JP2009132041A - Screen printing mask, substrate, and printing method - Google Patents

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JP2009132041A JP2007310006A JP2007310006A JP2009132041A JP 2009132041 A JP2009132041 A JP 2009132041A JP 2007310006 A JP2007310006 A JP 2007310006A JP 2007310006 A JP2007310006 A JP 2007310006A JP 2009132041 A JP2009132041 A JP 2009132041A
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利成 難波
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a screen printing mask by which a squeeze is hardly damaged when printing resist using the squeeze, a substrate, and a printing method. <P>SOLUTION: In the printing mask 19 used when printing the resist, the printing mask 19 has an opening portion 29 for allowing the resist formed in a printed pattern pass through and a blocking portions 28 for not allowing the resist pass through in one sheet, a plurality of holes are arranged in the opening portion 29. In the opening portion 29, a second opening portion 29b closer to the blocking portions 28 is constituted such that the opening ration is smaller comparing to a first opening portion 29a spaced apart from the blocking portions 28. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、スクリーン印刷マスク、基板及び印刷方法に係り、特にスキージが損傷し難い印刷マスクに関するものである。   The present invention relates to a screen printing mask, a substrate, and a printing method, and more particularly to a printing mask in which a squeegee is hardly damaged.

基板にレジストを塗布するとき、スクリーン印刷が広く用いられている。例えば、特許文献1に印刷方法が開示されている。これによると、印刷パターンが形成された印刷マスクを被印刷物と重ねて、インクを印刷マスクに塗布する。次に、スキージを印刷マスク上で摺動することにより、インクが圧入透過されて被印刷物に付着する。このとき、印刷パターンが被印刷物に転写される。   Screen printing is widely used when applying a resist to a substrate. For example, Patent Document 1 discloses a printing method. According to this, the printing mask on which the printing pattern is formed is overlapped with the substrate, and the ink is applied to the printing mask. Next, when the squeegee is slid on the printing mask, the ink is press-fitted and adhered to the substrate. At this time, the print pattern is transferred to the substrate.

一般的に用いられている印刷マスクの例が特許文献2に開示されている。これによると、ステンレススチールの細線を平織りしたメッシュにポリビニル系の感光性乳剤を塗布する。次に、印刷パターンの形状に露光した後、現像することにより印刷マスクを形成している。   An example of a commonly used printing mask is disclosed in Patent Document 2. According to this, a polyvinyl photosensitive emulsion is applied to a mesh woven with plain stainless steel wires. Next, after exposure to the shape of the print pattern, development is performed to form a print mask.

特開2006−69064号公報JP 2006-69064 A 特開平6−219071号公報Japanese Patent Laid-Open No. 6-219071

印刷するとき、スキージは印刷マスクに押し付けられながら摺動されることから、スキージは弾性を備えた材質が用いられる。そして、スキージはメッシュ上を摺動されるとき、メッシュの凹凸により伸縮しながら擦れる為、損傷し易くなっている。そして、損傷したスキージの一部が損壊して、破片となって分離する。この破片がメッシュを通過し、レジストと共に基板に付着することがある。そしてレジスト内に進入したスキージの破片が外観検査工程において、他の異物と同様に、異物付着と判断され、基板の外観不良の原因となっていた。   When printing, since the squeegee is slid while being pressed against the printing mask, a material having elasticity is used for the squeegee. When the squeegee is slid on the mesh, the squeegee is rubbed while expanding and contracting due to the unevenness of the mesh, and thus is easily damaged. Then, a part of the damaged squeegee is broken and separated into pieces. The debris may pass through the mesh and adhere to the substrate along with the resist. Then, the squeegee fragments that entered the resist were judged as foreign matter adhesion in the appearance inspection process, as with other foreign matters, and caused the appearance failure of the substrate.

さらに、均一にインクを塗布した後、乾燥する過程では、インクの周囲から乾燥する。そして、インクが周囲に流動しつつ乾燥するので、中央に比べて周囲の膜厚が厚くなり、膜厚が不均一になる場合があった。   Further, in the process of drying after uniformly applying the ink, the ink is dried around the ink. Then, since the ink is dried while flowing around, the surrounding film thickness becomes thicker than the center, and the film thickness may become non-uniform.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]
本適用例にかかるスクリーン印刷マスクは、1枚のシートにおいて、印刷形状に形成され液状体を通過させる開口部と、前記液状体を通過させない遮蔽部と、を有し、前記開口部には複数の孔が配置されていることを特徴とする。
[Application Example 1]
The screen printing mask according to this application example includes, in one sheet, an opening that is formed in a printed shape and allows a liquid to pass therethrough, and a shielding part that does not allow the liquid to pass through. The holes are arranged.

このスクリーン印刷マスクによれば、スクリーン印刷マスクはシートに開口部と遮蔽部とが形成されている。そして、開口部には複数の孔が形成され、孔を通って液状体が通過する。この孔は1枚のシートに形成されているので、シート上の面は凹凸が少なくなっている。従って、スキージを用いて液状体を孔に押し込むとき、スキージの損傷を小さくすることができる。   According to this screen printing mask, the screen printing mask has an opening and a shielding part formed in the sheet. A plurality of holes are formed in the opening, and the liquid passes through the holes. Since this hole is formed in one sheet, the surface on the sheet has less unevenness. Therefore, when the liquid material is pushed into the hole using the squeegee, damage to the squeegee can be reduced.

[適用例2]
上記適用例にかかるスクリーン印刷マスクでは、前記開口部において、前記遮蔽部から離れている場所の開口率に比べて前記遮蔽部に近い場所の少なくとも一部の開口率が小さく形成されていることを特徴とする。
[Application Example 2]
In the screen printing mask according to the application example described above, in the opening portion, at least a part of the opening ratio at a location close to the shielding portion is formed smaller than an opening ratio at a location away from the shielding portion. Features.

ここで、開口率は、孔が占める面積を開口部が占める面積にて除算した値を示す。
このスクリーン印刷マスクによれば、開口部は遮蔽部から離れている場所に比べて遮蔽部に近い場所の開口率が小さい為、遮蔽部から離れている場所の方に液状体が厚く塗布される。そして、液状体が乾燥するとき、遮蔽部から離れている場所より遮蔽部に近い場所が早く乾燥する。このとき、液状体は遮蔽部に近い場所に流動しながら乾燥する。遮蔽部から離れている場所は遮蔽部に近い場所より多量に塗布されているので、乾燥後は遮蔽部から離れている場所と、遮蔽部に近い場所とにおいて略同じ厚さにすることができる。
Here, the aperture ratio indicates a value obtained by dividing the area occupied by the holes by the area occupied by the openings.
According to this screen printing mask, since the opening portion has a smaller opening ratio near the shielding portion than the portion away from the shielding portion, the liquid material is applied thicker toward the place away from the shielding portion. . And when a liquid body dries, the place near a shielding part dries earlier than the place away from the shielding part. At this time, the liquid is dried while flowing to a place close to the shielding part. Since the place away from the shielding part is applied in a larger amount than the place near the shielding part, it can be made substantially the same thickness in the place away from the shielding part and the place near the shielding part after drying. .

