JP2009152016A - Protection film coating method on interconnector for solid oxide fuel cell - Google Patents

Protection film coating method on interconnector for solid oxide fuel cell Download PDF

Info

Publication number
JP2009152016A
JP2009152016A JP2007328049A JP2007328049A JP2009152016A JP 2009152016 A JP2009152016 A JP 2009152016A JP 2007328049 A JP2007328049 A JP 2007328049A JP 2007328049 A JP2007328049 A JP 2007328049A JP 2009152016 A JP2009152016 A JP 2009152016A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
interconnector
fuel cell
solid oxide
protective film
ceramic material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007328049A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5283896B2 (en
Inventor
Yoshitaka Baba
好孝 馬場
Harukuni Kameda
治邦 亀田
Kei Ogasawara
慶 小笠原
Yoshio Matsuzaki
良雄 松崎
Satoshi Yamashita
敏 山下
Hideto Kurokawa
英人 黒川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Gas Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Gas Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Gas Co Ltd filed Critical Tokyo Gas Co Ltd
Priority to JP2007328049A priority Critical patent/JP5283896B2/en
Publication of JP2009152016A publication Critical patent/JP2009152016A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5283896B2 publication Critical patent/JP5283896B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/30Hydrogen technology
    • Y02E60/50Fuel cells

Landscapes

  • Fuel Cell (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for densely coating a protection film made from a conductive ceramic material on an interconnector for a solid oxide fuel cell made from a Cr-containing heat resistant alloy material. <P>SOLUTION: The coating method of the protection film made from the conductive ceramic material on the interconnector for the solid oxide fuel cell made from the Cr-containing heat resistant alloy material is that slurry prepared by adding low temperature sintering assistant to the conductive ceramic material is applied to the surface of the Cr-containing heat resistant alloy material, reduced at 700-900°C, and baked at 750-850°C in the air atmosphere. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、固体酸化物形燃料電池用インターコネクタへの保護膜コーティング方法に関し、より具体的にはCrを含む耐熱合金材料を用いて構成された固体酸化物形燃料電池用インターコネクタに対して導電性セラミックス材料からなる保護膜をコーティングする方法に関する。   The present invention relates to a method for coating a protective film on an interconnector for a solid oxide fuel cell, and more specifically, to an interconnector for a solid oxide fuel cell configured using a heat-resistant alloy material containing Cr. The present invention relates to a method for coating a protective film made of a conductive ceramic material.

固体酸化物形燃料電池(以下、適宜“SOFC”と略称する)の単電池すなわちセルは、固体酸化物からなる電解質を挟んでアノード(燃料極)およびカソード(空気極、酸化剤として酸素が用いられる場合は酸素極)が配置され、カソード/電解質/アノードの三層ユニットで構成される。以下において、カソード側に酸化剤ガスとして空気を流す場合について説明するが、酸素富化空気や酸素を流す場合についても同様である。   A unit cell or cell of a solid oxide fuel cell (hereinafter abbreviated as “SOFC” where appropriate) uses an anode (fuel electrode) and a cathode (air electrode, oxygen as an oxidizing agent) with an electrolyte made of solid oxide sandwiched between them. If present, an oxygen electrode) is arranged and is composed of a cathode / electrolyte / anode three-layer unit. In the following, the case where air is flowed as the oxidant gas to the cathode side will be described, but the same applies to the case where oxygen-enriched air or oxygen is flowed.

SOFCは下記(1)〜(5)のような特長を有している。(1)作動温度が高いことにより、電極における電気化学反応が円滑に進行するためにエネルギーロスが少なく、発電効率が高い。(2)排熱温度が高いので、多段に利用することにより、さらに発電効率を高めることが可能である。(3)作動温度が天然ガスなどの炭化水素燃料を改質させるのに十分なほど高いので、改質反応を電池内部で行うことができる。このためリン酸形やポリマー形のような低温作動型の燃料電池では必要な燃料処理系(改質器+シフトコンバータ)を大幅に簡素化できる。(4)COも発電反応に関与させることができるため、燃料を多様化できる。(5)全部材が固体により構成されるので、リン酸形燃料電池や溶融炭酸塩形燃料電池において発生するような腐食や電解質の蒸散の問題がない。   SOFC has the following features (1) to (5). (1) Since the electrochemical reaction at the electrode proceeds smoothly due to the high operating temperature, there is little energy loss and the power generation efficiency is high. (2) Since the exhaust heat temperature is high, it is possible to further increase the power generation efficiency by using multiple stages. (3) Since the operating temperature is high enough to reform a hydrocarbon fuel such as natural gas, the reforming reaction can be performed inside the battery. For this reason, the fuel processing system (reformer + shift converter) necessary for low-temperature operating fuel cells such as phosphoric acid type and polymer type can be greatly simplified. (4) Since CO can be involved in the power generation reaction, fuel can be diversified. (5) Since all members are made of solid, there is no problem of corrosion or electrolyte evaporation that occurs in phosphoric acid fuel cells or molten carbonate fuel cells.

電解質材料としては、例えばイットリア安定化ジルコニア(YSZ)等のシート状焼結体が用いられ、アノードとしては、例えばニッケルとイットリア安定化ジルコニアの混合物(Ni/YSZサーメット)等の多孔質体が用いられ、カソードとしては、例えばSrドープのLaMnO3等の多孔質体が用いられ、通常、電解質材料の両面にアノードとカソードを焼き付けることによりセルが構成される。 As the electrolyte material, for example, a sheet-like sintered body such as yttria stabilized zirconia (YSZ) is used, and as the anode, a porous body such as a mixture of nickel and yttria stabilized zirconia (Ni / YSZ cermet) is used. For example, a porous body such as Sr-doped LaMnO 3 is used as the cathode, and the cell is usually formed by baking the anode and the cathode on both surfaces of the electrolyte material.

その作動時に、カソードに導入される空気中の酸素はカソードで酸化物イオン(O2-)となり、電解質を通ってアノードに至る。ここで、アノードに導入される燃料と反応して電子を放出し、電気と、水、二酸化炭素等の反応生成物とを生成する。カソードでの利用済み空気はカソードオフガスとして排出され、アノードでの利用済み燃料はアノードオフガスとして排出される。 During the operation, oxygen in the air introduced into the cathode becomes oxide ions (O 2− ) at the cathode and reaches the anode through the electrolyte. Here, it reacts with the fuel introduced into the anode and emits electrons to generate electricity and reaction products such as water and carbon dioxide. Spent air at the cathode is discharged as cathode offgas, and spent fuel at the anode is discharged as anode offgas.

ところで、従来のSOFCはその作動温度が800〜1000℃程度と高いが、最近ではそれ以下の低温である600〜800℃程度の範囲、例えば750℃程度の温度で作動するSOFCが開発されつつある。図1はそのうち平板形SOFCセルの態様例を説明する図で、断面図を示している。図1のとおり、セル1は、アノード2の上に電解質膜3が配置され、電解質膜3の上にカソード4が配置されて構成される。   By the way, a conventional SOFC has a high operating temperature of about 800 to 1000 ° C., but recently, an SOFC operating at a temperature of about 600 to 800 ° C., which is lower than that, for example, a temperature of about 750 ° C. is being developed. . FIG. 1 is a diagram for explaining an example of a flat SOFC cell and shows a cross-sectional view. As shown in FIG. 1, the cell 1 is configured with an electrolyte membrane 3 disposed on an anode 2 and a cathode 4 disposed on the electrolyte membrane 3.

固体酸化物電解質として例えばジルコニア系やLaGaO3系などの電解質材料が用いられ、これを膜厚の厚いアノードで支持するように構成されており、支持膜式と称される。支持膜式においては、電解質膜の膜厚を薄く構成でき、その膜厚が例えば10μm程度となり、600〜800℃という低温ないし中温で運転できる。このため、インターコネクタなどの構成材料として耐熱合金、例えばステンレス鋼などの安価な材料の使用を可能とし、また小型化が可能であるなど各種利点を有する。 For example, a zirconia-based or LaGaO 3 -based electrolyte material is used as the solid oxide electrolyte, which is configured to be supported by a thick anode, and is called a support membrane type. In the support membrane type, the thickness of the electrolyte membrane can be reduced. The thickness of the membrane becomes, for example, about 10 μm, and it can be operated at a low or medium temperature of 600 to 800 ° C. For this reason, it is possible to use a heat-resistant alloy, such as stainless steel, as a constituent material for the interconnector or the like, and it has various advantages such as miniaturization.

