JP5353715B2 - Packaging method of glass substrate for information recording medium - Google Patents
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-
- G—PHYSICS
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-
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Abstract
Description
本発明は、情報記録媒体用ガラス基板の梱包方法に関する。
The present invention relates to a packaging how the glass substrate for an information recording medium.
従来、磁気ディスク用基板としては、デスクトップ用コンピュータやサーバなどの据え置き型にはアルミニウム合金が使用され、ノート型コンピュータやモバイル型コンピュータなどの携帯型にはガラス基板が一般に使用されていた。しかし、アルミニウム合金は変形しやすく、硬さも不十分であるため、アルミ合金を使用した基板は研磨後の基板表面の平滑性が十分とは言えなかった。またアルミ合金を使用した基板では、ヘッドが磁気ディスクに接触する際、磁性膜が基板から剥離しやすいという問題もあった。そこで、変形が少なく、平滑性が良好で、かつ機械的強度の大きいガラス基板が、携帯型のみならず据え置き型の機器やその他の家庭用情報機器にも今後広く使用されていくものと予測されている。 Conventionally, as a magnetic disk substrate, an aluminum alloy is used for a stationary type such as a desktop computer or a server, and a glass substrate is generally used for a portable type such as a notebook computer or a mobile computer. However, since an aluminum alloy is easily deformed and has insufficient hardness, it cannot be said that a substrate using the aluminum alloy has sufficient smoothness on the surface of the substrate after polishing. In addition, a substrate using an aluminum alloy has a problem that the magnetic film easily peels from the substrate when the head contacts the magnetic disk. Therefore, glass substrates with little deformation, good smoothness, and high mechanical strength are expected to be widely used not only for portable devices but also for stationary devices and other household information devices in the future. ing.
ところで、磁気ディスクの記録容量は、磁気ヘッドと磁気ディスク表面との距離を小さくするほど大きくできる。しかし、磁気ヘッドと磁気ディスク表面との距離を小さくした場合、ガラス基板の表面に異常突起があったり、異物の付着があったりすると、磁気ヘッドが磁気ディスク上の突起や異物に衝突する不具合が生じる。したがって、磁気ヘッドと磁気ディスク表面との距離を小さくして、磁気ディスクの記録容量を増大させるためには、ガラス基板の表面の異常突起や異物付着をなくす必要がある。そこでガラス基板表面を酸化セリウムなどの研磨剤を用いて研磨する研磨工程(ポリッシング工程ともいう。)でガラス基板表面を平滑にし、例えば、面粗さをRmaxが2nmから6nm、算術平均粗さRaが0.2nmから0.4nmのレベルまで平滑にしている。その後、洗浄工程でイソプロピルアルコールや超純水などを用いて、超清浄な表面に洗浄している。 By the way, the recording capacity of the magnetic disk can be increased as the distance between the magnetic head and the surface of the magnetic disk is decreased. However, if the distance between the magnetic head and the surface of the magnetic disk is reduced, if the surface of the glass substrate has abnormal protrusions or foreign matter adheres to it, the magnetic head may collide with the protrusions or foreign objects on the magnetic disk. Arise. Therefore, in order to reduce the distance between the magnetic head and the magnetic disk surface and increase the recording capacity of the magnetic disk, it is necessary to eliminate abnormal protrusions and foreign matter adhesion on the surface of the glass substrate. Therefore, the glass substrate surface is smoothed by a polishing process (also referred to as a polishing process) in which the glass substrate surface is polished with an abrasive such as cerium oxide. For example, the surface roughness is Rmax from 2 nm to 6 nm, and the arithmetic average roughness Ra. Is smoothed to a level of 0.2 nm to 0.4 nm. Thereafter, the surface is cleaned with an isopropyl alcohol or ultrapure water in a cleaning process.
しかし、このように超清浄にしたガラス基板表面は、雰囲気中のパーティクルダストなどの異物を吸着しやすい活性な状態となっている。そのため、研磨工程以降をクリーンルーム内で行うことが提案されているが、ガラス基板表面に磁性膜等を蒸着し、磁気ディスクにする製造設備がガラス基板の製造場所から離れている場合や、製造したガラス基板を顧客に出荷する場合は、ガラス基板を梱包して、保管、搬送する必要がある。 However, the glass substrate surface thus ultra-cleaned is in an active state in which foreign substances such as particle dust in the atmosphere are easily adsorbed. For this reason, it has been proposed to perform the polishing process and later in a clean room, but when the manufacturing equipment for depositing a magnetic film or the like on the glass substrate surface to make a magnetic disk is away from the manufacturing location of the glass substrate, it was manufactured. When shipping a glass substrate to a customer, the glass substrate needs to be packed, stored and transported.
ガラス基板を保管、搬送するときに、ガラス基板表面に異物等の付着が生じないように、特許文献1においては、一定枚数のガラス基板を保持した保持体をラミネートフィルムを用いて真空パックし、梱包体として保管、搬送する方法が提案されている。
しかしながら、特許文献1の方法を用いて梱包し、保管、搬送したガラス基板を用いて磁気ディスクを製造しても、磁気ディスク表面の異物に磁気ヘッドが衝突し、ヘッドクラッシュを起こす現象が発生し、歩留まりが延びないという問題があった。 However, even when a magnetic disk is manufactured using a glass substrate that has been packed, stored and transported using the method of Patent Document 1, the magnetic head collides with foreign matter on the surface of the magnetic disk, causing a head crash. There was a problem that the yield did not increase.
ガラス基板表面への異物付着の原因を調べると、梱包前のガラス基板表面には、ヘッドクラッシュを起こすレベルの異物は認められないが、梱包、搬送後に開梱したガラス基板表面にヘッドクラッシュを起こすレベルの新たな異物の付着が認められた。このことから特許文献1の方法を用いても、梱包体の状態でガラス基板表面に異物の付着が生じていることがわかる。 When investigating the cause of foreign matter adhesion on the glass substrate surface, there is no foreign matter at a level that causes head crashes on the glass substrate surface before packing, but head crashes on the glass substrate surface that has been unpacked after packing and transportation. A new level of foreign matter was observed. From this, even if the method of Patent Document 1 is used, it can be seen that foreign matter adheres to the surface of the glass substrate in the state of the package.
そこで、本発明は、前述のような状況に鑑みてなされたもので、その第1の目的は、情報記録媒体用ガラス基板を梱包し、保管、搬送して磁気記録媒体を製造する製造施設に配送しても、その保管、搬送過程で、ガラス基板表面に新たな異物の付着が生じない、情報記録媒体用ガラス基板の梱包方法、情報記録媒体用ガラス基板梱包体及び情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することにある。 Therefore, the present invention has been made in view of the situation as described above, and a first object thereof is a manufacturing facility that manufactures a magnetic recording medium by packing, storing, and transporting a glass substrate for an information recording medium. A method for packing a glass substrate for an information recording medium, a glass substrate packing body for an information recording medium, and a glass substrate for an information recording medium, in which new foreign substances do not adhere to the surface of the glass substrate during storage and transportation even after delivery. It is in providing the manufacturing method of.
また、本発明の第2の目的は、このような情報記録媒体用ガラス基板梱包体により搬送されてきた情報記録媒体用ガラス基板を用いることにより良好な特性を有する磁気記録媒体を製造することができる磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。 A second object of the present invention is to produce a magnetic recording medium having good characteristics by using a glass substrate for information recording medium that has been conveyed by such a glass substrate package for information recording medium. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a magnetic recording medium.
上記の課題は、以下の構成により解決される。 Said subject is solved by the following structures.
1.
情報記録媒体用ガラス基板を保持体に保持させる保持工程と、
前記情報記録媒体用ガラス基板を保持した保持体を包装部材により包装する包装工程と、
前記保持体に保持された前記情報記録媒体用ガラス基板を低級アルコールを含有する空間に密閉するよう、前記包装部材の開口部を密閉する密閉工程と、を有し、
前記密閉工程においては、密閉後に包装部材の内側の情報記録媒体用ガラス基板を保持した保持体が密閉される空間の雰囲気の低級アルコールの濃度が3〜100ppmの範囲になるように、低級アルコールの濃度が調節された気体を包装部材の内側の空間に充填した後に、前記包装部材の開口部を密閉することで行われ、密閉後の前記空間の低級アルコールの濃度が、3〜100ppmであることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の梱包方法。
1.
A holding step of holding the glass substrate for information recording medium on a holder;
A packaging step of packaging the holding body holding the glass substrate for information recording medium with a packaging member;
To seal the glass substrate for the information recording medium held by the holding member in a space containing a lower alcohol, have a, a sealing step of sealing the opening of said covering member,
In the sealing step, the lower alcohol is adjusted so that the concentration of the lower alcohol in the atmosphere of the space in which the holder holding the glass substrate for information recording medium inside the packaging member is sealed after sealing is in the range of 3 to 100 ppm. after filling the gas concentration is adjusted to the space inside the packaging member is performed by sealing the opening of the covering member, a concentration of a lower alcohol of the space after sealing is Ru 3~100ppm der A method for packing a glass substrate for an information recording medium.
2.
前記低級アルコールが、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノールからなる群より選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする前記1に記載の情報記録媒体用ガラス基板の梱包方法。
2 .
2. The method for packing a glass substrate for an information recording medium according to the item 1, wherein the lower alcohol is at least one selected from the group consisting of methanol, ethanol, propanol, butanol, and pentanol.
3.
前記密閉工程において、前記情報記録媒体用ガラス基板を保持した保持体が密閉される空間の気圧を減圧することを特徴とする前記1又は2に記載の情報記録媒体用ガラス基板の梱包方法。
3 .
3. The method for packing a glass substrate for an information recording medium according to 1 or 2 , wherein, in the sealing step, the pressure in a space in which the holder holding the glass substrate for the information recording medium is sealed is reduced.
4.
前記気圧を、200〜600hPaの範囲に減圧することを特徴とする前記3に記載の情報記録媒体用ガラス基板の梱包方法。
4 .
4. The method for packing a glass substrate for an information recording medium according to 3 above, wherein the atmospheric pressure is reduced to a range of 200 to 600 hPa.
5.
前記密閉工程を、雰囲気の前記低級アルコールの濃度が調節された作業室内で行うことを特徴とする前記1から4の何れか1項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の梱包方法。
5 .
5. The method for packing a glass substrate for an information recording medium according to any one of 1 to 4 , wherein the sealing step is performed in a working chamber in which the concentration of the lower alcohol in the atmosphere is adjusted.
本発明の情報記録媒体用ガラス基板の梱包方法及び梱包体によれば、梱包体内部において浮遊する異物や、搬送時に梱包体内部で発生する異物などが、保管、搬送中にガラス基板表面に付着せず、洗浄後の超清浄な状態でガラス基板を磁気記録媒体を製造する製造施設に配送できる。よって、このような梱包方法によって梱包された情報記録媒体用ガラス基板を用いて磁気記録媒体を製造する場合、ヘッドクラッシュの発生が抑止された磁気記録媒体を製造することができる。 According to the packaging method and packaging body for a glass substrate for information recording media of the present invention, foreign matter floating inside the packaging body or foreign matter generated inside the packaging body during transportation is attached to the surface of the glass substrate during storage and transportation. The glass substrate can be delivered to a manufacturing facility for manufacturing a magnetic recording medium in an ultra-clean state after washing without wearing. Therefore, when manufacturing a magnetic recording medium using the glass substrate for information recording media packed by such a packing method, it is possible to manufacture a magnetic recording medium in which the occurrence of head crashes is suppressed.
1 情報記録媒体用ガラス基板(ガラス基板)
2 磁性膜
5 穴
7a ガラス基板表面(表主表面)
7b ガラス基板表面(裏主表面)
10t 外周端面
20t 内周端面
10a、10b スポンジローラ
20 ノズル
30 洗浄液
60 収納容器
61 上蓋
63 固定部材
64 抑え板
65、66 側板
67、68 連結板
69 底板
70 リブ
71 溝
200 包装部材
201開口部
300 情報記録媒体用ガラス基板梱包体
600 保持体
D 磁気ディスク1 Glass substrate for information recording media (glass substrate)
2 Magnetic film 5 Hole 7a Glass substrate surface (front main surface)
7b Glass substrate surface (back main surface)
10t outer peripheral end surface 20t inner peripheral end surface 10a, 10b sponge roller 20 nozzle 30 cleaning liquid 60 storage container 61 upper lid 63 fixing member 64 holding plate 65, 66 side plate 67, 68 connecting plate 69 bottom plate 70 rib 71 groove 200 packaging member 201 opening 300 information Glass substrate package for recording medium 600 Holder D Magnetic disk
本発明を図示の実施の形態に基づいて説明するが、本発明は該実施の形態に限らない。 Although the present invention will be described based on the illustrated embodiment, the present invention is not limited to the embodiment.
