JP2009120570A - New carbonyl-bridged athene-based compound and method for producing the same - Google Patents

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JP2009120570A
JP2009120570A JP2007298258A JP2007298258A JP2009120570A JP 2009120570 A JP2009120570 A JP 2009120570A JP 2007298258 A JP2007298258 A JP 2007298258A JP 2007298258 A JP2007298258 A JP 2007298258A JP 2009120570 A JP2009120570 A JP 2009120570A
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Inventor
Hiroyuki Hanato
宏之 花戸
Masatoshi Nakagawa
政俊 中川
Yoshinori Nakayama
佳則 中山
Kazuyuki Soranaka
一之 空中
Atsushi Kitagawa
敦 北川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new athene-based compound precursor efficiently producing a highly regular electroconductive thin film according to a simple method. <P>SOLUTION: The carbonyl-bridged athene-based compound is represented by general formula (1) äwherein, Z represents -C(=O)-; m and n represent each an integer of ≥0; and R<SB>1</SB>and R<SB>2</SB>represent each independently any of H, a 1-30C alkyl, a 1-30C halogenated alkyl, a 6-30C aryl, a 4-30C heteroaryl, a 1-30C alkoxy, a 6-30C aryloxy, a 3-30C trialkylsilyl, or a halogen}. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機半導体デバイス等を構成する導電性薄膜の原材料として有用な新規なカルボニル架橋型アセン系化合物に関する。また、本発明はかかるカルボニル架橋型アセン系化合物の容易な製造方法に関する。   The present invention relates to a novel carbonyl-bridged acene compound useful as a raw material for a conductive thin film constituting an organic semiconductor device or the like. The present invention also relates to an easy process for producing such a carbonyl bridged acene compound.

近年、半導体デバイスのパターンは微細化して、回路の集積度も増々高くなっていく傾向にあり、現在、数ナノメートル(nm)〜数十nmの導電性薄膜を形成する技術の確立が望まれている。このような薄い導電性薄膜を半導体上に形成する技術の一例として、有機分子を用いて自己組織化(Self Assembling)薄膜(以下、SA薄膜と称する)を形成させる方法が近年提唱されている。この技術は有機分子が規則的な構造に配列する性質を利用したものであり、極めて欠陥が少なくかつ高い秩序性を持った薄膜を製造することができる。SA薄膜は、印刷やインクジェットなどの手法により有機分子またはその前駆体を半導体等の基体上に付与することにより形成することができる。   In recent years, semiconductor device patterns have been miniaturized and the degree of circuit integration has been increasing, and it is now desirable to establish a technique for forming conductive thin films of several nanometers (nm) to several tens of nanometers. ing. As an example of a technique for forming such a thin conductive thin film on a semiconductor, a method for forming a self-assembled (Self Assembling) thin film (hereinafter referred to as an SA thin film) using organic molecules has been recently proposed. This technique utilizes the property that organic molecules are arranged in a regular structure, and can produce a thin film having extremely few defects and high order. The SA thin film can be formed by applying organic molecules or a precursor thereof to a substrate such as a semiconductor by a technique such as printing or ink jet.

SA薄膜の作成に適した材料として、アセン系化合物の一種であるペンタセンの前駆体となる各種のペンタセン付加化合物が報告されている(下記の特許文献1〜3および非特許文献1および2参照)。しかし、これらのペンタセン付加化合物を用いて規則的な構造を有する薄膜の製造を簡便安価な設備で効率良く実施するには多くの問題が存在していた。例えば、これらのペンタセン付加化合物をペンタセンに変換するには、高価な設備を伴う光照射を要したり、200℃以上の高温での熱分解を要したり、150℃で1時間もの長時間の熱分解を要したりしていた。   Various pentacene addition compounds that are precursors of pentacene, which is a kind of acene compound, have been reported as materials suitable for the formation of SA thin films (see Patent Documents 1 to 3 and Non-Patent Documents 1 and 2 below). . However, there have been many problems in efficiently producing thin films having a regular structure using these pentacene adducts with simple and inexpensive equipment. For example, in order to convert these pentacene adducts into pentacene, light irradiation with expensive equipment is required, thermal decomposition at a high temperature of 200 ° C. or higher is required, or a long time of 1 hour at 150 ° C. It required thermal decomposition.

