JP2009156964A - Liquid crystal display and method for manufacturing it - Google Patents

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康夫 都甲
Hidekazu Kirita
英和 桐田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a liquid crystal display in which an identification mark is given to each liquid crystal cell, thereby attaining high traceability. <P>SOLUTION: A transparent film formed on a substrate is processed to a predetermined pattern 11 for liquid crystal display and patterns of two-dimensional bar codes 21, 22. The information represented by the two-dimensional codes 21, 22 may include manufacturing conditions. Thus, in the subsequent process to the patterning process, the two-dimensional bar codes 21, 22 are imaged, the manufacturing conditions are read from the obtained image, and the manufacturing process is performed according to the read manufacturing conditions, so that a mistake in setting the manufacturing conditions by a worker is reduced. Further, after the completion, the two-dimensional bar code 21 is read to directly confirm the manufacturing conditions. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、所望の形状にパターニングされた透明膜を備えた液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device including a transparent film patterned into a desired shape.

液晶表示装置に用いられる一般的な液晶セルは、従来、以下のような製造方法で製造されている。まず、ガラス基板にITO(Indium Tin Oxide)等の透明導電膜を蒸着し、フォトレジストを塗布した後、露光機にフォトマスクをセットし、所望のパターンを露光する。露光後は、現像、エッチングおよび剥離工程を行うことにより、透明導電膜を所望の電極パターンに加工する。ITO膜の上に配向膜をフレキソ印刷機またはインクジェット塗布装置等により塗布する。なお、配向膜を塗布する前に絶縁膜を塗布する場合もある。その後、配向膜にラビング処理を施す。ラビング処理まで終了した2枚の基板に、ギャップコントロール剤を散布した後、シール剤を印刷し、配向膜が向かい合うように重ね合わせた後、複数の液晶セルに分割する。その後、各液晶セルの2枚の基板間に液晶材料を注入した後、封止し、両外側面に偏光板を貼り付ける。これにより複数の液晶セルが完成する。   Conventional liquid crystal cells used in liquid crystal display devices are conventionally manufactured by the following manufacturing method. First, a transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide) is vapor-deposited on a glass substrate, and after applying a photoresist, a photomask is set in an exposure machine, and a desired pattern is exposed. After the exposure, the transparent conductive film is processed into a desired electrode pattern by developing, etching, and peeling processes. An alignment film is applied on the ITO film by a flexographic printing machine or an ink jet coating apparatus. Note that an insulating film may be applied before applying the alignment film. Thereafter, the alignment film is rubbed. After spraying a gap control agent on the two substrates that have been subjected to the rubbing process, a sealant is printed, and the alignment films are overlapped so as to face each other, and then divided into a plurality of liquid crystal cells. Then, after injecting a liquid crystal material between the two substrates of each liquid crystal cell, sealing is performed, and polarizing plates are attached to both outer side surfaces. Thereby, a plurality of liquid crystal cells are completed.

このように、液晶セルの製造には、透明導電膜の成膜工程およびそのパターニングのためのレジスト塗布、露光、現像、エッチングおよび剥離の各工程、配向膜の塗布工程、ラビング処理工程、ギャップコントロール剤散布工程、シール剤印刷工程、重ね合わせ工程、分割工程、液晶セル注入工程、封止工程、偏光板貼付工程が必要であり、製造工程が複雑である。これらの各工程の管理は、従来、基板のロット毎やカセット毎等に工程管理表をラインに流し、各工程の作業者が工程管理表を確認し、工程管理表に書かれている製造条件を製造装置に設定して実施するという方法が用いられている。   Thus, in the production of the liquid crystal cell, the transparent conductive film forming process and the resist coating, patterning, exposure, development, etching and peeling processes for the patterning, the alignment film coating process, the rubbing process, and the gap control are performed. An agent spraying step, a sealing agent printing step, an overlaying step, a dividing step, a liquid crystal cell injection step, a sealing step, and a polarizing plate pasting step are necessary, and the manufacturing process is complicated. Conventionally, the management of each of these processes is performed by flowing a process management table on the line for each substrate lot or cassette, and the manufacturing conditions written in the process management table are checked by the operator of each process. A method is used in which the process is set in a manufacturing apparatus.

一方、特許文献1には、半導体装置の製造工程を管理するために、半導体ウエハプロセスの最終工程付近で実施される金属配線のホトリソグラフィ工程において、チップIDおよびフレームIDを二次元バーコードパターンとして、チップ毎およびフレーム毎に投影露光し、マーキングすることが開示されている。これにより、例えばチップIDを読み取ってマッピングデータと照合することにより、ダイスボンド工程のチップの誤ピックアップの発生率を減少させること等が可能になる。   On the other hand, in Patent Document 1, in order to manage the manufacturing process of a semiconductor device, a chip ID and a frame ID are used as a two-dimensional barcode pattern in a photolithography process of a metal wiring performed near the final process of a semiconductor wafer process. In addition, it is disclosed to perform projection exposure and marking for each chip and each frame. As a result, for example, by reading the chip ID and collating it with the mapping data, it is possible to reduce the incidence of erroneous pickup of the chip in the die bonding process.

また、特許文献2には、液晶表示装置のカラーフィルタ等において、目視により識別可能な層の所定の座標位置に二次元バーコード等の識別マークを設けることが開示されている。これにより、識別マークが設けられた位置や二次元バーコード情報により、目視では見分けにくいカラーフィルタの品種を区別することができる。
特開平11−26333号公報 特開2004−219725号公報
Patent Document 2 discloses that an identification mark such as a two-dimensional barcode is provided at a predetermined coordinate position of a layer that can be visually identified in a color filter or the like of a liquid crystal display device. Accordingly, it is possible to distinguish the color filter types that are difficult to distinguish visually by the position where the identification mark is provided and the two-dimensional barcode information.
Japanese Patent Laid-Open No. 11-26333 JP 2004-219725 A

上述した従来の液晶表示装置のように、工程管理表で製造工程を管理する方法は、ロット毎やカセット毎等複数の基板についての工程管理表をロット毎、カセット毎にラインに流すため、工程管理の単位は、ロットやカセットになり、基板毎の工程管理はしていない。また、作業者が製造条件の設定ミスをすると不良が発生するが、この不良がどの工程でなぜ発生したものか、後で検証するのは難しい。通常、分割前の基板を検査した後に、作業者が製造番号をマーキングするが、その製造番号からは基板の大板の製造ロットとの関係を把握することができない。また、製品の製造番号から直接その製造条件を直接把握することはできず、工程表を参照してはじめて製造条件を知ることができる。さらに、作業者が製造条件の設定ミスをしている場合には、工程表とは製造条件が異なっており、製造条件を知ることができない。基板を液晶セルに分割すると、製造番号もわからず、製造条件との関係もわからないため、トレーサビリティが低い。   Like the conventional liquid crystal display device described above, the method of managing the manufacturing process with the process management table is a process because the process management table for a plurality of substrates such as for each lot or for each cassette flows on the line for each lot or for each cassette. The unit of management is a lot or cassette, and process management for each substrate is not performed. In addition, when an operator makes a mistake in setting manufacturing conditions, a defect occurs, but it is difficult to verify later in which process the defect has occurred. Usually, after inspecting the substrate before division, the operator marks the serial number, but the relationship with the manufacturing lot of the large board of the substrate cannot be grasped from the serial number. Further, the manufacturing conditions cannot be directly grasped directly from the product serial number, and the manufacturing conditions can be known only after referring to the process chart. Furthermore, when the operator has made a mistake in setting the manufacturing conditions, the manufacturing conditions are different from the process chart, and the manufacturing conditions cannot be known. When the substrate is divided into liquid crystal cells, the production number is not known, and the relationship with the production conditions is not known, so the traceability is low.

