JP2009125877A - Lens holder and curved-surface polishing method for lens - Google Patents

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Hideo Chokai
英雄 鳥海
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lens holder for use in polishing an optical surface of a convex lens smaller in outside diameter than before polishing. <P>SOLUTION: A lens base material 1 has a convex lens shape with an edge thickness of almost zero. The lens holder 2 comprises a metal holding part 3 blocking a central portion of a convex surface 1b of the lens base material 1 and low-melting-point wax 4 blocking a peripheral portion of the convex surface 1b. The metal holding part 3 comprises a fixture 3A and an alloy 3B. An outside diameter Dy<SB>4</SB>of the alloy 3B is set to be smaller than the outside diameter of the convex lens manufactured by convex surface polishing of the lens base material 1. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、光学レンズの研磨に用いられるレンズ保持具およびレンズの曲面研磨方法に関し、さらに詳しくは研磨後の外径が研磨前よりも小さいプラスレンズの光学面研磨に用いて好適なレンズ保持具およびレンズの曲面研磨方法に関するものである。   The present invention relates to a lens holder used for polishing an optical lens and a curved surface polishing method for a lens, and more specifically, a lens holder suitable for optical surface polishing of a plus lens having an outer diameter after polishing smaller than that before polishing. And a method for polishing a curved surface of a lens.

眼鏡レンズの凹面を研磨する場合、手研磨を始め、弾性部材を用いた研磨、スモールツール方式、EEM(Elastic Emission Machining)、MRF(Magnet−Rheological Finishing)等、特に制限なく公知の方法を用いて行うことができる。例えば一般に市販されているサティス ロー社(Satis Loh社)製の汎用の研磨装置(TORO−X2SL)を用いて研磨している。この研磨装置は、レンズをレンズ保持具によってブロック(保持)し、研磨パッドをレンズの凹面に所定の加圧力で押し付け、この状態で研磨パッドを首振り旋回運動させ、レンズを回転させるとともに前後左右方向に往復運動させることにより、研磨の軌跡が1周毎に少しずつずれる無軌道研磨軌跡でレンズの凹面を、前記研磨パッドと研磨剤とによって研磨している(例えば、特許文献1参照)。   When polishing the concave surface of the spectacle lens, using known methods such as hand polishing, polishing using an elastic member, small tool method, EEM (Elastic Emission Machining), MRF (Magnet-Rheological Finishing), etc. It can be carried out. For example, polishing is performed using a general-purpose polishing apparatus (TORO-X2SL) manufactured by Satis Loh, which is commercially available. In this polishing apparatus, the lens is blocked (held) by a lens holder, the polishing pad is pressed against the concave surface of the lens with a predetermined pressure, the polishing pad is swung in this state, the lens is rotated, and the front, rear, left and right are rotated. By reciprocating in the direction, the concave surface of the lens is polished by the polishing pad and the abrasive with a trackless polishing locus in which the polishing locus is slightly shifted every round (see, for example, Patent Document 1).

レンズをブロックするレンズ保持具は、一般に金属製のヤトイを備え、これとレンズを低融点合金(アロイ)によって接合している。レンズをレンズ保持具によってブロックするときは、予めレンズの凸面に損傷防止用の保護フィルムを密着させておく。次に、取付台にヤトイを設置してその周囲をブロッキングリングで取り囲み、このリングの上に前記保護フィルムが密着されたレンズをその凸面を下にして載置する。これにより、ブロッキングリングは上面側内周縁によってレンズの凸面外周縁部を支持する。そして、レンズ、ヤトイ、ブロッキングリングおよび取付台によって囲まれた空間内に溶融した低融点合金を流し込んで固化させることにより、レンズとヤトイを一体的に結合している。   A lens holder for blocking a lens generally includes a metal yatoi, and the lens and the lens are joined by a low melting point alloy (alloy). When blocking the lens with the lens holder, a protective film for preventing damage is brought into close contact with the convex surface of the lens in advance. Next, a yatoy is installed on the mounting base, the periphery thereof is surrounded by a blocking ring, and a lens having the protective film in close contact with the ring is placed with its convex surface down. Thereby, the blocking ring supports the convex outer peripheral edge of the lens by the upper surface side inner peripheral edge. Then, the molten low melting point alloy is poured into a space surrounded by the lens, the yatoy, the blocking ring, and the mounting base, and solidified by pouring the molten low melting point alloy.

ところで、レンズを研磨パッドで研磨するとき、周縁部において研磨パッドの一部が被加工面の外周から外側に飛び出すために、研磨パッドが変形して被加工面に対する加圧力が不均一になり、研磨ツールの接触等による研磨残しや、被加工面の周縁部にだれ(以下、縁だれという)が発生する。その結果、研磨残しを無くすための必要以上の研磨時間を費やしたり、被加工面の形状精度を低下させたりするといった問題があった。形状精度の低下を補う方法としては、研磨前の加工面に研磨補正量を用いて加工するが、これを求めるために数箇月レベルの時間を要していた。   By the way, when the lens is polished with a polishing pad, a part of the polishing pad jumps out from the outer periphery of the processing surface at the peripheral portion, so that the polishing pad is deformed and the pressure on the processing surface becomes non-uniform, Polishing residue due to contact of the polishing tool or the like, and dripping (hereinafter referred to as edge dripping) occur at the peripheral edge of the surface to be processed. As a result, there have been problems such as spending more polishing time than necessary to eliminate polishing residue and reducing the shape accuracy of the surface to be processed. As a method for compensating for the decrease in shape accuracy, the processed surface before polishing is processed using the polishing correction amount, and it takes several months to obtain this.

そこで、このような問題を解決する従来技術として、例えば特許文献2〜5に開示されているレンズ保持具および研磨方法が知られている。   Therefore, as conventional techniques for solving such problems, for example, a lens holder and a polishing method disclosed in Patent Documents 2 to 5 are known.

特許文献2に記載されている方法では、被加工物の所謂縁だれによる形状精度の低下を防止するために、被加工物の被加工面周縁の接線と同一あるいはその接線と近似する傾きをもつ傾斜面形状を有する研磨用ヤトイを被加工物の周縁外側に取付け、レンズと研磨用ヤトイをともに研磨するようにしている。ヤトイとしては、鋼材製またはレンズと同質のガラス製ヤトイを用いている。   In the method described in Patent Document 2, in order to prevent a reduction in shape accuracy due to a so-called edge of the workpiece, the workpiece has a slope that is the same as or close to the tangent to the peripheral edge of the workpiece surface. An abrasive yato having an inclined surface shape is attached to the outer periphery of the workpiece, and both the lens and the abrasive yatoi are polished. As a yatoy, a glassy yato made of steel or the same quality as a lens is used.

特許文献3に記載されている方法では、レンズ、プリズム等の光学部品からなるワークの外周に、上記特許文献2と同様に、ダミー(本発明におけるヤトイと同じ)を嵌め込み、このダミーと、ワークの表面を研磨する第一の研磨工程と、この第一の研磨工程によってダミーとワークとの境界に生じるバリ(加工段差)を見込んでワークの外周縁部に対して研磨する第二の研磨工程とを備え、この第二の研磨工程を前記第一の研磨工程の前工程または後工程の少なくとも一方に実施するようにしている。ダミーは、ワークと同一材料または同等の加工性を有する材料によって形成されている。   In the method described in Patent Document 3, a dummy (same as Yatoi in the present invention) is fitted into the outer periphery of a work composed of optical components such as a lens and a prism, as in Patent Document 2, and this dummy and the work A first polishing step for polishing the surface of the workpiece, and a second polishing step for polishing the outer peripheral edge portion of the workpiece in anticipation of burrs (processing steps) generated at the boundary between the dummy and the workpiece by the first polishing step And the second polishing step is performed in at least one of a pre-process and a post-process of the first polishing process. The dummy is formed of the same material as the workpiece or a material having the same workability.