これらの問題に鑑み、近年ペンタセンの高温溶解による直接的なペンタセン薄膜の作成方法が報告されている(下記の特許文献4および非特許文献3,4参照)。これらの方法は上述のペンタセン付加化合物をペンタセンに変換する方法より若干簡便であるが、溶解度が極めて低いペンタセンを溶解させるため、煩雑な工程、即ち、溶剤として200℃以上の高沸点の溶剤を用い、ペンタセンと溶剤の混合物を高温に加熱して急冷することによりペンタセン微粒子の分散液を得る工程を含む。さらに、これらの方法では、この分散液を基板上に塗布してから100℃〜200℃に再加熱する必要がある。従って、これらの方法は導電性薄膜を効率良く作成するにはいまだ充分ではない。
米国特許公開第2003/0144562号公報 米国特許公開第2004/0119073号公報 米国特許公開第2004/0183070号公報 特開2005−281180公報 Tetrahedoron Letters,46,1981(2005) J.Am.Chem.Soc.2004,126,12740(1994) Synth.Met.,153,1(2005) 応用物理 75(3),565(2006)
In view of these problems, a method for directly forming a pentacene thin film by dissolving pentacene at a high temperature has recently been reported (see Patent Document 4 and Non-Patent Documents 3 and 4 below). These methods are slightly simpler than the above-mentioned method of converting the pentacene addition compound to pentacene, but in order to dissolve pentacene having a very low solubility, a complicated process, that is, a solvent having a high boiling point of 200 ° C. or higher is used as a solvent. And a step of obtaining a dispersion of pentacene fine particles by heating a mixture of pentacene and a solvent to a high temperature and quenching. Furthermore, in these methods, it is necessary to reheat the dispersion to 100 ° C. to 200 ° C. after coating the dispersion on the substrate. Therefore, these methods are still not sufficient for efficiently producing a conductive thin film.
U.S. Patent Publication No. 2003/0144562 US Patent Publication No. 2004/0119073 US Patent Publication No. 2004/0183070 JP 2005-281180 A Tetrahedoron Letters, 46, 1981 (2005) J. et al. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 12740 (1994) Synth. Met. , 153, 1 (2005) Applied physics 75 (3), 565 (2006)

本発明はかかる従来技術の現状に鑑み創案されたものであり、その目的は規則性の高い導電性薄膜を簡易な方法で効率良く作成することができる新規なアセン系化合物前駆体およびその製造方法を提供することにある。   The present invention was devised in view of the current state of the prior art, and the object thereof is a novel acene compound precursor capable of efficiently producing a highly regular conductive thin film by a simple method and a method for producing the same. Is to provide.

本発明者らは、かかる目的を達成するために、目的のアセン系化合物よりも有機溶媒に溶解しやすくかつ簡易な操作により容易にアセン系化合物に変換される前駆体について鋭意検討した結果、カルボニル架橋型アセン系化合物が、多くの有機溶媒に対して良好な溶解性を有し、そして100℃〜150℃程度の温度で短時間加熱することにより、目的のアセン系化合物を容易に生成することを見出した。さらに、本発明者らは、このカルボニル架橋型アセン系化合物が、Diels−Alder反応を利用した二種類の合成ルート、即ち(A)ジメチリデンノルボルネン類に縮合ベンザイン類を反応させる方法、及び(B)ノルボルナジエン類にオルトジハロキノジメタン類を反応させる方法の、いずれかの合成ルートを利用することにより、ヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物を経由して容易に誘導できることを見出した。これらの知見に基づき、本発明者らは本発明を完成するに至った。   In order to achieve such an object, the present inventors have conducted intensive studies on a precursor that is more easily dissolved in an organic solvent than a target acene compound and can be easily converted into an acene compound by a simple operation. The bridged acene compound has good solubility in many organic solvents, and can easily produce the target acene compound by heating at a temperature of about 100 ° C. to 150 ° C. for a short time. I found. Furthermore, the present inventors have found that this carbonyl-bridged acene-based compound has two synthetic routes utilizing the Diels-Alder reaction, that is, (A) a method in which a condensed benzyne is reacted with dimethylidene norbornenes, and (B It has been found that by using any synthetic route of the method of reacting norbornadiene with orthodihaloquinodimethane, it can be easily derived via a hydroxymethylene bridged acene compound. Based on these findings, the present inventors have completed the present invention.