一方、液晶表示装置は、その性質上、カラーフィルタを除いた部材は透明体によって構成されている。このため、カラーフィルタを配置していない液晶セル本体に対して、着色層を加工して二次元バーコードを形成する特許文献1および特許文献2の技術をそのまま適用することはできない。   On the other hand, in the liquid crystal display device, the members excluding the color filter are constituted by a transparent body due to the property. For this reason, the techniques of Patent Document 1 and Patent Document 2 in which a colored layer is processed to form a two-dimensional barcode cannot be applied to a liquid crystal cell main body in which no color filter is arranged.

本発明の目的は、液晶セルごとに識別マークが付され、トレーサビリティの高い液晶表示装置の製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a manufacturing method of a liquid crystal display device having an identification mark for each liquid crystal cell and having high traceability.

上記目的を達成するために、本発明によれば、液晶表示装置の製造方法であって、基板上に形成された透明膜を、液晶表示のための所定のパターンおよび二次元バーコードのパターンに加工するパターニング工程を有する製造方法が提供される。これにより、液晶表示装置のように透明体から形成される装置であっても、透明膜で二次元バーコードを構成することにより識別マークを形成することができる。   In order to achieve the above object, according to the present invention, there is provided a method for manufacturing a liquid crystal display device, wherein a transparent film formed on a substrate is converted into a predetermined pattern and a two-dimensional barcode pattern for liquid crystal display. A manufacturing method having a patterning step to be processed is provided. Thereby, even if it is an apparatus formed from a transparent body like a liquid crystal display device, an identification mark can be formed by comprising a two-dimensional barcode with a transparent film.

パターニング工程で形成する二次元バーコードが表す情報には、製造条件を含ませることが可能である。パターニング工程の後の工程では、二次元バーコードを撮像し、得られた画像から製造条件を読み出し、読み出した製造条件に従って製造工程を実施することができる。これにより、作業者による製造条件の設定ミスを低減すること可能になる。また、完成後に二次元バーコードを読み出すことにより、製造条件を直接的に確認することができる。   The information represented by the two-dimensional barcode formed in the patterning process can include manufacturing conditions. In a step subsequent to the patterning step, a two-dimensional barcode can be imaged, a manufacturing condition can be read from the obtained image, and the manufacturing step can be performed according to the read manufacturing condition. Thereby, it becomes possible to reduce the setting mistake of the manufacturing conditions by an operator. Further, by reading the two-dimensional barcode after completion, the manufacturing conditions can be confirmed directly.

パターニング工程の後の工程では、製造ラインとして、製造工程を実施するための1以上の製造装置と、二次元バーコードの画像を撮像するセンサーと、前記画像から二次元バーコードの表す製造条件を読み出す読み出し部と、読み出した製造条件を1以上の製造装置に設定する設定部とを備える装置を用いることが可能である。これにより、二次元バーコードから読み出した製造条件を自動的に製造装置に設定することができるため、作業者の設定ミスを防止することができる。   In a process after the patterning process, as a manufacturing line, one or more manufacturing apparatuses for performing the manufacturing process, a sensor that captures an image of the two-dimensional barcode, and a manufacturing condition represented by the two-dimensional barcode from the image are set. It is possible to use an apparatus including a reading unit that reads out and a setting unit that sets the read manufacturing conditions in one or more manufacturing apparatuses. Thereby, since the manufacturing conditions read from the two-dimensional barcode can be automatically set in the manufacturing apparatus, an operator's setting mistake can be prevented.

透明膜としては、透明導電膜を用いることができる。透明導電膜は、所定の電極形状にパターニングされるため、二次元バーコードのパターンを同時に加工することにより、工程を増加させることなく二次元バーコードを形成できる。   A transparent conductive film can be used as the transparent film. Since the transparent conductive film is patterned into a predetermined electrode shape, a two-dimensional barcode can be formed without increasing the number of steps by simultaneously processing the two-dimensional barcode pattern.

二次元バーコードを撮像する際には、白色光を照射し、二次元バーコードを構成する透明膜からの反射光を、二次元バーコードの一つのドットが、撮像画素の5画素以上に対応する倍率で撮像することが好ましい。この条件で読み出すことにより、透明膜で形成された二次元バーコードであっても、明室内で高精度に読み出すことが可能である。   When imaging a two-dimensional barcode, irradiate white light and reflect light from the transparent film that makes up the two-dimensional barcode. One dot of the two-dimensional barcode corresponds to five or more pixels of the imaging pixel. It is preferable to pick up an image at a magnification. By reading under these conditions, even a two-dimensional barcode formed of a transparent film can be read with high accuracy in a bright room.

二次元バーコードを撮像する際には、基板の照明とは逆側の面に黒色板を配置することが可能である。   When imaging a two-dimensional barcode, it is possible to arrange a black plate on the surface opposite to the illumination of the substrate.

また、本発明によれば、以下のような液晶表示装置が提供される。すなわち、対向配置された一対の透明基板と、一対の透明基板の少なくとも一方に搭載された透明膜と、一対の透明基板に挟まれた液晶とを有する液晶表示装置であって、透明膜の一部は、二次元バーコードの形状に加工されているものである。   In addition, according to the present invention, the following liquid crystal display device is provided. That is, a liquid crystal display device having a pair of opposed transparent substrates, a transparent film mounted on at least one of the pair of transparent substrates, and a liquid crystal sandwiched between the pair of transparent substrates. The part is processed into the shape of a two-dimensional barcode.

上記透明膜は、一対の透明基板の対向面に配置された透明電極膜を用いることができる。二次元バーコードの表す情報には、当該液晶表示装置の製造工程で設定される製造条件を含ませることが可能である。二次元バーコードは、表示領域の外側に配置することが望ましい。   As the transparent film, a transparent electrode film disposed on the opposing surfaces of a pair of transparent substrates can be used. The information represented by the two-dimensional barcode can include manufacturing conditions set in the manufacturing process of the liquid crystal display device. The two-dimensional barcode is preferably arranged outside the display area.

本発明の一実施の形態の液晶表示装置について図面を用いて説明する。   A liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

本実施の形態の液晶表示装置の製造方法は、基板上に形成される透明膜のパターニングの際に、二次元バーコードのパターンを同時に形成する。透明膜の二次元バーコードは、コントラストが低く、通常は読み取り困難であるが、所定の条件で撮像することにより読み取ることができる。二次元バーコードの表す情報には、その基板のID識別情報のみならず、その基板に実施すべき製造条件情報が含まれている。これにより、二次元バーコード付与後の製造工程では、二次元バーコードから読み出した製造条件を製造装置に設定して製造を行う。   In the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present embodiment, a pattern of a two-dimensional barcode is simultaneously formed when patterning a transparent film formed on a substrate. The two-dimensional barcode of the transparent film has a low contrast and is usually difficult to read, but can be read by imaging under predetermined conditions. The information represented by the two-dimensional barcode includes not only ID identification information of the substrate but also manufacturing condition information to be performed on the substrate. Thereby, in the manufacturing process after giving a two-dimensional barcode, it manufactures by setting the manufacturing conditions read from the two-dimensional barcode to a manufacturing apparatus.

