JP2009129840A - Plasma display panel and its manufacturing method - Google Patents

Plasma display panel and its manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP2009129840A
JP2009129840A JP2007306239A JP2007306239A JP2009129840A JP 2009129840 A JP2009129840 A JP 2009129840A JP 2007306239 A JP2007306239 A JP 2007306239A JP 2007306239 A JP2007306239 A JP 2007306239A JP 2009129840 A JP2009129840 A JP 2009129840A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crystal
display panel
plasma display
phosphor
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007306239A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hirofumi Yamakita
裕文 山北
Keisuke Okada
啓介 岡田
Hiroto Yanagawa
博人 柳川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP2007306239A priority Critical patent/JP2009129840A/en
Publication of JP2009129840A publication Critical patent/JP2009129840A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma display panel and its manufacturing method capable of showing excellent image display performance even though attempting microfabrication of a discharge cell structure and expecting manufacturing with good yield. <P>SOLUTION: A protection layer 14 and a crystal particle layer 15 made of MgO particulate are arranged on a front substrate 11 of the plasma display panel 1, and dome-shaped phosphor layers 17R, 17G, and 17B having external appearances of half-elliptical globular shapes so as to involve gaps 16 are arranged on ranges corresponding to respective discharge cells C on the surface of the crystal particle layer 15. Furthermore, a crystal 160 of zinc oxide having a shape extending needle-shaped sections 162 from the body center 161 of an equilateral tetrahedron to the four vertex directions is arranged on each gap 16, and the height in the panel direction of the gap 160 is set up as about 30 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネルに関し、特に蛍光体層の構成に関する。   The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly to a structure of a phosphor layer.

プラズマディスプレイパネル(以下、単に「PDP」と称する。)は、テレビジョン分野などで広く実用されている映像表示装置である。PDPには直流(DC)型と交流(AC)型があるが、AC型の方が高速駆動や大画面化に適することが知られ、主流となっている。
図5(a)は、一般的なAC型の構成を持つPDP900の展開斜視図である。当図に示されるPDP900は、前面パネル910及び背面パネル1020が放電空間930をおいて対向配置され、前面基板911上に配された走査電極912a及び維持電極912bからなる表示電極対912と、背面基板921上に配されたデータ電極922とが交差するように配設される。上記電極の交差領域に対応して放電セルが形成され、各放電セル毎の放電空間930は誘電体層923上の隔壁924によりマトリクス状に区分けされる。
A plasma display panel (hereinafter simply referred to as “PDP”) is a video display device that is widely used in the television field and the like. There are a direct current (DC) type and an alternating current (AC) type of PDP, and the AC type is known to be suitable for high-speed driving and large screen, and has become mainstream.
FIG. 5A is a developed perspective view of a PDP 900 having a general AC type configuration. The PDP 900 shown in the figure includes a display electrode pair 912 composed of a scan electrode 912a and a sustain electrode 912b disposed on a front substrate 911, with a front panel 910 and a rear panel 1020 arranged opposite to each other with a discharge space 930, and a rear surface. The data electrode 922 disposed on the substrate 921 is arranged to intersect. Discharge cells are formed corresponding to the intersecting regions of the electrodes, and the discharge space 930 for each discharge cell is divided into a matrix by partition walls 924 on the dielectric layer 923.

PDP900の駆動時には、各々の放電空間930内で表示電極対912に電圧印加され、放電空間930に紫外線による放電が発生する。紫外線は放電セル930内に配設された蛍光体層925(925R〜925B)に照射され、これにより可視光を生じ、当該可視光が前面パネル910側に出射される。
AC型PDPには高精細化等に対する市場の要求に対して、表示性能の向上が日々求められている。高精細化のためには、電極本数を増加させ、これに伴って各放電セル毎に区分けされた放電空間930の数も増やす必要がある。ここで図5(b)は、PDP900の仮想平面Aの断面図を示す。当図のように、パネルサイズが同一で高精細化を図る場合、これに応じて各放電空間930は微小化され、ピッチサイズWも小さくなる。当該微小化に比例して、隔壁924の形成領域とデータ電極922の形成領域とがパネルの厚み方向において重畳するようになる(図中、Wの長さが0以下となり、データ電極幅Wに対して隔壁幅Wが重なる状態)。この重畳が起こるとデータ電極922を用いた電圧印加時において、放電空間930における電気的な密度分布の歪みを招くので、パネルの電圧特性にバラツキが発生する。また、放電セルが小さくなると放電領域も小さくなるので、発光効率の低下を招き、壁電荷の不足から放電電圧が増大する恐れもある。
When the PDP 900 is driven, a voltage is applied to the display electrode pair 912 in each discharge space 930, and a discharge due to ultraviolet rays is generated in the discharge space 930. The ultraviolet rays are applied to the phosphor layer 925 (925R to 925B) disposed in the discharge cell 930, thereby generating visible light, and the visible light is emitted to the front panel 910 side.
The AC type PDP is required to improve display performance every day in response to market demands for higher definition and the like. In order to achieve high definition, it is necessary to increase the number of electrodes and accordingly increase the number of discharge spaces 930 divided for each discharge cell. Here, FIG. 5B shows a cross-sectional view of the virtual plane A of the PDP 900. As those figures, if the panel size is achieved higher definition at the same, each of the discharge spaces 930 depending on which is miniaturized, the pitch size W C is also small. In proportion to the miniaturization, the formation region of the formation region and the data electrodes 922 of the partition 924 is to overlap in the thickness direction of the panel (in the figure, the length of W a is 0 or less, the data electrode width W state partition wall width W R overlap with respect to D). When this superposition occurs, distortion of the electrical density distribution in the discharge space 930 is caused when a voltage is applied using the data electrode 922, so that the voltage characteristics of the panel vary. In addition, since the discharge area becomes smaller as the discharge cell becomes smaller, the light emission efficiency is lowered, and the discharge voltage may increase due to the lack of wall charges.

これらを改善するための一手法として、前面基板911あるいは背面基板921の表面に、正四面体の体心から4頂点方向に針状部が延びたZnO(酸化亜鉛)の結晶体を配設し、結晶体の先端に局所的に高電界を発生させて放電発生を促進するPDPが提案されている(例えば、特許文献1)。
また、特許文献2には、空隙を有する絶縁体と、無機蛍光体粒子を含む多孔質発光体とからなる発光素子をマトリックス状に2次元配列した構成からなる平面ディスプレイデバイスが開示されている。多孔質蛍光体を形成するために、体心部から4本の針状部が等間隔に延出してなる、いわゆるテトラポッド形状を有するZnOの四面体型結晶体を無機蛍光体粒子に混合する実施例も開示されている。
特開2007−103150号公報 特開2004−200143号公報
As a technique for improving these, a ZnO (zinc oxide) crystal body in which needle-shaped portions extend from the body center of the regular tetrahedron to the four vertex directions on the surface of the front substrate 911 or the back substrate 921 is disposed. A PDP that promotes the generation of a discharge by locally generating a high electric field at the tip of a crystal has been proposed (for example, Patent Document 1).
Further, Patent Document 2 discloses a flat display device having a configuration in which light-emitting elements composed of an insulator having voids and a porous light emitter containing inorganic phosphor particles are two-dimensionally arranged in a matrix. In order to form a porous phosphor, an inorganic phosphor particle is mixed with a ZnO tetrahedral crystal having a so-called tetrapod shape in which four needle-shaped portions extend from the body center at equal intervals. Examples are also disclosed.
JP 2007-103150 A JP 2004-200143 A

しかしながら、上記いずれの従来技術を用いたとしても、放電空間の更なる微小化により、性能表示性能に対して次の問題が生じうる。
すなわち、一般にPDPでは、表示電極を形成した前面パネルに対し、隔壁及び蛍光体層を形成した背面パネルとを封着工程において位置合わせする必要があり、放電セルの微細化に伴い、より高精度に位置合わせを行うことが要求される。しかし、異なるパネル同士を位置合わせする際の精度には自ずと限界があり、封着工程において表示電極対の位置が隔壁及び蛍光体層に対してどうしても位置ずれしてしまう。この問題は放電セルの微細化に伴って顕著になるほか、特に表示電極が突出部を有する構造やフェンス電極として形成されている場合に、特に悪影響を生じうる問題である。
However, even if any of the above prior arts is used, the following problem may occur with respect to the performance display performance due to further miniaturization of the discharge space.
That is, in general, in the PDP, it is necessary to align the barrier rib and the rear panel on which the phosphor layer is formed with respect to the front panel on which the display electrodes are formed in the sealing process. Alignment is required. However, the accuracy of aligning different panels is naturally limited, and the position of the display electrode pair is inevitably displaced with respect to the barrier ribs and the phosphor layer in the sealing process. This problem becomes conspicuous with the miniaturization of the discharge cell, and is particularly problematic when the display electrode is formed as a structure having a protrusion or a fence electrode.

一方、一般的な隔壁の形成方法によれば、ある程度の形成誤差が生じるので、放電空間の微小化が進むにつれて当該形成誤差は無視できなくなる。これにより、微細な間隔で正確に隔壁を形成する困難性が増大する。隔壁形成誤差の改善が十分でないと、放電空間の微小化に比例して、当該誤差に起因して正確に隔壁を形成できず、放電セル同士における表示性能のバラツキは大きくなる。具体的には、設計上要求する発光効率に対し、実際製品のPDPの発光効率が低くなる。この傾向は、放電空間を区分けする数(微細セルの数)に比例して大きくなり、高精細なPDPにおいて得られるはずの画像表示性能が劣化する原因となる。   On the other hand, according to a general method for forming barrier ribs, a certain amount of formation error occurs, so that the formation error cannot be ignored as the discharge space becomes smaller. This increases the difficulty of accurately forming the partition walls at fine intervals. If the barrier rib formation error is not improved sufficiently, the barrier ribs cannot be formed accurately due to the error in proportion to the miniaturization of the discharge space, and the variation in display performance among the discharge cells increases. Specifically, the light emission efficiency of the actual PDP is lower than the light emission efficiency required by design. This tendency increases in proportion to the number of dividing the discharge space (the number of fine cells), and causes a deterioration in image display performance that should be obtained in a high-definition PDP.

また、特許文献2の従来技術を用いた場合には、図4で示したような従来のAC型PDPに比べて輝度は向上するものの、放電電圧が大きくなってしまう。また、従来のAC型PDPに比べて蛍光体への負担も大きく、動作信頼性の低下を招く恐れもある。
以上のようにPDPの分野においては、未だ解決すべき余地が存在する。
本発明は以上の課題に鑑みてなされたものであって、放電セル構造の微細化を図っても優れた画像表示性能を発揮を発揮でき、歩留まりの良い製造が期待できるPDPとその製造方法の提供を目的とする。
In addition, when the conventional technique of Patent Document 2 is used, although the luminance is improved as compared with the conventional AC type PDP as shown in FIG. 4, the discharge voltage is increased. In addition, the burden on the phosphor is larger than that of the conventional AC type PDP, and there is a possibility that the operation reliability is lowered.
As described above, there is still room to be solved in the field of PDP.
The present invention has been made in view of the above problems, and it is possible to achieve excellent image display performance even if the discharge cell structure is miniaturized, and to provide a PDP that can be expected to be manufactured with a high yield and a method for manufacturing the PDP. For the purpose of provision.

上記の課題を解決するために、本発明は、対向配置された一対のパネルを有するPDPであって、一方のパネルと対向する他方のパネルの主面には、ドーム状の蛍光体層が形成され、当該ドーム状の蛍光体層とこれに被覆されるパネル下層表面との間に放電のための空隙が配設された構成とした。
ここで、前記他方のパネルの主面側には、電極と、当該電極を被覆する誘電体層と、当該誘電体層を被覆する保護層が順次形成され、前記ドーム状の蛍光体層が、保護層上の複数の位置に形成された構成とすることもできる。
In order to solve the above problems, the present invention provides a PDP having a pair of panels arranged opposite to each other, and a dome-shaped phosphor layer is formed on the main surface of the other panel facing the one panel. In addition, a gap for electric discharge is provided between the dome-shaped phosphor layer and the panel lower layer surface covered with the dome-shaped phosphor layer.
Here, on the main surface side of the other panel, an electrode, a dielectric layer covering the electrode, and a protective layer covering the dielectric layer are sequentially formed, and the dome-shaped phosphor layer is It can also be set as the structure formed in the several position on a protective layer.

