JP2009192745A - Electrooptical device, driving method of the electrooptical device and electronic equipment - Google Patents

Electrooptical device, driving method of the electrooptical device and electronic equipment Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To significantly improve the display characteristics of a non-selected pixel, by minimizing influence on the non-selected pixel, of fluctuation in data line potential caused by writing on selected pixelw. <P>SOLUTION: An electrooptical device (liquid crystal display, or the like) includes: n (n is an integer of one or more) lines of main data lines (MDL); m (m is an integer of 1 or larger) lines of sub-data lines (SDLn) which are provided corresponding to a k-th (1≤k≤n) main data line (MDLn) in the n lines of main data lines; m pieces of first switches (SW1), provided between the k-th main data lines and each of the m lines of sub-data lines, which switch electrical connection/non-connection between the k-th main data line and each of the m lines of sub-data lines; and i (i is an integer of 1 or larger) pieces of pixel circuits which are connected to each of m lines of sub-data lines. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、電気光学装置(例えば、液晶表示装置や有機EL表示装置)、電気光学装置の駆動方法および電子機器等に関する。   The present invention relates to an electro-optical device (for example, a liquid crystal display device or an organic EL display device), a driving method of the electro-optical device, an electronic apparatus, and the like.

液晶表示装置において、各画素の保持電圧(表示電圧)を変動させる要因として、各画素に設けられるトランスファースイッチとしてのMOSトランジスタのゲート・ドレイン間の寄生容量に起因するフィードスルーが知られている。フィードスルー対策の一例が特許文献1に記載されている。   In a liquid crystal display device, as a factor that fluctuates the holding voltage (display voltage) of each pixel, feedthrough due to a parasitic capacitance between the gate and drain of a MOS transistor as a transfer switch provided in each pixel is known. An example of a countermeasure for feedthrough is described in Patent Document 1.

また、DRAM(ダイナミックRAM)において、データ線を階層化する構成が特許文献2に記載されている。   Further, Patent Document 2 describes a configuration in which data lines are hierarchized in a DRAM (dynamic RAM).

また、シリコン基板を用いたICにおいて、アルファ線によって発生する電荷を吸収するための構成(すなわち、イオン注入によって形成された水素拡散層によって製造プロセス的に対策する構成)は、特許文献3に記載されている。
特開2002-341313号公報 特開平5−54634号公報 特開平9−129843号公報
Further, in an IC using a silicon substrate, a configuration for absorbing charges generated by alpha rays (that is, a configuration in which a hydrogen diffusion layer formed by ion implantation is used as a manufacturing process) is described in Patent Document 3. Has been.
JP 2002-341313 A JP-A-5-54634 Japanese Patent Laid-Open No. 9-129843

例えば液晶表示装置において、より高精細な画像表示を実現しようとすると、上述のフィードスルーの他に、解決しなければならない新たな課題が生じる。以下、本発明の発明者によって、本発明前に明らかとされた、新たな課題について説明する。以下の説明では、図9を参照する。図9(A)〜図9(D)は、本発明前に明らかとされた、新たな課題について説明するための図である。   For example, in a liquid crystal display device, when it is intended to realize a higher-definition image display, a new problem to be solved arises in addition to the above feedthrough. Hereinafter, a new problem that has been clarified by the inventors of the present invention before the present invention will be described. In the following description, reference is made to FIG. FIG. 9A to FIG. 9D are diagrams for explaining a new problem that has been clarified before the present invention.

(1)課題1(データ線の電位変動が非選択画素の走査線電位を変動させること)
データ線上には複数の画素回路が接続されている。各画素回路には、トランスファースゲートとしてのMOSトランジスタが設けられ、そのMOSトランジスタのゲート・ソース(あるいはドレイン)間には寄生容量が存在する。よって、選択されている画素への書き込みのためにデータ線の電位が変動すると、そのデータ線の電位変動が、非選択状態の画素のMOSトランジスタのゲート・ソース(ドレイン)間の寄生容量によるカップリングによって、非選択状態の走査線電位を変動させる。その結果、非選択状態のMOSトランジスタのリーク電流を増加させる。画素トランジスタのリーク電流は、保持電圧の低下や上昇といった電位変化を引き起こし、表示特性に影響を与える。
(1) Problem 1 (Fluctuation in potential of data line causes fluctuation in scanning line potential of non-selected pixel)
A plurality of pixel circuits are connected on the data line. Each pixel circuit is provided with a MOS transistor as a transfer gate, and a parasitic capacitance exists between the gate and source (or drain) of the MOS transistor. Therefore, when the potential of the data line fluctuates for writing to the selected pixel, the fluctuation of the data line potential is caused by the parasitic capacitance between the gate and source (drain) of the MOS transistor of the non-selected pixel. The scanning line potential in the non-selected state is changed by the ring. As a result, the leakage current of the unselected MOS transistor is increased. The leak current of the pixel transistor causes a potential change such as a decrease or an increase in holding voltage, and affects display characteristics.

図9(A)を用いて、具体的に説明する。図9(A)には第1および第2の画素(PIX(A)およびPIX(B))が示されている。各画素には、トランスファーゲートとしてのNMOSトランジスタ(画素トランジスタ)M100a,M100bが設けられている。   This will be specifically described with reference to FIG. FIG. 9A shows the first and second pixels (PIX (A) and PIX (B)). Each pixel is provided with NMOS transistors (pixel transistors) M100a and M100b as transfer gates.

図9(A)において、GLa,GLbは走査線であり、DLはデータ線であり、VDLはデータ線DLを経由して各画素に供給される画像信号の電圧(データ線電圧)である。また、Cgd(s)はゲート・ドレイン間の寄生容量であり、Cgs(d)はゲート・ソース間の寄生容量であり、I(LE)はリーク電流であり、I(WR)は書き込み電流であり、LCは液晶素子(液晶容量)であり、Cstは保持容量であり、VCOMは保持容量Cstの一端に印可される基準電圧であり、LCOMは、液晶素子(液晶容量)の下側の画素電極に印加される基準電圧(例えば、LCOMはVCOMに等しく設定される)である。   In FIG. 9A, GLa and GLb are scanning lines, DL is a data line, and VDL is a voltage (data line voltage) of an image signal supplied to each pixel via the data line DL. Cgd (s) is a gate-drain parasitic capacitance, Cgs (d) is a gate-source parasitic capacitance, I (LE) is a leakage current, and I (WR) is a write current. LC is a liquid crystal element (liquid crystal capacitor), Cst is a storage capacitor, VCOM is a reference voltage applied to one end of the storage capacitor Cst, and LCOM is a lower pixel of the liquid crystal element (liquid crystal capacitor) A reference voltage applied to the electrode (eg, LCOM is set equal to VCOM).

第2の画素PIX(B)に画像データを書き込む際に、データ線DLの電圧変化が、第1の画素PIX(A)内のNMOSトランジスタM100aに寄生する容量Cgd(s)を経由して走査線GLaに伝達される。よって、非選択状態の走査線GLaの電位(つまり、NMOSトランジスタM100aのゲート電位)が変動する。このゲート電位変動によって、リーク電流I(LE)の電流量が変動する。よって、第1の画素PIX(A)内の保持容量Cstで保持されている電圧(表示電圧)が、そのリーク電流I(LE)に起因して変動し、画像表示に影響を与える。   When image data is written to the second pixel PIX (B), the voltage change of the data line DL is scanned via the capacitance Cgd (s) parasitic on the NMOS transistor M100a in the first pixel PIX (A). Is transmitted to the line GLa. Therefore, the potential of the unselected scanning line GLa (that is, the gate potential of the NMOS transistor M100a) varies. Due to this gate potential fluctuation, the amount of leakage current I (LE) varies. Therefore, the voltage (display voltage) held in the holding capacitor Cst in the first pixel PIX (A) varies due to the leakage current I (LE), and affects the image display.

(2)課題2(NMOSトランジスタのソース・ドレイン間の電圧が変化することによるリーク電流の変動)   (2) Problem 2 (Leakage current fluctuation due to change in voltage between source and drain of NMOS transistor)

データ線を通して書き込まれる電位は画素毎に任意に決まるため、非選択状態の画素を構成するNMOSトランジスタ(トランスファーゲート)のソース・ドレイン間に印加される電圧は画素毎に様々な電圧値となる。様々なソース・ドレイン間電圧条件によって画素毎にトランジスタのリーク電流量が異なる。例えば、同じ電圧を保持している画素が複数、あったとしても、各画素のデータ線の電圧が時間経過と共に変化すれば、各画素内のNMOSトランジスタのソース・ドレイン間の電圧が時間経過と共に様々に変化する。よって、画素毎にリーク電流の量が異なる結果となる。このことが表示特性に影響を与える。課題1および課題2の現象が同時に生じることによって、表示特性が変動する。   Since the potential written through the data line is arbitrarily determined for each pixel, the voltage applied between the source and drain of the NMOS transistor (transfer gate) configuring the non-selected pixel has various voltage values for each pixel. The amount of leakage current of the transistor varies from pixel to pixel depending on various source-drain voltage conditions. For example, even if there are multiple pixels holding the same voltage, if the voltage of the data line of each pixel changes with time, the voltage between the source and drain of the NMOS transistor in each pixel will change with time. It changes variously. Therefore, the result is that the amount of leakage current differs for each pixel. This affects display characteristics. When the problems 1 and 2 occur simultaneously, the display characteristics change.

ここで、図9(B)を参照する。図9(B)において、GLa〜GLdは走査線であり、DL1,DL2はデータ線であり、A1〜D2は画素であり、PIX(g1)は第1の画素グループであり、PIX(g2)は第2の画素グループであり、PIX(g3)は第3の画素グループである。走査線GLaを選択して第1の画素グループPIX(g1)(つまり、画素A1および画素A2)に、例えば、電圧V1を書き込んだとする。次に、走査線GLb〜GLdを順次、選択していき、第2の画素グループPIX(g2)(つまり、画素B1〜画素D1)に、例えば、電圧V2(>V1)を書き込み、同様に、第3の画素グループPIX(g3)(つまり、画素B2〜画素D2)に、例えば、電圧V0(<V1)を書き込んだとする。この場合、第1の画素グループPIX(g1)に含まれる2つの画素(画素A1および画素A2)の保持電圧は異なる電圧となる。つまり、画素A1およびA2で保持されている電位は、V1(A2)>V1(A1)となる。同じ電圧V1を書き込んだのであるから、画素A1および画素A2の保持電圧は同じであるはずであるが、データ線の電位の変動の影響を受けて、画素A1および画素A2の各々の保持電圧は、異なる電圧値となってしまう。   Here, reference is made to FIG. In FIG. 9B, GLa to GLd are scanning lines, DL1 and DL2 are data lines, A1 to D2 are pixels, PIX (g1) is a first pixel group, and PIX (g2) Is the second pixel group, and PIX (g3) is the third pixel group. For example, it is assumed that the scanning line GLa is selected and the voltage V1 is written in the first pixel group PIX (g1) (that is, the pixel A1 and the pixel A2). Next, the scanning lines GLb to GLd are sequentially selected, and for example, the voltage V2 (> V1) is written to the second pixel group PIX (g2) (that is, the pixels B1 to D1). For example, it is assumed that the voltage V0 (<V1) is written in the third pixel group PIX (g3) (that is, the pixel B2 to the pixel D2). In this case, the holding voltages of the two pixels (pixel A1 and pixel A2) included in the first pixel group PIX (g1) are different voltages. That is, the potential held in the pixels A1 and A2 is V1 (A2)> V1 (A1). Since the same voltage V1 is written, the holding voltage of the pixel A1 and the pixel A2 should be the same, but the holding voltage of each of the pixel A1 and the pixel A2 is affected by the fluctuation of the potential of the data line. The voltage value will be different.

(3)課題3(表示装置におけるα線(光)照射に対する対策)
表示装置(例えば、液晶表示装置や有機EL表示装置)においては、α線(光)照射に対する対策は特に採られていないのが現状である。但し、より高精細な画像表示をめざす場合、表示装置(例えば、反射式液晶(Liquid Crystal On Silicon、LCOS)パネル)においても、α線(光)照射に対する対策を施すのが好ましい。
(3) Problem 3 (Measures against α-ray (light) irradiation in the display device)
In display devices (for example, liquid crystal display devices and organic EL display devices), there is currently no particular countermeasure against α-ray (light) irradiation. However, when aiming at higher-definition image display, it is preferable to take measures against α-ray (light) irradiation in a display device (for example, a reflective liquid crystal (Liquid Crystal On Silicon, LCOS) panel).

図9(C)および図9(D)を参照して具体的に説明する。図9(C)は画素の構成例を示している。図9(C)において、GLは走査線であり、DLはデータ線であり、M100は画素トランジスタとしてのNMOSトランジスタであり、Cstは保持容量であり、LCは液晶素子(液晶容量)である。図9(D)は、図9(C)に示されるNMOSトランジスタの断面構造の一例を示している。図9(D)において、P型基板200上に、ソースおよびドレインとなるN層202および204と、P型基板200を接地するためのP層206aおよび206bとが設けられる。P型基板200の表面はフィールド酸化膜208a,208bによって覆われている。α線(光)の照射によって発生した電子正孔対のうち、正孔はP型基板200を接地するためのP層206aおよび206bに吸収されるが、電子は、ソースおよびドレインとなるN層202および204に向けて移動する。これによって、N層204の電圧が変動し、保持容量Cstの保持電圧が変動する。 This will be specifically described with reference to FIGS. 9C and 9D. FIG. 9C illustrates an example of a pixel structure. In FIG. 9C, GL is a scanning line, DL is a data line, M100 is an NMOS transistor as a pixel transistor, Cst is a holding capacitor, and LC is a liquid crystal element (liquid crystal capacitor). FIG. 9D illustrates an example of a cross-sectional structure of the NMOS transistor illustrated in FIG. In FIG. 9 (D), the above P + -type substrate 200, an N + layer 202 and 204 serving as the source and drain, are provided and the P + layer 206a and 206b for grounding the P + -type substrate 200. The surface of the P + type substrate 200 is covered with field oxide films 208a and 208b. Of the electron-hole pairs generated by α-ray (light) irradiation, holes are absorbed by the P + layers 206a and 206b for grounding the P + -type substrate 200, but the electrons become the source and drain. Move towards N + layers 202 and 204. As a result, the voltage of the N + layer 204 varies, and the retention voltage of the retention capacitor Cst varies.

