JP2009188142A - Epoxy resin tablet for semiconductor sealing, and manufacturing method thereof - Google Patents

Epoxy resin tablet for semiconductor sealing, and manufacturing method thereof Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method in which epoxy resin tablets for semiconductor sealing which have superior flowability and moldability in sealing of a semiconductor element can be successively manufactured while cracking, chipping and scattering of powder of an epoxy resin composition during conveyance can be suppressed. <P>SOLUTION: The manufacturing method of epoxy resin tablets for semiconductor sealing includes a process of obtaining a molding 2 by making a tablet of an epoxy resin composition for semiconductor sealing, and a process of forming a surface coating 3 of 5 to 50 μm in average thickness on a surface of the molding using polyethylene wax. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体封止用エポキシ樹脂組成物をタブレット状に打錠成形してなる半導体封止用エポキシ樹脂タブレットとその製造方法に関する。   The present invention relates to an epoxy resin tablet for semiconductor encapsulation formed by tablet-molding an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation into a tablet and a method for producing the same.

トランジスタ、IC、LSI等の半導体素子をエポキシ樹脂組成物によって樹脂封止する場合、一般にトランスファー成形法が用いられている。このようなトランスファー成形法では、一般にエポキシ樹脂組成物からなるタブレットが用いられ、このようなタブレットは、例えばエポキシ樹脂、フェノール樹脂硬化剤、硬化促進剤、離型剤、難燃剤および着色剤等を配合すると共に、全体の50〜90重量%の無機充填材を配合したものをミキサーで混合し、これをロールあるいは押出機によりシート状とし、さらにハンマーミル等を用いて粉末状に粉砕したものをタブレット状に打錠成形することで製造されている。   When a semiconductor element such as a transistor, IC, LSI or the like is encapsulated with an epoxy resin composition, a transfer molding method is generally used. In such a transfer molding method, a tablet composed of an epoxy resin composition is generally used. Such a tablet includes, for example, an epoxy resin, a phenol resin curing agent, a curing accelerator, a release agent, a flame retardant, a colorant, and the like. A blend of 50 to 90% by weight of the total inorganic filler is mixed with a mixer, and this is formed into a sheet by a roll or an extruder, and further pulverized into a powder using a hammer mill or the like. Manufactured by tableting into tablets.

しかしながら、このようにして製造されたタブレットについては、機械的圧縮のみにより打錠成形されているため、機械的強度が十分でなく、打錠成形された場所から封止される場所へと搬送される際に割れや欠けが発生する。このため、打錠成形する際にエポキシ樹脂組成物の粉末を加熱したり、また打錠成形した後に加熱したりすることが行われている(例えば、特許文献1参照)。   However, since the tablet manufactured in this way is tablet-molded only by mechanical compression, the mechanical strength is not sufficient, and the tablet is transported from the tablet-molded place to the sealed place. Cracks and chipping occur. For this reason, the powder of an epoxy resin composition is heated at the time of tableting, or it is heated after tableting (for example, refer patent document 1).

また、打錠成形する際、タブレット成形型の打錠面にエポキシ樹脂組成物の粉末の一部が付着し、タブレットにえぐれが発生することがある。このようなえグレがあるタブレットを用いて半導体素子を封止した場合、封止部分にボイド等が発生し、製品の信頼性が低下する。また、打錠成形する際には、エポキシ樹脂組成物の粉末が飛散することがあり、作業環境の悪化を招くと共に、設備の汚染を招き、製品の信頼性を低下させる。このため、タブレット成形型を予熱しておき、タブレットの表面層に半溶融樹脂層を形成することが行われている(例えば、特許文献2参照)。
特開平3−178405号 特開平4−340236号
Further, when tableting, a part of the powder of the epoxy resin composition may adhere to the tableting surface of the tablet mold, and the tablet may be smeared. When a semiconductor element is sealed using a tablet with such a glare, a void or the like is generated in the sealed portion, and the reliability of the product is lowered. In addition, when tableting, the powder of the epoxy resin composition may be scattered, resulting in deterioration of the working environment, contamination of equipment, and reduction of product reliability. For this reason, a tablet mold is preheated and a semi-molten resin layer is formed on the surface layer of the tablet (see, for example, Patent Document 2).
Japanese Patent Laid-Open No. 3-178405 JP-A-4-340236

上記したように、搬送時におけるタブレットの割れや欠け、また製造時におけるタブレットのえぐれやエポキシ樹脂組成物の粉末の飛散を抑制するため、エポキシ樹脂組成物の粉末を打錠成形する際もしくは打錠成した後に加熱し、またタブレット成形型を予熱することが行われている。しかしながら、このような方法については、タブレット成形型の汚れにより連続した製造が困難となったり、また半導体素子を封止する際のタブレットの流動性や成形性が十分でなかったりし、必ずしも満足のいくものとはなっていない。   As described above, in order to suppress tablet breakage or chipping during transportation, tablet sag during production, or scattering of the epoxy resin composition powder, or when tableting the powder of the epoxy resin composition or tableting After being formed, heating is performed, and the tablet mold is preheated. However, with respect to such a method, it is difficult to continuously manufacture due to contamination of the tablet mold, and the fluidity and moldability of the tablet when sealing the semiconductor element are not always satisfactory. It is not going to go.

本発明はこのような課題を解決するためになされたものであって、搬送時における割れ、欠け、エポキシ樹脂組成物の粉末の飛散が抑制されると共に、半導体素子を封止する際の流動性や成形性にも優れる半導体封止用エポキシ樹脂タブレットを連続して製造することができる製造方法を提供することを目的としている。また、本発明は、搬送時における割れ、欠け、エポキシ樹脂組成物の粉末の飛散が抑制されると共に、半導体素子を封止する際の流動性や成形性にも優れる半導体封止用エポキシ樹脂タブレットを提供することを目的としている。   The present invention has been made in order to solve such problems, and is capable of suppressing cracking, chipping, and scattering of powder of the epoxy resin composition during transportation, and fluidity when sealing a semiconductor element. It aims at providing the manufacturing method which can manufacture continuously the epoxy resin tablet for semiconductor sealing which is excellent also in a moldability. In addition, the present invention is an epoxy resin tablet for semiconductor encapsulation that has excellent fluidity and moldability when sealing semiconductor elements, as well as cracking, chipping, and scattering of powder of the epoxy resin composition during transportation are suppressed. The purpose is to provide.