或いは、前記他方のパネルの主面側には、電極と、当該電極を被覆する誘電体層と、当該誘電体層を被覆する保護層と、酸化マグネシウム結晶粒子群を含む結晶粒子層が順次形成され、前記ドーム状の蛍光体層が、結晶粒子層上の複数の位置に形成された構成とすることも可能である。
また、前記空隙の各々には、正四面体の体心から4頂点方向に針状部が延伸してなる四面体型結晶体、又は、ファイバー型結晶体の少なくともいずれかの結晶体が1個以上配設された構成とすることもできる。
Alternatively, an electrode, a dielectric layer covering the electrode, a protective layer covering the dielectric layer, and a crystal particle layer including magnesium oxide crystal particle groups are sequentially formed on the main surface side of the other panel. The dome-shaped phosphor layer may be formed at a plurality of positions on the crystal particle layer.
Each of the voids has at least one tetrahedral crystal formed by extending needle-shaped portions in the direction of four apexes from the body center of the regular tetrahedron, or at least one crystal of a fiber crystal. It can also be set as the installed structure.

前記結晶体は、具体的にはZnOを主成分として構成でき、結晶体に半導体特性を付与することもできる。この場合、主成分のZnOにGaを添加してなる半導体の結晶体とすることも可能である。
さらに、前記四面体型結晶体を用いる場合には、各頂点同士の間の距離を10μm以上50μm以下とすることもできる。また、前記四面体型結晶体における針状部の先端部の直径を1nm以上50nm以下とすることもできる。
Specifically, the crystal body can be composed of ZnO as a main component, and can impart semiconductor characteristics to the crystal body. In this case, a semiconductor crystal formed by adding Ga to the main component ZnO is also possible.
Furthermore, when the tetrahedral crystal is used, the distance between the vertices can be 10 μm or more and 50 μm or less. Moreover, the diameter of the tip part of the acicular part in the tetrahedral crystal may be 1 nm or more and 50 nm or less.

一方、前記ファイバー型結晶体を用いる場合には、1本の長さを10μm以上50μm以下とすることもできる。また、前記ファイバー型結晶体は、柱状のコア部と、当該コア部の一端に設けられた尖鋭部からなる構成とすることもできる。この場合、コア部の直径を1μm以上5μm以下とし、尖鋭部の直径を1nm以上50nm以下とすることもできる。   On the other hand, when the fiber crystal is used, the length of one fiber can be 10 μm or more and 50 μm or less. Moreover, the said fiber type crystal body can also be set as the structure which consists of a columnar core part and the sharp part provided in the end of the said core part. In this case, the diameter of the core part may be 1 μm or more and 5 μm or less, and the diameter of the sharp part may be 1 nm or more and 50 nm or less.

また、前記空隙においては、前記結晶体が占める空間を除いた残余の空間が、空隙の全体積の50%以上90%以下の範囲とすることもできる。
さらに、前記一対のパネルのうち少なくとも一方のパネルには、他方のパネルとの間に隙間を確保するための支持部材が配設された構成とすることもできる。
また、前記一対の基板には、画面の水平方向に沿って複数の放電セルが配設され、当該水平方向における隣接放電セル同士のピッチが50μm以上160μm以下である構成とすることも可能である。
Further, in the voids, the remaining space excluding the space occupied by the crystal can be in the range of 50% or more and 90% or less of the total volume of the voids.
Further, at least one of the pair of panels may be provided with a support member for securing a gap with the other panel.
Further, a plurality of discharge cells may be disposed on the pair of substrates along the horizontal direction of the screen, and a pitch between adjacent discharge cells in the horizontal direction may be 50 μm or more and 160 μm or less. .

また本発明は、電極を配設した第一基板の主面に当該電極を被覆するように誘電体層及び保護層を形成する第一基板形成工程と、形成した第一の基板を第二の基板と対向させて貼り合わせる封着工程とを経るPDPの製造方法であって、第一基板形成工程と封着工程の間において、結晶体を分散した結晶体分散材料を保護層の表面に部分的に配設する結晶体材料配設工程と、結晶体分散材料の上に蛍光体材料を配設する蛍光体材料配設工程と、前記結晶体分散材料及び前記蛍光体材料を加熱し、蛍光体層を形成するとともに前結晶体分散材料の有機成分を除去して、保護層と蛍光体層との間に空隙を形成する焼成工程とを経るものとした。   The present invention also provides a first substrate forming step of forming a dielectric layer and a protective layer so as to cover the main surface of the first substrate on which the electrode is disposed, and the formed first substrate is a second substrate. A method of manufacturing a PDP that includes a sealing step in which a substrate is bonded to face the substrate, wherein a crystal-dispersed material in which crystals are dispersed is partially formed on the surface of a protective layer between the first substrate forming step and the sealing step. A crystal material material disposing step, a phosphor material disposing step of disposing a phosphor material on the crystal dispersion material, heating the crystal dispersive material and the phosphor material, The body layer was formed and the organic component of the pre-crystal dispersion material was removed, followed by a firing step for forming a gap between the protective layer and the phosphor layer.

さらに本発明は、電極を配設した第一基板の主面に当該電極を被覆するように誘電体層及び保護層を形成する第一基板形成工程と、形成した第一の基板を第二の基板と対向配置させるPDPの製造方法であって、第一基板形成工程と封着工程の間において、酸化マグネシウム微粒子を分散した微粒子分散材料を保護層の表面に配設する結晶粒子材料配設工程と、微粒子分散材料の上に結晶体を分散した結晶体分散材料を部分的に配設する結晶体材料配設工程と、結晶体分散材料の上に蛍光体材料を配設する蛍光体材料配設工程と、配設した前記結晶体分散材料及び前記蛍光体材料を焼成し、蛍光体層を形成するとともに前記結晶体分散材料の有機成分を除去して、結晶粒子層と蛍光体層との間に空隙を形成する焼成工程と、を経るものとした。   Furthermore, the present invention provides a first substrate forming step of forming a dielectric layer and a protective layer so as to cover the main surface of the first substrate on which the electrodes are disposed, and the formed first substrate is a second substrate. A method of manufacturing a PDP that is arranged to face a substrate, wherein a crystal particle material disposing step of disposing a fine particle dispersed material in which magnesium oxide fine particles are dispersed on a surface of a protective layer between a first substrate forming step and a sealing step A crystal material disposing step of partially disposing a crystal disperse material in which a crystal is dispersed on a fine particle disperse material; and a phosphor material disposition of disposing a phosphor material on the crystal disperse material. Firing the disposed crystal dispersion material and the phosphor material, forming a phosphor layer, and removing an organic component of the crystal dispersion material, thereby forming a crystal particle layer and a phosphor layer. And a firing step for forming voids therebetween.

ここで、前記結晶体材料配設工程及び蛍光体材料配設工程の少なくともいずれかにおいて、配設した材料を固化させることもできる。
また、前記結晶粒子配設工程において、配設した材料を固化させることもできる。
さらに前記焼成工程では、第一基板を480℃以上で焼成することもできる。
また、結晶粒子材料配設工程、結晶体材料配設工程、蛍光体材料配設工程では、同一の媒質を含む材料を用いることもできる。
Here, in at least one of the crystalline material arranging step and the phosphor material arranging step, the arranged material can be solidified.
In the crystal particle disposing step, the disposed material can be solidified.
Further, in the firing step, the first substrate can be fired at 480 ° C. or higher.
In the crystal particle material disposing step, the crystal material disposing step, and the phosphor material disposing step, materials containing the same medium can be used.

さらに前記蛍光体配設工程では、インクジェット法を用いて蛍光体材料を前記結晶体分散材料上に配設することもできる。
また、前記蛍光体配設工程では、中心粒径が1μm以上2μm以下の蛍光体を用いることもできる。
Further, in the phosphor arranging step, the phosphor material can be arranged on the crystal dispersion material using an ink jet method.
In the phosphor arranging step, a phosphor having a center particle size of 1 μm or more and 2 μm or less can be used.

本発明に係るPDPは、一対の基板のうち一方の基板上に電極と誘電体層を配設するとともに、当該基板表面に対し、主たる放電空間となる空隙を内包するように蛍光体層を形成する。従って、一つの基板上において、電極と蛍光体層の位置合わせを行うことができるので、従来のように表示電極を形成した前面パネルに対し、隔壁及び蛍光体層を形成した背面パネルを貼り合わせる際に、高精度な位置合わせを必要としない。   In the PDP according to the present invention, an electrode and a dielectric layer are disposed on one of a pair of substrates, and a phosphor layer is formed on the surface of the substrate so as to include a void serving as a main discharge space. To do. Accordingly, since the electrodes and the phosphor layer can be aligned on one substrate, the rear panel on which the barrier ribs and the phosphor layer are formed is bonded to the front panel on which the display electrodes are formed as in the past. However, high-precision alignment is not required.

よって本発明によれば、放電セル構造の微細化によって放電空間の更なる微小化が進んだとしても、電極と蛍光体層の位置合わせを別々の基板同士の間で行う必要がないため、たとえ電極が突出部を有する構造やフェンス電極構造を有する表示電極であっても、従来構成に比べて電極と蛍光体層の位置ずれを極めて小さくできる。従って、当該位置ずれによる発光効率の低下や画像表示性能の劣化を回避することができる。具体的には、1セルピッチが例えば50μm程度の非常に小さな高精細パネルにおいても、1画素毎の蛍光体層を確実に形成できる。なお、1セルピッチが160μmより大きなセルの場合、従来例のような構造でも画素欠陥が比較的少なく形成することができるので、本発明は、1セルピッチが50μm以上160μm以下の放電セルサイズにおいて、一層効果的である。   Therefore, according to the present invention, even if the discharge space is further miniaturized by miniaturization of the discharge cell structure, it is not necessary to align the electrode and the phosphor layer between different substrates. Even when the electrode is a display electrode having a structure having a protruding portion or a fence electrode structure, the positional deviation between the electrode and the phosphor layer can be made extremely small as compared with the conventional configuration. Accordingly, it is possible to avoid a decrease in light emission efficiency and a deterioration in image display performance due to the positional shift. Specifically, the phosphor layer for each pixel can be reliably formed even in a very small high-definition panel having a cell pitch of about 50 μm, for example. Note that in the case of a cell having a cell pitch larger than 160 μm, pixel defects can be formed with a relatively small amount even with the structure of the conventional example. Therefore, the present invention is further improved in a discharge cell size having a cell pitch of 50 μm to 160 μm. It is effective.

また、本発明のPDPでは隔壁が不必要であるため、放電セルの微細化に伴う隔壁形成誤差の問題も根本的に回避でき、飛躍的に歩留まりの低下を改善することが可能となっている。
なお、前記空隙を形成するのに正四面体型結晶体またはファイバー型結晶体を使用すれば、空隙内部から蛍光体層を良好に支えることができ、製造時に良好な蛍光体層と空隙を確実に得ることができる。また、これらの結晶体をZnOを主成分とする材料で構成すれば、電極に電圧が印加されることにより発生する電界によって、電子が放出される効果も得られる。これにより、放電はより低い電圧で開始し放電維持電圧は低減される。さらにZnOに例えばGaを添加し、結晶体に半導体特性を付与すれば、より低い電圧でより多くの電子が放出されるようになり、放電維持電圧はさらに低減される。また、四面体型結晶体における先端部の直径を1nm以上50nm以下とすることにより、あるいは、ファイバー型結晶体をコア部と尖鋭部からなる構成とし、コア部の直径を1μm以上5μm以下、尖鋭部の直径を1nm以上50nm以下とすれば、PDPの駆動時において結晶体の先端部或いは尖鋭部に電界を集中させることができる。これにより空隙において放電が発生しやすくなり、開始放電電圧を効果的に抑制して、放電維持電圧の低減を図ることができる。また、ZnOの結晶体は透明であり、可視光発光を遮ることがないので、発光輝度の維持に最適な材料である。
Further, since the barrier ribs are unnecessary in the PDP of the present invention, the problem of barrier rib formation errors accompanying the miniaturization of discharge cells can be fundamentally avoided, and the yield reduction can be drastically improved. .
If a tetrahedral crystal or fiber crystal is used to form the void, the phosphor layer can be favorably supported from the inside of the void, and a good phosphor layer and void can be ensured at the time of manufacture. Obtainable. Further, if these crystal bodies are made of a material containing ZnO as a main component, an effect of emitting electrons by an electric field generated by applying a voltage to the electrodes can be obtained. As a result, the discharge starts at a lower voltage and the discharge sustaining voltage is reduced. Further, for example, if Ga is added to ZnO to impart semiconductor characteristics to the crystal, more electrons are emitted at a lower voltage, and the discharge sustaining voltage is further reduced. Further, the diameter of the tip of the tetrahedral crystal is set to 1 nm or more and 50 nm or less, or the fiber crystal is composed of a core and a sharp part, and the diameter of the core is 1 μm or more and 5 μm or less. If the diameter is 1 nm or more and 50 nm or less, the electric field can be concentrated on the tip or sharp part of the crystal when the PDP is driven. As a result, discharge is likely to occur in the gap, and the start discharge voltage can be effectively suppressed to reduce the discharge sustain voltage. In addition, since the ZnO crystal is transparent and does not block visible light emission, it is an optimal material for maintaining the light emission luminance.

