 to the H level (that is, the selection voltage) sequentially and exclusively every horizontal period over a period of one frame (nth frame).

ここで、1水平期間では、タイミング制御回路から供給される選択信号Sel1、Sel2、Sel3及びSel4は、この順番で排他的にHレベルとなり、この供給に合わせて画像信号供給回路400は、画像信号線300に画像信号VID1、VID2、VID3、…、VID120を供給する。ここに、画像信号供給回路400から出力される、画像信号VID1、VID2、VID3、…、VID120は夫々、1、2、3、…、120番目のデータ線群6agの各々における、4系列のデータ線6aに対応して4系列に時系列化されたデータ電圧を有する。デマルチプレクサ7においては、4系列の選択信号Sel1〜Sel4に応じて、複数のトランジスタ71により画像信号VID1、VID2、VID3、…、VID120の各々の時系列化されたデータ電圧は夫々時分割され、以下のように各データ線群6agにおける4系列のデータ線6aに振り分けられる。   Here, in one horizontal period, the selection signals Sel1, Sel2, Sel3, and Sel4 supplied from the timing control circuit are exclusively H level in this order, and the image signal supply circuit 400 synchronizes with the supply. The image signals VID1, VID2, VID3,..., VID120 are supplied to the line 300. Here, the image signals VID1, VID2, VID3,..., VID120 output from the image signal supply circuit 400 are four series of data in each of the first, second, third,. Corresponding to the line 6a, there are data voltages time-series into four series. In the demultiplexer 7, the time series data voltages of the image signals VID 1, VID 2, VID 3,. As shown below, the data lines are grouped into four series of data lines 6a in each data line group 6ag.

詳細には、画像信号供給回路400は、j行目の走査信号Gj(i=1、・・・、320)がHレベルとなる期間において、選択信号Sel1がHレベルとなったとき、j行目の走査線11aとa系列のデータ線6aとの交差に対応する画素の階調に応じた電圧だけ対向電極電位LCCOMに対して高位または低位の画像信号VID1、VID2、VID3、…、VID120を、1、2、3、…、120番目のデータ線群6agに対応させて一斉に出力する。この際、選択信号Sel1だけがHレベルであるので、a系列のデータ線6aが選択される(即ち、a系列のデータ線6aに対応するトランジスタ71だけがオンする)結果、画像信号VID1、VID2、VID3、…、VID120は、それぞれa系列(1、5、9、…、477列目)のデータ線6aに供給される。一方、走査信号GjがHレベルであると、j行目に位置する画素のすべてにおいて、画素スイッチング用TFTがオン(導通)状態となるので、a系列のデータ線6aに供給された画像信号VID1、VID2、VID3、…、VID120は、それぞれj行1列、j行5列、j行9列、…、j行477列の画素電極9aに印加されることになる。   Specifically, the image signal supply circuit 400 determines that the jth row when the selection signal Sel1 is at the H level in the period when the scanning signal Gj (i = 1,..., 320) at the jth row is at the H level. Image signals VID1, VID2, VID3,..., VID120 that are higher or lower than the counter electrode potential LCCOM by a voltage corresponding to the gray level of the pixel corresponding to the intersection of the eye scanning line 11a and the a-series data line 6a. , 1, 2, 3,..., 120 at a time, corresponding to the 120th data line group 6ag. At this time, since only the selection signal Sel1 is at the H level, the a-series data line 6a is selected (that is, only the transistor 71 corresponding to the a-series data line 6a is turned on). As a result, the image signals VID1, VID2 , VID3,..., VID120 are respectively supplied to the data lines 6a of the a series (1, 5, 9,..., 477th column). On the other hand, when the scanning signal Gj is at the H level, the pixel switching TFT is turned on (conductive) in all the pixels located in the j-th row, and therefore the image signal VID1 supplied to the a-series data line 6a. , VID2, VID3,..., VID120 are applied to the pixel electrodes 9a of j rows and 1 column, j rows and 5 columns, j rows and 9 columns,.