図1は、情報記録媒体用ガラス基板(以降、ガラス基板とも称する。)1の全体構成を示している。図1に示す様に、ガラス基板1は、中心に穴5が形成されたドーナツ状の円板形状をしている。10tは外周端面、20tは内周端面、7a、7bはガラス基板表面であり、7aは表主表面、7bは裏主表面を示している。また、図2は、図1で示したガラス基板1の表主表面7aの上に磁性膜2を備えている磁気記録媒体(以降、磁気ディスクとも称する。)Dの一例を示す図である。磁性膜2は裏主表面7bの上にも設けることができる。 FIG. 1 shows the overall configuration of a glass substrate for information recording medium (hereinafter also referred to as a glass substrate) 1. As shown in FIG. 1, the glass substrate 1 has a donut-like disk shape with a hole 5 formed in the center. 10t is an outer peripheral end surface, 20t is an inner peripheral end surface, 7a and 7b are glass substrate surfaces, 7a is a front main surface, and 7b is a back main surface. FIG. 2 is a diagram showing an example of a magnetic recording medium (hereinafter also referred to as a magnetic disk) D provided with a magnetic film 2 on the front main surface 7a of the glass substrate 1 shown in FIG. The magnetic film 2 can also be provided on the back main surface 7b.
図3に本発明に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の一実施例の製造工程図を示す。ガラス溶融工程で溶融されたガラスは、プレス成型工程で円盤状に成型され、コアリング工程で中心に穴を形成した後、第1のラッピング工程で表面を研磨する。所定の内・外径に研削し、端面を研磨加工した後、第2のラッピング工程で表面の再研磨を行う。次にガラス基板表面の化学強化を行った後、ポリッシング工程、洗浄工程を経て、ガラス基板表面の検査をして、梱包工程で梱包し、情報記録媒体用ガラス基板梱包体として出荷する。 FIG. 3 shows a manufacturing process diagram of an embodiment of a method for manufacturing a glass substrate for an information recording medium according to the present invention. The glass melted in the glass melting step is formed into a disk shape in the press molding step, and after forming a hole in the center in the coring step, the surface is polished in the first lapping step. After grinding to a predetermined inner / outer diameter and polishing the end face, the surface is re-polished in the second lapping step. Next, after chemically strengthening the glass substrate surface, the glass substrate surface is inspected through a polishing process and a cleaning process, packed in a packing process, and shipped as a glass substrate package for an information recording medium.
次に、情報記録媒体用ガラス基板梱包体は、搬送され、出荷先で情報記録媒体用ガラス基板梱包体から情報記録媒体用ガラス基板を取り出し、情報記録媒体用ガラス基板の表面に、少なくとも磁性層を形成することで磁気記録媒体を製造する。 Next, the glass substrate package for the information recording medium is conveyed, and the glass substrate for the information recording medium is taken out from the glass substrate package for the information recording medium at the shipping destination, and at least a magnetic layer is formed on the surface of the glass substrate for the information recording medium. A magnetic recording medium is manufactured by forming
本発明に係る情報記録媒体用ガラス基板の梱包方法について図4を用いて説明する。図4は、梱包工程を分解した工程図である。図3の洗浄工程を終えたガラス基板は、検査工程でガラス基板表面のキズや異物の検査を行った後、合格となったガラス基板を、保持工程として、保持体に所定の枚数保持する。次に包装工程で、この保持体をラミネートフィルムなどの包装部材により包装する。そして、密閉工程において、包装部材の開口部を密閉し、梱包する。この梱包方法において、密閉された包装部材の内側の空間に低級アルコールが含有されている。低級アルコールを含有させることにより、梱包体内部において、ガラス基板表面に低級アルコール成分の吸着した薄い層が形成される。このような低級アルコール成分の吸着した薄い層をガラス基板表面に形成すると、洗浄工程後活性な状態にあったガラス基板表面の活性度が低下して、雰囲気中の異物の付着が抑えられる。よって、梱包体内部において浮遊する異物や、搬送時に梱包体内部で発生する異物などが、保管、搬送中にガラス基板表面に付着しにくくなり、清浄な表面を保ったまま磁気記録媒体の製造施設に配送することができる。 A method for packing a glass substrate for an information recording medium according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 4 is an exploded process diagram of the packing process. The glass substrate that has finished the cleaning process of FIG. 3 is inspected for scratches and foreign matter on the surface of the glass substrate in the inspection process, and then holds a predetermined number of glass substrates on the holder as a holding process. Next, this holding body is packaged by a packaging member such as a laminate film in a packaging process. In the sealing step, the opening of the packaging member is sealed and packed. In this packaging method, lower alcohol is contained in the space inside the sealed packaging member. By containing the lower alcohol, a thin layer in which the lower alcohol component is adsorbed is formed on the surface of the glass substrate inside the package. When such a thin layer adsorbing a lower alcohol component is formed on the surface of the glass substrate, the activity of the glass substrate surface that has been in an active state after the cleaning process is lowered, and adhesion of foreign substances in the atmosphere is suppressed. Therefore, foreign matter floating inside the package and foreign matter generated inside the package during transportation are less likely to adhere to the glass substrate surface during storage and transportation, and the magnetic recording medium manufacturing facility maintains a clean surface. Can be delivered to.
また、含有される低級アルコールの濃度は、3〜100ppmが好ましい。密閉された包装部材の内側の空間に含有される低級アルコールの濃度が3ppm未満になると、アルコール成分の吸着層の生成がやや不十分となり、異物付着を抑える効果が低下する。また、低級アルコールの濃度が100ppmを越えると、アルコール吸着層が均一に生成せず、除去後に基板表面に乾燥ムラを生じ、乾燥ムラの部分に異物の凝集が発生し、問題となる大きさになる可能性がある。 The concentration of the lower alcohol contained is preferably 3 to 100 ppm. When the concentration of the lower alcohol contained in the space inside the sealed packaging member is less than 3 ppm, the generation of the adsorption layer of the alcohol component becomes somewhat insufficient, and the effect of suppressing the adhesion of foreign matters is reduced. Also, if the concentration of the lower alcohol exceeds 100 ppm, the alcohol adsorbing layer is not uniformly formed, resulting in uneven drying on the substrate surface after removal, and aggregation of foreign matter occurs in the uneven drying portion, resulting in a problem size. There is a possibility.
また、低級アルコールとしては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノールからなる群より選ばれた少なくとも一種であることが好ましい。これらの低級アルコールは、ガラス表面との親和性が非常に高く、ガラス表面に薄い皮膜層を形成しやすい。低級アルコールは、加熱によって容易にガラス表面から離脱させることができるので、磁気記録層を形成する前に、容易に除去することができ、高品質な磁気記録媒体を製造することができる。 The lower alcohol is preferably at least one selected from the group consisting of methanol, ethanol, propanol, butanol and pentanol. These lower alcohols have a very high affinity with the glass surface and tend to form a thin film layer on the glass surface. Since the lower alcohol can be easily detached from the glass surface by heating, it can be easily removed before forming the magnetic recording layer, and a high-quality magnetic recording medium can be produced.
また、本発明に係る情報記録媒体用ガラス基板の梱包方法における密閉工程において、情報記録媒体用ガラス基板を保持した保持体が密閉される空間の気圧を減圧することが好ましい。減圧することにより、包装部材の内側の空間の異物もある程度除去でき、好ましい。 In the sealing step in the method for packing an information recording medium glass substrate according to the present invention, it is preferable to reduce the pressure of the space in which the holder holding the information recording medium glass substrate is sealed. By reducing the pressure, foreign matter in the space inside the packaging member can be removed to some extent, which is preferable.
また、包装部材の内側の空間の気圧を、200〜600hPaの範囲に減圧することが好ましい。200hPa未満になると、大気圧により梱包体に圧力が加わり、内部で、構成部材同士の擦れ、摩擦などにより異物が発生し、基板表面に付着しやすくなる。また、大気圧に耐えるために、梱包体の強度を上げる必要があり、重量が重くなるとともに製造費用も高くなり好ましくない。また、600hPaを越えると包装部材内側の異物除去の点で大きな効果が得られず好ましくない。 Moreover, it is preferable to reduce the pressure in the space inside the packaging member to a range of 200 to 600 hPa. When the pressure is less than 200 hPa, pressure is applied to the package due to atmospheric pressure, and foreign matter is generated inside due to friction between the constituent members, friction, and the like, and easily adheres to the substrate surface. Moreover, in order to endure atmospheric pressure, it is necessary to raise the intensity | strength of a package, and it becomes unfavorable because the weight increases and the manufacturing cost increases. On the other hand, if it exceeds 600 hPa, a great effect cannot be obtained in terms of removing foreign matters inside the packaging member, which is not preferable.
また、本発明に係る情報記録媒体用ガラス基板の梱包方法において、包装部材の開口部を密閉する密閉工程は、密閉後、包装部材の内側の情報記録媒体用ガラス基板を保持した保持体が密閉される空間の低級アルコールの濃度が3〜100ppmの範囲になるように、低級アルコールの濃度が調節された気体を包装部材の内側の空間に充填した後、密閉するのが好ましい。予め調整された気体の低級アルコールの濃度P1ppmは、充填する気体の気圧をXhPa、密閉後の包装部材の内側の空間の気圧をYhPa、包装部材の内側の密閉された空間に含有させたい低級アルコールの濃度をP2ppmとした場合、P1=P2×(X/Y)で算出することができる。 Further, in the method for packing an information recording medium glass substrate according to the present invention, the sealing step of sealing the opening of the packaging member is such that the holder holding the glass substrate for information recording medium inside the packaging member is sealed after the sealing. It is preferable to seal the space after filling the space inside the packaging member with a gas whose concentration of the lower alcohol is adjusted so that the concentration of the lower alcohol in the space to be in the range of 3 to 100 ppm. The pre-adjusted gas lower alcohol concentration P1 ppm is that the gas pressure to be filled is XhPa, the pressure inside the sealed packaging member is YhPa, and the lower alcohol you want to contain in the sealed space inside the packaging member When the concentration of P2 is P2 ppm, it can be calculated by P1 = P2 × (X / Y).
予め低級アルコールの濃度が調節された気体を包装部材の内側の空間に充填する充填方法については、特に限定しないが、少なくとも包装部材の開口部を密閉する密閉工程が、雰囲気の低級アルコールの濃度が調節された作業室内で行われることが好ましい。 この雰囲気の低級アルコールの濃度は、前記算出式で算出した低級アルコールの濃度P1にしたものを用いる。 The filling method for filling the space inside the packaging member with the gas whose concentration of lower alcohol has been adjusted in advance is not particularly limited, but at least the sealing step for sealing the opening of the packaging member has a lower alcohol concentration in the atmosphere. It is preferably performed in a controlled working chamber. As the concentration of the lower alcohol in this atmosphere, the lower alcohol concentration P1 calculated by the above formula is used.
このような雰囲気で密閉工程を行うことにより、特別に予め低級アルコールの濃度が調節された気体を包装部材の内側の空間に充填する充填手段を用いることなく、所定の濃度に調整することができる。また、作業室がクリーンルームであることが好ましい。 このように予め低級アルコールの濃度が調節されたクリーンルームで包装部材を密閉することにより、包装部材の内側の空間に含有される気体を容易に所定の低級アルコール濃度の範囲にすることができとともに、包装部材の内側の空間への異物の混入を抑制することができる。 By performing the sealing step in such an atmosphere, the concentration can be adjusted to a predetermined concentration without using a filling means that fills the space inside the packaging member with a gas whose concentration of lower alcohol has been adjusted in advance. . Moreover, it is preferable that the work room is a clean room. In this way, by sealing the packaging member in a clean room in which the concentration of the lower alcohol is adjusted in advance, the gas contained in the space inside the packaging member can be easily within a predetermined lower alcohol concentration range, It is possible to suppress the entry of foreign matter into the space inside the packaging member.
また、予め低級アルコールの濃度が調節された気体を包装部材の内側の空間に充填する別な方法として、例えば、減圧室内に包装部材により包装された情報記録媒体用ガラス基板を保持した保持体をいれ、その後、減圧室内を減圧し、その後に、予め低級アルコールの濃度が調節された気体(例えば空気)を導入し、所定の気圧に調整した後、包装部材の開口部を密閉するようにしても良い。また、空気より重い気体(例えば窒素ガス)に所定濃度の低級アルコールを含有させ、その気体を包装部材の開口部を上にした状態で充填し、その後開口部を密閉するようにしても良い。 As another method of filling the space inside the packaging member with a gas whose concentration of lower alcohol has been adjusted in advance, for example, a holding body that holds a glass substrate for an information recording medium packaged by a packaging member in a decompression chamber. After that, the inside of the decompression chamber is decompressed, and after that, a gas (for example, air) in which the concentration of the lower alcohol is adjusted in advance is introduced and adjusted to a predetermined pressure, and then the opening of the packaging member is sealed. Also good. Alternatively, a lower alcohol having a predetermined concentration may be contained in a gas heavier than air (for example, nitrogen gas), filled with the gas with the opening of the packaging member facing upward, and then the opening may be sealed.