なお、前記空隙の空隙率を90%以下とすれば、結晶体により蛍光体層を安定して支持できるほか、空隙の高さ(パネル厚み方向高さ)も良好に確保できる。また、空隙率を50%以上とすれば、放電のための十分な空間を確保でき、空隙率が小さすぎることによる放電電圧の増大防止できる。
さらに本発明において、蛍光体層を保護層の表面に形成すれば、駆動時に保護層の豊富な二次電子放出効果を受けて、良好に放電を開始することができ、放電遅れの改善を期待できる。さらに、保護層の表面に酸化マグネシウム結晶粒子からなる結晶粒子層を形成すれば、一層二次電子の放出効果が得られる、放電遅れの大幅な改善とともに、発光効率のさらなる向上を期待できる。
If the void ratio of the voids is 90% or less, the phosphor layer can be stably supported by the crystal, and the void height (panel thickness direction height) can be secured well. Further, if the porosity is 50% or more, a sufficient space for discharge can be secured, and an increase in discharge voltage due to the porosity being too small can be prevented.
Furthermore, in the present invention, if the phosphor layer is formed on the surface of the protective layer, it is possible to start discharge favorably by receiving the abundant secondary electron emission effect of the protective layer at the time of driving, and an improvement in discharge delay is expected. it can. Furthermore, if a crystal particle layer composed of magnesium oxide crystal particles is formed on the surface of the protective layer, a secondary electron emission effect can be obtained, and a further improvement in light emission efficiency can be expected along with a significant improvement in discharge delay.

また、本発明に係るPDPでは、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板には、他方の基板に当接するように前記空間を確保する支持部材を配設すれば、放電空間の圧力と大気圧の差により両基板が変形したり、空隙、蛍光体層等が破壊されるのを防止できる。ここで本発明では、放電セルを区画するための隔壁は不要であるため、従来構成の隔壁のようにマトリックス状にあるいはストライプ状に各色のセル毎に支持部材を設ける必要はない。   In the PDP according to the present invention, if at least one of the pair of substrates is provided with a support member that secures the space so as to be in contact with the other substrate, the pressure of the discharge space and the atmospheric pressure It is possible to prevent the two substrates from being deformed due to the difference between them and the voids, the phosphor layers, etc. from being destroyed. Here, in the present invention, since the partition walls for partitioning the discharge cells are unnecessary, it is not necessary to provide a support member for each cell of each color in the form of a matrix or stripe like the partition walls of the conventional configuration.

一方、本発明に係る製造方法においては、一方の基板に面放電させるために必要な電極、誘電体層及び保護層、あるいは結晶粒子層に加え、これらとともに空隙と蛍光体層を形成する。そのため、他方の基板と貼り合わせる際において高精度な位置合わせを必要とせず、基板の位置ずれによって製造工程の歩留まりの低下を招くことはない。
また、この際、結晶粒子層、空隙、及び蛍光体層を形成する各工程において、各々の層をいったん固化させるようにすれば、各層の形状を変形させたり破壊することなく、層を形成することができ、製造効率上の利点が大きい。
On the other hand, in the manufacturing method according to the present invention, in addition to the electrode, dielectric layer and protective layer, or crystal particle layer necessary for surface discharge on one substrate, a void and a phosphor layer are formed together with these. Therefore, high-precision alignment is not required when bonding to the other substrate, and the yield of the manufacturing process is not reduced due to the displacement of the substrate.
At this time, in each step of forming the crystal particle layer, the void, and the phosphor layer, if each layer is solidified once, the layer is formed without deforming or destroying the shape of each layer. The manufacturing efficiency advantage is great.

また、前記一対の基板の封着工程の前に、基板を焼成する工程を行えば、空隙及び蛍光体層、あるいは結晶粒子層の材料中の有機成分の過半を一括して除去することができる。このため、パネル内に有機成分が残留するのを効果的に防止でき、有機成分が放電に及ぼす等の悪影響を回避できる。
また、結晶粒子層、空隙、蛍光体層に用いる材料に使用する媒質を同一のものとすることにより、焼成工程や、排気・封着工程においてパネルを封着・排気する際に出るガスの種類を増して放電に悪影響を及ぼすのを防ぐことができる。
Further, if the step of baking the substrate is performed before the sealing step of the pair of substrates, a majority of the organic components in the material of the void and the phosphor layer or the crystal particle layer can be removed at once. . For this reason, it can prevent effectively that an organic component remains in a panel, and can avoid the bad influences which an organic component exerts on discharge.
In addition, by using the same medium for the material used for the crystal particle layer, voids, and phosphor layer, the type of gas that is emitted when sealing and exhausting the panel in the firing process and exhaust / sealing process Can be prevented from adversely affecting the discharge.

さらに、蛍光体材料をインクジェット法で塗布すれば、各放電セル及び画素に対する配設位置のずれを防止し、高精度なPDPを作製できる。また、このときに使用する蛍光体の中心粒径を2μm以下とすれば、インクジェットのノズルから吐出される際の詰まりを防止できる。さらに中心粒径を1μm以上とすれば、この効果さらに高めることができ、微細セルを良好に形成できるので、形成不良に伴う発光効率の低下を極力抑えることができる。   Furthermore, if the phosphor material is applied by an ink jet method, a displacement of the arrangement position with respect to each discharge cell and pixel can be prevented, and a highly accurate PDP can be manufactured. Further, if the center particle diameter of the phosphor used at this time is 2 μm or less, clogging when ejected from an inkjet nozzle can be prevented. Furthermore, if the center particle diameter is 1 μm or more, this effect can be further enhanced, and fine cells can be formed satisfactorily, so that a decrease in luminous efficiency due to poor formation can be suppressed as much as possible.

以下に、本発明の実施の形態及び実施例を説明するが、当然ながら本発明はこれらの形式に限定されるものでなく、本発明の技術的範囲を逸脱しない範囲で適宜変更して実施することができる。
1.PDPの全体構成
図1は、本発明の実施の形態に係るPDP1の要部展開斜視図である。図1は、PDP1は、前面パネル10と背面パネル20とが放電空間3を挟んで対向配置され、各パネル10,20が各周辺領域において内部封止されて構成されている。
(1)前面パネル10
前面パネル10は、前面基板11上に複数対の表示電極対12が配設され、これらを覆うように誘電体層13、保護層14、結晶粒子層15、空隙16、蛍光体層17(17R、17G、17B)が順次積層されてなる。
Embodiments and examples of the present invention will be described below, but the present invention is naturally not limited to these forms, and may be appropriately modified and implemented without departing from the technical scope of the present invention. be able to.
1. Overall Configuration of PDP FIG. 1 is an exploded perspective view of a main part of a PDP 1 according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, the PDP 1 is configured such that a front panel 10 and a rear panel 20 are arranged to face each other with the discharge space 3 interposed therebetween, and the panels 10 and 20 are internally sealed in each peripheral region.
(1) Front panel 10
In the front panel 10, a plurality of display electrode pairs 12 are disposed on a front substrate 11, and a dielectric layer 13, a protective layer 14, a crystal particle layer 15, a gap 16, and a phosphor layer 17 (17R) are disposed so as to cover them. , 17G, 17B) are sequentially stacked.

前面基板11は約2mmの厚みを持つガラス基板であって、例えば硼珪酸アルカリ土類系ガラス、ソーダ石灰ガラス、約570℃の高歪点ガラス等から構成される。
表示電極対12は、後述の図2に示すように主放電ギャップGをおいてストライプ状に延伸された一対のスキャン電極(Scn)及びサステイン電極(Sus)からなり、前面基板11の表面において複数対にわたり形成されている。Scn、Susはともに、複数対の透明電極121、122がストライプ状に形成された上に、透明電極121、122の抵抗を下げるバス電極123、124が積層されてなる。透明電極121、122は、ITO(Indium Tin Oxide)やSnOあるいはZnOなどを主成分として構成され、サイズ例として厚み0.1μm、幅60μmにそれぞれ設定されている。バス電極123、124はAgを主成分とし、その厚みは2〜10μm、幅は35μmである。なお、透明電極121、122が無い構成も適用可能である。また、バス電極123、124はAg以外でもよく、銅やアルミニウムなどを主成分とする薄膜(厚み0.1〜1.0μm)、あるいはCr/Cu/Crの積層膜からなる薄膜(厚み0.1〜1.0μm)なども適用可能である。表示電極対12は、駆動時には外部の駆動回路(不図示)から電圧印加され、後述する放電空間3で放電を発生させる手段として寄与する。
The front substrate 11 is a glass substrate having a thickness of about 2 mm, and is made of, for example, borosilicate alkaline earth glass, soda lime glass, high strain point glass at about 570 ° C., or the like.
The display electrode pair 12 includes a pair of scan electrodes (Scn) and sustain electrodes (Sus) extending in a stripe shape with a main discharge gap G as shown in FIG. It is formed over a pair. In both Scn and Sus, a plurality of pairs of transparent electrodes 121 and 122 are formed in a stripe shape, and bus electrodes 123 and 124 for lowering the resistance of the transparent electrodes 121 and 122 are laminated. The transparent electrodes 121 and 122 are mainly composed of ITO (Indium Tin Oxide), SnO 2, ZnO, or the like, and are set to a thickness example of 0.1 μm and a width of 60 μm, respectively. The bus electrodes 123 and 124 are mainly composed of Ag, and have a thickness of 2 to 10 μm and a width of 35 μm. A configuration without the transparent electrodes 121 and 122 is also applicable. The bus electrodes 123 and 124 may be other than Ag, and may be a thin film (thickness 0.1 to 1.0 μm) mainly composed of copper, aluminum, or the like, or a thin film (thickness 0. 1 to 1.0 μm) is also applicable. The display electrode pair 12 is applied with a voltage from an external drive circuit (not shown) at the time of driving, and contributes as a means for generating discharge in the discharge space 3 to be described later.

誘電体層13は、所定の誘電率を持つPbO系やBi系の低融点ガラスからなるものであって、放電を良好に放電空間内に発生させるとともに、表示電極対12を被覆して保護するために設けられる。
保護層14は、主に駆動時の放電により生じるイオンの衝突から誘電体層13を保護するために設けられ、例えば、MgO、CaO,SrO,BaO等を主成分とする材料を蒸着法等に基づき、約1.0μmの厚みで形成されたものである。
The dielectric layer 13 is made of a PbO-based or Bi 2 O 3- based low-melting glass having a predetermined dielectric constant, and generates a discharge in the discharge space and covers the display electrode pair 12. Provided to protect.
The protective layer 14 is provided in order to protect the dielectric layer 13 from collision of ions mainly caused by discharge during driving. For example, a material mainly composed of MgO, CaO, SrO, BaO or the like is used for a vapor deposition method or the like. Based on this, it is formed with a thickness of about 1.0 μm.

結晶粒子層15は、MgO結晶粒子群を保護層の表面に配設してなる層であり、主として駆動時において放電空間に2次電子を放出する役目を果たす層である。
次に示す図2(a)は、PDP1を図1のA-A’方向から見た仮想的な断面図である。図2(b)は、1画素を構成する放電セルCの配置を示す前面パネル10のXY平面に沿った正面図である。図中、一点鎖線が放電セルCの境界を示し、点線が透明電極121、122、二点鎖線がバス電極123、124の位置をそれぞれ示す。当図に示す放電セルCは、幅(X)方向のセルピッチがW、長手(Y)方向のセルピッチが3Wのサイズで、正方形の1画素(3W×3W)を構成する。表示電極対12の幅は、主放電ギャップGを挟んで、各放電セルCの長手方向のセルピッチ3Wに収まるように調節されている。
The crystal particle layer 15 is a layer formed by arranging MgO crystal particle groups on the surface of the protective layer, and is a layer that mainly plays a role of emitting secondary electrons to the discharge space during driving.
Next, FIG. 2A is a virtual cross-sectional view of the PDP 1 viewed from the direction AA ′ in FIG. FIG. 2B is a front view of the front panel 10 along the XY plane showing the arrangement of the discharge cells C constituting one pixel. In the figure, the one-dot chain line indicates the boundary of the discharge cell C, the dotted line indicates the position of the transparent electrodes 121 and 122, and the two-dot chain line indicates the position of the bus electrodes 123 and 124, respectively. The discharge cell C shown in the drawing has a size in which the cell pitch in the width (X) direction is W and the cell pitch in the longitudinal (Y) direction is 3 W, and constitutes one square pixel (3W × 3W). The width of the display electrode pair 12 is adjusted so as to be within the cell pitch 3W in the longitudinal direction of each discharge cell C across the main discharge gap G.