SOFCセルは、その作動時に、カソード側に空気を流し、アノード側に燃料を流して、両電極を外部負荷に接続することで電力が得られる。セル一つでは高い電圧は得られないので、セルとセルをインターコネクタを介して交互に積層配置してスタック化される。すなわち、平板形SOFCスタックでは、隣接するセルを電気的に接続するとともに、カソードとアノードのそれぞれに空気と燃料とを分配し供給し排出する目的で、インターコネクタとセルとが交互に積層される。   When the SOFC cell is in operation, electric power is obtained by flowing air to the cathode side, flowing fuel to the anode side, and connecting both electrodes to an external load. Since a high voltage cannot be obtained with one cell, cells and cells are stacked by being alternately stacked via an interconnector. That is, in the flat SOFC stack, interconnectors and cells are alternately stacked for the purpose of electrically connecting adjacent cells and distributing, supplying, and discharging air and fuel to and from the cathode and anode, respectively. .

図2はその積層例、すなわち支持膜式平板形SOFCセルを積層する構成例を説明する図で、支持膜式平板形SOFCスタックの各部材について、その配置関係を示すため間隔を置いて示している。セル1を三個、その間にインターコネクタ5を二個、上方のセルの上面および下方のセルの下面にそれぞれインターコネクタ5(このインターコネクタは枠体でもある)を備えてスタックを構成した場合を示している。インターコネクタ5には、セルに空気および燃料を供給するための複数個の溝状のガス流路が形成されている。これらは、例えば荷重をかけることで積層される。   FIG. 2 is a diagram for explaining a stacking example, that is, a configuration example of stacking support membrane type flat SOFC cells, and showing each member of the support membrane type flat SOFC stack at intervals to show the arrangement relationship. Yes. A case where three cells 1 and two interconnectors 5 between them are provided, and an interconnector 5 (this interconnector is also a frame) is provided on the upper surface of the upper cell and the lower surface of the lower cell, respectively. Show. The interconnector 5 is formed with a plurality of groove-like gas passages for supplying air and fuel to the cells. These are laminated by applying a load, for example.

ところで、インターコネクタに対しては、下記(1)〜(8)という数多くの性質が求められる。(1)緻密であってガスを透過、漏洩しない。(2)電子導電性が大きい。(3)イオン導電性が小さい。(4)高温の酸化性、還元性、両雰囲気において材料自身が化学的に安定である。(5)二つの電極など接触する他の部材との反応や過度な相互拡散が起こらない。(6)他の電池構成材料と熱膨張率が整合している、(7)雰囲気の変動による寸法変化が小さい。(8)十分な強度を有する。   By the way, the interconnector is required to have many properties (1) to (8) below. (1) It is dense and does not permeate or leak gas. (2) High electronic conductivity. (3) Ion conductivity is small. (4) The material itself is chemically stable in both high-temperature oxidizing and reducing atmospheres. (5) Reaction with other members in contact such as two electrodes and excessive mutual diffusion do not occur. (6) The thermal expansion coefficient is consistent with other battery constituent materials. (7) The dimensional change due to the change in atmosphere is small. (8) It has sufficient strength.

そのように、インターコネクタには多くの厳しい要求があるため、その構成材料が限定される。これらの要求をなるべく多く満たすものとしてCrを含む耐熱合金が用いられる。作動温度が低温ないし中温(600〜850℃程度)のSOFCの場合にも、マニホールドやインターコネクタ用の材料として、Crを含む耐熱性合金を用いることが上記性質、性能面やコストの面から有利である。   As such, the interconnector has many strict requirements, limiting its constituent materials. In order to satisfy these requirements as much as possible, a heat-resistant alloy containing Cr is used. Even in the case of SOFC with a low or medium operating temperature (about 600 to 850 ° C.), it is advantageous from the viewpoint of the above properties, performance, and cost to use a heat-resistant alloy containing Cr as a material for manifolds and interconnectors. It is.

しかし、インターコネクタの構成材料としてCrを含む耐熱合金を用いた場合、SOFCの作動時の酸化雰囲気において、その表面に酸化クロム皮膜を形成するのが一般的である。酸化クロム皮膜は導電性があまり高くないため、そのまま続けて使用するとSOFCセルスタックの内部抵抗が高くなる。従来、その原因である酸化クロムの蒸気種の発生を防ぎ、その内部抵抗を防ぐ手段として、Cr合金表面に導電性セラミックスや銀合金などの導電性材料の保護膜を施すことが有効であると考えられている。   However, when a heat-resistant alloy containing Cr is used as the constituent material of the interconnector, it is common to form a chromium oxide film on the surface in an oxidizing atmosphere during operation of the SOFC. Since the chromium oxide film is not very conductive, the internal resistance of the SOFC cell stack increases when it is used as it is. Conventionally, it is effective to apply a protective film of a conductive material such as conductive ceramics or silver alloy on the surface of the Cr alloy as a means for preventing the generation of vapor species of chromium oxide which is the cause and preventing the internal resistance thereof. It is considered.

図3はその概略を説明する図で、図3(a)は図2に示すようなインターコネクタの斜視図である。図3(b)は、図3(a)に示すようなインターコネクタに導電性コーティング層6を設けた場合の側面図〔図3(c)を左側または右側から見た図に相当する〕、図3(c)は、同じく導電性コーティング層6を設けた、その空気流通用の複数個の溝がある側の側面図である。図3(b)〜(c)のとおり、Crを含む耐熱合金製インターコネクタの表面を導電性材料でコーティングすることで、すなわちその表面に導電性の保護膜を設けることにより、合金表面の酸化物スケール層すなわち酸化クロム層の表面への露出を避け、酸化クロムの蒸気種の発生を防いでいる。   FIG. 3 is a diagram for explaining the outline, and FIG. 3 (a) is a perspective view of the interconnector as shown in FIG. FIG. 3B is a side view when the conductive coating layer 6 is provided on the interconnector as shown in FIG. 3A (corresponding to FIG. 3C viewed from the left or right side), FIG. 3C is a side view on the side where a plurality of grooves for air circulation are provided, similarly provided with the conductive coating layer 6. As shown in FIGS. 3B to 3C, the surface of the heat-resistant alloy interconnector containing Cr is coated with a conductive material, that is, by providing a conductive protective film on the surface, the surface of the alloy is oxidized. Exposure to the surface of the physical scale layer, that is, the chromium oxide layer is avoided, and generation of vapor species of chromium oxide is prevented.

ところで、Crを含む耐熱合金表面に導電性材料として導電性セラミックスを緻密に成膜するには1000℃以上の高温で焼結しなければならない。しかし、そのような高温ではCr含有合金がもたないため、より低温で焼結するような工夫が必要となる。しかもディッピング等の安価な方法が望まれる。そこで、非特許文献1、2のような方法が提案されている。   By the way, in order to densely form conductive ceramics as a conductive material on the surface of a heat-resistant alloy containing Cr, it must be sintered at a high temperature of 1000 ° C. or higher. However, since there is no Cr-containing alloy at such a high temperature, a device for sintering at a lower temperature is required. In addition, an inexpensive method such as dipping is desired. Therefore, methods such as Non-Patent Documents 1 and 2 have been proposed.

非特許文献1においては、Ce0.9Gd0.11.95(以下、適宜“CGO”と略称する)に焼結助剤(Li)を添加することで、Ce0.9Gd0.11.95の焼結温度を下げることに成功している。具体的には、CGOの緻密体に対してCGO膜をコーティングするに際して、CGOに硝酸リチウム(LiNO3)を5モル%添加することにより、CGOの緻密体に対するCGOの焼結温度を1200℃から800℃まで低減させている。 In Non-Patent Document 1, the sintering temperature of Ce 0.9 Gd 0.1 O 1.95 is lowered by adding a sintering aid (Li) to Ce 0.9 Gd 0.1 O 1.95 (hereinafter abbreviated as “CGO” where appropriate). Has been successful. Specifically, when the CGO film is coated on the CGO dense body, 5 mol% of lithium nitrate (LiNO 3 ) is added to the CGO, whereby the CGO sintering temperature for the CGO dense body is increased from 1200 ° C. The temperature is reduced to 800 ° C.

非特許文献2では、Mn1.5Co1.54をフェライト系ステンレス鋼の表面に成膜する際、還元処理を取り入れることにより、緻密な成膜が可能としている。しかし、酸化物膜であるMn1.5Co1.54膜は比較的緻密にはなっているものの、同膜には多数の孔があり、完全には緻密になっておらず、このレベルでは未だ実用に供することはできない。 In Non-Patent Document 2, when forming a film of Mn 1.5 Co 1.5 O 4 on the surface of a ferritic stainless steel, a dense film can be formed by incorporating a reduction treatment. However, although Mn 1.5 Co 1.5 O 4 film, which is an oxide film, is relatively dense, there are many pores in the film and it is not completely dense. It cannot be used.

