JP2009163802A - Magnetic disk manufacture assistance method and method of manufacturing magnetic disk - Google Patents

Magnetic disk manufacture assistance method and method of manufacturing magnetic disk Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic disk manufacture assistance method capable of improving yield of a magnetic disk by preventing adhesion of dust and a foreign matter to a glass substrate just before putting in a clean room and forming a magnetic layer on the glass substrate which is not contaminated by particles and to provide a manufacturing method of a magnetic disk. <P>SOLUTION: The magnetic disk manufacture assistance method for assisting manufacture of the magnetic disk manufactured from the glass substrate 100 for the magnetic disk doubly packed by using first and second packing bags includes: a first opening step of opening the first packing bag 210 in a first room 310; a second opening step of opening the second packing bag 220 in a second room 320; and a carrying step of carrying the glass substrate for the magnetic disk in the clean room 330. In the first and the second opening steps, an air flow is made to flow from the second room to the first room. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、磁気ディスク製造支援方法および磁気ディスクの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a magnetic disk manufacturing support method and a magnetic disk manufacturing method.

近年、情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。磁気記録媒体のひとつであるHDD(ハードディスクドライブ)等の磁気記録媒体用基板として、磁気ディスクの小型化、薄板化、および高密度記録化に伴い、従来多く用いられてきたアルミニウム基板に代えて基板表面の平坦性及び基板強度に優れたガラス基板が用いられるようになってきている。   In recent years, with the advancement of information technology, information recording technology, particularly magnetic recording technology, has made remarkable progress. As a substrate for magnetic recording media such as HDD (Hard Disk Drive), which is one of the magnetic recording media, a substrate replacing the aluminum substrate that has been widely used with the miniaturization, thinning, and high-density recording of magnetic disks. A glass substrate excellent in surface flatness and substrate strength has been used.

また、磁気記録技術の高密度化に伴い、磁気ヘッドの方も薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド(MRヘッド)、巨大磁気抵抗型ヘッド(GMRヘッド)へと推移してきていて、磁気ヘッドの基板からの浮上量が20nmから5nm程度にまで狭くなってきている。このような磁気抵抗効果型素子を搭載した磁気ヘッドには固有の障害としてヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害を引き起こす場合がある。これらの障害は磁気ディスク面上の微小な凹凸によって発生するため、磁気ディスク表面は極めて高度な平滑度および平坦度が求められる。   As the magnetic recording technology increases in density, the magnetic head has been changed from a thin film head to a magnetoresistive head (MR head) and a giant magnetoresistive head (GMR head). The flying height from the center is narrowed to about 20 nm to 5 nm. A magnetic head equipped with such a magnetoresistive element may cause a head crash failure or a thermal asperity failure as an inherent failure. Since these obstacles are caused by minute irregularities on the surface of the magnetic disk, the surface of the magnetic disk is required to have extremely high smoothness and flatness.

上述のように平滑度・平坦度が重視される磁気ディスク用ガラス基板は、塵埃などによるパーティクルがガラス基板の表面に付着して汚染されることを嫌う。パーティクルが付着したガラス基板に磁性層を形成すると磁気ディスクの表面にパーティクルを内包した凸状欠陥が形成され、ヘッドクラッシュ傷害やサーマルアスペリティ障害の原因となるからである。したがって、ガラス基板の表面に磁性層を形成する作業は、通常、クリーンルームにて行う。ここで、製造されたガラス基板をクリーンルームまで輸送する間にガラス基板に付着するパーティクルの問題が生じる。   As described above, the glass substrate for a magnetic disk in which smoothness and flatness are important does not like that particles due to dust adhere to the surface of the glass substrate and are contaminated. This is because when a magnetic layer is formed on a glass substrate to which particles are attached, a convex defect including particles is formed on the surface of the magnetic disk, which causes head crash injury and thermal asperity failure. Therefore, the operation of forming the magnetic layer on the surface of the glass substrate is usually performed in a clean room. Here, there is a problem of particles adhering to the glass substrate while the manufactured glass substrate is transported to the clean room.

かかるパーティクルの付着を防ぐため、製造されたガラス基板は、例えば、収納容器に収納され、第一の梱包袋および第二の梱包袋で二重に梱包された後に、クリーンルームのある磁気ディスク製造施設に配送される(例えば特許文献1)。このとき、ガラス基板は梱包袋中に密封されているため、パーティクルや異物の梱包袋内への侵入を防止することができる。   In order to prevent the adhesion of such particles, the manufactured glass substrate is stored in a storage container, for example, double-packed with a first packing bag and a second packing bag, and then a magnetic disk manufacturing facility with a clean room (For example, Patent Document 1). At this time, since the glass substrate is sealed in the packaging bag, it is possible to prevent intrusion of particles and foreign matters into the packaging bag.

また、例えば特許文献2のような素材の包装袋を使用して、輸送中のガラス基板の汚染を防ぐ技術が提案されている。特許文献2では、ガラス基板を水蒸気透過率が5g/m・day以下である包装部材によって保持体と共に密封包装することにより、輸送時や保管時などにガラス基板の主表面の劣化を防いでいる。
特開平11−157591号公報 特開2001−240178号公報
For example, a technique for preventing contamination of a glass substrate during transportation using a packaging bag made of a material such as that disclosed in Patent Document 2 has been proposed. In Patent Document 2, the glass substrate is hermetically packaged together with the holder by a packaging member having a water vapor transmission rate of 5 g / m 2 · day or less, thereby preventing deterioration of the main surface of the glass substrate during transportation or storage. Yes.
Japanese Patent Laid-Open No. 11-157591 JP 2001-240178 A

しかし、特許文献1または特許文献2のように、輸送中の梱包方法を工夫するだけでは、梱包を開梱してガラス基板をクリーンルーム内に搬入する際に、ガラス基板が汚染されるおそれがある。梱包されたガラス基板は、船や飛行機、列車等によって運搬されることもあり、塵埃が多い空間に配置されたり、外気に晒されたりするため、梱包袋には配送中にパーティクルや異物が付着する。かかるパーティクルによって、輸送中に汚染から防護してきたガラス基板がクリーンルームに入れる直前に汚染されてしまうおそれがある。   However, as disclosed in Patent Document 1 or Patent Document 2, only by devising a packaging method during transportation, the glass substrate may be contaminated when unpacking and carrying the glass substrate into a clean room. . The packed glass substrate may be transported by ship, airplane, train, etc., and is placed in a dusty space or exposed to the outside air, so particles and foreign substances adhere to the packing bag during delivery. To do. Such particles may contaminate the glass substrate that has been protected from contamination during transportation immediately before entering the clean room.