PDP1では、その主たる特徴部分として、各放電セルC毎に対応する結晶粒子層15の表面に対し、蛍光体層17R〜17Bが配設されている。
各蛍光体層17R〜17Bは図2(b)に示すように、被覆対象となる各放電セルCに対応した下層表面(結晶粒子層15の表面)の領域に対し、結晶粒子層15との間で空隙16を内包できるように、略楕円半球状の外観を持つドーム状として構成されている。蛍光体層17R、17G、17Bは、赤色、緑色、青色のいずれかの蛍光体材料で個別に構成されており、駆動時に空隙16の内部において発生する放電により紫外線励起されると、各色いずれかの可視光を出射する。
In the PDP 1, phosphor layers 17 </ b> R to 17 </ b> B are disposed on the surface of the crystal particle layer 15 corresponding to each discharge cell C as a main characteristic portion.
As shown in FIG. 2 (b), each of the phosphor layers 17R to 17B is in contact with the crystal particle layer 15 with respect to the region of the lower layer surface (surface of the crystal particle layer 15) corresponding to each discharge cell C to be coated. It is configured as a dome shape having a substantially elliptical hemispherical appearance so that the gap 16 can be enclosed between them. The phosphor layers 17R, 17G, and 17B are individually composed of any one of red, green, and blue phosphor materials. When the ultraviolet rays are excited by the discharge generated in the gap 16 during driving, any one of the colors is selected. Of visible light.

各蛍光体層17R〜17Bとこれに被覆される結晶粒子層15との間に内包される空隙16は、z方向高さが約30μm〜40μmであって、PDPの駆動時には当該空隙16において放電が発生し、主たる放電空間として機能する。
なお、蛍光体層17R〜17Bの形状は略半楕円球状に限定するものではなく、これ以外の形状、例えば半球状、直方体状等の外観を持つドーム状として構成することもできる。このような形状の調整は製造時において、印刷法におけるパターンマスクの開口部の形状を設定することで、適宜調節が可能である。
The gap 16 included between each of the phosphor layers 17R to 17B and the crystal particle layer 15 coated thereon has a height in the z direction of about 30 μm to 40 μm, and discharge is caused in the gap 16 when the PDP is driven. Occurs and functions as the main discharge space.
The shape of the phosphor layers 17R to 17B is not limited to a substantially semi-elliptical sphere, but may be configured as a dome shape having an appearance other than this, for example, a hemispherical shape or a rectangular parallelepiped shape. Such adjustment of the shape can be appropriately adjusted by setting the shape of the opening of the pattern mask in the printing method at the time of manufacture.

空隙16には図2(a)に示すように、主として製造時に蛍光体層17R〜17B及び空隙16の各形状を保持するための支柱として、複数の結晶体160が配設されている。図3(a)は結晶体160の構成を示す拡大図である。結晶体160は、正四面体の体心161から4頂点方向に針状部162が延びたテトラポッド形状を有する透明なZnOの結晶体(単結晶ウィスカ)である。結晶体160の針状部162の1本1本の長さは10〜15μmであり、正四面体の頂点と頂点の間の距離は10μm以上50μm以下である。   As shown in FIG. 2A, a plurality of crystal bodies 160 are disposed in the gap 16 mainly as pillars for holding the respective shapes of the phosphor layers 17 </ b> R to 17 </ b> B and the gap 16 during manufacturing. FIG. 3A is an enlarged view showing the configuration of the crystal body 160. The crystal body 160 is a transparent ZnO crystal body (single crystal whisker) having a tetrapod shape in which needle-like portions 162 extend from the tetrahedral body center 161 toward the four apexes. The length of each needle-like portion 162 of the crystal body 160 is 10 to 15 μm, and the distance between the apexes of the regular tetrahedron is 10 μm or more and 50 μm or less.

なお、空隙16に入れる結晶体160は、これによって製造時に蛍光体層17R〜17Gの形状を支持できればよく、1個以上の個数であればよい。しかしながら、少なすぎると前記支持効果が得られず、逆に多すぎると空隙16中の放電空間を減少させるおそれがあるため、蛍光体層17R〜17Bを支える支柱の効果と、放電空間3の確保の両面から、空隙率(空隙16において、前記結晶体160が占める空間を除いた残余の空間)を50%以上90%以下の範囲とするのが好適である。空隙率を90%以下とすることで、空隙16の高さ(パネル厚み方向高さ)を十分確保できる。また、空隙率を50%以上とすることで、放電電圧の増大を防止できる。   In addition, the crystal body 160 put in the space | gap 16 should just support the shape of the fluorescent substance layers 17R-17G at the time of manufacture by this, and should just be one or more pieces. However, if the amount is too small, the above supporting effect cannot be obtained, and conversely if too large, the discharge space in the gap 16 may be reduced. Therefore, the effect of the pillars supporting the phosphor layers 17R to 17B and the securing of the discharge space 3 are likely. From the two surfaces, it is preferable that the porosity (the remaining space excluding the space occupied by the crystal body 160 in the void 16) be in the range of 50% to 90%. By setting the porosity to 90% or less, the height of the gap 16 (the height in the panel thickness direction) can be sufficiently secured. Moreover, an increase in discharge voltage can be prevented by setting the porosity to 50% or more.

(2)背面パネル20
背面パネル20は、背面基板21上に併設されたストライプ状のデータ(アドレス)電極22と、各データ電極22を被覆するように形成された誘電体層23と、さらに所定間隔毎に併設されたリブ状の支持部材24が形成されてなる。
なお、データ電極22は上記表示電極対12と交差する方向に配設されている。
(2) Rear panel 20
The back panel 20 is provided with striped data (address) electrodes 22 provided on the back substrate 21, a dielectric layer 23 formed so as to cover each data electrode 22, and provided at predetermined intervals. A rib-shaped support member 24 is formed.
The data electrode 22 is disposed in a direction crossing the display electrode pair 12.

背面基板21は、前面基板11と同じく硼珪酸アルカリ土類系ガラス等のガラス材料からなり、約2mmの厚みを有する。
データ電極22はAgからなる帯状電極であり、2〜10μmの厚み及び30〜40μmの幅を有する。データ電極22はAgだけでなく、CuやAl等を主成分とする薄膜(厚み0.1〜1.0μm)、Cr/Cu/Crの積層膜からなる薄膜(厚み0.1〜1.0μm)等も適用可能である。
The back substrate 21 is made of a glass material such as borosilicate alkaline earth glass, like the front substrate 11, and has a thickness of about 2 mm.
The data electrode 22 is a strip electrode made of Ag, and has a thickness of 2 to 10 μm and a width of 30 to 40 μm. The data electrode 22 is not only Ag but also a thin film (thickness 0.1 to 1.0 μm) mainly composed of Cu, Al or the like, or a thin film (thickness 0.1 to 1.0 μm) made of a laminated film of Cr / Cu / Cr. ) Etc. are also applicable.

誘電体層23は、ZnOやBiを含有した酸化物ガラスからなる8〜15μmの膜厚を有する層であって、所定の誘電率を有し、データ電極22を被覆して保護する。
支持部材24は、ここではY方向に延伸して配置されたリブ状部材としており、サンドブラストあるいはフォトリソグラフィー法により形成されている。当該支柱部材24は前面基板11と背面基板21との間隔を保持するとともに、両基板11、21が大気圧によって変形したり、前面パネル10とに形成された空隙16、蛍光体層17R〜17B等が背面パネル20の主面と当接して破壊されるのを防止する役目をなす。
The dielectric layer 23 is a layer made of oxide glass containing ZnO or Bi 2 O 3 and having a thickness of 8 to 15 μm, has a predetermined dielectric constant, and covers and protects the data electrode 22. .
Here, the support member 24 is a rib-like member arranged extending in the Y direction, and is formed by sandblasting or photolithography. The support member 24 keeps the distance between the front substrate 11 and the rear substrate 21, and both the substrates 11 and 21 are deformed by atmospheric pressure, or the gap 16 formed in the front panel 10 and the phosphor layers 17 </ b> R to 17 </ b> B. And the like are brought into contact with the main surface of the back panel 20 and are prevented from being broken.

なお、支持部材24は、形状的には従来のPDPにおける隔壁と類似しているが、従来の隔壁が各放電セルCを区画し、その側面に蛍光体層が形成されるのに対し、PDP1における支持部材24は放電セルCの区画とは無関係に形成でき、蛍光体層17R〜17Bも支持部材24に依存せず別個に配設できる点で明確な差異がある。
(3)放電空間3
前面パネル10と背面パネル20の対向間隙に存在する放電空間3には、高真空状態になるように排気後、He、Xe及びNeの内の少なくとも1種の希ガス成分からなる放電ガスが20.0〜79.8kPa(150〜600Torr)の圧力で封入されている。ここで、上記蛍光体層17R〜17Bには焼結した蛍光体粒子同士の間に微細な間隙が存在するため、当該放電ガスは蛍光体層17R〜17Bに内包された空隙16にも行き渡り、同様の圧力で調節される。なお、PDP1における発光効率の向上のため、上記放電ガスにおけるXe含有量は20〜100%(体積%)とするのが望ましい。
The support member 24 is similar in shape to the partition wall in the conventional PDP, but the conventional partition wall partitions each discharge cell C, and a phosphor layer is formed on the side surface of the support member 24. The support member 24 can be formed regardless of the section of the discharge cell C, and the phosphor layers 17R to 17B can be provided separately without depending on the support member 24.
(3) Discharge space 3
In the discharge space 3 existing in the facing gap between the front panel 10 and the back panel 20, a discharge gas composed of at least one kind of rare gas component of He, Xe and Ne is exhausted so as to be in a high vacuum state. It is sealed at a pressure of 0.0 to 79.8 kPa (150 to 600 Torr). Here, since there are fine gaps between the sintered phosphor particles in the phosphor layers 17R to 17B, the discharge gas also reaches the voids 16 included in the phosphor layers 17R to 17B. Adjust with similar pressure. In order to improve the light emission efficiency in the PDP 1, the Xe content in the discharge gas is preferably 20 to 100% (volume%).

以上の構成1を持つPDPでは、駆動時において、まず所定の表示電極対12とデータ電極22においてアドレッシングがなされ、次いで表示電極対12に電力が供給される。そして、対応する各表示電極対12に対応した結晶粒子層15の表面から、主として空隙16で維持放電がなされる。当該維持放電で発生した紫外線は、空隙16を内包するように形成された蛍光体層17R〜17Bの内壁に当たり、ここでRGBいずれかの色の可視光発光がなされる。可視光は前面パネル10から画像表示として外部発光に供される。なおPDP1では、放電は空隙16の周囲の放電空間3においても発生しうるが、主として可視光発光には空隙16において発生する放電が寄与する。   In the PDP having the above-described configuration 1, at the time of driving, addressing is first performed on the predetermined display electrode pair 12 and the data electrode 22, and then power is supplied to the display electrode pair 12. Then, a sustain discharge is mainly generated in the gap 16 from the surface of the crystal particle layer 15 corresponding to each corresponding display electrode pair 12. The ultraviolet rays generated by the sustain discharge hit the inner walls of the phosphor layers 17R to 17B formed so as to enclose the gap 16, and here, visible light emission of any color of RGB is performed. Visible light is provided from the front panel 10 to external light emission as an image display. In the PDP 1, discharge can occur in the discharge space 3 around the gap 16, but the discharge generated in the gap 16 mainly contributes to visible light emission.

ここでPDP1の製造工程は従来と異なり、前面パネルに対し、蛍光体層を形成した背面パネルとを貼り合わせる構成ではないため、その貼り合わせの際に高度な位置合わせを行う不要もない。従って、PDP1の放電セルCを微細化しても、これにより両パネルの位置合わせにより蛍光体層が前面パネルに対して位置ずれする問題を根本的に回避することができる。   Here, since the manufacturing process of the PDP 1 is different from the conventional one, it does not have a configuration in which the rear panel on which the phosphor layer is formed is bonded to the front panel, and therefore, there is no need to perform advanced positioning at the time of bonding. Therefore, even if the discharge cell C of the PDP 1 is miniaturized, it is possible to fundamentally avoid the problem that the phosphor layer is displaced with respect to the front panel due to the alignment of both panels.

加えて、PDP1では放電セルCを区画するための隔壁を用いる必要が無く、前面パネル10及び背面パネル20を対向配置させて配設させるために、複数の放電セルCを跨ぐ間隔で支持部材24を配設している。従ってPDP1では、高精細化を図るためにセルピッチの幅が非常に小さい(具体的には1セルピッチ(図2中のWに相当するピッチ)が50μm程度の場合)場合であっても、微細化に伴う隔壁形成誤差の問題が生じず、これにより蛍光体層17R〜17Bが形成不良を起こすおそれもない。従って本発明では、このような微細化に伴う形成誤差の障害を防止して、放電セル毎の蛍光体層17R〜17Bを確実に形成できる。   In addition, in the PDP 1, it is not necessary to use partition walls for partitioning the discharge cells C, and the support members 24 are spaced at intervals across the plurality of discharge cells C in order to arrange the front panel 10 and the back panel 20 to face each other. Is arranged. Therefore, in the PDP 1, even if the cell pitch width is very small (specifically, when one cell pitch (pitch corresponding to W in FIG. 2) is about 50 μm) in order to achieve high definition, miniaturization is achieved. Therefore, there is no possibility that the phosphor layers 17R to 17B are poorly formed. Therefore, in the present invention, it is possible to prevent formation errors due to such miniaturization and to reliably form the phosphor layers 17R to 17B for each discharge cell.

