JP2009135283A - Electrostatic discharge detecting element and electrostatic discharge detecting method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子機器の製造工程において、静電気放電による絶縁破壊が発生した旨を検出するための静電気放電検出素子、及び、該検出素子を用いて好ましく行われる静電気放電検出方法に関する。 The present invention relates to an electrostatic discharge detection element for detecting that dielectric breakdown due to electrostatic discharge has occurred in a manufacturing process of an electronic device, and an electrostatic discharge detection method preferably performed using the detection element.
ICチップ(Integrated Circuit;集積回路)等の半導体デバイス(電子デバイス)は、一般に静電気に対して敏感である。このため、該ICチップをプリント基板(プリント配線板)上に実装してプリント回路板(電子回路板)を作成し、さらに該プリント回路板により自動車用機器、通信機器等の各種の電子機器を製造する製造工程においては、所謂静電気放電(ESD;Electro-Static Discharge)により、該ICチップの金属配線パターン若しくはP型、N型拡散層等の抵抗体間で絶縁破壊を生じ、得られる電子機器に不良品を発生させることがある(例えば、特許文献1参照)。 A semiconductor device (electronic device) such as an IC chip (Integrated Circuit) is generally sensitive to static electricity. For this reason, the IC chip is mounted on a printed circuit board (printed wiring board) to produce a printed circuit board (electronic circuit board), and various electronic devices such as automobile equipment and communication equipment are produced using the printed circuit board. In the manufacturing process to be manufactured, the so-called electrostatic discharge (ESD) causes dielectric breakdown between the metal wiring pattern of the IC chip or resistors such as P-type and N-type diffusion layers, and the resulting electronic device Defective products may be generated (see, for example, Patent Document 1).
このような静電気放電による絶縁破壊を防止するために、ICチップにおいては静電気保護回路が当該ICチップ内部の電源部や入出力部に設けられている場合がある(例えば、特許文献2参照)。 In order to prevent such dielectric breakdown due to electrostatic discharge, in an IC chip, an electrostatic protection circuit may be provided in a power supply unit or an input / output unit inside the IC chip (see, for example, Patent Document 2).
しかしながら、この保護回路も万全ではなく、電気特性への影響や保護回路の寸法的制限、さらにはICチップ毎に異なる静電気耐量(静電気放電による絶縁破壊耐力)に対応した保護回路の選定の困難性が障害となっている。 However, this protection circuit is not perfect, and it is difficult to select a protection circuit that can affect the electrical characteristics, limit the dimensions of the protection circuit, and respond to different electrostatic immunity (dielectric breakdown strength due to electrostatic discharge) for each IC chip. Is an obstacle.
また、上記した電子機器の製造工程は、リフロー処理工程や外観検査・補修工程等の複数の部分工程により構成されており、どの部分工程において静電気放電による絶縁破壊が発生しているかを特定できれば、例えば、当該製造工程に携わる作業者や製造設備の帯電防止・帯電除去等の適切な静電気放電抑制処置を採り得ると考えられる。
しかしながら、現状では、電子機器の製造工程において、例えば、ICチップの帯電量を計測しても、該帯電が絶縁破壊に至るものであるか否かを正確に判断できず、このため、静電気放電によりICチップに絶縁破壊が発生している部分工程の特定は困難である。 However, at present, in the manufacturing process of electronic equipment, for example, even if the charge amount of an IC chip is measured, it cannot be accurately determined whether or not the charge leads to dielectric breakdown. Therefore, it is difficult to specify a partial process in which dielectric breakdown occurs in the IC chip.
本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、基板上に装着された電子デバイスで静電気放電による絶縁破壊が発生した場合に、その旨を高い確度で検出可能な静電気放電検出素子及び静電気放電検出方法を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above problems, and its purpose is to detect with high accuracy when dielectric breakdown due to electrostatic discharge occurs in an electronic device mounted on a substrate. It is an object of the present invention to provide a possible electrostatic discharge detection element and electrostatic discharge detection method.
上記問題点を解決するために、請求項1に記載の発明は、基板上に装着された電子デバイスで静電気放電による絶縁破壊が発生した旨を検出するための静電気放電検出素子であって、前記絶縁破壊が発生し易く、且つ、該絶縁破壊が発生した旨を目視又は機器を用いて確認可能な絶縁破壊部位を故意に設けたこと、を要旨とする。
In order to solve the above problems, the invention according to
同構成によれば、静電気放電検出素子において、静電気放電による絶縁破壊が発生し易く、且つ、該絶縁破壊が発生した旨を目視又は機器を用いて確認可能な絶縁破壊部位を故意に設けている。このため、例えば、電子デバイスを基板上に実装し、電子機器を製造する製造工程において、当該静電気放電検出素子を実装した基板を同製造工程に流して該検出素子の絶縁破壊の状態を目視又は機器を用いて観測することで、当該電子デバイスで静電気放電による絶縁破壊が発生した場合に、その旨を高い確度で検出できる。 According to this configuration, the electrostatic discharge detection element is intentionally provided with a dielectric breakdown site that is likely to cause dielectric breakdown due to electrostatic discharge and that can be confirmed visually or by using a device. . For this reason, for example, in a manufacturing process in which an electronic device is mounted on a substrate and an electronic apparatus is manufactured, the substrate on which the electrostatic discharge detection element is mounted is flowed through the manufacturing process to visually check the state of dielectric breakdown of the detection element. By observing with an apparatus, when a dielectric breakdown occurs due to electrostatic discharge in the electronic device, it can be detected with high accuracy.
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の静電気放電検出素子において、前記絶縁破壊部位が、当該検出素子に設けた配線パターン若しくは抵抗体間を所定のギャップ幅で離隔した部位、又は、当該検出素子に設けた導電体又は半導体間を所定厚さの絶縁膜で絶縁した部位に設定され、当該配線パターン若しくは抵抗体間、又は導電体間が導通したことを目視又は機器を用いて観測することで前記絶縁破壊が発生した旨を確認可能とされていること、を要旨とする。 According to a second aspect of the present invention, in the electrostatic discharge detection element according to the first aspect, the dielectric breakdown part is a part where a wiring pattern or a resistor provided in the detection element is separated by a predetermined gap width, or The conductor or the semiconductor provided in the detection element is set at a site insulated with an insulating film having a predetermined thickness, and the wiring pattern or the resistor or the conductor is electrically connected with the eyes or using an instrument. The gist is that it is possible to confirm that the dielectric breakdown has occurred by observing.
