JP2009149488A - Method for cleaning lamp glass tube for use in fluorescent lamp - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for cleaning a lamp glass tube for use in a fluorescent lamp. <P>SOLUTION: A method is provided for cleaning a lamp glass tube for use in a fluorescent lamp, especially a backlight. The method comprises a step of cleaning the glass tube with an aqueous cleaning medium with a neutral to weakly alkaline pH value, preferably a pH value ranging from about 7 to about 12 at a cleaning temperature ranging from about 0°C to about 90°C. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、蛍光ランプ、特に背景光に使用するランプ用ガラス管の洗浄方法に関する。   The present invention relates to a method for cleaning a fluorescent lamp, particularly a glass tube for a lamp used for background light.

例えば、CCFL(冷陰極蛍光ランプ)、又はEEFL(外部電極蛍光ランプ)放電ランプなどの放電ランプには公知の方法で、ケイ酸アルカリガラス、特に、硼珪酸ガラスが使用されている。この種のガラスの主成分は、SiO,B、及びアルカリ性酸化物及びアルカリ性土類酸化物である。これらのガラスは、ガラス基質におけるBの含有量が、例えば、10〜20重量%と比較的高くなると、酸やアルカリに対する化学的耐性が相対的に劣化し、加水分解安定度も低下する。 For example, alkali silicate glass, especially borosilicate glass is used in a known method for a discharge lamp such as a CCFL (cold cathode fluorescent lamp) or EEFL (external electrode fluorescent lamp) discharge lamp. The main components of this type of glass are SiO 2 , B 2 O 3 , and alkaline oxides and alkaline earth oxides. In these glasses, when the content of B 2 O 3 in the glass substrate is relatively high, for example, 10 to 20% by weight, the chemical resistance to acids and alkalis is relatively deteriorated, and the hydrolysis stability is also lowered. To do.

さらに、本来のランプ製造工程に入る前に、ガラス管を洗浄処理して、クリーンにすることが知られている。この洗浄処理は、例えば、輸送時に内外に付着した汚れを洗浄するという一方で、ガラスの破片が存在する場合、これを除去することもできる。さらに好ましくは、必要な場合、輸送時又は保管時のひび割れを防止するために部分的又は全体的に塗布したひび割れ防止層を除去することもできる。   Furthermore, it is known to clean the glass tube by cleaning it before entering the original lamp manufacturing process. For example, this cleaning process is to clean dirt adhered to the inside and outside during transportation, while it is possible to remove glass fragments if they are present. More preferably, if necessary, the crack-preventing layer applied partially or wholly in order to prevent cracking during transportation or storage can be removed.

また、今日、様々な洗浄処理が知られている。   In addition, various cleaning processes are known today.

米国特許出願第2006/0154838A1号には、金属線上の半導体基板を、キレート剤、アルカリ化合物と水を含むpH値8〜13の洗浄剤で洗浄することができる洗浄方法が記載されている。キレート剤は、研磨処理、エッチ処理、及びCMP処理後に基板表面に付着した金属系の汚染物質を除去する。基板は金属又は金属含有表面を有し、好ましくは、シリコンウェーハである。   US Patent Application No. 2006 / 0154838A1 describes a cleaning method that can clean a semiconductor substrate on a metal wire with a cleaning agent having a pH value of 8 to 13 containing a chelating agent, an alkali compound and water. The chelating agent removes metallic contaminants attached to the substrate surface after polishing, etching, and CMP. The substrate has a metal or metal-containing surface and is preferably a silicon wafer.

米国特許出願第2004/0224866A1号には、酸化剤、酸、フッ化化合物にアルカリ化合物を添加してpH値を3〜10の範囲とし、水分濃度を80重量%以上とした半導体基板用の洗浄溶剤が記載されている。さらに、溶剤を用いて基板の表面に付着した物質を除去する洗浄方法も記載されている。   US Patent Application No. 2004 / 0224866A1 describes cleaning for a semiconductor substrate in which an alkali compound is added to an oxidizing agent, an acid, and a fluorinated compound to adjust the pH value to a range of 3 to 10 and a moisture concentration of 80% by weight or more. Solvents are listed. Furthermore, a cleaning method is also described in which a substance attached to the surface of the substrate is removed using a solvent.

米国特許出願第6039815A号には、オゾン水を混ぜたアルカリ性溶剤又は酸性溶剤を洗浄溶剤として使用する洗浄方法が開示されている。   US Patent Application No. 6039815A discloses a cleaning method using an alkaline solvent or an acidic solvent mixed with ozone water as a cleaning solvent.

欧州特許出願第1808480A1号には、特に、プラズマエッチングまたは灰化処理(Aschungsverfahren)の後、フォトレジストの残留物を半導体基板から洗浄する洗浄剤について記載されている。この洗浄剤は、水、少なくともフッ化物、有機酸と塩基からなるpH緩衝系を含み、有機酸は、アミノアルキルスルホン酸とアミノアルキル炭素酸の少なくとも何れか一方を含み、塩基はアミンと第4アルキルアンモニウムヒドロキシドの少なくとも何れか一方を含む。組成成分は、有機溶剤をほとんど含まず、5〜12のpH値を有する。   European Patent Application No. 1808480 A1 describes a cleaning agent for cleaning photoresist residues from a semiconductor substrate, in particular after plasma etching or ashing sverfahren. The detergent includes water, at least a fluoride, a pH buffer system composed of an organic acid and a base, the organic acid includes at least one of an aminoalkylsulfonic acid and an aminoalkylcarbon acid, and the base includes an amine and a fourth acid. It contains at least one of alkylammonium hydroxide. The composition component contains almost no organic solvent and has a pH value of 5-12.

米国特許出願第2005/0245422A1号には、アルカリ成分、好ましくは60〜95重量%の一価または二価アルコール、および多価アルコールを含む、電子部品、金属部品またはセラミック部品用のアルカリ洗浄剤について記載されている。これらのアルコールは、窒素元素を含まず、所定の分子量を有する。   US Patent Application No. 2005 / 0245422A1 relates to an alkaline cleaner for electronic, metal or ceramic parts comprising an alkaline component, preferably 60-95% by weight mono- or dihydric alcohol, and polyhydric alcohol. Are listed. These alcohols do not contain nitrogen elements and have a predetermined molecular weight.

