JP2002015664A - Manufacturing method of plasma display panel - Google Patents

Manufacturing method of plasma display panel

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JP2002015664A
JP2002015664A JP2000195220A JP2000195220A JP2002015664A JP 2002015664 A JP2002015664 A JP 2002015664A JP 2000195220 A JP2000195220 A JP 2000195220A JP 2000195220 A JP2000195220 A JP 2000195220A JP 2002015664 A JP2002015664 A JP 2002015664A
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glass
particle size
dielectric glass
dielectric
layer
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Japanese (ja)
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Hiroshi Watanabe
拓 渡邉
Masaki Aoki
正樹 青木
Kazuya Hasegawa
和也 長谷川
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a plasma display panel solving a problem of a withstand voltage property of a dielectrics glass layer. SOLUTION: In a glass paste which forms a dielectric glass layer, a glass material having a grain size distribution in which two peaks exist is used, by mixing a glass materials having a large (course) grain size and a glass material having a small grain size.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表示デバイスなど
に用いるプラズマディスプレイパネルの製造方法に関
し、特に誘電体ガラス層の改良を図ることが可能なプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a plasma display panel used for a display device or the like, and more particularly to a method for manufacturing a plasma display panel capable of improving a dielectric glass layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ハイビジョンをはじめとする高品
位、大画面テレビへの期待が高まっている。このような
テレビのための表示デバイスとして、従来、CRTや液
晶やプラズマディスプレイパネルが用いられている。こ
のうち、CRTは、解像度・画質の点でプラズマディス
プレイパネルや液晶に対して優れているが、奥行きと質
量の点で40インチ以上の大画面には向いていない。一
方液晶は、消費電力が少なく、駆動電圧も低いという優
れた性能を有しているが、画面の大きさや視野角に限界
がある。これに対して、プラズマディスプレイパネル
は、大画面の実現が可能であり、すでに40インチクラ
スの製品が開発されている(例えば、「機能材料」19
96年2月号Vol.16、No.2 7ページ)。
2. Description of the Related Art In recent years, expectations for high-definition and large-screen televisions including high-definition televisions have been increasing. Conventionally, CRTs, liquid crystals, and plasma display panels have been used as display devices for such televisions. Among them, the CRT is superior to the plasma display panel and the liquid crystal in terms of resolution and image quality, but is not suitable for a large screen of 40 inches or more in terms of depth and mass. Liquid crystals, on the other hand, have excellent performances such as low power consumption and low driving voltage, but have limitations in screen size and viewing angle. On the other hand, a plasma display panel is capable of realizing a large screen, and a 40-inch class product has already been developed (for example, “functional material” 19).
Vol. 16, No. 27 pages).

【0003】図8は、従来の交流型(AC型)のプラズ
マディスプレイパネルの要部斜視図を示したものであ
る。この図8において、81は、フロート法による硼硅
酸ナトリウム系ガラスよりなる前面ガラス基板である。
この前面ガラス基板81の表面には、放電電極82が形
成され、そして、それを覆うように誘電体ガラス層83
が形成され、更に、この誘電体ガラス層83の表面を酸
化マグネシウム(MgO)誘電体保護層84が覆ってい
る。誘電体ガラス層83は、コンデンサの働きをなし、
一般的には平均粒子径2μm〜15μmのガラス粉末を
用いて形成されている。
FIG. 8 is a perspective view of a main part of a conventional alternating current (AC) type plasma display panel. In FIG. 8, reference numeral 81 denotes a front glass substrate made of a sodium borosilicate glass by a float method.
A discharge electrode 82 is formed on the surface of the front glass substrate 81, and a dielectric glass layer 83 is formed so as to cover the discharge electrode 82.
Are formed, and the surface of the dielectric glass layer 83 is covered with a magnesium oxide (MgO) dielectric protective layer 84. The dielectric glass layer 83 functions as a capacitor,
Generally, it is formed using glass powder having an average particle diameter of 2 μm to 15 μm.

【0004】85は背面ガラス基板であり、この背面ガ
ラス基板85の表面にはアドレス電極86が形成され、
そして、これを覆うように誘電体ガラス層87が設けら
れ、更にその表面に隔壁88、蛍光体層89が設けられ
ている。そして、隔壁88間が、放電ガスを封入する放
電空間90となっている。近年期待されているフルスペ
ックのハイビジョンテレビの画素レベルは、画素数が1
920×1125となり、ドットピッチも、42インチ
クラスで、0.15mm×0.48mmである。このた
め、1セルの面積は0.072mm2の細かさになる。
この1セルの面積は、同じ42インチの大きさでハイビ
ジョンテレビを作製したときに、従来のNTSC(画素
数640×480個、ドットピッチ0.43mm×1.
29mm、1セルの面積0.55mm2)と比較する
と、1/7〜1/8の細かさとなる。
Reference numeral 85 denotes a rear glass substrate. On the surface of the rear glass substrate 85, address electrodes 86 are formed.
A dielectric glass layer 87 is provided so as to cover this, and a partition wall 88 and a phosphor layer 89 are further provided on the surface thereof. And between the partition walls 88 is a discharge space 90 for filling the discharge gas. The pixel level of full-spec high-definition televisions expected in recent years is 1 pixel.
920 × 1125, and the dot pitch is also 0.15 mm × 0.48 mm in the 42-inch class. Therefore, the area of one cell is as small as 0.072 mm 2 .
The area of this one cell is the same as that of a conventional NTSC (640 × 480 pixels, dot pitch 0.43 mm × 1.
As compared with 29 mm, the area of one cell is 0.55 mm 2 ), the fineness is 1/7 to 1/8.

【0005】従って、フルスペックのハイビジョンテレ
ビでは、パネルの輝度が低くなってしまう(例えば、
「ディスプレイアンドイメージング」 1997、Vo
l.6、pp.70)。また、放電電極間距離が短くな
るばかりでなく放電空間も狭くなる。このため、特に誘
電体ガラス層83、87は、セル面積が減少するため
に、コンデンサとしての同一容量を確保しようとすれ
ば、その膜厚を従来よりも薄くすることが必要となる。
[0005] Accordingly, in a full-spec high-definition television, the brightness of the panel is reduced (for example,
"Display and Imaging" 1997, Vo
l. 6, pp. 70). Further, not only the distance between the discharge electrodes becomes shorter, but also the discharge space becomes narrower. For this reason, in particular, the dielectric glass layers 83 and 87 need to have a smaller film thickness than before in order to ensure the same capacitance as a capacitor because the cell area is reduced.

【0006】ところで従来の方法で、誘電体ガラス層を
形成するのには主に以下説明する3つの方法がある。第
一の方法は、ガラス粉末の平均粒子径が2〜15μmで
ガラスの軟化点が550℃〜600℃のガラス粉末とエ
チルセロースを含有するターピネオールや、ブチルカル
ビトールアセテートを溶剤として、3本ロールを用いて
ペースト化し、スクリーン印刷法により(スクリーン印
刷法に適したペーストの粘度である5万〜10万センチ
ポイズに調整してある。)前面ガラス板上に塗布後乾燥
し、次にガラスの軟化点付近(550℃〜600℃)で
焼結させて誘電体ガラス層を形成する方法である。
Incidentally, there are mainly three methods described below for forming a dielectric glass layer by a conventional method. In the first method, a glass powder having an average particle size of 2 to 15 μm and a glass softening point of 550 ° C. to 600 ° C. and terpineol containing ethyl cellulose or butyl carbitol acetate as a solvent is used to form a three roll. It is applied on a front glass plate by a screen printing method (adjusted to a viscosity of 50,000 to 100,000 centipoise, which is a viscosity of the paste suitable for the screen printing method), dried and then softened point of the glass This is a method of forming a dielectric glass layer by sintering in the vicinity (550 ° C. to 600 ° C.).