同構成によれば、静電気放電による絶縁破壊が発生し易く、且つ、該絶縁破壊が発生した旨を目視又は機器を用いて確認可能な絶縁破壊部位が、当該検出素子に設けた配線パターン若しくは抵抗体間を所定のギャップ幅で離隔した部位、又は、当該検出素子に設けた導電体又は半導体間を所定厚さの絶縁膜で絶縁した部位に設定されている。そして、目視又は機器を用いて観測することで当該配線パターン若しくは抵抗体間、又は導電体間に絶縁破壊が発生したことを確認可能とされている。このため、例えば、電子機器を製造する製造工程において、電子デバイスで静電気放電による絶縁破壊が発生した場合に、その旨を実用的且つ合理的な手段によって高い確度で検出できる。さらに、当該検出素子において、配線パターン若しくは抵抗体間に設定した所定のギャップ幅、又は、導電体又は半導体間の絶縁膜に設定した所定の厚さで静電気放電による絶縁破壊が生じた場合は、同程度の絶縁破壊耐力を有する電子デバイスでも絶縁破壊が生じうることが高い確度で推定できるようになる。このため、当該絶縁破壊耐力を超えるように、例えば、配線パターン若しくは抵抗体間のギャップ幅を長くする、又は、導電体間の絶縁膜の厚さを厚くするように電子デバイスを設計すれば、同製造工程で得られる電子機器から不良品を発生させないことが高い確度で期待(保証)できるようになる。 According to this configuration, a dielectric breakdown portion that is likely to cause breakdown due to electrostatic discharge and that can be confirmed visually or by using a device is a wiring pattern or resistor provided in the detection element. It is set to a part where the bodies are separated by a predetermined gap width, or a part where a conductor or semiconductor provided in the detection element is insulated by an insulating film having a predetermined thickness. And it is possible to confirm that dielectric breakdown has occurred between the wiring pattern or the resistors or between the conductors by visual observation or observation with an instrument. For this reason, for example, when a dielectric breakdown due to electrostatic discharge occurs in an electronic device in a manufacturing process for manufacturing an electronic device, this fact can be detected with high accuracy by a practical and rational means. Furthermore, in the detection element, when a dielectric breakdown occurs due to electrostatic discharge at a predetermined gap width set between the wiring pattern or the resistor or a predetermined thickness set in the insulating film between the conductor or the semiconductor, It becomes possible to estimate with high accuracy that dielectric breakdown can occur even in an electronic device having the same breakdown strength. For this reason, if the electronic device is designed so as to exceed the dielectric breakdown strength, for example, the gap width between the wiring patterns or resistors is increased, or the thickness of the insulating film between the conductors is increased, It is expected (guaranteeed) with high accuracy that no defective product is generated from the electronic device obtained in the manufacturing process.
請求項3に記載の発明は、電子デバイスを基板上に実装してなる電子回路板であって、請求項1又は請求項2に記載の静電気放電検出素子が前記電子デバイスと共に同一の基板上に実装されていること、を要旨とする。
Invention of Claim 3 is an electronic circuit board formed by mounting an electronic device on a board | substrate, Comprising: The electrostatic discharge detection element of
同構成によれば、請求項1又は請求項2に記載の静電気放電検出素子が電子デバイスと共に同一の基板上に実装されて電子回路板を構成しているので、該電子回路板を市場に流通させた場合において、当該検出素子に絶縁破壊が発生したときに、その電子回路板の不良が静電気放電に由来する旨を高い確度で特定しうるとともに、当該不良品を流通ルートから選択的に排除することが可能となる。
According to this configuration, since the electrostatic discharge detecting element according to
請求項4に記載の発明は、所定の機能を発揮する電子デバイスと、外部との信号のやりとりを行う入出力装置とを備えた電子機器であって、請求項3に記載の電子回路板を搭載したこと、を要旨とする。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an electronic apparatus comprising an electronic device that exhibits a predetermined function and an input / output device that exchanges signals with the outside, wherein the electronic circuit board according to the third aspect is provided. The gist is that it is installed.
同構成によれば、電子デバイス及び入出力装置を備えた電子機器において、請求項3に記載の電子回路板が搭載されているので、製品としての電子機器の流通ルートで何らかの原因で不良品が発生した場合、その原因が静電気放電によるものか否かが高い確度で特定できる。即ち、同電子機器において、運搬時の衝撃による故障を特定するべく搭載される衝撃センサや、水濡れによる故障を特定するべく搭載される水検出センサと同様な機能を発揮させることができる。 According to the configuration, in the electronic device including the electronic device and the input / output device, the electronic circuit board according to claim 3 is mounted, so that a defective product is caused for some reason in the distribution route of the electronic device as a product. If it occurs, it can be identified with high accuracy whether the cause is due to electrostatic discharge or not. That is, the electronic device can exhibit the same function as an impact sensor mounted to specify a failure due to an impact during transportation or a water detection sensor mounted to specify a failure due to water wetting.
請求項5に記載の発明は、電子デバイスを基板上に実装し、電子機器を製造する製造工程において当該電子デバイスで静電気放電による絶縁破壊が発生した旨を検出する静電気放電検出方法であって、前記製造工程が、複数の部分工程からなり、前記絶縁破壊が発生し易く、且つ、該絶縁破壊が発生した旨を目視又は機器を用いて確認可能な絶縁破壊部位を故意に設けた静電気放電検出素子を基板上に実装し、該静電気放電検出素子を実装した基板を前記製造工程に流して前記絶縁破壊が発生した部分工程を特定すること、を要旨とする。 The invention according to claim 5 is an electrostatic discharge detection method for detecting that dielectric breakdown due to electrostatic discharge has occurred in the electronic device in a manufacturing process of mounting the electronic device on a substrate and manufacturing the electronic device, The electrostatic discharge detection in which the manufacturing process is composed of a plurality of partial processes, and the dielectric breakdown is likely to occur, and the dielectric breakdown site is intentionally provided to visually confirm that the dielectric breakdown has occurred. The gist is to mount an element on a substrate, and flow the substrate on which the electrostatic discharge detecting element is mounted to the manufacturing process to identify a partial process in which the dielectric breakdown has occurred.
