JP2009170785A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device Download PDF

Info

Publication number
JP2009170785A
JP2009170785A JP2008009421A JP2008009421A JP2009170785A JP 2009170785 A JP2009170785 A JP 2009170785A JP 2008009421 A JP2008009421 A JP 2008009421A JP 2008009421 A JP2008009421 A JP 2008009421A JP 2009170785 A JP2009170785 A JP 2009170785A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
semiconductor device
converter
image processor
analog
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008009421A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Murasawa
靖博 村沢
Kazushi Hatauchi
和士 畑内
Masahide Kataoka
正英 片岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Technology Corp
Original Assignee
Renesas Technology Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Technology Corp filed Critical Renesas Technology Corp
Priority to JP2008009421A priority Critical patent/JP2009170785A/en
Publication of JP2009170785A publication Critical patent/JP2009170785A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/48137Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1306Field-effect transistor [FET]
    • H01L2924/13091Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which is made compact and stably operates. <P>SOLUTION: The semiconductor device is a semiconductor device having a plurality of chips sealed in one package, and includes a die pad 500, an A/D converter 100 which is mounted on the die pad 500 and has a circuit for conversion from an analog signal to a digital signal, an image processor 200 which is mounted on the die pad 500 and has a circuit for processing at least the digital signal, a wire 700B connecting the A/D converter 100 and image processor 200 to each other to transmit the digital signal between the A/D converter 100 and image processor 200, and a sealing resin 900 sealing the A/D converter 100 mounted on the die pad 500 and an MCU 200. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体装置に関し、特に、複数のLSIチップを1つのパッケージ内に封止してSiP(System in Package)化した半導体装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device in which a plurality of LSI chips are sealed in one package to form a SiP (System in Package).

特開平11−340421号公報(特許文献1)には、ロジックチップとメモリチップとの互いに対向する辺に沿って、それぞれの入出力端子が互いに対向する位置に並べて設けられたLSIデバイスが記載されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-340421 (Patent Document 1) describes an LSI device in which input / output terminals are arranged side by side along opposite sides of a logic chip and a memory chip. ing.

また、特開平6−232196号公報(特許文献2)には、アイランドに搭載されたメインチップとサブチップとの互いに対向する辺上にそれぞれ位置するパッドがワイヤを介して接続された半導体装置が記載されている。   Japanese Patent Laid-Open No. 6-232196 (Patent Document 2) describes a semiconductor device in which pads located on opposite sides of a main chip and a sub chip mounted on an island are connected via wires. Has been.

また、特開平8−288453号公報(特許文献3)には、配線基盤に搭載された第1の半導体チップと、第2,第3の半導体チップとの互いに対向する辺上にそれぞれ設けられたパッドがワイヤを介して接続された半導体装置が記載されている。   Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 8-288453 (Patent Document 3), the first semiconductor chip mounted on the wiring board and the second and third semiconductor chips are provided on opposite sides, respectively. A semiconductor device in which pads are connected via wires is described.

また、特開平5−114693号公報(特許文献4)には、ベッドに搭載された複数の半導体チップの互いに対向する辺上にそれぞれ設けられたパッドがボンディングワイヤを介して接続された半導体装置が記載されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-114693 (Patent Document 4) discloses a semiconductor device in which pads provided on opposite sides of a plurality of semiconductor chips mounted on a bed are connected via bonding wires. Are listed.

また、特開平10−93009号公報(特許文献5)には、MCM基板に搭載された2つのベアチップLSIにおける互いに隣接するそれぞれのパッドをボンディングワイヤを介して接続した半導体チップモジュールが記載されている。   Japanese Laid-Open Patent Publication No. 10-93009 (Patent Document 5) describes a semiconductor chip module in which pads adjacent to each other in two bare chip LSIs mounted on an MCM substrate are connected via bonding wires. .

また、特開平6−61406号公報(特許文献6)には、リードフレームのアイランドに搭載された2つのチップの互いに対向する辺上に位置する電極どうしを接続リードによって接続した半導体装置が記載されている。   Japanese Laid-Open Patent Publication No. 6-61406 (Patent Document 6) describes a semiconductor device in which electrodes located on opposite sides of two chips mounted on an island of a lead frame are connected by connection leads. ing.

また、特開2007−318060号公報(特許文献7)には、SiP(System in Package)型の半導体装置において、デジタルチップからアナログチップへのデジタルノイズの影響を低減するため、デジタルチップとアナログチップとを同一平面上に平置きする構造が取られることが多いと記載されている。   Japanese Patent Laid-Open No. 2007-318060 (Patent Document 7) discloses a digital chip and an analog chip in an SiP (System in Package) type semiconductor device in order to reduce the influence of digital noise from the digital chip to the analog chip. It is described that a structure is often taken on the same plane.

また、特開2003−124236号公報(特許文献8)には、同一パッケージ内にアナログ素子とデジタル素子とを収めるスタックパッケージにおいて、アナログ素子とデジタル素子との間の電磁波ノイズの干渉を低減させるため、アナログ素子とデジタル素子とを接着するための接着材料として、接着性を有する有機材料と軟磁性材料を含む複合材料からなる材料を用いることが記載されている。
特開平11−340421号公報 特開平6−232196号公報 特開平8−288453号公報 特開平5−114693号公報 特開平10−93009号公報 特開平6−61406号公報 特開2007−318060号公報 特開2003−124236号公報
Japanese Patent Laying-Open No. 2003-124236 (Patent Document 8) discloses a technique for reducing interference of electromagnetic wave noise between an analog element and a digital element in a stack package in which the analog element and the digital element are accommodated in the same package. In addition, it is described that a material made of a composite material including an organic material having adhesiveness and a soft magnetic material is used as an adhesive material for bonding an analog element and a digital element.
Japanese Patent Laid-Open No. 11-340421 JP-A-6-232196 JP-A-8-288453 Japanese Patent Laid-Open No. 5-114693 JP 10-93009 A JP-A-6-61406 JP 2007-318060 A JP 2003-124236 A

アナログ信号を扱う回路(アナログ回路)とデジタル信号を扱う回路(デジタル回路)を一つのパッケージ内に収納して半導体装置を構成することにより半導体装置の小型化を図ることができる。   A semiconductor device can be reduced in size by housing a circuit that handles analog signals (analog circuit) and a circuit that handles digital signals (digital circuit) in one package.