本発明の半導体封止用エポキシ樹脂タブレットの製造方法は、半導体封止用エポキシ樹脂組成物をタブレット状に打錠成形して成形体を得る工程と、前記成形体の表面にポリエチレンワックスを用いて平均厚さ5μm以上50μm以下の表面コーティングを行う工程とを有することを特徴としている。   The manufacturing method of the epoxy resin tablet for semiconductor sealing of the present invention includes a step of tableting the epoxy resin composition for semiconductor sealing into a tablet to obtain a molded body, and using polyethylene wax on the surface of the molded body And a step of performing surface coating with an average thickness of 5 μm or more and 50 μm or less.

本発明の半導体封止用エポキシ樹脂タブレットの製造方法においては、前記ポリエチレンワックスの酸価が10mgKOH/g以上30mgKOH/g以下、かつ数平均分子量が1000以上5000以下であることが好ましい。   In the manufacturing method of the epoxy resin tablet for semiconductor encapsulation of this invention, it is preferable that the acid value of the said polyethylene wax is 10 mgKOH / g or more and 30 mgKOH / g or less, and a number average molecular weight is 1000 or more and 5000 or less.

また、本発明の半導体封止用エポキシ樹脂タブレットは、半導体封止用エポキシ樹脂組成物からなるタブレット状の成形体と、前記成形体の表面に形成され、ポリエチレンワックスからなる平均厚さ5μm以上50μm以下の表面コーティング層とを有することを特徴としている。   Moreover, the epoxy resin tablet for semiconductor encapsulation of the present invention is a tablet-like molded article made of an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, and an average thickness of 5 μm or more and 50 μm made of polyethylene wax formed on the surface of the molded article. It has the following surface coating layers.

本発明の半導体封止用エポキシ樹脂タブレットにおいては、前記ポリエチレンワックスの酸価が10mgKOH/g以上30mgKOH/g以下、かつ数平均分子量が1000以上5000以下であることが好ましい。   In the epoxy resin tablet for semiconductor encapsulation of the present invention, the polyethylene wax preferably has an acid value of 10 mgKOH / g to 30 mgKOH / g and a number average molecular weight of 1000 to 5000.

本発明の半導体封止用エポキシ樹脂タブレットの製造方法によれば、半導体封止用エポキシ樹脂組成物をタブレット状に打錠成形した後、その表面にポリエチレンワックスを用いて平均厚さ5μm以上50μm以下の表面コーティングを行うことで、搬送途中における割れ、欠け、エポキシ樹脂組成物の粉末の飛散が抑制されると共に、半導体素子を封止する際の流動性や成形性にも優れる半導体封止用エポキシ樹脂タブレットを連続して製造することができる。   According to the method for producing an epoxy resin tablet for semiconductor encapsulation of the present invention, an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation is tablet-molded into tablets, and then an average thickness of 5 μm or more and 50 μm or less using polyethylene wax on the surface thereof. By applying the surface coating, cracking, chipping, and scattering of the powder of the epoxy resin composition are suppressed in the middle of conveyance, and the epoxy for semiconductor encapsulation has excellent fluidity and moldability when sealing semiconductor elements. Resin tablets can be manufactured continuously.

また、本発明の半導体封止用エポキシ樹脂タブレットによれば、半導体封止用エポキシ樹脂組成物からなるタブレット状の成形体の表面に、ポリエチレンワックスからなる平均厚さ5μm以上50μm以下の表面コーティング層を設けることで、搬送途中における割れ、欠け、エポキシ樹脂組成物の粉末の飛散を抑制できると共に、半導体素子を封止する際の流動性や成形性にも優れたものとできる。   Moreover, according to the epoxy resin tablet for semiconductor encapsulation of the present invention, a surface coating layer having an average thickness of 5 μm or more and 50 μm or less made of polyethylene wax is formed on the surface of the tablet-like molded body made of the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation. By providing, it is possible to suppress cracks and chips during conveyance, and scattering of the powder of the epoxy resin composition, and excellent fluidity and moldability when sealing the semiconductor element.

以下、本発明について詳細に説明する。本発明の半導体封止用エポキシ樹脂タブレットの製造方法は、半導体封止用エポキシ樹脂組成物をタブレット状に打錠成形して成形体を得る工程と、この成形体の表面にポリエチレンワックスを用いて平均厚さ5μm以上50μm以下の表面コーティングを行う工程とを有するものである。   Hereinafter, the present invention will be described in detail. The manufacturing method of the epoxy resin tablet for semiconductor encapsulation of the present invention includes a step of tablet-molding the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation into a tablet shape to obtain a molded body, and using polyethylene wax on the surface of the molded body And a step of performing a surface coating with an average thickness of 5 μm or more and 50 μm or less.

本発明に用いられる半導体封止用エポキシ樹脂組成物(以下、単にエポキシ樹脂組成物と呼ぶ)は、エポキシ樹脂を必須成分として含有し、その他に、例えばフェノール樹脂硬化剤、硬化促進剤、無機充填材等を含有するものである。なお、本発明に用いられるエポキシ樹脂組成物は、必ずしもこのようなものに限定されるものではない。   The epoxy resin composition for semiconductor encapsulation used in the present invention (hereinafter simply referred to as an epoxy resin composition) contains an epoxy resin as an essential component, and in addition, for example, a phenol resin curing agent, a curing accelerator, and inorganic filling. It contains materials and the like. In addition, the epoxy resin composition used for this invention is not necessarily limited to such a thing.