同構成によれば、電子デバイスを基板上に実装し、電子機器を製造する製造工程において、当該電子デバイスで静電気放電による絶縁破壊が発生した場合に、その旨を高い確度で検出できる。これにより、該製造工程において、電子デバイスに絶縁破壊が発生した部分工程を高い確度で特定でき、さらに当該部分工程において、静電気放電の発生を抑制する処置を採ることができるようになる。また、同製造工程において静電気放電検出素子に絶縁破壊が発生した場合、製品として規格合格品であっても、同製造工程で得られた電子機器が静電気放電によってある程度のダメージを受けていると見做し、出荷停止等の措置を採ることが可能となる。 According to this configuration, when dielectric breakdown due to electrostatic discharge occurs in the electronic device in a manufacturing process in which the electronic device is mounted on the substrate and the electronic device is manufactured, this can be detected with high accuracy. Thereby, in the manufacturing process, the partial process in which the dielectric breakdown has occurred in the electronic device can be specified with high accuracy, and further, in the partial process, a measure for suppressing the occurrence of electrostatic discharge can be taken. In addition, if dielectric breakdown occurs in the electrostatic discharge detection element during the same manufacturing process, even if the product is a standard-compliant product, the electronic device obtained in the same manufacturing process is considered to have been damaged to some extent by electrostatic discharge. Therefore, it is possible to take measures such as shipment suspension.
請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の静電気放電検出方法において、前記静電気放電検出素子は、前記絶縁破壊部位の絶縁破壊耐力範囲に基づいて階層分類され、当該階層分類された複数種の静電気放電検出素子を基板上に実装し、前記製造工程に流すこと、を要旨とする。 According to a sixth aspect of the present invention, in the electrostatic discharge detection method according to the fifth aspect, the electrostatic discharge detection element is classified into layers based on a dielectric breakdown strength range of the dielectric breakdown site, and the plurality of hierarchically classified The gist of the invention is to mount a kind of electrostatic discharge detecting element on a substrate and flow it through the manufacturing process.
同構成によれば、絶縁破壊部位の絶縁破壊耐力範囲に基づいて階層分類した複数種の静電気放電検出素子を電子機器の製造工程に流すことで、その部分工程のいずれかにおいて当該検出素子に絶縁破壊が発生したときに、その絶縁破壊の状態を統計的に観測すれば、当該部分工程の静電気による汚染の度合の判断基準とすることができる。これにより、当該各部分工程の汚染の度合いに応じて、静電気放電の発生を抑制する処置を採ることができるようになる。 According to this configuration, a plurality of types of electrostatic discharge detection elements that are hierarchically classified based on the breakdown strength range of the dielectric breakdown site are passed through the manufacturing process of the electronic device, so that the detection element is insulated in any of the partial processes. If the breakdown state is statistically observed when breakdown occurs, it can be used as a criterion for determining the degree of contamination due to static electricity in the partial process. As a result, it is possible to take measures to suppress the occurrence of electrostatic discharge according to the degree of contamination of each partial process.
また、絶縁破壊部位の絶縁破壊耐力範囲に基づいて階層分類した複数種の静電気放電検出素子を電子機器の製造工程に流すことで、その部分工程のいずれかにおいて電子デバイスに絶縁破壊が発生したときに、各検出素子の絶縁破壊の状態を統計的に観測すれば、当該電子デバイスの絶縁破壊耐力の判断基準とすることもできる(電子デバイスの絶縁破壊耐力のレベルが定量化できる)。 In addition, when multiple types of electrostatic discharge detection elements classified hierarchically based on the dielectric breakdown strength range of the dielectric breakdown site are passed through the manufacturing process of electronic equipment, dielectric breakdown occurs in the electronic device in any of the partial processes Furthermore, if the dielectric breakdown state of each detection element is statistically observed, it can be used as a criterion for determining the dielectric strength of the electronic device (the level of dielectric strength of the electronic device can be quantified).
さらに、一の部分工程において、所定の絶縁破壊耐力の静電気放電検出素子が絶縁破壊を生じたときに、当該絶縁破壊耐力を超える(配線パターン若しくは抵抗体間のギャップ幅を長くする、又は、導電体間の絶縁膜の厚さを厚くする)ように電子デバイスを設計すれば、同製造工程で得られる電子機器から不良品を発生させないことが高い確度で期待(保証)できるようにもなる。 Further, in one partial process, when an electrostatic discharge detecting element having a predetermined breakdown strength has a dielectric breakdown, the dielectric breakdown strength is exceeded (by increasing the gap width between wiring patterns or resistors, or by conducting If the electronic device is designed so as to increase the thickness of the insulating film between the bodies, it can be expected (guaranteeed) with high accuracy that no defective product will be generated from the electronic device obtained in the manufacturing process.
本発明によれば、基板上に実装された電子デバイスで静電気放電による絶縁破壊が発生した場合に、その旨を高い確度で検出可能な静電気放電検出素子及び静電気放電検出方法が提供できるようになる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when the dielectric breakdown by electrostatic discharge generate | occur | produces in the electronic device mounted on the board | substrate, it becomes possible to provide the electrostatic discharge detection element and the electrostatic discharge detection method which can detect that to high accuracy. .
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。以下に示す各実施形態にかかる静電気放電検出素子は、電子デバイスとしてのICチップをプリント基板(プリント配線板)上に実装し、エンジンの制御ユニット等の自動車用機器(電子機器)を製造する製造工程において、当該ICチップの金属配線パターン又はP型、N型拡散層等の抵抗体間で静電気放電による絶縁破壊が発生した旨を検出するためのものである。 DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings. The electrostatic discharge detecting element according to each embodiment shown below is manufactured by mounting an IC chip as an electronic device on a printed circuit board (printed wiring board) to manufacture an automotive device (electronic device) such as an engine control unit. This is to detect that dielectric breakdown due to electrostatic discharge has occurred between the metal wiring pattern of the IC chip or resistors such as P-type and N-type diffusion layers in the process.