次に、画像信号供給回路400は、選択信号Sel2がHレベルとなったとき、今度はj行目の走査線11aとb系列のデータ線6aとの交差に対応する画素の階調に応じた電圧の画像信号VID1、VID2、VID3、…、VID120を、1、2、3、…、120番目のデータ線群6agに対応させて一斉に出力する。この際、選択信号Sel2だけがHレベルであるため、b系列のデータ線6aが選択される結果、画像信号VID1、VID2、VID3、…、VID120は、それぞれb系列(2、6、10、…、478列目)のデータ線6aに供給されて、それぞれj行2列、j行6列、j行10列、…、j行478列の画素電極9aに印加されることになる。   Next, when the selection signal Sel2 becomes H level, the image signal supply circuit 400 corresponds to the gradation of the pixel corresponding to the intersection of the j-th scanning line 11a and the b-series data line 6a. The voltage image signals VID1, VID2, VID3,..., VID120 are simultaneously output in correspondence with the first, second, third,. At this time, since only the selection signal Sel2 is at the H level, as a result of selecting the b-sequence data line 6a, the image signals VID1, VID2, VID3,..., VID120 are respectively b-sequence (2, 6, 10,. 478th) data line 6a and applied to the pixel electrode 9a of j row 2 column, j row 6 column, j row 10 column,..., J row 478 column, respectively.

同様に、画像信号供給回路400は、j行目の走査信号GjがHレベルとなる期間において、選択信号Sel3がHレベルとなったときには、j行目の走査線11aとc系列のデータ線6aとの交差に対応する画素、選択信号Sel4がHレベルとなったときには、j行目の走査線11aとd系列のデータ線6aとの交差に対応する画素、の階調に応じた電圧の画像信号VID1、VID2、VID3、…、VID120を、それぞれ1、2、3、…、120番目のデータ線群6agに対応させて一斉に出力し、これにより、c系列(3、7、11、…、479列目)のデータ線6aに供給されて、それぞれj行3列、j行7列、j行11列、…、j行479列の画素電極9aに印加され、引き続き、d系列(4、8、12、…、480列目)のデータ線6aに供給されて、それぞれj行4列、j行8列、j行12列、…、j行480列の画素電極9aに印加される。   Similarly, the image signal supply circuit 400, when the selection signal Sel3 becomes H level during the period in which the j-th scanning signal Gj becomes H level, the j-th scanning line 11a and the c-series data line 6a. When the selection signal Sel4 attains an H level when the selection signal Sel4 becomes H level, an image of a voltage corresponding to the gradation of the pixel corresponding to the intersection of the j-th scanning line 11a and the d-series data line 6a Signals VID1, VID2, VID3,..., VID120 are simultaneously output in correspondence with the first, second, third,..., 120th data line group 6ag, and thereby the c series (3, 7, 11,. 479th column) data line 6a and applied to pixel electrode 9a of j row 3 column, j row 7 column, j row 11 column,..., J row 479 column, respectively, and d series (4 , 8, 12, ... 480th column Is supplied to the data line 6a of each j row 4 column, row j 8 column, row j 12 column, ..., it is applied to the pixel electrode 9a of the j rows 480 columns.

これにより、j行目の画素に対して、階調に応じた画像信号の電圧を書き込む動作が完了する。尚、画素電極9aに印加された電圧は、走査信号GjがLレベルになっても、液晶容量によって次の第(n+1)フレームの書き込みまで保持されることになる。   Thereby, the operation of writing the voltage of the image signal corresponding to the gradation to the pixel in the j-th row is completed. Note that the voltage applied to the pixel electrode 9a is held by the liquid crystal capacitor until the next (n + 1) th frame writing even when the scanning signal Gj becomes L level.

次に、図4に示すm番目のデータ線群6agに対応する4個のトランジスタ71の構成の一例について、図5及び図6を参照して説明する。図5は、互いに隣接する2つのトランジスタの構成を示す平面図であり、図6は、図5のA−A’断面図である。尚、図5及び図6では、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各層・各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。また、図6の断面部分では、図5に示す主要な構成要素が夫々配置される層についてのみ着目して、その構成を示してある。   Next, an example of the configuration of the four transistors 71 corresponding to the mth data line group 6ag shown in FIG. 4 will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a plan view showing the configuration of two transistors adjacent to each other, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. 5. In FIGS. 5 and 6, the scale of each layer / member is different for each layer / member so that each layer / member can be recognized on the drawing. Further, in the cross-sectional portion of FIG. 6, the configuration is shown by paying attention only to the layers in which the main components shown in FIG. 5 are arranged.