特許文献4に記載されている方法では、前記特許文献2,3と同様に、被加工面の外周に変形自在な抜けシロ部材(本発明におけるヤトイと同じ)を充填し、この抜けシロ部材の表面に被加工面と単一曲面の抜けシロ面を創成し、この抜けシロ面によって囲まれた単一曲面を研磨治具によって研磨するようにしている。抜けシロ部材としては、紫外線硬化型の樹脂または低融点合金を用いている。   In the method described in Patent Document 4, similarly to Patent Documents 2 and 3, the outer periphery of the surface to be processed is filled with a deformable slip-off member (same as Yatoi in the present invention). A surface to be processed and a single curved surface are formed on the surface, and the single curved surface surrounded by the through surface is polished by a polishing jig. As the blank member, an ultraviolet curable resin or a low melting point alloy is used.

特許文献5に記載されている方法では、レンズブランクスをヤトイに一体的に接合する接合剤として、低融点合金または粘性の高い低融点ワックスを用いている。   In the method described in Patent Document 5, a low-melting-point alloy or a high-viscosity low-melting-point wax is used as a bonding agent for integrally bonding lens blanks to Yato.

特開2003−334748号公報JP 2003-334748 A 特開2001−054862号公報JP 2001-045662 A 特開2007−000989号公報JP 2007-000989 A 特開2002−326148号公報JP 2002-326148 A 特開2005−230985号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-230985

しかしながら、特許文献2、3に記載されているヤトイは、鋼材製またはガラス製であるため、一度研磨に使用すると再利用することができず(レンズ毎に曲面が異なるため)、材料の無駄が多くなり製造コストの高騰の一因になるという問題がある。また、このヤトイは、レンズの外周を取り囲むようにリング状に形成されているものであるため、特にコバ厚がほとんどなく、研磨加工すると加工前よりも外径が小さくなるプラスレンズの場合は、加工途中でブロックすることができなくなる。   However, since Yaito described in Patent Documents 2 and 3 is made of steel or glass, it cannot be reused once used for polishing (because the curved surface differs for each lens), and the material is wasted. There is a problem that it increases and contributes to an increase in manufacturing cost. In addition, since this Yatoi is formed in a ring shape so as to surround the outer periphery of the lens, there is almost no edge thickness, and in the case of a plus lens whose outer diameter is smaller than before processing when polished, It becomes impossible to block during processing.

特許文献4に記載されている研磨方法では、抜けシロ部材として紫外線硬化型樹脂を用いた場合、再利用することができないという問題があった。また、抜けシロ部材を環状に形成しレンズの外周をブロックしているため、上記した特許文献2、3に記載されている方法と同様に、加工後のレンズ外径が加工前よりも小さくなるプラスレンズには全く適用することができない。   The polishing method described in Patent Document 4 has a problem in that it cannot be reused when an ultraviolet curable resin is used as a blank member. In addition, since the outer white member is formed in an annular shape and the outer periphery of the lens is blocked, the lens outer diameter after processing is smaller than that before processing as in the methods described in Patent Documents 2 and 3 above. It cannot be applied to a plus lens at all.

特許文献5に記載されている方法では、レンズとヤトイの接合剤として低融点ワックスを用いているだけで、コバ部分をワックスで保持しておらず、このため縁だれが生じるという問題がある。   In the method described in Patent Document 5, only a low-melting-point wax is used as a bonding agent between the lens and the yatoi, and the edge portion is not held with the wax, so that there is a problem that edge fringing occurs.

上記したように、特許文献2〜5に記載されている従来技術は、いずれも凸面の屈折力(dpt)が凹面の屈折力よりも小さいマイナスレンズの研磨を対象にしているため、凸面の屈折力が凹面の屈折力よりも大きいプラスレンズ、特に研磨すると研磨前よりも外径が小さくなるプラスレンズに対しては、そのまま適用することができず、このようなプラスレンズの研磨に適したレンズ保持具およびレンズの曲面研磨方法の開発が要請されている。   As described above, the conventional techniques described in Patent Documents 2 to 5 are intended for polishing a negative lens in which the refractive power (dpt) of the convex surface is smaller than the refractive power of the concave surface. This lens cannot be applied as it is to a plus lens whose power is greater than the refractive power of the concave surface, especially a plus lens whose outer diameter is smaller than that before polishing, and is suitable for polishing such a plus lens. Development of a method for polishing a curved surface of a holder and a lens is demanded.

本発明は上記した従来技術による課題および要請に応えるべくなされたもので、その目的とするところは、研磨前の状態から研磨後に径が小さくなるプラスレンズの光学面研磨において、外周に対する磨き性能の効率を上げ、品質の向上および研磨時間の短縮を可能にしたレンズ用保持具およびこれを用いたレンズの曲面研磨方法を提供することにある。   The present invention has been made to meet the above-mentioned problems and demands of the prior art, and the object of the present invention is to improve the polishing performance for the outer periphery in the optical surface polishing of a plus lens whose diameter is reduced after polishing from the state before polishing. An object of the present invention is to provide a lens holder capable of improving efficiency, improving quality and shortening polishing time, and a method of polishing a curved surface of a lens using the same.

上記目的を達成するために本発明は、研磨後の外径が研磨前よりも小さいプラスレンズの光学面研磨に用いられるレンズ保持具であって、研磨前のレンズ基材の被研磨面とは反対側の面の中央部をブロックする金属保持部と、前記面の外周部をブロックする融点が60〜80℃の低融点ワックスとを備え、前記金属保持部の前記面に接合する部分の外径を加工後のレンズ外径より小さく設定したところにある。   In order to achieve the above object, the present invention is a lens holder used for optical surface polishing of a plus lens whose outer diameter after polishing is smaller than that before polishing, and is a polished surface of a lens substrate before polishing. A metal holding part that blocks a central part of the opposite surface and a low melting point wax having a melting point of 60 to 80 ° C. that blocks the outer peripheral part of the surface; The diameter is set smaller than the lens outer diameter after processing.

また、本発明は、上記発明において、前記金属保持部の前記面に接合する部分の外径を加工後のレンズ外径より0.5mm以上小さくなるように設定したものである。   Further, in the present invention, the present invention is such that the outer diameter of the portion to be joined to the surface of the metal holding portion is set to be smaller than the processed lens outer diameter by 0.5 mm or more.

また、本発明は、上記発明において、前記低融点ワックスが前記レンズ基材の外周をブロックする環状の延長部を一体に備えているものである。   In the invention described above, the low melting point wax is integrally provided with an annular extension that blocks the outer periphery of the lens base material.

また、本発明は、上記発明において、前記金属保持部を、高融点金属からなるヤトイと、このヤトイと前記レンズ基材との間に介在される低融点金属とで構成したものである。   In the present invention, the metal holding portion is configured by a yatoy made of a high melting point metal and a low melting point metal interposed between the yato and the lens base material.