しかしながら、半導体装置のサイズ及び動作信頼性を考慮した上で、アナログ回路とデジタル回路とをどのような形態でもって一つのパッケージ内に収納することが最適であるかこれまで十分な検討はされていない。   However, in consideration of the size and operation reliability of the semiconductor device, it has been sufficiently studied so far whether it is optimal to store the analog circuit and the digital circuit in one package in any form. Absent.

本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、小型化され、かつ、安定的に動作する半導体装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor device that is downsized and operates stably.

本発明の実施の形態に係る半導体装置は、複数のチップを1つのパッケージ内に封止した半導体装置であって、基材と、基材に搭載され、アナログ回路が形成された第1のチップと、基材に搭載され、少なくともデジタル回路が形成され、第1のチップを構成するトランジスタよりも小さい線幅のトランジスタで構成された第2のチップと、第1のチップと第2のチップとを接続し、第1のチップと第2のチップとの間でデジタル信号を伝達する接続部と、基材に搭載された第1のチップおよび第2のチップを封止する封止部とを備える。   A semiconductor device according to an embodiment of the present invention is a semiconductor device in which a plurality of chips are sealed in one package, and is a first chip mounted on a base material and formed with an analog circuit. A second chip that is mounted on a base material, at least a digital circuit is formed, and that is configured with transistors having a line width smaller than that of the transistors that configure the first chip, and the first chip and the second chip A connecting portion for transmitting a digital signal between the first chip and the second chip, and a sealing portion for sealing the first chip and the second chip mounted on the substrate Prepare.

デジタル回路は、多機能化に伴ってトランジスタ数が増大する傾向にある。デジタル信号を処理する回路を集積する半導体チップはトランジスタ微細化技術とともにそのチップサイズを縮小することができる。アナログ回路は、アナログ信号を扱うという性質上ノイズに影響されやすく、特にトランジスタが微細化されるほどその傾向にあり、アナログ回路の動作の信頼性を損なう。しかしながらアナログ回路はデジタル回路ほど多機能化が要求されないためトランジスタの数は少ない。   In digital circuits, the number of transistors tends to increase as the number of functions increases. A semiconductor chip on which a circuit for processing a digital signal is integrated can be reduced in size along with transistor miniaturization technology. An analog circuit is easily affected by noise due to the nature of handling an analog signal, and in particular, as the transistor becomes finer, the tendency of the analog circuit is impaired, and the reliability of the operation of the analog circuit is impaired. However, the number of transistors is small because analog circuits are not required to have more functions than digital circuits.

従って、アナログ回路とデジタル回路とを一つの半導体チップで構成するのではなく、
それぞれ別々の第1及び第2の半導体チップで構成し、当該第1及び第2の半導体チップを樹脂で封止するSiP構造とし、第1の半導体チップを構成するトランジスタよりも小さい線幅のトランジスタにより第2の半導体チップを構成することにより、第2の半導体チップはチップサイズを小さくできる一方、第1のチップはその安定的な動作が保証されるとともにチップサイズも抑えることができる。したがって、この実施の形態によれば、小型化され、かつ、安定的に動作する半導体装置を提供することができる。
Therefore, instead of configuring the analog circuit and the digital circuit with one semiconductor chip,
Transistors each composed of separate first and second semiconductor chips, having a SiP structure in which the first and second semiconductor chips are sealed with resin, and having a smaller line width than the transistors constituting the first semiconductor chip Thus, by configuring the second semiconductor chip, the second semiconductor chip can be reduced in chip size, while the first chip can guarantee its stable operation and can also suppress the chip size. Therefore, according to this embodiment, it is possible to provide a semiconductor device that is downsized and operates stably.

以下に、本発明の実施の形態について説明する。なお、同一または相当する部分に同一の参照符号を付し、その説明を繰返さない場合がある。   Embodiments of the present invention will be described below. Note that the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and the description thereof may not be repeated.

なお、以下に説明する実施の形態において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。また、以下の実施の形態において、各々の構成要素は、特に記載がある場合を除き、本発明にとって必ずしも必須のものではない。また、以下に複数の実施の形態が存在する場合、特に記載がある場合を除き、各々の実施の形態の構成を適宜組合わせることは、当初から予定されている。   Note that in the embodiments described below, when referring to the number, amount, and the like, the scope of the present invention is not necessarily limited to the number, amount, and the like unless otherwise specified. In the following embodiments, each component is not necessarily essential for the present invention unless otherwise specified. In addition, when there are a plurality of embodiments below, it is planned from the beginning to appropriately combine the configurations of the embodiments unless otherwise specified.