[適用例3]
上記適用例にかかるスクリーン印刷マスクにおいて、前記孔は面取りされていることを特徴とする。
[Application Example 3]
In the screen printing mask according to the application example, the hole is chamfered.

このスクリーン印刷マスクによれば、孔は面取りされている為、スキージが孔を通過するときスキージは孔に引っかかり難くなっている。従って、スキージは損傷を受け難くすることができる。   According to this screen printing mask, since the hole is chamfered, it is difficult for the squeegee to be caught in the hole when the squeegee passes through the hole. Therefore, the squeegee can be hardly damaged.

[適用例4]
本適用例にかかる印刷方法は、上記に記載のスクリーン印刷マスクを基板に重ねて、前記スクリーン印刷マスクの上に前記液状体を塗布し、スキージを用いて前記液状体を前記孔から押し出して、前記基板に印刷することを特徴とする。
[Application Example 4]
In the printing method according to this application example, the screen printing mask described above is overlaid on a substrate, the liquid material is applied onto the screen printing mask, and the liquid material is extruded from the hole using a squeegee, Printing on the substrate.

この印刷方法によれば、スキージが損傷を受け難いので、スキージの破片が発生し難くなっている。従って、塗布された液状体にスキージの破片が混じることが少ない。その結果、品質良く液状体を塗布することができる。   According to this printing method, since the squeegee is hardly damaged, squeegee fragments are hardly generated. Therefore, squeegee fragments are less likely to mix with the applied liquid. As a result, the liquid material can be applied with high quality.

[適用例5]
本適用例にかかる基板は、配線が形成された基板上に、上記に記載の印刷方法を用いて、レジストが塗布されていることを特徴とする。
[Application Example 5]
The substrate according to this application example is characterized in that a resist is applied on a substrate on which wiring is formed, using the printing method described above.

この基板によれば、塗布されたレジストにスキージの破片が混じることが少ない。その結果、基板は品質良く液状体が塗布された基板とすることができる。   According to this substrate, squeegee fragments are rarely mixed with the applied resist. As a result, the substrate can be a substrate coated with a liquid material with high quality.

以下、実施形態について図面に従って説明する。
尚、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、部材毎に縮尺を異ならせて図示している。
(実施形態)
本実施形態ではスクリーン印刷装置とこのスクリーン印刷装置に用いられる印刷マスク及び印刷方法の特徴的な例について図1〜図10に従って説明する。
Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings.
In addition, each member in each drawing is illustrated with a different scale for each member in order to make the size recognizable on each drawing.
(Embodiment)
In the present embodiment, a characteristic example of a screen printing apparatus, a printing mask used in the screen printing apparatus, and a printing method will be described with reference to FIGS.

図1は、フレキシブルプリント基板の平面図である。図1に示すように、基板としてのフレキシブルプリント基板1はベースフィルム2を備えている。ベースフィルム2はポリイミドのシートなどからなり、長方形に形成されている。このベースフィルム2の長手方向をY方向として、Y方向と直交する方向をX方向とする。ベースフィルム2上には4個の半導体3と列状に配列されている配線としての電極4が2列配置されている。そして、半導体3と半導体3との間、半導体3と電極4との間は配線5により電気的に接続されている。   FIG. 1 is a plan view of a flexible printed circuit board. As shown in FIG. 1, a flexible printed circuit board 1 as a substrate includes a base film 2. The base film 2 is made of a polyimide sheet or the like and is formed in a rectangular shape. The longitudinal direction of the base film 2 is defined as the Y direction, and the direction orthogonal to the Y direction is defined as the X direction. On the base film 2, four rows of electrodes 4 as wirings arranged in a row with four semiconductors 3 are arranged. The semiconductor 3 and the semiconductor 3 and the semiconductor 3 and the electrode 4 are electrically connected by a wiring 5.

そして、ベースフィルム2上で半導体3及び電極4が配置されている場所以外の場所にはレジスト6が塗布されている。レジスト6は半導体3を実装するときに配線5が断線することや、素子部品を半田付けするとき、半田が付着して配線5がショート不良となることを防止している。さらに、配線5と配線5の間が汚れて絶縁抵抗が低下することをレジスト6が防止している。   And the resist 6 is apply | coated to places other than the place where the semiconductor 3 and the electrode 4 are arrange | positioned on the base film 2. FIG. The resist 6 prevents the wiring 5 from being disconnected when the semiconductor 3 is mounted, and prevents the wiring 5 from being short-circuited due to the adhesion of solder when the element component is soldered. Further, the resist 6 prevents the insulation between the wiring 5 and the wiring 5 from becoming dirty and lowering the insulation resistance.

次にレジスト6を塗布するときに用いるスクリーン印刷装置を説明する。図2は、スクリーン印刷装置の構成を示す概略斜視図である。図2に示すように、スクリーン印刷装置7は直方体形状に形成される基台8を備えている。この基台8の平面上の一方向をY方向とし、同平面上でY方向と直交する方向をX方向とする。そして、X方向及びY方向と直交する方向をZ方向とする。   Next, a screen printing apparatus used when applying the resist 6 will be described. FIG. 2 is a schematic perspective view showing the configuration of the screen printing apparatus. As shown in FIG. 2, the screen printing apparatus 7 includes a base 8 formed in a rectangular parallelepiped shape. One direction on the plane of the base 8 is defined as a Y direction, and a direction orthogonal to the Y direction on the same plane is defined as an X direction. A direction orthogonal to the X direction and the Y direction is taken as a Z direction.

基台8の上面8aには、Y方向に延びる一対の第1案内レール9が同Y方向に凸設されている。その基台8の上側には、一対の第1案内レール9に対応する図示しない直動機構を備えた第1移動テーブル10が取付けられている。その第1移動テーブル10の直動機構は、例えば第1案内レール9に沿ってY方向に延びるネジ軸(駆動軸)と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ式直動機構であって、その駆動軸が、所定のパルス信号を受けてステップ単位で正逆転する図示しないY軸モータに連結されている。そして、Y軸モータが正転又は逆転して、第1移動テーブル10がY軸方向に沿って往動又は、復動するようになっている。   On the upper surface 8a of the base 8, a pair of first guide rails 9 extending in the Y direction are provided so as to protrude in the Y direction. A first moving table 10 provided with a linear motion mechanism (not shown) corresponding to the pair of first guide rails 9 is attached to the upper side of the base 8. The linear movement mechanism of the first moving table 10 is, for example, a screw type linear movement mechanism including a screw shaft (drive shaft) extending in the Y direction along the first guide rail 9 and a ball nut screwed to the screw shaft. The drive shaft is connected to a Y-axis motor (not shown) that receives a predetermined pulse signal and rotates forward and backward in steps. Then, the Y-axis motor rotates forward or backward, and the first moving table 10 moves forward or backward along the Y-axis direction.

