JP2009143795A - Continuous casting apparatus, continuous casting method, and ingot - Google Patents

Continuous casting apparatus, continuous casting method, and ingot Download PDF

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兼一 谷口
Kiichi Komada
紀一 駒田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a continuous casting method and continuous casting apparatus in which high quality ingots are obtained without mingling in the ingots of inclusions such as oxides or impurity elements, the drawing out velocity is raised, and the production efficiency can be sharply raised, and to provide the ingots obtained by the same. <P>SOLUTION: A continuous casting apparatus 10 which continuously manufactures an ingot 2 obtained by making a molten metal 1 solidified in one direction includes: a molten metal holding part 20 holding the molten metal 1, and a template 30 in which the horizontal one side end is located below the molten metal holding part 20, wherein the template 30 has a base part 31 which inclines and extends to the horizontal plane so as to gradually go down as going to the horizontal direction on the other side, a cooling means 35 is disposed in the base part 31, the molten metal 1 fed from the molten metal holding part 20 is made to be solidified in one direction by the cooling means 35, and the resulting ingot 2 is continuously drawn out along the base part 31 of the template 30. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えばシリコンなどの溶湯を一方向凝固させて得られた鋳塊を連続的に製出するための連続鋳造装置、連続鋳造方法及びこれにより得られる鋳塊に関する。   The present invention relates to a continuous casting apparatus, a continuous casting method, and an ingot obtained thereby, for continuously producing an ingot obtained by unidirectionally solidifying a molten metal such as silicon.

太陽電池用素材として用いられるシリコンは、凝固時に膨張する金属であるため、鋳造を行う場合、溶湯が鋳塊の内部に残存しないように一方向凝固させることが求められる。
また、一方向凝固することにより、不純物元素が固相(鋳塊)から液相(溶湯)に排出されるため、純度の高い鋳塊を得ることが可能となる。
Since silicon used as a material for solar cells is a metal that expands during solidification, when casting is performed, it is required to solidify in one direction so that the molten metal does not remain inside the ingot.
Moreover, since the impurity element is discharged from the solid phase (ingot) to the liquid phase (molten metal) by unidirectional solidification, it is possible to obtain an ingot with high purity.

従来、シリコンを一方向凝固させる鋳造装置としては、例えば特許文献1に開示されているように、筒状をなす鋳型の上方開口部から溶湯を供給して鋳型の側壁から冷却を行うとともに、鋳型の下方開口部から鋳塊を下方に向けて引き抜くものが提案されている。
しかしながら、特許文献1に記載された鋳造装置では、下方から上方に向けて結晶を成長させるとともに得られた鋳塊を下方に向けて引き抜いているので、結晶の成長速度が律速となって、引き抜き速度を上昇させて生産効率を向上させることが困難であった。
Conventionally, as a casting apparatus for unidirectionally solidifying silicon, for example, as disclosed in Patent Document 1, a molten metal is supplied from an upper opening portion of a cylindrical mold and cooled from a side wall of the mold. There has been proposed a method in which an ingot is drawn downward from the lower opening.
However, in the casting apparatus described in Patent Document 1, since the crystal is grown from the lower side to the upper side and the resulting ingot is drawn downward, the crystal growth rate becomes rate-limiting, and the drawing is performed. It has been difficult to increase production efficiency by increasing speed.

そこで、特許文献2には、一方向凝固されたシリコンの鋳塊を効率的に生産するために、溶湯が保持される凝固槽の側壁を開放し、凝固したシリコンを開放した側壁を通って水平方向に対して斜め上方向に引き抜くシリコンの鋳造方法が開示されている。
特許文献2に記載されたシリコンの鋳造方法では、結晶の成長方向と鋳塊の引き抜き方向が異なるので、結晶の成長速度が阻害とならず、引き抜き速度を上昇させることが可能となる。
特開平08−310898号公報 特開平10−182286号公報
Therefore, in Patent Document 2, in order to efficiently produce a unidirectionally solidified silicon ingot, the side wall of the solidification tank in which the molten metal is held is opened, and the solidified silicon is released horizontally through the opened side wall. A method of casting silicon that is drawn obliquely upward with respect to the direction is disclosed.
In the silicon casting method described in Patent Document 2, since the crystal growth direction and the ingot drawing direction are different, the crystal growth rate is not hindered, and the drawing rate can be increased.
Japanese Patent Laid-Open No. 08-310898 Japanese Patent Laid-Open No. 10-182286

ところで、特許文献2に記載された鋳造方法では、凝固槽の側壁を開放して、この開放した部分から鋳塊を斜め上方向に引き抜くことで、凝固槽の側壁と鋳塊とによって溶湯を保持する構成とされている。これにより、鋳塊と溶湯との凝固界面が水平方向に対して傾斜することになる。
すると、溶湯中に浮遊する酸化物等の介在物が凝固界面に捕捉されて鋳塊内に取り込まれやすくなり、鋳塊の品質が著しく低下してしまうおそれがあった。また、シリコン中の不純物元素は、固相(鋳塊)から液相(溶湯)へと排出されることになるが、凝固界面が水平面に対して傾斜しているので、この不純物元素の濃度が鋳塊の厚さ方向で変動するおそれがあった。
By the way, in the casting method described in Patent Document 2, the molten metal is held by the side wall of the coagulation tank and the ingot by opening the side wall of the coagulation tank and pulling the ingot obliquely upward from the opened portion. It is supposed to be configured. Thereby, the solidification interface between the ingot and the molten metal is inclined with respect to the horizontal direction.
As a result, inclusions such as oxide floating in the molten metal are trapped at the solidification interface and are easily taken into the ingot, and the quality of the ingot may be significantly deteriorated. In addition, the impurity element in silicon is discharged from the solid phase (ingot) to the liquid phase (molten metal), but since the solidification interface is inclined with respect to the horizontal plane, the concentration of this impurity element is There was a possibility of fluctuation in the thickness direction of the ingot.

この発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、酸化物等の介在物や不純物元素が鋳塊内に混入することなく高品質な鋳塊が得られるとともに、引き抜き速度を上昇させて生産効率を大幅に向上させることが可能な連続鋳造方法、連続鋳造装置及びこれにより得られる鋳塊を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and a high-quality ingot can be obtained without inclusion of inclusions such as oxides or impurity elements in the ingot, and the drawing speed can be increased. It is an object of the present invention to provide a continuous casting method, a continuous casting apparatus, and an ingot obtained thereby, which can greatly improve production efficiency.