図1は、本発明の1つの実施の形態に係る半導体装置を含む画像表示装置の概略的な構成を示すブロック図である。図1を参照して、本実施の形態に係る画像表示装置1は、たとえば液晶表示装置(LCD:Liquid Crystal Display)であって、A/Dコンバータ(Analog-to-Digital Converter)100と、CPU(Central Processing Unit)を含んだ画像プロセッサ200と、タイミングコントローラ300と、LCDドライバ350と、DRAM400と、不揮発性メモリ(フラッシュメモリ)450とを含んで構成され、各々は一つの半導体チップにより実現される。   FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of an image display apparatus including a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, an image display device 1 according to the present embodiment is, for example, a liquid crystal display (LCD), and includes an A / D converter (Analog-to-Digital Converter) 100 and a CPU. An image processor 200 including a (Central Processing Unit), a timing controller 300, an LCD driver 350, a DRAM 400, and a nonvolatile memory (flash memory) 450, each of which is realized by a single semiconductor chip. The

A/Dコンバータ100は、アナログ電気信号をデジタル電気信号に変換するアナログ−デジタル変換回路を有する。A/Dコンバータ100には、アナログ信号である画像信号が入力される(図1中の矢印A)。A/Dコンバータ100は、入力されたアナログ信号をデジタル信号に変換し、デジタル信号となった画像信号を画像プロセッサ200に対して出力する(図1中の矢印B)。画像プロセッサ200とA/Dコンバータ100との間でアナログ信号のやりとりはない。   The A / D converter 100 includes an analog-digital conversion circuit that converts an analog electric signal into a digital electric signal. An image signal which is an analog signal is input to the A / D converter 100 (arrow A in FIG. 1). The A / D converter 100 converts the input analog signal into a digital signal, and outputs the digital image signal to the image processor 200 (arrow B in FIG. 1). There is no exchange of analog signals between the image processor 200 and the A / D converter 100.

画像プロセッサ200は、論理回路を有し、入力されたデジタル信号に対して各種のロジック処理を行なう。ここで行なわれる処理としては、たとえば、YC分離、IP(Interlace/Progressive)変換、NR(noise reduction)などが挙げられる。なお、YC分離とは、映像信号に含まれる輝度信号(Y信号)と色信号(C信号)とを分離することを意味し、IP変換とは、インターレース方式の信号をプログレッシブ方式の表示装置に適した信号に変換することを意味し、NCとは、音声データを分析してノイズの成分をカットすることを意味する。   The image processor 200 includes a logic circuit and performs various logic processes on the input digital signal. Examples of processing performed here include YC separation, IP (Interlace / Progressive) conversion, NR (noise reduction), and the like. Note that YC separation means that a luminance signal (Y signal) and a color signal (C signal) included in a video signal are separated, and IP conversion means that an interlace signal is applied to a progressive display device. It means that the signal is converted into a suitable signal, and NC means that the sound data is analyzed and noise components are cut.

画像プロセッサ200は、A/Dコンバータ100から入力されたデジタル信号に対して上述した処理を含む各種の処理を行ない、当該処理済のデジタル信号をタイミングコントローラ300に対して出力する(図1中の矢印C1)。タイミングコントローラ300は画像を表示するディスプレイへの画像信号を出力するタイミングを制御する。LCDドライバ350がタイミングコントローラ300からタイミング制御された画像信号を受けてディスプレイ上に画像を表示させる。   The image processor 200 performs various processes including the above-described processes on the digital signal input from the A / D converter 100, and outputs the processed digital signal to the timing controller 300 (in FIG. 1). Arrow C1). The timing controller 300 controls the timing of outputting an image signal to a display that displays an image. The LCD driver 350 receives an image signal whose timing is controlled from the timing controller 300 and displays an image on the display.

DRAM400は、画像プロセッサ200に接続されている。DRAM400は、画像プロセッサ200がA/Dコンバータ100から受信したデジタル信号のデータ及び処理されたデジタル信号のデータを一時的に蓄えることが可能なバッファメモリである。画像プロセッサ200とDRAM400との間では、デジタル信号の双方向のやり取りが行なわれる(図1中の矢印D)。不揮発性メモリ450には種々のコードが格納されており、画像プロセッサ200が不揮発性メモリ450からコードを読み出し(図1中の矢印C2)、該コードを実行する。なお図示しないが、画像プロセッサ200とそれに接続される他の3チップ各々との間ではその他種々の制御信号がやりとりされる。   The DRAM 400 is connected to the image processor 200. The DRAM 400 is a buffer memory that can temporarily store digital signal data and processed digital signal data received by the image processor 200 from the A / D converter 100. Bidirectional digital signals are exchanged between the image processor 200 and the DRAM 400 (arrow D in FIG. 1). Various codes are stored in the nonvolatile memory 450, and the image processor 200 reads the codes from the nonvolatile memory 450 (arrow C2 in FIG. 1) and executes the codes. Although not shown, various other control signals are exchanged between the image processor 200 and each of the other three chips connected thereto.

本実施の形態にかかる半導体装置は、図1に示すA/Dコンバータ100、画像プロセッサ200及びDRAM400の3つの半導体チップを一括して樹脂封止し、一つのパッケージとして構成されたSiP(System in Package)構造を有する。   In the semiconductor device according to the present embodiment, three semiconductor chips of the A / D converter 100, the image processor 200, and the DRAM 400 shown in FIG. Package) structure.

図2は、該半導体装置の外観を示す上面図、図3は半導体装置内の各半導体チップの配置及び各半導体チップが接続されるボンディングワイヤの接続を示す概略図である。図4は半導体チップの配置とともに、半導体装置内のリードフレームの一部を示す上面図である。図5は、図2及び図4におけるV−V断面図である。   FIG. 2 is a top view showing the appearance of the semiconductor device, and FIG. 3 is a schematic diagram showing the arrangement of semiconductor chips in the semiconductor device and the connection of bonding wires to which the semiconductor chips are connected. FIG. 4 is a top view showing a part of the lead frame in the semiconductor device together with the arrangement of the semiconductor chips. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line VV in FIGS. 2 and 4.

図2を参照して、本実施の形態に係る半導体装置は、封止樹脂900で封止された本体の4辺に沿って配列し先端がガルウィング状の外部端子800A、800Cが設けられた、いわゆるQFP(Quad Flat Package)タイプのパッケージをなす。   Referring to FIG. 2, the semiconductor device according to the present embodiment is provided with external terminals 800A and 800C arranged along the four sides of the main body sealed with sealing resin 900 and having gull-wing-shaped tips. This is a so-called QFP (Quad Flat Package) type package.

