JP2009158766A - Wiring board and connection method - Google Patents

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Susumu Matsuoka
進 松岡
Norito Tsukahara
法人 塚原
Masayoshi Koyama
雅義 小山
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a connection method of excellently connecting wiring boards to each other. <P>SOLUTION: There is provided the connection method for wiring boards in which the wiring boards each having a belt-like connection terminal for connection with the other board are connected to each other, wherein the connection method includes the stages of positioning the wiring boards so that connection terminals face each other with a conductive junction structure interposed therebetween; and heating and then cooling the conductive bonding body to mutually fix the connection terminals. The conductive junction structure is a material which produces air bubbles when heated, a plurality of connection terminals are provided together to the respective wiring boards, and a projection is formed on a space surface of at least one adjacent connection terminal of at least one wiring board. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、配線基板と配線基板を電気的に接続する配線基板の接続方法に関する。   The present invention relates to a wiring board connecting method for electrically connecting a wiring board and a wiring board.

基板上に電子部品を実装するフリップチップ実装においては、配線端子上にバンプを形成する。配線端子上にバンプを形成する技術として、近年、従来のソルダーペースト法やスーパーソルダー法等の技術と呼ばれる技術に代えて、配線端子上に、導電性粒子(例えば、はんだ粉)を自己集合させて、バンプを形成する方法、あるいは、配線基板と半導体チップの電極間に導電性粒子を自己集合させて、電極間に接続体を形成し、フリップチップを実装する方法が提案されている。(例えば、特許文献1、特許文献2を参照)。   In flip chip mounting in which electronic components are mounted on a substrate, bumps are formed on wiring terminals. In recent years, as a technology for forming bumps on wiring terminals, conductive particles (for example, solder powder) are self-assembled on wiring terminals instead of conventional techniques such as solder paste method and super solder method. Thus, a method of forming a bump, or a method of mounting a flip chip by forming a connection body between electrodes by self-assembling conductive particles between electrodes of a wiring board and a semiconductor chip has been proposed. (For example, see Patent Document 1 and Patent Document 2).

図9(a)〜図9(d)、及び図10(a)〜10(d)は、導電性粒子を自己集合させるバンプ形成の技術を説明するための図である。   9 (a) to 9 (d) and FIGS. 10 (a) to 10 (d) are diagrams for explaining a technique of bump formation for self-assembling conductive particles.

先ず、図9(a)に示すように、複数のパッド電極32を有する基板31上に、はんだ粉116と気泡発生剤(図示せず)を含有した樹脂114を供給する。次に、図9(b)に示すように、樹脂114表面に、平板140を配設する。   First, as shown in FIG. 9A, a resin 114 containing solder powder 116 and a bubble generating agent (not shown) is supplied onto a substrate 31 having a plurality of pad electrodes 32. Next, as shown in FIG. 9B, a flat plate 140 is disposed on the surface of the resin 114.

この状態で、樹脂114を加熱すると、図9(c)に示すように、樹脂114の中に含有する気泡発生剤から気泡30が発生する。そして、図9(d)に示すように、樹脂114は発生した気泡30が成長することで気泡外に押し出される。   When the resin 114 is heated in this state, bubbles 30 are generated from the bubble generating agent contained in the resin 114 as shown in FIG. Then, as shown in FIG. 9D, the resin 114 is pushed out of the bubbles as the generated bubbles 30 grow.

押し出された樹脂114は、図10(a)に示すように、基板31のパット電極32との界面、及び平板140との界面に柱状に自己集合する。なお、基板31の縁部に存在する樹脂114の一部は基板31の外縁から外部に押し出されることになる(図示省略)。   As shown in FIG. 10A, the extruded resin 114 self-assembles in a columnar shape at the interface between the substrate 31 and the pad electrode 32 and the interface with the flat plate 140. A part of the resin 114 present at the edge of the substrate 31 is pushed out from the outer edge of the substrate 31 (not shown).

次に、樹脂114を更に加熱すると図10(b)に示すように、樹脂114中に含有するはんだ粉116が溶融し、パッド電極32上に自己集合した樹脂114中に含有するはんだ粉116同士が溶融結合する。   Next, when the resin 114 is further heated, as shown in FIG. 10B, the solder powder 116 contained in the resin 114 is melted, and the solder powders 116 contained in the resin 114 self-assembled on the pad electrode 32. Melt-bond.

パッド電極32は、溶融結合したはんだ粉116に対して濡れ性が高いので、図10(c)に示すように、パッド電極32上に溶融はんだ粉よりなるバンプ19を形成する。   Since the pad electrode 32 has high wettability with respect to the melt-bonded solder powder 116, the bump 19 made of the molten solder powder is formed on the pad electrode 32 as shown in FIG.

最後に、図10(d)に示すように、樹脂114と平板140を除去することにより、パッド電極32上にバンプ19形成された基板31が得られる。なお、以上の工程においては、供給する樹脂114の量は誇張して示したものであり、実際には、パッド電極32上に自己集合するのに好適な量、及び誤差を考慮した樹脂114が供給される。   Finally, as shown in FIG. 10D, by removing the resin 114 and the flat plate 140, the substrate 31 having the bumps 19 formed on the pad electrodes 32 is obtained. In the above process, the amount of the resin 114 to be supplied is exaggerated. Actually, the amount of the resin 114 which is suitable for self-assembly on the pad electrode 32 and the error 114 is taken into consideration. Supplied.

この方法の特徴は、基板31と平板140の隙間に供給された樹脂114を加熱することによって、気泡発生剤から気泡30を発生させ、気泡30が成長することで樹脂114を気泡外に押し出すことにより、はんだ粉116を含んだまま樹脂114を基板31のパッド電極32と平板140との間に自己集合させる点にある。   The feature of this method is that the resin 114 supplied to the gap between the substrate 31 and the flat plate 140 is heated to generate bubbles 30 from the bubble generating agent, and the bubbles 30 grow to push the resin 114 out of the bubbles. Thus, the resin 114 is self-assembled between the pad electrode 32 of the substrate 31 and the flat plate 140 while containing the solder powder 116.

樹脂114がパッド電極32上に自己集合する現象は、図11(a)、(b)に示すようなメカニズムで起きているものと考えられる。   The phenomenon that the resin 114 self-assembles on the pad electrode 32 is considered to occur by the mechanism shown in FIGS. 11 (a) and 11 (b).

図11(a)は、樹脂114が、成長した気泡(図示せず)によって基板31のパッド電極32上に押し出された状態を示した図である。パッド電極32に接した樹脂114は、その界面における界面張力(いわゆる樹脂の濡れ広がりに起因する力)Fsが、樹脂の粘度ηから発生する応力Fηよりも大きいので、パッド電極32の全面にわたって広がり、最終的に、パッド電極32の端部を境とした柱状樹脂が、パッド電極32と平板140間に形成される。   FIG. 11A is a view showing a state in which the resin 114 is pushed onto the pad electrode 32 of the substrate 31 by the grown bubbles (not shown). The resin 114 in contact with the pad electrode 32 has an interfacial tension at the interface (so-called force caused by spreading of the resin) Fs larger than the stress Fη generated from the viscosity η of the resin, and therefore spreads over the entire surface of the pad electrode 32. Finally, a columnar resin with the end of the pad electrode 32 as a boundary is formed between the pad electrode 32 and the flat plate 140.

なお、パッド電極32上に自己集合して形成された柱状の樹脂114には、図11(b)に示すように、気泡30の成長(又は移動)による応力Fbが加わるが、樹脂114の粘度ηによる応力Fηの作用により、その形状を維持することができ、一旦、自己集合した樹脂114が消滅することはない。   Note that the columnar resin 114 formed by self-assembly on the pad electrode 32 is subjected to stress Fb due to the growth (or movement) of the bubbles 30 as shown in FIG. The shape of the resin 114 can be maintained by the action of the stress Fη due to η, and the self-assembled resin 114 does not disappear once.

ここで、自己集合した樹脂114が一定の形状を維持できるかどうかは、上記界面張力Fsの他にパッド電極32の面積S及びパッド電極32と平板140との隙間の距離Lや、樹脂114の粘度ηにも依存する。樹脂114を一定形状に維持させる目安をTとすると、安定性には、以下のような関係が成り立つものと考えられる。   Here, whether or not the self-assembled resin 114 can maintain a certain shape depends on the area S of the pad electrode 32 and the distance L of the gap between the pad electrode 32 and the flat plate 140 in addition to the interfacial tension Fs, It also depends on the viscosity η. Assuming that T is a standard for maintaining the resin 114 in a certain shape, it is considered that the following relationship holds for the stability.

