JP2009152065A - Phosphor paste for plasma display panel, and plasma display panel - Google Patents

Phosphor paste for plasma display panel, and plasma display panel Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a phosphor paste for a plasma display panel capable of quickly carrying out patterning with high definition, and to provide a plasma display panel. <P>SOLUTION: The phosphor paste for the plasma display panel contains acrylic resin or methacrylic resin dissolved in an organic solvent, and a phosphor added to the acrylic resin or methacrylic resin. When a first normal stress difference of the phosphor paste for the plasma display panel with a shear rate of 4,000 sec<SP>-1</SP>is denoted by NF, and a viscosity at 23°C and a shear rate of 4,000 sec<SP>-1</SP>is denoted by η, a value Y obtained by dividing NF by η: Y=NF/η is to be 4,000 or less. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストおよびプラズマディスプレイパネルに関する。   The present invention relates to a phosphor paste for a plasma display panel and a plasma display panel.

近年、プラズマディスプレイの製造に用いられる蛍光体ペーストのパターニング方法として、スクリーン印刷法やディスペンサーによる自動塗布法等が利用されており、ディスプレイの高精細化や生産性の問題から、ディスペンサーによる蛍光体のパターニングが検討されている。従来、蛍光体に用いられるバインダー（樹脂）としては、エチルセルロース（ＥＣ）が一般的に用いられてきた。他方、バインダー樹脂としてＥＣを用いた場合、その焼失温度が５００℃程度と高温なため、蛍光体の劣化による輝度の低下が指摘されている。   In recent years, as a patterning method of a phosphor paste used for manufacturing a plasma display, a screen printing method or an automatic coating method using a dispenser has been used. Patterning is being considered. Conventionally, ethyl cellulose (EC) has been generally used as a binder (resin) used in a phosphor. On the other hand, when EC is used as the binder resin, since the burning temperature is as high as about 500 ° C., it is pointed out that the luminance is lowered due to the deterioration of the phosphor.

かかる問題を解決するために、バインダー樹脂を焼失させるための焼失温度を４００℃程度まで下げることが可能なアクリル樹脂を使用した蛍光体ペーストが、提案されている（例えば、特許文献１および２を参照。）。   In order to solve such a problem, a phosphor paste using an acrylic resin capable of lowering the burning temperature for burning the binder resin to about 400 ° C. has been proposed (for example, Patent Documents 1 and 2). reference.).

特開２００６−１２４５５０号公報JP 2006-124550 A 特開２００１−３２９２５６号公報JP 2001-329256 A

しかしながら、上記特許文献１および２における蛍光体ペーストでは、蛍光体ペーストを吐出する際に発生するダイスウェル効果について着目しておらず、かかる蛍光体ペーストを利用して、高精細度なパターニングを迅速に行うことができないという問題があった。   However, the phosphor pastes in Patent Documents 1 and 2 do not pay attention to the die swell effect that occurs when the phosphor paste is ejected, and high-definition patterning can be quickly performed using such phosphor paste. There was a problem that could not be done.

そこで、本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的は、高精細度なパターニングを迅速に行うことが可能な、新規かつ改良されたプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストおよびプラズマディスプレイパネルを提供することにある。   Therefore, the present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a novel and improved phosphor paste for plasma display panel and plasma capable of rapidly performing high-definition patterning. It is to provide a display panel.

上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストであって、有機溶媒に溶解したアクリル樹脂またはメタクリル樹脂と、前記アクリル樹脂または前記メタクリル樹脂に添加される蛍光体と、を含み、せん断速度４０００ｓｅｃ−１における前記プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストの第１法線応力差をＮＦとし、温度２３℃およびせん断速度４０００ｓｅｃ−１における粘度をηとした場合に、ＮＦをηで除した値Ｙ＝ＮＦ／ηが４０００以下であるプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストが提供される。 In order to solve the above problems, according to an aspect of the present invention, there is provided a phosphor paste for a plasma display panel, which is added to an acrylic resin or a methacrylic resin dissolved in an organic solvent, and the acrylic resin or the methacrylic resin. The first normal stress difference of the phosphor paste for plasma display panel at a shear rate of 4000 sec −1 is NF, and the viscosity at a temperature of 23 ° C. and a shear rate of 4000 sec −1 is η. A phosphor paste for a plasma display panel is provided in which the value Y = NF / η obtained by dividing NF by η is 4000 or less.

ＮＦをηで除した値Ｙ＝ＮＦ／ηが４０００以下である蛍光体ペーストでは、アクリル樹脂またはメタクリル樹脂に発生する第１法線応力差ＮＦが抑制されるため、蛍光体ペースト吐出時のダイスウェル効果を抑制することができ、高精細度なパターニングを迅速に行うことが可能となる。   In the phosphor paste in which the value Y = NF / η obtained by dividing NF by η is 4000 or less, the first normal stress difference NF generated in the acrylic resin or methacrylic resin is suppressed. The well effect can be suppressed, and high-definition patterning can be performed quickly.

前記アクリル樹脂または前記メタクリル樹脂として、４１０℃における焼失率が９９％以上である樹脂を使用することが可能である。   As the acrylic resin or the methacrylic resin, it is possible to use a resin having a burning rate at 410 ° C. of 99% or more.

細孔ノズル径がｄ０であるディスペンサーから前記プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストを吐出した際の当該プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストの吐出径をｄｅとした場合に、前記吐出径ｄｅと前記細孔ノズル径ｄ０との比ｄｅ／ｄ０が１．４以下であってもよい。 When the discharge diameter of the plasma display panel phosphor paste when pore nozzle diameter was ejected from the plasma display panel phosphor paste from the dispenser is d 0 was d e, the said discharge diameter d e The ratio d e / d 0 with respect to the pore nozzle diameter d 0 may be 1.4 or less.

上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、互いに対向して配置される第１の基板および第２の基板と、前記第１の基板上に形成される第１誘電体層と、前記第２の基板上に形成される第２誘電体層と、前記第１誘電体層の内部に、第１の方向に沿って設けられる第１の電極と、前記第２誘電体層の内部に、前記第１の方向に対して直交する第２の方向に沿って設けられる第２の電極と、前記第１誘電体層と前記第２誘電体層との間に設けられ、複数の放電空間を区画する隔壁と、前記放電空間内に形成される蛍光体層と、を備え、前記蛍光体層が上述のプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストを用いて、ディスペンサーにより形成されるプラズマディスプレイパネルが提供される。   In order to solve the above-described problem, according to another aspect of the present invention, a first substrate and a second substrate disposed to face each other, and a first dielectric formed on the first substrate. A layer, a second dielectric layer formed on the second substrate, a first electrode provided in a first direction inside the first dielectric layer, and the second dielectric A second electrode provided in a layer along a second direction orthogonal to the first direction, and provided between the first dielectric layer and the second dielectric layer; Plasma comprising: partition walls that partition a plurality of discharge spaces; and a phosphor layer formed in the discharge spaces, wherein the phosphor layer is formed by a dispenser using the phosphor paste for a plasma display panel described above. A display panel is provided.

本発明によれば、アクリル樹脂またはメタクリル樹脂に発生する第１法線応力差ＮＦが抑制されるため、蛍光体ペースト吐出時のダイスウェル効果を抑制することができ、高精細度なパターニングを迅速に行うことが可能となる。これにより、高精細度なプラズマディスプレイパネルの製造に要する時間を削減することができる。   According to the present invention, since the first normal stress difference NF generated in the acrylic resin or methacrylic resin is suppressed, the die swell effect at the time of discharging the phosphor paste can be suppressed, and high-definition patterning can be performed quickly. Can be performed. Thereby, the time required for manufacturing a high-definition plasma display panel can be reduced.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。   Exemplary embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, in this specification and drawing, about the component which has the substantially same function structure, duplication description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol.

本願発明者らは、上記課題を解決するために、まず、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰとも称する。）の製造に用いられる蛍光体ペーストについて、鋭意研究を行った。その結果、以下のような知見に想到した。以下では、まず図１〜図３を参照しながら、本願発明者らが想到した知見について、詳細に説明する。図１は、プラズマディスプレイパネルの蛍光体層の形成に用いられるディスペンサーを説明するための説明図である。図２および図３は、蛍光体ペーストの吐出時に発生するダイスウェル効果を説明するための説明図である。   In order to solve the above problems, the inventors of the present application first conducted intensive research on a phosphor paste used for manufacturing a plasma display panel (hereinafter also referred to as PDP). As a result, the following knowledge was reached. Below, the knowledge which the present inventors have conceived will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining a dispenser used for forming a phosphor layer of a plasma display panel. 2 and 3 are explanatory diagrams for explaining the die swell effect that occurs when the phosphor paste is discharged.

プラズマディスプレイパネルの放電空間中に形成される蛍光体層は、例えば図１に示したような、複数の細孔ノズル３を有するディスペンサー１を用いて、所定の蛍光体を含む蛍光体ペーストをパターニングすることで形成される。ここで、ディスペンサーとは、液体定量吐出装置を意味し、液体を精度良く定量供給することが可能な装置である。ディスペンサー１の各細孔ノズル３のノズル径ｄ０と、相隣接するノズル間の距離（ノズルのピッチ）ｄｐとは、製造するプラズマディスプレイパネルの精細度に応じて決定される。 The phosphor layer formed in the discharge space of the plasma display panel is formed by patterning a phosphor paste containing a predetermined phosphor using a dispenser 1 having a plurality of pore nozzles 3 as shown in FIG. It is formed by doing. Here, the dispenser means a liquid fixed quantity discharge device, and is a device capable of supplying a fixed quantity of liquid with high accuracy. The nozzle diameter d 0 of each fine nozzle 3 of the dispenser 1 and the distance between adjacent nozzles (nozzle pitch) d p are determined according to the definition of the plasma display panel to be manufactured.