<第1実施形態>
本実施形態の静電気放電検出素子1は、Al(アルミニウム)金属配線パターンにおいて静電気放電が起こることが想定されるICチップをプリント基板上に実装し、エンジンの制御ユニットを製造する製造工程に適用されるものである。ここで、このICチップのAl金属配線パターンは、折り返し構造とされている。
<First Embodiment>
The electrostatic
図1(a)を参照して、この静電気放電検出素子1では、前記ICチップのAl金属配線パターンにおいて静電気放電による絶縁破壊が発生する状況で同様の不具合が起こるように、その回路基板2上に折り返し構造のAl金属配線パターン1aが形成されているとともに、当該Al金属配線パターン1aにおいて、静電気放電による絶縁破壊が発生し易く、且つ、該絶縁破壊が発生した旨を機器を用いて確認可能な絶縁破壊部位を故意に設けている。
Referring to FIG. 1 (a), in this electrostatic
具体的には、前記絶縁破壊部位は、図1(b)を参照して、前記Al金属配線パターン1a間を所定のギャップ幅d1[nm]で離隔した部位に設けている。また、本実施形態で用いる8個(複数個)の静電気放電検出素子1,…では、全て前記ギャップ幅d1[nm]が一定値に設定されている。ここで、ギャップ幅d1[nm]は、前記ICチップの絶縁破壊耐力に合致するように、当該ICチップのパターンルールに従って決定される。
Specifically, referring to FIG. 1B, the dielectric breakdown part is provided in a part where the Al metal wiring patterns 1a are separated by a predetermined gap width d1 [nm]. In the eight (plurality) of electrostatic
そして、前記静電気放電検出素子1,…は、例えば、プリント基板上に装着されたICチップに静電気放電による絶縁破壊が発生した場合に、その旨を検出等すべく、前記ICチップと同様にそれぞれ1個ずつ各プリント基板上に実装される。そして、こうして得られた8枚のプリント回路板(電子回路板)が、以下の8つ(複数)の部分工程S1〜S8からなるエンジンの制御ユニットの製造工程にその開始時点から流され、各部分工程S1〜S8が終了する都度、1枚ずつサンプリングされ、各静電気放電検出素子1の絶縁破壊部位に静電気放電による絶縁破壊が発生したか否かが機器を用いて確認される。
The electrostatic
図2に示すように、まず、ICチップ装着工程S1において、プリント基板上の半田を付着した配線部分にICチップを装着する。そして、ICチップリフロー処理工程S2において、リフロー処理により半田を溶解させてICチップのプリント基板への半田付けを完了し、装着したICチップをプリント基板に搭載する。 As shown in FIG. 2, first, in an IC chip mounting step S1, an IC chip is mounted on a wiring portion to which solder is attached on a printed board. In the IC chip reflow processing step S2, solder is dissolved by reflow processing to complete the soldering of the IC chip to the printed board, and the mounted IC chip is mounted on the printed board.
ICチップ搭載後、外観検査・補修工程S3において、主として前記プリント基板上の半田付けの不具合箇所の発見と当該箇所の補修を行う。その後、電装部品装着工程S4において、当該プリント基板上の半田を付着した配線部分にコネクタやリレー回路等の電装部品を装着する。続いて、電装部品リフロー処理工程S5において、リフロー処理により半田を溶解させて電装部品の半田付けを完了し、装着した電装部品をプリント基板に搭載する。 After mounting the IC chip, in the appearance inspection / repair step S3, the soldering defect part on the printed circuit board is mainly found and the part is repaired. Thereafter, in the electrical component mounting step S4, electrical components such as a connector and a relay circuit are mounted on the wiring portion to which the solder on the printed board is attached. Subsequently, in the electrical component reflow processing step S5, the solder is dissolved by reflow processing to complete the soldering of the electrical component, and the mounted electrical component is mounted on the printed circuit board.
電装部品搭載後、外観検査・補修工程S6において、主としてプリント基板上の半田付けの不具合箇所の発見と当該箇所の補修を行う。その後、プリント回路板の誤品・欠品検査工程S7において、プリント基板にICチップ・電装部品の搭載を完了してなるプリント回路板において、当該チップ・部品の誤品や欠品の検査を行う。 After mounting the electrical components, in the appearance inspection / repair step S6, the soldering defect part on the printed circuit board is mainly found and the part is repaired. Thereafter, in the printed circuit board error / missing part inspection step S7, the printed circuit board obtained by completing the mounting of the IC chip / electrical component on the printed circuit board is inspected for an incorrect or missing part of the chip / part. .
そして、前記プリント回路板へケースやカバーを取り付けてエンジンの制御ユニットを完成させ、電子機器機能検査工程S8において、専用の検査装置を用い、当該制御ユニットの機能検査を行う。 Then, a case or cover is attached to the printed circuit board to complete the engine control unit, and in the electronic device function inspection step S8, a function inspection of the control unit is performed using a dedicated inspection device.
上記各部分工程S1〜S8が終了する都度、本実施形態の静電気放電検出素子1を実装したプリント回路板を1枚ずつサンプリングしてゆき、当該各検出素子1の絶縁破壊部位に静電気放電による絶縁破壊が発生したか否かを機器を用いて観測する。
When each of the partial processes S1 to S8 is finished, the printed circuit board on which the electrostatic
具体的には、図3(a)に示すように、前記製造工程からサンプリングしたオフライン状態で、前記静電気放電検出素子1を実装したプリント基板20(プリント回路板)を絶縁抵抗試験装置の検査ステージ6上に載置し、該検出素子1の絶縁破壊部位にプローブ3及びケーブル4を介して絶縁抵抗試験器5(機器)を接続し、当該絶縁破壊部位の絶縁破壊状態を観測する。
Specifically, as shown in FIG. 3 (a), a printed circuit board 20 (printed circuit board) on which the electrostatic
詳細には、図3(b)に示すように、プリント基板20上の回路配線20aにリード線1bを介して実装された静電気放電検出素子1のAl金属配線パターン1a,1a間のギャップ幅d1[nm]で離隔してなる絶縁破壊部位(図1(b)参照)に、プローブ3を接続し、さらにケーブル4を経由して絶縁抵抗試験器5に接続し、当該絶縁破壊部位の絶縁抵抗値[MΩ]を測定する。