ここに、図4に示す4個のトランジスタ71は互いに同様の構成を有する。以下では、これら4個のトランジスタ71のうち、m番目のデータ線群6agにおけるa系列及びb系列のデータ線6aに対応する2つのトランジスタ71に着目してその構成をより詳細に説明する。   Here, the four transistors 71 shown in FIG. 4 have the same configuration. In the following, the configuration of the four transistors 71 will be described in more detail by focusing on two transistors 71 corresponding to the a-series and b-series data lines 6a in the m-th data line group 6ag.

図5において、2つのトランジスタ71は半導体層1aをそれぞれ有している。例えば、半導体層1aは、ポリシリコン膜からなる。そして、半導体層1a上に、トランジスタ71のゲート電極3aとして構成される第1ゲート配線部分701aが、図6における最下層に配置されている。第1ゲート配線部分701aは、例えば導電性のポリシリコン膜により形成される。尚、第1ゲート配線部分701a、及びそれよりも上層側に配置される第2ゲート配線部分701bから図4に示すゲート配線701が構成される。   In FIG. 5, two transistors 71 each have a semiconductor layer 1a. For example, the semiconductor layer 1a is made of a polysilicon film. A first gate wiring portion 701a configured as the gate electrode 3a of the transistor 71 is disposed on the lowermost layer in FIG. 6 on the semiconductor layer 1a. The first gate wiring portion 701a is formed of, for example, a conductive polysilicon film. Note that the gate wiring 701 shown in FIG. 4 is constituted by the first gate wiring portion 701a and the second gate wiring portion 701b disposed on the upper layer side.

図5又は図6において、第1ゲート配線701aより絶縁層12(図6参照)を介して上層側に、例えばアルミニウム(Al)を含む導電材料又はその他の金属膜によりそれぞれ形成される、中継層40、選択信号供給線6及びトランジスタ71のソース配線703が設けられる。中継層40は、絶縁層12に開口されたコンタクトホール86を介して第1ゲート配線部分701aと電気的に接続される。また、図4及び図5における画像信号線300の画像信号入力線310、及びトランジスタ71のドレイン配線705も、中継層40、選択信号供給線6、ソース配線703と同一層に配置される。ここで、「同一層」とは、夫々同一の導電材料から形成され、同時にパターニングされた配線等をいう。   In FIG. 5 or FIG. 6, the relay layers respectively formed from the first gate wiring 701 a via the insulating layer 12 (see FIG. 6) on the upper layer side, for example, with a conductive material containing aluminum (Al) or other metal film. 40, a selection signal supply line 6 and a source wiring 703 of the transistor 71 are provided. The relay layer 40 is electrically connected to the first gate wiring portion 701 a through a contact hole 86 opened in the insulating layer 12. In addition, the image signal input line 310 of the image signal line 300 and the drain wiring 705 of the transistor 71 in FIGS. 4 and 5 are also arranged in the same layer as the relay layer 40, the selection signal supply line 6, and the source wiring 703. Here, the “same layer” refers to a wiring or the like formed from the same conductive material and patterned at the same time.