以下、本実施の形態の液晶表示装置の製造方法について説明する。まず、本製造方法により製造する液晶表示装置の構造について説明する。この液晶表示装置は、図1に示した構成の液晶セルに、不図示のバックライトおよび駆動回路を接続した構成である。液晶セルの表示形式は、ドットマトリクス表示であり、ここでは単純マトリクス表示を例に説明する。図1の液晶セルは、2枚のガラス基板10を一定の間隔を開けて対向させ、その間に液晶13を充填し、周囲をメインシール材14で封止した構造である。2枚のガラス基板10の対向面には、それぞれ透明電極膜11と、絶縁膜20と、配向膜12とが積層配置されている。透明電極膜11は、ここでは一例としてITO膜を用いるが、酸化錫膜や酸化亜鉛膜等の他の透明導電膜を用いることも可能である。   Hereinafter, a method for manufacturing the liquid crystal display device of the present embodiment will be described. First, the structure of the liquid crystal display device manufactured by this manufacturing method will be described. This liquid crystal display device has a configuration in which a backlight and a drive circuit (not shown) are connected to the liquid crystal cell having the configuration shown in FIG. The display format of the liquid crystal cell is a dot matrix display. Here, a simple matrix display will be described as an example. The liquid crystal cell of FIG. 1 has a structure in which two glass substrates 10 are opposed to each other with a predetermined interval, a liquid crystal 13 is filled therebetween, and the periphery is sealed with a main sealing material 14. A transparent electrode film 11, an insulating film 20, and an alignment film 12 are laminated on the opposing surfaces of the two glass substrates 10, respectively. As the transparent electrode film 11, an ITO film is used here as an example, but other transparent conductive films such as a tin oxide film and a zinc oxide film can also be used.

メインシール材14の外側には、図1のように一方のガラス基板10側から他方のガラス基板10の透明電極膜11への給電を可能にするための導通材15が配置されている。また、2枚のガラス基板10の外側には、それぞれ偏光板16が配置されている。   As shown in FIG. 1, a conductive material 15 is disposed outside the main seal material 14 to enable power supply from the one glass substrate 10 side to the transparent electrode film 11 of the other glass substrate 10. In addition, polarizing plates 16 are disposed on the outer sides of the two glass substrates 10, respectively.

一対の基板10の一方の透明電極膜11は、図2に全体図を、図3にその部分拡大図を示したように、単純マトリクス表示のために、表示領域23に平行に並べて配置された複数のライン状の電極を含む所定の電極形状にパターニングされている。他方の基板10の透明電極膜11は、上記一方の基板10の透明電極膜11のライン状の電極に対して直交する向きに並べられた複数のライン状電極を含む電極形状である。   One transparent electrode film 11 of the pair of substrates 10 is arranged in parallel with the display region 23 for simple matrix display, as shown in the overall view in FIG. 2 and the partially enlarged view in FIG. It is patterned into a predetermined electrode shape including a plurality of line-shaped electrodes. The transparent electrode film 11 of the other substrate 10 has an electrode shape including a plurality of line electrodes arranged in a direction orthogonal to the line electrode of the transparent electrode film 11 of the one substrate 10.

また、透明電極膜11は、上述の電極形状のみならず、それぞれ図2に示すように二次元バーコード21の形状にもパターニングされている。二次元バーコード21は、広く知られているように、情報量が多く、高密度印字が可能で、しかもデータ誤り検出機能や訂正機能がある等の特色がある。ここでは二次元バーコードとして、QRコード(登録商標)を用いる例について説明するが、Data Matrix、Veri Code、PDF417、Code49、Maxi Code(いずれも登録商標)等他の二次元バーコードを用いることも可能である。   Further, the transparent electrode film 11 is patterned not only in the above-described electrode shape but also in the shape of the two-dimensional barcode 21 as shown in FIG. As is widely known, the two-dimensional barcode 21 has features such as a large amount of information, high density printing, and a data error detection function and a correction function. Here, an example of using a QR code (registered trademark) as a two-dimensional barcode will be described, but other two-dimensional barcodes such as Data Matrix, Veri Code, PDF417, Code 49, and Maxi Code (all are registered trademarks) should be used. Is also possible.

二次元バーコード21が示す情報は、製品情報(製品名、露光実施日、ロット番号、ITO膜(透明電極膜11)の製造条件等)の他に、生産条件のデータすなわち工程プロセスを指示するデータを含む。工程プロセスデータには、材料名(絶縁膜20、配向膜12、メインシール材14、エンドシール剤、ギャップコントロール剤、液晶13、液晶13に添加するカイラル剤等)、絶縁膜20および配向膜12の熱処理条件、配向膜12の印刷条件(フレキソ印刷、インクジェット印刷、スクリーン印刷、ディスペンス条件の種類および条件など)、ラビング処理工程のラビング条件(クリアランス、ラビング方向、回転数など)、ギャップコントロール剤散布工程の条件(散布量など)、2枚の基板10の重ね合わせ工程の条件(合わせマークの位置、プレス圧、仮止め条件)、2枚の基板10のホットプレス条件(温度・時間、圧力など)、分割工程の基板10へのスクライブの条件(合わせマーク、カットプログラム番号、スクライブ圧など)、分割工程の基板10のブレイキング条件(圧力、プログラム番号など)、液晶13の注入工程の条件(真空度、ディップ時間等)、プレスエンドシール条件(プレス条件、時間、UV照射量など)、アセンブリ条件(偏光板16の材料・方向・サイズなど、光学補償板(不図示)の材料・方向・サイズなど)、フレキシブル配線の種類、バックライトの種類など)が含まれている。また、上記に加え、面付け位置(大板基板10中の当該透明電極膜11パターンの位置情報)等の情報を加えることも可能である。   In addition to product information (product name, exposure date, lot number, manufacturing condition of ITO film (transparent electrode film 11), etc.), information indicated by the two-dimensional barcode 21 indicates production condition data, that is, a process process. Contains data. The process process data includes material names (insulating film 20, alignment film 12, main seal material 14, end seal agent, gap control agent, liquid crystal 13, chiral agent added to liquid crystal 13, etc.), insulating film 20 and alignment film 12. Heat treatment conditions, alignment film 12 printing conditions (flexo printing, ink jet printing, screen printing, dispensing condition types and conditions, etc.), rubbing process rubbing conditions (clearance, rubbing direction, rotation speed, etc.), gap control agent spraying Process conditions (spraying amount, etc.), conditions for overlaying two substrates 10 (positions of alignment marks, press pressure, temporary fixing conditions), hot press conditions for two substrates 10 (temperature, time, pressure, etc.) ) Conditions for scribing to the substrate 10 in the dividing process (alignment mark, cut program number, scribing pressure) Etc.), Breaking conditions (pressure, program number, etc.) of the substrate 10 in the division process, injection process conditions (vacuum degree, dip time, etc.) of the liquid crystal 13, press end seal conditions (press conditions, time, UV irradiation amount, etc.) , Assembly conditions (material, direction, size, etc. of polarizing plate 16, material, direction, size, etc. of optical compensator (not shown), flexible wiring, backlight type, etc.) are included. In addition to the above, it is also possible to add information such as an imposition position (position information of the transparent electrode film 11 pattern in the large substrate 10).

図2の透明電極膜11のパターンは、一つの液晶セルのパターンを示しているが、製造時には、図4に示したように、大板と呼ばれる大きな基板10に複数(図4では9個)の液晶セルの透明電極膜11のパターンを並べて形成し、分割工程で9つの液晶セルに分割する。この場合、大板の基板10の端部にも透明電極膜11により二次元バーコード22を形成する。二次元バーコード22の示す情報は、二次元バーコード21の情報と同様である。図4の例では、大板基板10の端部には、二次元バーコード22を設けるスペースが確保しやすいため、二次元バーコード22を、分割後の各基板10用の二次元バーコード21よりもサイズを大きく形成している。   The pattern of the transparent electrode film 11 in FIG. 2 shows a pattern of one liquid crystal cell, but at the time of manufacture, as shown in FIG. 4, a plurality of large substrates 10 called large plates (nine in FIG. 4) are provided. The patterns of the transparent electrode film 11 of the liquid crystal cell are formed side by side and divided into nine liquid crystal cells in a dividing step. In this case, the two-dimensional barcode 22 is formed by the transparent electrode film 11 at the end of the large substrate 10. The information indicated by the two-dimensional barcode 22 is the same as the information of the two-dimensional barcode 21. In the example of FIG. 4, since it is easy to secure a space for providing the two-dimensional barcode 22 at the end of the large board 10, the two-dimensional barcode 21 for each substrate 10 after the division is divided. The size is larger than that.