Specifically, as shown in FIG. 3B, the gap width d1 between the Al metal wiring patterns 1a and 1a of the electrostatic
その結果、当該部分工程S1〜S8のいずれかの工程の終了後、例えば、電装部品装着工程S4及びプリント回路板の誤品・欠品検査工程S7の終了後に前記プリント基板20と共にサンプリングした静電気放電検出素子1の絶縁抵抗値が所定値(例えば、10[MΩ])よりも低下していた場合には、当該部分工程S4及びS7において、静電気放電検出素子1に静電気放電により絶縁破壊が発生していた旨が確認される。
As a result, the electrostatic discharge sampled together with the printed
本実施形態の静電気放電検出素子1又は静電気放電検出方法によれば、以下のような作用・効果を得ることができる。
(1)静電気放電による絶縁破壊が発生し易く、且つ、該絶縁破壊が発生した旨を絶縁抵抗試験器5を用いて確認可能な絶縁破壊部位が、静電気放電検出素子1において、Al金属配線パターン1aを、ICチップの絶縁破壊耐力に合致する所定のギャップ幅d1[nm]で離隔した部位に設定されている。そして、絶縁抵抗試験器5を用いて観測することで当該Al金属配線パターン1a間に絶縁破壊が発生したことを確認可能とされている。このため、エンジンの制御ユニットを製造する製造工程において、当該ICチップで静電気放電による絶縁破壊が発生した場合には、その旨を実用的且つ合理的な手段によって高い確度で検出できる。
According to the electrostatic
(1) In the electrostatic
(2)静電気放電検出素子1において、Al金属配線パターン1a間に設定した所定のギャップ幅d1[nm]で静電気放電による絶縁破壊が生じた場合は、同程度の絶縁破壊耐力を有するICチップでも絶縁破壊が生じうることが高い確度で推定できるようになる。このため、当該絶縁破壊耐力を超えるようにAl金属配線パターン1a間のギャップ幅をd1[nm]よりも適宜長くするようにICチップを設計すれば、同製造工程で得られるエンジンの制御ユニットから不良品を発生させないことが高い確度で期待(保証)できるようになる。
(2) In the electrostatic
(3)静電気放電検出素子1の静電気破壊耐力を故意に低くする(換言すれば、静電気放電により絶縁破壊し易い状態とする)、つまり、Al金属配線パターン1a間のギャップ幅を適宜短くし、これを製造工程に流し、なおかつその状態で絶縁破壊が生じなければ、同程度の静電気破壊耐力を有するICチップでも絶縁破壊が生じないことが高い確度で期待できることになる。この結果、当該エンジンの制御ユニットの製造工程への信頼性が高められるとともに同製造工程を経て製造されたエンジンの制御ユニットの品質への信頼性も向上する。 (3) Deliberately lowering the electrostatic breakdown strength of the electrostatic discharge detection element 1 (in other words, making it easy to break down due to electrostatic discharge), that is, appropriately shortening the gap width between the Al metal wiring patterns 1a, If this is applied to the manufacturing process and dielectric breakdown does not occur in that state, it can be expected with high accuracy that dielectric breakdown will not occur even with an IC chip having the same level of electrostatic breakdown resistance. As a result, the reliability of the engine control unit manufacturing process is improved, and the reliability of the engine control unit manufactured through the manufacturing process is improved.
(4)実際に同製造工程によって製造されたエンジンの制御ユニットに故障が発生した場合に、当該故障が静電気放電に由来することが高い確度で推定できるとともに、該静電気放電が発生した箇所が前記部分工程S4又はS7であることが高い確度で特定できるようになる。これにより、当該部分工程S4又はS7において、同工程に携わる作業者や製造設備の帯電防止・帯電除去等の静電気放電の発生を抑制する処置を採ることができるようになる。 (4) When a failure occurs in the engine control unit actually manufactured by the same manufacturing process, it can be estimated with high accuracy that the failure is caused by electrostatic discharge, and the location where the electrostatic discharge has occurred is It becomes possible to specify the partial process S4 or S7 with high accuracy. Thereby, in the said partial process S4 or S7, the process which suppresses generation | occurrence | production of electrostatic discharges, such as the worker who engages in the process, and antistatic and removal of charge of a production facility, can be taken now.
(5)一方、エンジンの制御ユニットに故障が発生しなかった場合でも、当該部分工程S4及びS7において、ICチップに静電気放電が起こり、絶縁破壊が発生し易い状態であったことが高い確度で推定できるようになる。これにより、同製造工程で得られたエンジンの制御ユニットが製品として規格合格品であっても、静電気放電によってある程度のダメージを受けていると見做し、出荷停止等の措置を採ることが可能となる。 (5) On the other hand, even when no failure has occurred in the engine control unit, in the partial processes S4 and S7, it is highly likely that electrostatic discharge has occurred in the IC chip and dielectric breakdown is likely to occur. Can be estimated. As a result, even if the engine control unit obtained in the same manufacturing process is a product that meets the standards, it can be assumed that it has been damaged to some extent by electrostatic discharge, and measures such as shipment stoppage can be taken. It becomes.
<第2実施形態>
本実施形態の静電気放電検出素子1´は、P型(N型)拡散層からなる抵抗体において静電気放電が起こることが想定されるICチップをプリント基板上に実装し、エンジンの制御ユニットを製造する製造工程に適用されるものである。
Second Embodiment
The electrostatic
図4(a)を参照して、この静電気放電検出素子1´では、前記ICチップの抵抗体において静電気放電による絶縁破壊が発生する状況で同様の不具合が起こるように、その回路基板(N型(P型)シリコン基板)2上にP型(N型)拡散層からなる抵抗体1a´が形成されているとともに、当該抵抗体1a´において、静電気放電による絶縁破壊が発生し易く、且つ、該絶縁破壊が発生した旨を機器を用いて確認可能な絶縁破壊部位を故意に設けている。
Referring to FIG. 4 (a), in this electrostatic discharge detecting element 1 ', the circuit board (N-type) is used so that a similar problem occurs in a situation where dielectric breakdown occurs due to electrostatic discharge in the resistor of the IC chip. A resistor 1a ′ composed of a P-type (N-type) diffusion layer is formed on the (P-type)