磁気ディスク製造工程においては、まずガラス基板の受入作業として洗浄を行っている。したがって開梱したガラス基板にパーティクルが付着していたとしても大きな問題ないと考えられていた。しかし受入作業において洗浄を行ったとしても、総てのパーティクルが除去できるわけではないため、当初から付着しているパーティクルが多いと、基板表面に残留するパーティクルの量も増えてしまう。また基板表面に付着していたパーティクルが洗浄の際に基板表面に傷を付けてしまうおそれもある。さらには、今後のさらなる高記録密度化に際して、従来であれば問題にならなかったような小さな凸状欠陥や凹状欠陥(傷)なども許容されなくなってきている。したがって、成膜工程においてガラス基板に平滑な磁性層を形成することができず、最終製品である磁気ディスクの良品率が低下する。   In the magnetic disk manufacturing process, cleaning is first performed as a glass substrate receiving operation. Therefore, it was thought that there was no big problem even if particles adhered to the unpacked glass substrate. However, even if cleaning is performed in the receiving operation, not all particles can be removed. Therefore, if there are many particles adhering from the beginning, the amount of particles remaining on the substrate surface also increases. Moreover, there is a possibility that particles adhering to the substrate surface may be damaged on the substrate surface during cleaning. Furthermore, with the further increase in recording density in the future, small convex defects and concave defects (scratches), which were not a problem in the past, are no longer allowed. Therefore, a smooth magnetic layer cannot be formed on the glass substrate in the film forming process, and the yield rate of the final magnetic disk is reduced.

本発明はこのような課題に鑑み、クリーンルームに入れる直前のガラス基板への塵埃や異物の付着を防止し、パーティクルで汚染されていないガラス基板に磁性層を成膜させることにより、磁気ディスクの歩留まりを向上させることが可能な磁気ディスク製造支援方法および磁気ディスクの製造方法を提供することを目的としている。   In view of such problems, the present invention prevents the adhesion of dust and foreign matter to the glass substrate immediately before entering the clean room, and forms a magnetic layer on the glass substrate that is not contaminated with particles, thereby yielding the magnetic disk. It is an object of the present invention to provide a magnetic disk manufacturing support method and a magnetic disk manufacturing method capable of improving the above.

本願発明者らが開梱工程におけるパーティクルや異物の除去方法について鋭意検討した結果、二重梱包されたガラス基板をクリーンルームに搬入する直前の開梱方法や開梱を行う室の環境を改善することによって、成膜工程直前でのガラス基板へのパーティクルや異物の付着を防止し、成膜工程においてガラス基板に平滑な磁性層を形成し、ひいては最終製品である磁気ディスクの良品率を向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies on the method for removing particles and foreign substances in the unpacking process by the inventors of the present application, the unpacking method immediately before bringing the double-packed glass substrate into the clean room and the environment of the room for unpacking are improved. This prevents particles and foreign substances from adhering to the glass substrate immediately before the film formation process, forms a smooth magnetic layer on the glass substrate in the film formation process, and consequently improves the yield rate of the final magnetic disk. The headline and the present invention were completed.

上記課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク製造支援方法の代表的な構成は、第一および第二の梱包袋で二重に梱包された磁気ディスク用ガラス基板から製造される磁気ディスクの製造を支援する磁気ディスク製造支援方法において、第一の梱包袋を第一の室で開梱する第一開梱工程と、第二の梱包袋を第二の室で開梱する第二開梱工程と、磁気ディスク用ガラス基板をクリーンルームへ搬入する搬入工程と、を含み、第一開梱工程および第二開梱工程では、第二の室から第一の室へ向けて気流を流すことを特徴とする。   In order to solve the above problems, a typical configuration of a magnetic disk manufacturing support method according to the present invention is a magnetic disk manufactured from a glass substrate for a magnetic disk that is double-packed in first and second packing bags. In the magnetic disk manufacturing support method for supporting the manufacturing of the first, the first unpacking step of unpacking the first packing bag in the first chamber and the second unpacking of unpacking the second packing bag in the second chamber. Including a bundling process and a loading process of loading the magnetic disk glass substrate into the clean room, and in the first unpacking process and the second unpacking process, air flows from the second chamber toward the first chamber. It is characterized by.

かかる構成により、輸送中に外側の第一の梱包袋に付着したパーティクルや異物の大半を、第一の室で第一の梱包袋を開梱するときに除去することができ、第二の室へのパーティクルや異物の持ち込み量が少なくなり、第一の梱包袋および第二の梱包袋を同一の室で開梱した場合よりも、最終的なクリーンルームへの異物やパーティクルの持ち込み量を低減することが可能となる。また、第二の室から第一の室へ向けて気流を流すことにより、第一の室内に散乱したパーティクルや異物の第二の室への侵入を防ぎ、依然としてガラス基板を梱包している内側の第二の梱包袋への塵埃や異物の付着を防止することができる。このように塵埃の付着から防護された第二の梱包袋をクリーンルームの直前の第二の室で開梱すれば、ガラス基板に付着するパーティクルの数は格段に減少する。したがって、磁気ディスクの歩留まりを向上させることが可能となる。   With this configuration, most of the particles and foreign matter adhering to the outer first packing bag during transportation can be removed when the first packing bag is opened in the first chamber, and the second chamber Reduces the amount of particles and foreign objects brought into the final clean room compared to unpacking the first and second packaging bags in the same room. It becomes possible. In addition, by flowing an air flow from the second chamber to the first chamber, particles and foreign matter scattered in the first chamber are prevented from entering the second chamber, and the glass substrate is still packed inside. It is possible to prevent the dust and foreign matter from adhering to the second packing bag. Thus, if the 2nd packing bag protected from adhesion of dust is opened in the 2nd chamber immediately before a clean room, the number of particles adhering to a glass substrate will reduce markedly. Therefore, the yield of the magnetic disk can be improved.

本発明にかかる磁気ディスク製造支援方法の他の構成は、第一および第二の梱包袋で二重に梱包された磁気ディスク用ガラス基板から製造される磁気ディスクの製造を支援する磁気ディスク製造支援方法において、第一の梱包袋を第一の室で開梱する第一開梱工程と、第二の梱包袋を第二の室で開梱する第二開梱工程と、磁気ディスク用ガラス基板をクリーンルームへ搬入する搬入工程と、を含み、第二の室内の圧力は、第一の室内の圧力より高いことを特徴とする。   Another configuration of the magnetic disk manufacturing support method according to the present invention is a magnetic disk manufacturing support that supports manufacturing of a magnetic disk manufactured from a glass substrate for a magnetic disk that is double-packed in the first and second packing bags. In the method, a first unpacking step of unpacking the first packing bag in the first chamber, a second unpacking step of unpacking the second packing bag in the second chamber, and a magnetic disk glass substrate And a loading step of loading the sample into a clean room, wherein the pressure in the second chamber is higher than the pressure in the first chamber.