エポキシ樹脂としては、1分子内にエポキシ基を2個以上有するモノマー、オリゴマー、ポリマー全般が挙げられ、その分子量、分子構造は特に限定されるものではないが、例えばビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、トリアジン核含有エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂(フェニレン骨格、ビフェニレン骨格等を有する)、ナフトール型エポキシ樹脂等が挙げられ、これらは単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。   Examples of the epoxy resin include monomers, oligomers, and polymers generally having two or more epoxy groups in one molecule, and the molecular weight and molecular structure are not particularly limited. For example, biphenyl type epoxy resin, bisphenol type epoxy Resin, stilbene type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, triphenolmethane type epoxy resin, alkyl modified triphenolmethane type epoxy resin, triazine nucleus-containing epoxy resin, dicyclopentadiene modified phenol type epoxy resin, A phenol aralkyl type epoxy resin (having a phenylene skeleton, a biphenylene skeleton, or the like), a naphthol type epoxy resin, or the like may be used, and these may be used alone or in combination of two or more.

フェノール樹脂硬化剤としては、1分子内にフェノール性水酸基を2個以上有するモノマー、オリゴマー、ポリマー全般が挙げられ、例えばフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、トリフェノールメタン型樹脂、フェノールアラルキル樹脂(フェニレン骨格、ビフェニレン骨格等を有する)、ナフトールアラルキル樹脂等が挙げられ、これらは単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。なお、硬化物の耐湿信頼性、耐熱信頼性を向上させる観点からは、特に、フェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、テルペン変性フェノール樹脂等が好ましいものとして挙げられる。   Examples of the phenol resin curing agent include monomers, oligomers, and polymers generally having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule, such as phenol novolac resin, cresol novolac resin, dicyclopentadiene modified phenol resin, terpene modified phenol resin, Examples thereof include a triphenolmethane type resin, a phenol aralkyl resin (having a phenylene skeleton, a biphenylene skeleton, and the like), a naphthol aralkyl resin, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, from the viewpoint of improving the moisture resistance reliability and heat resistance reliability of the cured product, phenol novolak resin, dicyclopentadiene modified phenol resin, phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, terpene modified phenol resin and the like are particularly preferable. It is done.

フェノール樹脂硬化剤の含有量は、フェノール樹脂硬化剤のフェノール性水酸基数に対するエポキシ樹脂のエポキシ基数の比(エポキシ樹脂のエポキシ基数/フェノール樹脂硬化剤のフェノール性水酸基数)が0.8以上1.3以下となるようにすることが好ましい。上記比が0.8未満であると、エポキシ樹脂組成物の成形性や硬化物の電気特性等が低下するおそれがあり、1.3を超えると、硬化物の耐湿信頼性等が十分でなくなるおそれがある。   The content of the phenol resin curing agent is such that the ratio of the number of epoxy groups of the epoxy resin to the number of phenolic hydroxyl groups of the phenol resin curing agent (the number of epoxy groups of the epoxy resin / the number of phenolic hydroxyl groups of the phenol resin curing agent) is 0.8 or more. It is preferable to be 3 or less. If the ratio is less than 0.8, the moldability of the epoxy resin composition or the electrical properties of the cured product may be reduced. If the ratio exceeds 1.3, the moisture resistance reliability of the cured product is not sufficient. There is a fear.

硬化促進剤は、エポキシ樹脂とフェノール樹脂硬化剤との硬化反応を促進するものであれば分子構造、分子量等は特に限定されるものではなく、例えばDBU(1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7)、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリ(p−メチルフェニル)ホスフィン、トリ(ノニルフェニルホスフィン)、メチルジフェニルホスフィン、ジブチルフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、ビス(ジフェニルホスフィノ)メタン等の有機ホスフィン化合物、2−メチルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール等のイミダゾール化合物、またはこれらの誘導体等が挙げられ、これらは単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。   If a hardening accelerator accelerates | stimulates hardening reaction with an epoxy resin and a phenol resin hardening | curing agent, a molecular structure, molecular weight, etc. will not be specifically limited, For example, DBU (1,8-diazabicyclo (5.4. 0) undecene-7), trimethylphosphine, triethylphosphine, tributylphosphine, triphenylphosphine, tri (p-methylphenyl) phosphine, tri (nonylphenylphosphine), methyldiphenylphosphine, dibutylphenylphosphine, tricyclohexylphosphine, 1, Organic phosphine compounds such as 2-bis (diphenylphosphino) ethane and bis (diphenylphosphino) methane, 2-methylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, - phenyl-4-methylimidazole, 2-imidazole compounds of heptadecyl imidazole, or include these derivatives, they may be used alone or may be used as a mixture of two or more.

硬化促進剤の含有量は、それぞれの触媒活性が異なるため一概にその好適量は決められないが、エポキシ樹脂組成物の全体に対し、0.1質量%以上5質量%以下とすることが好ましい。硬化促進剤の含有量が0.1質量%未満では硬化性能が劣り、一方、5質量%を超えると耐湿信頼性が劣化するおそれがある。   Since the content of the curing accelerator is different in each catalyst activity, a suitable amount thereof cannot be generally determined, but is preferably 0.1% by mass or more and 5% by mass or less based on the entire epoxy resin composition. . When the content of the curing accelerator is less than 0.1% by mass, the curing performance is inferior, while when it exceeds 5% by mass, the moisture resistance reliability may be deteriorated.