Figure 2009158766
Figure 2009158766

上記の説明のように、この方法は、樹脂114の界面張力による自己集合を利用して、
パッド電極32上に樹脂114を自己整合的に形成するものであるが、かかる界面張力による自己集合は、基板31表面に形成されたパッド電極32が凸状に形成されているが故に、基板31と平板140間に形成されたギャップの中で、基板31と平板140との間よりも狭くなっている、平板140とパッド電極32との間で起きる現象を利用したものと言える。
As described above, this method uses self-assembly due to the interfacial tension of the resin 114,
The resin 114 is formed on the pad electrode 32 in a self-aligned manner. The self-assembly due to the interfacial tension is caused by the pad electrode 32 formed on the surface of the substrate 31 being formed in a convex shape. It can be said that the phenomenon that occurs between the flat plate 140 and the pad electrode 32 that is narrower than the gap between the substrate 31 and the flat plate 140 in the gap formed between the flat plate 140 and the flat plate 140 is used.

上記の方法を用いると、樹脂114中に分散したはんだ粉を効率良くパッド電極上に自己集合させることができ、又、均一性に優れ、かつ、生産性の高いバンプ形成が実現できる。   When the above method is used, the solder powder dispersed in the resin 114 can be efficiently self-assembled on the pad electrode, and bump formation with excellent uniformity and high productivity can be realized.

又、樹脂中に分散したはんだ粉を、樹脂が供給された基板上の複数の電極上に分け隔てなく自己集合させることができるので、上記の方法は、樹脂が供給された配線基板上の全ての電極上に一括してバンプを形成する際に、特に有用である。
特許第3964911号公報 特許第3955302号公報
In addition, since the solder powder dispersed in the resin can be self-assembled on the plurality of electrodes on the substrate supplied with the resin without being separated, the above method can be applied to all the wiring substrates supplied with the resin. This is particularly useful when bumps are collectively formed on the electrodes.
Japanese Patent No. 3964911 Japanese Patent No. 3955302

以上のような樹脂を自己集合させることにより電極に、はんだ粉を自己集合させる技術は、バンプ形成のみならず、他の用途に用いることが考えられる。   A technique for self-assembling solder powder on the electrode by self-assembling the resin as described above may be used not only for bump formation but also for other purposes.

そのような用途として、本発明者は、基板同士の接続に当該技術を利用することを見いだした。   As such an application, the present inventor has found that the technology is used for connection between substrates.

とりわけ、携帯電話やデジタルカメラなどの電子機器の内部配線には、薄くて折り曲げ可能なフレキシブルプリント基板(以下、FPCと記す)が多く使用されている。近年、
携帯機器の小型化や可動部の増加に伴い、FPCの使用比率が高まっている。メインボードに使用される硬質基板にFPCを接続する場合、コネクタ接続が一般的であり、FPCを繰り返して脱着できることが大きなメリットである。脱着の必要がない場合でも容易に
基板間接続ができる利点がある。しかしながら、コネクタが占める三次元的なスペースが機器の小型化・薄型化に対して障害となる。また、現行のコネクタの最小ピッチは0.3mmのものが主流であり、それよりも狭ピッチの電極端子接続が困難である。
In particular, thin and foldable flexible printed boards (hereinafter referred to as FPC) are often used for internal wiring of electronic devices such as mobile phones and digital cameras. recent years,
With the miniaturization of portable devices and the increase in movable parts, the usage ratio of FPC is increasing. When an FPC is connected to a hard board used for the main board, connector connection is common, and it is a great advantage that the FPC can be repeatedly attached and detached. Even when there is no need for desorption, there is an advantage that connection between substrates can be easily performed. However, the three-dimensional space occupied by the connector is an obstacle to downsizing and thinning of the device. In addition, the current connector has a minimum pitch of 0.3 mm, which makes it difficult to connect electrode terminals with a narrower pitch.

一方、硬質基板とFPCを完全に一体化したリジットフレックス基板も存在する。リジッドフレックス基板は、FPCが硬質基板の内層に挟まれるため外周に接続部を必要とない利点があるが、製造工程が長く、特に層数の異なる硬質基板の組み合わせでは、工程が複雑となる。   On the other hand, there is a rigid flex substrate in which a hard substrate and an FPC are completely integrated. The rigid flex substrate has an advantage that the FPC is sandwiched between the inner layers of the hard substrate and does not require a connection portion on the outer periphery. However, the manufacturing process is long, and the process becomes complicated particularly in the combination of hard substrates having different numbers of layers.

こうした中、最近では、別々の硬質基板の間をFPCで接続すると、リジットフレックス基板と同等の構造の配線基板を製造することができる。リジットフレックス基板と比較して工程を簡略化することができ、また配線基板の外形や構造が制約されることが少ない。   Under these circumstances, recently, when FPCs are connected between separate hard substrates, a wiring substrate having a structure equivalent to a rigid flex substrate can be manufactured. Compared with a rigid flex board, the process can be simplified, and the outer shape and structure of the wiring board are less restricted.

そこで、かかる狭ピッチの電極端子を有する配線基板同士の接続に上記の技術を用いることは有効と考えられる。   Therefore, it is considered effective to use the above technique for connecting the wiring boards having such narrow pitch electrode terminals.

一方、本発明者は、上記方法を応用して配線基板と配線基板を接続する方法を検討している際に以下のような現象をも見出した。以下、その現象を説明する。   On the other hand, the present inventor has also found the following phenomenon when studying a method of connecting a wiring board and a wiring board by applying the above method. The phenomenon will be described below.

図12に、接続検討する際に用いた配線基板を示す。配線基板31aには、帯状の配線33aが複数、併設されることにより図中の矢印で示す領域に接続端子34aを形成する。   FIG. 12 shows a wiring board used when considering connection. A plurality of strip-like wirings 33a are provided on the wiring board 31a to form connection terminals 34a in the region indicated by the arrows in the figure.

配線33aの幅は0.05mmで隣り合う配線とのスペース35aは0.05mmであり、ピッチ0.1mmの配線ルールである。図12に示した配線基板31aの接続端子34aの中央部に、はんだ粉と気泡発生剤(図示せず)を含有した樹脂114を適量塗布する。   The width of the wiring 33a is 0.05 mm, the space 35a between adjacent wirings is 0.05 mm, and the wiring rule is a pitch of 0.1 mm. An appropriate amount of resin 114 containing solder powder and a bubble generating agent (not shown) is applied to the central portion of the connection terminal 34a of the wiring board 31a shown in FIG.

次に図13(a)において、一方の配線基板31bを重ね合わせた状態を示している。図13(b)は、図13(a)のA−Aの断面図である。配線基板31bには配線基板31aと同寸法で配線33bが配置され、お互いの接続端子34aと接続端子34bが対向し、互いに重なり合っている。この状態で、その塗布した樹脂114を加熱すると、接続端子34aと接続端子34bとが重なる領域に、はんだ粉が自己集合した後、溶融固化することで配線基板31aと配線基板31bが接続されることが期待される。   Next, FIG. 13A shows a state in which one wiring board 31b is overlapped. FIG.13 (b) is sectional drawing of AA of Fig.13 (a). On the wiring board 31b, wirings 33b having the same dimensions as the wiring board 31a are arranged, and the connection terminals 34a and the connection terminals 34b face each other and overlap each other. When the applied resin 114 is heated in this state, the solder powder self-assembles in a region where the connection terminal 34a and the connection terminal 34b overlap and then melts and solidifies to connect the wiring board 31a and the wiring board 31b. It is expected.

しかしながら、実際に加熱を行った場合、図14(a)に示すように、接続端子34aと接続端子34bとが重なる領域以外まで樹脂114およびはんだ粉が大きく移動した。特に、スペース35a及び35bに隣接するスペース35a及び35bへの樹脂114及びはんだ粉の移動が顕著であった。   However, when heating was actually performed, as shown in FIG. 14A, the resin 114 and the solder powder moved greatly to a region other than the region where the connection terminal 34a and the connection terminal 34b overlapped. In particular, the movement of the resin 114 and the solder powder to the spaces 35a and 35b adjacent to the spaces 35a and 35b was remarkable.

図15は、移動、集合したはんだ粉が溶融固化した状態を示している。X線透視装置により、配線基板31aと配線基板31bの重なり部をX線透視観察すると、接続領域外にはんだが集合した部位16aや、接続端子にはんだが不足した部位16bや、未接続部位16cが観察され、全てのはんだ粉が接続端子34aと接続端子34bとが重なる領域に集合することはなかった。   FIG. 15 shows a state where the moved and assembled solder powder is melted and solidified. When the overlapping part of the wiring board 31a and the wiring board 31b is observed with an X-ray fluoroscope, the part 16a where the solder gathers outside the connection region, the part 16b where the solder is insufficient in the connection terminal, or the unconnected part 16c. Was observed, and all the solder powder did not collect in the region where the connection terminal 34a and the connection terminal 34b overlapped.

