JP2009157114A - Waveguide type optical interferometer circuit - Google Patents

Waveguide type optical interferometer circuit Download PDF

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Takashi Go
隆司 郷
Takayuki Mizuno
隆之 水野
Shunichi Soma
俊一 相馬
Toshio Watanabe
俊夫 渡辺
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a waveguide type optical interferometer circuit which is strong against manufacture errors. <P>SOLUTION: In the waveguide type optical interferometer circuit wherein respectively independent waveguide type optical interferometers are cascade connected in at least two stages, the waveguide type optical interferometers have waveguides provided with a desired optical path length difference, the waveguide of the longer optical path of one of the waveguide type optical interferometers in at least two stages and the waveguide of the longer optical path of the other one of the waveguide type optical interferometers in at least two stages relative to a center line drawn from the input side to the output side of the respective waveguide type optical interferometers are disposed in opposite directions. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、導波路型光干渉計回路に係り、より詳細には導波路を使用する光干渉計を接続し光スイッチ、合分波器等を実現する導波路型光干渉計回路に関する。   The present invention relates to a waveguide type optical interferometer circuit, and more particularly to a waveguide type optical interferometer circuit that connects an optical interferometer using a waveguide to realize an optical switch, a multiplexer / demultiplexer, and the like.

現在の通信網では、光スイッチ/合分波器などの各種光部品が使用されている。光スイッチは、通信障害時や需要に応じて柔軟に経路を切り替えるために使用される。合分波器は、一本の光ファイバーに多数のチャンネルを波長多重/分離するために使用され、現在の大容量光通信を支えている。これら光部品を実現する手段には各種の方法があるが、導波路を使用した方法は、小型集積が可能であり、可動部分を持たずに構造的に安定なため信頼性に優れ、またリソグラフィー技術により量産性に優れる、という多くの特徴を有している。   In the current communication network, various optical components such as an optical switch / multiplexer / demultiplexer are used. The optical switch is used to flexibly switch the route according to a communication failure or according to demand. The multiplexer / demultiplexer is used for wavelength multiplexing / demultiplexing a number of channels in a single optical fiber, and supports the current large-capacity optical communication. There are various methods for realizing these optical components. However, the method using a waveguide can be integrated in a small size, has no moving parts, is structurally stable, and has excellent reliability, and lithography. It has many features that it is excellent in mass productivity by technology.

図1に、導波路を使用した光スイッチ100の構成例を示す。光スイッチ100は、2個の50%方向性結合器101,102とこれを連結する短アーム側導波路103と、長アーム側導波路104の2本のアーム導波路からなるマッハツェンダー干渉計(MZI)を基本構成とし、少なくとも一方(図では短アーム側導波路103側)の連結導波路には導波路の屈折率を変化させることで導波光の位相を変化させる移相器105が装備されている。この場合、長アーム側導波路104側に移相器106を装備してもよく、2本の連結導波路103,104の長さは、通常、等長若しくは動作波長λ0の半波長分の光路長差のいずれかで設計される。図1では、後述の実施例との整合性を考えて、半波長分の導波路長差ΔL(=λ0/2neff; neff:導波路の実効屈折率)としている(図では、上側が短アーム側導波路103、下側が長アーム側導波路104として半波長の光路長差を設けている)。入力1からの信号光は、公知の干渉原理により、移相器が未動作時(Off時)に出力1(バー経路)へ導かれ、移相器において半波長分の移相量πを発生させて上記のΔLを打ち消したとき(On時)に出力2(クロス経路)へ導かれる。移相器で発生させる移相量がOn/Offの中間値を取る場合には、各経路の出力(すなわち透過率)は、移相量に応じてアナログ的に変化する。   FIG. 1 shows a configuration example of an optical switch 100 using a waveguide. The optical switch 100 includes a Mach-Zehnder interferometer comprising two 50% directional couplers 101, 102, a short arm side waveguide 103 connecting the two 50% directional couplers 101, and a long arm side waveguide 104. MZI) is a basic configuration, and at least one of the connecting waveguides (the short arm side waveguide 103 side in the figure) is equipped with a phase shifter 105 that changes the phase of the guided light by changing the refractive index of the waveguide. ing. In this case, the phase shifter 106 may be provided on the long arm side waveguide 104 side, and the length of the two coupling waveguides 103 and 104 is usually equal or the optical path for a half wavelength of the operating wavelength λ0. Designed with one of the long differences. In FIG. 1, the waveguide length difference ΔL (= λ0 / 2neff; neff: effective refractive index of the waveguide) for half wavelength is taken into consideration for consistency with the embodiments described later (in the figure, the upper side is the short arm). The side waveguide 103 and the lower side as the long arm side waveguide 104 provide a half-wavelength optical path length difference). The signal light from the input 1 is guided to the output 1 (bar path) when the phase shifter is not operating (when OFF) according to a known interference principle, and generates a phase shift amount π corresponding to a half wavelength in the phase shifter. Thus, when the above ΔL is canceled (when On), it is led to the output 2 (cross path). When the phase shift amount generated by the phase shifter takes an intermediate value of On / Off, the output (that is, the transmittance) of each path changes in an analog manner according to the phase shift amount.

理論上、スイッチOnOff比(Off時とOn時の透過率比)は無限大となるが、実際に、作製される光スイッチでは製造上の不完全性(位相誤差、偏光変換、散乱光など)に起因して、無限大にはならない。従って、実用に供される導波路型光スイッチでは、高いOnOff比を得るために、多くの場合、スイッチ素子を2個従属接続した2重MZI構成を使用している。   Theoretically, the switch OnOff ratio (transmittance ratio between Off and On) is infinite, but in reality, the manufactured optical switch has imperfections (phase error, polarization conversion, scattered light, etc.) Due to, it will not be infinite. Therefore, in order to obtain a high OnOff ratio, a waveguide type optical switch for practical use often uses a double MZI configuration in which two switch elements are connected in cascade.

図2に、2重MZI光スイッチの構成を示す(例えば、特許文献1/非特許文献1を参照する)。図2(a)は、主に1×N用またはN×1用の光スイッチ200の構成を示し、図2(b)は、主にN×M用の光スイッチ210の構成を示す。図2(a)および図2(b)は、入出力のポートの位置関係が異なるだけで、入力ポートから出力ポートへの経路(On経路)で、短側導波路203,213と長側導波路204,214とをそれぞれ備える前段MZIスイッチ素子201,211と、短側導波路205,215と長側導波路206,216とをそれぞれ備える後段MZIスイッチ素子202,212との2段のMZIスイッチ素子を通るという接続構成は同じである。本スイッチは、On経路においては、1段目素子からの漏れ光が2段目素子でも遮断されるため、単素子のスイッチと比較すると、デシベル表記で概ね2倍のOnOff比が得られる。一方、Off経路(入力からThr出力への経路やThr入力から出力への経路)では、MZIスイッチ素子は一段分しか通らないので、単素子のスイッチと同じOnOff比となる。   FIG. 2 shows a configuration of a double MZI optical switch (for example, refer to Patent Document 1 / Non-Patent Document 1). 2A mainly shows the configuration of the optical switch 200 for 1 × N or N × 1, and FIG. 2B shows the configuration of the optical switch 210 mainly for N × M. 2 (a) and 2 (b) differ only in the positional relationship between the input and output ports, and in the path from the input port to the output port (On path), the short-side waveguides 203 and 213 and the long-side waveguide are different. Two-stage MZI switch elements including first-stage MZI switch elements 201 and 211 having waveguides 204 and 214, and rear-stage MZI switch elements 202 and 212 respectively having short-side waveguides 205 and 215 and long-side waveguides 206 and 216. The connection configuration through the elements is the same. In this switch, since the leakage light from the first-stage element is blocked by the second-stage element in the On path, the OnOff ratio is approximately double in decibel notation as compared with the single-element switch. On the other hand, in the Off path (the path from the input to the Thr output and the path from the Thr input to the output), the MZI switch element passes through only one stage, so the same OnOff ratio as that of the single element switch is obtained.

これらの2重MZI光スイッチは、図3に示すような大規模の光スイッチを構成するために、しばしば、基本素子として使用される。図3(a)に示すタップ型の1×Nスイッチ300では、図2(a)に示す光スイッチ200を1入力2出力スイッチ301として使用している。N×1スイッチも入出力を入れ替えた構成で同様に構成され、図2(a)に示すスイッチ素子を2入力1出力スイッチとして使用する。また、図3(b)に示すN×Nスイッチ310では、図2(b)に示す光スイッチ210を2入力2出力スイッチ311,312として使用している。2入力2出力スイッチ311,312は、図3(b)に示すように、互いに上下に反転して配置したものである。これらの大規模スイッチのクロストーク特性は、そこで使用される各スイッチ素子のOn経路でのOnOff比でほぼ決定される。2重MZI光スイッチ素子は、前述のように特にOn経路でのOnOff比が優れるので、これらの大規模スイッチへの適用に非常に合致した構成の1つである。   These double MZI optical switches are often used as basic elements to construct large-scale optical switches as shown in FIG. In the tap type 1 × N switch 300 shown in FIG. 3A, the optical switch 200 shown in FIG. 2A is used as the 1-input 2-output switch 301. The N × 1 switch is similarly configured by changing the input and output, and the switch element shown in FIG. 2A is used as a two-input one-output switch. Further, in the N × N switch 310 shown in FIG. 3B, the optical switch 210 shown in FIG. 2B is used as the 2-input 2-output switches 311 and 312. As shown in FIG. 3B, the 2-input 2-output switches 311 and 312 are arranged upside down. The crosstalk characteristics of these large-scale switches are almost determined by the OnOff ratio in the On path of each switch element used therein. Since the double MZI optical switch element has an excellent OnOff ratio especially in the On path as described above, it is one of the configurations that are very suitable for application to these large-scale switches.

次に、図4に導波路を使用した合分波器の構成例を示す。図4(a)は、単一の合分波器400の構成を示し、図4(b)は、2段接続した合分波器410の構成を示す。合分波器400は、図1に示す光スイッチとほぼ同じMZI構成であるが、長側導波路401と短側導波路402の差である導波路長差ΔLがスイッチと比べると大きい値が設定される。また、通常、スイッチのような動的な動作は無いので、移相器は省略されることが多い。入力1からの信号光は、公知の干渉原理により、周波数fe(=m・c/(neff・ΔL); c:光速、m:正の整数)の信号光は出力2へ、周波数fo(=(m−0.5)・c/(neff・ΔL))の信号光は出力1へ、分波される。また、入出力を逆にすれば、周波数feの信号光と周波数foの信号光を合波することができる。このように、図4(a)に示す合分波器410は、偶数チャンネルの光feと奇数チャンネルの光foを合分波できるのでインターリーブフィルタとも呼ばれる。   Next, FIG. 4 shows a configuration example of a multiplexer / demultiplexer using a waveguide. 4A shows the configuration of a single multiplexer / demultiplexer 400, and FIG. 4B shows the configuration of the multiplexer / demultiplexer 410 connected in two stages. The multiplexer / demultiplexer 400 has substantially the same MZI configuration as the optical switch shown in FIG. 1, but the waveguide length difference ΔL, which is the difference between the long-side waveguide 401 and the short-side waveguide 402, is larger than that of the switch. Is set. Further, since there is usually no dynamic operation like a switch, the phase shifter is often omitted. The signal light from the input 1 has a frequency fe (= m · c / (neff · ΔL); c: speed of light, m: a positive integer) to the output 2 and the frequency fo (= The signal light of (m−0.5) · c / (neff · ΔL)) is demultiplexed to output 1. If the input and output are reversed, the signal light with the frequency fe and the signal light with the frequency fo can be multiplexed. As described above, the multiplexer / demultiplexer 410 shown in FIG. 4A is also called an interleave filter because it can multiplex / demultiplex even-channel light fe and odd-channel light fo.

尚、物質の屈折率は、多くの場合、温度依存性すなわち熱光学効果を有する。前述の光スイッチの場合は、この効果を積極的に使用して移相器を実現したりするが、合分波器のように完全にパッシブの部品では、広い温度範囲で特性変動が無いほうが好ましいので、熱光学効果の無い材料を使用するか、又は、等価的に熱光学効果を打ち消す工夫をして温度無依存化を実現することがある。後者の具体例としては、導波路の実行屈折率の温度変動dneff/dTに対して、温度変動の符号が逆の特性である材料を導波路長差ΔLが付加されている側の導波路に導入することで、光路長差の温度変動をキャンセルする方法がある。   In many cases, the refractive index of a substance has temperature dependency, that is, a thermo-optic effect. In the case of the optical switch described above, this effect is actively used to realize a phase shifter. However, in a completely passive component such as a multiplexer / demultiplexer, there should be no characteristic fluctuation over a wide temperature range. Since it is preferable, a material having no thermo-optic effect may be used, or the temperature independence may be realized by devising an equivalent thermo-optic effect. As a specific example of the latter, a material having a sign of temperature fluctuation opposite to the temperature fluctuation dneff / dT of the effective refractive index of the waveguide is applied to the waveguide on the side where the waveguide length difference ΔL is added. There is a method of canceling the temperature fluctuation of the optical path length difference by introducing it.