さらに、本発明は、研磨後の外径が研磨前よりも小さいプラスレンズの光学面を研磨するレンズの曲面研磨方法であって、研磨前のレンズ基材の被研磨面とは反対側の面の中央部を金属保持部によりブロックする工程と、前記面の外周部を融点が60〜80℃の低融点ワックスによりブロックする工程と、前記レンズ基材の前記被研磨面を前記低融点ワックスとともに所定の曲面に研磨することにより、外径が研磨前の外径より小さく、かつ前記金属保持部の前記レンズ基材に接合している部分の外径より大きいプラスレンズを製作する工程とを備えているものである。   Furthermore, the present invention is a method of polishing a curved surface of a lens for polishing an optical surface of a plus lens whose outer diameter after polishing is smaller than that before polishing, and is a surface opposite to the surface to be polished of a lens substrate before polishing A step of blocking the central portion of the lens substrate with a metal holding portion, a step of blocking the outer peripheral portion of the surface with a low melting point wax having a melting point of 60 to 80 ° C., and the polished surface of the lens substrate together with the low melting point wax And polishing a predetermined curved surface to produce a plus lens having an outer diameter smaller than the outer diameter before polishing and larger than the outer diameter of the portion of the metal holding portion bonded to the lens base material. It is what.

本発明においては、レンズ基材の被研磨面とは反対側の面の外周部をブロックする低融点ワックスを備えているので、コバ厚がほとんどないプラスレンズであってもレンズのブロックおよび加工が容易である。また、ワックスは、研磨時にレンズ外径が小さくなると、レンズ外径より外側部分が被研磨面の周縁部と同一かまたは近似した曲面に研磨される。したがって、被研磨面の外周部に対して中心部と同様な加圧力で押圧して研磨することができ、研磨パッドの変形(ヨレ)が均一で縁だれが発生せず、被研磨面の形状精度の向上および研磨時間の短縮を図ることができる。   In the present invention, since the low melting point wax that blocks the outer peripheral portion of the surface opposite to the surface to be polished of the lens base material is provided, the lens can be blocked and processed even with a plus lens having almost no edge thickness. Easy. Further, when the lens outer diameter becomes small during polishing, the wax is polished to a curved surface whose outer side is the same as or close to the peripheral edge of the surface to be polished. Therefore, the outer periphery of the surface to be polished can be pressed and polished with the same pressure as the central portion, the polishing pad can be deformed uniformly and no edging occurs, and the shape of the surface to be polished The accuracy can be improved and the polishing time can be shortened.

また、低融点ワックスは、冷却固化が容易で、短時間(室温で15分程度)に成形することができ、研磨加工後は溶かして成形すると再利用することができる。また、ワックスは成形が容易で、高い精度の加工ができる。   The low melting point wax is easy to cool and solidify and can be molded in a short time (about 15 minutes at room temperature), and can be reused by melting and molding after polishing. Also, the wax is easy to mold and can be processed with high accuracy.

また、本発明は、金属保持部のレンズ基材に接合する部分の外径を加工後のレンズ外径より0.5mm以上小さくなるように設定しているので、レンズ基材と低融点ワックスのみを研磨することができ、研磨パッドへの影響を軽減することができる。すなわち、研磨パッドが金属保持部を研磨するとパッドの損耗が早くなるばかりか、レンズ基材と、ワックスと金属保持部とでは加工抵抗が異なるので、パッドが変形して加圧力が不均一になったり接触が悪くなったりし、高い精度の加工ができなくなるが、本発明においては金属保持部を研磨しないのでそのようなことがない。   In the present invention, since the outer diameter of the portion to be joined to the lens base of the metal holding part is set to be 0.5 mm or more smaller than the lens outer diameter after processing, only the lens base and the low melting point wax are set. Can be polished, and the influence on the polishing pad can be reduced. That is, when the polishing pad polishes the metal holding portion, the wear of the pad is accelerated, and the processing resistance is different between the lens base, the wax, and the metal holding portion, so that the pad is deformed and the applied pressure becomes uneven. However, since the metal holding portion is not polished in the present invention, such a problem does not occur.

以下、本発明を図面に示す実施の形態に基づいて詳細に説明する。
図1は本発明に係るレンズ保持具によって加工前のレンズ基材をブロックした状態を示す断面図、図2は研磨加工後の断面図である。これらの図において、1は被加工レンズであるレンズ基材、2はレンズ基材1を保持するレンズ保持具、10は研磨加工後のプラスレンズ、11はレンズ基材1の被研磨面である凹面1aを研磨し所定の曲率の光学面からなる凹面10a(図2)を有するプラスレンズ10を製作する研磨パッドである。
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments shown in the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a state in which a lens substrate before processing is blocked by a lens holder according to the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view after polishing. In these drawings, 1 is a lens base material that is a lens to be processed, 2 is a lens holder for holding the lens base material 1, 10 is a plus lens after polishing, and 11 is a surface to be polished of the lens base material 1. This is a polishing pad for producing a plus lens 10 having a concave surface 10a (FIG. 2) made of an optical surface having a predetermined curvature by polishing the concave surface 1a.

前記レンズ基材1は、特に指定はないが、例えばウレタン系またはエピチオ系の樹脂によって形成された高屈折率(n=1.55〜1.75)のプラスチック製セミフィニッシュレンズからなり、被研磨面1aが凹面であり、この被研磨面1aとは反対側の面1bが所定の曲率の凸面からなる光学面を形成している。また、レンズ基材1は、図1に示す加工前の状態において、外径Dy1 が例えば65mmφで、コバ厚Tがほとんど零に近い円形(楕円も含む)のレンズであり、前記凹面1aの屈折力D1 (dpt)が凸面1bの屈折力D2 より大きく設定(D1 >D2 )されることにより、プラスのレンズ基材を形成している。研磨加工後のプラスレンズ10は、コバ厚が零で、凹面10aの屈折力D3 が凸面10bの屈折力D2 より大きく、研磨前のレンズ基材1の外径Dy1 より小さい外径Dy2 を有している。 The lens substrate 1 is not particularly specified, and is made of a plastic semi-finished lens having a high refractive index (n = 1.55 to 1.75) formed of, for example, a urethane or epithio resin, and is polished. The surface 1a is a concave surface, and the surface 1b opposite to the surface to be polished 1a forms an optical surface composed of a convex surface having a predetermined curvature. The lens base 1 is a circular lens (including an ellipse) having an outer diameter Dy 1 of, for example, 65 mmφ and an edge thickness T almost zero in the state before processing shown in FIG. By setting the refractive power D 1 (dpt) to be larger than the refractive power D 2 of the convex surface 1b (D 1 > D 2 ), a positive lens substrate is formed. Plus lens 10 after polishing is the edge thickness is zero, the refractive power D 3 of the concave 10a is larger than the refractive power D 2 of the convex surface 10b, the outer diameter Dy 1 smaller outer diameter Dy of the lens substrate 1 before polishing Have two .

