JP2009175707A5 - - Google Patents
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Description
本発明に係る第１の態様の微細構造体の製造方法は、少なくとも一面に複数の凸部を有する基板と、当該基板の一面に設けられた、前記複数の凸部の各々よりも小さい複数の微小凸部と、を備える微細構造体の製造方法であって、（ａ）前記基板上に前記複数の凸部を覆う感光膜を形成すること、（ｂ）前記基板上に前記感光膜を覆う液体を配置すること、（ｃ）前記液体を挟んで、透明基板を前記基板と対向配置すること、（ｄ）レーザービームを用いて干渉光を発生させ、当該干渉光を前記透明基板及び前記液体を介して前記感光膜に照射すること、（ｅ）前記液体及び前記透明基板を排した後に、前記感光膜を現像すること、（ｆ）前記（ｅ）によって形成された感光膜パターンをマスクとして用いて、前記基板をエッチングすること、を含み、前記（ｂ）における前記液体の屈折率が、１より大きく前記感光膜の屈折率と同等かそれより低い値である、ことを特徴とする。
The manufacturing method of the fine structure according to the first aspect of the present invention includes a substrate having a plurality of projections on at least one surface, and a plurality of projections smaller than each of the plurality of projections provided on one surface of the substrate. A fine structure manufacturing method comprising: (a) forming a photosensitive film covering the plurality of convex parts on the substrate; and (b) covering the photosensitive film on the substrate. Disposing a liquid; (c) disposing a transparent substrate opposite to the substrate with the liquid interposed therebetween; and (d) generating interference light using a laser beam, and transmitting the interference light to the transparent substrate and the liquid. (E) developing the photosensitive film after removing the liquid and the transparent substrate , and (f) using the photosensitive film pattern formed in (e) as a mask. Using and etching the substrate Wherein the refractive index of the liquid in said (b) is equal to or lower than that the refractive index of greater than 1 the photoresist, characterized in that.
上述した第１の態様の製造方法における（ｄ）において、複数のレーザービームを交叉させることによって干渉光を発生させることができる。また、（ｃ）において、回折格子を備えた透明基板を用い、（ｄ）において、単数のレーザービームを回折格子に入射させることによって干渉光を発生させてもよい。
In (d) in the manufacturing method of the first aspect described above, interference light can be generated by crossing a plurality of laser beams. In (c), a transparent substrate provided with a diffraction grating may be used, and in (d), interference light may be generated by causing a single laser beam to enter the diffraction grating.
また、上述した第２の態様の製造方法における（ｃ）において、複数のレーザービームを交叉させることによって干渉光を発生させることができる。
Moreover, in (c) in the manufacturing method of the second aspect described above, interference light can be generated by crossing a plurality of laser beams.
本発明に係る製造方法においては、感光膜の上に、空気に比して高屈折率の液体或いはこれと同等な水溶性膜を配置し、この状態でレーザー干渉露光を行う。液体又は水溶性膜を配置することにより、感光膜に直接に干渉光を入射させる場合（すなわち空気と感光膜とが接した状態で露光する場合）に比較して、感光膜とこれに接した媒体（液体及び透明基板）との屈折率差が小さくなる。それにより、感光膜の表面の凹凸による干渉光の回折が抑制され、感光膜内における干渉光の強度分布が乱れることを回避できる。従って、本発明に係る製造方法によれば、平坦性の低い面においても良好な露光を実現し、良質な微細構造体を製造することが可能となる。
In the manufacturing method according to the present invention, a liquid having a higher refractive index than air or a water-soluble film equivalent to air is disposed on the photosensitive film, and laser interference exposure is performed in this state. By placing a liquid or water-soluble film, the photosensitive film is in contact with the photosensitive film as compared with the case where interference light is directly incident on the photosensitive film (that is, when exposure is performed in the state where the air and the photosensitive film are in contact). The refractive index difference from the medium (liquid and transparent substrate ) becomes small. Thereby, the diffraction of the interference light due to the unevenness of the surface of the photosensitive film is suppressed, and the disturbance of the intensity distribution of the interference light in the photosensitive film can be avoided. Therefore, according to the manufacturing method according to the present invention, it is possible to realize good exposure even on a surface with low flatness, and to manufacture a fine microstructure.