この課題を解決するために、本発明に係る連続鋳造装置は、溶湯を一方向凝固させて得られた鋳塊を連続的に製出する連続鋳造装置であって、前記溶湯を保持する溶湯保持部と、水平方向一方側端部が前記溶湯保持部の下方に位置させられた鋳型と、を備え、前記鋳型は、水平方向他方側に向かうにしたがい漸次下方に向かうように水平面に対して傾斜して延在する底面部を有し、該底面部に冷却手段が設けられており、前記溶湯保持部から供給された前記溶湯を前記冷却手段によって一方向凝固させ、得られた前記鋳塊を前記鋳型の前記底面部に沿って連続的に引き抜くことを特徴としている。   In order to solve this problem, a continuous casting apparatus according to the present invention is a continuous casting apparatus that continuously produces an ingot obtained by unidirectionally solidifying a molten metal, and holds the molten metal. And a mold having one end in the horizontal direction positioned below the molten metal holding part, and the mold is inclined with respect to the horizontal plane so as to gradually go downward as it goes to the other side in the horizontal direction. The bottom surface portion is provided with a cooling means, and the molten metal supplied from the molten metal holding portion is solidified in one direction by the cooling means, and the obtained ingot is obtained. The mold is continuously drawn along the bottom surface of the mold.

この構成の連続鋳造装置においては、水平方向他方側に向かうにしたがい漸次下方に向けて傾斜した底面部を有する鋳型の水平方向一方側端部に溶湯保持部が位置させられており、前記底面部に冷却手段が設けられているので、溶湯保持部の供給部から供給された溶湯は、鋳型の底面部に備えられた冷却手段によって冷却されて凝固することになり、底面部からの冷却と溶湯保持部からの入熱のバランスによって凝固界面が水平方向に延在することになる。   In the continuous casting apparatus having this configuration, the molten metal holding part is located at the one end in the horizontal direction of the mold having the bottom part gradually inclined downward toward the other side in the horizontal direction. Since the cooling means is provided, the molten metal supplied from the supply part of the molten metal holding part is cooled and solidified by the cooling means provided on the bottom part of the mold. The solidification interface extends in the horizontal direction due to the balance of heat input from the holding part.

これにより、溶湯保持部内の溶湯中に浮遊する介在物は溶湯保持部の下方で凝固する鋳塊から離れて位置することになり、介在物の鋳塊内部への混入を防止できる。また、固相(鋳塊)から液相(溶湯)へと排出される不純物元素は、鋳塊の上方に位置する溶湯保持部に濃縮されることになり、高純度の鋳塊を得ることができる。
さらに、結晶の成長方向と鋳塊の引き抜き方向が異なるので、結晶の成長速度に律速されることなく、引き抜き速度を上昇させることができ、生産効率を大幅に向上させることが可能となる。
また、鋳型と溶湯とが接触せず、凝固した鋳塊のみが鋳型と接触するので、鋳型の劣化を防止でき、鋳造コストを大幅に低減することができる。
Thereby, inclusions floating in the molten metal in the molten metal holding part are located away from the ingot solidified below the molten metal holding part, and mixing of inclusions into the ingot can be prevented. Moreover, the impurity element discharged | emitted from a solid phase (ingot) to a liquid phase (molten metal) will be concentrated in the molten metal holding | maintenance part located above an ingot, and a high purity ingot can be obtained. it can.
Furthermore, since the crystal growth direction and the ingot drawing direction are different, the drawing speed can be increased without being limited by the crystal growth speed, and the production efficiency can be greatly improved.
Moreover, since the mold and the molten metal do not contact each other and only the solidified ingot contacts the mold, the deterioration of the mold can be prevented and the casting cost can be greatly reduced.

ここで、前記溶湯保持部を電磁力によって保持する構成としてもよい。
この場合、溶湯を電磁力で保持することで、耐火物と溶湯との接触を抑制することが可能となる。これにより、溶湯と耐火物との反応を抑えて酸化物等の介在物の発生及びSiOなどのガスの発生を防止することができる。また、電磁力によって溶湯を保持する際に副次的に溶湯の加熱も行われることになるので、溶湯と鋳塊との間の温度差を大きくして一方向凝固を促進することができる。
Here, the molten metal holding portion may be held by electromagnetic force.
In this case, it is possible to suppress contact between the refractory and the molten metal by holding the molten metal with electromagnetic force. Thereby, reaction of a molten metal and a refractory can be suppressed and generation | occurrence | production of inclusions, such as an oxide, and generation | occurrence | production of gas, such as SiO, can be prevented. In addition, when the molten metal is held by electromagnetic force, the molten metal is also heated secondarily, so that the temperature difference between the molten metal and the ingot can be increased to promote unidirectional solidification.

また、前記底面部の表面温度を、その延在方向において異なるように構成してもよい。
この場合、底面部の延在方向、すなわち、鋳塊の引き抜き方向に沿って底面部の表面温度を設定することで、結晶の成長を制御して高品質な鋳塊を得ることができる。例えば、溶湯保持部の下方において、溶湯保持部と底面部とが近接する側の底面部の表面温度を高くし、溶湯保持部と底面部とが離間するにつれて底面部の表面温度を低くするように調整することで、溶湯と鋳塊との凝固界面を安定して水平に保つことが可能となる。また、溶湯保持部と底面部とが近接する部分の底面部の表面温度を高くすることで、溶湯保持部の内部へと鋳塊が成長していくことを抑制して、鋳塊の引き抜きをスムーズに行うことができる。
Moreover, you may comprise so that the surface temperature of the said bottom face part may differ in the extension direction.
In this case, by setting the surface temperature of the bottom surface along the extending direction of the bottom surface, that is, the drawing direction of the ingot, it is possible to control the crystal growth and obtain a high quality ingot. For example, below the molten metal holding portion, the surface temperature of the bottom surface portion on the side where the molten metal holding portion and the bottom surface portion are close to each other is increased, and the surface temperature of the bottom surface portion is decreased as the molten metal holding portion and the bottom surface portion are separated from each other. By adjusting to, the solidification interface between the molten metal and the ingot can be kept stable and horizontal. In addition, by increasing the surface temperature of the bottom surface portion of the portion where the molten metal holding portion and the bottom surface portion are close to each other, the ingot is prevented from growing into the molten metal holding portion, and the ingot is pulled out. It can be done smoothly.

また、前記鋳型の前記底面部の表面温度を、水平方向他方側かつ下方側に向かうにしたがい漸次低くなるように設定してもよい。
この場合、鋳塊が水平方向他方側かつ下方側に向けて引き抜かれていくにしたがい底面部の温度が低くなるので、一方向凝固させた鋳塊の等温面が水平となり、凝固界面の水平度を向上させることができる。
Further, the surface temperature of the bottom surface of the mold may be set so as to gradually become lower toward the other side in the horizontal direction and the lower side.
In this case, as the ingot is pulled out toward the other side in the horizontal direction and downward, the temperature of the bottom surface portion becomes lower, so that the isothermal surface of the ingot solidified in one direction becomes horizontal, and the level of the solidification interface Can be improved.