後述するように、A/Dコンバータ100と外部との接続は、装置の一辺に集約して設けた外部端子800Aで行い、その他の3辺に設けられた外部端子800Cが、画像プロセッサ200と外部との接続に用いられる。   As will be described later, the connection between the A / D converter 100 and the outside is performed by an external terminal 800A provided on one side of the apparatus, and the external terminal 800C provided on the other three sides is connected to the image processor 200 and the outside. Used to connect to.

図3〜図5を参照して、本実施の形態に係る半導体装置は、A/Dコンバータ100(アナログチップ)と、A/Dコンバータ100よりチップ面積の大きい画像プロセッサ200(デジタルチップ)と、画像プロセッサ200上に積層配置され、ワイヤ700Dを介して画像プロセッサ200と接続されるDRAM400(バッファ部)とを含む。本半導体装置に使用されるリードフレームは、たとえば銅などの導電体により形成される。リードフレームは、A/Dコンバータ100および画像プロセッサ200がそれぞれ搭載される2つのダイパッド500(基材)と、これらダイパッドどうしを連結する連結部520と、ダイパッド500に接続し半導体装置外形の4つのコーナに向かってそれぞれ延びる4本の吊りリード510A〜510Dと、3つの吊りリード510A,510C,510Dの隣接する2本の吊りリード間に接続された3本のグランドバーGND2と、A/Dコンバータ100−画像プロセッサ200間を接続し、A/Dコンバータ100と画像プロセッサ200との間でデジタル信号を伝達するワイヤ700B(接続部)と、ワイヤ700A,700Cを介してA/Dコンバータ100および画像プロセッサ200とそれぞれ接続される外部端子800A,800C(図4においては、外部端子にそれぞれ繋がる封止樹脂内のインナーリード部分を示す)とを有する。半導体装置においては、ダイパッド500、吊りリード510A〜510D、連結部520及びグランドバーGND2は一体に形成されている。   3 to 5, a semiconductor device according to the present embodiment includes an A / D converter 100 (analog chip), an image processor 200 (digital chip) having a chip area larger than that of the A / D converter 100, It includes a DRAM 400 (buffer unit) that is stacked on the image processor 200 and connected to the image processor 200 via a wire 700D. The lead frame used in the present semiconductor device is formed of a conductor such as copper, for example. The lead frame includes two die pads 500 (base material) on which the A / D converter 100 and the image processor 200 are respectively mounted, a connecting portion 520 that connects these die pads, and four outer parts of the semiconductor device that are connected to the die pad 500. Four suspension leads 510A to 510D each extending toward the corner, three ground bars GND2 connected between two suspension leads adjacent to the three suspension leads 510A, 510C, 510D, and an A / D converter 100-the image processor 200 is connected, and a wire 700B (connection unit) that transmits a digital signal between the A / D converter 100 and the image processor 200, and the A / D converter 100 and the image via the wires 700A and 700C. External terminals 80 respectively connected to the processor 200 A, (in Fig. 4, it shows the inner lead portions within the encapsulating resin connected respectively to external terminals) 800C and a. In the semiconductor device, the die pad 500, the suspension leads 510A to 510D, the connecting portion 520, and the ground bar GND2 are integrally formed.

そして半導体装置は、リードフレームの外部端子部分を除いたリードフレームの部分と、A/Dコンバータ100と、画像プロセッサ200と、DRAM300とを封止する封止樹脂900(封止部)とを含んで構成される。   The semiconductor device includes a lead frame portion excluding the external terminal portion of the lead frame, a sealing resin 900 (sealing portion) that seals the A / D converter 100, the image processor 200, and the DRAM 300. Consists of.

本実施の形態では、A/Dコンバータ100と画像プロセッサ200とは、互いに異なるプロセス・ルール(MOSトランジスタの線幅の大小。具体的にはMOSトランジスタのゲート幅の大小。)で製造されている。具体的には、アナログチップであるA/Dコンバータ100は、180nmプロセスで製造され、デジタルチップである画像プロセッサ200は、A/Dコンバータ100より小さい90nmプロセスで製造されている。すなわち、デジタルチップはアナログチップに対して微細なプロセス・ルールで製造されている。デジタルチップは多機能なロジック信号の処理を行うためトランジスタ数はアナログチップよりも多い。したがって、デジタルチップを微細なプロセスで製造することにより、半導体装置の小型化を図ることができる。他方、アナログチップはアナログ信号を扱うため、微細化に対しデジタルチップより動作信頼性が厳しい。よって、アナログチップにおいては、デジタルチップに対して大きめのプロセス・ルールを適用することで、半導体装置のより安定的な動作を確保することができる。しかも、アナログチップはロジックチップよりもトランジスタ数は少ないため、半導体装置の小型化を阻害するほどチップは大きくならない。なお、アナログチップとデジタルチップとは、同じプロセス・ルールで製造されてもよい。   In this embodiment, the A / D converter 100 and the image processor 200 are manufactured with different process rules (line width of the MOS transistor, specifically, the gate width of the MOS transistor). . Specifically, the A / D converter 100 that is an analog chip is manufactured by a 180 nm process, and the image processor 200 that is a digital chip is manufactured by a 90 nm process smaller than the A / D converter 100. In other words, digital chips are manufactured with finer process rules than analog chips. Since a digital chip processes multifunctional logic signals, the number of transistors is larger than that of an analog chip. Therefore, the semiconductor device can be miniaturized by manufacturing the digital chip by a fine process. On the other hand, an analog chip handles analog signals, so that operation reliability is stricter than a digital chip for miniaturization. Therefore, in an analog chip, a more stable operation of a semiconductor device can be ensured by applying a larger process rule to a digital chip. Moreover, since the analog chip has fewer transistors than the logic chip, the chip does not become so large as to hinder downsizing of the semiconductor device. The analog chip and the digital chip may be manufactured according to the same process rule.