情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に関して図3の製造工程図を用いて更に詳しく説明する。
(ガラス溶融工程)
まず、ガラス溶融工程として、ガラス素材を溶融する。ガラス基板の材料としては、例えば、SiO2、Na2O、CaOを主成分としたソーダライムガラス;SiO2、Al2O3、R2O(R=K、Na、Li)を主成分としたアルミノシリケートガラス;ボロシリケートガラス;Li2O−SiO2系ガラス;Li2O−Al2O3−SiO2系ガラス;R’O−Al2O3−SiO2系ガラス(R’=Mg、Ca、Sr、Ba)などを使用することができる。中でも、アルミノシリケートガラスやボロシリケートガラスは、耐衝撃性や耐振動性に優れるため特に好ましい。
(プレス成型工程)
次に、プレス成型工程として、溶融ガラスを下型に流し込み、上型によってプレス成型して円板状のガラス基板前駆体を得る。なお、円板状のガラス基板前駆体は、プレス成型によらず、例えばダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスを研削砥石で切り出して作製してもよい。The manufacturing method of the glass substrate for information recording media will be described in more detail with reference to the manufacturing process diagram of FIG.
(Glass melting process)
First, a glass material is melted as a glass melting step. As a material of the glass substrate, for example, soda lime glass mainly composed of SiO 2 , Na 2 O, CaO; mainly composed of SiO 2 , Al 2 O 3 , R 2 O (R = K, Na, Li) Aluminosilicate glass; borosilicate glass; Li 2 O—SiO 2 glass; Li 2 O—Al 2 O 3 —SiO 2 glass; R′O—Al 2 O 3 —SiO 2 glass (R ′ = Mg) , Ca, Sr, Ba) and the like can be used. Among these, aluminosilicate glass and borosilicate glass are particularly preferable because they are excellent in impact resistance and vibration resistance.
(Press molding process)
Next, as a press molding process, molten glass is poured into the lower mold and press molded with the upper mold to obtain a disk-shaped glass substrate precursor. The disk-shaped glass substrate precursor may be produced by cutting a sheet glass formed by, for example, a downdraw method or a float method with a grinding stone, without using press molding.
ガラス基板の大きさに限定はない。例えば、外径が2.5インチ、1.8インチ、1インチ、0.8インチなど種々の大きさのガラス基板がある。また、ガラス基板の厚みにも限定はなく、2mm、1mm、0.63mmなど種々の厚みのガラス基板がある。
(コアリング加工工程)
プレス成型したガラス基板前駆体は、コアリング加工工程で、中心部に穴を開ける。穴開けは、カッター部にダイヤモンド砥石等を備えたコアドリル等で研削することで中心部に穴を開ける。
(第1ラッピング工程)
次に、第1ラッピング工程として、ガラス基板の両表面を研磨加工し、ガラス基板の全体形状、すなわちガラス基板の平行度、平坦度および厚みを予備調整する。
(内・外径精密加工工程)
次に、内・外径加工工程として、ガラス基板の外周端面および内周端面を、例えば鼓状のダイヤモンド等の研削砥石により研削することで内・外径加工する。
(端面研磨加工工程)
内・外径加工工程を終えたガラス基板を、複数積み重ねて、積層し、その状態で外周面及び内周面の研磨加工を、端面研磨機を用いて研磨する。
(第2ラッピング工程)
更に、ガラス基板の両表面を再び研磨加工して、ガラス基板の平行度、平坦度および厚みを微調整する。There is no limitation on the size of the glass substrate. For example, there are glass substrates of various sizes such as an outer diameter of 2.5 inches, 1.8 inches, 1 inch, and 0.8 inches. Further, the thickness of the glass substrate is not limited, and there are glass substrates having various thicknesses such as 2 mm, 1 mm, and 0.63 mm.
(Coring process)
The press-molded glass substrate precursor is pierced at the center by a coring process. In the drilling, a hole is drilled in the center by grinding with a core drill or the like equipped with a diamond grindstone or the like in the cutter part.
(First lapping process)
Next, as a first lapping step, both surfaces of the glass substrate are polished to preliminarily adjust the overall shape of the glass substrate, that is, the parallelism, flatness and thickness of the glass substrate.
(Inner and outer diameter precision machining process)
Next, as the inner / outer diameter processing step, the inner and outer diameters are processed by grinding the outer peripheral end surface and the inner peripheral end surface of the glass substrate with a grinding wheel such as a drum-shaped diamond.
(End polishing process)
A plurality of glass substrates that have undergone the inner and outer diameter processing steps are stacked and laminated, and in this state, the outer peripheral surface and the inner peripheral surface are polished using an end surface polishing machine.
(Second wrapping process)
Further, both surfaces of the glass substrate are polished again to finely adjust the parallelism, flatness and thickness of the glass substrate.
第1及び第2ラッピング工程にてガラス基板の表裏の表面を研磨する研磨機は、両面研磨機と呼ばれる公知の研磨機を使用できる。両面研磨機は、互いに平行になるように上下に配置された円盤状の上定盤と下定盤とを備えており、互いに逆方向に回転する。この上下の定盤の対向するそれぞれの面にガラス基板の主表面を研磨するための複数のダイヤモンドペレットが貼り付けてある。上下の定盤の間には、下定盤の外周に円環状に設けてあるインターナルギアと下定盤の回転軸の周囲に設けてあるサンギアとに結合して回転する複数のキャリアがある。このキャリアには、複数の穴が設けてあり、この穴にガラス基板をはめ込んで配置する。上下の定盤、インターナルギア及びサンギアは別駆動で動作することができる。 As the polishing machine for polishing the front and back surfaces of the glass substrate in the first and second lapping processes, a known polishing machine called a double-side polishing machine can be used. The double-side polishing machine includes a disk-shaped upper surface plate and a lower surface plate that are arranged vertically so as to be parallel to each other, and rotate in opposite directions. A plurality of diamond pellets for polishing the main surface of the glass substrate are attached to the opposing surfaces of the upper and lower surface plates. Between the upper and lower surface plates, there are a plurality of carriers that rotate in combination with an internal gear provided in an annular shape on the outer periphery of the lower surface plate and a sun gear provided around the rotation axis of the lower surface plate. The carrier is provided with a plurality of holes, and a glass substrate is fitted into the holes. The upper and lower surface plates, the internal gear and the sun gear can be operated by separate driving.
研磨機の研磨動作は、上下の定盤が互いに逆方向に回転し、ダイヤモンドペレットを介して定盤に挟まれているキャリアは、複数のガラス基板を保持した状態で、自転しながら定盤の回転中心に対して下定盤と同じ方向に公転する。このような動作している研磨機において、研削液を上定盤とガラス基板及び下定盤とガラス基板との間に供給することでガラス基板の研磨を行うことができる。 The polishing operation of the polishing machine is such that the upper and lower surface plates rotate in opposite directions, and the carrier sandwiched between the surface plates via the diamond pellets rotates with the surface plate holding a plurality of glass substrates. Revolves in the same direction as the lower surface plate with respect to the center of rotation. In such an operating polishing machine, the glass substrate can be polished by supplying a grinding liquid between the upper surface plate and the glass substrate, and the lower surface plate and the glass substrate.
この両面研磨機を使用する際、ガラス基板に加わる定盤の荷重及び定盤の回転数を所望の研磨状態に応じて適宜調整する。第1及び第2ラッピング工程における荷重は、60g/cm2から120g/cm2とするのが好ましい。また、定盤の回転数は、10rpmから30rpm程度とし、上の定盤の回転数を下の定盤回転数より30%から40%程度遅くするのが好ましい。定盤による荷重を大きくし、定盤の回転数を速くすると研磨量は多くなるが、荷重を大きくしすぎると面粗さが良好とならず、また、回転数が速すぎると平坦度が良好とならない。また荷重が小さく定盤の回転数が遅いと研磨量が少なく製造効率が低くなる。When using this double-side polishing machine, the load on the surface plate applied to the glass substrate and the rotation speed of the surface plate are adjusted as appropriate according to the desired polishing state. The load in the first and second lapping steps is preferably 60 g / cm 2 to 120 g / cm 2 . Further, the rotation speed of the surface plate is preferably about 10 to 30 rpm, and the rotation speed of the upper surface plate is preferably about 30 to 40% slower than the lower surface rotation speed. If the load on the surface plate is increased and the rotation speed of the surface plate is increased, the amount of polishing increases, but if the load is increased too much, the surface roughness will not be good, and if the rotation speed is too high, the flatness will be good. Not. Further, when the load is small and the rotation speed of the surface plate is slow, the polishing amount is small and the production efficiency is lowered.
第2ラッピング工程を終えた時点で、大きなうねり、欠け、ひび等の欠陥は除去され、ガラス基板の主表面の面粗さは、Rmaxが2μmから4μm、Raが0.2μmから0.4μm程度とするのが好ましい。このような面状態にしておくことで、次の化学強化処理工程を経て第1ポリッシング工程で研磨を効率よく行うことができる。 When the second lapping process is completed, defects such as large waviness, chipping and cracks are removed, and the surface roughness of the main surface of the glass substrate is about 2 μm to 4 μm for Rmax and about 0.2 μm to 0.4 μm for Ra. Is preferable. By setting it as such a surface state, it can polish efficiently by a 1st polishing process through the following chemical strengthening process process.
尚、第1ラッピング工程では、第2ラッピング工程を効率よく行うことができるように大まかに大きなうねり、欠け、ひびを効率よく除去する。このため、第2ラッピングで使用する粗さ#1300メッシュから#1700メッシュより粗い#800メッシュから#1200メッシュ程度のダイヤモンドペレットを使用するのが好ましい。第1ラッピング工程が完了した時点での面粗さは、Rmaxが4μmから8μmで、Raが0.4μmから0.8μm程度とするのが好ましい。 In the first lapping step, roughly large undulations, chips and cracks are efficiently removed so that the second lapping step can be performed efficiently. For this reason, it is preferable to use diamond pellets of # 800 mesh to # 1200 mesh which are coarser than # 1300 mesh to # 1700 mesh used in the second wrapping. The surface roughness at the time when the first lapping step is completed is preferably such that Rmax is 4 μm to 8 μm and Ra is about 0.4 μm to 0.8 μm.
また、ガラス基板を研磨する方法として、上下の定盤の研磨面にパッドを貼り付け、研磨剤を含む研磨液を供給して研磨する方法を用いることもできる。研磨剤としては、例えば、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化マンガン、コロイダルシリカ、ダイヤモンドなどが挙げられる。これらを水で分散化してスラリー状として使用する。パッドは硬質パッドと軟質パッドとに分けられるが、必要に応じて適宜選択して用いることができる。硬質パッドとしては、硬質ベロア、ウレタン発泡、ピッチ含有スウェード等を素材とするパッドが挙げられ、軟質パッドとしては、スウェードやベロア等を素材とするパッドが挙げられる。 In addition, as a method for polishing the glass substrate, a method in which a pad is attached to the polishing surfaces of the upper and lower surface plates and a polishing liquid containing an abrasive is supplied for polishing can be used. Examples of the abrasive include cerium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, manganese oxide, colloidal silica, and diamond. These are dispersed in water and used as a slurry. The pad is divided into a hard pad and a soft pad, but can be appropriately selected and used as necessary. Examples of the hard pad include pads made of hard velor, urethane foam, pitch-containing suede, etc., and examples of the soft pad include pads made of suede, velor, etc.
パッドと研磨剤を使用する研磨方法は、研磨剤の粒度やパッドの種類を変えて、粗研磨から精密研磨まで対応することができる。よって、第1ラッピング工程と第2ラッピング工程で、効率よく大きなうねり、欠け、ひび等を除去し上記の面粗さを得ることができる様に研磨材、研磨材の粒度、パッドを適宜組み合わせて対応することができる。 A polishing method using a pad and a polishing agent can cope with rough polishing to precision polishing by changing the particle size of the polishing agent and the type of the pad. Therefore, in the first lapping step and the second lapping step, the abrasive material, abrasive particle size, and pad are appropriately combined so that the above-mentioned surface roughness can be obtained by efficiently removing large undulations, chips, cracks, etc. Can respond.
また、第1及び第2ラッピング工程の後、ガラス基板の表面に残った研磨剤やガラス粉を除去するための洗浄工程を行うことが好ましい。 Moreover, it is preferable to perform the washing | cleaning process for removing the abrasive | polishing agent and glass powder which remained on the surface of the glass substrate after the 1st and 2nd lapping process.