図5又は図6において、中継層40、選択信号供給線6及びソース配線703より絶縁層15(図6参照)を介して上層側に、例えばアルミニウム(Al)を含む導電材料又はその他の金属膜によりそれぞれ形成される、第2ゲート配線部分701b及び画像信号線300の引出配線320が設けられる。尚、第2ゲート配線部分701bは、本発明に係る「ゲート配線部分」の一例である。第2ゲート配線部分701bは、絶縁層15に開口されたコンタクトホール81及び83を夫々介して、対応する選択信号供給線6及び中継層40の各々と電気的に接続される。即ち、第1ゲート配線部分701a及び第2ゲート配線部分701bは、コンタクトホール83及び86並びに中継層40を介して互いに電気的に接続される。   In FIG. 5 or FIG. 6, a conductive material or other metal film containing, for example, aluminum (Al) is provided above the relay layer 40, the selection signal supply line 6 and the source wiring 703 via the insulating layer 15 (see FIG. 6). The second gate wiring portion 701b and the lead-out wiring 320 for the image signal line 300, which are formed respectively by the above, are provided. The second gate wiring portion 701b is an example of the “gate wiring portion” according to the present invention. The second gate wiring portion 701b is electrically connected to each of the corresponding selection signal supply line 6 and relay layer 40 through contact holes 81 and 83 opened in the insulating layer 15, respectively. That is, the first gate wiring portion 701a and the second gate wiring portion 701b are electrically connected to each other through the contact holes 83 and 86 and the relay layer 40.

また、引出配線320において、トランジスタ71に向かって(言い換えれば、Y方向に沿って)分岐された画像信号線部分320aは、図6において絶縁層15に開孔されたコンタクトホール85を介してソース配線703と電気的に接続される。尚、第2ゲート配線部分701b及び引出配線320と該第2ゲート配線部分701b及び引出配線320より上層側の図示しない導電層とは、絶縁層17により層間絶縁される。   Further, in the lead-out wiring 320, the image signal line portion 320a branched toward the transistor 71 (in other words, along the Y direction) is sourced through the contact hole 85 opened in the insulating layer 15 in FIG. It is electrically connected to the wiring 703. The second gate wiring portion 701 b and the lead wiring 320 and the conductive layer (not shown) above the second gate wiring portion 701 b and the lead wiring 320 are interlayer-insulated by the insulating layer 17.

本実施形態では、各トランジスタ71について、第2ゲート配線部分701b及び画像信号線部分320aは互いに同一層に配置され、同一方向(即ち、Y方向)に沿って近接して並走するように配置されている。尚、図5又は図6に示す構成に限定されず、例えば第2ゲート配線部分701b及び画像信号線部分320aは互いに異なる層に配置されるようにしてもよい。   In the present embodiment, for each transistor 71, the second gate wiring portion 701 b and the image signal line portion 320 a are arranged in the same layer and arranged so as to run close to each other along the same direction (that is, the Y direction). Has been. Note that the configuration is not limited to the configuration illustrated in FIG. 5 or 6, and for example, the second gate wiring portion 701 b and the image signal line portion 320 a may be disposed in different layers.

各トランジスタ71について、第2ゲート配線部分701b及び画像信号線部分320aを比較すれば、図5に示すように、画像信号線部分320aの幅d1は第2ゲート配線部分701bの幅d2よりも広くなるように形成されている。よって、画像信号線部分320aを第2ゲート配線部分701bと同等の幅で形成する場合と比較して、画像信号線部分320aの配線抵抗をより低くすることが可能となる。従って、同一層において互いに近接して並走する第2ゲート配線部分701bとの間の電気的な悪影響を、画像信号線部分320aにおいてより低減することができる。   For each transistor 71, comparing the second gate wiring portion 701b and the image signal line portion 320a, as shown in FIG. 5, the width d1 of the image signal line portion 320a is wider than the width d2 of the second gate wiring portion 701b. It is formed to become. Therefore, the wiring resistance of the image signal line portion 320a can be further reduced as compared with the case where the image signal line portion 320a is formed with the same width as the second gate wiring portion 701b. Therefore, an electrical adverse effect between the second gate wiring portion 701b that runs close to each other in the same layer can be further reduced in the image signal line portion 320a.

従って、2つのトランジスタ71の各々について、画像信号線部分320aに供給される画像信号VID(m)に、選択信号Sel1及びSel2の各々の系列毎にノイズを低減することができ、表示画面において顕著に視認されない程度に系列スジを低減することが可能となる。   Therefore, for each of the two transistors 71, noise can be reduced for each series of the selection signals Sel1 and Sel2 in the image signal VID (m) supplied to the image signal line portion 320a, which is remarkable on the display screen. It is possible to reduce the series stripes to the extent that they are not visually recognized.