例えば、ＦＨＤ（Ｆｕｌｌ Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ）と呼ばれる規格のプラズマディスプレイは、１９２０×１０８０ピクセルのパネルにより構成され、各ピクセルはＲ(赤)，Ｇ(緑)，Ｂ(青)を表示する３種のサブピクセルから構成されている。たとえば５０インチディスプレイの場合には、同じ色を発色するサブピクセル間の距離は、０．５７６ｍｍであり、各サブピクセルの幅は０．５７６／３＝０．１９２ｍｍ＝１９２μｍとなる。各サブピクセル間には、２０〜５０μｍ程度の隔壁が存在するため、その空間の幅は１５０μｍ程度となる。このようなプラズマディスプレイパネルを製造するためには、図１に示したディスペンサーのノズル径ｄ０を１００μｍ以下にし、各色の相隣接するノズル間の距離ｄｐを０．５７６ｍｍと設定したうえで、１サブピクセルの大きさが１５０μｍ程度であり、相隣接するピクセル間の距離が０．５７６／３＝０．１９２ｍｍ＝１９２μｍ程度である放電空間に対して、精度良く蛍光体ペーストを吐出することが必要となる。 For example, a standard plasma display called FHD (Full High Definition) is composed of a panel of 1920 × 1080 pixels, and each pixel displays three types of sub-displays that display R (red), G (green), and B (blue). It consists of pixels. For example, in the case of a 50-inch display, the distance between subpixels that generate the same color is 0.576 mm, and the width of each subpixel is 0.576 / 3 = 0.192 mm = 192 μm. Since a partition wall of about 20 to 50 μm exists between the sub-pixels, the width of the space is about 150 μm. In order to manufacture such a plasma display panel, the nozzle diameter d 0 of the dispenser shown in FIG. 1 is set to 100 μm or less, and the distance d p between adjacent nozzles of each color is set to 0.576 mm. A phosphor paste can be accurately discharged into a discharge space in which the size of one subpixel is about 150 μm and the distance between adjacent pixels is about 0.576 / 3 = 0.192 mm = 192 μm. Necessary.

ここで、ある流体をノズルから吐出する場合に、流体の平均流速を＜ｖ＞、ノズルの流路幅をＬとすると、ノズル内で発生する平均せん断速度γは、以下の式１で与えられる。   Here, when a certain fluid is discharged from the nozzle, assuming that the average flow velocity of the fluid is <v> and the flow path width of the nozzle is L, the average shear rate γ generated in the nozzle is given by the following formula 1. .

Figure 2009152065
Figure 2009152065

上述のように、高精細パネルに蛍光体ペーストをパターニングするためには、ノズル径ｄ０を１００μｍ以下とすることが好ましいが、仮にノズル径ｄ０を７５μｍ、平均流速を１００ｍｍｓｅｃ−１とすると、式１から得られる平均せん断速度γは、２７００ｓｅｃ−１となる。ここで、平均流速は、ノズルから吐出される流体の速度であり、ノズルの走査速度、ひいては、蛍光体ペーストのパターニングに要する時間を決定するパラメータである。実際の製造工程では、ノズルの平均流速として１００ｍｍｓｅｃ−１程度を担保しなければ、蛍光体ペーストの迅速なパターニングを実行することは困難となる。 As described above, in order to pattern the phosphor paste on the high-definition panel, it is preferable to set the nozzle diameter d 0 to 100 μm or less. However, if the nozzle diameter d 0 is 75 μm and the average flow rate is 100 mmsec −1 , The average shear rate γ obtained from Equation 1 is 2700 sec −1 . Here, the average flow velocity is the velocity of the fluid discharged from the nozzle, and is a parameter that determines the scanning speed of the nozzle, and thus the time required for patterning the phosphor paste. In an actual manufacturing process, it is difficult to perform rapid patterning of the phosphor paste unless an average flow velocity of the nozzle of about 100 mmsec −1 is ensured.

このように、ディスペンサーの細孔ノズル（通常１ｍｍφ以下、好ましくは０．１ｍｍφ以下）からペーストが吐出される際には、数千〜数万ｓｅｃ−１という高せん断速度が発生している。 Thus, when the paste is discharged from the fine nozzle of the dispenser (usually 1 mmφ or less, preferably 0.1 mmφ or less), a high shear rate of several thousand to several tens of thousands sec −1 is generated.

他方、蛍光体ペーストのバインダー樹脂としてアクリル樹脂やメタクリル樹脂のような粘弾性体を用いた場合には、例えば図２に示したように、ペーストがノズル３から吐出される際に、吐出口の径ｄ０に対して蛍光体ペースト５の吐出径ｄｅが大きく広がる（すなわち、ｄｅ＞ｄ０となる）ダイスウェル効果が顕著となり、良好な吐出ができない。 On the other hand, when a viscoelastic material such as an acrylic resin or a methacrylic resin is used as the binder resin of the phosphor paste, for example, as shown in FIG. discharge diameter d e of the phosphor paste 5 spreads large relative to the diameter d 0 (i.e., the d e> d 0) die swell effect becomes conspicuous and can not good ejection.

このダイスウェル効果の発生要因は、以下のように説明することができる。すなわち、粘弾性体が細孔ノズルから吐出される際には、吐出方向（すなわち、粘弾性体の流れ方向）にせん断応力７が働く。更に、粘弾性体では、せん断応力７に対して直交する方向に第１法線応力差（ＮＦ）９と呼ばれる力が働く。この第１法線応力差ＮＦが大きい場合には、細孔ノズル３の出口で第１法線応力差ＮＦによって発生した圧力が開放されるため、粘弾性体が第１法線応力差ＮＦに対して平行な方向に押し広げられる。その結果、粘弾性体の吐出径ｄｅは細孔ノズル３のノズル径ｄ０よりも大きくなり、ダイスウェル効果が発生する。 The cause of this die swell effect can be explained as follows. That is, when the viscoelastic body is discharged from the pore nozzle, the shear stress 7 acts in the discharge direction (that is, the flow direction of the viscoelastic body). Further, in the viscoelastic body, a force called a first normal stress difference (NF) 9 acts in a direction orthogonal to the shear stress 7. When the first normal stress difference NF is large, the pressure generated by the first normal stress difference NF at the outlet of the fine nozzle 3 is released, so that the viscoelastic body has the first normal stress difference NF. It is pushed in the direction parallel to it. As a result, the discharge diameter d e of the viscoelastic body is larger than the nozzle diameter d 0 of the pores nozzle 3, the die swell effect occurs.

また、第１法線応力差９は、抵抗成分として働くため、粘弾性体の吐出速度が遅くなり、粘弾性体の迅速なパターニングができないという問題が発生する。   In addition, since the first normal stress difference 9 works as a resistance component, the ejection speed of the viscoelastic body becomes slow, and there is a problem that the viscoelastic body cannot be quickly patterned.

したがって、アクリル樹脂やメタクリル樹脂のような粘弾性体を蛍光体ペーストのバインダーとして使用した場合には、蛍光体ペーストが吐出される際に、吐出口の径に対してペーストの吐出径が大きく広がるダイスウェル効果が顕著となり、良好な吐出が困難となる。   Therefore, when a viscoelastic material such as an acrylic resin or a methacrylic resin is used as the binder of the phosphor paste, when the phosphor paste is ejected, the discharge diameter of the paste is greatly expanded with respect to the diameter of the discharge port. The die swell effect becomes prominent, making it difficult to discharge well.

このような知見を踏まえたうえで、上述の各特許文献について検討する。上述の知見で説明したように、せん断速度１０〜２００ｓｅｃ−１でのレオロジー特性は、実際のディスペンシングの際に発生しているせん断速度とは大きく異なり、ディスペンシングによるパターニングの可否とは関連性がないことがわかった。そのため、上記特許文献１では、せん断速度１０ｓｅｃ−１での粘度が０．５Ｐａ・ｓ〜５０Ｐａ・ｓ（５００ｃＰ〜５００００ｃＰ）の蛍光体ペーストはディスペンサーにて塗布可能であるとしているが、前述のように、ディスペンシング性で問題となるせん断速度は、数千〜数万ｓｅｃ−１の高せん断速度であって、せん断速度１０ｓｅｃ−１の粘度には関連性はないことがわかる。 Based on such knowledge, each of the above-mentioned patent documents will be examined. As explained in the above-mentioned knowledge, the rheological characteristics at a shear rate of 10 to 200 sec −1 are greatly different from the shear rate generated at the time of actual dispensing, and is related to the possibility of patterning by dispensing. I found that there was no. Therefore, in the above-mentioned Patent Document 1, a phosphor paste having a viscosity at a shear rate of 10 sec −1 of 0.5 Pa · s to 50 Pa · s (500 cP to 50000 cP) can be applied with a dispenser. the shear rate in question in dispensing properties, a high shear rate of thousands to tens of thousands sec -1, the viscosity of the shear rate 10 sec -1 it can be seen that no association.

また、上記特許文献２では、重量平均分子量が３０万〜５００万のアクリル樹脂をバインダーとして用いた蛍光体ペーストはディスペンサーにて塗布可能であるとしているが、アクリル樹脂の分子量は静置状態でのペースト粘度に影響するのであって、吐出時の大きな応力に対する挙動とはなんら関連性がないことがわかった。   Moreover, in the said patent document 2, although the fluorescent substance paste using the acrylic resin whose weight average molecular weight is 300,000-5 million as a binder can be apply | coated with a dispenser, the molecular weight of an acrylic resin is a stationary state. It has been found that it affects the paste viscosity and has nothing to do with the behavior of large stress during discharge.

他方、近年では、蛍光体ペーストのバインダーとして、溶媒に溶解しないアクリルビーズを用いる試みがなされているが、不溶のビーズ状バインダーでは蛍光体の分散性・安定性に問題が生じる可能性がある。   On the other hand, in recent years, attempts have been made to use acrylic beads that are not soluble in a solvent as a binder of the phosphor paste. However, insoluble bead-like binders may cause problems with the dispersibility and stability of the phosphor.