ここで、前記鋳型の前記底面部の表面温度の最高温度を、前記鋳塊の融点直下に設定してもよい。
この場合、底面部の表面温度の最高温度を鋳塊の融点直下に設定することによって、底面部の水平方向一方側部分において溶湯が急冷されることを防止でき、鋳塊の引き抜きをスムーズに行うことができる。
Here, the maximum surface temperature of the bottom surface of the mold may be set immediately below the melting point of the ingot.
In this case, by setting the maximum temperature of the surface temperature of the bottom portion directly below the melting point of the ingot, it is possible to prevent the molten metal from being rapidly cooled at one side portion in the horizontal direction of the bottom portion and to smoothly draw the ingot. be able to.

また、前記鋳型の側面部を断熱する構成としてもよい。
この場合、鋳型内の溶湯が側面部から冷却されることがなく、底面部からのみ結晶を成長させて一方向凝固した鋳塊を確実に製出することができる。
Moreover, it is good also as a structure which heat-insulates the side part of the said casting_mold | template.
In this case, the molten metal in the mold is not cooled from the side surface portion, and the ingot in which the crystal is grown only from the bottom surface portion and solidified in one direction can be reliably produced.

さらに、前記溶湯保持部に、前記溶湯を外部に排出する排出手段を設けてもよい。
この場合、凝固が進行するに連れて不純物元素が溶湯保持部内で濃縮していくため、不純物濃度が所定値まで上昇した時点で溶湯保持部内の溶湯を排出することにより、高純度の鋳塊を長時間にわたって製出することができる。また、溶湯保持部内の溶湯中に浮遊する介在物等も排出でき、介在物の混入を確実に防止することができる。
Furthermore, you may provide the discharge means which discharges the said molten metal outside in the said molten metal holding | maintenance part.
In this case, as the solidification progresses, the impurity element concentrates in the molten metal holding part, and when the impurity concentration rises to a predetermined value, the molten metal in the molten metal holding part is discharged to obtain a high purity ingot. It can be produced for a long time. Further, inclusions floating in the molten metal in the molten metal holding part can be discharged, and inclusions can be reliably prevented.

また、前記鋳型を、分割された複数のユニットが前記鋳型の延在方向に連設されて構成されるものとし、前記溶湯保持部側から順次前記ユニットを送り込むとともに、前記ユニットを前記鋳塊とともに引き抜くように構成してもよい。
この場合、ユニットを鋳塊とともに引き抜くことにより、鋳型と鋳塊との摺接を抑制して鋳塊の表面欠陥を防止することができる。また、溶湯保持部側のユニットが逐次更新されるため、鋳型の劣化による鋳塊品質の低下を防止できる。
Further, the mold is configured such that a plurality of divided units are connected in the extending direction of the mold, the units are sequentially fed from the molten metal holding part side, and the unit is combined with the ingot. You may comprise so that it may pull out.
In this case, by pulling out the unit together with the ingot, the sliding contact between the mold and the ingot can be suppressed, and surface defects of the ingot can be prevented. Moreover, since the unit on the side of the molten metal holding part is sequentially updated, it is possible to prevent the deterioration of the ingot quality due to the deterioration of the mold.

さらに、本発明に係る連続鋳造方法は、前述の連続鋳造装置を用いて、一方向凝固された鋳塊を、水平方向一方側に向かうにしたがい漸次下方に向かうように水平面に対して傾斜する方向に引き抜くことを特徴としている。   Furthermore, the continuous casting method according to the present invention uses the above-described continuous casting apparatus to incline the unidirectionally solidified ingot with respect to the horizontal plane so as to gradually go downward as it goes to one side in the horizontal direction. It is characterized by being pulled out.

この構成の連続鋳造方法によれば、溶湯保持部の溶湯と鋳型内の鋳塊との凝固界面を水平方向に延在するようにして凝固を進行させることにより、介在物の混入や不純物元素の少ない高品質な鋳塊を得ることができる。また、結晶の成長方向(凝固の進行方向)と鋳塊の引き抜き方向とを異ならせることで、引き抜き速度を上昇させて生産効率を大幅に向上させることができる。   According to the continuous casting method of this configuration, the solidification progresses so that the solidification interface between the molten metal in the molten metal holding portion and the ingot in the mold extends in the horizontal direction, so that inclusion inclusions and impurity elements can be prevented. A few high quality ingots can be obtained. Further, by making the crystal growth direction (solidification progress direction) different from the ingot drawing direction, it is possible to increase the drawing speed and greatly improve the production efficiency.

また、本発明に係る鋳塊は、前述の連続鋳造装置によって製出され、結晶の成長方向が、鋳塊の厚さ方向に対して角度θで交差するように構成されており、該角度θが、0°<θ≦20°の範囲内に設定されていることを特徴としている。   Further, the ingot according to the present invention is produced by the above-described continuous casting apparatus, and is configured such that the crystal growth direction intersects with the thickness direction of the ingot at an angle θ. Is set within a range of 0 ° <θ ≦ 20 °.

前述の連続鋳造装置によって製出された鋳塊においては、冷却手段を備えた底面部と溶湯保持部との間で結晶が底面部から溶湯保持部側に向けて成長するので、結晶の成長方向が鋳塊の厚さ方向に対して傾斜することになる。結晶の成長方向とは、鋳塊の下面から上面に向かって成長した鋳塊を構成する結晶粒の長軸に平行で下面から上方に向かうベクトルの方向であり、角度θはこのベクトルと鋳塊の下面の法線とのなす角度である。ここで、この傾斜角度θは、底面部の延在方向と凝固界面の延在方向(水平方向)とがなす角度と一致する。ここで、結晶の成長方向と鋳塊の厚さ方向とがなす角度θを20°以下とすることにより、引き抜き速度を確実に向上させることができる。さらに、鋳塊を厚さ方向に切断した場合に、切断面と交差する結晶粒界の数が抑えられる。   In the ingot produced by the continuous casting apparatus described above, the crystal grows from the bottom surface portion toward the molten metal holding portion side between the bottom surface portion provided with the cooling means and the molten metal holding portion. Is inclined with respect to the thickness direction of the ingot. The crystal growth direction is the direction of a vector parallel to the major axis of the crystal grains constituting the ingot growing from the lower surface to the upper surface of the ingot and upward from the lower surface, and the angle θ is the vector and the ingot. It is an angle made with the normal line of the lower surface of. Here, this inclination angle θ coincides with the angle formed by the extending direction of the bottom surface and the extending direction (horizontal direction) of the solidification interface. Here, by setting the angle θ formed by the crystal growth direction and the ingot thickness direction to 20 ° or less, the drawing speed can be reliably improved. Furthermore, when the ingot is cut in the thickness direction, the number of crystal grain boundaries intersecting the cut surface can be suppressed.

