JP2009186876A - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents

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Abstract

【課題】指向性表示における画像が暗くなりやすい。
【解決手段】第１基板４１と、第１基板４１に対向する第２基板８１と、第１基板４１及び第２基板８１間に設けられ、複数の画素の前記画素ごとに発光が制御される発光層７７と、第２基板８１及び発光層７７の間に設けられた遮光膜８３と、を有し、前記複数の画素は、第１の画像を形成する第１の画素５1及び第２の画像を形成する第２の画素５2を少なくとも含んでおり、遮光膜８３には、第１の画素５1の発光層７７から第２基板８１を経て第１の範囲に及ぶ光を通すとともに、第２の画素５2の発光層７７から第２基板８１を経て第２の範囲に及ぶ光を通す開口部８５が設けられており、発光層７７は、前記画素ごとに、遮光膜８３に対して傾斜した斜面を有しており、各前記斜面は、開口部８５に向いていることを特徴とする電気光学装置。
【選択図】図７

Description

本発明は、電気光学装置及び電子機器に関する。
従来から、電気光学装置の１つとして、有機ＥＬ（Electro Luminescence）装置が知られている。そして、有機ＥＬ装置には、有機ＥＬ素子からの光を左右一対の液晶素子で交互に遮ることによって、立体画像を表示することができる表示装置がある（例えば、特許文献１参照）。
特開２００１−３１８３４１号公報
ここで、有機ＥＬ素子と一対の液晶素子とを有する表示装置で、２つの方向にそれぞれ異なる画像を表示する仕組みについて、断面図を用いて説明する。この表示装置６００は、図２８（ａ）に示すように、有機ＥＬ素子６０１と、一対の液晶素子６０３とを有している。一対の液晶素子６０３は、１つの有機ＥＬ素子に対向しており、第１液晶素子６０３ａと、第２液晶素子６０３ｂとを有している。
第２液晶素子６０３ｂが遮断状態のとき、有機ＥＬ素子６０１からの光は、第１の範囲６０５に及ぶ。このとき、有機ＥＬ素子６０１に第１の画像を形成させれば、第１の範囲６０５から第１の画像が視認され得る。
また、第１液晶素子６０３ａが遮断状態のとき、有機ＥＬ素子６０１からの光は、図２８（ｂ）に示すように、第２の範囲６０７に及ぶ。このとき、有機ＥＬ素子６０１に第２の画像を形成させれば、第２の範囲６０７から第２の画像が視認され得る。
第１液晶素子６０３ａ及び第２液晶素子６０３ｂの間で遮断状態を交互に切り替えるとともに、有機ＥＬ素子６０１に第１の画像及び第２の画像を交互に形成させることで、第１の画像及び第２の画像が、それぞれ連続的な画像として視認され得る。これにより、複数の方向にそれぞれ異なる画像を表示（以下、指向性表示と呼ぶ）することができる。
このような表示装置では、有機ＥＬ素子からの光を部分的に遮ることで複数の方向にそれぞれ異なる画像が表示されるので、指向性表示における画像が暗くなりやすいという未解決の課題がある。
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。
［適用例１］第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板間に設けられ、複数の画素の前記画素ごとに発光が制御される発光層と、前記第２基板及び前記発光層の間に設けられた遮光層と、を有し、前記複数の画素は、第１の画像を形成する第１の画素及び第２の画像を形成する第２の画素を少なくとも含んでおり、前記遮光層には、前記第１の画素の前記発光層から前記第２基板を経て第１の範囲に及ぶ光を通すとともに、前記第２の画素の前記発光層から前記第２基板を経て第２の範囲に及ぶ光を通す開口部が設けられており、前記発光層は、前記画素ごとに、前記遮光層に対して傾斜した斜面を有しており、各前記斜面は、前記開口部に向いていることを特徴とする電気光学装置。
適用例１の電気光学装置は、第１基板と、第２基板と、発光層と、遮光層とを有している。第２基板は、第１基板に対向している。発光層は、第１基板及び第２基板間に設けられており、複数の画素の画素ごとに発光が制御される。複数の画素は、第１の画像を形成する第１の画素と、第２の画像を形成する第２の画素とを少なくとも含でいる。遮光層は、第２基板と発光層との間に設けられている。遮光層には、開口部が設けられている。開口部は、第１の画素の発光層から第２基板を経て第１の範囲に及ぶ光を通すとともに、第２の画素の発光層から第２基板を経て第２の範囲に及ぶ光を通す。
これにより、第１の範囲からは、第１の画素によって形成される第１の画像が視認され、第２の範囲からは、第２の画素によって形成される第２の画像が視認され得る。このため、この電気光学装置では、少なくとも２つの方向に指向性表示を行うことができる。
ここで、発光層は、画素ごとに、遮光層に対して傾斜した斜面を有している。そして、斜面は、開口部に向いている。このため、発光層からの光は、開口部に向かいやすい。従って、発光層からの光の利用効率を高めやすくすることができ、指向性表示における画像を明るくしやすくすることができる。
［適用例２］上記の電気光学装置であって、前記第１基板及び前記発光層の間で前記発光層に対向して設けられた第１電極と、前記発光層及び前記遮光層の間で前記発光層に対向して設けられた第２電極と、各前記画素に対応して設けられ、前記第１電極及び前記第２電極の一方から前記発光層を経て前記第１電極及び前記第２電極の他方へ流れる電流の供給及び遮断を切り替えるスイッチング素子と、を有し、前記スイッチング素子は、前記第１基板及び前記発光層の間に設けられていることを特徴とする電気光学装置。
適用例２の電気光学装置は、第１電極と、第２電極と、スイッチング素子とを有している。第１電極は、第１基板と発光層との間に設けられている。第２電極は、発光層と遮光層との間に設けられている。第１電極及び第２電極は、それぞれ、発光層に対向している。スイッチング素子は、各画素に対応して設けられている。スイッチング素子は、第１電極及び第２電極の一方から発光層を経て第１電極及び第２電極の他方へ流れる電流の供給及び遮断を切り替える。
そして、この電気光学装置では、スイッチング素子が第１基板と発光層との間に設けられているので、発光層から第２基板に向かう光は、スイッチング素子によって遮られない。従って、発光層からの光の利用効率を高めやすくすることができる。
［適用例３］上記の電気光学装置であって、前記発光層と前記スイッチング素子との間に、前記発光層から前記第１基板側に向かう光を前記第２基板側に反射させる反射層を有することを特徴とする電気光学装置。
適用例３の電気光学装置は、発光層とスイッチング素子との間に、反射層を有している。反射層は、発光層から第１基板側に向かう光を第２基板側に反射させる。これにより、発光層からの光の利用効率を高めやすくすることができる。
［適用例４］上記の電気光学装置であって、前記反射層と前記第２電極との間に、光学的な共振構造が構成されていることを特徴とする電気光学装置。
適用例４では、反射層と第２電極との間に、光学的な共振構造が構成されている。このため、開口部から第２基板側に射出される光を増幅させることができ、発光層からの光の利用効率を一層高めやすくすることができる。
［適用例５］上記の電気光学装置であって、赤系の色を呈する光を透過させる赤系フィルタと、緑系の色を呈する光を透過させる緑系フィルタと、青系の色を呈する光を透過させる青系フィルタと、を有することを特徴とする電気光学装置。
適用例５の電気光学装置は、赤系フィルタと、緑系フィルタと、青系フィルタとを有している。赤系フィルタは、赤系の色を呈する光を透過させる。緑系フィルタは、緑系の色を呈する光を透過させる。青系フィルタは、青系の色を呈する光を透過させる。この電気光学装置では、第１の画像及び第２の画像のそれぞれをカラー表示することができる。
［適用例６］上記の電気光学装置であって、前記複数の画素には、赤系の色を呈する光を発する前記発光層を有する赤系画素と、緑系の色を呈する光を発する前記発光層を有する緑系画素と、青系の色を呈する光を発する前記発光層を有する青系画素と、が含まれていることを特徴とする電気光学装置。
適用例６では、複数の画素に、赤系画素と、緑系画素と、青系画素とが含まれている。赤系画素は、赤系の色を呈する光を発する発光層を有する。緑系画素は、緑系の色を呈する光を発する発光層を有する。青系画素は、青系の色を呈する光を発する発光層を有する。そして、この電気光学装置では、共振構造によって、赤系の色を呈する光、緑系の色を呈する光及び青系の色を呈する光のそれぞれの色純度を高めやすくすることができる。
［適用例７］上記の電気光学装置であって、前記赤系画素からの前記光の少なくとも一部を透過させる赤系フィルタと、前記緑系画素からの前記光の少なくとも一部を透過させる緑系フィルタと、前記青系画素からの前記光の少なくとも一部を透過させる青系フィルタと、を有することを特徴とする電気光学装置。
適用例７の電気光学装置は、赤系フィルタと、緑系フィルタと、青系フィルタとを有している。赤系フィルタは、赤系画素からの光の少なくとも一部を透過させる。緑系フィルタは、緑系画素からの光の少なくとも一部を透過させる。青系フィルタは、青系画素からの光の少なくとも一部を透過させる。これにより、赤系の色を呈する光、緑系の色を呈する光及び青系の色を呈する光のそれぞれの色純度を一層高めやすくすることができる。
［適用例８］上記の電気光学装置であって、前記発光層と前記遮光層との間に、前記発光層からの光を屈折させる光学素子が設けられていることを特徴とする電気光学装置。
適用例８では、発光層と遮光層との間に、発光層からの光を屈折させる光学素子が設けられているので、発光層からの光を開口部へ導きやすくすることができる。これにより、発光層からの光の利用効率を高めやすくすることができる。
［適用例９］上記の電気光学装置であって、前記光学素子がプリズムで構成されていることを特徴とする電気光学装置。
適用例９では、光学素子がプリズムで構成されているので、発光層からの光をプリズムを介して開口部へ導きやすくすることができる。
［適用例１０］上記の電気光学装置であって、前記光学素子がレンズで構成されていることを特徴とする電気光学装置。
適用例１０では、光学素子がレンズで構成されているので、発光層からの光をレンズを介して開口部へ導きやすくすることができる。
［適用例１１］上記の電気光学装置であって、前記第１電極と前記スイッチング素子との間を電気的につなぐ接続部を有し、前記発光層と前記第１電極とは、前記第１基板に対して傾斜しており、前記接続部は、前記第１基板と前記第１電極との間の距離が短い側に位置していることを特徴とする電気光学装置。
適用例１１の電気光学装置は、第１電極とスイッチング素子との間を電気的につなぐ接続部を有している。この電気光学装置では、発光層と第１電極とが、第１基板に対して傾斜している。そして、接続部は、第１基板と第１電極との間の距離が短い側に位置している。これにより、接続部における電気抵抗を軽減することができる。
［適用例１２］上記の電気光学装置であって、前記第１基板と前記発光層との間に設けられ、前記電流の量を規定する信号が供給される信号線を有しており、前記発光層は、前記第１基板に対して傾斜しており、前記信号線は、前記第１基板と前記発光層との間の距離が長い側に位置していることを特徴とする電気光学装置。