前記レンズ保持具2は、金属保持部3とワックス4の2部材によって構成されている。また、金属保持部3は、SUS303等の高融点金属からなるヤトイ3Aと、このヤトイ3Aとレンズ基材1の凸面1bとの間に介在され、レンズ基材1とヤトイ3Aを接合するアロイ(低融点合金)3Bとで構成されている。ヤトイ3Aは、外径Dy3 が例えば43mmφの円柱状に形成され、後述する研磨装置30の回転軸38の嵌合凹部38aに回転を防止されて着脱可能に嵌合される部分である。なお、レンズ基材1の凸面1bの中央部をブロックする金属保持部3として高融点金属からなり機械的強度が大きいヤトイ3Aを用いた理由は、研磨時の負荷による変形等を防止するためである。 The lens holder 2 is composed of two members, a metal holder 3 and a wax 4. Further, the metal holding part 3 is interposed between a Yato 3A made of a high melting point metal such as SUS303 and the Yato 3A and the convex surface 1b of the lens base 1 to join the lens base 1 and the Yato 3A ( (Low melting point alloy) 3B. Lens holder unit 3A is formed in the outer diameter Dy 3 example 43mmφ cylindrical, is is prevented to rotate in the fitting recess 38a and the portion which is fitted detachably in the rotary shaft 38 of the polishing apparatus 30 described later. The reason for using the Yatoi 3A made of a high melting point metal and having high mechanical strength as the metal holding part 3 that blocks the central part of the convex surface 1b of the lens substrate 1 is to prevent deformation due to a load during polishing. is there.

前記アロイ3Bは、錫、インジウム、ビスマス等の混合物に挙げられるような周知のものを利用することができる。アロイ3Bは、レンズ基材1の外径Dy1 より小さく、ヤトイ3Aの外径Dy3 より大きい外径Dy4 (例えば50mmφ)を有する円板状に形成され、レンズ基材1の凸面1bに接触する面がレンズ保持面6を形成し、レンズ基材1の凸面1bの中央に接合されている。このため、レンズ保持面6は、凸面1bと同一の曲率半径をもつ凹面を形成している。アロイ3Bの外径Dy4 は、凹面1aの研磨時に研磨パッド11によって研磨されないようにするために、研磨後のプラスレンズ10の外径Dy2 より若干小さく設定している。この外径差Dy4 −Dy2 は、0.5mm程度以上であることが好ましく、これ以上であればアロイ3Bの表面を研磨することがない。アロイ3Bの下面中央には、前記ヤトイ3Aの上端が埋め込まれている。このため、アロイ3Bの中央部は、厚みが2mm程度の薄肉部を形成している。このようなアロイ3Bの形成に際しては、後述するようにアロイ素材を加熱溶融してレンズ基材1とヤトイ3Bとの隙間に流し込み固化させればよい。 As the alloy 3B, a known alloy such as a mixture of tin, indium, bismuth, and the like can be used. The alloy 3B is formed in a disc shape having an outer diameter Dy 4 (for example, 50 mmφ) that is smaller than the outer diameter Dy 1 of the lens base material 1 and larger than the outer diameter Dy 3 of the yato 3A, and is formed on the convex surface 1b of the lens base material 1. The contacting surface forms the lens holding surface 6 and is bonded to the center of the convex surface 1 b of the lens base 1. For this reason, the lens holding surface 6 forms a concave surface having the same radius of curvature as the convex surface 1b. The outer diameter Dy 4 of the alloy 3B is set slightly smaller than the outer diameter Dy 2 of the polished plus lens 10 so as not to be polished by the polishing pad 11 when the concave surface 1a is polished. The outer diameter difference Dy 4 -Dy 2 is preferably about 0.5 mm or more, and if it is more than this, the surface of the alloy 3B is not polished. In the center of the lower surface of the alloy 3B, the upper end of the yatoy 3A is embedded. For this reason, the central part of the alloy 3B forms a thin part having a thickness of about 2 mm. In forming such an alloy 3B, as will be described later, the alloy material is heated and melted and poured into the gap between the lens substrate 1 and the yatoy 3B to be solidified.

前記ワックス4は、低融点ワックスからなり、前記アロイ3Bの外周を取り囲む環状体に形成されることにより、レンズ基材1の凸面1bで前記アロイ3Bの外周からレンズ基材1の外周縁までの凸面外側部分をブロックしている。このため、ワックス4の外径は、研磨加工前のレンズ基材1の外径Dy1 と等しく、内径はアロイ3Bの外径Dy4 と等しい。 The wax 4 is made of a low melting point wax, and is formed in an annular body surrounding the outer periphery of the alloy 3B, so that the convex surface 1b of the lens substrate 1 extends from the outer periphery of the alloy 3B to the outer periphery of the lens substrate 1. The convex outer part is blocked. For this reason, the outer diameter of the wax 4 is equal to the outer diameter Dy 1 of the lens substrate 1 before polishing, and the inner diameter is equal to the outer diameter Dy 4 of the alloy 3B.

ワックス4としては、特に材質に制限はなくごく一般的な物質を用いることができる。例えば、天然ワックスとしてカルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ等の植物系ワックス、鯨ろう、ラノリン、蜜ろう等の動物系ワックス、モンタンワックス、セレシン、オゾケライト等の鉱物系ワックス、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ペトロラタム等の石油系ワックス等を挙げることができる。また、合成ワックスとしてポリエチレン、フッシャー・トロプシュワックス等の合成炭化水素や、モンタンワックス誘導体、マイクロクリスタリンワックス誘導体、パラフィンワックス誘導体(変性基としてはカルボキシ変性、アミノ変性、アルコール変性、エステル等)等の変性ワックス、硬化ひまし油、硬化ひまし油誘導体等の水素化ワックス等を挙げることができ、これらを単独でまたは複数を組み合わせて用いることができる。これらの中でも作業性、形状の出しやすさ、コストを考慮した場合、パラフィンワックス、ポリエチレンワックス等が好適なものとして使用されている。   As the wax 4, there is no particular limitation on the material, and a very general substance can be used. For example, natural waxes such as carnauba wax, rice wax, candelilla wax, waxes such as tree wax, animal waxes such as spermaceti, lanolin and beeswax, mineral waxes such as montan wax, ceresin and ozokerite, paraffin wax And petroleum waxes such as microcrystalline wax and petrolatum. In addition, synthetic hydrocarbons such as polyethylene, Fuscher-Tropsch wax, etc., montan wax derivatives, microcrystalline wax derivatives, paraffin wax derivatives (modified groups such as carboxy-modified, amino-modified, alcohol-modified, ester, etc.) Examples thereof include hydrogenated waxes such as wax, hardened castor oil, hardened castor oil derivatives, and the like, and these can be used alone or in combination. Among these, paraffin wax, polyethylene wax, and the like are preferably used in consideration of workability, ease of shape formation, and cost.

本実施の形態においては、低融点ワックス4として、粘性の高いワックス(好適な使用温度60〜80℃)を用いた例を示す。ワックス4は、例えばポリエチレンワックスを主体とした配合物であり、主成分が炭化水素である。ワックスの物性は、軟化点57℃、印加点300℃、密度0.92g/cm2 (25℃)、粘度330mPa/s(100℃)で、水に対して不溶性である。 In the present embodiment, an example in which a highly viscous wax (preferable use temperature of 60 to 80 ° C.) is used as the low melting point wax 4 will be described. The wax 4 is a blend mainly composed of polyethylene wax, for example, and the main component is hydrocarbon. The physical properties of the wax are insoluble in water with a softening point of 57 ° C., an application point of 300 ° C., a density of 0.92 g / cm 2 (25 ° C.), and a viscosity of 330 mPa / s (100 ° C.).