上述のような知見を元に、本願発明者らが鋭意研究を行った結果、ディスペンシングによるパターニングに適正のある蛍光体ペーストに関連するレオロジーパラメータとして、第１法線応力差ＮＦに着目し、以下で説明するような発明に想到した。   Based on the above findings, the inventors of the present application conducted extensive research, and as a rheological parameter related to a phosphor paste suitable for patterning by dispensing, paying attention to the first normal stress difference NF, The inventors have arrived at the invention as described below.

（第１の実施形態）
＜本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストについて＞
本発明の第１の実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストは、有機溶媒に溶解したアクリル樹脂またはメタクリル樹脂と、アクリル樹脂またはメタクリル樹脂に添加される蛍光体と、を主に含む。 (First embodiment)
<PDP phosphor paste according to this embodiment>
The phosphor paste for PDP according to the first embodiment of the present invention mainly includes an acrylic resin or a methacrylic resin dissolved in an organic solvent, and a phosphor added to the acrylic resin or the methacrylic resin.

（アクリル樹脂またはメタクリル樹脂について）
ここで、上記のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂は、後述する蛍光体のバインダーとして用いられる樹脂である。アクリル樹脂またはメタクリル樹脂を用いることで、ＰＤＰに形成される蛍光体層が、基板に対して優れた接着性と形状の均一性とを有するものとなる。 (About acrylic resin or methacrylic resin)
Here, said acrylic resin or methacrylic resin is resin used as a binder of the fluorescent substance mentioned later. By using an acrylic resin or a methacrylic resin, the phosphor layer formed on the PDP has excellent adhesion to the substrate and shape uniformity.

このようなアクリル樹脂またはメタクリル樹脂は、例えば以下に示すような単量体（モノマー）を、重合または共重合することで得ることが可能である。   Such an acrylic resin or methacrylic resin can be obtained, for example, by polymerizing or copolymerizing monomers as shown below.

本実施形態に係るアクリル樹脂またはメタクリル樹脂の単量体として、例えば、アルキル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、フェノキシアルキル（メタ）アクリレート、アルコキシアルキル（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート、シクロアルキル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルリル（メタ）アクリレート等を挙げることが可能である。なお、（メタ）アクリレートという表記は、アクリレートおよびメタクリレートの２つを意味するものであり、例えば、アルキル（メタ）アクリレートとは、アルキルアクリレートと、アルキルメタクリレートの２種類を意味する。   Examples of the monomer of the acrylic resin or methacrylic resin according to this embodiment include alkyl (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, phenoxyalkyl (meth) acrylate, alkoxyalkyl (meth) acrylate, and polyalkylene glycol (meth) ) Acrylate, cycloalkyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tetrahydrofluryl (meth) acrylate, and the like. The notation (meth) acrylate means two of acrylate and methacrylate. For example, alkyl (meth) acrylate means two kinds of alkyl acrylate and alkyl methacrylate.

アルキル（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、ｉ−ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘプチル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ｉ−オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、ｉ−デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ｉ−ステアリル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。   Specific examples of the alkyl (meth) acrylate include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i -Butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, n-pentyl (meth) acrylate, i-pentyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, n-heptyl (meth) acrylate, n-octyl (Meth) acrylate, i-octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-nonyl (meth) acrylate, n-decyl (meth) acrylate, i-decyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate , Dodecyl (meta) aqua Rate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, and i- stearyl (meth) acrylate.

ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。   Specific examples of the hydroxyalkyl (meth) acrylate include, for example, hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- Examples thereof include hydroxybutyl (meth) acrylate and 3-hydroxybutyl (meth) acrylate.

フェノキシアルキル（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。   Specific examples of the phenoxyalkyl (meth) acrylate include phenoxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate.

アルコキシアルキル（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−プロポキシエチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシブチル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。   Specific examples of the alkoxyalkyl (meth) acrylate include, for example, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2-propoxyethyl (meth) acrylate, 2-butoxyethyl (meth) acrylate, Examples include 2-methoxybutyl (meth) acrylate.

ポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等を挙げることができる。   Specific examples of the polyalkylene glycol (meth) acrylate include, for example, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, and nonylphenoxypolyethylene glycol. (Meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, ethoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, and the like.

シクロアルキル（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。   Specific examples of the cycloalkyl (meth) acrylate include, for example, cyclohexyl (meth) acrylate, 4-butylcyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, and dicyclopentadi Examples include enyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and tricyclodecanyl (meth) acrylate.

なお、上記のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂の具体例は、あくまでも本実施形態に係るアクリル樹脂またはメタクリル樹脂の一例であって、本実施形態に係るアクリル樹脂またはメタクリル樹脂が上記の化合物に限定されるわけではない。   The specific example of the acrylic resin or methacrylic resin is merely an example of the acrylic resin or methacrylic resin according to the present embodiment, and the acrylic resin or methacrylic resin according to the present embodiment is limited to the above compound. is not.

また、本実施形態に係るアクリル樹脂またはメタクリル樹脂として、１種類のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂のみを用いてもよく、２種類以上のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂を組み合わせて使用してもよい。   Further, as the acrylic resin or methacrylic resin according to this embodiment, only one type of acrylic resin or methacrylic resin may be used, or two or more types of acrylic resin or methacrylic resin may be used in combination.

また、本実施形態に係るアクリル樹脂またはメタクリル樹脂は、４１０℃での焼失率が９９％以上であることが好ましい。ここで、焼失とは、空気中にて所定の温度で加熱したときに樹脂が解重合等によって分解、消失することであり、消失率は、分解消失した樹脂質量／初期の樹脂質量で表される。４１０度での焼失率が９９％以上であるアクリル樹脂またはメタクリル樹脂を使用することで、本実施形態に係る蛍光体ペーストを焼成する際に、焼成温度を低く設定することが可能となり、焼成に起因する蛍光体の熱劣化を防ぐことができる。   In addition, the acrylic resin or methacrylic resin according to the present embodiment preferably has a burnout rate at 410 ° C. of 99% or more. Here, “burning out” means that the resin decomposes and disappears by depolymerization or the like when heated at a predetermined temperature in the air, and the disappearance rate is expressed by the mass of the resin lost by decomposition / the initial resin mass. The By using an acrylic resin or a methacrylic resin having a burnout rate of not less than 99% at 410 degrees, it becomes possible to set the firing temperature low when firing the phosphor paste according to this embodiment. This can prevent thermal deterioration of the phosphor.

なお、上述の４１０℃における焼失率は、例えば、示差熱−熱重量同時測定（ＴｈｅｒｍｏＧｒａｖｉｍｅｔｒｙ／Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ ＴｈｅｒｍａｌＡｎａｌｙｓｉｓ：ＴＧ／ＤＴＡ）が可能な熱分析計等を用いて測定する。   The burnout rate at 410 ° C. described above is measured using, for example, a thermal analyzer capable of simultaneous differential thermal-thermogravimetric measurement (Thermo Gravimetry / Differential Thermal Analysis: TG / DTA).

（有機溶媒について）
本実施形態に係る蛍光体ペーストに用いられる有機溶媒は、上記アクリル樹脂またはメタクリル樹脂を溶解する溶液であれば任意のものを使用することが可能である。このような有機溶媒の具体例として、例えば、ターピネオール（ｔｅｒｐｉｎｅｏｌ）、γ−ブチロラクトン（γ−ＢＬ）、ブチルカルビトールアセテート（Ｂｕｔｙｌ Ｃａｒｂｉｔｏｌ Ａｃｅｔａｔｅ：ＢＣＡ）、酢酸エチル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ベンジルアルコール、トルエン、３−メトキシ−３−メチルブタノール等から選択される１または２以上の溶媒を用いることが可能である。 (About organic solvents)
As the organic solvent used in the phosphor paste according to this embodiment, any solution can be used as long as it is a solution that dissolves the acrylic resin or the methacrylic resin. Specific examples of such organic solvents include, for example, terpineol, γ-butyrolactone (γ-BL), butyl carbitol acetate (BCA), ethyl acetate, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether. One or more solvents selected from acetate, benzyl alcohol, toluene, 3-methoxy-3-methylbutanol and the like can be used.

（蛍光体について）
上記アクリル樹脂またはメタクリル樹脂には、赤色蛍光体、緑色蛍光体または青色蛍光体のいずれかが蛍光体として添加される。 (About phosphor)
To the acrylic resin or methacrylic resin, either a red phosphor, a green phosphor or a blue phosphor is added as a phosphor.

赤色蛍光体は、所定の励起光（例えば、放電ガスとして利用されるキセノンガスの共鳴線１４７ｎｍや、分子線１７３ｎｍ）により励起され、約６００ｎｍ〜約８００ｎｍの波長を有する光を発光する蛍光体である。このような赤色蛍光体の一例として、例えば、ＹＶＯ４：Ｅｕ、Ｙ２ＳｉＯ５：Ｅｕ、Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２：Ｅｕ、Ｚｎ２（ＰＯ４）２：Ｍｎ、ＧｄＢＯ３、ＳｃＢＯ３：Ｅｕ、ＬｕＢＯ３：Ｅｕ、Ｙ（Ｐ，Ｖ）Ｏ４：Ｅｕ、ＹＢＯ３：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ３：Ｅｕ（ＹＧＢとも称する。）、Ｙ２Ｏ３：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）２Ｏ３：Ｅｕ、Ｌａ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ等を挙げることができる。 The red phosphor is a phosphor that emits light having a wavelength of about 600 nm to about 800 nm when excited by predetermined excitation light (for example, a resonance line of 147 nm of a xenon gas used as a discharge gas or a molecular beam of 173 nm). is there. As an example of such a red phosphor, for example, YVO 4 : Eu, Y 2 SiO 5 : Eu, Y 3 Al 5 O 12 : Eu, Zn 2 (PO 4 ) 2 : Mn, GdBO 3 , ScBO 3 : Eu , LuBO 3 : Eu, Y (P, V) O 4 : Eu, YBO 3 : Eu, (Y, Gd) BO 3 : Eu (also referred to as YGB), Y 2 O 3 : Eu, (Y, Gd) 2 O 3 : Eu, La 2 O 2 S: Eu, etc. can be mentioned.