本実施の形態に係る半導体装置は不揮発性メモリ450とともに液晶表示装置内の実装ボードに搭載される。本実施の形態では、複数のチップをSiP化して半導体装置を構成することにより、当該半導体装置の実装ボードへの実装が容易になるとともに、半導体装置自体を小型化することができる。なおタイミングコントローラ300及びLCDドライバ350は液晶パネルに実装されるのが通常である。   The semiconductor device according to the present embodiment is mounted on a mounting board in the liquid crystal display device together with the nonvolatile memory 450. In this embodiment, by forming a semiconductor device by forming a plurality of chips into SiP, the semiconductor device can be easily mounted on a mounting board and the semiconductor device itself can be downsized. The timing controller 300 and the LCD driver 350 are usually mounted on a liquid crystal panel.

図4に示すように、A/Dコンバータ100は、略4角形形状を有し、互いに対向する2辺(図4中の左右に位置する辺)の近傍に位置する領域に、パッド部110A,110Bを有する。画像プロセッサ200は、A/Dコンバータ100と同様に略4角形形状を有する。画像プロセッサ200は、A/Dコンバータ100と同一平面上に位置するようにリードフレーム500上に搭載される。すなわち、本実施の形態に係る半導体装置は、A/Dコンバータ100と画像プロセッサ200とがリードフレーム500の主表面方向に並ぶように配置された構造(「平置き」構造)を有している。画像プロセッサ200は、A/Dコンバータ100に対向する辺(図4中の左側に位置する辺)の近傍に位置する領域に、パッド部210Bを有し、同辺の近傍であってパッド部21Bの両端の領域とその他の3辺の近傍に位置する領域に、パッド部210Cを有する。また、DRAM400は、A/Dコンバータ100および画像プロセッサ200と同様に、略4角形形状を有し、1辺(図4の例では、右側に位置する辺)の近傍に位置する領域にパッド410Dを有する。また、画像プロセッサ200は、パッド410Dと対向する部分に、パッド210Dを有する。各々のパッド部には、それぞれ複数のパッドが形成されている。   As shown in FIG. 4, the A / D converter 100 has a substantially quadrangular shape, and the pad portions 110 </ b> A, 110 </ b> A are arranged in areas near two opposite sides (sides located on the left and right in FIG. 4). 110B. Similar to the A / D converter 100, the image processor 200 has a substantially quadrangular shape. The image processor 200 is mounted on the lead frame 500 so as to be positioned on the same plane as the A / D converter 100. That is, the semiconductor device according to the present embodiment has a structure (“flat placement” structure) in which A / D converter 100 and image processor 200 are arranged in the main surface direction of lead frame 500. . The image processor 200 has a pad portion 210B in a region located in the vicinity of the side facing the A / D converter 100 (the side located on the left side in FIG. 4), and is in the vicinity of the side and the pad portion 21B. A pad portion 210C is provided in a region located in the vicinity of the other two sides and the other three sides. The DRAM 400, like the A / D converter 100 and the image processor 200, has a substantially quadrangular shape and has a pad 410D in an area located near one side (the side located on the right side in the example of FIG. 4). Have Further, the image processor 200 has a pad 210D at a portion facing the pad 410D. Each pad portion is formed with a plurality of pads.

A/Dコンバータ100と各々の外部端子800Aとを接続するワイヤ700A(図4参照)は、パッド部110AにおいてA/Dコンバータ100と接続される。ワイヤ700Aは、外部端子800Aから入力されるアナログ画像信号を、パッド部110Aを介してA/Dコンバータ100に伝達する。   A wire 700A (see FIG. 4) that connects the A / D converter 100 and each external terminal 800A is connected to the A / D converter 100 in the pad portion 110A. The wire 700A transmits an analog image signal input from the external terminal 800A to the A / D converter 100 via the pad unit 110A.

A/Dコンバータ100と画像プロセッサ200とを接続するワイヤ700B(図4参照)は、パッド部110BにおいてA/Dコンバータ100と接続され、パッド部210Bにおいて画像プロセッサ200に接続される。ワイヤ700Bは、パッド部110Bを介してA/Dコンバータ100から出力されるデジタル画像信号を、パッド部210Bを介して画像プロセッサ200に伝達する。   A wire 700B (see FIG. 4) that connects the A / D converter 100 and the image processor 200 is connected to the A / D converter 100 in the pad portion 110B, and is connected to the image processor 200 in the pad portion 210B. The wire 700B transmits a digital image signal output from the A / D converter 100 via the pad unit 110B to the image processor 200 via the pad unit 210B.

画像プロセッサ200と各々の外部端子800Cとを接続するワイヤ700C(図4参照)は、パッド部210Cにおいて画像プロセッサ200と接続される。ワイヤ700Cは、パッド210Dを介して画像プロセッサ200から出力される各種処理済のデジタル画像信号を、外部端子800Cに伝達する。   A wire 700C (see FIG. 4) that connects the image processor 200 and each external terminal 800C is connected to the image processor 200 at the pad portion 210C. The wire 700C transmits various processed digital image signals output from the image processor 200 via the pad 210D to the external terminal 800C.

画像プロセッサ200とDRAM400とを接続するワイヤ700D(図5参照)は、パッド部210Dにおいて画像プロセッサ200と接続され、パッド部410Dを介してDRAM400と接続される。ワイヤ700Dは、画像プロセッサ200とDRAM400との間で双方向にやり取りされるデータの伝達を担う。   A wire 700D (see FIG. 5) that connects the image processor 200 and the DRAM 400 is connected to the image processor 200 in the pad portion 210D, and is connected to the DRAM 400 via the pad portion 410D. The wire 700D is responsible for transmission of data exchanged bidirectionally between the image processor 200 and the DRAM 400.