尚、第1ラッピング工程及び第2ラッピング工程で使用する研磨機は、同一構成ではあるがそれぞれの工程専用に用意された別の研磨機を用いて研磨加工を行うのが好ましい。これは、専用のダイヤモンドペレットを貼り付けているため交換が大掛かりな作業となり、また、研磨条件を再設定する等の煩雑な作業が必要となり、製造効率が低下するためである。
(化学強化処理工程)
第2ラッピング工程の次に、化学強化処理工程として、化学強化液にガラス基板を浸漬してガラス基板に化学強化層を形成する。化学強化層を形成することで耐衝撃性、耐振動性及び耐熱性等を向上させることができる。It should be noted that the polishing machines used in the first lapping process and the second lapping process have the same configuration, but it is preferable to perform polishing using different polishing machines prepared exclusively for the respective processes. This is because the dedicated diamond pellets are pasted, so that the replacement is a large-scale operation, and complicated operations such as resetting the polishing conditions are required, resulting in a reduction in manufacturing efficiency.
(Chemical strengthening process)
Next to the second lapping step, as a chemical strengthening treatment step, the glass substrate is immersed in a chemical strengthening solution to form a chemical strengthening layer on the glass substrate. By forming the chemical strengthening layer, impact resistance, vibration resistance, heat resistance and the like can be improved.
化学強化処理工程は、加熱された化学強化処理液にガラス基板を浸漬することによってガラス基板に含まれるリチウムイオン、ナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンをそれよりイオン半径の大きなカリウムイオン等のアルカリ金属イオンによって置換するイオン交換法によって行われる。イオン半径の違いによって生じる歪みより、イオン交換された領域に圧縮応力が発生し、ガラス基板の表面が強化される。 In the chemical strengthening process, by immersing the glass substrate in a heated chemical strengthening solution, alkali metal ions such as lithium ions and sodium ions contained in the glass substrate are converted into alkali metal ions such as potassium ions having a larger ion radius. It is carried out by the ion exchange method of substituting. Compressive stress is generated in the ion-exchanged region due to the distortion caused by the difference in ion radius, and the surface of the glass substrate is strengthened.
化学強化処理液に特に制限はなく、公知の化学強化処理液を用いることができる。通常、カリウムイオンを含む溶融塩又はカリウムイオンとナトリウムイオンをふくむ溶融塩を用いることが一般的である。カリウムイオンやナトリウムイオンを含む溶融塩としては、カリウムやナトリウムの硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩やこれらの混合溶融塩が挙げられる。中でも、融点が低く、ガラス基板の変形を防止できるという観点からは、硝酸塩を用いることが好ましい。 There is no restriction | limiting in particular in a chemical strengthening process liquid, A well-known chemical strengthening process liquid can be used. In general, a molten salt containing potassium ions or a molten salt containing potassium ions and sodium ions is generally used. Examples of the molten salt containing potassium ions and sodium ions include potassium and sodium nitrates, carbonates, sulfates, and mixed molten salts thereof. Among these, from the viewpoint that the melting point is low and deformation of the glass substrate can be prevented, it is preferable to use nitrate.
化学強化処理液は、上記の成分が融解する温度よりも高温になるよう加熱される。一方、化学強化処理液の加熱温度が高すぎると、ガラス基板の温度が上がりすぎ、ガラス基板の変形を招く恐れがある。このため、化学強化処理液の加熱温度はガラス基板のガラス転移点(Tg)よりも低い温度が好ましく、ガラス転移点−50℃よりも低い温度とすることが更に好ましい。 The chemical strengthening treatment liquid is heated to a temperature higher than the temperature at which the above components melt. On the other hand, when the heating temperature of the chemical strengthening treatment liquid is too high, the temperature of the glass substrate is excessively increased, and the glass substrate may be deformed. For this reason, the heating temperature of the chemical strengthening treatment liquid is preferably lower than the glass transition point (Tg) of the glass substrate, more preferably lower than the glass transition point −50 ° C.
なお、加熱された化学強化処理液に浸漬される際の熱衝撃によるガラス基板の割れや微細なクラックの発生を防止するため、化学強化処理液への浸漬に先立って、予熱槽でガラス基板を所定温度に加熱する予熱工程を有していても良い。 In addition, in order to prevent the occurrence of cracks and fine cracks in the glass substrate due to thermal shock when immersed in the heated chemical strengthening treatment liquid, the glass substrate is placed in a preheating tank prior to immersion in the chemical strengthening treatment liquid. You may have the preheating process heated to predetermined temperature.
化学強化層の厚みとしては、ガラス基板の強度向上とポリッシング工程の時間の短縮との兼ね合いから、5μm〜15μm程度の範囲が好ましい。強化層の厚みがこの範囲の場合、平坦度、機械的強度である耐衝撃性が良好なガラス基板とすることができる。 The thickness of the chemically strengthened layer is preferably in the range of about 5 μm to 15 μm in view of improving the strength of the glass substrate and shortening the time of the polishing process. When the thickness of the reinforcing layer is within this range, a glass substrate having good impact resistance, which is flatness and mechanical strength, can be obtained.
化学強化処理工程後の表主表面7a及び裏主表面7bの外周端部の形状は、化学強化処理工程前とほとんど変わらず、上記の5μm〜15μm程度の化学強化層がガラス基板の表面全体にほぼ一様に載った状態となる。
(ポリッシング工程)
次に、ポリッシング工程を行う。The shapes of the outer peripheral edge portions of the front main surface 7a and the back main surface 7b after the chemical strengthening treatment step are almost the same as those before the chemical strengthening treatment step, and the chemical strengthening layer of about 5 μm to 15 μm is formed on the entire surface of the glass substrate. It is in a state of being placed almost uniformly.
(Polishing process)
Next, a polishing process is performed.
ポリッシング工程では、ガラス基板の表面を精密に仕上げると伴に主表面の外周端部の形状を所定の形状に研磨する。ポリッシング工程は1工程でも良いが、2工程の方が好ましい。 In the polishing process, the surface of the glass substrate is precisely finished, and the shape of the outer peripheral end of the main surface is polished to a predetermined shape. The polishing step may be one step, but two steps are preferable.
まず、第1ポリシング工程では、第2ポリッシング工程で最終的に必要とされる面粗さを効率よく得ることができるように、面粗さを向上させるとともに最終的に本発明の形状を効率よく得ることができる研磨を行う。 First, in the first polishing step, the surface roughness is improved and the shape of the present invention is finally efficiently improved so that the surface roughness finally required in the second polishing step can be efficiently obtained. Polishing can be obtained.
研磨の方法は、ラッピング工程で使用したダイヤモンドペレットと研削液に代えて、パッドと研磨液を使用する以外は第1及び2ラッピング工程で使用した研磨機と同一の構成の研磨機を使用する。 The polishing method uses a polishing machine having the same configuration as the polishing machine used in the first and second lapping processes except that a pad and a polishing liquid are used instead of the diamond pellets and the grinding liquid used in the lapping process.
パッドは硬度Aで80から90程度の硬質パッドで例えば発泡ウレタンを使用するのが好ましい。パッドの硬度が研磨による発熱により柔らかくなると研磨面の形状変化が大きくなるため硬質パッドを用いるのが好ましい。研磨材は、粒径が0.6μmから2.5μmの酸化セリウム等を水に分散させてスラリー状にして用いるのが好ましい。水と研磨剤との混合比率は、概ね1:9から3:7程度が好ましい。 The pad is preferably a hard pad having a hardness A of about 80 to 90, for example, urethane foam. When the pad hardness becomes soft due to heat generated by polishing, the shape change of the polished surface increases, so it is preferable to use a hard pad. The abrasive is preferably used in the form of a slurry by dispersing cerium oxide or the like having a particle size of 0.6 to 2.5 μm in water. The mixing ratio of water and abrasive is preferably about 1: 9 to 3: 7.
定盤によるガラス基板への荷重は、90g/cm2から110g/cm2とするのが好ましい。定盤によるガラス基板への荷重は、外周端部の形状に大きく影響する。荷重を大きくしていくと、外周端部の内側が下がり外側に向かって上がる傾向を示す。また、荷重を小さくしていくと、外周端部は平面に近くなるとともに面ダレが大きくなる傾向を示す。こうした傾向を観察しながら荷重を決めることができる。The load on the glass substrate by the surface plate is preferably 90 g / cm 2 to 110 g / cm 2 . The load applied to the glass substrate by the surface plate greatly affects the shape of the outer peripheral edge. When the load is increased, the inner side of the outer peripheral end portion tends to decrease and increase toward the outer side. Further, when the load is reduced, the outer peripheral end portion tends to become close to a plane and the surface sagging increases. The load can be determined while observing such a tendency.
また、面粗さを向上させるために、定盤の回転数を25rpmから50rpmとし、上の定盤の回転数を下の定盤回転数より30%から40%遅くするのが好ましい。 In order to improve the surface roughness, it is preferable that the rotation speed of the surface plate is 25 rpm to 50 rpm, and the rotation speed of the upper surface plate is 30% to 40% slower than the rotation speed of the lower surface plate.
上記の研磨条件により研磨量を30μmから40μmとするのが好ましい。30μm未満では、キズや欠陥を十分に除去ができない。また40μmを超える場合は、面粗さをRmaxが2nmから60nm、Raが2nmから4nmの範囲とすることができるが、必要以上に研磨を行うことになり製造効率が低下する。 The polishing amount is preferably 30 μm to 40 μm depending on the above polishing conditions. If it is less than 30 μm, scratches and defects cannot be removed sufficiently. On the other hand, when it exceeds 40 μm, the surface roughness can be in the range of Rmax from 2 nm to 60 nm and Ra from 2 nm to 4 nm.
第2ポリッシング工程は、第1ポリッシング工程後のガラス基板の表面を更に精密に研磨する工程である。第2ポリッシング工程で使用するパッドは、第1ポリッシング工程で使用するパッドより柔らかい硬度65から80(Asker−C)程度の軟質パッドで、例えば発泡ウレタンやスウェードを使用するのが好ましい。研磨材としては、第1ポリッシング工程と同様の酸化セリウム等を用いることができるが、ガラス基板の表面をより滑らかにするため、粒径がより細かくバラツキが少ない研磨剤を用いるのが好ましい。粒径の平均粒子径が40nmから70nmの研磨剤を水に分散させてスラリー状にして研磨液として用い、水と研磨剤との混合比率は、1:9から3:7程度が好ましい。 The second polishing step is a step of further precisely polishing the surface of the glass substrate after the first polishing step. The pad used in the second polishing step is a soft pad having a hardness of about 65 to 80 (Asker-C) softer than the pad used in the first polishing step, and it is preferable to use, for example, urethane foam or suede. As the abrasive, cerium oxide or the like similar to that in the first polishing step can be used, but it is preferable to use an abrasive having a finer particle size and less variation in order to make the surface of the glass substrate smoother. An abrasive having an average particle diameter of 40 nm to 70 nm is dispersed in water to form a slurry and used as a polishing liquid. The mixing ratio of water and abrasive is preferably about 1: 9 to 3: 7.
定盤によるガラス基板への荷重は、90g/cm2から110g/cm2が好ましい。定盤によるガラス基板への荷重は、第1ポリッシング工程と同様に外周端部の形状に大きく影響するが、研磨速度が遅いため第1ポリッシング工程ほど効率的に形状を変化させることはできない。荷重の加減による外周端部の形状の変化は、第1ポリッシング工程と同様であり、荷重を大きくしていくと、外周端部の内側が下がり外側に向かって上がる傾向を示す。また、荷重を小さくしていくと、外周端部は平面に近くなるとともに面ダレが大きくなる傾向を示す。外周端部の形状を得るために、こうした傾向を観察しながら荷重を決めることができる。定盤の回転数を15rpmから35rpmとし、上定盤の回転数を下定盤の回転数より30%から40%遅くするのが好ましい。The load on the glass substrate by the surface plate is preferably 90 g / cm 2 to 110 g / cm 2 . The load applied to the glass substrate by the surface plate greatly affects the shape of the outer peripheral edge as in the first polishing step, but the shape cannot be changed as efficiently as the first polishing step because the polishing rate is slow. The change in the shape of the outer peripheral end due to the load adjustment is the same as in the first polishing step, and when the load is increased, the inner side of the outer peripheral end tends to decrease and increase outward. Further, when the load is reduced, the outer peripheral end portion tends to become close to a plane and the surface sagging increases. In order to obtain the shape of the outer peripheral end, the load can be determined while observing such a tendency. The rotation speed of the surface plate is preferably 15 rpm to 35 rpm, and the rotation speed of the upper surface plate is preferably 30% to 40% slower than the rotation speed of the lower surface plate.
上記の様に第2ポリッシング工程での研磨条件を調整して外周端部の形状を得ると伴に、面粗さをRmaxが2nmから6nm、Raが0.2nmから0.4nmの範囲とすることができる。 As described above, the polishing conditions in the second polishing step are adjusted to obtain the shape of the outer peripheral edge, and the surface roughness is set to the range of Rmax from 2 nm to 6 nm and Ra from 0.2 nm to 0.4 nm. be able to.
