JP2009170065A - Method of manufacturing multilayer optical recording medium, and multilayer optical recording medium obtained by the method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光記録媒体とその製造技術に関し、詳しくは、追記可能な複数の情報記録層を備えた多層光記録媒体のコスト低減を可能とする製造方法と、それにより得られる多層光記録媒体に関する。 The present invention relates to an optical recording medium and a manufacturing technique thereof, and more specifically, a manufacturing method that enables cost reduction of a multilayer optical recording medium having a plurality of additionally recordable information recording layers, and a multilayer optical recording medium obtained thereby About.
先に本出願人は、特許文献1〜3において、青色レーザ波長以下の短波長でも記録再生が可能な追記型光記録媒体として、金属又は半金属の酸化物、とりわけ酸化ビスマスを主成分とする記録層が有用であることを提案している。さらに、特許文献4において、構成元素の主成分がビスマスであり、かつ酸化ビスマスを含有する記録層を有し、該記録層がさらにB、P、Ga、As、Se、Tc、Pd、Ag、Sb、Te、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Hg、Tl、Po、At、Cdから選択される一種以上の元素Xを含有することを特徴とする追記型光記録媒体について開示している。 First, in Patent Documents 1 to 3, the present applicant has a metal or semi-metal oxide, particularly bismuth oxide as a main component, as a write-once type optical recording medium capable of recording / reproducing even at a short wavelength of blue laser wavelength or less. It proposes that the recording layer is useful. Further, in Patent Document 4, the main component of the constituent element is bismuth and a recording layer containing bismuth oxide, and the recording layer further includes B, P, Ga, As, Se, Tc, Pd, Ag, Disclosed is a write-once optical recording medium comprising one or more elements X selected from Sb, Te, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, Hg, Tl, Po, At, and Cd. ing.
一方、青色レーザ世代の光ディスクシステムとして、405nmの青色レーザと開口数NA=0.85の光学系を用いたBlu−ray disc規格が提案され、既に商品化が始まっている。この規格では、高NAの光学系においてチルトマージンを確保するために記録・再生光を従来の基板側からではなく、0.1mm程度の厚さに設定されたカバー層を通して照射するように設計されている。
しかし、カバー層の厚さが0.1mm程度である場合、従来のようにポリカーボネート等の射出成形法によってこれを成形すると、十分な機械的強度や板厚分布、光学特性の面内均一性等が確保できなくなるという問題が新たに生じる。
On the other hand, as an optical disk system of the blue laser generation, a Blu-ray disc standard using a 405 nm blue laser and an optical system with a numerical aperture NA = 0.85 has been proposed, and commercialization has already started. This standard is designed to irradiate recording / reproducing light through a cover layer set to a thickness of about 0.1 mm, not from the conventional substrate side, in order to ensure a tilt margin in a high NA optical system. ing.
However, when the cover layer thickness is about 0.1 mm, if this is molded by an injection molding method such as polycarbonate as before, sufficient mechanical strength, plate thickness distribution, in-plane uniformity of optical characteristics, etc. A new problem arises that cannot be secured.
この問題に対処するため、ポリカーボネート等からなる基板上に反射層、第1誘電体層、記録層、第2誘電体層を形成して情報記録層とし、この上にカバー層を形成(基板とは反対側にカバー層を設ける構造)することによってカバー層が薄膜化された情報記録媒体を作製する手法がが提案されている(例えば、特許文献5参照。)。
かかる方法においては、先ずスタンパを用いてプリグルーブを有する基板を射出成形し、次に、プリグルーブが形成されている基板表面にスパッタリング法等によって反射層、第1誘電体層、記録層、第2誘電体層をこの順に成膜する。そして、第2誘電体層の表面に、紫外線硬化型樹脂をスピンコートするか、フィルムシートを貼り合わせることによってカバー層を形成する。
In order to cope with this problem, a reflective layer, a first dielectric layer, a recording layer, and a second dielectric layer are formed on a substrate made of polycarbonate or the like to form an information recording layer, and a cover layer is formed thereon (with the substrate and Has been proposed (see Patent Document 5, for example).
In such a method, a substrate having a pregroove is first injection-molded using a stamper, and then the reflective layer, the first dielectric layer, the recording layer, the first layer are formed on the surface of the substrate on which the pregroove is formed by a sputtering method or the like. Two dielectric layers are formed in this order. Then, a cover layer is formed on the surface of the second dielectric layer by spin coating an ultraviolet curable resin or bonding a film sheet.
一方、膜厚均一性の高いカバー層を得る方法としては、ディスク基版の中心孔を塞いでスピンコート法によりディスク基版表面に紫外線硬化樹脂を塗布する方法(例えば、特許文献6参照。)や、基板の回転中心に対して同心円状に熱エネルギーを付与し、温度分布を付けて光硬化樹脂(紫外線硬化樹脂)の粘度を半径方向に変化させ、基板上に光硬化樹脂をスピンコートする方法(例えば、特許文献7参照。)などが提案されている。 On the other hand, as a method for obtaining a cover layer with high film thickness uniformity, a method of applying an ultraviolet curable resin to the surface of the disk base plate by spin coating after closing the center hole of the disk base plate (see, for example, Patent Document 6). Alternatively, heat energy is applied concentrically to the rotation center of the substrate, a temperature distribution is applied, the viscosity of the photo-curing resin (ultraviolet-curing resin) is changed in the radial direction, and the photo-curing resin is spin coated on the substrate. A method (for example, refer to Patent Document 7) has been proposed.
上記のようにして作製された光記録媒体においては、基板の反対側から記録・再生レーザが入射するため、基板の厚みを十分に厚くすることができる。また、基板には透過率や複屈折等の光学特性が要求されないため、転写性や媒体の機械特性のみに着目した基板成形を行えばよく、このようなタイプの光記録媒体を用いれば、基板の機械的強度を十分に確保しつつ、NAの光記録媒体用ヘッドを利用することが可能となる。 In the optical recording medium manufactured as described above, since the recording / reproducing laser is incident from the opposite side of the substrate, the thickness of the substrate can be sufficiently increased. Also, since optical properties such as transmittance and birefringence are not required for the substrate, it is only necessary to perform substrate molding focusing only on transferability and the mechanical properties of the medium. If such an optical recording medium is used, the substrate It is possible to use an NA optical recording medium head while sufficiently ensuring the mechanical strength.
例えば、報記録層を複数有する多層光記録媒体は、従来法によれば、図1に示す工程により製造されている。なお、図1は2層構造からなる多層光記録媒体の従来の製造方法における工程手順を示す概略工程図である。
多層記録媒体の製造方法においては、通常、コストや射出成形の容易さの面からスタンパ(透光性スタンパ)として、基板と同じポリカーボネートが用いられる。このため、図1の工程(1)では、ポリカーボネート製透光性スタンパ3に予めポリカーボネートと接着しにくい離型性紫外線硬化樹脂(剥離性樹脂4)を塗布し、一方、第1情報記録層2を形成した基板1上には接着性の良い紫外線硬化樹脂(中間樹脂5)を塗布しておき、工程(2)で硬化した後、後工程での透光性スタンパの離型を容易にする方法が採られる。
For example, a multilayer optical recording medium having a plurality of information recording layers is manufactured by the process shown in FIG. 1 according to a conventional method. FIG. 1 is a schematic process diagram showing process steps in a conventional manufacturing method of a multilayer optical recording medium having a two-layer structure.
In the method for producing a multilayer recording medium, usually, the same polycarbonate as the substrate is used as a stamper (translucent stamper) in terms of cost and ease of injection molding. For this reason, in the step (1) of FIG. 1, a releaseable ultraviolet curable resin (peelable resin 4) that is difficult to adhere to polycarbonate is applied in advance to the polycarbonate translucent stamper 3, while the first information recording layer 2 is applied. An ultraviolet curable resin (intermediate resin 5) having good adhesiveness is applied on the substrate 1 on which is formed, and after curing in the step (2), it is easy to release the translucent stamper in a subsequent step. The method is taken.
すなわち、上記離型性紫外線硬化樹脂を塗布した透光性スタンパと、接着性の良い紫外線硬化樹脂を塗布した基板を、樹脂中に気泡が混入しないように(例えば、真空中で)密着させ、図1の工程(2)のように透光性スタンパ側から紫外線を照射して樹脂を硬化させる。次に、透光性スタンパを剥離して〔図1の工程(3)〕、表面に案内溝を転写した中間層を形成する。次に、第2情報記録層6を形成した〔図1の工程(4))〕後に、上記単層の光記録媒体と同様な方法でカバー層7を形成し、図1の工程(5)に示すような2層光記録媒体を得る。
さらに多層の光記録媒体を得るには、図1の工程(4)に示す第2情報記録層の上に接着性紫外線硬化樹脂を塗布して、図1の工程(1)から(4)までの工程を繰り返せばよい。
That is, the translucent stamper coated with the above-described releaseable UV curable resin and the substrate coated with the UV curable resin having good adhesiveness are brought into close contact so that bubbles do not enter the resin (for example, in a vacuum), As shown in step (2) of FIG. 1, the resin is cured by irradiating ultraviolet rays from the translucent stamper side. Next, the translucent stamper is peeled off [step (3) in FIG. 1] to form an intermediate layer having the guide groove transferred on the surface. Next, after forming the second information recording layer 6 (step (4) in FIG. 1)], a cover layer 7 is formed in the same manner as the single-layer optical recording medium, and step (5) in FIG. A two-layer optical recording medium as shown in FIG.
Further, in order to obtain a multilayer optical recording medium, an adhesive ultraviolet curable resin is applied on the second information recording layer shown in step (4) of FIG. 1, and steps (1) to (4) of FIG. This process may be repeated.
しかし、上記従来の多層光記録媒体の製造方法において、以下のようなコスト上の問題があった。
すなわち、ポリカーボネートからなる透光性スタンパは、再使用すると表面の剥離性が変化して剥離がうまく行えなくなったりすることや、剥離時に発生する微小なゴミを静電吸着して転写溝の欠陥を増加させてしまうことなどから、通常リサイクルされずに使い捨てにされる。このため、積層する層数の数だけ透光性スタンパが必要になり、コスト増の原因になっていた。このような歩留まり低下とコスト増のため、多層光媒体のビット単価が単層媒体のそれに対してユーザーに訴求できるような値に下げられず、多層光媒体が普及しない一因にもなっていた。
However, the above conventional multilayer optical recording medium manufacturing method has the following cost problems.
In other words, a translucent stamper made of polycarbonate changes the peelability of the surface when reused, making it difficult to peel off, and electrostatically adsorbs minute dust generated during peeling to eliminate defects in the transfer groove. Because of the increase, etc., it is usually discarded without being recycled. For this reason, translucent stampers are required as many as the number of layers to be stacked, which causes an increase in cost. Due to such a decrease in yield and an increase in cost, the bit unit price of multilayer optical media cannot be lowered to a value that can appeal to users against that of single layer media, which has also contributed to the lack of widespread use of multilayer optical media. .
一方、DVDの貼り合わせ用紫外線硬化接着剤に関して、400nm付近を超える長波長域に比較的大きな吸光係数を有する光重合開始剤を用いることで、内部硬化性が高まって信頼性の高い接着構造が得られることが記載されている(例えば、特許文献8〜10参照。)。
しかしながら、これらの貼り合わせ型記録媒体はいずれも各基板面側から記録および/または再生を行う構造のものであり、前記図1で説明した多層光記録媒体のようなカバー層側から記録および/または再生を行う記録媒体とは構造が異なっている。なお、本発明が対象とする追記可能な複数の情報記録層を備えた多層光記録媒体もカバー層側から記録および/または再生を行うものである。
On the other hand, with regard to the UV curable adhesive for bonding DVD, by using a photopolymerization initiator having a relatively large absorption coefficient in a long wavelength region exceeding about 400 nm, the internal curability is increased and a highly reliable adhesive structure is obtained. It is described that it is obtained (see, for example, Patent Documents 8 to 10).
However, each of these bonded recording media has a structure in which recording and / or reproduction is performed from each substrate surface side. Recording and / or recording from the cover layer side such as the multilayer optical recording medium described in FIG. Or, the structure is different from that of a recording medium for reproduction. Note that a multilayer optical recording medium provided with a plurality of recordable information recording layers targeted by the present invention also performs recording and / or reproduction from the cover layer side.
また、DVDなどの従来技術では、紫外線硬化樹脂からなる接着剤層(中間層樹脂)を硬化する際に、記録および/または再生を行う側(基板側)から紫外線照射を行うが、この場合に光照射側の情報記録層の透過率は通常ほぼ50%程度であり、比較的容易に紫外線硬化樹脂が硬化される。
しかし、Blu−ray disc規格では、第1の情報記録層の記録・再生がカバー層側から第2の情報記録層(記録・再生光の照射側に近い層:透過率50%程度)を介して行われる。そのため、第1の情報記録層の記録・再生特性に要求される層構成とする制約、すなわち、カバー層側から記録・再生する際に最も奥側になるので十分な反射率を有する層構成とする必要があることから、基板側からの光透過率は数%未満であり、中間層樹脂の硬化をDVDなどで実施している従来技術(基板側からの紫外線照射)を用いて行うのは困難である。
なお、前記図1で説明した従来の多層光記録媒体では、紫外線硬化樹脂を硬化させて中間層を形成する際、スタンパ側から紫外線照射を行う。このため、スタンパ以外に障害となる層を介することなく紫外線硬化樹脂が硬化される利点があるが、前述のコスト増の問題がある。
Further, in the conventional technology such as DVD, when the adhesive layer (interlayer resin) made of ultraviolet curable resin is cured, ultraviolet irradiation is performed from the recording and / or reproducing side (substrate side). The transmittance of the information recording layer on the light irradiation side is usually about 50%, and the ultraviolet curable resin is cured relatively easily.
However, in the Blu-ray disc standard, recording / reproduction of the first information recording layer is performed from the cover layer side through the second information recording layer (layer close to the recording / reproduction light irradiation side: transmittance of about 50%). Done. Therefore, the layer configuration required for the recording / reproduction characteristics of the first information recording layer, that is, the layer configuration having sufficient reflectivity because it is the deepest side when recording / reproducing from the cover layer side, and Therefore, the light transmittance from the substrate side is less than a few percent, and the intermediate layer resin is cured by using the conventional technique (ultraviolet irradiation from the substrate side) that is performed on a DVD or the like. Have difficulty.
In the conventional multilayer optical recording medium described with reference to FIG. 1, ultraviolet rays are irradiated from the stamper side when the intermediate layer is formed by curing the ultraviolet curable resin. For this reason, there is an advantage that the ultraviolet curable resin is cured without intervening layers other than the stamper, but there is a problem of the cost increase described above.