図4において、各々の外部端子800A,800Cの先端側及びグランドバーGND2の斜線でハッチングされた部分には、メッキ部810が形成されている。なお、図示の便宜上、1つの外部端子800Cにおけるメッキ部810のみを示しているが、その他の外部端子800A,800Cにおいても、同様のメッキ部810が形成される。   In FIG. 4, a plated portion 810 is formed on the tip side of each external terminal 800 </ b> A, 800 </ b> C and the hatched portion of the ground bar GND <b> 2. For convenience of illustration, only the plating portion 810 in one external terminal 800C is shown, but the same plating portion 810 is formed in the other external terminals 800A and 800C.

図4に示すように、アナログ画像信号用の複数の外部端子800Aに挟まれるように、接地線用端子GND1および電源線用端子Vdd1が設けられている。A/Dコンバータ100は、ワイヤを介して接地線用端子GND1および電源線用端子Vdd1と接続されている。また、図4,図5に示すように、ダイパッド500とデジタル画像信号用の複数の外部端子800Cとの間には、接地線用端子GND2および電源線用端子Vdd2が設けられている。画像プロセッサ200は、ワイヤを介して接地線用端子GND2および電源線用端子Vdd2と接続されている。   As shown in FIG. 4, a ground line terminal GND1 and a power line terminal Vdd1 are provided so as to be sandwiched between a plurality of external terminals 800A for analog image signals. The A / D converter 100 is connected to the ground line terminal GND1 and the power line terminal Vdd1 through wires. As shown in FIGS. 4 and 5, a ground line terminal GND2 and a power line terminal Vdd2 are provided between the die pad 500 and a plurality of external terminals 800C for digital image signals. The image processor 200 is connected to the ground line terminal GND2 and the power line terminal Vdd2 via wires.

またインナーリード(外部端子)の先端は、全体として、略8角形形状に配列され、半導体A/Dコンバータ100及び画像プロセッサ200は、外部端子800A,800Cによって取り囲まれている。ここで、図4中の左側に位置する略8角形の2辺には、A/Dコンバータ100に対してアナログ画像信号を入力するための外部端子800Aが集中的に配置されている。他方、図4中の上側、下側および右側に位置する残り6辺には、画像プロセッサ200からデジタル画像信号の出力を含めて装置外部とのデジタル信号のやりとりをするための外部端子800Cが集中的に配置されている。このように、本実施の形態に係る半導体装置では、アナログ信号を入力するための外部端子800Aが形成される領域と、デジタル信号を出力するための外部端子800Cが形成される領域とが、分離して形成されている。このようにすることで、デジタル信号に含まれるデジタルノイズがアナログ信号に影響を与えることを抑制することができる。   The tips of the inner leads (external terminals) are arranged in an approximately octagonal shape as a whole, and the semiconductor A / D converter 100 and the image processor 200 are surrounded by the external terminals 800A and 800C. Here, external terminals 800A for inputting analog image signals to the A / D converter 100 are intensively arranged on two sides of the substantially octagon located on the left side in FIG. On the other hand, external terminals 800C for exchanging digital signals with the outside of the apparatus including the output of digital image signals from the image processor 200 are concentrated on the remaining six sides located on the upper side, lower side and right side in FIG. Are arranged. As described above, in the semiconductor device according to the present embodiment, the region where the external terminal 800A for inputting an analog signal is formed is separated from the region where the external terminal 800C for outputting a digital signal is formed. Is formed. By doing in this way, it can suppress that the digital noise contained in a digital signal influences an analog signal.

2つの半導体チップ(A/Dコンバータ100及び画像プロセッサ200)を平置き構造のSiPとする場合、本実施の形態においては、各半導体チップが接合されるダイパッドの接合部分の面積が上面からみた当該半導体チップ全体の面積よりも小さいダイパッドを採用している。   When two semiconductor chips (A / D converter 100 and image processor 200) are SiPs having a flat structure, in this embodiment, the area of the bonding portion of the die pad to which each semiconductor chip is bonded is viewed from above. A die pad smaller than the entire area of the semiconductor chip is employed.

A/Dコンバータ100が搭載されるダイパッド500は、A/Dコンバータ100の一辺(図では長辺方向)と同じ方向の幅W1をもつ部分を有する。画像プロセッサ200が搭載されるダイパッド500は、幅W1と同じ方向であって画像プロセッサ200の一辺(図では長辺方向)と同じ方向の幅W2をもつ部分を有する。連結部520はA/Dコンバータ100及び画像プロセッサ200が接合されない部分において幅W1,W2と同じ方向の幅W3をもつ。幅W3は幅W1及びW2よりも短い。   The die pad 500 on which the A / D converter 100 is mounted has a portion having a width W1 in the same direction as one side of the A / D converter 100 (long side direction in the figure). The die pad 500 on which the image processor 200 is mounted has a portion having a width W2 in the same direction as the width W1 and in the same direction as one side (long side direction in the figure) of the image processor 200. The connecting portion 520 has a width W3 in the same direction as the widths W1 and W2 in a portion where the A / D converter 100 and the image processor 200 are not joined. The width W3 is shorter than the widths W1 and W2.

A/Dコンバータ100が搭載されるダイパッド500は、一本の連結部520と2本の吊りリード510A,510Bとにより3点で支持される形状をなし、画像プロセッサ200が搭載されるダイパッド500は、一本の連結部520と2本の吊りリード510C,510Dとにより3点で支持される形状をなしている。   The die pad 500 on which the A / D converter 100 is mounted has a shape that is supported at three points by one connecting portion 520 and two suspension leads 510A and 510B, and the die pad 500 on which the image processor 200 is mounted is The connecting portion 520 and the two suspension leads 510C and 510D form a shape supported at three points.