【0007】この方法では、ガラスがあまり流動しない
不活性な状態である軟化点付近で焼成を行うため、溶融
したガラスが電極であるAg,ITO,Cr−Cu−C
r等とほとんど反応しない。したがって、電極の抵抗値
が上昇したり、ガラス中に電極成分が拡散して着色した
りしないこと、および1回の焼成処理で誘電体ガラス層
が形成できることにこの方法の特徴がある。しかしなが
ら、この方法では、気泡(ピンホール)が誘電体中に発
生し、誘電体ガラス層の絶縁耐圧が低下する。なお、こ
こで、絶縁耐圧とは、電圧をかけたときに誘電体ガラス
層が物理的に破壊したりすることにより絶縁性が劣化す
る場合の絶縁性の限界を意味する。
In this method, the sintering is performed in the vicinity of the softening point where the glass does not flow so much that it is in an inactive state. Therefore, the molten glass is used as an electrode of Ag, ITO, Cr—Cu—C
It hardly reacts with r. Therefore, this method is characterized in that the resistance value of the electrode is not increased, the electrode component is not diffused in the glass to be colored, and the dielectric glass layer can be formed by one firing treatment. However, in this method, bubbles (pinholes) are generated in the dielectric, and the dielectric strength of the dielectric glass layer is reduced. Here, the withstand voltage means a limit of the insulating property when the insulating property is deteriorated due to physical breakdown of the dielectric glass layer when a voltage is applied.

【0008】第二の方法としては、同じくガラス粉末の
平均粒子径が2μm〜15μmで軟化点が450〜50
0℃程度の低融点鉛ガラス粉(PbOが85%程度)を
用いて、ガラスペーストを作成後(ペースト粘度3万5
千〜5万センチポイズ)スクリーン印刷法にてペースト
を塗布し乾燥後、軟化点より約100℃程度高い550
〜600℃で焼結させる方法がある。この方法の特徴
は、ガラスの焼成温度が軟化点より十分高く、従ってガ
ラスの流動性が良いため、表面の平坦なガラス層(表面
粗さ2μm程度)を得ることが出来ること、および1回
の焼結処理で誘電体ガラス層が形成できることである。
As a second method, similarly, the glass powder has an average particle diameter of 2 μm to 15 μm and a softening point of 450 to 50 μm.
After preparing a glass paste using a low melting point lead glass powder of about 0 ° C. (PbO is about 85%) (paste viscosity: 35,000)
1000 to 50,000 centipoise) Apply paste by screen printing method and after drying, 550 which is about 100 ° C higher than softening point.
There is a method of sintering at ~ 600 ° C. The feature of this method is that since the firing temperature of the glass is sufficiently higher than the softening point and the flowability of the glass is good, a glass layer having a flat surface (surface roughness of about 2 μm) can be obtained. That is, a dielectric glass layer can be formed by the sintering process.

【0009】しかしながら、この方法では、ガラスが流
動しやすく活性化されているため、溶融ガラスがAg,
ITO,Cr−Cu−Cr等の電極と反応をおこし抵抗
値が上昇したり、誘電体ガラス層が着色したり、更に電
極との反応で大きな気泡が生じ易い。また、第三の方法
は、第一の方法と第二の方法を組み合わせる方法である
(例えば特開平7−105855号公報,特開平9−5
0869号公報)。すなわち、電極上にはガラスの平均
粒子径が2μm〜15μmでガラスの軟化点が550℃
〜600℃のガラス粉末を用いて、これを同じくペース
ト化した後、スクリーン印刷法にて印刷、乾燥を行い軟
化点付近で焼結させる。そして、この誘電体ガラス層上
に同じく平均粒子径が2μm〜15μmで、ガラスの軟
化点が450℃〜500℃のガラス粉末を用いて同じく
ペースト化した後、スクリーン印刷法で印刷、乾燥を行
い、軟化点より100℃高い550℃〜600℃で焼結
させて、誘電体ガラス層を形成する方法である。
However, in this method, the molten glass is Ag,
It reacts with electrodes such as ITO and Cr-Cu-Cr to increase the resistance value, color the dielectric glass layer, and easily generate large bubbles due to the reaction with the electrodes. The third method is a method combining the first method and the second method (for example, JP-A-7-105855, JP-A-9-5).
0869). That is, the average particle size of the glass is 2 μm to 15 μm and the softening point of the glass is 550 ° C. on the electrode.
After using a glass powder of up to 600 ° C. and pasting it in the same manner, it is printed and dried by a screen printing method and sintered near the softening point. Then, on this dielectric glass layer, the average particle diameter is also 2 μm to 15 μm, and the softening point of the glass is similarly pasted using glass powder having a temperature of 450 ° C. to 500 ° C., followed by printing and drying by screen printing. And sintering at 550 ° C. to 600 ° C., which is 100 ° C. higher than the softening point, to form a dielectric glass layer.

【0010】この方法の特徴は、このような二層構造の
構成にすることで、電極とガラスの反応を抑え、併せて
絶縁耐圧性の向上を図ることが出来る点にある。しか
し、このような二層構造では、誘電体ガラス層の作製工
程が繁雑になる。そこで、本発明は、上記問題点に鑑み
てなされたものであって、誘電体ガラス層の耐電圧性の
課題を克服するのに有効なプラズマディスプレイパネル
の製造方法を提供することを目的とする。
The feature of this method is that by adopting such a two-layer structure, it is possible to suppress the reaction between the electrode and the glass and to improve the withstand voltage. However, such a two-layer structure complicates the manufacturing process of the dielectric glass layer. The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide a method of manufacturing a plasma display panel that is effective in overcoming the problem of withstand voltage of a dielectric glass layer. .

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、第一の基板本体の表面に第一の誘電体ガ
ラス層を形成することで第一の基板を作製する第一基板
作製工程と、第二の基板本体の表面に第二の誘電体ガラ
ス層及び蛍光体層を形成することで第二の基板を作製す
る第二基板作製工程とを備えたプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法であって、前記第一基板作製工程及び/
又は第二基板作製工程は、少なくとも2つのピークが存
在する粒度分布を有する誘電体ガラス材料を含む誘電体
ガラスペーストを塗布したものを焼結するサブ工程を含
むことを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a method of forming a first substrate by forming a first dielectric glass layer on a surface of a first substrate body. Production of a plasma display panel comprising a substrate production step and a second substrate production step of producing a second substrate by forming a second dielectric glass layer and a phosphor layer on the surface of the second substrate body A method, wherein the first substrate manufacturing step and / or
Alternatively, the second substrate manufacturing step includes a sub-step of sintering a dielectric glass paste containing a dielectric glass material having a particle size distribution having at least two peaks.

【0012】これにより、誘電体ガラスペーストを塗布
した層(塗布層、印刷層)において、大きなピークに相
当する相対的に粒径の大きなガラス粒子同士の間隙に、
小さなピークに相当する相対的に粒径の小さなガラス粒
子が介在することで間隙の量が抑えられて高い充填率に
配列する。そして、このような印刷層を焼成すると、比
熱が比較的小さい相対的に粒径の小さなガラス粒子が相
対的に粒径の大きなガラス粒子よりも先に溶融し、相対
的に粒径の大きなガラス粒子同士を決着する。この結
果、膜が緻密化される。このため、誘電体ガラス層の耐
電圧性が向上される。
Thus, in the layer (coating layer, printing layer) coated with the dielectric glass paste, the gap between the glass particles having a relatively large particle diameter corresponding to a large peak is formed.
By interposing glass particles having a relatively small particle size corresponding to a small peak, the amount of the gap is suppressed and the particles are arranged at a high filling rate. Then, when such a printed layer is fired, the glass particles having a relatively small specific heat and relatively small particles are melted before the glass particles having a relatively large particle diameter, and the glass having a relatively large particle diameter is melted. Settle the particles together. As a result, the film is densified. For this reason, the dielectric strength of the dielectric glass layer is improved.