本発明者らは、カバー層を通して記録・再生光を照射するように設計された追記可能な多層光記録媒体(例えば、Blu−ray disc規格に対応できる光記録媒体)において、透光性基板上に媒体を積層していく製造方法について鋭意検討を行っているが、透光性スタンパの剥離性やリサイクル性などの問題に起因する歩留まり低下とコスト増が解決すべき課題となっていた。
すなわち、追記可能な複数の情報記録層を備えた多層光記録媒体を、透光性スタンパ(例えば、ポリカーボネート製)を用いることなく製造することが必要であり、この際、複数の情報記録層を設けるにあたって紫外線硬化樹脂を硬化させて中間層を形成する必要がある。中間層を形成する場合、本発明が対象とする構成では基板上に形成された情報記録層を介して光照射を行うことになる。しかし、基板上に形成された情報記録層は、カバー層側から記録・再生する際、前述のように最も奥側になるので十分な反射率を有する層構成とされ、その透過率は数%〜20%程度であり、中間層を硬化させる上での困難性がより高い。
本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなされたものであり、追記可能な複数の情報記録層を備えた多層光記録媒体のコスト低減が図れる製造方法とそれにより製造されるコスト安価で信号品質に優れた多層光記録媒を提供することを目的とする。
The inventors of the present invention have made it possible to write on a translucent substrate in a recordable multilayer optical recording medium (for example, an optical recording medium capable of complying with the Blu-ray disc standard) designed to irradiate recording / reproducing light through a cover layer. However, the production method of laminating media on the surface has been intensively studied. However, reduction in yield and increase in cost due to problems such as peelability and recyclability of the translucent stamper have been issues to be solved.
In other words, it is necessary to produce a multilayer optical recording medium having a plurality of additionally recordable information recording layers without using a translucent stamper (for example, made of polycarbonate). In providing, it is necessary to cure the ultraviolet curable resin to form an intermediate layer. When the intermediate layer is formed, light irradiation is performed through the information recording layer formed on the substrate in the configuration targeted by the present invention. However, when the information recording layer formed on the substrate is recorded / reproduced from the cover layer side, it is the deepest side as described above, so that it has a layer structure with sufficient reflectivity, and its transmittance is several%. It is about ˜20%, and the difficulty in curing the intermediate layer is higher.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and a manufacturing method capable of reducing the cost of a multilayer optical recording medium having a plurality of additionally recordable information recording layers, and the cost and signal quality produced thereby. An object of the present invention is to provide a multilayer optical recording medium excellent in the above.
本発明者らは鋭意検討した結果、以下の〔1〕〜〔10〕に記載する発明によって上記課題が解決されることを見出し本発明に至った。以下、本発明について具体的に説明する。 As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problems can be solved by the inventions described in the following [1] to [10], and have reached the present invention. Hereinafter, the present invention will be specifically described.
〔1〕:上記課題は、基板上に追記可能な複数の情報記録層を備え、該基板と対向配設されるカバー層側からの光照射によって記録および/または再生を行う多層構造からなる多層光記録媒体の製造方法であって、
少なくとも、情報記録層が形成された基板と、案内溝が形成されたスタンパとの間に紫外線硬化樹脂を塗布・充填する工程と、該紫外線硬化樹脂を硬化させる工程と、該硬化された紫外線硬化樹脂からスタンパを離型して硬化樹脂表面に案内溝が転写された中間層を形成する工程と、該中間層上に別の情報記録層を積層する工程と、該別の情報記録層上にカバー層を積層する工程とを含み、
前記紫外線硬化樹脂を硬化させる工程が、前記基板側から紫外線を入射させて行われ、かつ前記紫外線硬化樹脂が、入射される紫外線の照射波長域に吸収係数を持つ光重合開始剤を含有することを特徴とする多層光記録媒体の製造方法により解決される。
[1]: The above-mentioned problem is a multilayer structure comprising a plurality of information recording layers that can be additionally recorded on a substrate, and having a multilayer structure in which recording and / or reproduction is performed by light irradiation from a cover layer side disposed to face the substrate. An optical recording medium manufacturing method comprising:
At least a step of applying and filling an ultraviolet curable resin between the substrate on which the information recording layer is formed and the stamper on which the guide groove is formed, a step of curing the ultraviolet curable resin, and the cured ultraviolet curing A step of releasing the stamper from the resin to form an intermediate layer in which guide grooves are transferred to the surface of the cured resin, a step of laminating another information recording layer on the intermediate layer, and a step of forming the intermediate layer on the other information recording layer. Laminating a cover layer,
The step of curing the ultraviolet curable resin is performed by making ultraviolet rays incident from the substrate side, and the ultraviolet curable resin contains a photopolymerization initiator having an absorption coefficient in an irradiation wavelength range of incident ultraviolet rays. This is solved by a method for manufacturing a multilayer optical recording medium.
〔2〕:上記〔1〕に記載の多層光記録媒体の製造方法において、前記光重合開始剤の波長400nm〜450nmにおける最大吸光係数が、10(ml/g・cm)より大きいことを特徴とする。 [2]: The method for producing a multilayer optical recording medium according to [1] above, wherein the photopolymerization initiator has a maximum extinction coefficient at a wavelength of 400 nm to 450 nm of greater than 10 (ml / g · cm). To do.
〔3〕:上記〔1〕または〔2〕に記載の多層光記録媒体の製造方法において、前記光重合開始剤が、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−ジメチルアミノ−2−(4−メチル−ベンジル)−1−(4−モリフォリン−4−イル−フェニル)−ブタン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイドから選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする。 [3]: In the method for producing a multilayer optical recording medium according to [1] or [2], the photopolymerization initiator is phenylglyoxylic acid methyl ester, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl). -Phenylphosphine oxide, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2-dimethylamino-2- (4-methyl-benzyl) -1- (4-morpholine- It is at least one selected from 4-yl-phenyl) -butan-1-one and 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide.
〔4〕:上記〔1〕乃至〔3〕のいずれかに記載の多層光記録媒体の製造方法において、前記紫外線硬化樹脂が、少なくともラジカル重合性アクリレートオリゴマーおよび/または(メタ)アクリレートモノマーを含むことを特徴とする。 [4]: In the method for producing a multilayer optical recording medium according to any one of [1] to [3], the ultraviolet curable resin contains at least a radical polymerizable acrylate oligomer and / or a (meth) acrylate monomer. It is characterized by.
〔5〕:上記〔1〕乃至〔4〕のいずれかに記載の多層光記録媒体の製造方法において、前記複数の情報記録層が、基板上に第1の情報記録層と、第2の情報記録層が順次設けられた2層構成であり、かつ前記基板上に第1の情報記録層が形成された複合層の波長365nmにおける基板側からの光透過率が6〜18%であることを特徴とする。 [5]: In the method for manufacturing a multilayer optical recording medium according to any one of [1] to [4], the plurality of information recording layers includes a first information recording layer and a second information on a substrate. The light transmission from the substrate side at a wavelength of 365 nm of the composite layer in which the recording layers are sequentially provided and the first information recording layer is formed on the substrate is 6 to 18%. Features.
〔6〕:上記〔1〕乃至〔5〕のいずれかに記載の多層光記録媒体の製造方法において、前記複数の情報記録層が、記録層を含む多層膜構成であることを特徴とする。 [6]: The method for producing a multilayer optical recording medium according to any one of [1] to [5], wherein the plurality of information recording layers have a multilayer film structure including recording layers.
〔7〕:上記〔1〕乃至〔6〕のいずれかに記載の多層光記録媒体の製造方法において、前記複数の情報記録層が、それぞれ基板側から順に、反射層、第一誘電体層、記録層、第二誘電体層からなる多層膜構成であることを特徴とする。 [7]: In the method for manufacturing a multilayer optical recording medium according to any one of [1] to [6], the plurality of information recording layers are respectively a reflective layer, a first dielectric layer, It is characterized by a multilayer film structure comprising a recording layer and a second dielectric layer.
〔8〕:上記〔6〕または〔7〕に記載の多層光記録媒体の製造方法において、前記記録層が、酸化ビスマスを主成分とすることを特徴とする。 [8]: The method for producing a multilayer optical recording medium according to [6] or [7], wherein the recording layer contains bismuth oxide as a main component.
〔9〕:上記〔6〕乃至〔8〕のいずれかに記載の多層光記録媒体の製造方法において、前記記録層の主成分が、Bi、GeおよびOからなることを特徴とする。 [9]: The method for producing a multilayer optical recording medium according to any one of [6] to [8], wherein the main component of the recording layer is made of Bi, Ge, and O.
〔10〕:上記課題は、〔1〕乃至〔9〕のいずれかに記載の多層光記録媒体の製造方法により製造されたことを特徴とする多層光記録媒体により解決される。 [10] The above problem is solved by a multilayer optical recording medium manufactured by the method for manufacturing a multilayer optical recording medium according to any one of [1] to [9].
本発明に係る多層光記録媒体の製造方法によれば、情報記録層が形成された基板と、案内溝が形成されたスタンパとの間に中間層を設ける際、基板側から紫外線を入射させ、該入射紫外線の照射波長に対して吸収係数を持つ光重合開始剤を含有する紫外線硬化樹脂を硬化させて形成する。このため、スタンパは透明な材質である必要はなく、剥離性やリサイクル性などに優れた材質のスタンパ(例えば、Ni製スタンパ)を選択することができる。これにより、従来の透光性スタンパを用いる製造方法では困難であった歩留まり向上とコスト低減が図れる。これにより、コスト安価で信号品質に優れた多層光記録媒を提供することができる。
本発明に係る多層光記録媒体によれば、追記可能な複数の情報記録層を備え、基板と対向配設されるカバー層側からの光照射によって記録および/または再生を行うことができるため、高密度かつ大容量の青色レーザ世代の光ディスクシステム(例えば、Blu−ray disc規格)にも対応することができる。また、上記製造方法によって多層光記録媒のビット単価を低減することができる。
According to the method for manufacturing a multilayer optical recording medium according to the present invention, when an intermediate layer is provided between the substrate on which the information recording layer is formed and the stamper on which the guide groove is formed, ultraviolet rays are incident from the substrate side, It is formed by curing an ultraviolet curable resin containing a photopolymerization initiator having an absorption coefficient with respect to the irradiation wavelength of the incident ultraviolet rays. For this reason, the stamper does not need to be a transparent material, and a stamper (for example, Ni stamper) made of a material excellent in releasability and recyclability can be selected. As a result, it is possible to improve the yield and reduce the cost, which is difficult in the manufacturing method using the conventional translucent stamper. As a result, it is possible to provide a multilayer optical recording medium with low cost and excellent signal quality.
The multilayer optical recording medium according to the present invention includes a plurality of recordable information recording layers, and can perform recording and / or reproduction by light irradiation from the cover layer side disposed to face the substrate. A high-density and large-capacity blue laser generation optical disc system (for example, Blu-ray disc standard) can also be supported. In addition, the bit unit price of the multilayer optical recording medium can be reduced by the above manufacturing method.
前述のように本発明における多層光記録媒体の製造方法は、基板上に追記可能な複数の情報記録層を備え、該基板と対向配設されるカバー層側からの光照射によって記録および/または再生を行う多層構造からなる多層光記録媒体の製造方法であって、
少なくとも、情報記録層が形成された基板と、案内溝が形成されたスタンパとの間に紫外線硬化樹脂を塗布・充填する工程と、該紫外線硬化樹脂を硬化させる工程と、該硬化された紫外線硬化樹脂からスタンパを離型して硬化樹脂表面に案内溝が転写された中間層を形成する工程と、該中間層上に別の情報記録層を積層する工程と、該別の情報記録層上にカバー層を積層する工程とを含み、
前記紫外線硬化樹脂を硬化させる工程が、前記基板側から紫外線を入射させて行われ、かつ前記紫外線硬化樹脂が、入射される紫外線の照射波長に対して吸収係数を持つ光重合開始剤を含有することを特徴とするものである。
ここで、前記光重合開始剤の波長400nm〜450nmにおける最大吸光係数が、10(ml/g・cm)より大きいことが好ましい。
また、前記複数の情報記録層が、記録層を含む多層膜構成であることが好ましい。
多層膜構成としては、例えば、それぞれ基板側から順に、反射層、第一誘電体層(以降、「上部保護層」と呼称することがある。)、記録層、第二誘電体層(以降、「下部保護層」と呼称することがある。)からなるものが挙げられる。
As described above, the method for producing a multilayer optical recording medium according to the present invention includes a plurality of information recording layers that can be additionally recorded on a substrate, and is recorded and / or irradiated by light irradiation from the side of the cover layer disposed to face the substrate. A method for producing a multilayer optical recording medium having a multilayer structure for reproduction,
At least a step of applying and filling an ultraviolet curable resin between the substrate on which the information recording layer is formed and the stamper on which the guide groove is formed, a step of curing the ultraviolet curable resin, and the cured ultraviolet curing A step of releasing the stamper from the resin to form an intermediate layer in which guide grooves are transferred to the surface of the cured resin, a step of laminating another information recording layer on the intermediate layer, and a step of forming the intermediate layer on the other information recording layer. Laminating a cover layer,
The step of curing the ultraviolet curable resin is performed by making ultraviolet rays incident from the substrate side, and the ultraviolet curable resin contains a photopolymerization initiator having an absorption coefficient with respect to the irradiation wavelength of the incident ultraviolet rays. It is characterized by this.
Here, the maximum extinction coefficient of the photopolymerization initiator at a wavelength of 400 nm to 450 nm is preferably larger than 10 (ml / g · cm).
Moreover, it is preferable that the plurality of information recording layers have a multilayer structure including a recording layer.
As the multilayer film configuration, for example, in order from the substrate side, a reflective layer, a first dielectric layer (hereinafter, sometimes referred to as “upper protective layer”), a recording layer, a second dielectric layer (hereinafter, referred to as “upper protective layer”). And may be referred to as “lower protective layer”).
本発明の多層光記録媒体の製造方法について、情報記録層が2層構成である場合を例に挙げて説明する。図2は、基板上に第1の情報記録層(第1情報記録層)と、第2の情報記録層(第2情報記録層)が順次設けられた本発明における2層構造からなる多層光記録媒体の工程手順を示す概略工程図である。
本発明による製造方法では、紫外線硬化樹脂を用いて中間層5を形成する際に、図2の工程(2)において、第1情報記録層2を形成した基板1側から紫外線を入射させて紫外線硬化樹脂を硬化させる。このため、スタンパ8として従来技術(例えば、前記図1参照)において必要とされた透光性スタンパ、例えば、ポリカーボネート製スタンパを使用する必要がない。
すなわち、本発明においては、例えば、基板の射出成形にも用いられるNi製スタンパ等を用いることができる。Ni製スタンパを用いれば、Niと紫外線硬化樹脂との離型性が良好なので、スタンパの繰り返し使用が可能となり、透光性スタンパを用いた場合のような歩留まり低下やコスト増を抑えることが可能となる。
The method for producing a multilayer optical recording medium of the present invention will be described by taking as an example the case where the information recording layer has a two-layer structure. FIG. 2 shows a multilayer light having a two-layer structure according to the present invention in which a first information recording layer (first information recording layer) and a second information recording layer (second information recording layer) are sequentially provided on a substrate. It is a schematic process drawing which shows the process sequence of a recording medium.
In the manufacturing method according to the present invention, when the intermediate layer 5 is formed using the ultraviolet curable resin, ultraviolet rays are incident on the substrate 1 side on which the first information recording layer 2 is formed in the step (2) of FIG. Cure the cured resin. For this reason, it is not necessary to use a translucent stamper required in the prior art (for example, see FIG. 1), such as a polycarbonate stamper, as the stamper 8.