なお、放電セルCの幅方向(水平方向)のセルピッチが160μmより大きな構成では、従来例のような構造でも画素欠陥が比較的少なく形成することができるので、本発明は、水平方向のセルピッチが50μm以上160μm以下の微細な放電セル構造に適用すれば、より効果的である。
また、空隙16に結晶体160を入れることにより、主として製造時に蛍光体層17R〜17Bが外圧や重力等により潰れるのを防止して、良好に空隙16の形態を保つことが出来る。また、ZnOからなる結晶体160は透明なため、空隙16中で発生した可視光を遮ったり、発光効率が低減するおそれも小さい。また、ZnOは融点が2000℃と高いので、PDPの製造過程において熱変性することなく、安定した特性を維持できる。さらに、四面体型結晶体160を用いることで空隙16内での配置安定性が高く(異方性緩和効果が高い)、各針状部162の先端に電界が集中し、放電が発生しやすくなる等のメリットも奏される。なお、四面体型結晶体160の1本1本の先端部は直径が1〜50nmの鋭利な形状であり、先端部に電界が集中することによりトンネル効果で電子が放出される。なお、結晶体160の主成分(ここではZnO)に対し、ZnOにGaのような添加物を1at%程度添加すれば、結晶体160を半導体の構成にでき、より電界放出効果を高めることができる。さらに正四面体の頂点と頂点の間の距離を10μm以上50μm以下にすれば、空隙16のサイズを10μm以上150μm以下にすることができ、良好な発光効率を発揮できる放電の空間を確保することができる。
In the configuration in which the cell pitch in the width direction (horizontal direction) of the discharge cells C is larger than 160 μm, even in the structure as in the conventional example, pixel defects can be formed with relatively few defects. It is more effective when applied to a fine discharge cell structure of 50 μm or more and 160 μm or less.
Further, by putting the crystal body 160 in the gap 16, it is possible to prevent the phosphor layers 17R to 17B from being crushed mainly by external pressure, gravity, or the like during manufacturing, and to maintain the shape of the gap 16 well. Further, since the crystal body 160 made of ZnO is transparent, there is little possibility that the visible light generated in the void 16 is blocked or the light emission efficiency is reduced. In addition, since ZnO has a high melting point of 2000 ° C., stable characteristics can be maintained without being thermally denatured during the production process of PDP. Furthermore, by using the tetrahedral crystal 160, the placement stability in the void 16 is high (anisotropy relaxation effect is high), the electric field is concentrated on the tip of each needle-like portion 162, and discharge is likely to occur. Etc. are also exhibited. Note that each tip portion of the tetrahedral crystal 160 has a sharp shape with a diameter of 1 to 50 nm, and electrons are emitted by a tunnel effect when an electric field is concentrated on the tip portion. Note that if an additive such as Ga is added to ZnO in an amount of about 1 at% with respect to the main component of the crystal body 160 (here, ZnO), the crystal body 160 can be configured as a semiconductor, and the field emission effect can be further enhanced. it can. Furthermore, if the distance between the vertices of the regular tetrahedron is set to 10 μm or more and 50 μm or less, the size of the gap 16 can be set to 10 μm or more and 150 μm or less, and a discharge space capable of exhibiting good luminous efficiency is secured. Can do.

なおPDP1の支持部材24は、アドレス電極22と平行に延伸された形状としているが、本発明の支持部材24はこのような形状に限定するものではなく、前面パネル10と背面パネル20とを適切に対向配置させつつ配設できればよい。従って、支持部材24は少なくとも両パネル10、20の周縁領域において設ければよい。ただし、PDP1が大型の場合、前面基板11及び背面基板21が気圧差によってPDP1の厚み方向に変形しうる。この場合には、前面パネル10上の蛍光体層17R〜17B及び空隙16等が背面パネル表面に接触して破壊するおそれがあるので、PDP1のパネル中央領域にも支持部材24を設けるのが望ましい。   Although the support member 24 of the PDP 1 has a shape extending in parallel with the address electrodes 22, the support member 24 of the present invention is not limited to such a shape, and the front panel 10 and the back panel 20 are appropriately connected. What is necessary is just to be able to arrange | position, making it arrange | position facing. Therefore, the support member 24 may be provided at least in the peripheral region of both panels 10 and 20. However, when the PDP 1 is large, the front substrate 11 and the rear substrate 21 can be deformed in the thickness direction of the PDP 1 due to a pressure difference. In this case, since the phosphor layers 17R to 17B and the gaps 16 on the front panel 10 may come into contact with the surface of the rear panel and be destroyed, it is desirable to provide the support member 24 also in the panel central region of the PDP 1. .

その他、支持部材24は従来の隔壁(例えば図4)のように、マトリックス状に形成し、放電セルCを区画するように設けても勿論かまわない。この場合、支持部材24によって、Y方向での誤放電や光学的クロストークの発生がより効果的に防止される。
一方、マトリックス状の支持部材24を設けない場合には、隣接する表示電極対12の間に、放電空間3からの光を遮光するブラックストライプを配設するのが望ましい。このようにすれば、従来の隔壁を設けた場合と同様に放電セルC毎の発光を個別に際立たせ、良好な画像表示性能の発揮が期待できる。ブラックストライプの材料としては、例えば、樹脂にホウ珪酸鉛系ガラスの粉末やビスマス・リン酸混合物のような固形物と、Cr-Mn-Cu系顔料やFe-Co-Cr系顔料等の黒色顔料を混合したものを用いることができる。なお、上記樹脂としては、例えばエチルセルロースを溶剤に溶解させたものを用いることができる。
In addition, the support member 24 may be formed in a matrix shape and partition the discharge cells C as in the conventional barrier rib (for example, FIG. 4). In this case, the support member 24 can more effectively prevent the occurrence of erroneous discharge and optical crosstalk in the Y direction.
On the other hand, when the matrix-like support member 24 is not provided, it is desirable to dispose black stripes that shield light from the discharge space 3 between the adjacent display electrode pairs 12. In this way, the light emission for each discharge cell C can be individually highlighted as in the case where the conventional partition is provided, and excellent image display performance can be expected. Examples of the black stripe material include solid resin such as lead borosilicate glass powder and bismuth / phosphoric acid mixture, and black pigment such as Cr—Mn—Cu pigment and Fe—Co—Cr pigment. Can be used. In addition, as said resin, what dissolved ethyl cellulose in the solvent can be used, for example.

2.製造方法について
以下、PDP1の製造方法の一例について説明する。
(前面パネル10の作製)
厚さ約2.6mmのソーダライムガラスからなる前面基板11の面上に、表示電極対12を作製する。ここでは印刷法によって表示電極対12を形成する例を示すが、これ以外にもダイコート法、ブレードコート法等で形成することができる。
2. About a manufacturing method Hereinafter, an example of the manufacturing method of PDP1 is demonstrated.
(Preparation of front panel 10)
The display electrode pair 12 is produced on the surface of the front substrate 11 made of soda-lime glass having a thickness of about 2.6 mm. Here, an example in which the display electrode pair 12 is formed by a printing method is shown, but other than this, it can be formed by a die coating method, a blade coating method, or the like.

まず、ITO、SnO、ZnO等の透明電極材料を最終厚み約100nmで所定のパターンで前面基板11上に塗布し、乾燥させる。これにより透明電極121、122が作製される。
一方、Ag粉末と有機ビヒクルに感光性樹脂(光分解性樹脂)を混合してなる感光性ペーストを調整し、これを前記透明電極121、122の上に重ねて塗布し、形成する表示電極のパターンを有するマスクで覆う。そして、当該マスク上から露光し、現像工程を経て、590〜600℃程度の焼成温度で焼成する。これにより透明電極121、122上にバス電極123、124が形成される。このフォトマスク法によれば、従来は100μmの線幅が限界とされていたスクリーン印刷法に比べ、30μm程度の線幅までバス電極123、124を細線化することが可能である。バス電極123、124の金属材料としては、Agの他にPt、Au、Al、Ni、Cr、また酸化錫、酸化インジウム等を用いることができる。バス電極123、124は上記方法以外にも、蒸着法、スパッタリング法などで電極材料を成膜したのち、エッチング処理して形成することも可能である。
First, a transparent electrode material such as ITO, SnO 2 , or ZnO is applied on the front substrate 11 in a predetermined pattern with a final thickness of about 100 nm and dried. Thereby, the transparent electrodes 121 and 122 are produced.
On the other hand, a photosensitive paste obtained by mixing a photosensitive resin (photodegradable resin) with Ag powder and an organic vehicle is prepared, and the paste is applied on the transparent electrodes 121 and 122 to form a display electrode. Cover with a mask having a pattern. And it exposes from the said mask, a baking process is carried out at the baking temperature of about 590-600 degreeC through a development process. As a result, bus electrodes 123 and 124 are formed on the transparent electrodes 121 and 122. According to this photomask method, the bus electrodes 123 and 124 can be thinned to a line width of about 30 μm as compared with the screen printing method in which the line width of 100 μm is conventionally limited. As a metal material of the bus electrodes 123 and 124, Pt, Au, Al, Ni, Cr, tin oxide, indium oxide, or the like can be used in addition to Ag. In addition to the above method, the bus electrodes 123 and 124 can also be formed by performing an etching process after forming an electrode material by vapor deposition or sputtering.

次に、表示電極対12の上から、軟化点が550℃〜600℃の酸化鉛系あるいは酸化ビスマス系、SiO系の誘電体ガラス粉末とブチルカルビトールアセテート等からなる有機バインダーを混合したペーストを塗布する。そして550℃〜650℃程度で焼成し、最終厚みが2μm以下の誘電体層13を形成する。
(保護層形成ステップ)
続いて誘電体層13の表面に、所定の厚みの保護層14を蒸着法を用いて成膜する。蒸着源としては、例えばペレット状又は粉末状のMgOを用いる。酸素雰囲気中において、ピアス式電子ビームガンを加熱源として、上記蒸着源を加熱し所望の膜を形成する。ここで、成膜時の電子ビーム電流量、酸素分圧量、基板温度等は成膜後の保護層14の組成には大きな影響を及ぼさないため、任意設定で構わない。なお保護層14の成膜方法としては、上記EB法に限定するものではなく、その他の方法、例えばスパッタ法、イオンプレーティング法等、各種薄膜法を利用してもよい。
Next, a paste in which an organic binder made of lead oxide, bismuth oxide or SiO 2 dielectric glass powder having a softening point of 550 ° C. to 600 ° C. and butyl carbitol acetate or the like is mixed from above the display electrode pair 12. Apply. Then, baking is performed at about 550 ° C. to 650 ° C. to form the dielectric layer 13 having a final thickness of 2 μm or less.
(Protective layer formation step)
Subsequently, a protective layer 14 having a predetermined thickness is formed on the surface of the dielectric layer 13 by vapor deposition. As the vapor deposition source, for example, pellet-shaped or powder-shaped MgO is used. In an oxygen atmosphere, the deposition source is heated using a piercing electron beam gun as a heating source to form a desired film. Here, the electron beam current amount, the oxygen partial pressure amount, the substrate temperature, and the like at the time of film formation do not have a great influence on the composition of the protective layer 14 after film formation, and may be arbitrarily set. The method for forming the protective layer 14 is not limited to the EB method, and other thin film methods such as a sputtering method and an ion plating method may be used.

次に結晶粒子層15、空隙16、蛍光体層17R〜17Gの製造方法について説明する。以下に示すビヒクルは、予めいずれも同一の媒質を含むように用意しておく。
まず所定のMgO結晶粒子群を用意し、これをビヒクルに分散させてペースト状の微粒子分散材料を調整する。このペーストをスリットコーター等によって、前記形成した保護層14の表面に塗布し、ウェット膜厚で約10μmの略均一な膜を形成する。その後、80℃の雰囲気で30分間加熱し、ビヒクル中の溶媒を約90%(重量比)蒸発させ、これにより流動性を奪って固化させる。
Next, the manufacturing method of the crystal particle layer 15, the space | gap 16, and the fluorescent substance layers 17R-17G is demonstrated. The vehicles shown below are prepared in advance so as to include the same medium.
First, a predetermined MgO crystal particle group is prepared and dispersed in a vehicle to prepare a paste-like fine particle dispersion material. This paste is applied to the surface of the protective layer 14 formed by a slit coater or the like to form a substantially uniform film having a wet film thickness of about 10 μm. Thereafter, the mixture is heated in an atmosphere of 80 ° C. for 30 minutes to evaporate about 90% (weight ratio) of the solvent in the vehicle, thereby depriving the fluidity and solidifying.