【0013】ここで、前記サブ工程で用いる前記誘電体
ガラスペーストは、第一の粒度分布を有する第一の誘電
体ガラス材料と、第一の粒度分布における分布粒度より
も粒度の小さな範囲に分布する第二の粒度分布を有する
前記第一の誘電体ガラス材料と同じガラス組成の第二の
誘電体ガラス材料との混合物を含むものとすることがで
きる。
[0013] Here, the dielectric glass paste used in the sub-step has a first dielectric glass material having a first particle size distribution and a first particle size distribution in a range where the particle size is smaller than the distribution particle size in the first particle size distribution. And a mixture of the first dielectric glass material having the second particle size distribution described above and a second dielectric glass material having the same glass composition.

【0014】ここで、前記サブ工程で用いる前記誘電体
ガラスペースト中の前記混合物において、前記第二の誘
電体ガラス材料の第二の粒度分布における最大粒径が、
前記第一の誘電体ガラス材料の第一の粒度分布における
平均粒径よりも小さいものとすることが望ましい。これ
により、膜がより緻密なものとなるからである。
Here, in the mixture in the dielectric glass paste used in the sub-step, the maximum particle size in the second particle size distribution of the second dielectric glass material is as follows:
It is desirable that the first dielectric glass material be smaller than the average particle size in the first particle size distribution. This is because the film becomes denser.

【0015】ここで、前記第一の誘電体ガラス材料と第
二の誘電体ガラス材料とは、質量比若しくは体積比で第
一の誘電体ガラス材料が第二の誘電体ガラス材料よりも
多く用いられるものとすることが望ましい。これによ
り、膜がより緻密なものとなるからである。
Here, the first dielectric glass material and the second dielectric glass material are such that the first dielectric glass material is more used than the second dielectric glass material in terms of mass ratio or volume ratio. It is desirable to be able to. This is because the film becomes denser.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明にかかる実施の形態のプラ
ズマディスプレイパネル(以下「PDP」という。)の
構成について図面を参照しながら説明する。図1は、本
実施形態に係る交流面放電型PDPの要部斜視図であ
り、 図2は、図1のX−X線を含む垂直断面図、図3
は、図1のY−Y線を含む垂直断面図である。なお、こ
れらの図では便宜上セルが3つだけ示されているが、実
際には赤(R),緑(G),青(B)の各色を発光する
セルが多数配列されてPDPが構成されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The configuration of a plasma display panel (hereinafter referred to as "PDP") according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of a main part of an AC surface discharge type PDP according to the present embodiment. FIG. 2 is a vertical sectional view including line XX in FIG.
FIG. 2 is a vertical sectional view including a line YY in FIG. 1. In these figures, only three cells are shown for the sake of convenience. However, a PDP is constituted by arranging a large number of cells emitting red (R), green (G), and blue (B) in actuality. ing.

【0017】このPDPは、各電極にパルス状に電圧を
印加することで放電をパネル内部で生じさせ、放電に伴
って背面パネルPA1側で発生した各色の可視光を前面
パネルPA2の主表面から透過させる交流面放電型のP
DPである。前面パネルPA1は、放電電極12がスト
ライプ状に配された前面ガラス基板11上に、当該放電
電極12を覆うように誘電体ガラス層13が形成されて
おり、更に、この誘電体ガラス層13を覆うように保護
層14が形成されたものである。放電電極12は、ガラ
ス基板11表面に形成された透明電極12aと、この透
明電極12a上に形成された金属電極12bとからな
る。
This PDP generates a discharge inside the panel by applying a pulsed voltage to each electrode, and emits visible light of each color generated on the rear panel PA1 side by the discharge from the main surface of the front panel PA2. AC surface discharge type P to be transmitted
DP. The front panel PA1 has a dielectric glass layer 13 formed on a front glass substrate 11 on which the discharge electrodes 12 are arranged in a stripe shape so as to cover the discharge electrodes 12. Further, the dielectric glass layer 13 The protective layer 14 is formed so as to cover it. The discharge electrode 12 includes a transparent electrode 12a formed on the surface of the glass substrate 11, and a metal electrode 12b formed on the transparent electrode 12a.

【0018】一方、背面パネルPA2は、アドレス電極
22がストライプ状に配された背面ガラス基板21上
に、当該アドレス電極22を覆うようにアドレス電極を
保護するとともに可視光を前面パネル側に反射する作用
を担う誘電体ガラス層23が形成されており、この誘電
体ガラス層23上にアドレス電極22と同じ方向に向け
て伸び、アドレス電極22を挟むように隔壁24が立設
され、更に、当該隔壁24間に蛍光体層25が配された
ものである。
On the other hand, the rear panel PA2 protects the address electrodes on the rear glass substrate 21 on which the address electrodes 22 are arranged in stripes so as to cover the address electrodes 22, and reflects visible light toward the front panel. A dielectric glass layer 23 having an effect is formed, and extends in the same direction as the address electrode 22 on the dielectric glass layer 23, and a partition wall 24 is erected so as to sandwich the address electrode 22. The phosphor layer 25 is provided between the partition walls 24.

【0019】次に、上記構成のPDPの製造方法につい
て概説する。 前面パネルPA1の作製:前面パネルPA1は、前面ガ
ラス基板11の表面上に、公知のフォトリソグラフ法に
より放電電極12をストライプ状に形成し、次に、この
放電電極12を覆うようにガラス粉末を用いて誘電体ガ
ラス層13を形成し、更に誘電体ガラス層13の表面上
に酸化マグネシウム(MgO)からなる保護層14を電
子ビーム蒸着法にて形成することによって作製する。
Next, an outline of a method of manufacturing the PDP having the above configuration will be described. Fabrication of Front Panel PA1: The front panel PA1 forms discharge electrodes 12 in a stripe shape on the surface of a front glass substrate 11 by a known photolithography method, and then applies glass powder so as to cover the discharge electrodes 12. To form a dielectric glass layer 13 and further form a protective layer 14 made of magnesium oxide (MgO) on the surface of the dielectric glass layer 13 by an electron beam evaporation method.

【0020】背面パネルPA2の作製:まず、背面ガラ
ス基板21の表面に、上述した放電電極12の形成と同
様のフォトリソグラフ法により、アドレス電極22を形
成する。なお、このアドレス電極は、金属電極のみから
なる。そして、このアドレス電極22を覆うように前面
パネルPA1の場合と同様の方法で誘電体ガラス層23
を形成する。
Fabrication of Back Panel PA2: First, address electrodes 22 are formed on the surface of a back glass substrate 21 by the same photolithographic method as the formation of the discharge electrodes 12 described above. This address electrode is composed of only a metal electrode. Then, the dielectric glass layer 23 is formed in a manner similar to that of the front panel PA1 so as to cover the address electrodes 22.
To form

【0021】次に、誘電体ガラス層23の上に、ガラス
製の隔壁24を所定のピッチで設置する。そして、隔壁
24に挟まれた各空間内に、赤色(R)蛍光体,緑色
(G)蛍光体,青色(B)蛍光体を配設することによっ
て、蛍光体層25を形成する。各色R,G,Bの蛍光体
としては、一般的にPDPに用いられている蛍光体を用
いることができるが、ここでは次の蛍光体を用いる。
Next, glass partition walls 24 are provided on the dielectric glass layer 23 at a predetermined pitch. Then, a phosphor layer 25 is formed by disposing a red (R) phosphor, a green (G) phosphor, and a blue (B) phosphor in each space sandwiched by the partition walls 24. As the phosphors of the respective colors R, G, and B, phosphors generally used in PDPs can be used. Here, the following phosphors are used.