かかる構成により、第二の室から第一の室に向かう気流を発生させることができる。したがって、上述のように、第一開梱工程の際に第一の室に散乱したパーティクルや異物の第二の室への侵入を防ぐことが可能となる。   With this configuration, it is possible to generate an air flow from the second chamber toward the first chamber. Therefore, as described above, it is possible to prevent the particles or foreign matter scattered in the first chamber from entering the second chamber during the first unpacking step.

上記の気流は、ファンによって流すとよい。ファンを使用することにより、第二の室から第一の室へ向けて強制的に気流を発生させることができる。   The above airflow may be flowed by a fan. By using the fan, an air flow can be forcibly generated from the second chamber toward the first chamber.

上記の第二の室内の圧力は、エアコンプレッサ(圧縮機)を用いて加圧することによって第一の室内の圧力より高圧にするとよい。   The pressure in the second chamber may be set higher than the pressure in the first chamber by pressurization using an air compressor (compressor).

エアコンプレッサを用いて第二の室内の圧力を第一の室内の圧力より高くすることにより、第二の室から第一の室に向かう気流を発生させることができる。上記の第一の室内の圧力は、減圧機を用いて減圧することによって第二の室内の圧力より低圧にするとよい。   By making the pressure in the second chamber higher than the pressure in the first chamber using an air compressor, an air flow from the second chamber toward the first chamber can be generated. The pressure in the first chamber is preferably lower than the pressure in the second chamber by reducing the pressure using a decompressor.

減圧機を用いて第一の室内の圧力を第二の室内の圧力より低くすることにより、上述のように、第二の室から第一の室に向かう気流を発生させることができる。   By making the pressure in the first chamber lower than the pressure in the second chamber using the decompressor, as described above, an air flow from the second chamber to the first chamber can be generated.

上記課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスクの製造方法は、上述した磁気ディスク用の製造支援方法により開梱されたガラス基板の表面に、少なくとも磁性層を形成する成膜工程を行うことを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, a magnetic disk manufacturing method according to the present invention performs a film forming process for forming at least a magnetic layer on the surface of a glass substrate unpacked by the above-described manufacturing support method for a magnetic disk. It is characterized by that.

上述した磁気ディスク製造支援方法の技術的思想に基づく構成要素やその説明は、当該磁気ディスクの製造方法にも適用可能である。   The above-described components based on the technical idea of the magnetic disk manufacturing support method and the description thereof can also be applied to the magnetic disk manufacturing method.

本発明によれば、クリーンルームに入れる直前のガラス基板への塵埃や異物の付着を防止し、パーティクルで汚染されていないガラス基板に磁性層を成膜させることにより、磁気ディスクの歩留まりを向上させることが可能な磁気ディスク製造支援方法および磁気ディスクの製造方法を提供することが可能である。   According to the present invention, it is possible to improve the yield of magnetic disks by preventing the adhesion of dust and foreign matter to the glass substrate immediately before entering the clean room, and forming the magnetic layer on the glass substrate that is not contaminated with particles. It is possible to provide a magnetic disk manufacturing support method and a magnetic disk manufacturing method that can be used.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値などは、発明の理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The dimensions, materials, and other specific numerical values shown in the embodiment are merely examples for facilitating understanding of the invention, and do not limit the present invention unless otherwise specified. In the present specification and drawings, elements having substantially the same function and configuration are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted, and elements not directly related to the present invention are not illustrated. To do.

まず、本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板について説明する。図1は、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板を説明する図であり、図1(a)は磁気ディスク用ガラス基板の斜視図である。磁気ディスク用ガラス基板100は、円板形状をしていて、その中心には内孔が形成されている。主表面110は、情報を記録再生するための領域であるため、記録ヘッドが浮上走行するために実質的に平滑になっている。   First, the glass substrate for magnetic disks according to this embodiment will be described. FIG. 1 is a view for explaining a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention, and FIG. 1 (a) is a perspective view of the glass substrate for a magnetic disk. The magnetic disk glass substrate 100 has a disk shape, and an inner hole is formed at the center thereof. Since the main surface 110 is an area for recording and reproducing information, the main surface 110 is substantially smooth for the recording head to fly.

図1(b)は、図1(a)のX−X断面図である。磁気ディスク用ガラス基板100は、情報の記録再生領域となる主表面110と、当該主表面110に対して直交している端面120と、当該主表面110と端面120との間に介在している面取面130とを備えている。なお、後述する端面研磨工程により端面120と面取面130との境界が不明瞭となる場合もあるため、本実施形態は端面120とその両側の面取面130があわせて1つの曲面を構成する場合も含むものとする。   FIG.1 (b) is XX sectional drawing of Fig.1 (a). The magnetic disk glass substrate 100 is interposed between a main surface 110 serving as an information recording / reproducing area, an end surface 120 orthogonal to the main surface 110, and the main surface 110 and the end surface 120. And a chamfered surface 130. In addition, since the boundary between the end surface 120 and the chamfered surface 130 may become unclear due to an end surface polishing process described later, in the present embodiment, the end surface 120 and the chamfered surfaces 130 on both sides constitute a single curved surface. Including the case of doing.

磁気ディスクの成膜工程前に磁気ディスク用ガラス基板100、特にその主表面110にパーティクルや異物が付着すると、成膜工程においてガラス基板に平滑な磁性層を形成することができず、最終製品である磁気ディスクの良品率が低下する。   If particles or foreign matter adhere to the magnetic disk glass substrate 100, particularly its main surface 110, before the magnetic disk film forming process, a smooth magnetic layer cannot be formed on the glass substrate in the film forming process, and the final product The yield rate of a certain magnetic disk is reduced.

図2は、ガラス基板のケースへの収納状態を説明する図である。図2(a)は、ガラス基板を保管するための容器であるプラスチック製の略直方体のガラス基板ケースの拡大図である。ケース200は25枚のガラス基板を収納可能とし、ガラス基板100はケース200に保存される。ガラス基板100が収納されたケース200は、図2(b)のように複数個を積み重ねることができる。   FIG. 2 is a diagram illustrating a state in which the glass substrate is stored in the case. FIG. 2A is an enlarged view of a plastic substantially rectangular parallelepiped glass substrate case which is a container for storing a glass substrate. The case 200 can store 25 glass substrates, and the glass substrate 100 is stored in the case 200. A plurality of cases 200 in which the glass substrates 100 are housed can be stacked as shown in FIG.

図3は、ガラス基板が収納されたケースの梱包状態を説明する図である。ガラス基板100が収納されたケース200は、図2(b)に示すような複数個(本実施形態では4個)積み重ねられた状態で、アルミニウムラミネートフィルム製の第二の梱包袋220によって、脱気を行いながら密封梱包され、図3(a)に示す梱包体222となる。   FIG. 3 is a diagram for explaining a packing state of the case in which the glass substrate is stored. The case 200 in which the glass substrate 100 is housed is removed by a second packing bag 220 made of an aluminum laminate film in a state where a plurality of (in this embodiment, four) cases as shown in FIG. The package is hermetically packaged with care, resulting in a package 222 shown in FIG.