詳細には、前記絶縁破壊部位は、図4(b)を参照して、P型(N型)拡散層からなる一対の抵抗体1a´,1a´において、先端が鋭角状とされ、所定のギャップ幅d2[nm]で相対向して離隔する各々の突出部位1t,1tに設けている。ここで、本実施形態で用いる3種(複数種)の静電気放電検出素子1´[1]〜1´[3]は、前記ギャップ幅d2[nm]の範囲、即ち、当該検出素子1´の絶縁破壊部位の絶縁破壊耐力範囲に基づいて階層分類されている。具体的には、前記ICチップの絶縁破壊耐力に近似するように、下表1に示すとおりとされている。
Specifically, referring to FIG. 4 (b), the dielectric breakdown site has a sharp tip at a pair of resistors 1a 'and 1a' made of a P-type (N-type) diffusion layer, The protrusions 1t and 1t are provided to be opposed to each other with a gap width d2 [nm]. Here, the three types (plural types) of electrostatic
その結果、当該部分工程S1〜S8のいずれかの工程の終了後、例えば、電装部品リフロー処理工程S5の終了後に前記プリント基板20と共にサンプリングした静電気放電検出素子1´[1]及び1´[2]の絶縁抵抗値が所定値(例えば、10[MΩ])よりも低下していた場合には、当該部分工程S5において、ギャップ幅d2[nm](=100〜1000[nm])に相当する絶縁破壊耐力以下の静電気放電検出素子1´(即ち、素子[1]及び[2])に静電気放電により絶縁破壊が発生していた旨が確認される。
As a result, the electrostatic
本実施形態の静電気放電検出素子1´又は静電気放電検出方法によれば、第1実施形態で得られる作用・効果に加えて、さらに以下のような作用・効果を得ることができる。
(6)絶縁破壊部位の絶縁破壊耐力範囲に基づいて階層分類した3種の静電気放電検出素子1´,…を用いる統計的観測により、当該検出素子1´において静電気放電による絶縁破壊が生じた部分工程S5の静電気による汚染の度合の判断基準とすることができる。これにより、当該部分工程S5の汚染の度合いに応じて、静電気放電の発生を抑制する処置を採ることができるようになる。
According to the electrostatic
(6) A portion where dielectric breakdown due to electrostatic discharge has occurred in the
(7)絶縁破壊部位の絶縁破壊耐力範囲に基づいて階層分類した3種の静電気放電検出素子1´[1]〜1´[3]をエンジンの制御ユニットの製造工程に流すことで、その部分工程のいずれかにおいてICチップに絶縁破壊が発生したときに、各検出素子1´の絶縁破壊の状態を統計的に観測すれば、当該ICチップの絶縁破壊耐力の判断基準とすることもできる(ICチップの絶縁破壊耐力のレベルが定量化できる)。
(7) The three types of electrostatic
(8)さらに、本実施形態のように一の部分工程S5において、所定の絶縁破壊耐力の静電気放電検出素子1´[1]及び1´[2]に絶縁破壊が生じたときに、当該絶縁破壊耐力を超えるように、例えば、抵抗体間1a´,1a´のギャップ幅d2[nm]を1000[nm]よりも適宜長くした静電気放電検出素子1´と同等の絶縁破壊耐力を有するICチップを設計すれば、同製造工程で得られるエンジンの制御ユニットから不良品を発生させないことが高い確度で期待(保証)できるようにもなる。
(8) Further, when a dielectric breakdown occurs in the electrostatic
<第3実施形態>
本実施形態の静電気放電検出素子10は、導電体としてのMR素子(強磁性体磁気抵抗素子)において静電気放電が起こることが想定されるICチップをプリント基板上に実装し、自動車用スイッチの制御ユニットを製造する製造工程に適用されるものである。
<Third Embodiment>
In the electrostatic
図5(a)を参照して、この静電気放電検出素子10では、前記ICチップのMR素子において静電気放電による絶縁破壊が発生する状況で同様の不具合が起こるように、そのシリコン基板(半導体)11上にシリコン酸化膜(SiO2)12を介してMR素子10a,10aが形成されているとともに、当該MR素子10a,10aにおいて、静電気放電による絶縁破壊が発生し易く、且つ、該絶縁破壊が発生した旨を機器を用いて確認可能な絶縁破壊部位を故意に設けている。尚、図5(a)において、前記シリコン酸化膜(SiO2)12及びMR素子10a,10aは、層間絶縁膜(SiO)13及びパシベーション膜(SiN)14により更に被覆されている。
Referring to FIG. 5 (a), in this electrostatic
具体的には、前記絶縁破壊部位は、図5(b)を参照して、前記MR素子10a,10aとシリコン基板11の間を所定の均一な膜厚d3[nm]のシリコン酸化膜12で絶縁した部位に設けている。また、本実施形態で用いる8個(複数個)の静電気放電検出素子10,…では、全て前記膜厚d3[nm]が一定値に設定されている。ここで、膜厚d3[nm]は、前記ICチップの絶縁破壊耐力に合致するように、例えば、500[nm]以上1000[nm]以下の範囲とされていることがよい。
Specifically, referring to FIG. 5B, the dielectric breakdown site is a
そして、前記静電気放電検出素子10,…は、例えば、プリント基板上に装着されたICチップに静電気放電による絶縁破壊が発生した場合に、その旨を検出等すべく、前記ICチップと同様にそれぞれ1個ずつ各プリント基板上に実装される。そして、こうして得られた8枚のプリント回路板が、図3に示す製造工程と同様に部分工程S1〜S8からなる自動車用スイッチの制御ユニットの製造工程にその開始時点から流され、各部分工程S1〜S8が終了する都度、1枚ずつサンプリングされ、各静電気放電検出素子10の絶縁破壊部位に静電気放電による絶縁破壊が発生したか否かが第1及び第2実施形態と同様に絶縁抵抗試験器5を用いて確認される。
The electrostatic
その結果、当該部分工程S1〜S8のいずれかの工程の終了後、例えば、電装部品搭載後の外観検査・補修工程S6の終了後に前記プリント基板20と共にサンプリングした静電気放電検出素子10の絶縁抵抗値が所定値(例えば、10[MΩ])よりも低下していた場合には、当該部分工程S6において、当該静電気放電検出素子10に静電気放電により絶縁破壊が発生していた旨が確認される。
As a result, the insulation resistance value of the electrostatic
本実施形態の静電気放電検出素子10又は静電気放電検出方法によれば、以下のような作用・効果を得ることができる。
(9)静電気放電による絶縁破壊が発生し易く、且つ、該絶縁破壊が発生した旨を絶縁抵抗試験器5を用いて確認可能な絶縁破壊部位が、静電気放電検出素子10において、MR素子10a,10aとシリコン基板11の間を、ICチップの絶縁破壊耐力に合致する所定の均一な膜厚d3[nm]のシリコン酸化膜12で絶縁した部位に設定されている。そして、絶縁抵抗試験器5を用いて観測することで当該シリコン酸化膜12に絶縁破壊が発生したことを確認可能とされている。このため、自動車用スイッチの制御ユニットを製造する製造工程において、ICチップで静電気放電による絶縁破壊が発生した場合には、その旨を実用的且つ合理的な手段によって高い確度で検出できる。
According to the electrostatic
(9) Dielectric breakdown due to electrostatic discharge is likely to occur, and the dielectric breakdown site where the dielectric breakdown can be confirmed using the insulation resistance tester 5 is the
(10)静電気放電検出素子10において、MR素子10aとシリコン基板11の間のシリコン酸化膜12に設定した所定の膜厚d3[nm]で静電気放電による絶縁破壊が生じた場合は、同程度の絶縁破壊耐力を有するICチップでも絶縁破壊が生じうることが高い確度で推定できるようになる。このため、当該絶縁破壊耐力を超えるようにシリコン酸化膜12の膜厚をd3[nm]よりも適宜厚くするようにICチップを設計すれば、同製造工程で得られる自動車用スイッチの制御ユニットから不良品を発生させないことが高い確度で期待(保証)できるようになる。
(10) In the electrostatic