米国特許出願第5750482A号は、界面活性剤と水を混合して、エチレングリコールモノヘキシルエーテルを有機溶剤として含む、ガラス表面の汚れを縞の残らないように除去するためのガラス洗浄剤について扱っている。pH値は、3.5〜6.5または7.5から11.5の間に調節されている。   U.S. Pat. No. 5,750,482A deals with a glass cleaner for mixing glass surfactant with water to remove dirt on the glass surface without leaving streaks, which contains ethylene glycol monohexyl ether as an organic solvent. Yes. The pH value is adjusted between 3.5 and 6.5 or 7.5 to 11.5.

米国特許出願第2006/0293199A1号は、例えば、50重量%以上の組成成分が水で、pH値が1〜10の範囲の、酸と塩を有する洗浄剤と洗浄方法について扱っている。   U.S. Patent Application No. 2006 / 0293199A1 deals with cleaning agents and cleaning methods having acids and salts, for example with 50% by weight or more of the composition component being water and a pH value in the range of 1-10.

従来行われている洗浄処理には、一連の課題がある。洗浄処理の間、ガラスの化学的耐性の弱さにより、ガラス表面が洗浄溶剤と反応し、例えば、溶出などが起こることがある。これは、例えば、ガラスの溶解、すなわち、ガラスの一部、または全体が溶けて、ガラス成分が溶剤に流出することを意味する。室温でpH値が中性などの通常の条件では、ガラスが部分的に腐食するのみであるが、これによって、ガラスの形状と性質も変化する。さらに、例えば、ガラス表面からアルカリイオンが溶剤に流れ、プロトン(H)と交換される、ガラス基質からBが溶出するなど、ガラス表面でイオン交換が起こりうる。 A conventional cleaning process has a series of problems. During the cleaning process, due to the weak chemical resistance of the glass, the glass surface may react with the cleaning solvent, for example, elution may occur. This means, for example, melting of the glass, that is, a part or the whole of the glass is melted and the glass component flows out into the solvent. Under normal conditions such as a neutral pH value at room temperature, the glass only partially corrodes, but this also changes the shape and properties of the glass. Furthermore, ion exchange can occur on the glass surface, for example, alkali ions flow from the glass surface to the solvent and exchanged with protons (H + ), or B 2 O 3 elutes from the glass substrate.

これらの洗浄溶剤とガラスとの反応は、まず、続くガラスの処理工程において、例えば、いわゆる「ベーキング処理」(最大温度が、例えば、約500°C〜約750°C、通常は600°C〜700°C)と呼ばれる蛍光層を管の内側に焼成する加熱工程で管が縮む(「収縮」または「コンパクション」)などの不利な影響を及ぼす。「コンパクション」とは、本明細書では、非可逆的で局所的な圧縮を意味し、物質の分子レベルの収縮に起因する。ガラス基質から、アルカリイオンやBなどの成分が溶脱することによって、網目構造体の「網目の幅が大きく」なり、管の加熱によって、網目構造体が収縮するようになる。 The reaction between the cleaning solvent and the glass is first performed in a subsequent glass processing step, for example, a so-called “baking process” (maximum temperature is, for example, about 500 ° C. to about 750 ° C., usually 600 ° C. to The tube is shrunk (“shrinkage” or “compaction”) in a heating process in which a fluorescent layer called 700 ° C. is baked on the inside of the tube. “Compact” as used herein means irreversible, local compression and is due to the contraction of a substance at the molecular level. When the components such as alkali ions and B 2 O 3 are leached from the glass substrate, the “mesh width” of the network structure increases, and the network structure contracts by heating the tube.

これによって、形状が変形し、特に管の長さが収縮することがある。この管の収縮は、寸法の略0.5%〜10%のオーダーで発生しうる。最悪の場合、この収縮によって管は、目的とする用途に使用できないため、ゴミとして廃棄されることになる。   This can change the shape, especially the length of the tube. This tube shrinkage can occur on the order of approximately 0.5% to 10% of the dimensions. In the worst case, this shrinkage causes the tube to be discarded as garbage because it cannot be used for the intended application.

上述の課題に鑑みて、本発明は、加熱処理によって洗浄媒体がガラス表面と反応することにより、管が縮小化(「収縮」)して形状が収縮することを少なくする、または完全に防止する洗浄方法を提供することを目的とする。特に、本発明は、「収縮」のばらつきを減少する、すなわち、多数の管における長さの変化を可能な限り均一にすることを目的とする。洗浄処理がガラス表面の洗浄の本来の目的を良好に達成できるようにする。   In view of the above problems, the present invention reduces or completely prevents the tube from shrinking ("shrinking") and shrinking in shape due to the cleaning medium reacting with the glass surface by heat treatment. An object is to provide a cleaning method. In particular, the present invention aims to reduce the variation of “shrinkage”, ie to make the change in length in a number of tubes as uniform as possible. The cleaning treatment enables the original purpose of cleaning the glass surface to be satisfactorily achieved.

本発明は、上述の課題を解決するため、蛍光ランプ、特に背景光に用いるランプ用ガラス管の洗浄方法を提供することを目的とする。本洗浄方法は、ガラス管を、中性から弱アルカリ性のpH値、好ましくは約7〜約12のpH値で、約0°C〜約90°C、好ましくは約20°Cから80°Cまでの洗浄温度で水性洗浄媒体を用いて洗浄する工程を含む。   In order to solve the above-described problems, an object of the present invention is to provide a method for cleaning a fluorescent lamp, particularly a glass tube for a lamp used for background light. The cleaning method involves the step of cleaning the glass tube at a neutral to slightly alkaline pH value, preferably from about 7 to about 12, preferably from about 0 ° C to about 90 ° C, preferably from about 20 ° C to 80 ° C. Washing with an aqueous washing medium at a washing temperature up to.