このように、α線や光の入射によって発生した電子および正孔は、画素トランジスタ(NMOSトランジスタ)のソース(ドレイン)へ引き寄せられ、画素の保持電圧を変化させる原因となり、このことが表示特性に影響を与える可能性がある。なお、上述のとおり、特許文献3では、α線によって発生する電荷を、イオン注入によって形成された水素拡散層によって製造プロセス的に対策している。α線対策を製造プロセス的に行うと、製造プロセスが複雑化し、コストアップが生じるのは否めない。   In this way, electrons and holes generated by the incidence of α-rays and light are attracted to the source (drain) of the pixel transistor (NMOS transistor), causing a change in the holding voltage of the pixel. May have an impact. Note that, as described above, in Patent Document 3, the charge generated by the α-ray is dealt with in the manufacturing process by the hydrogen diffusion layer formed by ion implantation. If α-ray countermeasures are implemented in the manufacturing process, the manufacturing process becomes complicated and the cost increases.

本発明はこのような考察に基づいてなされたものである。本発明の幾つかの実施形態によれば、例えば、選択画素への書き込みによるデータ線電位の変動が非選択画素に及ぼす影響を最小化し、非選択画素の表示特性を格段に向上させることが可能である。   The present invention has been made based on such consideration. According to some embodiments of the present invention, for example, it is possible to minimize the influence of fluctuations in the data line potential due to writing to the selected pixel on the non-selected pixel, and to significantly improve the display characteristics of the non-selected pixel. It is.

(1)本発明の電気光学装置の一態様では、n本(nは1以上の整数)のメインデータ線と、前記n本のメインデータ線のうちの第kのメインデータ線(1≦k≦n)に対応して設けられる、m本(mは1以上の整数)のサブデータ線と、 前記第kのメインデータ線と前記m本のサブデータ線の各々との間に設けられ、前記第kのメインデータ線と前記m本のサブデータ線の各々との電気的な接続/非接続を切り換えるためのm個の第1のスイッチと、前記一本のサブデータ線の各々に接続されるi個(iは1以上の整数)の画素回路と、を含む。   (1) In one aspect of the electro-optical device of the present invention, n (n is an integer of 1 or more) main data lines and the k-th main data line (1 ≦ k) of the n main data lines. ≦ n), provided between m (m is an integer of 1 or more) sub-data lines, and each of the k-th main data line and the m sub-data lines, M first switches for switching electrical connection / disconnection between the k-th main data line and each of the m sub-data lines, and each of the one sub-data lines. I pixel circuits (i is an integer of 1 or more).

本態様では、データ線を階層化する。すなわち、1本のメインデータ線に対して、少なくとも1本のサブデータ線を設ける。1本のサブデータ線には、少なくとも1つの画素回路が接続される。1本のメインデータ線とサブデータ線との間には、第1のスイッチが設けられる。この第1のスイッチのオン/オフによって、メインデータ線とサブデータ線との電気的接続/非接続を切り換えることができる。第1のスイッチをオンさせれば、メインデータ線およびサブデータ線を経由して選択状態の画素に画素電圧を書き込むことができる。一方、サブデータ線に接続される少なくとも一つの画素のすべてが非選択状態のとき、第1のスイッチをオフすることによって、サブデータ線をメインデータ線から電気的に分離することができる。この分離によって、選択状態の画素に対する書き込み電圧によってデータ線電位が変動したとしても、その電位変動は、サブデータ線には伝達されず、よって、非選択状態の画素は悪影響を受けない。すなわち、画素トランジスタの寄生容量に起因する走査線電位の変動が生じない。よって、非選択状態の画素の表示特性を向上させることができる。   In this aspect, the data lines are hierarchized. That is, at least one sub data line is provided for one main data line. At least one pixel circuit is connected to one sub data line. A first switch is provided between one main data line and sub data line. The electrical connection / non-connection between the main data line and the sub data line can be switched by turning on / off the first switch. If the first switch is turned on, the pixel voltage can be written to the selected pixel via the main data line and the sub data line. On the other hand, when all of at least one pixel connected to the sub data line is in a non-selected state, the sub data line can be electrically separated from the main data line by turning off the first switch. By this separation, even if the data line potential fluctuates due to the write voltage for the selected pixel, the potential fluctuation is not transmitted to the sub data line, and thus the non-selected pixel is not adversely affected. That is, the scanning line potential does not vary due to the parasitic capacitance of the pixel transistor. Therefore, the display characteristics of the non-selected pixel can be improved.

(2)本発明の電気光学装置の他の態様では、前記m本のサブデータ線の各々への、非選択サブデータ線電圧の供給/非供給を切り換えるためのm個の第2のスイッチを有し、前記m個の第1のスイッチの各々は、前記m本のサブデータ線のうちの対応するサブデータ線が選択状態のときにオンし、非選択状態のときにオフし、かつ、前記m個の第2のスイッチの各々は、前記m本のサブデータ線のうちの対応するサブデータ線が選択状態のときにオフし、非選択状態のときにオンする。   (2) In another aspect of the electro-optical device of the present invention, m second switches for switching supply / non-supply of the non-selected sub data line voltage to each of the m sub data lines are provided. Each of the m first switches is turned on when a corresponding sub-data line of the m sub-data lines is in a selected state, turned off when in a non-selected state, and Each of the m second switches is turned off when the corresponding sub-data line among the m sub-data lines is selected, and turned on when the sub-data line is not selected.

非選択状態のサブデータ線に対して、第2のスイッチを経由して非選択サブデータ線電圧を供給する。第1のスイッチは、上述のとおり、対応するサブデータ線が選択状態のとき(つまり、そのサブデータ線に接続される画素回路の少なくとも1つが選択されるとき)にオンし、非選択状態のとき(つまり、そのサブデータ線に接続される画素回路の全部が非選択のとき)にオフする。一方、第2のスイッチは第1のスイッチに対して相補的に(逆相で)オン/オフされる。つまり、第2のスイッチは、対応するサブデータ線が非選択状態のときにオンして非選択サブデータ線電圧(VR)を非選択状態のサブデータ線に供給し、対応するサブデータ線が選択状態のときにオフする。非選択状態のサブデータ線はメインデータ線から電気的に分離されると共に、メインデータ線の電圧とは異なる一定の電圧(VR:非選択サブデータ線電圧)に維持されるため、画素トランジスタのリーク電流の電流量は、画素に保持されている電圧にのみ依存することになり、メインデータ線の電位の影響は排除される。よって、サブデータ線に接続されている非選択状態の画素は、より安定した非選択状態を保つことになり、メインデータ線に電気的に接続されている選択状態の画素からの電気的ノイズ等の影響が格段に軽減される。よって、従来に比べて、非選択状態の画素の表示特性の変動が低減され、表示品質が向上する。   The non-selected sub data line voltage is supplied to the non-selected sub data line via the second switch. As described above, the first switch is turned on when the corresponding sub data line is in the selected state (that is, when at least one of the pixel circuits connected to the sub data line is selected), and is in the non-selected state. (That is, when all the pixel circuits connected to the sub data line are not selected). On the other hand, the second switch is turned on / off in a complementary manner (in reverse phase) with respect to the first switch. In other words, the second switch is turned on when the corresponding sub data line is in the non-selected state, and supplies the non-selected sub data line voltage (VR) to the sub data line in the non-selected state. Turns off when selected. The non-selected sub data line is electrically isolated from the main data line and is maintained at a constant voltage (VR: non-selected sub data line voltage) different from the voltage of the main data line. The amount of leakage current depends only on the voltage held in the pixel, and the influence of the potential of the main data line is eliminated. Therefore, the non-selected pixel connected to the sub data line maintains a more stable non-selected state, such as electrical noise from the selected pixel electrically connected to the main data line. Will be significantly reduced. Therefore, as compared with the conventional case, the variation in the display characteristics of the non-selected pixel is reduced, and the display quality is improved.

(3)本発明の電気光学装置の他の態様では、前記非選択サブデータ線電圧は、前記第kのメインデータ線を経由して伝達される画像信号の最大電圧と最小電圧との中点の電圧である。   (3) In another aspect of the electro-optical device according to the aspect of the invention, the non-selected sub data line voltage may be a midpoint between the maximum voltage and the minimum voltage of the image signal transmitted via the kth main data line. Is the voltage.

非選択サブデータ線電圧(VR)を、画素へ書き込む電圧の最大値および最小値の中点の電位((最大値−最小値)/2)に相当する電圧に設定することによって、画素トランジスタからのリーク電流の最大値を、従来に比べて抑制することができる。例えば、画素に書き込む電圧の最大値を5Vとし、最小値を0Vとする。従来なら、非選択状態の画素トランジスタ(例えば、NMOSトランジスタ)のソース・ドレインには、最大で5Vの電圧がかかる可能性がある(データ線電圧が0Vあるいは5Vであり、画素の保持電圧が5Vあるいは0Vであるとき)。本態様の場合、非選択サブデータ線電圧(VR)は例えば2.5Vであるため、画素の保持電圧が0Vあるいは5Vのいずれの場合でも、画素トランジスタのソース・ドレイン間にかかる電圧の最大値は2.5Vであり、従来のソース・ドレイン間電圧の最大値の半分となる。よって、画素トランジスタのリーク電流も、従来に比べて抑制される。また、サブデータ線が非選択状態から選択状態となるとき、サブデータ線は、あらかじめ、画像信号の最大値および最小値の中点の電圧(すなわちVR)に設定されているため、画像信号の電圧がどのような電圧であったとしても、サブデータ線の電圧の変動幅(振幅)は最小となる。サブデータ線の振幅が最小化されることによって、そのサブデータ線に接続される複数の画素間における相互の影響(つまり、選択状態の画素の書き込み電圧によるサブデータ線の電位変動が、非選択状態の画素の画素トランジスタの寄生容量を経由して伝達され、その非選択状態の画素の保持電圧が変動すること)が軽減されるという効果も得られる。   By setting the non-selected sub data line voltage (VR) to a voltage corresponding to the midpoint potential ((maximum value−minimum value) / 2) of the maximum value and the minimum value of the voltage written to the pixel, The maximum leakage current can be suppressed as compared with the conventional case. For example, the maximum value of the voltage written to the pixel is 5V, and the minimum value is 0V. Conventionally, there is a possibility that a maximum voltage of 5V is applied to the source / drain of a non-selected pixel transistor (for example, NMOS transistor) (the data line voltage is 0V or 5V, and the pixel holding voltage is 5V). Or when it is 0V). In this embodiment, since the non-selected sub data line voltage (VR) is 2.5 V, for example, the maximum value of the voltage applied between the source and drain of the pixel transistor regardless of whether the pixel holding voltage is 0 V or 5 V Is 2.5 V, which is half the maximum value of the conventional source-drain voltage. Therefore, the leakage current of the pixel transistor is also suppressed compared to the conventional case. Further, when the sub data line is changed from the non-selected state to the selected state, the sub data line is set in advance to the midpoint voltage (that is, VR) of the maximum value and the minimum value of the image signal. Regardless of the voltage, the fluctuation range (amplitude) of the voltage of the sub data line is minimized. By minimizing the amplitude of the sub data line, the mutual influence between the plurality of pixels connected to the sub data line (that is, the potential fluctuation of the sub data line due to the write voltage of the selected pixel is not selected) It is also possible to obtain an effect that the transmission is performed via the parasitic capacitance of the pixel transistor of the pixel in the state and the holding voltage of the pixel in the non-selected state is reduced).

(4)本発明の電気光学装置の他の態様では、前記画像信号の電位極性は、所定電位を基準として周期的に切り換わり、前記非選択サブデータ線電圧は、前記画像信号が正極性である場合、前記第kのメインデータ線を経由して伝達される、前記正極性の画像信号の最大電圧と最小電圧の中点の電圧であり、前記画像信号が負極性である場合、前記第kのメインデータ線を経由して伝達される、前記負極性の画像信号の最大電圧と最小電圧との中点の電圧である。   (4) In another aspect of the electro-optical device according to the aspect of the invention, the potential polarity of the image signal is periodically switched based on a predetermined potential, and the non-selected sub data line voltage is positive when the image signal is positive. In some cases, the voltage is a midpoint voltage between the maximum voltage and the minimum voltage of the positive image signal transmitted via the kth main data line, and the image signal is negative. This is the midpoint voltage between the maximum voltage and the minimum voltage of the negative image signal transmitted through the k main data lines.

これによって、メインデータ線を経由して伝達される画像信号の電圧極性が周期的に反転する場合(つまり、画素を交流駆動する場合)でも、上記(3)と同様の作用、効果を得ることができる。   As a result, even when the voltage polarity of the image signal transmitted via the main data line is periodically inverted (that is, when the pixel is AC driven), the same operation and effect as the above (3) can be obtained. Can do.

(5)本発明の電気光学装置の他の態様では、前記画像信号の電位極性は、所定電位を基準として周期的に切り換わり、前記非選択サブデータ線電圧は、前記画像信号が正極性である場合に前記第kのメインデータ線を経由して伝達される最大電圧と、前記画像信号が負極性である場合に前記第kのメインデータ線を経由して伝達される最小電圧との中点の電圧である。   (5) In another aspect of the electro-optical device according to the aspect of the invention, the potential polarity of the image signal is periodically switched based on a predetermined potential, and the non-selected sub data line voltage is positive when the image signal is positive. The maximum voltage transmitted through the kth main data line in some cases and the minimum voltage transmitted through the kth main data line when the image signal is negative. The voltage at the point.

本態様では、非選択サブデータ線電圧(VR)は常に、一定値であり、変更する必要がない。よって、メインデータ線を経由して伝達される画像信号の電圧極性が周期的に反転する場合(つまり、画素を交流駆動する場合)でも、電圧極性に応じて、非選択サブデータ線電圧(VR)を反転する必要がなく、よって、表示装置のドライバ回路の負担が軽減される。   In this aspect, the unselected sub data line voltage (VR) is always a constant value and does not need to be changed. Therefore, even when the voltage polarity of the image signal transmitted via the main data line is periodically inverted (that is, when the pixel is AC-driven), the non-selected sub data line voltage (VR) depends on the voltage polarity. ) Need not be inverted, and thus the burden on the driver circuit of the display device is reduced.