また、前記透明基板は、前記複数のレーザービームが入射する側の面上に反射防止膜を有することも好ましい。それにより、空気層と透明基板との界面で生じる反射光が抑制され、露光むらをより一層低減することが可能となる。
The transparent substrate preferably has an antireflection film on a surface on which the plurality of laser beams are incident. Thereby, the reflected light generated at the interface between the air layer and the transparent substrate is suppressed, and the exposure unevenness can be further reduced.
本発明に係る第３の態様の微細構造体の製造方法は、少なくとも一面に複数の凸部を有する基板と、当該基板の一面に設けられた、前記複数の凸部の各々よりも小さい複数の微小凸部と、を備える微細構造体の製造方法であって、（ａ）前記基板上に前記複数の凸部を覆う金属膜を形成すること、（ｂ）前記基板上に前記金属膜を覆う第１の反射防止膜を形成すること、（ｃ）前記基板上に前記第１の反射防止膜を覆う感光膜を形成すること、（ｄ）前記基板上に前記感光膜を覆う液体を配置すること、（ｅ）前記液体を挟んで、透明基板を前記基板と対向配置すること、（ｆ）レーザービームを用いて干渉光を発生させ、当該干渉光を前記透明基板及び前記液体を介して前記感光膜に照射すること、（ｇ）前記液体及び前記透明基板を排除した後に、前記感光膜を現像すること、（ｈ）前記（ｇ）によって形成された感光膜パターンをマスクとして用いて、前記金属膜及び前記第１の反射防止膜をエッチングすること、を含み、前記（ｄ）における前記液体の屈折率が、１より大きく前記感光膜の屈折率と同等かそれより低い値である、ことを特徴とする。
The manufacturing method of the fine structure according to the third aspect of the present invention includes a substrate having a plurality of convex portions on at least one surface, and a plurality of smaller than each of the plurality of convex portions provided on one surface of the substrate. A microstructure manufacturing method comprising: a microprojection; (a) forming a metal film that covers the plurality of projections on the substrate; and (b) covering the metal film on the substrate. Forming a first antireflection film; (c) forming a photosensitive film covering the first antireflection film on the substrate; and (d) disposing a liquid covering the photosensitive film on the substrate. (E) a transparent substrate is disposed opposite to the substrate with the liquid interposed therebetween, and (f) interference light is generated using a laser beam, and the interference light is transmitted through the transparent substrate and the liquid. irradiating the photosensitive layer, (g) eliminating said liquid and said transparent substrate And (h) etching the metal film and the first antireflection film using the photoresist pattern formed in (g) as a mask, In (d), the liquid has a refractive index greater than 1 and equal to or lower than the refractive index of the photosensitive film.
上述した第３の態様の製造方法における（ｆ）において、複数のレーザービームを交叉させることによって干渉光を発生させることができる。また、（ｅ）において、回折格子を備えた透明基板を用い、（ｆ）において、単数のレーザービームを回折格子に入射させることによって干渉光を発生させてもよい。
In (f) in the manufacturing method of the third aspect described above, interference light can be generated by crossing a plurality of laser beams. In (e), a transparent substrate provided with a diffraction grating may be used, and in (f), interference light may be generated by causing a single laser beam to enter the diffraction grating.
また、上述した第３の態様の製造方法における（ｅ）において、透明基板に開口部を有する遮光層を形成することができる。このとき、（ｅ）において、開口部を複数形成し、（ｆ）において、透明基板の上に開口部を個々に露出させる遮蔽板を順次配置して複数の領域に前記干渉光を照射することができる。また、（ｅ）において、開口部を単数形成し、（ｆ）において、透明基板を移動させて複数の領域に干渉光を照射してもよい。
Moreover, in (e) in the manufacturing method of the 3rd aspect mentioned above, the light shielding layer which has an opening part in a transparent substrate can be formed. At this time, in (e), a plurality of openings are formed, and in (f), a shielding plate that individually exposes the openings is arranged on the transparent substrate , and the interference light is irradiated to a plurality of regions. Can do. In (e), a single opening may be formed, and in (f), the transparent substrate may be moved to irradiate a plurality of regions with interference light.