このように、微細な帯状の接続端子を併設してなる配線基板同士を、はんだ粉等の導電性粒子を電極上に自己集合させることにより接続するためには、上述の不具合を解消することが必要であることが分かった。   Thus, in order to connect the wiring boards formed with the fine band-shaped connection terminals together by self-assembling conductive particles such as solder powder on the electrodes, the above-mentioned problems can be solved. I found it necessary.

本発明は、以上を鑑みてなされたものであり、接続端子同士を良好に接続することが出きる、配線基板の接続方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to provide a method for connecting a wiring board, in which connection terminals can be satisfactorily connected to each other.

上記の目的を達成するために、複数の配線と前記複数の配線間に位置する突起とを有する第1の基板と、
複数の配線を有する第2の基板と、
前記第1の基板の前記配線と前記第2の基板の前記配線とを樹脂を介して接合した接続構造体を用いる。
In order to achieve the above object, a first substrate having a plurality of wirings and a protrusion positioned between the plurality of wirings;
A second substrate having a plurality of wirings;
A connection structure is used in which the wiring of the first substrate and the wiring of the second substrate are joined via a resin.

また、前記突起が、第1基板と第2基板の接合領域に、複数位置する請求項1記載の接続構造体を用いる。   The connection structure according to claim 1, wherein a plurality of the protrusions are located in a bonding region between the first substrate and the second substrate.

また、前記突起が、柱状突起であり、配線が帯状である請求項1または2記載の接続構造体を用いる。   The connection structure according to claim 1, wherein the protrusion is a columnar protrusion and the wiring is strip-shaped.

また、第2の基板の配線間に突起がある請求項1ないし3記載の接続構造体を用いる。   The connection structure according to any one of claims 1 to 3, wherein there is a protrusion between the wirings of the second substrate.

また、第1の基板の突起の位置と、第2の基板の突起の位置が、帯状の配線の方向に対してずらして設けられている請求項3または4記載の接続構造体を用いる。   The connection structure according to claim 3 or 4, wherein the position of the protrusion on the first substrate and the position of the protrusion on the second substrate are shifted with respect to the direction of the strip-shaped wiring.

また、他の基板との接続用の帯状の接続端子を有する配線基板同士を接続する配線基板の接続方法であって、
前記接続端子同士が、導電性接合体を間に挟んだ状態で対向するように、前記配線基板同士を位置合わせする工程と、前記導電性接合体を加熱し、その後冷却して、前記接続端子同士を固着する工程とを備え、
前記導電性接合体は、加熱により気泡を生ずる材料であり、前記接続端子は、それぞれの前記配線基板に複数併設されており、
少なくとも一方の配線基板の、少なくとも1つの隣接する接続端子のスペース表面上には、突起が形成されている、配線基板の接続方法を用いる。
In addition, a wiring board connecting method for connecting wiring boards having strip-shaped connection terminals for connection to other boards,
The step of aligning the wiring boards so that the connection terminals face each other with the conductive bonded body sandwiched therebetween, the conductive bonded body is heated, and then cooled, and the connection terminal And a step of fixing each other,
The conductive joint is a material that generates bubbles by heating, and a plurality of the connection terminals are provided on each of the wiring boards,
A wiring board connection method is used in which protrusions are formed on the space surface of at least one adjacent connection terminal of at least one wiring board.

また、前記突起は、断続的に前記接続端子のスペース表面上に形成されている、請求項6に記載の配線基板の接続方法を用いる。   The wiring board connection method according to claim 6, wherein the protrusions are intermittently formed on a space surface of the connection terminal.

また、前記突起は、前記接続端子のスペース表面上の長手方向に設けてあり、
位置合わせの状態において、対向する一方の前記接続端子のスペース表面上の前記突起と、他方の前記接続端子のスペース表面上に突起が形成されていない部分とが対向している、請求項6または7に記載の配線基板の接合方法を用いる。
Further, the protrusion is provided in the longitudinal direction on the space surface of the connection terminal,
In the alignment state, the protrusion on the space surface of one of the connection terminals facing each other faces a portion where the protrusion is not formed on the space surface of the other connection terminal. 7 is used.

また、前記突起は、対向する双方の前記接続端子のスペース表面上のそれぞれに形成されており、前記突起は前記配線端子のスペース表面上にて等間隔に設けられており、前記位置合わせの状態において、対向する一方の前記接続端子のスペース表面上の突起の中心線と、対向する他方の前記接続端子のスペース表面上の少なくとも2つの前記突起で挟まれる前記部分の中心線が一致している、請求項8記載の配線基板の接続方法を用いる。   Further, the protrusions are respectively formed on the space surfaces of both the connection terminals facing each other, and the protrusions are provided at equal intervals on the space surface of the wiring terminals, and the alignment state , The center line of the protrusion on the space surface of one of the opposing connection terminals is coincident with the center line of the portion sandwiched between at least two of the protrusions on the space surface of the other opposing connection terminal. The method for connecting wiring boards according to claim 8 is used.

また、前記突起は、前記接続端子のスペース表面上の長手方向に設けてあり、
位置合わせの状態において、対向する一方の前記接続端子のスペース表面上の前記突起と、他方の前記接続端子のスペース表面上に突起が形成されている部分とが対向している、請求項6から9のいずれかに記載の配線基板の接合方法を用いる。
Further, the protrusion is provided in the longitudinal direction on the space surface of the connection terminal,
From the alignment state, the projection on the space surface of one of the connection terminals facing each other and the portion where the projection is formed on the space surface of the other connection terminal are opposed to each other. The wiring board bonding method according to any one of 9 is used.

また、前記突起は、絶縁性樹脂で形成される請求項6から10のいずれかに記載の配線基板の接続方法を用いる。   The wiring board connection method according to claim 6, wherein the protrusion is formed of an insulating resin.

また、前記導電性接合体は、導電性粒子と気泡発生剤を含有した流動体であり、
前記流動体は、加熱により沸騰又は熱分解することにより気体を発生させる材料を含む、請求項6から11のいずれかに記載の配線基板の接続方法を用いる。
The conductive joined body is a fluid containing conductive particles and a bubble generating agent,
The wiring body connection method according to claim 6, wherein the fluid includes a material that generates a gas by boiling or thermal decomposition by heating.

また、前記導電性接合体は、異方性導電材料である、請求項6から12のいずれかに記載の配線基板の接続方法を用いる。   The wiring board connection method according to claim 6, wherein the conductive bonded body is an anisotropic conductive material.

以上のような本発明によれば、接続端子同士を良好に接続することができる、配線基板の接続方法を提供することができる。   According to the present invention as described above, it is possible to provide a method for connecting a wiring board, in which connection terminals can be satisfactorily connected.

以下に本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

(実施の形態1)
図1(a)、図1(b)により本発明の実施の形態1における配線基板を説明する。図1(a)は配線基板の平面図、図1(b)は、そのA−A直線断面図である。
(Embodiment 1)
A wiring board according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 (a) and 1 (b). FIG. 1A is a plan view of a wiring board, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA.

配線基板31aには、配線33aが複数併設されており、図中矢印で示す領域は、配線33a端部より形成される接続端子34aであり、接続端子34aの線路長は1.0mmである。配線の幅は0.05mmであり、隣り合う配線33aとのスペース35aの幅は0.05mmである。したがって配線33aはピッチ0.1mmの配線ルールで形成される。それぞれのスペース35aは、長手方向に断続的に複数の突起20aが選択的に形成されている。突起20aの高さは、接続端子34aより低く、スペース35aの幅程度の径である。   A plurality of wirings 33a are provided on the wiring board 31a. A region indicated by an arrow in the figure is a connection terminal 34a formed from an end of the wiring 33a, and the line length of the connection terminal 34a is 1.0 mm. The width of the wiring is 0.05 mm, and the width of the space 35a with the adjacent wiring 33a is 0.05 mm. Accordingly, the wiring 33a is formed with a wiring rule having a pitch of 0.1 mm. In each space 35a, a plurality of protrusions 20a are selectively formed intermittently in the longitudinal direction. The height of the protrusion 20a is lower than that of the connection terminal 34a and is approximately the diameter of the space 35a.