(6)本発明の電気光学装置の他の態様では、前記i個の画素回路の各々は、画素電極と、前記m本のサブデータ線の各々と、前記画素電極との間に設けられるトランスファースイッチを有し、前記非選択サブデータ線電圧は、前記トランスファースイッチがNMOSトランジスタで構成される場合、前記第kのメインデータ線を経由して伝達される最大電圧以上の電圧に設定され、前記トランスファースイッチがPMOSトランジスタで構成される場合、前記第kのメインデータ線を経由して伝達される最小電圧以下の電圧に設定される。   (6) In another aspect of the electro-optical device of the present invention, each of the i pixel circuits includes a transfer provided between a pixel electrode, each of the m sub-data lines, and the pixel electrode. And the non-selected sub data line voltage is set to a voltage equal to or higher than a maximum voltage transmitted via the kth main data line when the transfer switch is configured by an NMOS transistor, When the transfer switch is composed of a PMOS transistor, the voltage is set to a voltage equal to or lower than the minimum voltage transmitted via the kth main data line.

本態様では、光やα線等の高エネルギー放射線が、例えばシリコン基板に入射した場合に発生するキャリア(電荷)を、サブデータ線側(トランスファースイッチを構成する画素トランジスタの例えばソース側)に寄せ集めて吸収することができる。よって、トランスファースイッチを構成する画素トランジスタの例えばドレインの電位変動が抑制される。つまり、その画素の保持容量に蓄えられている電荷が、α線等の照射によって生じたキャリアの内、保持容量側に引き寄せられる極性の電荷と再結合する事によって保持容量に蓄えられた電荷量を減少させてしまう問題が軽減される。よって、画素の保持電圧の変動を、電気的に抑制することができる。製造プロセスには変更はないため、製造プロセスが複雑化したり、製造コストが上昇したりする心配がない。   In this aspect, carriers (charges) generated when high-energy radiation such as light or α rays is incident on a silicon substrate, for example, are moved to the sub-data line side (for example, the source side of the pixel transistor constituting the transfer switch). Can be collected and absorbed. Therefore, for example, the drain potential fluctuation of the pixel transistor constituting the transfer switch is suppressed. In other words, the amount of charge stored in the storage capacitor by recombining the charge stored in the storage capacitor of the pixel with the charge of the polarity attracted to the storage capacitor among the carriers generated by irradiation with α rays and the like. This reduces the problem of reducing. Therefore, fluctuations in the holding voltage of the pixel can be suppressed electrically. Since there is no change in the manufacturing process, there is no concern that the manufacturing process becomes complicated or the manufacturing cost increases.

(7)本発明の電気光学装置の他の態様では、前記m本のサブデータ線の各々への、第1の非選択サブデータ線電圧の供給/非供給を切り換えるためのm個の第2のスイッチと、前記m本のサブデータ線の各々への、第2の非選択サブデータ線電圧の供給/非供給を切り換えるためのm個の第3のスイッチと、を有し、前記m個の第1のスイッチの各々は、前記m本のサブデータ線のうちの対応するサブデータ線が選択状態のときにオンし、非選択状態のときにオフし、前記m個の第2のスイッチおよび第3のスイッチの各々は、前記m本のサブデータ線のうちの対応するサブデータ線が選択状態のときにオフし、かつ、前記m本のサブデータ線のうちの対応するサブデータ線が非選択状態のときには、まず、前記第3のスイッチがオンして前記m本のサブデータ線のうちの対応するサブデータ線に前記第2の非選択サブデータ線電圧を供給し、次に、前記第3のスイッチをオフすると共に前記第2のスイッチをオンして、前記m本のサブデータ線のうちの対応するサブデータ線に前記第1の非選択サブデータ線電圧を供給する。   (7) In another aspect of the electro-optical device of the present invention, m second for switching supply / non-supply of the first non-selected sub data line voltage to each of the m sub data lines. And m number of third switches for switching supply / non-supply of the second non-selected sub-data line voltage to each of the m sub-data lines. Each of the first switches is turned on when a corresponding sub-data line of the m sub-data lines is in a selected state, and is turned off when the sub-data line is in a non-selected state, and the m second switches And each of the third switches is turned off when the corresponding sub-data line of the m sub-data lines is in a selected state, and the corresponding sub-data line of the m sub-data lines When is not selected, first, the third switch is turned on. The second non-selected sub-data line voltage is supplied to a corresponding sub-data line among the m sub-data lines, and then the third switch is turned off and the second switch is turned on. The first unselected sub data line voltage is supplied to a corresponding sub data line among the m sub data lines.

非選択サブデータ線電圧(VR)の供給ノード(あるいは供給線)には、一般に、多数の非選択状態のサブデータ線が接続される。よって、一本のサブデータ線が選択状態から非選択状態となったときに、メインデータ線から電気的に分離された直後のサブデータ線に、非選択サブデータ線電圧(VR)の供給ノードを接続すると、その接続に伴って充放電電流が流れる。その充放電電流は、非選択サブデータ線電圧(VR)の供給ノードに接続されている他の多数の非選択状態のサブデータ線の電位を変動させる要因(ノイズ要因)となる場合があり、この場合、非選択状態の画素の表示特性に影響が生じる。そこで、本態様では、非選択サブデータ線電圧として2種類の電圧(例えば、第1の非選択サブデータ線電圧VRBと第2の非選択サブデータ線電圧VRAとする)を用意する。2種類の非選択サブデータ線電圧(VRBとVRA)は、各々、電気的(好ましくはさらに物理的にも)相互に切り離されているのが好ましい。但し、VRBとVRAの電圧値は、原則的には同じである(但し、例えば、少々の差異を設けることもできる)。そして、一本のサブデータ線が選択状態から非選択状態となると、第3のスイッチをオンして、そのサブデータ線には、まず、第2の非選択サブデータ線電圧VRAを供給する。これによって、サブデータ線の電位は、第2の非選択サブデータ線電圧VRAに収束する(あるいは、VRAに近い電圧になる)。このとき、充放電電流が流れてVRAの電位が変動するが、VRAは、VRBから電気的(望ましくはさらに物理的に)切り離されているため、VRAの電位変動は、VRBの電位に影響を与えない。よって、VRBに接続されている多数の非選択状態の画素には影響がない。サブデータ線の電位がVRAに近づいた後(理想的にはVRAに一致した後)、第3のスイッチをオフしてVRAをサブデータ線から切り離し、次に、第2のスイッチをオンして、VRBをサブデータ線に供給する。サブデータ線は、VRBと同じ電圧あるいは、VRBの近傍の電圧となっていることから、充放電電流の電流量は低減され、よって、多数の非選択状態の画素には、ほとんど影響がない。よって、非選択状態の画素の表示特性をさらに改善することができる。   In general, a large number of non-selected sub-data lines are connected to a supply node (or supply line) of a non-selected sub-data line voltage (VR). Therefore, when one sub data line changes from the selected state to the non-selected state, the non-selected sub data line voltage (VR) supply node is applied to the sub data line immediately after being electrically separated from the main data line. Is connected, a charge / discharge current flows along with the connection. The charge / discharge current may be a factor (noise factor) that fluctuates the potential of many other non-selected sub-data lines connected to the supply node of the non-selected sub-data line voltage (VR). In this case, the display characteristics of the non-selected pixel are affected. Therefore, in this aspect, two types of voltages (for example, a first non-selected sub data line voltage VRB and a second non-selected sub data line voltage VRA) are prepared as non-selected sub data line voltages. The two types of unselected sub-data line voltages (VRB and VRA) are preferably separated from each other electrically (preferably also physically). However, the voltage values of VRB and VRA are basically the same (however, for example, a slight difference can be provided). When one sub data line changes from the selected state to the non-selected state, the third switch is turned on, and first, the second non-selected sub data line voltage VRA is supplied to the sub data line. As a result, the potential of the sub data line converges to the second unselected sub data line voltage VRA (or becomes a voltage close to VRA). At this time, the charge / discharge current flows and the VRA potential fluctuates. However, since VRA is electrically (preferably further physically separated) from VRB, the VRA potential fluctuation affects the VRB potential. Don't give. Therefore, there is no influence on many non-selected pixels connected to the VRB. After the potential of the sub data line approaches VRA (ideally after it matches VRA), the third switch is turned off to disconnect VRA from the sub data line, and then the second switch is turned on. , VRB is supplied to the sub data line. Since the sub-data line has the same voltage as VRB or a voltage in the vicinity of VRB, the amount of charge / discharge current is reduced, and therefore there is almost no effect on a large number of non-selected pixels. Therefore, the display characteristics of the non-selected pixel can be further improved.

(8)本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第1のスイッチは、メカニカルスイッチである。   (8) In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the first switch is a mechanical switch.

例えば、第1のスイッチとして、メカニカルスイッチ(例えば、MEMS(機械電気的微小システム)技術を用いて製造されるスイッチ)を使用することによって、より完全な電気的なアイソレーションが実現され、リーク電流をより減少させることができる。よって、サブデータ線電位の変動が、画素の表示特性に与える影響をより低減することができる。なお、上述の第2のスイッチ(あるいは第3のスイッチ)として、メカニカルスイッチを使用して、同様の効果を得ることもできる。   For example, by using a mechanical switch (eg, a switch manufactured using MEMS (Mechanical Electrical Microsystem) technology) as the first switch, more complete electrical isolation is realized and leakage current is increased. Can be further reduced. Therefore, it is possible to further reduce the influence of fluctuations in the sub data line potential on the display characteristics of the pixels. A similar effect can be obtained by using a mechanical switch as the above-described second switch (or third switch).

(9)本発明の電気光学装置の駆動方法の一態様では、n本(nは1以上の整数)のメインデータ線と、前記n本のメインデータ線のうちの第kのメインデータ線(1≦k≦n)に対応して設けられる、m本(mは1以上の整数)のサブデータ線と、前記第kのメインデータ線と前記m本のサブデータ線の各々との間に設けられ、前記第kのメインデータ線と前記m本のサブデータ線の各々との電気的な接続/非接続を切り換えるためのm個の第1のスイッチと、前記一本のサブデータ線の各々に接続されるi個(iは1以上の整数)の画素回路と、前記m本のサブデータ線の各々への、非選択サブデータ線電圧の供給/非供給を切り換えるためのm個の第2のスイッチを含む電気光学装置の駆動方法であって、前記m本のサブデータ線のうちの第x(1≦x≦m)のサブデータ線が選択されるとき、前記m個の第1のスイッチのうちの、前記第xのサブデータ線に対応する第xの第1のスイッチをオンさせて、前記第kのメインデータ線ならびに前記第xのサブデータ線を経由して、画像信号を、前記第xのサブデータ線に接続される前記i個の画素回路の少なくとも一つに供給すると共に、前記m本のサブデータ線のうちの第x(1≦x≦m)のサブデータ線が非選択であるとき、前記m個の第1のスイッチのうちの、前記第xのサブデータ線に対応する第xの前記第1のスイッチをオフさせ、これによって、前記第kのメインデータ線と前記第xのサブデータ線とを電気的に分離し、かつ、前記第xのサブデータ線に対応する第xの前記第2のスイッチをオンさせて、前記非選択サブデータ線電圧を前記第xのサブデータ線に供給する。   (9) In one aspect of the driving method of the electro-optical device of the present invention, n (n is an integer of 1 or more) main data lines and the k-th main data line (n of the n main data lines) 1 (k ≦ n) provided between m sub-data lines (m is an integer of 1 or more) and each of the k-th main data line and the m sub-data lines. M first switches for switching electrical connection / disconnection between the k-th main data line and each of the m sub-data lines, and the one sub-data line. M pixel circuits for switching supply / non-supply of unselected sub data line voltages to i pixel circuits (i is an integer of 1 or more) connected to each of the m sub data lines. A method of driving an electro-optical device including a second switch, wherein the m sub-data lines When the xth (1 ≦ x ≦ m) sub-data line is selected, the x-th first switch corresponding to the x-th sub-data line among the m first switches is selected. The image signal is turned on to at least one of the i pixel circuits connected to the xth sub data line via the kth main data line and the xth subdata line. And when the x-th (1 ≦ x ≦ m) sub-data line of the m sub-data lines is not selected, the x-th of the m first switches The xth first switch corresponding to a sub data line is turned off, thereby electrically separating the kth main data line and the xth subdata line, and the xth The x-th second switch corresponding to the sub data line is turned on to Supplying-option sub data line voltage to the sub-data lines of the first x.

本態様の電気光学装置の駆動方法では、データ線を階層化すると共に、画素が選択されるときは、メインデータ線および対応するサブデータ線を経由して選択状態の画素に画素電圧を書き込む。一方、サブデータ線に接続される少なくとも一つの画素のすべてが非選択状態のとき、第1のスイッチをオフすることによって、サブデータ線をメインデータ線から電気的に分離する。この分離によって、選択状態の画素に対する書き込み電圧によってデータ線電位が変動したとしても、その電位変動は、サブデータ線には伝達されず、よって、非選択状態の画素は悪影響を受けない。すなわち、画素トランジスタの寄生容量に起因する走査線電位の変動が生じず、上述の課題1が解決される。よって、非選択状態の画素の表示特性を向上させることができる。また、非選択状態のサブデータ線(つまり、メインデータ線から電気的に切り離された状態のサブデータ線)には、第2のスイッチを経由して非選択サブデータ線電圧(VR)を供給する。つまり、非選択状態のサブデータ線はメインデータ線から電気的に分離されると共に、メインデータ線の電圧とは異なる一定の電圧(VR:非選択サブデータ線電圧)に維持されるため、画素トランジスタのリーク電流の電流量は、画素に保持されている電圧にのみ依存することになり、サブデータ線の電位の影響は排除される。よって、サブデータ線に接続されている非選択状態の画素は、より安定した非選択状態を保つことになり、メインデータ線に電気的に接続されている選択状態の画素からの電気的ノイズ等の影響が格段に軽減される。よって、従来に比べて、非選択状態の画素の表示特性の変動が低減され、表示品質が向上する。   In the driving method of the electro-optical device according to this aspect, the data lines are hierarchized, and when a pixel is selected, the pixel voltage is written to the selected pixel via the main data line and the corresponding sub data line. On the other hand, when all of at least one pixel connected to the sub data line is in the non-selected state, the sub data line is electrically separated from the main data line by turning off the first switch. By this separation, even if the data line potential fluctuates due to the write voltage for the selected pixel, the potential fluctuation is not transmitted to the sub data line, and thus the non-selected pixel is not adversely affected. In other words, the above-described problem 1 is solved without the fluctuation of the scanning line potential caused by the parasitic capacitance of the pixel transistor. Therefore, the display characteristics of the non-selected pixel can be improved. Further, the non-selected sub data line voltage (VR) is supplied to the non-selected sub data line (that is, the sub data line electrically disconnected from the main data line) via the second switch. To do. That is, the non-selected sub data line is electrically separated from the main data line and is maintained at a constant voltage (VR: non-selected sub data line voltage) different from the voltage of the main data line. The amount of leakage current of the transistor depends only on the voltage held in the pixel, and the influence of the potential of the sub data line is eliminated. Therefore, the non-selected pixel connected to the sub data line maintains a more stable non-selected state, such as electrical noise from the selected pixel electrically connected to the main data line. Will be significantly reduced. Therefore, as compared with the conventional case, the variation in the display characteristics of the non-selected pixel is reduced, and the display quality is improved.