また、前記透明基板は、前記複数のレーザービームが入射する側の面上に第２の反射防止膜を有することも好ましい。それにより、空気層と透明基板との界面で生じる反射光が抑制され、露光むらをより一層低減することが可能となる。
The transparent substrate preferably has a second antireflection film on a surface on which the plurality of laser beams are incident. Thereby, the reflected light generated at the interface between the air layer and the transparent substrate is suppressed, and the exposure unevenness can be further reduced.
まず、基板２の一面に凹部３ａおよび凸部３ｂからなる回折構造部３が形成される（図６（Ａ））。本工程は、例えば周知のフォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて実現できる。具体的には、基板２の一面上に感光膜（レジスト膜等；図示せず）を形成しておき、各凹部３ａおよび凸部３ｂに対応した露光パターンを有する露光マスクを用いてこの感光膜を露光し、現像する。その後、この現像後の感光膜をエッチングマスクとして用いて、ドライエッチングまたはウェットエッチングを行う。それにより、露光マスクのパターンに対応して、基板２の一面に所定の凹凸形状が形成される。ここで、基板２は、例えば上記のように石英ガラス基板であり、その板厚は例えば１．２ｍｍである。また、凹部３ａと凸部３ｂとの段差（すなわち回折構造部３の深さ）は、例えば上記のように５７８ｎｍである。この深さｇは、エッチング時間等によって制御する。
First, the diffractive structure part 3 which consists of the recessed part 3a and the convex part 3b is formed in one surface of the board | substrate 2 (FIG. 6 (A)). This step can be realized using, for example, a well-known photolithography technique and etching technique. Specifically, a photosensitive film (resist film or the like; not shown) is formed on one surface of the substrate 2, and this photosensitive film is used using an exposure mask having an exposure pattern corresponding to each concave portion 3a and convex portion 3b. Is exposed and developed. Thereafter, dry etching or wet etching is performed using the developed photosensitive film as an etching mask. Thereby, a predetermined uneven shape is formed on one surface of the substrate 2 corresponding to the pattern of the exposure mask. Here, the board | substrate 2 is a quartz glass board | substrate as mentioned above, for example, The plate | board thickness is 1.2 mm, for example. Further, the step between the concave portion 3a and the convex portion 3b (that is, the depth of the diffractive structure portion 3) is, for example, 578 nm as described above. This depth g is controlled by the etching time or the like.
図９は、回折格子１４の拡大図である。
回折格子１４の凸部１４ａの形成方法は、例えば石英の平行平板１１の一面上に感光膜（レジスト膜等；図示せず）を形成しておき、各凸部１４ａに対応した露光パターンを有する露光マスクを用いてこの感光膜を露光し、現像する。その後、この現像後の感光膜をエッチングマスクとして用いて、ドライエッチングまたはウェットエッチングを行う。それにより、露光マスクのパターンに対応して、平行平板１１の一面に所定の凹凸形状が形成される。
FIG. 9 is an enlarged view of the diffraction grating 14.
The method of forming the convex portions 14a of the diffraction grating 14 includes, for example, forming a photosensitive film (resist film or the like; not shown) on one surface of a quartz parallel plate 11, and having an exposure pattern corresponding to each convex portion 14a. The photosensitive film is exposed and developed using an exposure mask. Thereafter, dry etching or wet etching is performed using the developed photosensitive film as an etching mask. Thereby, a predetermined uneven shape is formed on one surface of the parallel plate 11 corresponding to the pattern of the exposure mask.
次に、基板２の一面上に形成された感光膜９に対して、上述の水溶性膜１２を介してレーザー干渉露光が行われる（図１３（Ｂ））。レーザー干渉露光の諸条件は上述した通りである。上述のように２度のレーザー干渉露光を行ってもよい。
また、図１３（Ｂ）に仮想線（二点鎖線）で示すように、水溶性膜１２のレーザービームの入射側に図８〜図１２に示す回折格子１４を備えた平行平板１１を配置して、Ｌ１またはＬ２のいずれか一方のレーザービームを用いてレーザー干渉露光を行ってもよい。
Next, laser interference exposure is performed on the photosensitive film 9 formed on one surface of the substrate 2 through the above-described water-soluble film 12 (FIG. 13B). Various conditions for laser interference exposure are as described above. As described above, the laser interference exposure may be performed twice.