さて、合分波器400も製造上の不完全性により、出力2へfoの信号光が、出力1へfeの信号光がある程度漏れこみクロストークが発生してしまう。そこで、光スイッチの場合と同様に低クロストーク特性を得るために、図4(b)に示す合分波器410のように、同一のMZIを2段接続した構成を使用することもある。合分波器の場合は、出力1側も出力2側も特性を向上する必要があるため、2段目には出力1側経路/出力2側経路共に2段構成となるように、長側導波路414と短側導波路415を備える前段MZI分波素子411と、長側導波路416,418と短側導波路417,419とをそれぞれ備える後段MZI分波素子412,413との合計3素子のMZIを接続している。   The multiplexer / demultiplexer 400 also has a manufacturing imperfection, and the signal light of fo leaks to the output 2 and the signal light of fe leaks to the output 1 to some extent and crosstalk occurs. Therefore, in order to obtain low crosstalk characteristics as in the case of the optical switch, a configuration in which the same MZI is connected in two stages as in the multiplexer / demultiplexer 410 shown in FIG. 4B may be used. In the case of the multiplexer / demultiplexer, it is necessary to improve the characteristics of both the output 1 side and the output 2 side. A total of 3 of the former stage MZI branching element 411 including the waveguide 414 and the short side waveguide 415, and the rear stage MZI branching elements 412 and 413 including the long side waveguides 416 and 418 and the short side waveguides 417 and 419, respectively. The MZI of the element is connected.

これらの干渉計光部品は、例えば、シリコン基板上に作製された石英系の導波路で実現される。また、光スイッチには、例えば、薄膜ヒータを使用した熱光学移相器が使用される。尚、製造方法としては、例えば、火炎堆積(FHD)法等のガラス膜堆積技術と反応性イオンエッチング(RIE)等の微細加工技術の組み合わせが使用されている。   These interferometer optical components are realized by, for example, a quartz-based waveguide manufactured on a silicon substrate. For the optical switch, for example, a thermo-optic phase shifter using a thin film heater is used. As a manufacturing method, for example, a combination of a glass film deposition technique such as a flame deposition (FHD) method and a fine processing technique such as reactive ion etching (RIE) is used.

具体的には、シリコン基板上に下部クラッド層となるガラス膜を堆積/透明化し、引き続き、屈折率がクラッド層よりもやや高いコア層を堆積する。そして、光導波回路となるコアパターンを微細加工技術によりパターン化し、上部クラッド層となるガラス膜を堆積/透明化することにより埋め込み型の光導波路が得られる。最後に、上部クラッド表面に薄膜ヒータとなる金属を真空蒸着法等で堆積し、これを微細加工技術でパターン化し、熱光学移相器を装荷する。   Specifically, a glass film to be a lower clad layer is deposited / transparent on a silicon substrate, and subsequently a core layer having a refractive index slightly higher than that of the clad layer is deposited. Then, a core pattern to be an optical waveguide circuit is patterned by a fine processing technique, and a glass film to be an upper clad layer is deposited / transparent to obtain an embedded optical waveguide. Finally, a metal to be a thin film heater is deposited on the surface of the upper clad by a vacuum deposition method or the like, and this is patterned by a fine processing technique, and a thermo-optic phase shifter is loaded.

特許第3253007号明細書(第11図)Japanese Patent No. 3253007 (FIG. 11) H.Takahashi, 他、"High Performance 8-arrayed 1x8 optical switch based on planar lightwave circuit for photonic networks"、ECOC2002、4.2.6(第1図及び第3図)H. Takahashi, et al., "High Performance 8-arrayed 1x8 optical switch based on planar lightwave circuit for photonic networks", ECOC2002, 4.2.6 (Figs. 1 and 3)

しかしながら、このような導波路を使用した干渉計をベースとした光スイッチでは、製造上生じる導波路の光路長誤差すなわち位相誤差のために、2重MZI構成を使用しているにも拘らず、しばしば仕様上要求されるOnOff比が得られないという問題があった。同様の理由で合分波器においても、所望の低クロストーク特性が得られない、また、中心波長が所望の範囲の値に収まらないという問題があった。   However, in an optical switch based on an interferometer using such a waveguide, a double MZI configuration is used because of the optical path length error, that is, the phase error of the waveguide generated in the manufacturing process. There is often a problem that the OnOff ratio required in the specification cannot be obtained. For the same reason, the multiplexer / demultiplexer has a problem that a desired low crosstalk characteristic cannot be obtained and the center wavelength does not fall within a desired range.

本発明は、このような問題を鑑みてなされたもので、その目的とするところは、製造誤差に強い導波路型光干渉計回路を提供することにある。   The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a waveguide type optical interferometer circuit that is resistant to manufacturing errors.

このような目的を達成するために、請求項1に記載の発明は、それぞれ独立した導波路型光干渉計を少なくとも2段に縦続して接続した導波路型光干渉計回路において、前記導波路型光干渉計は、所望の光路長差を設けた導波路を有し、前記少なくとも2段の導波路型光干渉計の一方の前記光路の長い方の導波路と、それぞれの前記導波路型光干渉計の入力側から出力側に引かれた中心線に対し、前記少なくとも2段の導波路型光干渉計のもう一方の前記光路の長い方の導波路とが反対の方向に配置されて構成されることを特徴とする。   In order to achieve such an object, the invention described in claim 1 is a waveguide-type optical interferometer circuit in which independent waveguide-type optical interferometers are connected in cascade in at least two stages. The type optical interferometer has a waveguide provided with a desired optical path length difference, the longer one of the optical paths of the at least two-stage waveguide type optical interferometers, and the respective waveguide types With respect to the center line drawn from the input side to the output side of the optical interferometer, the longer waveguide of the other optical path of the at least two-stage waveguide type optical interferometer is arranged in the opposite direction. It is characterized by being configured.

また、請求項2に記載の発明は、前記一方の導波路型光干渉計の数と、前記もう一方の光路の長い方の導波路が反対の方向に配置された導波路型光干渉計の数との差が0または1であることを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, there is provided a waveguide type optical interferometer in which the number of the one waveguide type optical interferometer and the longer waveguide of the other optical path are arranged in opposite directions. The difference from the number is 0 or 1.

また、請求項3に記載の発明は、前記一方の導波路型光干渉計と、前記もう一方の光路の長い方の導波路が反対の方向に配置された導波路型光干渉計が、交互に接続されて構成されることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, the one waveguide optical interferometer and the waveguide optical interferometer in which the longer waveguide of the other optical path is disposed in the opposite direction are alternately arranged. It is characterized by being connected to.

また、請求項4に記載の発明は、前記導波路型光干渉計は、実効屈折率の平均的な面内分布に基づいて前記光路長差の値が補正されることを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, the waveguide type optical interferometer is characterized in that the value of the optical path length difference is corrected based on an average in-plane distribution of effective refractive index.

また、請求項5に記載の発明は、前記導波路型光干渉計の全てに設けられた前記光路長差が前記所望の設計値よりも短く設定されるか、または長く設定されることを特徴とする。   The invention according to claim 5 is characterized in that the optical path length difference provided in all of the waveguide type optical interferometers is set shorter or longer than the desired design value. And

また、請求項6に記載の発明は、前記一方の導波路型光干渉計に設けられた前記光路長差と、前記もう一方の光路の長い方の導波路が反対の方向に配置された導波路型光干渉計に設けられる前記光路長差について、前記光路長差の一方が前記所望の設計値よりも短く設定され、かつ前記光路長差の他方が前記所望の設計値よりも長く設定されることを特徴とする。   According to a sixth aspect of the present invention, the optical path length difference provided in the one waveguide type optical interferometer and a waveguide in which the longer waveguide of the other optical path is disposed in the opposite direction. Regarding the optical path length difference provided in the waveguide type optical interferometer, one of the optical path length differences is set shorter than the desired design value, and the other of the optical path length differences is set longer than the desired design value. It is characterized by that.

また、請求項7に記載の発明は、前記導波路型光干渉計が2本のアーム導波路を有するマッハツェンダー干渉計であり、少なくとも一方のアーム導波路に移相器を備える導波路型光スイッチであることを特徴とする。   The invention according to claim 7 is a Mach-Zehnder interferometer in which the waveguide type optical interferometer has two arm waveguides, and a waveguide type light having a phase shifter in at least one of the arm waveguides. It is a switch.

また、請求項8に記載の発明は、前記導波路型光干渉計回路が前記導波路型光スイッチを複数個接続して形成される大規模スイッチであって、前記導波路型光スイッチの初段目において光路が長い方の導波路がレイアウトされている方向が、前記導波路型光スイッチの奇数列目と偶数列目で入れ替わり配置される導波路型光スイッチであることを特徴とする。   The invention according to claim 8 is a large-scale switch in which the waveguide optical interferometer circuit is formed by connecting a plurality of the waveguide optical switches, and the first stage of the waveguide optical switch. The waveguide optical switch is characterized in that the direction in which the waveguide with the longer optical path in the eye is laid out is switched between the odd-numbered and even-numbered columns of the waveguide-type optical switch.

また、請求項9に記載の発明は、前記導波路型光干渉計がN入力M出力カプラとM入力L出力カプラと、これに挟まれるM本のアーム導波路から成り、k番目のアーム導波路の長さがL=(k−1)・ΔL+L0;L0≧0の任意である導波路型光フィルタであることを特徴とする。   According to a ninth aspect of the present invention, the waveguide type optical interferometer includes an N-input M-output coupler, an M-input L-output coupler, and M arm waveguides sandwiched between the N-input M-output coupler and the k-th arm guide. The waveguide type optical filter is characterized in that the length of the waveguide is arbitrary L = (k−1) · ΔL + L0; L0 ≧ 0.

本発明によれば、各導波路型光干渉計の光路長差ΔLが付加された導波路側を、各段で実質的に逆向きにレイアウトすることにより、等方性誤差及び方位依存誤差による位相誤差に対するOnOff比や低クロストーク劣化の確率が小さく、又、方位依存誤差による位相誤差による波長シフトの影響が打ち消し合うため、製造誤差に強い導波路型光干渉計回路を得ることができる。   According to the present invention, the waveguide side to which the optical path length difference ΔL of each waveguide type optical interferometer is added is laid out in substantially opposite directions at each stage, thereby causing isotropic and azimuth-dependent errors. Since the probability of OnOff ratio and low crosstalk degradation with respect to the phase error is small, and the influence of the wavelength shift due to the phase error due to the azimuth-dependent error cancels out, a waveguide type optical interferometer circuit that is resistant to manufacturing errors can be obtained.

図5に、本発明の第1の実施形態による導波路型光干渉計回路の一例として2重MZI光スイッチのレイアウト構成を示す。図5(a)および(b)は、それぞれ図2(a)および図2(b)に対応しており、図5(a)は、主に1×N用またはN×1用の光スイッチ500の構成を示し、図5(b)は、主にN×M用の光スイッチ510の構成を示す。本実施形態のレイアウト構成は、概ね従来構成と同じであるが、以下の点で構成が異なる。従来構成では、前段MZIスイッチ201,211と、後段MZIスイッチ202,212共に上側が短側導波路203,213,205,215で、下側が長側導波路204,214,206,216であり、前段/後段で短側導波路と長側導波路の上下配置関係が同方向で揃っていた。しかしながら、本実施形態では、前段MZIスイッチ501,511は、上側が短側導波路503,513で、下側が長側導波路504,514であり、後段MZIスイッチ502,512は上側が長側導波路506,516で下側が短側導波路505,515であり、前段/後段で導波路が中心線に対して対称に配置されている点が異なっている。すなわち、前段MZIスイッチ501,511と後段MZIスイッチ502,512の長アーム/短アームの上下配置方向の相対関係が反転している点が従来構成と大きく異なる。   FIG. 5 shows a layout configuration of a double MZI optical switch as an example of a waveguide type optical interferometer circuit according to the first embodiment of the present invention. FIGS. 5A and 5B correspond to FIGS. 2A and 2B, respectively. FIG. 5A is an optical switch mainly for 1 × N or N × 1. FIG. 5B mainly shows the configuration of the N × M optical switch 510. The layout configuration of the present embodiment is generally the same as the conventional configuration, but the configuration is different in the following points. In the conventional configuration, the upper MZI switches 201 and 211 and the rear MZI switches 202 and 212 are both short-side waveguides 203, 213, 205, and 215 on the upper side and long-side waveguides 204, 214, 206, and 216 on the lower side, The upper and lower arrangement relations of the short-side waveguide and the long-side waveguide are aligned in the same direction at the front stage / back stage. However, in the present embodiment, the upper stage MZI switches 501 and 511 have the short side waveguides 503 and 513 on the upper side and the long side waveguides 504 and 514 on the lower side, and the upper stage MZI switches 502 and 512 have the long side guide on the upper side. The lower sides of the waveguides 506 and 516 are the short-side waveguides 505 and 515, and the waveguides 506 and 516 are different in that the waveguides are arranged symmetrically with respect to the center line at the front stage / back stage. That is, it differs greatly from the conventional configuration in that the relative relationship in the vertical arrangement direction of the long / short arms of the front MZI switches 501 and 511 and the rear MZI switches 502 and 512 is reversed.