緑色蛍光体は、所定の励起光（例えば、放電ガスとして利用されるキセノンガスの共鳴線１４７ｎｍや、分子線１７３ｎｍ）により励起され、約４９０ｎｍ〜約５５０ｎｍの波長を有する光を発光する蛍光体である。このような緑色蛍光体の一例として、例えば、Ｙ３（Ａｌ，Ｇａ）５Ｏ１２：Ｃｅ、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｍｎ、ＢａＭｇ２Ａｌ１４Ｏ２４：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ１４Ｏ２２：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ，Ｍｎ、ＳｒＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ、ＺｎＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ、ＣａＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ、ＹＢＯ３：Ｔｂ、ＬｕＢＯ３：Ｔｂ、ＧｄＢＯ３：Ｔｂ、ＳｃＢＯ３：Ｔｂ、ＬａＰＯ４：Ｃｅ，Ｔｂ、Ｓｒ４Ｓｉ３Ｏ８Ｃｌ４：Ｅｕ、Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ、ＢａＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ、Ｃａ３Ｓｃ２Ｓｉ３Ｏ１２：Ｃｅ、ＳｒＧａ２Ｓ４：Ｅｕ等を挙げることができる。 The green phosphor is a phosphor that emits light having a wavelength of about 490 nm to about 550 nm when excited by predetermined excitation light (for example, resonance line 147 nm or molecular beam 173 nm of xenon gas used as a discharge gas). is there. As an example of such a green phosphor, for example, Y 3 (Al, Ga) 5 O 12 : Ce, BaMgAl 10 O 17 : Mn, BaMg 2 Al 14 O 24 : Mn, BaMgAl 14 O 22 : Mn, BaMgAl 10 O 17: Eu, Mn, SrAl 12 O 19: Mn, ZnAl 12 O 19: Mn, CaAl 12 O 19: Mn, YBO 3: Tb, LuBO 3: Tb, GdBO 3: Tb, ScBO 3: Tb, LaPO 4 : Ce, Tb, Sr 4 Si 3 O 8 Cl 4: Eu, Zn 2 SiO 4: Mn, BaAl 12 O 19: Mn, Ca 3 Sc 2 Si 3 O 12: Ce, SrGa 2 S 4: exemplified Eu, etc. be able to.

青色蛍光体は、所定の励起光（例えば、放電ガスとして利用されるキセノンガスの共鳴線１４７ｎｍや、分子線１７３ｎｍ）により励起され、約４３０ｎｍ〜約４９０ｎｍの波長を有する光を発光する蛍光体である。このような青色蛍光体の一例として、例えば、ＢａＭｇＡｌｘＯｙ：Ｅｕ（ｘ、ｙは１〜５０の自然数、例えば、ＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ等）、ＣａＷＯ４：Ｐｂ、ＣａＷＯ４：Ｗ、Ｓｒ３（ＰＯ４）２：Ｅｕ、Ｂａ３（ＰＯ４）２：Ｅｕ、Ｙ２ＳｉＯ５：Ｃｅ、ＳｒＭｇ（ＳｉＯ４）２：Ｅｕ、ＢａＭｇ２Ａｌ１４Ｏ２４：Ｅｕ、ＳｒＣｌ（ＰＯ４）３：Ｅｕ、Ｙ２Ｓｉ５：Ｃｅ、ＣａＭｇＳｉ２Ｏ６：Ｅｕ等を挙げることができる。 The blue phosphor is a phosphor that emits light having a wavelength of about 430 nm to about 490 nm when excited by predetermined excitation light (for example, resonance line 147 nm or molecular beam 173 nm of xenon gas used as a discharge gas). is there. As an example of such a blue phosphor, for example, BaMgAl x O y : Eu (x, y is a natural number of 1 to 50, such as BaMgAl 10 O 17 : Eu), CaWO 4 : Pb, CaWO 4 : W, Sr 3 (PO 4 ) 2 : Eu, Ba 3 (PO 4 ) 2 : Eu, Y 2 SiO 5 : Ce, SrMg (SiO 4 ) 2 : Eu, BaMg 2 Al 14 O 24 : Eu, SrCl (PO 4 ) 3 : Eu, Y 2 Si 5 : Ce, CaMgSi 2 O 6 : Eu, and the like.

なお、上述の蛍光体は、あくまでも一例であって、本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストに使用される蛍光体は、上述の例に限定されるわけではない。   The phosphor described above is merely an example, and the phosphor used in the PDP phosphor paste according to the present embodiment is not limited to the above example.

本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストを製造する方法は、特に制限されるわけではないが、例えば、以下のような方法で製造することが可能である。まず、上述の有機溶媒に、アクリル樹脂またはメタクリル樹脂を５質量％〜２５質量％程度加えて加熱溶解してビヒクルを調整する。次に、調整したビヒクルに対して所定の蛍光体を２５質量％〜５０質量％程度添加して、ボールミル、サンドミル、３本ロールミル等で分散・攪拌させる。このような工程を経ることで、本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストを製造することが可能である。   The method for producing the phosphor paste for PDP according to the present embodiment is not particularly limited, but for example, it can be produced by the following method. First, an acrylic resin or a methacrylic resin is added to the above-mentioned organic solvent by about 5% by mass to 25% by mass and heated to dissolve to adjust the vehicle. Next, about 25% by mass to 50% by mass of a predetermined phosphor is added to the adjusted vehicle, and dispersed and stirred by a ball mill, a sand mill, a three roll mill or the like. Through such a process, the phosphor paste for PDP according to the present embodiment can be manufactured.

（本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストのレオロジーパラメータについて）
本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストは、せん断速度４０００ｓｅｃ−１における第１法線応力差ＮＦと、温度２３℃およびせん断速度４０００ｓｅｃ−１における粘度ηという、２種類のレオロジーパラメータについて着目する。 (Rheological parameters of phosphor paste for PDP according to this embodiment)
PDP phosphor paste according to the present embodiment includes a first normal stress difference NF at a shear rate 4000Sec -1, that viscosity at 23 ° C. and a shear rate of 4000sec -1 η, paying attention to two types of rheological parameters.

せん断速度４０００ｓｅｃ−１という値は、上記式１から明らかなように、５０インチのＦＨＤ−ＰＤＰを製造するために用いられる細孔ノズル径である７５μｍにおいて、１５０ｍｍ／ｓｅｃという高速なノズル走査速度を実現可能な値である。また、せん断速度４０００ｓｅｃ−１という値は、細孔ノズル径が５０μｍという、高精細度のＰＤＰを製造可能な微細なノズルにおいて、ノズル走査速度１００ｍｍ／ｓｅｃを実現可能な値である。 As is apparent from the above equation 1, the shear rate of 4000 sec −1 indicates that a high nozzle scanning speed of 150 mm / sec is obtained at 75 μm, which is a pore nozzle diameter used for manufacturing a 50-inch FHD-PDP. This is a feasible value. Further, a value of shear rate of 4000 sec −1 is a value that can realize a nozzle scanning speed of 100 mm / sec in a fine nozzle having a pore nozzle diameter of 50 μm and capable of producing a high-definition PDP.

本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストでは、以下の式２に示したように、せん断速度４０００ｓｅｃ−１における第１法線応力差ＮＦ［Ｐａ］を、温度２３℃およびせん断速度４０００ｓｅｃ−１における粘度η［Ｐａ・ｓ］で除した値Ｙ（＝ＮＦ／η）が４０００以下となる。 The PDP phosphor paste according to the present embodiment, as shown in Equation 2 below, the first normal stress difference NF at a shear rate of 4000sec -1 [Pa], at a temperature 23 ° C. and a shear rate 4000Sec -1 The value Y (= NF / η) divided by the viscosity η [Pa · s] is 4000 or less.

Figure 2009152065
Figure 2009152065

ここで、上記式２中のせん断速度４０００ｓｅｃ−１における第１法線応力差ＮＦと、温度２３℃およびせん断速度４０００ｓｅｃ−１における粘度ηとは、例えば、せん断速度を４０００ｓｅｃ−１に設定したレオメータ等を利用して測定する。 Here, the first normal stress difference NF at a shear rate of 4000 sec −1 and the viscosity η at a temperature of 23 ° C. and a shear rate of 4000 sec −1 in the above formula 2 are, for example, a rheometer in which the shear rate is set to 4000 sec −1. Measure using etc.

細孔ノズル径がｄ０であるディスペンサーからＰＤＰ用蛍光体ペーストを吐出した際の吐出径をｄｅとした場合に、本実施形態に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストは、上記式２の条件を満たすことで、吐出径ｄｅと細孔ノズル径ｄ０との比ｄｅ／ｄ０（以下、この比を、Ｓｗｅｌｌ比とも称する。）が１．４以下となり、ディスペンサーによる蛍光体ペーストの塗布が可能となる。 When the discharge diameter when pore nozzle diameter was ejected for PDP phosphor paste from the dispenser is d 0 was d e, PDP phosphor paste of this embodiment satisfies the condition of the above formula 2 Thus, the ratio d e / d 0 (hereinafter also referred to as the Swell ratio) between the discharge diameter d e and the fine nozzle diameter d 0 becomes 1.4 or less, and the phosphor paste is applied by the dispenser. It becomes possible.

＜本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの構成について＞
次に、図４〜図６を参照しながら、本発明の第１の実施形態に係るプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略記する。）について、詳細に説明する。図４は、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを説明するための部分平面図である。また、図５は、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを図４のＡ−Ａ切断線で切断した拡大断面図であり、図６は、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを図４のＢ−Ｂ切断線で切断した拡大断面図である。なお、以下では、各図中に示した座標軸を用いながら、説明することとする。 <Configuration of Plasma Display Panel According to the Present Embodiment>
Next, the plasma display panel (hereinafter abbreviated as PDP) according to the first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 4 is a partial plan view for explaining the plasma display panel according to the present embodiment. 5 is an enlarged cross-sectional view of the plasma display panel according to the present embodiment taken along the line AA in FIG. 4, and FIG. 6 shows the plasma display panel according to the present embodiment in FIG. It is the expanded sectional view cut | disconnected by the B cutting line. In the following, description will be made using the coordinate axes shown in the drawings.