Further, as shown by a virtual line (two-dot chain line) in FIG . 13B, a parallel plate 11 having the diffraction grating 14 shown in FIGS . 8 to 12 is arranged on the laser beam incident side of the water-soluble film 12. Then, laser interference exposure may be performed using either the laser beam L1 or L2.
グリッド部３４は、基板３２の一面であって回折構造部３３の上面に沿って設けられている。本実施形態のグリッド部３４は、上述した回折構造部３における複数の凸部３ｂの各々よりもサイズが小さい複数の微小凸部３４ａを含む。各微小凸部３４ａは、金属材料によって構成される。本実施形態では、各微小凸部３４ａの構成材料は例えばアルミニウムである。グリッド部３４の各微小凸部３４ａは、上述した第１の実施形態における図２（Ａ）に示したものと同様に、一方向（図示のＹ方向）に延在するストライプ形状の構造体である。これらの微小凸部３４ａは、例えばＸ方向に沿って周期的に配列されている。このようなグリッド部３４は、偏光分離機能を奏する。すなわち、本実施形態の回折光学素子３１は、回折構造部３３による回折機能と、グリッド部３４による偏光分離機能とを併せ持つものである。
The grid part 34 is provided on one surface of the substrate 32 and along the upper surface of the diffraction structure part 33. Grid unit 34 of this embodiment includes a plurality of minute projections 3 4a is smaller than each of the plurality of convex portions 3b of the diffractive structure 3 described above. Each fine convex portions 3 4a is composed of a metallic material. In the present embodiment, the constituent material of the fine convex portions 3 4a is aluminum, for example. Each fine convex portions 3 4a of the grid portion 34, similar to that shown in FIG. 2 (A) in the first embodiment described above, the structure of a stripe shape extending in one direction (shown in the Y-direction) It is. These minute projections 3 4a is, for example, periodically arranged along the X direction. Such a grid portion 34 has a polarization separation function. That is, the diffractive optical element 31 of this embodiment has both a diffraction function by the diffraction structure portion 33 and a polarization separation function by the grid portion 34.
図１５は、回折構造部３３とグリッド部３４を部分的に拡大して示す模式斜視図である。一次元グリッドであるグリッド部３４の各微小凸部３４ａと回折構造部３３との配置関係の好適な態様については、上述した第１の実施形態と同様である。すなわち、回折構造部３３とグリッド部３４との相互の配置関係は、例えば図１５（Ａ）に示すような態様とすることができる。具体的には、図１５（Ａ）に示す例では、回折構造部３３の各凹部３３ａおよび各凸部３３ｂはそれぞれ図示のＹ方向に沿って延在しており、かつこれらの凹部３３ａおよび凸部３３ｂはＸ方向に沿って交互に配置されている。同様に、グリッド部３４の各微小凸部３４ａはそれぞれ図示のＹ方向に沿って延在しており、かつこれらの微小凸部３４ａはＸ方向に沿って交互に配置されている。すなわち、各凹部３３ａおよび各凸部３３ｂの延在方向と微小凸部３４ａの延在方向とが平行である。
FIG. 15 is a schematic perspective view showing the diffractive structure portion 33 and the grid portion 34 partially enlarged. For a preferred embodiment of the arrangement relation between the fine convex portions 3 4a and the diffraction structure portion 3 3 of the grid 34 is one-dimensional grid is the same as the first embodiment described above. That is, the mutual arrangement relationship between the diffractive structure portion 33 and the grid portion 34 can be, for example, as shown in FIG. Specifically, in the example shown in FIG. 15A, each concave portion 33a and each convex portion 33b of the diffractive structure portion 33 extend along the Y direction shown in the drawing, and these concave portions 33a and convex portions are formed. The portions 33b are alternately arranged along the X direction. Similarly, each minute convex part 34a of the grid part 34 extends along the Y direction shown in the drawing, and these minute convex parts 34a are alternately arranged along the X direction. That is, the extending direction of each concave portion 33a and each convex portion 33b is parallel to the extending direction of the minute convex portion 34a.