次にプラスレンズ10の製作手順について説明する。
図3(a)〜(f)は、レンズ保持具2によるレンズ基材1の保持と研磨工程を説明するための断面図である。
先ず、凹面1aが未加工のレンズ基材1を用意する(図3(a))。次に、レンズ基材1の凸面1bに保護フィルム8を貼着する(図3(b))。
Next, a manufacturing procedure of the plus lens 10 will be described.
FIGS. 3A to 3F are cross-sectional views for explaining the holding and polishing steps of the lens substrate 1 by the lens holder 2.
First, the lens base material 1 whose concave surface 1a is not processed is prepared (FIG. 3A). Next, the protective film 8 is stuck on the convex surface 1b of the lens substrate 1 (FIG. 3B).

保護フィルム8は、レンズ基材1の凸面1bに傷が付くのを防止するとともに、研磨加工後にレンズ保持具2の除去を容易にするために用いられるもので、例えば、表面層、中間層、粘着層の3層構造で構成されており、表面層および中間層がポリエチレン、粘着層がポリオレフィンからなり、それぞれの層の厚みは表面層が10μm、中間層が85μm、粘着層が25μm程度である。保護フィルム8は、常温でフィルム状の固体からなるポリエチレン等の基材層と、ポリオレフィンよりなる粘着層の2層構造であってもよい。その物性は、常温でフィルム状の固体であり、融点は110〜130℃、比重0.9〜1.0である。なお、従来、保護フィルム8は、レンズ基材1の保護とアロイ3Bとの密着を確保するために使用しているが、外挿ワックスの場合はレンズ基材1との密着が十分確保できるため本発明においては主にレンズ基材1の傷防止のために使用している。   The protective film 8 is used for preventing the convex surface 1b of the lens substrate 1 from being scratched and for facilitating the removal of the lens holder 2 after polishing. For example, a surface layer, an intermediate layer, The adhesive layer is composed of a three-layer structure. The surface layer and the intermediate layer are made of polyethylene, and the adhesive layer is made of polyolefin. The thickness of each layer is 10 μm for the surface layer, 85 μm for the intermediate layer, and about 25 μm for the adhesive layer. . The protective film 8 may have a two-layer structure of a base material layer such as polyethylene made of a film-like solid at normal temperature and an adhesive layer made of polyolefin. Its physical properties are a film-like solid at room temperature, a melting point of 110 to 130 ° C., and a specific gravity of 0.9 to 1.0. Conventionally, the protective film 8 is used to protect the lens base material 1 and ensure close contact with the alloy 3B. However, in the case of extrapolated wax, the close contact with the lens base material 1 can be sufficiently secured. In the present invention, the lens substrate 1 is mainly used for preventing scratches.

次に、ヤトイ3Aが取付けられたアロイ用のブロッキングリング14によってレンズ基材1の凸面1b外周部を保持する。これにより、凸面1bとヤトイ3Aとブロッキングリング14との間に空間15が形成され(図3(c))、この空間15に溶融したアロイ3Bを流し込んで固化させると(図3(d))、レンズ基材1がヤトイ3Aにアロイ3Bを介して接合される。言い換えれば、金属保持部3によってレンズ基材1をブロックする。   Next, the outer peripheral portion of the convex surface 1b of the lens substrate 1 is held by the alloy blocking ring 14 to which the Yatoi 3A is attached. As a result, a space 15 is formed between the convex surface 1b, the yatoy 3A, and the blocking ring 14 (FIG. 3C). When the molten alloy 3B is poured into the space 15 and solidified (FIG. 3D). The lens substrate 1 is bonded to the Yatoi 3A via the alloy 3B. In other words, the lens substrate 1 is blocked by the metal holding part 3.

次に、アロイ3Bが固化した後、ブロッキングリング14を取り外し、これより外径が大きいワックス用のブロッキングリング16にヤトイ3Aがアロイ3Bを介して接合されたレンズ基材1を装着する。さらに、レンズ基材1の外周とアロイ3Bの外周とブロッキングリング16の内周とによって形成される空間17内に溶融したワックス4をレンズ基材1の外周高さまで充填し固化させ、ワックス4によってレンズ基材1をブロック(固定)する(図3(e))。   Next, after the alloy 3B is solidified, the blocking ring 14 is removed, and the lens base 1 in which the Yatoi 3A is bonded to the wax blocking ring 16 having a larger outer diameter via the alloy 3B is mounted. Further, the wax 4 melted in the space 17 formed by the outer periphery of the lens substrate 1, the outer periphery of the alloy 3 </ b> B, and the inner periphery of the blocking ring 16 is filled to the outer periphery height of the lens substrate 1 and solidified. The lens substrate 1 is blocked (fixed) (FIG. 3E).

ワックス4の充填に際しては、固形ワックスをヒーターによって直接加熱して溶かし、溶融したワックスが80℃前後となったところで、ブロッキングリング16の内側に流し込む。このとき、ブロッキングリング16周縁の一部にエア抜き用の穴や隙間(共に不図示)を設けておくとよい。   When filling the wax 4, the solid wax is directly heated and melted by a heater, and when the melted wax reaches about 80 ° C., it is poured into the blocking ring 16. At this time, it is preferable to provide an air vent hole or gap (both not shown) in a part of the periphery of the blocking ring 16.

ワックス4の融点については、室温で溶けださない程度の低融点であれば問題なく使用することができる。特に融点が60〜80℃の低融点ワックス4を用いることが好ましい。また、ワックス4の硬度についても特に指定は無いが、レンズ基材1のエッジによる研磨パッド11のダメージを少なくして、パッド自体の消耗を極力抑えるために、レンズ基材1より柔らかいものを選択することが好ましい。   The melting point of the wax 4 can be used without any problem as long as it does not melt at room temperature. In particular, it is preferable to use a low melting point wax 4 having a melting point of 60 to 80 ° C. Further, although the hardness of the wax 4 is not particularly specified, a softer one than the lens base material 1 is selected in order to reduce damage to the polishing pad 11 due to the edge of the lens base material 1 and to suppress the wear of the pad itself as much as possible. It is preferable to do.

外挿ワックスの一番の効果は、ワークの外周磨き残し部(外周から3〜4mmまでの部分を指す)をワークの外挿部へ移動させることである。さらに、外周部の磨きを良くする方法として外挿ワックスへ、アルミナ、シリカ、ジルコニア、セリア、酸化マンガン、ダイヤモンド等の公知の研磨剤を添加することもでき、特にプラスチックレンズの場合、アルミナを用いて行うことが好ましい。なお、レンズ保持具2によってレンズ基材1をブロックするときは、例えば、前述したサティス ロー社製のレイアウトブロッカーと呼ばれる装置を用いてブロックする。また、ヤトイ3Aおよびアロイ3Bとワックス4によるブロックは、アロイ3Bとワックス4の融点の高い順に行なう。   The primary effect of the extrapolated wax is to move the unpolished portion of the workpiece (pointing to a portion of 3 to 4 mm from the outer circumference) to the extrapolated portion of the workpiece. Furthermore, as a method of improving the polishing of the outer peripheral portion, a known abrasive such as alumina, silica, zirconia, ceria, manganese oxide, diamond can be added to the extrapolated wax, and in the case of a plastic lens, alumina is used. It is preferable to carry out. When the lens base material 1 is blocked by the lens holder 2, for example, the lens base material 1 is blocked by using an apparatus called a layout blocker manufactured by Saty Law. Further, blocking with the Yatoi 3A and the alloy 3B and the wax 4 is performed in descending order of the melting points of the alloy 3B and the wax 4.