“7th EUROPEAN SOLID OXIDE FUEL CELL FORUM, 3-7 July 2006, Abstract p.49:Low Temperature Constrained Sintering of COG Films for SOFC Applications, Jason Nicholas 外1名”“7th EUROPEAN SOLID OXIDE FUEL CELL FORUM, 3-7 July 2006, Abstract p.49: Low Temperature Constrained Sintering of COG Films for SOFC Applications, 1 outside Jason Nicholas” “Journal of the Electrochemical Society 2005 A1896〜A1901:Thermal Growth and Performance of Manganese Cobaltite Spinel Protection on FERRITIC STAINLESS STEEL SOFC INTERCONNECTS, YANG Zhenguo 外3名 ,Available electronically August 8, 2005”“Journal of the Electrochemical Society 2005 A1896 ~ A1901: Thermal Growth and Performance of Manganese Cobaltite Spinel Protection on FERRITIC STAINLESS STEEL SOFC INTERCONNECTS, YANG Zhenguo, 3 others, Available electronically August 8, 2005”

本発明は、従来における、構成材料として耐熱合金を用いるインターコネクタに関する以上の問題を解決するためになされたものであり、Crを含む耐熱合金材料を用いて構成された固体酸化物形燃料電池用インターコネクタに対して導電性セラミックス材料からなる保護膜を緻密にコーティングする方法を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made to solve the above-described problems related to interconnectors using a heat-resistant alloy as a constituent material, and is for a solid oxide fuel cell configured using a heat-resistant alloy material containing Cr. It is an object of the present invention to provide a method for densely coating a protective film made of a conductive ceramic material on an interconnector.

本発明は、Crを含む耐熱合金材料を用いて構成された固体酸化物形燃料電池用インターコネクタに対する導電性セラミックス材料からなる保護膜のコーティング方法であって、前記導電性セラミックス材料に低温焼結助剤を添加したスラリーを前記Crを含む耐熱合金材料の表面に塗布した後、700〜900℃において還元処理を行い、次いで空気雰囲気中750〜850℃で焼成することを特徴とする固体酸化物形燃料電池用インターコネクタに対する保護膜のコーティング方法である。   The present invention relates to a method for coating a protective film made of a conductive ceramic material on a solid oxide fuel cell interconnector composed of a heat-resistant alloy material containing Cr, and the conductive ceramic material is sintered at a low temperature. A solid oxide characterized in that a slurry to which an auxiliary agent is added is applied to the surface of the heat-resistant alloy material containing Cr, followed by reduction treatment at 700 to 900 ° C., and then firing at 750 to 850 ° C. in an air atmosphere. A method for coating a protective film on an interconnector for a fuel cell.

本発明によれば、以下(1)〜(3)の効果が得られる。
(1)Crを含む耐熱合金材料の表面に緻密な導電性セラミックス材料からなる保護膜を形成することができる。
(2)導電性セラミックス材料として粒径の大きい導電性セラミックス材料を使用することができるため、作業工程を少なくでき、大量生産しやすい。
(3)導電性セラミックス材料として粒径の大きい導電性セラミックス材料を使用することができるため、製造コストを大幅に下げることができる。
According to the present invention, the following effects (1) to (3) can be obtained.
(1) A protective film made of a dense conductive ceramic material can be formed on the surface of a heat-resistant alloy material containing Cr.
(2) Since a conductive ceramic material having a large particle size can be used as the conductive ceramic material, the number of work steps can be reduced and mass production is easy.
(3) Since a conductive ceramic material having a large particle size can be used as the conductive ceramic material, the manufacturing cost can be significantly reduced.

本発明は、Crを含む耐熱合金材料を用いて構成された固体酸化物形燃料電池用インターコネクタに対する導電性セラミックス材料からなる保護膜のコーティング方法である。そして、導電性セラミックス材料に低温焼結助剤を添加したスラリーをCrを含む耐熱合金材料の表面に塗布した後、700〜900℃において還元処理を行い、次いで空気雰囲気中750〜850℃で焼成することを特徴とする。   The present invention is a method for coating a protective film made of a conductive ceramic material on an interconnector for a solid oxide fuel cell configured using a heat-resistant alloy material containing Cr. And after apply | coating the slurry which added the low-temperature sintering auxiliary agent to the electrically conductive ceramic material on the surface of the heat-resistant alloy material containing Cr, a reduction process is performed at 700-900 degreeC, and it baked at 750-850 degreeC in an air atmosphere then It is characterized by doing.

本発明におけるCrを含む耐熱合金材料としては、固体酸化物形燃料電池用インターコネクタとして使用されるCrを含む耐熱合金材料であれば何れも使用される。例えば下掲(1)〜(3)のような材料が挙げられるが、これらに限定されない。
(1) C:0.02%(mass%、以下同じ)、Mn:0.50%、Ni:0.26%、Cr:21.97%、Zr:0.22%、La:0.04%、Si:0.40%、Al:0.21%、Fe:バランス
(2) C:0.03%、Mn:0.47%、Ni:0.26%、Cr:22.14%、Zr:0.20%、La:0.04%、Si:0.40%、Al:0.21%、Fe:バランス
(3) C:0.02%、Mn:0.48%、Ni:0.33%、Cr:22.04%、Zr:0.20%、La:0.08%、Low Si、Low Al、Fe:バランス
As the heat-resistant alloy material containing Cr in the present invention, any heat-resistant alloy material containing Cr used as a solid oxide fuel cell interconnector can be used. For example, the following materials (1) to (3) may be mentioned, but the material is not limited thereto.
(1) C: 0.02% (mass%, the same applies hereinafter), Mn: 0.50%, Ni: 0.26%, Cr: 21.97%, Zr: 0.22%, La: 0.04 %, Si: 0.40%, Al: 0.21%, Fe: Balance (2) C: 0.03%, Mn: 0.47%, Ni: 0.26%, Cr: 22.14%, Zr: 0.20%, La: 0.04%, Si: 0.40%, Al: 0.21%, Fe: balance (3) C: 0.02%, Mn: 0.48%, Ni: 0.33%, Cr: 22.04%, Zr: 0.20%, La: 0.08%, Low Si, Low Al, Fe: Balance

本発明における導電性セラミックス材料としては、MnXCo3-X4(0<x<3)、MnXFe3-X4(0<x<3)、ZnXMn3-X4(0<x<3)、CuXMn3-X4(0<x<3)またはCoXFe3-X4(0<x<3)を使用する。このうち、MnXCo3-X4(0<x<3)の例としてはMnCo24、Mn1.5Co1.54、Mn2CoO4等が挙げられ、MnXFe3-X4(0<x<3)の例としてはMnFe24等が挙げられ、ZnXMn3-X4(0<x<3)の例としてはZnMn24等が挙げられ、CuXMn3-X4(0<x<3)の例としてはCu1.4Mn1.64等が挙げられ、CoXFe3-X4(0<x<3)の例としてはCoFe24等が挙げられる。これらはスピネルと同型の結晶構造をもつ材料である。 Examples of the conductive ceramic material in the present invention include Mn X Co 3 -X O 4 (0 <x <3), Mn X Fe 3 -X O 4 (0 <x <3), Zn X Mn 3 -X O 4 (0 <x <3), using a Cu X Mn 3-X O 4 (0 <x <3) or Co X Fe 3-X O 4 (0 <x <3). Among these, examples of Mn X Co 3-X O 4 (0 <x <3) include MnCo 2 O 4 , Mn 1.5 Co 1.5 O 4 , Mn 2 CoO 4, etc., and Mn X Fe 3-X O 4 (0 <x <3) is exemplified by MnFe 2 O 4 and the like, and Zn X Mn 3 -X O 4 (0 <x <3) is exemplified by ZnMn 2 O 4 and Cu. X Mn 3-X O 4 ( 0 <x <3) examples of include Cu 1.4 Mn 1.6 O 4 and the like, Co X Fe 3-X O 4 CoFe 2 examples of (0 <x <3) O 4 etc. are mentioned. These are materials having the same crystal structure as spinel.

本発明における低温焼結助剤としてはLi化合物を使用する。Li化合物の例としては酸化リチウム、水酸化リチウム、硝酸リチウム、炭酸リチウム、酢酸リチウム、ハロゲン化リチウムなどが挙げられるが、これらに限定されない。これらLi化合物は、後述還元処理で還元されてLiとなり、これに続く後述空気雰囲気での焼成時に、従来に比べてより低温で導電性セラミックス材料を緻密に焼結する役割をする。なお、低温焼結助剤における“低温”とは、その“従来に比べてより低温で”における当該低温の意味である。   Li compound is used as the low temperature sintering aid in the present invention. Examples of the Li compound include, but are not limited to, lithium oxide, lithium hydroxide, lithium nitrate, lithium carbonate, lithium acetate, and lithium halide. These Li compounds are reduced to Li by a reduction treatment described later, and serve to densely sinter the conductive ceramic material at a lower temperature than before when firing in an air atmosphere described later. The “low temperature” in the low temperature sintering aid means the low temperature in “at a lower temperature than in the past”.

本発明においては、導電性セラミックス材料に低温焼結助剤を添加したスラリーをCrを含む耐熱合金材料の表面に塗布した後、700〜900℃の温度範囲において還元処理を行い、次いで空気雰囲気中750〜850℃の温度範囲で焼成する。   In the present invention, a slurry obtained by adding a low-temperature sintering aid to a conductive ceramic material is applied to the surface of a heat-resistant alloy material containing Cr, and then subjected to a reduction treatment in a temperature range of 700 to 900 ° C., and then in an air atmosphere Bake in the temperature range of 750-850 ° C.