第1移動テーブル10の上には第1昇降装置11が配置され、第1昇降装置11の上には載置台12が配置されている。第1昇降装置11の内部には油圧シリンダが配置され、載置台12を所定の距離だけ上下動するようになっている。その載置台12の上面には、載置面13が形成され、その載置面13には、図示しない吸引式の基板チャック機構が設けられている。そして、載置面13に基板14を載置すると、基板チャック機構によって、その基板14が載置面13の所定位置に位置決め固定されるようになっている。   A first lifting device 11 is disposed on the first moving table 10, and a mounting table 12 is disposed on the first lifting device 11. A hydraulic cylinder is disposed inside the first lifting device 11 and moves the mounting table 12 up and down by a predetermined distance. A mounting surface 13 is formed on the upper surface of the mounting table 12, and a suction-type substrate chuck mechanism (not shown) is provided on the mounting surface 13. When the substrate 14 is placed on the placement surface 13, the substrate 14 is positioned and fixed at a predetermined position on the placement surface 13 by the substrate chuck mechanism.

基台8のY方向の一端には直方体形状に形成される支持台15が配置されている。支持台15のY方向の逆側側面15aにおける略中央にはZ方向に延びる一対の第2案内レール16が凸設されている。その第2案内レール16のY方向と逆側には、第2案内レール16に対応する図示しない直動機構を備えた第2移動テーブル17が配置されている。この直動機構は例えば、第1移動テーブル10が備える直動機構と同様な直動機構となっている。   A support base 15 formed in a rectangular parallelepiped shape is disposed at one end of the base 8 in the Y direction. A pair of second guide rails 16 extending in the Z direction are provided in a projecting manner at the approximate center of the opposite side surface 15 a in the Y direction of the support base 15. A second moving table 17 having a linear motion mechanism (not shown) corresponding to the second guide rail 16 is disposed on the opposite side to the Y direction of the second guide rail 16. This linear motion mechanism is, for example, a linear motion mechanism similar to the linear motion mechanism included in the first moving table 10.

第2移動テーブル17に対してY方向の逆側には長方形の枠形状に形成されたマスク支持枠18が配置され、マスク支持枠18に囲まれた内側にはスクリーン印刷マスクとしての印刷マスク19が配置されている。この印刷マスク19は載置面13と略並行に配置されている。そして、操作者は印刷マスク19をZ方向に移動して、印刷マスク19と基板14との距離を調整可能になっている。   A mask support frame 18 formed in a rectangular frame shape is disposed on the opposite side of the second moving table 17 in the Y direction, and a print mask 19 serving as a screen print mask is disposed inside the mask support frame 18. Is arranged. The printing mask 19 is disposed substantially in parallel with the placement surface 13. The operator can adjust the distance between the print mask 19 and the substrate 14 by moving the print mask 19 in the Z direction.

支持台15の側面15aにおいて、Z方向の場所にはX方向に延びる第3案内レール20が凸設されている。その支持台15のY方向の逆側には、第3案内レール20に対応する図示しない直動機構を備えた第3移動テーブル21が取付けられている。この直動機構は例えば、第1移動テーブル10が備える直動機構と同様な直動機構となっている。   On the side surface 15 a of the support base 15, a third guide rail 20 extending in the X direction is protruded at a location in the Z direction. A third moving table 21 having a linear motion mechanism (not shown) corresponding to the third guide rail 20 is attached to the opposite side of the support base 15 in the Y direction. This linear motion mechanism is, for example, a linear motion mechanism similar to the linear motion mechanism included in the first moving table 10.

第3移動テーブル21に対してY方向の逆側には第2昇降装置22が配置されている。第2昇降装置22は内部にエアーシリンダを備えている。そして、第2昇降装置22の下側にはスキージ23が配置され、第2昇降装置22がこのスキージ23を昇降することが可能となっている。   A second lifting device 22 is disposed on the opposite side of the third moving table 21 in the Y direction. The second lifting device 22 includes an air cylinder inside. And the squeegee 23 is arrange | positioned under the 2nd raising / lowering apparatus 22, The 2nd raising / lowering apparatus 22 can raise / lower this squeegee 23. FIG.

第3移動テーブル21に対してY方向の逆側には第2昇降装置22と並んで第3昇降装置24が配置されている。第3昇降装置24は内部にエアーシリンダを備えている。そして、第3昇降装置24の下側にはスクレイパ25が配置され、第3昇降装置24がこのスクレイパ25を昇降することが可能となっている。   A third lifting device 24 is arranged alongside the second lifting device 22 on the opposite side of the third moving table 21 in the Y direction. The third lifting device 24 includes an air cylinder inside. A scraper 25 is disposed below the third lifting device 24, and the third lifting device 24 can lift and lower the scraper 25.

図3及び図4は印刷マスクを示す図である。図3(a)は、印刷マスクの模式平面図であり、図3(b)は、印刷マスクの模式断面図である。そして、図3(b)は、図3(a)のA−A’線における断面図を示している。図4(a)は、印刷マスクの要部模式平面図であり、図4(b)は、印刷マスクの孔部模式断面図である。図3(a)及び図3(b)に示すようにマスク支持枠18の内側に印刷マスク19が配置されている。そして、印刷マスク19に張力が加わるとき、印刷マスク19はマスク支持枠18に支持されることにより、必要以上に撓まないようになっている。印刷マスク19は塗布するレジスト等のインクに対して耐食性があり張力に対する強度を備え伸縮性が小さい材料であれば良く、ファイバー等により強化された樹脂や金属シート等を用いることができる。本実施形態では、例えば、印刷マスク19の材料にステンレスシートを採用している。   3 and 4 are diagrams showing a printing mask. FIG. 3A is a schematic plan view of the printing mask, and FIG. 3B is a schematic sectional view of the printing mask. FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line A-A ′ of FIG. FIG. 4A is a schematic plan view of a main part of the print mask, and FIG. 4B is a schematic cross-sectional view of a hole of the print mask. As shown in FIGS. 3A and 3B, a printing mask 19 is disposed inside the mask support frame 18. When tension is applied to the printing mask 19, the printing mask 19 is supported by the mask support frame 18 so that it does not bend more than necessary. The printing mask 19 may be a material that is corrosion resistant to the ink such as a resist to be applied, has strength against tension, and has low stretchability, and a resin or metal sheet reinforced with fibers or the like can be used. In the present embodiment, for example, a stainless sheet is used as the material of the printing mask 19.

印刷マスク19は基板14に塗布するレジスト6を透過しない遮蔽部28とレジスト6を透過する開口部29とを備えている。そして、開口部29は第1開口部29aと第2開口部29bとからなり、第1開口部29aは第2開口部29bより開口率が大きく形成されている。開口部29において、遮蔽部28と近い場所には第2開口部29bが配置され、遮蔽部28と離れている場所には第1開口部29aが配置されている。   The printing mask 19 includes a shielding portion 28 that does not transmit the resist 6 applied to the substrate 14 and an opening 29 that transmits the resist 6. And the opening part 29 consists of the 1st opening part 29a and the 2nd opening part 29b, and the 1st opening part 29a is formed more largely than the 2nd opening part 29b. In the opening 29, a second opening 29 b is disposed at a location near the shielding portion 28, and a first opening 29 a is disposed at a location away from the shielding portion 28.