突起20aの形成は、絶縁性樹脂である感光性のソルダーレジストを用いてフォトリソグラフィー法によりマスク露光、現像により突起20aのパターンを形成後、加熱により硬化処理をした。突起20aの形状は、約外径40μmの円形の柱状体を形成した。接続端子34aの領域内でのスペース35aに形成した突起20aの配置は、奇数列が端部から0.2mmと0.6mmの位置に間隔0.4mmで2つ形成したものと、偶数列が端部から0.4mmと0.8mmの位置に間隔0.4mmで2つ形成したものを交互に設けた。突起20aの高さは、配線33aの厚みが約15μm(銅箔厚12μm上にNi/Auメッキ厚3μmを形成)に対して約10μmで形成されるようにした。但し、この例は、あくまで一例であり、突起20aの形状、配置、数量、高さは接続基板の配線ルールや接続条件に合わせてその都度、具体的に決定することができる。たとえば、三角柱、四角柱などの柱状の場合もありうる。   The protrusions 20a were formed by forming a pattern of the protrusions 20a by photolithography using a photosensitive solder resist, which is an insulating resin, by photolithography, followed by curing by heating. As the shape of the protrusion 20a, a circular columnar body having an outer diameter of about 40 μm was formed. The arrangement of the projections 20a formed in the space 35a in the region of the connection terminal 34a is such that two odd-numbered rows are formed at intervals of 0.2 mm and 0.6 mm from the end portions with a spacing of 0.4 mm, and the even-numbered rows are Two formed at intervals of 0.4 mm at positions of 0.4 mm and 0.8 mm from the end were alternately provided. The height of the protrusion 20a was set to about 10 μm with respect to the thickness of the wiring 33a of about 15 μm (Ni / Au plating thickness of 3 μm formed on a copper foil thickness of 12 μm). However, this example is merely an example, and the shape, arrangement, quantity, and height of the protrusions 20a can be specifically determined each time according to the wiring rules and connection conditions of the connection board. For example, there may be a columnar shape such as a triangular prism or a quadrangular prism.

また、突起20aの絶縁性樹脂としては、耐熱性があり、フォトリソや印刷等の方法でパターン形成が可能な、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、光硬化樹脂のいずれでも良い。   In addition, the insulating resin of the protrusion 20a may be any of a thermosetting resin, a thermoplastic resin, and a photo-curing resin that has heat resistance and can be patterned by a method such as photolithography or printing.

なお、上記構成において、配線基板31a又は、配線基板31bは、本発明の配線基板に相当し、接続端子34a又は接続端子34bは、本発明の接続端子に相当し、突起20a又は20bに相当し、スペース35aまたは35bは本発明のスペースに相当する。   In the above configuration, the wiring board 31a or the wiring board 31b corresponds to the wiring board of the present invention, and the connection terminal 34a or the connection terminal 34b corresponds to the connection terminal of the present invention and corresponds to the protrusion 20a or 20b. The space 35a or 35b corresponds to the space of the present invention.

次に、図2(a)及び、そのA−A直線断面図である図2(b)に示すように、配線基板31aのうち突起20aを設けたスペース35aと配線33aからなる接続端子34aの上に導電性粒子16と気泡発生剤(図示せず)を含有した流動体14を供給する。本実施の形態1における流動体14としては樹脂を用いた。なお、導電性粒子16、気泡発生剤の具体例は、後述する。   Next, as shown in FIG. 2 (a) and FIG. 2 (b), which is a cross-sectional view taken along the line AA, the connection terminal 34a including the space 35a provided with the protrusion 20a and the wiring 33a in the wiring board 31a. A fluid 14 containing conductive particles 16 and a bubble generating agent (not shown) is supplied thereon. Resin was used as the fluid 14 in the first embodiment. Specific examples of the conductive particles 16 and the bubble generating agent will be described later.

次に、図3(a)及び、そのA−A直線断面図である図3(b)に示すように、配線基板31aの上に流動体14を介して、接続対象である第2の配線基板31bを配置する。   Next, as shown in FIG. 3 (a) and FIG. 3 (b), which is a cross-sectional view taken along the line AA, the second wiring to be connected via the fluid 14 on the wiring substrate 31a. A substrate 31b is disposed.

第2の配線基板31bは、第1の配線基板31aと同一形状であり、接続端子34aと同一形状、同一寸法の接続端子34bを有する。   The second wiring board 31b has the same shape as the first wiring board 31a, and has a connection terminal 34b having the same shape and the same dimensions as the connection terminal 34a.

具体的には、配線基板31bの接続端子34bを、配線基板31aの接続端子34bに対向させ、さらに配線基板31aのスペース35aに形成した突起20aの中心線と、対向する他方の配線基板31bのスペース35bに形成した2つの突起20bで挟まれた中心線とが一致するように位置合わせして配置する。   Specifically, the connection terminal 34b of the wiring board 31b is opposed to the connection terminal 34b of the wiring board 31a, and the center line of the protrusion 20a formed in the space 35a of the wiring board 31a and the other wiring board 31b facing each other. The alignment is arranged so that the center line sandwiched between the two protrusions 20b formed in the space 35b coincides.

以上のように位置合わせすることで突起20a、突起20bは、流動体14を介して格子状に配置された構成となる。   By aligning as described above, the protrusions 20a and the protrusions 20b are arranged in a lattice shape with the fluid 14 interposed therebetween.

図3(b)に示した状態で接続端子34a、接続端子34bを含む領域に集中して加熱すると、流動体14においては、図3(c)に示すように、流動体14中に含有する気泡発生剤から気泡30が発生する。又、配線基板31aの配線33aと配線基板31bの配線基板31bとの間には、一定の隙間wが設けられており、当該一定の隙間wの寸法は、導電性粒子16の粒径よりも大きい。又、ここでは、配線基板31a及び配線基板31bは当該一定の隙間を維持するように固定又は保持されており、この固定又は保持状態にて流動体14は加熱されている。   When concentrated and heated in the region including the connection terminal 34a and the connection terminal 34b in the state shown in FIG. 3 (b), the fluid 14 contains the fluid 14 as shown in FIG. 3 (c). Bubbles 30 are generated from the bubble generating agent. In addition, a fixed gap w is provided between the wiring 33a of the wiring board 31a and the wiring board 31b of the wiring board 31b. The dimension of the fixed gap w is larger than the particle size of the conductive particles 16. large. Here, the wiring board 31a and the wiring board 31b are fixed or held so as to maintain the fixed gap, and the fluid 14 is heated in this fixed or holding state.

又、図3(b)及び図3(c)に示すように、接続端子34aに供給された流動体14は、互いの配線基板31a及び配線基板31bの端部間の表面張力によって接続端子34a、接続端子34bを含む領域に留めることができるので、この状態では、流動体14は当該領域を大きく超えて広がることは無い。   As shown in FIGS. 3B and 3C, the fluid 14 supplied to the connection terminal 34a is connected to the connection terminal 34a by the surface tension between the ends of the wiring board 31a and the wiring board 31b. In this state, the fluid 14 does not greatly extend beyond the region.

次に、図3(d)及び図3(e)を参照して、気泡30発生後の過程について説明を続ける。   Next, with reference to FIG. 3D and FIG. 3E, the description of the process after the bubble 30 is generated will be continued.

図3(d)に示すように、流動体14は加熱により内部に気泡30を発生させる。加熱に応じて気泡30は成長する。又、流動体14内を動き廻る。これにより流動体14も移動する。   As shown in FIG. 3D, the fluid 14 generates bubbles 30 inside by heating. Bubbles 30 grow in response to heating. Further, it moves around in the fluid 14. Thereby, the fluid 14 also moves.

詳細に述べると、加熱中の気泡30は、膨張により内圧が高くなると、より圧力が低い大気側に伸びるように成長する、又は移動を開始する。   More specifically, when the internal pressure increases due to expansion, the bubble 30 being heated grows or starts to move to the atmosphere side where the pressure is lower.

ここで上述したように、配線基板31bの接続端子34bを、配線基板31aの接続端子34bに対向させ、さらに配線基板31aのスペース35aに形成した突起20aの中心線と、対向する他方の配線基板31bのスペース35bに形成した2つの突起20bで挟まれた中心線とが重なり合うように配置されているので突起20a、突起20bは、格子状に配置された構成の中で流動体14から発生した気泡30は、成長、あるいは縦横に移動して大気に排出される。   As described above, the connection terminal 34b of the wiring board 31b is opposed to the connection terminal 34b of the wiring board 31a, and the center line of the protrusion 20a formed in the space 35a of the wiring board 31a is opposed to the other wiring board. Since the center line sandwiched between the two protrusions 20b formed in the space 35b of 31b overlaps the protrusions 20a and 20b, the protrusions 20a and 20b are generated from the fluid 14 in a configuration arranged in a lattice pattern. The bubbles 30 grow or move vertically and horizontally and are discharged to the atmosphere.

気泡30の成長や動きによって移動する流動体14は、図3(e)に示すように、接続端子34aの配線33aとの界面、及び接続端子34bの配線33bとの界面に集合する。それとともに、流動体14中の導電性粒子16は、配線33aおよび33b上に集合する。   As shown in FIG. 3E, the fluid 14 that moves due to the growth and movement of the bubbles 30 gathers at the interface between the connection terminal 34a and the wiring 33a and at the interface between the connection terminal 34b and the wiring 33b. At the same time, the conductive particles 16 in the fluid 14 gather on the wirings 33a and 33b.