【0022】 赤色蛍光体 : (YxGd1-x)BO3:Eu3+ 緑色蛍光体 : Zn2SiO4:Mn パネル張り合わせによるPDPの完成:次に、前面パネ
ルPA1と背面パネルPA2とを放電電極12とアドレ
ス電極22とが直交する状態に位置合わせして両パネル
を張り合わせる。その後、隔壁24に仕切られた放電空
間30内に放電ガス(例えば、He−Xe系、Ne−X
e系の不活性ガス)を所定の圧力で封入することによっ
てPDPは完成する。
Red phosphor: (Y x Gd 1-x ) BO 3 : Eu 3+ Green phosphor: Zn 2 SiO 4 : Mn Completion of PDP by panel bonding: Next, front panel PA1 and rear panel PA2 are positioned such that discharge electrode 12 and address electrode 22 are orthogonal to each other, and both panels are bonded. Thereafter, discharge gas (for example, He-Xe-based, Ne-X
The PDP is completed by filling e-type inert gas) at a predetermined pressure.

【0023】封入する放電ガスの組成は、従来から用い
られているHe−Xe系、Ne−Xe系等であるが、セル
の発光輝度の向上を図るために、Xeの含有量を5体積
%以上とし、封入圧力を0.67×105〜1.01×
105Paに設定する。上記構成のPDPは、図7に示す
駆動回路を用いて駆動される。アドレス電極駆動部31
には、アドレス電極22が接続され、走査電極駆動部3
2には、放電電極12の走査側の電極が、維持電極駆動
部33には、放電電極12の維持側の電極が接続されて
いる。そして、このような駆動回路によってセットアッ
プ期間で放電が生じやすくするためにPDP内の全セル
に均一的に壁電荷を蓄積させる。次に、アドレス期間で
点灯させるセルの書き込み放電を行う。更に、サステイ
ン期間で前記アドレス期間で書き込まれたセルを点灯さ
せその点灯を維持させ、イレース期間で壁電荷を消去さ
せることによってセルの点灯を停止させる。これらの複
数の動作が繰り返し行われて1TVフィールドの画像が
表示される。
The composition of the discharge gas to be filled is a conventionally used He-Xe type, Ne-Xe type or the like. In order to improve the light emission luminance of the cell, the content of Xe is reduced to 5% by volume. As described above, the sealing pressure is 0.67 × 10 5 to 1.01 ×
Set to 10 5 Pa. The PDP having the above configuration is driven using the drive circuit shown in FIG. Address electrode drive unit 31
Is connected to the address electrode 22, and the scan electrode driving unit 3
2 is connected to an electrode on the scanning side of the discharge electrode 12, and the sustain electrode driving unit 33 is connected to an electrode on the sustain side of the discharge electrode 12. Then, wall charges are uniformly accumulated in all cells in the PDP so that discharge is easily generated in the setup period by such a driving circuit. Next, write discharge is performed on cells to be turned on in the address period. Further, the cells written in the address period are turned on during the sustain period to maintain the lighting, and the cell charges are stopped by erasing the wall charges during the erase period. These multiple operations are repeatedly performed to display an image of one TV field.

【0024】*誘電体ガラス層の形成について 前記誘電体ガラス層13は、所定の粒度分布を有するガ
ラス粉末を用いて、スクリーン印刷法、ダイコート法、
スピンコート法、スプレーコート法、或いはブレードコ
ート法によって放電電極12が形成された前面ガラス基
板11の表面に塗布印刷し、これを乾燥後、当該印刷層
(塗布層)を焼成することによって形成されている。
* Formation of Dielectric Glass Layer The dielectric glass layer 13 is formed using a glass powder having a predetermined particle size distribution by a screen printing method, a die coating method, or the like.
It is formed by applying and printing the surface of the front glass substrate 11 on which the discharge electrodes 12 are formed by a spin coating method, a spray coating method, or a blade coating method, drying this, and then firing the printing layer (coating layer). ing.

【0025】前記ガラス粉末は、所定の組成のガラス粗
材料をボールミルやジェットミル〔例えば、株式会社ス
ギノマシン製 HJP300−02型〕などの粉砕装置
を用いて最終的に誘電体ガラス層の形成に用いるガラス
粉末の粒子径近くまで粉砕したものである。ガラス粗材
料は、例えば、成分G1、G2、G3、・・・、GNからな
るガラスを使用する場合には、成分G1、G2、G3、・
・・、GNを成分比に相当する比率で秤量し、これを例
えば1300℃の炉中で加熱溶融し、その後これを水中
に投入して得られたものである。具体的には、ガラス粗
材料としては、PbO−B23−SiO2−CaO系ガ
ラス、PbO−B23−SiO2−MgO系ガラス、P
bO−B23−SiO2−BaO系ガラス、PbO−B2
3−SiO2−MgO−Al23系ガラス、PbO−B
23−SiO2−BaO−Al23系ガラス、PbO−
23−SiO2−CaO−Al23系ガラス、Bi2
3−ZnO−B23−SiO2−CaO系ガラス、ZnO
−B23−SiO2−Al23−CaO系ガラス、P25
−ZnO−Al23−CaO系ガラス、Nb25−Zn
O−B23−SiO2−CaO系ガラスを用いることが
できる。なお、この他にも一般的にPDPの誘電体に用
いられるガラスも同様にして用いることが可能である。
The above-mentioned glass powder is used to finally form a dielectric glass layer by using a grinding device such as a ball mill or a jet mill (eg, HJP300-02 manufactured by Sugino Machine Co., Ltd.) of a glass coarse material having a predetermined composition. It has been ground to near the particle size of the glass powder used. When a glass composed of components G1, G2, G3,..., GN is used as the glass coarse material, components G1, G2, G3,.
.., GN was weighed at a ratio corresponding to the component ratio, and this was heated and melted in, for example, a furnace at 1300 ° C., and then poured into water to obtain GN. Specifically, the glass crude material, PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -CaO -based glass, PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -MgO based glass, P
bO-B 2 O 3 -SiO 2 -BaO -based glass, PbO-B 2
O 3 -SiO 2 -MgO-Al 2 O 3 based glass, PbO-B
2 O 3 -SiO 2 -BaO-Al 2 O 3 based glass, PbO
B 2 O 3 —SiO 2 —CaO—Al 2 O 3 glass, Bi 2 O
3 -ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 -CaO -based glass, ZnO
—B 2 O 3 —SiO 2 —Al 2 O 3 —CaO-based glass, P 2 O 5
—ZnO—Al 2 O 3 —CaO-based glass, Nb 2 O 5 —Zn
O-B 2 O 3 -SiO 2 -CaO -based glass can be used. In addition, glass generally used for a dielectric of a PDP can be similarly used.

【0026】次に、誘電体ガラス層13の形成に用いる
ガラス粉末は、図4に示すように、2つのピーク41と
ピーク42とを持った粒度分布を有するガラス粉末であ
る。このようなガラス粉末は、図中波線で示したよう
に、上記のようにして作成した第一の粒度分布43を有
する第一ガラス材料と第一の粒度分布の粒度範囲よりも
小さな粒度に分布を持つ第二の粒度分布44を有する第
二ガラス材料とを混合することで調整される。
Next, the glass powder used for forming the dielectric glass layer 13 is a glass powder having a particle size distribution having two peaks 41 and 42 as shown in FIG. Such a glass powder has a first glass material having the first particle size distribution 43 created as described above and a particle size smaller than the particle size range of the first particle size distribution, as indicated by the wavy line in the drawing. It is adjusted by mixing with a second glass material having a second particle size distribution 44 having the following.