図４は、本実施形態に係るＰＤＰ１０を、第２の基板である前面基板１０７の上方から見下ろした場合の部分平面図である。ＰＤＰ１０は、略格子形状の隔壁１１５によって、複数の放電空間１１７に区画される。これらの放電空間１１７は、図４のｘ軸方向およびｙ軸方向に沿って、配列している。また、隔壁１１５の上側（図４のｚ軸正方向側）には、第２の電極であるバス電極１０９および透明電極１１１と、第２誘電体層１１３とが設けられる。ここで、バス電極１０９は、図４のｘ軸方向に沿って設けられている。   FIG. 4 is a partial plan view of the PDP 10 according to the present embodiment as viewed from above the front substrate 107 that is the second substrate. The PDP 10 is partitioned into a plurality of discharge spaces 117 by partition walls 115 having a substantially lattice shape. These discharge spaces 117 are arranged along the x-axis direction and the y-axis direction of FIG. Further, the bus electrode 109 and the transparent electrode 111 as the second electrode and the second dielectric layer 113 are provided on the upper side of the partition wall 115 (on the z-axis positive direction side in FIG. 4). Here, the bus electrode 109 is provided along the x-axis direction of FIG.

隔壁１１５の下側（図４のｚ軸負方向側）には、第１の電極であるアドレス電極１０３と、第１誘電体層１０５とが設けられ、これらの更に下方には、第１の基板である背面基板１０１が設けられる。ここで、アドレス電極１０３は、図４のｙ軸方向に沿って設けられている。   An address electrode 103 that is a first electrode and a first dielectric layer 105 are provided below the partition wall 115 (on the negative z-axis direction in FIG. 4). A rear substrate 101 which is a substrate is provided. Here, the address electrode 103 is provided along the y-axis direction of FIG.

なお、図４に示したように、本実施形態に係るＰＤＰ１０では、放電空間１１７の形状が略直方体である場合を用いて詳細な説明するが、放電空間１１７の形状は略直方体に限定されるわけではなく、立方体でもよく、また、球形、楕円形状、または多面体形状であってもよい。   As shown in FIG. 4, in the PDP 10 according to the present embodiment, a detailed description will be given using a case where the shape of the discharge space 117 is a substantially rectangular parallelepiped, but the shape of the discharge space 117 is limited to a substantially rectangular parallelepiped. However, it may be a cube, and may be spherical, elliptical, or polyhedral.

図５は、ＰＤＰ１０を図４のＡ−Ａ切断線で切断した場合における拡大断面図である。図５から明らかなように、ＰＤＰ１０は、例えば、背面基板１０１と、アドレス電極１０３と、第１誘電体層１０５と、前面基板１０７と、バス電極１０９と、透明電極１１１と、第２誘電体層１１３と、隔壁１１５と、を主に備える。   FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of the PDP 10 taken along the line AA in FIG. As is apparent from FIG. 5, the PDP 10 includes, for example, a back substrate 101, an address electrode 103, a first dielectric layer 105, a front substrate 107, a bus electrode 109, a transparent electrode 111, and a second dielectric. The layer 113 and the partition wall 115 are mainly provided.

第１の基板である背面基板１０１と、第２の基板である前面基板１０７とは、所定の大きさを有する基板であり、例えばソーダライムガラス等のガラスを材料として用いることが可能である。背面基板１０１および前面基板１０７の大きさは、本実施形態に係るＰＤＰ１０を備えるプラズマディスプレイの画面の大きさに応じて、変更することが可能である。この背面基板１０１および前面基板１０７の表面に、例えばＳｉＯ２などの物質をコーティングしておき、背面基板１０１および前面基板１０７の絶縁性を担保するようにしてもよい。背面基板１０１や前面基板１０７の厚みを薄くすることで、ＰＤＰ１０の薄型化を図ることが可能であり、製造するＰＤＰの厚みに応じて、これらの基板の厚みを変更することが可能である。これらの背面基板１０１と前面基板１０７とは、所定の空間を介して互いに対向するように設けられる。 The back substrate 101 as the first substrate and the front substrate 107 as the second substrate are substrates having a predetermined size, and for example, glass such as soda lime glass can be used as a material. The sizes of the back substrate 101 and the front substrate 107 can be changed according to the size of the screen of the plasma display including the PDP 10 according to the present embodiment. The surface of the back substrate 101 and the front substrate 107 may be coated with a substance such as SiO 2 to ensure the insulation of the back substrate 101 and the front substrate 107. By reducing the thickness of the back substrate 101 and the front substrate 107, it is possible to reduce the thickness of the PDP 10, and it is possible to change the thickness of these substrates according to the thickness of the PDP to be manufactured. The back substrate 101 and the front substrate 107 are provided so as to face each other through a predetermined space.

第１の電極であるアドレス電極１０３は、後述するバス電極１０９および透明電極１１１と同様に、放電空間１１７にプラズマ放電を発生させるために使用される電極である。このアドレス電極１０３は、例えば、Ａｇ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｍｏ、またはＣｒなどの良導性の金属を用いて形成することが可能である。アドレス電極１０３は、背面基板１０１の前面基板１０７側の表面（図５のｚ軸正方向側の表面）に、ｙ軸方向に沿って形成される。この際、アドレス電極１０３自体が放電空間１１７に露出することは好ましくない。そのため、アドレス電極１０３は、第１誘電体層１０５によって、表面が覆われる。なお、この第１誘電体層１０５は、ＳｉＯ２等を用いて反射型誘電体層として形成することが可能である。また、第１誘電体層１０５の表面に、更にＭｇＯ等の仕事関数の値の小さな物質からなる保護層を形成して、第１誘電体層１０５をプラズマによる第１誘電体層１０５のスパッタリングから保護してもよい。この保護層は、放電空間１１７内で発生するプラズマによって誘電体等がスパッタリングされることを保護するためのものである。 The address electrode 103, which is the first electrode, is an electrode used for generating plasma discharge in the discharge space 117, similarly to the bus electrode 109 and the transparent electrode 111 described later. The address electrode 103 can be formed using a highly conductive metal such as Ag, Al, Ni, Cu, Mo, or Cr. The address electrode 103 is formed along the y-axis direction on the surface of the rear substrate 101 on the front substrate 107 side (the surface on the z-axis positive direction side in FIG. 5). At this time, it is not preferable that the address electrode 103 itself is exposed to the discharge space 117. Therefore, the surface of the address electrode 103 is covered with the first dielectric layer 105. The first dielectric layer 105 can be formed as a reflective dielectric layer using SiO 2 or the like. Further, a protective layer made of a material having a small work function value such as MgO is further formed on the surface of the first dielectric layer 105, and the first dielectric layer 105 is formed by sputtering the first dielectric layer 105 by plasma. May be protected. This protective layer is for protecting the dielectric and the like from being sputtered by the plasma generated in the discharge space 117.

なお、アドレス電極１０３は、例えば、スパッタや蒸着などの方法を用いて形成することが可能であり、特定の形成方法に限定されるわけではない。   The address electrode 103 can be formed by using, for example, a method such as sputtering or vapor deposition, and is not limited to a specific forming method.

第２の電極であるバス電極１０９と、バス電極１０９と電気的に接続される透明電極１１１とは、放電空間１１７にプラズマ放電を発生させるためにアドレス電極１０３とともに使用される電極である。バス電極１０９は、例えば、Ａｇ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｍｏ、またはＣｒなどの良導性の金属を用いて形成することが可能であり、透明電極１１１は、例えばインジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）等を用いて形成することが可能である。バス電極１０９は、前面基板１０７の背面基板１０１側の表面（図５のｚ軸負方向側の表面）に、ｘ軸方向に沿って形成される。この際、バス電極１０９および透明電極１１１についても、電極自体が放電空間１１７に露出することは好ましくない。そのため、バス電極１０９および透明電極１１１は、第２誘電体層１１３によって、表面が覆われる。なお、第２誘電体層１１３は、ＳｉＯ２等を用いて形成することが可能である。また、第２誘電体層１１３の表面に、更にＭｇＯ等の仕事関数の値の小さな物質からなる保護層を形成して、第２誘電体層１１３をプラズマによる第２誘電体層１１３のスパッタリングから保護してもよい。 The bus electrode 109 that is the second electrode and the transparent electrode 111 that is electrically connected to the bus electrode 109 are electrodes that are used together with the address electrode 103 in order to generate plasma discharge in the discharge space 117. The bus electrode 109 can be formed using a highly conductive metal such as Ag, Al, Ni, Cu, Mo, or Cr, and the transparent electrode 111 is formed of, for example, indium-tin oxide (Indium). -Tin Oxide: ITO) or the like can be used. The bus electrode 109 is formed along the x-axis direction on the surface of the front substrate 107 on the back substrate 101 side (the surface on the z-axis negative direction side in FIG. 5). At this time, it is not preferable that the bus electrode 109 and the transparent electrode 111 are exposed to the discharge space 117. Therefore, the surfaces of the bus electrode 109 and the transparent electrode 111 are covered with the second dielectric layer 113. The second dielectric layer 113 can be formed using SiO 2 or the like. Further, a protective layer made of a material having a small work function value such as MgO is further formed on the surface of the second dielectric layer 113, and the second dielectric layer 113 is formed by sputtering the second dielectric layer 113 by plasma. May be protected.

なお、バス電極１０９および透明電極１１１は、例えば、スパッタや蒸着などの方法を用いて、形成することが可能であり、特定の形成方法に限定されるわけではない。   The bus electrode 109 and the transparent electrode 111 can be formed using, for example, a method such as sputtering or vapor deposition, and are not limited to a specific forming method.