その後、プラスチックフィルム製の第一の梱包袋210によって、脱気を行いながら或いは行わない状態で密封梱包され、図3(b)に示す二重梱包体212となる。このプラスチックフィルムは、例えばポリエチレンとしてよい。なお、本実施形態においては、ケース200を複数個積み重ねた状態で梱包しているが、ケース200一つごとに梱包してもよい。   After that, the first packing bag 210 made of plastic film is hermetically packed with or without deaeration, resulting in a double packing body 212 shown in FIG. This plastic film may be, for example, polyethylene. In the present embodiment, a plurality of cases 200 are packed in a stacked state. However, each case 200 may be packed.

次に本実施形態にかかる磁気ディスク製造支援方法について説明する。   Next, the magnetic disk manufacturing support method according to the present embodiment will be described.

上記のように梱包されたガラス基板100は、ガラス基板製造施設から出荷され、磁気ディスク製造施設へ運搬される。磁気ディスク製造施設到着後、開梱工程が行われる。   The glass substrate 100 packed as described above is shipped from the glass substrate manufacturing facility and transported to the magnetic disk manufacturing facility. After arriving at the magnetic disk manufacturing facility, the unpacking process is performed.

図4は、開梱工程を行う室を説明する図である。成膜工程はクリーンルーム330に設置している生産ラインで行われる。そして、そのクリーンルーム330に隣接している部屋は、第二の梱包袋を開梱する第二の室320であり、当該第二の室320の、クリーンルーム330とは逆側に隣接している部屋は、第一の梱包袋を開梱する第一の室310である。   FIG. 4 is a diagram illustrating a chamber in which an unpacking process is performed. The film forming process is performed on a production line installed in the clean room 330. The room adjacent to the clean room 330 is the second room 320 for unpacking the second packing bag, and the room adjacent to the opposite side of the clean room 330 of the second room 320. Is a first chamber 310 for unpacking the first packing bag.

二重梱包されたガラス基板100、すなわち二重梱包体212は、第一の室310に搬入される。そして、第一開梱工程にて外側の第一の梱包袋210が開梱され、第二の梱包袋220のみで梱包されている梱包体222となる。かかる梱包体222は第二の室320に搬入され、第二開梱工程にて第二の梱包袋220が開梱される。その後、ガラス基板100は、梱包袋がはずされてケース200に収納された状態で、後に説明する搬入工程にてクリーンルーム330に搬入される。   The double-packed glass substrate 100, that is, the double-packed body 212 is carried into the first chamber 310. Then, the outer first packing bag 210 is unpacked in the first unpacking step, and the packing body 222 is packed with only the second packing bag 220. The package 222 is carried into the second chamber 320, and the second packaging bag 220 is unpacked in the second unpacking step. Thereafter, the glass substrate 100 is carried into the clean room 330 in a carrying-in process described later in a state where the packaging bag is removed and stored in the case 200.

かかる構成により、第一の梱包袋210に付着していたパーティクルや異物が第一の室310内に散乱しても、第二の梱包袋220は第二の室320で開梱するため、第二の梱包袋220の開梱時のガラス基板100へのパーティクルや異物の付着を防止することができる。また、第一の室310とクリーンルーム330の間に第二の室320が設けられているため、クリーンルーム330へのパーティクルや異物の侵入を防止することができる。   With this configuration, even if particles or foreign matter adhering to the first packing bag 210 are scattered in the first chamber 310, the second packing bag 220 is unpacked in the second chamber 320. It is possible to prevent adhesion of particles and foreign matters to the glass substrate 100 when the second packing bag 220 is unpacked. In addition, since the second chamber 320 is provided between the first chamber 310 and the clean room 330, it is possible to prevent particles and foreign substances from entering the clean room 330.

また、図4では、第一の室310にファン340を設置し、第一の室310内の空気を室外へ排出することによって気流が発生し、第二の室320から第一の室310に空気が流れ込むようにしている。このように、第二の室320から第一の室310に向けて気流が発生させることにより、第一の梱包袋210に付着していたパーティクルや異物が第一の室310内に散乱しても、第一の室310から第二の室320へのパーティクルや異物の侵入を低減することが可能となる。   Further, in FIG. 4, a fan 340 is installed in the first chamber 310, and an air flow is generated by discharging the air in the first chamber 310 to the outside, and the second chamber 320 moves to the first chamber 310. Air is flowing in. As described above, by generating an air flow from the second chamber 320 toward the first chamber 310, particles and foreign matters adhering to the first packing bag 210 are scattered in the first chamber 310. In addition, it is possible to reduce intrusion of particles and foreign substances from the first chamber 310 to the second chamber 320.

なお、本実施形態においては、第一の室310にファン340を設置しているが、第二の室320または、第一の室310と第二の室320の両方にファン340を設置してもよい。また、上述の気流を発生させる他の手段としては、第一の室310内と第二の室320内との圧力に高低差を設ける方法が挙げられる。このとき、第二の室320内の圧力は第一の室310内の圧力より高くなるように設定する。かかる高低差を設ける方法としては、第二の室320内の圧力をエアコンプレッサを用いて加圧する方法や第一の室310内の圧力を、減圧機を用いて減圧する方法が挙げられる。   In this embodiment, the fan 340 is installed in the first chamber 310, but the fan 340 is installed in the second chamber 320 or both the first chamber 310 and the second chamber 320. Also good. Further, as another means for generating the above-described air flow, there is a method of providing a difference in height between the pressure in the first chamber 310 and the second chamber 320. At this time, the pressure in the second chamber 320 is set to be higher than the pressure in the first chamber 310. Examples of a method for providing such a height difference include a method of pressurizing the pressure in the second chamber 320 using an air compressor, and a method of reducing the pressure in the first chamber 310 using a decompressor.

上述した如く、本実施形態にかかる磁気ディスク製造支援方法によれば、開梱工程時におけるガラス基板へのパーティクルや異物の付着を防止し、かつ、クリーンルームへのパーティクルや異物の侵入を防止することができる。したがって、成膜工程においてガラス基板に平滑な磁性層を成膜させることにより、磁気ディスクの歩留まりを向上させることが可能となる。   As described above, according to the magnetic disk manufacturing support method according to the present embodiment, it is possible to prevent particles and foreign matter from adhering to the glass substrate during the unpacking process and to prevent particles and foreign matter from entering the clean room. Can do. Therefore, it is possible to improve the yield of the magnetic disk by forming a smooth magnetic layer on the glass substrate in the film forming process.