(10)本発明の電子機器は、上記の電気光学装置を搭載する。
本発明の電気光学装置は、データ線の階層化によって表示特性が改善され、高品質な表示が可能である。よって、その電気光学装置を搭載する電子機器(例えば、液晶表示パネルを搭載する携帯電話端末)の表示性能も向上する。
(10) An electronic apparatus of the present invention is equipped with the above electro-optical device.
In the electro-optical device of the present invention, display characteristics are improved by hierarchizing data lines, and high-quality display is possible. Accordingly, the display performance of an electronic device (for example, a mobile phone terminal equipped with a liquid crystal display panel) equipped with the electro-optical device is also improved.

このように、本発明の幾つかの実施形態によれば、例えば、選択画素への書き込みによるデータ線電位の変動が非選択画素に及ぼす影響を最小化し、非選択画素の表示特性を格段に向上させることが可能となる。   As described above, according to some embodiments of the present invention, for example, the influence of fluctuations in the data line potential caused by writing to the selected pixel on the non-selected pixel is minimized, and the display characteristics of the non-selected pixel are significantly improved. It becomes possible to make it.

次に、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下に説明する本実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではなく、本実施形態で説明される構成のすべてが、本発明の解決手段として必須であるとは限らない。   Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the present embodiment described below does not unduly limit the contents of the present invention described in the claims, and all the configurations described in the present embodiment are as means for solving the present invention. It is not always essential.

(第1の実施形態)
以下の説明では、電気光学装置として、液晶表示装置を例にとって説明する。但し、これに限定されるものではなく、電気光学装置は、有機EL表示装置やその他の表示装置であってもよい。
(First embodiment)
In the following description, a liquid crystal display device will be described as an example of an electro-optical device. However, the invention is not limited to this, and the electro-optical device may be an organic EL display device or other display devices.

(階層化されたデータ線構造をもつ液晶表示装置の要部の構成と動作)
図1(A)〜図1(C)は、階層化されたデータ線構造をもつ液晶表示装置の要部の構成ならびにサブデータ線に印加される電圧について説明するための図である。図1(A)では、サブデータ線が非選択状態であり、図1(B)では、サブデータ線が選択状態である。
(Configuration and operation of the main part of a liquid crystal display device with a hierarchical data line structure)
FIGS. 1A to 1C are diagrams for explaining a configuration of a main part of a liquid crystal display device having a hierarchical data line structure and a voltage applied to a sub data line. In FIG. 1A, the sub data line is in a non-selected state, and in FIG. 1B, the sub data line is in a selected state.

図1(A),図1(B)では、複数のデータ線のうちの一本のメインデータ線MDLnに対応して、1本のサブデータ線SDLnが設けられている。すなわち、データ線が、メインデータ線とサブデータ線に区別されている。すなわち、データ線が階層化されている。なお、一本のメインデータ線MDLnに複数本のサブデータ線を接続する(対応させる)ことも可能である。例えば、図1(A)のサブデータ線SDLnの横方向(走査線L10の延在する方向側)に、さらに、少なくとも一本のサブデータ線を設けることもできる。また、メインデータ線を中心として、その左右に(例えば、線対称となるように)、サブデータ線を配置する構成を採用することもできる。メインデータ線を中心として線対称(シンメトリー)にサブデータ線を配置すると、例えば、多層配線構造を用いて配線を形成する際に、バランスのとれた高密度な配置が実現されるという利点がある。   In FIG. 1A and FIG. 1B, one sub data line SDLn is provided corresponding to one main data line MDLn among a plurality of data lines. That is, the data lines are distinguished from main data lines and sub data lines. That is, the data lines are hierarchized. It is also possible to connect (correspond to) a plurality of sub data lines to one main data line MDLn. For example, at least one sub data line can be further provided in the horizontal direction of the sub data line SDLn in FIG. 1A (the direction in which the scanning line L10 extends). Further, it is possible to adopt a configuration in which the sub data lines are arranged around the main data line on the left and right sides (for example, so as to be line symmetric). When the sub data lines are arranged symmetrically (symmetrically) with the main data line as the center, there is an advantage that, for example, when a wiring is formed using a multilayer wiring structure, a balanced high-density arrangement is realized. .

図1(A),図1(B)では、一本のメインデータ線MDLnには、複数の画素回路(具体的には(m+1)個の画素回路)が接続されている。なお、一本のメインデータ線MDLnには、少なくとも1個の画素回路(画素)が接続されればよい。一つの画素回路は、トランスファースイッチを構成するトランジスタ(NMOSトランジスタ:画素トランジスタ)M1と、保持容量Cstと、液晶素子(液晶容量)LCと、を有する。なお、画素回路の構成はこれに限定されるものではなく、画素回路の構成としては、保持容量の代わりにフリップフロップ(RAM)を用いる回路構成等を採用することができる。各画素回路における画素トランジスタM1のオン/オフは、走査線(GL0〜GLm)によって制御される。また、画素トランジスタM1の一端(例えばソース)には、メインデータ線MDLnおよびサブデータ線SDLnを経由して、画像信号VDn(書き込み電圧)が供給される。画素トランジスタM1の他端(ドレイン)には、保持容量Cstの一端ならびに液晶素子の一方の画素電極が接続される。保持容量の他端には基準電圧VCOMが印加される。また、液晶素子の他方の画素電極(対向電極)には、基準電圧LCOM(電圧値は、例えばVCOMと同じ)が印加される。   1A and 1B, a plurality of pixel circuits (specifically, (m + 1) pixel circuits) are connected to one main data line MDLn. Note that at least one pixel circuit (pixel) may be connected to one main data line MDLn. One pixel circuit includes a transistor (NMOS transistor: pixel transistor) M1, which forms a transfer switch, a holding capacitor Cst, and a liquid crystal element (liquid crystal capacitor) LC. Note that the configuration of the pixel circuit is not limited to this, and a circuit configuration using a flip-flop (RAM) instead of a storage capacitor can be employed as the configuration of the pixel circuit. On / off of the pixel transistor M1 in each pixel circuit is controlled by the scanning lines (GL0 to GLm). An image signal VDn (write voltage) is supplied to one end (for example, source) of the pixel transistor M1 via the main data line MDLn and the sub data line SDLn. One end of the storage capacitor Cst and one pixel electrode of the liquid crystal element are connected to the other end (drain) of the pixel transistor M1. A reference voltage VCOM is applied to the other end of the storage capacitor. A reference voltage LCOM (voltage value is the same as, for example, VCOM) is applied to the other pixel electrode (counter electrode) of the liquid crystal element.

メインデータ線MDLnと、そのメインデータ線MDLnに対応するサブデータ線SDLnとの間には、第1のスイッチSW1が設けられる。第1のスイッチSW1のオン/オフを切り換えることによって、メインデータ線MDLnとサブデータ線SDLnとの電気的接続/非接続を切り換えることができる。第1のスイッチSW1は、サブデータ線SDLnが選択状態であるとき(つまり、そのサブデータ線SDLnに接続される少なくとも一つの画素回路が選択状態であるとき)にオンし、サブデータ線SDLnが非選択状態であるとき(つまり、そのサブデータ線SDLnに接続される少なくとも一つの画素回路のすべてが非選択のとき)にオフする。この第1のスイッチSW1のオン/オフは、スイッチ制御信号Yによって制御される。   A first switch SW1 is provided between the main data line MDLn and the sub data line SDLn corresponding to the main data line MDLn. By switching on / off the first switch SW1, the electrical connection / disconnection between the main data line MDLn and the sub data line SDLn can be switched. The first switch SW1 is turned on when the sub data line SDLn is in a selected state (that is, when at least one pixel circuit connected to the sub data line SDLn is in a selected state), and the sub data line SDLn is turned on. It is turned off when it is in a non-selected state (that is, when all of at least one pixel circuit connected to the sub data line SDLn is not selected). ON / OFF of the first switch SW1 is controlled by a switch control signal Y.

また、サブデータ線SDLnと非選択サブデータ線電圧VRの供給ノードNE1との間には、第2のスイッチSW2が設けられている。第2のスイッチSW2は、サブデータ線SDLnが非選択状態であるとき(つまり、そのサブデータ線SDLnに接続される少なくとも一つの画素回路のすべてが非選択のとき)に、その非選択状態のサブデータ線SDLnに対して、非選択サブデータ線電圧VRを供給するために設けられている。第2のスイッチSW2は、サブデータ線SDLnが選択状態であるとき(つまり、そのサブデータ線SDLnに接続される少なくとも一つの画素回路が選択状態であるとき)にオフし、サブデータ線SDLnが非選択状態であるとき(つまり、そのサブデータ線SDLnに接続される少なくとも一つの画素回路のすべてが非選択のとき)にオンする。この第2のスイッチSW1のオン/オフは、スイッチ制御信号/Y(スイッチ制御信号Yとは逆相の信号)によって制御される。   A second switch SW2 is provided between the sub data line SDLn and the supply node NE1 for the non-selected sub data line voltage VR. The second switch SW2 is in a non-selected state when the sub data line SDLn is in a non-selected state (that is, when all of at least one pixel circuit connected to the sub data line SDLn is not selected). It is provided for supplying unselected sub data line voltage VR to sub data line SDLn. The second switch SW2 is turned off when the sub data line SDLn is in the selected state (that is, when at least one pixel circuit connected to the sub data line SDLn is in the selected state), and the sub data line SDLn is It is turned on when it is in a non-selected state (that is, when at least one pixel circuit connected to the sub-data line SDLn is not selected). On / off of the second switch SW1 is controlled by a switch control signal / Y (a signal having a phase opposite to that of the switch control signal Y).

図1(B)に示すように、第1のスイッチSW1をオンさせれば、メインデータ線MDLnおよびサブデータ線SDLnを経由して選択状態の画素に画素電圧を書き込むことができる。図1(B)において、太い矢印は、画像データの書き込みに伴って流れる電流を示している。   As shown in FIG. 1B, when the first switch SW1 is turned on, the pixel voltage can be written to the selected pixel via the main data line MDLn and the sub data line SDLn. In FIG. 1B, a thick arrow indicates a current that flows as image data is written.

一方、図1(A)に示す状態のとき、第1のスイッチSW1をオフすることによって、サブデータ線SDLnをメインデータ線MDLnから電気的に分離することができる。この分離によって、選択状態の画素(すなわち、メインデータ線MDLnに接続されている他のサブデータ線に関する画素:図1(A),図1(B)では不図示)に対する書き込み電圧(画像信号)VDmによってメインデータ線MDLnの電位が変動したとしても、その電位変動は、サブデータ線SDLnには伝達されず、よって、サブデータ線SDLnに接続される非選択状態の画素は悪影響を受けない。すなわち、画素トランジスタM1の寄生容量に起因する走査線電位の変動が生じない。よって、非選択状態の画素の表示特性を向上させることができる。   On the other hand, in the state shown in FIG. 1A, the sub data line SDLn can be electrically separated from the main data line MDLn by turning off the first switch SW1. By this separation, a write voltage (image signal) for the selected pixel (that is, a pixel related to another sub-data line connected to the main data line MDLn: not shown in FIGS. 1A and 1B). Even if the potential of the main data line MDLn fluctuates due to VDm, the potential fluctuation is not transmitted to the sub data line SDLn, and thus the unselected pixels connected to the sub data line SDLn are not adversely affected. That is, the scanning line potential does not vary due to the parasitic capacitance of the pixel transistor M1. Therefore, the display characteristics of the non-selected pixel can be improved.

但し、非選択状態のサブデータ線SDLnの電圧が不定では、そのサブデータ線SDLnに接続される画素回路の表示電圧に影響を与える場合がある。そこで、図1(A)では、第1のスイッチSW1をオフすると同時に、第2のスイッチSW2をオンして、非選択サブデータ線電圧VRをサブデータ線SDLnに供給する。すなわち、非選択状態のサブデータ線SDLnは、メインデータ線から電気的に分離されると共に、メインデータ線MDLnの電圧とは異なる非選択サブデータ線電圧VR(メインデータ線の電圧とは異なる一定の電圧)に維持される。   However, if the voltage of the non-selected sub data line SDLn is indefinite, the display voltage of the pixel circuit connected to the sub data line SDLn may be affected. Therefore, in FIG. 1A, the first switch SW1 is turned off, and at the same time, the second switch SW2 is turned on to supply the non-selected sub data line voltage VR to the sub data line SDLn. That is, the non-selected sub data line SDLn is electrically isolated from the main data line and is different from the main data line MDLn in the non-selected sub data line voltage VR (a constant different from the main data line voltage). Voltage).

図1(A)に示されるように、非選択サブデータ線電圧VRは、供給ノードNE1および供給線L10、ならびに第2のスイッチSW2を経由して、非選択のサブデータ線SDLnに供給される。図1(A)中の太線の矢印は、VRの供給に伴って流れる電流を示している。このとき、非選択のサブデータ線SDLnに接続されている画素トランジスタM1のリーク電流の電流量は、画素に保持されている電圧にのみ依存することになり、メインデータ線の電位の影響は排除される。よって、サブデータ線に接続されている非選択状態の画素は、より安定した非選択状態を保つことになり、メインデータ線に電気的に接続されている選択状態の画素からの電気的ノイズ等の影響が格段に軽減される。よって、従来に比べて、非選択状態の画素の表示特性の変動が低減され、表示品質が向上する。   As shown in FIG. 1A, the non-selected sub data line voltage VR is supplied to the non-selected sub data line SDLn via the supply node NE1, the supply line L10, and the second switch SW2. . A thick arrow in FIG. 1A indicates a current that flows along with the supply of VR. At this time, the amount of leakage current of the pixel transistor M1 connected to the non-selected sub data line SDLn depends only on the voltage held in the pixel, and the influence of the potential of the main data line is eliminated. Is done. Therefore, the non-selected pixel connected to the sub data line maintains a more stable non-selected state, such as electrical noise from the selected pixel electrically connected to the main data line. Will be significantly reduced. Therefore, as compared with the conventional case, the variation in the display characteristics of the non-selected pixel is reduced, and the display quality is improved.