次に、流動体14をさらに加熱すると、図3(f)に示すように流動体14中に含有する導電性粒子16が溶融し、その結果、導電性粒子16の自己集合が完了する。つまり配線33aと配線34bの間に溶融した導電性粒子により接続される。   Next, when the fluid 14 is further heated, the conductive particles 16 contained in the fluid 14 are melted as shown in FIG. 3F, and as a result, self-assembly of the conductive particles 16 is completed. That is, the wiring 33a and the wiring 34b are connected by molten conductive particles.

次に、加熱を停止して冷却することで溶融した導電性粒子は固化する。これにより、接続端子34aと接続端子34bは完全に接続される。最後に、固化した導電性粒子を除く流動体14を残しておいても構わないが、接続後、微小な導電性粒子が流動体14上に残渣として残る場合もあるので、信頼性の面を考慮して、残渣と一緒に流動体14を除去することも好適である。   Next, the molten conductive particles are solidified by stopping the heating and cooling. Thereby, the connection terminal 34a and the connection terminal 34b are completely connected. Finally, the fluid 14 excluding the solidified conductive particles may be left, but after connection, minute conductive particles may remain as a residue on the fluid 14, so that the reliability is improved. In view of this, it is also preferable to remove the fluid 14 together with the residue.

以上の動作においては、配線基板31a及び配線基板31bの接続領域のスペース35a、35b表面上に、それぞれ突起20a、20bを形成することで、気泡30がスペース35a、35b内で長手方向に大きく移動して流動体14及び導電性粒子16を接続領域以外に押し出すことを抑制することができ、対向する接続端子34a及び接続端子34bのそれぞれの配線33a、33bとの隙間wに導電性粒子16を含む流動体14を効率よく自己集合させ、良好な接続を行うことが可能となっている。   In the above operation, the protrusions 20a and 20b are formed on the surfaces of the spaces 35a and 35b in the connection regions of the wiring board 31a and the wiring board 31b, respectively, so that the bubbles 30 move greatly in the longitudinal direction within the spaces 35a and 35b. As a result, the fluid 14 and the conductive particles 16 can be prevented from being pushed out of the connection region, and the conductive particles 16 are placed in the gaps w between the wirings 33a and 33b of the connection terminals 34a and 34b facing each other. The fluid 14 that is contained can be efficiently self-assembled to achieve a good connection.

この原理について本発明者が見いだした、従来の配線基板における導電性粒子としてのはんだ粉の形成異常が形成される理由を説明しつつ、以下に説明する。   This principle will be described below while explaining the reason why the present inventors have found abnormal formation of solder powder as conductive particles in the conventional wiring board.

図14(a)及び図15に示した、移動したはんだ粉が溶融して接続領域外に、はんだ粉が集合する現象には、以下の理由により生ずると考えられる。すなわち、塗布した流動体14としての樹脂を加熱した際に、樹脂中に含有する気泡発生剤から気泡が発生し、これが樹脂を移動させる。樹脂は接続端子34a、接続端子34bのも集合するが、ある程度、集合すると、図14(a)のA−A直線部分断面である図14(b)に示すように、樹脂は対向する端子の間で柱を形成する。この柱は、配線33a及び33bに沿った壁面として形成されることとなり、気泡はこの壁面を超えて成長又は移動し難くなる。   The phenomenon shown in FIGS. 14A and 15 where the moved solder powder melts and the solder powder collects outside the connection region is considered to occur for the following reason. That is, when the applied resin as the fluid 14 is heated, bubbles are generated from the bubble generating agent contained in the resin, and this moves the resin. The resin also collects the connection terminal 34a and the connection terminal 34b, but when gathered to some extent, as shown in FIG. 14B, which is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. Form pillars between them. The pillar is formed as a wall surface along the wirings 33a and 33b, and the bubbles are difficult to grow or move beyond the wall surface.

したがって、配線33a及び33b上樹脂による壁面が形成された以降の気泡の成長の向き、又は、移動の向きは、スペース35a、35bの長手方向のみに限定されることになる。また、気泡が生ずる領域が細い矩形状の空間であるため気泡の圧力も増大する。   Therefore, the direction of bubble growth or the direction of movement after the wall surfaces formed of the resin on the wirings 33a and 33b are limited to the longitudinal direction of the spaces 35a and 35b. Further, since the region where the bubbles are generated is a thin rectangular space, the pressure of the bubbles also increases.

これら原因により本来、対向する接続端子34a、接続端子34b間に集合すべき樹脂も、気泡の成長または移動にともない、接続領域外まで押し出されことにより図14(a)に示すような樹脂流れが発生するものと考えられる。漏れた樹脂に含まれたはんだ粉は、接続領域外にて集合し溶融固化する。   Due to these causes, the resin that should be gathered between the connection terminals 34a and 34b that are opposed to each other is pushed out of the connection area along with the growth or movement of the bubbles, resulting in a resin flow as shown in FIG. It is thought to occur. Solder powder contained in the leaked resin collects and melts and solidifies outside the connection region.

一方、本来、接続端子34a、接続端子34b間で集合すべきはんだ粉が押し出されることにより、接続端子34a、接続端子34b間に形成されるべき、はんだの量に不足が生じることで、接続端子間にはんだが不足した部位や未接続の部位が生じたものと考えられる。これは、樹脂を集合させる気泡と接続端子34a、接続端子34bの界面に当たる配線33a、配線33b上の領域が、長手方向に限定されることも一因と考えられる。   On the other hand, the solder powder to be gathered between the connection terminal 34a and the connection terminal 34b is pushed out, and the amount of solder to be formed between the connection terminal 34a and the connection terminal 34b is insufficient. It is thought that a part where solder was insufficient or an unconnected part was generated between them. This is thought to be due to the fact that the regions on the wiring 33a and the wiring 33b that contact the interface between the bubbles that collect the resin and the connection terminals 34a and 34b are limited in the longitudinal direction.

以上の不具合に対し、本実施の形態においては、上述した構成としたことにより、外部に漏れる流動体14の量は低減されることとなり、流動体14は気泡の成長や移動に伴い、その大部分は配線33a、配線33b間に自己集合されることとなる。したがって接続領域外へのはんだ集合、接合端子のはんだ不足、はんだ未接続などの課題が解決できることになり、均一性に優れ、かつ、生産性の高い配線基板同士の電気接続を行うことができる。   With respect to the above problems, in the present embodiment, the amount of the fluid 14 leaking to the outside is reduced by adopting the above-described configuration. The portion is self-assembled between the wiring 33a and the wiring 33b. Accordingly, problems such as solder gathering outside the connection region, solder shortage of the joining terminals, solder unconnected, etc. can be solved, and electrical connection between wiring boards having excellent uniformity and high productivity can be performed.

ここで、本実施の形態1に使用する、突起20b、流動体14、導電性粒子16、及び気泡発生剤は、本発明の導電性接合体、導電性粒子、気泡発生剤にそれぞれ対応するが、その具体的な組成によって特に限定されない。しかしながら、それぞれ、以下の材料を使用することができる。   Here, the protrusion 20b, the fluid 14, the conductive particles 16, and the bubble generating agent used in the first embodiment correspond to the conductive joined body, the conductive particles, and the bubble generating agent of the present invention, respectively. The specific composition is not particularly limited. However, each of the following materials can be used.

流動体14としては、室温から導電性粒子16の溶融温度の範囲内において、流動可能な程度の粘度を有するものであれば良く、又、加熱することによって流動可能な粘度に低下するものも含む。代表的な例としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フラン樹脂、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂、ポリエステルエストラマ、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、アラミド樹脂等の熱可塑樹脂、又は光(紫外線)硬化樹脂等、あるいはそれらを組み合わせた材料を使用することができる。樹脂以外にも、高沸点溶剤、オイル等も使用することができる。   The fluid 14 may be any fluid that has a viscosity that can flow within the range of room temperature to the melting temperature of the conductive particles 16, and also includes a fluid that decreases to a fluid viscosity by heating. . Typical examples include thermosetting resins such as epoxy resins, phenol resins, silicone resins, diallyl phthalate resins, furan resins, and melamine resins, polyester elastomers, fluororesins, polyimide resins, polyamide resins, and aramid resins. A plastic resin, a light (ultraviolet ray) curable resin, or the like, or a combination thereof can be used. In addition to the resin, high boiling point solvents, oils, and the like can also be used.