また、図5及び図6において、データ線群6agと対応する4個のトランジスタ71のうち2つのトランジスタ71に着目して説明したが、この2つのトランジスタ71と同様に好ましくは他の2つのトランジスタ71についても構成されるようにしてもよい。従って、他の2つのトランジスタ71についても、画像信号線部分320aにおける画像信号VID(m)に、選択信号Sel3及びSel4の各々の系列毎にノイズを低減することができる。   In FIGS. 5 and 6, the description has been given focusing on the two transistors 71 among the four transistors 71 corresponding to the data line group 6ag, but preferably the other two transistors as well as the two transistors 71. 71 may also be configured. Therefore, also in the other two transistors 71, the noise can be reduced for each series of the selection signals Sel3 and Sel4 in the image signal VID (m) in the image signal line portion 320a.

従って、以上説明したような液晶装置100によれば、ハイブリッド方式により高品質な画像を表示することが可能となる。   Therefore, according to the liquid crystal device 100 as described above, it is possible to display a high-quality image by the hybrid method.

尚、デマルチプレクサ7における複数のトランジスタ71について、選択信号Sel1〜Sel4の4系列のうち、系列スジが顕著となる系列に対応するトランジスタ71のみについて、第2ゲート配線部分701b及び画像信号線部分320aを上述したように形成するようにしてもよい。この場合においては、より容易で且つ効果的に系列スジを低減することができる。   For the plurality of transistors 71 in the demultiplexer 7, the second gate wiring portion 701 b and the image signal line portion 320 a are only selected for the transistors 71 corresponding to the series in which the series stripes are significant among the four series of selection signals Sel 1 to Sel 4. May be formed as described above. In this case, the sequence line can be reduced more easily and effectively.

次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。ここに図7は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。以下では、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。   Next, the case where the liquid crystal device which is the above-described electro-optical device is applied to various electronic devices will be described. FIG. 7 is a plan view showing a configuration example of the projector. Hereinafter, a projector using the liquid crystal device as a light valve will be described.

図7に示されるように、プロジェクタ1100内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット1102が設けられている。このランプユニット1102から射出された投射光は、ライトガイド1104内に配置された4枚のミラー1106及び2枚のダイクロイックミラー1108によってRGBの3原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル1110R、1110B及び1110Gに入射される。   As shown in FIG. 7, a projector 1100 includes a lamp unit 1102 made of a white light source such as a halogen lamp. The projection light emitted from the lamp unit 1102 is separated into three primary colors of RGB by four mirrors 1106 and two dichroic mirrors 1108 arranged in the light guide 1104, and serves as a light valve corresponding to each primary color. The light enters the liquid crystal panels 1110R, 1110B, and 1110G.

液晶パネル1110R、1110B及び1110Gの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるR、G、Bの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム1112に3方向から入射される。このダイクロイックプリズム1112においては、R及びBの光が90度に屈折する一方、Gの光が直進する。従って、各色の画像が合成される結果、投射レンズ1114を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。   The configurations of the liquid crystal panels 1110R, 1110B, and 1110G are the same as those of the liquid crystal device described above, and are driven by R, G, and B primary color signals supplied from the image signal processing circuit. The light modulated by these liquid crystal panels enters the dichroic prism 1112 from three directions. In the dichroic prism 1112, R and B light is refracted at 90 degrees, while G light travels straight. Therefore, as a result of the synthesis of the images of the respective colors, a color image is projected onto the screen or the like via the projection lens 1114.

尚、図7を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータや、携帯電話、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。   In addition to the electronic device described with reference to FIG. 7, a mobile personal computer, a mobile phone, a liquid crystal television, a viewfinder type, a monitor direct view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, and an electronic notebook , Calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, devices with touch panels, and the like. Needless to say, the present invention can be applied to these various electronic devices.

また、本発明は上述の各実施形態で説明した液晶装置以外にも反射型液晶装置(LCOS)等にも適用可能である。   In addition to the liquid crystal devices described in the above embodiments, the present invention can be applied to a reflective liquid crystal device (LCOS) or the like.