以上説明した、図1(A),図1(B)に示される電気光学装置の回路構成を一般化して表現すると以下のようになる。下記の説明では、便宜上、N,M,K,Iという変数を使用する。すなわち、電気光学装置は、N本(Nは1以上の整数)のメインデータ線と、N本のメインデータ線のうちの第Kのメインデータ線(1≦K≦N)に対応して設けられる、M本(Mは1以上の整数)のサブデータ線と、第Kのメインデータ線とM本のサブデータ線の各々との間に設けられ、第Kのメインデータ線とM本のサブデータ線の各々との電気的な接続/非接続を切り換えるためのM個の第1のスイッチと、M本のサブデータ線の各々に接続されるI個(Iは1以上の整数)の画素回路と、を含む。また、電気光学装置は、M本のサブデータ線の各々への、非選択サブデータ線電圧の供給/非供給を切り換えるためのM個の第2のスイッチを有し、M個の第1のスイッチの各々は、M本のサブデータ線のうちの対応するサブデータ線が選択状態のときにオンし、非選択状態のときにオフし、かつ、M個の第2のスイッチの各々は、M本のサブデータ線のうちの対応するサブデータ線が選択状態のときにオフし、非選択状態のときにオンする。   The above-described circuit configuration of the electro-optical device shown in FIGS. 1A and 1B is generalized and expressed as follows. In the following description, variables N, M, K, and I are used for convenience. That is, the electro-optical device is provided corresponding to N main data lines (N is an integer equal to or greater than 1) and the Kth main data line (1 ≦ K ≦ N) of the N main data lines. Provided between the M sub data lines (M is an integer equal to or greater than 1) and each of the Kth main data line and the M sub data lines, and the Kth main data line and the M sub data lines. M first switches for switching electrical connection / disconnection with each of the sub data lines, and I (I is an integer of 1 or more) connected to each of the M sub data lines A pixel circuit. The electro-optical device has M second switches for switching supply / non-supply of the non-selected sub data line voltage to each of the M sub data lines, and the M first data Each of the switches is turned on when a corresponding sub-data line of the M sub-data lines is in a selected state, is turned off when the sub-data line is in a non-selected state, and each of the M second switches is Turns off when the corresponding sub-data line of the M sub-data lines is selected, and turns on when the sub-data line is not selected.

(非選択サブデータ線電圧VRについての考察)
次に、非選択サブデータ線電圧VRの電圧レベルについて、図1(C)を参照して考察する。
(Consideration on unselected sub-data line voltage VR)
Next, the voltage level of the unselected sub data line voltage VR will be considered with reference to FIG.

(考察1)
図1(C)において、+Vおよび−Vは、正フィールドおよび負フィールドにおける液晶素子LCへの印加電圧を示す。時刻t1〜t2の期間には、データ“1”が画素に書き込まれる。時刻t2〜t3の期間には、データ“0”が画素に書き込まれる。図1(C)から明らかなように、データ“1”に対応する書き込み電圧が+V(正フィールドの場合)ならびに−V(負フィールドの場合)であり、データ“0”に対応する書き込み電圧がVCOMである。液晶への印加電圧は、液晶の焼き付き防止のために、例えば、1フレーム(あるいはサブフィールド)毎に電圧極性が反転される。すなわち、液晶素子LCは周期的に交流駆動される。基準電圧VCOMを基準として正極性の電圧が液晶に印加される期間が正フィールドであり、VCOMを基準として負極性の電圧が液晶に印加される期間が負フィールドである。
(Discussion 1)
In FIG. 1C, + V and −V indicate voltages applied to the liquid crystal element LC in the positive field and the negative field. Data “1” is written to the pixel during the period from time t1 to time t2. Data “0” is written into the pixel during the period from time t2 to time t3. As apparent from FIG. 1C, the write voltage corresponding to the data “1” is + V (in the case of the positive field) and −V (in the case of the negative field), and the write voltage corresponding to the data “0” is VCOM. The voltage polarity of the applied voltage to the liquid crystal is inverted every frame (or subfield), for example, to prevent the burn-in of the liquid crystal. That is, the liquid crystal element LC is periodically AC driven. A period during which a positive voltage is applied to the liquid crystal with reference to the reference voltage VCOM is a positive field, and a period during which a negative voltage is applied to the liquid crystal with respect to VCOM is a negative field.

ここでは、正フィールドの場合について考察する。図1(C)では、非選択サブデータ線電圧VRは、正極性の画像信号の最大電圧+Vと最小電圧VCOMの中点の電位に設定する。つまり、以下の式(1)が成立する。
VR=(+V−VCOM)/2+VCOM・・・(1)
Here, the case of the positive field is considered. In FIG. 1C, the non-selected sub data line voltage VR is set to the midpoint potential of the maximum voltage + V and the minimum voltage VCOM of the positive image signal. That is, the following formula (1) is established.
VR = (+ V−VCOM) / 2 + VCOM (1)

非選択サブデータ線電圧VRを、最大値と最小値の中点の電圧((最大電圧−最小電圧)/2)の電圧に相当する電圧に設定することによって、画素トランジスタからのリーク電流の最大値を、従来に比べて抑制することができる。例えば、画素に書き込む電圧の最大値を5Vとし、最小値を0Vとする。従来なら、非選択状態の画素トランジスタ(NMOSトランジスタM1)のソース・ドレインには、最大で5Vの電圧がかかる可能性がある(データ線電圧が0Vあるいは5Vであり、画素の保持電圧が5Vあるいは0Vであるとき)。これに対して、図1(C)のように非選択サブデータ線電圧VRを設定した場合、非選択サブデータ線電圧(VR)は例えば2.5Vであるため、画素の保持電圧が0Vあるいは5Vのいずれの場合でも、画素トランジスタM1のソース・ドレイン間にかかる電圧の最大値は2.5Vであり、従来のソース・ドレイン間電圧の最大値の半分となる。よって、画素トランジスタのリーク電流も、従来に比べて抑制される。   By setting the non-selected sub data line voltage VR to a voltage corresponding to the voltage of the midpoint between the maximum value and the minimum value ((maximum voltage−minimum voltage) / 2), the maximum leakage current from the pixel transistor is set. The value can be suppressed compared to the conventional case. For example, the maximum value of the voltage written to the pixel is 5V, and the minimum value is 0V. Conventionally, there is a possibility that a maximum voltage of 5V is applied to the source / drain of the non-selected pixel transistor (NMOS transistor M1) (the data line voltage is 0V or 5V, and the pixel holding voltage is 5V or When 0V). On the other hand, when the non-selected sub data line voltage VR is set as shown in FIG. 1C, the non-selected sub data line voltage (VR) is, for example, 2.5V. In any case of 5V, the maximum value of the voltage applied between the source and drain of the pixel transistor M1 is 2.5V, which is half of the conventional maximum value of the source-drain voltage. Therefore, the leakage current of the pixel transistor is also suppressed compared to the conventional case.

また、サブデータ線SDLnが非選択状態から選択状態となるとき、サブデータ線SDLnは、あらかじめ、画像信号の最大値および最小値の中点(中間)の電圧に設定されているため、画像信号の電圧VDnがどのような電圧であったとしても、サブデータ線SDLnの電圧の変動幅(振幅)は最小となる。サブデータ線SDLnの振幅が最小化されることによって、そのサブデータ線SDLnに接続される複数の画素間における相互の影響(つまり、選択状態の画素の書き込み電圧によるサブデータ線の電位変動が、非選択状態の画素の画素トランジスタM1の寄生容量を経由して伝達され、その非選択状態の画素の保持電圧が変動すること)が軽減されるという効果も得られる。   Further, when the sub data line SDLn is changed from the non-selected state to the selected state, the sub data line SDLn is set to a voltage at the midpoint (intermediate) of the maximum value and the minimum value of the image signal in advance. Regardless of the voltage VDn, the fluctuation range (amplitude) of the voltage of the sub data line SDLn is minimized. By minimizing the amplitude of the sub data line SDLn, the mutual influence between a plurality of pixels connected to the sub data line SDLn (that is, the potential fluctuation of the sub data line due to the write voltage of the pixel in the selected state is There is also an effect that the transmission is performed via the parasitic capacitance of the pixel transistor M1 of the pixel in the non-selected state and the holding voltage of the pixel in the non-selected state fluctuates).

負フィールドについては、以下の式(2)が成立する。これによって、正フィールドの場合と同様の効果が得られる。
VR=(−V−VCOM)/2+VCOM・・・(2)
For the negative field, the following equation (2) is established. As a result, the same effect as in the positive field can be obtained.
VR = (− V−VCOM) / 2 + VCOM (2)

(考察2)
ここでは、アルファ線(光)照射に対する対策を考慮する。本態様では、非選択サブデータ線電圧VRは、トランスファースイッチとして機能する画素トランジスタM1がNMOSトランジスタである場合、メインデータ線MDLnを経由して伝達される最大電圧以上の電圧に設定され、トランスファースイッチとして機能する画素トランジスタM1がPMOSトランジスタで構成される場合、メインデータ線MDLnを経由して伝達される最小電圧以下の電圧の電圧に設定される。
(Discussion 2)
Here, measures against alpha ray (light) irradiation are considered. In this embodiment, when the pixel transistor M1 functioning as a transfer switch is an NMOS transistor, the non-selected sub data line voltage VR is set to a voltage equal to or higher than the maximum voltage transmitted via the main data line MDLn. When the pixel transistor M1 functioning as a PMOS transistor is configured, the voltage is set to a voltage equal to or lower than the minimum voltage transmitted via the main data line MDLn.

以下、図2を参照する。図2(A),図2(B)は、非選択サブデータ線電圧を、アルファ線(光)照射により生じたキャリアの吸収用電圧として用いる例を説明するための図である。図2(A)では、画素トランジスタM1はNMOSトランジスタである。図2(A)において、P型基板100には、ソースおよびドレインとなるN層102および104が設けられる。参照符号106はポリシリコンからなるゲート電極である。ソースとなるN層102は、サブデータ線SDLnを経由して非選択サブデータ線電圧VRが印加されている。 Reference is now made to FIG. 2A and 2B are diagrams for explaining an example in which the non-selected sub data line voltage is used as a voltage for absorbing carriers generated by irradiation with alpha rays (light). In FIG. 2A, the pixel transistor M1 is an NMOS transistor. In FIG. 2A, a P-type substrate 100 is provided with N + layers 102 and 104 serving as a source and a drain. Reference numeral 106 is a gate electrode made of polysilicon. The non-selected sub data line voltage VR is applied to the N + layer 102 serving as the source via the sub data line SDLn.

非選択サブデータ線電圧VRは、メインデータ線MDLを経由して伝達される最大電圧以上の電圧に設定される。すなわち、図2(B)に示すように、画素トランジスタM1がNMOSトランジスタである場合の非選択サブデータ線電圧VR(NMOS)は、正フィールド/負フィールドにかかわらず、メインデータ線MDLを経由して伝達される最大電圧+V以上の電圧+V1に設定される。   The unselected sub data line voltage VR is set to a voltage equal to or higher than the maximum voltage transmitted via the main data line MDL. That is, as shown in FIG. 2B, the non-selected sub data line voltage VR (NMOS) when the pixel transistor M1 is an NMOS transistor passes through the main data line MDL regardless of the positive field / negative field. Is set to a voltage + V1 equal to or higher than the maximum voltage + V transmitted.

図2(A)に示すように、α線(光)の照射によって発生した電子正孔対のうち、正孔はP型基板100の接地電位(タップ電位)に吸収されるが、電子は、ソースおよびドレインとなるN層102および104の双方に向けて移動しようとする。しかし、ソースとなるN層102には、サブデータ線SDLnを経由して非選択サブデータ線電圧VR(最大の書き込み電圧以上の電圧)が印加されているため、電子は、N層102に向けて移動し、吸収される。したがって、N層104の電圧の変動は抑制され、保持容量Cstの保持電圧の変動は最小化される。 As shown in FIG. 2A, among the electron-hole pairs generated by irradiation with α rays (light), holes are absorbed by the ground potential (tap potential) of the P-type substrate 100, but electrons are Attempts to move toward both N + layers 102 and 104, which will be the source and drain. However, since the non-selected sub data line voltage VR (voltage higher than the maximum write voltage) is applied to the source N + layer 102 via the sub data line SDLn, electrons are transferred to the N + layer 102. Move towards and be absorbed. Therefore, the fluctuation of the voltage of the N + layer 104 is suppressed, and the fluctuation of the holding voltage of the holding capacitor Cst is minimized.

このように、α線や光の入射によって発生した電子は、画素トランジスタ(NMOSトランジスタ)のソース層N層102に引き寄せられ、消滅するため、画素の保持電圧の変動は抑制される。つまり、その画素の保持容量に蓄えられている電荷が、α線等の照射によって生じたキャリアの内、保持容量側に引き寄せられる極性の電荷と再結合する事によって保持容量に蓄えられた電荷量を減少させてしまう問題が軽減される。よって、画素の保持電圧の変動を、電気的に抑制することができる。製造プロセスには変更はないため、製造プロセスが複雑化したり、製造コストが上昇したりする心配がない。 In this way, electrons generated by the incidence of α rays or light are attracted to the source layer N + layer 102 of the pixel transistor (NMOS transistor) and disappear, so that fluctuations in the holding voltage of the pixel are suppressed. In other words, the amount of charge stored in the storage capacitor by recombining the charge stored in the storage capacitor of the pixel with the charge of the polarity attracted to the storage capacitor among the carriers generated by irradiation with α rays and the like. This reduces the problem of reducing. Therefore, fluctuations in the holding voltage of the pixel can be suppressed electrically. Since there is no change in the manufacturing process, there is no concern that the manufacturing process becomes complicated or the manufacturing cost increases.