図6に、本発明の第2の実施形態による導波路型光干渉計回路の一例として2重MZI光スイッチのレイアウト構成を示す。図6(a)および図6(b)に示す光スイッチ600,610は、それぞれ図5(a)および図5(b)に示す光スイッチ500,510にそれぞれ対応する。本実施形態のレイアウト構成は、短側導波路603,613と長側導波路604,614とをそれぞれ備える前段MZIスイッチ601,611と、短側導波路605,615と長側導波路606,616とをそれぞれ備える後段MZIスイッチ602,612が折り返された配置になっている点が第1の実施形態と異なっているが、前段MZIスイッチ601,611と後段MZIスイッチ602,612の長アーム/短アームの上下配置方向の相対関係が反転している点は第1の実施形態と同様である。   FIG. 6 shows a layout configuration of a double MZI optical switch as an example of a waveguide type optical interferometer circuit according to the second embodiment of the present invention. Optical switches 600 and 610 shown in FIGS. 6A and 6B correspond to the optical switches 500 and 510 shown in FIGS. 5A and 5B, respectively. The layout configuration of the present embodiment includes the preceding MZI switches 601 and 611 including short-side waveguides 603 and 613 and long-side waveguides 604 and 614, short-side waveguides 605 and 615, and long-side waveguides 606 and 616, respectively. Are different from the first embodiment in that the rear stage MZI switches 602 and 612 are folded back, but the long arms / shorts of the front stage MZI switches 601 and 611 and the rear stage MZI switches 602 and 612 are different. The point that the relative relationship in the vertical arrangement direction of the arms is reversed is the same as in the first embodiment.

これらの本発明が、従来構成と比較して製造誤差に強い回路である理由について、以下に説明する。
導波路の光路長誤差すなわち位相誤差は、材料の屈折率変動、導波路コアサイズの変動、回路パターンの変形等による導波路の物理長そのものの変動等の製造上の様々な要因で発生する。この製造する回路の位相誤差を統計的に分析してみると、誤差は、全く無秩序に発生するのではなく、ある傾向を有する2つの誤差、等方性の誤差δφbaseと、非等方性の誤差δφdirと、傾向を有さない無秩序な誤差δφramの3種類に分類できることが、近年の実験検討により判明した。
The reason why the present invention is a circuit that is more resistant to manufacturing errors than the conventional configuration will be described below.
The optical path length error of the waveguide, that is, the phase error, occurs due to various manufacturing factors such as the refractive index fluctuation of the material, the fluctuation of the waveguide core size, and the fluctuation of the physical length of the waveguide itself due to the deformation of the circuit pattern. When statistically analyzing the phase error of the circuit to be manufactured, the error does not occur at random, but two errors having a certain tendency, an isotropic error δφbase, and an anisotropic error It has been found from recent experimental studies that the error can be classified into three types, that is, the error δφdir and the disordered error δφram having no tendency.

1つ目の等方性の位相誤差δφbaseは、ウェハー全体、或いは素子が集積されているチップ内といった領域に限定した見た場合に、どの素子にも一様な値として発生する誤差であり、且つ、方位依存性を有さない。すなわち、あるウェハー、或いはあるチップを取り出したときに、その中に製作された素子のδφbaseは、全て同じ値となる。この誤差をもたらす製造上の要因としては、材料屈折率のずれや、コア膜厚ずれ/コア幅加工ずれ等により発生する実効屈折率の変動がある。実効屈折率の変動δneffは、光路長差の変動をもたらし、δφbase=−2π・δneff・ΔL/λ0の位相誤差をもたらす。また、設計波長λ0に対して実際の使用波長が異なる場合にも、一様な位相誤差が発生するので、等価的に等方性の位相誤差が発生する。例えば、図1に示した半波長分の導波路長差で設計されたMZIスイッチの場合、波長ズレδλに対して、δφbase=−π・(λ0/λ−1)≒π・δλ/λ0の位相誤差が発生する。尚、ΔL=0の干渉計回路では、実効屈折率の変動δneffが発生しても、各導波路で誤差が等量となり各経路の差分として打ち消し合うため、等方性の位相誤差δφbaseは発生しない。   The first isotropic phase error δφbase is an error that occurs as a uniform value for all elements when viewed in a limited area such as the entire wafer or in a chip in which elements are integrated. And it does not have orientation dependency. That is, when a certain wafer or a certain chip is taken out, all the δφbases of the elements manufactured therein have the same value. Manufacturing factors that cause this error include fluctuations in the effective refractive index caused by deviations in the refractive index of the material, deviations in the core film thickness / shifts in the core width, and the like. The effective refractive index variation δneff brings about a variation in optical path length difference and a phase error of δφbase = −2π · δneff · ΔL / λ0. Further, even when the actual wavelength used is different from the design wavelength λ0, a uniform phase error occurs, so that an equivalent isotropic phase error occurs. For example, in the case of the MZI switch designed with the waveguide length difference corresponding to the half wavelength shown in FIG. 1, with respect to the wavelength deviation δλ, δφbase = −π · (λ0 / λ−1) ≈π · δλ / λ0 A phase error occurs. In the interferometer circuit of ΔL = 0, even if the effective refractive index variation δneff occurs, the errors are equal in each waveguide and cancel each other as a difference between the paths. Therefore, an isotropic phase error δφbase is generated. do not do.

2つ目の非等方性の誤差δφdirは、方位依存性を有する位相誤差であり、ある特定の方位の導波路の光路長が常に長くなる誤差である。例えば、ウェハーのボトム側(オリフラ側)の導波路がトップ側の導波路よりも常に長くなるか、または、ウェハーの中心側の導波路が周囲側の導波路よりも常に長くなるといった類の誤差である。この誤差をもたらす製造上の要因としては、材料屈折率や、コア膜厚/コア幅加工等のウェハー面内分布による実効屈折率の面内分布などがある。この非等方性の誤差δφdirは、導波路の相対的な位置関係で発生する誤差であるため、ΔL=0の干渉計回路でも発生する。   The second anisotropic error δφdir is a phase error having azimuth dependency, and is an error in which the optical path length of a waveguide in a specific direction is always increased. For example, the bottom waveguide (orientation flat) waveguide of the wafer is always longer than the top waveguide, or the center waveguide of the wafer is always longer than the surrounding waveguide. It is. Manufacturing factors causing this error include material refractive index and in-plane distribution of effective refractive index due to in-wafer distribution such as core film thickness / core width processing. This anisotropic error δφdir is an error that occurs due to the relative positional relationship of the waveguides, and therefore also occurs in an interferometer circuit with ΔL = 0.

3つ目の無秩序な誤差δφramは、局所的な実効屈折率の揺らぎにより発生する文字通りランダムな誤差で、同一チップ内の近接した干渉計回路間や同一相対位置関係にある干渉計回路間でも無相関に発生する誤差である。   The third disordered error δφram is literally a random error that occurs due to local fluctuations in the effective refractive index and does not occur between adjacent interferometer circuits in the same chip or between interferometer circuits that have the same relative positional relationship. It is an error that occurs in the correlation.

位相誤差δφは、上記のそれぞれの誤差の和として、δφ=δφbase+δφdir+δφramとなるが、説明を簡単にするために、以降の説明では、δφram の項が十分小さいものとして無視する。   The phase error δφ is δφ = δφbase + δφdir + δφram as the sum of the above errors, but for the sake of simplicity of explanation, in the following explanation, the term of δφram is ignored because it is sufficiently small.

図1に示したMZI光スイッチ素子の位相誤差がδφ[rad]である場合、入力1から出力2への経路におけるOff時の透過率Toff[dB]は、以下に示す式(1)となる。なお、スイッチとしてのoffの動作は、移相器に電流ないしは電圧を印加しないときのものである。   When the phase error of the MZI optical switch element shown in FIG. 1 is δφ [rad], the transmittance Toff [dB] at the time of OFF in the path from the input 1 to the output 2 is expressed by the following equation (1). . The off operation as a switch is performed when no current or voltage is applied to the phase shifter.

Figure 2009157114
Figure 2009157114

また、上述の分布形状の起伏周期に比べて十分近接した干渉計回路では、前段MZIスイッチ素子の誤差δφbaseと後段MZIスイッチ素子の誤差δφbase、及び前段MZIスイッチ素子の誤差δφdirと後段MZIスイッチ素子の誤差δφdirは、それぞれほぼ同じ値になる。従って、図2に示した従来の2重MZI光スイッチでは、短アーム/長アームの上下関係(方向関係)が同じになるので、前段MZIスイッチ素子、後段MZIスイッチ素子、共に位相誤差はδφ=δφbase+δφdirとなり、図2に示した従来の2重MZI光スイッチの入力から出力までの経路におけるOff時の透過率Toff[dB]は、以下に示す式(2)となる。   Further, in the interferometer circuit sufficiently close to the undulation period of the above-described distributed shape, the error δφbase of the preceding MZI switch element, the error δφbase of the subsequent MZI switch element, the error δφdir of the preceding MZI switch element, and the error δφdir of the subsequent MZI switch element The errors δφdir have almost the same value. Therefore, in the conventional double MZI optical switch shown in FIG. 2, the vertical and vertical relations (direction relations) of the short arm / long arm are the same, and therefore the phase error in both the front stage MZI switch element and the rear stage MZI switch element is δφ = δφbase + δφdir, and the transmittance Toff [dB] at the time of OFF in the path from the input to the output of the conventional double MZI optical switch shown in FIG. 2 is expressed by the following equation (2).

Figure 2009157114
Figure 2009157114

一方、本発明の2重MZI光スイッチでは、短アーム/長アームの上下関係(方向関係)が反転しているので、前段と後段で方位性位相誤差δφdirの符号が反転する。従って、前段MZIスイッチ素子の位相誤差がδφ=δφbase+δφdirである場合、後段MZIスイッチ素子の位相誤差は、δφ=δφbase−δφdirとなり、図5や図6に示した本発明の2重MZI光スイッチの入力から出力までの経路におけるOff時の透過率Toff[dB]は、以下に示す式(3)となる。   On the other hand, in the double MZI optical switch of the present invention, since the vertical relationship (direction relationship) of the short arm / long arm is inverted, the sign of the azimuth phase error δφdir is inverted between the preceding stage and the subsequent stage. Therefore, when the phase error of the front MZI switch element is δφ = δφbase + δφdir, the phase error of the rear MZI switch element is δφ = δφbase−δφdir, and the dual MZI optical switch of the present invention shown in FIGS. The transmittance Toff [dB] at the time of OFF in the path from the input to the output is expressed by the following equation (3).

Figure 2009157114
Figure 2009157114

図7に、上記の式で計算した透過率の等方性位相誤差δφbase依存性を、方位性位相誤差δφdirをパラメーターにして示す。図7(a)は、従来技術の構成における結果を示し、図7(b)は、本発明の構成における結果を示す。OnOff比[dB](=Ton−Toff; Ton:On時透過率[dB]で理論上は0dBである)の仕様上の要求値が40dB以上であった場合、すなわちOff時透過率の要求値が−40dB以下であった場合、従来技術の構成では、方位依存位相誤差δφdirが+0.06π[rad]生じると等方性位相誤差δφbaseの+側の余裕が殆どなくなることになる。一方、本発明の構成では、同様の方位依存位相誤差が生じても、等方性位相誤差に対して+側/−側共に0.08π[rad]以上の余裕があるため、等方性位相誤差と方位依存位相誤差が同時に発生してもOff時透過率の要求値を満足する確率が従来技術の構成と比較して高い。   FIG. 7 shows the dependence of the transmittance calculated by the above equation on the isotropic phase error δφbase using the azimuth phase error δφdir as a parameter. FIG. 7A shows the result in the configuration of the prior art, and FIG. 7B shows the result in the configuration of the present invention. When the required value in the specification of the OnOff ratio [dB] (= Ton−Toff; Ton: transmittance [dB] when On is theoretically 0 dB) is 40 dB or more, that is, the required value of transmittance when Off. In the configuration of the prior art, when the azimuth-dependent phase error δφdir is + 0.06π [rad], there is almost no margin on the + side of the isotropic phase error δφbase. On the other hand, in the configuration of the present invention, even if a similar azimuth-dependent phase error occurs, the isotropic phase error has a margin of 0.08π [rad] or more on both the + side and the − side. Even if an error and an orientation-dependent phase error occur at the same time, the probability of satisfying the off-time transmittance requirement is higher than that of the prior art configuration.