無機充填材としては、例えばボールミル等で粉砕した溶融シリカ、火炎溶融することで得られる球状シリカ、ゾルゲル法などで製造される球状シリカ、結晶シリカ、アルミナ、ボロンナイトライド、窒化アルミ、窒化ケイ素、マグネシア、マグネシウムシリケート等が挙げられ、これらは単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。封止する半導体素子が発熱の大きい素子の場合、熱伝導率ができるだけ大きく、かつ、熱膨張係数の小さなアルミナ、ボロンナイトライド、窒化アルミ、窒化ケイ素等が好ましい。また、これらを溶融シリカ等とブレンドして使用してもよい。無機充填材の形状は特に限定されるものはなく、フレーク状、樹枝状、球状等のものを単独または混合して用いることができるが、低粘度化、高充填化の観点からは球状のものが好ましい。   Examples of the inorganic filler include fused silica pulverized by a ball mill or the like, spherical silica obtained by flame melting, spherical silica produced by a sol-gel method, crystalline silica, alumina, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, Examples thereof include magnesia and magnesium silicate. These may be used alone or in combination of two or more. When the semiconductor element to be sealed is an element that generates a large amount of heat, alumina, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, or the like having a thermal conductivity as large as possible and a low thermal expansion coefficient is preferable. These may be blended with fused silica or the like. The shape of the inorganic filler is not particularly limited, and flakes, dendrites, spheres and the like can be used alone or in combination, but from the viewpoint of low viscosity and high filling, they are spherical. Is preferred.

本発明に用いられるエポキシ樹脂組成物には、さらにシリコーンゴム、シリコーンゲル等の粉末、シリコーン変性されたエポキシ樹脂やフェノール樹脂、メタクリル酸メチル−ブタジエン−スチレンよりなる熱可塑性樹脂等の低応力化剤、臭素化エポキシ樹脂、酸化アンチモン等の難燃剤および難燃助剤、カーボンブラック等の着色剤、ノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、シリコーンオイル等の濡れ向上剤、消泡剤等を必要に応じて適宜配合することができる。   The epoxy resin composition used in the present invention is further provided with a low stress agent such as powders such as silicone rubber and silicone gel, silicone-modified epoxy resins and phenol resins, and thermoplastic resins composed of methyl methacrylate-butadiene-styrene. Flame retardants and flame retardant aids such as brominated epoxy resins and antimony oxide, colorants such as carbon black, nonionic surfactants, fluorine surfactants, wetting improvers such as silicone oils, antifoaming agents, etc. It can mix | blend suitably as needed.

本発明に用いられるエポキシ樹脂組成物は、例えば上記したようなエポキシ樹脂、フェノール樹脂硬化剤、硬化促進剤、無機充填材、その他の添加剤を配合した後、混練し、冷却した後、粉砕することで得ることができる。   The epoxy resin composition used in the present invention is blended with, for example, the above-described epoxy resin, phenol resin curing agent, curing accelerator, inorganic filler, and other additives, kneaded, cooled, and then pulverized. Can be obtained.

混練に使用する混練装置としては、例えば同方向回転二軸押出機が挙げられ、使用するスクリュー、シリンダーの形状及び材質には特に限定されるものではないが、一般に多量に配合される無機充填材に対する摩耗抵抗の高いものが望ましい。また、混練時は、エポキシ樹脂組成物の温度が70℃以上120℃以下の範囲となるようにすることが好ましい。混練時のエポキシ樹脂組成物の温度が70℃未満であると、例えば押出造粒物の外観がササクレ状となり、エポキシ樹脂組成物の粉末が飛散しやすく、さらに打錠成形して得られる成形体中に気泡が残留しやすくなる。一方、混練時のエポキシ樹脂組成物の温度が120℃を超えると、半導体素子を封止する際の流動性が低下し、成形性が低下する。また、このようにして得られた混練物の粉砕は、例えばハンマーミル等の公知の粉砕装置を用いて行うことができる。   Examples of the kneading apparatus used for kneading include a co-rotating twin screw extruder, and the shape and material of the screw and cylinder to be used are not particularly limited. High wear resistance is desirable. Moreover, at the time of kneading | mixing, it is preferable that the temperature of an epoxy resin composition shall be the range of 70 to 120 degreeC. When the temperature of the epoxy resin composition at the time of kneading is less than 70 ° C., for example, the appearance of the extruded granulated product becomes a crumpled shape, the powder of the epoxy resin composition is easily scattered, and is further obtained by tableting. Air bubbles tend to remain inside. On the other hand, when the temperature of the epoxy resin composition at the time of kneading exceeds 120 ° C., the fluidity when sealing the semiconductor element is lowered, and the moldability is lowered. Further, the kneaded product thus obtained can be pulverized using a known pulverizing apparatus such as a hammer mill.

このようにして製造した粉末状のエポキシ樹脂組成物は、打錠機を用いてタブレット状に打錠成形することで成形体とする。打錠機は、公知の単発式、またはロータリー式の打錠機を用いることができ、その打錠用金型(タブレット成形型)にエポキシ樹脂組成物を所定量投入し、圧縮するように打錠成形することで成形体を得ることができる。   The powdery epoxy resin composition thus produced is formed into a molded body by tableting into a tablet using a tableting machine. As the tableting machine, a known single-shot or rotary tableting machine can be used. A predetermined amount of the epoxy resin composition is put into the tableting mold (tablet mold) and compressed so as to be compressed. A molded product can be obtained by tablet molding.

本発明では、このようにして製造された成形体の表面にポリエチレンワックスを用いて表面コーティングを行う。このような表面コーティングを行うことで、搬送途中における割れ、欠け、エポキシ樹脂組成物の粉末の飛散を抑制することができる。また、表面コーティングにポリエチレンワックスを用いることで、半導体素子を封止する際の流動性を適切なものとし、成形性を良好なものとすることができる。さらに、成形体を製造した後に表面コーティングを行うものとすることで、打錠用金型の汚れを抑制し、成形体を連続して生産することができる。   In the present invention, the surface of the molded body thus produced is subjected to surface coating using polyethylene wax. By performing such surface coating, it is possible to suppress cracking, chipping, and scattering of the epoxy resin composition powder during conveyance. Further, by using polyethylene wax for the surface coating, the fluidity when sealing the semiconductor element can be made appropriate, and the moldability can be made good. Furthermore, the surface coating is performed after the molded body is manufactured, so that contamination of the tableting mold can be suppressed and the molded body can be continuously produced.