隔壁１１５は、所定の間隔を有するように配置された背面基板１０１および前面基板１０７によって生じる空間を、所定の広さを有する複数の放電空間１１７に区画する役割を果たすものである。すなわち、放電空間１１７は、背面基板１０１と、前面基板１０７と、隔壁１１５とによって定義される空間である。隔壁１１５は、例えば図２に示したように格子状に設けられるので、放電空間１１７は、図５に示したように、上下（ｚ軸方向）に沿って設けられる背面基板１０１および前面基板１０７と、左右（ｙ軸方向）に沿って配設される２つの隔壁１１５とによって区画される。   The barrier ribs 115 serve to partition a space generated by the back substrate 101 and the front substrate 107 arranged so as to have a predetermined interval into a plurality of discharge spaces 117 having a predetermined width. That is, the discharge space 117 is a space defined by the back substrate 101, the front substrate 107, and the barrier ribs 115. For example, the barrier ribs 115 are provided in a grid pattern as shown in FIG. 2, so that the discharge space 117 is provided along the upper and lower sides (z-axis direction) as shown in FIG. 5. And two partition walls 115 disposed along the left and right (y-axis direction).

図６に示したように、隔壁１１５の断面形状は、例えば、テーパ形状となっている。図６においては、隔壁１１５の断面形状はテーパ形状であるが、本発明に係る隔壁１１５の断面形状は図中の形状に限定されるわけではなく、広い放電空間１１７を確保できる形状であれば、様々な形状を有することができ、例えば断面が略長方形となっていてもよい。   As shown in FIG. 6, the cross-sectional shape of the partition 115 is, for example, a tapered shape. In FIG. 6, the cross-sectional shape of the barrier rib 115 is a tapered shape, but the cross-sectional shape of the barrier rib 115 according to the present invention is not limited to the shape shown in the figure, and any shape that can ensure a wide discharge space 117. , And can have various shapes, for example, the cross section may be substantially rectangular.

背面基板１０１、前面基板１０７および隔壁１１５により区画される各放電空間１１７は、当該放電空間１１７内に形成される蛍光体層の発光色に応じて、赤色領域１１９、緑色領域１２１および青色領域１２３（以下、それぞれＲ領域１１９、Ｇ領域１２１およびＢ領域１２３と略記する。）に大別される。Ｒ領域１１９には、赤色蛍光体を用いた蛍光体層１２５（以下、Ｒ蛍光体層１２５と略記する。）が形成され、Ｇ領域１２１には、緑色発光体を用いた蛍光体層１２７（以下、Ｇ蛍光体層１２７と略記する。）が形成され、Ｂ領域１２３には、青色蛍光体を用いた蛍光体層１２９（以下、Ｂ蛍光体層１２９と略記する。）が形成される。   Each discharge space 117 partitioned by the back substrate 101, the front substrate 107, and the partition wall 115 has a red region 119, a green region 121, and a blue region 123 according to the emission color of the phosphor layer formed in the discharge space 117. (Hereinafter, abbreviated as R region 119, G region 121, and B region 123, respectively). In the R region 119, a phosphor layer 125 (hereinafter abbreviated as R phosphor layer 125) using a red phosphor is formed, and in the G region 121, a phosphor layer 127 (using a green light emitter) ( Hereinafter, the phosphor layer 129 using the blue phosphor is formed in the B region 123 (hereinafter abbreviated as B phosphor layer 129).

図５および図６に示したように、アドレス電極１０３方向（すなわち、ｙ軸方向）に沿って隣接する放電空間１１７は、同一の発光が生じる放電空間であり、バス電極１０９方向（すなわち、ｘ軸方向）に沿って隣接する放電空間１１７は、それぞれ異なる色の発光が生じる放電空間となる。   As shown in FIGS. 5 and 6, the discharge space 117 adjacent along the address electrode 103 direction (ie, the y-axis direction) is a discharge space where the same light emission occurs, and the bus electrode 109 direction (ie, x The discharge spaces 117 adjacent to each other along the axial direction are discharge spaces in which light emission of different colors occurs.

このような蛍光体層１２５，１２７，１２９は、放電空間１１７内であって、放電経路ではない場所であれば、どこに設けられていても構わない。また、蛍光体層を、蛍光体層からの発光が透過していく基板である前面基板１０７に設ける場合には、透過率を低下させないために、蛍光体層の厚みを薄くすることが好ましい。また、蛍光体層は、本実施形態に係る蛍光体ペーストを使用し、ディスペンサーによって形成することが可能である。   Such phosphor layers 125, 127, and 129 may be provided anywhere in the discharge space 117 as long as they are not discharge paths. In addition, when the phosphor layer is provided on the front substrate 107 which is a substrate through which light emitted from the phosphor layer is transmitted, it is preferable to reduce the thickness of the phosphor layer in order not to reduce the transmittance. The phosphor layer can be formed by using a phosphor paste according to the present embodiment and a dispenser.

Ｒ蛍光体層１２５は、例えば、約６００ｎｍ〜約８００ｎｍの波長を有する光を発光する赤色蛍光体により形成される。Ｇ蛍光体層１２７は、例えば、約４９０ｎｍ〜約５５０ｎｍの波長を有する光を発光する緑色蛍光体により形成される。Ｂ蛍光体層１２９は、例えば、約４３０ｎｍ〜約４９０ｎｍの波長を有する光を発光する青色蛍光体により形成される。   The R phosphor layer 125 is formed of, for example, a red phosphor that emits light having a wavelength of about 600 nm to about 800 nm. The G phosphor layer 127 is formed of, for example, a green phosphor that emits light having a wavelength of about 490 nm to about 550 nm. The B phosphor layer 129 is formed of, for example, a blue phosphor that emits light having a wavelength of about 430 nm to about 490 nm.

また、放電空間１１７は真空状態ではなく、例えば、Ｘｅが主放電ガスであるＮｅ−Ｘｅガスなどが封じ込められている。放電ガスにおけるＸｅの分圧は、例えば放電ガス全体のガス圧に対して、例えば１０〜３０％程度とすることが可能である。   Further, the discharge space 117 is not in a vacuum state, and, for example, Ne—Xe gas whose main discharge gas is Xe is contained. The partial pressure of Xe in the discharge gas can be, for example, about 10 to 30% with respect to the gas pressure of the entire discharge gas.

＜本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの動作について＞
続いて、本実施形態に係るＰＤＰ１０の動作について説明する。アドレス電極１０３およびバス電極１０９、透明電極１１１間に、放電開始電圧よりも大きな交流電圧が印加されると、各電極に印加される電圧の極性が変化するたびに、アドレス電極１０３およびバス電極１０９、透明電極１１１間に放電経路が形成され、この放電経路中に存在する放電ガス中にプラズマ放電が発生して、紫外線が放電空間１１７中に放射されることとなる。放電空間１１７中に放射された紫外線は、蛍光体層中の蛍光体に当たり、この紫外線が有するエネルギーにより、蛍光体が発光する。蛍光体からの発光は、例えば前面基板１０７を透過して、ＰＤＰ１０の外部へと進むこととなる。 <Operation of Plasma Display Panel According to the Present Embodiment>
Subsequently, an operation of the PDP 10 according to the present embodiment will be described. When an AC voltage larger than the discharge start voltage is applied between the address electrode 103, the bus electrode 109, and the transparent electrode 111, the address electrode 103 and the bus electrode 109 each time the polarity of the voltage applied to each electrode changes. A discharge path is formed between the transparent electrodes 111, plasma discharge is generated in the discharge gas existing in the discharge path, and ultraviolet rays are radiated into the discharge space 117. The ultraviolet rays radiated into the discharge space 117 hit the phosphor in the phosphor layer, and the phosphor emits light by the energy of the ultraviolet rays. For example, light emitted from the phosphor passes through the front substrate 107 and proceeds to the outside of the PDP 10.

なお、本実施形態に係るＰＤＰ１０に、アドレス電極１０３およびバス電極１０９、透明電極１１１を制御するドライブ回路や、その他の装置を接続することで、本実施形態に係るＰＤＰ１０を備えたプラズマディスプレイを製造することが可能である。ＰＤＰを備えたプラズマディスプレイを製造する方法については、公知のあらゆる方法を適用することが可能である。   In addition, the plasma display provided with PDP10 which concerns on this embodiment is manufactured by connecting the drive circuit which controls the address electrode 103, the bus electrode 109, the transparent electrode 111, and another apparatus to PDP10 which concerns on this embodiment. Is possible. Any known method can be applied to a method of manufacturing a plasma display provided with a PDP.

＜本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法について＞
続いて、本実施形態に係るＰＤＰの製造方法について、詳細に説明する。本実施形態に係るＰＤＰ１０は、例えば、以下に示す段階を経て製造することが可能である。 <About the manufacturing method of the plasma display panel which concerns on this embodiment>
Next, a method for manufacturing the PDP according to the present embodiment will be described in detail. The PDP 10 according to the present embodiment can be manufactured through the following steps, for example.

すなわち、本実施形態に係るＰＤＰ１０は、例えば、背面基板１０１上にアドレス電極１０３および第１誘電体層１０５を製造する段階と、第１誘電体層１０５上に隔壁形成層を形成する段階と、隔壁形成層を焼成する段階と、隔壁形状を形成する段階と、隔壁形状により区画された放電空間内に、本実施形態に係る蛍光体ペーストを用いて各蛍光体層を形成する段階と、バス電極１０９および透明電極１１１ならびに第２誘電体層１１３が形成された前面基板１０７を配設する段階と、を経て製造することが可能である。   That is, the PDP 10 according to the present embodiment includes, for example, a step of manufacturing the address electrode 103 and the first dielectric layer 105 on the back substrate 101, a step of forming a partition wall forming layer on the first dielectric layer 105, A step of firing the barrier rib forming layer, a step of forming a barrier rib shape, a step of forming each phosphor layer in the discharge space partitioned by the barrier rib shape using the phosphor paste according to the present embodiment, and a bus And providing a front substrate 107 on which the electrode 109, the transparent electrode 111, and the second dielectric layer 113 are formed.