本発明はさらに、蛍光ランプ、特に背景光に用いるランプ用ガラス管の加工方法を提供することを目的とする。本加工方法は、(1)ガラス管を、中性から弱アルカリ性のpH値、好ましくは約7〜約12のpH値で、約0°C〜約90°C、好ましくは約20°Cから80°Cまでの洗浄温度で水性洗浄媒体を用いて洗浄する工程を有する洗浄処理と、(2)加熱処理(Temperverfahren)とを含む。   It is another object of the present invention to provide a method for processing a fluorescent lamp, particularly a glass tube for a lamp used for background light. The processing method comprises: (1) the glass tube from about 0 ° C. to about 90 ° C., preferably from about 20 ° C., at a neutral to weakly alkaline pH value, preferably from about 7 to about 12. A cleaning process including a process of cleaning with an aqueous cleaning medium at a cleaning temperature of up to 80 ° C., and (2) a heat treatment (Temperfahren).

驚くべき事に、洗浄処理を所定の条件で実行すると、好ましくない縮小化(「収縮」)の影響を最小とする、または大幅に抑制することができることが発見された。この重大な条件とは洗浄を行う際の洗浄媒体のpH値と洗浄温度である。ガラス管を洗浄媒体にどれだけ長く浸しておくかという洗浄期間または洗浄時間は、その副次的な要件に過ぎない。上述の重大な条件を考慮することによって、不良品を大幅に減らし、ガラス管の性能を高めることができ、特にこの所定を大きな規模で実行すると経済的な効果を発揮する。   Surprisingly, it has been discovered that the effect of undesired shrinkage (“shrinkage”) can be minimized or greatly reduced when the cleaning process is performed under certain conditions. The critical conditions are the pH value of the cleaning medium and the cleaning temperature when cleaning is performed. The cleaning period or time of how long the glass tube is immersed in the cleaning medium is only a secondary requirement. Considering the above critical conditions, the number of defective products can be greatly reduced and the performance of the glass tube can be improved. In particular, when this predetermined is executed on a large scale, an economic effect is exhibited.

洗浄媒体は水性媒体であり、洗浄媒体の主成分は水で構成される。水は、洗浄媒体において、50%以上、好ましくは60%以上、特に好ましくは70%以上、さらには80%以上が好ましい。特に、洗浄媒体は水性の溶剤であることが好ましい。   The cleaning medium is an aqueous medium, and the main component of the cleaning medium is water. Water is preferably 50% or more, preferably 60% or more, particularly preferably 70% or more, and more preferably 80% or more in the cleaning medium. In particular, the cleaning medium is preferably an aqueous solvent.

洗浄処理で遵守しなくてはならない境界条件として、洗浄媒体のpH値を中性から強アルカリ性に調節することがあげられる。このpH値は好ましくは7〜12の範囲、特に好ましくは7〜9の範囲、または9〜12の範囲である。このpH値の範囲に調節すると、ガラス表面が洗浄溶剤によって腐食されることがない、または極めて僅かしか腐食されることがないため、特に有利であることが実証されている。pHの範囲が7〜9であると、洗浄溶剤の腐食性が低下するという利点(作業者の保護、環境保全)があるが、洗浄効果も低下する。pHの範囲が9〜12であると、洗浄効果が極めて高くなるため、特に管の汚れがひどい場合には有利である。通常の汚れは、例えば、油脂などの有機的な汚染物質(例えば指紋)が主であるので、(酸性溶剤よりも)アルカリ性溶剤の方が除去することができる。   One boundary condition that must be observed in the cleaning process is to adjust the pH value of the cleaning medium from neutral to strongly alkaline. This pH value is preferably in the range 7-12, particularly preferably in the range 7-9, or in the range 9-12. Adjusting to this pH value range has proven to be particularly advantageous because the glass surface is not corroded by the cleaning solvent or very little. When the pH range is 7 to 9, there is an advantage that the corrosiveness of the cleaning solvent decreases (protection of workers, environmental protection), but the cleaning effect also decreases. When the pH is in the range of 9 to 12, the cleaning effect is extremely high, which is advantageous particularly when the tube is very dirty. Since normal stains are mainly organic contaminants (for example, fingerprints) such as fats and oils, alkaline solvents (rather than acidic solvents) can be removed.

本発明によると、洗浄処理の全工程においてpH値を一定に保つことが特に有利である。これは、pH値を常時管理して、必要に応じて、弱酸及び/又は塩基などの添加剤を付加することによって実現できる。また、洗浄時に洗浄媒体を、例えば、継続して交換する、あるいは時々交換することによって、pH値を初期の値に戻す、または初期の値に維持することもできる。   According to the invention, it is particularly advantageous to keep the pH value constant throughout the entire cleaning process. This can be achieved by constantly managing the pH value and adding additives such as weak acids and / or bases as needed. It is also possible to return the pH value to the initial value or to maintain the initial value, for example, by continuously or occasionally changing the cleaning medium during cleaning.

さらに、広範にpH値を維持するように調節したpH緩衝系に洗浄媒体を添加して、pH値の変動を僅かに保つことも可能である。ここで使用可能な緩衝系として、例えば、KHPO/NaOH (pH範囲5.8〜8.0)又はKHPO/NaHPO(pH範囲5.4〜7.8)NaHPO /NaOH(pH範囲10.9〜12.0)などのリン酸緩衝液、Tris/HCl(pH範囲7.0〜9.0)などのトリス緩衝液、ホウ砂/塩酸(pH範囲9.2〜10.8)などのホウ砂緩衝液、炭酸/カーボネート緩衝液(pH範囲6.2〜11.0)、アンモニア緩衝液NH+HO+NHCl(pH範囲8.2〜10.2)、及びその他の当業者には公知の緩衝系などがあげられる。緩衝溶剤の成分割合を調節することによって、所望のpH値を可能な範囲内で調節することができる。いくつかの例を以下の表に記す。