【0027】このようなガラス粉末を、バインダとバイ
ンダ溶解溶剤とともに、ボールミル、ディスパーミル或
いはジェットミルによりよく混練し、混合ガラスペース
トを作製する。ここで用いるバインダとしては、アクリ
ル樹脂、エチルセルロース、エチレンオキサイド単体又
はこれらの混合物を用いることができる。バインダ溶解
溶剤としては、ターピネオール、ブチルカルビトールア
セテート、或いはペンタンジオール単体、又はこれらの
混合物を用いることができる。バインダ溶解溶剤の混合
ペースト中に含有させる量を調整することによって、混
合ペーストの粘度を採用する成膜法に適した値に設定す
る。
Such a glass powder is well kneaded with a binder and a binder dissolving solvent by a ball mill, a disper mill or a jet mill to prepare a mixed glass paste. As the binder used here, an acrylic resin, ethyl cellulose, ethylene oxide alone or a mixture thereof can be used. As the binder dissolving solvent, terpineol, butyl carbitol acetate, pentanediol alone, or a mixture thereof can be used. By adjusting the amount of the binder-dissolving solvent to be contained in the mixed paste, the viscosity of the mixed paste is set to a value suitable for a film forming method employing the mixed paste.

【0028】そして、この混合ガラスペーストには、必
要に応じて可塑剤や界面活性剤(分散剤)を添加するこ
とが望ましい。これは、可塑剤を添加すれば、ガラスペ
ーストを塗布、乾燥後のガラス膜に柔軟性が生じ、焼結
時に膜にクラックが入ることが防止できるからである。
また、界面活性剤を添加すると、界面活性剤がガラス粒
子のまわりに吸着し、ガラスの分散性が向上し、均一な
ガラス塗布ができるからである。界面活性剤を添加する
ことは、粘度が低いガラスペーストを用いて成膜するダ
イコート法、スプレーコート法、スピンコート法及びブ
レードコート法の場合に特に有効である。
It is desirable to add a plasticizer or a surfactant (dispersant) to the mixed glass paste as needed. This is because if a plasticizer is added, the glass film after applying and drying the glass paste becomes flexible, and it is possible to prevent the film from cracking during sintering.
Further, when a surfactant is added, the surfactant is adsorbed around the glass particles, the dispersibility of the glass is improved, and uniform glass application can be performed. The addition of a surfactant is particularly effective in the case of a die coating method, a spray coating method, a spin coating method, and a blade coating method in which a film is formed using a glass paste having a low viscosity.

【0029】この混合ペーストの組成は、ガラス粉末3
5質量%〜70質量%、バインダ5質量%〜15質量%
が添加されたバインダ成分30質量%〜65質量%が好
ましい。添加する可塑剤や界面活性剤(分散剤)の添加
量は、バインダ成分に対して0.1質量%〜3.0質量
%であることが好ましい。前記界面活性剤(分散剤)と
しては陰イオン界面活性剤を用いることができ、例え
ば、ポリカルボン酸、アルキルジフェニルエーテルスル
ホン酸ナトリウム塩、アルキルリン酸塩、高級アルコー
ルのリン酸エステル塩、ポリオキシエチレンエチレンジ
グリセリンホウ酸エステルのカルボン酸塩、ポリオキシ
エチレンアルキル硫酸エステル塩、ナフタレンスルホン
酸ホルマリン縮合物、グリセロールモノオレート、ソル
ビタンセスキオレート、又はホモゲノールを用いること
ができる。また、可塑剤としては、フタル酸ジブチル、
フタル酸ジオクチル又はグリセリンを用いることができ
る。これらは、単体でなく、複数種を混合して使用する
こともできる。
The composition of this mixed paste is as follows.
5% by mass to 70% by mass, binder 5% by mass to 15% by mass
Is preferably 30% by mass to 65% by mass. The amount of the added plasticizer or surfactant (dispersant) is preferably 0.1% by mass to 3.0% by mass with respect to the binder component. As the surfactant (dispersant), an anionic surfactant can be used. Examples thereof include polycarboxylic acid, sodium salt of alkyl diphenyl ether sulfonate, alkyl phosphate, phosphate of higher alcohol, and polyoxyethylene. Ethylene diglycerin borate carboxylate, polyoxyethylene alkyl sulfate, naphthalenesulfonic acid formalin condensate, glycerol monooleate, sorbitan sesquiolate, or homogenol can be used. In addition, as a plasticizer, dibutyl phthalate,
Dioctyl phthalate or glycerin can be used. These may be used alone or in combination of two or more.

【0030】次に、上記混合ガラスペーストを用いてス
クリーン印刷法、ダイコート法、スピンコート法、スプ
レーコート法、或いはブレードコート法で混合ペースト
を放電電極12が表面に形成された前面ガラス基板11
上に塗布し、乾燥させた後、所定温度(550℃〜59
0℃)でガラスペースト中のガラス粉末を焼結させる。
なお、この焼結処理は、焼結が可能な限り誘電体ガラス
の軟化点付近で行うのが好ましい。これは、軟化点より
あまりに高い温度で焼結を行うと、溶融したガラスの流
動性が高くなるため、放電電極と反応し気泡が発生する
要因となるからである。
Next, using the mixed glass paste, the mixed paste is applied by screen printing, die coating, spin coating, spray coating, or blade coating to the front glass substrate 11 on which the discharge electrodes 12 are formed.
After being coated on top and dried, a predetermined temperature (550 ° C. to 59
(0 ° C.) to sinter the glass powder in the glass paste.
Note that this sintering process is preferably performed near the softening point of the dielectric glass as much as possible. This is because, when sintering is performed at a temperature much higher than the softening point, the flowability of the molten glass increases, which causes a reaction with the discharge electrode to generate bubbles.

【0031】誘電体ガラス層の厚みは、薄いほどパネル
輝度の向上と放電電圧を低減する効果が顕著になるの
で、絶縁耐圧が維持される範囲内であればできるだけ薄
く設定するのが望ましい。以下、誘電体ガラス層の印刷
法におけるスクリーン印刷法を用いた混合ガラスペース
トの塗布方法について説明する。
As the thickness of the dielectric glass layer becomes thinner, the effect of improving the panel luminance and reducing the discharge voltage becomes more remarkable, so that it is desirable to set the thickness as thin as possible within a range where the dielectric strength is maintained. Hereinafter, a method of applying the mixed glass paste using the screen printing method in the printing method of the dielectric glass layer will be described.