又、導電性粒子16及び気泡発生剤としては、図4及び図5に示すような材料から適宜組み合わせて使用することができる。なお、導電性粒子16の融点を、気泡発生剤の沸点よりも高い材料を用いれば、流動体14を加熱して気泡発生剤から気泡を発生させて、流動体14を自己集合させた後、さらに、流動体14を加熱して、自己集合した流動体中の導電性粒子を溶融させ、導電性粒子同士を金属結合させることができる。   In addition, the conductive particles 16 and the bubble generating agent can be used in appropriate combinations from the materials shown in FIGS. If a material having a melting point of the conductive particles 16 higher than the boiling point of the bubble generating agent is used, the fluid 14 is heated to generate bubbles from the bubble generating agent, and the fluid 14 is self-assembled. Furthermore, the fluid 14 can be heated to melt the conductive particles in the self-assembled fluid, and the conductive particles can be metal-bonded.

又、気泡発生剤は、沸点の異なる2種類以上の材料からなるものであっても良い。沸点が異なれば、気泡発生及び成長するタイミングに差が生じ、その結果、気泡の成長による流動体14の移動が段階的に行われるので、流動体14の自己集合過程が均一化さてこれにより、安定して配線基板接続を行うことができる。   The bubble generating agent may be made of two or more materials having different boiling points. If the boiling points are different, there is a difference in the timing of bubble generation and growth. As a result, the movement of the fluid 14 due to the growth of the bubbles is performed in stages, so that the self-assembly process of the fluid 14 is made uniform. Wiring board connection can be performed stably.

なお、気泡発生剤としては、図5に挙げた材料以外に、流動体14が加熱されたときに、気泡発生剤が熱分解することにより気泡を発生する材料も使用することができる。そのような気泡発生剤としては、図6に挙げた材料を使用することができる。例えば、結晶水を含む化合物(水酸化アルミニウム)を使用した場合、流動体14が加熱されたときに熱分解し、水蒸気が気泡となって発生する。   As the bubble generating agent, in addition to the materials shown in FIG. 5, a material that generates bubbles by thermally decomposing the bubble generating agent when the fluid 14 is heated can be used. As such a bubble generating agent, the materials shown in FIG. 6 can be used. For example, when a compound containing crystallization water (aluminum hydroxide) is used, the fluid 14 is thermally decomposed when heated, and water vapor is generated as bubbles.

又、以上の工程を示す各図においては、供給する流動体14の量は誇張して示したものであり、実際には、接続端子34a、接続端子34bの間に自己集合するのに好適な量、及び誤差を考慮した量が供給される。   In each of the drawings showing the above steps, the amount of fluid 14 to be supplied is exaggerated, and is actually suitable for self-assembly between the connection terminals 34a and 34b. Quantity and quantity taking into account errors are supplied.

又、接続端子34a上に供給される流動体14(例えば、樹脂)の体積(VB)中に含有される導電性粒子16の全てが、配線33aと配線33bの接続に寄与したとすると、
接続部の総体積(VA)と、流動体14の体積(VB)とは以下のような関係式(1)が成り立つと考えられる。
Also, if all of the conductive particles 16 contained in the volume (VB) of the fluid 14 (for example, resin) supplied onto the connection terminal 34a contribute to the connection between the wiring 33a and the wiring 33b,
It is considered that the following relational expression (1) holds between the total volume (VA) of the connecting portion and the volume (VB) of the fluid 14.

VA:VB≒SA:SB・・・(1)
式(1)中、SAは配線33aの総面積、SBは接続端子34aの面積をそれぞれ表す。
VA: VB≈SA: SB (1)
In Formula (1), SA represents the total area of the wiring 33a, and SB represents the area of the connection terminal 34a.

これにより、流動体14中に含まれる導電性粒子16の含有量は、以下のような式(2)で表される。   Thereby, content of the electroconductive particle 16 contained in the fluid 14 is represented by the following formula | equation (2).

(導電性粒子の含有量、体積%)=VA/VB=SA/SB×100・・・(2)
よって、流動体14中に含まれる導電性粒子16の最適な含有量は、概ね、以下のような式(3)に基づいて設定することができる。
(Content of conductive particles, volume%) = VA / VB = SA / SB × 100 (2)
Therefore, the optimal content of the conductive particles 16 contained in the fluid 14 can be set generally based on the following formula (3).

(導電性粒子16の含有量、体積%)=(SA/SB×100)±α・・・(3)
なお、上記のパラメータ(±α)は、導電性粒子16が配線33aと配線33bの間に自己集合する際の過不足分を調整するためのもので、種々の条件により決めることができる。式(3)により、流動体14中に分散する導電性粒子16は、0.5〜30体積%の割合で流動体14中に含有していれば足りることになる。なお、一般に、導電性粒子16流動体14との重量比は、約7程度なので、上記0.5〜30体積%の割合は、概ね4〜75重量%の割合に相当する。
(Content of conductive particles 16, volume%) = (SA / SB × 100) ± α (3)
The parameter (± α) is for adjusting the excess and deficiency when the conductive particles 16 self-assemble between the wiring 33a and the wiring 33b, and can be determined according to various conditions. According to formula (3), it is sufficient that the conductive particles 16 dispersed in the fluid 14 are contained in the fluid 14 at a ratio of 0.5 to 30% by volume. In general, the weight ratio of the conductive particles 16 to the fluid 14 is about 7, so that the ratio of 0.5 to 30% by volume generally corresponds to the ratio of 4 to 75% by weight.

なお、上述した実施の形態1では、接続端子34a上に流動体14を供給した後、接続端子34bを配置したが、それに限らず、先に、接続端子34aと接続端子34bとの位置を合わせと、隙間wを生ずるようにあらかじめ対向配置しておき、その後に導電性粒子16と気泡発生剤を含有した流動体14をこの隙間wに供給するようにしても良い。要するに、接続基板同士の位置合わせを行う工程の順序によって本発明は限定されるものではない。   In the first embodiment described above, the connection terminal 34b is disposed after the fluid 14 is supplied onto the connection terminal 34a. However, the present invention is not limited to this, and the positions of the connection terminal 34a and the connection terminal 34b are first aligned. The fluid 14 containing the conductive particles 16 and the bubble generating agent may be supplied to the gap w in advance so as to face the gap w. In short, the present invention is not limited by the order of the steps for aligning the connection substrates.

なお、この実施形態1では、突起20aが1つのスペース35aと35bあたり4個の場合をしめしたが、両端2個あれば、効果がある。   In the first embodiment, the number of the protrusions 20a is four per one space 35a and 35b. However, if there are two ends, there is an effect.

(実施の形態2)
次に、実施の形態2における配線基板を説明する。本実施の形態2を図7に示す。配線基板31aは、図1(a)、図1(b)に示す実施の形態1と同様に、接続端子34aの領域に突起20aが形成された構成であり、詳細な説明は省略する。他方の配線基板31bは、図1(a)、図1(b)に示す構成例と違い、接続端子34bの領域に突起を設けていない。
(Embodiment 2)
Next, the wiring board in the second embodiment will be described. The second embodiment is shown in FIG. The wiring board 31a has a configuration in which a protrusion 20a is formed in the region of the connection terminal 34a, as in the first embodiment shown in FIGS. 1A and 1B, and detailed description thereof is omitted. Unlike the configuration example shown in FIGS. 1A and 1B, the other wiring board 31b has no projection in the region of the connection terminal 34b.

これらの配線基板31aおよび配線基板31bを対向させ、位置合わせした場合でも、配線基板31aの接続端子34aの領域の突起20aが形成されていることから気泡の移動による接続領域外への樹脂流れを抑制することが可能となり、接続端子34a及び接続端子34b間の領域に導電性粒子16を含む樹脂を効率よく集合させ、良好な接続が得られる効果がある。   Even when the wiring board 31a and the wiring board 31b are opposed to each other and aligned, the protrusion 20a in the area of the connection terminal 34a of the wiring board 31a is formed, so that the resin flow to the outside of the connection area due to the movement of the bubbles can be prevented. Accordingly, it is possible to efficiently suppress the resin including the conductive particles 16 in the region between the connection terminal 34a and the connection terminal 34b and to obtain a good connection.

さらに、突起20aの高さを、配線33aより高くすると、より効果がでる。   Further, when the height of the protrusion 20a is made higher than that of the wiring 33a, the effect is further improved.

(実施の形態3)
次に、本発明の実施の形態3における配線基板を説明する。
(Embodiment 3)
Next, the wiring board in Embodiment 3 of this invention is demonstrated.

本実施の形態3を図8(a)〜図8(c)に示す。図8(a)は配線基板の平面図、図8(b)は、そのA−A直線断面図、図8(c)は配線基板の接続方法を説明するための断面図である。   The third embodiment is shown in FIGS. 8A to 8C. FIG. 8A is a plan view of the wiring board, FIG. 8B is a cross-sectional view taken along line AA, and FIG. 8C is a cross-sectional view for explaining a method of connecting the wiring boards.