次に、基板３２の一面上に形成された感光膜３９に対して、上述の液体４０及び平行平板４１を介してレーザー干渉露光が行われる（図１６（Ｄ））。本工程の詳細は上記した第１の実施形態の場合と同様である。本工程により、感光膜３９には干渉縞のピッチに対応した潜像パターンが形成される。上述のように平行平板４１に反射防止膜４５が設けられている場合には、空気層と平行平板４１との界面で生じる反射光が抑制され、露光むらをより一層低減することが可能となる。なお、微細構造体としての回折光学素子３１に求められる精度等によってはある程度の露光むらが許容される場合も考えられ、また、平行平板４１、液体４０、感光膜３９のそれぞれの屈折率のバランスによっては空気層と平行平板４１との界面における反射光が実用上問題ない程度に抑えられる場合も考えられる。このため、平行平板４１に反射防止膜４５を設けることは必須ではない。
Next, laser interference exposure is performed on the photosensitive film 39 formed on one surface of the substrate 32 through the liquid 40 and the parallel plate 41 (FIG. 16D). The details of this step are the same as in the case of the first embodiment described above. Through this step, a latent image pattern corresponding to the pitch of the interference fringes is formed on the photosensitive film 39. When the antireflection film 45 is provided on the parallel plate 41 as described above, reflected light generated at the interface between the air layer and the parallel plate 41 is suppressed, and uneven exposure can be further reduced. . Depending on the accuracy required for the diffractive optical element 31 as a fine structure, a certain amount of exposure unevenness may be allowed, and the balance of the refractive indexes of the parallel plate 41, the liquid 40, and the photosensitive film 39 may be considered. Depending on the case, the reflected light at the interface between the air layer and the parallel plate 41 may be suppressed to a practically acceptable level. For this reason, it is not essential to provide the antireflection film 45 on the parallel plate 41.
次に、基板３２の一面上に形成された感光膜３９に対して、上述の液体１０及び平行平板１１を介してレーザー干渉露光が行われる（図１８（Ｄ））。レーザー干渉露光に用いられる光源としては、上述した製造方法と同様のものを用い、このレーザーから出力される１本のレーザービームＬ１を所定の角度で回折格子４６に入射させる。それにより、周期的な明暗からなる干渉縞を含む光（干渉光）が発生する。このような干渉光を感光膜３９に照射することにより、上述した製造方法と同様に、感光膜３９には干渉縞のピッチに対応した潜像パターンが形成される。
Next, the photosensitive film 39 formed on one surface of the substrate 3 2, a laser interference exposure through a liquid 10, and parallel flat plate 11 described above is carried out (FIG. 18 (D)). As a light source used for laser interference exposure, the same manufacturing method as described above is used, and one laser beam L1 output from this laser is incident on the diffraction grating 46 at a predetermined angle. Thereby, light (interference light) including interference fringes composed of periodic brightness and darkness is generated. By irradiating the photosensitive film 39 with such interference light, a latent image pattern corresponding to the pitch of the interference fringes is formed on the photosensitive film 39 as in the above-described manufacturing method.
まず、上記と同様に、基板３２の一面に凹部３３ａおよび凸部３３ｂからなる回折構造部３３、金属膜４３及び反射防止膜４４が形成され（図１６（Ａ）参照）この反射防止膜４４を覆う感光膜３９が形成される（図１６（Ｂ）参照）。
First, in the same manner as described above, the diffractive structure 3 3 consisting of the recess 33a and the convex portion 33b on one surface of the substrate 32, the metal film 43 and the antireflection film 44 is formed (see FIG. 16 (A)) The antireflection film 44 Is formed (see FIG. 16B).
その後、感光膜３９上に水溶性膜４２が形成される（図１９（Ａ））。水溶性膜４２の詳細については、上述した第１の実施形態の変形例における水溶性膜１２と同様である。 Thereafter, a water-soluble film 42 is formed on the photosensitive film 39 (FIG. 19A). The details of the water-soluble film 42 are the same as those of the water-soluble film 12 in the modified example of the first embodiment described above.