That is, in the present invention, for example, a Ni stamper used for injection molding of a substrate can be used. If Ni stampers are used, the releasability between Ni and UV curable resin is good, so the stamper can be used repeatedly, and it is possible to suppress the yield reduction and cost increase as with translucent stampers. It becomes.
本発明において、基板上に第1の情報記録層(第1情報記録層)と第2の情報記録層(第2報記録層)がこの順に設けられた2層構成からなる情報記録層を2層有する多層光記録媒体の製造方法の好ましい形態として、基板上に第1情報記録層が形成された複合層(以降、「光記録媒体中間体)または「中間体」と呼称することがある。)の波長365nmにおける基板側からの光透過率が6〜18%であることが望ましい。
なお、上記基板上に第1情報記録層が形成された光記録媒体中間体とは、例えば、図2の工程(1)において、中間層樹脂(紫外線硬化樹脂)5を塗布する前の第1情報記録層2が形成された基板1のことである。
In the present invention, two information recording layers each having a two-layer structure in which a first information recording layer (first information recording layer) and a second information recording layer (second information recording layer) are provided in this order on a substrate are provided. A preferred form of the method for producing a multilayer optical recording medium having layers is sometimes referred to as a composite layer (hereinafter referred to as “optical recording medium intermediate”) or “intermediate” in which a first information recording layer is formed on a substrate. The light transmittance from the substrate side at a wavelength of 365 nm is preferably 6 to 18%.
The optical recording medium intermediate having the first information recording layer formed on the substrate is, for example, the first before applying the intermediate layer resin (ultraviolet curable resin) 5 in the step (1) of FIG. A substrate 1 on which an information recording layer 2 is formed.
前記のように、本発明の情報記録層は多層膜構成とされ、通常、第1情報記録層はAg合金等からなる高反射率の金属膜を含んで構成されるため、基板側からの光透過率は数%未満である。
この理由は、図2の工程(5)に示すように、第1情報記録層の記録・再生が、第1情報記録層2上に設けられた第2情報記録層6(光透過率が50%程度)を介して行われ、これによって再生時の反射率が少なくとも1/4以下に減少してしまうため、第1情報記録層を高反射率の層構成とすることによるものである。
As described above, the information recording layer of the present invention has a multilayer structure, and the first information recording layer usually includes a highly reflective metal film made of an Ag alloy or the like. The transmittance is less than a few percent.
The reason for this is that, as shown in step (5) of FIG. 2, recording / reproduction of the first information recording layer is performed by the second information recording layer 6 provided on the first information recording layer 2 (light transmittance is 50). As a result, the reflectance at the time of reproduction is reduced to at least 1/4 or less, so that the first information recording layer has a layer structure with a high reflectance.
このため、本発明の光記録媒体のように、基板上に第1情報記録層が形成された複合層(中間体)に基板側からの好ましい光透過率(6〜18%)を持たせる場合、反射層の膜厚を薄くする必要があり、記録・再生特性のバランスを保つために、前記第1および第2情報記録層の層構成設計や記録層材料の開発が必要となる。 Therefore, as in the optical recording medium of the present invention, the composite layer (intermediate) in which the first information recording layer is formed on the substrate has a preferable light transmittance (6 to 18%) from the substrate side. Therefore, it is necessary to reduce the thickness of the reflective layer, and in order to maintain the balance of recording / reproducing characteristics, it is necessary to design the layer configuration of the first and second information recording layers and to develop the recording layer material.
以降、上記中間体に好ましい光透過率を持たせた本発明の中間体構成を「部分透過構造」と呼ぶ。
図3に、ポリカーボネート基板の光透過スペクトルと、多層膜構成からなる第1情報記録層を構成する反射層(Ag反射膜)の膜厚を変えた場合の部分透過構造における透過スペクトルの例を示す。図3に示すように、Ag膜厚を厚くするほど、部分透過構造の透過率が低くなることがわかる。
Hereinafter, the intermediate configuration of the present invention in which the above intermediate has a preferable light transmittance is referred to as a “partial transmission structure”.
FIG. 3 shows an example of the light transmission spectrum of the polycarbonate substrate and the transmission spectrum in the partial transmission structure when the thickness of the reflection layer (Ag reflection film) constituting the first information recording layer having the multilayer structure is changed. . As shown in FIG. 3, it can be seen that the transmittance of the partially transmissive structure decreases as the Ag film thickness increases.
図4に、代表的な高圧水銀ランプの発光スペクトル、紫外線硬化樹脂に含まれる光重合開始剤の吸収スペクトル、および波長365nmで15%の透過率を有する部分透過構造の透過スペクトルの例を示す。なお、図4に示した重合開始剤の吸収スペクトルは、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトンのものである。
図4に示すように、光重合開始剤が光励起されうる波長は、400nm付近から短波長方向(エネルギーの高い方)に向かって感度が高くなるが、逆に、部分透過構造の透過率は、ポリカーボネート製基板と第1情報記録層の吸収によって300nmにかけて低くなってしまう。
したがって、紫外線硬化樹脂の硬化に作用する波長範囲は図4に示したAの範囲であり、光源に高圧水銀ランプを用いた場合は、波長365nmの輝線スペクトルが主に硬化反応に寄与することになる。本発明において、波長365nmの透過率に着目した理由はここにある。
FIG. 4 shows an example of an emission spectrum of a typical high-pressure mercury lamp, an absorption spectrum of a photopolymerization initiator contained in an ultraviolet curable resin, and a transmission spectrum of a partially transmissive structure having a transmittance of 15% at a wavelength of 365 nm. The absorption spectrum of the polymerization initiator shown in FIG. 4 is that of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone.
As shown in FIG. 4, the wavelength at which the photopolymerization initiator can be photoexcited increases in sensitivity from the vicinity of 400 nm toward the short wavelength direction (higher energy), but conversely, the transmittance of the partially transmissive structure is: It becomes low over 300 nm by absorption of the polycarbonate substrate and the first information recording layer.
Accordingly, the wavelength range acting on the curing of the ultraviolet curable resin is the range of A shown in FIG. 4, and when a high-pressure mercury lamp is used as the light source, the emission line spectrum at a wavelength of 365 nm mainly contributes to the curing reaction. Become. This is the reason why attention is paid to the transmittance at a wavelength of 365 nm in the present invention.
本発明では、前述のように部分透過構造の波長365nmにおける透過率を6〜18%とすることが望ましい。
すなわち、透過率が6%よりも低くなると、前記図2の工程(2)に示したような基板側からの紫外線を照射による中間層樹脂(紫外線硬化樹脂)の硬化が困難になる。あるいは信頼性試験等において確認されるように、硬化が不十分になって未反応物が中間層の膜から放出され、凹凸状の欠陥を発生させたり、情報記録層を浸食してエラーやジッター上昇の原因となったりする。一方、紫外線照射時間を長くとれば、樹脂の硬化不良はある程度軽減できるが、低強度で長時間硬化した樹脂膜は一般的に架橋密度が低く、信頼性が低くなる。また、紫外線の長時間照射によって、基板や装置の温度上昇が起こり、媒体の機械特性を悪化させてしまい好ましくない。逆に、透過率が18%よりも高くなると、第1情報記録層からの反射率が低くなり、記録感度も悪化して全体の信号バランスを調整するのが困難になる。
In the present invention, as described above, the transmittance of the partially transmissive structure at a wavelength of 365 nm is preferably 6 to 18%.
That is, when the transmittance is lower than 6%, it becomes difficult to cure the intermediate layer resin (ultraviolet curable resin) by irradiation with ultraviolet rays from the substrate side as shown in the step (2) of FIG. Or, as confirmed in reliability tests, etc., the curing becomes insufficient and unreacted substances are released from the intermediate layer film, causing irregular defects, or eroding the information recording layer to cause errors and jitter. It may cause a rise. On the other hand, if the UV irradiation time is lengthened, the resin curing failure can be reduced to some extent, but a resin film cured for a long time with low strength generally has a low crosslinking density and low reliability. Moreover, the temperature of the substrate and the apparatus increases due to the long-term irradiation with ultraviolet rays, which deteriorates the mechanical properties of the medium, which is not preferable. On the other hand, when the transmittance is higher than 18%, the reflectance from the first information recording layer is lowered, the recording sensitivity is deteriorated, and it becomes difficult to adjust the overall signal balance.
前述のように本発明による光記録媒体の製造方法の好ましい形態として、紫外線硬化樹脂に含有される光重合開始剤は、波長400nm〜450nmに最大吸光係数を持つものが望ましい。
図5は、図4に示した光重合開始剤(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン)を、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイドに代えた場合の吸収スペクトルを例示したものである。
本発明において好適に用いられるビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイドは、波長435nm付近まで吸収(=光励起感度)を有するため、これを光重合開始剤として用いることによって、図5に示したBの波長範囲の紫外線を効率よく吸収し、紫外線硬化樹脂の硬化反応を促進することができるため、中間層の形成に好適に利用できる。
すなわち、高圧水銀ランプを用いた場合、波長405nmおよび435nmの輝線エネルギーも利用できるようになり、複合層からなる部分透過構造を介して紫外線を照射した場合、低照度でも硬化性の良好な中間層を得ることができる。さらに、紫外線硬化樹脂の硬化に過度な紫外線照射を必要としないため、機械特性や溝信号に優れた光記録媒体を得ることができる。
As described above, as a preferred embodiment of the method for producing an optical recording medium according to the present invention, the photopolymerization initiator contained in the ultraviolet curable resin desirably has a maximum extinction coefficient at a wavelength of 400 nm to 450 nm.
FIG. 5 illustrates an absorption spectrum when the photopolymerization initiator (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone) shown in FIG. 4 is replaced with bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide. Is.
Since bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide preferably used in the present invention has absorption (= photoexcitation sensitivity) up to a wavelength of around 435 nm, it can be used as a photopolymerization initiator. Since it can efficiently absorb ultraviolet rays in the wavelength range B shown in FIG. 5 and accelerate the curing reaction of the ultraviolet curable resin, it can be suitably used for forming an intermediate layer.
That is, when a high-pressure mercury lamp is used, the emission line energy of wavelengths 405 nm and 435 nm can also be used. When irradiating ultraviolet rays through a partial transmission structure composed of a composite layer, an intermediate layer having good curability even at low illuminance Can be obtained. Further, since excessive ultraviolet irradiation is not required for curing the ultraviolet curable resin, an optical recording medium excellent in mechanical characteristics and groove signal can be obtained.
使用する光源の種類(分光特性)や強度、紫外線硬化樹脂(アクリレートオリゴマー/モノマー等)の種類や組成、光重合開始剤の濃度等の違いにより、その好適な吸収特性の臨界値を正確に規定することは困難であるが、光重合開始剤の吸収特性が図4および図5のような特性を示すことから、望ましい光重合開始剤の形態として、波長400nm〜450nmにおける最大吸光係数が10(ml/g・cm)より大きいものを挙げることができる。さらに好ましくは、前記波長域において最大吸光係数が100(ml/g・cm)よりも大きい光重合開始剤、最も好ましくは前記波長域において最大吸光係数が150(ml/g・cm)よりも大きい光重合開始剤を挙げることができる。 The critical value of the preferred absorption characteristics is precisely defined by the difference in the type (spectral characteristics) and intensity of the light source used, the type and composition of the UV curable resin (acrylate oligomer / monomer, etc.), the concentration of the photopolymerization initiator, etc. Although the absorption characteristics of the photopolymerization initiator exhibit the characteristics as shown in FIGS. 4 and 5, the maximum extinction coefficient at a wavelength of 400 nm to 450 nm is 10 ( larger than (ml / g · cm). More preferably, the photopolymerization initiator having a maximum extinction coefficient larger than 100 (ml / g · cm) in the wavelength range, and most preferably the maximum extinction coefficient larger than 150 (ml / g · cm) in the wavelength range. A photoinitiator can be mentioned.
特に好適な光重合開始剤としては、例えば、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル(405nmにおける吸光係数:24ml/g・cm)、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド(同900ml/g・cm)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1(同280ml/g・cm)、2−ジメチルアミノ−2−(4−メチル−ベンジル)−1−(4−モリフォリン−4−イル−フェニル)−ブタン−1−オン(同280ml/g・cm)、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド(同165ml/g・cm)が挙げられる. Particularly suitable photopolymerization initiators include, for example, phenylglyoxylic acid methyl ester (absorption coefficient at 405 nm: 24 ml / g · cm), bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide (900 ml). / g · cm), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 (280 ml / g · cm), 2-dimethylamino-2- (4-methyl-benzyl) ) -1- (4-Morpholin-4-yl-phenyl) -butan-1-one (280 ml / g · cm), 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (165 ml / g · cm) ).
上記の光重合開始剤は単独で用いてもよいし、必要に応じて、その他の光重合開始剤とブレンドして用いてもよい。
上記ブレンドして用いてもよい光重合開始剤としては、例えば、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン,2−ヒドロキシ−1−{4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]−フェニル}−2−メチル−プロパン−1−オン、2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−1−プロパノン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン等を挙げることができる.
Said photoinitiator may be used independently and may be blended with another photoinitiator as needed.
Examples of the photopolymerization initiator that may be used by blending include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, and 2,2-dimethoxy- 1,2-diphenylethane-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- {4 -[4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] -phenyl} -2-methyl-propan-1-one, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1 -Propanone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, isopropylthioxanthone, etc. It is possible.
前述のように、本発明における光記録媒体の好ましい形態として、前記情報記録層が多層膜構成(例えば、〔反射層〕−〔第一誘電体層〕−〔記録層〕−〔第二誘電体層〕)であることが好ましく、多層膜で形成される情報記録層が、酸化ビスマスを主成分とする記録層を含む追記型多層光記録媒体が挙げられる。 As described above, as a preferred form of the optical recording medium in the present invention, the information recording layer has a multilayer structure (for example, [reflective layer]-[first dielectric layer]-[recording layer]-[second dielectric). Layer]), and an information recording layer formed of a multilayer film includes a write-once type multilayer optical recording medium including a recording layer containing bismuth oxide as a main component.
酸化ビスマスを主成分とする記録層における酸化ビスマスには、B、Ga、Pd、Ag、Sb、Te、W、Pt、Au、Al、Cr、Mn、In、Co、Fe、Cu、Ni、Zn、Li、Si、Ge、Zr、Ti、Hf、Sn、Mo、V、およびNbから選択される少なくとも一種類の元素(元素X)を含めることが望ましい。 The bismuth oxide in the recording layer mainly composed of bismuth oxide includes B, Ga, Pd, Ag, Sb, Te, W, Pt, Au, Al, Cr, Mn, In, Co, Fe, Cu, Ni, Zn It is desirable to include at least one element (element X) selected from Li, Si, Ge, Zr, Ti, Hf, Sn, Mo, V, and Nb.
通常、酸化ビスマスが記録層材料全体の50〜95モル%程度を占めるようにすることが好ましい。
酸化ビスマスおよび元素Xは、完全に酸化させる必要はなく、化学量論組成に対して酸素欠損の状態で記録層を構成してもよい。ここでいう化学量論組成とは、常温、常圧下で安定に存在する化合物の持っている組成を指す。例えば、Bi2O3、B2O3、Al2O3、TiO2、In2O3などの酸化物が化学量論組成と言える。化学量論組成よりも酸素の少ない酸素欠損状態とは、Biについて言えばBiOxの形でx<1.5の場合、つまり、BiO1.48などである。酸素欠損のない化学量論組成の場合であれば、BiO1.5になる。
Usually, it is preferable that bismuth oxide accounts for about 50 to 95 mol% of the entire recording layer material.