本発明によれば、酸化物等の介在物や不純物元素が鋳塊内に混入することなく高品質な鋳塊が得られるとともに、引き抜き速度を上昇させて生産効率を大幅に向上させることが可能な連続鋳造方法、連続鋳造装置及びこれにより得られる高品質な鋳塊を提供することができる。   According to the present invention, a high-quality ingot can be obtained without inclusion of impurities such as oxides or impurity elements in the ingot, and the production speed can be greatly improved by increasing the drawing speed. A continuous casting method, a continuous casting apparatus, and a high quality ingot obtained thereby can be provided.

以下に、本発明の実施形態について添付した図面を参照して説明する。図1及び図2に、本発明の第1の実施形態である連続鋳造装置10を示す。
本実施形態である連続鋳造装置10は、太陽電池用素材として用いられる6〜7Nクラスの純度のシリコン鋳塊2を連続に製出するためのものであり、シリコン溶湯1を保持するための溶湯保持部20と、この溶湯保持部20の下方に位置する鋳型30と、を備えている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. 1 and 2 show a continuous casting apparatus 10 according to a first embodiment of the present invention.
A continuous casting apparatus 10 according to this embodiment is for continuously producing a silicon ingot 2 having a purity of 6 to 7 N class used as a material for a solar cell, and a molten metal for holding a molten silicon 1. A holding unit 20 and a mold 30 located below the molten metal holding unit 20 are provided.

溶湯保持部20の上方には、図1に示すように、金属シリコン粉末を貯留する原料ホッパー5と、原料ホッパー5から供給された金属シリコン粉末を溶解してシリコン溶湯1を生成する溶解炉6とが配設されている。
ここで、溶解炉6は、分割された水冷銅ルツボを用いて金属シリコン粉末を誘導加熱する、いわゆるスカル溶解炉とされており、耐火物を使用しないため、シリコン溶湯1への不純物の混入が抑制されている。この溶解炉6の底部には、溶湯保持部20へシリコン溶湯1を出湯するための出湯口7が設けられており、シリコン溶湯1の出湯状態を凍結弁を用いて調整する構成とされている。
Above the molten metal holding unit 20, as shown in FIG. 1, a raw material hopper 5 that stores metallic silicon powder, and a melting furnace 6 that melts the metallic silicon powder supplied from the raw material hopper 5 to generate molten silicon 1. Are arranged.
Here, the melting furnace 6 is a so-called skull melting furnace in which metal silicon powder is induction-heated using a divided water-cooled copper crucible, and since no refractory is used, impurities are mixed into the silicon melt 1. It is suppressed. A bottom 7 of the melting furnace 6 is provided with a discharge port 7 for discharging the molten silicon 1 to the molten metal holding unit 20, and is configured to adjust the discharged state of the molten silicon 1 using a freezing valve. .

溶湯保持部20は、保持用電磁コイル22を有しており、電流と磁界との相互作用によるピンチ力を利用して、シリコン溶湯1を保持する構成とされている。つまり、耐火材等で構成された容器内にシリコン溶湯1を保持するのではなく、シリコン溶湯1を浮遊させた状態で保持しているのである。
本実施形態においては、溶湯保持部20において保持されているシリコン溶湯1を排出するための排出制御用電磁コイル23が設けられており、排出されたシリコン溶湯1が貯留される貯留部24が配置されている。
The molten metal holding part 20 has a holding electromagnetic coil 22 and is configured to hold the molten silicon 1 using a pinch force generated by an interaction between an electric current and a magnetic field. That is, the silicon melt 1 is not held in a container made of a refractory material or the like, but the silicon melt 1 is held in a suspended state.
In the present embodiment, a discharge control electromagnetic coil 23 for discharging the molten silicon 1 held in the molten metal holding unit 20 is provided, and a storage unit 24 in which the discharged molten silicon 1 is stored is disposed. Has been.

溶湯保持部20の上部には、シリコン溶湯1を保温するためのカーボンヒータ25が配設されている。このカーボンヒータ25の一部には孔部26が形成されており、溶解炉6から出湯されたシリコン溶湯1は孔部26を通じて溶湯保持部20へと供給される。このカーボンヒータ25と溶湯保持部20に保持されたシリコン溶湯1との間には空隙が画成されており、この空隙に不活性ガス(図1においてはArガス)を流通させる不活性ガス導入手段27が設けられている。   A carbon heater 25 for keeping the temperature of the molten silicon 1 is disposed on the upper part of the molten metal holding unit 20. A hole 26 is formed in a part of the carbon heater 25, and the molten silicon 1 discharged from the melting furnace 6 is supplied to the molten metal holding unit 20 through the hole 26. An air gap is defined between the carbon heater 25 and the molten silicon 1 held by the molten metal holding part 20, and an inert gas is introduced to circulate an inert gas (Ar gas in FIG. 1) through the air gap. Means 27 are provided.

そして、溶湯保持部20には下方側に向けて溶湯を供給する供給部21が設けられており、この供給部21が鋳型30の水平方向一方側(図1において左側)に位置するように構成されている。この供給部21の水平方向長さ(図1において左右方向長さ)は、3000mm〜300mmの範囲内に設定されており、本実施形態においては1500mmとされている。   The molten metal holding unit 20 is provided with a supply unit 21 that supplies the molten metal downward, and the supply unit 21 is positioned on one side in the horizontal direction of the mold 30 (left side in FIG. 1). Has been. The horizontal length (the horizontal length in FIG. 1) of the supply unit 21 is set within a range of 3000 mm to 300 mm, and is 1500 mm in the present embodiment.

鋳型30は、図1に示すように、溶湯保持部20が配設された水平方向一方側から水平方向他方側(図1において右側)に向かうにしたがい漸次下方に向かうように水平面に対して傾斜する底面部31と図2に示すように底面部31に対して直交するように延在する側壁32とからなる断面コの字状をなす本体部33と、図1及び図2に示すように底面部31に対向配置される蓋部34とを有している。なお、蓋部34は、図1に示すように鋳型30の水平方向他方側部分にのみ配置されている。   As shown in FIG. 1, the mold 30 is inclined with respect to the horizontal plane so as to gradually move downward from one horizontal side where the molten metal holding portion 20 is disposed toward the other horizontal side (right side in FIG. 1). 2 and a main body 33 having a U-shaped cross section comprising a side wall 32 extending so as to be orthogonal to the bottom surface portion 31 as shown in FIG. And a lid portion 34 disposed to face the bottom surface portion 31. In addition, the cover part 34 is arrange | positioned only at the horizontal direction other side part of the casting_mold | template 30 as shown in FIG.