図8(a)において配線基板31aは、図1(a)、図1(b)に示す実施の形態1と同様に、接続端子34aの領域に突起20aが形成された構成であり、突起の配置と高さ以外は同様であり、詳細な説明は省略する。矢印で示す領域は、配線33a端部より形成される接続端子34aであり、接続端子34aの線路長は1.0mmである。配線の幅は0.05mmであり、隣り合う配線33aとのスペース35aの幅は0.05mmである。したがって配線33aはピッチ0.1mmの配線ルールで形成される。それぞれのスペース35aは、長手方向に断続的に複数の突起20aが選択的に形成されている。   In FIG. 8A, the wiring board 31a has a structure in which a protrusion 20a is formed in the region of the connection terminal 34a, as in the first embodiment shown in FIGS. 1A and 1B. The arrangement and height are the same except for the detailed description. A region indicated by an arrow is a connection terminal 34a formed from the end of the wiring 33a, and the line length of the connection terminal 34a is 1.0 mm. The width of the wiring is 0.05 mm, and the width of the space 35a with the adjacent wiring 33a is 0.05 mm. Accordingly, the wiring 33a is formed with a wiring rule having a pitch of 0.1 mm. In each space 35a, a plurality of protrusions 20a are selectively formed intermittently in the longitudinal direction.

突起20aの形状は、約外径40μmの円形の柱状体を形成した。接続端子34aの領域内でのスペース35aに形成した突起20aの配置は、端部から0.2mmと0.4mmと0.6mmと0.8mmの位置に間隔0.2mmで4つ形成した。   As the shape of the protrusion 20a, a circular columnar body having an outer diameter of about 40 μm was formed. Four protrusions 20a formed in the space 35a in the region of the connection terminal 34a were formed at intervals of 0.2 mm, 0.2 mm, 0.4 mm, 0.6 mm, and 0.8 mm from the end portion.

図8(b)において、突起20aの高さT1は、配線33aの厚みT2が約15μm(銅箔厚12μm上にNi/Auメッキ厚3μmを形成)に対して約25μmで形成するようにした。突起20aの高さは接合部の高さを約20μmとした場合、接合部高さの1/2(半分)の10μmを配線33aの厚みT2より突出するような構成にした。この例は、あくまで一例であり、突起20aの形状、配置、数量、高さは接続基板の配線ルールや接続条件に合わせてその都度、具体的に決定することができる。   In FIG. 8B, the height T1 of the protrusion 20a is formed to be about 25 μm with respect to the thickness T2 of the wiring 33a being about 15 μm (Ni / Au plating thickness 3 μm is formed on the copper foil thickness 12 μm). . The height of the protrusion 20a is set so that 10 μm, which is ½ (half) of the height of the joint, protrudes from the thickness T2 of the wiring 33a when the height of the joint is about 20 μm. This example is merely an example, and the shape, arrangement, quantity, and height of the protrusion 20a can be specifically determined each time according to the wiring rules and connection conditions of the connection board.

なお、上記構成において、配線基板31a又配線基板31bは、本発明の配線基板に相当し、接続端子34a又は接続端子34bは、本発明の接続端子に相当し、突起20a又は20bに相当し、スペース35aまたは35bは本発明のスペースに相当する。   In the above configuration, the wiring board 31a or the wiring board 31b corresponds to the wiring board of the present invention, the connection terminal 34a or the connection terminal 34b corresponds to the connection terminal of the present invention, and corresponds to the protrusion 20a or 20b. The space 35a or 35b corresponds to the space of the present invention.

図8(c)に示すように、配線基板31aの上に、接続対象である第2の配線基板31bを配置して、配線基板31aの突起20aと配線基板31bの突起20bが当接するような構成とした。このような構成にすると、必要な接合部の厚みT3の確保が容易となり、配線基板31aと配線基板31bの接合において接合部の隙間の調整が不要となる。   As shown in FIG. 8C, the second wiring board 31b to be connected is arranged on the wiring board 31a so that the protrusion 20a of the wiring board 31a and the protrusion 20b of the wiring board 31b come into contact with each other. The configuration. With such a configuration, it becomes easy to secure the necessary thickness T3 of the joint portion, and it is not necessary to adjust the gap between the joint portions in joining the wiring substrate 31a and the wiring substrate 31b.

これらの配線基板31aおよび配線基板31bを対向させ、位置合わせした場合でも、接続端子34a、接続端子34bの接合領域の突起20aが形成されていることから気泡の移動による接続領域外への樹脂流れを抑制することが可能となり、接続端子34a及び34b間の領域に導電性粒子16を含む樹脂を効率よく集合させ、良好な接続が得られる効果がある。   Even when the wiring board 31a and the wiring board 31b are opposed to each other and aligned, the protrusion 20a in the joining region of the connection terminal 34a and the connection terminal 34b is formed, so that the resin flow to the outside of the connection region due to the movement of bubbles. This makes it possible to efficiently suppress the resin containing the conductive particles 16 in the region between the connection terminals 34a and 34b, and to obtain a good connection.

本発明にかかる配線基板の接続方法等は、接続配線端子を良好に接続することができる効果を有し、配線基板と配線基板を電気的に接続する配線基板の接続方法及びそれに用いる配線基板等として有用である。   The wiring board connection method according to the present invention has an effect that the connection wiring terminals can be satisfactorily connected, and the wiring board connection method for electrically connecting the wiring board and the wiring board and the wiring board used therefor Useful as.

(a)本発明の実施の形態1の配線基板の接続方法に用いる配線基板の構成図 、(b)図1(a)のA−A直線断面図(A) The block diagram of the wiring board used for the connection method of the wiring board of Embodiment 1 of this invention, (b) AA linear sectional drawing of Fig.1 (a) (a)本発明の実施の形態1の配線基板の接続方法を説明するための平面図、(b)図2(a)のA−A断面図(A) Top view for demonstrating the connection method of the wiring board of Embodiment 1 of this invention, (b) AA sectional drawing of Fig.2 (a). (a)本発明の実施の形態1の配線基板の接続方法を説明するための平面図、(b)図3(a)のA−A直線断面図、(c)図3(a)のA−A直線断面図により本発明の実施に形態1の配線基板の接続方法の工程を説明するための図、(d)図3(a)のA−A直線断面図により本発明の実施に形態1の配線基板の接続方法の工程を説明するための図、(e)図3(a)のA−A直線断面図により本発明の実施に形態1の配線基板の接続方法の工程を説明するための図、(f)図3(a)のA−A直線断面図により本発明の実施に形態1の配線基板の接続方法の工程を説明するための図(A) Top view for demonstrating the connection method of the wiring board of Embodiment 1 of this invention, (b) AA linear sectional drawing of Fig.3 (a), (c) A of FIG.3 (a). The figure for demonstrating the process of the connection method of the wiring board of Embodiment 1 to Embodiment 1 of this invention by -A linear sectional drawing, (d) Embodiment of this invention by AA linear sectional drawing of Fig.3 (a) FIG. 3 is a diagram for explaining the steps of the wiring board connecting method of FIG. 1, and (e) the steps of the wiring board connecting method of the first embodiment of the present invention will be described with reference to the AA linear sectional view of FIG. FIG. 3F is a diagram for explaining the steps of the wiring board connecting method according to the first embodiment of the present invention, based on the AA linear sectional view of FIG. 本発明の各実施の形態に係わる導電性粒子の材料の一例を示す図The figure which shows an example of the material of the electroconductive particle concerning each embodiment of this invention 本発明の各実施の形態に係わる気泡発生剤の材料の一例を示す図The figure which shows an example of the material of the bubble generating agent concerning each embodiment of this invention 本発明の各実施の形態に係わる気泡発生剤粉の材料の一例を示す図The figure which shows an example of the material of the bubble generating agent powder concerning each embodiment of this invention 本発明の実施の形態2の配線基板の接続方法を説明するための断面図Sectional drawing for demonstrating the connection method of the wiring board of Embodiment 2 of this invention. (a)本発明の実施の形態3の配線基板の接続方法を説明するための平面図、(b)図8(a)のA−A直線断面図、(c)本発明の実施の形態3の配線基板の接続方法を説明するための断面図(A) Top view for demonstrating the connection method of the wiring board of Embodiment 3 of this invention, (b) AA linear sectional drawing of Fig.8 (a), (c) Embodiment 3 of this invention. Sectional drawing for demonstrating the connection method of the wiring board of (a)従来の方法である樹脂の自己集合を利用したバンプ形成方法の基本工程を示した工程断面図、(b)従来の方法である樹脂の自己集合を利用したバンプ形成方法の基本工程を示した工程断面図、(c)従来の方法である樹脂の自己集合を利用したバンプ形成方法の基本工程を示した工程断面図、(d)従来の方法である樹脂の自己集合を利用したバンプ形成方法の基本工程を示した工程断面図(A) Process sectional view showing basic steps of bump forming method using resin self-assembly, which is a conventional method, (b) Basic steps of bump forming method using resin self-assembly, which is a conventional method Process sectional view shown, (c) Process sectional view showing basic process of bump forming method using resin self-assembly which is a conventional method, (d) Bump using resin self-assembly which is a conventional method Process cross section showing basic process of forming method (a)従来の方法である樹脂の自己集合を利用したバンプ形成方法の基本工程を示した工程断面図、(b)従来の方法である樹脂の自己集合を利用したバンプ形成方法の基本工程を示した工程断面図、(c)従来の方法である樹脂の自己集合を利用したバンプ形成方法の基本工程を示した工程断面図、(d)従来の方法である樹脂の自己集合を利用したバンプ形成方法の基本工程を示した工程断面図(A) Process sectional view showing basic steps of bump forming method using resin self-assembly, which is a conventional method, (b) Basic steps of bump forming method using resin self-assembly, which is a conventional method Process sectional view shown, (c) Process sectional view showing basic process of bump forming method using resin self-assembly which is a conventional method, (d) Bump using resin self-assembly which is a conventional method Process cross section showing basic process of forming method (a)従来の方法である樹脂の自己集合のメカニズムを説明するための図、(b)従来の方法である樹脂の自己集合のメカニズムを説明するための図(A) The figure for demonstrating the mechanism of the self-assembly of the resin which is the conventional method, (b) The figure for demonstrating the mechanism of the self-assembly of the resin which is the conventional method 従来の方法である樹脂の自己集合を利用して配線基板同士を接続する方法を説明するための図A diagram for explaining a conventional method of connecting wiring boards using resin self-assembly. (a)従来の方法である樹脂の自己集合を利用して配線基板同士を接続する方法を説明するための平面図、(b)図13(a)のA−A断面図(A) A plan view for explaining a conventional method for connecting wiring boards using resin self-assembly, (b) AA cross-sectional view of FIG. 13 (a) (a)従来の方法の場合の樹脂とはんだ粉が接続領域から押し出された状態を示す図、(b)従来の方法の場合の樹脂とはんだ粉が接続領域から押し出される原理を説明するための図(A) The figure which shows the state by which resin and solder powder in the case of the conventional method were extruded from the connection area | region, (b) For demonstrating the principle by which resin and solder powder in the case of the conventional method are extruded from a connection area | region Figure 従来の方法において、はんだ粉が集合した後に、溶融固化した状態を説明するための図The figure for demonstrating the state which melted and solidified after solder powder gathered in the conventional method.