Bismuth oxide and element X do not need to be completely oxidized, and the recording layer may be configured in an oxygen deficient state with respect to the stoichiometric composition. The stoichiometric composition here refers to a composition possessed by a compound that exists stably at normal temperature and normal pressure. For example, oxides such as Bi 2 O 3 , B 2 O 3 , Al 2 O 3 , TiO 2 , and In 2 O 3 can be said to have a stoichiometric composition. The oxygen deficiency state with less oxygen than the stoichiometric composition is BiOx in the case of x <1.5, that is, BiO 1.48 . In the case of a stoichiometric composition without oxygen deficiency, BiO 1.5 is obtained.
前記記録層が酸化ビスマスのみからなる場合には、再生光による劣化が顕著に起こったり、保存信頼性においてアーカイバルジッターが上昇してしまうため実用的でない。そこで、前述した元素Xを少なくとも一種類添加すると、記録膜の熱伝導率や吸収特性、記録感度、再生光や温度に対する記録マークの安定性などを改善することができる。 When the recording layer is made only of bismuth oxide, it is not practical because deterioration due to reproduction light occurs remarkably or archival jitter increases in storage reliability. Therefore, the addition of at least one element X described above can improve the thermal conductivity, absorption characteristics, recording sensitivity, stability of the recording mark with respect to reproducing light and temperature, and the like.
例えば、記録感度に関しては、添加元素XがBiと同等な酸化物生成エンタルピーを有するGe、Sn、Liなどの場合、これらの酸化物がスパッタ成膜後に酸素を離して単体元素として記録膜中に存在しやすくなるため、光の吸収率が向上して感度の向上を図ることが可能となる。
Li、Na、Mg、K、Ca、Pなどの元素は、酸化ビスマスと共存することによりガラス化し易くなる性質を有する。メカニズムは明らかでないが、準安定なガラス状態が感度向上と関係している可能性がある。また、Cu、Ag、Pdなどの比較的酸化し難い元素は、それ自身が金属として存在することになり、感度の向上が図られると考えている。La系列の元素はBiと比較すると酸化し易いため、Biが単体金属として存在し易くなり、感度向上に関与していると考えられる。
For example, with respect to recording sensitivity, when the additive element X is Ge, Sn, Li, or the like having an oxide generation enthalpy equivalent to Bi, these oxides release oxygen after sputtering to form a single element in the recording film. Since it is easy to exist, the light absorption rate is improved, and the sensitivity can be improved.
Elements such as Li, Na, Mg, K, Ca, and P have the property of being easily vitrified by coexisting with bismuth oxide. Although the mechanism is not clear, a metastable glass state may be associated with increased sensitivity. In addition, elements that are relatively difficult to oxidize, such as Cu, Ag, and Pd, exist as metals themselves, and are considered to improve sensitivity. Since La-based elements are more easily oxidized than Bi, Bi is likely to exist as a single metal, and is considered to be involved in improving sensitivity.
より好ましい別の形態として、記録層の主成分が、Bi、GeおよびOからなる情報記録層を有する多層光記録媒体が挙げられる。
Geを添加した記録層は、光吸収が大きくなり感度が向上し、特に高線速記録において良好な特性を示す。そのメカニズムは明らかではないが、Geを添加することによってBiの酸化が抑制され、Bi金属が析出し易くなることで光の吸収が大きくなり、感度が向上すると考えている。また、Geを添加元素として用いたものは、感度の向上とともに記録パワーマージンも広くなり、安定した記録再生が可能となる。
望ましいGeの含有量は、原子比で0.01≦Ge/(Bi+Ge)≦0.1である。Ge/(Bi+Ge)が0.01よりも小さいと、十分なGe添加効果が得られない。一方、Ge/(Bi+Ge)が0.1よりも大きいと、逆に記録ジッターが高くなってしまい好ましくない。
Another more preferable form is a multilayer optical recording medium having an information recording layer in which the main component of the recording layer is made of Bi, Ge, and O.
The recording layer to which Ge is added increases the light absorption and improves the sensitivity, and exhibits good characteristics particularly in high linear velocity recording. Although the mechanism is not clear, it is believed that the addition of Ge suppresses Bi oxidation and facilitates precipitation of Bi metal, thereby increasing light absorption and improving sensitivity. In addition, when Ge is used as an additive element, sensitivity is improved and a recording power margin is widened, so that stable recording / reproduction is possible.
Desirable Ge content is 0.01 <= Ge / (Bi + Ge) <= 0.1 by atomic ratio. When Ge / (Bi + Ge) is smaller than 0.01, a sufficient Ge addition effect cannot be obtained. On the other hand, if Ge / (Bi + Ge) is larger than 0.1, the recording jitter becomes high on the contrary, which is not preferable.
特に、Bi、GeおよびOからなる記録層とすれば、光吸収が大きく(消衰係数が大きい)、一般に光吸収の小さい誘電体(誘電体保護膜)で挟んだ場合に適度な反射率が得られる。このため、本発明の多層光記録媒体において、図2で示したような記録・再生時に奥側となる第1情報記録層を構成する記録層に適用するのが好適である。
また、Bi金属が析出し易い分、熱伝導性が高くなると考えられる。これにより、反射膜の薄膜化により冷却能が低くなる第1情報記録層や、半透過構造により同様に冷却能が低くなる第2情報記録層において熱伝導性の向上効果が得られ、トラック間クロストークが少なく、低いジッターの光記録媒体が得られる。
In particular, if the recording layer is made of Bi, Ge, and O, light absorption is large (extinction coefficient is large), and generally a moderate reflectance is obtained when sandwiched by a dielectric (dielectric protective film) with small light absorption. can get. Therefore, the multilayer optical recording medium of the present invention is preferably applied to the recording layer constituting the first information recording layer on the back side during recording / reproduction as shown in FIG.
In addition, it is considered that the thermal conductivity is increased because Bi metal is easily deposited. As a result, an effect of improving the thermal conductivity can be obtained in the first information recording layer in which the cooling ability is lowered by reducing the thickness of the reflective film and in the second information recording layer in which the cooling ability is similarly lowered by the semi-transmissive structure. An optical recording medium with low crosstalk and low jitter can be obtained.
図6の斜視図に、本発明における多層光記録媒体の複数の情報記録層が2層構造で各情報記録層が多層膜構成である例を示す。
図6において、記録・再生のための光入射面は図の下側(カバー層側)になる。図6では、基板11の上(図では下)に、中間層13を挟んで多層膜からなる第1情報記録層12および第2情報記録層14がこの順で形成され、カバー層15を介して記録・再生がなされる。
各情報記録層は、基板側から、反射層、上部保護層(第一誘電体層)、酸化ビスマスを含む記録層、下部保護層(第二誘電体層)等で構成され、各層の成膜には公知のスパッタ法等が用いられる。すなわち、第1情報記録層12は、反射層12a、上部保護層12b、酸化ビスマスを含む記録層12c、下部保護層12dから構成され、第2情報記録層は、反射層14a、上部保護層14b、酸化ビスマスを含む記録層14c、下部保護層14dから構成される。
基板は、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ポリオレフィンなどの樹脂を用いて射出成形により製造され、情報記録層積層側に螺旋状のグルーブ溝を有している。基板材料としては、好ましくは例えば、前記部分透過構造に好適な透光性を有し、CDやDVDにおいて実績があって安価なポリカーボネートが選択される。
The perspective view of FIG. 6 shows an example in which a plurality of information recording layers of the multilayer optical recording medium according to the present invention has a two-layer structure and each information recording layer has a multilayer structure.
In FIG. 6, the light incident surface for recording / reproducing is on the lower side (cover layer side) of the drawing. In FIG. 6, a first information recording layer 12 and a second information recording layer 14 made of a multilayer film are formed in this order on the substrate 11 (lower in the figure) with the intermediate layer 13 interposed therebetween, and the cover layer 15 is interposed therebetween. Recording / playback.
Each information recording layer includes, from the substrate side, a reflective layer, an upper protective layer (first dielectric layer), a recording layer containing bismuth oxide, a lower protective layer (second dielectric layer), and the like. For this, a known sputtering method or the like is used. That is, the first information recording layer 12 includes a reflective layer 12a, an upper protective layer 12b, a recording layer 12c containing bismuth oxide, and a lower protective layer 12d. The second information recording layer includes the reflective layer 14a and the upper protective layer 14b. , A recording layer 14c containing bismuth oxide, and a lower protective layer 14d.
The substrate is manufactured by injection molding using a resin such as polycarbonate, acrylic resin, or polyolefin, and has a spiral groove on the information recording layer lamination side. As the substrate material, for example, a polycarbonate having a translucency suitable for the partial transmission structure and having a proven record in CDs and DVDs is preferably selected.
図6において、中間層は光重合開始剤を含有する紫外線硬化樹脂を用いて形成されるが、好ましい形態として、少なくともラジカル重合性アクリレートオリゴマーおよび/または(メタ)アクリレートモノマーと、
光重合開始剤を含む紫外線硬化樹脂を用い、図2の工程(2)に示すように第1情報記録層を形成した後に基板側から光照射して硬化が行われて形成される。光重合開始剤としては、前述のように波長400nm〜450nmにおける最大吸光係数が10(ml/g・cm)より大きいものを含むことが望ましい。
In FIG. 6, the intermediate layer is formed using an ultraviolet curable resin containing a photopolymerization initiator. As a preferred form, at least a radical polymerizable acrylate oligomer and / or a (meth) acrylate monomer,
An ultraviolet curable resin containing a photopolymerization initiator is used, and as shown in step (2) of FIG. 2, the first information recording layer is formed and then cured by light irradiation from the substrate side. As described above, the photopolymerization initiator preferably contains a photopolymerization initiator having a maximum extinction coefficient of greater than 10 (ml / g · cm) at a wavelength of 400 nm to 450 nm.
前記紫外線硬化樹脂は、少なくともラジカル重合性アクリレートオリゴマーおよび/または(メタ)アクリレートモノマーを含むものであるが、ラジカル重合性アクリレートオリゴマーとしては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステルアクリレートなどが好適なものとして挙げられる。 The ultraviolet curable resin contains at least a radical polymerizable acrylate oligomer and / or a (meth) acrylate monomer. Examples of the radical polymerizable acrylate oligomer include urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and polyester acrylate. Are mentioned as preferred.
ウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物および水酸基含有(メタ)アクリレート化合物を反応させて得られる。
上記ウレタン(メタ)アクリレートの反応において用いられる、具体的なポリオール化合物としては、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、分子中に2個以上の水酸基を有する脂肪族炭化水素、分子中に2個以上の水酸基を有する脂環式炭化水素、分子中に2個以上の水酸基を有する不飽和炭化水素等が挙げられる。これらのポリオールは単独で用いることも、2種類以上併用することもできる。
The urethane (meth) acrylate is obtained, for example, by reacting a polyol compound, a polyisocyanate compound, and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound.
Specific polyol compounds used in the reaction of the urethane (meth) acrylate include polyether polyols, polyester polyols, polycarbonate polyols, polycaprolactone polyols, aliphatic hydrocarbons having two or more hydroxyl groups in the molecule, molecules Examples thereof include alicyclic hydrocarbons having two or more hydroxyl groups, unsaturated hydrocarbons having two or more hydroxyl groups in the molecule, and the like. These polyols can be used alone or in combination of two or more.
前記ポリエーテルポリオールとしては、脂肪族ポリエーテルポリオール、脂環式ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオールを挙げることができる。ここで、脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリヘプタメチレングリコール、ポリデカメチレングリコール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、及びトリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付加トリオール、トリメチロールプロパンのプロピレンオキサイド付加トリオール、トリメチロールプロパンのエチレンオキサイドとプロピレンオキサイド付加トリオール、ペンタエリスリトールのエチレンオキサイド付加テトラオール、ジペンタエリスリトールのエチレンオキサイド付加ヘキサオール等のアルキレンオキサイド付加ポリオール等の多価アルコール、あるいは2種類以上のイオン重合性環状化合物を開環重合させて得られるポリエーテルポリオール等が挙げられる。 Examples of the polyether polyol include aliphatic polyether polyols, alicyclic polyether polyols, and aromatic polyether polyols. Here, as the aliphatic polyether polyol, for example, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, polyhexamethylene glycol, polyheptamethylene glycol, polydecamethylene glycol, pentaerythritol, dipentaerythritol, trimethylolpropane, And trimethylolpropane ethylene oxide addition triol, trimethylolpropane propylene oxide addition triol, trimethylolpropane ethylene oxide and propylene oxide addition triol, pentaerythritol ethylene oxide addition tetraol, dipentaerythritol ethylene oxide addition hexaol, etc. Polyhydric alcohols such as alkylene oxide addition polyols Alternatively polyether polyols such as two or more ion-polymerizable cyclic compounds obtained by ring-opening polymerization.
上記脂環式ポリエーテルポリオールとしては、例えば、水添ビスフェノールAのアルキレンオキシド付加ジオール、水添ビスフェノールFのアルキレンオキシド付加ジオール、1,4−シクロヘキサンジオールのアルキレンオキシド付加ジオール等が挙げられる。
また、芳香族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、ビスフェノールAのアルキレンオキシド付加ジオール、ビスフェノールFのアルキレンオキシド付加ジオール、ハイドロキノンのアルキレンオキシド付加ジオール、ナフトハイドロキノンのアルキレンオキシド付加ジオール、アントラハイドロキノンのアルキレンオキシド付加ジオール等が挙げられる。
Examples of the alicyclic polyether polyol include hydrogenated bisphenol A alkylene oxide addition diol, hydrogenated bisphenol F alkylene oxide addition diol, 1,4-cyclohexanediol alkylene oxide addition diol, and the like.
As the aromatic polyether polyol, for example, alkylene oxide addition diol of bisphenol A, alkylene oxide addition diol of bisphenol F, alkylene oxide addition diol of hydroquinone, alkylene oxide addition diol of naphthohydroquinone, alkylene oxide addition diol of anthrahydroquinone Etc.