Figure 2009149488
トリス: Tris(ヒドロキシメチル)アミノメタン
混合物の最終体積=100mlの緩衝溶剤 Furthermore, it is possible to add a washing medium to a pH buffer system adjusted so as to maintain the pH value in a wide range, thereby keeping the fluctuation of the pH value slight. Examples of the buffer system that can be used here include KH 2 PO 4 / NaOH (pH range 5.8 to 8.0) or KH 2 PO 4 / Na 2 HPO 4 (pH range 5.4 to 7.8) Na. Phosphate buffer such as 2 HPO 4 / NaOH (pH range 10.9 to 12.0), Tris buffer such as Tris / HCl (pH range 7.0 to 9.0), borax / hydrochloric acid (pH range) 9.2-10.8), borax buffer, carbonate / carbonate buffer (pH range 6.2-11.0), ammonia buffer NH 3 + H 2 O + NH 4 Cl (pH range 8.2-10) .2), and other buffer systems known to those skilled in the art. By adjusting the component ratio of the buffer solvent, the desired pH value can be adjusted within a possible range. Some examples are given in the table below.
Figure 2009149488
Tris: Final volume of Tris (hydroxymethyl) aminomethane mixture = 100 ml buffer solvent

さらに驚くべき事に、温度範囲を用途に応じて略0°C〜略90°C、特に略20°C〜80°Cの温度範囲と、洗浄温度は可能な限り低く保つことが好ましいことが示された。温度範囲は好ましくは略20°C〜略70°C、特に好ましくは略25°C〜50°Cである。ここで、「略」とは、1〜10%前後の値、好ましくは20%まで前後の値の数値または範囲を意味する。範囲内の全ての値については明示的に開示する。   Further surprisingly, it is preferable that the temperature range is approximately 0 ° C. to approximately 90 ° C., particularly approximately 20 ° C. to 80 ° C., and the cleaning temperature is kept as low as possible depending on the application. Indicated. The temperature range is preferably about 20 ° C to about 70 ° C, particularly preferably about 25 ° C to 50 ° C. Here, “substantially” means a value or range of a value around 1 to 10%, preferably around 20%. All values within the range are explicitly disclosed.

上述の温度範囲で観察をしたところ、ガラス表面の腐食はないか、あったとしても極僅かに過ぎなかった。   When observed in the above temperature range, the glass surface was not corroded or, if any, very little.

これに対して、予想もしなかったことだが、洗浄時間が加熱処理におけるガラス管の縮小化(「収縮」)に対して及ぼす影響は副次的なものであることが判明した。したがって、洗浄効果を向上しながら同時に縮小化を少なくするためには、用途に応じて、低温にして洗浄する時間を長くする、または高温にして洗浄する時間を短くすることができるが、前者の方が後者より好ましい。「低温」とは、上述の範囲の下方の範囲の温度を意味し、「高温」とは、上述の範囲の上方の範囲から選択された温度を意味する。   On the other hand, it was found unexpectedly that the effect of the cleaning time on the reduction ("shrinkage") of the glass tube in the heat treatment was secondary. Therefore, in order to improve the cleaning effect and reduce the reduction at the same time, depending on the application, the time for cleaning at a low temperature can be lengthened, or the time for cleaning at a high temperature can be shortened. Is preferred over the latter. “Low temperature” means a temperature in a range below the above range, and “High temperature” means a temperature selected from a range above the above range.

洗浄媒体に、ガラスの洗浄を支援する一以上の化合物を添加するとさらに有利であることが実証されている。ガラスの洗浄を支援する化合物として、例えば、界面活性剤があり、これらは陰イオン性、陽イオン性、非イオン性、両性に分類できる。陰イオン性の界面活性剤として、例えば、アルキルベンゼンスルホン酸、アルカリスルホン酸、油脂アルコールスルホン酸、油脂アルコールエーテルスルホン酸、アルキルリン酸、アルキルエーテルリン酸などがあげられる。   It has proven to be more advantageous to add to the cleaning medium one or more compounds that assist in the cleaning of the glass. Examples of compounds that assist in glass cleaning include surfactants, which can be classified into anionic, cationic, nonionic, and amphoteric. Examples of the anionic surfactant include alkylbenzene sulfonic acid, alkali sulfonic acid, fatty alcohol sulfonic acid, fatty alcohol ether sulfonic acid, alkyl phosphoric acid, alkyl ether phosphoric acid and the like.

陰イオン界面活性剤として、例えば、アルキルベンゼンスルホン酸、アルカリスルホン酸、油脂アルコールスルホン酸、油脂アルコールエーテルスルホン酸、アルキルリン酸、アルキルエーテルリン酸があげられる。石鹸は陰イオン界面活性剤に分類され、基本的に高級脂肪酸のナトリウム塩及びカリウム塩である。   Examples of the anionic surfactant include alkylbenzene sulfonic acid, alkali sulfonic acid, fatty alcohol sulfonic acid, fatty alcohol ether sulfonic acid, alkyl phosphoric acid, and alkyl ether phosphoric acid. Soaps are classified as anionic surfactants and are basically higher fatty acid sodium and potassium salts.

非イオン界面活性剤として、例えば、油脂アルコールエトキシレート、アルキルフェノールエトキシレート、油脂アミンエトキシレート、脂肪酸エステルエトキシレート、アルカノールアミド及びアミンオキシドがあげられる。   Nonionic surfactants include, for example, fatty alcohol ethoxylates, alkylphenol ethoxylates, fatty amine ethoxylates, fatty acid ester ethoxylates, alkanolamides, and amine oxides.

陽イオン界面活性剤として、例えば、アルキルアンモニウム化合物又はイミダゾリニウム化合物があげられる。   Examples of the cationic surfactant include alkylammonium compounds and imidazolinium compounds.

両性の界面活性剤として、例えば、スルホベタイン及びタウリンがあげられる。   Examples of amphoteric surfactants include sulfobetaine and taurine.

特に好ましい界面活性剤として、石鹸などの中性から弱アルカリ性までのpH値を有するものがあげられる。   Particularly preferred surfactants include those having a pH value from neutral to weakly alkaline such as soap.

1以上の界面活性剤の量は、好ましくは、略0.1〜略20重量%まで、好ましくは略0.5〜略10.0重量%まで、特に好ましくは略1〜略5重量%までである。   The amount of the one or more surfactants is preferably about 0.1 to about 20% by weight, preferably about 0.5 to about 10.0% by weight, particularly preferably about 1 to about 5% by weight. It is.