符号の説明Explanation of symbols

14 流動体
16 導電性粒子
20a、20b 突起
30 気泡
31a、31b 配線基板
33a、33b 配線
34a 、34b 接続端子
35a、35b スペース
14 Fluid 16 Conductive particle 20a, 20b Protrusion 30 Bubble 31a, 31b Wiring board 33a, 33b Wiring 34a, 34b Connection terminal 35a, 35b Space

Claims (13)

複数の配線と前記複数の配線間に位置する突起とを有する第1の基板と、
複数の配線を有する第2の基板と、
前記第1の基板の前記配線と前記第2の基板の前記配線とを樹脂を介して接合した接続構造体。
A first substrate having a plurality of wirings and a protrusion positioned between the plurality of wirings;
A second substrate having a plurality of wirings;
A connection structure in which the wiring of the first substrate and the wiring of the second substrate are joined via a resin.
前記突起が、第1基板と第2基板の接合領域に、複数位置する請求項1記載の接続構造体。 The connection structure according to claim 1, wherein a plurality of the protrusions are located in a bonding region between the first substrate and the second substrate. 突起が、柱状突起であり、配線が帯状である請求項1または2記載の接続構造体。 The connection structure according to claim 1, wherein the protrusions are columnar protrusions and the wiring is strip-shaped. 第2の基板の配線間に突起がある請求項1ないし3記載の接続構造体。 4. The connection structure according to claim 1, wherein there is a protrusion between the wirings of the second substrate. 第1の基板の突起の位置と、第2の基板の突起の位置が、帯状の配線の方向に対してずらして設けられている請求項3または4記載の接続構造体。 The connection structure according to claim 3 or 4, wherein the position of the protrusion on the first substrate and the position of the protrusion on the second substrate are provided so as to be shifted with respect to the direction of the strip-shaped wiring. 他の基板との接続用の帯状の接続端子を有する配線基板同士を接続する配線基板の接続方法であって、
前記接続端子同士が、導電性接合体を間に挟んだ状態で対向するように、前記配線基板同士を位置合わせする工程と、前記導電性接合体を加熱し、その後冷却して、前記接続端子同士を固着する工程とを備え、
前記導電性接合体は、加熱により気泡を生ずる材料であり、前記接続端子は、それぞれの前記配線基板に複数併設されており、
少なくとも一方の配線基板の、少なくとも1つの隣接する接続端子のスペース表面上には、突起が形成されている、配線基板の接続方法。
A wiring board connecting method for connecting wiring boards having strip-shaped connection terminals for connection to other boards,
The step of aligning the wiring boards so that the connection terminals face each other with the conductive bonded body sandwiched therebetween, the conductive bonded body is heated, and then cooled, and the connection terminal And a step of fixing each other,
The conductive joint is a material that generates bubbles by heating, and a plurality of the connection terminals are provided on each of the wiring boards,
A method for connecting a wiring board, wherein a protrusion is formed on a space surface of at least one adjacent connection terminal of at least one wiring board.
前記突起は、断続的に前記接続端子のスペース表面上に形成されている、請求項6に記載の配線基板の接続方法。 The wiring board connection method according to claim 6, wherein the protrusions are intermittently formed on a space surface of the connection terminal. 前記突起は、前記接続端子のスペース表面上の長手方向に設けてあり、
位置合わせの状態において、対向する一方の前記接続端子のスペース表面上の前記突起と、他方の前記接続端子のスペース表面上に突起が形成されていない部分とが対向している、請求項6または7に記載の配線基板の接合方法。
The protrusion is provided in the longitudinal direction on the space surface of the connection terminal,
In the alignment state, the protrusion on the space surface of one of the connection terminals facing each other faces a portion where the protrusion is not formed on the space surface of the other connection terminal. 8. A method of bonding wiring boards according to 7.
前記突起は、対向する双方の前記接続端子のスペース表面上のそれぞれに形成されており、前記突起は前記配線端子のスペース表面上にて等間隔に設けられており、前記位置合わせの状態において、対向する一方の前記接続端子のスペース表面上の突起の中心線と、対向する他方の前記接続端子のスペース表面上の少なくとも2つの前記突起で挟まれる前記部分の中心線が一致している、請求項8記載の配線基板の接続方法。 The protrusions are formed on the space surfaces of both the connection terminals facing each other, and the protrusions are provided at equal intervals on the space surface of the wiring terminals, and in the alignment state, The center line of the protrusion on the space surface of one of the connection terminals facing each other coincides with the center line of the portion sandwiched between at least two of the protrusions on the space surface of the other connection terminal facing each other. Item 9. A wiring board connection method according to Item 8. 前記突起は、前記接続端子のスペース表面上の長手方向に設けてあり、
位置合わせの状態において、対向する一方の前記接続端子のスペース表面上の前記突起と、他方の前記接続端子のスペース表面上に突起が形成されている部分とが対向している、請求項6から9のいずれかに記載の配線基板の接合方法。
The protrusion is provided in the longitudinal direction on the space surface of the connection terminal,
From the alignment state, the projection on the space surface of one of the connection terminals facing each other and the portion where the projection is formed on the space surface of the other connection terminal are opposed to each other. 10. A method for bonding wiring boards according to any one of 9 above.
前記突起は、絶縁性樹脂で形成される請求項6から10のいずれかに記載の配線基板の接続方法。 The wiring board connecting method according to claim 6, wherein the protrusion is formed of an insulating resin. 前記導電性接合体は、導電性粒子と気泡発生剤を含有した流動体であり、
前記流動体は、加熱により沸騰又は熱分解することにより気体を発生させる材料を含む、請求項6から11のいずれかに記載の配線基板の接続方法。
The conductive joined body is a fluid containing conductive particles and a bubble generating agent,
The wiring substrate connection method according to claim 6, wherein the fluid includes a material that generates a gas by boiling or thermal decomposition by heating.
前記導電性接合体は、異方性導電材料である、請求項6から12のいずれかに記載の配線基板の接続方法。 The wiring board connection method according to claim 6, wherein the conductive joint is an anisotropic conductive material.
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