本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置及び電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be appropriately changed without departing from the spirit or concept of the invention that can be read from the claims and the entire specification. Electronic devices are also included in the technical scope of the present invention.

液晶装置の全体構成を示す平面図である。It is a top view which shows the whole structure of a liquid crystal device. 図1のH−H´線での断面図である。It is sectional drawing in the HH 'line of FIG. 本実施形態に係る液晶装置の電気的な構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the electrical structure of the liquid crystal device which concerns on this embodiment. デマルチプレクサにおける一のデータ線群に対応するトランジスタに着目して、その構成をより詳細に示す回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing in more detail the configuration focusing on a transistor corresponding to one data line group in a demultiplexer. 互いに隣接する2つのトランジスタの構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of two transistors adjacent to each other. 図5のA−A’断面図である。It is A-A 'sectional drawing of FIG. 液晶装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクタの構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the projector which is an example of the electronic device to which a liquid crystal device is applied.

符号の説明Explanation of symbols

6…選択信号供給線、6a…データ線、9a…画素電極、7…デマルチプレクサ、10…素子基板、10a…画像表示領域、11a…走査線、71…トランジスタ、320a…画像信号線部分、701b…第2ゲート配線部分   6 ... selection signal supply line, 6a ... data line, 9a ... pixel electrode, 7 ... demultiplexer, 10 ... element substrate, 10a ... image display area, 11a ... scanning line, 71 ... transistor, 320a ... image signal line portion, 701b ... Second gate wiring part

Claims (3)

基板上に、
複数の画素電極と、
該複数の画素電極が設けられた画素領域で互いに交差する複数の走査線及び複数のデータ線と、
前記画素領域の周辺に位置する周辺領域に前記データ線毎に1つずつ設けられると共にトランジスタから夫々なり、N本(但し、Nは2以上の整数)の前記データ線を一群とするデータ線群毎に、N系列の選択信号に基づいて前記データ線群に属するN本のデータ線を互いに異なるタイミングで夫々選択して画像信号を出力する複数の選択スイッチと、
前記周辺領域に前記走査線が延びる第1方向に沿って形成され、前記選択信号を前記N系列の各系列毎に供給するN本の選択信号供給線と、
前記選択スイッチのゲート及び前記N本の選択信号供給線のうち対応する一本の選択信号供給線に電気的に接続されると共に、前記第1方向に交わる第2方向に沿って延びるゲート配線部分を夫々有する複数のゲート配線と、
前記データ線群に対応するN個の前記選択スイッチ毎に設けられ、且つ、前記N個の選択スイッチの各々のソースに電気的に接続され、前記第2方向に沿って延びると共に前記ゲート配線部分よりも広い配線幅で形成された画像信号線部分を夫々有する複数の画像信号線と
を備えることを特徴とする電気光学装置。
On the board
A plurality of pixel electrodes;
A plurality of scanning lines and a plurality of data lines intersecting each other in a pixel region provided with the plurality of pixel electrodes;
One data line group is provided for each of the data lines in the peripheral area located around the pixel area, and each of the data lines includes N transistors (where N is an integer of 2 or more). A plurality of selection switches each for selecting N data lines belonging to the data line group at different timings based on N series selection signals and outputting image signals;
N selection signal supply lines that are formed along a first direction in which the scanning lines extend in the peripheral region and supply the selection signal for each of the N series;
A gate wiring portion that is electrically connected to a corresponding one of the selection switch gate and the N selection signal supply lines and extends along a second direction intersecting the first direction. A plurality of gate wirings each having
Provided for each of the N selection switches corresponding to the data line group, and electrically connected to the source of each of the N selection switches, extending along the second direction, and the gate wiring portion And a plurality of image signal lines each having an image signal line portion formed with a wider wiring width.
前記画像信号線部分は、前記ゲート配線部分と互いに同一層に配置されることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, wherein the image signal line portion is disposed on the same layer as the gate wiring portion. 請求項1又は2に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
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