図4(a)に示すように、第1開口部29aには孔としての第1孔30が複数配置され、第2開口部29bには孔としての第2孔31が形成されている。この第1孔30と第2孔31とが単位面積あたりに配置される個数は同じ個数となっている。そして、第1孔30の直径は第2孔31の直径より大きく形成されている。従って、第1開口部29aの方が第2開口部29bより開口率が大きくなっている。   As shown in FIG. 4A, a plurality of first holes 30 as holes are arranged in the first opening 29a, and a second hole 31 as a hole is formed in the second opening 29b. The number of the first holes 30 and the second holes 31 arranged per unit area is the same. The diameter of the first hole 30 is larger than the diameter of the second hole 31. Accordingly, the opening ratio of the first opening 29a is larger than that of the second opening 29b.

図4(b)に示すように、印刷マスク19はシート19aに第1孔30及び第2孔31が形成されている。この印刷マスク19においてスキージ23が配置される側の面をスキージ面19bとする。そして、第1孔30のスキージ面19b側は面取り30aが形成され、第2孔31のスキージ面19b側は面取り31aが形成されている。スキージ23がこのスキージ面19bを摺動するとき、スキージ23は面取り30a及び面取り31aを摺動するので、スキージ23は第1孔30及び第2孔31に引っ掛かり難くなっている。   As shown in FIG. 4B, the printing mask 19 has a first hole 30 and a second hole 31 formed in the sheet 19a. A surface of the printing mask 19 on which the squeegee 23 is disposed is referred to as a squeegee surface 19b. A chamfer 30a is formed on the squeegee surface 19b side of the first hole 30, and a chamfer 31a is formed on the squeegee surface 19b side of the second hole 31. When the squeegee 23 slides on the squeegee surface 19 b, the squeegee 23 slides on the chamfer 30 a and the chamfer 31 a, so that the squeegee 23 is not easily caught in the first hole 30 and the second hole 31.

次に、上述したスクリーン印刷装置7を使って、基板14にレジスト6を印刷する印刷方法について図5〜図7にて説明する。図5は、基板にレジストを印刷する製造工程を示すフローチャートである。図6及び図7は、スクリーン印刷装置を使った印刷方法を説明する図である。   Next, a printing method for printing the resist 6 on the substrate 14 using the above-described screen printing apparatus 7 will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a flowchart showing a manufacturing process for printing a resist on a substrate. 6 and 7 are diagrams for explaining a printing method using a screen printing apparatus.

ステップS1は基板設置工程に相当し、印刷装置に基板を配置する工程である。次にステップS2に移行する。ステップS2はマスク配置工程に相当し、基板と印刷マスクとを重ねて配置する工程である。次にステップS3に移行する。ステップS3は転写工程に相当し、レジストを基板に転写する工程である。次にステップS4に移行する。ステップS4は基板除去工程に相当し、基板を印刷装置から除去する工程である。次にステップS5に移行する。ステップS5は固化工程に相当し、印刷したレジストを乾燥して固化する工程である。以上で、基板にレジストを印刷する製造工程を終了する。   Step S1 corresponds to a substrate installation step, and is a step of arranging a substrate on the printing apparatus. Next, the process proceeds to step S2. Step S2 corresponds to a mask placement process, which is a process of placing the substrate and the print mask in an overlapping manner. Next, the process proceeds to step S3. Step S3 corresponds to a transfer process, and is a process of transferring the resist to the substrate. Next, the process proceeds to step S4. Step S4 corresponds to a substrate removing process, and is a process of removing the substrate from the printing apparatus. Next, the process proceeds to step S5. Step S5 corresponds to a solidification step, and is a step of drying and solidifying the printed resist. This completes the manufacturing process of printing the resist on the substrate.

次に、図2、図6、図7を用いて、図5に示したステップと対応させて、基板14にレジスト6を印刷する印刷方法を詳細に説明する。図6(a)はステップS1に対応する図である。図6(a)に示すように、基板14を載置面13に位置決めして設置する。そして、載置面13に設けられている吸引式の基板チャック機構により基板14が載置面13に固定される。   Next, a printing method for printing the resist 6 on the substrate 14 in correspondence with the steps shown in FIG. 5 will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 6A is a diagram corresponding to step S1. As shown in FIG. 6A, the substrate 14 is positioned and placed on the placement surface 13. Then, the substrate 14 is fixed to the placement surface 13 by a suction-type substrate chuck mechanism provided on the placement surface 13.

図6(b)はステップS2に対応する図である。第1移動テーブル10が移動されて、基板14が印刷マスク19と対向する場所へ移動される。そして、図6(b)に示すように、第1昇降装置11により載置台12が上昇され、基板14が印刷マスク19と近接する場所に移動される。このとき、予め、第2移動テーブル17を上下動させることにより印刷マスク19の上下の位置が調整されている。そして、印刷マスク19においてスキージ23が配置されているスキージ面19bに液状体としてのレジスト材料32の塊が配置されている。   FIG. 6B is a diagram corresponding to step S2. The first moving table 10 is moved, and the substrate 14 is moved to a location facing the printing mask 19. Then, as shown in FIG. 6B, the mounting table 12 is raised by the first elevating device 11, and the substrate 14 is moved to a place close to the printing mask 19. At this time, the vertical position of the printing mask 19 is adjusted in advance by moving the second moving table 17 up and down. A lump of resist material 32 as a liquid material is disposed on the squeegee surface 19b where the squeegee 23 is disposed in the printing mask 19.

図6(c)〜図6(e)はステップS3に対応する図である。図6(c)に示すように、第3昇降装置24を駆動することによりスクレイパ25を下降する。そして、第3昇降装置24がスクレイパ25を印刷マスク19と所定の間隔を設けながら、第3移動テーブル21が移動することにより、スクレイパ25を移動させる。そして、基板14の一端から他端までスクレイパ25を移動する。このとき、レジスト材料32の一部が印刷マスク19の上に塗布される。次に、図6(d)に示すように、第2昇降装置22を駆動することによりスキージ23を下降する。そして、第2昇降装置22がスキージ23を印刷マスク19に押し付けながら、第3移動テーブル21が移動することにより、スキージ23を印刷マスク19に摺動させる。このとき、レジスト材料32の一部が印刷マスク19を透過して基板14に転写される。そして、図6(e)に示すように、基板14の一端から他端までスキージ23を摺動する。そして、レジスト材料32が印刷マスク19上の一方に寄せられる。   FIG. 6C to FIG. 6E are diagrams corresponding to step S3. As shown in FIG. 6C, the scraper 25 is lowered by driving the third lifting device 24. Then, the third elevating device 24 moves the scraper 25 by moving the third moving table 21 while providing the scraper 25 with a predetermined distance from the print mask 19. Then, the scraper 25 is moved from one end of the substrate 14 to the other end. At this time, a part of the resist material 32 is applied onto the print mask 19. Next, as shown in FIG. 6D, the squeegee 23 is lowered by driving the second lifting device 22. Then, while the second lifting device 22 presses the squeegee 23 against the print mask 19, the third moving table 21 moves, thereby causing the squeegee 23 to slide on the print mask 19. At this time, a part of the resist material 32 passes through the printing mask 19 and is transferred to the substrate 14. Then, as shown in FIG. 6E, the squeegee 23 is slid from one end of the substrate 14 to the other end. Then, the resist material 32 is brought to one side on the print mask 19.