次に、空隙16に導入する形成する支柱手段として、所定の結晶体を用意する。具体的には、図3(a)に示すZnOを主成分とし、正四面体の体心161から4頂点方向に針状結晶162が延びた結晶体160を用意する。なお四面体型結晶体は、Zn微粒子表面を水中で酸化した後、酸化雰囲気中で加熱して得る方法のほか(Journal of Crystal Growth 102 pp.965-973,1990)、市販製品の正四面体型結晶体として、株式会社アムテック製「パナテトラ(登録商標)WZ-0501」を用いることができる。   Next, a predetermined crystal is prepared as a supporting column means to be introduced into the gap 16. Specifically, a crystal body 160 having ZnO as a main component shown in FIG. 3A and needle crystals 162 extending from the regular tetrahedron body center 161 in the four vertex directions is prepared. The tetrahedral crystal is obtained by oxidizing the surface of Zn fine particles in water and then heating it in an oxidizing atmosphere (Journal of Crystal Growth 102 pp.965-973, 1990), as well as a commercially available tetrahedral crystal. As a body, “Panatetra (registered trademark) WZ-0501” manufactured by Amtec Co., Ltd. can be used.

この結晶体160をビヒクル(エチルセルロース等を溶媒に溶かして粘度を調整したもの)に分散させ、ペースト状の結晶体分散材料を作製する。ビヒクルに対する結晶体160の混合比は、3〜5重量%が適当である。当該ペーストをスクリーン印刷法に基づき、前記固化させた微粒子分散材料の表面に所定の形状で(図2(b)に示す楕円半球状)のパターンで印刷する。ここで図2(a)、(b)に示すように、各結晶体分散材料は、各放電セルC毎に設ける場合には、個々の放電セルC領域に収まるようにセルピッチWの60〜70%の幅で形成することができる。例えばW=95μmのような微細な放電セルCの場合は、60μm程度の幅で設ける。   The crystal body 160 is dispersed in a vehicle (the viscosity of which is adjusted by dissolving ethyl cellulose or the like in a solvent) to produce a paste-like crystal dispersion material. The mixing ratio of the crystal 160 to the vehicle is suitably 3 to 5% by weight. The paste is printed in a predetermined shape (an elliptical hemisphere shown in FIG. 2B) pattern on the surface of the solidified fine particle dispersion material based on a screen printing method. Here, as shown in FIGS. 2A and 2B, when each of the crystal dispersion materials is provided for each discharge cell C, the cell pitch W is 60 to 70 so as to be contained in each discharge cell C region. % Width. For example, in the case of a fine discharge cell C with W = 95 μm, it is provided with a width of about 60 μm.

或いは、各結晶体分散材料はY方向で隣接する放電セルCにわたり設けることができる。この場合、蛍光体層17R〜17Bは当該隣接する放電セルCにわたり形成されることになる。
蛍光体層17R〜17Gは、支持部材24をマトリクス状に形成する場合、結晶体分散材料を矩形主面を持つ形として設け、直方体状の外観を持つように設けることもできる。結晶体分散材料を印刷した後は、80℃の雰囲気で30分間加熱し、ビヒクル中の溶媒を約90%(重量比)蒸発させ、これにより流動性を奪って固化させる。
Alternatively, each crystal dispersion material can be provided over discharge cells C adjacent in the Y direction. In this case, the phosphor layers 17R to 17B are formed over the adjacent discharge cells C.
When the support member 24 is formed in a matrix, the phosphor layers 17R to 17G can be provided so that the crystal-dispersed material has a rectangular main surface and has a rectangular parallelepiped appearance. After printing the crystal dispersion material, it is heated in an atmosphere of 80 ° C. for 30 minutes to evaporate the solvent in the vehicle by about 90% (weight ratio), thereby depriving the fluidity and solidifying.

さらに空隙16と同じように、蛍光体材料をビヒクルに分散させ、ペースト状の蛍光体材料を作製する。そして、当該蛍光体材料を、インクジェット法に基づき、前記固化させた結晶体分散材料の表面を被覆するように塗布する。この塗布方法はスクリーン印刷法でもよいが、本実施例のように精細度の高いパネルを作製するためには、印刷時に画素間の位置ずれが顕著になるため、より塗布精度に優れるインクジェット法が望ましい。   Further, as in the case of the gap 16, the phosphor material is dispersed in the vehicle to produce a paste-like phosphor material. Then, the phosphor material is applied based on an ink jet method so as to cover the surface of the solidified crystal dispersion material. This coating method may be a screen printing method, but in order to produce a high-definition panel as in this example, since the positional deviation between pixels becomes significant during printing, there is an inkjet method with better coating accuracy. desirable.

使用する各蛍光体材料としては、以下のものが例示できる。
赤色蛍光体層の材料;(Y、Gd)BO:Eu
緑色蛍光体層の材料;ZnSiO:Mn
青色蛍光体層の材料;BaMgAl1017:Eu
蛍光体粒子の中心粒径は、インクジェットのノズルから吐出されるときの詰まりを防ぐために2μm以下とし、かつ、発効効率の低下を招くのを極力抑えるために1μm以上とするのが好適である。蛍光体材料を印刷した後は、結晶粒子層15及び空隙16の製造工程と同じく、80℃の雰囲気で30分間加熱し、ビヒクル中の溶媒を約90%(重量比)蒸発させ、これにより流動性を奪って固化させる。
Examples of each phosphor material to be used include the following.
Red phosphor layer material; (Y, Gd) BO 3 : Eu
Green phosphor layer material; Zn 2 SiO 4 : Mn
Blue phosphor layer material; BaMgAl 10 O 17 : Eu
The center particle diameter of the phosphor particles is preferably 2 μm or less in order to prevent clogging when ejected from an inkjet nozzle, and is preferably 1 μm or more in order to suppress the reduction in the effective efficiency as much as possible. After printing the phosphor material, as in the manufacturing process of the crystal particle layer 15 and the voids 16, it is heated in an atmosphere of 80 ° C. for 30 minutes to evaporate about 90% (weight ratio) of the solvent in the vehicle, thereby flowing. Take away sex and solidify.

なお、上記微粒子分散材料、結晶体分散材料、蛍光体材料の各調整の仕方によっては、いずれも粘度を高く設定することもできる。この場合は、各材料を乾燥して固化させなくても、各材料を重ねて効率よく塗布できるため、各材料を固化させるための加熱は行わなくてもよい。
次に、シール用のフリットガラスを背面基板21の周縁領域に塗布する。そして、室温から480℃まで1時間で上昇させ、480℃の加熱雰囲気で保持しつつ30分間、焼成を行う。
It should be noted that the viscosity can be set high depending on how to adjust the fine particle dispersion material, the crystal dispersion material, and the phosphor material. In this case, even if each material is not dried and solidified, it is possible to efficiently apply the materials by overlapping them. Therefore, heating for solidifying each material may not be performed.
Next, a frit glass for sealing is applied to the peripheral area of the back substrate 21. And it raises from room temperature to 480 degreeC in 1 hour, and bakes for 30 minutes, hold | maintaining in a 480 degreeC heating atmosphere.

この焼成工程により、微粒子分散材料、結晶体分散材料、蛍光体材料に使用したビヒクル中に存在する有機成分が一括してほぼ完全に揮発除去される。ここで、各ビヒクルで同一の媒質を使用しているため、焼成時に発生するガスが多成分にわたるのを防止でき、また極微量の有機成分がパネル内に残留してPDPの駆動時にパネル性能に悪影響を及ぼすのを抑制できる。これと同様の効果は、以下のパネルの封着工程・排気行程においても発揮される。   By this firing step, the organic components present in the vehicle used for the fine particle dispersed material, the crystal dispersed material and the phosphor material are almost completely volatilized and removed. Here, since the same medium is used for each vehicle, it is possible to prevent the gas generated during firing from being spread over multiple components, and an extremely small amount of organic components remain in the panel to improve the panel performance when driving the PDP. It can suppress adverse effects. The same effect is also exhibited in the following panel sealing process and exhaust stroke.

以上で結晶粒子層15、空隙16、蛍光体層17R〜17Bが形成され、前面パネル10の作製が完了する。
(背面パネル20の作製)
厚さ約2.6mmのソーダライムガラスからなる背面基板21の表面上に、スクリーン印刷法によりAgを主成分とする導電体材料を一定間隔でストライプ状に塗布し、厚さ約5μmのデータ電極22を形成する。データ電極22の電極材料としては、Ag、Al、Ni、Pt、Cr、Cu、Pd等の金属や、各種金属の炭化物や窒化物等の導電性セラミックスなどの材料やこれらの組み合わせ、あるいはそれらを積層して形成される積層電極も必要に応じて使用できる。
Thus, the crystal particle layer 15, the void 16, and the phosphor layers 17R to 17B are formed, and the production of the front panel 10 is completed.
(Preparation of the back panel 20)
On the surface of the back substrate 21 made of soda-lime glass having a thickness of about 2.6 mm, a conductive material mainly composed of Ag is applied in a stripe pattern at a predetermined interval by a screen printing method, and a data electrode having a thickness of about 5 μm. 22 is formed. As the electrode material of the data electrode 22, materials such as metals such as Ag, Al, Ni, Pt, Cr, Cu, and Pd, conductive ceramics such as carbides and nitrides of various metals, combinations thereof, or combinations thereof are used. A laminated electrode formed by laminating can also be used as necessary.

ここで、PDP1を例えば40インチクラスのNTSC規格もしくはVGA規格とするためには、隣り合う2つのデータ電極22の間隔を0.4mm程度以下に設定する。
続いて、データ電極22を形成した背面基板21の面全体にわたって、鉛系あるいは非鉛系の低融点ガラスやSiO材料からなるガラスペーストを厚さ約20〜30μmで塗布して焼成し、誘電体層23を形成する。
Here, in order to set the PDP 1 to, for example, the 40-inch class NTSC standard or VGA standard, the interval between two adjacent data electrodes 22 is set to about 0.4 mm or less.
Subsequently, a glass paste made of lead-based or non-lead-based low-melting-point glass or SiO 2 material is applied at a thickness of about 20 to 30 μm over the entire surface of the back substrate 21 on which the data electrodes 22 are formed, and is baked. The body layer 23 is formed.

次に、誘電体層23面上に支持部材24を形成する。具体的には低融点ガラス材料のペーストを塗布し、固化した後、サンドブラストで形成するほか、フォトリソグラフィ法を用いて所定のパターンに前記材料を塗布し、固化して形成する。
以上で背面パネル10が完成される。
なお上記方法例では前面基板10および背面基板20をソーダライムガラスからなるものとしたが、これは材料の一例として挙げたものであって、これ以外の材料で構成してもよい。
Next, the support member 24 is formed on the surface of the dielectric layer 23. Specifically, a paste of a low-melting glass material is applied and solidified, and then formed by sandblasting, or the material is applied and solidified in a predetermined pattern using a photolithography method.
Thus, the rear panel 10 is completed.
In the above method example, the front substrate 10 and the rear substrate 20 are made of soda lime glass. However, this is given as an example of the material and may be made of other materials.

(PDPの完成)
作製した前面パネル10に対し、背面パネル20を貼り合わせ、所定温度で加熱して貼着する(封着工程)。
その後、放電空間の内部を高真空(1.0×10‐4Pa)程度に排気する(排気行程)。そして、これに所定の圧力(ここでは66.5kPa〜101kPa)でNe-Xe系やHe-Ne-Xe系、Ne-Xe-Ar系等の放電ガスを封入する(封入工程)。
(PDP completion)
The rear panel 20 is bonded to the manufactured front panel 10 and is heated and bonded at a predetermined temperature (sealing process).
Thereafter, the inside of the discharge space is evacuated to a high vacuum (1.0 × 10 −4 Pa) (exhaust stroke). Then, a discharge gas such as Ne—Xe, He—Ne—Xe, or Ne—Xe—Ar is sealed at a predetermined pressure (here, 66.5 kPa to 101 kPa) (encapsulation step).

以上でPDP1が完成する。
3.空隙形成に使用する材料について
上記実施の形態では、空隙16に四面体型結晶体160を使用した構成を示したが、当該結晶体160は必須ではなく、これを用いなくても蛍光体層17G〜17Bを形成することは可能である。しかしながら、製造時に空隙16の形態を良好に確保するための支柱手段として、結晶体160を用いることは有効である。
Thus, the PDP 1 is completed.
3. About the material used for void | hole formation In the said embodiment, although the structure which used the tetrahedral type | mold crystal body 160 for the space | gap 16 was shown, the said crystal body 160 is not essential and phosphor layer 17G ~ It is possible to form 17B. However, it is effective to use the crystal body 160 as a column means for ensuring a good shape of the void 16 during manufacturing.