つぎに、液晶セルの製造方法を図5を用いて説明する。   Next, a manufacturing method of the liquid crystal cell will be described with reference to FIG.

まず、ステップ501において、全面にITO膜が形成された大板のガラス基板10を用意し、これを図4に示したような透明電極膜11のパターンおよび二次元バーコード21、22のパターンに加工する。   First, in step 501, a large glass substrate 10 having an ITO film formed on the entire surface is prepared, and this is converted into the pattern of the transparent electrode film 11 and the pattern of the two-dimensional barcodes 21 and 22 as shown in FIG. Process.

具体的には、ITO膜付きのガラス基板10にレジストを全面コートし、レーザ直描装置を使って透明電極膜11および二次元バーコード21、22のパターンを露光する。露光機としては、光源の光をDMD(Digital Micromirror Device)に照射して、DMDで反射した光がレジスト上に照射される構成のものを用いる。光源は405nmの半導体レーザとする。レジストとしては、ここではポジタイプのレジスト(光が当たらない部分が残存する)を用いる。よって、残したい部分は光が照射されず、除去したい(現像したい)部分はレジストに光が照射されるように、予め作成した露光すべきパターンにしたがって、露光機のDMDから光源の光を選択的に照射し、レジストを露光する。例えば、予め別途作成しておいた透明電極膜11および二次元バーコード21、22のパターンの設計(CAD)データを露光機に受け渡し、DMDの動作を露光機によって制御させる。これにより、フォトマスクを作製する必要は無く、設計後すぐに量産することが可能である。   Specifically, a resist is coated on the entire glass substrate 10 with the ITO film, and the patterns of the transparent electrode film 11 and the two-dimensional barcodes 21 and 22 are exposed using a laser direct drawing apparatus. As the exposure device, one having a configuration in which light from a light source is irradiated onto a DMD (Digital Micromirror Device) and the light reflected by the DMD is irradiated onto the resist. The light source is a 405 nm semiconductor laser. As the resist, a positive type resist (a portion that does not receive light remains) is used here. Therefore, select the light of the light source from the DMD of the exposure machine according to the pattern to be exposed in advance so that the part to be left is not irradiated with light and the part to be removed (development) is irradiated with light on the resist. The resist is exposed. For example, the design (CAD) data of the transparent electrode film 11 and the two-dimensional barcodes 21 and 22 prepared separately in advance is transferred to the exposure machine, and the operation of the DMD is controlled by the exposure machine. Thus, it is not necessary to manufacture a photomask, and it can be mass-produced immediately after design.

大板基板10用の二次元バーコード22は、図4に示すように、大板基板10の端部の従来製品名が記載されていた領域に形成する。二次元バーコード21は、分割後の基板10の、従来面付け番号が記載されていた領域に露光する。   As shown in FIG. 4, the two-dimensional barcode 22 for the large board 10 is formed in an area where the conventional product name is written at the end of the large board 10. The two-dimensional barcode 21 is exposed to the area where the conventional imposition number has been written on the divided substrate 10.

露光後、ポジレジストを現像、ポストベークし、ITO膜をエッチングし、レジストをリムーブする。これにより、図2〜図4の透明電極膜11および二次元バーコード21、22が形成される。   After exposure, the positive resist is developed and post-baked, the ITO film is etched, and the resist is removed. Thereby, the transparent electrode film 11 and the two-dimensional barcodes 21 and 22 of FIGS. 2 to 4 are formed.

本工程のように、DMDを用いた直描露光機を用いることにより、毎回異なるパターンの透明電極膜11および二次元バーコード21、22を基板10上に形成できるため、ロット毎のみならず、基板10毎さらにはセル毎に必要な情報を入れた二次元バーコードパターンを書き込むことが可能である。   As in this process, by using a direct drawing exposure machine using DMD, the transparent electrode film 11 and the two-dimensional barcodes 21 and 22 having different patterns can be formed on the substrate 10 each time. It is possible to write a two-dimensional barcode pattern containing necessary information for each substrate 10 and for each cell.

つぎに、絶縁膜形成工程502により、透明電極膜11の上に絶縁膜20を形成する。本実施の形態の製造方法で用いる製造ラインは、図6に示したように、各工程をそれぞれ実施するための製造装置(印刷機64、65等)と、基板搬送装置66とを有する。各工程には、センサー61と、読み取り部62と、製造条件設定部63とが配置されている。センサー61は、基板10の二次元バーコード21、22を撮影する。読み取り部62は、位置決め機能、パターン認識機能およびバーコードリーダー機能を有し、センサー61の撮影した画像を処理して、パターン認識し、二次元バーコードの表す情報を読み出す。製造条件設定部63は、読み取り部62の読み出した情報の中から当該工程(絶縁膜形成工程502)についての工程プロセスデータを選択して、そのデータ(製造条件)を、当該工程の製造装置(工程502では印刷機)に設定する。基板10は、搬送装置66により各工程間を移動する。   Next, the insulating film 20 is formed on the transparent electrode film 11 by an insulating film forming step 502. As shown in FIG. 6, the manufacturing line used in the manufacturing method of the present embodiment includes a manufacturing apparatus (printing machines 64, 65, etc.) and a substrate transport apparatus 66 for performing each process. In each step, a sensor 61, a reading unit 62, and a manufacturing condition setting unit 63 are arranged. The sensor 61 images the two-dimensional barcodes 21 and 22 on the substrate 10. The reading unit 62 has a positioning function, a pattern recognition function, and a barcode reader function, processes an image captured by the sensor 61, recognizes a pattern, and reads information represented by the two-dimensional barcode. The manufacturing condition setting unit 63 selects process process data for the process (insulating film forming process 502) from the information read by the reading unit 62, and uses the data (manufacturing conditions) as a manufacturing apparatus ( In step 502, it is set to a printing press. The substrate 10 is moved between the processes by the transfer device 66.

ここでは、センサー61として、解像度640×480画素、1/3 インチCCDのものを用いる。図7(a),(b)に示すように、照明は同軸落射照明とし、照明光源73は白色光源を用いる。基板10の裏面側には、つや消しの黒色板74を配置した。   Here, the sensor 61 has a resolution of 640 × 480 pixels and a 1/3 inch CCD. As shown in FIGS. 7A and 7B, the illumination is coaxial epi-illumination, and the illumination light source 73 is a white light source. A matte black plate 74 is disposed on the back side of the substrate 10.

透明基板10上に透明導電膜で形成された二次元バーコード21、22は、通常コントラストが低く、認識することが難しいが、図7(a),(b)のような光学系を用い、センサー61と基板10との距離を調節することにより、CCD画素の5画素以上をバーコードの1ドットに割り当てる大きさに拡大して撮影する。これにより、暗室環境ではなく、外乱光のある製造ラインにおいても、正確に認識することが可能である。すなわち、分割前の大板基板10の場合の場合、大板基板10の端部のサイズの大きな二次元バーコード22を読み取るために、図7(a)のようにセンサー61と基板10との距離を大きくとり、分割後の各基板10の二次元バーコード22を読み取る場合には、図7(b)のようにセンサー61と基板10との距離を小さくする。これによりCCD画素の5画素以上をバーコードの1ドットに割り当てる大きさに拡大する。   The two-dimensional barcodes 21 and 22 formed of a transparent conductive film on the transparent substrate 10 usually have low contrast and are difficult to recognize, but using an optical system as shown in FIGS. By adjusting the distance between the sensor 61 and the substrate 10, the image is enlarged to a size that can allocate 5 pixels or more of the CCD pixels to one dot of the barcode. Thereby, it is possible to accurately recognize not only in a dark room environment but also in a production line with disturbance light. That is, in the case of the large substrate 10 before the division, in order to read the large two-dimensional barcode 22 at the end of the large substrate 10, the sensor 61 and the substrate 10 are connected as shown in FIG. When the distance is increased and the two-dimensional barcode 22 of each divided substrate 10 is read, the distance between the sensor 61 and the substrate 10 is decreased as shown in FIG. This expands the size so that 5 or more CCD pixels are allocated to one dot of the barcode.