(実施例)
以下に、本発明を適用した磁気ディスク製造支援方法および磁気ディスクの製造方法について実施例を説明する。この磁気ディスク用ガラス基板100および磁気ディスクは、0.8インチ型ディスク(内径6mm、外径21.7mm、板厚0.381mm)、1.0インチ型ディスク(内径7mm、外径27.4mm、板厚0.381mm)、1.8インチ型磁気ディスク(内径12mm、外径48mm、板厚0.508mm)などの所定の形状を有する磁気ディスクとして製造される。また、2.5インチ型ディスクや3.5インチ型ディスクとして製造してもよい。
(Example)
Embodiments of a magnetic disk manufacturing support method and a magnetic disk manufacturing method to which the present invention is applied will be described below. The glass substrate 100 for magnetic disk and the magnetic disk are 0.8 inch type disk (inner diameter 6 mm, outer diameter 21.7 mm, plate thickness 0.381 mm), 1.0 inch type disk (inner diameter 7 mm, outer diameter 27.4 mm). , Plate thickness 0.381 mm), 1.8 inch type magnetic disk (inner diameter 12 mm, outer diameter 48 mm, plate thickness 0.508 mm) and the like. Further, it may be manufactured as a 2.5 inch type disc or a 3.5 inch type disc.

(1)形状加工工程および第1ラッピング工程
本実施例においてガラス基板100の材質としてはソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等が挙げられるが、中でもアルミノシリケートガラスが好適である。アルミノシリケートガラスは、平滑かつ高剛性が得られるので、磁気的スペーシング、特に、磁気ヘッドの浮上量をより安定して低減できる。また、アルミノシリケートガラスは化学強化により、高い剛性強度を得ることができる。
(1) Shape processing step and first lapping step Examples of the material of the glass substrate 100 in this embodiment include soda lime glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, and crystallized glass. Among these, aluminosilicate glass is preferable. is there. Since the aluminosilicate glass is smooth and has high rigidity, the magnetic spacing, particularly the flying height of the magnetic head, can be more stably reduced. Aluminosilicate glass can obtain high rigidity and strength by chemical strengthening.

まず、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、化学強化用のガラスを使用した。ダイレクトプレス以外に、ダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出して円板状の磁気ディスク用ガラス基板100を得てもよい。なお、アルミノシリケートガラスとしては、SiO:58〜75重量%、Al:5〜23重量%、LiO:3〜10重量%、NaO:4〜13重量%を主成分として含有する化学強化ガラスを使用した。 First, the melted aluminosilicate glass was molded into a disk shape by direct pressing using an upper mold, a lower mold, and a barrel mold to obtain an amorphous plate glass. In addition, the glass for chemical strengthening was used as aluminosilicate glass. In addition to direct pressing, a disk-shaped glass substrate 100 for a magnetic disk may be obtained by cutting a sheet glass formed by a downdraw method or a float method with a grinding wheel. As the aluminosilicate glass, SiO 2: 58 to 75 wt%, Al 2 O 3: 5~23 wt%, Li 2 O: 3 to 10 wt%, Na 2 O: 4 to 13 principal component weight% The chemically strengthened glass contained as was used.

次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス母材を得た。   Next, both main surfaces of the plate glass were lapped to form a disk-shaped glass base material. This lapping process was performed using alumina free abrasive grains with a double-sided lapping apparatus using a planetary gear mechanism. Specifically, the lapping platen is pressed from above and below on both sides of the plate glass, a grinding liquid containing free abrasive grains is supplied onto the main surface of the plate glass, and these are moved relatively to perform lapping. went. By this lapping process, a glass base material having a flat main surface was obtained.

(2)切り出し工程(コアリング、フォーミング)
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から円板状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板100とした(コアリング)。そして内周端面および外周端面120をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した(フォーミング)。
(2) Cutting process (coring, forming)
Next, the glass base material was cut using a diamond cutter, and a disk-shaped glass substrate was cut out from the glass base material. Next, using a cylindrical diamond drill, an inner hole was formed in the central portion of the glass substrate to obtain an annular glass substrate 100 (coring). Then, the inner peripheral end face and the outer peripheral end face 120 were ground with a diamond grindstone and subjected to predetermined chamfering (forming).

(3)第2ラッピング工程
次に、得られたガラス基板100の両主表面110について、第1ラッピング工程と同様に、第2ラッピング加工を行った。この第2ラッピング工程を行なうことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面110に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
(3) Second Lapping Step Next, the second lapping process was performed on both main surfaces 110 of the obtained glass substrate 100 in the same manner as in the first lapping step. By performing this second lapping step, the fine irregularities formed on the main surface in the cutting step and end surface polishing step, which are the previous steps, can be removed in advance, and the subsequent polishing step for the main surface 110 can be performed. It can be completed in a short time.

(4)端面研磨工程
次に、ガラス基板100の外周の端面研磨を行なう。まず端面120については、面取面130に先立ち、単独で研磨を行なう。研磨の方法は、例えば複数枚のガラス基板100を同時にブラシにて研磨する方法でもよいが、取代が多くなってしまう。そこで、例えば枚葉式の研磨方法を用いてよい。
(4) End surface polishing step Next, end surface polishing of the outer periphery of the glass substrate 100 is performed. First, the end surface 120 is polished independently prior to the chamfered surface 130. The polishing method may be, for example, a method in which a plurality of glass substrates 100 are simultaneously polished with a brush, but the machining allowance increases. Therefore, for example, a single wafer polishing method may be used.

続いて面取面130については、鏡面研磨を行った。これにより、1枚のガラス基板100の面取面130の、外周の全周における表面粗さの差は、0.001μm以下の範囲になった。そして、端面研磨工程を終えたガラス基板100を水洗浄した。この端面研磨工程により、ガラス基板100の端面120は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態に加工された。   Subsequently, the chamfered surface 130 was mirror-polished. Thereby, the difference of the surface roughness in the perimeter of the outer periphery of the chamfered surface 130 of one glass substrate 100 became the range of 0.001 micrometer or less. And the glass substrate 100 which finished the end surface grinding | polishing process was washed with water. By this end face polishing step, the end face 120 of the glass substrate 100 was processed into a mirror state that can prevent the precipitation of sodium and potassium.

なお、本実施例では端部の研磨を行った後に面取面130の研磨を行なうよう説明した。しかしこの順序については任意であって、面取面130の研磨を先に行ってから端面120の研磨を行ってもよい。   In this embodiment, it has been described that the chamfered surface 130 is polished after the end portion is polished. However, this order is arbitrary, and the end face 120 may be polished after the chamfered surface 130 is polished first.

次に、内周端面については、多数枚積層したガラス基板ブロックを形成し、面取りした内周端部をブラシロールにて同時に研磨してよい。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー(遊離砥粒)を用いた。   Next, regarding the inner peripheral end surface, a glass substrate block in which a large number of sheets are laminated may be formed, and the chamfered inner peripheral end portion may be simultaneously polished with a brush roll. At this time, as the abrasive grains, a slurry (free abrasive grains) containing cerium oxide abrasive grains was used.