適用例１２の電気光学装置は、信号線を有している。信号線には、電流の量を規定する信号が供給される。この電気光学装置では、発光層が、第１基板に対して傾斜している。そして、信号線は、第１基板と発光層との間の距離が長い側に位置している。これにより、第２電極と信号線との間の距離を長くしやすくすることができるので、第２電極と信号線との間の寄生容量が大きくなることを避けやすくすることができる。
［適用例１３］上記の電気光学装置であって、隣り合う前記画素同士間を仕切る第２遮光層と、平面視で前記第２電極に重なった状態で前記第２電極に導通する補助配線と、を有し、前記第２遮光層は、前記第１電極及び前記遮光層の間に設けられており、前記補助配線は、前記第２電極及び前記遮光層の間に設けられており、平面視で前記第２遮光層に重なっていることを特徴とする電気光学装置。
適用例１３の電気光学装置は、第２遮光層と、補助配線とを有している。第２遮光層は、第１電極及び遮光層の間に設けられており、隣り合う画素同士間を仕切る。補助配線は、第２電極及び遮光層の間に設けられており、平面視で第２電極に重なった状態で第２電極に導通する。そして、この補助配線は、平面視で第２遮光層に重なっている。このため、補助配線で画素を塞ぎにくくすることができる。
［適用例１４］上記の電気光学装置を表示部として有することを特徴とする電子機器。
適用例１４の電子機器は、表示部としての電気光学装置が、第１基板と、第２基板と、発光層と、遮光層とを有している。第２基板は、第１基板に対向している。発光層は、第１基板及び第２基板間に設けられており、複数の画素の画素ごとに発光が制御される。複数の画素は、第１の画像を形成する第１の画素と、第２の画像を形成する第２の画素とを少なくとも含でいる。遮光層は、第２基板と発光層との間に設けられている。遮光層には、開口部が設けられている。開口部は、第１の画素の発光層から第２基板を経て第１の範囲に及ぶ光を通すとともに、第２の画素の発光層から第２基板を経て第２の範囲に及ぶ光を通す。
これにより、第１の範囲からは、第１の画素によって形成される第１の画像が視認され、第２の範囲からは、第２の画素によって形成される第２の画像が視認され得る。このため、この電気光学装置では、少なくとも２つの方向に指向性表示を行うことができる。
ここで、発光層は、画素ごとに、遮光層に対して傾斜した斜面を有している。そして、斜面は、開口部に向いている。このため、発光層からの光は、開口部に向かいやすい。従って、この電気光学装置では、発光層からの光の利用効率を高めやすくすることができ、指向性表示における画像を明るくしやすくすることができる。そして、適用例１４の電子機器は、指向性表示における画像を明るくしやすくすることができる電気光学装置を表示部として備えているので、指向性表示における画像を明るくしやすくすることができる。
実施形態について、電気光学装置として有機ＥＬ装置を利用した表示装置を例に、図面を参照しながら説明する。
実施形態における表示装置１は、図１に示すように、表示面３を有している。
ここで、表示装置１には、複数の画素５が設定されている。複数の画素５は、表示領域７内で、図中のＸ方向及びＹ方向に配列しており、Ｘ方向を行方向とし、Ｙ方向を列方向とするマトリクスＭを構成している。表示装置１では、複数の画素５が、ｍ（ｍは、１以上の整数）行、且つ２×ｎ（ｎは、１以上の整数）列のマトリクスＭを構成している。表示装置１は、複数の画素５から選択的に表示面３を介して表示装置１の外に光を射出することで、表示面３に画像を表示することができる。なお、表示領域７とは、画像が表示され得る領域である。図１では、構成をわかりやすく示すため、画素５が誇張されている。
表示装置１は、図１中のＡ−Ａ線における断面図である図２に示すように、素子基板１１と、封止基板１３とを有している。
素子基板１１には、表示面３側すなわち封止基板１３側に、複数の画素５のそれぞれに対応して、後述するスイッチング素子などが設けられている。
封止基板１３は、素子基板１１よりも表示面３側で素子基板１１に対向した状態で設けられている。封止基板１３には、表示装置１における表示面３の裏面に相当する面である底面１５側すなわち素子基板１１側に、後述する遮光膜などが設けられている。
素子基板１１と封止基板１３との間は、表示装置１の周縁よりも内側で表示領域７を囲むシール材１７によって封止されている。
ここで、表示装置１に設定されている複数の画素５は、それぞれ、表示面３から射出する光の色が、図３に示すように、赤系（Ｒ）、緑系（Ｇ）及び青系（Ｂ）のうちの１つに設定されている。つまり、マトリクスＭを構成する複数の画素５は、Ｒの光を射出する画素５ｒと、Ｇの光を射出する画素５ｇと、Ｂの光を射出する画素５ｂとを含んでいる。
ここで、Ｒの色は、純粋な赤の色相に限定されず、橙等を含む。Ｇの色は、純粋な緑の色相に限定されず、青緑や黄緑を含む。Ｂの色は、純粋な青の色相に限定されず、青紫や青緑等を含む。他の観点から、Ｒの色を呈する光は、光の波長のピークが、可視光領域で５７０ｎｍ以上の範囲にある光であると定義され得る。また、Ｇの色を呈する光は、光の波長のピークが５００ｎｍ〜５６５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。Ｂの色を呈する光は、光の波長のピークが４１５ｎｍ〜４９５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。
マトリクスＭでは、Ｙ方向に沿って並ぶ複数の画素５が、１つの画素列２１を構成している。また、Ｘ方向に沿って並ぶ複数の画素５が、１つの画素行２３を構成している。１つの画素列２１内の各画素５は、光の色がＲ、Ｇ及びＢのうちの１つに設定されている。つまり、マトリクスＭは、複数の画素５ｒがＹ方向に配列した画素列２１ｒと、複数の画素５ｇがＹ方向に配列した画素列２１ｇと、複数の画素５ｂがＹ方向に配列した画素列２１ｂとを有している。そして、表示装置１では、画素列２１ｒ、画素列２１ｇ及び画素列２１ｂが、この順で２列ずつＸ方向に沿って反復して並んでいる。
また、表示装置１では、マトリクスＭを構成する複数の画素５は、図４に示すように、複数の第１の画素５1と、複数の第２の画素５2とにわけられている。表示装置１は、複数の第１の画素５1から選択的に表示面３を介して表示装置１の外に光を射出することで、表示面３に第１の画像を表示することができる。また、表示装置１は、複数の第２の画素５2から選択的に表示面３を介して表示装置１の外に光を射出することで、表示面３に第２の画像を表示することができる。
なお、第１の画像と第２の画像とは、互いに異なる画像であることと、互いに同じ画像であることとが問われない。また、以下においては、画素５という表記と、画素５ｒ、５ｇ及び５ｂという表記と、第１の画素５1及び第２の画素５2という表記とが、適宜、使いわけられる。また、第１の画素５1及び第２の画素５2のそれぞれに対してＲ、Ｇ及びＢが識別される場合、第１の画素５ｒ1、５ｇ1及び５ｂ1、並びに、第２の画素５ｒ2、５ｇ2及び５ｂ2という表記が用いられる。
表示装置１では、第１の画素５1と第２の画素５2とが、Ｘ方向に交互に並んでいる。１つの画素列２１は、複数の第１の画素５1又は複数の第２の画素５2によって構成されている。つまり、マトリクスＭは、複数の第１の画素５1がＹ方向に沿って配列した画素列２１1と、複数の第２の画素５2がＹ方向に沿って配列した画素列２１2とを有している。なお、以下においては、画素列２１という表記と、画素列２１ｒ、画素列２１ｇ及び画素列２１ｂという表記と、画素列２１1及び画素列２１2という表記とが、適宜、使いわけられる。また、画素列２１1及び画素列２１2のそれぞれに対してＲ、Ｇ及びＢが識別される場合、画素列２１ｒ1、２１ｇ1及び２１ｂ1、並びに、画素列２１ｒ2、２１ｇ2及び２１ｂ2という表記が用いられる。
表示装置１では、マトリクスＭを構成する複数の画素５は、Ｘ方向に隣り合う第１の画素５1及び第２の画素５2の２つの画素５ごとに、これらの２つの画素５を１組とする複数組の画素群２５にわけられている。各画素群２５での第１の画素５1及び第２の画素５2の並び順は、複数組の画素群２５間で統一している。表示装置１では、第１の画素５1と第２の画素５2とが、図４で見て、Ｘ方向に左側から右側に向かってこの順で並んでいる。なお、第１の画素５1及び第２の画素５2の並び順は、複数組の画素群２５間で統一していれば、いずれが左側でも右側でもよい。
また、表示装置１では、各画素群２５を構成する第１の画素５1及び第２の画素５2は、射出する光の色がＲ、Ｇ及びＢのうちの１つに設定されている。つまり、第１の画素５ｒ1及び第２の画素５ｒ2が１組の画素群２５を構成し、第１の画素５ｇ1及び第２の画素５ｇ2が１組の画素群２５を構成し、第１の画素５ｂ1及び第２の画素５ｂ2が１組の画素群２５を構成している。なお、以下において複数組の画素群２５のそれぞれに対してＲ、Ｇ及びＢが識別される場合、画素群２５ｒ、画素群２５ｇ及び画素群２５ｂという表記が用いられる。
マトリクスＭにおいて、複数組の画素群２５は、図５に示すように、Ｘ方向及びＹ方向のそれぞれの方向に沿って並んでいる。つまり、複数組の画素群２５は、マトリクス状に配列している。
なお、表示装置１では、複数の画素５が、前述したように、ｍ行且つ２×ｎ列のマトリクスＭを構成している。このため、複数組の画素群２５は、ｍ行、且つｎ列のマトリクスを構成している。
表示装置１は、回路構成を示す図である図６に示すように、画素５ごとに、選択トランジスタ２７と、駆動トランジスタ２９と、容量素子３１と、画素電極３３と、有機層３５と、共通電極３７とを有している。選択トランジスタ２７及び駆動トランジスタ２９は、それぞれ、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子で構成されており、スイッチング素子としての機能を有する。なお、表示装置１では、選択トランジスタ２７としてＮチャネル型のＴＦＴ素子が採用され、駆動トランジスタ２９としてＰチャネル型のＴＦＴ素子が採用されている。
また、表示装置１は、ｍ本の走査線ＧＴ1と、ｍ本の走査線ＧＴ2と、ｎ本のデータ線ＳＩ1と、ｎ本のデータ線ＳＩ2と、ｍ本の電源線ＰＷとを有している。
なお、以下においてｍ本の走査線ＧＴ1のそれぞれが識別される場合に、走査線ＧＴ1（ｈ）という表記が用いられる（ｈは、１〜ｍの整数）。同様に、ｍ本の走査線ＧＴ2及びｍ本の電源線ＰＷのそれぞれが識別される場合には、走査線ＧＴ2（ｈ）という表記と、電源線ＰＷ（ｈ）という表記とが用いられる。
また、ｎ本のデータ線ＳＩ1及びｎ本のデータ線ＳＩ2のそれぞれが識別される場合には、データ線ＳＩ1（ｊ）という表記と、データ線ＳＩ2（ｊ）という表記とが用いられる（ｊは、１〜ｎの整数）。
ｍ本の走査線ＧＴ1及び走査線ＧＴ2は、Ｙ方向に互いに間隔をあけた状態で、Ｘ方向に沿って延びている。ｎ本のデータ線ＳＩ1及びデータ線ＳＩ2は、Ｘ方向に互いに間隔をあけた状態で、Ｙ方向に沿って延びている。ｍ本の走査線ＧＴ1及びｎ本のデータ線ＳＩ1は、格子状に配線されている。各第１の画素５1は、各走査線ＧＴ1と各データ線ＳＩ1との交差に対応して設定されている。
同様に、ｍ本の走査線ＧＴ2及びｎ本のデータ線ＳＩ2は、格子状に配線されている。各第２の画素５2は、各走査線ＧＴ2と各データ線ＳＩ2との交差に対応して設定されている。
各走査線ＧＴ1及び各走査線ＧＴ2は、各画素行２３（図３）に対応している。各画素行２３において、走査線ＧＴ1は、図６に示すように、ｎ個の第１の画素５1に対応している。また、各画素行２３において、走査線ＧＴ2は、ｎ個の第２の画素５2に対応している。
各データ線ＳＩ1及び各データ線ＳＩ2は、各画素列２１（図３）に対応している。各画素列２１において、データ線ＳＩ1は、図６に示すように、ｍ個の第１の画素５1すなわち１つの画素列２１1（図４）に対応している。また、各画素列２１において、データ線ＳＩ2は、ｍ個の第２の画素５2すなわち１つの画素列２１2（図４）に対応している。