図8は、さらに詳細に各位相誤差δφbase、δφdirによるOnOff比の特性低下を調べるために、図7をOnOff比の等高線図として図示し直したものである。また、図7と同様に、図8(a)は、従来技術の構成における結果を示し、図8(b)は、本発明の構成における結果を示す。各位相誤差δφbase、δφdirは、ほぼ独立事象であると考えられるので、各位相誤差の標準偏差σが0.02π[rad]であるとすると、±3σである半径0.06π[rad]の円の中に、ほぼ全てのケースが分布していることになる。図8(b)に示す本発明の構成では、半径0.06π[rad]の円内において40dBのOnOff比が確保できているのと比較して、図8(a)の従来技術の構成では、一部分(ハッチングして図示している部分)において40dBのOnOff比が確保できていないことが分かる。このように、本発明の構成は、従来技術の構成と比較して、等方性誤差及び方位依存誤差による位相誤差に対する特性低下の確率が小さく、製造誤差に強い構成であるといえる。   FIG. 8 is a redrawing of FIG. 7 as a contour map of the OnOff ratio in order to investigate the characteristic deterioration of the OnOff ratio due to the phase errors δφbase and δφdir in more detail. Similarly to FIG. 7, FIG. 8A shows the result in the configuration of the prior art, and FIG. 8B shows the result in the configuration of the present invention. Since each phase error δφbase and δφdir are considered to be almost independent events, if the standard deviation σ of each phase error is 0.02π [rad], a circle with a radius of 0.06π [rad] which is ± 3σ. In this case, almost all cases are distributed. In the configuration of the present invention shown in FIG. 8B, the OnOff ratio of 40 dB can be secured in a circle having a radius of 0.06π [rad], and the configuration of the related art in FIG. It can be seen that the OnOff ratio of 40 dB cannot be secured in a part (the part shown by hatching). As described above, the configuration of the present invention has a low probability of characteristic deterioration with respect to the phase error due to the isotropic error and the orientation-dependent error, and can be said to be a configuration resistant to manufacturing errors.

尚、動作波長をある程度広く保証する場合に発生する位相誤差(例えば、1480〜1650nm動作保証の場合、前述の計算式により、最大約±0.06π[rad]の位相誤差が原理的に発生することが分かる)が等方性位相誤差の大半を占める場合は、図8の横軸は、この当方性位相誤差の範囲で確実に発生しうる事象になるので、上述の分布は、円ではなく四角(図中一点鎖線)に拡大して考える必要がある。図を見て分かるように、この場合には、図8(a)に示す従来構成では、40dBのOnOff比が確保できていない領域が更に増加するのに対して、図8(b)に示す本発明の構成では、拡大した領域においても所望のOnOff比を確保できている。このように、動作波長領域の拡大という観点からも本発明の構成は有効な構成であることがわかる。   It should be noted that a phase error that occurs when the operating wavelength is assured to some extent (for example, in the case of 1480 to 1650 nm operation guarantee, a phase error of about ± 0.06π [rad] at maximum is generated in principle by the above formula. 8), the horizontal axis in FIG. 8 is an event that can occur reliably in the range of this isotropic phase error, so the above distribution is not a circle. It needs to be expanded into a square (dashed line in the figure). As can be seen from the figure, in this case, in the conventional configuration shown in FIG. 8 (a), the area where the OnOff ratio of 40 dB cannot be secured further increases, whereas as shown in FIG. 8 (b). In the configuration of the present invention, a desired OnOff ratio can be secured even in the enlarged region. Thus, it can be seen that the configuration of the present invention is also effective from the viewpoint of expanding the operating wavelength region.

また、On時に移相器で発生させる移相量は、通常πであるが、位相誤差δφがある場合は、その分を加味したδφ+πが透過率最大となる最適移相量となる。従って、従来構成では、前段/後段MZIスイッチ素子、共に最適移相量は、δφbase+δφdir+πとなり、各位相誤差に応じて最適移相量が変化する。これに対し、本発明の構成では、前段MZIスイッチ素子の最適移相量は、δφbase+δφdir+π、後段MZIスイッチ素子の最適移相量は、δφbase−δφdir+πで、その平均値はδφbase+πとなりδφdirの影響を受けないので、平均値における最適移相量の変動が少なくなるというメリットが発生する。   Further, the amount of phase shift generated by the phase shifter at the time of On is usually π. However, when there is a phase error δφ, δφ + π including the amount is the optimum amount of phase shift that maximizes the transmittance. Therefore, in the conventional configuration, the optimum phase shift amount is δφbase + δφdir + π in both the front stage / back stage MZI switch elements, and the optimum phase shift amount changes according to each phase error. On the other hand, in the configuration of the present invention, the optimum phase shift amount of the preceding MZI switch element is δφbase + δφdir + π, and the optimum phase shift amount of the latter stage MZI switch element is δφbase−δφdir + π. Therefore, there is a merit that the variation of the optimum phase shift amount in the average value is reduced.

例えば、熱光学移相器を使用した場合、本発明の構成の光スイッチでは従来構成の光スイッチと比較して、移相器での消費電力の平均値変動が少なくなり、デバイスの放熱設計精度を向上させることが可能となる。また、デバイスの構成を簡易化するために前段/後段MZIスイッチの移相器の電気接続配線を直列接続や並列接続し共通駆動することがあるが、この際の最適駆動点は前段/後段MZIスイッチの平均値になるので、消費電力同様、本発明の構成の光スイッチでは、従来構成の光スイッチと比較して、駆動点の変動が少なくなり、定電圧源や定電流源といった駆動デバイスへの駆動範囲の要求を緩和できるというメリットもある。   For example, when a thermo-optic phase shifter is used, the optical switch with the configuration of the present invention has less variation in the average power consumption of the phase shifter than the optical switch with the conventional configuration, and the heat dissipation design accuracy of the device Can be improved. In order to simplify the device configuration, the electrical connection wiring of the phase shifters of the front / rear MZI switch may be connected in series or in parallel, and the optimum drive point at this time is the front / rear MZI. Since the average value of the switch is the same as the power consumption, the optical switch having the configuration of the present invention has less fluctuation of the driving point compared to the optical switch having the conventional configuration, so that the driving device such as a constant voltage source or a constant current source can be obtained. There is also an advantage that the requirement of the driving range can be relaxed.

尚、方位依存位相誤差をもたらす実効屈折率等の面内分布形状は、ウェハー毎に微妙に異なるが、同一回路を同一装置で作り込みをして作製した場合、概ね似た分布になることが多い、従って、平均的な分布形状を基にした設計補正を行うことで、ある程度、方位依存位相誤差の影響を低減することが可能である。このように、ある程度は設計で補正した上で、ウェハー毎に異なる面内分布や設計で補正し切れず残存した面内分布を、本発明の構成でその影響の低減を行うことにより、更に良好な特性を得ることができる。   The in-plane distribution shape such as the effective refractive index that causes the azimuth-dependent phase error is slightly different for each wafer, but if the same circuit is fabricated with the same device, the distribution may be almost similar. Therefore, by performing design correction based on the average distribution shape, it is possible to reduce the influence of the orientation-dependent phase error to some extent. In this way, after correcting to some extent by design, the in-plane distribution that differs from wafer to wafer and remaining in-plane distribution that cannot be corrected by design are further improved by reducing the influence of the configuration of the present invention. Special characteristics can be obtained.

次に、本願発明の第3の実施形態による導波路型光干渉計回路の一例として2重MZI光スイッチの構成について説明する。基本的な構成は、第1の実施形態又は第2の実施形態と同じであり、前段MZIスイッチと後段MZIスイッチの長アーム/短アームの上下配置の相対関係が反転している構成であるが、これに加えて、半波長分の光路長差に僅かなオフセットを付加している。通常の構成では、半波長分の光路長差、すなわち位相差π、を設けてMZIを構成するが、本実施形態ではこれに僅かなオフセット位相αを付加してMZIを構成する。このとき透過率Toff[dB]は、以下に示す式4となる。   Next, the configuration of a double MZI optical switch will be described as an example of a waveguide type optical interferometer circuit according to a third embodiment of the present invention. The basic configuration is the same as in the first embodiment or the second embodiment, and the relative relationship of the vertical arrangement of the long arm / short arm of the front MZI switch and the rear MZI switch is reversed. In addition to this, a slight offset is added to the optical path length difference for half a wavelength. In a normal configuration, the MZI is configured by providing an optical path length difference corresponding to a half wavelength, that is, a phase difference π, but in the present embodiment, a slight offset phase α is added to configure the MZI. At this time, the transmittance Toff [dB] is expressed by the following equation 4.

Figure 2009157114
Figure 2009157114

例えば、α=0.04π[rad]とし、半波長分の導波路長差よりもΔLを僅かに長くした場合、OnOff比の等高線図は、図9(a)のようになる。図9(b)は、比較として再掲した第1および第2の実施形態における等高線図である。図9(a)は、図9(b)と比較して、等高線図が右方向に+0.04π[rad]シフトしている。   For example, when α = 0.04π [rad] and ΔL is slightly longer than the waveguide length difference corresponding to the half wavelength, the contour map of the OnOff ratio is as shown in FIG. FIG. 9 (b) is a contour map in the first and second embodiments, reprinted as a comparison. In FIG. 9A, the contour map is shifted to the right by + 0.04π [rad] compared to FIG. 9B.

従って、本実施形態は、誤差に以下のような傾向がある場合に特にメリットが得られる。方位依存位相誤差δφdirの標準偏差σ(δφdir)が等方性位相誤差δφbaseの標準偏差σ(δφbase)よりも大きく、例えば、σ(δφdir)=0.022π[rad]、σ(δφbase)=0.008π[rad]である場合、ほぼ全てのケースが分布すると考えられる領域は、図9中の破線で示したように縦長の楕円の領域になる。図9(a)と図9(b)を比較して分かるように、本実施形態では、40dBのOnOff比が確保できるのに対し、第1および第2の実施形態では、一部分(ハッチングで図示している部分)において40dBのOnOff比が確保できていない。このように、本実施形態は、方位依存位相誤差によるバラツキ(標準偏差)が等方性位相誤差によるバラツキ(標準偏差)よりも大きい場合に有利な構成であるといえる。   Therefore, this embodiment is particularly advantageous when the error has the following tendency. The standard deviation σ (δφdir) of the orientation-dependent phase error δφdir is larger than the standard deviation σ (δφbase) of the isotropic phase error δφbase. For example, σ (δφdir) = 0.022π [rad], σ (δφbase) = 0 In the case of .008π [rad], a region in which almost all cases are considered to be distributed is a vertically long ellipse region as shown by a broken line in FIG. As can be seen by comparing FIG. 9 (a) and FIG. 9 (b), in this embodiment, an OnOff ratio of 40 dB can be secured, whereas in the first and second embodiments, a part (shown by hatching) is obtained. In the portion shown), an OnOff ratio of 40 dB cannot be secured. Thus, this embodiment can be said to be an advantageous configuration when the variation (standard deviation) due to the azimuth-dependent phase error is larger than the variation (standard deviation) due to the isotropic phase error.

尚、上記の説明では、ΔLを長くしてαをプラス値としたが、ΔLを短くしてマイナス値にした場合は、等高線図が左方向にシフトする点だけが異なる。従って、マイナス値の場合も上記同様の利点が得られる。   In the above description, ΔL is lengthened and α is a positive value. However, when ΔL is shortened to a negative value, the only difference is that the contour map shifts to the left. Therefore, the same advantage as described above can be obtained in the case of a negative value.

また、オフセット位相量αの値は、σ(δφdir)とσ(δφbase)の比と要求OnOff比により最適値が決定される。基本的には、要求OnOff比の等高線に、σ(δφdir)とσ(δφbase)の比を縦横比とする楕円が、大きさを適宜調整した上で、図9(a)に示すように3点で接するようなオフセット量が最適値となる。尚、この3点とは、αがプラス値の場合は上下側の等高線及び左側の等高線の3点となり、αがマイナス値の場合は上下側の等高線及び右側の等高線の3点になる。   The optimum value of the offset phase amount α is determined by the ratio of σ (δφdir) and σ (δφbase) and the required OnOff ratio. Basically, an ellipse having an aspect ratio of σ (δφdir) and σ (δφbase) on the contour line of the required OnOff ratio is appropriately adjusted in size, as shown in FIG. An offset amount that touches at a point is an optimum value. Note that these three points are the three points of the upper and lower contour lines and the left contour line when α is a positive value, and the three points of the upper and lower contour lines and the right contour line when α is a negative value.