図6(f)はステップS4に対応する図である。第1昇降装置11を駆動することにより、基板14と載置台12とを下降した後、第1移動テーブル10を駆動することにより、基板14を印刷マスク19と対向する場所から移動する。そして、図6(f)に示すように、基板14が載置面13から除去される。   FIG. 6F is a diagram corresponding to step S4. By driving the first elevating device 11, the substrate 14 and the mounting table 12 are lowered, and then the first moving table 10 is driven to move the substrate 14 from a location facing the printing mask 19. Then, the substrate 14 is removed from the placement surface 13 as shown in FIG.

図7(a)〜図7(d)はステップS5に対応する図である。図7(a)に示すように、基板14に転写された直後では、レジスト材料32は印刷マスク19の第1孔30及び第2孔31と同様の形状である円柱状に形成される。このとき、第1開口部29aに対応する場所では、第2開口部29bに対応する場所より多量のレジスト材料32が塗布される。図7(b)に示すように、基板14に転写された後、しばらくすると柱状のレジスト材料32の形状が崩れて、隣接するレジスト材料32の柱が平坦になる。このとき、第1開口部29aに対応する場所では、第2開口部29bに対応する場所よりレジスト材料32が厚く塗布されている。   Fig.7 (a)-FIG.7 (d) are figures corresponding to step S5. As shown in FIG. 7A, immediately after being transferred to the substrate 14, the resist material 32 is formed in a cylindrical shape that is the same shape as the first hole 30 and the second hole 31 of the printing mask 19. At this time, a larger amount of resist material 32 is applied at a location corresponding to the first opening 29a than at a location corresponding to the second opening 29b. As shown in FIG. 7B, after being transferred to the substrate 14, after a while, the shape of the columnar resist material 32 collapses and the columns of the adjacent resist material 32 become flat. At this time, in the place corresponding to the first opening 29a, the resist material 32 is applied thicker than the place corresponding to the second opening 29b.

レジスト材料32が塗布されている基板14を恒温槽に入れて乾燥を促進させる。恒温槽の温度はレジスト材料32の溶媒が蒸発して基板14が酸化や熱により損傷しない程度の温度であれば良く、本実施形態では、例えば、摂氏70度を採用している。図7(c)に示すように、基板14上では第1開口部29aに対応する場所に比べてレジスト周辺部32aの蒸気分圧が小さい。従って、第1開口部29aに対応する場所に比べてレジスト周辺部32aの方が乾燥速度が速くなっている。そして、レジスト周辺部32aは粘度が高くなるので、流動し難くなる。一方、第2開口部29bに対応する場所では乾燥し難いので、レジスト材料32が第2開口部29bに対応する場所へ流動する。そして、図7(d)に示すように、第1開口部29aと第2開口部29bとに対応する場所において、レジスト材料32の厚みが略同じ厚みとなる状態で固化してレジスト6が形成される。   The substrate 14 coated with the resist material 32 is placed in a thermostatic bath to accelerate drying. The temperature of the constant temperature bath may be a temperature at which the solvent of the resist material 32 evaporates and the substrate 14 is not damaged by oxidation or heat. In this embodiment, for example, 70 degrees Celsius is adopted. As shown in FIG. 7C, the vapor partial pressure of the resist peripheral portion 32a is smaller on the substrate 14 than on the location corresponding to the first opening 29a. Therefore, the drying speed of the resist peripheral portion 32a is higher than that of the location corresponding to the first opening 29a. Since the resist peripheral portion 32a has a high viscosity, it hardly flows. On the other hand, since it is difficult to dry at the place corresponding to the second opening 29b, the resist material 32 flows to the place corresponding to the second opening 29b. Then, as shown in FIG. 7D, the resist 6 is formed by solidifying the resist material 32 in a state corresponding to the first opening 29a and the second opening 29b so that the resist material 32 has substantially the same thickness. Is done.

次に、上述した印刷マスク19を製造するマスク製造方法について図8〜図10にて説明する。図8は、マスクに孔あけ加工をするプレス加工装置を示す概略斜視図である。図9は、孔の形成方法を説明する図であり、図10は、面取りの形成方法を説明する図である。   Next, a mask manufacturing method for manufacturing the above-described printing mask 19 will be described with reference to FIGS. FIG. 8 is a schematic perspective view showing a press working apparatus for punching a mask. FIG. 9 is a diagram illustrating a hole forming method, and FIG. 10 is a diagram illustrating a chamfer forming method.

まず、シート19aに複数の第1孔30を形成するプレス加工装置を説明する。図8に示すように、プレス加工機35は直方体形状に形成される基台36を備えている。この基台36の平面上の一方向をY方向とし、同平面上でY方向と直交する方向をX方向とする。そして、X方向及びY方向と直交する方向をZ方向とする。基台36上のY方向と逆側の中央には直方体形状の下型台37が配置され、下型台37の上には下金型38が配置されている。   First, a press working apparatus that forms a plurality of first holes 30 in the sheet 19a will be described. As shown in FIG. 8, the press machine 35 includes a base 36 formed in a rectangular parallelepiped shape. One direction on the plane of the base 36 is defined as a Y direction, and a direction orthogonal to the Y direction on the same plane is defined as an X direction. A direction orthogonal to the X direction and the Y direction is taken as a Z direction. A rectangular parallelepiped lower mold base 37 is disposed in the center of the base 36 opposite to the Y direction, and a lower mold 38 is disposed on the lower mold base 37.

基台36上で下型台37のX方向側にはXYテーブル39が配置され、XYテーブル39は図2に示す第1移動テーブル10と同様の図示しない直動機構を備えている。そして、XYテーブル39の上にはマスク支持部40が配置されている。マスク支持部40は下金型38と対向する場所まで延在して形成され、印刷マスク19の材料であるシート19aを下金型38と対向する場所に保持している。   An XY table 39 is disposed on the base 36 on the X direction side of the lower mold base 37, and the XY table 39 includes a linear motion mechanism (not shown) similar to the first moving table 10 shown in FIG. A mask support unit 40 is disposed on the XY table 39. The mask support portion 40 is formed so as to extend to a place facing the lower mold 38, and holds a sheet 19 a that is a material of the printing mask 19 at a place facing the lower mold 38.

基台36上のY方向側には金型駆動部41が配置されている。金型駆動部41はモータ、回転慣性体、クラッチ機構、動力伝達軸等により構成されている。そして、モータが回転慣性体を回転し、クラッチ機構を介して動力伝達軸に回転慣性体のトルクが伝達される。そして、金型駆動部41の上部においてY方向の逆側には、動力変換部42が配置されている。動力変換部42はクランク、コンロッド、ピストン43等からなるスライダークランク機構が構成されている。そして、クランクが動力伝達軸と連動して回転し、コンロッドがクランクと連動して、ピストン43をZ方向に上下動させる。つまり、モータの回転運動を上下の直線運動に変換している。   A mold driving unit 41 is disposed on the Y direction side on the base 36. The mold drive unit 41 includes a motor, a rotary inertia body, a clutch mechanism, a power transmission shaft, and the like. The motor rotates the rotary inertia body, and the torque of the rotary inertia body is transmitted to the power transmission shaft via the clutch mechanism. And the power conversion part 42 is arrange | positioned on the reverse side of the Y direction in the upper part of the metal mold | die drive part 41. FIG. The power conversion unit 42 includes a slider crank mechanism including a crank, a connecting rod, a piston 43, and the like. Then, the crank rotates in conjunction with the power transmission shaft, and the connecting rod moves in conjunction with the crank to move the piston 43 up and down in the Z direction. That is, the rotational movement of the motor is converted into a vertical linear movement.