また、四面体型結晶体160を用いることにより、空隙16を確実に得ることができるとともに、駆動時に表示電極対12に電圧が印加される際には、針状部162の先端に電界が集中することにより、電子が豊富に放出される効果も期待できる。
また、結晶体は四面体状に限定するものではない。結晶体において電界を集中させる効果が必要ではなく、良好に蛍光体層17R〜17Gや空隙16が形成できれば良いとする場合は、図3(b)に示すような、ZnOを主成分とするファイバー型結晶体160Aを用いてもよい。図3(b)は、当該ファイバー型結晶体160Aを示す斜視図である。
In addition, by using the tetrahedral crystal 160, the gap 16 can be reliably obtained, and when a voltage is applied to the display electrode pair 12 during driving, an electric field is concentrated on the tip of the needle-like portion 162. Therefore, the effect of abundant emission of electrons can be expected.
Further, the crystal is not limited to a tetrahedral shape. In the case where the effect of concentrating the electric field in the crystal body is not necessary, and it is sufficient that the phosphor layers 17R to 17G and the voids 16 can be formed satisfactorily, a fiber mainly composed of ZnO as shown in FIG. A type crystal body 160A may be used. FIG. 3B is a perspective view showing the fiber type crystal body 160A.

当図に示される結晶体160Aは、空隙16を形成するのに必要なコア部163と、電界集中を生じさせて電子放出する役目を果たす尖鋭部164とからなる。結晶体160Aは、市販製品としては、日本電気硝子株式会社の製品が利用できる。ファイバー型結晶体160Aの全体長さは、短かすぎると充分な空隙16が作れず、長すぎると隣接する放電セルCに接触してしまう。従って1本当たりの長さは1〜20μmであることが望ましい。さらにコア部163の直径は1〜5μm、尖鋭部164の直径は1〜50nmの鋭利な形状であることが好ましい。ファイバー型結晶体160Aの1本の長さを10μm以上50μm以下とすることにより、四面体型結晶体160と同様に10μm以上150μm以下の空隙16を形成できるので、良好な発光効率を発揮できる空隙16を確保することが可能である。   The crystal body 160A shown in the drawing includes a core portion 163 necessary for forming the air gap 16 and a sharp portion 164 that plays a role of causing electron concentration by generating an electric field concentration. As the crystal 160A, a product of Nippon Electric Glass Co., Ltd. can be used as a commercial product. If the total length of the fiber type crystal body 160A is too short, a sufficient gap 16 cannot be formed, and if it is too long, it contacts the adjacent discharge cell C. Therefore, the length per one is desirably 1 to 20 μm. Furthermore, it is preferable that the core portion 163 has a sharp shape with a diameter of 1 to 5 μm and the sharp portion 164 has a diameter of 1 to 50 nm. By setting the length of one fiber-type crystal body 160A to 10 μm or more and 50 μm or less, a void 16 of 10 μm or more and 150 μm or less can be formed similarly to the tetrahedral crystal body 160, and thus the void 16 capable of exhibiting good luminous efficiency. Can be secured.

なお、結晶体160と160Aは選択的に使用するほか、所定の割合で混合して用いても良い。
また、上記例では結晶粒子層15を備えるPDP1の構成について例示したが、当該結晶粒子層15は必須の構成ではない。例えば上記のように、結晶体160、160Aの材料として電界放出特性に優れる材料を使用した場合には、放電電圧の低減効果や放電の立ち上がり特性が充分なことも考えられ、その場合は結晶粒子層15を設けなくてもよい。
4.検証実験
上記製法で製造された本発明のPDPについて、実施例を作製し、空隙及び蛍光体層の形状に関する検証実験を行った。PDPの評価法としては、走査型共焦点レーザ顕微鏡(波長408nmの短波長半導体レーザを使用)を用いて、前面パネルの空隙及び蛍光体層の形状を評価することにより行った。また、駆動時の発光輝度はCRTカラーアナライザを用いて評価した。
Note that the crystal bodies 160 and 160A may be selectively used, or may be mixed and used at a predetermined ratio.
In the above example, the configuration of the PDP 1 including the crystal particle layer 15 is illustrated, but the crystal particle layer 15 is not an essential configuration. For example, as described above, when a material having excellent field emission characteristics is used as the material of the crystal bodies 160 and 160A, it is considered that the effect of reducing the discharge voltage and the rising characteristics of the discharge are sufficient. The layer 15 may not be provided.
4). Verification Experiment An example was prepared for the PDP of the present invention manufactured by the above manufacturing method, and a verification experiment on the shape of the voids and the phosphor layer was performed. As a method for evaluating PDP, a scanning confocal laser microscope (using a short-wavelength semiconductor laser having a wavelength of 408 nm) was used to evaluate the shape of the front panel gap and phosphor layer. The light emission luminance during driving was evaluated using a CRT color analyzer.

(実験条件)
本実験に用いる実施例及び比較例として、それぞれ本発明及び従来の製造方法に基づき、高精細なPDPを作製した。
なお、比較のためガラス基板のサイズを対角5インチとし、区分けされた放電空間のサイズ(セルサイズ)を100インチサイズで8K×4K(走査線4000本)相当とした。放電ガスはXe含有量を100%(体積%)とし、29.9kPa(225Torr)の圧力でパネル内に封入した。放電セルの1ピッチ(図2中のWに相当)を95μmとし、Scn及びSusにおける透明電極の幅をともに60μm、バス電極の幅をともに35μmに設定した。表示電極対の主放電ギャップを80μm、データ電極の幅を40μmとした。
(Experimental conditions)
As examples and comparative examples used in this experiment, high-definition PDPs were produced based on the present invention and the conventional production method, respectively.
For comparison, the size of the glass substrate was 5 inches diagonal, and the size of the divided discharge space (cell size) was 100 inches and 8K × 4K (4000 scanning lines) equivalent. The discharge gas was sealed in the panel at a Xe content of 100% (volume%) and a pressure of 29.9 kPa (225 Torr). One pitch (corresponding to W in FIG. 2) of the discharge cells was set to 95 μm, the width of the transparent electrode in Scn and Sus was set to 60 μm, and the width of the bus electrode was set to 35 μm. The main discharge gap of the display electrode pair was 80 μm, and the width of the data electrode was 40 μm.

実施例のPDPでは、背面パネル上に各放電セルを区画するようにマトリックス状に支持部材を設けた。この支持部材の頂部幅は30μm、高さは80μmに設定した。さらにZnOを主成分とする四面体型結晶体(大きさ約20μm)を使用し、スクリーン印刷法によって空隙を形成した。蛍光体層は、中心粒径が約1.5μmの蛍光体を使用し、インクジェット法で材料を塗布して形成した。   In the PDP of the example, support members were provided in a matrix so as to partition each discharge cell on the back panel. The top width of the support member was set to 30 μm and the height was set to 80 μm. Further, a tetrahedral crystal (size: about 20 μm) containing ZnO as a main component was used, and voids were formed by screen printing. The phosphor layer was formed by using a phosphor having a center particle diameter of about 1.5 μm and applying a material by an inkjet method.

比較例のPDPでは、従来の製造方法に基づき、 従来のフォトリソグラフィー法あるいはサンドブラスト法で背面パネルに隔壁を形成した。また、ディスペンサー法で中心粒径が約3μmの蛍光体粒子を含む材料を背面パネルに塗布して焼成し、蛍光体層を形成した。
(結果考察)
比較例のPDPでは、全放電セル数の10〜20%の画素欠陥が発生した。また、蛍光体層の膜厚が5μmから80μmと大きなばらつきが発生した。これらの不具合は、比較例の製造方法において、微小な放電空間を形成する場合に蛍光体材料の塗布抜け、印刷抜け、印刷ムラ等の問題を発生しうる要因であることを意味しており、従来は安定した高精細なPDPの製造が難しいことを示している。
In the PDP of the comparative example, the partition walls were formed on the back panel by a conventional photolithography method or a sand blast method based on a conventional manufacturing method. Further, a material containing phosphor particles having a center particle diameter of about 3 μm was applied to the back panel by a dispenser method and baked to form a phosphor layer.
(Consideration of results)
In the comparative PDP, pixel defects of 10 to 20% of the total number of discharge cells occurred. Further, the phosphor layer had a large variation in film thickness of 5 μm to 80 μm. These defects mean that in the manufacturing method of the comparative example, when forming a minute discharge space, it is a factor that may cause problems such as missing coating of phosphor material, missing printing, printing unevenness, Conventionally, it is difficult to manufacture a stable high-definition PDP.

一方、実施例では蛍光体材料の印刷抜け、塗布抜けによって生じる画素欠陥は1%以下まで低減することができた。形成された空隙の厚みは約30から40μm、蛍光体層の厚みは約10μmから20μmで、従来法に比べて層厚のばらつきは大幅に改善された。
また、比較例のPDPでは、全白表示時の発光輝度が600cd/mであり、蛍光体層の層厚の不均一性に起因する輝度ムラが生じていた。
On the other hand, in the example, pixel defects caused by missing printing or missing coating of the phosphor material could be reduced to 1% or less. The thickness of the formed gap was about 30 to 40 μm, and the thickness of the phosphor layer was about 10 to 20 μm. The variation in the layer thickness was greatly improved as compared with the conventional method.
Moreover, in the PDP of the comparative example, the light emission luminance at the time of all white display was 600 cd / m 2 , and the luminance unevenness caused by the non-uniformity of the phosphor layer thickness occurred.

これに対し実施例のPDPでは、発光輝度は540cd/mと若干低下したものの、画像表示性能に何ら遜色のない発光輝度が発揮された。また、比較例では同一画面内で、10%〜20%程度輝度が低下している部分が画面面積比で30%生じていたものの、実施例においては、輝度が他の部分に比べて5%以上低下している部分はすべての画面内で見られなかった。このように実施例のPDPでは、前述の画素欠陥の他、輝度ムラについても解消された良好な画像表示性能が確認できた。また、空隙に使用した四面体型結晶体からの電子放出効果によって、比較例PDPでは放電維持電圧が300Vであったのに対し、約10V低い290Vまで低減できたことが確認された。さらに、ZnOにGaを1at%添加した結晶体を使用した場合は、放電維持電圧が270Vとなり、比較例に比べて約30Vの低減効果が確認できた。 On the other hand, in the PDP of the example, although the light emission luminance was slightly reduced to 540 cd / m 2 , the light emission luminance that is comparable to the image display performance was exhibited. Further, in the comparative example, a portion where the luminance is reduced by about 10% to 20% in the same screen is generated by 30% in the screen area ratio, but in the embodiment, the luminance is 5% as compared with other portions. The lowering part was not seen in all screens. As described above, in the PDP of the example, it was possible to confirm a good image display performance in which luminance unevenness was solved in addition to the pixel defect described above. In addition, it was confirmed that due to the electron emission effect from the tetrahedral crystal used in the gap, the discharge sustaining voltage was 300 V in the comparative example PDP, but could be reduced to 290 V, which was about 10 V lower. Furthermore, when a crystal body in which 1 at% of Ga was added to ZnO was used, the discharge sustaining voltage was 270 V, and a reduction effect of about 30 V was confirmed compared to the comparative example.

以上の実験結果から、実施例は比較例に比べて高い精度の構成を有するとともに、優れた画像表示性能を発揮し、消費電力の低減効果も呈しており、本発明ついての明確な優位性が確認できた。   From the above experimental results, the embodiment has a configuration with higher accuracy than the comparative example, exhibits excellent image display performance, and also exhibits an effect of reducing power consumption, and has a clear superiority with respect to the present invention. It could be confirmed.

本発明のPDPは、交通機関及び公共施設、家庭などにおけるテレビジョン装置及びコンピューターのディスプレイに用いられる表示装置等に利用することが可能である。また、本発明に係るPDPは、高精細化しても従来法では実現できなかった高品質を発揮できるので、例えば小型で且つ高精細なディスプレイに利用できるなど、様々なサイズに対応できる有用性を有するものである。   The PDP of the present invention can be used for a television set in a transportation facility, public facility, home, etc., a display device used for a computer display, and the like. In addition, since the PDP according to the present invention can exhibit high quality that could not be realized by the conventional method even when the definition is increased, it can be used for, for example, a small and high-definition display and can be used for various sizes. It is what you have.

本実施の形態に係るPDPの要部について展開した斜視図である。It is the perspective view developed about the principal part of PDP concerning this embodiment. 本実施の形態に係る前面パネル及び背面パネルの要部を示す断面図と、前面パネルの正面図である。It is sectional drawing which shows the principal part of the front panel and back panel which concern on this Embodiment, and the front view of a front panel. 空隙に導入する各種結晶体の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the various crystal bodies introduce | transduced into a space | gap. 従来のPDPの要部について展開した斜視図である。It is the perspective view developed about the principal part of the conventional PDP.