Claims (25)
（ａ）前記基板上に設けられた前記複数の凸部の上に感光膜を形成すること、
（ｂ）前記感光膜の上に液体を配置すること、
（ｃ）前記液体を挟んで、透明基板を前記基板と対向配置すること、
（ｄ）レーザービームを用いて干渉光を発生させ、当該干渉光を前記透明基板及び前記液体を介して前記感光膜に照射すること、
（ｅ）前記液体及び前記透明基板を排した後に、前記感光膜を現像すること、
（ｆ）前記（ｅ）によって形成された感光膜パターンをマスクとして用いて、前記基板をエッチングすること、
を含み、
前記（ｂ）における前記液体の屈折率が、１より大きく前記感光膜の屈折率と同等かそれより低い値である、
微細構造体の製造方法。 A manufacturing method of a fine structure comprising: a substrate having a plurality of convex portions on at least one surface; and a plurality of micro convex portions provided on one surface of the substrate and smaller than each of the plurality of convex portions,
(A) forming a photosensitive film on the plurality of convex portions provided on the substrate;
(B) placing the liquid on the front Symbol photosensitive film,
(C) placing a transparent substrate opposite to the substrate across the liquid;
(D) generating interference light using a laser beam and irradiating the photosensitive film with the interference light through the transparent substrate and the liquid;
(E) developing the photosensitive film after draining the liquid and the transparent substrate ;
(F) etching the substrate using the photoresist pattern formed in (e) as a mask;
Including
The refractive index of the liquid in (b) is a value larger than 1 and equal to or lower than the refractive index of the photosensitive film,
A manufacturing method of a fine structure.
前記（ｄ）において、単数の前記レーザービームを前記回折格子に入射させることによって前記干渉光を発生させる、請求項１に記載の微細構造体の製造方法。 In (c), using the transparent substrate provided with a diffraction grating,
2. The method for manufacturing a microstructure according to claim 1, wherein, in (d), the interference light is generated by causing a single laser beam to enter the diffraction grating. 3.
前記（ｄ）において、前記透明基板の上に前記開口部を個々に露出させる遮蔽板を順次配置して複数の領域に前記干渉光を照射する、請求項４に記載の微細構造体の製造方法。 In (c), a plurality of the openings are formed,
5. The method for manufacturing a microstructure according to claim 4, wherein, in (d), a shielding plate that individually exposes the openings is arranged on the transparent substrate , and the interference light is irradiated to a plurality of regions. .
前記（ｄ）において、前記透明基板を移動させて複数の領域に前記干渉光を照射する、請求項４に記載の微細構造体の製造方法。 In (c), a single opening is formed,
5. The method for manufacturing a microstructure according to claim 4, wherein, in (d), the transparent substrate is moved to irradiate a plurality of regions with the interference light. 6.
（ａ）前記基板上に設けられた前記複数の凸部の上に感光膜を形成すること、
（ｂ）前記感光膜の上に水溶性膜を形成すること、
（ｃ）レーザービームを用いて干渉光を発生させ、当該干渉光を前記水溶性膜を介して前記感光膜に照射すること、
（ｄ）前記感光膜を現像すること、
（ｅ）前記（ｄ）によって形成された感光膜パターンをマスクとして用いて、前記基板をエッチングすること、
を含み、
前記（ｂ）における前記水溶性膜の屈折率が、１より大きく前記感光膜の屈折率と同等かそれより低い値である、
微細構造体の製造方法。 A manufacturing method of a fine structure comprising: a substrate having a plurality of convex portions on at least one surface; and a plurality of micro convex portions provided on one surface of the substrate and smaller than each of the plurality of convex portions,
(A) forming a photosensitive film on the plurality of convex portions provided on the substrate;
(B) forming a water-soluble film on the photosensitive film;
(C) generating interference light using a laser beam and irradiating the photosensitive film with the interference light through the water-soluble film;
(D) developing the photosensitive film;
(E) etching the substrate using the photoresist pattern formed in (d) as a mask;
Including
The refractive index of the water-soluble film in (b) is greater than 1 and equal to or lower than the refractive index of the photosensitive film.
A manufacturing method of a fine structure.
