JP2009184954A - Ruthenium complex and its production method, and dye-sensitized oxide semiconductor electrode - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、高い吸光係数を有し増感色素として有用なルテニウム錯体、それらの製造法、ならびにそれらを用いた酸化物半導体電極に関する。 The present invention relates to a ruthenium complex having a high extinction coefficient and useful as a sensitizing dye, a production method thereof, and an oxide semiconductor electrode using the same.
化石燃料を代替する新しいエネルギー源として、太陽電池による太陽光の利用が注目されている。現在、実用化されている太陽電池は無機材料(多結晶シリコン又はアモルファスシリコン)の光電効果を利用するものが主であるが、製造に関する経済的およびエネルギー的コストが高いことが問題となっている。
一方で、有機金属錯体を光増感色素として用いた新しい太陽電池が特許文献1又は2に公開されている。これらの色素増感太陽電池は酸化物電極、対電極及び電解質層から構成された単純な構造であり、安価に製造及び大面積化できる利点がある。
As a new energy source that replaces fossil fuels, the use of solar light by solar cells has attracted attention. Currently, solar cells that are in practical use mainly use the photoelectric effect of inorganic materials (polycrystalline silicon or amorphous silicon), but there is a problem of high economic and energy costs for manufacturing. .
On the other hand, Patent Document 1 or 2 discloses a new solar cell using an organometallic complex as a photosensitizing dye. These dye-sensitized solar cells have a simple structure composed of an oxide electrode, a counter electrode, and an electrolyte layer, and have an advantage that they can be manufactured at low cost and have a large area.
上記光増感色素として用いることのできる金属錯体として、例えば特許文献1にはビピリジン又はターピリジンなどを中性配位子とし、チオシアン酸イオンをアニオン性配位子として含むルテニウム錯体が開示されている。太陽電池に用いる光増感色素としては長波長域に及ぶ幅広い光吸収帯を有することが望まれるが、上記配位子は光増感色素の光吸収特性に大きく影響する。上記配位子のうち、アニオン性配位子としては電子供与性の高いものが分光感度及び範囲の増大に効果があり、上記チオシアン酸イオンやβ‐ジケトナート類(特許文献3)が知られている。 As a metal complex that can be used as the photosensitizing dye, for example, Patent Document 1 discloses a ruthenium complex containing bipyridine or terpyridine as a neutral ligand and thiocyanate ion as an anionic ligand. . Although it is desired that the photosensitizing dye used in the solar cell has a wide light absorption band extending over a long wavelength range, the ligand greatly affects the light absorption characteristics of the photosensitizing dye. Among the above ligands, those having high electron donating properties as anionic ligands are effective in increasing spectral sensitivity and range, and the thiocyanate ions and β-diketonates (Patent Document 3) are known. Yes.
一方で、2‐メルカプトピリミジン類や2‐メルカプトピリジン類も塩基と反応させることで良好なアニオン性配位子と成りうるが、これらをアニオン性配位子とする本発明のルテニウム錯体は全く知られていない。
2‐メルカプトピリミジン類や2‐メルカプトピリジン類をアニオン性配位子として金属錯体に導入する手法としては、例えば非特許文献1等に開示されているが、これらの例では本発明のルテニウム錯体が有するような官能基(カルボキシル基又はアルコキシ基等)が反応系中に共存した場合については一切記述はない。
On the other hand, 2-mercaptopyrimidines and 2-mercaptopyridines can be converted into good anionic ligands by reacting with a base, but the ruthenium complex of the present invention using these as anionic ligands is completely unknown. It is not done.
As a technique for introducing 2-mercaptopyrimidines or 2-mercaptopyridines into an anionic ligand as a metal complex, for example, it is disclosed in Non-Patent Document 1, etc., but in these examples, the ruthenium complex of the present invention is disclosed. There is no description about the case where such functional groups (carboxyl group or alkoxy group) exist in the reaction system.
色素増感太陽電池の対電極には、耐腐食性の高い金属板、または耐食性のある被膜を形成した金属基板やソーダライムガラス、硼珪酸ガラスなどが用いられている。これらの基板の中で、例えば非導電性基板のガラスや表面抵抗の高い被膜を形成した金属板を用いた場合には、基板上にインジウム‐酸化スズ(ITO)又はフッ素添加酸化スズ(FTO)などからなる導電性酸化物や貴金属元素、炭素などの導電膜を蒸着又はスパッタ、CVD、金属塩の熱分解法などによって形成している。更に対電極表面にはレドックス反応に寄与する触媒金属を蒸着又はスパッタ、金属塩の熱分解法、メッキ法等で担持させている。電解質層にはヨウ素/ヨウ素イオンなどのレドックス対を含む非水溶液からなる電解液などが用いられる。また、負極側の酸化物電極はガラスなどからなる透明基板上にインジウム‐酸化スズ(ITO)又はフッ素添加酸化スズ(FTO)などからなる透明電極層が設けられ、この上に酸化チタン等の酸化物半導体多孔質膜が設けられ、この酸化物半導体多孔質膜に光増感色素が担持されて構成されている。 For the counter electrode of the dye-sensitized solar cell, a metal plate having high corrosion resistance, a metal substrate on which a corrosion-resistant film is formed, soda lime glass, borosilicate glass, or the like is used. Among these substrates, for example, when a non-conductive substrate glass or a metal plate with a high surface resistance film is used, indium tin oxide (ITO) or fluorine-added tin oxide (FTO) is formed on the substrate. A conductive oxide such as a conductive oxide, a noble metal element, carbon, or the like is formed by vapor deposition or sputtering, CVD, a metal salt thermal decomposition method, or the like. Further, a catalytic metal contributing to the redox reaction is supported on the counter electrode surface by vapor deposition or sputtering, metal salt pyrolysis, plating, or the like. For the electrolyte layer, an electrolytic solution made of a non-aqueous solution containing a redox pair such as iodine / iodine ions is used. The oxide electrode on the negative electrode side is provided with a transparent electrode layer made of indium-tin oxide (ITO) or fluorine-added tin oxide (FTO) on a transparent substrate made of glass or the like. An oxide semiconductor porous film is provided, and a photosensitizing dye is supported on the oxide semiconductor porous film.
上記酸化物半導体多孔質膜は半導性を示す金属酸化物粒子が結合して構成され、その内部に多数の微細な空孔を有する多孔質膜である。本発明のルテニウム錯体の水溶液又はアルコール溶液をこの酸化物半導体多孔質膜の無数の空孔に含浸し乾燥することによって、この微細な空孔に本発明のルテニウム錯体を担持することができる。
本発明は、色素増感太陽電池に用いられる色素増感剤としてルテニウム錯体の吸光係数を向上させ、かつ効率よく電流を取り出せる新規構造のルテニウム錯体を提供し、さらには当該ルテニウム錯体を用いた耐久性が高く高性能な色素増感酸化物半導体電極および色素増感太陽電池を提供するものである。 The present invention provides a ruthenium complex having a novel structure capable of improving the extinction coefficient of a ruthenium complex as a dye sensitizer used in a dye-sensitized solar cell and efficiently taking out an electric current, and further, a durability using the ruthenium complex. The present invention provides a dye-sensitized oxide semiconductor electrode and a dye-sensitized solar cell having high performance and high performance.
本発明者らは、前記課題を解決すべく検討した結果、一般式(1)で表されるルテニウム錯体が、一般式(2)で表されるルテニウム錯体と一般式(3)で表される配位子とを塩基の存在下に反応させることで得られることを見出し、さらに、これらのルテニウム錯体が長波長域にも強い光吸収を示すことを見出し、本発明を完成した。すなわち本発明は、一般式(1) As a result of investigations to solve the above-mentioned problems, the present inventors have expressed that the ruthenium complex represented by the general formula (1) is represented by the ruthenium complex represented by the general formula (2) and the general formula (3). It was found that the compound can be obtained by reacting with a ligand in the presence of a base, and furthermore, these ruthenium complexes were found to exhibit strong light absorption even in a long wavelength region, thereby completing the present invention. That is, the present invention relates to the general formula (1)
また本発明は、一般式(2) The present invention also provides a general formula (2)
また本発明は、一般式(1b) The present invention also provides a compound represented by the general formula (1b)
また本発明は、一般式(2)
The present invention also provides a general formula (2)
また本発明は、一般式(1d)
Further, the present invention provides a compound represented by the general formula (1d)
さらに本発明は、一般式(1) Furthermore, the present invention relates to a general formula (1)
本発明のルテニウム錯体は新規の化合物であり、高い吸光係数と長波長域までの光の吸収能力を持つため、これらを酸化物半導体電極に担持することで色素増感太陽電池の増感色素として利用できる。 Since the ruthenium complex of the present invention is a novel compound and has a high extinction coefficient and the ability to absorb light up to a long wavelength region, these are supported on an oxide semiconductor electrode as a sensitizing dye for a dye-sensitized solar cell. Available.
以下に本発明をさらに詳細に説明する。本明細書におけるR1、R1a、R1b、R1c、R2、R3、R4、R5a、R5b、R5c、R5d、X-、Xa-、Xb-、Xc-、Xd-、Y及びMの定義について説明する。 The present invention is described in further detail below. R 1 , R 1a , R 1b , R 1c , R 2 , R 3 , R 4 , R 5a , R 5b , R 5c , R 5d , X − , X a− , X b− , X c in this specification The definitions of − , X d− , Y and M will be described.