ここで、鋳型30の底面部31の延在方向と水平面とがなす角度θは、0°<θ≦20°の範囲内に設定されており、本実施形態においてはθ=7.66°とされている。また、底面部31の幅(図2において左右方向長さ)は、150mm〜3000mmの範囲内に設定されており、本実施形態においては1000mmとされている。さらに、側壁32の高さ(図2において上下方向長さ)は、20mm〜500mmの範囲内に設定されており、本実施形態においては200mmとされている。   Here, the angle θ formed by the extending direction of the bottom surface portion 31 of the mold 30 and the horizontal plane is set in a range of 0 ° <θ ≦ 20 °, and in this embodiment, θ = 7.66 °. Has been. Further, the width of the bottom surface portion 31 (the length in the left-right direction in FIG. 2) is set within a range of 150 mm to 3000 mm, and is 1000 mm in the present embodiment. Further, the height of the side wall 32 (length in the vertical direction in FIG. 2) is set within a range of 20 mm to 500 mm, and is set to 200 mm in the present embodiment.

鋳型30の底面部31には、パネル状の冷却手段35が設けられている。この冷却手段35によって、底面部31の表面温度は、底面部31(鋳型30)の延在方向において異なるように調整されている。本実施形態では、冷却手段35の水平方向一方側部分(図1の矢印U)の底面部31の表面温度が最も高く設定されており、シリコンの融点直下である1410℃とされ、冷却手段35の水平方向他方側部分(図1の矢印V)の底面部31の表面温度が800℃とされている。   Panel-shaped cooling means 35 is provided on the bottom surface portion 31 of the mold 30. By this cooling means 35, the surface temperature of the bottom surface portion 31 is adjusted to be different in the extending direction of the bottom surface portion 31 (mold 30). In this embodiment, the surface temperature of the bottom surface portion 31 of the horizontal one side portion (arrow U in FIG. 1) of the cooling means 35 is set to the highest, and is set to 1410 ° C., which is directly below the melting point of silicon. The surface temperature of the bottom surface portion 31 of the other side portion in the horizontal direction (arrow V in FIG. 1) is 800 ° C.

また、図2に示すように鋳型30の側方には断熱材36が配設されており、鋳型30の側壁32部分からの放熱が抑制されている。
さらに、鋳型30の引き抜き方向下流側には、図1に示すように、製出されたシリコン鋳塊2の温度を調節する温度調節器9が設けられている。
In addition, as shown in FIG. 2, a heat insulating material 36 is disposed on the side of the mold 30, and heat dissipation from the side wall 32 portion of the mold 30 is suppressed.
Furthermore, as shown in FIG. 1, a temperature controller 9 for adjusting the temperature of the produced silicon ingot 2 is provided on the downstream side of the mold 30 in the drawing direction.

次に、本実施形態である連続鋳造装置10による連続鋳造方法について説明する。
原料ホッパー5から溶解炉6へと金属シリコン粉末が供給される。溶解炉6では、誘導加熱によって金属シリコン粉末が溶融されてシリコン溶湯1が生成される。そして、溶解炉6の底部に設けられた出湯口7からシリコン溶湯1が溶湯保持部20へと供給される。
Next, the continuous casting method by the continuous casting apparatus 10 which is this embodiment is demonstrated.
Metal silicon powder is supplied from the raw material hopper 5 to the melting furnace 6. In the melting furnace 6, the metal silicon powder is melted by induction heating to generate the molten silicon 1. Then, the molten silicon 1 is supplied to the molten metal holding unit 20 from the outlet 7 provided at the bottom of the melting furnace 6.

溶湯保持部20においては、保持用電磁コイル22のピンチ力によってシリコン溶湯1が保持されるとともに、供給部21が鋳型30の底面部31に向けられている。
ここで、鋳型30の底面部31に設けられた冷却手段35によって抜熱されることで、底面部31側から凝固が一方向に進行していくことになる。
In the molten metal holding unit 20, the molten silicon 1 is held by the pinch force of the holding electromagnetic coil 22, and the supply unit 21 is directed to the bottom surface 31 of the mold 30.
Here, heat is removed by the cooling means 35 provided on the bottom surface portion 31 of the mold 30, so that solidification proceeds in one direction from the bottom surface portion 31 side.

このとき、鋳型30の底面部31の表面温度が底面部31(鋳型30)の延在方向において異なるように調整されており、本実施形態では、冷却手段35の水平方向一方側部分(図1の矢印U)の表面温度が1410℃とされ、冷却手段35の水平方向他方側部分(図1の矢印V)の表面温度が800℃とされているので、シリコン鋳塊2(固相)とシリコン溶湯1(液相)との凝固界面が、図1に示すように水平となり、溶湯保持部20の供給部21に位置することになる。   At this time, the surface temperature of the bottom surface portion 31 of the mold 30 is adjusted to be different in the extending direction of the bottom surface portion 31 (mold 30). In this embodiment, the horizontal one side portion of the cooling means 35 (FIG. 1). The surface temperature of the arrow U) is 1410 ° C., and the surface temperature of the other horizontal portion of the cooling means 35 (arrow V in FIG. 1) is 800 ° C., so that the silicon ingot 2 (solid phase) The solidification interface with the molten silicon 1 (liquid phase) is horizontal as shown in FIG. 1 and is located at the supply unit 21 of the molten metal holding unit 20.

このように鋳型30の底面部31側から凝固が一方向に進行することにより、シリコン鋳塊2(固相)の不純物元素は溶湯保持部20内のシリコン溶湯1(液相)へと排出される。よって、時間が経過するに連れて溶湯保持部20内のシリコン溶湯1の不純物元素が濃縮されていくことになる。そこで、所定時間経過した時点で、排出制御用電磁コイル23によってシリコン溶湯1を貯留部24へと排出し、溶解炉6から溶湯保持部20にシリコン溶湯1を新たに供給するように構成されている。   In this way, solidification proceeds in one direction from the bottom surface portion 31 side of the mold 30, whereby the impurity element of the silicon ingot 2 (solid phase) is discharged to the silicon melt 1 (liquid phase) in the molten metal holding portion 20. The Therefore, as time passes, the impurity elements of the molten silicon 1 in the molten metal holding part 20 are concentrated. Therefore, when a predetermined time has elapsed, the silicon melt 1 is discharged to the storage unit 24 by the discharge control electromagnetic coil 23, and the silicon melt 1 is newly supplied from the melting furnace 6 to the molten metal holding unit 20. Yes.