さらに、洗浄媒体に錯化剤を添加して、例えば、アルカリイオン、アルカリ土類などの開放されたイオンを錯化して、ガラスや洗浄媒体の成分などと結合したり、反応することを防止することが好ましい。好適な錯化剤については化学文献に記載されており、例えば、EDTA、ポリ(ヒドロキシカルボキシレート)、クラウンエーテルなどをあげることができる。   Furthermore, a complexing agent is added to the cleaning medium, for example, complexing open ions such as alkali ions and alkaline earths to prevent binding and reaction with glass and components of the cleaning medium. It is preferable. Suitable complexing agents are described in the chemical literature and include, for example, EDTA, poly (hydroxycarboxylate), crown ether, and the like.

本発明のさらに好適な実施例によると、洗浄媒体のイオン濃度を高めるために中性塩をさらに追加的に添加できる。これは、ガラスにも洗浄媒体の成分にも反応しない通常の塩である。例えば、NaCl、NaSO、CaCl、KCl、KSO、KBrなどがあげあれる。 According to a further preferred embodiment of the present invention, a neutral salt can be additionally added to increase the ionic concentration of the cleaning medium. This is a normal salt that does not react to glass or components of the cleaning medium. For example, NaCl, Na 2 SO 4 , CaCl 2 , KCl, K 2 SO 4 , KBr and the like can be mentioned.

本発明の洗浄溶剤は、例えば、以下の組成成分を含んでもよい。

Figure 2009149488
The cleaning solvent of the present invention may include the following composition components, for example.
Figure 2009149488

このような界面活性剤、緩衝剤、塩、錯化剤などの添加剤のみを洗浄媒体に添加すること、相互に好ましくない反応が発生したり、本発明の洗浄方法が阻害されることのないように適用すべきであることは言及するまでもない。   The addition of only such surfactants, buffers, salts, complexing agents and the like to the cleaning medium does not cause an unfavorable reaction with each other or inhibit the cleaning method of the present invention. Needless to say, this should be applied.

本発明は、特にガラス管のガラスに限定されるものではない。特に好ましくは、硼珪酸ガラスまたは石灰−ナトロン・ガラスをベースとしたロアガラス(Rohrglas)のガラスに使用する。公知のいかなるガラスを含んでもよい。   The present invention is not particularly limited to glass tube glass. Particular preference is given to using a glass of lower glass (Rohrglas) based on borosilicate glass or lime-natron glass. Any known glass may be included.

本方法が特に有利なガラスは、例えば、以下のガラス組成成分の一つを有する。

Figure 2009149488
Rh,Hf,Ta,W,Re,Os,Ir,Pt,La,Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Luは酸化物の状態で0〜5重量%。 Glasses in which the method is particularly advantageous have, for example, one of the following glass composition components:
Figure 2009149488
Rh, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, La, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu are 0 to 5 in an oxide state. weight%.

好ましくは、さらに、いわゆる石灰−ナトロン・ガラスは例えば、以下のガラス組成成分比である。

Figure 2009149488
Rh,Hf,Ta,W,Re,Os,Ir,Pt,La,Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Luは酸化物の状態で0〜5重量%。必要な場合は、清澄剤を通常の濃度で、特に塩化物、スルホン酸、As及び/又はSbから選択して用いる。特に好ましくは、高い温度−清澄の用途にSnOを用いる。 Preferably, furthermore, so-called lime-natron glass has the following glass composition component ratio, for example.
Figure 2009149488
Rh, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, La, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu are 0 to 5 in an oxide state. weight%. If necessary, the fining agent is used at a normal concentration, especially selected from chloride, sulfonic acid, As 2 O 3 and / or Sb 2 O 3 . Particularly preferably, SnO 2 is used for high temperature-clarification applications.

使用するガラス組成成分に、好ましくは、酸化セリウムおよび酸化亜鉛を含むことができる。これによって、酸化亜鉛の存在によって酸化セリウムの含有量が高くなることによる色むらの発生を抑制できる。   The glass composition component used can preferably contain cerium oxide and zinc oxide. Thereby, it is possible to suppress the occurrence of color unevenness due to an increase in the content of cerium oxide due to the presence of zinc oxide.

本発明は、同様に、ガラス管の形状に特に限定されるものではない。本発明の洗浄方法は、ランプに使用可能な如何なる断面形状にも適用可能である。ランプの通常の断面形状は、例えば、背景光の場合、立体的な物体に合わせる。好ましくは、円形、楕円形、四角形、及び/又は平面、四角形断面(例えば、Osram社のPlanon(登録商標))、特に好ましくは、平面で四角形の断面形状などの背景光用のランプで使用するような断面形状である。   Similarly, the present invention is not particularly limited to the shape of the glass tube. The cleaning method of the present invention can be applied to any cross-sectional shape that can be used for a lamp. The normal cross-sectional shape of the lamp is adjusted to a three-dimensional object, for example, in the case of background light. Preferably, it is used in a lamp for background light such as a circular, oval, square and / or flat, square cross section (eg Planon® from Osram), particularly preferably a flat square cross section. Such a cross-sectional shape.

本発明の洗浄方法を実行するガラス管は、蛍光ランプのカバーガラス(Huellenglaesern)、好ましくは小型化した蛍光ランプなどに加工することができる。本発明の洗浄方法によると、ガラス管にさらに加熱処理を行うことが好ましい。ここで、例えば、加熱処理ステップとして、例えば、蛍光層を管の内側に焼き付ける、最大温度の範囲を、例えば、略500°C〜略750°C、典型的には600°C〜700°Cとする「ベーキング処理」をあげることができる。   The glass tube for carrying out the cleaning method of the present invention can be processed into a fluorescent lamp cover glass, preferably a miniaturized fluorescent lamp. According to the cleaning method of the present invention, it is preferable to further heat-treat the glass tube. Here, for example, as the heat treatment step, for example, the maximum temperature range in which the fluorescent layer is baked on the inside of the tube is, for example, approximately 500 ° C. to approximately 750 ° C., typically 600 ° C. to 700 ° C. "Baking process" can be given.