次に、本願発明の第4の実施形態による導波路型光干渉計回路の一例として2重MZI光スイッチの構成について説明する。基本的な構成は、第3の実施形態と同じであり、第1の実施形態又は第1の実施形態の構成に加えてMZIの半波長分の光路長差に僅かなオフセット位相αを付加しているが、前段MZIスイッチと後段MZIスイッチで付加するオフセット位相の正負の符号が反転している点が、第3の実施形態と異なる。すなわち、前段MZIスイッチに+αのオフセット位相を付加した場合には、後段MZIスイッチには−αのオフセット位相を付加する。このとき透過率Toff[dB]は、以下に示す式(5)となる。   Next, the configuration of a double MZI optical switch will be described as an example of a waveguide type optical interferometer circuit according to a fourth embodiment of the present invention. The basic configuration is the same as that of the third embodiment, and in addition to the configuration of the first embodiment or the first embodiment, a slight offset phase α is added to the optical path length difference corresponding to the half wavelength of MZI. However, the third embodiment is different from the third embodiment in that the sign of the offset phase added by the front MZI switch and the rear MZI switch is inverted. That is, when a + α offset phase is added to the preceding MZI switch, a −α offset phase is added to the succeeding MZI switch. At this time, the transmittance Toff [dB] is expressed by the following equation (5).

Figure 2009157114
Figure 2009157114

例えば、α=−0.04π[rad]とし、半波長分の導波路長差よりもΔLを前段MZIスイッチについては僅かに短く、後段MZIにスイッチついては長くした場合、OnOff比の等高線図は、図10(a)のようになる。図10(b)は、比較として再掲した第1および第2の実施形態での等高線図である。図10(a)は、図10(b)と比較して、等高線図が下方向に+0.04π[rad]シフトしている。   For example, when α = −0.04π [rad] and ΔL is slightly shorter than the waveguide length difference for half a wavelength for the former MZI switch and longer for the latter MZI switch, the contour map of the OnOff ratio is As shown in FIG. FIG. 10 (b) is a contour map in the first and second embodiments, reprinted as a comparison. In FIG. 10A, the contour map is shifted downward by + 0.04π [rad] compared to FIG. 10B.

従って、本実施形態は、誤差に以下のような傾向がある場合に、特にメリットが得られる。等方性位相誤差δφbaseの標準偏差σ(δφbase)が方位依存位相誤差δφdirの標準偏差σ(δφdir)よりも大きく、例えば、σ(δφbase)=0.022π[rad]、σ(δφdir)=0.008π[rad]である場合、ほぼ全てのケースが分布すると考えられる領域は、図10中の破線で示したように横長の楕円の領域になる。図10(a)と図10(b)を比較して分かるように、本実施形態では、40dBのOnOff比が確保できるのに対し、第1および第2の実施形態では一部分(ハッチングで図示している部分)において40dBのOnOff比が確保できていない。このように、本実施形態は、等方性位相誤差によるバラツキ(標準偏差)が方位依存位相誤差によるバラツキ(標準偏差)よりも大きい場合に有利な構成であるといえる。   Therefore, the present embodiment is particularly advantageous when the error has the following tendency. The standard deviation σ (δφbase) of the isotropic phase error δφbase is larger than the standard deviation σ (δφdir) of the orientation-dependent phase error δφdir, for example, σ (δφbase) = 0.022π [rad], σ (δφdir) = 0 In the case of .008π [rad], a region in which almost all cases are considered to be distributed is a horizontally long elliptical region as indicated by a broken line in FIG. As can be seen by comparing FIG. 10 (a) and FIG. 10 (b), in this embodiment, an OnOff ratio of 40 dB can be secured, whereas in the first and second embodiments, a part (shown by hatching) is shown. The OnOff ratio of 40 dB cannot be ensured in the portion). Thus, this embodiment can be said to be an advantageous configuration when the variation (standard deviation) due to the isotropic phase error is larger than the variation (standard deviation) due to the orientation dependent phase error.

尚、上記の説明ではαをマイナス値としたが、プラス値にした場合は等高線図が上方向にシフトする点だけが異なる。従って、プラス値の場合も上記同様の利点が得られる。   In the above description, α is a negative value. However, when it is a positive value, the only difference is that the contour map shifts upward. Therefore, the same advantages as described above can be obtained in the case of a positive value.

また、オフセット位相量αの値は、第3の実施形態と同様に、σ(δφdir)とσ(δφbase)の比と要求OnOff比によって最適値が決定される。基本的には、要求OnOff比の等高線に、σ(δφdir)とσ(δφbase)の比を縦横比とする楕円が、大きさを適宜調整した上で、図10(a)に示すように3点で接するようなオフセット量が最適値となる。尚、この3点とは、αがマイナス値の場合は、上側の等高線及び左右側の等高線の3点となり、αがプラス値の場合は、下側の等高線及び左右側の等高線の3点となる。   As in the third embodiment, the optimum value of the offset phase amount α is determined by the ratio of σ (δφdir) and σ (δφbase) and the required OnOff ratio. Basically, an ellipse whose aspect ratio is the ratio of σ (δφdir) and σ (δφbase) is arranged on the contour line of the required OnOff ratio, as shown in FIG. An offset amount that touches at a point is an optimum value. The three points are the upper contour line and the left and right contour lines when α is a negative value, and the lower contour line and the left and right contour lines when α is a positive value. Become.

以上の第1〜第4の実施形態では、半波長分の導波路長差をベースとしたMZIで構成しているが、これは動作波長範囲を広く確保するためである。導波路長差ΔL(=k・{λ0/2neff}; k:整数)の場合、MZIのアーム導波路の位相差Δφは、Δφ=2π・neff・ΔL/λ0であるので、ΔLが大きいほど、λ0の僅かな違いでも位相差Δφが大きく動くので、動作波長範囲が狭くなる。従って、光スイッチとしてはΔLが一番短いk=1のケースである半波長分の導波路長差の設計が望ましい。即ち、光スイッチにおいては、半波長分の光路長差が所望の光路長差となる。しかしながら、単一波長λ0のみの動作で良い等の条件であれば、k=1以外の導波路長差であっても構わない。尚、kが奇数の場合には、Off時にバー動作、kが偶数の場合には、Off時にクロス動作になる。   In the first to fourth embodiments described above, the MZI is based on a waveguide length difference corresponding to a half wavelength. This is for ensuring a wide operating wavelength range. In the case of the waveguide length difference ΔL (= k · {λ0 / 2neff}; k: integer), the phase difference Δφ of the arm waveguide of MZI is Δφ = 2π · neff · ΔL / λ0. Because the phase difference Δφ moves greatly even with a slight difference in λ0, the operating wavelength range is narrowed. Therefore, as an optical switch, it is desirable to design a waveguide length difference for a half wavelength, which is the case of k = 1 where ΔL is the shortest. That is, in the optical switch, the optical path length difference corresponding to the half wavelength becomes a desired optical path length difference. However, the waveguide length difference other than k = 1 may be used as long as the operation with only the single wavelength λ0 is acceptable. When k is an odd number, a bar operation is performed when Off, and when k is an even number, a cross operation is performed when Off.

いずれにしても、半波長分の導波路長差以外であっても、第1および第2の実施形態で示したように前段MZIスイッチと後段MZIスイッチの長アーム/短アームの上下配置方向の相対関係を反転することにより、この構成が等方性誤差及び方位依存誤差による位相誤差に対する特性低下の確率が小さくなり、製造誤差に強い構成になることに変わりは無い。また、等方性位相誤差によるバラツキ(標準偏差)と方位依存位相誤差によるバラツキ(標準偏差)が異なる場合、第3および第4の実施形態で示したオフセット位相を付加することにより、更に位相誤差耐力が最適化できることに変わりは無い。   In any case, even if it is other than the waveguide length difference for a half wavelength, as shown in the first and second embodiments, the upper and lower arrangement directions of the long arm / short arm of the front MZI switch and the rear MZI switch By reversing the relative relationship, this configuration reduces the probability of characteristic deterioration with respect to the phase error due to the isotropic and azimuth-dependent errors, and the configuration remains strong against manufacturing errors. Further, when the variation due to the isotropic phase error (standard deviation) and the variation due to the orientation dependent phase error (standard deviation) are different, the phase error can be further increased by adding the offset phase shown in the third and fourth embodiments. There is no change in the yield strength can be optimized.

[16連1×4スイッチ]
第1の実施例として作製した16連1×4スイッチチップ700の構成を図11に示す。16連1×4スイッチチップ700の1×4スイッチ701は、1×2スイッチ素子702をカスケードに4段接続したタップ構成になっている。各1×2スイッチ素子702には、本発明の構成である図5(a)に示した方位反転配置の2重MZI光スイッチ素子500の構成を使用した。2重MZI光スイッチ素子702を構成している前段MZIスイッチ703と後段MZIスイッチ704の各MZIには、半波長分の導波路長差を設け、前段MZIスイッチ703は、上側を短アーム705に下側を長アーム706にし、後段MZIスイッチ704は、上側を長アーム708に下側を短アーム707にしている。今回、EDFAの増幅帯域であるC帯/L帯(動作波長域:1520〜1620nm)での使用を前提として、動作波長中心λ0は1570nmとした。
[16 stations 1 x 4 switches]
FIG. 11 shows the configuration of a 16-unit 1 × 4 switch chip 700 manufactured as the first embodiment. The 1 × 4 switch 701 of the 16-unit 1 × 4 switch chip 700 has a tap configuration in which 1 × 2 switch elements 702 are connected in four stages in cascade. For each 1 × 2 switch element 702, the structure of the double MZI optical switch element 500 having the orientation inversion arrangement shown in FIG. 5A, which is the structure of the present invention, was used. Each MZI of the front-stage MZI switch 703 and the rear-stage MZI switch 704 constituting the double MZI optical switch element 702 is provided with a waveguide length difference corresponding to a half wavelength, and the front-stage MZI switch 703 has an upper side to the short arm 705. The lower arm is a long arm 706, and the rear stage MZI switch 704 has an upper arm 708 on the upper side and a short arm 707 on the lower side. In this case, the operating wavelength center λ 0 is set to 1570 nm on the premise that the EDFA is used in the C band / L band (operating wavelength range: 1520 to 1620 nm).

本スイッチチップは、シリコン基板709上に石英系導波路710にて作製した。導波路710のコア711とクラッド712の比屈折率差は、1.5%である。チップサイズは、65×13mmであった。また、熱光学移相器である薄膜ヒータ713の周辺のクラッド712は、消費電力低減のため微細加工技術により削除し、断熱溝714を形成している。尚、図中には示していないが、各ヒータ713へは、駆動電流を給電するための電気配線パターンが形成されており、OnOffスイッチの為の駆動電流は、短アーム705,707側のヒータ713に給電している。また、On時の消費電力は1MZIあたり約100mWであった。On時の挿入損失は、ファイバー接続損失込みで約2dBであった。   This switch chip was fabricated on a silicon substrate 709 using a quartz-based waveguide 710. The relative refractive index difference between the core 711 and the clad 712 of the waveguide 710 is 1.5%. The chip size was 65 × 13 mm. Further, the cladding 712 around the thin film heater 713 that is a thermo-optic phase shifter is deleted by a microfabrication technique to reduce power consumption, and a heat insulating groove 714 is formed. Although not shown in the drawing, an electric wiring pattern for supplying a drive current is formed on each heater 713, and the drive current for the OnOff switch is the heater on the short arm 705, 707 side. 713 is powered. Moreover, the power consumption at the time of On was about 100 mW per 1 MZI. The insertion loss at On was about 2 dB including the fiber connection loss.

各2重MZI光スイッチ素子702のOnOff比は、動作波長域の1520〜1620nmにおける最悪値で評価した。また、チップ中には、合計64個の2重MZI光スイッチ素子702が集積されているが、チップ出荷時においては、最も特性の悪い素子における値が判定基準となるので、最悪素子における値をチップのOnOff比最悪値として評価した。   The OnOff ratio of each double MZI optical switch element 702 was evaluated with the worst value at 1520 to 1620 nm in the operating wavelength range. In addition, a total of 64 double MZI optical switch elements 702 are integrated in the chip. At the time of shipping the chip, the value of the element with the worst characteristics is used as the determination criterion. The chip was evaluated as the worst value of the OnOff ratio.

図12に、50チップ分のOnOff比最悪値データをまとめたものを示す。図12(a)は、本実施例の結果であり、図12(b)は、比較のために同時に作製した従来の同方向配置構成2重MZI光スイッチ素子によるスイッチチップの結果である。従来構成では、いくつかのチップでOnOff比最悪値が40dBを下回り、中には35dB程度しか得られないチップもあったが、本発明の構成では、全てのチップにおいて43dB以上の特性を安定に得ることができた。   FIG. 12 shows a summary of OnOff ratio worst value data for 50 chips. FIG. 12A shows the result of this example, and FIG. 12B shows the result of the switch chip by the conventional same-direction arrangement double MZI optical switch element fabricated at the same time for comparison. In the conventional configuration, the worst OnOff ratio of some chips is less than 40 dB, and some chips can only be obtained about 35 dB. However, in the configuration of the present invention, the characteristics of 43 dB or more are stable in all chips. I was able to get it.