よって、二次元バーコードサイズ21または22の最小サイズは、センサー61のCCD画素の5画素をバーコードの1ドットに割り当てる大きさに拡大できる最小サイズとなる。最大サイズは、センサー61のCCDの画素数に依存する。二次元バーコードのサイズが5.25×5.25mm(0.25mm角が21列)、CCDの画素数が640×480画素の場合、前記条件より96×96画素の二次元バーコードが最大となる。なお、図7(a),(b)では、基板10の上方にセンサー61を配置しているが、図6のように基板の裏面側から二次元バーコード21、22を撮影することも可能である。   Therefore, the minimum size of the two-dimensional barcode size 21 or 22 is a minimum size that can be expanded to a size that allocates five pixels of the CCD pixel of the sensor 61 to one dot of the barcode. The maximum size depends on the number of CCD pixels of the sensor 61. If the size of the 2D barcode is 5.25x5.25mm (0.25mm square is 21 rows) and the number of pixels of the CCD is 640x480 pixels, the 2D barcode of 96x96 pixels is the maximum from the above conditions. It becomes. 7A and 7B, the sensor 61 is disposed above the substrate 10, but it is also possible to photograph the two-dimensional barcodes 21 and 22 from the back side of the substrate as shown in FIG. It is.

図8及び図9は、実際に二次元バーコード21をセンサー61で読みとった画像および、認識により二次元バーコード21から読み取った文字列を示す表示画面の写真である。図8および図9のように、二次元バーコード21の向きが一定ではないにもかかわらず、エラー数0でバーコードの示す文字列を読みとっていることがわかる。図8および図9の例は、基板10の裏面より二次元バーコード21、22を読み取った例である。なお、二次元バーコードの特徴として、バーコードパターンの一部(10〜30%)に汚れや欠損があったとしても、復元して読み取ることが可能である。   8 and 9 are photographs of a display screen showing an image obtained by actually reading the two-dimensional barcode 21 with the sensor 61 and a character string read from the two-dimensional barcode 21 by recognition. As shown in FIG. 8 and FIG. 9, it can be seen that the character string indicated by the barcode is read with an error number of 0 even though the orientation of the two-dimensional barcode 21 is not constant. The examples of FIGS. 8 and 9 are examples in which the two-dimensional barcodes 21 and 22 are read from the back surface of the substrate 10. As a feature of the two-dimensional barcode, even if a part (10 to 30%) of the barcode pattern is soiled or missing, it can be restored and read.

読み取り部62は、二次元バーコード21または22から、絶縁膜20の材料(SiO(印刷可能なように有機物とSiOを混合))、厚み(800−1000オングストローム、屈折率1.5程度、透過率95%以上)、形成方法(フレキソ印刷法→レベリング1分→仮乾燥60℃・3分、ホットプレート(多段)→UV照射(照射条件)→熱処理270℃2時間(クリーンオーブン使用))という条件を読み出す。製造条件設定部63は、この条件を印刷機64に設定する。印刷機64は、設定された材料および条件で配向膜12を印刷する。これにより、作業者が設定を行う場合と比較して、設定ミスを無くすことができる。なお、分割前の大板基板10については、サイズの大きな二次元バーコード22を読み出すことにより、容易に製造条件を読み出すことができる。 The reading unit 62 reads from the two-dimensional barcode 21 or 22 the material of the insulating film 20 (SiO 2 (mixed with organic substance and SiO 2 so that it can be printed)), thickness (800-1000 angstrom, refractive index about 1.5). , Transmittance 95% or more), forming method (flexo printing method → leveling 1 minute → temporary drying 60 ° C., 3 minutes, hot plate (multistage) → UV irradiation (irradiation conditions) → heat treatment 270 ° C. 2 hours (using clean oven) ). The manufacturing condition setting unit 63 sets this condition in the printing machine 64. The printer 64 prints the alignment film 12 with the set material and conditions. Thereby, setting mistakes can be eliminated as compared with the case where the operator makes settings. In addition, about the large board | substrate 10 before a division | segmentation, a manufacturing condition can be easily read by reading the two-dimensional barcode 22 with a big size.

つぎに、配向膜形成工程503に進み、配向膜12を形成する。工程502と同様に、センサー61が読み取った画像から、読み取り部62は、二次元バーコード22が表す配向膜形成工程についての情報を読み取る。これにより、配向膜12の材料(一例として、ポリアミック酸タイプもしくは可溶性ポリイミド)、厚み(500−800オングストローム)、屈折率(1.5程度)、透過率(95%以上)、形成方法(フレキソ印刷法→レベリング1分→仮乾燥60℃・3分、ホットプレート(多段)→熱処理200℃・1.5時間(クリーンオーブン使用))、フレキソ印刷機の印刷条件(クリアランス、基板搬送速度、版の型番、印刷材料の種類など)を読み出す。製造条件設定部63は、この条件を印刷機65に設定する。印刷機65は、設定された材料および条件で配向膜12を印刷する。   Next, the process proceeds to an alignment film forming step 503 to form the alignment film 12. Similar to step 502, the reading unit 62 reads information about the alignment film forming step represented by the two-dimensional barcode 22 from the image read by the sensor 61. Thereby, the material of the alignment film 12 (for example, polyamic acid type or soluble polyimide), thickness (500-800 angstrom), refractive index (about 1.5), transmittance (95% or more), formation method (flexographic printing) Method → Leveling 1 minute → Temporary drying 60 ° C, 3 minutes, Hot plate (multistage) → Heat treatment 200 ° C, 1.5 hours (using a clean oven)), flexographic printing machine printing conditions (clearance, substrate transport speed, plate Read model number, type of printing material, etc.). The manufacturing condition setting unit 63 sets this condition in the printing machine 65. The printer 65 prints the alignment film 12 with the set material and conditions.

つぎに、ラビング工程504により配向膜12をラビング処理する。工程502と同様にセンサー61が撮影した二次元バーコード22の画像から、読み取り部62は、ラビング工程の条件を読み出す。すなわち、ラビング条件として、ローラー(基板)の角度、ローラー回転数、ローラー(基板)の移動速度、クリアランス(基板とローラーの距離)、布条件などである。製造条件設定部63は、この条件をラビング装置に設定する。ラビング装置は、設定された条件で配向膜12をラビング処理する。   Next, the alignment film 12 is rubbed by a rubbing step 504. Similar to step 502, the reading unit 62 reads the conditions of the rubbing step from the image of the two-dimensional barcode 22 captured by the sensor 61. That is, the rubbing conditions include the angle of the roller (substrate), the number of rotations of the roller, the moving speed of the roller (substrate), the clearance (distance between the substrate and the roller), the cloth condition, and the like. The manufacturing condition setting unit 63 sets this condition in the rubbing apparatus. The rubbing apparatus performs a rubbing process on the alignment film 12 under the set conditions.