即ち、本発明によれば、一般式(1)

Figure 2009120570
(式中、Zは−C(=O)−を表わす。m,nは0以上の整数を表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)で表されるカルボニル架橋型アセン系化合物が提供される。 That is, according to the present invention, the general formula (1)
Figure 2009120570
(In the formula, Z represents —C (═O) —. M and n each represents an integer of 0 or more. R 1 and R 2 each independently represent H, C1 to C30 alkyl, or C1 to C30. Alkyl halide, C6-C30 aryl, C4-C30 heteroaryl, C1-C30 alkoxy, C6-C30 aryloxy, C3-C30 trialkylsilyl or halogen. A carbonyl bridged acene compound is provided.

また、本発明によれば、一般式(2)

Figure 2009120570
(式中、m,nは0以上の整数を表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)で表されるヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物が提供される。 Moreover, according to the present invention, the general formula (2)
Figure 2009120570
(In the formula, m and n each represents an integer of 0 or more. R 1 and R 2 are each independently H, C1 to C30 alkyl, C1 to C30 alkyl halide, C6 to C30 aryl, C4 to C4) C30 heteroaryl, C1 to C30 alkoxy, C6 to C30 aryloxy, C3 to C30 trialkylsilyl, or halogen) is provided.

また、本発明によれば、
一般式(4)

Figure 2009120570
(式中、mは0以上の整数を表わす。RはH、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。RはC2〜C30のアシル、C2〜C30のα−アルコキシアルキル、テトラヒドロピラニル、C4〜C30のt−アルキル、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはC8〜C30のアリルジアルキルシリルのいずれかを表わす。)で表されるジメチリデンノルボルネン類と
一般式(5)
Figure 2009120570
(式中、nは0以上の整数を表わす。RはH、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)で表される縮合ベンザイン類を反応させることにより、一般式(6)
Figure 2009120570
(式中、m,nは0以上の整数を表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。RはC2〜C30のアシル、C2〜C30のα−アルコキシアルキル、テトラヒドロピラニル、C4〜C30のt−アルキル、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはC8〜C30のアリルジアルキルシリルのいずれかを表わす。)で表される環化体もしくはそのアルカリ金属塩を得、この環化体もしくはそのアルカリ金属塩を脱水素させることにより、
一般式(3)
Figure 2009120570
(式中、m,nは0以上の整数を表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。RはC2〜C30のアシル、C2〜C30のα−アルコキシアルキル、テトラヒドロピラニル、C4〜C30のt−アルキル、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはC8〜C30のアリルジアルキルシリルのいずれかを表わす。)で表されるオキシメチレン架橋型アセン系化合物を得、このオキシメチレン架橋型アセン系化合物を分解することにより、
一般式(2)
Figure 2009120570
(式中、m,nは0以上の整数を表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)で表されるヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物を得ることを特徴とする一般式(2)で表されるヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物の製造方法が提供される。 Moreover, according to the present invention,
General formula (4)
Figure 2009120570
(In the formula, m represents an integer of 0 or more. R 1 is H, C1-C30 alkyl, C1-C30 alkyl halide, C6-C30 aryl, C4-C30 heteroaryl, C1-C30 alkoxy. , C6-C30 aryloxy, C3-C30 trialkylsilyl or halogen R 3 is C2-C30 acyl, C2-C30 α-alkoxyalkyl, tetrahydropyranyl, C4-C30 t -Represents an alkyl, a C3-C30 trialkylsilyl or a C8-C30 allyldialkylsilyl) and a general formula (5)
Figure 2009120570
(In the formula, n represents an integer of 0 or more. R 2 is H, C1-C30 alkyl, C1-C30 alkyl halide, C6-C30 aryl, C4-C30 heteroaryl, C1-C30 alkoxy) , C6 to C30 aryloxy, C3 to C30 trialkylsilyl, or halogen) is reacted to give a general formula (6)
Figure 2009120570
(In the formula, m and n each represents an integer of 0 or more. R 1 and R 2 are each independently H, C1 to C30 alkyl, C1 to C30 alkyl halide, C6 to C30 aryl, C4 to C4) C30 heteroaryl, alkoxy of C1-C30, aryloxy C6 to C30, acyl .R 3 is C2 to C30, which represent one of trialkylsilyl or halogens C3 to C30, C2 to C30 of α- alkoxyalkyl , Tetrahydropyranyl, C4-C30 t-alkyl, C3-C30 trialkylsilyl, or C8-C30 allyldialkylsilyl), or an alkali metal salt thereof, By dehydrogenating this cyclized product or its alkali metal salt,
General formula (3)
Figure 2009120570
(In the formula, m and n each represents an integer of 0 or more. R 1 and R 2 are each independently H, C1 to C30 alkyl, C1 to C30 alkyl halide, C6 to C30 aryl, C4 to C4) C30 heteroaryl, alkoxy of C1-C30, aryloxy C6 to C30, acyl .R 3 is C2 to C30, which represent one of trialkylsilyl or halogens C3 to C30, C2 to C30 of α- alkoxyalkyl , Tetrahydropyranyl, C4-C30 t-alkyl, C3-C30 trialkylsilyl, or C8-C30 allyldialkylsilyl). By decomposing oxymethylene bridged acene compounds,
General formula (2)
Figure 2009120570
(In the formula, m and n each represents an integer of 0 or more. R 1 and R 2 are each independently H, C1 to C30 alkyl, C1 to C30 alkyl halide, C6 to C30 aryl, C4 to C4) C30 heteroaryl, C1 to C30 alkoxy, C6 to C30 aryloxy, C3 to C30 trialkylsilyl, or halogen)) is obtained. A method for producing a hydroxymethylene bridged acene compound represented by the general formula (2) is provided.