【0032】スクリーン印刷法では、所定のメッシュサ
イズ(例えば、325メッシュ)のステンレス製のメッ
シュに上記混合ガラスペースト(粘度、約5万センチポ
イズ)を配置し、スキージを用いて印刷する(印刷工
程)。次いで、これを乾燥させて有機溶剤を蒸発させる
ことでバインダを乾固させる工程を経て(乾燥工程)、
一回の成膜工程が完了する。この工程を複数回繰り返す
ことによって所定の膜厚になれば、一度ガラス粉末の軟
化点付近の温度をかけて焼成させる(焼成工程)。次い
で、印刷工程・乾燥工程をふたたび複数回繰り返した
後、焼成工程を施す。このような処理を繰り返し行っ
て、誘電体ガラス層を仕上げる。焼成工程の回数は、で
きるだけ少ない方がパネルが撓んだりすることが少ない
ため望ましい。一方、誘電体ガラス層の膜厚が比較的厚
めの場合に、焼成工程があまりに少ない(例えば、1
回)と、混合ペースト中のバインダが燃えきらないで残
ってしまったり、誘電体ガラス層中にバインダが燃える
ことによって発生したガスが気泡となって残存する要因
となるので、誘電体ガラス層の最終的な膜厚を考慮し
て、焼成工程の回数は決めることになる。従って、例え
ば、誘電体ガラス層の最終的な膜厚を40μmにする場
合には、2回程度焼成を行うことが望ましい。
In the screen printing method, the mixed glass paste (viscosity: about 50,000 centipoise) is placed on a stainless steel mesh having a predetermined mesh size (for example, 325 mesh), and printing is performed using a squeegee (printing step). . Next, through a step of drying and evaporating the organic solvent to dry the binder (drying step),
One film forming process is completed. When a predetermined film thickness is obtained by repeating this step a plurality of times, the glass powder is once fired at a temperature near the softening point (firing step). Next, after repeating the printing step and the drying step a plurality of times, a baking step is performed. By repeating such processing, the dielectric glass layer is finished. It is desirable that the number of firing steps be as small as possible because the panel is less likely to bend. On the other hand, when the thickness of the dielectric glass layer is relatively large, the number of firing steps is too small (for example, 1).
Times), the binder in the mixed paste remains without burning, or the gas generated by burning of the binder in the dielectric glass layer becomes a factor that remains as bubbles. The number of firing steps is determined in consideration of the final film thickness. Therefore, for example, when the final thickness of the dielectric glass layer is to be 40 μm, it is desirable to perform firing twice.

【0033】次に、誘電体ガラス層23の形成について
説明する。アドレス電極上の誘電体ガラス層23は、誘
電体ガラス層13の形成に用いたのと同様の、2つの互
いに異なる粒度分布を有する第一ガラス材料と第二ガラ
ス材料との混合物からなり粒度分布において2つのピー
クを持つガラス粉末にTiO2を5質量%〜30質量%添
加した粉体を用いて誘電体ガラス層13を形成したのと
同じ方法で形成される。このようにTiO2を添加するこ
とにより、背面ガラス基板側の誘電体ガラス層は、蛍光
体からの発光を、前面パネル側に反射させる役目を担
う。なお、TiO2の添加量が多ければ多いほど反射率
が高くなるのでその点では好ましいが、他方、多すぎる
と絶縁耐圧が低下するため誘電体ガラス粉末に対して3
0質量%が限界と思われる。
Next, the formation of the dielectric glass layer 23 will be described. The dielectric glass layer 23 on the address electrode is composed of a mixture of a first glass material and a second glass material having two different particle size distributions similar to those used for forming the dielectric glass layer 13. It is formed in the same manner as to form a dielectric glass layer 13 using the powder with the addition of TiO 2 5 to 30% by weight in the glass powder having two peaks in. By adding TiO 2 in this manner, the dielectric glass layer on the rear glass substrate plays a role of reflecting light emitted from the phosphor toward the front panel. It should be noted that the greater the amount of TiO 2 added, the higher the reflectivity. This is preferable in that respect. However, if the amount of TiO 2 is too large, the withstand voltage is reduced.
0% by mass seems to be the limit.

【0034】上記した異なる粒度分布を有する第一ガラ
ス材料と第二ガラス材料との混合物からなり、粒度分布
において2つのピークを有するガラス粉末を用いて誘電
体ガラス層13及び23を形成すれば、以下のような作
用・効果が得られ、耐電圧性に優れたPDPを実現でき
る。図5は、作用・効果を説明するための模式図であ
る。
If the dielectric glass layers 13 and 23 are formed using a glass powder comprising a mixture of the first glass material and the second glass material having different particle size distributions described above and having two peaks in the particle size distribution, The following operations and effects are obtained, and a PDP with excellent withstand voltage can be realized. FIG. 5 is a schematic diagram for explaining the operation and effect.

【0035】初めに、従来一般的な単一ピークの粒度分
布からなるガラス粉末を用いた場合について説明する。
図5(a)に示すように、印刷層(乾燥後)において、
単一のピークの粒度分布を有するガラス粉末は、粒子同
士の間隙51の量が比較的多く形成されて充填される。
したがって、図5(b)に示す焼成時においてガラス粒
子間の間隙52が埋まらずそのまま残存してしまう可能
性が高い。
First, a description will be given of a case where a glass powder having a conventional general single-peak particle size distribution is used.
As shown in FIG. 5A, in the print layer (after drying),
Glass powder having a single peak particle size distribution is filled with a relatively large amount of gaps 51 between particles.
Therefore, there is a high possibility that the gap 52 between the glass particles is not filled and remains as it is during the firing shown in FIG.

【0036】これに対して、図5(c)に示すように、
本実施の形態のように粒度分布において2つのピークを
有するガラス粉末は、印刷層(乾燥後)において、大き
なピークに相当する相対的に粒径の大きなガラス粒子5
3同士の間隙54(粒子同士及びガラス基板とによって
形成する間隙も含む。)に、小さなピークに相当する相
対的に粒径が小さなガラス粒子55が介在することで間
隙の量が抑えられて高い充填率に配列する。そして、こ
のような印刷層を焼成すると、比熱が比較的小さい相対
的に粒径の小さなガラス粒子が相対的に粒径の大きなガ
ラス粒子よりも先に溶融し、相対的に粒径の大きなガラ
ス粒子同士を決着する。
On the other hand, as shown in FIG.
The glass powder having two peaks in the particle size distribution as in the present embodiment is a glass layer having a relatively large particle size corresponding to a large peak in the printed layer (after drying).
Since the glass particles 55 having a relatively small particle size corresponding to a small peak are interposed in the gaps 54 between the three (including the gaps formed between the particles and the glass substrate), the amount of the gaps is suppressed and high. Arrange by filling rate. Then, when such a printed layer is fired, the glass particles having a relatively small specific heat and relatively small particles are melted before the glass particles having a relatively large particle diameter, and the glass having a relatively large particle diameter is melted. Settle the particles together.

【0037】この結果、粒度分布において2つのピーク
を有するガラス粉末を用いて誘電体ガラス層を形成する
ことにより、図5(d)に示すように、残存する空隙5
6の量が少ない緻密な誘電体ガラス層が得られる。そし
て、このことは、誘電体ガラス層の耐電圧性に寄与す
る。空隙56の量を少なくできる上記効果は、2つのピ
ークの距離、及び第一ガラス材料と第二ガラス材料との
粒度分布に依存する。
As a result, by forming a dielectric glass layer using a glass powder having two peaks in the particle size distribution, as shown in FIG.
A dense dielectric glass layer with a small amount of 6 is obtained. This contributes to the dielectric strength of the dielectric glass layer. The above effect of reducing the amount of the void 56 depends on the distance between the two peaks and the particle size distribution of the first glass material and the second glass material.

【0038】具体的には、2つのピークはより離れてい
るほど、膜がより緻密なものとなる。また、第一ガラス
材料の方が第二ガラス材料の粒度分布よりも大きい粒度
範囲にある場合、第二ガラス材料の粒度分布における最
大粒径が、前記第一の誘電体ガラス材料の第一の粒度分
布における平均粒径よりも小さいものとするこが望まし
い。これにより、膜がより緻密なものとなる。
Specifically, the further apart the two peaks are, the denser the film becomes. Further, when the first glass material is in a particle size range larger than the particle size distribution of the second glass material, the maximum particle size in the particle size distribution of the second glass material is the first of the first dielectric glass material. It is desirable that the average particle size is smaller than the average particle size in the particle size distribution. Thereby, the film becomes denser.