ｍ本の電源線ＰＷは、図６に示すように、Ｙ方向に互いに間隔をあけた状態で、Ｘ方向に沿って延びている。各電源線ＰＷは、各画素行２３（図３）に対応している。
図６に示す各選択トランジスタ２７のゲート電極は、対応する各走査線ＧＴ1及びＧＴ2に電気的につながっている。各選択トランジスタ２７のソース電極は、対応する各データ線ＳＩ1及びＳＩ2に電気的につながっている。選択トランジスタ２７のドレイン電極は、駆動トランジスタ２９のゲート電極及び容量素子３１の一方の電極に電気的につながっている。
容量素子３１の他方の電極と、駆動トランジスタ２９のソース電極は、それぞれ、対応する各電源線ＰＷに電気的につながっている。
各駆動トランジスタ２９のドレイン電極は、各画素電極３３に電気的につながっている。各画素電極３３と共通電極３７とは、画素電極３３を陽極とし、共通電極３７を陰極とする一対の電極を構成している。
ここで、共通電極３７は、マトリクスＭを構成する複数の画素５間にわたって一連した状態で設けられており、複数の画素５間にわたって共通して機能する。
各画素電極３３と共通電極３７との間に介在する有機層３５は、有機材料で構成されており、発光層を含んだ構成を有している。
選択トランジスタ２７は、この選択トランジスタ２７につながる走査線ＧＴ1及びＧＴ2に走査信号が供給されるとＯＮ状態となる。このとき、この選択トランジスタ２７につながるデータ線ＳＩ1及びＳＩ2からデータ信号が供給され、駆動トランジスタ２９がＯＮ状態になる。駆動トランジスタ２９のゲート電位は、データ信号の電位が容量素子３１に一定の期間だけ保持されることによって、一定の期間だけ保持される。これにより、駆動トランジスタ２９のＯＮ状態が一定の期間だけ保持される。
駆動トランジスタ２９のＯＮ状態が保持されているときに、駆動トランジスタ２９のゲート電位に応じた電流が、電源線ＰＷから画素電極３３と有機層３５を経て共通電極３７に流れる。そして、有機層３５に含まれる発光層が、有機層３５を流れる電流量に応じた輝度で発光する。表示装置１は、有機層３５に含まれる発光層が発光し、発光層からの光が封止基板１３を介して表示面３から射出されるトップエミッション型の有機ＥＬ装置の１つである。
ここで、素子基板１１及び封止基板１３のそれぞれの構成について、詳細を説明する。
素子基板１１は、図４中のＣ−Ｃ線における断面図である図７に示すように、第１基板４１を有している。
第１基板４１は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面３側に向けられた第１面４２ａと、底面１５側に向けられた第２面４２ｂとを有している。
第１基板４１の第１面４２ａには、ゲート絶縁膜４３が設けられている。ゲート絶縁膜４３の表示面３側には、絶縁膜４５が設けられている。絶縁膜４５の表示面３側には、絶縁膜４７が設けられている。絶縁膜４７の表示面３側には、絶縁膜４８が設けられている。絶縁膜４８の表示面３側には、絶縁膜４９が設けられている。
また、第１基板４１の第１面４２ａには、各画素５の駆動トランジスタ２９に対応する第１半導体層５１と、各画素５の選択トランジスタ２７に対応する第２半導体層５３とが設けられている。
第１半導体層５１及び第２半導体層５３は、平面図である図８に示すように、それぞれ各画素５に対応して設けられている。なお、図７に示す断面は、図８中のＤ−Ｄ線における断面に相当している。
第１半導体層５１及び第２半導体層５３は、Ｙ方向に間隔をあけた状態でＹ方向に隣り合っている。
第１半導体層５１は、ソース領域５１ａと、チャネル領域５１ｂと、ドレイン領域５１ｃと、電極部５１ｄとを有している。ソース領域５１ａと、チャネル領域５１ｂと、ドレイン領域５１ｃとは、Ｘ方向に並んでいる。電極部５１ｄとチャネル領域５１ｂ及びドレイン領域５１ｃとは、Ｙ方向に間隔をあけた状態でＹ方向に隣り合っている。また、電極部５１ｄとソース領域５１ａとは、連接した状態でＸ方向に隣り合っている。
第２半導体層５３は、ソース領域５３ａと、チャネル領域５３ｂと、ドレイン領域５３ｃとを有している。ソース領域５３ａと、チャネル領域５３ｂと、ドレイン領域５３ｃとは、Ｘ方向に並んでいる。
各画素群２５における第１の画素５1及び第２の画素５2の間で、第１半導体層５１同士及び第２半導体層５３同士は、平面視での輪郭が回転対称の関係にある。
第１半導体層５１及び第２半導体層５３は、図７に示すように、ゲート絶縁膜４３によって表示面３側から覆われている。なお、ゲート絶縁膜４３の材料としては、例えば酸化シリコンなどの材料が採用され得る。
ゲート絶縁膜４３の表示面３側には、平面図である図９に示すように、第１半導体層５１に重なる島状電極５５と、走査線ＧＴ1及びＧＴ2と、データ線ＳＩ1及びＳＩ2とが設けられている。
島状電極５５は、平面図である図１０に示すように、ゲート電極部５５ａと、電極部５５ｂとを有している。ゲート電極部５５ａと電極部５５ｂとは、連接した状態でＹ方向に隣り合っている。
ゲート電極部５５ａは、図８に示す第１半導体層５１のチャネル領域５１ｂに重なっている。電極部５５ｂは、第１半導体層５１の電極部５１ｄに重なっている。電極部５１ｄ及び電極部５５ｂは、容量素子３１の一部を構成している。
走査線ＧＴ1及びＧＴ2のそれぞれには、対応する画素５ごとに、各画素５に向かってＹ方向に分岐する２本のゲート電極部５７が設けられている。各ゲート電極部５７は、図８に示す第２半導体層５３のチャネル領域５３ｂに重なっている。
各画素５に対応する島状電極５５と、この画素５に対応するデータ線ＳＩ1（ＳＩ2）とは、Ｘ方向に隣り合っている。表示装置１では、各画素群２５における２つの島状電極５５は、この画素群２５における第１の画素５1及び第２の画素５2のそれぞれに対応するデータ線ＳＩ1とデータ線ＳＩ2とによってＸ方向に挟まれている。
また、各画素群２５における２つの島状電極５５は、この画素群２５における第１の画素５1及び第２の画素５2のそれぞれに対応する走査線ＧＴ1と走査線ＧＴ2とによってＹ方向に挟まれている。
島状電極５５、走査線ＧＴ1及びＧＴ2、並びにデータ線ＳＩ1及びＳＩ2の材料としては、例えば、アルミニウム、銅、モリブデン、タングステン、クロムなどの金属や、これらを含む合金などが採用され得る。ゲート電極部５５ａ（島状電極５５）、ゲート電極部５７（走査線ＧＴ1及びＧＴ2）並びにデータ線ＳＩ1及びＳＩ2は、図７に示すように、絶縁膜４５によって表示面３側から覆われている。
絶縁膜４５には、平面図である図１１に示すように、各画素５に対応してコンタクトホールＣＨ１，ＣＨ２，ＣＨ３，ＣＨ４，ＣＨ５，ＣＨ６及びＣＨ７が設けられている。
各コンタクトホールＣＨ１は、各データ線ＳＩ1及びＳＩ2に対応して、各データ線ＳＩ1及びＳＩ2に重なる部位に設けられている。各コンタクトホールＣＨ１は、第２半導体層５３のソース領域５３ａとはＸ方向に対峙する部位に設けられている。各コンタクトホールＣＨ１は、対応する各データ線ＳＩ1及びＳＩ2に及んでいる。
各コンタクトホールＣＨ２は、各ソース領域５３ａに対応して、各ソース領域５３ａに重なる部位に設けられている。各コンタクトホールＣＨ２は、各コンタクトホールＣＨ１とはＸ方向に対峙する部位に設けられている。各コンタクトホールＣＨ２は、第２半導体層５３のソース領域５３ａに及んでいる。
各コンタクトホールＣＨ３は、各ドレイン領域５３ｃに対応して、各ドレイン領域５３ｃに重なる部位に設けられている。各コンタクトホールＣＨ３は、第２半導体層５３のドレイン領域５３ｃに及んでいる。
各コンタクトホールＣＨ４は、各電極部５５ｂに対応して、各電極部５５ｂに重なる部位に設けられている。各コンタクトホールＣＨ４は、各コンタクトホールＣＨ３とはＹ方向に対峙する部位に設けられている。各コンタクトホールＣＨ４は、各電極部５５ｂに及んでいる。
コンタクトホールＣＨ５は、各第１半導体層５１の各ドレイン領域５１ｃに対応して、各ドレイン領域５１ｃに重なる部位に２つずつ設けられている。各コンタクトホールＣＨ５は、第１半導体層５１のドレイン領域５１ｃに及んでいる。
各コンタクトホールＣＨ６は、各データ線ＳＩ1及びＳＩ2に対応して、各データ線ＳＩ1及びＳＩ2に重なる部位に設けられている。各コンタクトホールＣＨ６は、Ｘ方向にソース領域５１ａを挟んでゲート電極部５５ａとは対峙する部位に設けられている。各コンタクトホールＣＨ６は、対応する各データ線ＳＩ1及びＳＩ2に及んでいる。
コンタクトホールＣＨ７は、各ソース領域５１ａに対応して、各ソース領域５１ａに重なる部位に２つずつ設けられている。各コンタクトホールＣＨ７は、平面視で、各画素５に対応する各データ線ＳＩ1及びＳＩ2と島状電極５５の電極部５５ｂとの間で、電極部５５ｂとはＸ方向に対峙する部位に設けられている。各コンタクトホールＣＨ７は、第１半導体層５１のソース領域５１ａに及んでいる。
コンタクトホールＣＨ１〜ＣＨ７が設けられた絶縁膜４５の表示面３側には、平面図である図１２に示すように、電源線ＰＷと、ドレイン電極５９と、中継電極６１と、中継電極６３とが設けられている。
各電源線ＰＷは、各画素行２３（図３）をＸ方向にまたぐ長さにわたって一連した状態で設けられている。各電源線ＰＷは、Ｙ方向の幅寸法が、図１２に示すように、Ｙ方向に並ぶ２つのコンタクトホールＣＨ７をまたぐ長さに設定されている。各電源線ＰＷは、各画素行２３における複数のコンタクトホールＣＨ７を覆っている。
各画素５において、電源線ＰＷは、平面視で選択トランジスタ２７と駆動トランジスタ２９との間に位置している。換言すれば、選択トランジスタ２７と駆動トランジスタ２９とは、電源線ＰＷを挟んでＹ方向に対峙している。また、選択トランジスタ２７のソース領域５３ａ、チャネル領域５３ｂ（図８）及びドレイン領域５３ｃは、平面視で電源線ＰＷの外側に位置している。駆動トランジスタ２９のソース領域５１ａの一部と、チャネル領域５１ｂ（図８）と、ドレイン領域５１ｃとは、平面視で電源線ＰＷの外側に位置している。
また、１組の画素群２５における第１の画素５1及び第２の画素５2間で、一方の選択トランジスタ２７と、他方の駆動トランジスタ２９とは、図１２に示すように、Ｘ方向に隣り合っている。１組の画素群２５における第１の画素５1及び第２の画素５2間で、選択トランジスタ２７同士は、Ｙ方向に電源線ＰＷを挟んで互いに反対側に位置している。同様に、１組の画素群２５における第１の画素５1及び第２の画素５2間で、駆動トランジスタ２９同士は、Ｙ方向に電源線ＰＷを挟んで互いに反対側に位置している。
各電源線ＰＷは、図１２中のＥ−Ｅ線における断面図である図１３に示すように、コンタクトホールＣＨ７を介して第１半導体層５１のソース領域５１ａに達している。なお、表示装置１では、各電源線ＰＷからコンタクトホールＣＨ７を介してソース領域５１ａに達している部位が、ソース電極部６５と呼ばれる。
前述したように、各コンタクトホールＣＨ７は、平面視で、各画素５に対応する各データ線ＳＩ1及びＳＩ2と島状電極５５の電極部５５ｂとの間に設けられている。このため、各ソース電極部６５は、平面視で、各画素５に対応する各データ線ＳＩ1及びＳＩ2と島状電極５５の電極部５５ｂとの間に位置している。
ここで、平面視で電源線ＰＷと島状電極５５の電極部５５ｂと第１半導体層５１の電極部５１ｄとが重なる領域に、容量素子３１が形成される。このため、容量素子３１は、第１基板４１及び電源線ＰＷの間に設けられているとみなされ得る。電極部５５ｂ、電極部５１ｄ及び電源線ＰＷは、容量素子３１の一部を構成している。