動力変換部42のZ方向と逆側には金型支持部44が配置されている。そして、金型支持部44の内部からZ方向の逆方向に向かって上金型45が配置されている。この上金型45はピストン43と接続され、ピストン43と連動して上下動する。上金型45は略円筒状に形成され、上金型45の中心には孔あけ用のポンチ46が配置されている。ポンチ46は円柱状に形成され、ポンチ46の平面形状は図4に示す第1孔30の形状となっている。そして、ポンチ46の周囲には抑えリング47が配置されている。抑えリング47の上側にはコイルバネが配置され、抑えリング47は下側に付勢されている。   A mold support portion 44 is disposed on the side opposite to the Z direction of the power conversion portion 42. And the upper metal mold | die 45 is arrange | positioned from the inside of the metal mold | die support part 44 toward the reverse direction of a Z direction. The upper mold 45 is connected to the piston 43 and moves up and down in conjunction with the piston 43. The upper mold 45 is formed in a substantially cylindrical shape, and a punch 46 for drilling is disposed at the center of the upper mold 45. The punch 46 is formed in a cylindrical shape, and the planar shape of the punch 46 is the shape of the first hole 30 shown in FIG. A restraining ring 47 is disposed around the punch 46. A coil spring is disposed above the restraining ring 47, and the restraining ring 47 is biased downward.

上金型45が上下動して、下金型38と接近するとき、ポンチ46が下金型38に形成されている孔に侵入する。このとき、ポンチ46と下金型38に挟まれた印刷マスク19は、ポンチ46の形状に孔が形成される。そして、シート19aはマスク支持部40を介してXYテーブル39に支持されているので、XYテーブル39を制御することにより、シート19aの所望の位置に孔を形成することが可能となっている。   When the upper mold 45 moves up and down and approaches the lower mold 38, the punch 46 enters the hole formed in the lower mold 38. At this time, the printing mask 19 sandwiched between the punch 46 and the lower die 38 is formed with a hole in the shape of the punch 46. Since the sheet 19a is supported by the XY table 39 via the mask support portion 40, by controlling the XY table 39, it is possible to form a hole at a desired position of the sheet 19a.

次に、印刷マスク19に第1孔30を形成する孔あけ加工について説明する。図9(a)に示すように、上金型45の中心にはポンチ46が形成され、ポンチ46と対向する場所の下金型38には孔部48が形成されている。そして、マスク支持部40に配置されたシート19aを下金型38の上に配置する。次に、第1孔30をあける場所が孔部48と対向する場所となるようにXYテーブル39を駆動する。   Next, the drilling process for forming the first holes 30 in the print mask 19 will be described. As shown in FIG. 9A, a punch 46 is formed at the center of the upper mold 45, and a hole 48 is formed in the lower mold 38 at a location facing the punch 46. Then, the sheet 19 a disposed on the mask support unit 40 is disposed on the lower mold 38. Next, the XY table 39 is driven so that the place where the first hole 30 is opened is the place facing the hole 48.

次に、図9(b)に示すように、上金型45を下降させる。そして、抑えリング47がシート19aと接触して、抑えリング47がシート19aを付勢する。続いて、図9(c)に示すように、さらに上金型45を下降させる。そして、シート19aがポンチ46と下金型38とにより剪断される。次に、図9(d)に示すように、上金型45を上昇させる。そして、シート19aに第1孔30が形成される。シート19aに第2孔31を形成するとき、ポンチ46の直径と孔部48の直径とを第2孔31の直径と同じに形成する。そして、同様の手順で製造することにより第2孔31が形成される。   Next, as shown in FIG. 9B, the upper mold 45 is lowered. Then, the holding ring 47 comes into contact with the sheet 19a, and the holding ring 47 biases the sheet 19a. Subsequently, as shown in FIG. 9C, the upper mold 45 is further lowered. Then, the sheet 19 a is sheared by the punch 46 and the lower mold 38. Next, as shown in FIG. 9D, the upper mold 45 is raised. And the 1st hole 30 is formed in the sheet | seat 19a. When the second hole 31 is formed in the sheet 19 a, the diameter of the punch 46 and the diameter of the hole portion 48 are formed to be the same as the diameter of the second hole 31. And the 2nd hole 31 is formed by manufacturing in the same procedure.

次に、印刷マスク19の第1孔30に面取り30aを形成する面取り加工について説明する。図10(a)に示すように、上金型49の中心には面取りポンチ50が配置され、面取りポンチ50と対向する場所の下金型38には孔部48が形成されている。そして、マスク支持部40に配置されたシート19aを下金型38の上に配置する。次に、第1孔30をあける場所が孔部48と対向する場所となるようにXYテーブル39を駆動する。   Next, the chamfering process for forming the chamfer 30a in the first hole 30 of the printing mask 19 will be described. As shown in FIG. 10A, a chamfering punch 50 is disposed at the center of the upper mold 49, and a hole 48 is formed in the lower mold 38 at a location facing the chamfering punch 50. Then, the sheet 19 a disposed on the mask support unit 40 is disposed on the lower mold 38. Next, the XY table 39 is driven so that the place where the first hole 30 is opened is the place facing the hole 48.

次に、図10(b)に示すように、上金型49を下降させる。そして、抑えリング47がシート19aと接触して、抑えリング47がシート19aを付勢する。続いて、図10(c)に示すように、さらに上金型49を下降させる。そして、シート19aが面取りポンチ50と下金型38とにより圧縮される。次に、図9(d)に示すように、上金型49を上昇させる。そして、シート19aの第1孔30に面取り30aが形成される。印刷マスク19の第2孔31に面取り31aを形成するとき、面取りポンチ50の直径を第2孔31の面取り31aの直径より大きい直径に形成する。そして、同様の手順で製造することにより第2孔31に面取り31aが形成される。   Next, as shown in FIG. 10B, the upper mold 49 is lowered. Then, the holding ring 47 comes into contact with the sheet 19a, and the holding ring 47 biases the sheet 19a. Subsequently, as shown in FIG. 10C, the upper mold 49 is further lowered. Then, the sheet 19 a is compressed by the chamfering punch 50 and the lower mold 38. Next, as shown in FIG. 9D, the upper mold 49 is raised. A chamfer 30a is formed in the first hole 30 of the sheet 19a. When the chamfer 31 a is formed in the second hole 31 of the printing mask 19, the diameter of the chamfer punch 50 is formed to be larger than the diameter of the chamfer 31 a of the second hole 31. A chamfer 31 a is formed in the second hole 31 by manufacturing in the same procedure.