(11)静電気放電検出素子10の静電気破壊耐力を故意に低くする、つまり、MR素子10a,10aとシリコン基板11の間のシリコン酸化膜12の膜厚を適宜薄くし、これを製造工程に流し、なおかつその状態で絶縁破壊が生じなければ、同程度の静電気破壊耐力を有するICチップでも絶縁破壊が生じないことが高い確度で期待できることになる。この結果、当該自動車用スイッチの制御ユニットの製造工程への信頼性が高められるとともに同製造工程を経て製造された自動車用スイッチの制御ユニットの品質への信頼性も向上する。
(11) The electrostatic breakdown resistance of the electrostatic
尚、上記実施形態は以下のように変形してもよい。
・上記各実施形態では、絶縁破壊部位において静電気放電により絶縁破壊が生じた旨を機器としての絶縁抵抗試験器5で確認可能とした。しかし、本発明の技術的思想はこれに限られず、目視による確認手段、例えば、静電気放電検出素子1(1´,10)の絶縁破壊部位、即ち、Al金属配線パターン1a(抵抗体1a´)のギャップ間(MR素子10aとシリコン基板11の間)において、例えばLED(Light Emitting Diode:発光ダイオード)を接続し、前記各電子機器の製造工程において、ICチップを実装するプリント基板や、ICチップを実装したプリント回路板と共に流したインライン状態で、静電気放電により絶縁破壊が発生したときに起こる発光を直接肉眼で観測してもよい。
The above embodiment may be modified as follows.
In each of the above embodiments, it can be confirmed by the insulation resistance tester 5 as a device that dielectric breakdown has occurred due to electrostatic discharge at the dielectric breakdown site. However, the technical idea of the present invention is not limited to this, and a visual confirmation means, for example, a dielectric breakdown part of the electrostatic discharge detection element 1 (1 ′, 10), that is, an Al metal wiring pattern 1a (resistor 1a ′). For example, an LED (Light Emitting Diode) is connected between the gaps (between the
・上記各実施形態では、絶縁破壊部位において静電気放電により絶縁破壊が生じた旨を機器としての絶縁抵抗試験器5で確認可能とした。しかしこれに限られず、機器による確認手段としては、所定のタイミングで製造工程から静電気放電検出素子1(1´,10)をサンプリングしてオフライン状態で顕微鏡を用いて拡大して観察するようにしてもよい。 In each of the above embodiments, it can be confirmed by the insulation resistance tester 5 as a device that dielectric breakdown has occurred due to electrostatic discharge at the dielectric breakdown site. However, the present invention is not limited to this, and the confirmation means by the device is to sample the electrostatic discharge detection element 1 (1 ′, 10) from the manufacturing process at a predetermined timing, and observe it in an off-line state using a microscope. Also good.
・上記各実施形態では、エンジンの制御ユニット等の電子機器の製造工程の部分工程S1〜S8が終了する都度、静電気放電検出素子1,1´,10をサンプリングし、その絶縁破壊部位の絶縁抵抗値[MΩ]を測定して当該検出素子1,1´,10の絶縁破壊の状態を観測し、その結果でICチップに絶縁破壊が現に発生した部分工程又はICチップに絶縁破壊が発生する可能性の高い部分工程を特定するようにした。しかしこれに限られず、前記部分工程S1〜S8が終了する都度、絶縁破壊部位の絶縁抵抗値[MΩ]を測定し、その結果、絶縁破壊の発生が確認されなければ、当該部分工程の次の部分工程に前記プリント基板又はプリント回路板を流し、当該プリント基板等を用いた電子機器の製造を継続するようにすることもできる。即ち、静電気放電検出素子1,1´,10は、工程ラインチェック用として使用することが可能である。
In each of the above embodiments, the electrostatic
・上記各実施形態では、静電気放電検出素子1,1´,10を実装したプリント基板又はプリント回路板を電子機器の製造工程に流し、プリント基板20に実装したICチップに静電気放電による絶縁破壊が発生した場合に、当該製造工程を構成する部分工程のいずれで当該絶縁破壊が発生したかを特定する目的等に用いた。しかしこれに限られず、静電気放電検出素子1,1´,10は、製品としてのプリント回路板や電子機器において、ICチップ等の電子デバイスと共に同一のプリント基板上に実装して市場に流通させることも可能である。ここで、電子機器とは、所定の機能を発揮するICチップと、外部との信号のやりとりを行う入出力装置とを備えたものをいい、例えば、上記実施形態で例示した自動車用機器や、各種の汎用通信機器が挙げられる。これにより、当該プリント回路板や電子機器を市場に流通させた場合において、当該検出素子1,1´,10に絶縁破壊が発生したときに、そのプリント回路板や電子機器の不良が静電気放電に由来する旨を高い確度で特定しうるとともに、当該不良品を流通ルートから選択的に排除することが可能となる。また、製品としてのプリント回路板や電子機器の流通ルートで何らかの原因で不良品が発生した場合、その原因が静電気放電によるものか否かが高い確度で特定できる。即ち、同プリント基板や電子機器において、運搬時の衝撃による故障を特定するべく搭載される衝撃センサや、水濡れによる故障を特定するべく搭載される水検出センサと同様な機能を発揮させることができる。
In each of the above embodiments, the printed circuit board or the printed circuit board on which the electrostatic
・上記第1実施形態では、静電気放電検出素子1に折り返し構造のAl金属配線パターン1aを使用したが、このようなAl金属配線パターン1aに代えて、第2実施形態で用いたようなP型(N型)拡散層からなる抵抗体1a´を折り返し構造として使用してもよい。
In the first embodiment, an Al metal wiring pattern 1a having a folded structure is used for the electrostatic
・上記第2実施形態では、静電気放電検出素子1に、P型(N型)拡散層からなり、所定のギャップ幅d2[nm]となるように近接して相対向する突出部位1t,1tを有する抵抗体1a´を使用したが、このようなP型(N型)拡散層からなる抵抗体1a´に代えて、第1実施形態で用いたようなAl金属配線パターン1aを同様の突出部位を有するように使用してもよい。
In the second embodiment, the electrostatic
・上記第2実施形態では、P型(N型)拡散層からなる抵抗体1a´において静電気放電が起こることが想定されるICチップを用いた製造工程を対象としたが、これに限られず、Ni−Co、Ni−Fe、多結晶シリコンからなる抵抗体において静電気放電が起こることが想定されるICチップを用いた製造工程を対象とすることもできる。 In the second embodiment, the manufacturing process using an IC chip in which electrostatic discharge is assumed to occur in the resistor 1a ′ composed of a P-type (N-type) diffusion layer is targeted, but the present invention is not limited thereto. A manufacturing process using an IC chip in which electrostatic discharge is assumed to occur in a resistor made of Ni—Co, Ni—Fe, or polycrystalline silicon can also be targeted.