R1で表されるカルボキシル基の化学的に許容される塩としては、アルカリ金属塩又は窒素上が置換していてもよいアンモニウム塩が挙げられる。アルカリ金属塩としてはカリウム塩、ナトリウム塩、リチウム塩等が挙げられ、収率及び安価である点でカリウム塩、ナトリウム塩が好ましい。窒素上が置換していてもよいアンモニウム塩としてはアンモニウム塩、第1級アンモニウム塩、第2級アンモニウム塩、第3級アンモニウム塩、第4級アンモニウム塩が挙げられ、具体的にはアンモニウム塩、メチルアンモニウム塩、ジメチルアンモニウム塩、トリメチルアンモニウム塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリエチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩などを挙げることができる。収率及び安価である点でアンモニウム塩、トリエチルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩が好ましい。また、一般式(1)において、4個のR1のすべてが同時にカルボキシル基又はその化学的に許容される塩であってもよいが、カルボキシル基とその許容される塩が混在する場合(ルテニウム錯体)も本発明に包含されるものである。 Examples of the chemically acceptable salt of the carboxyl group represented by R 1 include alkali metal salts or ammonium salts which may be substituted on nitrogen. Examples of the alkali metal salt include potassium salt, sodium salt, lithium salt and the like, and potassium salt and sodium salt are preferable in terms of yield and low cost. Examples of ammonium salts that may be substituted on the nitrogen include ammonium salts, primary ammonium salts, secondary ammonium salts, tertiary ammonium salts, and quaternary ammonium salts. Specifically, ammonium salts, Examples thereof include methylammonium salt, dimethylammonium salt, trimethylammonium salt, tetramethylammonium salt, triethylammonium salt, tetraethylammonium salt, and tetrabutylammonium salt. Ammonium salt, triethylammonium salt, and tetrabutylammonium salt are preferable in terms of yield and low cost. Further, in the general formula (1), all four R 1 may be a carboxyl group or a chemically acceptable salt thereof at the same time, but when a carboxyl group and its acceptable salt are mixed (ruthenium Complexes) are also encompassed by the present invention.
R1aはカルボキシル基を表す。
R1bで表されるカルボキシル基と用いた塩基との塩としては、カルボン酸アルカリ金属、カルボン酸アルカリ土類金属、カルボン酸アンモニウム、カルボン酸ピリジニウム等が挙げられる。具体的には、カルボン酸リチウム、カルボン酸ナトリウム、カルボン酸カリウム、カルボン酸マグネシウム、カルボン酸カルシウム、カルボン酸バリウム、カルボン酸セシウム、カルボン酸メチルアンモニウム、カルボン酸ジメチルアンモニウム、カルボン酸トリメチルアンモニウム、カルボン酸エチルアンモニウム、カルボン酸ジエチルアンモニウム、カルボン酸トリエチルアンモニウム、カルボン酸トリブチルアンモニウム、カルボン酸ピロリジニウム、カルボン酸ピペラジニウム、カルボン酸モルホリニウム、カルボン酸N‐メチルピロリジニウム、カルボン酸N‐メチルピペラジニウム、カルボン酸N‐メチルモルホリニウム、カルボン酸ピリジニウム、カルボン酸ピコリニウムなどを例示することができる。中でも目的物の収率がよく、安価である点でカルボン酸ナトリウム、カルボン酸カリウムが好ましい。
R 1a represents a carboxyl group.
Examples of the salt of the carboxyl group represented by R 1b and the base used include alkali metal carboxylate, alkaline earth metal carboxylate, ammonium carboxylate, pyridinium carboxylate, and the like. Specifically, lithium carboxylate, sodium carboxylate, potassium carboxylate, magnesium carboxylate, calcium carboxylate, barium carboxylate, cesium carboxylate, methylammonium carboxylate, dimethylammonium carboxylate, trimethylammonium carboxylate, carboxylic acid Ethylammonium, diethylammonium carboxylate, triethylammonium carboxylate, tributylammonium carboxylate, pyrrolidinium carboxylate, piperazinium carboxylate, morpholinium carboxylate, N-methylpyrrolidinium carboxylate, N-methylpiperazinium carboxylate, carboxylic acid Examples thereof include N-methylmorpholinium, pyridinium carboxylate, picolinium carboxylate and the like. Of these, sodium carboxylate and potassium carboxylate are preferred in that the yield of the target product is good and inexpensive.
R1cで表されるカルボキシル基のアンモニウム塩としては、アンモニウム塩、第1級アンモニウム塩、第2級アンモニウム塩、第3級アンモニウム塩、第4級アンモニウム塩が挙げられ、具体的にはアンモニウム塩、メチルアンモニウム塩、ジメチルアンモニウム塩、トリメチルアンモニウム塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリエチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩などを挙げることができる。収率及び安価である点でアンモニウム塩、トリエチルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩が好ましい。また、一般式(1e)において、4個のR1cのすべてが同時にカルボキシル基又はそのアンモニウム塩であってもよいが、カルボキシル基とアンモニウム塩が混在する場合(ルテニウム錯体)も本発明の包含されるものである。 Examples of the ammonium salt of the carboxyl group represented by R 1c include ammonium salt, primary ammonium salt, secondary ammonium salt, tertiary ammonium salt, and quaternary ammonium salt. Specifically, ammonium salt And methylammonium salt, dimethylammonium salt, trimethylammonium salt, tetramethylammonium salt, triethylammonium salt, tetraethylammonium salt, and tetrabutylammonium salt. Ammonium salt, triethylammonium salt, and tetrabutylammonium salt are preferable in terms of yield and low cost. In the general formula (1e), all four R 1c may be a carboxyl group or an ammonium salt thereof at the same time, but the case where a carboxyl group and an ammonium salt are mixed (ruthenium complex) is also included in the present invention. Is.
R2及びR4で示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などを挙げることができる。
R2及びR4で示される置換していてもよい炭素数1から8のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec‐ブチル基、tert‐ブチル基、ペンチル基、tert‐ペンチル基、2‐ペンチル基、3‐ペンチル基、シクロペンチル基、1‐メチルシクロペンチル基、ヘキシル基、2‐ヘキシル基、3‐ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などを例示することができる。さらにこれらのアルキル基は、ハロゲン原子等で一個以上置換されていてもよく、具体的にはトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、2‐クロロエチル基、2‐ブロモエチル基、2,2,2‐トリフルオロエチル基、2,2,2‐トリフルオロイソプロピル基、3‐クロロプロピル基、2‐クロロエチル基、3‐クロロプロピル基および3‐フルオロプロピル基等を挙げることができる。収率の点で、好ましくはこれらのアルキル基は、置換されていてもよい炭素数1から4のアルキル基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec‐ブチル基、tert‐ブチル基、トリフルオロメチル基、2,2,2‐トリフルオロエチル基、2,2,2‐トリフルオロイソプロピル基等を挙げることができる。
Examples of the halogen atom represented by R 2 and R 4 include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.
Examples of the optionally substituted alkyl group represented by R 2 and R 4 include a methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert- Butyl group, pentyl group, tert-pentyl group, 2-pentyl group, 3-pentyl group, cyclopentyl group, 1-methylcyclopentyl group, hexyl group, 2-hexyl group, 3-hexyl group, cyclohexyl group, heptyl group, octyl Examples include groups. Further, one or more of these alkyl groups may be substituted with a halogen atom or the like, specifically, a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a 2-chloroethyl group, a 2-bromoethyl group, a 2,2,2-trimethyl group. A fluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroisopropyl group, a 3-chloropropyl group, a 2-chloroethyl group, a 3-chloropropyl group, and a 3-fluoropropyl group can be exemplified. In terms of yield, these alkyl groups are preferably optionally substituted alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec -Butyl group, tert-butyl group, trifluoromethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroisopropyl group, and the like.
R2及びR4で示される置換していてもよい炭素数1から8のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、tert‐ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、2‐ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基などを例示することができる。さらにこれらのアルコキシ基は、ハロゲン原子やアルコキシ基等で一個以上置換されていてもよく、具体的には2,2,2‐トリフルオロエトキシ基、2‐ヒドロキシエトキシ基、2‐メトキシエトキシ基などを挙げることができる。金属錯体の溶解性が高い点で、これらの置換基は置換していてもよい炭素数1から4のアルコキシ基であり、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、tert‐ブチルオキシ基、2,2,2‐トリフルオロエトキシ基、2‐ヒドロキシエトキシ基、2‐メトキシエトキシ基などが好ましい。 Examples of the optionally substituted alkoxy group represented by R 2 and R 4 include a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butyloxy group, a tert-butyloxy group, and a pentyloxy group. Examples thereof include a 2-pentyloxy group, a cyclopentyloxy group, a hexyloxy group, a cyclohexyloxy group, a heptyloxy group, and an octyloxy group. Further, one or more of these alkoxy groups may be substituted with a halogen atom, an alkoxy group, etc., specifically, 2,2,2-trifluoroethoxy group, 2-hydroxyethoxy group, 2-methoxyethoxy group, etc. Can be mentioned. In view of the high solubility of the metal complex, these substituents are optionally substituted alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms, such as a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butyloxy group, a tertoxy group, -Butyloxy group, 2,2,2-trifluoroethoxy group, 2-hydroxyethoxy group, 2-methoxyethoxy group and the like are preferable.