（ａ）前記基板上に設けられた前記複数の凸部の上に金属膜を形成すること、
（ｂ）前記金属膜の上に第１の反射防止膜を形成すること、
（ｃ）前記第１の反射防止膜の上に感光膜を形成すること、
（ｄ）前記感光膜の上に液体を配置すること、
（ｅ）前記液体を挟んで、透明基板を前記基板と対向配置すること、
（ｆ）レーザービームを用いて干渉光を発生させ、当該干渉光を前記透明基板及び前記液体を介して前記感光膜に照射すること、
（ｇ）前記液体及び前記透明基板を排した後に、前記感光膜を現像すること、
（ｈ）前記（ｇ）によって形成された感光膜パターンをマスクとして用いて、前記金属膜及び前記第１の反射防止膜をエッチングすること、
を含み、
前記（ｄ）における前記液体の屈折率が、１より大きく前記感光膜の屈折率と同等かそれより低い値である、
微細構造体の製造方法。 A manufacturing method of a fine structure comprising: a substrate having a plurality of convex portions on at least one surface; and a plurality of micro convex portions provided on one surface of the substrate and smaller than each of the plurality of convex portions,
(A) forming a metal film on the plurality of convex portions provided on the substrate;
(B) forming a first antireflection film on the front Symbol metal film,
(C) forming a photosensitive layer on the front Symbol first antireflection film,
And (d) placing the liquid on the front Symbol photosensitive film,
(E) placing the transparent substrate opposite to the substrate with the liquid interposed therebetween;
(F) generating interference light using a laser beam and irradiating the photosensitive film with the interference light through the transparent substrate and the liquid;
(G) developing the photosensitive film after removing the liquid and the transparent substrate ;
(H) etching the metal film and the first antireflection film using the photoresist pattern formed in (g) as a mask;
Including
The refractive index of the liquid in (d) is a value greater than 1 and equal to or lower than the refractive index of the photosensitive film.
A manufacturing method of a fine structure.
前記（ｆ）において、単数の前記レーザービームを前記回折格子に入射させることによって前記干渉光を発生させる、請求項１３に記載の微細構造体の製造方法。 In (e), using the transparent substrate provided with a diffraction grating,
14. The method for manufacturing a microstructure according to claim 13, wherein in (f), the interference light is generated by causing a single laser beam to enter the diffraction grating.
前記（ｆ）において、前記透明基板の上に前記開口部を個々に露出させる遮蔽板を順次配置して複数の領域に前記干渉光を照射する、請求項１６に記載の微細構造体の製造方法。 In (e), a plurality of the openings are formed,
The method of manufacturing a microstructure according to claim 16, wherein in (f), a shielding plate that individually exposes the openings is arranged on the transparent substrate and the interference light is irradiated to a plurality of regions. .
前記（ｆ）において、前記透明基板を移動させて複数の領域に前記干渉光を照射する、請求項１６に記載の微細構造体の製造方法。 In (e), a single opening is formed,
The method of manufacturing a microstructure according to claim 16, wherein in (f), the transparent substrate is moved to irradiate a plurality of regions with the interference light.
（ａ）前記基板上に設けられた前記複数の凸部の上に金属膜を形成すること、
（ｂ）前記金属膜の上に第１の反射防止膜を形成すること、
（ｃ）前記第１の反射防止膜の上に感光膜を形成すること、
（ｄ）前記感光膜の上に水溶性膜を形成すること、
（ｅ）レーザービームを用いて干渉光を発生させ、当該干渉光を前記水溶性膜を介して前記感光膜に照射すること、
（ｆ）前記感光膜を現像すること、
（ｇ）前記（ｆ）によって形成された感光膜パターンをマスクとして用いて、前記金属膜及び前記第１の反射防止膜をエッチングすること、
を含み、
前記（ｄ）における前記水溶性膜の屈折率が、１より大きく前記感光膜の屈折率と同等かそれより低い値である、
微細構造体の製造方法。 A manufacturing method of a fine structure comprising: a substrate having a plurality of convex portions on at least one surface; and a plurality of micro convex portions provided on one surface of the substrate and smaller than each of the plurality of convex portions,
(A) forming a metal film on the plurality of convex portions provided on the substrate;
(B) forming a first antireflection film on the metal film;
(C) forming a photosensitive layer on the front Symbol first antireflection film,
And (d) forming a water-soluble film on the front Symbol photosensitive film,
(E) generating interference light using a laser beam and irradiating the photosensitive film with the interference light through the water-soluble film;
(F) developing the photosensitive film;
(G) etching the metal film and the first antireflection film using the photoresist pattern formed in (f) as a mask;
Including
The refractive index of the water-soluble film in (d) is greater than 1 and equal to or lower than the refractive index of the photosensitive film.
A manufacturing method of a fine structure.
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