本発明における、導電性セラミックス材料に対する低温焼結助剤の添加量は、導電性セラミックス材料100モル%に対して3モル%以上であるのがよく、その範囲は好ましくは3〜8モル%の範囲である。   In the present invention, the amount of the low-temperature sintering aid added to the conductive ceramic material may be 3 mol% or more with respect to 100 mol% of the conductive ceramic material, and the range is preferably 3 to 8 mol%. It is a range.

(1) まず、導電性セラミックス材料、低温焼結助剤を含むスラリーの作製は、溶媒として水または水とアルコールの混合溶媒を使用し、これに導電性セラミックス材料、低温焼結助剤、有機バインダー、分散剤を混合し、ボールミル等により十分攪拌してスラリーとする。   (1) First, a slurry containing a conductive ceramic material and a low-temperature sintering aid uses water or a mixed solvent of water and alcohol as a solvent, and the conductive ceramic material, low-temperature sintering aid, organic A binder and a dispersant are mixed and sufficiently stirred with a ball mill or the like to form a slurry.

(2) 次いで、そのスラリーをCrを含む耐熱合金材料の表面に塗布する。この塗布はスクリーン印刷法、ディッピング法などにより行うことができる。   (2) Next, the slurry is applied to the surface of the heat-resistant alloy material containing Cr. This coating can be performed by a screen printing method, a dipping method, or the like.

(3) 次いで、700〜900℃において還元処理を行う。還元処理の温度はより好ましくは750〜850℃である。還元処理時の還元雰囲気としては水素を含むガス雰囲気とする。その好ましい例としては水素を含む窒素雰囲気が挙げられる。また、還元処理の時間は、Crを含む耐熱合金材料の表面とその表面上に塗布したスラリー中の成分を十分還元できる時間であればよく、好ましくは12〜24時間である。低温焼結助剤であるLi化合物は還元処理によりLiに還元される。   (3) Next, reduction treatment is performed at 700 to 900 ° C. The temperature of the reduction treatment is more preferably 750 to 850 ° C. The reducing atmosphere during the reduction treatment is a gas atmosphere containing hydrogen. A preferable example thereof is a nitrogen atmosphere containing hydrogen. Moreover, the time of a reduction process should just be the time which can fully reduce | restore the component in the surface of the heat-resistant alloy material containing Cr, and the slurry apply | coated on the surface, Preferably it is 12 to 24 hours. The Li compound that is a low-temperature sintering aid is reduced to Li by a reduction treatment.

(4) 次いで、空気雰囲気中750〜850℃で焼成する。空気雰囲気中での焼成時間は12〜24時間である。   (4) Next, firing is performed at 750 to 850 ° C. in an air atmosphere. The firing time in the air atmosphere is 12 to 24 hours.

本発明においては、以上(1)〜(4)の工程により、SOFC用インターコネクタの構成材料であるCrを含む耐熱合金材料の表面に緻密な導電性セラミックス材料からなる保護膜を形成することができる。   In the present invention, a protective film made of a dense conductive ceramic material can be formed on the surface of the heat-resistant alloy material containing Cr, which is a constituent material of the SOFC interconnector, by the steps (1) to (4). it can.

こうして構成したインターコネクタを前述図3を用いて説明すると、図3中、5は“Crを含む耐熱合金材料”、6はその表面にコーティングされた保護層すなわち“導電性セラミックス材料からなる保護層”である。図3(b)〜(c)ではインターコネクタの下面に保護層を配しているが、必要に応じて側面、上面のいずれか、またはその両方にも配することができる。また、図3では平板型SOFC用インターコネクタに対する適用例を示しているが、本発明の保護層はそれ以外の形式のSOFC用インターコネクタにも適用される。   The interconnector thus constructed will be described with reference to FIG. 3. In FIG. 3, 5 is a “heat-resistant alloy material containing Cr”, 6 is a protective layer coated on the surface thereof, ie, a “protective layer made of a conductive ceramic material”. ". In FIGS. 3B to 3C, the protective layer is disposed on the lower surface of the interconnector. However, it can be disposed on either the side surface, the upper surface, or both as required. FIG. 3 shows an application example to a flat plate type SOFC interconnector, but the protective layer of the present invention is also applied to other types of SOFC interconnectors.

前述非特許文献1のとおり、セラミックス表面にCGO膜を成膜する際にCGOに焼結助剤(Li)を添加することでCGOの焼結温度を下げることに成功し、非特許文献2のとおり、フェライト系ステンレス鋼の表面にMn1.5Co1.54膜を形成する際に還元処理を取り入れることにより緻密な成膜が可能としているが、本発明においては、焼結助剤(Li)と還元処理とを利用することにより、Crを含む耐熱合金材料の表面に緻密な導電性セラミックス材料からなる保護膜を形成するものある。 As described in Non-Patent Document 1, the CGO film was formed on the ceramic surface, and the CGO sintering temperature was successfully reduced by adding a sintering aid (Li) to CGO. As described above, when a Mn 1.5 Co 1.5 O 4 film is formed on the surface of ferritic stainless steel, a dense film can be formed by incorporating a reduction treatment. In the present invention, a sintering aid (Li) and By using reduction treatment, a protective film made of a dense conductive ceramic material is formed on the surface of a heat-resistant alloy material containing Cr.

以下、実験例を基に本発明をさらに詳しく説明するが、本発明が実験例に限定されないことはもちろんである。ここでは、代表例として導電性セラミックス材料としてMnCo24を使用した実験例とCoFe24を使用した実験例を記載している。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on experimental examples, but the present invention is not limited to the experimental examples. Here, as a representative example, an experimental example using MnCo 2 O 4 as a conductive ceramic material and an experimental example using CoFe 2 O 4 are described.

〈実験例1:導電性セラミックス材料=MnCo24
〈(1)導電性セラミックス材料スラリーの作製〉
導電性セラミックス材料:MnCo24の油性スラリーを作製した。MnCo24の粉末(d50=1μm、比表面積=2.3m2/g)、LiNO3、有機バインダー、分散剤、エタノールを混合し、卓上ボールミルで10日間攪拌し、MnCo24の油性スラリーを作製した。MnCo24の油性スラリーとして、MnCo24に対するLiNO3の添加割合を変えた各種油性スラリーを作製した。
<Experimental example 1: conductive ceramic material = MnCo 2 O 4 >
<(1) Preparation of conductive ceramic material slurry>
An oily slurry of conductive ceramic material: MnCo 2 O 4 was prepared. MnCo of 2 O 4 powder (d50 = 1 [mu] m, a specific surface area = 2.3m 2 / g), LiNO 3, an organic binder, dispersing agent, ethanol were mixed, stirred for 10 days at a bench ball mill, oily MnCo 2 O 4 A slurry was prepared. As the MnCo 2 O 4 oily slurry, various oily slurries were prepared in which the addition ratio of LiNO 3 to MnCo 2 O 4 was changed.

MnCo24は導電性セラミックス材料であり、LiNO3は低温焼結助剤である。このうち、MnCo24粉末の比表面積は2.3m2/gであるのに対して、前記非特許文献1のCGO粉末の比表面積は30−35m2/gであり、MnCo24粉末の粒径はCGO粉末に比べて格段に大きい。 MnCo 2 O 4 is a conductive ceramic material, and LiNO 3 is a low temperature sintering aid. Among these, the specific surface area of MnCo 2 O 4 powder is 2.3 m 2 / g, whereas the specific surface area of CGO powder of Non-Patent Document 1 is 30-35 m 2 / g, and MnCo 2 O 4 The particle size of the powder is much larger than that of CGO powder.

〈(2)インターコネクタ材料への導電性セラミックス材料スラリーの塗布〉
Crを含む耐熱合金材料〔日立金属(株)製、ZMG(登録商標)232L。組成:C=0.02%(mass%、以下同じ)、Mn=0.48%、Ni=0.33%、Cr=22.04%、Zr=0.20%、La=0.08%、Si=微量、Al=微量、Fe=バランス〕の板体を複数個用意した。各板体の表面寸法は1cm×1cm(=1cm2)である。
<(2) Application of conductive ceramic material slurry to interconnector material>
Heat-resistant alloy material containing Cr [manufactured by Hitachi Metals, Ltd., ZMG (registered trademark) 232L. Composition: C = 0.02% (mass%, the same applies hereinafter), Mn = 0.48%, Ni = 0.3%, Cr = 22.04%, Zr = 0.20%, La = 0.08% , Si = trace, Al = trace, Fe = balance]. The surface dimension of each plate is 1 cm × 1 cm (= 1 cm 2 ).