R2及びR4で示される置換されていてもよいアミノ基としては、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ジブチルアミノ基、フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基等を挙げることができる。光吸収能力が高い点で、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジブチルアミノ基が好ましい。 Examples of the optionally substituted amino group represented by R 2 and R 4 include amino group, methylamino group, dimethylamino group, ethylamino group, diethylamino group, isopropylamino group, diisopropylamino group, butylamino group, dibutyl An amino group, a phenylamino group, a diphenylamino group, etc. can be mentioned. An amino group, a dimethylamino group, a diethylamino group, a butylamino group, and a dibutylamino group are preferable in terms of high light absorption capability.
本発明のルテニウム錯体に光吸収能力の点で優れた性能を付与させるために、R2及びR4で示される置換としては水酸基、ニトロ基、シアノ基等が好ましい。
R3で示される置換されていてもよい炭素数1から8のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec‐ブチル基、tert‐ブチル基、ペンチル基、tert‐ペンチル基、2‐ペンチル基、3‐ペンチル基、シクロペンチル基、1‐メチルシクロペンチル基、ヘキシル基、2‐ヘキシル基、3‐ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などを例示することができる。さらにこれらのアルキル基は、ハロゲン原子等で一個以上置換されていてもよく、具体的には2‐クロロエチル基、2‐ブロモエチル基、2,2,2‐トリフルオロエチル基、3‐クロロプロピル基などを挙げることができる。収率が高い点で、メチル基、ブチル基、イソプロピル基、tert‐ブチル基が好ましい。
In order to give the ruthenium complex of the present invention excellent performance in terms of light absorption ability, the substitution represented by R 2 and R 4 is preferably a hydroxyl group, a nitro group, a cyano group or the like.
Examples of the optionally substituted alkyl group represented by R 3 having 1 to 8 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, Pentyl group, tert-pentyl group, 2-pentyl group, 3-pentyl group, cyclopentyl group, 1-methylcyclopentyl group, hexyl group, 2-hexyl group, 3-hexyl group, cyclohexyl group, heptyl group, octyl group, etc. It can be illustrated. Further, one or more of these alkyl groups may be substituted with a halogen atom or the like, specifically, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 3-chloropropyl group. And so on. From the viewpoint of high yield, a methyl group, a butyl group, an isopropyl group, and a tert-butyl group are preferable.
互いに独立したR5a、R5b、R5c、R5dで表される炭素数1から4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等を挙げることができる。 Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by R 5a , R 5b , R 5c , and R 5d that are independent of each other include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group.
Yで表される炭素原子は、水素原子、炭素数1から4のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子等で置換されていてもよく、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec‐ブチル基、tert‐ブチル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等を例示することができる。収率が高い点で、Yとしては水素原子、メチル基が好ましい。 The carbon atom represented by Y may be substituted with a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, a halogen atom, etc., specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group. Butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and the like. From the viewpoint of high yield, Y is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
本発明のルテニウム錯体において、ルテニウム原子の酸化数は+2価であり、複素環化合物(3)は-1価の電荷を持つ。このため当該錯体はカチオン性となり対アニオンとしてX-を有するが、このようなX-としては塩素イオン(Cl-)、臭素イオン(Br-)、ヨードイオン(I-)、ニトレートイオン(NO3 -)、パークロレートイオン(ClO4 -)、ヘキサフルオロホスホネートイオン(PF6 -)、テトラフルオロボレートイオン(BF4 -)、テトラフェニルボレートイオン(B(C6H5)4 -)、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートイオン(B(C6F5)4 -)等を挙げることができる。収率がよい点で、塩素イオン(Cl-)、臭素イオン(Br-)、ニトレートイオン(NO3 -)、パークロレートイオン(ClO4 -)、ヘキサフルオロホスホネートイオン(PF6 -)、テトラフルオロボレートイオン(BF4 -)が好ましい。 In the ruthenium complex of the present invention, the ruthenium atom has an oxidation number of +2 and the heterocyclic compound (3) has a charge of −1. For this reason, the complex becomes cationic and has X − as a counter anion, and such X − includes chlorine ion (Cl − ), bromine ion (Br − ), iodo ion (I − ), nitrate ion (NO). 3 − ), perchlorate ion (ClO 4 − ), hexafluorophosphonate ion (PF 6 − ), tetrafluoroborate ion (BF 4 − ), tetraphenylborate ion (B (C 6 H 5 ) 4 − ), tetrakis (Pentafluorophenyl) borate ion (B (C 6 F 5 ) 4 − ) and the like can be mentioned. In terms of good yield, chlorine ion (Cl − ), bromine ion (Br − ), nitrate ion (NO 3 − ), perchlorate ion (ClO 4 − ), hexafluorophosphonate ion (PF 6 − ), tetra Fluoroborate ion (BF 4 − ) is preferred.
Xa-で表される対アニオンとしては、塩素イオン(Cl-)、臭素イオン(Br-)が挙げられる。
Xb-で表される対アニオンとしては、塩素イオン(Cl-)、臭素イオン(Br-)、ヨードイオン(I-)、ニトレートイオン(NO3 -)、パークロレートイオン(ClO4 -)が挙げられる。収率がよい点で、塩素イオン(Cl-)、臭素イオン(Br-)、ニトレートイオン(NO3 -)、パークロレートイオン(ClO4 -)が好ましい。
Xc-で表される対アニオンとしては、パークロレートイオン(ClO4 -)、ヘキサフルオロホスホネートイオン(PF6 -)、テトラフルオロボレートイオン(BF4 -)、テトラフェニルボレートイオン(B(C6H5)4 -)、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートイオン(B(C6F5)4 -)が挙げられる。収率がよい点で、パークロレートイオン(ClO4 -)、ヘキサフルオロホスホネートイオン(PF6 -)、テトラフルオロボレートイオン(BF4 -)が好ましい。
Xd-で表される対アニオンとしては、塩素イオン(Cl-)、臭素イオン(Br-)、ヨードイオン(I-)、ニトレートイオン(NO3 -)、パークロレートイオン(ClO4 -)、ヘキサフルオロホスホネートイオン(PF6 -)、テトラフルオロボレートイオン(BF4 -)、テトラフェニルボレートイオン(B(C6H5)4 -)、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートイオン(B(C6F5)4 -)が挙げられる。収率がよい点で、塩素イオン(Cl-)、臭素イオン(Br-)、ニトレートイオン(NO3 -)、パークロレートイオン(ClO4 -)、ヘキサフルオロホスホネートイオン(PF6 -)、テトラフルオロボレートイオン(BF4 -)が好ましい。
Examples of the counter anion represented by X a− include chlorine ion (Cl − ) and bromine ion (Br − ).
The counter anion represented by X b− includes chlorine ion (Cl − ), bromine ion (Br − ), iodo ion (I − ), nitrate ion (NO 3 − ), perchlorate ion (ClO 4 − ). Is mentioned. From the viewpoint of good yield, chlorine ion (Cl − ), bromine ion (Br − ), nitrate ion (NO 3 − ), and perchlorate ion (ClO 4 − ) are preferable.
The counter anion represented by X c- includes perchlorate ion (ClO 4 − ), hexafluorophosphonate ion (PF 6 − ), tetrafluoroborate ion (BF 4 − ), tetraphenylborate ion (B (C 6 H 5 ) 4 − ), tetrakis (pentafluorophenyl) borate ion (B (C 6 F 5 ) 4 − ). From the viewpoint of good yield, perchlorate ion (ClO 4 − ), hexafluorophosphonate ion (PF 6 − ), and tetrafluoroborate ion (BF 4 − ) are preferable.
The counter anion represented by X d− includes chlorine ion (Cl − ), bromine ion (Br − ), iodo ion (I − ), nitrate ion (NO 3 − ), perchlorate ion (ClO 4 − ). , Hexafluorophosphonate ion (PF 6 − ), tetrafluoroborate ion (BF 4 − ), tetraphenylborate ion (B (C 6 H 5 ) 4 − ), tetrakis (pentafluorophenyl) borate ion (B (C 6) F 5) 4 -) and the like. In terms of good yield, chlorine ion (Cl − ), bromine ion (Br − ), nitrate ion (NO 3 − ), perchlorate ion (ClO 4 − ), hexafluorophosphonate ion (PF 6 − ), tetra Fluoroborate ion (BF 4 − ) is preferred.
M+で表される対カチオンとしては、リチウムイオン、カリウムイオン、ナトリウムナトリウム、テトラメチルアンモニウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオン等を挙げることができる。 Examples of the counter cation represented by M + include lithium ion, potassium ion, sodium sodium, tetramethylammonium ion, and tetrabutylammonium ion.
一般式(3)で表される複素環化合物は互変異性構造を取ることができるため、σ結合を実線で、配位結合を破線で表すと、本発明のルテニウム錯体(1)は、ルテニウム錯体(1‐N)あるいはルテニウム錯体(1‐S)で表される配位構造を取ることができる。また、いわゆるπ-アリル構造を取る場合は一般式(1‐π)の構造を取ることができる。本発明はこれらの共鳴構造全てを包含するものであるが、便宜上、一般式(1)の構造で記載することとする。 Since the heterocyclic compound represented by the general formula (3) can have a tautomeric structure, the ruthenium complex (1) of the present invention is represented by ruthenium when the σ bond is represented by a solid line and the coordination bond is represented by a broken line. A coordination structure represented by a complex (1-N) or a ruthenium complex (1-S) can be taken. Moreover, when taking a so-called π-allyl structure, the structure of the general formula (1-π) can be taken. The present invention includes all of these resonance structures, but for the sake of convenience, the structure of the general formula (1) will be described.