また、本実施の形態では、A/Dコンバータ100と画像プロセッサ200とがリードフレーム500の主表面方向に並ぶように配置された「平置き」構造を例示したが、本発明の範囲はこれに限定されず、デジタルノイズの影響を許容する程度にアナログ信号を転送するワイヤとデジタル信号を転送するワイヤとを離間する限りにおいては、A/Dコンバータ100と画像プロセッサ200とを重ねて配置した「積層」構造が採用されてもよい。   In the present embodiment, the “flat placement” structure in which the A / D converter 100 and the image processor 200 are arranged in the main surface direction of the lead frame 500 is illustrated, but the scope of the present invention is limited to this. Without limitation, the A / D converter 100 and the image processor 200 are arranged so as to overlap each other as long as the wire for transferring an analog signal and the wire for transferring a digital signal are separated to an extent that allows the influence of digital noise. A “stacked” structure may be employed.

アナログチップは、ロジック信号を入力又は出力するものであって、その回路内でアナログ信号を処理するもの又はアナログ回路動作をするものであれば、本実施の形態のA/Dコンバータ100に限らない。アナログチップは、たとえばデジタル信号を受けてアナログ信号に変換して出力するデジタル−アナログ変換回路を有するDAC(Digital-to-Analog Converter)であってもよいし、PLL(Phase-locked loop)回路を有するもの、オーディオスイッチ機能を有するもの、音声多重切換機能を有するものであってもよい。   The analog chip is not limited to the A / D converter 100 of the present embodiment as long as it inputs or outputs a logic signal and processes an analog signal in the circuit or performs an analog circuit operation. . The analog chip may be, for example, a DAC (Digital-to-Analog Converter) having a digital-analog conversion circuit that receives a digital signal, converts it into an analog signal, and outputs the analog signal, or a PLL (Phase-locked loop) circuit. It may have, an audio switch function, and an audio multiplex switching function.

他方、ロジックチップは、アナログチップとの間でデジタル信号を出力又は入力するものであって主としてデジタル信号を処理するロジックICであれば、本実施の形態の画像プロセッサ200に限らない。ロジックチップを構成するプロセスルールにおいて動作信頼上許容できるものであれば、ロジックチップにアナログ信号を処理する回路を内蔵させることは除外されない。   On the other hand, the logic chip is not limited to the image processor 200 of the present embodiment as long as it is a logic IC that outputs or inputs a digital signal to and from an analog chip and mainly processes the digital signal. It is not excluded that a circuit for processing an analog signal is built in the logic chip as long as the process rules constituting the logic chip are acceptable in terms of operation reliability.

また、本実施の形態では、信号入出力用の外部端子(ピン)を外周に配置したQFP(Quad Flat Package)を例示したが、本発明は、図6に示すように、格子状に配置されたボール状のはんだ電極を外部端子として用いるBGA(Ball Grid Array)式の半導体装置に適用されてもよい。すなわち、図6に示す変形例では、はんだボール1100が裏面に形成された基板1000(基材)上に、A/Dコンバータ100(アナログチップ)と、画像プロセッサ200(デジタルチップ)とが搭載されている。DRAM400(バッファ部)は、図2〜図5の例と同様に、画像プロセッサ200上に積層配置されている。   In the present embodiment, a QFP (Quad Flat Package) in which external terminals (pins) for signal input / output are arranged on the outer periphery is illustrated, but the present invention is arranged in a lattice form as shown in FIG. The present invention may also be applied to a BGA (Ball Grid Array) type semiconductor device using ball-shaped solder electrodes as external terminals. That is, in the modification shown in FIG. 6, the A / D converter 100 (analog chip) and the image processor 200 (digital chip) are mounted on a substrate 1000 (base material) on which the solder balls 1100 are formed on the back surface. ing. The DRAM 400 (buffer unit) is stacked on the image processor 200 as in the examples of FIGS.

また、本実施の形態では、画像表示装置1として、液晶表示装置(LCD)を例示したが、これに代えて、たとえば、プラズマディスプレイ(PDP:Plasma Display Panel)が用いられてもよい。さらに、本発明は、画像表示装置用の半導体装置に限定されるものではなく、その他任意のデバイスに適用可能である。   In the present embodiment, a liquid crystal display device (LCD) is exemplified as the image display device 1, but instead of this, for example, a plasma display (PDP: Plasma Display Panel) may be used. Furthermore, the present invention is not limited to a semiconductor device for an image display device, and can be applied to any other device.

以上、本発明の実施の形態について説明したが、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   Although the embodiments of the present invention have been described above, the embodiments disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

本発明の1つの実施の形態に係る半導体装置を含む画像表示装置の概略的な構成を示すブロック図である。1 is a block diagram illustrating a schematic configuration of an image display device including a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. 図1に示される画像表示装置に含まれる半導体装置の外観を示す上面図である。FIG. 2 is a top view illustrating an appearance of a semiconductor device included in the image display device illustrated in FIG. 1. 本発明の1つの実施の形態に係る半導体装置を概念的に示す平面図である。1 is a plan view conceptually showing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. 本発明の1つの実施の形態に係る半導体装置を示す平面図である。It is a top view which shows the semiconductor device which concerns on one embodiment of this invention. 図2及び図4におけるV−V断面図である。It is VV sectional drawing in FIG.2 and FIG.4. 本発明の1つの実施の形態に係る半導体装置の変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the semiconductor device which concerns on one embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 画像表示装置、100 A/Dコンバータ、110A,110B,210B,210C,210D,410D パッド部、200 画像プロセッサ、300 タイミングコントローラ、350 LCDドライバ、400 DRAM、450 不揮発性メモリ、500 ダイパッド、510 吊りリード、600 ボード、700A,700B,700C,700D ワイヤ、800A,800C 外部端子、810 メッキ部、900 封止樹脂、1000 基板、1100 はんだボール、GND1 接地線用端子,GND2 接地用グランドバー、Vdd1,Vdd2 電源線用端子。   1 Image display device, 100 A / D converter, 110A, 110B, 210B, 210C, 210D, 410D Pad part, 200 Image processor, 300 Timing controller, 350 LCD driver, 400 DRAM, 450 Non-volatile memory, 500 Die pad, 510 Hanging Lead, 600 board, 700A, 700B, 700C, 700D wire, 800A, 800C external terminal, 810 plated portion, 900 sealing resin, 1000 substrate, 1100 solder ball, GND1 ground wire terminal, GND2 ground ground bar, Vdd1, Vdd2 Power supply terminal.