それら各板体毎に、その表面に、前記〈(1)導電性セラミックス材料スラリーの作製〉で作製した、MnCo24に対するLiNO3の添加割合を異にした油性スラリーをスクリーシ印刷により塗布した。塗布後、溶媒であるエタノールを100℃前後にした恒温槽により乾燥した。こうして、各板体毎にそれぞれ、MnCo24に対するLiNO3の添加割合が異なるスラリーを塗膜、乾燥した各サンプルを作製した。 For each of these plates, an oily slurry prepared in the above-mentioned <(1) Preparation of conductive ceramic material slurry> with a different addition ratio of LiNO 3 to MnCo 2 O 4 was applied to the surface by screech printing. . After the application, it was dried in a thermostatic bath where the solvent, ethanol, was kept at around 100 ° C. In this way, each sample was prepared by coating and drying slurry with different addition ratios of LiNO 3 to MnCo 2 O 4 for each plate.

〈(3)還元処理〉
〈(2)インターコネクタ材料への導電性セラミックス材料スラリーの塗布〉で得た各サンプルを電気炉中、水素を含む窒素雰囲気〔N296%に対してH24%(容量%)を含む雰囲気〕において、800℃で20時間還元処理した。この処理でLiNO3はLiに還元される。LiNO3中のLi+は1価であるのでLiNO3としてのモル%はLiでも同じである。
<(3) Reduction treatment>
<(2) Application of slurry of conductive ceramic material to interconnector material> Each sample obtained in an electric furnace contains nitrogen atmosphere containing hydrogen [N 2 96% to H 2 4% (capacity%)] Atmosphere)] at 800 ° C. for 20 hours. In this process, LiNO 3 is reduced to Li. Since Li + in LiNO 3 is monovalent, the mol% as LiNO 3 is the same in Li.

〈(4)焼成処理〉
〈(3)還元処理〉後の各サンプルを電気炉中で、空気雰囲気において、800℃で12〜24時間の範囲の各時間で焼成した。
<(4) Firing treatment>
<(3) Reduction treatment> Each sample after was fired in an electric furnace in an air atmosphere at 800 ° C. for 12 to 24 hours.

〈作製した各サンプルのSEMによる観察1〉
以上(1)〜(4)の工程で作製した各サンプルについて、その表面及び断面をSEM(走査電子顕微鏡)により観察した。その結果、各板体の表面に緻密なMnCo24膜が形成していることがわかった。図4は、その一例として、MnCo24に対するLiNO3の添加量5モル%のサンプル(空気雰囲気中での焼成処理時間=20時間)についての表面及び断面のSEM写真である。図4中、左図は表面SEM写真(倍率=5000倍)、右図は断面SEM写真(倍率=3500倍)である。
<Observation 1 of each prepared sample by SEM>
About each sample produced at the process of (1)-(4) above, the surface and the cross section were observed by SEM (scanning electron microscope). As a result, it was found that a dense MnCo 2 O 4 film was formed on the surface of each plate. FIG. 4 is an SEM photograph of a surface and a cross section of a sample (calcination treatment time in air atmosphere = 20 hours) with an addition amount of LiNO 3 to MnCo 2 O 4 as an example. In FIG. 4, the left figure is a surface SEM photograph (magnification = 5000 times), and the right figure is a cross-sectional SEM photograph (magnification = 3500 times).

左図は、右図SEM写真中、保護膜の表面(すなわち、厚みを持つ保護膜のうちの表面。なお、右図SEM写真中、上方の厚さ約2.1cmの層は樹脂層である)を拡大したものに相当している。左図のとおり、MnCo24の粒子の粒径が揃っており、その粒子が均等乃至ほぼ均等に分布している。右図は断面のSEM写真であるが、右図のとおり、保護膜は均質乃至ほぼ均質に形成している。 The left figure is the surface of the protective film (that is, the surface of the protective film having a thickness in the right figure SEM photograph. In the right figure SEM photograph, the upper layer having a thickness of about 2.1 cm is a resin layer. ). As shown in the left figure, the particle diameters of the MnCo 2 O 4 particles are uniform, and the particles are evenly or almost uniformly distributed. The right figure is a cross-sectional SEM photograph, but as shown in the right figure, the protective film is formed homogeneously or almost uniformly.

〈作製した各サンプルのSEMによる観察2〉
以上(1)〜(4)の工程で作製した各サンプルについて、MnCo24(導電性セラミックス材料)に対するLiNO3(低温焼結助剤)の添加量如何による相違について観察した。図5は、そのうち、LiNO3の添加量2モル%、3モル%、5モル%のサンプルについての表面SEM写真(倍率=300倍)、断面SEM写真(倍率=3500倍)を示したものである。
<Observation of each produced sample by SEM 2>
For each sample prepared in the above steps (1) to (4) were observed for differences due to the addition amount whether the LiNO 3 (low temperature sintering aid) for MnCo 2 O 4 (conductive ceramic material). FIG. 5 shows a surface SEM photograph (magnification = 300 times) and a cross-sectional SEM photograph (magnification = 3500 times) of a sample having 2 mol%, 3 mol%, and 5 mol% of LiNO 3 added. is there.

図5における左図中、下部の写真はLiNO3添加量2モル%のサンプルの断面SEM写真、図5における中図(中央部の図)中、下部の写真はLiNO3添加量3モル%のサンプルの断面SEM写真、図5における右図中、下部の写真はLiNO3添加量5モル%のサンプルの断面SEM写真である。また、図5における左図、中図、右図の各上部の写真はそれぞれ保護膜の表面SEM写真である。 In the left figure in FIG. 5, the lower photograph is a cross-sectional SEM photograph of a sample having a LiNO 3 addition amount of 2 mol%, and in the middle figure (center figure) in FIG. 5, the lower photograph is a LiNO 3 addition amount of 3 mol%. The cross-sectional SEM photograph of the sample, and the lower photograph in the right figure in FIG. 5, is a cross-sectional SEM photograph of the sample with the LiNO 3 addition amount of 5 mol%. Further, the upper photographs in the left, middle, and right diagrams in FIG. 5 are surface SEM photographs of the protective film.

図5のとおり、LiNO3添加量2モル%のサンプルでは、断面に比較的大きな孔が観察される。LiNO3添加量3モル%のサンプルでは、断面に細孔がまばらに観察されるが、全体としては緻密になっていることがわかる。LiNO3添加量5モル%のサンプルでは、断面に細孔は観察されず、全体として緻密且つ均質になっていることがわかる。このことから、LiNO3添加量3モル%以上であれば所期の保護膜が形成できると解される。 As shown in FIG. 5, comparatively large pores are observed in the cross section in the sample with the LiNO 3 addition amount of 2 mol%. In the sample with 3 mol% of LiNO 3 added, pores are sparsely observed in the cross section, but it can be seen that the sample is dense as a whole. In the sample with the added amount of LiNO 3 of 5 mol%, pores are not observed in the cross section, and it can be seen that the sample is dense and homogeneous as a whole. From this, it is understood that the desired protective film can be formed if the added amount of LiNO 3 is 3 mol% or more.

〈作製した各サンプルのSEMによる観察3〉
前記(1)〜(4)の工程のうち〈(1)導電性セラミックス材料スラリーの作製〉におけるボールミル時間の如何による結果について観察した。
<Observation of each produced sample by SEM 3>
Of the steps (1) to (4), the results of the ball mill time in <(1) Preparation of conductive ceramic material slurry> were observed.

〈(1)導電性セラミックス材料スラリーの作製〉における卓上ボールミルでの攪拌時間を1日間、4日間とし、LiNO3添加量5モル%とし、この点以外は前記(1)〜(4)の工程と同じくして各サンプルを作製した。卓上ボールミルでの攪拌時間を10日間としたサンプルは前記〈(1)導電性セラミックス材料スラリーの作製〉で作製したものである。これら各サンプルについて、その表面及び断面をSEMにより観察した。 The stirring time in the table-top ball mill in <(1) Preparation of conductive ceramic material slurry> is set to 1 day and 4 days, and the addition amount of LiNO 3 is set to 5 mol%. Except for this point, the steps (1) to (4) above Each sample was prepared in the same manner as above. The sample in which the stirring time in the table-top ball mill was 10 days was prepared in the above-mentioned <(1) Preparation of conductive ceramic material slurry>. About each of these samples, the surface and the cross section were observed by SEM.

図6はそれら各サンプルの表面及び断面のSEM写真である。これらのうち、左図、中図、右図の各上部の写真はそれぞれ表面SEM写真(倍率=300倍)、左図、中図、右図の各下部の写真はそれぞれ断面SEM写真(倍率=3500倍)である。   FIG. 6 is an SEM photograph of the surface and cross section of each sample. Of these, the upper, left, middle, and right photographs are the surface SEM photographs (magnification = 300 times), and the lower, middle, and right pictures are the cross-sectional SEM photographs (magnification =). 3500 times).