工程−1の反応は塩基の存在下に実施することが必須である。塩基としては、水酸化アルカリ金属、水酸化アルカリ土類金属、炭酸アルカリ金属、炭酸アルカリ土類金属、炭酸水素アルカリ金属、酢酸アルカリ金属、アンモニア、アミン類、ピリジン類を使用することができる。具体的には、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピロリジン、ピペラジン、モルホリン、N‐メチルピロリジン、N‐メチルピペラジン、N‐メチルモルホリン、ピリジン、ピコリン等を例示することができる。中でも目的物の収率がよく、安価である点で水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムが好ましい。塩基の使用量や濃度に特に制限はないが、反応基質に対して4〜50当量、好ましくは5〜10当量用いることにより、収率よく目的物を得ることができる。
複素環化合物(3)の使用量に特に制限はないが、原料のルテニウム錯体(2)に対して1等量以上用いることにより、収率よく目的物を得ることができる。
反応は大気中で実施することもできるが、純度よく目的物を得ることができる点で窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で実施することが好ましい。
It is essential to carry out the reaction of step-1 in the presence of a base. As the base, alkali metal hydroxide, alkali earth metal hydroxide, alkali metal carbonate, alkaline earth metal carbonate, alkali metal hydrogen carbonate, alkali metal acetate, ammonia, amines, and pyridines can be used. Specifically, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, barium hydroxide, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, magnesium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, Sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium acetate, potassium acetate, methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, diethylamine, triethylamine, tributylamine, pyrrolidine, piperazine, morpholine, N-methylpyrrolidine, N-methylpiperazine, N-methyl Examples thereof include morpholine, pyridine, picoline and the like. Of these, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, and potassium carbonate are preferred because the yield of the target product is good and inexpensive. Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount and density | concentration of a base, A target object can be obtained with a sufficient yield by using 4-50 equivalent with respect to a reaction substrate, Preferably 5-10 equivalent is used.
Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of a heterocyclic compound (3), A target object can be obtained with a sufficient yield by using 1 equivalent or more with respect to a raw material ruthenium complex (2).
Although the reaction can be carried out in the air, it is preferably carried out in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon because the desired product can be obtained with high purity.
反応は溶媒中で実施することが好ましい。用いることができる溶媒としては、反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができ、水、有機溶媒又はそれらの混合物を用いることができる。有機溶媒としてはアルコール等の極性溶媒が望ましく、メタノール、エタノール、2‐プロパノール、ブタノール、シクロへキシルアルコール、N,N‐ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等を挙げることができる。中でも目的物の収率や選択性がよく、安価である点で水、エタノール、N,N‐ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドあるいはこれらの混合物が好ましい。反応溶媒の使用量に特に制限はない。 The reaction is preferably carried out in a solvent. As a solvent that can be used, any solvent that does not adversely affect the reaction can be used, and water, an organic solvent, or a mixture thereof can be used. The organic solvent is preferably a polar solvent such as alcohol, and examples thereof include methanol, ethanol, 2-propanol, butanol, cyclohexyl alcohol, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, and acetonitrile. Of these, water, ethanol, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, or a mixture thereof is preferable because the yield and selectivity of the target product are good and it is inexpensive. There is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of a reaction solvent.
また反応は、0〜200℃、好ましくは20〜120℃から適宜選ばれた反応温度で実施することにより、収率よく目的物を得ることができる。反応時間に特に制限はない。
反応終了後は、通常の溶媒留去等の操作により目的とするルテニウム錯体(1a)を単離することができるが、単離することなく次の工程−2の反応に使用することもできる。
The reaction can be carried out at a reaction temperature appropriately selected from 0 to 200 ° C., preferably from 20 to 120 ° C., to obtain the target product with good yield. There is no particular limitation on the reaction time.
After completion of the reaction, the target ruthenium complex (1a) can be isolated by a general operation such as evaporation of the solvent, but it can also be used for the next step-2 without isolation.
工程‐2は、一般式(1a)で表されるルテニウム錯体を一般式(4)で表される酸で処理し、本発明に含まれる一般式(1b)で表されるルテニウム錯体を製造する工程である。
本反応に用いる一般式(4)で表される酸の使用量には特に制限はなく、ルテニウム錯体(1a)に対して5等量以上用いることにより、収率よく目的物を得ることができる。
In Step-2, the ruthenium complex represented by the general formula (1a) is treated with the acid represented by the general formula (4) to produce the ruthenium complex represented by the general formula (1b) included in the present invention. It is a process.
There is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of the acid represented by General formula (4) used for this reaction, A target object can be obtained with a sufficient yield by using 5 equivalents or more with respect to a ruthenium complex (1a). .
反応は大気中で実施することもできるが、純度よく目的物を得ることができる点で窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で実施することが好ましい。
反応は溶媒中で実施することが好ましい。用いることができる溶媒としては、反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができ、水、有機溶媒又はそれらの混合物を用いることができる。有機溶媒としてはアルコール等の極性溶媒が望ましく、メタノール、エタノール、2‐プロパノール、ブタノール、シクロへキシルアルコール、N,N‐ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等を挙げることができる。中でも目的物の収率や選択性がよく、安価である点で水、エタノール、N,N‐ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドあるいはこれらの混合物が好ましい。反応溶媒の使用量に特に制限はない。
Although the reaction can be carried out in the air, it is preferably carried out in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon because the desired product can be obtained with high purity.
The reaction is preferably carried out in a solvent. As a solvent that can be used, any solvent that does not adversely affect the reaction can be used, and water, an organic solvent, or a mixture thereof can be used. The organic solvent is preferably a polar solvent such as alcohol, and examples thereof include methanol, ethanol, 2-propanol, butanol, cyclohexyl alcohol, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, and acetonitrile. Of these, water, ethanol, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, or a mixture thereof is preferable because the yield and selectivity of the target product are good and it is inexpensive. There is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of a reaction solvent.
また反応は、0〜200℃、好ましくは20〜120℃から適宜選ばれた反応温度で実施することにより、収率よく目的物を得ることができる。反応時間に特に制限はない。
反応終了後は、通常のろ過又は溶媒留去等の操作により目的とするルテニウム錯体(1b)を単離することができるが、単離することなく次の工程−3の反応に使用することもできる。
The reaction can be carried out at a reaction temperature appropriately selected from 0 to 200 ° C., preferably from 20 to 120 ° C., to obtain the target product with good yield. There is no particular limitation on the reaction time.
After completion of the reaction, the target ruthenium complex (1b) can be isolated by ordinary operations such as filtration or evaporation of the solvent, but it can also be used for the next step-3 without isolation. it can.
工程‐3は、一般式(1b)で表されるルテニウム錯体を一般式(5)で表される塩で処理し、本発明に含まれる一般式(1c)で表されるルテニウム錯体を製造する工程である。 In Step-3, the ruthenium complex represented by the general formula (1b) is treated with the salt represented by the general formula (5) to produce the ruthenium complex represented by the general formula (1c) included in the present invention. It is a process.
本反応に用いる一般式(5)で表される塩の使用量には特に制限はなく、ルテニウム錯体(1b)に対して5等量以上用いることにより、収率よく目的物を得ることができる。
反応は大気中で実施することもできるが、純度よく目的物を得ることができる点で窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で実施することが好ましい。
反応は溶媒中で実施することが好ましい。用いることができる溶媒としては、反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができ、水、有機溶媒又はそれらの混合物を用いることができる。有機溶媒としてはアルコール等の極性溶媒が望ましく、メタノール、エタノール、2‐プロパノール、ブタノール、シクロへキシルアルコール、N,N‐ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等を挙げることができる。中でも目的物の収率や選択性がよく、安価である点で水、エタノール、N,N‐ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドあるいはこれらの混合物が好ましい。反応溶媒の使用量に特に制限はない。
There is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of the salt represented by General formula (5) used for this reaction, A target object can be obtained with a sufficient yield by using 5 equivalent or more with respect to a ruthenium complex (1b). .
Although the reaction can be carried out in the air, it is preferably carried out in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon because the desired product can be obtained with high purity.
The reaction is preferably carried out in a solvent. As a solvent that can be used, any solvent that does not adversely affect the reaction can be used, and water, an organic solvent, or a mixture thereof can be used. The organic solvent is preferably a polar solvent such as alcohol, and examples thereof include methanol, ethanol, 2-propanol, butanol, cyclohexyl alcohol, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, and acetonitrile. Of these, water, ethanol, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, or a mixture thereof is preferable because the yield and selectivity of the target product are good and it is inexpensive. There is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of a reaction solvent.
また反応は、0〜200℃、好ましくは20〜120℃から適宜選ばれた反応温度で実施することにより、収率よく目的物を得ることができる。反応時間に特に制限はない。
反応終了後は、通常のろ過又は溶媒留去等の操作により目的とするルテニウム錯体(1b)を単離することができるが、単離することなく次の工程−4の反応に使用することもできる。
工程‐4は、一般式(1d)で表されるルテニウム錯体を一般式(6a)表されるアミン類、又は一般式(6b)で表される水酸化アンモニウムで処理し、一般式(1e)で表されるルテニウム錯体を製造する工程である。
一般式(6a)で表されるアミン類としては、アンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン等を例示することができる。収率がよい点でトリエチルアミンが好ましい。
The reaction can be carried out at a reaction temperature appropriately selected from 0 to 200 ° C., preferably from 20 to 120 ° C., to obtain the target product with good yield. There is no particular limitation on the reaction time.