このような表面コーティングは成形体の表面における少なくとも一部に行われていればよく、例えば成形体の上面のみ、側面のみ、もしくは上面および側面のみに行われていてもよいが、好ましくは下面も含めた全面に行われていることが好ましい。   Such surface coating may be performed on at least a part of the surface of the molded body. For example, the surface coating may be performed only on the upper surface, only the side surface, or only the upper surface and the side surface of the molded body. It is preferable to be performed on the entire surface.

この際、表面コーティングは、乾燥等を行って得られる最終的な状態における平均厚みが5μm以上50μm以下となるように行う。表面コーティングの厚みが上記下限値未満の場合、コーティング量が少なすぎ、搬送途中におけるエポキシ樹脂組成物の粉末の飛散を有効に抑制できないおそれがある。一方、表面コーティングの厚みが上記上限値を超える場合、コーティング量が多すぎ、半導体素子を封止する際の流動性が不適切なものとなり、成形性が低下するおそれがあり、また半導体素子やフレーム等との密着力が低下し、製品の外観も低下するおそれがある。   At this time, the surface coating is performed so that the average thickness in a final state obtained by drying or the like is 5 μm or more and 50 μm or less. When the thickness of the surface coating is less than the above lower limit value, the coating amount is too small, and the scattering of the powder of the epoxy resin composition during the conveyance may not be effectively suppressed. On the other hand, when the thickness of the surface coating exceeds the above upper limit, the coating amount is too large, the fluidity when sealing the semiconductor element becomes inappropriate, the moldability may be reduced, and the semiconductor element or There is a risk that the adhesion with the frame or the like will be reduced, and the appearance of the product will also be reduced.

なお、表面コーティングの厚みは、表面コーティングされた成形体(タブレット)を切断、研磨し、この切断研磨面において顕微鏡を用いて成形体の表面部分から表面コーティングの表面部分までの距離を測定することにより確認することができる。また、表面コーティングの平均厚みは、このようにして任意の5箇所について測定した表面コーティング厚みの平均値として算出することができる。   The thickness of the surface coating is obtained by cutting and polishing the surface-coated molded body (tablet), and measuring the distance from the surface portion of the molded body to the surface portion of the surface coating using a microscope on this cut and polished surface. Can be confirmed. Further, the average thickness of the surface coating can be calculated as the average value of the surface coating thicknesses measured at any five locations in this way.

成形体に対する表面コーティングの方法は必ずしも限定されるものではなく、例えばカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スプレーコーティング法等の公知の方法を適用して行うことができるが、好ましくは表面コーティングの厚みの均一性を確保でき、またその厚みの調整も容易なスプレーコーティング法を適用することが好ましい。   The surface coating method for the molded body is not necessarily limited, and can be performed by applying a known method such as a curtain coating method, a dip coating method, or a spray coating method. It is preferable to apply a spray coating method that can ensure uniformity and easily adjust the thickness.

例えばスプレーコーティング法においては、ポリエチレンワックスを炭化水素系等の揮発性溶剤を用いて適正な濃度、粘度に調整してコーティング液とし、このコーティング液をノズルから成形体に向かって吹き付け、最終的にコーティング液の揮発性溶剤を揮発させて除去することで表面コーティングを行うことができる。この際、例えばコーティング液の濃度、粘度を変更することによって、またはコーティング液を成形体に向かって吹き付ける時間、距離等を変更することによって、表面コーティングの厚みを適宜調整することができる。   For example, in the spray coating method, polyethylene wax is adjusted to an appropriate concentration and viscosity using a hydrocarbon-based volatile solvent to form a coating liquid, and this coating liquid is sprayed from the nozzle toward the molded body. Surface coating can be performed by volatilizing and removing the volatile solvent of the coating liquid. At this time, for example, the thickness of the surface coating can be appropriately adjusted by changing the concentration and viscosity of the coating solution, or by changing the time, distance, and the like of spraying the coating solution toward the molded body.

コーティング液の調製に用いられる揮発性溶剤としては、スプレーコーティングの際に揮発し、除去することができるものであり、またポリエチレンワックスを溶解させることができるものであれば特に限定されるものではないが、例えばn−ヘプタンのような炭化水素系の揮発性溶剤が好適に用いられる。   The volatile solvent used for preparing the coating liquid is not particularly limited as long as it can be volatilized and removed during spray coating and can dissolve polyethylene wax. However, a hydrocarbon-based volatile solvent such as n-heptane is preferably used.

また、このようなスプレーコーティング法をはじめとする表面コーティングに用いられるポリエチレンワックスは必ずしも限定されるものではないものの、例えば酸価が10mgKOH/g以上30mgKOH/g以下、かつ数平均分子量が1000以上5000以下のものが好適に用いられる。   Further, the polyethylene wax used for surface coating including such a spray coating method is not necessarily limited. For example, the acid value is 10 mgKOH / g or more and 30 mgKOH / g or less, and the number average molecular weight is 1000 or more and 5000. The following are preferably used.

ポリエチレンワックスの酸価が上記下限値未満であると、エポキシ樹脂マトリックスとの間で相分離を起こし、半導体素子を封止する際に金型に汚れが発生し、また半導体素子やフレーム等との密着力が低下し、製品の外観も低下するおそれがある。一方、ポリエチレンワックスの酸価が上記上限値を超えると、エポキシ樹脂マトリックスとの間の相溶性が良すぎるため、半導体素子を封止する際に十分な離型性を確保できないおそれがある。   When the acid value of the polyethylene wax is less than the above lower limit value, phase separation occurs between the epoxy resin matrix, and the mold is soiled when the semiconductor element is sealed. There is a possibility that the adhesive force is lowered and the appearance of the product is also lowered. On the other hand, if the acid value of the polyethylene wax exceeds the upper limit, compatibility with the epoxy resin matrix is too good, and there is a possibility that sufficient releasability cannot be ensured when sealing the semiconductor element.