ガラス管から製造可能な蛍光ランプは、好ましくは、背景光、例えば、平面ディスプレイの背景光(いわゆるバックライト)、特に、LCD−TFTディスプレイに使用することができる。かかるランプは、この用途では極めて小さいサイズとなるので、ランプのガラスも厚さが極めて薄いことのみが好ましい。例えば、ガラス管は管状で、直径は、好ましくは、1.0cmを下回る、より好ましくは0.8cmを下回る、特に好ましくは0.7cmを下回る、さらに好ましくは0.5cmを下回ってもよい。管状のカバーガラス(Huellglas)の壁厚は、好ましくは1mmを下回る、特に好ましくは0.7mmを下回る。代替の実施例では、光源のガラス管の厚さは1cmを下回ってもよい。好ましいディスプレイまたは画面は、ラップトップ型、特に平面バックライト装置などで使用する、いわゆる平面ディスプレイである。   Fluorescent lamps that can be produced from glass tubes can preferably be used for background light, for example background light of flat displays (so-called backlights), in particular LCD-TFT displays. Since such lamps are very small in this application, it is only preferred that the lamp glass is also very thin. For example, the glass tube may be tubular and the diameter may be preferably less than 1.0 cm, more preferably less than 0.8 cm, particularly preferably less than 0.7 cm, and even more preferably less than 0.5 cm. The wall thickness of the tubular cover glass (Huelglas) is preferably below 1 mm, particularly preferably below 0.7 mm. In an alternative embodiment, the glass tube thickness of the light source may be less than 1 cm. A preferred display or screen is a so-called flat display used in a laptop type, particularly a flat backlight device or the like.

製造可能な蛍光ランプは、好ましくは、小型バックライト・ランプである。このようなランプは、好ましくは広範に透明であり、カバーガラスからなる中央部分と、金属または合金配線を差し込む接続部を装着できる二つの端部に分類される。金属または金属配線は加熱処理ステップでカバーガラスに溶接してもよい。金属または合金配線は電極導線、及び/又は電極である。これらの電極導線は、好ましくはタングステン金属またはモリブデン金属、またはコバール(Kovar)合金である。カバーガラスの熱膨張係数(CTE)は電極導線の熱膨張係数(CTE)と広範に一致させて、導線の部分では、テンションが存在しない、または発生するテンションは所定の範囲にとどまるようにすることが好ましい。非電極EEFLバックライトでは、電界により結合が行われるので、バックライト・ランプは、特に好ましくは、電極配線のないEEFL(外部電極蛍光ランプ)である。内部に配置した電極を介してプラズマを点火するCCFLシステム(冷陰極蛍光ランプ)も知られている。   The manufacturable fluorescent lamp is preferably a small backlight lamp. Such lamps are preferably broadly transparent and are classified into two ends that can be fitted with a central portion made of a cover glass and a connection for inserting metal or alloy wiring. The metal or metal wiring may be welded to the cover glass in a heat treatment step. The metal or alloy wiring is an electrode lead and / or an electrode. These electrode conductors are preferably tungsten metal or molybdenum metal, or Kovar alloy. The thermal expansion coefficient (CTE) of the cover glass should be broadly matched with the thermal expansion coefficient (CTE) of the electrode conductor, so that no tension exists or the tension that is generated stays within the specified range in the conductor section. Is preferred. In a non-electrode EEFL backlight, since coupling is performed by an electric field, the backlight lamp is particularly preferably an EEFL (external electrode fluorescent lamp) having no electrode wiring. A CCFL system (cold cathode fluorescent lamp) that ignites plasma through an electrode disposed inside is also known.

以下、本発明の理解を容易にするため、本発明の実施例を用いて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   Hereinafter, in order to facilitate understanding of the present invention, description will be made using examples of the present invention, but the present invention is not limited thereto.

以下の硼珪酸ガラスの組成成分からガラス管を製造した。

Figure 2009149488
管の形状は以下の通りであった。
外径:3.4mm
内径:2.4mm
壁厚:0.5mm及び
管の長さ:500mm Glass tubes were produced from the following borosilicate glass composition components.
Figure 2009149488
The shape of the tube was as follows.
Outer diameter: 3.4mm
Inner diameter: 2.4 mm
Wall thickness: 0.5mm and tube length: 500mm

上記の組成成分と上述の寸法を有するガラス管に本発明の洗浄方法を実施した。ここで、それぞれのガラス管の縮小化(「収縮」)をmm単位で、様々なpH値に対して洗浄時間と洗浄温度に応じて測定した。その結果を添付の図1〜図3に示す。各図面が示す内容は以下の通りである。   The cleaning method of the present invention was carried out on a glass tube having the above composition components and the above dimensions. Here, the shrinkage (“shrinkage”) of each glass tube was measured in units of mm depending on the washing time and washing temperature for various pH values. The results are shown in FIGS. The contents shown in the drawings are as follows.

図1は、pH値が4.5の場合の洗浄時間と洗浄温度に応じたガラス管の縮小化(「収縮」)をmm単位で示している。図2は、pH値が7の場合の洗浄時間と洗浄温度に応じたガラス管の縮小化(「収縮」)をmm単位で示している。図3は、pH値が9の場合の洗浄時間と洗浄温度に応じたガラス管の縮小化(「収縮」)をmm単位で示している。
図4は、ベーキング処理における温度と時間の代表的な関係の例を示す。
FIG. 1 shows the reduction ("shrinkage") of the glass tube according to the cleaning time and the cleaning temperature when the pH value is 4.5 in mm. FIG. 2 shows the reduction ("shrinkage") of the glass tube according to the cleaning time and the cleaning temperature when the pH value is 7, in mm units. FIG. 3 shows the reduction ("shrinkage") of the glass tube according to the cleaning time and the cleaning temperature when the pH value is 9, in mm units.
FIG. 4 shows an example of a typical relationship between temperature and time in the baking process.

図1に、pH値が4.5の場合の洗浄処理を示す。pH値は、本発明のpH値の範囲の外で、酸性に調節されており、高温になると縮小化が明確に進んでいる。45°Cを超えると既に、ガラス管の形状変化という不利益な影響が明確に観察され、背景光用のランプとしての意図した用途でガラスが使用できなくなった。   FIG. 1 shows a cleaning process when the pH value is 4.5. The pH value is adjusted to be acidic outside the range of the pH value of the present invention, and the reduction is clearly progressing at higher temperatures. Already above 45 ° C, the detrimental effect of glass tube shape change was clearly observed, making it impossible to use the glass for the intended use as a lamp for background light.