また、トランスファースイッチとして機能する画素トランジスタM1がPMOSトランジスタで構成される場合、非選択サブデータ線電圧VRは、メインデータ線MDLnを経由して伝達される最小電圧以下の電圧に設定される。つまり、図2(B)に示すように、画素トランジスタM1がPMOSトランジスタである場合の非選択サブデータ線電圧VR(PMOS)は、正フィールド/負フィールドにかかわらず、メインデータ線MDLを経由して伝達される最小電圧−V以下の電圧−V1に設定される。この場合、α線や光の入射によって発生した正孔は、画素トランジスタ(PMOSトランジスタ)のソース層N層102に引き寄せられ、消滅するため、画素の保持電圧の変動は抑制される。つまり、その画素の保持容量に蓄えられている電荷が、α線等の照射によって生じたキャリアの内、保持容量側に引き寄せられる極性の電荷と再結合する事によって保持容量に蓄えられた電荷量を減少させてしまう問題が軽減される。よって、画素の保持電圧の変動を、電気的に抑制することができる。製造プロセスには変更はないため、製造プロセスが複雑化したり、製造コストが上昇したりする心配がない。 When the pixel transistor M1 functioning as a transfer switch is configured with a PMOS transistor, the non-selected sub data line voltage VR is set to a voltage equal to or lower than the minimum voltage transmitted via the main data line MDLn. That is, as shown in FIG. 2B, the non-selected sub data line voltage VR (PMOS) when the pixel transistor M1 is a PMOS transistor passes through the main data line MDL regardless of the positive field / negative field. Is set to a voltage −V1 which is equal to or lower than the minimum voltage −V transmitted. In this case, the holes generated by the incidence of α rays and light are attracted to the source layer N + layer 102 of the pixel transistor (PMOS transistor) and disappear, so that the variation in the holding voltage of the pixel is suppressed. In other words, the amount of charge stored in the storage capacitor by recombining the charge stored in the storage capacitor of the pixel with the charge of the polarity attracted to the storage capacitor among the carriers generated by irradiation with α rays and the like. This reduces the problem of reducing. Therefore, fluctuations in the holding voltage of the pixel can be suppressed electrically. Since there is no change in the manufacturing process, there is no concern that the manufacturing process becomes complicated or the manufacturing cost increases.

(考察3)
また、非選択サブデータ線電圧VRをVCOMに設定することができる。VCOMは、画像信号が正極性である場合にメインデータ線MDLnを経由して伝達される最大電圧+Vと、画像信号が負極性である場合にメインデータ線MDLnを経由して伝達される最小電圧−Vとの中点(中間)の電圧である。
(Discussion 3)
Further, the non-selected sub data line voltage VR can be set to VCOM. VCOM is a maximum voltage + V transmitted via the main data line MDLn when the image signal is positive and a minimum voltage transmitted via the main data line MDLn when the image signal is negative. This is the midpoint (intermediate) voltage from −V.

この場合、非選択サブデータ線電圧VRは常に一定値であり、かつ、正フィールド/負フィールドに応じて変更する必要がない。よって、液晶表示装置のドライバ回路の負担が軽減される。なお、以上の考察1〜考察3において説明したVRの電圧設定は一例であり、それ以外の電圧設定を適宜、行うことができる。   In this case, the non-selected sub data line voltage VR is always a constant value and does not need to be changed according to the positive field / negative field. Therefore, the burden on the driver circuit of the liquid crystal display device is reduced. Note that the VR voltage setting described in the above considerations 1 to 3 is an example, and other voltage settings can be appropriately set.

(第2の実施形態)
本実施形態では、液晶表示装置の全体構成の一例について説明する。
(Second Embodiment)
In the present embodiment, an example of the entire configuration of the liquid crystal display device will be described.

(液晶表示装置の構成の一例)
図3は、液晶表示装置の全体構成の一例について説明するための図である。図3の液晶表示装置は、n行n列(nは0以上の整数)のマトリクス状に配置される複数の画素PIXを有する。図3および以下の説明では、n行n列目の画素をPIX(n,n)としている。また、図3においては、メインデータ線MDL0〜MDLnが用意されている。MDLnは、n列目のメインデータ線であることを表している。また、サブデータ線SDLに関しては、SDL(n,0)あるいはSDL(n,1)という表記を用いている。サブデータ線SDLは、1列のサブデータ線が、上側のサブデータ線と下側のサブデータ線に2分割されているため、これらを区別できるように、下側のサブデータ線には“0”を使用し、上側のサブデータ線には“1”を使用している。すなわち、SDL(n,0)は、n列目の下側のサブデータ線を表し、SDL(n,1)は、n列目の上側のサブデータ線を表す。また、図3では、走査線として、GL(M)〜GL(M−3)が描かれている。図3では、GL(M)が最も下側の走査線である。
(Example of configuration of liquid crystal display device)
FIG. 3 is a diagram for explaining an example of the entire configuration of the liquid crystal display device. The liquid crystal display device of FIG. 3 has a plurality of pixels PIX arranged in a matrix of n rows and n columns (n is an integer of 0 or more). In FIG. 3 and the following description, the pixel in the nth row and the nth column is PIX (n, n). In FIG. 3, main data lines MDL0 to MDLn are prepared. MDLn represents the nth column main data line. For the sub data line SDL, the notation SDL (n, 0) or SDL (n, 1) is used. The sub data line SDL is divided into two sub data lines, that is, an upper sub data line and a lower sub data line. “0” is used, and “1” is used for the upper sub-data line. That is, SDL (n, 0) represents the lower sub-data line in the nth column, and SDL (n, 1) represents the upper sub-data line in the nth column. In FIG. 3, GL (M) to GL (M-3) are drawn as scanning lines. In FIG. 3, GL (M) is the lowermost scanning line.

図3の液晶表示装置は、走査線駆動回路200と、データ線駆動回路300と、2次元状に配置された複数の画素(PIX(n,n))と、階層化された構造をもつデータ線(メインデータ線MDL0〜MDLnおよびサブデータ線SDL(0,0)〜SDL(n,1)を有する)と、第1のスイッチ回路(下側回路SW1a,上側回路SW1b)と、第2のスイッチ回路(下側回路SW2a,上側回路SW2b)とを有する。第1のスイッチ回路(下側回路)SW1aは、第1のスイッチとして機能する複数のNMOSトランジスタMQaにより構成される。第1のスイッチ回路(上側回路)SW1bは第1のスイッチとして機能する複数のNMOSトランジスタMQbにより構成される。第2のスイッチ回路(下側回路)SW2aは第2のスイッチとして機能する複数のNMOSトランジスタMRaで構成される。第2のスイッチ回路(上側回路)SW2bは第2のスイッチとして機能する複数のNMOSトランジスタMRbで構成される。   The liquid crystal display device of FIG. 3 includes a scanning line driving circuit 200, a data line driving circuit 300, a plurality of pixels (PIX (n, n)) arranged two-dimensionally, and data having a hierarchical structure. Lines (having main data lines MDL0 to MDLn and sub data lines SDL (0,0) to SDL (n, 1)), a first switch circuit (lower circuit SW1a, upper circuit SW1b), a second Switch circuit (lower circuit SW2a, upper circuit SW2b). The first switch circuit (lower circuit) SW1a includes a plurality of NMOS transistors MQa that function as first switches. The first switch circuit (upper circuit) SW1b is composed of a plurality of NMOS transistors MQb that function as first switches. The second switch circuit (lower circuit) SW2a includes a plurality of NMOS transistors MRa that function as second switches. The second switch circuit (upper circuit) SW2b includes a plurality of NMOS transistors MRb that function as second switches.

走査線駆動回路200は、走査線GL(M)〜GL(M−3)の各々を、例えば、線順次駆動する。また、走査線駆動回路200は、第1のスイッチ回路(下側回路)SW1aに含まれる複数の第1のスイッチ(NMOSトランジスタMQa)のオン/オフを制御信号Ypによって制御し、第2のスイッチ回路(下側回路)SW2aに含まれる複数の第2のスイッチ(NMOSトランジスタMRa)のオン/オフを制御信号/Ypによって制御し、第2のスイッチ回路(上側回路)SW2bに含まれる複数の第2のスイッチ(NMOSトランジスタMRb)のオン/オフを制御信号/Yp-1によって制御し、第1のスイッチ回路(上側回路)SW1bに含まれる複数の第1のスイッチ(NMOSトランジスタMQb)のオン/オフを制御信号Yp-1によって制御する。走査線駆動回路200の動作は、制御信号YCNTによって制御される。   The scanning line driving circuit 200 drives each of the scanning lines GL (M) to GL (M-3), for example, line-sequentially. Further, the scanning line driving circuit 200 controls on / off of the plurality of first switches (NMOS transistors MQa) included in the first switch circuit (lower circuit) SW1a by the control signal Yp, and the second switch On / off of a plurality of second switches (NMOS transistors MRa) included in the circuit (lower circuit) SW2a is controlled by a control signal / Yp, and a plurality of second switches included in the second switch circuit (upper circuit) SW2b are controlled. The on / off of the second switch (NMOS transistor MRb) is controlled by the control signal / Yp-1, and the plurality of first switches (NMOS transistors MQb) included in the first switch circuit (upper circuit) SW1b are turned on / off. Off is controlled by the control signal Yp-1. The operation of the scanning line driving circuit 200 is controlled by a control signal YCNT.

データ線駆動回路300には、画像信号VID0〜VIDxが入力され、その画像信号は、メインデータ線(MDL0〜MDLn)のうちの少なくとも一本に供給される。データ線駆動回路300の動作は、制御信号XCNTによって制御される。また、基準電圧VCOMは、配線L200を経由して各画素回路に供給される。また、非選択サブデータ線電圧VRは、供給ノードNE1、配線L100ならびに第2のスイッチ回路SW2a、SW2bを経由してサブデータ線(SDL(0,0)〜SDL(n,1))の各々に供給される。   Image signals VID0 to VIDx are input to the data line driving circuit 300, and the image signals are supplied to at least one of the main data lines (MDL0 to MDLn). The operation of the data line driving circuit 300 is controlled by a control signal XCNT. The reference voltage VCOM is supplied to each pixel circuit via the wiring L200. The non-selected sub data line voltage VR is supplied to each of the sub data lines (SDL (0,0) to SDL (n, 1)) via the supply node NE1, the wiring L100, and the second switch circuits SW2a and SW2b. To be supplied.

図3の液晶表示装置では、一本のメインデータ線に対して、2本のサブデータ線(上側のサブデータ線および下側のサブデータ線)が設けられている。次に、図4を用いて、図3の液晶表示装置の動作を説明する。以下の説明では、図3に示される画素のうち、左側において上下方向に一列に配列される4つの画素(PIX(0,0)〜PIX(3,0))にデータを書き込む場合を想定する。   In the liquid crystal display device of FIG. 3, two sub data lines (an upper sub data line and a lower sub data line) are provided for one main data line. Next, the operation of the liquid crystal display device of FIG. 3 will be described with reference to FIG. In the following description, it is assumed that data is written in four pixels (PIX (0, 0) to PIX (3, 0)) arranged in a line in the vertical direction on the left side among the pixels shown in FIG. .

(液晶表示装置の動作例)
図4は、図3の液晶表示装置の動作の一例を説明するためのタイミング図である。図4の(1)〜(4)に示されるように、走査線GL(M−3)〜GL(M)は、線順次で駆動される。また、図4の(5)および(6)に示すように、時刻t0〜t8の期間において、スイッチ制御信号Yp-1がHレベルとなり、/Yp-1がLレベルとなる。これによって、サブデータ線SDL(0,1)が選択される。同様に、図4の(7)および(8)に示すように、時刻t8〜t16の期間において、スイッチ制御信号YpがHレベルとなり、/YpがLレベルとなる。これによって、サブデータ線SDL(0,0)が選択される。
(Operation example of liquid crystal display device)
FIG. 4 is a timing chart for explaining an example of the operation of the liquid crystal display device of FIG. As shown in (1) to (4) of FIG. 4, the scanning lines GL (M−3) to GL (M) are driven line-sequentially. Further, as shown in (5) and (6) of FIG. 4, the switch control signal Yp-1 becomes H level and / Yp-1 becomes L level in the period from time t0 to t8. As a result, the sub data line SDL (0, 1) is selected. Similarly, as shown in (7) and (8) of FIG. 4, the switch control signal Yp becomes H level and / Yp becomes L level during the period from time t8 to t16. As a result, the sub data line SDL (0, 0) is selected.

メインデータ線MDL0には、図4の(9)に示すように、書き込みデータ(画像データ)D1,D2,D3,D4が供給される。サブデータ線SDL(0,1)の電位は、図4の(10)に示すように変化する。サブデータ線SDL(0,0)の電位は、図4の(11)に示すように変化する。そして、画素PIX(3,0),画素PIX(2,0),画素PIX(1,0),画素PIX(0,0)の各々には、図4の(12)〜(15)に示すように、書き込みデータ(画像データ)D1〜D4の各々が書き込まれる。   As shown in (9) of FIG. 4, write data (image data) D1, D2, D3, and D4 are supplied to the main data line MDL0. The potential of the sub data line SDL (0, 1) changes as indicated by (10) in FIG. The potential of the sub data line SDL (0, 0) changes as indicated by (11) in FIG. Each of the pixel PIX (3, 0), the pixel PIX (2, 0), the pixel PIX (1, 0), and the pixel PIX (0, 0) is shown in (12) to (15) of FIG. As described above, each of the write data (image data) D1 to D4 is written.

(第3の実施形態)
図5は、階層化されたデータ線構造をもつ液晶表示装置の要部の構成の他の例を示す回路図である。
(Third embodiment)
FIG. 5 is a circuit diagram showing another example of a configuration of a main part of a liquid crystal display device having a hierarchical data line structure.