また、ポリエチレンワックスの数平均分子量が上記下限値未満であると、エポキシ樹脂マトリックスとの親和性が高まり、半導体素子を封止する際に十分な離型性を確保できないおそれがある。一方、ポリエチレンワックスの数平均分子量が上記上限値を超えると、エポキシ樹脂マトリックスとの間で相分離を起こし、半導体素子を封止する際に金型に汚れが発生し、また半導体素子やフレーム等との密着力が低下し、製品の外観も低下するおそれがある。   Moreover, when the number average molecular weight of the polyethylene wax is less than the lower limit, the affinity with the epoxy resin matrix is increased, and there is a possibility that sufficient releasability cannot be secured when the semiconductor element is sealed. On the other hand, if the number average molecular weight of the polyethylene wax exceeds the above upper limit value, phase separation occurs between the epoxy resin matrix, the mold is soiled when the semiconductor element is sealed, the semiconductor element, the frame, etc. There is a possibility that the adhesive strength with and the appearance of the product will also deteriorate.

なお、ポリエチレンワックスの酸価はJIS K 5601に規定される方法に準拠して測定されるものであり、また数平均分子量はゲルパーミエーショングラフィー(GPC)法により測定されるものである。   In addition, the acid value of polyethylene wax is measured according to the method prescribed | regulated to JISK5601, and the number average molecular weight is measured by a gel permeation chromatography (GPC) method.

図1は、このようにして製造された本発明のタブレット1を示す外観図である。タブレット1は、エポキシ樹脂組成物からなる成形体2と、この成形体2の表面に形成されたポリエチレンワックスからなる表面コーティング層3とを有している。表面コーティング層3は、その平均厚みが5μm以上50μm以下であり、例えば成形体2の上面、側面、および下面の全面に形成されている。なお、タブレット1は、一般に図に示されるような円柱状とされているが、必ずしもこのような形状に限定されるものではない。   FIG. 1 is an external view showing the tablet 1 of the present invention manufactured as described above. The tablet 1 has a molded body 2 made of an epoxy resin composition, and a surface coating layer 3 made of polyethylene wax formed on the surface of the molded body 2. The surface coating layer 3 has an average thickness of 5 μm or more and 50 μm or less. For example, the surface coating layer 3 is formed on the entire upper surface, side surface, and lower surface of the molded body 2. In addition, although the tablet 1 is generally cylindrical as shown in the figure, it is not necessarily limited to such a shape.

このようにして製造されたタブレット1は、半導体素子を封止するためのトランスファー成形に好適に用いられる。封止される半導体素子としては、例えば集積回路、大規模集積回路、トランジスタ、サイリスタ、ダイオード等が挙げられるが、必ずしもこれらのものに限定されるものではない。また、成形条件としては、通常の成形条件を採用することができ、例えば165℃以上185℃以下の温度で1〜5分間の条件を採用することができる。   The tablet 1 manufactured in this manner is suitably used for transfer molding for sealing a semiconductor element. Examples of the semiconductor element to be sealed include an integrated circuit, a large-scale integrated circuit, a transistor, a thyristor, and a diode, but are not necessarily limited to these. Moreover, as a shaping | molding condition, a normal shaping | molding condition can be employ | adopted, for example, the conditions for 1 to 5 minutes are employable at the temperature of 165 degreeC or more and 185 degrees C or less.

以下、本発明について実施例を参照して具体的に説明する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. The present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
エポキシ樹脂組成物として、オルソクレゾールエポキシ樹脂(ESCN−195、住友化学株式会社製 )6.4質量%、フェノールアラルキル樹脂(MEH−7800M、明和化成株式会社製)5.6質量%、イミダゾール系硬化促進剤(C17Z−T、四国化成工業株式会社製)0.3質量%、平均粒径15μmの溶融シリカ粉末(FB105、電気化学工業株式会社製)87質量%、カルナバワックス0.2質量%、カーボンブラック(MA−600、三菱化学株式会社製)0.15質量%、およびn−アミノ3プロピルトリメトキシシラン(KBM−602、信越化学工業株式会社製)を常温で混合し、90〜95℃の範囲で加熱混練した後、冷却、粉砕したものを用意した。
Example 1
As an epoxy resin composition, orthocresol epoxy resin (ESCN-195, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 6.4% by mass, phenol aralkyl resin (MEH-7800M, manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.) 5.6% by mass, imidazole-based curing Accelerator (C17Z-T, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) 0.3% by mass, fused silica powder (FB105, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) 87% by mass, carnauba wax 0.2% by mass, Carbon black (MA-600, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 0.15% by mass and n-amino 3-propyltrimethoxysilane (KBM-602, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) are mixed at room temperature, and 90 to 95 ° C. After being heat-kneaded in the above range, a cooled and pulverized product was prepared.

このエポキシ樹脂組成物をロータリー式打錠機の臼(金型温度26℃)に所定量投入し、杵によって圧縮することにより打錠成形を行い成形体とした。一方、ポリエチレンワックス(酸価10mgKOH/g、数平均分子量3000、品番HW−4252E、三井化学株式会社製)に揮発性溶剤としてのn−ヘプタンを加え、粘度および濃度を調整し、コーティング液とした。そして、上記成形体にこのコーティング液をスプレーコーティングし、揮発性溶剤を乾燥させて除去することにより平均厚みが10μmの表面コーティング層を形成し、試料としてのタブレットを製造した。   A predetermined amount of this epoxy resin composition was put into a mortar (mold temperature: 26 ° C.) of a rotary type tableting machine and compressed by a punch to form a tablet. On the other hand, n-heptane as a volatile solvent was added to polyethylene wax (acid value 10 mgKOH / g, number average molecular weight 3000, product number HW-4252E, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) to adjust the viscosity and concentration to obtain a coating solution. . Then, the coating liquid was spray-coated on the molded body, and the volatile solvent was dried and removed to form a surface coating layer having an average thickness of 10 μm, and a tablet as a sample was manufactured.