ドレイン電極５９は、図１２に示すように、各画素５に対応して設けられており、コンタクトホールＣＨ５を覆っている。各ドレイン電極５９は、図７中のＦ部の拡大図である図１４に示すように、コンタクトホールＣＨ５を介して第１半導体層５１のドレイン領域５１ｃに達している。表示装置１では、ドレイン電極５９からコンタクトホールＣＨ５を介してドレイン領域５１ｃに達している部位が、接続部６７と呼ばれる。
中継電極６１は、図１２に示すように、各画素５に対応して設けられている。各中継電極６１は、Ｙ方向に隣り合う２つの画素５間で、一方の画素５に対応するコンタクトホールＣＨ１と、他方の画素５に対応するコンタクトホールＣＨ６とにまたがっている。また、各画素５において、各中継電極６１は、コンタクトホールＣＨ１とコンタクトホールＣＨ２との間にまたがっている。
各中継電極６１は、Ｙ方向に隣り合う２つの画素５のうちの一方に対応するコンタクトホールＣＨ１及びＣＨ２と、２つの画素５のうちの他方に対応するコンタクトホールＣＨ６とを覆っている。これにより、Ｙ方向に隣り合う２つのデータ線ＳＩ1同士が、中継電極６１を介して電気的に接続される。また、Ｙ方向に隣り合う２つのデータ線ＳＩ2同士も、中継電極６１を介して電気的に接続される。
さらに、データ線ＳＩ1と、これに対応する第２半導体層５３のソース領域５３ａとが、中継電極６１を介して電気的に接続される。また、データ線ＳＩ2と、これに対応する第２半導体層５３のソース領域５３ａとが、中継電極６１を介して電気的に接続される。
中継電極６３は、各画素５に対応して設けられており、各画素５に対応するコンタクトホールＣＨ３とコンタクトホールＣＨ４との間にまたがっている。各中継電極６３は、電源線ＰＷの輪郭よりも外側で、これらのコンタクトホールＣＨ３及びＣＨ４を覆っている。これにより、各画素５において、第２半導体層５３のドレイン領域５３ｃと島状電極５５の電極部５５ｂとが、電源線ＰＷの輪郭よりも外側で、中継電極６３を介して電気的に接続される。
電源線ＰＷ、ドレイン電極５９、中継電極６１及び中継電極６３の材料としては、例えば、アルミニウム、銅、モリブデン、タングステン、クロムなどの金属や、これらを含む合金などが採用され得る。ドレイン電極５９、中継電極６１及び中継電極６３は、図７に示すように、絶縁膜４７によって表示面３側から覆われている。なお、電源線ＰＷも、絶縁膜４７によって表示面３側から覆われている。
絶縁膜４７は、絶縁膜４８によって表示面３側から覆われている。
絶縁膜４８の表示面３側には、各画素５に対応して反射膜７３が設けられている。ここで、絶縁膜４８は、図１４に示すように、画素５ごとに斜面４８ａを有している。各反射膜７３は、斜面４８ａに設けられている。
そして、絶縁膜４８及び反射膜７３は、絶縁膜４９によって表示面３側から覆われている。
なお、絶縁膜４７、絶縁膜４８及び絶縁膜４９の材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アクリル系の樹脂などの材料が採用され得る。
また、反射膜７３の材料としては、金、白金、銀、アルミニウム、銅などの光反射性を有する金属や、これらを含む合金などが採用され得る。
表示装置１では、絶縁膜４７及び絶縁膜４９の材料として、酸化シリコンが採用され、絶縁膜４８の材料として、アクリル系の樹脂が採用されている。また、反射膜７３の材料として、アルミニウムが採用されている。
絶縁膜４７、絶縁膜４８及び絶縁膜４９には、コンタクトホールＣＨ８が設けられている。
各コンタクトホールＣＨ８は、図１２に示すように、各画素５に対応して設けられている。各コンタクトホールＣＨ８は、ドレイン電極５９に重なる領域に設けられており、ドレイン電極５９に及んでいる。
なお、各ドレイン電極５９は、Ｘ方向にゲート電極部５５ａとは反対側に延長されている。そして、各コンタクトホールＣＨ８は、平面視でドレイン電極５９の延長された部位に重なっている。これにより、平面視でコンタクトホールＣＨ５とコンタクトホールＣＨ８とが重なっていない。ここで、コンタクトホールＣＨ５とコンタクトホールＣＨ８とは重なっていてもよい。
コンタクトホールＣＨ８が設けられた絶縁膜４９の表示面３側には、図７に示すように、画素５ごとに画素電極３３が設けられている。
各画素電極３３は、平面図である図１５に示すように、Ｙ方向には走査線ＧＴ1及び走査線ＧＴ2にまたがっており、Ｘ方向にはコンタクトホールＣＨ８と、各画素５に対応するデータ線ＳＩ1又はデータ線ＳＩ2とにまたがっている。各画素電極３３は、コンタクトホールＣＨ８を覆っている。
なお、表示装置１では、各画素電極３３からコンタクトホールＣＨ８を介してドレイン電極５９に達している部位が、図１４に示すように、接続部６９と呼ばれる。
画素電極３３の材料としては、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やインジウム亜鉛酸化物（Indium Zinc Oxide）などが採用され得る。
隣り合う画素電極３３同士の間には、図７に示すように、各画素５の有効領域を区画するバンク７１が領域７２にわたって設けられている。バンク７１は、隣り合う画素電極３３同士間で絶縁膜４９に及んでいる。バンク７１は、例えば、カーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を含有するアクリル系の樹脂やポリイミドなどの樹脂で構成されており、平面図である図１６に示すように、格子状に設けられている。
バンク７１は、表示領域７にわたって設けられている。このため、表示領域７は、バンク７１によって複数の画素５の有効領域が区画されている。なお、各画素電極３３は、図１６に示すように、周縁部がバンク７１に平面視で重なっている。
ここで、バンク７１には、Ｘ方向に隣り合う画素群２５同士間の部位であるバンク７１ａと、１組の画素群２５内の第１の画素５1及び第２の画素５2間の部位であるバンク７１ｂとが含まれている。バンク７１ｂのＸ方向における幅寸法は、バンク７１ａのＸ方向における幅寸法よりも長く設定されている。
そして、各画素５において、画素電極３３の接続部６９及びコンタクトホールＣＨ８は、図１４及び図１６に示すように、平面視でバンク７１ｂに重なっている。つまり、接続部６９及びコンタクトホールＣＨ８は、平面視でバンク７１ｂに隠されている。
ここで、絶縁膜４８の各斜面４８ａは、図１４に示すように、バンク７１ｂ側からバンク７１ａ側に向かって高くなる方向に傾斜している。絶縁膜４８には、Ｘ方向に隣り合うバンク７１ａ同士間に、表示面３側から底面１５側に向かって凹となる凹部４８ｂが設けられている。換言すれば、絶縁膜４８には、Ｘ方向に隣り合うバンク７１ｂ同士間、すなわちＸ方向に隣り合う画素群２５同士間に、底面１５側から表示面３側に向かって凸となる凸部４８ｃが設けられている。
これにより、各画素５において、絶縁膜４８は、バンク７１ａからバンク７１ｂに向かうにつれて厚みが厚くなっている。このため、バンク７１ｂは、バンク７１ａよりも底面１５側に位置している。
そして、各画素５において、反射膜７３、絶縁膜４９及び画素電極３３は、図１４に示すように、斜面４８ａに沿って傾斜している。
なお、絶縁膜４８の凹部４８ｂは、例えば、感光性を有するアクリル系の樹脂などに、ハーフトーン露光を実施してからエッチング処理を施すことによって形成され得る。ポジ型の感光性樹脂の場合には、凹部４８ｂの露光光の強度を、凸部４８ｃの露光光の強度よりも高くすることによって凹部４８ｂが形成され得る。ネガ型の感光性樹脂の場合には、凹部４８ｂの露光光の強度を、凸部４８ｃの露光光の強度よりも低くすることによって凹部４８ｂが形成され得る。
画素電極３３の表示面３側には、図７に示すように、バンク７１に囲まれた領域内に、有機層３５が設けられている。
有機層３５は、各画素５に対応して設けられており、正孔注入層７４と、正孔輸送層７５と、発光層７７と、電子輸送層７９とを有している。
正孔注入層７４は、有機材料で構成されており、平面視でバンク７１によって囲まれた領域内で、画素電極３３の表示面３側に設けられている。正孔注入層７４は、蒸着技術を活用して、平面視でバンク７１によって囲まれた領域内に正孔注入層７４の材料を配置することによって設けられ得る。
正孔注入層７４の材料としては、例えば、４，４’，４”−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）や、４，４’，４”−トリス（２−ナフチルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（２−ＴＮＡＴＡ）などが採用され得る。
正孔輸送層７５は、有機材料で構成されており、平面視でバンク７１によって囲まれた領域内で、正孔注入層７４の表示面３側に設けられている。正孔輸送層７５は、蒸着技術を活用して、平面視でバンク７１によって囲まれた領域内に正孔輸送層７５の材料を配置することによって設けられ得る。
正孔輸送層７５の材料としては、例えば、ビス［（Ｎ−ナフチル）−Ｎ−フェニル］ベンジジン（α−ＮＰＤ）などが採用され得る。
発光層７７は、有機材料で構成されており、平面視でバンク７１によって囲まれた領域内で、正孔輸送層７５の表示面３側に設けられている。発光層７７は、蒸着技術を活用して、平面視でバンク７１によって囲まれた領域内に発光層７７の材料を配置することによって設けられ得る。
Ｒの画素５ｒに対応する発光層７７の材料としては、例えば、８−キノリノールアルミニウム錯体（Ａｌｑ3）と、２，６−ビス［４−［Ｎ−（４−メトキシフェニル）−Ｎ−フェニル］アミノスチリル］ナフタレン−１，５−ジカルボニトリル（ＢＳＮ−ＢＣＮ）とを混合したものなどが採用され得る。
Ｇの画素５ｇに対応する発光層７７の材料としては、例えば、Ａｌｑ3と、クマリン６（Ｃｏｕｍａｒｉｎ６）とを混合したものなどが採用され得る。
Ｂの画素５ｂに対応する発光層７７の材料としては、例えば、スピロ６Φ（Ｓｐｉｒｏ６Φ）などが採用され得る。
なお、以下において複数の発光層７７のそれぞれに対してＲ、Ｇ及びＢが識別される場合、発光層７７ｒ、発光層７７ｇ及び発光層７７ｂという表記が用いられる。
電子輸送層７９は、有機材料で構成されており、平面視でバンク７１によって囲まれた領域内で、発光層７７の表示面３側に設けられている。電子輸送層７９の材料としては、例えば、Ａｌｑ3が採用され得る。そして、電子輸送層７９は、蒸着技術を活用して、平面視でバンク７１によって囲まれた領域内にＡｌｑ3を配置することによって設けられ得る。
有機層３５の表示面３側には、図７に示すように、共通電極３７が設けられている。共通電極３７は、有機層３５及びバンク７１を表示面３側から複数の画素５間にわたって覆っている。共通電極３７の材料としては、例えば、ＩＴＯやインジウム亜鉛酸化物等の光透過性を有する材料や、マグネシウム銀等を薄膜化して光透過性を付与したものなどが採用され得る。表示装置１では、共通電極３７の材料として、マグネシウム銀等を薄膜化したものが採用されている。
なお、表示装置１では、各画素５において、有機層３５及び共通電極３７は、図１４に示すように、バンク７１ｂからバンク７１ａに向かうにつれて第１基板４１から遠ざかる方向に傾斜している。そして、各発光層７７は、バンク７１ｂからバンク７１ａに向かうにつれて第１基板４１から遠ざかる方向に傾斜した斜面７７ａを有している。
また、表示装置１では、各画素５において発光する領域は、バンク７１によって囲まれた領域内で画素電極３３と有機層３５と共通電極３７とが、斜面７７ａの法線方向に見て重なる領域であると定義され得る。