Claims (5)

複数のチップを1つのパッケージ内に封止した半導体装置であって、
基材と、
前記基材に搭載され、アナログ信号の処理を行う回路が形成された第1のチップと、
前記基材に搭載され、少なくともデジタル信号の処理を行なう回路が形成され、前記第1のチップを構成するトランジスタよりも小さい線幅のトランジスタにより構成された第2のチップと、
前記第1のチップと前記第2のチップとを接続し、前記第1のチップと前記第2のチップとの間でデジタル信号を伝達する接続部と、
前記基材に搭載された前記第1のチップおよび前記第2のチップを封止する封止部とを備えた、半導体装置。
A semiconductor device in which a plurality of chips are sealed in one package,
A substrate;
A first chip mounted on the substrate and formed with a circuit for processing analog signals;
A second chip that is mounted on the substrate and has a circuit for processing at least a digital signal, and is configured by a transistor having a smaller line width than a transistor that configures the first chip;
A connection part for connecting the first chip and the second chip and transmitting a digital signal between the first chip and the second chip;
A semiconductor device comprising: a sealing portion that seals the first chip and the second chip mounted on the base material.
前記第1のチップおよび前記第2のチップは、前記基材の主表面方向に並ぶように該基材の主表面上に設けられる、請求項1に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the first chip and the second chip are provided on a main surface of the base material so as to be aligned in a main surface direction of the base material. 前記第2のチップで処理されるデジタル信号のデータを一時的に蓄えるためのバッファ部をさらに備え、
前記バッファ部は前記第2のチップ上に積層配置される、請求項2に記載の半導体装置。
A buffer unit for temporarily storing digital signal data to be processed by the second chip;
The semiconductor device according to claim 2, wherein the buffer unit is stacked on the second chip.
アナログ信号を外部から入力又は外部に出力をする外部端子を有し、該外部端子は前記第1のチップに接続されている、請求項1から請求項3のいずれかに記載の半導体装置。   4. The semiconductor device according to claim 1, further comprising an external terminal that inputs an analog signal from outside or outputs the analog signal to the outside, and the external terminal is connected to the first chip. 5. 前記第1のチップは互いに対向する第1の辺および第2の辺を有し、
前記第1の辺上に外部端子と接続される第1のパッド部が形成され、
前記第2の辺上に前記接続部を介して前記第2のチップと接続される第2のパッド部が形成される、請求項1から請求項4のいずれかに記載の半導体装置。
The first chip has a first side and a second side facing each other;
A first pad connected to an external terminal is formed on the first side;
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein a second pad portion connected to the second chip via the connection portion is formed on the second side.
JP2008009421A 2008-01-18 2008-01-18 Semiconductor device Pending JP2009170785A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008009421A JP2009170785A (en) 2008-01-18 2008-01-18 Semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008009421A JP2009170785A (en) 2008-01-18 2008-01-18 Semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009170785A true JP2009170785A (en) 2009-07-30

Family

ID=40971616

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008009421A Pending JP2009170785A (en) 2008-01-18 2008-01-18 Semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009170785A (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06151685A (en) * 1992-11-04 1994-05-31 Mitsubishi Electric Corp Mcp semiconductor device
JPH08255868A (en) * 1995-03-15 1996-10-01 Seiko Epson Corp Semiconductor device and manufacture thereof
JPH11340421A (en) * 1998-05-25 1999-12-10 Fujitsu Ltd Lsi device with mixed mounting of memory and logic
JP2001185676A (en) * 1999-12-24 2001-07-06 Sharp Corp Semiconductor device
JP2007265019A (en) * 2006-03-28 2007-10-11 Sony Computer Entertainment Inc Processor controller

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06151685A (en) * 1992-11-04 1994-05-31 Mitsubishi Electric Corp Mcp semiconductor device
JPH08255868A (en) * 1995-03-15 1996-10-01 Seiko Epson Corp Semiconductor device and manufacture thereof
JPH11340421A (en) * 1998-05-25 1999-12-10 Fujitsu Ltd Lsi device with mixed mounting of memory and logic
JP2001185676A (en) * 1999-12-24 2001-07-06 Sharp Corp Semiconductor device
JP2007265019A (en) * 2006-03-28 2007-10-11 Sony Computer Entertainment Inc Processor controller

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI459535B (en) Semiconductor device
KR20020062820A (en) Semiconductor device having stacked multi chip module structure
JP2008205143A (en) Semiconductor and semiconductor module using the same
JP4942020B2 (en) Semiconductor device
JP2008078686A (en) Semiconductor device
JP2010010492A (en) Semiconductor device and semiconductor integrated circuit
JP2007281129A (en) Stacked semiconductor device
JP2004363458A (en) Semiconductor device
JP2005260053A (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2001185676A (en) Semiconductor device
JP2001156251A (en) Semiconductor device
JP5026735B2 (en) Semiconductor chip and semiconductor chip package
JP2006156797A (en) Semiconductor device
JP2009065066A (en) Semiconductor device
JPH11168150A (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2003086760A (en) Semiconductor device and manufacturing method therefor
US20110298118A1 (en) Semiconductor device
CN110858573A (en) Semiconductor package
JP2005123542A (en) Package structure for semiconductor device and method for packaging
JP2009170785A (en) Semiconductor device
JP4343727B2 (en) Semiconductor device
JP2011159661A (en) Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device
JPH11186492A (en) Semiconductor package and its mounting structure
KR20140115017A (en) Semiconductor package having power integrity metal line structure preventing warpage function and a method for production thereof
JP2005327967A (en) Semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20100609

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101203

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111025

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121030

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130205

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130604