背面基板１０１上にアドレス電極１０３および第１誘電体層１０５を製造する段階は、背面基板１０１として利用するガラス基板上に、所定の方法でアドレス電極１０３を形成した後に、電極取り出し部以外の場所に第１誘電体層１０５として反射型誘電体層を形成する段階である。   In the step of manufacturing the address electrode 103 and the first dielectric layer 105 on the back substrate 101, the address electrode 103 is formed on the glass substrate used as the back substrate 101 by a predetermined method, and then the place other than the electrode extraction portion is formed. In this step, a reflective dielectric layer is formed as the first dielectric layer 105.

第１誘電体層１０５上に隔壁形成層を形成する段階は、上述のフィラーを含むガラス材料を使用して、第１誘電体層１０５上に隔壁形成層を形成する段階である。   The step of forming the barrier rib forming layer on the first dielectric layer 105 is a step of forming the barrier rib forming layer on the first dielectric layer 105 using the glass material containing the filler.

隔壁形成層を焼成する段階は、形成した隔壁形成層を、同時に焼成する段階である。続いて行われる隔壁形状を形成する段階は、焼成後の隔壁形成層にドライフィルムレジスト（Ｄｒｙ Ｆｉｌｍ Ｒｅｓｉｓｔ：ＤＦＲ）等のレジスト層を形成する段階と、レジスト層を隔壁の形成パターンにあわせて露光・現像する段階と、焼成後の隔壁形成層を加工する段階と、残存しているレジスト層を除去する段階と、を含む。   The step of firing the partition wall forming layer is a step of firing the formed partition wall forming layer at the same time. Subsequently, the step of forming the barrier rib shape includes a step of forming a resist layer such as a dry film resist (DFR) on the barrier rib forming layer after baking, and exposing the resist layer in accordance with the barrier rib pattern. A step of developing, a step of processing the barrier rib-forming layer after baking, and a step of removing the remaining resist layer;

かかる段階を経ることで、隔壁１１５が形成された背面基板１０１を製造することができる。   Through this step, the back substrate 101 on which the partition walls 115 are formed can be manufactured.

隔壁１１５が形成された後に、隔壁１１５により区画された放電空間内に、各色に対応する蛍光体層を、本実施形態に係る蛍光体ペーストを使用して、ディスペンサーにより形成する。   After the barrier ribs 115 are formed, the phosphor layers corresponding to the respective colors are formed in the discharge space partitioned by the barrier ribs 115 by using the phosphor paste according to the present embodiment by a dispenser.

他方、前面基板１０７として利用されるガラス基板に対して、ＩＴＯなどを用いて透明電極１１１を形成した後に、印刷法等を用いてバス電極１０９を形成することで、前面基板１０７上にバス電極１０９および透明電極１１１を形成することが可能である。その後、バス電極１０９および透明電極１１１上に第２誘電体層１１３を形成することで、バス電極１０９、透明電極１１１および第２誘電体層１１３が形成された前面基板１０７を製造することができる。また、第２誘電体層１１３を形成した後に、誘電体層を保護する保護膜としてＭｇＯ等を成膜してもよい。   On the other hand, after forming the transparent electrode 111 using ITO etc. with respect to the glass substrate utilized as the front substrate 107, the bus electrode 109 is formed using the printing method etc., and bus electrode is formed on the front substrate 107 here. 109 and the transparent electrode 111 can be formed. Thereafter, by forming the second dielectric layer 113 on the bus electrode 109 and the transparent electrode 111, the front substrate 107 on which the bus electrode 109, the transparent electrode 111 and the second dielectric layer 113 are formed can be manufactured. . Further, after forming the second dielectric layer 113, MgO or the like may be formed as a protective film for protecting the dielectric layer.

上述のような方法で形成された前面基板１０７を隔壁１１５上に配設することで、本実施形態に係るＰＤＰ１０を製造することができる。その後、放電空間内を脱気した上で所定の放電ガスを注入し、放電空間を封着する段階を行う。   The PDP 10 according to the present embodiment can be manufactured by disposing the front substrate 107 formed by the above-described method on the partition wall 115. Thereafter, the discharge space is evacuated, a predetermined discharge gas is injected, and the discharge space is sealed.

ここで、背面基板１０１上にアドレス電極１０３および第１誘電体層１０５を形成する段階と、前面基板１０７上にバス電極１０９および透明電極１１１と第２誘電体層１１３を形成する段階とは、任意の順に行うことが可能であり、上記２つの段階を並行して行うことも可能である。   Here, the step of forming the address electrode 103 and the first dielectric layer 105 on the back substrate 101 and the step of forming the bus electrode 109, the transparent electrode 111 and the second dielectric layer 113 on the front substrate 107 are: The steps can be performed in any order, and the two steps can be performed in parallel.

続いて、本発明に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストについて、実施例を示しながら詳細に説明する。なお、本発明に係るＰＤＰ用蛍光体ペーストが、下記の実施例に限定されるわけではない。   Subsequently, the phosphor paste for PDP according to the present invention will be described in detail with reference to examples. The PDP phosphor paste according to the present invention is not limited to the following examples.

（実施例および比較例で使用した樹脂について）
以下に示す実施例１〜８では、重合方法、分子量および組成の異なるアクリル樹脂１〜８（三菱レイヨン社製ダイヤナールＬＰ）を使用して、各実施例１〜８に係る蛍光体ペーストを製造した。比較例１では、エチルセルロースをバインダー樹脂として使用し、蛍光体ペーストを製造した。比較例２〜４では、重合方法、分子量および組成の異なるアクリル樹脂９〜１１（三菱レイヨン社製ダイヤナールＨＲ）を使用し、蛍光体ペーストを製造した。比較例５〜７では、重合方法、分子量および組成の異なるアクリル樹脂１２〜１４（三菱レイヨン社製ダイヤナールＢＲ）を使用して、蛍光体ペーストを製造した。 (Resins used in Examples and Comparative Examples)
In Examples 1 to 8 shown below, phosphor pastes according to Examples 1 to 8 are manufactured using acrylic resins 1 to 8 (Dainal LP manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) having different polymerization methods, molecular weights, and compositions. did. In Comparative Example 1, phosphor paste was produced using ethyl cellulose as a binder resin. In Comparative Examples 2 to 4, phosphor pastes were produced using acrylic resins 9 to 11 (Dainar HR manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) having different polymerization methods, molecular weights and compositions. In Comparative Examples 5 to 7, phosphor pastes were produced using acrylic resins 12 to 14 (Dianar BR manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) having different polymerization methods, molecular weights, and compositions.

（焼失率の測定）
以下に示す実施例および比較例では、上述の樹脂を、セイコーインスツルメント社製熱分析計６０００ＴＧ／ＤＴＡを用いて測定し、４１０℃での焼失率を測定した。 (Measurement of burnout rate)
In the following examples and comparative examples, the above-mentioned resin was measured using a thermal analyzer 6000TG / DTA manufactured by Seiko Instruments Inc., and the burn-out rate at 410 ° C. was measured.

（蛍光体ペーストの製造）
以下に示す実施例および比較例では、有機溶媒であるターピネオール４４．５ｇに、上述の樹脂５．５ｇを加熱溶解させてビヒクルを調整した後、蛍光体として、青色蛍光体であるＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ、ＢＡＭ）を３３．３ｇ添加した。蛍光体が添加されたビヒクルを３本ミルで混練して、それぞれの実施例および比較例における青色蛍光体ペーストを調整した。 (Manufacture of phosphor paste)
In the following examples and comparative examples, 5.5 g of the resin described above was heated and dissolved in 44.5 g of organic solvent, terpineol, and a vehicle was prepared. Then, BaMgAl 10 O 17, which is a blue phosphor, was used as the phosphor. : Eu, BAM) was added in an amount of 33.3 g. The vehicle to which the phosphor was added was kneaded with a three-mill to prepare the blue phosphor paste in each example and comparative example.

（第１法線応力差および粘度の測定）
上述の方法で製造した蛍光体ペーストの第１法線応力差および粘度は、アントンパール社製ＭＣＲ３００レオメータに２５ｍｍφ、０．５°のコーンプレートを装着して測定した。なお、測定時の温度は、２３℃であり、せん断速度は０．１〜１００００ｓｅｃ−１に設定し、この範囲の粘度とＮＦを測定した。 (Measurement of first normal stress difference and viscosity)
The first normal stress difference and the viscosity of the phosphor paste produced by the above-described method were measured by attaching a 25 mmφ, 0.5 ° cone plate to an MCR300 rheometer manufactured by Anton Paar. In addition, the temperature at the time of a measurement was 23 degreeC, the shear rate was set to 0.1-10000 sec < -1 >, and the viscosity and NF of this range were measured.

（Ｓｗｅｌｌ比の測定）
吐出圧が０．４ＭＰａに設定された細孔ノズル径が７５μｍであるディスペンサーを用いて、上述の方法で製造した蛍光体ペーストを吐出して、吐出径をＣＣＤカメラにて計測し、Ｓｗｅｌｌ比を算出した。 (Measurement of Swell ratio)
Using a dispenser with a discharge nozzle set to 0.4 MPa and a pore nozzle diameter of 75 μm, the phosphor paste produced by the above method is discharged, the discharge diameter is measured with a CCD camera, and the Swell ratio is calculated. Calculated.

（ノズルの走査速度および発光強度の測定）
上述の方法で製造した蛍光体ペーストを、マルチノズルディスペンサー（ノズルの間隔０．５７６ｍｍ）を用いて隔壁間隔（なお、ここでいう隔壁間隔とは、ディスプレイのサブピクセルの空間部分をいい、蛍光体ペーストが充填される空間部分の間隔を表す。）が１５０μｍの基板に塗布・パターニングを行った。このとき、隔壁上部とノズルヘッドとのギャップは１８０μｍとし、隔壁中に蛍光体ペーストが適切に塗布される状態になるときのノズルの走査速度（ｍｍ／ｓｅｃ）を計測した。また、得られた蛍光体入りパネルを４１０℃あるいは５００℃焼成した後、中心波長１７２ｎｍのエキシマーランプで励起して、その発光強度を測定した。 (Measurement of nozzle scanning speed and emission intensity)
The phosphor paste manufactured by the above-described method is divided into barrier ribs using a multi-nozzle dispenser (nozzle gap 0.576 mm). (This represents the interval between the spaces filled with the paste.) Was applied to the substrate of 150 μm and patterned. At this time, the gap between the upper part of the partition wall and the nozzle head was 180 μm, and the scanning speed (mm / sec) of the nozzle when the phosphor paste was properly applied in the partition wall was measured. The obtained phosphor-containing panel was baked at 410 ° C. or 500 ° C., and then excited with an excimer lamp having a central wavelength of 172 nm, and the emission intensity was measured.