前記ポリエーテルポリオールとして市販品を用いることができる。例えば、脂肪族ポリエーテルポリオールとして、PTMG650、PTMG1000、PTMG2000(以上、三菱化学(株)製)、PPG1000、EXCENOL1020、EXCENOL2020、EXCENOL3020、EXCENOL4020(以上、旭硝子(株)製)、PEG1000、ユニセーフDC1100、ユニセーフDC1800、ユニセーフDCB1100、ユニセーフDCB1800(以上、日本油脂(株)製)、PPTG1000、PPTG2000、PPTG4000、PTG400、PTG650、PTG2000、PTG3000、PTGL1000、PTGL2000(以上、保土谷化学工業(株)製)、Z−3001−4、Z−3001−5、PBG2000、PBG2000B(以上、第一工業製薬(株)製)、TMP30、PNT4グリコール、EDA
P4、 EDA P8(以上、日本乳化剤(株)製)、クオドロール(旭電化(株)製)等が挙げられる。また、芳香族ポリエーテルポリオールとして、ユニオールDA400、DA700、DA1000、DB400(以上、日本油脂(株)製)等を挙げることができる。
A commercially available product can be used as the polyether polyol. For example, as an aliphatic polyether polyol, PTMG650, PTMG1000, PTMG2000 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), PPG1000, EXCENOL1020, EXCENOL2020, EXCENOL3020, EXCENOL4020 (above, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), PEG1000, Unisafe DC1100, Unisafe DC1100 DC1800, Unisafe DCB1100, Unisafe DCB1800 (Nippon Yushi Co., Ltd.), PPTG1000, PPTG2000, PPTG4000, PTG400, PTG650, PTG2000, PTG3000, PTGL1000, PTGL2000 (above, Hodogaya Chemical Co., Ltd.), Z- 3001-4, Z-3001-5, PBG2000, PBG2000B Medicine Co., Ltd.), TMP30, PNT4 glycol, EDA
P4, EDA P8 (above, Nippon Emulsifier Co., Ltd.), Quadrol (Asahi Denka Co., Ltd.), etc. are mentioned. In addition, examples of the aromatic polyether polyol include Uniol DA400, DA700, DA1000, DB400 (manufactured by NOF Corporation) and the like.
また、前記ポリエステルポリオールとして、多価アルコールと多塩基酸とを反応させて得られるものが挙げられる。
ここで、多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,2−ビス(ヒドロキシエチル)シクロヘキサン、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールプロパンのエチレンオキシド付加体、トリメチロールプロパンのプロピレンオキシド付加体、トリメチロールプロパンのエチレンオキシドとプロピレンオキシドの付加体、ソルビトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、アルキレンオキシド付加ポリオール等が挙げられる。
また、多塩基酸としては、例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマル酸、アジピン酸、セバシン酸等が挙げられる。
Moreover, what is obtained by making a polyhydric alcohol and a polybasic acid react as said polyester polyol is mentioned.
Here, as the polyhydric alcohol, for example, ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6- Hexanediol, 1,7-heptanediol, 1,8-octanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,2-bis (hydroxyethyl) cyclohexane, 2,2 -Ethylene of diethyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, glycerin, trimethylolpropane, trimethylolpropane Oxide adducts, propylene oxide adducts of trimethylol propane, the adduct of ethylene oxide and propylene oxide trimethylolpropane, sorbitol, pentaerythritol, dipentaerythritol, alkylene oxide addition polyol, and the like.
Examples of the polybasic acid include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, maleic acid, fumaric acid, adipic acid, and sebacic acid.
上記ポリエステルポリオールとして市販品を用いることができる。例えば、クラポールP1010、クラポールP2010、PMIPA、PKA−A、PKA−A2、PNA−2000(以上、(株)クラレ製)等を使用することができる。 A commercial item can be used as said polyester polyol. For example, Kurapol P1010, Kurapol P2010, PMIPA, PKA-A, PKA-A2, PNA-2000 (above, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and the like can be used.
また、前記ポリカーボネートポリオールとしては、例えば、下記一般式(1)で示されるポリカーボネートジオールが挙げられる。 Moreover, as said polycarbonate polyol, the polycarbonate diol shown by following General formula (1) is mentioned, for example.
[式(1)中、R1は炭素数2〜20のアルキレン基、(ポリ)エチレングリコール残基、(ポリ)プロピレングリコール残基、(ポリ)テトラメチレングリコール残基を表し、mは1〜30の整数である。] [In the formula (1), R 1 represents an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, a (poly) ethylene glycol residue, a (poly) propylene glycol residue, a (poly) tetramethylene glycol residue; It is an integer of 30. ]
R1の具体例としては、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール等のジオールあるいはグリコール化合物の両末端水酸基を除いた残基が挙げられる。 Specific examples of R 1 include 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,7-heptanediol, Diols such as 8-octanediol, 1,9-nonanediol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, tetrapropylene glycol, etc. Excluded residues are mentioned.
前記ポリカーボネートポリオールとして市販品を用いることができる。例えば、DN−980、DN−981、DN−982、DN−983(以上、日本ポリウレタン工業(株)製)、PC−8000(PPG社製)、PNOC1000、PNOC2000、PMC100、PMC2000(以上、(株)クラレ製)、プラクセル
CD−205、CD−208、CD−210、CD−220、CD−205PL、CD−208PL、CD−210PL、CD−220PL、CD−205HL、CD−208HL、CD−210HL、CD−220HL、CD−210T、CD−221T(以上、ダイセル化学工業(株)製)等を使用することができる。
A commercially available product can be used as the polycarbonate polyol. For example, DN-980, DN-981, DN-982, DN-983 (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.), PC-8000 (manufactured by PPG), PNOC1000, PNOC2000, PMC100, PMC2000 (and (Made by Kuraray), Plaxel CD-205, CD-208, CD-210, CD-220, CD-205PL, CD-208PL, CD-210PL, CD-220PL, CD-205HL, CD-208HL, CD-210HL, CD-220HL, CD-210T, CD-221T (above, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) and the like can be used.
前記ポリカプロラクトンポリオールとしては、εーカプロラクトンを、例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,2−ポリブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,4−ブタンジオール等のジオールに付加反応させて得られるポリカプロラクトンジオールが挙げられる。
ポリカプロラクトンポリオールとして市販品を用いることができる。このような市販品として、例えば、プラクセル
205、205AL、212、212AL、220、220AL(以上、ダイセル化学工業(株)製)等を使用することができる。
Examples of the polycaprolactone polyol include ε-caprolactone such as ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,2-polybutylene glycol, 1,6-hexanediol, Examples thereof include polycaprolactone diols obtained by addition reaction with diols such as neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol and 1,4-butanediol.
A commercially available product can be used as the polycaprolactone polyol. As such a commercially available product, for example, Plaxel 205, 205AL, 212, 212AL, 220, 220AL (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) can be used.
分子中に2個以上の水酸基を有する脂肪族炭化水素としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、ヒドロキシ末端水添ポリブタジエン、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール等が挙げられる。 Examples of the aliphatic hydrocarbon having two or more hydroxyl groups in the molecule include ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1, 7-heptanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, neopentyl glycol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2-methyl -1,8-octanediol, hydroxy-terminated hydrogenated polybutadiene, glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, sorbitol and the like.
分子中に2個以上の水酸基を有する脂環式炭化水素としては、例えば、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,2−ビス(ヒドロキシエチル)シクロヘキサン、ジシクロペンタジエンのジメチロール化合物、トリシクロデカンジメタノール等が挙げられる。
分子中に2個以上の水酸基を有する不飽和炭化水素としては、例えば、ヒドロキシ末端ポリブタジエン、ヒドロキシ末端ポリイソプレン等が挙げられる。
Examples of alicyclic hydrocarbons having two or more hydroxyl groups in the molecule include 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,2-bis (hydroxyethyl) cyclohexane, and dicyclopentadiene. Examples thereof include a dimethylol compound and tricyclodecane dimethanol.
Examples of the unsaturated hydrocarbon having two or more hydroxyl groups in the molecule include hydroxy-terminated polybutadiene and hydroxy-terminated polyisoprene.
さらにまた、上記以外のポリオールとしては、例えば、β−メチル−δ−バレロラクトンジオール、ひまし油変性ジオール、ポリジメチルシロキサンの末端ジオール化合物、ポリジメチルシロキサンカルビトール変性ジオール等が挙げられる。
これらのポリオール化合物の好ましい平均分子量は50〜15000、特に好ましくは100〜8000である。
Furthermore, examples of polyols other than the above include β-methyl-δ-valerolactone diol, castor oil-modified diol, terminal diol compound of polydimethylsiloxane, polydimethylsiloxane carbitol-modified diol, and the like.
The preferred average molecular weight of these polyol compounds is 50 to 15000, particularly preferably 100 to 8000.
また、前記ポリイソシアネート化合物としてはジイソシアネート化合物が好ましい。
例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3,3´−ジメチル−4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3´−ジメチルフェニレンジイソシアネート、4,4´−ビフェニレンジイソシアネート、1,6−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ビス(2−イソシアネートエチル)フマレート、6−イソプロピル−1,3−フェニルジイソシアネート、4−ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート等が挙げられる。
これらのうち、特に2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート等が好ましい。これらのジイソシアネートは単独または2種類以上を組み合わせて用いることができる。
The polyisocyanate compound is preferably a diisocyanate compound.
For example, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate 3,3'-dimethyl-4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 3,3'-dimethylphenylene diisocyanate, 4,4'-biphenylene diisocyanate, 1,6-hexane diisocyanate, isophorone diisocyanate 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, bis (2-isocyanatoethyl) fumarate, 6-isopropyl-1,3-phenyl diisocyanate, 4-diphenylpropyl Examples include lopan diisocyanate, lysine diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, and tetramethylxylylene diisocyanate.
Among these, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate and the like are particularly preferable. These diisocyanates can be used alone or in combination of two or more.
また、前記水酸基含有(メタ)アクリレートは、エステル残基に水酸基を有する(メタ)アクリレートであり、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシアルキル(メタ)アクリロイルホスフェート、4−ヒドロキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、あるいは下記一般式(2)で表される(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Moreover, the said hydroxyl-containing (meth) acrylate is a (meth) acrylate which has a hydroxyl group in an ester residue, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl ( (Meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, 2-hydroxyalkyl (meth) acryloyl phosphate, 4-hydroxycyclohexyl (meth) acrylate, 1 , 6-hexanediol mono (meth) acrylate, neopentyl glycol mono (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolethane di (meth) acrylate, pentaerythritol tri Meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate or represented by the following general formula (2) (meth) acrylate, and the like.
[式(2)中、R2は水素原子またはメチル基を示し、nは1〜15、好ましくは1〜4の整数を示す。] [In formula (2), R 2 represents a hydrogen atom or a methyl radical, n is 1 to 15, preferably an integer of 1-4. ]
さらに、アルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル基含有化合物と(メタ)アクリル酸との付加反応により得られる化合物も挙げることができる。
これらのうち、特に2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートが好ましい。
Furthermore, the compound obtained by addition reaction of glycidyl group containing compounds, such as alkyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, and glycidyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid can also be mentioned.
Of these, hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate are particularly preferable.
本発明に用いられる紫外線硬化樹脂に好適なウレタン(メタ)アクリレートの合成方法は特に制限されないが、例えば、以下の(i)〜(iii)の方法に従って行われる。
(i)ポリイソシアネートおよび水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させ、次いでポリオールの順に反応させる方法。
(ii)ポリオール、ポリイソシアネート、水酸基含有(メタ)アクリレートを一括に仕込んで反応させる方法。
(iii)ポリオールおよびポリイソシアネートを反応させ、次いで水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させる方法。
Although the synthesis | combining method of urethane (meth) acrylate suitable for the ultraviolet curable resin used for this invention is not restrict | limited in particular, For example, it carries out according to the method of the following (i)-(iii).
(I) A method in which a polyisocyanate and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate are reacted and then reacted in the order of polyol.
(Ii) A method in which a polyol, a polyisocyanate, and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate are charged together and reacted.
(Iii) A method of reacting a polyol and a polyisocyanate and then reacting a hydroxyl group-containing (meth) acrylate.
上記ウレタン(メタ)アクリレートの合成においては通常、ナフテン酸銅、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ジラウリル酸ジ−n−ブチルスズ、トリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ〔2.2.2〕オクタン、1,4−ジアザ−2−メチルビシクロ〔2.2.2〕オクタン等のウレタン化触媒を、反応物の総量100重量部に対して0.01〜1重量部用いて反応を行うのが好ましい。この反応における反応温度は、通常0〜90℃、好ましくは10〜80℃である。
また、ウレタン(メタ)アクリレートの好ましい数平均分子量は、400〜40000であり、特に600〜20000であることが好ましい。
In the synthesis of the urethane (meth) acrylate, usually, copper naphthenate, cobalt naphthenate, zinc naphthenate, di-n-butyltin dilaurate, triethylamine, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 1, The reaction is preferably performed using 0.01 to 1 part by weight of a urethanization catalyst such as 4-diaza-2-methylbicyclo [2.2.2] octane with respect to 100 parts by weight of the total amount of the reactants. The reaction temperature in this reaction is usually 0 to 90 ° C, preferably 10 to 80 ° C.
Moreover, the preferable number average molecular weights of urethane (meth) acrylate are 400-40000, and it is especially preferable that it is 600-20000.
本発明に用いられる紫外線硬化樹脂に好適なラジカル重合性オリゴマーのうち、エポキシ(メタ)アクリレートとしては、グリシジルエーテル型エポキシ化合物と(メタ)アクリル酸を反応させて得られるものが挙げられる。 Among the radical polymerizable oligomers suitable for the ultraviolet curable resin used in the present invention, examples of the epoxy (meth) acrylate include those obtained by reacting a glycidyl ether type epoxy compound with (meth) acrylic acid.
上記グリシジルエーテル型エポキシ化合物としては、ビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキシド付加体のジグリシジルエーテル、ビスフェノールFあるいはそのアルキレンオキシド付加体のジグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールAあるいはそのアルキレンオキシド付加体のジグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールFあるいはそのアルキレンオキシド付加体のジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテル、へキサンジオールジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等を挙げることができる。 Examples of the glycidyl ether type epoxy compound include diglycidyl ether of bisphenol A or its alkylene oxide adduct, diglycidyl ether of bisphenol F or its alkylene oxide adduct, diglycidyl ether of hydrogenated bisphenol A or its alkylene oxide adduct, Diglycidyl ether of hydrogenated bisphenol F or its alkylene oxide adduct, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, butanediol diglycidyl ether, hexanediol diglycidyl ether, cyclohexanedimethanol Diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, etc. Rukoto can.
本発明に用いられる紫外線硬化樹脂に好適なエポキシ(メタ)アクリレートは、例えば、上記グリシジルエーテル型エポキシ化合物のエポキシ基1当量に対して(メタ)アクリル酸を0.9〜1.5モル、より好ましくは0.95〜1.1モルの比率で反応させて得られる。この場合の反応温度は80〜120℃が好ましく、反応時間は10〜35時間程度である。 The epoxy (meth) acrylate suitable for the ultraviolet curable resin used in the present invention is, for example, 0.9 to 1.5 mol of (meth) acrylic acid with respect to 1 equivalent of the epoxy group of the glycidyl ether type epoxy compound. The reaction is preferably carried out at a ratio of 0.95 to 1.1 mol. In this case, the reaction temperature is preferably 80 to 120 ° C., and the reaction time is about 10 to 35 hours.
反応を促進させるために、例えば、トリフェニルフォスフィン、TAP(2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール)、トリエタノールアミン、テトラエチルアンモニウムクロリド等の触媒を使用するのが好ましい。また、反応中の重合を防止するために重合禁止剤(例えば、パラメトキシフェノール、メチルハイドロキノン等)を使用することもできる。 In order to accelerate the reaction, for example, a catalyst such as triphenylphosphine, TAP (2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol), triethanolamine, tetraethylammonium chloride is preferably used. In addition, a polymerization inhibitor (for example, paramethoxyphenol, methylhydroquinone, etc.) can be used to prevent polymerization during the reaction.