一方向凝固によって形成されたシリコン鋳塊2は、鋳型30(底面部31)に沿って、つまり、水平方向他方側(図1において右側)に向かうにしたがい漸次下方に向かうように水平面に対して傾斜する方向に向けて引き抜かれていく。そして、引き抜かれたシリコン鋳塊2は、温度調節器9によって温度調整される。これにより、板厚t(200mm)、幅W(1000mm)の板状のシリコン鋳塊2が連続的に製出されることになる。   The silicon ingot 2 formed by unidirectional solidification is along the mold 30 (bottom surface portion 31), that is, toward the other side in the horizontal direction (the right side in FIG. 1) and gradually down toward the horizontal plane. It is pulled out in the direction of inclination. The temperature of the drawn silicon ingot 2 is adjusted by the temperature controller 9. As a result, a plate-shaped silicon ingot 2 having a thickness t (200 mm) and a width W (1000 mm) is continuously produced.

このようにして製出されたシリコン鋳塊2は、図3に示すように、結晶の成長方向がシリコン鋳塊2の厚さ方向(図3において上下方向)に対して角度θで交差するように構成されている。つまり、本実施形態の連続鋳造装置10によって製出されたシリコン鋳塊2においては、冷却手段35を備えた底面部31と溶湯保持部20との間で結晶が底面部31から溶湯保持部20側に向けて成長することになり、結晶の成長方向がシリコン鋳塊2の厚さ方向に対して、底面部31の延在方向と凝固界面の延在方向(水平方向)とがなす角度θで傾斜することになるのである。   In the silicon ingot 2 produced in this way, as shown in FIG. 3, the crystal growth direction intersects the thickness direction of the silicon ingot 2 (vertical direction in FIG. 3) at an angle θ. It is configured. That is, in the silicon ingot 2 produced by the continuous casting apparatus 10 of the present embodiment, crystals are melted from the bottom surface portion 31 to the molten metal holding portion 20 between the bottom surface portion 31 provided with the cooling means 35 and the molten metal holding portion 20. The angle θ formed by the extending direction of the bottom surface portion 31 and the extending direction of the solidification interface (horizontal direction) with respect to the thickness direction of the silicon ingot 2. It will be inclined at.

本実施形態である連続鋳造装置10によれば、凝固界面が、図1に示すように水平方向に延在させられているので、溶湯保持部20内のシリコン溶湯1中を浮遊する介在物が、溶湯保持部20の下方で凝固するシリコン鋳塊2から離れたところに存在することになり、シリコン鋳塊2への介在物の混入を防止できる。また、固相(シリコン鋳塊2)から液相(シリコン溶湯1)へと排出される不純物元素は、シリコン鋳塊2の上方に位置する溶湯保持部20に確実に排出されることになり、高純度の品質の良いシリコン鋳塊2を得ることができる。   According to the continuous casting apparatus 10 of the present embodiment, since the solidification interface extends in the horizontal direction as shown in FIG. 1, inclusions floating in the silicon melt 1 in the molten metal holding part 20 are present. In addition, it exists in a place away from the silicon ingot 2 that solidifies below the molten metal holding portion 20, and inclusions of inclusions in the silicon ingot 2 can be prevented. Further, the impurity element discharged from the solid phase (silicon ingot 2) to the liquid phase (silicon molten metal 1) is surely discharged to the molten metal holding part 20 located above the silicon ingot 2, A silicon ingot 2 of high purity and good quality can be obtained.

そして、凝固方向(結晶の成長方向)とシリコン鋳塊2の引き抜き方向が異なるので、凝固速度(結晶の成長速度)に律速されることなく、シリコン鋳塊2の引き抜き速度を上昇させることができ、生産効率を大幅に向上させることができる。
また、鋳型30とシリコン溶湯1とが接触せず、凝固したシリコン鋳塊2のみが鋳型30と接触するので、鋳型30の劣化を防止でき、鋳造コストを大幅に低減することができる。
Since the solidification direction (crystal growth direction) and the drawing direction of the silicon ingot 2 are different, the drawing speed of the silicon ingot 2 can be increased without being limited by the solidification rate (crystal growth rate). , Production efficiency can be greatly improved.
Further, since the mold 30 and the silicon melt 1 are not in contact with each other and only the solidified silicon ingot 2 is in contact with the mold 30, deterioration of the mold 30 can be prevented, and the casting cost can be greatly reduced.

さらに、溶湯保持部20を保持用電磁コイル22のピンチ力によってシリコン溶湯1を保持するように構成されているので、耐火物とシリコン溶湯1との接触を抑制することができ、シリコン溶湯1と耐火物との反応を抑えて酸化物等の介在物の発生を防止することができる。また、保持用電磁コイル22のピンチ力によってシリコン溶湯1を保持する際に副次的にシリコン溶湯1の加熱も行われることになるので、シリコン溶湯1とシリコン鋳塊2との間に温度差を設けて一方向凝固を促進することができる。   Furthermore, since the molten metal holding part 20 is configured to hold the molten silicon 1 by the pinch force of the holding electromagnetic coil 22, the contact between the refractory and the molten silicon 1 can be suppressed. The reaction with the refractory can be suppressed and the generation of inclusions such as oxides can be prevented. Further, when the silicon melt 1 is held by the pinching force of the holding electromagnetic coil 22, the silicon melt 1 is also heated secondarily, so that there is a temperature difference between the silicon melt 1 and the silicon ingot 2. Can be provided to promote unidirectional solidification.

また、鋳型30の底面部31の表面温度が、その延在方向において異なるように構成されており、特に、本実施形態では、溶湯保持部20が位置する鋳型30の水平方向一方側部分の底面部31の表面温度が1410℃とシリコンの融点近傍とされているので、溶湯保持部20の内部へとシリコン鋳塊2が成長していくことを抑制して、シリコン鋳塊2の引き抜きをスムーズに行うことができる。また、底面部31の表面温度を調整することで、凝固界面を水平方向に延在させることができる。   Further, the surface temperature of the bottom surface portion 31 of the mold 30 is configured to be different in the extending direction. In particular, in the present embodiment, the bottom surface of the horizontal one side portion of the mold 30 where the molten metal holding portion 20 is located. Since the surface temperature of the portion 31 is 1410 ° C. and in the vicinity of the melting point of silicon, the silicon ingot 2 is prevented from growing into the molten metal holding portion 20 and the silicon ingot 2 is smoothly pulled out. Can be done. Further, the solidification interface can be extended in the horizontal direction by adjusting the surface temperature of the bottom surface portion 31.