共通電極３７の表示面３側には、補助配線３９が設けられている。補助配線３９は、共通電極３７よりも表示面３側でバンク７１ｂに平面視で重なる領域に設けられている。補助配線３９としては、例えば、アルミニウム、銅、金、銀、モリブデン、タングステン、クロムなどの金属や、これらを含む合金などが採用され得る。
この補助配線３９は、共通電極３７に導通しており、共通電極３７の電気伝導を補助する機能を有している。
封止基板１３は、図７に示すように、第２基板８１を有している。第２基板８１は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面３側に向けられた外向面８２ａと、底面１５側に向けられた対向面８２ｂとを有している。
第２基板８１の対向面８２ｂには、遮光膜８３が設けられている。遮光膜８３は、例えば、カーボンブラックなどを含有する樹脂や、クロムなどの光吸収性が高い材料で構成され得る。遮光膜８３は、マトリクスＭを構成する複数の画素５間にわたって設けられている。つまり、遮光膜８３は、マトリクスＭを構成する複数の画素５に平面視で重なる領域に設けられている。
遮光膜８３には、各画素群２５を構成する第１の画素５1及び第２の画素５2に平面視で重なる開口部８５が設けられている。
各開口部８５は、遮光膜８３と画素群２５との平面図である図１７に示すように、各画素群２５に対応して設けられている。まお、この図１７では、構成をわかりやすく示すため、遮光膜８３にハッチングが施されている。
また、第２基板８１の対向面８２ｂには、図７に示すように、開口部８５内の領域を底面１５側から覆うカラーフィルタ８７が設けられている。カラーフィルタ８７は、開口部８５ごとに設けられている。
ここで、カラーフィルタ８７は、入射された光のうち所定の波長域の光を透過させることができる。カラーフィルタ８７は、画素群２５ｒ、画素群２５ｇ及び画素群２５ｂごとに異なる色に着色された樹脂などで構成されている。
画素群２５ｒに対応するカラーフィルタ８７は、Ｒの光を透過させることができる。画素群２５ｇに対応するカラーフィルタ８７はＧの光を透過させ、画素群２５ｂに対応するカラーフィルタ８７はＢの光を透過させることができる。なお、以下において、各カラーフィルタ８７に対してＲ、Ｇ及びＢが識別される場合に、カラーフィルタ８７ｒ、８７ｇ及び８７ｂという表記が用いられる。
ここで、表示装置１では、画素５ｒの発光層７７がＲの光を射出する。画素５ｒの発光層７７から射出されたＲの光は、カラーフィルタ８７ｒを透過することによってＲの色純度が高められる。また、画素５ｇの発光層７７から射出されたＧの光は、カラーフィルタ８７ｇを透過することによってＧの色純度が高められ、画素５ｂの発光層７７から射出されたＢの光は、カラーフィルタ８７ｂを透過することによってＢの色純度が高められる。
遮光膜８３及びカラーフィルタ８７の底面１５側には、オーバーコート層８９が設けられている。オーバーコート層８９は、光透過性を有する樹脂などで構成されており、遮光膜８３及びカラーフィルタ８７を底面１５側から覆っている。
オーバーコート層８９の底面１５側には、樹脂層９３が設けられている。樹脂層９３は、例えばアクリル系の樹脂やエポキシ系の樹脂などの光透過性を有する材料で構成されており、各画素５に対応してプリズム部９５ａ及び９５ｂが形成されている。表示装置１では、プリズム部９５ａが第１の画素５1に対応し、プリズム部９５ｂが第２の画素５2に対応している。
上記の構成を有する封止基板１３及び素子基板１１は、樹脂層９３のプリズム部９５ａ及び９５ｂ側と共通電極３７側とが対向した状態で、樹脂層９３と共通電極３７とが接着剤９７を介して接合されている。
表示装置１では、図２に示すシール材１７は、図７に示す第１基板４１の第１面４２ａと、第２基板８１の対向面８２ｂとによって挟持されている。つまり、表示装置１では、接着剤９７が、第１基板４１及び第２基板８１並びにシール材１７によって封止されている。なお、シール材１７は、樹脂層９３及び共通電極３７の間に設けられていてもよい。この場合、接着剤９７は、素子基板１１及び封止基板１３並びにシール材１７によって封止されているとみなされ得る。
なお、接着剤９７は、樹脂層９３のプリズム部９５ａ及び９５ｂ内に及んでいる。また、接着剤９７の材料としては、光透過性を有し、且つ屈折率が樹脂層９３の屈折率とは異なるものが採用され得る。これにより、各画素５の発光層７７から、対応するプリズム部９５ａ及び９５ｂに至る光を、プリズム部９５ａ及び９５ｂのそれぞれで屈折させることができる。
表示装置１では、樹脂層９３の屈折率が、接着剤９７の屈折率よりも高く設定されている。そして、各プリズム部９５ａ及び９５ｂは、対応する各画素５の発光層７７からの光を開口部８５側へ屈折させるように形状が設定されている。
上記の構成を有する表示装置１では、発光層７７を画素５ごとに発光させることにより、表示が制御される。発光層７７の発光状態は、各有機層３５を流れる電流を各駆動トランジスタ２９で制御することによって画素５ごとに変化し得る。
各走査線ＧＴ1（ｈ）には、図６に示すように、制御信号ＣＳ1（ｈ）が供給される。同様に、各走査線ＧＴ2（ｈ）には、制御信号ＣＳ2（ｈ）が供給される。制御信号ＣＳ1（ｈ）と制御信号ＣＳ2（ｈ）とは、交互に供給される。つまり、走査線ＧＴ1（１）に、制御信号ＣＳ1（１）が供給された後に、走査線ＧＴ2（１）に制御信号ＣＳ2（１）が供給される。
各データ線ＳＩ1（ｊ）には、画像信号ＤＳ1（ｊ）がパラレル信号として供給される。同様に、各データ線ＳＩ2（ｊ）には、画像信号ＤＳ2（ｊ）がパラレル信号として供給される。画像信号ＤＳ1（ｊ）と画像信号ＤＳ2（ｊ）とは、交互に供給される。つまり、データ線ＳＩ1（１）〜ＳＩ1（ｎ）に画像信号ＤＳ1（１）〜ＤＳ1（ｎ）が供給された後に、データ線ＳＩ2（１）〜ＳＩ2（ｎ）に画像信号ＤＳ2（１）〜ＤＳ2（ｎ）が供給される。
制御信号ＣＳ1（ｈ）及び制御信号ＣＳ2（ｈ）は、図１８に示すように、それぞれ、１フレーム期間内に１回だけ、１フレーム期間よりも短い期間ｔ１にわたってＨｉレベルの選択電位に維持される。あるタイミングで選択電位となり得るのは、制御信号ＣＳ1（ｈ）及び制御信号ＣＳ2（ｈ）のうちの１つだけである。
走査線ＧＴ1（ｈ）が選択電位となると、この走査線ＧＴ1（ｈ）に対応する複数の第１の画素５1の選択トランジスタ２７がＯＮ状態となる。このとき、データ線ＳＩ1（１）〜ＳＩ1（ｎ）に供給された画像信号ＤＳ1（１）〜ＤＳ1（ｎ）が、選択トランジスタ２７を介して、駆動トランジスタ２９のゲート電極部５５ａ及び電極部５５ｂ（図１２）に供給される。つまり、第１の画素５1において、ゲート電極部５５ａ及び電極部５５ｂは、画像信号ＤＳ1（ｊ）の電位に応じた電位となる。
同様に、走査線ＧＴ2（ｈ）が選択電位となると、この走査線ＧＴ2（ｈ）に対応する複数の第２の画素５2の選択トランジスタ２７がＯＮ状態となる。このとき、データ線ＳＩ2（１）〜ＳＩ2（ｎ）に供給された画像信号ＤＳ2（１）〜ＤＳ2（ｎ）が、選択トランジスタ２７を介して、駆動トランジスタ２９のゲート電極部５５ａ及び電極部５５ｂ（図１２）に供給される。つまり、第２の画素５2において、ゲート電極部５５ａ及び電極部５５ｂは、画像信号ＤＳ2（ｊ）の電位に応じた電位となる。
このとき、駆動トランジスタ２９のゲート電極部５５ａの電位に応じた電流が、電源線ＰＷ（ｈ）からソース領域５１ａ及びチャネル領域５１ｂを介してドレイン領域５１ｃに流れる。
そして、電源線ＰＷ（ｈ）からの電流は、ドレイン電極５９及び画素電極３３を経て有機層３５（図７）を流れる。
他方で、電極部５５ｂ及び電源線ＰＷ（ｈ）の間（図１３）と、電極部５５ｂ及び電極部５１ｄの間とには、電荷が蓄積されるので、駆動トランジスタ２９のゲート電極部５５ａの電位は、一定期間だけ保持される。この結果、ゲート電極部５５ａの電位が保持されている期間において、電流が有機層３５を流れつづける。
このように、表示装置１では、画像信号ＤＳ1（ｊ）や画像信号ＤＳ2（ｊ）の電位に応じた電流が有機層３５を流れるので、画素５ごとに発光層７７からの光を画像信号ＤＳ1（ｊ）の電位に応じた輝度に制御することができる。これにより、表示装置１では、階調表示が行われ得る。
また、表示装置１では、第１の画素５1及び第２の画素５2ごとに、画像信号ＤＳ1（ｊ）と画像信号ＤＳ2（ｊ）とを異なるタイミングで供給することができる。このため、第１の画像に対応する画像信号ＤＳ1（ｊ）と、第２の画像に対応する画像信号ＤＳ2（ｊ）とをわけて処理することができる。この結果、第１の画像に対応する画像信号ＤＳ1（ｊ）と、第２の画像に対応する画像信号ＤＳ2（ｊ）とを合成して同じタイミングで供給するための処理を省略することができる。
有機層３５に電流が流れると、発光層７７が発光する。発光層７７から表示面３側に向かう光は、電子輸送層７９及び共通電極３７を透過して第２基板８１へ向かう（図７）。
ここで、表示装置１は、前述したように、画素群２５ごとに開口部８５が設けられた遮光膜８３を有している。各画素５の発光層７７から第２基板８１へ向かうの光は、開口部８５を介して表示面３に向けて射出される。
このとき、各第１の画素５1から表示面３側に向けて射出された光１１１ａは、複数組の画素群２５及び遮光膜８３を模式的に示す断面図である図１９に示すように、各開口部８５を介して第１の範囲１１３に及ぶ。
また、各第２の画素５2から表示面３側に向けて射出された光１１１ｂは、各開口部８５を介して第２の範囲１１５に及ぶ。なお、図１９に示す断面は、図１中のＡ−Ａ線における断面に相当している。
第１の範囲１１３からは、開口部８５を介して第１の画素５1からの光１１１ａが視認され得る。第２の範囲１１５からは、開口部８５を介して第２の画素５2からの光１１１ｂが視認され得る。第１の範囲１１３内に視点があれば、複数の第１の画素５1からの光１１１ａによって形成される第１の画像が視認され得る。第２の範囲１１５内に視点があれば、複数の第２の画素５2からの光１１１ｂによって形成される第２の画像が視認され得る。つまり、表示装置１では、第１の画像を第１の範囲１１３に表示し、第２の画像を、第１の範囲１１３とは異なる第２の範囲１１５に表示する所謂指向性表示を行うことができる。
第１の範囲１１３及び第２の範囲１１５は、互いに重複する範囲１１７を有している。この範囲１１７からは、第１の画像と第２の画像とが重畳した状態で視認される。第１の範囲１１３から範囲１１７を除いた範囲１１９ａ（以下、適視範囲１１９ａと呼ぶ）からは、第１の画像だけが視認され得る。また、第２の範囲１１５から範囲１１７を除いた範囲１１９ｂ（以下、適視範囲１１９ｂと呼ぶ）からは、第２の画像だけが視認され得る。
表示装置１は、複数の第１の画素５1から射出された光１１１ａが第１の範囲１１３の両端のそれぞれにおいて交差し、複数の第２の画素５2から射出された光１１１ｂが第２の範囲１１５の両端のそれぞれにおいて交差するように構成されている。これは、Ｘ方向に隣り合う開口部８５同士間の間隔Ｐａを、Ｘ方向に隣り合う画素群２５同士間の間隔Ｐｂよりも短く設定することによって実現され得る。
これにより、適視範囲１１９ａ内にある任意の視点から視認される光の量を、複数の第１の画素５1間で同等にすることができる。同様に、適視範囲１１９ｂ内にある任意の視点から視認される光の量を、複数の第２の画素５2間で同等にすることができる。
ここで、各発光層７７から表示面３側に向かう光の一部は、図１４中のＫ部の拡大図である図２０に示すように、共通電極３７によって、光１２１ａとして底面１５側へ反射される。
そして、共通電極３７によって底面１５側へ反射された光１２１ａと、発光層７７から底面１５側に向かう光１２１ｂとは、反射膜７３によって表示面３側へ反射される。
表示装置１では、反射膜７３と共通電極３７との間の光学的な距離Ｌが、下記（１）式から算出される値に設定されている。