研磨量は2μmから5μmとするのが好ましい。研磨量をこの範囲とすると、表面に発生した微小な荒れやうねり、これまでの工程で生じた微小な傷痕といった微小な欠陥を効率良く除去することができる。
(洗浄工程)
次に、ポリッシング工程を終えた後に洗浄工程でガラス基板表面に付着している研磨材や異物等の洗浄を行う。The polishing amount is preferably 2 to 5 μm. When the polishing amount is within this range, minute defects such as minute roughness and undulation generated on the surface and minute scratches generated in the process so far can be efficiently removed.
(Washing process)
Next, after the polishing process is finished, the abrasive or foreign matter adhering to the glass substrate surface is cleaned in the cleaning process.
洗浄方法は、特に限定しないが、スクラブ洗浄を例に説明する。 The cleaning method is not particularly limited, but scrub cleaning will be described as an example.
スクラブ洗浄装置の一例を図5に示す。図5のスクラブ洗浄装置は、圧接する一対の回転ローラであるスポンジローラ10a,10bのニップ部でガラス基板1を挟み込み、上部に配設されたノズル20から洗浄液30をスポンジローラ10a,10bとガラス基板1との接触部近傍に滴下又はスプレー噴霧しながら、前記一対のスポンジローラ10a,10bを互いに逆方向に回転させると同時に、ガラス基板1も回転させることによりガラス基板1の表裏面全体を洗浄するものである。ガラス基板1のガラス基板1の回転駆動は、3つの支持ローラ60の何れか1つのローラを駆動ローラとし、他の2つを従動ローラとして駆動している。 An example of the scrub cleaning apparatus is shown in FIG. The scrub cleaning apparatus of FIG. 5 sandwiches the glass substrate 1 at the nip portion between sponge rollers 10a and 10b, which are a pair of rotating rollers that are in pressure contact with each other. While dripping or spraying in the vicinity of the contact portion with the substrate 1, the pair of sponge rollers 10a and 10b are rotated in opposite directions, and at the same time, the glass substrate 1 is also rotated to clean the entire front and back surfaces of the glass substrate 1. To do. The rotation of the glass substrate 1 of the glass substrate 1 is driven by using one of the three support rollers 60 as a drive roller and the other two as driven rollers.
スクラブ洗浄の洗浄条件としては、2つのローラ10a,10bの回転数はそれぞれ同一でもよいし、必要に応じてそれぞれ異なる回転数としても構わない。ローラの回転数としては一般に100〜1000rpmの範囲であり、より好ましくは300〜500rpmの範囲である。またガラス基板Gの回転数としては一般に50〜500rpmの範囲であり、より好ましくは100〜300rpmの範囲である。洗浄液30の供給速度は一般に10〜1000ml/分の範囲、より好ましくは50〜500ml/分の範囲である。スクラブ洗浄の時間は一般に5〜150秒の範囲、より好ましくは10〜100秒の範囲である。 As cleaning conditions for scrub cleaning, the rotation speeds of the two rollers 10a and 10b may be the same or different rotation speeds as required. The rotation speed of the roller is generally in the range of 100 to 1000 rpm, and more preferably in the range of 300 to 500 rpm. The rotation speed of the glass substrate G is generally in the range of 50 to 500 rpm, and more preferably in the range of 100 to 300 rpm. The supply rate of the cleaning liquid 30 is generally in the range of 10 to 1000 ml / min, more preferably in the range of 50 to 500 ml / min. The scrub cleaning time is generally in the range of 5 to 150 seconds, more preferably in the range of 10 to 100 seconds.
なお、スクラブ部材としては図1に示したスポンジローラの他、従来公知のブラシやパッドなどを用いてももちろん構わない。 As the scrub member, it is of course possible to use a conventionally known brush or pad in addition to the sponge roller shown in FIG.
スポンジローラ10a,10bとしては、特に限定されず、例えば、セルローススポンジ、ポリビニルアルコールスポンジ、ウレタンフォーム、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)スポンジ、メラミンフォーム、ポリエチレンフォーム等の樹脂系スポンジ、天然ゴム(NR)スポンジ、クロロプレンゴム(CR)スポンジ、エチレン−プロピレンゴム(EPDM)スポンジ、ブタジエン−アクリロニトリルゴムスポンジ等のゴム系スポンジ等で構成することができる。この中でも、スポンジ部分は、樹脂系スポンジで構成、すなわち樹脂を主材料として構成されているのが好ましい。また、前記樹脂は、ポリウレタン、メラミン樹脂、セルロース、ポリビニルアルコール等の親水性ポリマーであるのが好ましい。これにより、スポンジ部分による汚れ等の保持能力および洗浄液の担持能力をより優れたものとすることができ、また、ガラス基板との接触面積も多くなり、より、汚れの除去能力があがる。さらにスポンジへの過酸化水素水の添加を行ないスポンジ表面の親水性を向上させて汚れの除去能力を高めることができる。 The sponge rollers 10a and 10b are not particularly limited. For example, cellulose sponge, polyvinyl alcohol sponge, urethane foam, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) sponge, melamine foam, resin foam such as polyethylene foam, natural rubber, and natural rubber. (NR) sponge, chloroprene rubber (CR) sponge, ethylene-propylene rubber (EPDM) sponge, rubber-based sponge such as butadiene-acrylonitrile rubber sponge, and the like. Among these, the sponge portion is preferably made of a resin-based sponge, that is, made of resin as a main material. The resin is preferably a hydrophilic polymer such as polyurethane, melamine resin, cellulose, or polyvinyl alcohol. As a result, the ability to retain dirt and the like by the sponge part and the carrying ability of the cleaning liquid can be made more excellent, and the contact area with the glass substrate is increased, thereby further improving the ability to remove dirt. Further, hydrogen peroxide solution can be added to the sponge to improve the hydrophilicity of the sponge surface and enhance the ability to remove dirt.
また、スポンジ部分は、隣接する空孔同士が連通しているのが好ましい。これにより、スポンジ部分を構成する多孔質体の空孔内により多くの汚れや洗浄液等を収容して、スポンジ部分による汚れ等の保持能力および洗浄液の担持能力をより優れたものとすることができる。 In addition, it is preferable that adjacent air holes communicate with each other in the sponge portion. As a result, a larger amount of dirt and cleaning liquid can be accommodated in the pores of the porous body constituting the sponge part, and the ability to retain dirt and the like by the sponge part and the ability to carry the cleaning liquid can be improved. .
スポンジ部分の空孔率が、20〜80%であるのが好ましく、30〜70%であるのがより好ましい。これにより、スポンジ部の強度や弾性等の特性を所望のものとしつつ、スポンジ部による汚れ等の保持能力および洗浄液の担持能力をより優れたものとすることができる。 The porosity of the sponge portion is preferably 20 to 80%, and more preferably 30 to 70%. As a result, it is possible to make the sponge portion have desirable properties such as strength and elasticity, and more excellent ability to retain dirt and the like and support capability of the cleaning liquid by the sponge portion.
スポンジ部分は、その硬度が30〜70°であるのが好ましく、35〜55°であるのがより好ましい。これにより、スポンジ部分の強度や弾性等の特性を所望のものとしつつ、スポンジ部分による汚れ等の保持能力および洗浄液の担持能力をより優れたものとすることができる。なお、ここで、硬度とは、JIS K7312に準拠して測定されたものをいう。 The hardness of the sponge portion is preferably 30 to 70 °, and more preferably 35 to 55 °. Accordingly, it is possible to make the sponge portion have desirable properties such as strength and elasticity, and more excellent ability to retain dirt and the like by the sponge portion and support capability of the cleaning liquid. Here, the hardness means a value measured in accordance with JIS K7312.
また、ガラス基板表面の研磨剤や異物などを効果的に除去するには、スクラブ洗浄を行う前に前述の洗浄液と同じ液体にガラス基板を接触させておくのが好ましい。接触させておく時間については特に限定はないが、ガラス基板表面に強固に付着した研磨剤や異物を、液体による若干の浸食作用によっては浮き上がらせるためには10分間以上接触させるのが好ましい。一方、ガラス基板の液体への接触時間が長いほど研磨剤や異物のガラス基板表面からの除去は容易となるが、ガラス基板の生産性が低下するので、好ましい接触時間は5〜30分間の範囲である。またガラス基板表面に異物が付着するのを防止する観点からは、スクラブ洗浄直前までガラス基板を液体と接触させておくことが推奨される。 In order to effectively remove the abrasive or foreign matter on the surface of the glass substrate, it is preferable to bring the glass substrate into contact with the same liquid as the above-described cleaning liquid before scrub cleaning. There is no particular limitation on the time of contact, but it is preferable to bring the abrasive or foreign matter firmly adhered to the surface of the glass substrate into contact for 10 minutes or more in order to be lifted by some erosion action by the liquid. On the other hand, the longer the contact time of the glass substrate with the liquid, the easier the removal of abrasives and foreign substances from the glass substrate surface. However, the productivity of the glass substrate decreases, so the preferred contact time is in the range of 5 to 30 minutes. It is. From the viewpoint of preventing foreign matter from adhering to the surface of the glass substrate, it is recommended to keep the glass substrate in contact with the liquid until immediately before scrub cleaning.
ガラス基板表面を液体と接触させる形態としては、液体を貯溜した容器内にガラス基板を浸漬する形態や、ガラス基板に対して液体を散水する形態、液体を含浸させた布をガラス基板に被覆する形態など従来公知の形態を採用することができる。この中でも、ガラス基板表面全体が確実且つ均一に液体と接触できる点で、ガラス基板を液体に浸漬させる形態が好ましい。 The glass substrate surface is brought into contact with the liquid in such a manner that the glass substrate is immersed in a container in which the liquid is stored, the liquid is sprayed on the glass substrate, or the cloth impregnated with the liquid is coated on the glass substrate. A conventionally well-known form, such as a form, can be adopted. Among these, a mode in which the glass substrate is immersed in the liquid is preferable in that the entire surface of the glass substrate can be reliably and uniformly brought into contact with the liquid.
このようにして、スクラブ洗浄がなされ、ガラス基板表面に付着した研磨剤や異物が除去される。 In this way, scrub cleaning is performed, and the abrasive and foreign matter adhering to the glass substrate surface are removed.
次に、ガラス基板表面に残る洗浄液をIPA等を用いて除去し、基板表面を乾燥させる。例えば、スクラブ洗浄後のガラス基板に、水リンス洗浄工程を2分間行ない、洗浄液の残渣を除去する。次に、IPA(イソプロピルアルコール)洗浄工程を2分間行い、基板上の水を除去する。最後に、IPA(イソプロピルアルコール)蒸気乾燥工程を2分間行い、基板に付着している液状IPAをIPA蒸気により除去しつつ乾燥させる。基板の乾燥処理としてはこれに限定されるわけではなく、スピン乾燥、エアーナイフ乾燥などガラス基板の乾燥方法として一般的に知られた方法であってももちろん構わない。
(検査工程)
洗浄工程後に、最終検査として、ガラス基板にキズや欠け、異物等の付着を目視により検査し、異常のないものを選別する。
(梱包工程)
検査工程で異常の無かったガラス基板は、図4に示す梱包工程により梱包する。梱包工程は、ガラス基板を保持体に保持させる保持工程と、ガラス基板を保持した保持体を包装部材により包装する包装工程と、包装部材の開口部を密閉する工程の3つの工程を有している。まず、保持工程として、ガラス基板を保持体に保持する。この保持工程に用いる保持体としては、図6に示すような保持体600を用いることができる。図6は、保持体600の全体を示す分解斜視図である。保持体600は、複数のガラス基板1を収納する収納容器60、上蓋61、上蓋61に取り付けられ、収納容器60に収納されたガラス基板1を固定する固定部材63からなっている。固定部材63は、ガラス基板1の外周端部を抑える抑え板64を有している。保持体600の構成は、前記構成に限らず、複数のガラス基板1を保持できる構成であれば良い。Next, the cleaning liquid remaining on the glass substrate surface is removed using IPA or the like, and the substrate surface is dried. For example, a water rinse cleaning process is performed on the glass substrate after scrub cleaning for 2 minutes to remove the cleaning liquid residue. Next, an IPA (isopropyl alcohol) cleaning process is performed for 2 minutes to remove water on the substrate. Finally, an IPA (isopropyl alcohol) vapor drying step is performed for 2 minutes, and the liquid IPA adhering to the substrate is removed while being removed by the IPA vapor. The substrate drying process is not limited to this, and a method generally known as a glass substrate drying method such as spin drying or air knife drying may be used.
(Inspection process)
After the cleaning process, as a final inspection, the glass substrate is visually inspected for flaws, chips, foreign matters, etc., and those having no abnormality are selected.