また、溶湯保持部20には、シリコン溶湯1を排出する排出制御用電磁コイル23が設けられており、所定時間経過時に溶湯保持部20内のシリコン溶湯1を排出するように構成されているので、不純物元素が濃縮されたシリコン溶湯1を排出して、溶解炉6から新たなシリコン溶湯1を得ることで、高純度のシリコン鋳塊2を長時間にわたって製出することができる。また、溶湯保持部20に浮遊する介在物等も同時に排出でき、介在物の混入を確実に防止できる。   In addition, the molten metal holding unit 20 is provided with a discharge control electromagnetic coil 23 for discharging the molten silicon 1 and is configured to discharge the molten silicon 1 in the molten metal holding unit 20 when a predetermined time has elapsed. By discharging the silicon melt 1 in which the impurity element is concentrated and obtaining a new silicon melt 1 from the melting furnace 6, a high-purity silicon ingot 2 can be produced for a long time. In addition, inclusions floating in the molten metal holding unit 20 can be discharged at the same time, and inclusions can be reliably prevented.

さらに、本実施形態においては、溶湯保持部20のシリコン溶湯1とカーボンヒータ25との間に画成された空隙に、不活性ガス(Arガス)を導入する不活性ガス導入手段27を備えているので、シリコン溶湯1から生成するシリカガス(SiO)を溶湯保持部20の外部へと排出することができ、シリコン鋳塊2の純度をさらに高めることができる。
また、溶湯保持部20の上にカーボンヒータ25が配設されているので、シリコン溶湯1の温度を維持することができ、シリコン溶湯1とシリコン鋳塊2との間に温度差を設けて一方向凝固を促進することができる。
Further, in the present embodiment, an inert gas introduction means 27 for introducing an inert gas (Ar gas) is provided in a gap defined between the molten silicon 1 of the molten metal holding unit 20 and the carbon heater 25. Therefore, the silica gas (SiO) produced | generated from the silicon molten metal 1 can be discharged | emitted to the exterior of the molten metal holding | maintenance part 20, and the purity of the silicon ingot 2 can be raised further.
In addition, since the carbon heater 25 is disposed on the molten metal holding unit 20, the temperature of the molten silicon 1 can be maintained, and a temperature difference is provided between the molten silicon 1 and the silicon ingot 2. Directional solidification can be promoted.

また、本実施形態である連続鋳造装置10によって製出されたシリコン鋳塊2は、結晶の成長方向が、シリコン鋳塊2の厚さ方向に対して角度θで交差するように構成されており、この角度θが、0°<θ≦20°の範囲内に設定されているので、シリコン鋳塊2を厚さ方向に切断する場合に、切断面と交差する結晶粒界の数が抑えられる。したがって、太陽電池用の板材を成形した場合に、板材の厚さ方向において結晶粒界が存在しないように構成でき、高品質の板材を提供することが可能となる。   In addition, the silicon ingot 2 produced by the continuous casting apparatus 10 according to the present embodiment is configured such that the crystal growth direction intersects with the thickness direction of the silicon ingot 2 at an angle θ. Since the angle θ is set in the range of 0 ° <θ ≦ 20 °, the number of crystal grain boundaries intersecting the cut surface can be suppressed when the silicon ingot 2 is cut in the thickness direction. . Therefore, when a plate material for a solar cell is molded, it can be configured such that no crystal grain boundary exists in the thickness direction of the plate material, and a high-quality plate material can be provided.

次に、本発明の第2の実施形態について添付した図面を参照して説明する。なお、第1の実施形態と同一の構成要素には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。図4に、本発明の第2の実施形態である連続鋳造装置50を示す。
第2の実施形態である連続鋳造装置50においては、鋳型60がその延在方向において複数のユニット63、64が連設されることで構成されているのである。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the component same as 1st Embodiment, and detailed description is abbreviate | omitted. In FIG. 4, the continuous casting apparatus 50 which is the 2nd Embodiment of this invention is shown.
In the continuous casting apparatus 50 which is 2nd Embodiment, the casting_mold | template 60 is comprised by the several units 63 and 64 being connected in the extension direction.

この連続鋳造装置50によって鋳造する場合には、溶湯保持部20の供給部21が位置する側からユニット63、64を順次送り込むとともに、ユニット63、64がシリコン鋳塊2とともに引き抜かれていくように構成されている。つまり、鋳型60を構成するユニット63、64が順次更新され、シリコン鋳塊2と鋳型60とが一体となって引き抜かれていくのである。   When casting by this continuous casting apparatus 50, the units 63 and 64 are sequentially fed from the side where the supply part 21 of the molten metal holding part 20 is located, and the units 63 and 64 are pulled out together with the silicon ingot 2. It is configured. That is, the units 63 and 64 constituting the mold 60 are sequentially updated, and the silicon ingot 2 and the mold 60 are pulled out integrally.

この構成の連続鋳造装置50によれば、シリコン鋳塊2と接触するユニット63、64をシリコン鋳塊2とともに引き抜くことにより、シリコン鋳塊2と鋳型60との摺動を防止でき、シリコン鋳塊2の表面欠陥を防止することができる。また、溶湯保持部20側に位置するユニット63、64が順次更新されるので、鋳型60の劣化がなく、長時間にわたって安定した高品質のシリコン鋳塊2を得ることができる。   According to the continuous casting apparatus 50 having this configuration, by sliding the units 63 and 64 in contact with the silicon ingot 2 together with the silicon ingot 2, sliding between the silicon ingot 2 and the mold 60 can be prevented. 2 surface defects can be prevented. In addition, since the units 63 and 64 located on the molten metal holding unit 20 side are sequentially updated, it is possible to obtain a high-quality silicon ingot 2 that is stable and does not deteriorate for a long time.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されることはなく、その発明の技術的思想を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
例えば、太陽電池用のシリコン鋳塊を製出するものとして説明したが、これに限定されることはなく、その他の金属や半導体等を一方向凝固させた鋳塊を製出するものであってもよい。
As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to this, It can change suitably in the range which does not deviate from the technical idea of the invention.
For example, the silicon ingot for solar cells has been described as being produced, but the present invention is not limited to this, and an ingot obtained by unidirectionally solidifying other metals or semiconductors is produced. Also good.