つぎに、ギャップコントロール剤散布およびシール印刷工程505を実施する。センサー61が撮影した二次元バーコード22の画像から、読み取り部62は、ギャップコントロール剤散布条件およびメインシール材14の印刷条件を読み出す。すなわち、ギャップコントロール散布条件(エアー(窒素ガス)流量、電子ガンヘの印加電圧、ギャップコントロール剤の種類・粒径・散布量など)および、メインシール材14の仕上がりの線幅、印刷方法(スクリーン印刷条件(スキージ圧、移動速度、スクリーン版番号など)もしくはディスペンサー印刷条件(ヘッド−基板間距離、ヘッド(基板)移動速度、ヘッドの種類、吐出圧力など))等である。製造条件設定部63は、この条件を散布機および印刷機にそれぞれ設定する。散布機および印刷機は、設定された条件でギャップコントロール剤を散布し、メインシール材14を印刷する。   Next, a gap control agent spraying and seal printing step 505 is performed. From the image of the two-dimensional barcode 22 photographed by the sensor 61, the reading unit 62 reads the gap control agent spraying condition and the printing condition of the main seal material 14. That is, the gap control spraying conditions (air (nitrogen gas) flow rate, applied voltage to the electron gun, gap control agent type, particle size, spraying amount, etc.), the finished line width of the main sealant 14, and the printing method (screen printing) Conditions (squeegee pressure, moving speed, screen plate number, etc.) or dispenser printing conditions (head-substrate distance, head (substrate) moving speed, head type, discharge pressure, etc.)). The manufacturing condition setting unit 63 sets these conditions for the spreader and the printing machine, respectively. The spreading machine and the printing machine spray the gap control agent under the set conditions, and print the main sealing material 14.

つぎに、基板10の貼り合わせ工程506を実施する。センサー61が撮影した二次元バーコード22の画像から、読み取り部62は、基板10の貼り合わせ条件を読み出す。すなわち、重ね合せ機の条件(クリアランス時の基板間距離・圧力、重ね合せ圧力、仮止めUV照射条件、重ね合せマーク条件など)である。製造条件設定部63は、この条件を重ね合わせ機に設定する。重ね合わせ機は、設定された条件で2枚の基板10を貼り合わせる。   Next, the bonding process 506 of the board | substrate 10 is implemented. The reading unit 62 reads the bonding condition of the substrate 10 from the image of the two-dimensional barcode 22 photographed by the sensor 61. That is, the conditions of the superposition machine (distance and pressure between substrates at the time of clearance, superposition pressure, provisional UV irradiation conditions, superposition mark conditions, etc.). The manufacturing condition setting unit 63 sets this condition in the superposition machine. The superposition machine bonds the two substrates 10 under the set conditions.

つぎに、基板10の分割工程507を実施する。センサー61が撮影した二次元バーコード22の画像から、読み取り部62は、基板10の分割条件を読み出す。すなわち、スクライブ機のスクライブ条件(ヘッドと基板間距離、ヘッド圧力、ヘッド(基板)移動速度、ライン数・位置、基板サイズ条件など)及びブレイキング機のブレイキング条件(ヘッド押し込み量、ヘッド圧力、ヘッド(基板)移動速度、ライン数・位置、基板サイズ条件など)を読み出す。製造条件設定部63は、この条件をスクライブ機およびブレイキング機にそれぞれ設定する。重ね合わせ機は、設定された条件で2枚の基板10をスクライブし、ブレイキングすることにより分割する。   Next, the dividing process 507 of the substrate 10 is performed. The reading unit 62 reads the division condition of the substrate 10 from the image of the two-dimensional barcode 22 photographed by the sensor 61. That is, scribing machine scribing conditions (head-to-substrate distance, head pressure, head (substrate) moving speed, number of lines / positions, substrate size conditions, etc.) and breaking machine breaking conditions (head push-in amount, head pressure, head ( Board) moving speed, number of lines / position, board size condition, etc.). The manufacturing condition setting unit 63 sets this condition for each of the scribing machine and the breaking machine. The superimposing machine divides the two substrates 10 by scribing and breaking under the set conditions.

つぎに、液晶注入工程508を実施する。基板10は分割されているため、センサー61により二次元バーコード21の画像を撮像する。読み取り部62は、二次元バーコード21を読み取り、液晶注入条件を読み出す。すなわち、液晶注入機条件(到達真空度(真空引き時間)、液晶の種類、ディップ時間、大気開放条件など)を読み出す。製造条件設定部63は、この条件を液晶注入機に設定する。液晶注入機は、設定された条件で2枚の基板10の間隙に液晶13を注入する。   Next, a liquid crystal injection step 508 is performed. Since the substrate 10 is divided, the sensor 61 captures an image of the two-dimensional barcode 21. The reading unit 62 reads the two-dimensional barcode 21 and reads the liquid crystal injection conditions. That is, the liquid crystal injector conditions (degree of ultimate vacuum (evacuation time), liquid crystal type, dip time, air release conditions, etc.) are read out. The manufacturing condition setting unit 63 sets this condition for the liquid crystal injector. The liquid crystal injector injects the liquid crystal 13 into the gap between the two substrates 10 under the set conditions.

つぎに、封止工程509を実施する。センサー61が撮像した二次元バーコード21から、読み取り部62は、封止条件を読み出す。すなわち、封止機条件(ヘッド−基板10間距離、ヘッド(基板10)移動速度、エンドシール剤(紫外線効果樹脂)の種類、吐出圧力、エンドシール剤へのUV(紫外線)照射条件など)を読み出す。製造条件設定部63は、この条件を封止機に設定する。封止機は、設定された条件でメインシール剤14の開口をエンドシール剤で封止する。   Next, the sealing step 509 is performed. From the two-dimensional barcode 21 imaged by the sensor 61, the reading unit 62 reads the sealing condition. That is, the sealing machine conditions (head-substrate 10 distance, head (substrate 10) moving speed, end seal agent (ultraviolet effect resin) type, discharge pressure, end seal agent UV (ultraviolet) irradiation conditions, etc.) read out. The manufacturing condition setting unit 63 sets this condition in the sealing machine. The sealing machine seals the opening of the main sealant 14 with the end sealant under the set conditions.

つぎに、面取り洗浄工程510を実施する。センサー61が撮像した二次元バーコード21から、読み取り部62は、洗浄条件を読み出す。製造条件設定部63は、この条件を洗浄機に設定する。基板10の切断面の角を作業者がヤスリ等で面取り加工した後、封止機は、設定された条件で基板を洗浄し、ガラスゴミ等を洗い落とす。   Next, a chamfer cleaning process 510 is performed. From the two-dimensional barcode 21 imaged by the sensor 61, the reading unit 62 reads the cleaning condition. The manufacturing condition setting unit 63 sets this condition for the washing machine. After the operator chamfers the corners of the cut surface of the substrate 10 with a file or the like, the sealing machine cleans the substrate under the set conditions to wash off glass dust and the like.

つぎに、偏光板貼付け工程511を実施する。センサー61が撮像した二次元バーコード21から、読み取り部62は、偏光板16の貼り付け条件(偏光板種類、角度、大きさなど)を読み出す。製造条件設定部63は、この条件を偏光板貼り機に設定する。偏光板貼り機は、設定された条件で偏光板16の種類を選択し、設定された角度で貼り付ける。   Next, a polarizing plate attaching step 511 is performed. From the two-dimensional barcode 21 imaged by the sensor 61, the reading unit 62 reads the affixing conditions (polarizing plate type, angle, size, etc.) of the polarizing plate 16. The manufacturing condition setting unit 63 sets this condition in the polarizing plate applicator. The polarizing plate applicator selects the type of polarizing plate 16 under the set conditions, and pastes it at the set angle.

つぎに、偏光板上印刷工程512を実施する。センサー61が撮像した二次元バーコード21から、読み取り部62は、偏光板16上に印刷を行うかどうか、行う場合には印刷条件(印刷パターン、カラー、位置、印刷圧力など)を読み出す。印刷を行う場合、製造条件設定部63は、この条件を印刷機に設定する。印刷機は、設定された印刷パターンを設定された条件で偏光板16に印刷する。   Next, the polarizing plate printing step 512 is performed. From the two-dimensional barcode 21 imaged by the sensor 61, the reading unit 62 reads whether or not to perform printing on the polarizing plate 16, and if so, printing conditions (printing pattern, color, position, printing pressure, etc.). When printing is performed, the manufacturing condition setting unit 63 sets this condition in the printing press. The printing machine prints the set print pattern on the polarizing plate 16 under the set conditions.