エポキシ(メタ)アクリレートの分子量としては、400〜10000が好ましい。エポキシ(メタ)アクリレートは1種または2種以上を混合して使用することができる。エポキシ(メタ)アクリレートを紫外線硬化樹脂の組成分として含有させる場合、その含有量は通常1〜30重量%、好ましくは5〜20重量%である。 The molecular weight of the epoxy (meth) acrylate is preferably 400 to 10,000. Epoxy (meth) acrylates can be used alone or in combination of two or more. When the epoxy (meth) acrylate is contained as a component of the ultraviolet curable resin, the content is usually 1 to 30% by weight, preferably 5 to 20% by weight.
本発明に用いられる紫外線硬化樹脂に好適なエポキシ(メタ)アクリレートとしては、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレートや、フェノールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレートを挙げることができる。
上記アクリレートに用いられるビスフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば、エピコート828、エピコート1001、エピコート1004等(いずれも油化シェルエポキシ社の商品名)のビスフェノールA型エポキシ樹脂や、エピコート4001P、エピコート4002P、エピコート4003P(いずれも油化シェルエポキシ社の商品名)等のビスフェノールF型エポキシ樹脂等が挙げられる。
Examples of the epoxy (meth) acrylate suitable for the ultraviolet curable resin used in the present invention include bisphenol A type epoxy (meth) acrylate and phenol novolac type epoxy (meth) acrylate.
Examples of the bisphenol-type epoxy resin used in the acrylate include bisphenol A-type epoxy resins such as Epicoat 828, Epicoat 1001, Epicoat 1004, etc. (all are trade names of Yuka Shell Epoxy), Epicoat 4001P, Epicoat 4002P, and Epicoat. Bisphenol F type epoxy resin such as 4003P (all are trade names of Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) and the like.
本発明に用いられる紫外線硬化樹脂に好適なラジカル重合性オリゴマーのうち、ポリエステルアクリレートとしては、例えば、多価アルコールと多塩基酸との反応によって得られるポリエステルポリオールと(メタ)アクリル酸との反応物が挙げられる。
ここで使用される多価アルコールとしては、例えば、ネオペンチルグリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン等が挙げられる。また、多塩基酸としては、例えば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。
Among the radically polymerizable oligomers suitable for the ultraviolet curable resin used in the present invention, as the polyester acrylate, for example, a reaction product of a polyester polyol obtained by a reaction between a polyhydric alcohol and a polybasic acid and (meth) acrylic acid Is mentioned.
Examples of the polyhydric alcohol used here include neopentyl glycol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,6-hexanediol, and trimethylolpropane. Examples of the polybasic acid include succinic acid, phthalic acid, hexahydrophthalic anhydride, adipic acid, azelaic acid, tetrahydrophthalic anhydride, and the like.
本発明に用いられる光硬化性樹脂に好適な(メタ)アクリレートモノマーからなる反応性希釈剤として、一分子中に(メタ)アクリロイル基を少なくとも一個有する(メタ)アクリレート化合物が挙げられる。これらの成分としては、(メタ)アクリロイル基を一つだけ有する単官能化合物と二つ以上有する多官能化合物の何れの化合物を用いてもよく、適当な比率で併用してもよい。 Examples of the reactive diluent composed of a (meth) acrylate monomer suitable for the photocurable resin used in the present invention include (meth) acrylate compounds having at least one (meth) acryloyl group in one molecule. As these components, any of a monofunctional compound having only one (meth) acryloyl group and a polyfunctional compound having two or more may be used, and they may be used in combination at an appropriate ratio.
上記単官能化合物としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートが光ディスクの耐湿熱性向上の点から好ましく用いられる。
また、その他の単官能化合物として、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、7−アミノ−3,7−ジメチルオクチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルホリン、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレート、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ジフェニルホスフェート、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシプロピル〕ホスフェート等を挙げることができる。
As the monofunctional compound, hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate are used from the viewpoint of improving the moisture and heat resistance of the optical disc. Preferably used.
Other monofunctional compounds include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) ) Acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (Meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, lauryl (Meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, Phenoxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxyethylene glycol mono (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethoxyethyl (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (Meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, dicyclo Antadienyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, Dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, 7-amino-3,7-dimethyloctyl (meth) acrylate, (meth) acryloylmorpholine, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid, 2- ( (Meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropylphthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyltetrahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxy Cypropylhexahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, hexafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, Heptadecafluorodecyl (meth) acrylate, mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate, mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] diphenyl phosphate, mono [2- (meth) acryloyloxypropyl] phosphate, etc. Can be mentioned.
これらの市販品としては、アロニックス M101、M102、M110、M111、M113、M114、M117、M120、M152、M154、M5300、M5400、M5500、M5600(以上、東亞合成(株)製)、KAYARAD
TC−110S、R−128H、R629、R644(以上、日本化薬(株)製)、IPAA、AIB、SBAA、TBA、IAAA、HEXA、CHA、NOAA、IOAA、INAA、LA、TDA、MSAA、CAA、HDAA、LTA、STA、ISAA−1、ODAA、NDAA、IBXA、ADAA、TCDA、2−MTA、DMA、ビスコート
#150、#150D、#155、#158、#160、#190、#190D、#192、#193、#220、#320、#2311HP、#2000、#2100、#2150、#2180、MTG(以上、大阪有機化学工業(株)製)、NKエステル
M−20G、M−40G、M−90G、M−230G、CB−1、SA、S、AMP−10G、AMP−20G、AMP−60G、AMP−90G、A−SA、NLA(以上、新中村化学工業(株)製)、ACMO((株)興人製)、ライトアクリレート
IA−A、L−A、S−A、BO−A、EC−A、MTG−A、DPM−A、PO−A、P−200A、THF−A、IB−XA、HOA−MS、HOA−MPL、HOA−MPE、HOA−HH、IO−A、BZ−A、NP−EA、NP−10EA、HOB−A、FA−108、エポキシエステルM−600A、ライトエステルP−M(以上、共栄社化学(株)製)、FA−511、FA−512A、FA−513A(以上、日立化成工業(株)製)、AR−100、MR−100、MR−200、MR−260(以上、大八化学(株)製)、JAMP−100、JAMP−514、JPA−514(以上、城北化学(株)製)等が挙げられる。
As these commercially available products, Aronix M101, M102, M110, M111, M113, M114, M117, M120, M152, M154, M5300, M5400, M5500, M5600 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), KAYARAD
TC-110S, R-128H, R629, R644 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), IPAA, AIB, SBAA, TBA, IAAA, HEXA, CHA, NOAA, IOAA, INAA, LA, TDA, MSAA, CAA , HDAA, LTA, STA, ISAA-1, ODAA, NDAA, IBXA, ADAA, TCDA, 2-MTA, DMA, Biscote # 150, # 150D, # 155, # 158, # 160, # 190, # 190D, # 192, # 193, # 220, # 320, # 2311HP, # 2000, # 2100, # 2150, # 2180, MTG (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), NK ester M-20G, M-40G, M-90G, M-230G, CB-1, SA, S, AMP-10G, AMP-20G, AMP-6 G, AMP-90G, A-SA, NLA (above, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), ACMO (manufactured by Kojin Co., Ltd.), light acrylate IA-A, LA, SA, BO- A, EC-A, MTG-A, DPM-A, PO-A, P-200A, THF-A, IB-XA, HOA-MS, HOA-MPL, HOA-MPE, HOA-HH, IO-A, BZ-A, NP-EA, NP-10EA, HOB-A, FA-108, epoxy ester M-600A, light ester PM (above, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), FA-511, FA-512A, FA-513A (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), AR-100, MR-100, MR-200, MR-260 (manufactured by Daihachi Chemical Co., Ltd.), JAMP-100, JAMP-514, JPA-514 (above, castle Chemical Co., Ltd.), and the like.
また、上記多官能化合物としては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシプロピル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンポリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジエポキシジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFジエポキシジ(メタ)アクリレート、ビス〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート、ビス〔2−(メタ)アクリロイルオキシプロピル〕ホスフェート、トリス〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホスフェート等の(E)多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of the polyfunctional compound include ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, and 1,6-hexanediol di (meth) acrylate. 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (Meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopen Diglycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate , Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane trioxyethyl (meth) acrylate, trimethylolpropane polyoxyethyl (meth) acrylate, trimethylolpropane trioxypropyl (meth) acrylate, trimethylolpropane polyoxyethyl ( (Meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, tris (2-hydroxy) Cyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, ethylene oxide-added bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide-added bisphenol F di (meth) acrylate, propylene oxide-added bisphenol A di (meth) acrylate, propylene oxide-added bisphenol F di (meth) Acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, bisphenol A diepoxy di (meth) acrylate, bisphenol F diepoxy di (meth) acrylate, bis [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate, bis [2- (meth) acryloyl (E) polyfunctional (meth) acrylates such as oxypropyl] phosphate and tris [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate The
これらの市販品としては、SA−1002、SA−2006、SA−2007、SA−4100、
SA−5001、SA−6000、SA−7600、SA−8000、SA−9000(以上、三菱化学(株)製)、ビスコート #195、#195D、#214HP、#215、#215D、#230、#230D、#260、#295、#295D、#300、#310HP、#310HG、#312、#335HP、#335D、#360、GPT、#400、V#540、#700、GPT(以上、大阪有機化学工業(株)製)、KAYARADMANDA、R−526、NPGDA、PEG400DA、R−167、HX−220、HX−620、R−551、R−712、R−604、R−684、GPO−303、TMPTA、THE−330、TPA−320、TPA−330、PET−30、RP−1040、T−1420、DPHA、D−310、D−330、DPCA−20、DPCA−30、DPCA−60、DPCA−120(以上、日本化薬(株)製)、アロニックス
M−210、M−208、M−215、M−220、M−225、M−233、M−240、M−245、M−260、M−270、M−305、M−309、M−310、M−315、M−320、M−350、M−360、M−400、M−408、M−450(以上、東亞合成(株)製)、SR−212、SR−213、SR−355(以上、サートマー社製)、SP−1506、SP−1507、SP−1509、SP−1519−1、SP−1563、SP−2500、VR60、VR77、VR90(以上、昭和高分子(株)製)、ライトエステルP−2M(以上、共栄社化学(株)製)、ビスコート3PA(大阪有機化学工業(株)製)、EB−169、EB−179、EB−3603、R−DX63182(以上、ダイセルUCB(株)製)等が挙げられる。
前記反応性希釈剤のうち、前述のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートと多官能(メタ)アクリレートを組み合わせて用いるのが特に好ましい。
As these commercial products, SA-1002, SA-2006, SA-2007, SA-4100,
SA-5001, SA-6000, SA-7600, SA-8000, SA-9000 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Biscote # 195, # 195D, # 214HP, # 215, # 215D, # 230, # 230D, # 260, # 295, # 295D, # 300, # 310HP, # 310HG, # 312, # 335HP, # 335D, # 360, GPT, # 400, V # 540, # 700, GPT (Osaka Organic) Chemical Industry Co., Ltd.), KAYARADMANDA, R-526, NPGDA, PEG400DA, R-167, HX-220, HX-620, R-551, R-712, R-604, R-684, GPO-303, TMPTA, THE-330, TPA-320, TPA-330, PET-30, RP-1040, T-142 0, DPHA, D-310, D-330, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix M-210, M-208, M- 215, M-220, M-225, M-233, M-240, M-245, M-260, M-270, M-305, M-309, M-310, M-315, M-320, M-350, M-360, M-400, M-408, M-450 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), SR-212, SR-213, SR-355 (above, manufactured by Sartomer), SP -1506, SP-1507, SP-1509, SP-1519-1, SP-1563, SP-2500, VR60, VR77, VR90 (above, Showa Polymer Co., Ltd.), light ester P-2M (above, Mutual prosperity Chemical Co., Ltd.), Viscoat 3PA (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry (Ltd.)), EB-169, EB-179, EB-3603, R-DX63182 (or, Daicel UCB Co., and the like, Ltd.) and the like.
Of the reactive diluents, it is particularly preferable to use a combination of the aforementioned hydroxyalkyl (meth) acrylate and polyfunctional (meth) acrylate.
前述のように、本発明の情報記録層は多層膜構成とするのが好ましい。多層膜構成としては、例えば、基板側から順に、反射層、第一誘電体層(上部保護層)、記録層、第二誘電体層(下部保護層)からなる構成が挙げられる。
上記第一誘電体層(上部保護層)および第二誘電体層(下部保護層)の材料としては、金属や半導体の酸化物、硫化物、窒化物、炭化物等の透明性が高い高融点材料を用いることができる。
具体的には、SiOx、ZnO、SnO2、Al2O3、TiO2、In2O3、MgO、ZrO2、Ta2O5等の酸化物、Si3N4、AlN、TiN、BN、ZrN等の窒化物、ZnS、TaS4等の硫化物、SiC、TaC、B4C、WC、TiC、ZrC等の炭化物が挙げられ、単体または混合物として、あるいは2層以上からなる多層構造の形態で用いることができる。
As described above, the information recording layer of the present invention preferably has a multilayer structure. Examples of the multilayer film configuration include a configuration including a reflective layer, a first dielectric layer (upper protective layer), a recording layer, and a second dielectric layer (lower protective layer) in this order from the substrate side.
The material of the first dielectric layer (upper protective layer) and the second dielectric layer (lower protective layer) is a high-melting-point material having high transparency such as metal, semiconductor oxide, sulfide, nitride, and carbide. Can be used.
Specifically, SiOx, ZnO, SnO 2, Al 2 O 3, TiO 2, In 2 O 3, MgO, ZrO 2, Ta oxides such 2 O 5, Si 3 N 4 , AlN, TiN, BN, Examples include nitrides such as ZrN, sulfides such as ZnS and TaS 4 , carbides such as SiC, TaC, B 4 C, WC, TiC, and ZrC, and forms of a single layer or a mixture or a multilayer structure including two or more layers Can be used.
誘電体層に最適な材料は、屈折率、熱伝導率、化学的安定性、機械的強度、密着性等に留意して決定される。中でも、ZnSを60〜90モル%含むSiO2との混合膜は、高温環境下での膜自身の結晶化や記録層との化学変化、膜変形がないため望ましい。
上部保護層は、記録層と反射層との反応を抑え、反射膜への熱伝導性を適切に制御する機能を有し、好ましい膜厚は5〜30nmである。
下部保護層は、光学干渉効果により各情報記録層の反射率に影響し、好ましい膜厚は5〜100nmである。特に、第2情報記録層の下部保護層は、カバー層側からの水分や酸素等の透過を防ぎ、過度なカバー層の熱変形を抑える機能を有するため、十分に厚いことが望ましく、好ましくい膜厚は25〜100nmである。
The optimum material for the dielectric layer is determined in consideration of the refractive index, thermal conductivity, chemical stability, mechanical strength, adhesion, and the like. Among these, a mixed film with SiO 2 containing 60 to 90 mol% of ZnS is preferable because there is no crystallization of the film itself, chemical change with the recording layer, and film deformation under a high temperature environment.
The upper protective layer has a function of suppressing the reaction between the recording layer and the reflective layer and appropriately controlling the thermal conductivity to the reflective film, and the preferred film thickness is 5 to 30 nm.