ワックス4が固化した後、ブロッキングリング16を取外し、レンズ基材1を研磨装置に装着して凹面1bを研磨パッド11によって所定の曲面に研磨する(図3(f))。   After the wax 4 is solidified, the blocking ring 16 is removed, the lens substrate 1 is mounted on a polishing apparatus, and the concave surface 1b is polished to a predetermined curved surface by the polishing pad 11 (FIG. 3 (f)).

次に、眼鏡レンズ基材1の研磨に用いられる研磨装置30について説明する。
図4において、研磨装置30は、レンズ基材1の凹面1aを研磨するために使用されているもので(例えば、特開2003−266287号公報参照)、床面に設置された装置本体31と、この装置本体31に紙面において左右方向に移動自在でかつ水平な軸32を中心として紙面と直交する方向に回動自在に配設されたアーム33と、このアーム33を左右方向に往復移動させるとともに紙面と直交する方向に回動させる図示を省略した駆動装置と、前記アーム33に設けられレンズ基材1の凸面1bをレンズ保持具2を介してブロックするレンズ取付部34と、このレンズ取付部34の下方に位置するように前記装置本体31に配設され、図示を省略した駆動装置により垂直な軸線Kを中心として首振り旋回運動(自転はしない)する揺動装置35等を備えている。また、揺動装置35上に着脱自在に設けられた研磨治具36と、この研磨治具36に着脱自在に取付けられた前記研磨パッド11と、前記アーム33上に設置されレンズ取付部34を昇降させる昇降装置37等を備えている。
Next, the polishing apparatus 30 used for polishing the spectacle lens substrate 1 will be described.
In FIG. 4, a polishing apparatus 30 is used for polishing the concave surface 1a of the lens substrate 1 (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-266287), and an apparatus main body 31 installed on the floor surface and The apparatus main body 31 is movable in the left-right direction on the paper surface and is pivoted in a direction orthogonal to the paper surface around a horizontal shaft 32, and the arm 33 is reciprocated in the left-right direction. In addition, a driving device (not shown) that rotates in a direction orthogonal to the paper surface, a lens mounting portion 34 that is provided on the arm 33 and blocks the convex surface 1b of the lens base 1 through the lens holder 2, and the lens mounting A swing which is disposed in the apparatus main body 31 so as to be positioned below the portion 34 and swings around the vertical axis K (does not rotate) by a driving device (not shown). It is equipped with a device 35 and the like. Further, a polishing jig 36 detachably provided on the swing device 35, the polishing pad 11 detachably attached to the polishing jig 36, and a lens attachment portion 34 installed on the arm 33 are provided. An elevating device 37 for elevating and lowering is provided.

前記揺動装置35は、垂直な回転軸38に揺動角度α(例えば、5°)で首振り旋回運動するように傾斜して取付けられ、上面に前記研磨治具36が設置されている。   The oscillating device 35 is inclined and attached to a vertical rotating shaft 38 so as to swing and swing at an oscillating angle α (for example, 5 °), and the polishing jig 36 is installed on the upper surface.

前記研磨治具36は、天然ゴム、合成ゴム、ゴム状樹脂等の弾性材料によって形成されたバルーン部材39(図1)と、このバルーン部材39の背面開口部を閉塞し内部を気密にブロックする固定部材(図示せず)と、この固定部材に設けられたバルブ等を備え、このバルブを介してバルーン部材39内に圧縮空気が供給されることにより、バルーン部材39を膨張した状態で使用するように構成されている。また、バルーン部材39は、楕円形のカップ状に形成されており、レンズ基材1の凹面1aに接触する表面部39Aが扁平または緩やかな凸曲面からなり、使用時に内部に導入される圧縮空気によってレンズ基材1の凹面1aと略等しい曲率半径のドーム状に変形されるように構成されている。このようなバルーン部材39の材質としては、例えば硬度が20〜50度の天然ゴムに近い合成ゴム(例えば、IIR)または天然ゴムが用いられる。バルーン部材39の厚さは全体にわたって均一で、約0.5〜2mm(通常1mm程度の等厚)である。なお、バルーン部材39は、研磨するレンズ基材1の大きさや研磨したい被研磨面の形状に応じて複数種類用意することが好ましい。   The polishing jig 36 has a balloon member 39 (FIG. 1) formed of an elastic material such as natural rubber, synthetic rubber, or rubber-like resin, and closes the back opening of the balloon member 39 to block the inside airtightly. A fixing member (not shown) and a valve or the like provided on the fixing member are provided, and the balloon member 39 is used in an inflated state by supplying compressed air into the balloon member 39 through the valve. It is configured as follows. The balloon member 39 is formed in an elliptical cup shape, and the surface portion 39A contacting the concave surface 1a of the lens substrate 1 is a flat or gently convex curved surface, and is compressed air introduced into the interior during use. Thus, the lens base 1 is deformed into a dome shape having a curvature radius substantially equal to the concave surface 1a. As the material of the balloon member 39, for example, synthetic rubber (for example, IIR) or natural rubber close to natural rubber having a hardness of 20 to 50 degrees is used. The thickness of the balloon member 39 is uniform throughout and is about 0.5 to 2 mm (usually equal to about 1 mm). Note that it is preferable to prepare a plurality of types of balloon members 39 according to the size of the lens substrate 1 to be polished and the shape of the surface to be polished.

前記レンズ基材1の凹面1aの研磨に用いられる前記研磨パッド11は、例えば発泡ポリウレタン、フェルト、または不織布等の繊維性の布や合成樹脂等を材料とする厚さ1mm程度のシート材によって形成され、前記バルーン部材39のドーム部39Aの正面視形状と略同一の大きさの楕円形に形成され、周縁には例えば8本の固定片11aが延設されており、これらの固定片11aがバルーン部材39の外周に沿って折り曲げられ適宜な太さの線ばねからなる締付け部材40によって着脱可能に固定されている。   The polishing pad 11 used for polishing the concave surface 1a of the lens substrate 1 is formed of a sheet material having a thickness of about 1 mm made of, for example, a fibrous cloth such as foamed polyurethane, felt, or nonwoven fabric, or a synthetic resin. The balloon member 39 is formed in an oval shape having substantially the same size as the front view shape of the dome portion 39A. For example, eight fixing pieces 11a are extended on the periphery, and these fixing pieces 11a are The balloon member 39 is detachably fixed by a fastening member 40 which is bent along the outer periphery of the balloon member 39 and is formed of a wire spring having an appropriate thickness.

前記研磨パッド11をバルーン部材39に取付けるには、先ず圧縮空気の供給によってバルーン部材39のドーム部39Aを所定のドーム形状に膨張させた後、その上に研磨パッド11を載置する。次に、固定片11aをバルーン部材39の外周に沿って折り曲げ、締付け部材40をバルーン部材39の外周に嵌装して固定片11aを押圧固定する。   In order to attach the polishing pad 11 to the balloon member 39, first, the dome portion 39A of the balloon member 39 is expanded into a predetermined dome shape by supplying compressed air, and then the polishing pad 11 is placed thereon. Next, the fixing piece 11a is bent along the outer periphery of the balloon member 39, and the fastening member 40 is fitted on the outer periphery of the balloon member 39 to press and fix the fixing piece 11a.