(液晶表示装置の構成)
図5の回路構成は、基本的には、図3に示される回路構成と同じである。但し、本実施形態では、非選択サブデータ線電圧VRとして、2種類の電圧VRA(予備電圧),VRB(正規の電圧)を使用する。すなわち、第1の非選択サブデータ線電圧VRBと、第2の非選択サブデータ線電圧VRAとを設けておき、サブデータ線が選択状態から非選択状態になったときに、まず、第2のサブデータ線電圧VRAを非選択状態のサブデータ線に供給し、次に、第1の非選択サブデータ線電圧VRBを供給する。第1のサブデータ線電圧VRBの供給は、スイッチ回路SW20を構成する第2のスイッチ(NMOSトランジスタ)MB1,MB2によって制御する。第2のスイッチ(NMOSトランジスタ)MB1,MB2のオン/オフは、走査線駆動回路200から出力されるスイッチ制御信号/YBp-1および/YBpによって制御される。また、第2のサブデータ線電圧VRAの供給は、スイッチ回路SW10を構成する第3のスイッチ(NMOSトランジスタ)MRa,MRbによって制御する。第2のスイッチ(NMOSトランジスタ)MRa,MRbのオン/オフは、走査線駆動回路200から出力されるスイッチ制御信号/Ypおよび/Yp-1によって制御される。
(Configuration of liquid crystal display device)
The circuit configuration of FIG. 5 is basically the same as the circuit configuration shown in FIG. However, in this embodiment, two types of voltages VRA (preliminary voltage) and VRB (regular voltage) are used as the unselected sub data line voltage VR. That is, the first non-selected sub data line voltage VRB and the second non-selected sub data line voltage VRA are provided, and when the sub data line is changed from the selected state to the non-selected state, first, The sub-data line voltage VRA is supplied to the non-selected sub-data line, and then the first non-selected sub-data line voltage VRB is supplied. The supply of the first sub data line voltage VRB is controlled by second switches (NMOS transistors) MB1 and MB2 constituting the switch circuit SW20. On / off of the second switches (NMOS transistors) MB1 and MB2 is controlled by switch control signals / YBp-1 and / YBp output from the scanning line driving circuit 200. The supply of the second sub data line voltage VRA is controlled by third switches (NMOS transistors) MRa and MRb constituting the switch circuit SW10. On / off of the second switches (NMOS transistors) MRa and MRb is controlled by switch control signals / Yp and / Yp−1 output from the scanning line driving circuit 200.

非選択サブデータ線電圧VRの供給ノード(あるいは供給線)には、一般に、多数の非選択状態のサブデータ線SDLが接続される。よって、一本のサブデータ線SDLが選択状態から非選択状態となったときに、メインデータ線MDLから電気的に分離された直後のサブデータ線SDLに、非選択サブデータ線電圧VRの供給ノードを接続すると、その接続に伴って充放電電流が流れる。その充放電電流は、非選択サブデータ線電圧VRの供給ノードに接続されている他の多数の非選択状態のサブデータ線SDLの電位を変動させる要因(ノイズ要因)となる場合があり、この場合、非選択状態の画素の表示特性に影響が生じる。   In general, a large number of non-selected sub-data lines SDL are connected to a supply node (or supply line) of the non-selected sub-data line voltage VR. Therefore, when one sub data line SDL is changed from the selected state to the unselected state, the non-selected sub data line voltage VR is supplied to the sub data line SDL immediately after being electrically separated from the main data line MDL. When nodes are connected, a charge / discharge current flows along with the connection. The charge / discharge current may be a factor (noise factor) that fluctuates the potentials of many other non-selected sub-data lines SDL connected to the supply node of the non-selected sub-data line voltage VR. In this case, the display characteristics of the non-selected pixel are affected.

そこで、本実施形態では、非選択サブデータ線電圧VRとして2種類の電圧(第1の非選択サブデータ線電圧VRBと第2の非選択サブデータ線電圧VRA)を用意する。2種類の非選択サブデータ線電圧(VRBとVRA)は、各々、電気的(好ましくはさらに物理的にも)相互に切り離されているのが好ましい。但し、VRBとVRAの電圧値は、原則的には同じである(但し、例えば、少々の差異を設けることもできる)。そして、一本のサブデータ線SDLが選択状態から非選択状態となると、第3のスイッチMRa,MRbをオンして、サブデータ線(SDL(0,1),SDL(0,0))には、まず、第2の非選択サブデータ線電圧VRAを供給する。これによって、サブデータ線(SDL(0,1),SDL(0,0))の電位は、第2の非選択サブデータ線電圧VRAに収束する(あるいは近い電圧となる)。このとき、充放電電流が流れてVRAの電位が変動するが、VRAは、VRBから電気的(望ましくはさらに物理的に)切り離されているため、VRAの電位変動は、VRBの電位に影響を与えない。よって、VRBに接続されている多数の非選択状態の画素には影響がない。サブデータ線(SDL(0,1),SDL(0,0))の電位がVRAに近づいた後(理想的にはVRAに一致した後)、第3のスイッチMRa,MRbをオフしてVRAをサブデータ線(SDL(0,1),SDL(0,0))から切り離し、次に、第2のスイッチ(MB1,MB2)をオンして、VRBをサブデータ線(SDL(0,1),SDL(0,0))に供給する。サブデータ線(SDL(0,1),SDL(0,0))は、VRAによって予備的に充電(あるいは放電)されてVRBと同じ電圧あるいはVRBの近傍の電圧となっていることから、充放電電流の電流量は低減される。よって、VRBの供給ノード(図3のNE1)あるいはVRBの供給線(図3のL100)に接続される多数の非選択状態の画素には、ほとんど影響がない。よって、非選択状態の画素の表示特性をさらに改善することができる。   Therefore, in this embodiment, two types of voltages (first unselected sub data line voltage VRB and second unselected sub data line voltage VRA) are prepared as the unselected sub data line voltage VR. The two types of unselected sub-data line voltages (VRB and VRA) are preferably separated from each other electrically (preferably also physically). However, the voltage values of VRB and VRA are basically the same (however, for example, a slight difference can be provided). When one sub data line SDL changes from the selected state to the non-selected state, the third switches MRa and MRb are turned on, and the sub data lines (SDL (0,1), SDL (0,0)) are turned on. First, the second unselected sub data line voltage VRA is supplied. As a result, the potentials of the sub data lines (SDL (0, 1), SDL (0, 0)) converge (or become close to) the second unselected sub data line voltage VRA. At this time, the charge / discharge current flows and the VRA potential fluctuates. However, since VRA is electrically (preferably further physically separated) from VRB, the VRA potential fluctuation affects the VRB potential. Don't give. Therefore, there is no influence on many non-selected pixels connected to the VRB. After the potentials of the sub-data lines (SDL (0,1), SDL (0,0)) approach VRA (ideally after matching with VRA), the third switches MRa and MRb are turned off and VRA Is disconnected from the sub data lines (SDL (0,1), SDL (0,0)), and then the second switch (MB1, MB2) is turned on to connect the VRB to the sub data lines (SDL (0,1)). ), SDL (0, 0)). Since the sub data lines (SDL (0,1), SDL (0,0)) are preliminarily charged (or discharged) by VRA and become the same voltage as VRB or a voltage in the vicinity of VRB. The amount of discharge current is reduced. Therefore, the non-selected pixels connected to the VRB supply node (NE1 in FIG. 3) or the VRB supply line (L100 in FIG. 3) are hardly affected. Therefore, the display characteristics of the non-selected pixel can be further improved.

(VRAおよびVRBを発生させる回路の一例)
図6(A)および図6(B)は、第1および第2の非選択サブデータ線電圧を発生させる回路の一例を示す回路図である。図6(A)の場合、第1のサブデータ線電圧VRBと第2の非選択サブデータ線電圧VRAとは、スイッチSW3を介して電気的に分離されている。VRAとVRBは、以下の手順で生成される。まず、端子TP1に非選択サブデータ線電圧VRを印加し、スイッチSW3をオンさせる。コンデンサCAおよびコンデンサCBに電荷が蓄積され、VRAとVRB(電圧は共にVRに一致する)が生成される。次に、スイッチSW3をオフする。これによって、VRAとVRBは、スイッチSW3によって電気的に分離される。
(Example of circuit for generating VRA and VRB)
FIGS. 6A and 6B are circuit diagrams showing examples of circuits for generating the first and second unselected sub data line voltages. In the case of FIG. 6A, the first sub data line voltage VRB and the second non-selected sub data line voltage VRA are electrically separated via the switch SW3. VRA and VRB are generated by the following procedure. First, the non-selected sub data line voltage VR is applied to the terminal TP1, and the switch SW3 is turned on. Charges are accumulated in the capacitor CA and the capacitor CB, and VRA and VRB (both voltages coincide with VR) are generated. Next, the switch SW3 is turned off. As a result, VRA and VRB are electrically separated by the switch SW3.

図6(B)の場合、第1のサブデータ線電圧VRBと第2の非選択サブデータ線電圧VRAとは、電気的のみならず、物理的にも分離される。つまり、VRAとVRBは、完全に分離された別々の回路によって生成される。VRAは、端子TP2に印加される。コンデンサCAは安定化容量として機能する。同様に、VRBは、端子TP3に印加される。コンデンサCBは安定化容量として機能する。VRAとVRBの独立性が高い方が好ましいため、図6(B)の回路構成の方がより信頼性が高いといえる。   In the case of FIG. 6B, the first sub data line voltage VRB and the second non-selected sub data line voltage VRA are separated not only electrically but also physically. That is, VRA and VRB are generated by separate circuits that are completely separated. VRA is applied to terminal TP2. The capacitor CA functions as a stabilizing capacity. Similarly, VRB is applied to the terminal TP3. The capacitor CB functions as a stabilizing capacity. Since it is preferable that VRA and VRB have high independence, it can be said that the circuit configuration in FIG. 6B has higher reliability.

(液晶表示装置の動作例)
図7は、図6の液晶表示装置の動作の一例を説明するためのタイミング図である。図7の(1)〜(4)に示されるように、走査線GL(M−3)〜GL(M)は、線順次で駆動される。また、図7の(5)および(6)に示すように、時刻t0〜t8の期間において、スイッチ制御信号Yp-1がHレベルとなり、これによって、サブデータ線SDL(0,1)が選択される。
(Operation example of liquid crystal display device)
FIG. 7 is a timing chart for explaining an example of the operation of the liquid crystal display device of FIG. As shown in (1) to (4) of FIG. 7, the scanning lines GL (M−3) to GL (M) are driven line-sequentially. Further, as shown in (5) and (6) of FIG. 7, the switch control signal Yp-1 becomes the H level during the period of time t0 to t8, whereby the sub data line SDL (0, 1) is selected. Is done.

ここで、注目すべき点は、時刻t8〜t8’の期間において、スイッチ制御信号/Yp-1がHレベルになり、これによって、サブデータ線SDL(0,1)に第2の非選択データ線電圧VRAが印加されることである。また、図7の(7)に示すように、時刻t8’において、スイッチ制御信号/Yp-1がLレベルになり、同時に、スイッチ制御信号/YBp-1がLレベルからHレベルになる。これによって、サブデータ線SDL(0,1)に第1の非選択データ線電圧VRBが印加される。   Here, it should be noted that the switch control signal / Yp-1 becomes H level during the period from time t8 to t8 ', whereby the second non-selected data is supplied to the sub-data line SDL (0, 1). The line voltage VRA is applied. Further, as shown in (7) of FIG. 7, at time t8 ', the switch control signal / Yp-1 changes to L level, and at the same time, the switch control signal / YBp-1 changes from L level to H level. As a result, the first non-selected data line voltage VRB is applied to the sub data line SDL (0, 1).

同様に、図7の(8)に示すように、時刻t8〜t16の期間において、スイッチ制御信号YpがHレベルとなり、これによって、サブデータ線SDL(0,0)が選択される。また、図7の(9)に示すように、時刻t16〜t16’の期間において、スイッチ制御信号/YpがHレベルになり、これによって、サブデータ線SDL(0,0)に第2の非選択データ線電圧VRAが印加される。   Similarly, as shown in (8) of FIG. 7, the switch control signal Yp becomes H level during the period from time t8 to t16, and thereby the sub data line SDL (0, 0) is selected. Further, as shown in (9) of FIG. 7, the switch control signal / Yp becomes H level during the period from time t16 to t16 ′, and thereby the second non-data line SDL (0, 0) is supplied to the second non-line. A selected data line voltage VRA is applied.

また、時刻t16’においてスイッチ制御信号/YpがLレベルになり、図7の(10)に示すように、同時にスイッチ制御信号/YBpがLレベルからHレベルになる。これによって、サブデータ線SDL(0,0)に第1の非選択データ線電圧VRBが印加される。   Further, at time t16 ', the switch control signal / Yp becomes L level, and at the same time, as shown in (10) of FIG. 7, the switch control signal / YBp changes from L level to H level. As a result, the first non-selected data line voltage VRB is applied to the sub data line SDL (0, 0).

メインデータ線MDL0には、図7の(11)に示すように、書き込みデータ(画像データ)D1,D2,D3,D4が供給される。サブデータ線SDL(0,1)の電位は、図4の(10)に示すように変化する。サブデータ線SDL(0,0)の電位は、図7の(12)に示すように変化する。時刻t8〜t8’の期間においてVRAが印加され、時刻t8’以降、VRBが印加されている。同様に、サブデータ線SDL(0,0)の電位は、図7の(13)に示すように変化する。時刻t16〜t16’の期間においてVRAが印加され、時刻t16’以降、VRBが印加されている。   As shown in (11) of FIG. 7, write data (image data) D1, D2, D3, and D4 are supplied to the main data line MDL0. The potential of the sub data line SDL (0, 1) changes as indicated by (10) in FIG. The potential of the sub data line SDL (0, 0) changes as indicated by (12) in FIG. VRA is applied during a period from time t8 to t8 ', and VRB is applied after time t8'. Similarly, the potential of the sub data line SDL (0, 0) changes as indicated by (13) in FIG. VRA is applied during a period from time t16 to t16 ', and VRB is applied after time t16'.

そして、画素PIX(3,0),画素PIX(2,0),画素PIX(1,0),画素PIX(0,0)の各々には、図7の(14)〜(17)に示すように、書き込みデータ(画像データ)D1〜D4の各々が書き込まれる。   Each of the pixel PIX (3, 0), the pixel PIX (2, 0), the pixel PIX (1, 0), and the pixel PIX (0, 0) is shown in (14) to (17) of FIG. As described above, each of the write data (image data) D1 to D4 is written.

(第4の実施形態)
図8は、本発明の液晶表示装置を搭載した電子機器の一例(携帯電話端末)の外観を示す斜視図である。図8において、携帯電話端末1300は、液晶表示装置(液晶パネル)100と、操作キー1302と、音声出力部1304と、音声入力部1306とを有する。
(Fourth embodiment)
FIG. 8 is a perspective view showing an appearance of an example (mobile phone terminal) of an electronic device in which the liquid crystal display device of the present invention is mounted. In FIG. 8, the mobile phone terminal 1300 includes a liquid crystal display device (liquid crystal panel) 100, operation keys 1302, an audio output unit 1304, and an audio input unit 1306.