また、本発明によれば、一般式(7)

Figure 2009120570
(式中、mは0以上の整数を表わす。RはH、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。RはC2〜C30のアシル、C2〜C30のα−アルコキシアルキル、テトラヒドロピラニル、C4〜C30のt−アルキル、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはC8〜C30のアリルジアルキルシリルのいずれかを表わす。)で表されるノルボルナジエン類と
一般式(8)
Figure 2009120570
(式中、nは0以上の整数を表わす。Xはハロゲンを表わす。RはH、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)で表されるオルトジハロキノジメタン類を反応させることにより、一般式(9)
Figure 2009120570
(式中、m,nは0以上の整数を表わす。Xはハロゲンを表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。RはC2〜C30のアシル、C2〜C30のα−アルコキシアルキル、テトラヒドロピラニル、C4〜C30のt−アルキル、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはC8〜C30のアリルジアルキルシリルのいずれかを表わす。)で表される環化体を得、この環化体を脱ハロゲン化水素させることにより、
一般式(3)
Figure 2009120570
(式中、m,nは0以上の整数を表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。RはC2〜C30のアシル、C2〜C30のα−アルコキシアルキル、テトラヒドロピラニル、C4〜C30のt−アルキル、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはC8〜C30のアリルジアルキルシリルのいずれかを表わす。)で表されるオキシメチレン架橋型アセン系化合物を得、このオキシメチレン架橋型アセン系化合物を分解することにより、
一般式(2)
Figure 2009120570
(式中、m,nは0以上の整数を表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)で表されるヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物を得ることを特徴とする一般式(2)で表されるヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物の製造方法が提供される。 Moreover, according to the present invention, the general formula (7)
Figure 2009120570
(In the formula, m represents an integer of 0 or more. R 1 is H, C1-C30 alkyl, C1-C30 alkyl halide, C6-C30 aryl, C4-C30 heteroaryl, C1-C30 alkoxy. , C6-C30 aryloxy, C3-C30 trialkylsilyl or halogen R 3 is C2-C30 acyl, C2-C30 α-alkoxyalkyl, tetrahydropyranyl, C4-C30 t -Represents an alkyl, a C3-C30 trialkylsilyl or a C8-C30 allyldialkylsilyl.) And a norbornadiene represented by the general formula (8)
Figure 2009120570
(In the formula, n represents an integer of 0 or more. X represents a halogen. R 2 represents H, a C1-C30 alkyl, a C1-C30 halogenated alkyl, a C6-C30 aryl, or a C4-C30 heteroaryl. , C1 to C30 alkoxy, C6 to C30 aryloxy, C3 to C30 trialkylsilyl, or halogen) is reacted with an orthodihaloquinodimethane represented by the general formula (9 )
Figure 2009120570
(In the formula, m and n represent an integer of 0 or more. X represents a halogen. R 1 and R 2 each independently represents H, a C1-C30 alkyl, a C1-C30 halogenated alkyl, a C6- C3 aryl, C4 to C30 heteroaryl, C1 to C30 alkoxy, C6 to C30 aryloxy, C3 to C30 trialkylsilyl, or halogen, R 3 represents C2 to C30 acyl, C2 C30 α-alkoxyalkyl, tetrahydropyranyl, C4 to C30 t-alkyl, C3 to C30 trialkylsilyl, or C8 to C30 allyldialkylsilyl). By dehydrohalogenating this cyclized product,
General formula (3)
Figure 2009120570
(In the formula, m and n each represents an integer of 0 or more. R 1 and R 2 are each independently H, C1 to C30 alkyl, C1 to C30 alkyl halide, C6 to C30 aryl, C4 to C4) C30 heteroaryl, alkoxy of C1-C30, aryloxy C6 to C30, acyl .R 3 is C2 to C30, which represent one of trialkylsilyl or halogens C3 to C30, C2 to C30 of α- alkoxyalkyl , Tetrahydropyranyl, C4-C30 t-alkyl, C3-C30 trialkylsilyl, or C8-C30 allyldialkylsilyl). By decomposing oxymethylene bridged acene compounds,
General formula (2)
Figure 2009120570
(In the formula, m and n each represents an integer of 0 or more. R 1 and R 2 are each independently H, C1 to C30 alkyl, C1 to C30 alkyl halide, C6 to C30 aryl, C4 to C4) C30 heteroaryl, C1 to C30 alkoxy, C6 to C30 aryloxy, C3 to C30 trialkylsilyl, or halogen)) is obtained. A method for producing a hydroxymethylene bridged acene compound represented by the general formula (2) is provided.