Ｌ＝Σ（ｎi×ｄi）＝Ｓ×λ／２…（１）
（１）式において、ｎiは、反射膜７３と共通電極３７との間に介在する各層の屈折率である。ｄiは、反射膜７３と共通電極３７との間に介在する各層の厚みである。λは、共通電極３７を経て第２基板８１側に射出させる光の波長である。Ｓは、１以上の整数である。
なお、表示装置１では、反射膜７３と共通電極３７との間に介在する層は、絶縁膜４９、画素電極３３、正孔注入層７４、正孔輸送層７５、発光層７７及び電子輸送層７９である。
そして、Ｒの画素５ｒにおけるλは、５７０ｎｍ以上で可視光領域内に設定されている。また、Ｇの画素５ｇにおけるλが５００ｎｍ〜５６５ｎｍの範囲内に設定されており、Ｂの画素５ｂにおけるλが４１５ｎｍ〜４９５ｎｍの範囲内に設定されている。
これにより、表示装置１では、光１２１ａと光１２１ｂとが互いに強め合う光の共振が発現する。つまり、表示装置１では、画素５ごとに、反射膜７３と共通電極３７との間に光学的な共振構造が構成されている。この結果、各画素５から共通電極３７を経て第２基板８１側に向かう光を増幅させやすくすることができる。
なお、画素５ｒ、画素５ｇ及び画素５ｂ間で距離Ｌを異ならせることは、絶縁膜４７と共通電極３７との間に介在する複数の層のうちの少なくとも１つの厚みを異ならせることによって実現され得る。
表示装置１では、絶縁膜４７と共通電極３７との間に介在する複数の層は、絶縁膜４８、反射膜７３、絶縁膜４９、画素電極３３、正孔注入層７４、正孔輸送層７５、発光層７７及び電子輸送層７９である。従って、これらの層のうちの少なくとも１つの厚みを画素５ｒ、画素５ｇ及び画素５ｂ間で異ならせれば、画素５ｒ、画素５ｇ及び画素５ｂ間で距離Ｌを異ならせることができる。
表示装置１において、遮光膜８３が遮光層に対応し、画素電極３３が第１電極に対応し、共通電極３７が第２電極に対応し、駆動トランジスタ２９がスイッチング素子に対応し、反射膜７３が反射層に対応し、プリズム部９５ａ及び９５ｂがプリズムとしての光学素子に対応している。また、画素５ｒが赤系画素に対応し、画素５ｇが緑系画素に対応し、画素５ｂが青系画素に対応し、カラーフィルタ８７ｒが赤系フィルタに対応し、カラーフィルタ８７ｇが緑系フィルタに対応し、カラーフィルタ８７ｂが青系フィルタに対応している。また、接続部６９及びコンタクトホールＣＨ８が接続部に対応し、データ線ＳＩ1及びデータ線ＳＩ2が信号線に対応し、バンク７１が第２遮光層に対応している。
表示装置１では、遮光膜８３が第２基板８１に設けられている。つまり、遮光膜８３は、第１基板４１と第２基板８１との間に介在している。このため、遮光膜８３が素子基板１１及び封止基板１３の外側に配置される場合に比較して、複数の画素５と遮光膜８３との間の距離を短縮することができる。従って、指向性表示における適視範囲１１９ａや適視範囲１１９ｂを拡大しやすくすることができる。
また、表示装置１では、電源線ＰＷがＸ方向に延びている。このため、例えば、Ｘ方向に隣り合う画素５同士間に沿ってＹ方向に電源線ＰＷが延びる場合に比較して、Ｘ方向における画素５同士間の間隔を縮めやすくすることができる。これにより、Ｘ方向における画素密度を高めやすくすることができる。この結果、指向性表示における高精細化を図りやすくすることができる。
また、表示装置１では、発光層７７からの光が封止基板１３を介して表示面３から射出されるトップエミッション型の有機ＥＬ装置が採用されている。
ここで、発光層７７からの光が素子基板１１の第１基板４１を経て射出されるボトムエミッション型を採用した場合、発光層７７と遮光膜８３との間に第１基板４１が介在することになる。このため、ボトムエミッション型では、発光層７７と遮光膜８３との間の距離を短縮することが困難になる。
ところが、表示装置１では、トップエミッション型が採用されているので、発光層７７と遮光膜８３との間の距離を短縮しやすくすることができる。
また、表示装置１では、選択トランジスタ２７や駆動トランジスタ２９が発光層７７よりも底面１５側に設けられている。他方で、発光層７７からの光は、封止基板１３を介して表示面３から射出される。つまり、選択トランジスタ２７や駆動トランジスタ２９は、発光層７７から表示面３側に向かう光の進行を妨げない。従って、発光層７７からの光の利用効率を高めやすくすることができる。他方で、選択トランジスタ２７や駆動トランジスタ２９などの平面視での配置位置の自由度を高めやすくすることができる。
また、表示装置１では、発光層７７と遮光膜８３との間に樹脂層９３が介在している。樹脂層９３では、ガラスや石英などの脆性材料に比較して厚みを容易に調整することができる。このため、表示装置１では、樹脂層９３の厚みを調整することで、適視範囲１１９ａや適視範囲１１９ｂを調整しやすくすることができる。
また、表示装置１では、各発光層７７が遮光膜８３に対して傾斜した斜面７７ａを有している。そして、各斜面７７ａは、開口部８５側に向いている。このため、発光層７７からの光は、開口部８５側に向かいやすい。従って、発光層７７からの光の利用効率を高めやすくすることができ、指向性表示における画像を明るくしやすくすることができる。
また、表示装置１では、各画素５に対応して、第１基板４１と発光層７７との間に反射膜７３が設けられている。このため、発光層７７から第１基板４１側に向かう光１２１ｂを第２基板８１側に反射させることができ、発光層７７からの光の利用効率を高めやすくすることができる。
また、表示装置１では、樹脂層９３にプリズム部９５ａ及び９５ｂが設けられている。このため、発光層７７からの光を各開口部８５へ導きやすくすることができる。これにより、光の利用効率を一層高めやすくすることができる。
また、表示装置１では、複数の発光層７７は、画素５ごとにＲの光を発する発光層７７と、Ｇの光を発する発光層７７と、Ｂの光を発する発光層７７とにわけられている。このため、指向性表示においてカラー表示を行うことができる。
また、表示装置１では、Ｒの画素５ｒに対応するカラーフィルタ８７ｒと、Ｇの画素５ｇに対応するカラーフィルタ８７ｇと、Ｂの画素５ｂに対応するカラーフィルタ８７ｂとが設けられている。従って、各画素５から開口部８５を経て射出される光の色純度を高めやすくすることができる。
また、表示装置１では、画素５ごとに、反射膜７３と共通電極３７との間に光学的な共振構造が構成されている。このため、各画素５から開口部８５を経て射出される光の色純度を一層高めやすくすることができる。
また、表示装置１では、開口部８５ごとにカラーフィルタ８７が設けられている。各開口部８５は、各画素群２５に対応している。このため、各画素群２５を構成する第１の画素５1と第２の画素５2とに１つのカラーフィルタ８７を共用させることができる。
また、各カラーフィルタ８７が各開口部８５内に設けられているので、表示装置１の厚みを低減しやすくすることができる。
また、表示装置１では、容量素子３１が第１基板４１及び電源線ＰＷの間に設けられており、且つ平面視で電源線ＰＷに重なっているので、各画素５の領域を縮小しやすくすることができる。これにより、画素密度を一層高めやすくすることができ、指向性表示における高精細化を一層図りやすくすることができる。
また、表示装置１では、各画素５において選択トランジスタ２７及び駆動トランジスタ２９が、平面視でＹ方向に電源線ＰＷを挟んで対峙する位置に設けられている。このため、選択トランジスタ２７及び駆動トランジスタ２９の間に容量素子３１を設けやすくすることができる。この結果、各画素５の領域を縮小しやすくすることができる。
また、表示装置１では、駆動トランジスタ２９のソース領域５１ａと、チャネル領域５１ｂと、ドレイン領域５１ｃとが、Ｘ方向に並んでいる。そして、選択トランジスタ２７のソース領域５３ａと、チャネル領域５３ｂと、ドレイン領域５３ｃとが、Ｘ方向に並んでいる。このため、選択トランジスタ２７及び駆動トランジスタ２９の間の領域を広げやすくすることができる。これにより、選択トランジスタ２７及び駆動トランジスタ２９の間に容量素子３１を一層設けやすくすることができる。
また、表示装置１では、駆動トランジスタ２９において、島状電極５５がゲート電極部５５ａと電極部５５ｂとを有し、第１半導体層５１が電極部５１ｄを有している。電極部５５ｂと電極部５１ｄとは、互いに対向しているとともに、平面視で電源線ＰＷに重なっている。そして、電極部５５ｂが選択トランジスタ２７のドレイン領域５３ｃに電気的につながっており、電極部５１ｄが電源線ＰＷに電気的につながっている。このため、電極部５５ｂ、電極部５１ｄ及び電源線ＰＷに、容量素子３１の一部を構成させることができる。
他方で、島状電極５５のゲート電極部５５ａと、第１半導体層５１のソース領域５１ａ、チャネル領域５１ｂ及びドレイン領域５１ｃとは、駆動トランジスタ２９を構成している。つまり、表示装置１では、駆動トランジスタ２９と容量素子３１とを共用することができる。この結果、各画素５の領域を一層縮小しやすくすることができ、指向性表示における高精細化を一層図りやすくすることができる。
また、表示装置１では、第１半導体層５１のドレイン領域５１ｃが、平面視で電源線ＰＷの外側に設けられている。そして、第１半導体層５１のドレイン領域５１ｃと各画素電極３３とが、平面視で電源線ＰＷの外側で電気的につながっている。このため、電源線ＰＷに阻害されることなく、各駆動トランジスタ２９と各画素電極３３とを電気的につなげることができる。
また、表示装置１では、１組の画素群２５における第１の画素５1及び第２の画素５2間で、第１半導体層５１のドレイン領域５１ｃ同士が、平面視で電源線ＰＷを挟んで互いに反対側に位置している。このため、これらの第１の画素５1及び第２の画素５2間で、第１半導体層５１のドレイン領域５１ｃ同士を遠ざけやすくすることができる。従って、これらの第１の画素５1及び第２の画素５2間で、コンタクトホールＣＨ８同士を遠ざけやすくすることができる。これにより、これらの第１の画素５1及び第２の画素５2において、各コンタクトホールＣＨ８の平面視での領域を拡大しやすくすることができる。この結果、各接続部６９の平面視での領域を拡大しやすくすることができ、各接続部６９における電気伝導を向上させやすくすることができる。
また、表示装置１では、走査線ＧＴ1が第１の画素５1に対応しており、走査線ＧＴ2が第２の画素５2に対応して設けられている。このため、複数の選択トランジスタ２７を、第１の画素５1及び第２の画素５2ごとに異なるタイミングでＯＮ状態にすることができる。これにより、第１の画素５1及び第２の画素５2ごとに、画像信号ＤＳ1（ｊ）と画像信号ＤＳ2（ｊ）とを異なるタイミングで供給することができる。この結果、第１の画像に対応する画像信号ＤＳ1（ｊ）と、第２の画像に対応する画像信号ＤＳ2（ｊ）とをわけて処理することができる。
また、表示装置１では、１組の画素群２５における第１の画素５1及び第２の画素５2において、各選択トランジスタ２７及び各駆動トランジスタ２９が、これらの第１の画素５1及び第２の画素５2に対応するデータ線ＳＩ1及びデータ線ＳＩ2の間に位置している。このため、これらの第１の画素５1及び第２の画素５2のＸ方向における間隔を縮めやすくすることができる。
また、表示装置１では、電源線ＰＷが、Ｘ方向に隣り合う画素群２５同士の間をまたいでいる。Ｘ方向に隣り合う画素群２５同士の間には、２つのデータ線ＳＩ1及びＳＩ2がＹ方向に延びている。電源線ＰＷは、これら２つのデータ線ＳＩ1及びＳＩ2をＸ方向にまたいでいる。