図2に、pH値を7として実行した本発明の洗浄方法を示す。図1に示した様々な縮小化が発生した範囲は、明らかに分散し、好ましくは70°Cまでの温度で加熱処理が可能となっている。   FIG. 2 shows the cleaning method of the present invention that was carried out with a pH value of 7. The range in which various reductions shown in FIG. 1 occur is clearly dispersed, and heat treatment is possible at a temperature preferably up to 70 ° C.

図3に、pH値を9として実行した本発明の洗浄方法を示す。図3に示すように、pH値は8〜9が特に好ましい。処理時間を120分と長くしても、70°Cを超える温度まで縮小化がほとんど発生せず、洗浄したガラスに形状の変化はほとんどなかった。   FIG. 3 shows the cleaning method of the present invention which was carried out at a pH value of 9. As shown in FIG. 3, the pH value is particularly preferably 8-9. Even when the treatment time was increased to 120 minutes, there was almost no reduction to a temperature exceeding 70 ° C., and there was almost no change in the shape of the washed glass.

図4に、ベーキング処理における温度と時間の代表的な関係の例を示す。他の関係でも調節可能であることは自明である。   FIG. 4 shows an example of a typical relationship between temperature and time in the baking process. Obviously, other relationships can be adjusted.

本発明によると、第1に、縮小化(「収縮」)を大幅に減少する、または完全に解消できる、ガラス管、特に硼珪酸ガラスまたは石灰−ナトロン・ガラスの洗浄方法を提供する。これによって、ガラス管製造時に発生する不良品が減少するので、本方法は経済性を大幅に向上することができる。   According to the present invention, firstly, a method for cleaning glass tubes, in particular borosilicate glass or lime-natron glass, is provided which can greatly reduce or completely eliminate shrinkage ("shrinkage"). This reduces the number of defective products that occur during the production of the glass tube, so that the present method can greatly improve the economy.

pH値が4.5の場合の洗浄時間と洗浄温度に応じたガラス管の縮小化(「収縮」)をmm単位で示す図である。It is a figure which shows the reduction | decrease ("shrinkage | shrinkage") of the glass tube according to the washing | cleaning time and washing | cleaning temperature in case pH value is 4.5 in mm unit. pH値が7の場合の洗浄時間と洗浄温度に応じたガラス管の縮小化(「収縮」)をmm単位で示す図である。It is a figure which shows the reduction | decrease ("shrinkage | shrinkage") of the glass tube according to the washing | cleaning time and washing | cleaning temperature in case pH value is 7 in mm unit. pH値が9の場合の洗浄時間と洗浄温度に応じたガラス管の縮小化(「収縮」)をmm単位で示す図であるIt is a figure which shows the reduction | decrease ("shrinkage | shrinkage") of the glass tube according to the washing | cleaning time and washing | cleaning temperature in case pH value is 9 in mm unit. ベーキング処理における温度と時間の代表的な関係の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the typical relationship between temperature and time in a baking process.

Claims (27)