また、本発明によれば、一般式(2)で表されるヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物を酸化することを特徴とする一般式(1)で表されるカルボニル架橋型アセン系化合物の製造方法が提供される。   Moreover, according to this invention, the hydroxymethylene bridge | crosslinking type acene type compound represented by General formula (2) is oxidized, The manufacturing method of the carbonyl bridged type acene type compound represented by General formula (1) characterized by the above-mentioned. Is provided.

また、本発明によれば、一般式(1)で表されるカルボニル架橋型アセン系化合物をその分解温度まで加熱して分解することを特徴とする
一般式(10)

Figure 2009120570
(式中、m,nは0以上の整数を表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)で表されるアセン系化合物の製造方法が提供される。 According to the present invention, the carbonyl bridged acene compound represented by the general formula (1) is decomposed by heating to its decomposition temperature.
Figure 2009120570
(In the formula, m and n each represents an integer of 0 or more. R 1 and R 2 are each independently H, C1 to C30 alkyl, C1 to C30 alkyl halide, C6 to C30 aryl, C4 to C4) C30 heteroaryl, C1-C30 alkoxy, C6-C30 aryloxy, C3-C30 trialkylsilyl, or halogen is represented.).

本発明のカルボニル架橋型アセン系化合物は、目的のアセン系化合物よりも有機溶媒に溶けやすく、且つ100〜150℃程度の温度で短時間加熱するという簡易な操作により容易に目的のアセン系化合物に変換できるため、有機半導体デバイス等の分野で有用な規則性の高い導電性薄膜を簡単な方法で効率良く製造するために用いることができる。
また、アセン系化合物やその前駆体の溶解に使用する有機溶媒としては、環境保護の観点からハロゲン数が多いトリクロロベンゼンやジクロロベンゼンよりハロゲン数が少ないモノクロロベンゼンやハロゲンを含まないキシレンなどの使用が望ましいが、本発明のカルボニル架橋型アセン系化合物はモノクロロベンゼンの沸点(132℃)やキシレンの沸点(約140℃)に近い分解温度を有するので、これらを溶媒として使用することができ、環境に優しい導電性薄膜の製造方法を提供することができる。
The carbonyl bridged acene compound of the present invention is more easily dissolved in an organic solvent than the target acene compound, and easily converted into the target acene compound by a simple operation of heating at a temperature of about 100 to 150 ° C. for a short time. Since it can be converted, it can be used to efficiently produce a highly regular conductive thin film useful in the field of organic semiconductor devices and the like by a simple method.
In addition, as an organic solvent used for dissolving acene compounds and their precursors, use of trichlorobenzene having a higher halogen number, monochlorobenzene having a lower halogen number than dichlorobenzene, or xylene containing no halogen, from the viewpoint of environmental protection. Although desirable, the carbonyl bridged acene compound of the present invention has a decomposition temperature close to the boiling point of monochlorobenzene (132 ° C.) and the boiling point of xylene (about 140 ° C.). A method for producing a gentle conductive thin film can be provided.