上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
(1)本実施形態によれば、印刷マスク19は開口部29と遮蔽部28とが形成されている。そして、開口部29には複数の第1孔30及び第2孔31が形成され、第1孔30及び第2孔31を通ってレジスト材料32が通過する。この第1孔30及び第2孔31は平坦なシート19aに形成されているので、シート19a上の面は凹凸が少なくなっている。従って、スキージ23を用いてレジスト材料32を第1孔30及び第2孔31に押し込むとき、スキージ23の損傷を小さくすることができる。
As described above, this embodiment has the following effects.
(1) According to the present embodiment, the printing mask 19 has the opening 29 and the shielding part 28 formed therein. A plurality of first holes 30 and second holes 31 are formed in the opening 29, and the resist material 32 passes through the first holes 30 and the second holes 31. Since the first hole 30 and the second hole 31 are formed in the flat sheet 19a, the surface on the sheet 19a has less unevenness. Therefore, when the resist material 32 is pushed into the first hole 30 and the second hole 31 using the squeegee 23, damage to the squeegee 23 can be reduced.

(2)本実施形態によれば、開口部29は第1開口部29aに比べて第2開口部29bの開口率が小さい為、第2開口部29bより第1開口部29aの方にレジスト材料32が厚く塗布される。そして、レジスト材料32が乾燥するとき、第1開口部29aより第2開口部29bが早く乾燥する。このとき、レジスト材料32は第2開口部29bに流動しながら乾燥する為、乾燥後は第1開口部29aと対向する場所と、第2開口部29bと対向する場所とにおいてレジスト6の厚さを略同じ厚さにすることができる。   (2) According to the present embodiment, since the opening 29 has a smaller opening ratio of the second opening 29b than the first opening 29a, the resist material is directed to the first opening 29a from the second opening 29b. 32 is applied thickly. When the resist material 32 dries, the second opening 29b dries faster than the first opening 29a. At this time, since the resist material 32 is dried while flowing into the second opening 29b, the thickness of the resist 6 at the place facing the first opening 29a and the place facing the second opening 29b after drying. Can be made substantially the same thickness.

(3)本実施形態によれば、第1孔30には面取り30aが形成され、第2孔31には面取り31aが形成されている。従って、スキージ23が第1孔30及び第2孔31を通過するときスキージ23は第1孔30及び第2孔31に引っかかり難くなっている。その結果、スキージ23は損傷を受け難くすることができる。   (3) According to the present embodiment, the chamfer 30 a is formed in the first hole 30, and the chamfer 31 a is formed in the second hole 31. Therefore, when the squeegee 23 passes through the first hole 30 and the second hole 31, the squeegee 23 is not easily caught by the first hole 30 and the second hole 31. As a result, the squeegee 23 can be hardly damaged.

(4)本実施形態によれば、スキージ23は損傷を受け難いので、スキージ23の破片が発生し難くなっている。従って、塗布されたレジスト材料32にスキージ23の破片が混じることがない。その結果、品質良くレジスト材料32を塗布することができる。   (4) According to this embodiment, since the squeegee 23 is not easily damaged, fragments of the squeegee 23 are hardly generated. Therefore, fragments of the squeegee 23 are not mixed with the applied resist material 32. As a result, the resist material 32 can be applied with high quality.

(5)本実施形態によれば、塗布されたレジスト6にスキージ23の破片が混じることがない。その結果、フレキシブルプリント基板1は品質良くレジスト6が塗布されたフレキシブルプリント基板1とすることができる。   (5) According to the present embodiment, the squeegee 23 is not mixed with the applied resist 6. As a result, the flexible printed circuit board 1 can be the flexible printed circuit board 1 coated with the resist 6 with high quality.

尚、本実施形態は上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変更や改良を加えることも可能である。変形例を以下に述べる。
(変形例1)
前記実施形態では、第1孔30及び第2孔31の加工にプレス加工機35を用いたが、これに限らず他の方法を用いても良い。例えば、シートに印刷パターンのレジストを塗布した後エッチングする方法、レーザ光を照射して孔を開ける方法、高圧水流を吹き付けて孔を開ける方法、ドリルを用いて孔を開ける方法等を用いることができるこれらの方法のうち、生産性良く第1孔30及び第2孔31を加工する方法を選択するのが望ましい。
In addition, this embodiment is not limited to embodiment mentioned above, A various change and improvement can also be added. A modification will be described below.
(Modification 1)
In the embodiment, the press machine 35 is used for processing the first hole 30 and the second hole 31, but the present invention is not limited to this, and other methods may be used. For example, a method of etching after applying a printed pattern resist on a sheet, a method of opening a hole by irradiating a laser beam, a method of opening a hole by spraying a high-pressure water stream, a method of opening a hole using a drill, etc. Among these possible methods, it is desirable to select a method for processing the first hole 30 and the second hole 31 with high productivity.

(変形例2)
前記実施形態では、第1孔30及び第2孔31の形状は円形にしたが、他の形状でも良い。例えば、楕円形や、四角、三角等の多角形を用いることができる。孔の形状を変えることにより、開口率を調整し易くすることができる。
(Modification 2)
In the said embodiment, although the shape of the 1st hole 30 and the 2nd hole 31 was made circular, another shape may be sufficient. For example, an ellipse or a polygon such as a square or a triangle can be used. By changing the shape of the hole, the aperture ratio can be easily adjusted.

(変形例3)
前記実施形態では、開口部29は第1開口部29aと第2開口部29bとの2水準が配置されたが、開口部29は3水準以上の開口率を備えた場所に区分けしても良い。開口率の水準が多い方が塗布されるレジスト材料32の厚みを徐々に変えられる。そして、乾燥後におけるレジスト6の厚みをさらに均一にすることができる。
(Modification 3)
In the embodiment, the opening 29 has two levels of the first opening 29a and the second opening 29b. However, the opening 29 may be divided into places having an opening ratio of three levels or more. . The thickness of the resist material 32 to be applied can be gradually changed when the level of the aperture ratio is larger. And the thickness of the resist 6 after drying can be made more uniform.

(変形例4)
前記実施形態では、面取りポンチ50を用いて面取り30a,31aを形成したが、他の方法を用いても良い。例えば、下金型38の孔部48の直径をポンチ46の直径より大きくすることにより、第1孔30及び第2孔31の角を丸くして良い。また、ドリル等の刃具を回転して接触させることにより面取り30a,31aを形成しても良い。これらの方法のうち、生産性良く面取り30a及び面取り31aを加工する方法を選択するのが望ましい。
(Modification 4)
In the embodiment, the chamfers 30a and 31a are formed using the chamfering punch 50, but other methods may be used. For example, the corners of the first hole 30 and the second hole 31 may be rounded by making the diameter of the hole 48 of the lower mold 38 larger than the diameter of the punch 46. Further, the chamfers 30a and 31a may be formed by rotating and contacting a cutting tool such as a drill. Among these methods, it is desirable to select a method for processing the chamfer 30a and the chamfer 31a with high productivity.