上述のとおり、本発明の液晶表示装置100は、データ線の階層化によって表示特性が改善され、高品質な表示が可能である。よって、その液晶表示装置100を搭載する電子機器(つまり携帯電話端末)1300の表示性能も向上する。本発明は、その他の電子機器にも適用可能である。例えば、反射式液晶(Liquid Crystal On Silicon、LCOS)パネルを使用した反射型プロジェクタや照明装置にも適用することができる。   As described above, in the liquid crystal display device 100 of the present invention, display characteristics are improved by hierarchizing data lines, and high-quality display is possible. Therefore, the display performance of the electronic device (that is, the mobile phone terminal) 1300 on which the liquid crystal display device 100 is mounted is also improved. The present invention is also applicable to other electronic devices. For example, the present invention can also be applied to a reflective projector and an illumination device that use a reflective liquid crystal on silicon (LCOS) panel.

このように、本発明のいつくかの実施形態によれば、例えば、選択画素への書き込みによるデータ線電位の変動が非選択画素に及ぼす影響を最小化し、非選択画素の表示特性を格段に向上させることが可能となる。   As described above, according to some embodiments of the present invention, for example, the influence of fluctuations in the data line potential caused by writing to the selected pixel on the non-selected pixel is minimized, and the display characteristics of the non-selected pixel are significantly improved. It becomes possible to make it.

以上、本発明について実施形態を参照して説明したが、本発明の新規事項および効果から逸脱しない範囲で、多くの変形が可能であることは、当業者には容易に理解できるであろう。したがって、このような変形例は、すべて本発明に含まれるものとする。本発明は、各種の電気光学装置(液晶表示装置や有機EL表示装置)および各種の電子機器に適用することができる。   The present invention has been described above with reference to the embodiments. However, it will be easily understood by those skilled in the art that many modifications can be made without departing from the novel matters and effects of the present invention. Therefore, all such modifications are included in the present invention. The present invention can be applied to various electro-optical devices (liquid crystal display devices and organic EL display devices) and various electronic devices.

図1(A)〜図1(C)は、階層化されたデータ線構造をもつ液晶表示装置の要部の構成ならびにサブデータ線に印加される電圧について説明するための図1A to 1C are diagrams for explaining a configuration of a main part of a liquid crystal display device having a hierarchical data line structure and a voltage applied to a sub data line. 図2(A),図2(B)は、非選択サブデータ線電圧を、アルファ線(光)照射により生じたキャリアの吸収用電圧として用いる例を説明するための図2A and 2B are diagrams for explaining an example in which a non-selected sub data line voltage is used as a voltage for absorbing carriers generated by irradiation with alpha rays (light). 液晶表示装置の全体構成の一例について説明するための図The figure for demonstrating an example of the whole structure of a liquid crystal display device 図3の液晶表示装置の動作の一例を説明するためのタイミング図FIG. 3 is a timing chart for explaining an example of the operation of the liquid crystal display device of FIG. 階層化されたデータ線構造をもつ液晶表示装置の要部の構成の他の例を示す回路図The circuit diagram which shows the other example of a structure of the principal part of the liquid crystal display device which has a hierarchical data line structure 図6(A)および図6(B)は、第1および第2の非選択サブデータ線電圧を発生させる回路の一例を示す回路図FIGS. 6A and 6B are circuit diagrams showing examples of circuits for generating the first and second unselected sub data line voltages. 図6の液晶表示装置の動作の一例を説明するためのタイミング図FIG. 6 is a timing chart for explaining an example of the operation of the liquid crystal display device of FIG. 本発明の液晶表示装置を搭載した電子機器の一例(携帯電話端末)の外観を示す斜視図The perspective view which shows the external appearance of an example (cellular phone terminal) of the electronic device carrying the liquid crystal display device of this invention 図9(A)〜図9(D)は、本発明前に明らかとされた、新たな課題について説明するための図FIG. 9A to FIG. 9D are diagrams for explaining a new problem that was clarified before the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

M1 画素トランジスタ、LC 液晶素子、Cst 保持容量、
GL0〜GLm 走査線、MDLn メインデータ線、SDLn サブデータ線、
VDn 書込み電圧(画像信号)、VR 非選択サブデータ線電圧、
NE1 VRの供給ノード、L10 VRの供給線、L20,L30 VCOMの供給線
VCOM 保持容量の一端に印加される基準電圧、
LCOM 液晶素子の一端に印加される基準電圧
M1 pixel transistor, LC liquid crystal element, Cst storage capacitor,
GL0 to GLm scanning line, MDLn main data line, SDLn sub data line,
VDn write voltage (image signal), VR non-selected sub data line voltage,
NE1 VR supply node, L10 VR supply line, L20, L30 VCOM supply line VCOM Reference voltage applied to one end of the holding capacitor,
LCOM Reference voltage applied to one end of liquid crystal element

Claims (10)

n本(nは1以上の整数)のメインデータ線と、
前記n本のメインデータ線のうちの第kのメインデータ線(1≦k≦n)に対応して設けられる、m本(mは1以上の整数)のサブデータ線と、
前記第kのメインデータ線と前記m本のサブデータ線の各々との間に設けられ、前記第kのメインデータ線と前記m本のサブデータ線の各々との電気的な接続/非接続を切り換えるためのm個の第1のスイッチと、
前記m本のサブデータ線の各々に接続されるi個(iは1以上の整数)の画素回路と、
を含むことを特徴とする電気光学装置。
n main data lines (n is an integer of 1 or more);
M sub-data lines (m is an integer of 1 or more) provided corresponding to the k-th main data line (1 ≦ k ≦ n) of the n main data lines;
Electrical connection / disconnection between the k-th main data line and each of the m sub-data lines provided between the k-th main data line and each of the m-th sub-data lines. M first switches for switching between,
I pixel circuits (i is an integer of 1 or more) connected to each of the m sub-data lines;
An electro-optical device comprising:
請求項1記載の電気光学装置であって、
前記m本のサブデータ線の各々への、非選択サブデータ線電圧の供給/非供給を切り換えるためのm個の第2のスイッチを有し、
前記m個の第1のスイッチの各々は、前記m本のサブデータ線のうちの対応するサブデータ線が選択状態のときにオンし、非選択状態のときにオフし、かつ、
前記m個の第2のスイッチの各々は、前記m本のサブデータ線のうちの対応するサブデータ線が選択状態のときにオフし、非選択状態のときにオンすることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1,
M second switches for switching supply / non-supply of the unselected sub data line voltage to each of the m sub data lines,
Each of the m first switches is turned on when a corresponding sub-data line of the m sub-data lines is in a selected state, turned off when in a non-selected state, and
Each of the m second switches is turned off when a corresponding sub-data line among the m sub-data lines is in a selected state, and turned on when the sub-data line is in a non-selected state. Optical device.
請求項2記載の電気光学装置であって、
前記非選択サブデータ線電圧は、前記第kのメインデータ線を経由して伝達される画像信号の最大電圧と最小電圧との中点の電圧であることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 2,
The electro-optical device, wherein the non-selected sub data line voltage is a midpoint voltage between a maximum voltage and a minimum voltage of an image signal transmitted via the kth main data line.
請求項2記載の電気光学装置であって、
前記画像信号の電位極性は、所定電位を基準として周期的に切り換わり、
前記非選択サブデータ線電圧は、
前記画像信号が正極性である場合、前記第kのメインデータ線を経由して伝達される、前記正極性の画像信号の最大電圧と最小電圧の中点の電圧であり、
前記画像信号が負極性である場合、前記第kのメインデータ線を経由して伝達される、前記負極性の画像信号の最大電圧と最小電圧との中点の電圧であることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 2,
The potential polarity of the image signal is periodically switched based on a predetermined potential,
The unselected sub data line voltage is:
When the image signal is positive, it is a midpoint voltage between the maximum voltage and the minimum voltage of the positive image signal transmitted via the kth main data line,
When the image signal has a negative polarity, it is a midpoint voltage between the maximum voltage and the minimum voltage of the negative image signal transmitted through the kth main data line. Electro-optic device.
請求項2記載の電気光学装置であって、
前記画像信号の電位極性は、所定電位を基準として周期的に切り換わり、
前記非選択サブデータ線電圧は、
前記画像信号が正極性である場合に前記第kのメインデータ線を経由して伝達される最大電圧と、前記画像信号が負極性である場合に前記第kのメインデータ線を経由して伝達される最小電圧との中点の電圧であることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 2,
The potential polarity of the image signal is periodically switched based on a predetermined potential,
The unselected sub data line voltage is:
The maximum voltage transmitted via the kth main data line when the image signal is positive, and the maximum voltage transmitted via the kth main data line when the image signal is negative. An electro-optical device characterized in that the voltage is a midpoint voltage with respect to the minimum voltage to be generated.
請求項2記載の電気光学装置であって、
前記i個の画素回路の各々は、
画素電極と、
前記m本のサブデータ線の各々と、前記画素電極との間に設けられるトランスファースイッチを有し、
前記非選択サブデータ線電圧は、
前記トランスファースイッチがNMOSトランジスタで構成される場合、前記第kのメインデータ線を経由して伝達される最大電圧以上の電圧に設定され、
前記トランスファースイッチがPMOSトランジスタで構成される場合、前記第kのメインデータ線を経由して伝達される最小電圧以下の電圧に設定されることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 2,
Each of the i pixel circuits is
A pixel electrode;
A transfer switch provided between each of the m sub-data lines and the pixel electrode;
The unselected sub data line voltage is:
When the transfer switch is composed of an NMOS transistor, it is set to a voltage equal to or higher than the maximum voltage transmitted via the kth main data line,
When the transfer switch is composed of a PMOS transistor, the electro-optical device is set to a voltage equal to or lower than a minimum voltage transmitted via the kth main data line.
請求項1記載の電気光学装置であって、
前記m本のサブデータ線の各々への、第1の非選択サブデータ線電圧の供給/非供給を切り換えるためのm個の第2のスイッチと、
前記m本のサブデータ線の各々への、第2の非選択サブデータ線電圧の供給/非供給を切り換えるためのm個の第3のスイッチと、を有し、
前記m個の第1のスイッチの各々は、前記m本のサブデータ線のうちの対応するサブデータ線が選択状態のときにオンし、非選択状態のときにオフし、
前記m個の第2のスイッチおよび第3のスイッチの各々は、前記m本のサブデータ線のうちの対応するサブデータ線が選択状態のときにオフし、
かつ、前記m本のサブデータ線のうちの対応するサブデータ線が非選択状態のときには、まず、前記第3のスイッチがオンして前記m本のサブデータ線のうちの対応するサブデータ線に前記第2の非選択サブデータ線電圧を供給し、
次に、前記第3のスイッチをオフすると共に前記第2のスイッチをオンして、前記m本のサブデータ線のうちの対応するサブデータ線に前記第1の非選択サブデータ線電圧を供給することを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1,
M second switches for switching supply / non-supply of the first unselected sub data line voltage to each of the m sub data lines;
M number of third switches for switching supply / non-supply of the second unselected sub-data line voltage to each of the m sub-data lines,
Each of the m first switches is turned on when a corresponding sub-data line among the m sub-data lines is selected, and is turned off when the sub-data line is not selected.
Each of the m second switches and the third switch is turned off when a corresponding sub-data line among the m sub-data lines is in a selected state,
When the corresponding sub-data line among the m sub-data lines is in a non-selected state, first, the third switch is turned on and the corresponding sub-data line among the m sub-data lines is firstly turned on. To supply the second unselected sub-data line voltage,
Next, the third switch is turned off and the second switch is turned on to supply the first unselected sub-data line voltage to the corresponding sub-data line among the m sub-data lines. An electro-optical device.
請求項1記載の電気光学装置であって、
前記第1のスイッチは、メカニカルスイッチであることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1,
The electro-optical device, wherein the first switch is a mechanical switch.
n本(nは1以上の整数)のメインデータ線と、前記n本のメインデータ線のうちの第kのメインデータ線(1≦k≦n)に対応して設けられる、m本(mは1以上の整数)のサブデータ線と、前記第kのメインデータ線と前記m本のサブデータ線の各々との間に設けられ、前記第kのメインデータ線と前記m本のサブデータ線の各々との電気的な接続/非接続を切り換えるためのm個の第1のスイッチと、前記一本のサブデータ線の各々に接続されるi個(iは1以上の整数)の画素回路と、前記m本のサブデータ線の各々への、非選択サブデータ線電圧の供給/非供給を切り換えるためのm個の第2のスイッチを含む電気光学装置の駆動方法であって、
前記m本のサブデータ線のうちの第x(1≦x≦m)のサブデータ線が選択されるとき、前記m個の第1のスイッチのうちの、前記第xのサブデータ線に対応する第xの第1のスイッチをオンさせて、前記第kのメインデータ線ならびに前記第xのサブデータ線を経由して、画像信号を、前記第xのサブデータ線に接続される前記i個の画素回路の少なくとも一つに供給すると共に、
前記m本のサブデータ線のうちの第x(1≦x≦m)のサブデータ線が非選択であるとき、前記m個の第1のスイッチのうちの、前記第xのサブデータ線に対応する第xの前記第1のスイッチをオフさせ、これによって、前記第kのメインデータ線と前記第xのサブデータ線とを電気的に分離し、かつ、前記第xのサブデータ線に対応する第xの前記第2のスイッチをオンさせて、前記非選択サブデータ線電圧を前記第xのサブデータ線に供給することを特徴とする電気光学装置の駆動方法。
n (m is an integer equal to or greater than 1) main data lines and m (m ≦ m) provided corresponding to the kth main data line (1 ≦ k ≦ n) of the n main data lines. Is an integer greater than or equal to 1) and between the kth main data line and the m subdata lines, the kth main data line and the m subdata lines. M first switches for switching electrical connection / disconnection with each of the lines, and i pixels (i is an integer of 1 or more) connected to each of the one sub data line A driving method of an electro-optical device, including a circuit and m second switches for switching supply / non-supply of a non-selected sub data line voltage to each of the m sub data lines,
When the x-th (1 ≦ x ≦ m) sub-data line of the m sub-data lines is selected, it corresponds to the x-th sub-data line of the m first switches. The i-th switch connected to the x-th sub data line is turned on via the k-th main data line and the x-th sub data line. Supplying to at least one of the pixel circuits,
When the x-th (1 ≦ x ≦ m) sub-data line of the m sub-data lines is not selected, the x-th sub-data line of the m first switches The corresponding x-th first switch is turned off, whereby the k-th main data line and the x-th sub data line are electrically separated, and the x-th sub-data line is separated. A driving method for an electro-optical device, wherein the corresponding x-th second switch is turned on to supply the unselected sub-data line voltage to the x-th sub-data line.
請求項1〜請求項8のいずれかに記載の電気光学装置を搭載した電子機器。   An electronic apparatus equipped with the electro-optical device according to claim 1.
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