このような構造からなる研磨装置30によるレンズ基材1の研磨は、以下の手順によって行われる。先ず、アーム33のレンズ取付部34にレンズ基材1をブロックしたレンズ保持具2を装着する。次に、揺動装置35の上面に研磨パッド11をブロックした研磨治具36を設置し、昇降装置37によってレンズ基材1を下降させて凹面1aを研磨パッド11の表面に押し付ける。この状態で研磨剤を研磨パッド11の表面に供給するとともに、アーム33を左右および前後方向に往復運動させながら揺動装置35を首振り旋回運動させる。これらの運動により、研磨の軌跡が1周毎に少しずつずれる無軌道研磨軌跡でレンズ基材1の凹面1aを研磨パッド11と研磨剤によって研磨し、所望の曲面からなる光学面に仕上げる。   The lens substrate 1 is polished by the polishing apparatus 30 having such a structure according to the following procedure. First, the lens holder 2 that blocks the lens substrate 1 is attached to the lens mounting portion 34 of the arm 33. Next, a polishing jig 36 that blocks the polishing pad 11 is installed on the upper surface of the swinging device 35, and the lens substrate 1 is lowered by the lifting device 37 to press the concave surface 1 a against the surface of the polishing pad 11. In this state, the abrasive is supplied to the surface of the polishing pad 11 and the swinging device 35 is swung and swung while the arm 33 is reciprocated in the left and right and front and rear directions. By these movements, the concave surface 1a of the lens substrate 1 is polished by the polishing pad 11 and the abrasive with a trackless polishing locus in which the polishing locus is slightly shifted every round, and finished to an optical surface having a desired curved surface.

レンズ基材1の研磨によってプラスレンズ10の製作が終了すると、プラスレンズ10とともにレンズ保持具2を研磨装置30から取外し、さらにプラスレンズ10をレンズ保持具2から外す。そして、目視によるプラスレンズ10の外観検査とレンズメータによる度数検査とジルコンランプの透過光によるレンズ内面の投影検査と非点収差の光学性能検査を行い、もってプラスレンズ10の製造を終了する。   When the manufacture of the plus lens 10 is completed by polishing the lens substrate 1, the lens holder 2 is removed from the polishing apparatus 30 together with the plus lens 10, and the plus lens 10 is further removed from the lens holder 2. Then, the visual inspection of the plus lens 10 by visual inspection, the power inspection by the lens meter, the projection inspection of the lens inner surface by the transmitted light of the zircon lamp and the optical performance inspection of astigmatism are performed, and the manufacture of the plus lens 10 is finished.

上記したように本発明に係るレンズ保持具2は、研磨前のレンズ基材1の凸面1bの外周部を低融点ワックス4によって保持しているので、コバ厚がほとんどないプラスレンズ10であっても、凹面1aの外周部を研磨するとき、凹面中央部と同じ加圧力を加えて研磨することができる。また、ワックス4の上面でプラスレンズ10より外側部分も、凹面1aの研磨時に同時に研磨され、凹面10aの周縁部と同一化またはこれに近似した曲面に研磨される。したがって、研磨後のレンズ外径Dy2 が研磨前のレンズ外径Dy1 よりも小さいプラスレンズ10を、縁だれすることなく良好に研磨することができ、また周縁部を縁だれしないように何度も加工するといった手間が省けるため加工時間を大幅に短縮することができる。 As described above, the lens holder 2 according to the present invention is a plus lens 10 having almost no edge thickness because the outer peripheral portion of the convex surface 1b of the lens substrate 1 before polishing is held by the low melting point wax 4. However, when the outer peripheral portion of the concave surface 1a is polished, the same pressing force as that of the central portion of the concave surface can be applied for polishing. Further, the outer side of the plus lens 10 on the upper surface of the wax 4 is also polished at the same time when the concave surface 1a is polished, and is polished to a curved surface that is the same as or close to the peripheral edge of the concave surface 10a. Accordingly, the plus lens 10 whose lens outer diameter Dy 2 after polishing is smaller than the lens outer diameter Dy 1 before polishing can be satisfactorily polished without being edged, and the peripheral portion is not edged. The processing time can be greatly shortened because the time and effort of machining is saved.

また、ワックス4は、加工曲面に合わせて何種類も作成し、保管する必要もない。また、レンズ基材1に対して密着性が良好で、冷却固化が容易で短時間(室温で15分程度)に成形することができるばかりか精度の高い加工ができ、研磨加工後は80℃で15分程度加熱すればプラスレンズ10から容易に取り除くことができる。さらに、取り除いた後はワックス4の切り屑とともに溶剤で希釈、加熱して溶かした後、揮発成分を取り除くと再利用することができるためワックス4の消費量も少なくてすみ経済的である。   Also, it is not necessary to create and store various types of waxes 4 according to the processing curved surface. In addition, it has good adhesion to the lens substrate 1, can be easily solidified by cooling, can be molded in a short time (about 15 minutes at room temperature), and can be processed with high accuracy. Can be easily removed from the plus lens 10 by heating for about 15 minutes. Further, after the removal, the wax 4 is diluted with a solvent together with the chips, heated and dissolved, and then removed by removing the volatile component, so that the consumption of the wax 4 can be reduced and economical.

さらに、ワックス4は、化学物質審査規制法に規定されている物質に含まれていないので、作業者の健康を害するおそれもなく安心して使用することができ、管理が容易である。   Furthermore, since the wax 4 is not included in the substances stipulated in the Chemical Substance Examination Regulation Law, the wax 4 can be used with confidence without any risk of harming the health of the worker, and management is easy.

図5は本発明の他の実施の形態を示す加工前の断面図、図6は加工後の断面図である。
この実施の形態は、低融点ワックス4の外周に、レンズ基材1のコバ面1cを全周にわたって取り囲む環状部4Aを一体に延設したものである。その他の構成は、図1および図2に示した実施の形態と全く同一であるため、同一部品、部分については同一符号をもって示し、その説明を省略する。
FIG. 5 is a sectional view before processing showing another embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a sectional view after processing.
In this embodiment, an annular portion 4 </ b> A surrounding the edge surface 1 c of the lens substrate 1 over the entire circumference is integrally extended on the outer periphery of the low melting point wax 4. Other configurations are completely the same as those of the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, and therefore, the same parts and portions are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted.

このようなレンズ保持具2’によってレンズ基材1の凸面1bをブロックして凹面1aを研磨し、図6に示すように研磨前の外径Dy1 より小さい外径Dy2 のプラスレンズ10を製作する。したがって、ワックス4の上面でプラスレンズ10の外周より外側部分も、凹面10aの周縁部と同一かまたはこれに近似した曲面に研磨されるので、上記した実施の形態と同様な効果が得られることは明らかであろう。 The convex surface 1b of the lens substrate 1 is blocked by such a lens holder 2 ′ to polish the concave surface 1a, and as shown in FIG. 6, the plus lens 10 having an outer diameter Dy 2 smaller than the outer diameter Dy 1 before polishing is obtained. To manufacture. Therefore, the outer side of the outer periphery of the plus lens 10 on the upper surface of the wax 4 is also polished to a curved surface that is the same as or close to the peripheral edge of the concave surface 10a, and the same effect as the above-described embodiment can be obtained. Will be clear.

図7は本発明のさらに他の実施の形態を示す研磨前の断面図、図8は研磨後の断面図である。
この実施の形態は、両面50a、50bが略平行な平坦面からなるレンズ基材50の一方の面50aを所定の凸曲面からなる光学面51aに研磨してプラスレンズ51を製作する場合に適用した例を示す。
FIG. 7 is a cross-sectional view before polishing showing still another embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a cross-sectional view after polishing.
This embodiment is applied to the case where the plus lens 51 is manufactured by polishing one surface 50a of the lens substrate 50 having a flat surface in which both surfaces 50a and 50b are substantially parallel to each other to an optical surface 51a having a predetermined convex curved surface. An example is shown.