[8×8マトリクススイッチ]
第2の実施例として作製した8×8のマトリクススイッチのレイアウトを図13に示す。8×8のマトリクススイッチ800全体の構成は、基本的に図3(b)に示した構成をN=8に直した構成とし、内部で使用される各2×2スイッチ素子801,802には、本発明の構成である図5(b)に示した方位反転配置の2重MZI光スイッチ素子510の構成を使用した。2重MZI光スイッチ素子を構成している各MZIには、半波長分の導波路長差ΔLを設け、前段MZIスイッチと後段MZIスイッチで、短アーム側/長アーム側を上下反転している。今回、EDFAの増幅帯域であるC帯(動作波長域:1530〜1560nm)での使用を前提として、動作波長中心λ0は、1545nmとし、更に本実施例では、オフセット位相を2%付加した。すなわち、通常のΔLよりも2%長い導波路長差を設けた。
[8x8 matrix switch]
FIG. 13 shows a layout of an 8 × 8 matrix switch manufactured as the second embodiment. The overall configuration of the 8 × 8 matrix switch 800 is basically a configuration in which the configuration shown in FIG. 3B is modified to N = 8, and each of the 2 × 2 switch elements 801 and 802 used internally has The configuration of the double MZI optical switch element 510 having the orientation inversion arrangement shown in FIG. 5B, which is the configuration of the present invention, was used. Each MZI constituting the double MZI optical switch element is provided with a waveguide length difference ΔL corresponding to a half wavelength, and the short arm side / long arm side is vertically inverted by the front stage MZI switch and the rear stage MZI switch. . This time, on the premise that the EDFA is used in the C band (operating wavelength range: 1530 to 1560 nm), the operating wavelength center λ0 is set to 1545 nm, and in this embodiment, an offset phase of 2% is added. That is, a waveguide length difference that is 2% longer than the normal ΔL is provided.

図13中、破線で囲んだ部分がそれぞれ2×2スイッチ素子801,802になっている。図3(b)に示した図よりもやや複雑に見えるが、これは各2×2スイッチ素子801,802の後段MZIスイッチを次列にある2×2スイッチの前段MZIスイッチと同じ段にレイアウトすることで、チップ長を短縮しているためである。尚、図面下部に記載している番号(1)〜(8)は2×2スイッチ素子801,802の各列の番号を表している。   In FIG. 13, portions surrounded by broken lines are 2 × 2 switch elements 801 and 802, respectively. Although it looks a little more complicated than the diagram shown in FIG. 3B, this is because the subsequent MZI switches of 2 × 2 switch elements 801 and 802 are laid out in the same stage as the previous MZI switch of the 2 × 2 switch in the next row. This is because the chip length is shortened. Note that the numbers (1) to (8) described in the lower part of the drawing represent the numbers of the respective columns of the 2 × 2 switch elements 801 and 802.

尚、今回の実施例では、奇数列目(1),(3),(5),(7)にある2×2スイッチ素子801の前段MZIスイッチ803は、上側を短アーム805に、後段MZIスイッチ804は、下側を短アーム807とし、偶数列目(2),(4),(6),(8)にある2×2スイッチ素子802の前段MZIスイッチ804は下側を短アーム807に、後段MZIスイッチ803は上側を短アーム805として、奇数列目と偶数列目で前段MZIでの短アーム配置を上下入れ替えている。このような構成A以外に、全ての2×2スイッチ素子の前段MZIスイッチは、上側を短アームに、後段MZIスイッチは、下側を短アームとして、前段MZIでの短アーム配置を統一する構成Bもある。いずれの構成も、前段MZIスイッチ/後段MZIスイッチで、短アーム側/長アーム側を上下反転するという本発明の構成である事に変わりはないが、前者の奇数列目と偶数列目で前段MZIでの短アーム配置を上下入れ替える構成Aの方が、以下の点で有利となる。   In the present embodiment, the front MZI switch 803 of the 2 × 2 switch element 801 in the odd-numbered columns (1), (3), (5), (7) has the upper side to the short arm 805 and the rear MZI. The switch 804 has a short arm 807 on the lower side, and the front MZI switch 804 of the 2 × 2 switch element 802 in the even-numbered columns (2), (4), (6), (8) has a short arm 807 on the lower side. Further, the rear MZI switch 803 has the short arm 805 on the upper side, and the short arm arrangement in the front MZI is switched upside down in the odd and even columns. In addition to the configuration A, the front MZI switch of all 2 × 2 switch elements has a short arm on the upper side, and the rear MZI switch has a short arm on the lower side, so that the short arm arrangement in the front MZI is unified. There is also B. Either configuration is the configuration of the present invention in which the short arm side / long arm side is turned upside down with the front stage MZI switch / back stage MZI switch, but the former stage in the odd-numbered row and the even-numbered row is the same. The configuration A in which the short arm arrangement in the MZI is switched up and down is advantageous in the following points.

位相誤差は、On経路におけるOnOff比の低下をもたらすだけでなく、同時にOff経路における損失の増加も引き起こす。この損失増加は、OnOff比低下に比較すると小さな量なので、多くの場合それ程大きな問題にならないが、本実施例のように通過スイッチ素子数が多い大規模なスイッチでは問題になってくる。構成Bの場合、方位依存誤差により例えば上側アームが長めになったとすると、全ての前段MZIスイッチのΔLはやや短めになり、全ての後段MZIスイッチのΔLはやや長めになる。ΔLがやや短めの場合、動作波長がやや短波よりにシフトするので、Off経路における損失増加は長波側でより顕著になる。ΔLがやや長めの場合は、この逆で短波側の損失増加が顕著になる。例えば、入力2から出力8への経路では、列(1)〜(7)までは前段MZIスイッチ(Off経路となっている)のみを通り、列(8)の2×2スイッチ素子で前段/後段MZIスイッチ両方(On経路となっている)を通るので、構成Bの場合は、長波側の損失増加のみが累積し、損失の波長依存性が大きくなる。   The phase error not only causes a decrease in the OnOff ratio in the On path, but also causes an increase in loss in the Off path. This increase in loss is a small amount compared to a decrease in OnOff ratio, and in many cases this is not a big problem, but it becomes a problem in a large-scale switch with a large number of passing switch elements as in this embodiment. In the case of the configuration B, if the upper arm becomes longer due to an orientation-dependent error, for example, ΔL of all the previous-stage MZI switches becomes slightly shorter, and ΔL of all the subsequent-stage MZI switches becomes slightly longer. When ΔL is slightly shorter, the operating wavelength is shifted slightly from the short wave, so that the loss increase in the Off path becomes more remarkable on the long wave side. On the contrary, when ΔL is slightly longer, the increase in loss on the short wave side becomes conspicuous. For example, in the path from the input 2 to the output 8, the columns (1) to (7) pass only through the previous stage MZI switch (off path), and the 2 × 2 switch elements in the column (8) Since both of the latter-stage MZI switches (which are On paths) are passed, in the case of the configuration B, only the increase in the loss on the long wave side is accumulated, and the wavelength dependency of the loss increases.

一方、構成Aの場合は、方位依存誤差により、奇数列目(1),(3),(5),(7)の2×2スイッチ素子801の前段MZIスイッチ803のΔLがやや短めになっても、偶数列目(2),(4),(6),(8)の2×2スイッチ素子802の前段MZIスイッチ804のΔLはやや長めになり、ΔLのズレが各列で入れ替わっているため、上記入力2から出力8への経路において、長波側の損失増加のみが累積することはなく、損失の波長依存性が緩和される。このように、奇数列目と偶数列目で前段MZIでの短アーム配置を上下入れ替える構成Aは、方位依存誤差による損失の波長依存性をいずれの経路においても緩和する効果がある。   On the other hand, in the case of the configuration A, ΔL of the preceding MZI switch 803 of the 2 × 2 switch element 801 in the odd-numbered columns (1), (3), (5), and (7) is slightly shortened due to the orientation dependent error. Even in the even-numbered columns (2), (4), (6), and (8), the ΔL of the preceding MZI switch 804 of the 2 × 2 switch element 802 is slightly longer, and the deviation of ΔL is switched in each column. Therefore, in the path from the input 2 to the output 8, only the increase in loss on the long wave side does not accumulate, and the wavelength dependency of loss is relaxed. As described above, the configuration A in which the short arm arrangement in the preceding stage MZI is switched up and down in the odd-numbered columns and the even-numbered columns has an effect of relaxing the wavelength dependency of the loss due to the azimuth-dependent error in any path.

このことは、本実施例のN×Nマトリクススイッチに特有の問題なのではなく、実施例1の1×Nタップスイッチにおいても同様であることは明確である。Nが大きい大規模な1×Nスイッチでは、本実施例同様に、奇数列目と偶数列目で前段MZIでの短アーム配置を上下入れ替える工夫を盛り込んだ方が望ましい。   This is not a problem peculiar to the N × N matrix switch of the present embodiment, but it is clear that the same applies to the 1 × N tap switch of the first embodiment. In a large 1 × N switch having a large N, it is desirable to incorporate a device for switching the short arm arrangement in the preceding stage MZI upside down in the odd and even columns as in the present embodiment.

本スイッチチップも、実施例1同様にシリコン基板上に石英系導波路にて作製した。導波路のコアとクラッドの比屈折率差は、0.75%である。チップサイズは13×106mmであった。また、熱光学移相器である薄膜ヒータ809の周辺は、消費電力低減のため微細加工技術により削除し、断熱溝810を形成している。On時の消費電力は、1MZIあたり約200mWであった。On時の挿入損失は、ファイバー接続損失込みで約2dBであった。   This switch chip was also fabricated on a silicon substrate with a quartz-based waveguide in the same manner as in Example 1. The relative refractive index difference between the core and the clad of the waveguide is 0.75%. The chip size was 13 × 106 mm. Further, the periphery of the thin film heater 809, which is a thermo-optic phase shifter, is deleted by a microfabrication technique to reduce power consumption, and a heat insulating groove 810 is formed. The power consumption at the time of On was about 200 mW per 1 MZI. The insertion loss at On was about 2 dB including the fiber connection loss.

各2重MZI光スイッチ素子のOnOff比は、実施例1同様に動作波長域(1520〜1560nm)における最悪値で評価した。また、チップ中には合計64個の2重MZI光スイッチ素子が集積されているが、チップ出荷時においては、最も特性の悪い素子における値が判定基準となるので、最悪素子における値をチップのOnOff比最悪値として評価した。   The OnOff ratio of each double MZI optical switch element was evaluated at the worst value in the operating wavelength range (1520 to 1560 nm) as in Example 1. In addition, a total of 64 double MZI optical switch elements are integrated in the chip. At the time of shipping the chip, the value of the element with the worst characteristics is used as the determination criterion. It was evaluated as the OnOff ratio worst value.

図14に、50チップ分のOnOff比最悪値データをまとめたものを示す。図14(a)は、本実施例の結果であり、図14(b)は、比較のために同時に作製した2%オフセット位相付加が無いチップにおける結果であり、図14(c)は、比較のために同時に作製した従来の同方向配置構成2重MZI光スイッチ素子における結果である。今回の実施例では、動作波長範囲が狭いこともあり、図14(c)の従来構成でもOnOff比最悪値が40dBをかろうじて上回ったが、本発明の構成である図14(a)、図14(b)では、全てのチップにおいて43dB以上の特性を得ることができた。また、本実施例のオフセット位相を付加した構成である図14(a)では最悪値44dB以上が得られ、付加しない構成である図14(b)の43dB以上と比べて、僅かではあるが特性を向上できた。動作波長範囲が狭いことは、等価的に等方性位相誤差が小さくなることを意味するので、今回の実施例ではオフセット位相付加が有効に働いたといえる。   FIG. 14 shows a summary of OnOff ratio worst value data for 50 chips. FIG. 14 (a) shows the results of this example, FIG. 14 (b) shows the results for a chip with no 2% offset phase added simultaneously for comparison, and FIG. 14 (c) shows the comparison. FIG. 6 is a result of a conventional MZI optical switch element having the same unidirectional arrangement manufactured at the same time. In this embodiment, the operating wavelength range is narrow, and the OnOff ratio worst value barely exceeded 40 dB even in the conventional configuration of FIG. 14C, but the configuration of the present invention is shown in FIGS. In (b), characteristics of 43 dB or more could be obtained in all the chips. Further, in FIG. 14A in which the offset phase is added according to the present embodiment, the worst value of 44 dB or more is obtained. Compared with 43 dB or more in FIG. I was able to improve. Since the narrow operating wavelength range means that the isotropic phase error is equivalently reduced, it can be said that the offset phase addition worked effectively in this embodiment.