After completion of the reaction, the target ruthenium complex (1b) can be isolated by ordinary operations such as filtration or solvent distillation, but it can also be used for the next step-4 reaction without isolation. it can.
In Step-4, the ruthenium complex represented by the general formula (1d) is treated with an amine represented by the general formula (6a) or an ammonium hydroxide represented by the general formula (6b), and the general formula (1e) It is the process of manufacturing the ruthenium complex represented by these.
Examples of amines represented by the general formula (6a) include ammonia, methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, diethylamine, triethylamine, tributylamine and the like. Triethylamine is preferred in terms of good yield.
一般式(6b)で表される水酸化アンモニウムとしては、水酸化アンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウムが挙げれらる。中でも目的物の収率がよく、安価である点で水酸化テトラブチルアンモニウムが好ましい。
塩基の使用量や濃度に特に制限はないが、反応基質に対して0.1〜50当量、好ましくは0.5〜10当量用いることにより、収率よく目的物を得ることができる。
Examples of ammonium hydroxide represented by the general formula (6b) include ammonium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, and tetrabutylammonium hydroxide. Of these, tetrabutylammonium hydroxide is preferred because of its good yield and low cost.
Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount and density | concentration of a base, The target object can be obtained with a sufficient yield by using 0.1-50 equivalent with respect to the reaction substrate, Preferably it uses 0.5-10 equivalent.
反応は大気中で実施することもできるが、純度よく目的物を得ることができる点で窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で実施することが好ましい。
反応は溶媒中で実施することが好ましい。用いることができる溶媒としては、反応に害を及ぼさない溶媒であれば使用することができ、水、有機溶媒又はそれらの混合物を用いることができる。有機溶媒としてはアルコール等の極性溶媒が望ましく、メタノール、エタノール、2‐プロパノール、ブタノール、シクロへキシルアルコール、N,N‐ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等を挙げることができる。中でも目的物の収率や選択性がよく、安価である点で水、エタノール、N,N‐ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドあるいはこれらの混合物が好ましい。反応溶媒の使用量に特に制限はない。
Although the reaction can be carried out in the air, it is preferably carried out in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon because the desired product can be obtained with high purity.
The reaction is preferably carried out in a solvent. As a solvent that can be used, any solvent that does not adversely affect the reaction can be used, and water, an organic solvent, or a mixture thereof can be used. The organic solvent is preferably a polar solvent such as alcohol, and examples thereof include methanol, ethanol, 2-propanol, butanol, cyclohexyl alcohol, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, and acetonitrile. Of these, water, ethanol, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, or a mixture thereof is preferable because the yield and selectivity of the target product are good and it is inexpensive. There is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of a reaction solvent.
また反応は、0〜200℃、好ましくは20〜120℃から適宜選ばれた反応温度で実施することにより、収率よく目的物を得ることができる。反応時間に特に制限はない。
反応終了後は、通常の溶媒留去等の操作により目的とするルテニウム錯体(1e)を単離することができる。
本発明の製造方法の原料として用いる一般式(2)で表されるルテニウム錯体は、一部は市販されているが、文献記載の方法により容易に調製することができる(非特許文献2参照)。一般式(3)で表される2‐メルカプトピリジン誘導体あるいは2‐メルカプトピリミジン誘導体は、一部は市販されているが、文献記載の方法により容易に調製することができる(特許文献4、5及び6参照)。さらに、新規の化合物については下記参考例の方法により合成した。
After completion of the reaction, the desired ruthenium complex (1e) can be isolated by a general operation such as evaporation of the solvent.
A part of the ruthenium complex represented by the general formula (2) used as a raw material for the production method of the present invention is commercially available, but can be easily prepared by a method described in the literature (see Non-Patent Document 2). . A part of the 2-mercaptopyridine derivative or 2-mercaptopyrimidine derivative represented by the general formula (3) is commercially available, but can be easily prepared by methods described in the literature (Patent Documents 4, 5 and 6). Further, the novel compound was synthesized by the method of the following reference example.
以下、実施例及び参考例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a reference example are given and this invention is demonstrated further in detail, this invention is not limited to these.
実施例−1
1HNMR(D2O):δ6.73(dd,J=5.1,5.3Hz,1H),7.40−7.48(m,2H),7.49(dd,J=2.2,5.3Hz,1H),7.73(d,J=5.9Hz,1H),7.84(d,J=5.9Hz,1H),7.91(d,J=5.7Hz,1H),7.92−7.96(m,1H),8.21(dd,J=2.2,5.1Hz,1H),8.35(d,J=6.0Hz,1H),8.67(s,2H),8.78(s,1H),8.83(s,1H),9.64(d,J=5.75Hz,1H).UV/vis(H2O):λmax[nm](ε×10-4[L/(mol×cm)])246.0(4.16),306.0(5.27),366.0(1.59),503.0(1.42).
実施例−2
Example-1
1 HNMR (D 2 O): δ 6.73 (dd, J = 5.1, 5.3 Hz, 1H), 7.40-7.48 (m, 2H), 7.49 (dd, J = 2. 2, 5.3 Hz, 1H), 7.73 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 7.84 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 7.91 (d, J = 5.7 Hz) , 1H), 7.92-7.96 (m, 1H), 8.21 (dd, J = 2.2, 5.1 Hz, 1H), 8.35 (d, J = 6.0 Hz, 1H) , 8.67 (s, 2H), 8.78 (s, 1H), 8.83 (s, 1H), 9.64 (d, J = 5.75 Hz, 1H). UV / vis (H 2 O): λ max [nm] (ε × 10 −4 [L / (mol × cm)]) 246.0 (4.16), 306.0 (5.27), 366. 0 (1.59), 503.0 (1.42).
Example-2
1HNMR(D2O−NaOD):δ1.31(s,3H),2.27(s,3H),6.57(s,1H),7.39(dd,J=5.9,1.6Hz,1H),7.47(dd,J=5.9,1.6Hz,1H),7.75(d,J=5.9Hz,1H),7.82(d,J=5.9Hz,1H),7.85(dd,J=5.8,1.6Hz,1H),7.96(dd,J=5.8,1.6Hz,1H),8.37(d,J=5.8Hz,1H),8.67(brs,1H),8.73(brs,1H),8.83(brs,2H),9.75(d,J=5.8Hz,1H).UV/vis(H2O):λmax[nm](ε×10-4[L/(mol×cm)])246.0(4.12),307.0(5.29),368.0(1.67),511(1.50).
実施例−3
1 HNMR (D 2 O—NaOD): δ 1.31 (s, 3H), 2.27 (s, 3H), 6.57 (s, 1H), 7.39 (dd, J = 5.9, 1 .6 Hz, 1H), 7.47 (dd, J = 5.9, 1.6 Hz, 1H), 7.75 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 7.82 (d, J = 5. 9 Hz, 1H), 7.85 (dd, J = 5.8, 1.6 Hz, 1H), 7.96 (dd, J = 5.8, 1.6 Hz, 1H), 8.37 (d, J = 5.8 Hz, 1 H), 8.67 (brs, 1 H), 8.73 (brs, 1 H), 8.83 (brs, 2 H), 9.75 (d, J = 5.8 Hz, 1 H). UV / vis (H 2 O): λ max [nm] (ε × 10 −4 [L / (mol × cm)]) 246.0 (4.12), 307.0 (5.29), 368. 0 (1.67), 511 (1.50).
Example-3
1HNMR(D2O−NaOD):δ5.12(s,1H),7.37dd,J=5.9,1.7Hz,1H),7.48(dd,J=5.9,1.7Hz,1H),7.74(d,J=5.9Hz,1H),7.85(d,J=5.9Hz,1H),7.94(dd,J=5.8,1.5Hz,1H),8.01(dd,J=5.9,1.6Hz,1H),8.64(d,J=5.9Hz,1H),8.65(brs,1H),8.74(brs,1H),8.83(brs,2H),9.82(d,J=5.8Hz,1H).UV/vis(H2O):λmax[nm](ε×10-4[L/(mol×cm)])248.0(3.140),309.0(3.775),378.0(1.020),523.0(1.070).
実施例−4
1 HNMR (D 2 O—NaOD): δ 5.12 (s, 1H), 7.37 dd, J = 5.9, 1.7 Hz, 1H), 7.48 (dd, J = 5.9, 1. 7 Hz, 1H), 7.74 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 7.85 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 7.94 (dd, J = 5.8, 1.5 Hz) , 1H), 8.01 (dd, J = 5.9, 1.6 Hz, 1H), 8.64 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 8.65 (brs, 1H), 8.74. (Brs, 1H), 8.83 (brs, 2H), 9.82 (d, J = 5.8 Hz, 1H). UV / vis (H 2 O): λ max [nm] (ε × 10 −4 [L / (mol × cm)]) 248.0 (3.140), 309.0 (3.775), 378. 0 (1.020), 523.0 (1.070).