(Packing process)
The glass substrate having no abnormality in the inspection process is packed by the packing process shown in FIG. The packaging process has three processes: a holding process for holding the glass substrate on the holding body, a packaging process for packing the holding body holding the glass substrate with the packaging member, and a process for sealing the opening of the packaging member. Yes. First, as a holding step, the glass substrate is held on a holding body. As a holding body used in this holding step, a holding body 600 as shown in FIG. 6 can be used. FIG. 6 is an exploded perspective view showing the entire holding body 600. The holding body 600 includes a storage container 60 that stores a plurality of glass substrates 1, an upper lid 61, and an upper lid 61, and includes a fixing member 63 that fixes the glass substrate 1 stored in the storage container 60. The fixing member 63 has a holding plate 64 that suppresses the outer peripheral end of the glass substrate 1. The configuration of the holding body 600 is not limited to the above configuration, and may be any configuration that can hold a plurality of glass substrates 1.
収納容器60は、側板65、66と、該側板65、66を連結し、U字形状の開口を持つ連結板67、68と、収納容器60の下部を構成する底板69からなり、側板65、66の内壁には、複数のリブ70がガラス基板1の厚みより広い、所定の間隔で形成されている。このように複数のリブ70を形成することで、ガラス基板1をその厚み方向に所定の間隔で支持する複数の溝71を形成している。 The storage container 60 includes side plates 65 and 66, connecting plates 67 and 68 having U-shaped openings connecting the side plates 65 and 66, and a bottom plate 69 constituting a lower portion of the storage container 60. A plurality of ribs 70 are formed on the inner wall of 66 at a predetermined interval wider than the thickness of the glass substrate 1. By forming the plurality of ribs 70 in this manner, a plurality of grooves 71 that support the glass substrate 1 at predetermined intervals in the thickness direction are formed.
保持体600を構成する収納容器60や上蓋61、固定部材63、抑え板64は、おもに樹脂材料からなる。これらを製造するにあたっては、一例として、樹脂成型方法を用いることができる。この樹脂成型工程では、各種ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、テフロン(登録商標)等の一般的な樹脂を用いることができる。特に、射出成型法により製造する場合、樹脂としては、例えば、ポリカーボネート、ポリアミド、サーモトロピック液晶ポリマー(LCP)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルケトン(PEK)、PEEK系アロイ樹脂(例えば、PEEK/サーモトロピック液晶ポリマー、PEEK/ポリベンゾイミダゾール(PBI)等)、ポリベンゾイミダゾール(PBI)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等のフッ素樹脂等を用いることができる。また、研削砥石を用いて、所定の形状の溝に作成することもできる。 The storage container 60, the upper lid 61, the fixing member 63, and the holding plate 64 constituting the holding body 600 are mainly made of a resin material. In manufacturing these, a resin molding method can be used as an example. In this resin molding step, general resins such as various polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyvinyl chloride, and Teflon (registered trademark) can be used. In particular, when the resin is produced by an injection molding method, examples of the resin include polycarbonate, polyamide, thermotropic liquid crystal polymer (LCP), polyether ether ketone (PEEK), polyether ketone (PEK), and PEEK alloy resin (for example, PEEK / thermotropic liquid crystal polymer, PEEK / polybenzimidazole (PBI), etc.), polybenzimidazole (PBI), polyphenylene sulfide (PPS), polyethersulfone (PES), polyetherimide (PEI), polytetrafluoroethylene ( A fluororesin such as PTFE) can be used. Moreover, it can also create in the groove | channel of a predetermined shape using a grinding wheel.
図7は、収納容器60にガラス基板1を収納した状態を連結板67側から見た側面図である。ガラス基板1は、互いに対向配置された一対の溝71に支持されてる。側板65、66の内壁の間隔は、上方の開口側は、ガラス基板1の外径よりわずかに大きく、上方からガラス基板1を挿入できるようになっている。また、下方の底板69側に近づくにつれて、側板65、66の内壁の間隔は狭くなり、溝71のP1とP2でガラス基板10の外周端部と接触している。 FIG. 7 is a side view of the state in which the glass substrate 1 is stored in the storage container 60 as viewed from the connecting plate 67 side. The glass substrate 1 is supported by a pair of grooves 71 arranged to face each other. The distance between the inner walls of the side plates 65 and 66 is slightly larger on the upper opening side than the outer diameter of the glass substrate 1 so that the glass substrate 1 can be inserted from above. Moreover, the space | interval of the inner wall of the side plates 65 and 66 becomes narrow as it approaches the lower bottom plate 69 side, and is contacting with the outer peripheral edge part of the glass substrate 10 by P1 and P2 of the groove | channel 71.
このように収納容器60に所定の枚数のガラス基板1を収納し、図6における固定部材63を取り付けた上蓋61で蓋をして、ガラス基板を保持した状態にする。 In this manner, a predetermined number of glass substrates 1 are stored in the storage container 60, and the lid is covered with the upper cover 61 to which the fixing member 63 in FIG.
次に、このガラス基板を保持した保持体600を、包装工程として、包装部材200で包装し、更に、密閉工程として、包装部材200の開口部201を密閉して、図8に示すような情報記録媒体用ガラス基板梱包体300を作製する。 Next, the holding body 600 holding the glass substrate is packaged by the packaging member 200 as a packaging process, and further, as the sealing process, the opening 201 of the packaging member 200 is sealed, and the information shown in FIG. A glass substrate package 300 for a recording medium is produced.
包装部材としては、低級アルコールの遮断性に優れた材料であれば良い。具体的には、プラスチックフィルムに金属膜又は酸化物膜を設けた包装部材が好ましい。また、包装部材の開口部を密閉するので、ラミネータを用いて熱圧着で容易に封止できる包装部材が好ましく、ポリプロピレン、ポリエステル、ナイロン等のフィルムにアルミ蒸着を施したラミネートフィルムが好ましい。 The packaging member may be any material that has an excellent barrier property against lower alcohol. Specifically, a packaging member in which a metal film or an oxide film is provided on a plastic film is preferable. Moreover, since the opening part of a packaging member is sealed, the packaging member which can be easily sealed by thermocompression using a laminator is preferable, and the laminate film which gave aluminum vapor deposition to films, such as a polypropylene, polyester, nylon, is preferable.
密閉工程においては、包装部材の内側の空間の気圧を減圧することが好ましく、200〜600hPaの範囲に減圧することがより好ましい。この減圧は、ラミネータフィルムを熱圧着する際に真空ポンプを用いて包装部材の内側の空間の気圧を上記範囲に調節することで行うことができる。 In the sealing step, it is preferable to reduce the pressure in the space inside the packaging member, and it is more preferable to reduce the pressure to a range of 200 to 600 hPa. This pressure reduction can be performed by adjusting the air pressure in the space inside the packaging member to the above range using a vacuum pump when the laminator film is thermocompression bonded.
また、この梱包工程を行う作業室は、密閉された包装部材の内側の空間に含有される低級アルコールの濃度が3〜100ppmの範囲になるように、雰囲気の低級アルコールの濃度が調節されていることが好ましい。このような作業環境で梱包工程を行うことで、情報記録媒体用ガラス基板梱包体300の内部の低級アルコールの濃度を所定の濃度に容易に調節することができる。 Further, in the working chamber for performing the packing process, the concentration of the lower alcohol in the atmosphere is adjusted so that the concentration of the lower alcohol contained in the space inside the sealed packaging member is in the range of 3 to 100 ppm. It is preferable. By performing the packing process in such a work environment, the concentration of the lower alcohol inside the glass substrate package 300 for the information recording medium can be easily adjusted to a predetermined concentration.
情報記録媒体用ガラス基板梱包体300の内部の低級アルコールの濃度は、アルコール検知器をセットしたダミーの梱包体を作成して、密閉後に測定することができる。また、他の方法としては、作成した梱包体を真空装置内にいれ、その中で開封して、真空装置内の低級アルコールの濃度を測定するようにしても良い。特に測定方法は、限定するものではなく、一般的な測定装置を用いることができる。 The concentration of the lower alcohol in the information recording medium glass substrate package 300 can be measured after a dummy package having an alcohol detector is prepared and sealed. As another method, the prepared package may be placed in a vacuum device and opened in the vacuum device, and the concentration of the lower alcohol in the vacuum device may be measured. In particular, the measuring method is not limited, and a general measuring device can be used.
なお、洗浄工程〜梱包工程までを、雰囲気の低級アルコールの濃度が調節されたクリーンルーム内で行うのがより好ましい。また、クリーンルーム内の清浄度は、1立方フィートの雰囲気中に存在する0.5μm以上のパーティクルの数として定義したとき、クラス50000以下であることが好ましく、10000以下であることが更に望ましい。このような清浄度にすることで、情報記録媒体用ガラス基板の製造工程中にガラス基板表面に付着する異物をさらに低減させることができる。 In addition, it is more preferable to perform from a washing | cleaning process to a packing process in the clean room where the density | concentration of the lower alcohol of atmosphere was adjusted. Further, the cleanliness in the clean room is preferably class 50,000 or less, and more preferably 10,000 or less, when defined as the number of particles of 0.5 μm or more present in an atmosphere of 1 cubic foot. By setting it as such a cleanliness | purity, the foreign material adhering to the glass substrate surface during the manufacturing process of the glass substrate for information recording media can further be reduced.
また、図4の包装工程の後、包装部材で包装した情報記録媒体用ガラス基板を保持した保持体を、一旦、減圧室内にいれ、その後、減圧室内を減圧し、その後に、予め低級アルコールの濃度が調節された気体(例えば空気)を導入し、所定の気圧に調整した後、減圧室内で包装部材の開口部を密閉するようにしても良い。 In addition, after the packaging step of FIG. 4, the holding body holding the glass substrate for information recording medium wrapped with the packaging member is once put in the decompression chamber, and after that, the decompression chamber is decompressed, After introducing a gas whose concentration is adjusted (for example, air) and adjusting the pressure to a predetermined pressure, the opening of the packaging member may be sealed in the decompression chamber.
また、空気より重い気体(例えば窒素ガス)に所定濃度の低級アルコールを含有させた気体を調整し、その気体を包装部材の開口部を上にした状態で充填し、その後開口部をラミネータを用いて、所定の気圧に減圧して、密閉するようにしても良い。 Also, a gas heavier than air (for example, nitrogen gas) containing a predetermined concentration of lower alcohol is prepared, and the gas is filled with the opening of the packaging member facing upward, and the opening is then used with a laminator. Then, the pressure may be reduced to a predetermined pressure and sealed.
以上のようにして情報記録媒体用ガラス基板梱包体300が作製され、一定期間保管された後、磁気記録媒体を製造する製造施設に搬送される。 As described above, the glass substrate package 300 for an information recording medium is manufactured and stored for a certain period, and then transferred to a manufacturing facility for manufacturing a magnetic recording medium.
次に、上記のようにして作製したガラス基板を用いた磁気記録媒体について説明する。 Next, a magnetic recording medium using the glass substrate produced as described above will be described.
以下、図面に基づき磁気記録媒体について説明する。 Hereinafter, a magnetic recording medium will be described with reference to the drawings.
図2は磁気記録媒体の一例である磁気ディスクの斜視図である。この磁気ディスクDは、円形の情報記録媒体用ガラス基板1の表面に磁性膜2を直接形成されている。 FIG. 2 is a perspective view of a magnetic disk as an example of a magnetic recording medium. In the magnetic disk D, a magnetic film 2 is directly formed on the surface of a circular glass substrate 1 for an information recording medium.
搬送されてきた情報記録媒体用ガラス基板梱包体から、情報記録媒体用ガラス基板が取り出され、該情報記録媒体用ガラス基板の表面に磁性膜を形成する。 The glass substrate for information recording medium is taken out from the packaged glass substrate for information recording medium, and a magnetic film is formed on the surface of the glass substrate for information recording medium.
磁性膜2の形成方法としては従来公知の方法を用いることができ、例えば磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を基板上にスピンコートして形成する方法や、スパッタリング、無電解めっきにより形成する方法が挙げられる。スピンコート法での膜厚は約0.3μm〜1.2μm程度、スパッタリング法での膜厚は0.04μm〜0.08μm程度、無電解めっき法での膜厚は0.05μm〜0.1μm程度であり、薄膜化および高密度化の観点からはスパッタリング法および無電解めっき法による膜形成が好ましい。 As a method for forming the magnetic film 2, a conventionally known method can be used. For example, a method in which a thermosetting resin in which magnetic particles are dispersed is spin-coated on a substrate, or a method by sputtering or electroless plating is used. A method is mentioned. The film thickness by spin coating is about 0.3 μm to 1.2 μm, the film thickness by sputtering is about 0.04 μm to 0.08 μm, and the film thickness by electroless plating is 0.05 μm to 0.1 μm. From the viewpoint of thinning and densification, film formation by sputtering and electroless plating is preferable.