図6中、左図のとおり、卓上ボールミルでの攪拌時間を1日間としたサンプルでは、断面に比較的大きな孔が観察され、また表面に比較的大きな粒子が観察される。また、卓上ボールミルでの攪拌時間を4日間としたサンプルでは、その断面は、攪拌時間1日間のサンプルの断面に比べると大きな孔は少ないが、その表面には、攪拌時間1日間のサンプルと同様に比較的大きな粒子が観察される。   As shown in the left figure in FIG. 6, in the sample in which the stirring time in the table ball mill is 1 day, relatively large holes are observed in the cross section and relatively large particles are observed on the surface. In addition, in the sample with a stirring time of 4 days on the table ball mill, the cross section has fewer large holes than the cross section of the sample with the stirring time of 1 day, but the surface is the same as the sample with the stirring time of 1 day. Relatively large particles are observed.

これに対して、攪拌時間10日間のサンプルでは、その断面に細孔は観察されず、全体として緻密且つ均質になっていることがわかる。また、表面には比較的大きな粒子が僅かに観察されるだけである。このことから、導電性セラミックス材料スラリーの作製時におけるボールミルでの攪拌時間はおおよそ10時間またはそれ以上であればよいものと解される。   In contrast, in the sample with a stirring time of 10 days, no pores are observed in the cross section, and it can be seen that the sample is dense and uniform as a whole. In addition, only a few relatively large particles are observed on the surface. From this, it is understood that the stirring time in the ball mill at the time of producing the conductive ceramic material slurry may be about 10 hours or more.

〈実験例2:導電性セラミックス材料=CoFe24
導電性セラミックス材料としてCoFe24の粉末(d50=1μm、比表面積=2.5m2/g)を使用し、前述実験例1における〈(1)導電性セラミックス材料スラリーの作製〉〜〈(4)焼成処理〉と同様にして、LiNO3添加量2モル%、3モル%、5モル%の各サンプルを作製し、その表面及び断面をSEM(走査電子顕微鏡)により観察した。その結果、実験例1におけるMnCo24の場合と同様の傾向を示し、LiNO3の添加量3モル%以上では、CoFe24の粒子の粒径が揃い、保護膜が均質乃至ほぼ均質に形成していることがわかった。
<Experimental example 2: conductive ceramic material = CoFe 2 O 4 >
CoFe 2 O 4 powder (d50 = 1 μm, specific surface area = 2.5 m 2 / g) was used as the conductive ceramic material, and <(1) Preparation of conductive ceramic material slurry> to <( 4) Each sample with LiNO 3 addition amount of 2 mol%, 3 mol%, and 5 mol% was prepared in the same manner as in the firing treatment>, and the surface and the cross section thereof were observed with an SEM (scanning electron microscope). As a result, the same tendency as in the case of MnCo 2 O 4 in Experimental Example 1 is shown. When the addition amount of LiNO 3 is 3 mol% or more, the particle diameter of CoFe 2 O 4 is uniform, and the protective film is homogeneous or almost homogeneous. It was found that it was formed.

図7は、その一例として、CoFe24に対するLiNO3の添加量5モル%のサンプル(空気雰囲気中での焼成処理時間=20時間)についての表面及び断面のSEM写真である。図7中、左図は表面SEM写真(倍率=300倍)、右図は断面SEM写真(倍率=3500倍)である。 FIG. 7 is an SEM photograph of the surface and cross section of a sample (calcination treatment time in air atmosphere = 20 hours) with an addition amount of LiNO 3 to CoFe 2 O 4 as an example. In FIG. 7, the left figure is a surface SEM photograph (magnification = 300 times), and the right figure is a cross-sectional SEM photograph (magnification = 3500 times).

左図は、右図SEM写真中、保護膜の表面(すなわち、厚みを持つ保護膜のうちの表面。なお、右図SEM写真中、上方の厚さ約2cmの層は樹脂層である)を拡大したものに相当している。左図のとおり、CoFe24の粒子の粒径が揃っており、その粒子が均等乃至ほぼ均等に分布している。右図は断面のSEM写真である。右図のとおり、保護膜は均質乃至ほぼ均質に形成されている。 The left figure shows the surface of the protective film in the right SEM photograph (that is, the surface of the protective film having a thickness. In the right SEM picture, the upper layer having a thickness of about 2 cm is a resin layer). It corresponds to the enlarged one. As shown in the left figure, the particle diameters of CoFe 2 O 4 particles are uniform, and the particles are evenly or almost uniformly distributed. The right figure is a cross-sectional SEM photograph. As shown in the right figure, the protective film is formed homogeneously or almost uniformly.

支持膜式平板形SOFCセルのの態様例を説明する図The figure explaining the example of an aspect of a support membrane type flat SOFC cell 支持膜式平板形SOFCセルを積層する構成例を示す図The figure which shows the structural example which laminates the support membrane type flat SOFC cell Cr合金表面に導電性セラミックスなどの導電性材料の保護膜を施す態様を説明する図The figure explaining the aspect which provides the protective film of electroconductive materials, such as electroconductive ceramics, on the Cr alloy surface 〈実験例1で作製した各サンプルのSEMによる観察1〉におけるサンプルの表面及び断面のSEM写真(図面代用写真)<SEM photograph of the surface and cross section of the sample in <SEM observation 1 of each sample produced in Experimental Example 1> 〈実験例1で作製した各サンプルのSEMによる観察2〉におけるサンプルについての表面SEM写真と断面SEM写真(図面代用写真)Surface SEM photograph and cross-sectional SEM photograph (drawing substitute photograph) of the sample in <SEM observation 2 of each sample prepared in Experimental Example 1> 〈実験例1で作製した各サンプルのSEMによる観察3〉におけるサンプルについての表面SEM写真と断面SEM写真(図面代用写真)Surface SEM photograph and cross-sectional SEM photograph (drawing substitute photograph) of the sample in <SEM observation 3 of each sample produced in Experimental Example 1> 〈実験例2で作製したサンプルのSEMによる観察〉におけるサンプルについての表面SEM写真と断面SEM写真(図面代用写真)Surface SEM photograph and cross-sectional SEM photograph (drawing substitute photograph) of the sample in <Observation of sample produced in Experimental Example 2 by SEM>

符号の説明Explanation of symbols

1 セル
2 アノード(燃料極)
3 電解質膜
4 カソード(空気極)
5 インターコネクタ
6 導電性材料コーティング層
1 cell 2 anode (fuel electrode)
3 Electrolyte membrane 4 Cathode (air electrode)
5 Interconnector 6 Conductive material coating layer

Claims (9)

Crを含む耐熱合金材料を用いて構成された固体酸化物形燃料電池用インターコネクタに対する導電性セラミックス材料からなる保護膜のコーティング方法であって、前記導電性セラミックス材料に低温焼結助剤を添加したスラリーを前記Crを含む耐熱合金材料の表面に塗布した後、700〜900℃において還元処理を行い、次いで空気雰囲気中750〜850℃で焼成することを特徴とする固体酸化物形燃料電池用インターコネクタに対する保護膜のコーティング方法。   A method of coating a protective film made of a conductive ceramic material on a solid oxide fuel cell interconnector composed of a heat-resistant alloy material containing Cr, wherein a low-temperature sintering aid is added to the conductive ceramic material After the applied slurry is applied to the surface of the heat-resistant alloy material containing Cr, reduction treatment is performed at 700 to 900 ° C., and then firing is performed at 750 to 850 ° C. in an air atmosphere. Coating method of protective film for interconnector. 請求項1において、前記導電性セラミックス材料がMnCo24、Mn1.5Co1.54、CoMn24、MnFe24、ZnMn24、Cu1.4Mn1.64またはCoFe24であることを特徴とする固体酸化物形燃料電池用インターコネクタに対する保護膜のコーティング方法。 2. The conductive ceramic material according to claim 1, wherein the conductive ceramic material is MnCo 2 O 4 , Mn 1.5 Co 1.5 O 4 , CoMn 2 O 4 , MnFe 2 O 4 , ZnMn 2 O 4 , Cu 1.4 Mn 1.6 O 4 or CoFe 2 O 4 . A method of coating a protective film on an interconnector for a solid oxide fuel cell. 請求項1において、前記低温焼結助剤がLi化合物であることを特徴とする固体酸化物形燃料電池用インターコネクタに対する保護膜のコーティング方法。   2. The method of coating a protective film on an interconnector for a solid oxide fuel cell according to claim 1, wherein the low-temperature sintering aid is a Li compound. 請求項3において、前記Li化合物が酸化リチウム、水酸化リチウム、硝酸リチウム、炭酸リチウム、酢酸リチウムまたはハロゲン化リチウムであることを特徴とする固体酸化物形燃料電池用インターコネクタに対する保護膜のコーティング方法。   4. The method for coating a protective film on an interconnector for a solid oxide fuel cell according to claim 3, wherein the Li compound is lithium oxide, lithium hydroxide, lithium nitrate, lithium carbonate, lithium acetate or lithium halide. . 請求項1において、前記導電性セラミックス材料に対する前記低温焼結助剤の添加量が導電性セラミックス材料100モル%に対して3〜8モル%であることを特徴とする固体酸化物形燃料電池用インターコネクタに対する保護膜のコーティング方法。   2. The solid oxide fuel cell according to claim 1, wherein the amount of the low-temperature sintering aid added to the conductive ceramic material is 3 to 8 mol% with respect to 100 mol% of the conductive ceramic material. Coating method of protective film for interconnector. 請求項1において、前記還元処理の還元雰囲気が水素含有窒素雰囲気であることを特徴とする固体酸化物形燃料電池用インターコネクタに対する保護膜のコーティング方法。   2. The method for coating a protective film on an interconnector for a solid oxide fuel cell according to claim 1, wherein the reducing atmosphere of the reduction treatment is a hydrogen-containing nitrogen atmosphere. 請求項1において、前記還元処理の還元雰囲気温度を750〜850℃とすることを特徴とする固体酸化物形燃料電池用インターコネクタに対する保護膜のコーティング方法。   The method for coating a protective film on an interconnector for a solid oxide fuel cell according to claim 1, wherein the reducing atmosphere temperature of the reduction treatment is 750 to 850 ° C. 請求項1において、前記還元処理の時間を12〜24時間とすることを特徴とする固体酸化物形燃料電池用インターコネクタに対する保護膜のコーティング方法。   2. The method of coating a protective film on a solid oxide fuel cell interconnector according to claim 1, wherein the reduction treatment time is 12 to 24 hours. 請求項1において、前記空気雰囲気中での焼成時間を12〜24時間とすることを特徴とする固体酸化物形燃料電池用インターコネクタに対する保護膜のコーティング方法。
The method for coating a protective film on an interconnector for a solid oxide fuel cell according to claim 1, wherein the firing time in the air atmosphere is 12 to 24 hours.
JP2007328049A 2007-12-19 2007-12-19 Method of coating protective film on interconnector for solid oxide fuel cell Active JP5283896B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007328049A JP5283896B2 (en) 2007-12-19 2007-12-19 Method of coating protective film on interconnector for solid oxide fuel cell