(5)主表面研磨工程
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施した。この第1研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面110に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第1研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面110の研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
(5) Main surface polishing step As the main surface polishing step, first, a first polishing step was performed. The first polishing step is mainly intended to remove scratches and distortions remaining on the main surface 110 in the lapping step described above. In the first polishing step, the main surface 110 was polished using a hard resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains were used.

この第1研磨工程を終えたガラス基板100を、中性洗剤、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。   The glass substrate 100 which finished this 1st grinding | polishing process was immersed in each washing tank of neutral detergent, a pure water, and IPA (isopropyl alcohol) sequentially, and was wash | cleaned.

次に、主表面研磨工程として、第2研磨工程を施した。この第2研磨工程は、主表面110を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第2研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面110の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第1研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒を用いた。   Next, a second polishing step was performed as the main surface polishing step. The purpose of the second polishing step is to finish the main surface 110 in a mirror shape. In the second polishing step, mirror polishing of the main surface 110 was performed using a soft foam resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains finer than the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step were used.

この第2研磨工程を終えたガラス基板100を、中性洗剤、純水、IPA(イソプロピルアルコール)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。   The glass substrate 100 which finished this 2nd grinding | polishing process was immersed in each washing tank of neutral detergent, a pure water, and IPA (isopropyl alcohol) one by one, and was wash | cleaned. Note that ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

(6)化学強化工程
次に、前述のラッピング工程および研磨工程を終えたガラス基板100に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を400℃に加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板100を300℃に予熱し、化学強化溶液中に約3時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板100の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板100が端面120で保持されるように、ホルダに収納した状態で行った。
(6) Chemical strengthening process Next, the glass substrate 100 which finished the above-mentioned lapping process and polishing process was chemically strengthened. For chemical strengthening, a chemical strengthening solution prepared by mixing potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) is prepared, and the chemically strengthened solution is heated to 400 ° C. and the cleaned glass substrate 100 is heated to 300 ° C. This was done by preheating and immersing in a chemical strengthening solution for about 3 hours. In this immersion, in order to chemically strengthen the entire surface of the glass substrate 100, the plurality of glass substrates 100 were stored in a holder so that the glass substrate 100 was held by the end surface 120.

このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板100の表層のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板100が強化される。ガラス基板100の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約100μm乃至200μmであった。   Thus, by immersing in the chemical strengthening solution, the lithium ions and sodium ions in the surface layer of the glass substrate 100 are replaced with sodium ions and potassium ions in the chemical strengthening solution, respectively, and the glass substrate 100 is strengthened. The thickness of the compressive stress layer formed on the surface layer of the glass substrate 100 was about 100 μm to 200 μm.

化学強化処理を終えたガラス基板100を、20℃の水槽に浸漬して急冷し、約10分間維持した。そして、急冷を終えたガラス基板100を、約40℃に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板100を純水、IPA(イソプロピルアルコール)の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。   The glass substrate 100 that had been subjected to the chemical strengthening treatment was immersed in a water bath at 20 ° C. for rapid cooling and maintained for about 10 minutes. And the glass substrate 100 which finished quenching was immersed in the concentrated sulfuric acid heated at about 40 degreeC, and was wash | cleaned. Furthermore, the glass substrate 100 that had been subjected to the sulfuric acid cleaning was sequentially immersed and cleaned in each cleaning tank of pure water and IPA (isopropyl alcohol). In addition, ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

上記の如く、第1ラッピング工程、切り出し工程、端面研磨工程、第2ラッピング工程、第1および第2研磨工程、ならびに化学強化工程を施すことにより、平坦で平滑な、高剛性の磁気ディスク用ガラス基板100を得た。   As described above, by applying the first lapping step, the cutting step, the end surface polishing step, the second lapping step, the first and second polishing steps, and the chemical strengthening step, a flat and smooth high-rigidity magnetic disk glass A substrate 100 was obtained.

(7)検査工程
得られた磁気ディスク用ガラス基板100の主表面110について平滑性の検査を行った。検査工程は、表面欠陥検出装置(AOI:Automatic Optical Inspection)やOSA(Optical Surface Analyzer)等の機器を用いて、磁気ディスク用ガラス基板100に光を照射し磁気ディスク用ガラス基板100から反射した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方を測定し、付着物、凹部および凸部が存在するか否か等を測定し、基板状態を評価する。
(7) Inspection Step The main surface 110 of the obtained magnetic disk glass substrate 100 was inspected for smoothness. The inspection process uses light such as a surface defect detector (AOI: Automatic Optical Inspection) and an OSA (Optical Surface Analyzer) to irradiate the magnetic disk glass substrate 100 with light and reflect the light from the magnetic disk glass substrate 100. One or both of the strength and displacement of the substrate is measured, whether or not there are deposits, concave portions and convex portions is measured, and the substrate state is evaluated.

(8)梱包工程
25枚の磁気ディスク用ガラス基板100をケース200に収容し、ケース200を4個重ね、アルミニウムラミネートフィルム製の第二の梱包袋220に入れ、第二の梱包袋220内を減圧しながら密封梱包し、梱包体222とした。かかる梱包体222を、次にプラスチックフィルム製の第一の梱包袋210に入れ、第一の梱包袋210内を減圧しながら密封梱包し、二重梱包体212とした。このように、ガラス基板100を密封しながら二重梱包することにより、梱包袋内への水蒸気やガスの透過が効果的に防止され、ガラス基板100への水蒸気やガスの接触を防ぎ、配送中のガラス基板100の品質を良好な状態に保つことが可能となる。
(8) Packing process 25 magnetic disk glass substrates 100 are accommodated in a case 200, four cases 200 are stacked, placed in a second packing bag 220 made of an aluminum laminate film, and the inside of the second packing bag 220 is filled. It was sealed and packaged under reduced pressure to obtain a package 222. Next, the packing body 222 was put in a first packing bag 210 made of a plastic film, and the first packing bag 210 was hermetically packed while decompressing to form a double packing body 212. Thus, by double-packing while sealing the glass substrate 100, the permeation of water vapor and gas into the packaging bag is effectively prevented, preventing the water vapor and gas from contacting the glass substrate 100, and being delivered. It becomes possible to keep the quality of the glass substrate 100 in a good state.

上記のように、ガラス基板100がケース200に収納され、第一の梱包袋210および第二の梱包袋220で二重に密封梱包された二重梱包体212は、ガラス基板製造施設から出荷し、船や飛行機、列車等によって磁気ディスク製造施設へ運搬した。以下に、磁気ディスク製造施設において行われる磁気ディスクの製造支援工程の詳細および磁気ディスクの製造工程を説明する。   As described above, the double packing body 212 in which the glass substrate 100 is housed in the case 200 and double-sealed and packed in the first packing bag 210 and the second packing bag 220 is shipped from the glass substrate manufacturing facility. They were transported to a magnetic disk manufacturing facility by ship, airplane or train. The details of the magnetic disk manufacturing support process and the magnetic disk manufacturing process performed at the magnetic disk manufacturing facility will be described below.