【0039】また、前記第一ガラス材料と第二ガラス材
料とは、質量比若しくは体積比で第一ガラス材料が第二
ガラス材料よりも多く用いることが望ましい。これによ
り、膜がより緻密なものとなる。更に、上記のように粒
度分布において2つのピークを有するガラス粉末を用い
て誘電体ガラス層を形成することにより、表面平坦性が
高い誘電体ガラス層が得られるので、保護層と隔壁とが
接触するときの押圧力で隔壁割れ等が生じ難いといった
効果も得られる。
Further, it is desirable that the first glass material and the second glass material be used in a mass ratio or a volume ratio in which the first glass material is larger than the second glass material. Thereby, the film becomes denser. Furthermore, by forming a dielectric glass layer using a glass powder having two peaks in the particle size distribution as described above, a dielectric glass layer having high surface flatness can be obtained, so that the protective layer and the partition wall come into contact with each other. The effect that the partition wall cracks and the like are unlikely to be generated by the pressing force at the time of the operation is also obtained.

【0040】<実施例>上記実施の形態に基づいて、PD
Pの一部である前面パネルのみを作製し、誘電体ガラス
層の特性を調べた。具体的には、ガラス粉末にはPbO
−Al23−SiO2の組成からなるもので、図6に示
すような2つの粒度分布のものを混合して用い(この結
果、最終的に用いるガラス粉末は、粒度分布において2
つのピークを有する。)、一つは図6(a)に示すよう
な粒径が0.5μm〜2μmの範囲に分布するもの(こ
の材料をAとする。)、いま一つは図6(b)に示すよ
うに4μm〜10μmの範囲に分布するもの(この材料
をBとする。)とし、これらの混合比率を複数に設定し
た。下記表1に示すように、実施例1では、A:Bを質
量比で1:2、実施例2では、A:Bを質量比で1:
1、実施例3では、A:Bを質量比で2:1とした。
<Example> Based on the above embodiment, the PD
Only the front panel, which is a part of P, was manufactured, and the characteristics of the dielectric glass layer were examined. Specifically, the glass powder contains PbO
-Al 2 O 3 -SiO 2 having a particle size distribution as shown in FIG. 6 (as a result, the finally used glass powder has a particle size distribution of 2%).
With two peaks. 6), one having a particle size distribution in the range of 0.5 μm to 2 μm as shown in FIG. 6A (this material is referred to as A), and the other as shown in FIG. In this case, the material was distributed in the range of 4 μm to 10 μm (this material is referred to as B), and the mixing ratio thereof was set to a plurality. As shown in Table 1 below, in Example 1, A: B was 1: 2 by mass ratio, and in Example 2, A: B was 1: 1: by mass ratio.
1. In Example 3, A: B was set to 2: 1 by mass ratio.

【0041】[0041]

【表1】 [Table 1]

【0042】なお、ガラス基板には、100mm×84
mmの大きさのソーダガラス板を用いた。そして、誘電
体ガラス層は、80mm×50mmの面積で、厚み40
μmに、ダイコート法により印刷し、120℃で25分
乾燥した後、590℃で10分焼成した。なお、印刷に
際してバインダには、エチルセルロース、溶剤には、α
-ターピネオールを用いた。
The glass substrate has a size of 100 mm × 84.
A soda glass plate having a size of mm was used. The dielectric glass layer has an area of 80 mm × 50 mm and a thickness of 40 mm.
It was printed on a μm by a die coating method, dried at 120 ° C. for 25 minutes, and baked at 590 ° C. for 10 minutes. In printing, ethyl cellulose is used for the binder and α is used for the solvent.
-Terpineol was used.

【0043】このようにして作製した各前面パネルの誘
電体ガラス層の表面に幅2mmで長さ50mmのAg電
極を印刷形成し、放電電極と当該Ag電極との間に直流
電圧を印加することで、絶縁破壊強度(耐電圧)を測定
した。上記実施例1〜3に対する比較例として、単一ピ
ークの粒度分布(0.4μm〜30μmの粒径に分布す
るもので、図5中に波線で示した粒度分布)を用いて誘
電体ガラス層を形成した前面パネルを作製し、同様に絶
縁破壊強度(耐電圧)を測定した。
An Ag electrode having a width of 2 mm and a length of 50 mm is printed and formed on the surface of the dielectric glass layer of each front panel manufactured as described above, and a DC voltage is applied between the discharge electrode and the Ag electrode. Then, the dielectric breakdown strength (withstand voltage) was measured. As a comparative example with respect to the above Examples 1 to 3, a dielectric glass layer was formed using a single peak particle size distribution (distributed in a particle size of 0.4 μm to 30 μm, indicated by wavy lines in FIG. 5). Was formed, and the dielectric breakdown strength (withstand voltage) was measured in the same manner.

【0044】これらの結果を上記表1に併記した。この
表1に示すように、実施例1〜3において材料A及び材
料Bとの混合比率によって、耐圧は変動するが、比較例
のものと比べて耐電圧は向上していることが分る。ま
た、実施例のなかでも、材料Aの比率を大きくするほ
ど、つまり、粒径の小さなガラス粒子が多いものほど、
耐電圧は向上することが分る。
The results are shown in Table 1 above. As shown in Table 1, in Examples 1 to 3, the withstand voltage varies depending on the mixing ratio of the materials A and B, but the withstand voltage is improved as compared with the comparative example. Also, among the examples, the larger the ratio of the material A, that is, the more glass particles having a small particle size,
It can be seen that the withstand voltage is improved.

【0045】なお、上記実施形態及び実施例において
は、粒度分布において2つのみピークが存在するガラス
粉末を用いて誘電体ガラス層を形成したが、これに限ら
れないのは言うまでもない。なお、3つ、4つ、・・・と
ピーク数が多いほど膜を緻密化する効果はより顕著とな
る。また、前面パネル及び背面パネル双方に設ける誘電
体ガラス層を、上記したように粒度分布において複数の
ピークを有する材料を用いて形成するのではなく、何れ
か一方をそのようにして形成することもできる。
In the above embodiments and examples, the dielectric glass layer is formed using a glass powder having only two peaks in the particle size distribution, but it is needless to say that the dielectric glass layer is not limited to this. The effect of densifying the film becomes more remarkable as the number of peaks increases to three, four,.... Further, the dielectric glass layer provided on both the front panel and the rear panel is not formed by using a material having a plurality of peaks in the particle size distribution as described above, but one of them may be formed as such. it can.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明のプラ
ズマディスプレイパネルは、第一の基板本体の表面に第
一の誘電体ガラス層を形成することで第一の基板を作製
する第一基板作製工程と、第二の基板本体の表面に第二
の誘電体ガラス層及び蛍光体層を形成することで第二の
基板を作製する第二基板作製工程とを備えたプラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法であって、前記第一基板作
製工程及び/又は第二基板作製工程は、少なくとも2つ
のピークが存在する粒度分布を有する誘電体ガラス材料
を含む誘電体ガラスペーストを塗布したものを焼結する
サブ工程を含むことを特徴とする。
As described above, the plasma display panel according to the present invention comprises a first substrate for forming a first substrate by forming a first dielectric glass layer on a surface of a first substrate body. A method for producing a plasma display panel, comprising: a production step; and a second substrate production step of producing a second substrate by forming a second dielectric glass layer and a phosphor layer on a surface of a second substrate body. Wherein the first substrate production step and / or the second substrate production step comprises sintering a dielectric glass paste containing a dielectric glass material having a particle size distribution having at least two peaks. It is characterized by including a step.