(実施例2)
ポリエチレンワックス(酸価60mgKOH/g、数平均分子量1500、品番HW−1105A、三井化学株式会社製)に溶剤としてのn−ヘプタンを加え、粘度および濃度を調整し、コーティング液とした。そして、実施例1と同様にして得た成形体にこのコーティング液をスプレーコーティングし、揮発性溶剤を乾燥させて除去することにより平均厚みが10μmの表面コーティング層を形成し、試料としてのタブレットを製造した。
(Example 2)
N-heptane as a solvent was added to polyethylene wax (acid value 60 mgKOH / g, number average molecular weight 1500, product number HW-1105A, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) to adjust the viscosity and concentration to obtain a coating solution. Then, this coating solution is spray-coated on the molded body obtained in the same manner as in Example 1, and the volatile solvent is dried and removed to form a surface coating layer having an average thickness of 10 μm. Manufactured.

(比較例1)
ポリエチレンワックスによる表面コーティングを行わず、実施例1と同様にして得た成形体をそのまま試料としてのタブレットとした。
(Comparative Example 1)
The molded body obtained in the same manner as in Example 1 without using surface coating with polyethylene wax was directly used as a tablet as a sample.

(比較例2)
ポリエチレンワックス(酸価18mgKOH/g、数平均分子量3000、品番HW−4252E、三井化学株式会社製)に溶剤としてのn−ヘプタンを加え、粘度および濃度を調整し、コーティング液とした。そして、実施例1と同様にして得た成形体にこのコーティング液をスプレーコーティングし、揮発性溶剤を乾燥させて除去することにより平均厚みが60μmの表面コーティング層を形成し、試料としてのタブレットを製造した。なお、このタブレットは、表面コーティング層の厚みが本発明で規定される表面コーティング層の厚みの上限値を超えるものである。
(Comparative Example 2)
N-heptane as a solvent was added to polyethylene wax (acid value 18 mgKOH / g, number average molecular weight 3000, product number HW-4252E, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) to adjust the viscosity and concentration to obtain a coating solution. Then, this coating solution is spray-coated on the molded body obtained in the same manner as in Example 1, and the volatile solvent is dried and removed to form a surface coating layer having an average thickness of 60 μm. Manufactured. In this tablet, the thickness of the surface coating layer exceeds the upper limit of the thickness of the surface coating layer defined in the present invention.

(比較例3)
ポリエチレンワックス(酸価18mgKOH/g、数平均分子量3000、品番HW−4252E、三井化学株式会社製)に溶剤としてのn−ヘプタンを加え、粘度および濃度を調整し、コーティング液とした。そして、実施例1と同様にして得た成形体にこのコーティング液をスプレーコーティングし、揮発性溶剤を乾燥させて除去することにより平均厚みが3μmの表面コーティング層を形成し、試料としてのタブレットを製造した。なお、このタブレットは、表面コーティング層の厚みが本発明で規定される表面コーティング層の厚みの下限値を下回るものである。
(Comparative Example 3)
N-heptane as a solvent was added to polyethylene wax (acid value 18 mgKOH / g, number average molecular weight 3000, product number HW-4252E, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) to adjust the viscosity and concentration to obtain a coating solution. Then, this coating solution is spray-coated on the molded body obtained in the same manner as in Example 1, and the volatile solvent is dried and removed to form a surface coating layer having an average thickness of 3 μm. Manufactured. In this tablet, the thickness of the surface coating layer is lower than the lower limit value of the thickness of the surface coating layer defined in the present invention.

次に、実施例および比較例のタブレットについて、下記に示すようにして重量減少率、表面外観、スパイラルフロー、ゲルタイム、および成形品外観の評価を行った。結果を表1に示す。   Next, the tablet of Examples and Comparative Examples was evaluated for weight reduction rate, surface appearance, spiral flow, gel time, and molded product appearance as described below. The results are shown in Table 1.

重量減少率(%):秤量したタブレット20個を箱の中に入れて5分間の振動を加えた後、タブレットから飛散した粉末を除去して再度秤量し、タブレットの重量減少率(%)を算出した。なお、この重量減少率は、タブレットからの粉末の発生しやすさを表す指標となるものであり、重量減少率が低いものほどタブレットからの粉末の発生が抑制されていることを表している。   Weight reduction rate (%): After putting 20 weighed tablets in a box and applying vibration for 5 minutes, the powder scattered from the tablet is removed and weighed again to determine the weight reduction rate (%) of the tablet. Calculated. In addition, this weight reduction rate becomes a parameter | index showing the ease of generating of the powder from a tablet, and it represents that generation | occurrence | production of the powder from a tablet is suppressed, so that a weight reduction rate is low.

表面外観:重量減少率を評価したタブレットの表面を目視で観察して、粉末の付着の程度を評価した。なお、表中、「○」は粉末の付着がほとんど見られなかったものを、「△」は粉末の付着が若干見られたものを、「×」は粉末の付着が多く見られたものを示す。   Surface appearance: The surface of the tablet evaluated for the weight reduction rate was visually observed to evaluate the degree of powder adhesion. In the table, “◯” indicates that the powder was hardly adhered, “△” indicates that the powder was slightly adhered, and “×” indicates that the powder was largely adhered. Show.