磁性膜に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いCoを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でNiやCrを加えたCo系合金などが好適である。具体的には、Coを主成分とするCoPt、CoCr、CoNi、CoNiCr、CoCrTa、CoPtCr、CoNiPtや、CoNiCrPt、CoNiCrTa、CoCrPtTa、CoCrPtB、CoCrPtSiOなどが挙げられる。磁性膜は、非磁性膜(例えば、Cr、CrMo、CrVなど)で分割しノイズの低減を図った多層構成(例えば、CoPtCr/CrMo/CoPtCr、CoCrPtTa/CrMo/CoCrPtTaなど)としてもよい。上記の磁性材料の他、フェライト系、鉄−希土類系や、SiO2、BNなどからなる非磁性膜中にFe、Co、FeCo、CoNiPt等の磁性粒子を分散された構造のグラニュラーなどであってもよい。また、磁性膜は、内面型および垂直型のいずれの記録形式であってもよい。The magnetic material used for the magnetic film is not particularly limited, and a conventionally known material can be used. However, in order to obtain a high coercive force, Ni having a high crystal anisotropy is basically used, and Ni or A Co-based alloy to which Cr is added is suitable. Specific examples include CoPt, CoCr, CoNi, CoNiCr, CoCrTa, CoPtCr, and CoNiPt containing Co as a main component, CoNiCrPt, CoNiCrTa, CoCrPtTa, CoCrPtB, and CoCrPtSiO. The magnetic film may have a multilayer structure (for example, CoPtCr / CrMo / CoPtCr, CoCrPtTa / CrMo / CoCrPtTa) that is divided by a non-magnetic film (for example, Cr, CrMo, CrV, etc.) to reduce noise. Addition to the above magnetic material, ferrite, iron - rare-earth or be in a non-magnetic film made of SiO 2, BN Fe, Co, FeCo, etc. granular structure magnetic particles are dispersed, such CoNiPt Also good. Further, the magnetic film may be either an inner surface type or a vertical type recording format.
また、磁気ヘッドの滑りをよくするために磁性膜の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、例えば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル(PFPE)をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。 In addition, a lubricant may be thinly coated on the surface of the magnetic film in order to improve the sliding of the magnetic head. Examples of the lubricant include those obtained by diluting perfluoropolyether (PFPE), which is a liquid lubricant, with a freon-based solvent.
さらに必要により下地層や保護層を設けてもよい。磁気ディスクにおける下地層は磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、例えば、Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Al、Niなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。Coを主成分とする磁性膜の場合には、磁気特性向上等の観点からCr単体やCr合金であることが好ましい。また、下地層は単層とは限らず、同一又は異種の層を積層した複数層構造としても構わない。例えば、Cr/Cr、Cr/CrMo、Cr/CrV、NiAl/Cr、NiAl/CrMo、NiAl/CrV等の多層下地層としてもよい。 Furthermore, you may provide a base layer and a protective layer as needed. The underlayer in the magnetic disk is selected according to the magnetic film. Examples of the material for the underlayer include at least one material selected from nonmagnetic metals such as Cr, Mo, Ta, Ti, W, V, B, Al, and Ni. In the case of a magnetic film containing Co as a main component, Cr alone or a Cr alloy is preferable from the viewpoint of improving magnetic characteristics. Further, the underlayer is not limited to a single layer, and may have a multi-layer structure in which the same or different layers are stacked. For example, a multilayer underlayer such as Cr / Cr, Cr / CrMo, Cr / CrV, NiAl / Cr, NiAl / CrMo, or NiAl / CrV may be used.
磁性膜の摩耗や腐食を防止する保護層としては、例えば、Cr層、Cr合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層などが挙げられる。これらの保護層は、下地層、磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、これらの保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一又は異種の層からなる多層構成としてもよい。なお、上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。例えば、上記保護層に替えて、Cr層の上にテトラアルコキシシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して二酸化ケイ素(SiO2)層を形成してもよい。Examples of the protective layer that prevents wear and corrosion of the magnetic film include a Cr layer, a Cr alloy layer, a carbon layer, a hydrogenated carbon layer, a zirconia layer, and a silica layer. These protective layers can be formed continuously with an in-line type sputtering apparatus, such as an underlayer and a magnetic film. In addition, these protective layers may be a single layer, or may have a multilayer structure including the same or different layers. Note that another protective layer may be formed on the protective layer or instead of the protective layer. For example, in place of the protective layer, tetraalkoxysilane is diluted with an alcohol-based solvent on a Cr layer, and then colloidal silica fine particles are dispersed and applied, followed by baking to form a silicon dioxide (SiO 2 ) layer. It may be formed.
上記のような磁気記録媒体の製造方法を用いて、製造された磁気記録媒体を用いることで、ヘッドクラッシュの発生を抑止でき、高速回転時の磁気ヘッドの動作を安定にすることができる。 By using the magnetic recording medium manufactured by using the magnetic recording medium manufacturing method as described above, the occurrence of head crash can be suppressed and the operation of the magnetic head during high-speed rotation can be stabilized.
本発明の情報記録媒体用ガラス基板は、磁気記録媒体に限定されるものではなく、光磁気ディスクや光ディスクなどにも用いることができる。 The glass substrate for an information recording medium of the present invention is not limited to a magnetic recording medium, and can be used for a magneto-optical disk or an optical disk.
(実施例1〜19)
(1)ガラス溶融、プレス成型工程
ガラス材料としてTgが480℃のアルミノシリケートガラスを用い、溶融ガラスをプレス成型してブランク材(外径68mm、厚さ1.3mm)を作製した。
(2)コアリング工程
次に円筒状のダイヤモンド砥石を用いてガラス基板の中心部に円穴(直径18mm)を開けた。
(3)第1ラッピング工程
ガラス基板の両表面を研磨機(HAMAI社製)を用いて研磨した。(Examples 1 to 19)
(1) Glass melting and press molding process Aluminosilicate glass having a Tg of 480 ° C. was used as a glass material, and the molten glass was press molded to produce a blank material (outer diameter 68 mm, thickness 1.3 mm).
(2) Coring process Next, the circular hole (diameter 18mm) was opened in the center part of the glass substrate using the cylindrical diamond grindstone.
(3) 1st lapping process Both surfaces of the glass substrate were grind | polished using the grinder (made by HAMAI).
研磨条件としては、ダイヤモンドペレットとしては、#1200メッシュを用い、荷重100g/cm2とし、上定盤の回転数30rpm、下定盤の回転数10rpmとした。As polishing conditions, diamond pellets of # 1200 mesh were used, the load was 100 g / cm 2 , the upper platen was rotated at 30 rpm, and the lower platen was rotated at 10 rpm.
得られたガラス基板の厚さは、0.9mm、表面粗さはRmaxが1.5μm、Raが1.0μmであった。
(4)内・外径精密加工工程
鼓状のダイヤモンド砥石により内・外径加工をい、内径20mm、外径65mmとした。
(5)端面研磨加工工程
内・外加工工程を終えて得られたガラス基板を100枚重ね、端面研磨機を用いて、内周及び外周の端面を研磨した。The thickness of the obtained glass substrate was 0.9 mm, and the surface roughness was Rmax of 1.5 μm and Ra of 1.0 μm.
(4) Inner / Outer Diameter Precision Machining Step Inner / outer diameter processing was performed with a drum-shaped diamond grindstone to obtain an inner diameter of 20 mm and an outer diameter of 65 mm.
(5) End surface polishing process Step 100 glass substrates obtained by finishing the inner and outer processing steps were stacked, and the inner and outer end surfaces were polished using an end surface polishing machine.
研磨機のブラシ毛は、直径0.2mmのナイロン繊維を用いた。研磨液は、粒径3μmの酸化セリウムを用いた。得られたガラス基板の内周の端面の面粗さは、Rまxが0.3μm、Raが0.03μmであった。
(6)第2ラッピング工程
ガラス基板の両表面を研磨機(HAMAI社製)を用いて研磨した。Nylon fibers having a diameter of 0.2 mm were used for the brush bristles of the polishing machine. As the polishing liquid, cerium oxide having a particle diameter of 3 μm was used. The surface roughness of the inner peripheral end surface of the obtained glass substrate was 0.3 μm for R and 0.03 μm for Ra.
(6) Second lapping process Both surfaces of the glass substrate were polished using a polishing machine (manufactured by HAMAI).
研磨条件としては、ダイヤモンドペレットとしては、#1200メッシュを用い、荷重100g/cm2とし、上定盤の回転数30rpm、下定盤の回転数10rpmとした。As polishing conditions, diamond pellets of # 1200 mesh were used, the load was 100 g / cm 2 , the upper platen was rotated at 30 rpm, and the lower platen was rotated at 10 rpm.
得られたガラス基板の表面粗さはRmaxが3μm、Raが0.3μmであった。
(7)化学強化処理工程
次に、ガラス基板を化学強化処理液に浸漬して化学強化処理工程を行った。化学強化処理液には、硝酸カリウム(KNO3)と硝酸ナトリウム(NaNO3)の混合溶融塩を用いた。混合比は質量比で1:1とした。また、化学強化処理液の温度は400℃、浸漬時間は40分とした。
(8)ポリッシング工程
次に第1ポリッシング工程として、研磨機(HAMAI社製)を用い、パッドに硬度Aで80度の発泡ウレタンを用いた。研磨材は、平均粒径1.5μmの酸化セリウムを水に分散させてスラリー状にして用いた。水と研磨剤との混合比率は、2:8とした。荷重100g/cm2とし、上定盤の回転数30rpm、下定盤の回転数10rpmとした。研磨量を30μmとした。As for the surface roughness of the obtained glass substrate, Rmax was 3 μm and Ra was 0.3 μm.
(7) Chemical strengthening treatment step Next, a chemical strengthening treatment step was performed by immersing the glass substrate in a chemical strengthening treatment solution. As the chemical strengthening treatment liquid, a mixed molten salt of potassium nitrate (KNO 3 ) and sodium nitrate (NaNO 3 ) was used. The mixing ratio was 1: 1 by mass ratio. The temperature of the chemical strengthening treatment liquid was 400 ° C. and the immersion time was 40 minutes.
(8) Polishing Step Next, as a first polishing step, a polishing machine (manufactured by HAMAI) was used, and urethane foam having a hardness A of 80 degrees was used for the pad. As the abrasive, cerium oxide having an average particle diameter of 1.5 μm was dispersed in water and used as a slurry. The mixing ratio of water and abrasive was 2: 8. The load was 100 g / cm 2 , the upper platen was rotated at 30 rpm, and the lower platen was rotated at 10 rpm. The polishing amount was 30 μm.
得られたガラス基板の表面粗さはRmaxが30nm、Raが3nmであった。 As for the surface roughness of the obtained glass substrate, Rmax was 30 nm and Ra was 3 nm.
次に第2ポリッシング工程として、研磨機(HAMAI社製)を用い、パッドに硬度Aで70度の発泡ウレタンを用いた。研磨材は、平均粒径60nmの酸化セリウムを水に分散させてスラリー状にして用いた。水と研磨剤との混合比率は、2:8とした。荷重90g/cm2とし、上定盤の回転数30rpm、下定盤の回転数10rpmとした。研磨量を3μmとした。Next, as a second polishing process, a polishing machine (manufactured by HAMAI) was used, and urethane foam having a hardness A of 70 degrees was used for the pad. As the abrasive, cerium oxide having an average particle diameter of 60 nm was dispersed in water and used as a slurry. The mixing ratio of water and abrasive was 2: 8. The load was 90 g / cm 2 , the upper platen was rotated at 30 rpm, and the lower platen was rotated at 10 rpm. The polishing amount was 3 μm.
得られたガラス基板の表面粗さはRmaxが5nm、Raが0.3nmであった。
(9)洗浄工程
第2ポリッシング工程の終了後、図5に示した洗浄装置でスクラブ洗浄を行った。洗浄液としては、過酸化水素濃度が0.5質量%の過酸化水素水を用いて、スクラブ洗浄を行った。洗浄液の供給は、スプレー噴霧によって、スクラブ洗浄開始3秒前からスクラブ洗浄終了時まで連続して、毎分100mlの量を供給した。スクラブ部材のスポンジとしては、ポリビニルアルコールスポンジを用いた。空隙率は、50%で、硬度は、45°(JIS K7312)であった。スポンジローラ10a、10bの回転数は、300rpmとした。ガラス基板1の回転数は、200rpmとした。スクラブ洗浄後のガラス基板に、水リンス洗浄工程を2分間行ない、次に、IPA(イソプロピルアルコール)洗浄工程を2分間行い、最後に、IPA(イソプロピルアルコール)蒸気乾燥工程を2分間行い、乾燥させた。
(10)検査工程
洗浄工程後に、ガラス基板にキズや欠け、異物等の付着を目視により検査し、明らかにキズや欠け、付着物の認められるものを除去した。
(11)梱包工程
検査工程を終えたガラス基板の表面を日立ハイテクノロジーズ社製微小欠陥測定機(ODT:RZ350)を用いて、ガラス基板表面に付着した高さ10nm以上の異物の個数をカウントし、梱包前評価とした。As for the surface roughness of the obtained glass substrate, Rmax was 5 nm and Ra was 0.3 nm.