The lower protective layer affects the reflectance of each information recording layer by the optical interference effect, and the preferred film thickness is 5 to 100 nm. In particular, the lower protective layer of the second information recording layer has a function of preventing moisture and oxygen from permeating from the cover layer side and suppressing excessive thermal deformation of the cover layer. The film thickness is 25 to 100 nm.
前記反射層の材料としては、再生光の波長で反射率が十分高いもの、例えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、Pt、Ta、Pdなどの金属を単独であるいは合金にして用いることができる。中でも、Au、Al、Agは反射率が高く、熱伝導性も良好なので、反射層の材料として適している。また、上記金属を主成分として他の元素を含んだ合金でもよく、他の元素としては、Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金属および半金属を挙げることができる。 As the material of the reflective layer, a material having a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, a metal such as Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, Pt, Ta, Pd, alone or in an alloy is used. Can be used. Among them, Au, Al, and Ag are suitable as a material for the reflective layer because of their high reflectivity and good thermal conductivity. Further, an alloy containing the above metal as a main component and containing other elements may be used. Examples of other elements include Mg, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Mention may be made of metals and metalloids such as Zn, Cd, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi.
特に、第1情報記録層の反射層としては、記録再生波長の405nmに対して良好な反射率と透過率を有する、すなわち吸収が少ないAg合金を用いることが望ましい。反射層がAg合金の場合、基板側から紫外線を照射して中間層を硬化させるために25〜45nmの膜厚とすることが好ましい。 In particular, as the reflective layer of the first information recording layer, it is desirable to use an Ag alloy having good reflectance and transmittance, that is, low absorption with respect to the recording / reproducing wavelength of 405 nm. In the case where the reflective layer is an Ag alloy, the film thickness is preferably 25 to 45 nm in order to cure the intermediate layer by irradiating ultraviolet rays from the substrate side.
第2情報記録層の反射層にもAg合金を使うことができるが、上部保護層がZnSとSiO2との混合膜からなる場合、硫化反応によって反射膜が劣化してしまうため、反射層と上部保護層間にバリア層を設けねばならず、層構成が複雑になってしまう。これを避けるために、上部保護層と屈折率や消衰係数の異なる膜との積層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。 An Ag alloy can also be used for the reflective layer of the second information recording layer. However, when the upper protective layer is made of a mixed film of ZnS and SiO 2 , the reflective film deteriorates due to the sulfurization reaction. A barrier layer must be provided between the upper protective layers, resulting in a complicated layer structure. In order to avoid this, it is possible to form a laminated film of the upper protective layer and a film having a different refractive index and extinction coefficient and use it as a reflective layer.
前述したように、記録層には酸化ビスマスを主成分とする材料が好ましく用いられる。さらに好ましくは、主成分がBi、GeおよびOからなる材料が用いられる。このような記録層は、例えば、Bi2O3ターゲットとGeO2ターゲットを備えたコスパッタ法や、Bi2O3とGeO2を一体成形したターゲットを用いたスパッタ法等により形成される。
このとき、Biが化学量論組成に対して酸素欠損となる状態を作るには,ターゲットを還元雰囲気で焼結して酸素欠損の状態にしたり、化学量論組成のターゲットを用い成膜レートやスパッタ圧力等の成膜条件を調整して酸素欠損量を調整したり、あるいはスパッタ雰囲気に水素等の還元性ガスを添加して反応性スパッタを行なったりすればよい。望ましい記録層の膜厚は、5〜30nmである。
As described above, a material mainly composed of bismuth oxide is preferably used for the recording layer. More preferably, a material whose main component is Bi, Ge and O is used. Such a recording layer is formed by, for example, a co-sputtering method including a Bi 2 O 3 target and a GeO 2 target, or a sputtering method using a target in which Bi 2 O 3 and GeO 2 are integrally formed.
At this time, in order to create a state where Bi is oxygen deficient with respect to the stoichiometric composition, the target is sintered in a reducing atmosphere to be in an oxygen deficient state, or a film formation rate or The film formation conditions such as sputtering pressure may be adjusted to adjust the amount of oxygen vacancies, or reactive sputtering may be performed by adding a reducing gas such as hydrogen to the sputtering atmosphere. A desirable recording layer thickness is 5 to 30 nm.
前記カバー層に用いる光硬化性樹脂としては、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートおよび/またはポリエステルアクリレートからなるラジカル重合性オリゴマーと、(メタ)アクリレートモノマーからなる反応性希釈剤と、光重合開始剤等を含む紫外線硬化樹脂を公知の方法で形成すればよい。
前記図6に示した本発明における情報記録層が2層構造である多層光記録媒体のさらに具体的な構成例を図7の斜視図に示す。
図7では、基板11の上(図では下)に、中間層13を挟んで多層膜からなる第1情報記録層12および第2情報記録層14がこの順で形成され、カバー層15を介して記録・再生がなされる。また、図6において示した第1情報記録層12の各構成層(反射層12a、上部保護層12b、酸化ビスマスを含む記録層12c、下部保護層12d)、および第2情報記録層14の各構成層(反射層14a、上部保護層14b、酸化ビスマスを含む記録層14c、下部保護層14d)は、例えば、図7に記載した材料を用いて構成することができる。
The photocurable resin used for the cover layer includes a radical polymerizable oligomer made of urethane acrylate, epoxy acrylate and / or polyester acrylate, a reactive diluent made of (meth) acrylate monomer, a photopolymerization initiator, and the like. An ultraviolet curable resin may be formed by a known method.
A more specific configuration example of the multilayer optical recording medium in which the information recording layer in the present invention shown in FIG. 6 has a two-layer structure is shown in the perspective view of FIG.
In FIG. 7, a first information recording layer 12 and a second information recording layer 14 made of a multilayer film are formed in this order on the substrate 11 (lower in the figure) with the intermediate layer 13 interposed therebetween, and the cover layer 15 is interposed therebetween. Recording / playback. Further, each of the constituent layers of the first information recording layer 12 shown in FIG. 6 (reflection layer 12a, upper protective layer 12b, recording layer 12c containing bismuth oxide, lower protective layer 12d), and second information recording layer 14 The constituent layers (the reflective layer 14a, the upper protective layer 14b, the recording layer 14c containing bismuth oxide, and the lower protective layer 14d) can be configured using, for example, the materials shown in FIG.
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により制限されるものではない。なお、実施例および表1において、特に断りのない限り部は重量部である. Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In Examples and Table 1, parts are parts by weight unless otherwise specified.
(実施例1)
まず、溝深さ20nm、トラックピッチ0.32μmの案内溝を有する厚さ1.1mm、直径120mmのポリカーボネート製基板上に、下記各組成のターゲットを用いてそれぞれの層をスパッタリング法により順次形成し、多層膜構成からなる第1情報記録層とした。
〔各構成層とターゲット〕
(1)反射層:Ag−0.5重量%Bi(膜厚30nm)
(2)バリア層:Si3N4(膜厚5nm)
(3)上部保護層(第一誘電体層):ZnS−20モル%SiO2(膜厚15nm)
(4)記録層 Bi2O3−30モル%GeO2(膜厚10nm)
(5)下部保護層(第二誘電体層):ZnS−20モル%SiO2(膜厚65nm)
Example 1
First, on a polycarbonate substrate having a thickness of 1.1 mm and a diameter of 120 mm having a guide groove with a groove depth of 20 nm and a track pitch of 0.32 μm, each layer is sequentially formed by sputtering using targets of the following compositions. The first information recording layer having a multilayer structure was used.
[Each component layer and target]
(1) Reflective layer: Ag-0.5 wt% Bi (film thickness 30 nm)
(2) Barrier layer: Si 3 N 4 (film thickness 5 nm)
(3) Upper protective layer (first dielectric layer): ZnS-20 mol% SiO 2 (film thickness 15 nm)
(4) Recording layer Bi 2 O 3 -30 mol% GeO 2 (film thickness 10 nm)
(5) Lower protective layer (second dielectric layer): ZnS-20 mol% SiO 2 (film thickness 65 nm)
次に、図2の工程に従い、Niスタンパと第1情報記録層上に、下記表1に示す実施例1の組成〔アクリレートおよび重合開始剤:(各重量部)〕からなる紫外線硬化樹脂(中間層樹脂)を合計で25μmの厚さとなるようにスピンコート法により塗布し樹脂膜を形成した〔図2の工程(1)〕。次に、Niスタンパおよび第1情報記録層上に形成された樹脂膜同志を互いに真空中で密着させた後で大気開放し、フュージョンUVシステム社製のUVランプHP−6を用いて、基板側から400mW/cm2、5秒の条件で紫外線を照射して中間層樹脂を硬化させた〔図2の工程(2)〕。このとき、基板上に第1の情報記録層が形成された複合層(光記録媒体中間体)の365nmにおける基板側からの光透過率は15.4%であった。 Next, in accordance with the process of FIG. 2, an ultraviolet curable resin (intermediate part) having the composition of Example 1 shown in Table 1 below (acrylate and polymerization initiator: (each part by weight)) is formed on the Ni stamper and the first information recording layer. Layer resin) was applied by spin coating to a total thickness of 25 μm to form a resin film [step (1) in FIG. 2]. Next, the Ni stamper and the resin film formed on the first information recording layer are brought into close contact with each other in a vacuum and then released into the atmosphere, and the substrate side is used by using a UV lamp HP-6 manufactured by Fusion UV System. To 400 mW / cm 2 , ultraviolet rays were applied for 5 seconds to cure the intermediate layer resin [step (2) in FIG. 2]. At this time, the light transmittance from the substrate side at 365 nm of the composite layer (optical recording medium intermediate) in which the first information recording layer was formed on the substrate was 15.4%.
次に、Niスタンパを剥離し〔図2の工程(3)〕、下記各組成のターゲットを用いてそれぞれの層をスパッタリング法により順次形成し、多層膜構成からなる第2情報記録層とした〔図2の工程(4)〕。
〔各構成層とターゲット〕
(1)反射層:Nb2O5(膜厚40nm)
(2)上部保護層(第一誘電体層):ZnS−20モル%SiO2(膜厚35nm)
(3)記録層 Bi2O3−30モル%GeO2(膜厚10nm)
(4)下部保護層(第二誘電体層):ZnS−20モル%SiO2(膜厚50nm)
Next, the Ni stamper was peeled off [step (3) in FIG. 2], and each layer was sequentially formed by sputtering using targets having the following compositions to form a second information recording layer having a multilayer structure [ Step (4) in FIG.
[Each component layer and target]
(1) Reflective layer: Nb 2 O 5 (film thickness 40 nm)
(2) Upper protective layer (first dielectric layer): ZnS-20 mol% SiO 2 (film thickness 35 nm)
(3) Recording layer Bi 2 O 3 -30 mol% GeO 2 (film thickness 10 nm)
(4) Lower protective layer (second dielectric layer): ZnS-20 mol% SiO 2 (film thickness 50 nm)
次いで、第2情報記録層上に、三菱レーヨン製のカバー層用樹脂FS6306を75μm塗布し、前記同様にフュージョンUVシステム社製のUVランプHP−6を用いて、カバー層側から400mW/cm2、2.5秒の条件で紫外線を照射してカバー層用樹脂を硬化させてカバー層を設けた。
以上の製造方法により、厚さ約1.2mmの2層追記型光記録媒体、いわゆるBlu−ray disc規格対応の追記型光記録媒体を作製した。
Next, 75 μm of a cover layer resin FS6306 made by Mitsubishi Rayon was applied on the second information recording layer, and 400 mW / cm 2 from the cover layer side using a UV lamp HP-6 made by Fusion UV System, as described above. The cover layer resin was cured by irradiating with ultraviolet rays under conditions of 2.5 seconds to provide a cover layer.
By the above manufacturing method, a two-layer write-once optical recording medium having a thickness of about 1.2 mm, that is, a write-once optical recording medium compatible with the so-called Blu-ray disc standard was produced.
[評価]
上記で作製した追記型光記録媒体に対し、パルステック工業社製の光ディスク評価装置ODU−1000(波長:405nm、NA:0.85)を用いて、追記型Blu−rayディスク規格(BD−R Version1.2)に準拠した1倍速および4倍速の記録条件で記録を行った。結果を下記表1に併せて示す。
表1に示すように、1倍速では、第1情報記録層および第2情報記録層のボトムジッター(ジッターが最も低くなる記録パワーでの値)がそれぞれ6.0%(ジッター規格=7%以下)および7.3%(ジッター規格=8.5%以下)、4倍速でもそれぞれ5.9%および7.0%と良好であった。
図8に、4倍速記録時のパワーマージンを示す。
パワーマージンとは、ジッターが規格値以下になる記録パワーの範囲のことであり、何らかの理由でレーザーパワーが変動した場合に記録パワーマージンが広ければ正常に記録・再生が可能となるため、記録パワーマージンは大きい(広い)方が好ましい。図8のように、記録・再生光照射に対して奥側となる第1情報記録層で12.2〜14.7mW、手前側の第2情報記録層で13.0〜15.4mWであり、約2mWのパワーマージンを有する良好な2層媒体が得られた。
[Evaluation]
The write-once Blu-ray disc standard (BD-R) is used for the write-once optical recording medium produced above using an optical disc evaluation apparatus ODU-1000 (wavelength: 405 nm, NA: 0.85) manufactured by Pulstec Industrial. Recording was performed under 1 × and 4 × recording conditions in accordance with Version 1.2). The results are also shown in Table 1 below.
As shown in Table 1, at 1 × speed, the bottom jitter (value at the recording power at which the jitter is lowest) of each of the first information recording layer and the second information recording layer is 6.0% (jitter standard = 7% or less) ) And 7.3% (jitter standard = 8.5% or less), even at 4 × speed, 5.9% and 7.0% were good respectively.
FIG. 8 shows a power margin at the time of quadruple speed recording.
The power margin is the range of the recording power where the jitter is below the standard value. If the recording power margin is wide when the laser power fluctuates for some reason, recording and playback can be performed normally. A larger (wide) margin is preferable. As shown in FIG. 8, it is 12.2 to 14.7 mW in the first information recording layer on the back side with respect to the recording / reproducing light irradiation, and 13.0 to 15.4 mW in the second information recording layer on the near side. A good two-layer medium with a power margin of about 2 mW was obtained.
(実施例2)
実施例1において、記録層ターゲットに用いたBi2O3をBi28.5B14.3O57.1に変えた以外は実施例1と同じにして、同様の2層追記型光記録媒体を作製した。
この媒体にパルステック工業社製光ディスク評価装置ODU−1000(波長:405nm、NA:0.85)を用いて、追記型Blu−rayディスク規格(BD−R Version1.2)に準拠した1倍速および4倍速の記録条件で記録を行った。
評価の結果、1倍速では、第1情報記録層および第2情報記録層のボトムジッターはそれぞれ6.5%および7.2%で良好であった。なお、4倍速ではいずれも記録ジッターが10%を超えて規格を満足するまでには至らなかった。
(Example 2)
A similar two-layer recordable optical recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that Bi 2 O 3 used for the recording layer target in Example 1 was changed to Bi 28.5 B 14.3 O 57.1 .
Using this medium as an optical disk evaluation apparatus ODU-1000 (wavelength: 405 nm, NA: 0.85) manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd., the 1 × speed conforming to the write-once Blu-ray disk standard (BD-R Version 1.2) and Recording was performed under 4 × speed recording conditions.