スパイラルフロー(cm):EMMI−I−66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用い、タブレットを粉砕した試料を15g、成形温度175℃、成形圧力7.0Pa、成形時間2分で成形したときの成形物の長さを測定した。   Spiral flow (cm): When using a spiral flow measurement mold according to EMMI-I-66, 15 g of a tablet crushed sample was molded at a molding temperature of 175 ° C., a molding pressure of 7.0 Pa, and a molding time of 2 minutes. The length of the molded product was measured.

ゲルタイム(秒):タブレットを粉砕した試料を175℃の熱板上で溶融させてゲル化するまでの時間を測定した。   Gel time (seconds): The time required for gelation of a sample obtained by grinding a tablet on a hot plate at 175 ° C. was measured.

成形品外観:タブレットを粉砕した試料を成形温度175℃、成形圧力7.0Pa、成形時間2分で直径50mm、厚さ3mmの円盤状に成形したときの成形品の外観を評価した。なお、表中、「○」はワックスによる汚れがほとんど見られなかったものを、「△」はワックスによる汚れが若干見られたものを、「×」はワックスによる汚れが多く見られたものを示す。   Appearance of molded product: The appearance of a molded product when a tablet was crushed into a disk shape having a molding temperature of 175 ° C., a molding pressure of 7.0 Pa, a molding time of 2 minutes and a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm was evaluated. In the table, “○” indicates that there was almost no dirt due to wax, “△” indicates that there was some dirt due to wax, and “×” indicates that there was much dirt due to wax. Show.

Figure 2009188142
Figure 2009188142

表1から明らかなように、ポリエチレンワックスによる表面コーティングが行われなかった比較例1のタブレットについては、振動による重量減少が多く、粉末の飛散が多いことが認められ、また表面に付着する粉末も多く、表面外観も優れないことが認められる。また、表面コーティングが行われたものの、その厚みが3μmと薄すぎる比較例3のタブレットについても、粉末の飛散が比較的多いことが認められ、表面外観も優れないことが認められる。一方、表面コーティングの厚みが60μmと厚すぎる比較例2のタブレットについては、粉末の飛散が少なく、表面外観が良好であるものの、スパイラルフローが長くなると共に、ゲルタイムも長くなり、成形性が低下していることが認められる。   As is clear from Table 1, the tablet of Comparative Example 1 that was not subjected to the surface coating with polyethylene wax was found to have a large weight loss due to vibration, and to have a lot of powder scattering, and the powder adhered to the surface was also Many are found to have poor surface appearance. Moreover, although the surface coating was performed, about the tablet of the comparative example 3 whose thickness is too thin as 3 micrometers, it is recognized that there is comparatively much scattering of powder and it is recognized that surface appearance is also not excellent. On the other hand, for the tablet of Comparative Example 2 where the thickness of the surface coating is too thick, although the powder scattering is small and the surface appearance is good, the spiral flow becomes longer, the gel time becomes longer, and the moldability decreases. It is recognized that

これに対し、表面コーティングを所定の厚みとした実施例1、2のタブレットについては、重量減少が少なく、表面外観も良好であると共に、成形性もほぼ良好であることが認められる。特に、ポリエチレンワックスの酸価を所定の範囲内とした実施例1のタブレットについては、成形品におけるワックスによる汚れも見られず、成形品外観も良好となることが認められる。   On the other hand, about the tablet of Examples 1 and 2 which made surface coating predetermined thickness, it is recognized that there is little weight loss, a surface appearance is also favorable, and a moldability is also substantially favorable. In particular, for the tablet of Example 1 in which the acid value of the polyethylene wax is within a predetermined range, it is recognized that the molded product does not show dirt due to wax and the molded product appearance is also good.

本発明の半導体封止用エポキシ樹脂タブレットを示す外観図。The external view which shows the epoxy resin tablet for semiconductor sealing of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…半導体封止用エポキシ樹脂タブレット、2…成形体、3…表面コーティング層   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Epoxy resin tablet for semiconductor sealing, 2 ... Molded object, 3 ... Surface coating layer

Claims (4)

半導体封止用エポキシ樹脂組成物をタブレット状に打錠成形して成形体を得る工程と、
前記成形体の表面にポリエチレンワックスを用いて平均厚さ5μm以上50μm以下の表面コーティングを行う工程と
を有することを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂タブレットの製造方法。
A step of tableting the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation into a tablet to obtain a molded body,
And a step of performing a surface coating with an average thickness of 5 μm or more and 50 μm or less using polyethylene wax on the surface of the molded body. A method for producing an epoxy resin tablet for semiconductor encapsulation.
前記ポリエチレンワックスの酸価が10mgKOH/g以上30mgKOH/g以下、かつ数平均分子量が1000以上5000以下であることを特徴とする請求項1記載の半導体封止用エポキシ樹脂タブレットの製造方法。   The method for producing an epoxy resin tablet for semiconductor encapsulation according to claim 1, wherein the polyethylene wax has an acid value of 10 mgKOH / g or more and 30 mgKOH / g or less and a number average molecular weight of 1000 or more and 5000 or less. 半導体封止用エポキシ樹脂組成物からなるタブレット状の成形体と、
前記成形体の表面に形成され、ポリエチレンワックスからなる平均厚さ5μm以上50μm以下の表面コーティング層と
を有することを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂タブレット。
A tablet-like molded article comprising an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation;
An epoxy resin tablet for semiconductor encapsulation, comprising a surface coating layer formed on the surface of the molded body and made of polyethylene wax and having an average thickness of 5 μm to 50 μm.
前記ポリエチレンワックスの酸価が10mgKOH/g以上30mgKOH/g以下、かつ数平均分子量が1000以上5000以下であることを特徴とする請求項3記載の半導体封止用エポキシ樹脂タブレット。   4. The epoxy resin tablet for semiconductor encapsulation according to claim 3, wherein the polyethylene wax has an acid value of 10 mgKOH / g to 30 mgKOH / g and a number average molecular weight of 1000 to 5000.
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