(9)第一開梱工程
二重梱包体212の二重の梱包袋のうち、外側の梱包袋である第一の梱包袋210を第一の室310において開梱し、梱包体222とした。かかる第一の室310は、第二の室320と隣接していて、第二の室320から気流が流れこんでいる。
(9) First Unpacking Step Of the double packing bags of the double packing body 212, the first packing bag 210, which is the outer packing bag, is unpacked in the first chamber 310 to obtain a packing body 222. . The first chamber 310 is adjacent to the second chamber 320, and airflow flows from the second chamber 320.

(10)第二開梱工程
梱包体222の第二の梱包袋220を第二の室320において開梱した。かかる第二の室320は、第一の室310および、生産ラインが設置されているクリーンルーム330と隣接していて、第一の室310に向かって気流が発生している。
(10) Second unpacking step The second packing bag 220 of the packing body 222 was unpacked in the second chamber 320. The second chamber 320 is adjacent to the first chamber 310 and the clean room 330 where the production line is installed, and an air flow is generated toward the first chamber 310.

(11)搬入工程
ガラス基板100上に磁性層を形成する成膜工程を行うため、ケース200に収納されたガラス基板100を、生産ラインが設置されているクリーンルーム330へ搬送する。
(11) Carrying-in process In order to perform the film-forming process which forms a magnetic layer on the glass substrate 100, the glass substrate 100 accommodated in case 200 is conveyed to the clean room 330 where the production line is installed.

[評価]
かかる製造支援工程によって開梱されたガラス基板における本実施例の有効性について説明する。有効性は、パーティクルの数によって検証する。後述の図5では、100枚のガラス基板を表面欠陥検出装置でカウントし、その平均値を「パーティクル数」とした。
[Evaluation]
The effectiveness of the present embodiment in the glass substrate unpacked by the manufacturing support process will be described. The effectiveness is verified by the number of particles. In FIG. 5 described later, 100 glass substrates were counted by the surface defect detection device, and the average value was defined as “number of particles”.

図5は、実施例および比較例におけるパーティクル数をカウントした結果を示す図である。ここで、実施例とは、ファンを用いて第二の室から第一の室に向けて強制的に気流を流し、第一開梱工程を第一の室で、第二開梱工程を第二の室で行った場合であり、比較例1は第一開梱工程と第二開梱工程を同じ室で行った場合、比較例2は第一の室と第二の室との間での気流を流さず、第一開梱工程を第一の室で、第二開梱工程を第二の室で行った場合、比較例3はファンを用いて、逆方向、すなわち第一の室から第二の室に向けて強制的に気流を流し、第一開梱工程を第一の室で、第二開梱工程を第二の室で行った場合である。   FIG. 5 is a diagram showing the results of counting the number of particles in the example and the comparative example. Here, the embodiment means that a fan is used to forcibly flow an air flow from the second chamber toward the first chamber, the first unpacking step is performed in the first chamber, and the second unpacking step is performed in the first chamber. In the case where the first unpacking step and the second unpacking step are performed in the same chamber, the comparative example 2 is performed between the first chamber and the second chamber. When the first unpacking process is performed in the first chamber and the second unpacking process is performed in the second chamber, the comparative example 3 uses the fan in the reverse direction, that is, the first chamber. This is a case where the air flow is forced to flow from the first chamber to the second chamber, the first unpacking step is performed in the first chamber, and the second unpacking step is performed in the second chamber.

図5に示すように、比較例1および比較例2、比較例3におけるパーティクル数に比べて、実施例におけるパーティクル数は著しく小さい。かかる原因としては、比較例1は第一開梱工程と第二開梱工程を同じ室で行っているため、第一開梱工程において外側の第一梱包袋に搬送中に付着したパーティクルや異物が室内に散乱し、第二開梱工程において内側の第二梱包袋を開梱した際に、ガラス基板にパーティクルや異物が付着するためと考えられる。また、第一開梱工程および第二開梱工程を行った部屋とクリーンルームが隣接していると、室内に散乱した第二梱包袋に付着していたパーティクルや異物がクリーンルーム内に持ち込まれることも考えられる。   As shown in FIG. 5, the number of particles in the example is significantly smaller than the number of particles in Comparative Example 1, Comparative Example 2, and Comparative Example 3. As such a cause, since the first unpacking step and the second unpacking step are performed in the same chamber in Comparative Example 1, particles and foreign matter adhered to the outer first packing bag during the first unpacking step It is considered that particles and foreign matters adhere to the glass substrate when the inner second packaging bag is unpacked in the second unpacking step. In addition, if the room where the first unpacking process and the second unpacking process are performed is adjacent to the clean room, particles and foreign matter adhering to the second packing bag scattered inside the room may be brought into the clean room. Conceivable.

比較例2においてパーティクル数が大きい原因としては、第一の室と第二の室間で気流の流れがないため、第一開梱工程時に第一の室に散乱したパーティクルや異物が第二の室に容易に持ち込まれるため、第二の室におけるパーティクルや異物の量を低減しきれず、第二開梱工程時にパーティクルや異物がガラス基板に付着すると考えられる。ただし比較例1よりパーティクル数は少ない。このように、気流なし、という共通の条件下では、別々の室で二重梱包のそれぞれの袋を開梱したほうが、同一の室で行うより明らかに成績が良くなることが分かる。   The reason for the large number of particles in Comparative Example 2 is that there is no flow of airflow between the first chamber and the second chamber, so particles and foreign matter scattered in the first chamber during the first unpacking process Since it is easily brought into the chamber, the amount of particles and foreign matters in the second chamber cannot be reduced, and it is considered that particles and foreign matters adhere to the glass substrate during the second unpacking step. However, the number of particles is smaller than in Comparative Example 1. Thus, under the common condition of no air flow, it can be seen that unpacking each double-packed bag in a separate chamber clearly improves the results than in the same chamber.

また、比較例3においてパーティクル数が最も大きい。その原因としては、第一の室から第二の室へ向けて気流を流すため、第一梱包袋を梱包した際に第一の室に散乱したパーティクルや異物が気流に乗って第二の室に流れ込む。したがって、第一の室に散乱したパーティクルや異物の大部分が第二の室に持ち込まれるため、第二開梱工程において第二の梱包袋を開梱した際に、大量のパーティクルや異物がガラス基板に付着すると考えられる。また、第一の室から第二の室に向けて気流が流れているため、気流に乗ったパーティクルや異物が、第二の室の、第一の室とは反対側に隣接しているクリーンルームにまで到達することにより、クリーンルーム内のパーティクルや異物の量が増加することも考えられる。   In Comparative Example 3, the number of particles is the largest. The cause is that air current flows from the first chamber to the second chamber, so that when the first packing bag is packed, particles and foreign matter scattered in the first chamber get on the air current and flow into the second chamber. Flow into. Therefore, most of the particles and foreign matter scattered in the first chamber are brought into the second chamber, so when the second packing bag is unpacked in the second unpacking process, a large amount of particles and foreign matters are It is thought to adhere to the substrate. In addition, since the airflow is flowing from the first chamber toward the second chamber, the particles and foreign matters that are on the airflow are adjacent to the second chamber on the opposite side of the first chamber. It is also conceivable that the amount of particles and foreign matters in the clean room will increase by reaching the point.