As a result of the evaluation, the bottom jitter of the first information recording layer and the second information recording layer was good at 6.5% and 7.2% at 1 × speed, respectively. At 4 × speed, the recording jitter exceeded 10% and did not satisfy the standard.
(実施例3)
実施例1において、記録層ターゲットに用いたBi2O3をBi26.9B12.3Zn2.0O58.8に変えた以外は実施例1と同じにして、同様の2層追記型光記録媒体を作製した。
この媒体にパルステック工業社製光ディスク評価装置ODU−1000を用いて、追記型Blu−rayディスク規格(BD−R Version1.2)に準拠した1倍速および4倍速の記録条件で記録を行った。
評価の結果、1倍速では,第1情報記録層および第2情報記録層のボトムジッターはそれぞれ6.0%および7.5%で良好であった。なお、4倍速ではいずれも記録ジッターが10%を超えて規格を満足するまでには至らなかった。
(Example 3)
A similar two-layer write-once optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that Bi 2 O 3 used for the recording layer target was changed to Bi 26.9 B 12.3 Zn 2.0 O 58.8 in Example 1.
Recording was performed on this medium under the recording conditions of 1 × speed and 4 × speed in accordance with the write-once Blu-ray disc standard (BD-R Version 1.2) using an optical disc evaluation apparatus ODU-1000 manufactured by Pulstec Industrial.
As a result of the evaluation, the bottom jitter of the first information recording layer and the second information recording layer was good at 6.0% and 7.5% at 1 × speed, respectively. At 4 × speed, the recording jitter exceeded 10% and did not satisfy the standard.
(実施例4)
実施例1において、記録層ターゲットに用いたBi2O3をBi26.3B12.1Sn2.0O59.6に変えた以外は実施例1と同じにして、同様の2層追記型光記録媒体を作製した。
この媒体にパルステック工業社製光ディスク評価装置ODU−1000を用いて、追記型Blu−rayディスク規格(BD−R Version1.2)に準拠した1倍速および4倍速の記録条件で記録を行った。
評価の結果、1倍速では,第1情報記録層および第2情報記録層のボトムジッターはそれぞれ6.0%および7.5%で良好であった。なお、4倍速ではいずれも記録ジッターが9%を超えて規格を満足するまでには至らなかった。
Example 4
A similar two-layer write-once optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that Bi 2 O 3 used for the recording layer target in Example 1 was changed to Bi 26.3 B 12.1 Sn 2.0 O 59.6 .
Recording was performed on this medium under the recording conditions of 1 × speed and 4 × speed in accordance with the write-once Blu-ray disc standard (BD-R Version 1.2) using an optical disc evaluation apparatus ODU-1000 manufactured by Pulstec Industrial.
As a result of the evaluation, the bottom jitter of the first information recording layer and the second information recording layer was good at 6.0% and 7.5% at 1 × speed, respectively. At 4 × speed, the recording jitter exceeded 9% and did not satisfy the standard.
(実施例5)
実施例1において、第1情報記録層の反射膜膜厚を40nmに変えた以外は実施例1と同じにして、2層追記型光記録媒体を作製した。なお、この光記録媒体の場合、基板上に第1の情報記録層が形成された複合層(光記録媒体中間体)の波長365nmにおける基板側からの光透過率は6%であった。
次に、この媒体にパルステック工業社製光ディスク評価装置ODU−1000を用いて、未記録状態の信号波形を観察したところ、欠陥が観察された。これは、中間層樹脂の硬化性が不十分なため、第2情報記録層をスパッタする際に樹脂からのアウトガス等によって溝形状に欠陥が生じてしまうためである。
そこで、上記第1情報記録層の反射膜膜厚を40nmに変えた構成の2層追記型光記録媒体における基板側からの紫外線照射条件を400mW/cm2で、各5秒、6秒、7秒、8秒と変化させて同様に未記録信号を確認したところ、照射時間7秒以上で欠陥が発生しないことがわかった。
この媒体に1倍速および4倍速の記録条件で記録を行ったところ、第1情報記録層および第2情報記録層のボトムジッターが、1倍速でそれぞれ6.2%および7.8%であった。なお、4倍速でそれぞれ6.0%および8.4%と、第2情報記録層のジッターが規格の8.5%近くとなった。なお、4倍速記録時のパワーマージンを確保するには至らなかった。
評価結果から、複合層(光記録媒体中間体)の波長365nmにおける基板側からの光透過率は6%が限界に近いものと判断される。ジッターが悪化するのは、中間層硬化時の紫外線照射量が多いため、記録媒体が加熱されてNiスタンパとの界面に熱応力がかかってスタンパ離型時に中間層の溝形状が変形しやすくなるためと考えられる。
すなわち、光透過率が6%未満であると(反射膜膜厚が40nmよりも厚くなると)、光記録媒体中間体に紫外線を透過させて中間層を硬化させることが困難になり、Niスタンパを離型する際に十分な冷却時間を設定するか、新たな冷却機構が必要となってしまい、媒体のコストアップの点から好ましくない。
(Example 5)
A two-layer write-once optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the reflective film thickness of the first information recording layer was changed to 40 nm. In the case of this optical recording medium, the light transmittance from the substrate side at a wavelength of 365 nm of the composite layer (optical recording medium intermediate) in which the first information recording layer was formed on the substrate was 6%.
Next, when an optical disc evaluation apparatus ODU-1000 manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. was used for this medium and the signal waveform in an unrecorded state was observed, defects were observed. This is because, since the curability of the intermediate layer resin is insufficient, a defect occurs in the groove shape due to outgas from the resin or the like when the second information recording layer is sputtered.
Therefore, the ultraviolet irradiation condition from the substrate side in the two-layer write-once type optical recording medium having the reflection film thickness of the first information recording layer changed to 40 nm is 400 mW / cm 2 for 5 seconds, 6 seconds, 7 seconds respectively. When the unrecorded signal was confirmed in the same manner by changing the time between seconds and 8 seconds, it was found that no defect occurred when the irradiation time was 7 seconds or longer.
When recording was performed on this medium under 1 × and 4 × recording conditions, the bottom jitter of the first information recording layer and the second information recording layer was 6.2% and 7.8% at 1 × speed, respectively. . Note that the jitter of the second information recording layer was close to 8.5% of the standard at 6.0% and 8.4% at 4 × speed, respectively. It was not possible to secure a power margin at the time of quadruple speed recording.
From the evaluation results, it is determined that 6% of the light transmittance from the substrate side of the composite layer (optical recording medium intermediate) at the wavelength of 365 nm is close to the limit. Jitter deteriorates because the amount of ultraviolet irradiation when the intermediate layer is cured is large, so that the recording medium is heated and a thermal stress is applied to the interface with the Ni stamper, so that the groove shape of the intermediate layer is easily deformed when the stamper is released. This is probably because of this.
That is, when the light transmittance is less than 6% (when the thickness of the reflective film is greater than 40 nm), it becomes difficult to cure the intermediate layer by transmitting ultraviolet light to the intermediate of the optical recording medium. A sufficient cooling time is set when releasing the mold or a new cooling mechanism is required, which is not preferable from the viewpoint of increasing the cost of the medium.
(実施例6)
実施例1において、第1情報記録層の反射膜膜厚を25nmに変えた以外は実施例1と同じにして、2層追記型光記録媒体を作製した。なお、この光記録媒体の場合、基板上に第1の情報記録層が形成された複合層(光記録媒体中間体)の波長365nmにおける基板側からの光透過率は18%であった。
次に、この媒体にパルステック工業社製光ディスク評価装置ODU−1000を用いて、1倍速および4倍速の記録条件で記録を行ったところ、第1情報記録層および第2情報記録層のボトムジッターは、1倍速でそれぞれ6.5%および7.3%であった。なお、4倍速ではそれぞれ6.9%および7.2%であり、第1情報記録層のジッターが規格の7.0%近くとなった。特に4倍速記録時のパワーマージンの確保は難しい状態であった。
評価結果から、複合層(光記録媒体中間体)の波長365nmにおける基板側からの光透過率は18%が限界に近いものと判断される。ジッターが悪化するのは、放熱機能を兼ねた反射膜膜厚が薄くなったため、第1情報記録層記録時の熱がトラック方向やトラック間方向に過度に伝熱してしまい、トラック進行方向のマーク間干渉や隣接トラック間のクロストーク(マークがトラックからはみ出して形成され、隣のトラックを再生する際に信号が漏れ込んでしまう現象)が顕著になるためである。
すなわち、光透過率が18%よりも大きくなると(反射膜膜厚が25nmよりも薄くなると)良好な記録特性が得られない。
(Example 6)
A two-layer write-once optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the reflective film thickness of the first information recording layer was changed to 25 nm. In the case of this optical recording medium, the light transmittance from the substrate side at a wavelength of 365 nm of the composite layer (optical recording medium intermediate) in which the first information recording layer is formed on the substrate was 18%.
Next, when recording was performed on this medium using the optical disk evaluation apparatus ODU-1000 manufactured by Pulstec Industrial under the recording conditions of 1 × speed and 4 × speed, the bottom jitter of the first information recording layer and the second information recording layer was recorded. Were 6.5% and 7.3% at 1 × speed, respectively. Incidentally, at 4 × speed, they were 6.9% and 7.2%, respectively, and the jitter of the first information recording layer was close to 7.0% of the standard. In particular, it was difficult to secure a power margin at the time of quadruple speed recording.
From the evaluation results, it is determined that the light transmittance from the substrate side of the composite layer (optical recording medium intermediate) at the wavelength of 365 nm is close to the limit of 18%. Jitter deteriorates because the thickness of the reflective film, which also functions as a heat dissipation function, has become thin, and heat during recording of the first information recording layer is excessively transferred in the direction of the track or between the tracks. This is because interfering interference and crosstalk between adjacent tracks (a phenomenon in which a mark is formed so as to protrude from a track and a signal leaks when the adjacent track is reproduced).
That is, when the light transmittance is larger than 18% (when the reflection film thickness is thinner than 25 nm), good recording characteristics cannot be obtained.
(実施例7〜10、比較例1〜3)
実施例1において、光重合開始剤の種類と組成を下記表1に示すように変えた以外は実施例1と同じにして、同様の2層追記型光記録媒体を作製した。
作製した各追記型光記録媒体に対し、パルステック工業社製光ディスク評価装置ODU−1000を用いて、追記型Blu−rayディスク規格(BD−R Version1.2)に準拠した1倍速および4倍速の記録条件で記録を行った。結果を下記表1に併せて示す。
実施例7〜10の記録媒体は、実施例1と同様に波長400nm〜450nmにおける最大吸光係数が10(ml/g・cm)より大きい光重合開始剤を含むため、中間層の硬化が良好であり、上記評価規格に対して十分に低いボトムジッターが得られている。
一方、実施例に対して、比較例2〜4の光記録媒体は波長400nm〜450nmにおける最大吸光係数が10(ml/g・cm)より大きい光重合開始剤を含まないため、中間層の硬化性が不十分となって未記録状態で図9のような欠陥が発生してしまい、記録ジッターはいずれも規格を満足することができなかった。
(Examples 7 to 10, Comparative Examples 1 to 3)
A similar two-layer write-once type optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that the type and composition of the photopolymerization initiator were changed as shown in Table 1 below.
For each write-once type optical recording medium produced, 1 × speed and 4 × speed conforming to the write-once Blu-ray disc standard (BD-R Version 1.2) using an optical disc evaluation apparatus ODU-1000 manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. Recording was performed under the recording conditions. The results are also shown in Table 1 below.
Since the recording media of Examples 7 to 10 contain a photopolymerization initiator having a maximum extinction coefficient of greater than 10 (ml / g · cm) at a wavelength of 400 nm to 450 nm as in Example 1, the intermediate layer has good curing. There is a bottom jitter that is sufficiently low with respect to the above evaluation standards.
On the other hand, since the optical recording media of Comparative Examples 2 to 4 do not contain a photopolymerization initiator having a maximum absorption coefficient greater than 10 (ml / g · cm) at wavelengths of 400 nm to 450 nm, the intermediate layer is cured. Insufficient performance resulted in defects as shown in FIG. 9 in an unrecorded state, and the recording jitter could not satisfy the standard.
本発明のコスト低減が図れる製造方法により、カバー層を通して記録・再生光を照射するように設計された追記可能な多層光記録媒体、例えば、Blu−ray disc規格に対応できるコスト安価で信号品質に優れた光記録媒体が提供できる。 By the manufacturing method capable of reducing the cost of the present invention, a recordable multilayer optical recording medium designed to irradiate the recording / reproducing light through the cover layer, for example, a low-cost and signal quality capable of complying with the Blu-ray disc standard. An excellent optical recording medium can be provided.
1 基板
2 第1情報記録層
3 透光性スタンパ
4 剥離性樹脂
5 中間樹脂
6 第2情報記録層
7 カバー層
8 スタンパ
11 基板11
12 第1情報記録層
12a 反射層
12b 上部保護層
12c 酸化ビスマスを含む記録層
12d 下部保護層
13 中間層
14 第2情報記録層
14a 反射層
14b 上部保護層
14c 酸化ビスマスを含む記録層
14d 下部保護層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 First information recording layer 3 Translucent stamper 4 Peelable resin 5 Intermediate resin 6 Second information recording layer 7 Cover layer 8 Stamper 11 Substrate 11
12 First information recording layer 12a Reflective layer 12b Upper protective layer 12c Recording layer 12d containing bismuth oxide Lower protective layer 13 Intermediate layer 14 Second information recording layer 14a Reflective layer 14b Upper protective layer 14c Recording layer 14d containing bismuth oxide Lower protection layer
Claims (10)
少なくとも、情報記録層が形成された基板と、案内溝が形成されたスタンパとの間に紫外線硬化樹脂を塗布・充填する工程と、該紫外線硬化樹脂を硬化させる工程と、該硬化された紫外線硬化樹脂からスタンパを離型して硬化樹脂表面に案内溝が転写された中間層を形成する工程と、該中間層上に別の情報記録層を積層する工程と、該別の情報記録層上にカバー層を積層する工程とを含み、
前記紫外線硬化樹脂を硬化させる工程が、前記基板側から紫外線を入射させて行われ、かつ前記紫外線硬化樹脂が、入射される紫外線の照射波長域に吸収係数を持つ光重合開始剤を含有することを特徴とする多層光記録媒体の製造方法。 A method for producing a multilayer optical recording medium comprising a multilayer structure comprising a plurality of information recording layers that can be additionally recorded on a substrate, and performing recording and / or reproduction by light irradiation from a cover layer side facing the substrate. And
At least a step of applying and filling an ultraviolet curable resin between the substrate on which the information recording layer is formed and the stamper on which the guide groove is formed, a step of curing the ultraviolet curable resin, and the cured ultraviolet curing A step of releasing the stamper from the resin to form an intermediate layer in which guide grooves are transferred to the surface of the cured resin, a step of laminating another information recording layer on the intermediate layer, and a step of forming the intermediate layer on the other information recording layer. Laminating a cover layer,
The step of curing the ultraviolet curable resin is performed by making ultraviolet rays incident from the substrate side, and the ultraviolet curable resin contains a photopolymerization initiator having an absorption coefficient in an irradiation wavelength range of incident ultraviolet rays. A method for producing a multilayer optical recording medium.
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