Example-4
1HNMR(D2O−NaOD):δ6.61(s,1H),7.32−7.37(m,2H),7.69(d,J=5.9Hz,1H),7.83(d,J=5.9Hz,1H),7.92−7.98(m,2H),8.60(d,J=1.4Hz,1H),8.64(d,J=1.3Hz,1H),8.69(d,J=5.8Hz,1H),8.74(d,J=1.3Hz,1H),8.80(d,J=1.2Hz,1H),9.86(d,J=5.9Hz,1H).UV/vis(H2O):λmax[nm](ε×10-4[L/(mol×cm)])309.0(4.605),391.0(1.245),536.0(1.210).
実施例−5
1 HNMR (D 2 O—NaOD): δ 6.61 (s, 1H), 7.32-7.37 (m, 2H), 7.69 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 7.83 (D, J = 5.9 Hz, 1H), 7.92-7.98 (m, 2H), 8.60 (d, J = 1.4 Hz, 1H), 8.64 (d, J = 1. 3 Hz, 1H), 8.69 (d, J = 5.8 Hz, 1H), 8.74 (d, J = 1.3 Hz, 1H), 8.80 (d, J = 1.2 Hz, 1H), 9.86 (d, J = 5.9 Hz, 1H). UV / vis (H 2 O): λ max [nm] (ε × 10 −4 [L / (mol × cm)]) 309.0 (4.605), 391.0 (1.245), 536. 0 (1.210).
Example-5
1HNMR(D2O−NaOD):δ0.48(t,J=7.0Hz,3H),1.28(t,J=7.0Hz,3H),3.45−3.53(m,1H),3.61−3.70(m,1H),4.19(q,J=7.0Hz,2H),5.55(s,1H),7.39(dd,J=5.9,1.5Hz,1H),7.47(dd,J=5.9,1.5Hz,1H),7.76(d,J=5.9Hz,1H),7.89(d,J=5.9Hz,1H),7.90(brd,J=5.8Hz,1H),7.97(brd,J=5.8Hz,1H),8.47(d,J=5.8Hz,1H),8.68(brs,1H),8.71(brs,1H),8.79(brs,1H),8.83(brs,1H),9.78(d,J=5.8Hz,1H).UV/vis(H2O):λmax[nm](ε×10-4[L/(mol×cm)])308.0(4.415),378.0(1.170),519.0(1.240).
実施例−6
1 HNMR (D 2 O—NaOD): δ 0.48 (t, J = 7.0 Hz, 3H), 1.28 (t, J = 7.0 Hz, 3H), 3.45-3.53 (m, 1H), 3.61-3.70 (m, 1H), 4.19 (q, J = 7.0 Hz, 2H), 5.55 (s, 1H), 7.39 (dd, J = 5. 9, 1.5 Hz, 1 H), 7.47 (dd, J = 5.9, 1.5 Hz, 1 H), 7.76 (d, J = 5.9 Hz, 1 H), 7.89 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 7.90 (brd, J = 5.8 Hz, 1H), 7.97 (brd, J = 5.8 Hz, 1H), 8.47 (d, J = 5.8 Hz, 1H), 8.68 (brs, 1H), 8.71 (brs, 1H), 8.79 (brs, 1H), 8.83 (brs, 1H), 9.78 (d, J = 5.8 Hz) , 1 ). UV / vis (H 2 O): λ max [nm] (ε × 10 −4 [L / (mol × cm)]) 308.0 (4.415), 378.0 (1.170), 519. 0 (1.240).
Example-6
1HNMR(D2O−NaOD):δ.3.18(s,3H),3.81(s,3H),5.66(s,1H),7.41(dd,J=5.9,1.7Hz,1H),7.45(dd,J=5.9,1.7Hz,1H),7.76(d,J=5.9Hz,1H),7.88(dd,J=5.8,1.7Hz,1H),7.96(d,J=5.9Hz,1H),7.97(dd,J=5.8,1.7Hz,1H),8.47(d,J=5.8Hz,1H),8.67(brs,1H),8.68(brs,1H),8.77(brs,1H),8.83(brs,1H),9.76(d,J=5.8Hz,1H).UV/vis(H2O):λmax[nm](ε×10-4[L/(mol×cm)])247.0(3.945),307.0(5.125),375.0(1.380),517.0(1.465).
実施例−7
1 HNMR (D 2 O—NaOD): δ. 3.18 (s, 3H), 3.81 (s, 3H), 5.66 (s, 1H), 7.41 (dd, J = 5.9, 1.7 Hz, 1H), 7.45 ( dd, J = 5.9, 1.7 Hz, 1H), 7.76 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 7.88 (dd, J = 5.8, 1.7 Hz, 1H), 7 .96 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 7.97 (dd, J = 5.8, 1.7 Hz, 1H), 8.47 (d, J = 5.8 Hz, 1H), 8. 67 (brs, 1H), 8.68 (brs, 1H), 8.77 (brs, 1H), 8.83 (brs, 1H), 9.76 (d, J = 5.8 Hz, 1H). UV / vis (H 2 O): λ max [nm] (ε × 10 −4 [L / (mol × cm)]) 247.0 (3.945), 307.0 (5.125), 375. 0 (1.380), 517.0 (1.465).
Example-7
1HNMR(D2O-NaOD):δ0.56(t,J=6.9Hz,3H),0.58‐0.71(m,2H),0.71‐0.85(m,2H),0.85(t,J=7.4Hz,3H),1.29‐1.39(m,2H),1.60‐1.70(m,2H),3.39(dt,J=9.5,6.1Hz,1H),3.60(dt,J=9.5,6.4Hz,1H),4.05‐4.20(m,2H),5.49(s,1H),7.38(dd,J=5.9,1.6Hz,1H),7.48(dd,J=5.9,1.6Hz,1H),7.77(d,J=5.9Hz,1H),7.86(d,J=5.9Hz,1H),7.88(dd,J=5.8,1.6Hz,1H),7.97(dd,J=5.8,1.6Hz,1H),8.46(d,J=5.8Hz,1H),8.66(brs,1H),8.71(brs,1H),8.78,(brs,1H),8.82,(brs,1H),9.77(d,J=5.8Hz,1H).UV/vis(H2O):λmax[nm](ε×10-4[L/(mol×cm)])248.0(3.645),308.0(4.650),374.0(1.245),517.0(1.305).
実施例−8
1 HNMR (D 2 O—NaOD): δ 0.56 (t, J = 6.9 Hz, 3H), 0.58-0.71 (m, 2H), 0.71-0.85 (m, 2H) , 0.85 (t, J = 7.4 Hz, 3H), 1.29-1.39 (m, 2H), 1.60-1.70 (m, 2H), 3.39 (dt, J = 9.5, 6.1 Hz, 1H), 3.60 (dt, J = 9.5, 6.4 Hz, 1H), 4.05-4.20 (m, 2H), 5.49 (s, 1H) ), 7.38 (dd, J = 5.9, 1.6 Hz, 1H), 7.48 (dd, J = 5.9, 1.6 Hz, 1H), 7.77 (d, J = 5. 9 Hz, 1H), 7.86 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 7.88 (dd, J = 5.8, 1.6 Hz, 1H), 7.97 (dd, J = 5.8) , 1.6 Hz, 1 H), 8.46 ( , J = 5.8 Hz, 1H), 8.66 (brs, 1H), 8.71 (brs, 1H), 8.78, (brs, 1H), 8.82, (brs, 1H), 9. 77 (d, J = 5.8 Hz, 1H). UV / vis (H 2 O): λ max [nm] (ε × 10 −4 [L / (mol × cm)]) 248.0 (3.645), 308.0 (4.650), 374. 0 (1.245), 517.0 (1.305).
Example-8
1HNMR(D2O):δ6.62−6.69(m,1H),6.80(d,J=8.3Hz,1H),7.0(d,J=6.0Hz,1H),7.30−7.43(m,2H),7.44(d,J=6.0Hz,1H),7.74(d,J=6.0Hz,1H),7.82(brd,J=7.4Hz,1H),7.89−7.95(m,2H),8.28(d,J=5.8Hz,1H),8.68(s,1H),8.70(s,1H),8.78(s,1H),8.82(s,1H),9.97(d,J=6.1Hz,1H).UV/vis(H2O):λmax[nm](ε×10-4)308.0(5.10),366.0(1.50),518.0(1.40).
実施例−9
1 HNMR (D 2 O): δ 6.62-6.69 (m, 1H), 6.80 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 7.0 (d, J = 6.0 Hz, 1H) 7.30-7.43 (m, 2H), 7.44 (d, J = 6.0 Hz, 1H), 7.74 (d, J = 6.0 Hz, 1H), 7.82 (brd, J = 7.4 Hz, 1H), 7.89-7.95 (m, 2H), 8.28 (d, J = 5.8 Hz, 1H), 8.68 (s, 1H), 8.70 ( s, 1H), 8.78 (s, 1H), 8.82 (s, 1H), 9.97 (d, J = 6.1 Hz, 1H). UV / vis (H 2 O): λ max [nm] (ε × 10 −4 ) 308.0 (5.10), 366.0 (1.50), 518.0 (1.40).
Example-9
1HNMR(D2O):δ1.35(s,3H),2.31(s,3H),6.61(s,1H),7.42(dd,J=5.9,1.5Hz,1H),7.51(dd,J=5.9,1.5Hz,1H),7.79(d,J=5.9Hz,1H),7.86(d,J=5.9Hz,1H),7.89(dd,J=5.8,1.6Hz,1H),8.00(dd,J=5.8,1.6Hz,1H),8.40(d,J=5.8Hz,1H),8.70(brs,1H),8.77(brs,1H),8.86(brs,2H),9.79(d,J=5.8Hz,1H).UV/vis(H2O):λmax[nm](ε×10-4)246.0(3.175),308.0(4.205),359.0(1.265),511.0(1.110).