ここで、２つのデータ線ＳＩ1及びＳＩ2間には、寄生容量が形成されやすい。ところが、表示装置１では、電源線ＰＷがこれら２つのデータ線ＳＩ1及びＳＩ2をまたいでいるので、電源線ＰＷとデータ線ＳＩ1との間、及び電源線ＰＷとデータ線ＳＩ2との間のそれぞれの間に容量が形成されやすい。このため、これらの２つのデータ線ＳＩ1及びＳＩ2間の電気的な干渉を軽減しやすくすることができ、表示品位の向上が図られる。
また、表示装置１では、コンタクトホールＣＨ７及びソース電極部６５が、平面視で各画素５に対応する各データ線ＳＩ1及びＳＩ2と島状電極５５の電極部５５ｂとの間に設けられている。このため、容量素子３１と各データ線ＳＩ1及びＳＩ2との間の電気的な干渉を軽減しやすくすることができ、表示品位の向上が図られる。
また、表示装置１では、各画素５における接続部６９及びコンタクトホールＣＨ８が、バンク７１ｂ側すなわち第１基板４１と画素電極３３との間の距離が短い側に位置している。このため、各画素５における接続部６９及びコンタクトホールＣＨ８がバンク７１ａ側に位置している場合に比較して、接続部６９の電気抵抗を軽減することができる。
また、表示装置１では、各画素電極３３の接続部６９及びコンタクトホールＣＨ８が、平面視でバンク７１ｂに重なっている。このため、平面視で、接続部６９及びコンタクトホールＣＨ８をバンク７１ｂで隠しやすくすることができる。
また、表示装置１では、各データ線ＳＩ1及びＳＩ2が、バンク７１ａ側すなわち第１基板４１と画素電極３３との間の距離が長い側に位置している。このため、各データ線ＳＩ1及びＳＩ2がバンク７１ｂ側に位置している場合に比較して、各データ線ＳＩ1及びＳＩ2と共通電極３７との間の距離を長くすることができる。これにより、各データ線ＳＩ1及びＳＩ2と共通電極３７との間の寄生容量が大きくなることを避けやすくすることができる。
また、表示装置１では、補助配線３９とバンク７１とが平面視で重なっている。このため、補助配線３９は、各発光層７７から表示面３側に向かう光の進行を妨げない。従って、補助配線３９には、遮光性を有する材料を採用することができる。また、補助配線３９の厚みを厚くすることができる。このため、補助配線３９の電気伝導を向上させることが可能となる。
また、表示装置１では、バンク７１ｂのＸ方向における幅寸法が、バンク７１ａのＸ方向における幅寸法よりも長い。バンク７１ｂは、１組の画素群２５における第１の画素５1及び第２の画素５2間に位置している。つまり、バンク７１ｂは、平面視で各開口部８５に重なっている。
ここで、バンク７１ｂのＸ方向における幅寸法を長くすれば、指向性表示において第１の画像と第２の画像とが重畳する範囲１１７を狭めることができる。従って、表示装置１では、指向性表示における適視範囲１１９ａや適視範囲１１９ｂを拡大しやすくすることができる。
また、表示装置１では、補助配線３９が、平面視でバンク７１ｂに重なる領域に設けられている。このため、補助配線３９を平面視でバンク７１ａに重なる領域に設ける構成に比較して、補助配線３９のＸ方向における幅寸法を広げることができる。この結果、補助配線３９の電気伝導を一層向上させることができる。
なお、表示装置１では、選択トランジスタ２７としてＮチャネル型のＴＦＴ素子が採用され、駆動トランジスタ２９としてＰチャネル型のＴＦＴ素子が採用されている。しかしながら、選択トランジスタ２７は、Ｎチャネル型のＴＦＴ素子に限定されず、Ｐチャネル型のＴＦＴ素子も採用され得る。また、駆動トランジスタ２９は、Ｐチャネル型のＴＦＴ素子に限定されず、Ｎチャネル型のＴＦＴ素子も採用され得る。
また、表示装置１では、選択トランジスタ２７のドレイン領域５３ｃと、駆動トランジスタ２９の電極部５５ｂとが電気的につながった構成が採用されているが、選択トランジスタ２７と駆動トランジスタ２９との間の構成は、これに限定されない。選択トランジスタ２７のドレイン領域５３ｃと、駆動トランジスタ２９の電極部５５ｂとの間に、新たな容量素子を介在させた構成も採用され得る。
また、表示装置１では、画素５ごとに選択トランジスタ２７や駆動トランジスタ２９が設けられた所謂アクティブマトリクス型を例に説明したが、表示装置１はこれに限定されず、パッシブマトリクス型も採用され得る。パッシブマトリクス型が採用された表示装置１０では、素子基板２０は、図２１に示すように、第１基板４１と、複数の第１電極１３１と、有機層３５と、バンク７１と、複数の第２電極１３３とを有している。なお、表示装置１０は、素子基板２０を除いては表示装置１と同様の構成を有している。従って、以下においては、表示装置１の構成に対応する構成に同一の符号を付して、詳細の説明を省略する。
各第１電極１３１は、第１基板４１と有機層３５との間で、それぞれがＸ方向に帯状に延びている。複数の第１電極１３１は、互いに間隔をあけてＹ方向に並んでいる。
各第２電極１３３は、有機層３５と封止基板１３との間で、それぞれがＹ方向に帯状に延びている。複数の第２電極１３３は、互いに間隔をあけてＸ方向に並んでいる。
各第１電極１３１と各第２電極１３３とは、有機層３５を挟んで互いに交差している。そして、表示装置１０では、各画素５の領域は、バンク７１に囲まれた領域内で、各第１電極１３１と各第２電極１３３とが、各第１電極１３１の法線方向に見て重なる領域であると定義され得る。
ここで、表示装置１０においても、画素５ごとに有機層３５が傾斜している。このため、例えば各第２電極１３３がＸ方向に延びている場合には、各第２電極１３３には、Ｘ方向に隣り合う画素５間をまたぐたびに凹凸が反復して現れる。これに加えて、有機層３５からの光が第２電極１３３側に射出される表示装置１０では、光の透過率を低下させたくないため、第２電極１３３の厚みが制限される。このため、有機層３５の表示面３側に形成される第２電極１３３の電気抵抗を下げることが困難となる。
これに対し、表示装置１０では、複数の第２電極１３３がそれぞれＹ方向に延びている。Ｙ方向に並ぶ複数の画素５間では、有機層３５の傾斜方向が同じであるため、Ｙ方向に延びる第２電極１３３には凹凸が現れにくい。従って、表示装置１０では、複数の第２電極１３３がそれぞれＹ方向に延びていることが、各第２電極１３３の電気抵抗の増大を軽減できる点で好ましい。
また、表示装置１や表示装置１０では、開口部８５ごとにカラーフィルタ８７を設けた構成が採用されているが、これに限定されず、カラーフィルタ８７を省略した構成も採用され得る。表示装置１や表示装置１０では、複数の発光層７７が、画素５ごとにＲの光を発する発光層７７と、Ｇの光を発する発光層７７と、Ｂの光を発する発光層７７とにわけられているので、カラーフィルタ８７が省略されていても、カラー表示を行うことができる。
また、表示装置１や表示装置１０においてカラーフィルタ８７が省略されていても、各画素５に対応して共振構造が構成されているので、各画素５から開口部８５を経て射出される光の色純度を高めやすくすることができる。
また、表示装置１や表示装置１０では、複数の発光層７７が、画素５ごとにＲの光を発する発光層７７と、Ｇの光を発する発光層７７と、Ｂの光を発する発光層７７とにわけられている場合を例に説明したが、表示装置１や表示装置１０の構成はこれに限定されない。表示装置１や表示装置１０としては、Ｒ、Ｇ及びＢのそれぞれの光を発する発光層７７に替えて、白色光を発する発光層７７を有する構成が採用され得る。表示装置１や表示装置１０には、開口部８５ごとに異なるカラーフィルタ８７ｒ、８７ｇ及び８７ｂが設けられているので、すべての発光層７７からの光が白色であっても、カラー表示を行うことができる。
また、表示装置１や表示装置１０において、すべての発光層７７からの光が白色であっても、各画素５に対応して共振構造が構成されているので、各画素５から開口部８５を経て射出される光の色純度を高めやすくすることができる。
表示装置１や表示装置１０においてすべての発光層７７からの光が白色である場合、有機層３５は、複数の画素５間にわたって一連した状態で設けられ得る。有機層３５が複数の画素５間にわたって一連した状態で設けられている場合、表示装置１では、各画素５の領域は、画素電極３３と共通電極３７とが、画素電極３３の法線方向に見て重なる領域であると定義され得る。
また、有機層３５が複数の画素５間にわたって一連した状態で設けられている場合、表示装置１０では、各画素５の領域は、図２２に示すように、各第１電極１３１と各第２電極１３３とが、各第１電極１３１の法線方向に見て重なる領域であると定義され得る。
なお、図２１及び図２２では、構成をわかりやすく示すため、各画素５の領域にハッチングが施されている。また、図２１及び図２２では、構成をわかりやすく示すため、各画素５における有機層３５の傾斜が省略されている。
表示装置１や表示装置１０では、複数組の画素群２５が、図５に示すように、Ｘ方向及びＹ方向のそれぞれの方向に沿ってマトリクス状に配列した場合を例に説明したが、複数組の画素群２５の配列はこれに限定されない。複数組の画素群２５の配列は、例えば、図２３に示すように、Ｙ方向にシグザグに並んだ配列も採用され得る。図２３に示す配列の場合、図４に示す第１の画素５1と第２の画素５2とは、Ｘ方向に交互に並んでいるとともに、Ｙ方向にも交互に並んでいる。
この場合、表示装置１や表示装置１０では、遮光膜８３の各開口部８５は、図２４に示すように、画素群２５ごとに設けられる。従って、複数組の画素群２５がＹ方向にシグザグに並んだ構成では、複数の開口部８５もＹ方向にシグザグに並んでいる。このため、複数組の画素群２５がＸ方向及びＹ方向のそれぞれの方向に沿ってマトリクス状に配列した場合に比較して、斜めに隣り合う開口部８５同士間の距離を短くすることができる。この結果、第１の画像及び第２の画像のそれぞれの表示における斜め方向の解像度を高めやすくすることができ、指向性表示における高精細化を一層図りやすくすることができる。
また、表示装置１に対して複数組の画素群２５がＹ方向にシグザグに並んだ構成を適用した表示装置１００では、図２５に示すように、Ｙ方向に対して斜めに隣り合う画素群２５同士間で、走査線ＧＴ1及び走査線ＧＴ2を共用することができる。
表示装置１では、走査線ＧＴ1及び走査線ＧＴ2が画素行２３ごとに設けられている。これに対し、表示装置１００では、１つの走査線ＧＴ1又は走査線ＧＴ2を、Ｙ方向に隣り合う画素行２３同士に共用させることができる。このため、表示装置１００では、表示装置１に比較して、走査線ＧＴ1及び走査線ＧＴ2の数を軽減することができる。
また、表示装置１００では、１つの画素列２１（図３）に第１の画素５1と第２の画素５2とが含まれている。このため、各画素列２１に対応して設けられる各データ線ＳＩは、第１の画素５1及び第２の画素５2のそれぞれに対応付けられていない。つまり、各データ線ＳＩは、第１の画素５1と第２の画素５2とによって共用されている。
なお、表示装置１００においても、Ｒ、Ｇ及びＢのそれぞれの光を発する発光層７７に替えて、白色光を発する発光層７７を有する構成が採用され得る。表示装置１００には、開口部８５ごとに異なるカラーフィルタ８７ｒ、８７ｇ及び８７ｂが設けられているので、すべての発光層７７からの光が白色であっても、カラー表示を行うことができる。
表示装置１００において白色光を発する発光層７７が採用されていても、各画素５に対応して共振構造が構成されているので、各画素５から開口部８５を経て射出される光の色純度を高めやすくすることができる。
また、表示装置１００においても、カラーフィルタ８７を省略した構成が採用され得る。表示装置１００においてカラーフィルタ８７を省略した構成が採用されても、表示装置１や１０と同様に、カラー表示を行うことができる。表示装置１００においてカラーフィルタ８７が省略されていても、各画素５に対応して共振構造が構成されているので、各画素５から開口部８５を経て射出される光の色純度を高めやすくすることができる。