[2×2スイッチ]
第3の実施例として作製した高消光比2×2スイッチチップ900の構成を図15に示す。図2に示す2重MZI光スイッチ200,210は、Thr入力からThr出力への経路は存在しない2入力2出力のスイッチであったが、本実施例の光スイッチ900は、4つのMZIスイッチ素子901,902,903,904で構成し、全ての入出力組み合わせが存在する2×2の光スイッチに、本発明を適用したものである。
[2x2 switch]
FIG. 15 shows the configuration of a high extinction ratio 2 × 2 switch chip 900 manufactured as the third embodiment. The double MZI optical switches 200 and 210 shown in FIG. 2 are two-input two-output switches in which there is no path from the Thr input to the Thr output. However, the optical switch 900 of this embodiment includes four MZI switch elements. The present invention is applied to a 2 × 2 optical switch composed of 901, 902, 903, and 904 and having all input / output combinations.

各MZIスイッチ素子901,902,903,904には半波長分の導波路長差を設け、前段MZIスイッチ素子901,902は、上側を短アーム905,907に下側を長アーム906,908にし、後段MZIスイッチ素子903,904は、上側を長アーム910,912に下側を短アーム909,911にしている。いずれにしても、前段MZIスイッチと後段MZIスイッチの長アーム/短アームの上下配置方向の相対関係が反転している点は前述の実施例と同じである。実施例1と同様に動作波長域1520〜1620nmでの使用を前提として、動作波長中心λ0は1570nmとした。   Each of the MZI switch elements 901, 902, 903, and 904 is provided with a waveguide length difference corresponding to a half wavelength, and the front MZI switch elements 901 and 902 have short arms 905 and 907 on the upper side and long arms 906 and 908 on the lower side. The rear stage MZI switch elements 903 and 904 have long arms 910 and 912 on the upper side and short arms 909 and 911 on the lower side. In any case, the relative relationship in the vertical arrangement direction of the long arm / short arm of the front-stage MZI switch and the rear-stage MZI switch is the same as in the previous embodiment. As in Example 1, the operating wavelength center λ 0 was set to 1570 nm on the premise of use in the operating wavelength range of 1520 to 1620 nm.

本スイッチチップも、実施例1および2と同様にシリコン基板上に石英系導波路にて作製した。導波路のコアとクラッドの比屈折率差は0.75%である。チップサイズは5×20mmであった。今回は、断熱溝を形成しておらず、On時の消費電力は、1MZIあたり約500mWであった。On時の挿入損失は、ファイバー接続損失込みで約1dBであった。   This switch chip was also fabricated on a silicon substrate with a quartz-based waveguide in the same manner as in Examples 1 and 2. The relative refractive index difference between the core and the clad of the waveguide is 0.75%. The chip size was 5 × 20 mm. This time, no heat insulating groove was formed, and the power consumption when On was about 500 mW per 1 MZI. The insertion loss at On was about 1 dB including the fiber connection loss.

クロス経路(入力1から出力2、及び入力2から出力1)OnOff比は、MZIの位相誤差で決定されるのではなく、主に方向性結合器の50%結合値からのズレで決定されるので、評価項目とはせず、バー経路(入力1から出力1、及び入力2から出力2)のみのOnOff比を実施例1および2と同様に最悪値で評価した。   The cross path (input 1 to output 2 and input 2 to output 1) OnOff ratio is not determined by the phase error of MZI, but mainly by the deviation from the 50% coupling value of the directional coupler. Therefore, the OnOff ratio of only the bar path (input 1 to output 1 and input 2 to output 2) was evaluated at the worst value in the same manner as in Examples 1 and 2, not as evaluation items.

本構成のチップでは、複数のチップにおいて42dB以上のOnOff比が安定に得られたのに対して、比較のために作製した前段/後段MZIスイッチ共に上側を短アームにした構成のチップでは、35dB程度しか得られないチップが散見された。   In the chip of this configuration, an OnOff ratio of 42 dB or more was stably obtained in a plurality of chips, whereas in the chip having a short arm on the upper side of both the front and rear MZI switches manufactured for comparison, 35 dB There were some chips that could only be obtained.

[合分波インターリーブフィルタ]
第4の実施例は、本発明を合分波器に適用したものである。図16に本実施例の合分波器1000の構成を示す。合分波器1000は、前述の光スイッチの実施例と基本的な考え方は同じであり、前段MZI分波素子1001は、下側を短アーム1004にし、後段MZI合分波素子1002,1003は、上側を短アーム1006,1008にして、前段MZI合分波素子と後段MZI合分波素子の長アーム/短アームの上下配置方向の相対関係が反転している点が、図4(b)に示す従来の構成である合分波器410と根本的に異なる。
[Multi / demultiplex interleave filter]
In the fourth embodiment, the present invention is applied to a multiplexer / demultiplexer. FIG. 16 shows the configuration of the multiplexer / demultiplexer 1000 of this embodiment. The basic concept of the multiplexer / demultiplexer 1000 is the same as that of the embodiment of the optical switch described above. The front MZI demultiplexing element 1001 has a short arm 1004 on the lower side, and the rear MZI multiplexing / demultiplexing elements 1002 and 1003 are FIG. 4 (b) shows that the upper arms are short arms 1006 and 1008, and the relative relationship in the vertical arrangement direction of the long arm / short arm of the front MZI multiplexer / demultiplexer and the rear MZI multiplexer / demultiplexer is reversed. This is fundamentally different from the multiplexer / demultiplexer 410 having the conventional configuration shown in FIG.

上述の構成とすることにより、スイッチの場合と同様の理由で、等方性誤差及び方位依存誤差による位相誤差に対するクロストーク特性低下の確率が小さくなり、製造誤差に強い構成になる。   With the above-described configuration, for the same reason as in the case of the switch, the probability of a reduction in crosstalk characteristics with respect to a phase error due to an isotropic error and an azimuth-dependent error is reduced, and the configuration is strong against manufacturing errors.

また、動作波長に関しても、以下に説明するように、製造誤差による波長シフトを受けにくい構成になっている。方位依存誤差により例えば上側アームが長めになったとすると、前段MZI合分波素子のΔLは、やや短めになり、後段MZI合分波素子のΔLは、やや長めになる。ΔLがやや短めの場合は動作波長がやや短波よりにシフトし、ΔLがやや長めの場合は動作波長がやや長波よりにシフトする。よって、前段MZI合分波素子1001と後段MZI合分波素子1002,1003の動作波長シフトは、キャンセルし合うので、2段トータルで見た時の動作波長中心はシフトしない。一方、従来構成の合分波器では、方位依存誤差による波長シフトが前段MZI合分波素子と後段MZI合分波素子で同じ方向にずれるので、方位依存誤差の影響がそのまま現れてしまう。このように、本実施例の構成は、方位依存誤差による波長シフトを受けにくい構成になっている。   In addition, the operating wavelength is less susceptible to wavelength shift due to manufacturing errors, as will be described below. If, for example, the upper arm becomes longer due to an orientation-dependent error, ΔL of the preceding MZI multiplexer / demultiplexer becomes slightly shorter, and ΔL of the subsequent MZI multiplexer / demultiplexer becomes slightly longer. When ΔL is slightly shorter, the operating wavelength is shifted slightly from the short wave, and when ΔL is slightly longer, the operating wavelength is shifted from the slightly longer wave. Therefore, since the operating wavelength shifts of the front-stage MZI multiplexing / demultiplexing element 1001 and the rear-stage MZI multiplexing / demultiplexing elements 1002 and 1003 cancel each other, the center of the operating wavelength when viewed as a total of the two stages does not shift. On the other hand, in the conventional multiplexer / demultiplexer, the wavelength shift due to the azimuth-dependent error is shifted in the same direction between the preceding MZI multiplexer / demultiplexer and the subsequent MZI multiplexer / demultiplexer, so the influence of the azimuth-dependent error appears as it is. As described above, the configuration of the present embodiment is less susceptible to wavelength shift due to the orientation dependent error.

尚、本実施例では、2本のアーム導波路からなる2光束の干渉計において、前段合分波素子と後段合分波素子の長アーム側/短アーム側の上下配置方向の相対関係が反転してレイアウトする構成が、方位依存誤差による波長シフトを受けにくいことを示したが、この考え方は、多数のアーム導波路からなる多光束の干渉計に拡張しても同様に得られることは明らかである。   In this embodiment, in a two-beam interferometer composed of two arm waveguides, the relative relationship between the upper and lower arrangement directions of the long-arm side / short-arm side of the front-stage multiplexing / demultiplexing element and the rear-stage multiplexing / demultiplexing element is reversed The layout configuration is less susceptible to wavelength shifts due to azimuth-dependent errors, but it is clear that this idea can be obtained by extending to a multi-beam interferometer consisting of many arm waveguides. It is.

以上、4つの実施例では、シリコン基板上の石英系導波路をベースとした光回路で実現したが、これは信頼性に優れ、光ファイバーとの接続親和性が高く、また、生産技術としても確立された技術で量産に向くためである。しかしながら、他の材料系の導波路、例えば、シリコン導波路や、LN導波路や高分子導波路等でも本実施例等で示した効果が同様に得られることに変わりは無いことを付記しておく。   As described above, in the four examples, an optical circuit based on a silica-based waveguide on a silicon substrate has been realized, but this is excellent in reliability, has high connection affinity with an optical fiber, and has been established as a production technology. This is because it is suitable for mass production. However, it should be noted that the effects shown in the present embodiment can be obtained in the same way even in waveguides of other material systems, such as silicon waveguides, LN waveguides, and polymer waveguides. deep.

また、以上の実施例並びに実施形態では、MZIを構成するカプラに方向性結合器を使用したが、本発明は、これに限定するものではなく、例えば、マルチモード干渉(MMI)カプラを使用しても、もちろん良い。また、1×2カプラや2×1カプラにおいては、1×2分岐器や2×1合流器を使用しても良い。但し、これらを同一のMZI中に混在して使用する場合には、位相特性が方向性結合器と異なるので、その分を光路長差として補正して使用する必要がある。いずれにしても、本発明が、所望の光路長差設計に対して方位依存位相誤差の影響が光学特性に及びにくい構成であることに変わりは無い。   In the above examples and embodiments, the directional coupler is used as the coupler constituting the MZI. However, the present invention is not limited to this. For example, a multimode interference (MMI) coupler is used. But of course. Further, in a 1 × 2 coupler or a 2 × 1 coupler, a 1 × 2 branching device or a 2 × 1 merger may be used. However, when these are used together in the same MZI, the phase characteristics are different from those of the directional coupler, so that it is necessary to correct the difference as an optical path length difference. In any case, the present invention still has a configuration in which the influence of the orientation-dependent phase error hardly affects the optical characteristics with respect to the desired optical path length difference design.

また、以上の実施例並びに実施形態では、2重MZI素子、すなわち2段のMZI素子による光干渉計回路について説明をしてきたが、これは、多くの実用光回路では、2段の素子を使用すれば十分なOnOff比や低クロストークが得られるためである。しかしながら、より高い特性を求める用途においては、この限りではなく、要求特性に応じてより多段の素子を使用することもある。この場合は、短アームが上側にあるMZI素子と短アームが下側にあるMZI素子を対にして考えれば、これまで述べてきた効果が得られることは、明らかである。従って、入力から出力までの間において、短アーム側が上側にあるMZI素子と短アーム側が下側にあるMZI素子が混在するよう配置すれば良く、好ましくは、MZI素子の長アーム/短アームの上下配置方向の数を均衡させる、すなわち、MZI素子の段数が奇数個の場合は差が1、偶数個の場合は差が0になるようにレイアウトすれば良いことが分かる。   In the above examples and embodiments, a double MZI element, that is, an optical interferometer circuit using a two-stage MZI element has been described. This is because many practical optical circuits use a two-stage element. This is because a sufficient OnOff ratio and low crosstalk can be obtained. However, in applications that require higher characteristics, this is not a limitation, and more stages of elements may be used depending on the required characteristics. In this case, if the MZI element with the short arm on the upper side and the MZI element with the short arm on the lower side are considered as a pair, it is clear that the effects described so far can be obtained. Accordingly, the MZI element with the short arm side on the upper side and the MZI element with the short arm side on the lower side may be arranged between the input and the output, and preferably the upper and lower sides of the long arm / short arm of the MZI element. It can be seen that the layout should be balanced so that the number of arrangement directions is balanced, that is, the difference is 1 when the number of MZI elements is an odd number, and the difference is 0 when the number is an even number.