実施例−10
1 HNMR (D 2 O): δ 1.35 (s, 3H), 2.31 (s, 3H), 6.61 (s, 1H), 7.42 (dd, J = 5.9, 1.5 Hz) , 1H), 7.51 (dd, J = 5.9, 1.5 Hz, 1H), 7.79 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 7.86 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 7.89 (dd, J = 5.8, 1.6 Hz, 1H), 8.00 (dd, J = 5.8, 1.6 Hz, 1H), 8.40 (d, J = 5 .8 Hz, 1H), 8.70 (brs, 1H), 8.77 (brs, 1H), 8.86 (brs, 2H), 9.79 (d, J = 5.8 Hz, 1H). UV / vis (H 2 O): λ max [nm] (ε × 10 −4 ) 246.0 (3.175), 308.0 (4.205), 359.0 (1.265), 511. 0 (1.110).
Example-10
1HNMR(D2O):δ1.30(s,3H),2.27(s,3H),6.57(s,1H),7.38(dd,J=5.9,1.6Hz,1H),7.47(dd,J=5.9,1.6Hz,1H),7.75(d,J=5.9Hz,1H),7.81(d,J=5.9Hz,1H),7.84(dd,J=5.8,1.6Hz,1H),7.95(dd,J=5.8,1.6Hz,1H),8.36(d,J=5.8Hz,1H),8.66(brs,1H),8.72(brs,1H),8.82(brs,2H),9.75(d,J=5.8Hz,1H).UV/vis(H2O):λmax[nm](ε×10-4)246.0(4.405),307.0(5.740),368.0(1.725),512.0(1.565).
1 HNMR (D 2 O): δ 1.30 (s, 3H), 2.27 (s, 3H), 6.57 (s, 1H), 7.38 (dd, J = 5.9, 1.6 Hz) , 1H), 7.47 (dd, J = 5.9, 1.6 Hz, 1H), 7.75 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 7.81 (d, J = 5.9 Hz, 1H), 7.84 (dd, J = 5.8, 1.6 Hz, 1H), 7.95 (dd, J = 5.8, 1.6 Hz, 1H), 8.36 (d, J = 5 .8 Hz, 1H), 8.66 (brs, 1H), 8.72 (brs, 1H), 8.82 (brs, 2H), 9.75 (d, J = 5.8 Hz, 1H). UV / vis (H 2 O): λ max [nm] (ε × 10 −4 ) 246.0 (4.405), 307.0 (5.740), 368.0 (1.725), 512. 0 (1.565).
実施例−11
本実施例では、色素として実施例−2で合成した錯体1−2を用いて色素増感太陽電池の評価を行った。色素増感太陽電池に使用した負極用ガラス基板はソーダライムガラス板に透明導電膜を形成したガラス板(日本板硝子製)を切断して厚み3mm、2×3cm角にしたガラス板を用いた。このガラス基板において透明導電膜が形成されている面にスクリーン印刷法により酸化チタンペースト(SOLARONIX 製品名: Ti−Nanoxide D)を5μmの厚みで塗布した。塗布した膜を450℃で1時間焼成した。更にこの上に酸化チタン(堺化学製 製品名:SSP)をペースト化しスクリーン印刷装置により20μmの厚みで塗布した。塗布した膜を450℃で1時間焼成した。この後、酸化チタン多孔質膜を形成したガラス基板を本発明の錯体1−2の濃度3×10-4mol/Lにしたエタノール溶液に浸漬して16時間保持した。その後、無水エタノールに浸漬して過剰の色素を取り除き、100℃にて乾燥した。前記の電極膜を形成する際にはガラス板の周端部から3mmの部分には酸化チタンペーストが付かないように印刷を行い、このガラス板の周端部には外側から内側に厚み60μmのアイオノマー樹脂シート(三井デュポンポリケミカル社製のスペーサー(商品名:「ハイミラン」))を幅3mmで付着させた。正極用ガラス基板も同様にソーダライムガラス板に透明導電膜を形成したガラス板(日本板硝子製)を切断して厚み3mm、2×3cm角にしたガラス板を用いた。この基板にスパッタ法によりPtを50nm成膜し、ドリルにより1mmΦの径の穴を二箇所 対角線方向に両端に形成したものを用いた。この二枚の基板間に10gf/cm2の荷重を掛けた。この状態において120℃でアイオノマー樹脂シートにより熱融着させた。作製したセルにLiIとI2を溶かしたアセトニトリル電解液を金属支持基板に形成した注入口より入れて、セル全体に均一になるように注入した。
Example-11
In this example, the dye-sensitized solar cell was evaluated using the complex 1-2 synthesized in Example-2 as the dye. As the glass substrate for negative electrode used in the dye-sensitized solar cell, a glass plate having a thickness of 3 mm and a 2 × 3 cm square by cutting a glass plate (manufactured by Nippon Sheet Glass) on which a transparent conductive film was formed on a soda lime glass plate was used. A titanium oxide paste (SOLARONIX product name: Ti-Nanoxide D) was applied to the surface of the glass substrate on which the transparent conductive film was formed by screen printing at a thickness of 5 μm. The applied film was baked at 450 ° C. for 1 hour. Further, titanium oxide (product name: SSP manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.) was pasted thereon and applied with a thickness of 20 μm by a screen printing apparatus. The applied film was baked at 450 ° C. for 1 hour. Thereafter, the glass substrate on which the titanium oxide porous film was formed was immersed in an ethanol solution having a concentration of 3 × 10 −4 mol / L of the complex 1-2 of the present invention and held for 16 hours. Then, it was immersed in absolute ethanol to remove excess dye and dried at 100 ° C. When the electrode film is formed, printing is performed so that the titanium oxide paste is not attached to a portion 3 mm from the peripheral edge of the glass plate. The peripheral edge of the glass plate has a thickness of 60 μm from the outside to the inside. An ionomer resin sheet (spacer manufactured by Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd. (trade name: “HIMILAN”)) was attached in a width of 3 mm. Similarly, the glass plate for positive electrodes used was a glass plate having a thickness of 3 mm and 2 × 3 cm by cutting a glass plate (manufactured by Nippon Sheet Glass) having a transparent conductive film formed on a soda lime glass plate. A Pt film with a thickness of 50 nm was formed on this substrate by sputtering, and two holes with a diameter of 1 mmΦ were formed at both ends in a diagonal direction by a drill. A load of 10 gf / cm 2 was applied between the two substrates. In this state, it was heat-sealed with an ionomer resin sheet at 120 ° C. And acetonitrile electrolyte solution to produce the cells were dissolved LiI and I 2 were placed from injection port formed in the metal supporting board was injected so as to be uniform throughout the cell.
作製したセルの色素増感型太陽電池の短絡電流密度(Jsc)、開放電圧(Voc)、フィルファクタ(F.F.)、及びエネルギー変換効率(η(%))を測定した。なお、色素増感型太陽電池のエネルギー変換効率(η(%))は、下記式で表される。ここで、下記式中、P0は入射光強度[mWcm-2]、Vocは開放電圧[V]、Jscは短絡電流密度[mA・cm-2]、F.F.は曲線因子(Filling Factor)を示す。
η=100×(Voc×Jsc×F.F.)/P0…(A)
The short-circuit current density (J sc ), open-circuit voltage (V oc ), fill factor (FF), and energy conversion efficiency (η (%)) of the dye-sensitized solar cell of the produced cell were measured. The energy conversion efficiency (η (%)) of the dye-sensitized solar cell is represented by the following formula. Here, in the following formula, P 0 is the incident light intensity [mWcm −2 ], V oc is the open circuit voltage [V], J sc is the short-circuit current density [mA · cm −2 ], F.V. F. Indicates a fill factor.
η = 100 × (V oc × J sc × FF) / P 0 (A)
電池特性評価試験は、ソーラーシミュレータ(山下電装製、商品名;「YS−100H型」)を用い、AMフィルター(AM1.5)を通したキセノンランプ光源からの疑似太陽光の照射条件を、100mW/cm2とする(いわゆる「1Sun」の照射条件)測定条件の下で行った。光電変換効率の結果を表1に示す。この結果から、色素増感型太陽電池の光電変換効率は充分に太陽電池の特性を示すものであることが分かった。 The battery characteristic evaluation test uses a solar simulator (manufactured by Yamashita Denso, trade name: “YS-100H type”), and the irradiation condition of pseudo sunlight from a xenon lamp light source through an AM filter (AM1.5) is 100 mW. / Cm 2 (so-called “1Sun” irradiation condition). Table 1 shows the results of photoelectric conversion efficiency. From this result, it was found that the photoelectric conversion efficiency of the dye-sensitized solar cell sufficiently shows the characteristics of the solar cell.