・上記第2実施形態では、絶縁破壊部位の絶縁破壊耐力範囲に基づいて階層分類した複数種の静電気放電検出素子1´,…を用い、これらを電子機器の製造工程に流し、統計的観測により、当該検出素子1´において静電気放電による絶縁破壊が生じた部分工程の静電気による汚染の度合の判断基準とした。しかしこれに限られず、第1実施形態で用いた静電気放電検出素子1や第3実施形態で用いた静電気放電検出素子10をそれらの絶縁破壊部位の絶縁破壊耐力範囲に基づいて階層分類した上で、そのような統計的観測により部分工程の静電気による汚染の度合の判断基準としてもよい。
In the second embodiment, a plurality of types of electrostatic
1,1´,10…静電気放電検出素子、1a…Al金属配線パターン、1a´…P型(N型)拡散層からなる抵抗体、1t…突出部位、2…回路基板、11…シリコン基板、20…プリント基板、d1,d2…ギャップ幅、d3…(シリコン酸化膜の)膜厚、S1〜S8…部分工程。
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記絶縁破壊が発生し易く、且つ、該絶縁破壊が発生した旨を目視又は機器を用いて確認可能な絶縁破壊部位を故意に設けたことを特徴とする静電気放電検出素子。 An electrostatic discharge detection element for detecting the occurrence of dielectric breakdown due to electrostatic discharge in an electronic device mounted on a substrate,
An electrostatic discharge detecting element characterized in that a dielectric breakdown part is intentionally provided, and a dielectric breakdown part where the dielectric breakdown can be visually confirmed or confirmed using an instrument is provided.
前記絶縁破壊部位が、当該検出素子に設けた配線パターン若しくは抵抗体間を所定のギャップ幅で離隔した部位、又は、当該検出素子に設けた導電体又は半導体間を所定厚さの絶縁膜で絶縁した部位に設定され、当該配線パターン若しくは抵抗体間、又は導電体間が導通したことを目視又は機器を用いて観測することで前記絶縁破壊が発生した旨を確認可能とされている静電気放電検出素子。 The electrostatic discharge detecting element according to claim 1,
The insulation breakdown part is a part where a wiring pattern or resistor provided in the detection element is separated by a predetermined gap width, or a conductor or semiconductor provided in the detection element is insulated by an insulating film having a predetermined thickness. Electrostatic discharge detection that is set at the site where it is possible to confirm that the dielectric breakdown has occurred by observing visually that the wiring pattern or the resistor, or between the conductors are conductive element.
請求項1又は請求項2に記載の静電気放電検出素子が前記電子デバイスと共に同一の基板上に実装されていることを特徴とする電子回路板。 An electronic circuit board formed by mounting an electronic device on a substrate,
An electronic circuit board, wherein the electrostatic discharge detection element according to claim 1 or 2 is mounted on the same substrate together with the electronic device.
請求項3に記載の電子回路板を搭載したことを特徴とする電子機器。 An electronic device including an electronic device that performs a predetermined function and an input / output device that exchanges signals with the outside,
An electronic device comprising the electronic circuit board according to claim 3.
前記製造工程が、複数の部分工程からなり、
前記絶縁破壊が発生し易く、且つ、該絶縁破壊が発生した旨を目視又は機器を用いて確認可能な絶縁破壊部位を故意に設けた静電気放電検出素子を基板上に実装し、
該静電気放電検出素子を実装した基板を前記製造工程に流して前記絶縁破壊が発生した部分工程を特定する静電気放電検出方法。 An electrostatic discharge detection method for detecting that dielectric breakdown due to electrostatic discharge has occurred in an electronic device in a manufacturing process of mounting an electronic device on a substrate and manufacturing an electronic device,
The manufacturing process comprises a plurality of partial processes,
The dielectric breakdown is easily generated, and an electrostatic discharge detecting element intentionally provided with a dielectric breakdown part that can be confirmed visually or by using a device that the dielectric breakdown has occurred is mounted on a substrate,
An electrostatic discharge detection method for specifying a partial process in which the dielectric breakdown has occurred by flowing a substrate mounted with the electrostatic discharge detection element to the manufacturing process.
前記静電気放電検出素子は、前記絶縁破壊部位の絶縁破壊耐力範囲に基づいて階層分類され、当該階層分類された複数種の静電気放電検出素子を基板上に実装し、前記製造工程に流す静電気放電検出方法。 In the electrostatic discharge detection method according to claim 5,
The electrostatic discharge detection element is hierarchically classified based on a dielectric breakdown tolerance range of the dielectric breakdown site, and the electrostatic discharge detection element that is mounted on a substrate and the plurality of types of electrostatic discharge detection elements classified in the hierarchy are flowed to the manufacturing process. Method.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007310464A JP2009135283A (en) | 2007-11-30 | 2007-11-30 | Electrostatic discharge detecting element and electrostatic discharge detecting method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007310464A JP2009135283A (en) | 2007-11-30 | 2007-11-30 | Electrostatic discharge detecting element and electrostatic discharge detecting method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009135283A true JP2009135283A (en) | 2009-06-18 |
Family
ID=40866901
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007310464A Pending JP2009135283A (en) | 2007-11-30 | 2007-11-30 | Electrostatic discharge detecting element and electrostatic discharge detecting method |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2009135283A (en) |
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