つぎに、ピン挿入工程513を実施する。センサー61が撮像した二次元バーコード21から、読み取り部62は、透明電極膜11の端子部に電極ピンを挿入するタイプかどうか、挿入する場合にはその条件(ピンの種類、ピッチ、長さ、圧力など)を読み出す。製造条件設定部63は、この条件をピン挿入機に設定する。ピン挿入機は、設定された種類のピンを設定された条件で挿入する。その後、作業者は、ピンの挿入部を樹脂でコーティングする。   Next, a pin insertion step 513 is performed. From the two-dimensional barcode 21 imaged by the sensor 61, the reading unit 62 determines whether or not it is a type in which an electrode pin is inserted into the terminal portion of the transparent electrode film 11, and if so, the conditions (pin type, pitch, length). , Pressure, etc.). The manufacturing condition setting unit 63 sets this condition in the pin insertion machine. The pin insertion machine inserts a set type of pins under set conditions. Thereafter, the operator coats the pin insertion portion with resin.

以上の工程により、液晶セルが完成する。この液晶セルに、バックライトや電気回路等を公知の手法により取り付け、液晶表示装置を完成させる。   The liquid crystal cell is completed through the above steps. A backlight, an electric circuit, and the like are attached to the liquid crystal cell by a known method to complete a liquid crystal display device.

上述してきた本実施の形態の製造方法では、製造工程の少なくとも1つのフォトリソ工程における露光を、予め作成した描画パターンに基づいて自由に露光位置を変えられる露光機を用いて行うことにより、露光機により基板上に描かれるパターンの中に二次元バーコードパターンを含ませることができる。よって、フォトリソ工程の後に行われる少なくとも1つの工程において、二次元バーコードパターンを読み取る機能、及び読み取り結果を反映して製造条件を変更する機能を有する製造装置を用いることにより、読み取り結果を生産管理データとして使用することができる。   In the manufacturing method of the present embodiment described above, exposure in at least one photolithography process of the manufacturing process is performed using an exposure machine that can freely change the exposure position based on a drawing pattern created in advance. Thus, the two-dimensional barcode pattern can be included in the pattern drawn on the substrate. Therefore, in at least one process performed after the photolithography process, the reading result is produced and managed by using a manufacturing apparatus having a function of reading a two-dimensional barcode pattern and a function of changing manufacturing conditions reflecting the reading result. Can be used as data.

また、各工程ごと(製造装置ごとに)バーコードを読み取り、その内容で製造条件の設定をすることができるため、作業者の設定ミスをなくすことができ、作業者の設定ミスによる不良発生がなくなるという効果が得られる。特に、ラビング工程504、印刷工程505など、従来作業員の設定ミスの多い工程で有効である。   In addition, since the barcode can be read for each process (for each manufacturing device) and the manufacturing conditions can be set according to the contents, it is possible to eliminate the operator's setting error and to cause defects due to the operator's setting error. The effect of disappearing is obtained. In particular, this is effective in processes where there are many setting errors of conventional workers, such as a rubbing process 504 and a printing process 505.

また、工程毎に生産データ(製造条件)がリアルタイムで収集できるため、ラインの生産データの可視化を実現できる。   Moreover, since production data (manufacturing conditions) can be collected in real time for each process, the production data of the line can be visualized.

また、製造装置へ大板基板10を投入する前に二次元バーコード22を読み取ることにより、設定条件と製造すべき製品の整合を取ることができるため、基板10の誤投入が無くなるという効果も得られる。   Further, by reading the two-dimensional bar code 22 before loading the large board 10 into the manufacturing apparatus, it is possible to match the set conditions with the product to be manufactured. can get.

また、二次元バーコード21は、液晶セル完成後にも残存し、二次元バーコード21には、製造条件が書き込まれ、必要に応じて詳細な識別番号(ロット番号等)も書き込める。これにより、トレーサビリティが完全になる。出荷前の検査、信頼性試験後の検査や出荷後のクレーム等によって不良が明らかになったセルの製造条件を二次元バーコードで読み取り、不良発生の原因を特定し、結果を今後の製造条件に反映することができる。   The two-dimensional barcode 21 remains even after the liquid crystal cell is completed, and manufacturing conditions are written in the two-dimensional barcode 21, and a detailed identification number (lot number or the like) can be written as necessary. This completes traceability. The manufacturing conditions of a cell that has been found to be defective by inspection before shipment, inspection after reliability testing, or claims after shipment are read with a two-dimensional barcode, the cause of the defect is identified, and the result is determined in the future manufacturing conditions. Can be reflected.

上記実施の形態では、二次元バーコードを構成する材料について透明電極膜11の例を示したが、他の透明膜、例えば透明絶縁膜20(SiN、SiOなど)、配向膜12の一部を二次元バーコード21、22の形状に加工することも可能である。また、金属膜(Al、Mo、Crなど)、半導体膜(Siなど)、カラーフィルタ膜、ブラックマトリクス膜等が配置される場合には、これらを二次元バーコードの形状に加工することも可能である。 In the above embodiment, the example of the transparent electrode film 11 is shown for the material constituting the two-dimensional barcode. However, other transparent films such as the transparent insulating film 20 (SiN, SiO 2, etc.) and a part of the alignment film 12 are used. Can be processed into the shape of the two-dimensional barcodes 21 and 22. In addition, when a metal film (Al, Mo, Cr, etc.), a semiconductor film (Si, etc.), a color filter film, a black matrix film, etc. are disposed, these can be processed into a two-dimensional barcode shape. It is.

また、露光装置についても、上記露光機に限定されるものではなく、別波長のレーザや水銀ランプを光源とするものでもよい。レジストは、ポジタイプに限られるものではなく、ネガタイプでも良い。   Also, the exposure apparatus is not limited to the above-described exposure machine, and a laser having a different wavelength or a mercury lamp may be used as a light source. The resist is not limited to the positive type, and may be a negative type.

なお、上述の実施の形態では、対向配置される一対の基板10の各透明電極膜11にそれぞれ二次元バーコード21,22を形成する例について説明したが、いずれか一方の基板10の透明電極膜11のみに二次元バーコード21,22を形成する構成にすることも可能である。   In the above-described embodiment, the example in which the two-dimensional barcodes 21 and 22 are respectively formed on the transparent electrode films 11 of the pair of substrates 10 arranged to face each other has been described. A configuration in which the two-dimensional barcodes 21 and 22 are formed only on the film 11 is also possible.

本発明の液晶表示装置は、液晶表示装置を用いる製品全般に用いることができる。特に、車載用ディスプレイ(カーナビゲーション、マルチインフォメーション、クラスタ表示、センターコンソール等)、航空機用ディスプレイ、遊戯用表示装置、携帯電話・DSC(デジタル スチール カメラ)用表示部、オーディオ装置、テレビ、パーソナルコンピュータ用表示装置の表示部に適用することができる。   The liquid crystal display device of the present invention can be used for all products using the liquid crystal display device. In particular, in-vehicle displays (car navigation, multi-information, cluster display, center console, etc.), aircraft displays, display devices for games, display units for mobile phones and DSCs (digital still cameras), audio devices, televisions, personal computers The present invention can be applied to a display portion of a display device.