符号の説明Explanation of symbols

C 放電セル
G 主放電ギャップ
W 幅方向の放電セルピッチ
3W 長手方向の放電セルピッチ
1 PDP
3 放電空間
10 前面パネル
11 前面基板
12 表示電極対
13、23 誘電体層
14 保護層
15 結晶粒子層
16 空隙
17R、17B、17G 蛍光体層
20 背面パネル
21 背面基板
22 データ(アドレス)電極
24 支持部材
160 四面体型結晶体
160A ファイバー型結晶体
161 体心部
162 針状部
163 コア部
164 尖鋭部
C discharge cell G main discharge gap W discharge cell pitch in the width direction 3W discharge cell pitch in the longitudinal direction 1 PDP
DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 Discharge space 10 Front panel 11 Front substrate 12 Display electrode pair 13, 23 Dielectric layer 14 Protective layer 15 Crystal grain layer 16 Void 17R, 17B, 17G Phosphor layer 20 Rear panel 21 Rear substrate 22 Data (address) electrode 24 Support Member 160 Tetrahedral crystal body 160A Fiber-type crystal body 161 Body core part 162 Needle-like part 163 Core part 164 Sharp part

Claims (23)

対向配置された一対のパネルを有するプラズマディスプレイパネルであって、
一方のパネルと対向する他方のパネルの主面には、ドーム状の蛍光体層が形成され、当該ドーム状の蛍光体層とこれに被覆されるパネル下層表面との間に放電のための空隙が配設されている
プラズマディスプレイパネル。
A plasma display panel having a pair of opposed panels,
A dome-shaped phosphor layer is formed on the main surface of the other panel facing one panel, and a gap for discharge is formed between the dome-shaped phosphor layer and the panel lower layer surface covered by the dome-shaped phosphor layer. A plasma display panel.
前記他方のパネルの主面側には、電極と、当該電極を被覆する誘電体層と、当該誘電体層を被覆する保護層が順次形成され、
前記ドーム状の蛍光体層は、保護層上の複数の位置に形成されている
請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。
On the main surface side of the other panel, an electrode, a dielectric layer covering the electrode, and a protective layer covering the dielectric layer are sequentially formed,
The plasma display panel according to claim 1, wherein the dome-shaped phosphor layer is formed at a plurality of positions on the protective layer.
前記他方のパネルの主面側には、電極と、当該電極を被覆する誘電体層と、当該誘電体層を被覆する保護層と、酸化マグネシウム結晶粒子群を含む結晶粒子層が順次形成され、
前記ドーム状の蛍光体層は、結晶粒子層上の複数の位置に形成されている
請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。
On the main surface side of the other panel, an electrode, a dielectric layer covering the electrode, a protective layer covering the dielectric layer, and a crystal particle layer including a magnesium oxide crystal particle group are sequentially formed.
The plasma display panel according to claim 1, wherein the dome-shaped phosphor layer is formed at a plurality of positions on the crystal particle layer.
前記空隙の各々には、正四面体の体心から4頂点方向に針状部が延伸してなる四面体型結晶体、又は、ファイバー型結晶体の少なくともいずれかの結晶体が1個以上配設されている
請求項1〜3のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
In each of the voids, at least one crystal body of at least one of a tetrahedral crystal body or a fiber crystal body in which needle-shaped portions extend in the direction of four apexes from the body center of a regular tetrahedron is disposed. The plasma display panel according to claim 1.
前記結晶体は、ZnOを主成分としてなる
請求項4に記載のプラズマディスプレイパネル。
The plasma display panel according to claim 4, wherein the crystal body contains ZnO as a main component.
前記結晶体は、半導体である
請求項4又は5に記載のプラズマディスプレイパネル。
The plasma display panel according to claim 4, wherein the crystal body is a semiconductor.
前記半導体はZnOにGaを添加してなる半導体である
請求項6に記載のプラズマディスプレイパネル。
The plasma display panel according to claim 6, wherein the semiconductor is a semiconductor obtained by adding Ga to ZnO.
前記四面体型結晶体における各頂点同士の間の距離が10μm以上50μm以下である
請求項4に記載のプラズマディスプレイパネル。
The plasma display panel according to claim 4, wherein a distance between the vertices in the tetrahedral crystal is 10 μm or more and 50 μm or less.
前記四面体型結晶体における針状部の先端部の直径が1nm以上50nm以下である
請求項4に記載のプラズマディスプレイパネル。
The plasma display panel according to claim 4, wherein a diameter of a tip portion of the needle-like portion in the tetrahedral crystal is 1 nm or more and 50 nm or less.
前記ファイバー型結晶体は、1本の長さが10μm以上50μm以下である
請求項4に記載のプラズマディスプレイパネル。
The plasma display panel according to claim 4, wherein one length of the fiber crystal body is 10 μm or more and 50 μm or less.
前記ファイバー型結晶体は、柱状のコア部と、当該コア部の一端に設けられた尖鋭部からなる
請求項4に記載のプラズマディスプレイパネル。
The plasma display panel according to claim 4, wherein the fiber crystal body includes a columnar core portion and a sharp portion provided at one end of the core portion.
前記ファイバー型結晶体は、コア部の直径が1μm以上5μm以下であり、尖鋭部の直径が1nm以上50nm以下である
請求項11に記載のプラズマディスプレイパネル。
The plasma display panel according to claim 11, wherein the fiber type crystal body has a core portion with a diameter of 1 µm or more and 5 µm or less, and a sharp portion with a diameter of 1 nm or more and 50 nm or less.
前記空隙において、前記結晶体が占める空間を除いた残余の空間が、空隙の全体積の50%以上90%以下の範囲である
請求項4〜12のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
The plasma display panel according to any one of claims 4 to 12, wherein a remaining space excluding a space occupied by the crystal body in the void is in a range of 50% or more and 90% or less of a total volume of the void.
前記一対のパネルのうち少なくとも一方のパネルには、他方のパネルとの間に隙間を確保するための支持部材が配設されている
請求項1〜13のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
The plasma display panel according to claim 1, wherein at least one of the pair of panels is provided with a support member for securing a gap with the other panel.
前記一対の基板には、画面の水平方向に沿って複数の放電セルが配設され、
当該水平方向における隣接放電セル同士のピッチが50μm以上160μm以下である
請求項1〜14のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。
A plurality of discharge cells are disposed along the horizontal direction of the screen on the pair of substrates,
The plasma display panel according to claim 1, wherein a pitch between adjacent discharge cells in the horizontal direction is not less than 50 μm and not more than 160 μm.
電極を配設した第一基板の主面に当該電極を被覆するように誘電体層及び保護層を形成する第一基板形成工程と、形成した第一の基板を第二の基板と対向させて貼り合わせる封着工程とを経るプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
第一基板形成工程と封着工程の間において、
結晶体を分散した結晶体分散材料を保護層の表面に部分的に配設する結晶体材料配設工程と、
結晶体分散材料の上に蛍光体材料を配設する蛍光体材料配設工程と、
前記結晶体分散材料及び前記蛍光体材料を加熱し、蛍光体層を形成するとともに前結晶体分散材料の有機成分を除去して、保護層と蛍光体層との間に空隙を形成する焼成工程と、
を経るプラズマディスプレイパネルの製造方法。
A first substrate forming step of forming a dielectric layer and a protective layer on the main surface of the first substrate on which the electrode is disposed so as to cover the electrode, and the formed first substrate facing the second substrate A manufacturing method of a plasma display panel that undergoes a sealing process to be bonded,
Between the first substrate forming process and the sealing process,
A crystal material disposing step of partially disposing the crystal disperse material in which the crystal is dispersed on the surface of the protective layer;
A phosphor material disposing step of disposing a phosphor material on the crystal dispersion material;
A firing step of heating the crystal dispersion material and the phosphor material to form a phosphor layer and removing an organic component of the pre-crystal dispersion material to form a gap between the protective layer and the phosphor layer. When,
The manufacturing method of the plasma display panel which passes through.
電極を配設した第一基板の主面に当該電極を被覆するように誘電体層及び保護層を形成する第一基板形成工程と、形成した第一の基板を第二の基板と対向配置させるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
第一基板形成工程と封着工程の間において、
酸化マグネシウム微粒子を分散した微粒子分散材料を保護層の表面に配設する結晶粒子材料配設工程と、
微粒子分散材料の上に結晶体を分散した結晶体分散材料を部分的に配設する結晶体材料配設工程と、
結晶体分散材料の上に蛍光体材料を配設する蛍光体材料配設工程と、
配設した前記結晶体分散材料及び前記蛍光体材料を焼成し、蛍光体層を形成するとともに前記結晶体分散材料の有機成分を除去して、結晶粒子層と蛍光体層との間に空隙を形成する焼成工程と、
を経るプラズマディスプレイパネルの製造方法。
A first substrate forming step of forming a dielectric layer and a protective layer so as to cover the electrode on the main surface of the first substrate on which the electrode is disposed, and the formed first substrate is disposed opposite to the second substrate. A method for manufacturing a plasma display panel, comprising:
Between the first substrate forming process and the sealing process,
A crystal particle material disposing step of disposing a fine particle dispersed material in which magnesium oxide fine particles are dispersed on the surface of the protective layer;
A crystal material material disposing step of partially disposing a crystal material dispersed material in which a crystal is dispersed on a fine particle dispersed material;
A phosphor material disposing step of disposing a phosphor material on the crystal dispersion material;
The disposed crystal dispersion material and the phosphor material are baked to form a phosphor layer, and an organic component of the crystal dispersion material is removed to form a gap between the crystal particle layer and the phosphor layer. A firing step to be formed;
The manufacturing method of the plasma display panel which passes through.
前記結晶体材料配設工程及び蛍光体材料配設工程の少なくともいずれかにおいて、
配設した材料を固化させる
請求項16又は17に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
In at least one of the crystalline material arranging step and the phosphor material arranging step,
The method for manufacturing a plasma display panel according to claim 16 or 17, wherein the disposed material is solidified.
前記結晶粒子配設工程において、配設した材料を固化させる
請求項17又は18に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
The method for manufacturing a plasma display panel according to claim 17, wherein the arranged material is solidified in the crystal particle arranging step.
前記焼成工程では、第一基板を480℃以上で焼成する
請求項16〜19のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
The method for manufacturing a plasma display panel according to any one of claims 16 to 19, wherein in the firing step, the first substrate is fired at 480 ° C or higher.
結晶粒子材料配設工程、結晶体材料配設工程、蛍光体材料配設工程では、同一の媒質を含む材料を用いる
請求項17又は19に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
The method for manufacturing a plasma display panel according to claim 17 or 19, wherein a material containing the same medium is used in the crystal particle material disposing step, the crystal material disposing step, and the phosphor material disposing step.
前記蛍光体配設工程では、インクジェット法を用いて蛍光体材料を前記結晶体分散材料上に配設する
請求項16〜21のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
The method for manufacturing a plasma display panel according to any one of claims 16 to 21, wherein in the phosphor disposing step, a phosphor material is disposed on the crystal-dispersed material using an inkjet method.
前記蛍光体配設工程では、中心粒径が1μm以上2μm以下の蛍光体を用いる
請求項16〜22のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
The method for manufacturing a plasma display panel according to any one of claims 16 to 22, wherein in the phosphor arranging step, a phosphor having a center particle diameter of 1 µm to 2 µm is used.
JP2007306239A 2007-11-27 2007-11-27 Plasma display panel and its manufacturing method Pending JP2009129840A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007306239A JP2009129840A (en) 2007-11-27 2007-11-27 Plasma display panel and its manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007306239A JP2009129840A (en) 2007-11-27 2007-11-27 Plasma display panel and its manufacturing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009129840A true JP2009129840A (en) 2009-06-11

Family

ID=40820547

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007306239A Pending JP2009129840A (en) 2007-11-27 2007-11-27 Plasma display panel and its manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009129840A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4129288B2 (en) Plasma display panel and manufacturing method thereof
JP3327858B2 (en) Plasma display panel and method of manufacturing the same
US7931948B2 (en) Plasma display panel
US6707250B2 (en) Gas discharge display device, plasma addressed liquid crystal display device, and method for producing the same
US8162710B2 (en) Method for producing plasma display panel with a bright display and a low operating voltage
WO2009141983A1 (en) Plasma display panel
JP2009129840A (en) Plasma display panel and its manufacturing method
KR101150632B1 (en) Plasma display panel
JP5007275B2 (en) Method for manufacturing plasma display panel
JP2002015664A (en) Manufacturing method of plasma display panel
JP4305144B2 (en) Method of assembling a cold cathode field emission display
KR20130079380A (en) Plasma display panel
CN101689455A (en) Plasma display panel
JP4835318B2 (en) Plasma display panel and manufacturing method thereof
WO2012114692A1 (en) Plasma-display panel
JP3152628B2 (en) Method of forming transparent thick film dielectric on conductive film
KR101101667B1 (en) Process for producing plasma display panel
CN101636809B (en) Plasma display panel
JP2012064370A (en) Plasma display panel
JP2011222325A (en) Method for manufacturing plasma display panel, and plasma display panel
KR20100000221A (en) Fluorescent paste and method for fabricating plasma display panel using the same
WO2012114691A1 (en) Plasma-display panel
JP2009259441A (en) Plasma display panel and its manufacturing method
JP2007227313A (en) Image display device
JP2013008508A (en) Plasma display panel