また、溶湯保持部を、電磁コイルのピンチ力によって溶湯を保持するものとして説明したが、これに限定されることはなく、耐火物等で構成した溶湯保持部であってもよい。保持する溶湯と耐火物との反応性を考慮して適宜選択すればよい。
さらに、金属シリコン粉末を、いわゆるスカル溶解炉で溶解してシリコン溶湯を生成するように構成したもので説明したが、これに限定されることはなく、その他の溶解方法で溶解してもよい。
また、溶湯保持部の供給部の大きさや鋳型の大きさは、本実施形態に限定されることはなく、これらの寸法は任意に設定することができる。
Moreover, although the molten metal holding | maintenance part was demonstrated as what hold | maintains a molten metal with the pinch force of an electromagnetic coil, it is not limited to this, The molten metal holding | maintenance part comprised with the refractory etc. may be sufficient. What is necessary is just to select suitably considering the reactivity of the molten metal to hold | maintain and a refractory.
Further, the metal silicon powder has been described as being configured to generate a molten silicon by melting in a so-called skull melting furnace, but the present invention is not limited to this and may be melted by other melting methods.
Further, the size of the supply part of the molten metal holding part and the size of the mold are not limited to this embodiment, and these dimensions can be arbitrarily set.

本発明の第1の実施形態である連続鋳造装置の概略説明図である。It is a schematic explanatory drawing of the continuous casting apparatus which is the 1st Embodiment of this invention. 図1におけるX−X断面図である。It is XX sectional drawing in FIG. 図1に示す連続鋳造装置により製出された鋳塊の引き抜き方向に沿った断面図である。It is sectional drawing along the drawing direction of the ingot produced by the continuous casting apparatus shown in FIG. 本発明の第2の実施形態である連続鋳造装置の概略説明図である。It is a schematic explanatory drawing of the continuous casting apparatus which is the 2nd Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 シリコン溶湯(溶湯)
2 シリコン鋳塊(鋳塊)
10、50 連続鋳造装置
20 溶湯保持部
22 電磁コイル
23 排出制御用コイル(排出手段)
30、60 鋳型
31 底面部
35 冷却手段
63、64 ユニット
1 Silicon melt (melt)
2 Silicon ingot (ingot)
10, 50 Continuous casting apparatus 20 Molten metal holding part 22 Electromagnetic coil 23 Discharge control coil (discharge means)
30, 60 Mold 31 Bottom portion 35 Cooling means 63, 64 Unit

Claims (10)

溶湯を一方向凝固させて得られた鋳塊を連続的に製出する連続鋳造装置であって、
前記溶湯を保持する溶湯保持部と、水平方向一方側端部が前記溶湯保持部の下方に位置させられた鋳型と、を備え、
前記鋳型は、水平方向他方側に向かうにしたがい漸次下方に向かうように水平面に対して傾斜して延在する底面部を有し、該底面部に冷却手段が設けられており、
前記溶湯保持部から供給された前記溶湯を前記冷却手段によって一方向凝固させ、得られた前記鋳塊を前記鋳型の前記底面部に沿って連続的に引き抜くことを特徴とする連続鋳造装置。
A continuous casting apparatus for continuously producing an ingot obtained by unidirectionally solidifying a molten metal,
A molten metal holding part that holds the molten metal, and a mold in which one horizontal end is positioned below the molten metal holding part,
The mold has a bottom surface portion that is inclined with respect to a horizontal plane so as to gradually go downward as it goes to the other side in the horizontal direction, and cooling means is provided on the bottom surface portion,
A continuous casting apparatus, wherein the molten metal supplied from the molten metal holding part is solidified in one direction by the cooling means, and the obtained ingot is continuously drawn along the bottom surface part of the mold.
前記溶湯保持部は、前記溶湯を電磁力によって保持する構成とされていることを特徴とする請求項1に記載の連続鋳造装置。   The continuous casting apparatus according to claim 1, wherein the molten metal holding unit is configured to hold the molten metal by electromagnetic force. 前記鋳型の前記底面部の表面温度が、その延在方向において異なるように設定されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の連続鋳造装置。   The continuous casting apparatus according to claim 1 or 2, wherein a surface temperature of the bottom surface portion of the mold is set to be different in an extending direction thereof. 前記鋳型の前記底面部の表面温度が、水平方向他方側かつ下方側に向かうにしたがい漸次低くなるように設定されていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の連続鋳造装置。   4. The surface temperature of the bottom surface of the mold is set so as to gradually become lower toward the other side in the horizontal direction and the lower side, according to claim 1. Continuous casting equipment. 前記鋳型の前記底面部の表面温度の最高温度が、前記鋳塊の融点直下に設定されていることを特徴とする請求項4に記載の連続鋳造装置。   The continuous casting apparatus according to claim 4, wherein a maximum surface temperature of the bottom surface portion of the mold is set immediately below the melting point of the ingot. 前記鋳型の側面部が断熱されていることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の連続鋳造装置。   The continuous casting apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein a side surface portion of the mold is thermally insulated. 前記溶湯保持部には、前記溶湯を外部に排出する排出手段が設けられていることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の連続鋳造装置。   The continuous casting apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the molten metal holding portion is provided with a discharging means for discharging the molten metal to the outside. 前記鋳型は、分割された複数のユニットが前記鋳型の延在方向に連設されることで構成されており、前記溶湯保持部側から順次前記ユニットが送り込まれ、前記ユニットが前記鋳塊とともに引き抜かれていくことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の連続鋳造装置。   The mold is configured by connecting a plurality of divided units in the extending direction of the mold. The units are sequentially fed from the molten metal holding part side, and the unit is pulled together with the ingot. The continuous casting apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein the continuous casting apparatus is pulled out. 請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の連続鋳造装置を用いて、一方向凝固された鋳塊を、水平方向一方側に向かうにしたがい漸次下方に向かうように水平面に対して傾斜する方向に引き抜くことを特徴とする連続鋳造方法。   Using the continuous casting apparatus according to any one of claims 1 to 8, the unidirectionally solidified ingot is inclined with respect to a horizontal plane so as to gradually go downward as it goes to one side in the horizontal direction. A continuous casting method, wherein the continuous casting method is drawn out in a direction to perform. 請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の連続鋳造装置によって製出され、結晶の成長方向が、鋳塊の厚さ方向に対して角度θで交差するように構成されており、該角度θが、0°<θ≦20°の範囲内に設定されていることを特徴とする鋳塊。   Produced by the continuous casting apparatus according to any one of claims 1 to 8, wherein the crystal growth direction intersects with the thickness direction of the ingot at an angle θ, The ingot is characterized in that the angle θ is set within a range of 0 ° <θ ≦ 20 °.
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