【0047】これにより、誘電体ガラスペーストを印刷
した印刷層において、大きなピークに相当する相対的に
粒径の大きなガラス粒子同士の間隙に、小さなピークに
相当する相対的に粒径が小さなガラス粒子が介在するこ
とで間隙の量が抑えられて高い充填率に配列する。そし
て、このような印刷層を焼成すると、比熱が比較的小さ
い相対的に粒径の小さなガラス粒子が相対的に粒径の大
きなガラス粒子よりも先に溶融し、相対的に粒径の大き
なガラス粒子同士を決着する。この結果、膜が緻密化さ
れる。このため、誘電体ガラス層の耐電圧性が向上され
る。
In this way, in the printed layer on which the dielectric glass paste is printed, the gap between the relatively large glass particles corresponding to the large peaks and the relatively small glass particles corresponding to the small peaks are present. Intervening reduces the amount of gaps and arranges them at a high filling rate. Then, when such a printed layer is fired, the glass particles having a relatively small specific heat and relatively small particles are melted before the glass particles having a relatively large particle diameter, and the glass having a relatively large particle diameter is melted. Settle the particles together. As a result, the film is densified. For this reason, the dielectric strength of the dielectric glass layer is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかる実施の形態の交流面放電型PD
Pの要部斜視図である。
FIG. 1 is an AC surface discharge type PD according to an embodiment of the present invention.
It is a principal part perspective view of P.

【図2】図1のX−X線を含む垂直断面図である。FIG. 2 is a vertical sectional view including the line XX of FIG. 1;

【図3】図1のY−Y線を含む垂直断面図である。FIG. 3 is a vertical sectional view including a line YY of FIG. 1;

【図4】実施の形態で用いたガラス材料の粒度分布を表
す特性図である。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing a particle size distribution of a glass material used in the embodiment.

【図5】本発明の作用・効果を説明するための模式図で
ある。(a)は、従来の誘電体ガラス層の印刷層におけ
るガラス粒子の充填状態を表す模式図である。(b)
は、従来の誘電体ガラス層(焼成後)の膜状態を表す模
式図である。(c)は、本発明の誘電体ガラス層の印刷
層におけるガラス粒子の充填状態を表す模式図である。
(d)は、本発明の誘電体ガラス層(焼成後)の膜状態
を表す模式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram for explaining the operation and effect of the present invention. (A) is a schematic diagram showing the state of filling glass particles in a conventional printed layer of a dielectric glass layer. (B)
FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a film state of a conventional dielectric glass layer (after firing). (C) is a schematic diagram showing the state of filling glass particles in the printed layer of the dielectric glass layer of the present invention.
(D) is a schematic diagram illustrating a film state of a dielectric glass layer (after firing) of the present invention.

【図6】実施例で用いたガラス材料の粒度分布を表す特
性図である。(a)は粒径が0.5μm〜2μmの範囲
に分布するもの、(b)は粒径が4μm〜10μmの範
囲に分布するものの粒度分布を表す。
FIG. 6 is a characteristic diagram showing a particle size distribution of a glass material used in Examples. (A) shows a particle size distribution in a range of 0.5 μm to 2 μm, and (b) shows a particle size distribution in a range of 4 μm to 10 μm.

【図7】上記PDPの駆動回路を示すブロック図であ
る。
FIG. 7 is a block diagram showing a driving circuit of the PDP.

【図8】従来例にかかる交流面放電型PDPの要部斜視
図である。
FIG. 8 is a perspective view of a main part of an AC surface discharge type PDP according to a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 前面ガラス基板 12 放電電極 12a 透明電極 12b 金属電極 13 誘電体ガラス層 14 保護層 21 背面ガラス基板 22 アドレス電極 23 誘電体ガラス層 24 隔壁 25 蛍光体層 30 放電空間 31 アドレス電極駆動部 32 走査電極駆動部 33 維持電極駆動部 41、42 ピーク 43 第一の粒度分布 44 第二の粒度分布 51、52 間隙 53 ガラス粒子(粒径の大きなもの) 54 間隙 55 ガラス粒子(粒径の小さなもの) 56 空隙 PA1 前面パネル PA2 背面パネル DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Front glass substrate 12 Discharge electrode 12a Transparent electrode 12b Metal electrode 13 Dielectric glass layer 14 Protective layer 21 Back glass substrate 22 Address electrode 23 Dielectric glass layer 24 Partition wall 25 Phosphor layer 30 Discharge space 31 Address electrode drive part 32 Scan electrode Driving unit 33 Sustain electrode driving unit 41, 42 Peak 43 First particle size distribution 44 Second particle size distribution 51, 52 Gap 53 Glass particles (large particle size) 54 Gap 55 Glass particles (Small particle size) 56 Void PA1 Front panel PA2 Rear panel

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長谷川 和也 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5C027 AA05 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GD07 GD09 JA02 KA07 KB09 KB19 KB28 MA23 MA26  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kazuya Hasegawa 1006 Kadoma, Kazuma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F term (reference) 5C027 AA05 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GD07 GD09 JA02 KA07 KB09 KB19 KB28 MA23 MA26

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第一の基板本体の表面に第一の誘電体ガ
ラス層を形成することで第一の基板を作製する第一基板
作製工程と、第二の基板本体の表面に第二の誘電体ガラ
ス層及び蛍光体層を形成することで第二の基板を作製す
る第二基板作製工程とを備えたプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法であって、 前記第一基板作製工程及び/又は第二基板作製工程は、
少なくとも2つのピークが存在する粒度分布を有する誘
電体ガラス材料を含む誘電体ガラスペーストを塗布した
ものを焼結するサブ工程を含むことを特徴とするプラズ
マディスプレイパネルの製造方法。
A first substrate forming step of forming a first substrate by forming a first dielectric glass layer on a surface of the first substrate body; A second substrate forming step of forming a second substrate by forming a dielectric glass layer and a phosphor layer, wherein the first substrate forming step and / or the second The substrate manufacturing process
A method of manufacturing a plasma display panel, comprising a sub-step of sintering a dielectric glass paste containing a dielectric glass material having a particle size distribution having at least two peaks.
【請求項2】 前記サブ工程で用いる前記誘電体ガラス
ペーストは、第一の粒度分布を有する第一の誘電体ガラ
ス材料と、第一の粒度分布における分布粒度よりも粒度
の小さな範囲に分布する第二の粒度分布を有する前記第
一の誘電体ガラス材料と同じガラス組成の第二の誘電体
ガラス材料との混合物を含むことを特徴とする請求項1
に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
2. The dielectric glass paste used in the sub-step is distributed in a first dielectric glass material having a first particle size distribution and in a range in which the particle size is smaller than the distribution particle size in the first particle size distribution. 2. A method according to claim 1, wherein said first dielectric glass material has a second particle size distribution and a mixture of said first dielectric glass material and a second dielectric glass material having the same glass composition.
3. The method for manufacturing a plasma display panel according to item 1.
【請求項3】 前記サブ工程で用いる前記誘電体ガラス
ペースト中の前記混合物において、前記第二の誘電体ガ
ラス材料の第二の粒度分布における最大粒径が、前記第
一の誘電体ガラス材料の第一の粒度分布における平均粒
径よりも小さいことを特徴とする請求項2に記載のプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。
3. The mixture in the dielectric glass paste used in the sub-step, wherein the maximum particle size in the second particle size distribution of the second dielectric glass material is the same as that of the first dielectric glass material. 3. The method according to claim 2, wherein the average particle size is smaller than the average particle size in the first particle size distribution.
【請求項4】 前記第一の誘電体ガラス材料と第二の誘
電体ガラス材料とは、質量比若しくは体積比で第一の誘
電体ガラス材料が第二の誘電体ガラス材料よりも多く用
いられることを特徴とする請求項2又は3に記載のプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。
4. In the first dielectric glass material and the second dielectric glass material, the first dielectric glass material is used more in mass ratio or volume ratio than the second dielectric glass material. The method for manufacturing a plasma display panel according to claim 2, wherein:
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7647884B2 (en) 2004-12-31 2010-01-19 Lg. Display Co., Ltd. Slit coater with a standby unit for a nozzle and a coating method using the same
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