尚、対にするMZI素子は、可能な限り近傍にあった方が、実行屈折率の分布形状が同一であると見なせる、すなわち、誤差δφbaseや誤差δφdirは、ほぼ同じ値になる確率が高くなる。従って、各段のMZI素子の長アーム/短アームの上下配置方向の数を単に均衡させるだけでなく、短アームが上側にあるMZI素子と短アームが下側にあるMZI素子を交互に配置して、この対となるMZI素子を近傍に配置した方がより好ましい。   It should be noted that the MZI elements to be paired can be regarded as having the same distribution shape of the effective refractive index when they are as close as possible, that is, the error δφbase and the error δφdir have a higher probability of being substantially the same value. . Therefore, the MZI elements with the short arm on the upper side and the MZI elements with the short arm on the lower side are alternately arranged, not only the number of the long arm / short arm in the vertical arrangement direction of the MZI elements in each stage is balanced. Thus, it is more preferable to arrange the MZI elements that form a pair in the vicinity.

図17、図18に3段以上のMZI素子を使用した導波路型光干渉計回路の配置の例を示す。図17は、それぞれ短アーム1105,1107,1109,1111と長アーム1106,1108,1110,1112とを備えるMZIスイッチ素子1101,1102,1103,1104の4段を接続した光スイッチ1100の構成を示す図であり、図18は、それぞれ短アーム1208,1210,1212,1214,1216,1218,1220と、長アーム1209,1211,1213,1215,1217,1219,1221とを備えるMZI合分波素子1201〜1207の4段を接続した合分波器1200の構成を示す図である。   17 and 18 show examples of the arrangement of waveguide type optical interferometer circuits using MZI elements having three or more stages. FIG. 17 shows a configuration of an optical switch 1100 in which four stages of MZI switch elements 1101, 1102, 1103, 1104 having short arms 1105, 1107, 1109, 1111 and long arms 1106, 1108, 1110, 1112 are connected. FIG. 18 is an MZI multiplexing / demultiplexing device 1201 including short arms 1208, 1210, 1212, 1214, 1216, 1218, 1220 and long arms 1209, 1211, 1213, 1215, 1217, 1219, 1221, respectively. It is a figure which shows the structure of the multiplexer / demultiplexer 1200 which connected 4 steps | paragraphs -1207.

導波路を使用するマッハツェンダー干渉計(MZI)型光スイッチの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the Mach-Zehnder interferometer (MZI) type | mold optical switch which uses a waveguide. 従来技術による2重MZI型光スイッチの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the double MZI type | mold optical switch by a prior art. 従来技術による大規模集積光スイッチの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the large-scale integrated optical switch by a prior art. 従来技術による導波路を使用したMZI型合分波器の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the MZI type | mold multiplexer / demultiplexer which uses the waveguide by a prior art. 本発明の第1の実施形態による導波路型光干渉計回路の一例として2重MZI型光スイッチの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the double MZI type | mold optical switch as an example of the waveguide type optical interferometer circuit by the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態による導波路型光干渉計回路の一例として2重MZI型光スイッチの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the double MZI type | mold optical switch as an example of the waveguide type optical interferometer circuit by the 2nd Embodiment of this invention. 従来技術と本発明の第1および第2の実施形態におけるOff時透過率の位相誤差依存性を比較して示す図である。It is a figure which compares and shows the phase error dependence of the transmittance | permeability at the time of Off in the prior art and the 1st and 2nd embodiment of this invention. 従来技術と本発明の第1および第2の実施形態における位相誤差に対するOnOff比分布を比較して示す図である。It is a figure which compares and shows OnOff ratio distribution with respect to the phase error in the prior art and the 1st and 2nd embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態による同位相オフセットを加えた構成とそうでない場合におけるOnOff比分布を比較して示す図である。It is a figure which compares and shows OnOff ratio distribution in the case where it is not so with the structure which added the same phase offset by the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施形態による逆位相オフセットを加えた構成とそうでない場合におけるOnOff比分布を比較して示す図である。It is a figure which compares and shows OnOff ratio distribution in the case where it is not so with the structure which added the antiphase offset by the 4th Embodiment of this invention. 本発明の実施例1の導波路型光干渉計回路である16連1×4スイッチの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the 16 series 1x4 switch which is a waveguide type optical interferometer circuit of Example 1 of this invention. 本発明の実施例1と従来技術におけるOnOff比の最悪値ヒストグラムを比較して示す図である。It is a figure which compares and shows the worst value histogram of OnOff ratio in Example 1 of this invention, and a prior art. 本発明の実施例2の導波路型光干渉計回路である8×8マトリクススイッチの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the 8x8 matrix switch which is a waveguide type optical interferometer circuit of Example 2 of this invention. 本発明の実施例2と、位相オフセットのない場合と、従来技術におけるOnOff比の最悪値ヒストグラムを比較して示す図である。It is a figure which compares and shows the worst value histogram of Example 2 of this invention, the case where there is no phase offset, and the OnOff ratio in a prior art. 本発明の実施例3の導波路型光干渉計回路である高消光比2×2スイッチの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the high extinction ratio 2x2 switch which is a waveguide type optical interferometer circuit of Example 3 of this invention. 本発明の実施例4の導波路型光干渉計回路である合分波インターリーブフィルタの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the multiplexing / demultiplexing interleave filter which is a waveguide type optical interferometer circuit of Example 4 of this invention. 本発明による導波路型光干渉計回路の一例としてMZI素子が3段以上で構成される光スイッチの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the optical switch comprised as an example of the waveguide type | mold optical interferometer circuit by this invention from which MZI element is 3 steps | paragraphs or more. 本発明による導波路型光干渉計回路の一例としてMZI素子が3段以上で構成される光合分波器の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the optical multiplexer / demultiplexer comprised as an example of the waveguide type | mold optical interferometer circuit by this invention in which an MZI element is 3 steps or more.

符号の説明Explanation of symbols

500,510,600,610 2重MZI型光スイッチ
501,511,601,611 前段MZIスイッチ素子
502,512,602,612 後段MZIスイッチ素子
503,505,513,515,603,605,613,615 短側導波路
504,506,514,516,604,606,614,616 長側導波路
500, 510, 600, 610 Double MZI type optical switches 501, 511, 601, 611 Pre-stage MZI switch elements 502, 512, 602, 612 Sub-stage MZI switch elements 503, 505, 513, 515, 603, 605, 613, 615 Short side waveguide 504, 506, 514, 516, 604, 606, 614, 616 Long side waveguide

Claims (9)

それぞれ独立した導波路型光干渉計を少なくとも2段に縦続して接続した導波路型光干渉計回路において、
前記導波路型光干渉計は、所望の光路長差を設けた導波路を有し、
前記少なくとも2段の導波路型光干渉計の一方の前記光路の長い方の導波路と、それぞれの前記導波路型光干渉計の入力側から出力側に引かれた中心線に対し、前記少なくとも2段の導波路型光干渉計のもう一方の前記光路の長い方の導波路とが反対の方向に配置されて構成されることを特徴とする導波路型光干渉計回路。
In a waveguide type optical interferometer circuit in which independent waveguide type optical interferometers are connected in cascade in at least two stages,
The waveguide type optical interferometer has a waveguide provided with a desired optical path length difference,
The at least two stages of the waveguide type optical interferometer, the longer one of the optical paths, and the center line drawn from the input side to the output side of each of the waveguide type optical interferometers, A waveguide-type optical interferometer circuit, characterized in that the other waveguide of the two-stage waveguide-type optical interferometer is arranged in the opposite direction.
前記一方の導波路型光干渉計の数と、前記もう一方の光路の長い方の導波路が反対の方向に配置された導波路型光干渉計の数との差が0または1であることを特徴とする請求項1に記載の導波路型光干渉計回路。   The difference between the number of the one waveguide optical interferometer and the number of the waveguide optical interferometers in which the longer waveguide of the other optical path is arranged in the opposite direction is 0 or 1 The waveguide type optical interferometer circuit according to claim 1. 前記一方の導波路型光干渉計と、前記もう一方の光路の長い方の導波路が反対の方向に配置された導波路型光干渉計が、交互に接続されて構成されることを特徴とする請求項1に記載の導波路型光干渉計回路。   The one waveguide type optical interferometer and the waveguide type optical interferometer in which the longer waveguide of the other optical path is disposed in the opposite direction are configured to be alternately connected. The waveguide type optical interferometer circuit according to claim 1. 前記導波路型光干渉計は、実効屈折率の平均的な面内分布に基づいて前記光路長差の値が補正されることを特徴とする請求項1に記載の導波路型光干渉計回路。   2. The waveguide optical interferometer circuit according to claim 1, wherein the optical path length difference value of the waveguide optical interferometer is corrected based on an average in-plane distribution of effective refractive index. . 前記導波路型光干渉計の全てに設けられた前記光路長差が前記所望の設計値よりも短く設定されるか、または長く設定されることを特徴とする請求項1に記載の導波路型光干渉計回路。   The waveguide type according to claim 1, wherein the optical path length difference provided in all of the waveguide type optical interferometers is set shorter or longer than the desired design value. Optical interferometer circuit. 前記一方の導波路型光干渉計に設けられた前記光路長差と、前記もう一方の光路の長い方の導波路が反対の方向に配置された導波路型光干渉計に設けられる前記光路長差について、
前記光路長差の一方が前記所望の設計値よりも短く設定され、かつ前記光路長差の他方が前記所望の設計値よりも長く設定されることを特徴とする請求項1に記載の導波路型光干渉計回路。
The optical path length provided in the waveguide type optical interferometer in which the difference between the optical path length provided in the one waveguide type optical interferometer and the longer waveguide of the other optical path are arranged in opposite directions About the difference
2. The waveguide according to claim 1, wherein one of the optical path length differences is set shorter than the desired design value, and the other of the optical path length differences is set longer than the desired design value. Type optical interferometer circuit.
前記導波路型光干渉計が2本のアーム導波路を有するマッハツェンダー干渉計であり、少なくとも一方のアーム導波路に移相器を備える導波路型光スイッチであることを特徴とする請求項1に記載の導波路型光干渉計回路。   The waveguide optical interferometer is a Mach-Zehnder interferometer having two arm waveguides, and is a waveguide optical switch having a phase shifter in at least one arm waveguide. A waveguide type optical interferometer circuit as described in 1. 前記導波路型光干渉計回路が前記導波路型光スイッチを複数個接続して形成される大規模スイッチであって、前記導波路型光スイッチの初段目において光路が長い方の導波路がレイアウトされている方向が、前記導波路型光スイッチの奇数列目と偶数列目で入れ替わり配置される導波路型光スイッチであることを特徴とする請求項7に記載の導波路型光干渉計回路。   The waveguide-type optical interferometer circuit is a large-scale switch formed by connecting a plurality of the waveguide-type optical switches, and the waveguide having the longer optical path is laid out in the first stage of the waveguide-type optical switch. 8. The waveguide type optical interferometer circuit according to claim 7, wherein the waveguide direction optical switch is a waveguide type optical switch that is arranged in an odd row and an even row in the waveguide type optical switch. . 前記導波路型光干渉計がN入力M出力カプラとM入力L出力カプラと、これに挟まれるM本のアーム導波路から成り、k番目のアーム導波路の長さがL=(k−1)・ΔL+L0;L0≧0の任意である導波路型光フィルタであることを特徴とする請求項1に記載の導波路型光干渉計回路。   The waveguide type optical interferometer includes an N input M output coupler, an M input L output coupler, and M arm waveguides sandwiched between them, and the length of the k th arm waveguide is L = (k−1). A waveguide-type optical interferometer circuit according to claim 1, wherein the waveguide-type optical interferometer circuit is any one of ΔL + L0 and L0 ≧ 0.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9377665B2 (en) 2013-05-31 2016-06-28 Fujitsu Optical Components Limited Optical modulator having a 2×2 coupler
US10248002B2 (en) 2015-03-30 2019-04-02 Nec Corporation Optical circuit, and optical switch using same
WO2022230145A1 (en) * 2021-04-28 2022-11-03 日本電信電話株式会社 Optical phase shifter, light switch, and light 90° hybrid

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05232333A (en) * 1992-02-24 1993-09-10 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Waveguide type optical multiplexer demultiplexer
JPH0667048A (en) * 1992-08-21 1994-03-11 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Waveguide type optical multiplexer/demultiplexer

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05232333A (en) * 1992-02-24 1993-09-10 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Waveguide type optical multiplexer demultiplexer
JPH0667048A (en) * 1992-08-21 1994-03-11 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Waveguide type optical multiplexer/demultiplexer

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9377665B2 (en) 2013-05-31 2016-06-28 Fujitsu Optical Components Limited Optical modulator having a 2×2 coupler
US10248002B2 (en) 2015-03-30 2019-04-02 Nec Corporation Optical circuit, and optical switch using same
WO2022230145A1 (en) * 2021-04-28 2022-11-03 日本電信電話株式会社 Optical phase shifter, light switch, and light 90° hybrid

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