水(20mL)に炭酸水素ナトリウム(1.09g,1.30mmol)を加え、0℃に冷却した。ここにジエトキシ‐1,3‐プロパンジイミデート(3.01g,13.0mmol)を少量ずつ加え、完全に溶解させた。ここにシアナミド(0.630g,15.0mmol)を加え、室温で2時間撹拌した。不溶物をろ別後、粗生成物を水で洗浄し、メタノールから再結晶することで、目的の3‐アミノ‐1,3‐ジエトキシ‐2‐プロペンイミデートの白色固体(1.70g,収率71%)を得た。
続いてTHF(30mL)に3‐アミノ‐1,3‐ジエトキシ‐2‐プロペンイミデート(1.12g,6.09mmol)を溶解し、−20℃に冷却した。ここに塩酸ガス(4g)を通じ5時間攪拌した。10℃に昇温し、溶媒を減圧留去した。析出した固体を濾過した後、水で洗浄することにより、目的の2‐クロロ‐4,6‐ジエトキシピリミジンの白色固体(0.649g,収率53%)を得た。
1H NMR(CDCl3):δ1.37(t,J=7.1Hz,6H),4.38(q,J=7.1Hz,4H),5.91(s,1H).
参考例−2
Sodium hydrogen carbonate (1.09 g, 1.30 mmol) was added to water (20 mL) and cooled to 0 ° C. Diethoxy-1,3-propanediimidate (3.01 g, 13.0 mmol) was added little by little to completely dissolve it. Cyanamide (0.630 g, 15.0 mmol) was added thereto and stirred at room temperature for 2 hours. The insoluble material was filtered off, and the crude product was washed with water and recrystallized from methanol to give the desired 3-amino-1,3-diethoxy-2-propenimidate as a white solid (1.70 g, yield). 71%) was obtained.
Subsequently, 3-amino-1,3-diethoxy-2-propenimidate (1.12 g, 6.09 mmol) was dissolved in THF (30 mL) and cooled to −20 ° C. The mixture was stirred for 5 hours through hydrochloric acid gas (4 g). The temperature was raised to 10 ° C., and the solvent was distilled off under reduced pressure. The precipitated solid was filtered and then washed with water to obtain the desired white solid (0.649 g, yield 53%) of 2-chloro-4,6-diethoxypyrimidine.
1 H NMR (CDCl 3 ): δ 1.37 (t, J = 7.1 Hz, 6H), 4.38 (q, J = 7.1 Hz, 4H), 5.91 (s, 1H).
Reference example-2
水(200mL)に炭酸水素ナトリウム(10.6g,126mmol)を加え、0℃に冷却した。ここにジメトキシ‐1,3‐プロパンジイミデート(25g,123mmol)を少量ずつ加え、完全に溶解させた。ここにシアナミド(5.9g,140mmol)を加え、室温で2時間撹拌した。不溶物をろ別後、粗生成物を水で洗浄し、減圧乾固することで、目的の3‐アミノ‐1,3‐ジメトキシ‐2‐プロペンイミデートの白色固体(19.1g,収率77%)を得た。
続いてTHF(80mL)に3‐アミノ‐1,3‐ジメトキシ‐2‐プロペンイミデート(7.0g,45mmol)を溶解し、−20℃に冷却した。ここに塩酸ガス(45g)を通じ5時間攪拌した。10℃に昇温し、溶媒を減圧留去した。析出した固体を濾過した後、水で洗浄することにより、目的の2‐クロロ‐4,6‐ジメトキシピリミジンの白色固体(4.1g,収率52%)を得た。
1H NMR(CDCl3):δ3.96(s,6H),5.96(s,1H).
参考例−3
Sodium hydrogen carbonate (10.6 g, 126 mmol) was added to water (200 mL) and cooled to 0 ° C. Dimethoxy-1,3-propanediimidate (25 g, 123 mmol) was added thereto in small portions and completely dissolved. Cyanamide (5.9 g, 140 mmol) was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The insoluble material was filtered off, and the crude product was washed with water and dried under reduced pressure to give the desired 3-amino-1,3-dimethoxy-2-propenimidate as a white solid (19.1 g, yield). 77%).
Subsequently, 3-amino-1,3-dimethoxy-2-propenimidate (7.0 g, 45 mmol) was dissolved in THF (80 mL) and cooled to −20 ° C. The mixture was stirred for 5 hours with hydrochloric acid gas (45 g). The temperature was raised to 10 ° C., and the solvent was distilled off under reduced pressure. The precipitated solid was filtered and then washed with water to obtain the desired white solid (4.1 g, yield 52%) of 2-chloro-4,6-dimethoxypyrimidine.
1 H NMR (CDCl 3 ): δ 3.96 (s, 6H), 5.96 (s, 1H).
Reference example-3
水(200mL)に炭酸水素ナトリウム(10.5g,125mmol)を加え、0℃に冷却した。ここにジブトキシ‐1,3‐プロパンジイミデート(35g,122mmol)を少量ずつ加え、完全に溶解させた。ここにシアナミド(6.0g,143mmol)を加え、室温で2時間撹拌した。反応溶液ををエーテル(100mL×3)で抽出し、得られた有機層を合わせ、硫酸ナトリウム(50g)を加えて乾燥させた。乾燥剤をろ別後、溶液を減圧乾固し、油状の3‐アミノ‐1,3‐ジブトキシ‐2‐プロペンイミデート(26.2g,収率90%)を得た。
続いてTHF(90mL)に3‐アミノ‐1,3‐ブエトキシ‐2‐プロペンイミデート(12g,50mmol)を溶解し、−20℃に冷却した。ここに塩酸ガス(50g)を通じ5時間攪拌した。10℃に昇温し、溶媒を減圧留去した。租生成物に水(100mL)を加えた後、エーテル(100mL×3)で抽出し、得られた有機層を合わせ、硫酸ナトリウム(50g)を加えて乾燥させた。乾燥剤をろ別後、溶液を減圧乾固し、油状の租生成物をカラムクロマトグラフィー(SiO2、溶離液:ヘキサン/クロロホルム=50/50)により精製し、目的の2‐クロロ‐4,6‐ジブトキシピリミジン(6.65g,収率51%)を得た。
1H NMR(CDCl3):δ0.96(t,J=7.3Hz,6H),1.36‐1.51(m,4H),1.67‐1.83(m,4H),4.30(t,J=6.6Hz,4H),5.91(s,1H).
参考例−4
Sodium hydrogen carbonate (10.5 g, 125 mmol) was added to water (200 mL) and cooled to 0 ° C. Dibutoxy-1,3-propanediimidate (35 g, 122 mmol) was added little by little to completely dissolve it. Cyanamide (6.0 g, 143 mmol) was added thereto and stirred at room temperature for 2 hours. The reaction solution was extracted with ether (100 mL × 3), and the obtained organic layers were combined and dried by adding sodium sulfate (50 g). After the desiccant was filtered off, the solution was evaporated to dryness to give oily 3-amino-1,3-dibutoxy-2-propenimidate (26.2 g, yield 90%).
Subsequently, 3-amino-1,3-butethoxy-2-propenimidate (12 g, 50 mmol) was dissolved in THF (90 mL) and cooled to −20 ° C. The mixture was stirred for 5 hours with hydrochloric acid gas (50 g). The temperature was raised to 10 ° C., and the solvent was distilled off under reduced pressure. Water (100 mL) was added to the crude product, followed by extraction with ether (100 mL × 3). The obtained organic layers were combined, and sodium sulfate (50 g) was added and dried. After filtering off the desiccant, the solution was dried under reduced pressure, and the oily product was purified by column chromatography (SiO 2 , eluent: hexane / chloroform = 50/50) to obtain the desired 2-chloro-4 6-Dibutoxypyrimidine (6.65 g, 51% yield) was obtained.
1 H NMR (CDCl 3 ): δ 0.96 (t, J = 7.3 Hz, 6H), 1.36-1.51 (m, 4H), 1.67-1.83 (m, 4H), 4 .30 (t, J = 6.6 Hz, 4H), 5.91 (s, 1H).
Reference example-4
参考例−5
Reference Example-5
1HNMR(CDCl3):δ3.91(s,6H) 5.71(s,1H).
参考例−6
1 HNMR (CDCl 3 ): δ 3.91 (s, 6H) 5.71 (s, 1H).
Reference Example-6
1HNMR(CDCl3):δ0.96(t,J=7.3Hz,6H),1.35‐1.52(m,4H),1.66‐1.80(m,4H),4.25(t,J=6.6 Hz,4H),5.62(s,1H).
1 HNMR (CDCl 3 ): δ 0.96 (t, J = 7.3 Hz, 6H), 1.35-1.52 (m, 4H), 1.66-1.80 (m, 4H), 4. 25 (t, J = 6.6 Hz, 4H), 5.62 (s, 1H).
Claims (12)
(式中、R1aはカルボキシル基を表す。Xaは塩素原子又は臭素原子を表す。)で表されるルテニウム錯体と一般式(3)
(Wherein R 1a represents a carboxyl group, X a represents a chlorine atom or a bromine atom) and a general formula (3)
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---|---|---|---|---|
WO2012105578A1 (en) * | 2011-01-31 | 2012-08-09 | 宇部興産株式会社 | Photochemical cell comprising semiconductor microparticles sensitized by binuclear ruthenium complex dye, and comprising electrolyte solution that contains tetraaryl borate compound or electrolyte solution that contains multiple types of onium salt |
JP2013147465A (en) * | 2012-01-20 | 2013-08-01 | Jsr Corp | Ruthenium-containing compound and method for producing the same |
CN103709164A (en) * | 2013-12-04 | 2014-04-09 | 浙江工业大学 | Synthetic method for adenine |
-
2008
- 2008-02-05 JP JP2008025766A patent/JP2009184954A/en not_active Withdrawn
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