(9) Cleaning Step After the second polishing step, scrub cleaning was performed with the cleaning device shown in FIG. As the cleaning liquid, scrub cleaning was performed using a hydrogen peroxide solution having a hydrogen peroxide concentration of 0.5 mass%. The cleaning liquid was supplied by spraying in an amount of 100 ml per minute continuously from 3 seconds before the start of scrub cleaning until the end of scrub cleaning. A polyvinyl alcohol sponge was used as the sponge for the scrub member. The porosity was 50% and the hardness was 45 ° (JIS K7312). The number of rotations of the sponge rollers 10a and 10b was 300 rpm. The rotation speed of the glass substrate 1 was 200 rpm. The glass substrate after scrub cleaning is subjected to a water rinse cleaning process for 2 minutes, followed by an IPA (isopropyl alcohol) cleaning process for 2 minutes, and finally an IPA (isopropyl alcohol) vapor drying process for 2 minutes for drying. It was.
(10) Inspection process After the cleaning process, the glass substrate was visually inspected for adhesion of scratches, chips, foreign matters, etc., and those that clearly showed scratches, chips, or deposits were removed.
(11) Packing process The number of foreign materials with a height of 10 nm or more attached to the glass substrate surface was counted on the surface of the glass substrate after the inspection process using a micro defect measuring machine (ODT: RZ350) manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation. Evaluation was made before packing.
梱包前評価を行った後、図4に示す梱包工程により梱包した。まず、保持工程として、図6に示す保持体600にガラス基板を25枚ずつ保持した。保持体600の樹脂材料としては、ポリカーボネートを用いた。次に、このガラス基板を保持した保持体600を、包装工程として、包装部材200で包装し、更に、密閉工程として、包装部材200の開口部201を密閉して、図8に示すような情報記録媒体用ガラス基板梱包体300を作製した。包装部材には、ポリプロピレンフィルム(フィルム厚さ40μm)にアルミ蒸着を施したラミネートフィルムを用いた。また、密閉工程におけるラミネーターとしては、富士インパルス社製の真空バギング装置を用い、包装部材の内部の気圧を表1に示す気圧になるように減圧して密閉した。 After performing the pre-packaging evaluation, the packing was performed by the packing process shown in FIG. First, as a holding step, 25 glass substrates were held on the holding body 600 shown in FIG. Polycarbonate was used as the resin material for the holder 600. Next, the holding body 600 holding the glass substrate is packaged by the packaging member 200 as a packaging process, and further, as the sealing process, the opening 201 of the packaging member 200 is sealed, and the information shown in FIG. A glass substrate package 300 for a recording medium was produced. As the packaging member, a laminate film obtained by depositing aluminum on a polypropylene film (film thickness: 40 μm) was used. Further, as a laminator in the sealing step, a vacuum bagging device manufactured by Fuji Impulse Co., Ltd. was used, and the pressure inside the packaging member was reduced to a pressure shown in Table 1 and sealed.
なお、洗浄工程から、検査工程、梱包工程までは、清浄度クラス100のクリーンルーム内で行った。クリーンルーム内の雰囲気には、低級アルコールとして、プロパノール中のIPA(イソプロピルアルコール)を含有させた。この雰囲気のIPAの濃度は、密閉した包装部材の内側の空間に含有されるIPAの濃度が表1に示す値になるように調節した。
(実施例20)
実施例10において、クリーンルーム内の低級アルコールをIPAに替えて、メタノールを用いた他は、実施例10と同様に情報記録媒体用ガラス基板梱包体を作成した。
(実施例21)
実施例10において、クリーンルーム内の低級アルコールをIPAに替えて、エタノールを用いた他は、実施例10と同様に情報記録媒体用ガラス基板梱包体を作成した。
(実施例22)
実施例10において、クリーンルーム内の低級アルコールをIPAに替えて、ブタノールを用いた他は、実施例10と同様に情報記録媒体用ガラス基板梱包体を作成した。
(実施例23)
実施例10において、クリーンルーム内の低級アルコールをIPAに替えて、ペンタノールを用いた他は、実施例10と同様に情報記録媒体用ガラス基板梱包体を作成した。
(比較例1)
実施例10において、洗浄工程を行うクリーンルーム内の低級アルコールの濃度調整は行わず、検査工程と梱包工程を洗浄工程とは別のクリーンルーム内で行い、この別のクリーンルーム内の低級アルコールの濃度を0ppmとした他は、実施例10と同様に情報記録媒体用ガラス基板梱包体を作成した。作成した比較例1の梱包体の内側の低級アルコール濃度は、0ppmであった。
(評価方法)
以上のようにして、実施例1〜23及び比較例1の情報記録媒体用ガラス基板梱包体を作成し、清浄度クラス100の部屋に24時間保管した。その後、清浄度クラス100のクリーンルーム内で、情報記録媒体用ガラス基板梱包体を開封し、ガラス基板の表面を日立ハイテクノロジーズ社製微小欠陥測定機(ODT:RZ3500)を用いて、ガラス基板表面に付着した高さ10nm以上の異物の個数をカウントし、梱包保管後の評価とした。具体的には、実施例1〜23及び比較例1において、各ガラス基板の梱包前の異物の個数を梱包保管後の異物の個数から引き、増加した異物の個数を算出した。次に、各情報記録媒体用ガラス基板梱包体毎の25枚分の増加個数を合計した。この合計個数が、5個未満をランク7、5個以上7個未満をランク6、7個以上10個未満をランク5、10個以上15個未満をランク4、15個以上20個未満をランク3、20個以上30個未満をランク2、30個以上をランク1とした。なお、合計個数が30個以上になると磁気ディスクでのグライドテスターの歩留まり悪化が見られるので30個未満が製品として要求される。The cleaning process, inspection process, and packing process were performed in a clean room of cleanliness class 100. The atmosphere in the clean room contained IPA (isopropyl alcohol) in propanol as the lower alcohol. The concentration of IPA in this atmosphere was adjusted so that the concentration of IPA contained in the space inside the sealed packaging member was the value shown in Table 1.
(Example 20)
In Example 10, a glass substrate package for an information recording medium was prepared in the same manner as in Example 10 except that methanol was used instead of the lower alcohol in the clean room instead of IPA.
(Example 21)
In Example 10, a glass substrate package for an information recording medium was prepared in the same manner as in Example 10 except that ethanol was used in place of the lower alcohol in the clean room instead of IPA.
(Example 22)
In Example 10, a glass substrate package for an information recording medium was prepared in the same manner as in Example 10 except that butanol was used instead of the lower alcohol in the clean room instead of IPA.
(Example 23)
In Example 10, a glass substrate package for an information recording medium was prepared in the same manner as in Example 10 except that the lower alcohol in the clean room was changed to IPA and pentanol was used.
(Comparative Example 1)
In Example 10, the concentration of the lower alcohol in the clean room in which the cleaning process is performed is not adjusted, and the inspection process and the packaging process are performed in a clean room different from the cleaning process, and the concentration of the lower alcohol in the separate clean room is 0 ppm. Otherwise, a glass substrate package for an information recording medium was prepared in the same manner as in Example 10. The lower alcohol concentration inside the produced package of Comparative Example 1 was 0 ppm.
(Evaluation method)
As described above, the glass substrate packagings for information recording media of Examples 1 to 23 and Comparative Example 1 were prepared and stored in a cleanliness class 100 room for 24 hours. Then, in a clean room of cleanliness class 100, the glass substrate package for the information recording medium is opened, and the surface of the glass substrate is applied to the surface of the glass substrate using a micro defect measuring machine (ODT: RZ3500) manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation. The number of adhering foreign matters having a height of 10 nm or more was counted and evaluated after packing storage. Specifically, in Examples 1 to 23 and Comparative Example 1, the number of foreign matters before packing each glass substrate was subtracted from the number of foreign matters after packing and the number of increased foreign matters was calculated. Next, the increase number for 25 sheets for each glass substrate package for information recording media was totaled. This total number is less than 5 rank 7, rank 5 to less than 7 rank 6, rank 7 to less than 10 rank 5, rank 10 to less than 15 rank 4, rank 15 to less than 20 rank 3, 20 or more and less than 30 were ranked 2, and 30 or more were ranked 1. When the total number is 30 or more, the yield of the glide tester on the magnetic disk is deteriorated, so that less than 30 is required as a product.
また、上記実施例1〜23及び比較例で作製したガラス基板梱包体からガラス基板1枚を取り出し、その表面に、0.1μmの磁気層を形成して磁気記録媒体を作製した。用いた磁性材料は、CoNiでスパッタリング法により表主表面に形成した。この磁気記録媒体をグライドテスター装置(日立ハイテク社製型番RQ7800)を用いて、歩留まりを評価した。 Moreover, one glass substrate was taken out from the glass substrate package produced in Examples 1 to 23 and the comparative example, and a 0.1 μm magnetic layer was formed on the surface to produce a magnetic recording medium. The magnetic material used was formed of CoNi on the front main surface by sputtering. The yield of this magnetic recording medium was evaluated using a glide tester device (model number RQ7800 manufactured by Hitachi High-Tech).
評価結果を表1に示す。 The evaluation results are shown in Table 1.
表1の結果から、実施例1〜23と比較例1とを比べると、密閉された包装部材の内側の空間に低級アルコールが含有されていることにより、磁気記録媒体にしたときのグライドテスターの歩留まりが高く、保管時の異物付着が抑制されていることがわかる。また、実施例1〜23より、含有される低級アルコールの濃度が3〜100ppmの範囲であることがより異物付着が少なく好ましいことがわかる。また、実施例5〜15を比較すると、包装部材の内側の空間の気圧を、200〜600hPaの範囲に減圧することにより、より、保管時の異物付着が少なくなっていることがわかる。 From the results of Table 1, when Examples 1 to 23 and Comparative Example 1 are compared, the lower alcohol is contained in the space inside the sealed packaging member. It can be seen that the yield is high and the adhesion of foreign matter during storage is suppressed. In addition, Examples 1 to 23 show that the concentration of the lower alcohol contained is preferably in the range of 3 to 100 ppm with less adhesion of foreign matters. Moreover, when Examples 5-15 are compared, it turns out that the adhesion of the foreign material at the time of storage is reduced by reducing the pressure of the space inside the packaging member to the range of 200 to 600 hPa.
Claims (5)
前記情報記録媒体用ガラス基板を保持した保持体を包装部材により包装する包装工程と、
前記保持体に保持された前記情報記録媒体用ガラス基板を低級アルコールを含有する空間に密閉するよう、前記包装部材の開口部を密閉する密閉工程と、を有し、
前記密閉工程は、密閉後に包装部材の内側の情報記録媒体用ガラス基板を保持した保持体が密閉される空間の雰囲気の低級アルコールの濃度が3〜100ppmの範囲になるように、低級アルコールの濃度が調節された気体を包装部材の内側の空間に充填した後に、前記包装部材の開口部を密閉することで行われ、密閉後の前記空間の低級アルコールの濃度が、3〜100ppmであることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の梱包方法。 A holding step of holding the glass substrate for information recording medium on a holder;
A packaging step of packaging the holding body holding the glass substrate for information recording medium with a packaging member;
To seal the glass substrate for the information recording medium held by the holding member in a space containing a lower alcohol, have a, a sealing step of sealing the opening of said covering member,
In the sealing step, the concentration of the lower alcohol is such that the concentration of the lower alcohol in the atmosphere of the space in which the holder holding the glass substrate for information recording medium inside the packaging member is sealed after sealing is in the range of 3 to 100 ppm. after There filling the conditioned gas to the space inside the packaging member is performed by sealing the opening of said covering member, the concentration of the lower alcohol of said space after sealing, 3~100Ppm der Rukoto A method for packing a glass substrate for an information recording medium.
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01226165A (en) * | 1988-03-07 | 1989-09-08 | Kyushu Electron Metal Co Ltd | Storage of semiconductor substrate |
JPH10157774A (en) * | 1996-10-04 | 1998-06-16 | Seiko Epson Corp | Packaging method for liquid crystal panel, and its packaging article |
JP2002145381A (en) * | 2000-11-10 | 2002-05-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Series of electronic components |
JP2007115388A (en) * | 2005-09-26 | 2007-05-10 | Hoya Corp | Method of housing magnetic disk glass substrate, method of manufacturing magnetic disk glass substrate, magnetic disk glass substrate storage, method of delivering magnetic disk glass substrate, and method of manufacturing magnetic disk |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01226165A (en) * | 1988-03-07 | 1989-09-08 | Kyushu Electron Metal Co Ltd | Storage of semiconductor substrate |
JPH10157774A (en) * | 1996-10-04 | 1998-06-16 | Seiko Epson Corp | Packaging method for liquid crystal panel, and its packaging article |
JP2002145381A (en) * | 2000-11-10 | 2002-05-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Series of electronic components |
JP2007115388A (en) * | 2005-09-26 | 2007-05-10 | Hoya Corp | Method of housing magnetic disk glass substrate, method of manufacturing magnetic disk glass substrate, magnetic disk glass substrate storage, method of delivering magnetic disk glass substrate, and method of manufacturing magnetic disk |
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