蛍光ランプ、特に背景光で使用するランプ用ガラス管の洗浄方法であって、該洗浄方法は、
中性から弱アルカリ性の、好ましくは略7〜略12の範囲のpH値で、略0°C〜略90°C、特に、略20°C〜略80°C未満の範囲の洗浄温度で水性洗浄媒体によりガラス管を洗浄する、方法。
A method of cleaning a fluorescent lamp, particularly a glass tube for a lamp used in background light, the cleaning method comprising:
Neutral to weakly alkaline, preferably with a pH value in the range of about 7 to about 12, aqueous at a wash temperature in the range of about 0 ° C to about 90 ° C, especially about 20 ° C to less than about 80 ° C. A method of cleaning a glass tube with a cleaning medium.
特に背景光用の蛍光ランプに使用するランプ用ガラス管の加工方法であって、
(1)中性から弱アルカリ性の、好ましくは略7〜略12の範囲のpH値で、略0°C〜略90°C、特に、略20°C〜略80°C未満の範囲の洗浄温度で水性洗浄媒体によりガラス管を洗浄する処理と、
(2)加熱する処理と、を含む方法。
In particular, a method of processing a glass tube for a lamp used for a fluorescent lamp for background light,
(1) Neutral to weakly alkaline, preferably at a pH value in the range of about 7 to about 12, and in the range of about 0 ° C to about 90 ° C, particularly about 20 ° C to less than about 80 ° C. Cleaning the glass tube with an aqueous cleaning medium at a temperature;
(2) A process including heating.
pH値を7〜9の範囲または9〜12の範囲として、前記ガラス管を水性洗浄媒体で洗浄する、請求項1または請求項2に記載の方法。   The method according to claim 1 or 2, wherein the glass tube is washed with an aqueous washing medium with a pH value in the range of 7-9 or 9-12. 前記洗浄温度を略20°C〜70°C未満、特に好ましくは、略25°C〜50°C未満の温度範囲として実行することを特徴とする、請求項1から請求項3迄の何れか1項に記載の方法。   4. The cleaning temperature according to claim 1, wherein the cleaning temperature is about 20 ° C. to less than 70 ° C., particularly preferably about 25 ° C. to less than 50 ° C. 2. The method according to item 1. 前記洗浄処理の全工程において前記pH値は一定に保たれる、請求項1から請求項4迄の何れか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 1 to 4, wherein the pH value is kept constant in all steps of the cleaning treatment. 前記洗浄の間、pH値の管理を常時実行する、請求項1から請求項5迄の何れか1項に記載の方法。   The method according to claim 1, wherein the pH value is constantly managed during the cleaning. 前記洗浄の間変更するpH値を上げる、または下げるため弱酸又は塩基を付加する、請求項5または請求項6記載の方法。   7. A method according to claim 5 or claim 6, wherein a weak acid or base is added to raise or lower the pH value that changes during the washing. 前記洗浄の間洗浄媒体を継続してまたは随時交換して元のpH値に戻す、または元のpH値を保持する、請求項5または請求項6記載の方法。   7. A method according to claim 5 or claim 6, wherein the cleaning medium is continued or replaced at any time during the cleaning to return to the original pH value or to maintain the original pH value. 前記洗浄媒体にpH緩衝系を付加する、請求項5または請求項6に記載の方法。   The method according to claim 5 or 6, wherein a pH buffer system is added to the washing medium. 前記緩衝系は、リン酸緩衝液、トリス緩衝液、ホウ砂緩衝液、炭酸−カーボネート−緩衝液、アンモニア緩衝液などから選択する、請求項9記載の方法。   10. The method of claim 9, wherein the buffer system is selected from phosphate buffer, Tris buffer, borax buffer, carbonate-carbonate buffer, ammonia buffer, and the like. 前記洗浄時間は略10分から略120分である、請求項1から請求項10迄の何れか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 1 to 10, wherein the cleaning time is about 10 minutes to about 120 minutes. 前記洗浄媒体に、前記ガラスの洗浄を補助する1以上の化合物を付加する、請求項1から請求項11迄の何れか1項に記載の方法。   12. A method according to any one of the preceding claims, wherein one or more compounds are added to the cleaning medium to assist in cleaning the glass. 前記ガラスの洗浄を補助する1以上の化合物は、界面活性剤、特に、陰イオン性、陽イオン性、非イオン性、または両性の界面活性剤から選択する、請求項12記載の方法。   13. A method according to claim 12, wherein the one or more compounds that assist in the cleaning of the glass are selected from surfactants, in particular anionic, cationic, nonionic or amphoteric surfactants. 前記洗浄媒体に、イオン濃度を上げるために1以上の中性塩を付加する、請求項1から請求項13迄の何れか1項に記載の方法。   14. The method according to any one of claims 1 to 13, wherein one or more neutral salts are added to the cleaning medium to increase the ion concentration. 前記洗浄媒体に、1以上の錯化剤を付加する、請求項1から請求項14迄の何れか1項に記載の方法。   15. A method according to any one of claims 1 to 14, wherein one or more complexing agents are added to the cleaning medium. 温度を下げて洗浄時間を長くする、または温度を高くして洗浄時間を短くすることを前記洗浄に組み合わせる、請求項1から請求項15迄の何れか1項に記載の方法。   The method according to claim 1, wherein lowering the temperature to increase the cleaning time, or increasing the temperature to shorten the cleaning time is combined with the cleaning. 洗浄媒体として水性の溶剤を使用する、請求項1から請求項16迄の何れか1項に記載の方法。   The method according to any one of claims 1 to 16, wherein an aqueous solvent is used as the cleaning medium. 洗浄媒体として、50%を上回る、好ましくは60%を上回る、特に好ましくは70%を上回る、特に80%を上回る水を有する水性の媒体を使用する、請求項1から請求項17迄の何れか1項に記載の方法。   18. An aqueous medium having more than 50%, preferably more than 60%, particularly preferably more than 70%, in particular more than 80% water as cleaning medium. 2. The method according to item 1. 略0.1〜略20重量%、好ましくは略0.5〜略10.0重量%、特に好ましくは1〜5重量%の界面活性剤の量を用いる、請求項12または請求項13の何れか1項に記載の方法。   14. A surfactant according to claim 12 or claim 13, wherein an amount of surfactant of about 0.1 to about 20% by weight, preferably about 0.5 to about 10.0% by weight, particularly preferably 1 to 5% by weight, is used. The method according to claim 1. 前記洗浄媒体は以下の組成成分、
Figure 2009149488
を有する、又は構成要素とする、請求項1から請求項19迄の何れか1項に記載の方法。
The cleaning medium has the following composition components:
Figure 2009149488
20. A method according to any one of claims 1 to 19, comprising or comprising a component.
前記ガラス管のガラスとして硼珪酸ガラスまたはナトロン−石灰−ガラスを使用する、請求項1から請求項20迄の何れか1項に記載の方法。   21. The method according to any one of claims 1 to 20, wherein borosilicate glass or natron-lime-glass is used as the glass of the glass tube. 以下のガラス組成成分の一つ、
Figure 2009149488
Rh、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、La、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luは酸化物の状態で0〜5重量%、
必要な場合は、通常の濃度で、特に塩化物、スルホン酸、As及び/又はSbから選択した清澄剤、
を有する硼珪酸ガラスを、ガラスとして使用する、請求項1から請求項21迄の何れか1項に記載の方法。
One of the following glass composition components:
Figure 2009149488
Rh, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, La, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu are 0 to 5 in an oxide state. weight%,
If necessary, a fining agent selected at normal concentrations, in particular from chlorides, sulfonic acids, As 2 O 3 and / or Sb 2 O 3 ,
The method according to any one of claims 1 to 21, wherein a borosilicate glass having the following is used as glass.
以下のガラス組成成分の一つ、
Figure 2009149488
Rh、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、La、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd, Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luは酸化物の状態で0〜5重量%、
を有する、石灰−ナトロン・ガラスを、ガラスとして使用する、請求項1から請求項22迄の何れか1項に記載の方法。
One of the following glass composition components:
Figure 2009149488
Rh, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, La, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu are 0 to 5 in an oxide state. weight%,
23. A method according to any one of claims 1 to 22, wherein lime-natron glass having the following is used as glass.
前記ガラス管の形状は円形、楕円形、四角形、及び/又は平面、四角形の断面形状から選択される、請求項1から請求項23迄の何れか1項に記載の方法。   24. A method according to any one of claims 1 to 23, wherein the shape of the glass tube is selected from circular, elliptical, square and / or planar, square cross-sectional shapes. 前記ガラス管は洗浄後、蛍光ランプ、好ましくは背景光用の小型蛍光ランプに加工される、請求項1から請求項24迄の何れか1項に記載の方法。   25. A method according to any one of claims 1 to 24, wherein the glass tube is processed into a fluorescent lamp, preferably a small fluorescent lamp for background light, after washing. 前記加熱する処理は最大で略約500°C〜約750°C、特に略600°C〜700°Cの範囲の温度で実行する、請求項2記載の方法。   The method of claim 2, wherein the heating treatment is performed at a temperature in the range of at most about 500 ° C to about 750 ° C, particularly about 600 ° C to 700 ° C. 前記加熱で、蛍光層を管の内側に焼成する、請求項2または請求項26の何れか1項に記載の方法。   27. A method according to any one of claims 2 or 26, wherein the heating fires the phosphor layer to the inside of the tube.
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