表示装置１００においてカラーフィルタ８７が省略されている場合、図３に示す画素列２１ｒ、画素列２１ｇ及び画素列２１ｂが、この順で１列ずつＸ方向に沿って反復して並んでいることが、各データ線ＳＩ1及びＳＩ2に供給するデータ配列の変換を軽減できる点で好ましい。
なお、表示装置１、１０及び１００、並びにこれらからカラーフィルタ８７を省略した構成、及び白色光を発する発光層７７が採用された構成では、それぞれ、樹脂層９３にプリズム部９５ａ及び９５ｂが設けられた構成を例に説明したが、樹脂層９３の構成はこれに限定されない。樹脂層９３は、図２６に示すように、レンズ部１４１が設けられた構成も採用され得る。この場合、接着剤９７の材料として、屈折率が樹脂層９３の屈折率よりも大きいものが採用され得る。
図２６に示す構成では、レンズ部１４１がレンズとしての光学素子に対応している。
表示装置１、１０及び１００、並びにこれらからカラーフィルタ８７を省略した構成、及び白色光を発する発光層７７が採用された構成では、それぞれ、指向性表示において各発光層７７からの光の利用効率が高められるので、各画素５から開口部８５を経て射出される光の輝度が高められる。このことは、電流量の増加を避けつつ各画素５からの光の輝度を高めやすいことを意味する。換言すれば、輝度の低下を避けつつ電流量を軽減しやすくすることができる。一般的に、有機ＥＬ装置では、有機層３５に流れる電流を増やすと、有機層３５の寿命が短くなる。これに対し、表示装置１、１０及び１００、並びにこれらからカラーフィルタ８７を省略した構成、及び白色光を発する発光層７７が採用された構成では、それぞれ、輝度の低下を避けつつ電流量を軽減しやすくすることができるので、寿命を長くしやすくすることができる。
上述した表示装置１、１０及び１００、並びにこれらからカラーフィルタ８７を省略した構成、及び白色光を発する発光層７７が採用された構成は、それぞれ、例えば、図２７に示す電子機器５００の表示部５１０に適用され得る。この電子機器５００は、カーナビゲーションシステム用の表示機器である。電子機器５００では、表示装置１、１０若しくは１００、又はこれらからカラーフィルタ８７を省略した構成、若しくは白色光を発する発光層７７が採用された構成が適用された表示部５１０によって、例えば、運転席側から第１の画像として地図などの画像が視認され、助手席側から第２の画像として映画などの画像が視認され得る。
また、表示部５１０として表示装置１、１０若しくは１００、又はこれらからカラーフィルタ８７を省略した構成、若しくは白色光を発する発光層７７が採用された構成が適用されているので、指向性表示における画像を明るくしやすくすることができる。
さらに、電子機器５００では、表示装置１、１０若しくは１００、又はこれらからカラーフィルタ８７を省略した構成、若しくは白色光を発する発光層７７が採用された構成において、発光層７７からの光の利用効率を高めやすくすることができるので、長寿命化が図られる。
なお、電子機器５００としては、カーナビゲーションシステム用の表示機器に限られず、携帯電話機、モバイルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器等の種々の電子機器が挙げられる。
本発明の実施形態における表示装置を示す平面図。 図１中のＡ−Ａ線における断面図。 本実施形態における複数の画素の一部を示す平面図。 実施形態における複数の画素の一部を示す平面図。 実施形態における複数組の画素群の配列を説明する平面図。 実施形態における表示装置の回路構成を示す図。 図４中のＣ−Ｃ線における断面図。 実施形態における第１半導体層及び第２半導体層を示す平面図。 実施形態における第１半導体層と第２半導体層と島状電極と走査線とデータ線とを示す平面図。 実施形態における島状電極と走査線とデータ線とを示す平面図。 実施形態におけるコンタクトホールを示す平面図。 実施形態における選択トランジスタと駆動トランジスタと走査線とデータ線と電源線とドレイン電極と中継電極とを示す平面図。 図１２中のＥ−Ｅ線における断面図。 図７中のＦ部の拡大図。 実施形態における画素電極を示す平面図。 実施形態におけるバンクの一部を示す平面図。 実施形態における遮光膜と画素群とを示す平面図。 実施形態における各走査線に供給される制御信号のタイミングチャート。 実施形態における複数組の画素群及び遮光膜を模式的に示す断面図。 図１４中のＫ部の拡大図。 実施形態における表示装置の他の例における主要構成を示す分解斜視図。 実施形態における表示装置のさらに他の例における主要構成を示す分解斜視図。 実施形態における複数組の画素群の配列の他の例を示す平面図。 実施形態における遮光膜の他の例を示す平面図。 実施形態における表示装置の別の例における回路構成を示す図。 実施形態における表示装置のさらに別の例を示す断面図。 本実施形態における表示装置を適用した電子機器の斜視図。 従来技術を説明する断面図。
符号の説明
１，１０，１００…表示装置、３…表示面、５，５ｒ，５ｇ，５ｂ…画素、５1…第１の画素、５2…第２の画素、７…表示領域、１１，２０…素子基板、１３…封止基板、１５…底面、２５…画素群、２７…選択トランジスタ、２９…駆動トランジスタ、３１…容量素子、３３…画素電極、３５…有機層、３７…共通電極、３９…補助配線、４１…第１基板、５１…第１半導体層、５１ａ…ソース領域、５１ｂ…チャネル領域、５１ｃ…ドレイン領域、５１ｄ…電極部、５３…第２半導体層、５３ａ…ソース領域、５３ｂ…チャネル領域、５３ｃ…ドレイン領域、５５…島状電極、５５ａ…ゲート電極部、５５ｂ…電極部、５７…ゲート電極部、５９…ドレイン電極、６５…ソース電極部、６７…接続部、６９…接続部、７１…バンク、７１ａ…バンク、７１ｂ…バンク、７３…反射膜、７４…正孔注入層、７５…正孔輸送層、７７…発光層、７７ａ…斜面、７９…電子輸送層、８１…第２基板、８３…遮光膜、８５…開口部、８７，８７ｒ，８７ｇ，８７ｂ…カラーフィルタ、９３…樹脂層、９５ａ，９５ｂ…プリズム部、９７…接着剤、１１３…第１の範囲、１１５…第２の範囲、１１７…範囲、１１９ａ，１１９ｂ…適視範囲、１３１…第１電極、１３３…第２電極、１４１…レンズ部、５００…電子機器、５１０…表示部、ＣＨ１〜ＣＨ８…コンタクトホール、Ｍ…マトリクス、ＧＴ1，ＧＴ2…走査線、ＳＩ，ＳＩ1，ＳＩ2…データ線、ＰＷ…電源線。

Claims (14)

  1. 第１基板と、
    前記第１基板に対向する第２基板と、
    前記第１基板及び前記第２基板間に設けられ、複数の画素の前記画素ごとに発光が制御される発光層と、
    前記第２基板及び前記発光層の間に設けられた遮光層と、を有し、
    前記複数の画素は、第１の画像を形成する第１の画素及び第２の画像を形成する第２の画素を少なくとも含んでおり、
    前記遮光層には、前記第１の画素の前記発光層から前記第２基板を経て第１の範囲に及ぶ光を通すとともに、前記第２の画素の前記発光層から前記第２基板を経て第２の範囲に及ぶ光を通す開口部が設けられており、
    前記発光層は、前記画素ごとに、前記遮光層に対して傾斜した斜面を有しており、
    各前記斜面は、前記開口部に向いていることを特徴とする電気光学装置。
  2. 前記第１基板及び前記発光層の間で前記発光層に対向して設けられた第１電極と、
    前記発光層及び前記遮光層の間で前記発光層に対向して設けられた第２電極と、
    各前記画素に対応して設けられ、前記第１電極及び前記第２電極の一方から前記発光層を経て前記第１電極及び前記第２電極の他方へ流れる電流の供給及び遮断を切り替えるスイッチング素子と、を有し、
    前記スイッチング素子は、前記第１基板及び前記発光層の間に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
  3. 前記発光層と前記スイッチング素子との間に、前記発光層から前記第１基板側に向かう光を前記第２基板側に反射させる反射層を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
  4. 前記反射層と前記第２電極との間に、光学的な共振構造が構成されていることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置。
  5. 赤系の色を呈する光を透過させる赤系フィルタと、
    緑系の色を呈する光を透過させる緑系フィルタと、
    青系の色を呈する光を透過させる青系フィルタと、を有することを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置。
  6. 前記複数の画素には、
    赤系の色を呈する光を発する前記発光層を有する赤系画素と、
    緑系の色を呈する光を発する前記発光層を有する緑系画素と、
    青系の色を呈する光を発する前記発光層を有する青系画素と、が含まれていることを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置。
  7. 前記赤系画素からの前記光の少なくとも一部を透過させる赤系フィルタと、
    前記緑系画素からの前記光の少なくとも一部を透過させる緑系フィルタと、
    前記青系画素からの前記光の少なくとも一部を透過させる青系フィルタと、を有することを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置。
  8. 前記発光層と前記遮光層との間に、前記発光層からの光を屈折させる光学素子が設けられていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の電気光学装置。
  9. 前記光学素子がプリズムで構成されていることを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置。
  10. 前記光学素子がレンズで構成されていることを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置。
  11. 前記第１電極と前記スイッチング素子との間を電気的につなぐ接続部を有し、
    前記発光層と前記第１電極とは、前記第１基板に対して傾斜しており、
    前記接続部は、前記第１基板と前記第１電極との間の距離が短い側に位置していることを特徴とする請求項２乃至１０のいずれか一項に記載の電気光学装置。
  12. 前記第１基板と前記発光層との間に設けられ、前記電流の量を規定する信号が供給される信号線を有しており、
    前記発光層は、前記第１基板に対して傾斜しており、
    前記信号線は、前記第１基板と前記発光層との間の距離が長い側に位置していることを特徴とする請求項２乃至１０のいずれか一項に記載の電気光学装置。
  13. 隣り合う前記画素同士間を仕切る第２遮光層と、
    平面視で前記第２電極に重なった状態で前記第２電極に導通する補助配線と、を有し、
    前記第２遮光層は、前記第１電極及び前記遮光層の間に設けられており、
    前記補助配線は、前記第２電極及び前記遮光層の間に設けられており、平面視で前記第２遮光層に重なっていることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の電気光学装置。
  14. 請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の電気光学装置を表示部として有することを特徴とする電子機器。
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