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007328049A JP5283896B2 (en) 2007-12-19 2007-12-19 Method of coating protective film on interconnector for solid oxide fuel cell

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009152016A true JP2009152016A (en) 2009-07-09
JP5283896B2 JP5283896B2 (en) 2013-09-04

Family

ID=40920924

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007328049A Active JP5283896B2 (en) 2007-12-19 2007-12-19 Method of coating protective film on interconnector for solid oxide fuel cell

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5283896B2 (en)

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010087298A1 (en) * 2009-01-28 2010-08-05 京セラ株式会社 Heat-resistant alloy, alloy member for fuel cell, fuel cell stack device, fuel cell module, and fuel cell device
JP2011108620A (en) * 2009-08-26 2011-06-02 Ngk Insulators Ltd Bonding agent
JP2011108621A (en) * 2009-08-26 2011-06-02 Ngk Insulators Ltd Bonding agent
JP2011116603A (en) * 2009-12-04 2011-06-16 Tokyo Gas Co Ltd Protective film for hydrogen separation membrane in cylindrical hydrogen separation type reformer and method for forming the same
JP2011150959A (en) * 2010-01-25 2011-08-04 Ngk Insulators Ltd Cell of solid oxide fuel cell
US20110269059A1 (en) * 2010-12-22 2011-11-03 Delphi Technologies, Inc. Method of making a solid oxide fuel cell stack
JP2012012289A (en) * 2010-05-31 2012-01-19 Ngk Insulators Ltd Molded body
JP2012204008A (en) * 2011-03-23 2012-10-22 Osaka Gas Co Ltd Protective film forming method
JP2012212651A (en) * 2011-03-22 2012-11-01 Osaka Gas Co Ltd Protective film formation method, cell connection member and solid oxide fuel cell
JP2013054975A (en) * 2011-09-06 2013-03-21 Magunekusu Kk Coating material and coating method for fuel battery separator
JP2013118177A (en) * 2011-10-31 2013-06-13 Osaka Gas Co Ltd Solid oxide fuel cell
JP2013118178A (en) * 2011-10-31 2013-06-13 Osaka Gas Co Ltd Solid oxide fuel cell
JP2013527309A (en) * 2010-03-15 2013-06-27 ナショナル リサーチ カウンシル オブ カナダ Composite coating for oxidation protection
JP5315476B1 (en) * 2012-09-21 2013-10-16 日本碍子株式会社 Current collecting member and fuel cell
WO2014031622A1 (en) * 2012-08-21 2014-02-27 Bloom Energy Corporation Systems and methods for suppressing chromium poisoning in fuel cells
JP2014067491A (en) * 2012-09-24 2014-04-17 Osaka Gas Co Ltd Method for forming protection film, member for cell connection, and cell for solid oxide fuel battery use
JP2014112499A (en) * 2012-12-05 2014-06-19 Osaka Gas Co Ltd Method of manufacturing inter-cell connection member and solid oxide fuel cell
WO2015005570A1 (en) * 2013-07-10 2015-01-15 한국에너지기술연구원 Ceramic powder for solid oxide fuel cell metal separating plate protection film, manufacturing method therefor and manufacturing method for solid oxide fuel cell metal separating plate protection film using same
JP2016126927A (en) * 2015-01-05 2016-07-11 大阪瓦斯株式会社 Method of manufacturing member for fuel cell
JP2016195101A (en) * 2015-03-31 2016-11-17 大阪瓦斯株式会社 Fuel battery member and manufacturing method for the same
JP2017063012A (en) * 2015-09-24 2017-03-30 大阪瓦斯株式会社 Method for manufacturing fuel cell member
KR101727457B1 (en) * 2013-11-28 2017-05-02 한국에너지기술연구원 Method Of Protective layer Of Metal Interconnect Of Solid Oxide Fuel Cell, And Protective Layer Manufactured Using The Same
WO2017131176A1 (en) * 2016-01-28 2017-08-03 京セラ株式会社 Electroconductive member, cell stack, module, and module storage device
JP2017139183A (en) * 2016-02-05 2017-08-10 大阪瓦斯株式会社 Method of manufacturing inter-cell connection member and method of manufacturing cell for solid oxide fuel cell
JP2018055913A (en) * 2016-09-28 2018-04-05 Toto株式会社 Collector member and solid oxide fuel battery cell unit
CN114284510A (en) * 2021-12-17 2022-04-05 国家能源集团新能源有限责任公司 Liquid phase sintering preparation (Mn, Co)3O4-Li2Method and application of O coating

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01302669A (en) * 1988-02-25 1989-12-06 Westinghouse Electric Corp <We> Method of suppressing movement of metal particles in fuel electrode of fuel cell
JPH05170528A (en) * 1991-12-03 1993-07-09 Tokyo Gas Co Ltd Method for sintering lanthanum chromite
JPH06111835A (en) * 1992-09-28 1994-04-22 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Manufacture of solid electrolyte type electrolysis cell
JPH07237967A (en) * 1994-02-25 1995-09-12 Kyocera Corp Electrically conductive ceramics and production thereof and fuel cell using the same
JP2001294485A (en) * 2000-04-12 2001-10-23 Natl Inst Of Advanced Industrial Science & Technology Meti Sintered compact suitable for inter connector used in solid electrolyte-type fuel cell and method of producing the same
WO2007049759A1 (en) * 2005-10-27 2007-05-03 Kyocera Corporation Heat resistant alloy member, alloy member for fuel cell, power collecting member for fuel cell, cell stack and fuel cell
JP2007529855A (en) * 2004-03-20 2007-10-25 フォルシュングスツェントルム・ユーリッヒ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング Conductive steel-ceramic composite and method for producing the same
JP2008547177A (en) * 2005-07-02 2008-12-25 フォルシュングスツェントルム・ユーリッヒ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング Chromium retention layer for fuel cell system components
JP2009529771A (en) * 2006-03-14 2009-08-20 ピレリ・アンド・チ・ソチエタ・ペル・アツィオーニ Electrochemical device and method for producing electrochemical device
JP2010535290A (en) * 2007-08-02 2010-11-18 トラスティーズ オブ ボストン ユニバーシティ Protective oxide coating for SOFC interconnector