(変形例5)
前記実施形態では、印刷マスク19はシート19aに第1孔30及び第2孔31を形成して用いたが、印刷マスク19にレジスト6に対する撥液処理を施しても良い。これにより、スキージ23が印刷マスク19上を摺動するときの抵抗が小さくなるので、スキージ23をさらに損傷し難くすることができる。そして、レジスト6が第1孔30及び第2孔31を流動するときの流動抵抗が小さくなるので、レジスト6を第1孔30及び第2孔31から抜け易くすることができる。さらに、印刷マスク19の基板14側の面へレジスト6が付着することを防止することができる。
(Modification 5)
In the embodiment, the printing mask 19 is used by forming the first hole 30 and the second hole 31 in the sheet 19a. However, the printing mask 19 may be subjected to a liquid repellent treatment for the resist 6. Thereby, since the resistance when the squeegee 23 slides on the printing mask 19 is reduced, the squeegee 23 can be further prevented from being damaged. Since the flow resistance when the resist 6 flows through the first hole 30 and the second hole 31 is reduced, the resist 6 can be easily removed from the first hole 30 and the second hole 31. Furthermore, it is possible to prevent the resist 6 from adhering to the surface of the print mask 19 on the substrate 14 side.

(変形例6)
前記実施形態では、フレキシブルプリント基板1は長方形に形成されていたが、長尺のテープ状に形成されている基板でも良い。基板の上に複数の回路及び素子を配列して形成するとき、フレキシブル基板をリールに巻いて除給材することにより、フレキシブル基板の取り扱いを容易にすることができる。
(Modification 6)
In the said embodiment, although the flexible printed circuit board 1 was formed in the rectangle, the board | substrate currently formed in the elongate tape shape may be sufficient. When a plurality of circuits and elements are arranged and formed on a substrate, the flexible substrate can be easily handled by winding the flexible substrate around a reel and supplying the material.

(変形例7)
前記実施形態では、フレキシブルプリント基板1に半導体3を配置して配線5と電気的に接続して形成されている。この接続方法は各種の方法を用いることができる。例えば、半田付け、TAB(Tape Automeated Bonding)、ワイヤボンディング、フリップチップ等の実装方法を用いることができる。いずれの場合においても、上記の方法を用いてフレキシブルプリント基板1にレジスト6を印刷することにより、スキージ23の損傷を小さくすることができる。
(Modification 7)
In the embodiment, the semiconductor 3 is disposed on the flexible printed board 1 and electrically connected to the wiring 5. Various methods can be used for this connection method. For example, a mounting method such as soldering, TAB (Tape Automated Bonding), wire bonding, or flip chip can be used. In any case, the damage of the squeegee 23 can be reduced by printing the resist 6 on the flexible printed circuit board 1 using the above method.

(変形例8)
前記実施形態では、フレキシブルプリント基板1にレジスト6を塗布したが、フレキシブルプリント基板1以外の基板を用いても良い。例えば、ガラス繊維入りエポキシ基板や紙フェノール基板等のリジッド基板も用いることができる。さらに、リジッド基板とフレキシブル基板とが一体化しているリジッドフレキシブル基板も用いることができる。さらに、ガラス、シリコン、樹脂等の各種材質及びその混合材料からなる基板に印刷するときに上記の方法を用いることができる。
(Modification 8)
In the embodiment, the resist 6 is applied to the flexible printed circuit board 1, but a substrate other than the flexible printed circuit board 1 may be used. For example, a rigid substrate such as an epoxy substrate containing glass fiber or a paper phenol substrate can also be used. Furthermore, a rigid flexible substrate in which a rigid substrate and a flexible substrate are integrated can also be used. Furthermore, the above-described method can be used when printing on a substrate made of various materials such as glass, silicon, and resin, and mixed materials thereof.

フレキシブルプリント基板の平面図。The top view of a flexible printed circuit board. スクリーン印刷装置の構成を示す概略斜視図。The schematic perspective view which shows the structure of a screen printing apparatus. (a)は、印刷マスクの模式平面図、(b)は、印刷マスクの模式断面図。(A) is a schematic plan view of a printing mask, (b) is a schematic cross section of a printing mask. (a)は、印刷マスクの要部模式平面図、(b)は、印刷マスクの孔部模式断面図。(A) is a principal part schematic plan view of a printing mask, (b) is a hole schematic sectional drawing of a printing mask. 基板にレジストを印刷する製造工程を示すフローチャート。The flowchart which shows the manufacturing process which prints a resist on a board | substrate. スクリーン印刷装置を使った印刷方法を説明する図。The figure explaining the printing method using a screen printing apparatus. スクリーン印刷装置を使った印刷方法を説明する図。The figure explaining the printing method using a screen printing apparatus. マスクに孔あけ加工をするプレス加工装置を示す概略斜視図。The schematic perspective view which shows the press work apparatus which drills a hole in a mask. 孔の形成方法を説明する図。The figure explaining the formation method of a hole. 面取りの形成方法を説明する図。The figure explaining the formation method of chamfering.

符号の説明Explanation of symbols

1…基板としてのフレキシブルプリント基板、4…配線としての電極、6…レジスト、19…スクリーン印刷マスクとしての印刷マスク、19a…シート、23…スキージ、28…遮蔽部、29…開口部、30…孔としての第1孔、30a,31a…面取り、31…孔としての第2孔、32…液状体としてのレジスト材料。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Flexible printed circuit board as a board | substrate, 4 ... Electrode as wiring, 6 ... Resist, 19 ... Print mask as a screen printing mask, 19a ... Sheet, 23 ... Squeegee, 28 ... Shielding part, 29 ... Opening part, 30 ... 1st hole as a hole, 30a, 31a ... chamfering, 31 ... 2nd hole as a hole, 32 ... resist material as a liquid.

Claims (5)

1枚のシートにおいて、印刷形状に形成され液状体を通過させる開口部と、
前記液状体を通過させない遮蔽部と、を有し、
前記開口部には複数の孔が配置されていることを特徴とするスクリーン印刷マスク。
In one sheet, an opening that is formed in a printed shape and allows liquid to pass through,
A shielding part that does not allow the liquid to pass through,
A screen printing mask, wherein a plurality of holes are arranged in the opening.
請求項1に記載のスクリーン印刷マスクであって、
前記開口部において、前記遮蔽部から離れている場所の開口率に比べて前記遮蔽部に近い場所の少なくとも一部の開口率が小さく形成されていることを特徴とするスクリーン印刷マスク。
The screen printing mask according to claim 1,
The screen printing mask according to claim 1, wherein an opening ratio of at least a part of a location near the shielding portion is smaller than an opening ratio of the opening portion away from the shielding portion.
請求項1に記載のスクリーン印刷マスクであって、
前記孔は面取りされていることを特徴とするスクリーン印刷マスク。
The screen printing mask according to claim 1,
A screen printing mask, wherein the hole is chamfered.
請求項1〜3のいずれか一項に記載のスクリーン印刷マスクを基板に重ねて、
前記スクリーン印刷マスクの上に前記液状体を塗布し、
スキージを用いて前記液状体を前記孔から押し出して、
前記基板に印刷することを特徴とする印刷方法。
The screen printing mask according to any one of claims 1 to 3 is overlaid on a substrate,
Applying the liquid material on the screen printing mask;
Extrude the liquid from the hole using a squeegee,
A printing method comprising printing on the substrate.
配線が形成された基板上に、請求項4に記載の印刷方法を用いて、レジストが塗布されていることを特徴とする基板。   A substrate, wherein a resist is applied on a substrate on which wiring is formed by using the printing method according to claim 4.
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