レンズ基材50は、研磨すべき面(被研磨面)50aとは反対側の面50bがレンズ保持具2によってブロックされる。レンズ保持具2は、図1および図2に示した実施の形態と同様に、金属製のヤトイ3Aと、このヤトイ3Aとレンズ基材50の被研磨面50aとは反対側の面50bとの間に介在されたアロイ3Bと、前記面50bの外周部をブロックする低融点ワックス4とで構成されている。アロイ3Bの外径Dy4 は、研磨後のプラスレンズ51の外径Dy2 よりも小さく設定されている。 The lens base 50 is blocked by the lens holder 2 on the surface 50b opposite to the surface (surface to be polished) 50a to be polished. Similarly to the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, the lens holder 2 includes a metal yatoy 3A and a surface 50b opposite to the surface to be polished 50a of the lens base material 50. It is composed of an alloy 3B interposed therebetween and a low melting point wax 4 that blocks the outer periphery of the surface 50b. The outer diameter Dy 4 of the alloy 3B is set smaller than the outer diameter Dy 2 of the polished plus lens 51.

前記レンズ基材50の被研磨面50aを研磨して所定の凸面51aを有するプラスレンズ51を製作するとき、被研磨面50aの外周を研磨パッドで研磨して小径化すると、ワックス4の外周部も同時に研磨されるため、ワックス4の外周部表面、すなわちプラスレンズ51のレンズ外径Dy2 より外側の表面部分は、加工後の凸面51aの周縁部と同一かまたはこれに近似した曲面に研磨される。したがって、平板状のレンズ基材50からコバ厚がほとんど零のプラスレンズ51を製作する場合も上記した実施の形態と同様な効果が得られることは明らかであろう。 When the polished surface 50a of the lens substrate 50 is polished to produce a plus lens 51 having a predetermined convex surface 51a, the outer periphery of the wax 4 is reduced by polishing the outer periphery of the polished surface 50a with a polishing pad. Is also polished at the same time, the outer peripheral surface of the wax 4, that is, the surface portion outside the lens outer diameter Dy 2 of the plus lens 51 is polished to a curved surface that is the same as or close to the peripheral edge of the convex surface 51 a after processing. Is done. Therefore, it will be apparent that the same effect as that of the above-described embodiment can be obtained even when the plus lens 51 having a substantially zero edge thickness is manufactured from the flat lens substrate 50.

本発明に係るレンズ保持具によって加工前のレンズ基材をブロックした状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which blocked the lens base material before a process with the lens holder which concerns on this invention. 研磨加工後の断面図である。It is sectional drawing after grinding | polishing process. (a)〜(f)はレンズ保持具によるレンズ基材の保持と研磨工程を説明するための断面図である。(A)-(f) is sectional drawing for demonstrating the holding | maintenance and grinding | polishing process of a lens base material with a lens holder. 研磨装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of a grinding | polishing apparatus. 本発明の他の実施の形態を示す加工前の断面図である。It is sectional drawing before the process which shows other embodiment of this invention. 加工後の断面図である。It is sectional drawing after a process. 本発明のさらに他の実施の形態を示す加工前の断面図である。It is sectional drawing before the process which shows other embodiment of this invention. 加工後の断面図である。It is sectional drawing after a process.

符号の説明Explanation of symbols

1…レンズ基材、1a…凹面(被研磨面)、1b…凸面、1c…コバ面、2…レンズ保持具、3…金属保持部、3A…ヤトイ、3B…アロイ、4…低融点ワックス、4A…延長部、8…保護フィルム、10…プラスレンズ、11…研磨パッド。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Lens base material, 1a ... Concave surface (surface to be polished), 1b ... Convex surface, 1c ... Edge surface, 2 ... Lens holder, 3 ... Metal holding part, 3A ... Yato, 3B ... Alloy, 4 ... Low melting point wax, 4A ... Extension part, 8 ... Protective film, 10 ... Plus lens, 11 ... Polishing pad.

Claims (5)

研磨後の外径が研磨前よりも小さいプラスレンズの光学面研磨に用いられるレンズ保持具であって、
研磨前のレンズ基材の被研磨面とは反対側の面の中央部をブロックする金属保持部と、 前記面の外周部をブロックする融点が60〜80℃の低融点ワックスとを備え、
前記金属保持部の前記面に接合する部分の外径を加工後のレンズ外径より小さく設定したことを特徴とするレンズ保持具。
A lens holder used for optical surface polishing of a plus lens whose outer diameter after polishing is smaller than that before polishing,
A metal holding part that blocks the central part of the surface opposite to the surface to be polished of the lens base before polishing, and a low melting point wax having a melting point of 60 to 80 ° C. that blocks the outer peripheral part of the surface,
A lens holder, wherein an outer diameter of a portion joined to the surface of the metal holder is set to be smaller than a lens outer diameter after processing.
請求項1記載のレンズ保持具において、
前記金属保持部の前記面に接合する部分の外径は、加工後のレンズ外径より0.5mm以上小さくなるように設定されていることを特徴とするレンズ保持具。
The lens holder according to claim 1,
The lens holder according to claim 1, wherein an outer diameter of a portion of the metal holder that is joined to the surface is set to be 0.5 mm or more smaller than a lens outer diameter after processing.
請求項1または2記載のレンズ保持具において、
前記低融点ワックスは、前記レンズ基材の外周をブロックする環状の延長部を一体に備えていることを特徴とするレンズ保持具。
The lens holder according to claim 1 or 2,
The lens holder according to claim 1, wherein the low melting point wax is integrally provided with an annular extension that blocks an outer periphery of the lens substrate.
請求項1、2、3のうちのいずれか一項に記載のレンズ保持具において、
前記金属保持部は、高融点金属からなるヤトイと、このヤトイと前記レンズ基材との間に介在される低融点金属とで構成されていることを特徴とするレンズ保持具。
The lens holder according to any one of claims 1, 2, and 3,
The metal holder is constituted by a yatoy made of a high melting point metal and a low melting point metal interposed between the yato and the lens base material.
研磨後の外径が研磨前よりも小さいプラスレンズの光学面を研磨するレンズの曲面研磨方法であって、
研磨前のレンズ基材の被研磨面とは反対側の面の中央部を金属保持部によりブロックする工程と、
前記面の外周部を融点が60〜80℃の低融点ワックスによりブロックする工程と、
前記レンズ基材の前記被研磨面を前記低融点ワックスとともに所定の曲面に研磨することにより、外径が研磨前のレンズ基材の外径より小さく、かつ前記金属保持部の前記レンズ基材に接合している部分の外径より大きいプラスレンズを製作する工程と、
を備えたことを特徴とするレンズの曲面研磨方法。
A lens curved surface polishing method for polishing an optical surface of a plus lens whose outer diameter after polishing is smaller than that before polishing,
A step of blocking the central portion of the surface opposite to the surface to be polished of the lens substrate before polishing with a metal holding portion;
Blocking the outer periphery of the surface with a low melting point wax having a melting point of 60 to 80 ° C .;
By polishing the surface to be polished of the lens substrate into a predetermined curved surface together with the low melting point wax, the outer diameter is smaller than the outer diameter of the lens substrate before polishing, and the lens substrate of the metal holding portion Manufacturing a plus lens larger than the outer diameter of the joined part;
A curved surface polishing method for a lens, comprising:
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