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01302669A (en) * 1988-02-25 1989-12-06 Westinghouse Electric Corp <We> Method of suppressing movement of metal particles in fuel electrode of fuel cell
JPH05170528A (en) * 1991-12-03 1993-07-09 Tokyo Gas Co Ltd Method for sintering lanthanum chromite
JPH06111835A (en) * 1992-09-28 1994-04-22 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Manufacture of solid electrolyte type electrolysis cell
JPH07237967A (en) * 1994-02-25 1995-09-12 Kyocera Corp Electrically conductive ceramics and production thereof and fuel cell using the same
JP2001294485A (en) * 2000-04-12 2001-10-23 Natl Inst Of Advanced Industrial Science & Technology Meti Sintered compact suitable for inter connector used in solid electrolyte-type fuel cell and method of producing the same
JP2007529855A (en) * 2004-03-20 2007-10-25 フォルシュングスツェントルム・ユーリッヒ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング Conductive steel-ceramic composite and method for producing the same
JP2008547177A (en) * 2005-07-02 2008-12-25 フォルシュングスツェントルム・ユーリッヒ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング Chromium retention layer for fuel cell system components
WO2007049759A1 (en) * 2005-10-27 2007-05-03 Kyocera Corporation Heat resistant alloy member, alloy member for fuel cell, power collecting member for fuel cell, cell stack and fuel cell
JP2009529771A (en) * 2006-03-14 2009-08-20 ピレリ・アンド・チ・ソチエタ・ペル・アツィオーニ Electrochemical device and method for producing electrochemical device
JP2010535290A (en) * 2007-08-02 2010-11-18 トラスティーズ オブ ボストン ユニバーシティ Protective oxide coating for SOFC interconnector

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN6012060802; Nicholas, Jason. D.: Low Temperature Constrained Sintering of Cerium Gadolinium Oxide Films for Solid Oxide Fuel Cell App , 20070630, 全文 *
JPN6012060803; Zhenguo Yang et al.: 'Thermal Growth and Performance of Manganese Cobaltite Spinel Protection Layers on Ferritic Stainless' Journal of The Electrochemical Society 152(9), 2005, A1896-A1901 *

Cited By (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010087298A1 (en) * 2009-01-28 2010-08-05 京セラ株式会社 Heat-resistant alloy, alloy member for fuel cell, fuel cell stack device, fuel cell module, and fuel cell device
JP5377519B2 (en) * 2009-01-28 2013-12-25 京セラ株式会社 Heat-resistant alloy, alloy member for fuel cell, fuel cell stack device, fuel cell module and fuel cell device
US8993189B2 (en) 2009-01-28 2015-03-31 Kyocera Corporation Heat-resistant alloy, alloy member for fuel cell, fuel cell stack device, fuel cell module, and fuel cell device
JP2011108620A (en) * 2009-08-26 2011-06-02 Ngk Insulators Ltd Bonding agent
JP2011108621A (en) * 2009-08-26 2011-06-02 Ngk Insulators Ltd Bonding agent
JP2011116603A (en) * 2009-12-04 2011-06-16 Tokyo Gas Co Ltd Protective film for hydrogen separation membrane in cylindrical hydrogen separation type reformer and method for forming the same
JP2011150959A (en) * 2010-01-25 2011-08-04 Ngk Insulators Ltd Cell of solid oxide fuel cell
JP2013527309A (en) * 2010-03-15 2013-06-27 ナショナル リサーチ カウンシル オブ カナダ Composite coating for oxidation protection
JP2012012289A (en) * 2010-05-31 2012-01-19 Ngk Insulators Ltd Molded body
US20110269059A1 (en) * 2010-12-22 2011-11-03 Delphi Technologies, Inc. Method of making a solid oxide fuel cell stack
EP2469635A1 (en) * 2010-12-22 2012-06-27 Delphi Technologies, Inc. Method of making a solid oxide fuel cell stack
JP2012212651A (en) * 2011-03-22 2012-11-01 Osaka Gas Co Ltd Protective film formation method, cell connection member and solid oxide fuel cell
JP2012204008A (en) * 2011-03-23 2012-10-22 Osaka Gas Co Ltd Protective film forming method
JP2013054975A (en) * 2011-09-06 2013-03-21 Magunekusu Kk Coating material and coating method for fuel battery separator
JP2013118178A (en) * 2011-10-31 2013-06-13 Osaka Gas Co Ltd Solid oxide fuel cell
JP2013118177A (en) * 2011-10-31 2013-06-13 Osaka Gas Co Ltd Solid oxide fuel cell
WO2014031622A1 (en) * 2012-08-21 2014-02-27 Bloom Energy Corporation Systems and methods for suppressing chromium poisoning in fuel cells
US20140057184A1 (en) * 2012-08-21 2014-02-27 Bloom Energy Corporation Systems and Methods for Suppressing Chromium Poisoning in Fuel Cells
US10547073B2 (en) 2012-08-21 2020-01-28 Bloom Energy Corporation Systems and methods for suppressing chromium poisoning in fuel cells
US10340543B2 (en) * 2012-08-21 2019-07-02 Bloom Energy Corporation Systems and methods for suppressing chromium poisoning in fuel cells
JP5315476B1 (en) * 2012-09-21 2013-10-16 日本碍子株式会社 Current collecting member and fuel cell
JP2014067491A (en) * 2012-09-24 2014-04-17 Osaka Gas Co Ltd Method for forming protection film, member for cell connection, and cell for solid oxide fuel battery use
JP2014112499A (en) * 2012-12-05 2014-06-19 Osaka Gas Co Ltd Method of manufacturing inter-cell connection member and solid oxide fuel cell
WO2015005570A1 (en) * 2013-07-10 2015-01-15 한국에너지기술연구원 Ceramic powder for solid oxide fuel cell metal separating plate protection film, manufacturing method therefor and manufacturing method for solid oxide fuel cell metal separating plate protection film using same
KR101727457B1 (en) * 2013-11-28 2017-05-02 한국에너지기술연구원 Method Of Protective layer Of Metal Interconnect Of Solid Oxide Fuel Cell, And Protective Layer Manufactured Using The Same
JP2016126927A (en) * 2015-01-05 2016-07-11 大阪瓦斯株式会社 Method of manufacturing member for fuel cell
JP2016195101A (en) * 2015-03-31 2016-11-17 大阪瓦斯株式会社 Fuel battery member and manufacturing method for the same
JP2017063012A (en) * 2015-09-24 2017-03-30 大阪瓦斯株式会社 Method for manufacturing fuel cell member
WO2017131176A1 (en) * 2016-01-28 2017-08-03 京セラ株式会社 Electroconductive member, cell stack, module, and module storage device
JPWO2017131176A1 (en) * 2016-01-28 2018-02-01 京セラ株式会社 Conductive member, cell stack, module, and module housing device
JP2017139183A (en) * 2016-02-05 2017-08-10 大阪瓦斯株式会社 Method of manufacturing inter-cell connection member and method of manufacturing cell for solid oxide fuel cell
JP2018055913A (en) * 2016-09-28 2018-04-05 Toto株式会社 Collector member and solid oxide fuel battery cell unit
CN114284510A (en) * 2021-12-17 2022-04-05 国家能源集团新能源有限责任公司 Liquid phase sintering preparation (Mn, Co)3O4-Li2Method and application of O coating

Also Published As

Publication number Publication date
JP5283896B2 (en) 2013-09-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5283896B2 (en) Method of coating protective film on interconnector for solid oxide fuel cell
WO2018181922A1 (en) Electrochemical element, electrochemical module, electrochemical device, energy system, solid oxide fuel cell, and method for producing electrochemical element
JP5225336B2 (en) Fuel cell and fuel cell
US20100186220A1 (en) Fabrication method of metal supported solid oxide fuel cell
JP2008226654A (en) Cell of fuel cell, cell stack of fuel cell, and fuel cell
KR20130123188A (en) Material for solid oxide fuel cell, and cathode for solid oxide fuel cell and solid oxide fuel cell including the material
JP5631625B2 (en) Solid oxide fuel cell
JP5247051B2 (en) Fuel cell and fuel cell stack, and fuel cell
US20190288296A1 (en) Cell, cell stack unit, electrochemical module, and electrochemical apparatus
JP5259480B2 (en) Interconnector for solid oxide fuel cell and method for forming the same
WO2019240297A1 (en) Cell, cell stack device, module, and module storage device
CN101374783B (en) Conductive sintered body, conductive member for fuel cell, fuel cell, and fuel cell apparatus
JP4828104B2 (en) Fuel cell
KR101220744B1 (en) Separator of solid oxide fuel cell and method for manufacturing the same
JP2010061829A (en) Operation method of solid oxide fuel cell
US20230051172A1 (en) Clad porous metal substrate for electrochemical cell
JP2004303455A (en) Solid oxide fuel battery cell
KR20240024311A (en) Substrate with electrode layer for metal support type electrochemical element, electrochemical element, electrochemical module, solid oxide fuel cell, and manufacturing method
JP5289010B2 (en) Solid oxide fuel cell, fuel cell stack device, fuel cell module and fuel cell device
JP2015191810A (en) Anode support substrate for solid oxide fuel batteries and solid oxide fuel battery cell
JP2014067562A (en) Solid oxide type fuel cell and power generating method using the same
JP2005135889A (en) Fuel battery cell and fuel battery
JP2021150133A (en) Electrochemical cell, electrochemical cell stack, and electrolyte for electrochemical cell
JP2016085921A (en) Cell support and solid oxide fuel cell
JP2005100816A (en) Manufacturing method of cell of fuel cell

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100311

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121121

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121127

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130126

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130528

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130529

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5283896

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250