以上の結果から、第二の室から第一の室に向けて気流を流すことにより、生産ラインが設置されているクリーンルームへの搬入後、すなわち、成膜工程直前でのガラス基板へのパーティクルや異物の付着を防止することができることがわかる。これにより、成膜工程時にガラス基板上に平滑な磁性層を形成することができ、ひいては磁気ディスクの歩留まりを向上させることが可能となる。   From the above results, by flowing an air stream from the second chamber toward the first chamber, particles or particles on the glass substrate after being brought into the clean room where the production line is installed, that is, immediately before the film forming step, It can be seen that adhesion of foreign matter can be prevented. As a result, a smooth magnetic layer can be formed on the glass substrate during the film forming process, and as a result, the yield of the magnetic disk can be improved.

(12)磁気ディスク製造工程(成膜工程)
上述した製造工程および製造支援工程を経て得られたガラス基板100の両面に、ガラス基板100の表面にCr合金からなる付着層、CoTaZr基合金からなる軟磁性層、Ruからなる下地層、CoCrPt基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、本構成は垂直磁気ディスクの構成の一例であるが、面内磁気ディスクとして磁性層等を構成してもよい。
(12) Magnetic disk manufacturing process (film formation process)
On both surfaces of the glass substrate 100 obtained through the manufacturing process and the manufacturing support process described above, an adhesion layer made of a Cr alloy, a soft magnetic layer made of a CoTaZr-based alloy, an underlayer made of Ru, and a CoCrPt group on the surface of the glass substrate 100 A perpendicular magnetic recording disk was manufactured by sequentially forming a perpendicular magnetic recording layer made of an alloy, a protective layer made of hydrogenated carbon, and a lubricating layer made of perfluoropolyether. Although this configuration is an example of a configuration of a perpendicular magnetic disk, a magnetic layer or the like may be configured as an in-plane magnetic disk.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施例について説明したが、本発明はかかる実施例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   As mentioned above, although the suitable Example of this invention was described referring an accompanying drawing, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to this Example. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.

本発明は、磁気ディスク製造支援方法および磁気ディスクの製造方法に利用することができる。   The present invention can be used in a magnetic disk manufacturing support method and a magnetic disk manufacturing method.

本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板を説明する図である。It is a figure explaining the glass substrate for magnetic discs concerning this invention. ガラス基板のケースへの収納状態を説明する図である。It is a figure explaining the accommodation state to the case of a glass substrate. ガラス基板が収納されたケースの梱包状態を説明する図である。It is a figure explaining the packing state of the case in which the glass substrate was accommodated. 開梱工程を行う室を説明する図である。It is a figure explaining the chamber which performs an unpacking process. 実施例および比較例におけるパーティクル数の結果を示す図である。It is a figure which shows the result of the particle number in an Example and a comparative example.

符号の説明Explanation of symbols

100…(磁気ディスク用)ガラス基板
110…主表面
120…端面
130…面取面
200…ケース
210…第一の梱包袋
212…二重梱包体
220…第二の梱包袋
222…梱包体
310…第一の室
320…第二の室
330…クリーンルーム
340…ファン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Glass substrate (for magnetic discs) 110 ... Main surface 120 ... End surface 130 ... Chamfering surface 200 ... Case 210 ... First packing bag 212 ... Double packing body 220 ... Second packing bag 222 ... Packing body 310 ... First chamber 320 ... Second chamber 330 ... Clean room 340 ... Fan

Claims (4)

第一および第二の梱包袋で二重に梱包された磁気ディスク用ガラス基板から製造される磁気ディスクの製造を支援する磁気ディスク製造支援方法において、
前記第一の梱包袋を第一の室で開梱する第一開梱工程と、
前記第二の梱包袋を第二の室で開梱する第二開梱工程と、
前記磁気ディスク用ガラス基板をクリーンルームへ搬入する搬入工程と、
を含み、
前記第一開梱工程および前記第二開梱工程では、前記第二の室から前記第一の室へ向けて気流を流すことを特徴とする磁気ディスク製造支援方法。
In a magnetic disk manufacturing support method for supporting the manufacture of a magnetic disk manufactured from a glass substrate for a magnetic disk that is double-packed in a first and a second packing bag,
A first unpacking step of unpacking the first packing bag in the first chamber;
A second unpacking step of unpacking the second packing bag in a second chamber;
A loading step of loading the glass substrate for magnetic disk into a clean room;
Including
In the first unpacking step and the second unpacking step, a magnetic disk manufacturing support method is characterized in that an air flow is caused to flow from the second chamber toward the first chamber.
第一および第二の梱包袋で二重に梱包された磁気ディスク用ガラス基板から製造される磁気ディスクの製造を支援する磁気ディスク製造支援方法において、
前記第一の梱包袋を第一の室で開梱する第一開梱工程と、
前記第二の梱包袋を第二の室で開梱する第二開梱工程と、
前記磁気ディスク用ガラス基板をクリーンルームへ搬入する搬入工程と、
を含み、
前記第二の室内の圧力は、前記第一の室内の圧力より高いことを特徴とする磁気ディスク製造支援方法。
In a magnetic disk manufacturing support method for supporting the manufacture of a magnetic disk manufactured from a glass substrate for a magnetic disk that is double-packed in a first and a second packing bag,
A first unpacking step of unpacking the first packing bag in the first chamber;
A second unpacking step of unpacking the second packing bag in a second chamber;
A loading step of loading the glass substrate for magnetic disk into a clean room;
Including
The magnetic disk manufacturing support method, wherein the pressure in the second chamber is higher than the pressure in the first chamber.
前記第一の室内の圧力は、減圧機を用いて減圧することによって前記第二室の内の圧力より低圧にすることを特徴とする請求項2に記載の磁気ディスク製造支援方法。   3. The magnetic disk manufacturing support method according to claim 2, wherein the pressure in the first chamber is made lower than the pressure in the second chamber by reducing the pressure using a decompressor. 請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法で開梱した磁気ディスク用ガラス基板に少なくとも磁性層を形成する成膜工程を行うことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。   A method of manufacturing a magnetic disk, comprising performing a film forming step of forming at least a magnetic layer on a glass substrate for a magnetic disk unpacked by the method according to any one of claims 1 to 3.
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