上述の方法で測定した各測定値を、以下の表１に示す。   The measured values measured by the above-described method are shown in Table 1 below.

Figure 2009152065
Figure 2009152065

まず、表１の「ノズルの最適な走査速度」の欄に着目する。ＮＦ／ηの値が４０００以下である実施例１〜８では、ノズルの最適な走査速度の値は、１００ｍｍ／ｓｅｃ近傍の値となり、迅速なパターニングを実行可能であることがわかった。また、ＮＦ／ηの値が４０００超過となった比較例２〜８では、ノズルの最適な走査速度の値は、非常に低い値となっており、迅速なパターニングは実行できないことがわかった。   First, pay attention to the column of “Optimum scanning speed of nozzle” in Table 1. In Examples 1 to 8 in which the value of NF / η is 4000 or less, the optimum scanning speed value of the nozzle is a value in the vicinity of 100 mm / sec, and it was found that rapid patterning can be performed. Further, in Comparative Examples 2 to 8 in which the value of NF / η exceeded 4000, it was found that the optimum scanning speed value of the nozzle was a very low value, and rapid patterning could not be performed.

次に、表１の「Ｓｗｅｌｌ比」の欄に着目すると、ＮＦ／ηの値が４０００以下である実施例１〜８では、Ｓｗｅｌｌ比の値が１．４以下となり、ダイスウェル効果が抑制されていることがわかった。また、比較例２〜８において、Ｓｗｅｌｌ比の値が１．４以下となった場合も存在したが、このような値を示した蛍光体ペーストでは、ノズルの最適な走査速度が極端に小さな値となっており、高精細度かつ迅速なパターニングが実行できないことがわかった。   Next, focusing on the column of “Swell ratio” in Table 1, in Examples 1 to 8 where the value of NF / η is 4000 or less, the value of the Swell ratio is 1.4 or less, and the die swell effect is suppressed. I found out. Further, in Comparative Examples 2 to 8, there was a case where the value of the Swell ratio was 1.4 or less. However, in the phosphor paste showing such a value, the optimum scanning speed of the nozzle is an extremely small value. Thus, it was found that high-definition and quick patterning cannot be performed.

続いて、表１の「相対輝度」の欄に着目すると、焼成温度が４１０℃である実施例１〜８および比較例２〜７では、相対輝度が１００近傍の値となったが、焼成温度が５００°であるエチルセルロースを用いた比較例１では、相対輝度の値が６８となった。これは、高い焼成温度により、蛍光体の熱劣化が発生したことに起因する。   Subsequently, when focusing on the column of “relative luminance” in Table 1, in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 2 to 7 where the baking temperature is 410 ° C., the relative luminance became a value near 100. In Comparative Example 1 using ethylcellulose having an angle of 500 °, the relative luminance value was 68. This is because the phosphor is thermally deteriorated due to a high firing temperature.

なお、表１の「分子量」および「１０ｓｅｃ−１における粘度η」の欄から明らかなように、ノズルの最適な走査速度の値は、樹脂の分子量や、１０ｓｅｃ−１における粘度ηには依存しないことがわかった。 As is apparent from the columns of “molecular weight” and “viscosity η at 10 sec −1 ” in Table 1, the optimum scanning speed value of the nozzle does not depend on the molecular weight of the resin or the viscosity η at 10 sec −1 . I understood it.

以上説明したように、一定条件を満たすレオロジー特性を有する低温焼失（メタ）アクリル樹脂を用いた蛍光体ペーストを用いることにより、省エネルギーの生産工程となり、また焼成による蛍光体の輝度劣化を防止し、安価で、高効率なプラズマディスプレイパネルを製造することが可能となる。   As described above, by using a phosphor paste using a low-temperature burnt (meth) acrylic resin having rheological properties that satisfy certain conditions, it becomes an energy-saving production process, and prevents luminance deterioration of the phosphor due to firing, An inexpensive and highly efficient plasma display panel can be manufactured.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described referring an accompanying drawing, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to this example. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.

例えば、上述した実施形態においては、プラズマディスプレイがアドレス電極とバス電極の２種類の電極を有する２電極構造である場合について説明したが、本発明に係るプラズマディスプレイの電極の種類は上述の場合に限定されるわけではなく、例えば３種類以上の電極を有する３電極構造であってもよい。   For example, in the above-described embodiment, the case where the plasma display has a two-electrode structure having two types of electrodes, that is, the address electrode and the bus electrode has been described. For example, a three-electrode structure having three or more types of electrodes may be used.

プラズマディスプレイパネルの蛍光体層の形成に用いられるディスペンサーを説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the dispenser used for formation of the fluorescent substance layer of a plasma display panel. 蛍光体ペーストの吐出時に発生するダイスウェル効果を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the die swell effect which generate | occur | produces at the time of discharge of fluorescent substance paste. 蛍光体ペーストの吐出時に発生するダイスウェル効果を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the die swell effect which generate | occur | produces at the time of discharge of fluorescent substance paste. 本発明の第１の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを説明するための部分平面図である。It is a partial top view for demonstrating the plasma display panel which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 同実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the plasma display panel which concerns on the same embodiment. 同実施形態に係るプラズマディスプレイパネルを説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the plasma display panel which concerns on the same embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

１ ディスペンサー
３ 細孔ノズル
５ 蛍光体ペースト
７ せん断応力
９ 第１法線応力差
１０ プラズマディスプレイパネル
１０１ 背面基板
１０３ アドレス電極
１０５ 第１誘電体層
１０７ 前面基板
１０９ バス電極
１１１ 透明電極
１１３ 第２誘電体層
１１５ 隔壁
１１７ 放電空間
１１９ Ｒ領域
１２１ Ｇ領域
１２３ Ｂ領域
１２５ Ｒ蛍光体層
１２７ Ｇ蛍光体層
１２９ Ｂ蛍光体層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Dispenser 3 Pore nozzle 5 Phosphor paste 7 Shear stress 9 First normal stress difference 10 Plasma display panel 101 Rear substrate 103 Address electrode 105 First dielectric layer 107 Front substrate 109 Bus electrode 111 Transparent electrode 113 Second dielectric Layer 115 Partition 117 Discharge space 119 R region 121 G region 123 B region 125 R phosphor layer 127 G phosphor layer 129 B phosphor layer

Claims (4)

プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストであって、
有機溶媒に溶解したアクリル樹脂またはメタクリル樹脂と、
前記アクリル樹脂または前記メタクリル樹脂に添加される蛍光体と、
を含み、
せん断速度４０００ｓｅｃ−１における前記プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストの第１法線応力差をＮＦとし、温度２３℃およびせん断速度４０００ｓｅｃ−１における粘度をηとした場合に、ＮＦをηで除した値Ｙ＝ＮＦ／ηが４０００以下である
ことを特徴とする、プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペースト。 A phosphor paste for a plasma display panel,
An acrylic resin or a methacrylic resin dissolved in an organic solvent;
A phosphor added to the acrylic resin or the methacrylic resin;
Including
The first normal stress difference of the plasma display panel phosphor paste at a shear rate 4000Sec -1 and NF, when the viscosity at 23 ° C. and a shear rate 4000Sec -1 was eta, obtained by dividing the NF in eta value A phosphor paste for a plasma display panel, wherein Y = NF / η is 4000 or less. 前記アクリル樹脂または前記メタクリル樹脂は、４１０℃における焼失率が９９％以上である
ことを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペースト。 The phosphor paste for a plasma display panel according to claim 1, wherein the acrylic resin or the methacrylic resin has a burning rate at 410 ° C of 99% or more. 細孔ノズル径がｄ０であるディスペンサーから前記プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストを吐出した際の当該プラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストの吐出径をｄｅとした場合に、前記吐出径ｄｅと前記細孔ノズル径ｄ０との比ｄｅ／ｄ０が１．４以下である
ことを特徴とする、請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペースト。 When the discharge diameter of the plasma display panel phosphor paste when pore nozzle diameter was ejected from the plasma display panel phosphor paste from the dispenser is d 0 was d e, the said discharge diameter d e The phosphor paste for a plasma display panel according to claim 1 or 2, wherein the ratio d e / d 0 to the pore nozzle diameter d 0 is 1.4 or less. 互いに対向して配置される第１の基板および第２の基板と、
前記第１の基板上に形成される第１誘電体層と、
前記第２の基板上に形成される第２誘電体層と、
前記第１誘電体層の内部に、第１の方向に沿って設けられる第１の電極と、
前記第２誘電体層の内部に、前記第１の方向に対して直交する第２の方向に沿って設けられる第２の電極と、
前記第１誘電体層と前記第２誘電体層との間に設けられ、複数の放電空間を区画する隔壁と、
前記放電空間内に形成される蛍光体層と、
を備え、
前記蛍光体層は、請求項１〜請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル用蛍光体ペーストを用いて、ディスペンサーにより形成される
ことを特徴とする、プラズマディスプレイパネル。

A first substrate and a second substrate disposed opposite to each other;
A first dielectric layer formed on the first substrate;
A second dielectric layer formed on the second substrate;
A first electrode provided in the first dielectric layer along a first direction;
A second electrode provided in the second dielectric layer along a second direction orthogonal to the first direction;
A partition wall provided between the first dielectric layer and the second dielectric layer and defining a plurality of discharge spaces;
A phosphor layer formed in the discharge space;
With
The said fluorescent substance layer is formed with a dispenser using the fluorescent substance paste for plasma display panels of Claims 1-3, The plasma display panel characterized by the above-mentioned.

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