本実施の形態の液晶セルの断面構造を示す説明図。Explanatory drawing which shows the cross-section of the liquid crystal cell of this Embodiment. 本実施の形態の液晶セルの透明電極膜11の形状および二次元バーコード21の形状を示す上面図。FIG. 3 is a top view showing the shape of the transparent electrode film 11 and the shape of the two-dimensional barcode 21 of the liquid crystal cell of the present embodiment. 図2の一部拡大図。FIG. 3 is a partially enlarged view of FIG. 2. 本実施の形態の液晶セルの製造方法において、大板基板10に形成する複数の液晶セルの透明電極膜11および二次元バーコード22の形状を示す上面図。FIG. 3 is a top view showing the shapes of a transparent electrode film 11 and a two-dimensional barcode 22 of a plurality of liquid crystal cells formed on a large substrate 10 in the liquid crystal cell manufacturing method of the present embodiment. 本実施の形態の製造方法において、工程の流れを示す説明図。Explanatory drawing which shows the flow of a process in the manufacturing method of this Embodiment. 本実施の形態の製造方法に用いる製造ラインの一部構成を示すブロック図。The block diagram which shows the partial structure of the manufacturing line used for the manufacturing method of this Embodiment. (a)本実施の形態の製造工程において、二次元バーコード22を認識する際のセンサー61と照明光源73と基板10との位置関係を示す説明図、(b)二次元バーコード21を認識する際のセンサー61と照明光源73と基板10との位置関係を示す説明図。(A) Explanatory drawing which shows the positional relationship of the sensor 61, the illumination light source 73, and the board | substrate 10 at the time of recognizing the two-dimensional barcode 22 in the manufacturing process of this Embodiment, (b) Recognizing the two-dimensional barcode 21 Explanatory drawing which shows the positional relationship of the sensor 61, the illumination light source 73, and the board | substrate 10 at the time of doing. 本実施の形態において、二次元バーコード21をセンサーで撮像した画像および読み取った文字列を示す画面の写真。In this Embodiment, the photograph of the screen which shows the image and the read character string which imaged the two-dimensional barcode 21 with the sensor. 本実施の形態において、二次元バーコード21をセンサーで撮像した画像および読み取った文字列を示す画面の写真。In this Embodiment, the photograph of the screen which shows the image and the read character string which imaged the two-dimensional barcode 21 with the sensor.

符号の説明Explanation of symbols

10…ガラス基板、11…ITO膜、12…配向膜、13…液晶、14…メインシール材、15…導通材、16…偏光板、20…絶縁膜、21…二次元バーコード、22…二次元バーコード、23…表示領域、61…センサー、62…読み取り部、63…製造条件設定部、64…印刷機、65…印刷機、66…搬送装置、74…黒色板。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Glass substrate, 11 ... ITO film, 12 ... Orientation film, 13 ... Liquid crystal, 14 ... Main seal material, 15 ... Conductive material, 16 ... Polarizing plate, 20 ... Insulating film, 21 ... Two-dimensional barcode, 22 ... Two Dimensional bar code, 23 ... display area, 61 ... sensor, 62 ... reading unit, 63 ... manufacturing condition setting unit, 64 ... printing machine, 65 ... printing machine, 66 ... transport device, 74 ... black plate.

Claims (10)

液晶表示装置の製造方法であって、
基板上に形成された透明膜を、液晶表示のための所定のパターンおよび二次元バーコードのパターンに加工するパターニング工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
A method of manufacturing a liquid crystal display device,
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising a patterning step of processing a transparent film formed on a substrate into a predetermined pattern for liquid crystal display and a two-dimensional barcode pattern.
請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記パターニング工程で形成する前記二次元バーコードが表す情報には、製造条件が含まれ、
前記パターニング工程の後の工程では、前記二次元バーコードを撮像し、得られた画像から前記製造条件を読み出し、読み出した製造条件に従って製造工程を実施することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the liquid crystal display device of Claim 1,
Information represented by the two-dimensional barcode formed in the patterning step includes manufacturing conditions,
In a step subsequent to the patterning step, the two-dimensional barcode is imaged, the manufacturing conditions are read from the obtained image, and the manufacturing steps are performed according to the read manufacturing conditions. .
請求項1または2に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記パターニング工程の後の工程では、製造ラインとして、製造工程を実施するための1以上の製造装置と、前記二次元バーコードの画像を撮像するセンサーと、前記画像から二次元バーコードの表す前記製造条件を読み出す読み出し部と、読み出した前記製造条件を前記1以上の製造装置に設定する設定部とを備える装置を用いることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the liquid crystal display device of Claim 1 or 2,
In a step after the patterning step, as a manufacturing line, one or more manufacturing apparatuses for performing the manufacturing step, a sensor that captures an image of the two-dimensional barcode, and the two-dimensional barcode represented from the image A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: an apparatus including a reading unit that reads manufacturing conditions; and a setting unit that sets the read manufacturing conditions in the one or more manufacturing apparatuses.
請求項1ないし3のいずれか1項に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記パターニング工程は、前記透明膜として透明導電膜を加工する工程であることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the liquid crystal display device of any one of Claim 1 thru | or 3,
The method for manufacturing a liquid crystal display device, wherein the patterning step is a step of processing a transparent conductive film as the transparent film.
請求項2ないし4のいずれか1項に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記二次元バーコードを撮像する際には、白色光を照射し、前記二次元バーコードを構成する前記透明膜からの反射光を、二次元バーコードの一つのドットが撮像画素の5画素以上に対応する倍率で撮像することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the liquid crystal display device of any one of Claim 2 thru | or 4,
When imaging the two-dimensional barcode, irradiate white light and reflect light from the transparent film constituting the two-dimensional barcode, and one dot of the two-dimensional barcode is 5 pixels or more of the imaging pixels. A method for manufacturing a liquid crystal display device, characterized in that imaging is performed at a magnification corresponding to.
請求項5に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記二次元バーコードを撮像する際には、前記基板の前記照明とは逆側の面に黒色板を配置することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the liquid crystal display device of Claim 5,
A method of manufacturing a liquid crystal display device, wherein a black plate is disposed on a surface of the substrate opposite to the illumination when imaging the two-dimensional barcode.
対向配置された一対の透明基板と、前記一対の透明基板の少なくとも一方に搭載された透明膜と、前記一対の透明基板に挟まれた液晶とを有する液晶表示装置において、
前記透明膜の一部は、二次元バーコードの形状に加工されていることを特徴とする液晶表示装置。
In a liquid crystal display device having a pair of opposed transparent substrates, a transparent film mounted on at least one of the pair of transparent substrates, and a liquid crystal sandwiched between the pair of transparent substrates,
A part of the transparent film is processed into a two-dimensional barcode shape.
請求項7に記載の液晶表示装置において、前記透明膜は、前記一対の透明基板の対向面にそれぞれ配置された透明電極膜であることを特徴とする液晶表示装置。   8. The liquid crystal display device according to claim 7, wherein the transparent film is a transparent electrode film disposed on an opposing surface of the pair of transparent substrates. 9. 請求項7または8に記載の液晶表示装置において、前記二次元バーコードの表す情報には、当該液晶表示装置の製造工程で設定される製造条件が含まれることを特徴とする液晶表示装置。   9. The liquid crystal display device according to claim 7, wherein the information represented by the two-dimensional barcode includes manufacturing conditions set in a manufacturing process of the liquid crystal display device. 請求項7ないし9のいずれか1項に記載の液晶表示装置において、前記二次元バーコードは、表示領域の外側に配置されていることを特徴とする液晶表示装置。   10. The liquid crystal display device according to claim 7, wherein the two-dimensional bar code is disposed outside a display area.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012104512A (en) * 2010-11-05 2012-05-31 Sharp Corp Thin film solar cell module and method of manufacturing the same
CN111859478A (en) * 2020-06-16 2020-10-30 广东新一系实业有限公司 Ready-made garment manufacturing method based on industrial two-dimensional code technology

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