本発明の一般式(1)のカルボニル架橋型アセン系化合物は、導電性薄膜の材料であるアセン系化合物の前駆体の一種であり、カルボニル型の架橋、即ち−C(=O)−の架橋部を有するアセン系化合物である。この化合物の製造方法の概略を以下の反応スキーム1に示す。一般式(1)の化合物は、一般式(3)のオキシメチレン架橋型アセン系化合物を分解して一般式(2)のヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物を得、これを酸化することにより容易に得ることができる。一般式(3)のオキシメチレン架橋型アセン系化合物は、Diels−Alder反応を利用した二種類の合成ルート、即ち(A)一般式(4)のジメチリデンノルボルネン類に一般式(5)の縮合ベンザイン類を反応させる方法、及び(B)一般式(7)のノルボルナジエン類に一般式(8)のオルトジハロキノジメタン類を反応させる方法、のいずれかの合成ルートを利用することにより誘導できる。

Figure 2009120570
(スキーム中、Zは−C(=O)−を表わす。m,nは0以上の整数を表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。RはC2〜C30のアシル、C2〜C30のα−アルコキシアルキル、テトラヒドロピラニル、C4〜C30のt−アルキル、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはC8〜C30のアリルジアルキルシリルのいずれかを表わす。) The carbonyl bridged acene compound of the general formula (1) of the present invention is a kind of precursor of an acene compound which is a material for a conductive thin film, and is a carbonyl bridge, that is, a bridge of —C (═O) —. Part of an acene compound. The outline of the production method of this compound is shown in the following reaction scheme 1. The compound of the general formula (1) can be easily obtained by decomposing the oxymethylene bridged acene compound of the general formula (3) to obtain a hydroxymethylene bridged acene compound of the general formula (2) and oxidizing it. Obtainable. The oxymethylene bridged acene compound of the general formula (3) has two synthetic routes utilizing the Diels-Alder reaction, that is, (A) the condensation of the general formula (5) to the dimethylidene norbornenes of the general formula (4). It can be induced by using any one of the synthesis routes of the method of reacting benzynes and the method of reacting the orthodihaloquinodimethanes of the general formula (8) with the norbornadienes of the general formula (7). .
Figure 2009120570
(In the scheme, Z represents —C (═O) —. M and n each represents an integer of 0 or more. R 1 and R 2 each independently represent H, C1 to C30 alkyl, or C1 to C30. halogenated alkyl, aryl C6 to C30, heteroaryl C4 to C30, alkoxy of C1-C30, aryloxy C6 to C30, is .R 3 representing one of trialkylsilyl or halogens C3 to C30 C2~ C30 acyl, C2 to C30 α-alkoxyalkyl, tetrahydropyranyl, C4 to C30 t-alkyl, C3 to C30 trialkylsilyl, or C8 to C30 allyldialkylsilyl)

次に、上記の合成ルート(A)及び合成ルート(B)を利用した本発明のカルボニル架橋型アセン系化合物の製造方法についてさらに具体的に説明する。
合成ルート(A)を利用した本発明のカルボニル架橋型アセン系化合物の製造方法
合成ルート(A)を利用した本発明のカルボニル架橋型アセン系化合物の製造方法の詳細を以下の反応スキーム2に示す。この製造方法ではまず、一般式(4)のジメチリデンノルボルネン類と一般式(5)の縮合ベンザイン類のDiels−Alder反応(1)−Aにより一般式(6)の環化生成物もしくはそのアルカリ金属塩が導かれる。この環化生成物もしくはそのアルカリ金属塩は次に脱水素反応(2)−Aにより一般式(3)のオキシメチレン架橋型アセン系化合物に変換される。このオキシメチレン架橋型アセン系化合物は酸、アルカリ、もしくは中性条件の分解反応(3)により一般式(2)のヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物に変換される。このヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物はさらに酸化反応(4)により一般式(1)のカルボニル架橋型アセン系化合物に誘導される。

Figure 2009120570
(図中、Z、m、n、R、R及びRは反応スキーム1について定義されるものと同じである。) Next, the method for producing the carbonyl-bridged acene compound of the present invention using the synthesis route (A) and the synthesis route (B) will be described more specifically.
Process for producing carbonyl bridged acene compound of the present invention using synthetic route (A) :
The details of the method for producing the carbonyl bridged acene compound of the present invention using the synthesis route (A) are shown in the following reaction scheme 2. In this production method, first, the cyclized product of the general formula (6) or its alkali is obtained by the Diels-Alder reaction (1) -A of the dimethylidene norbornenes of the general formula (4) and the condensed benzines of the general formula (5). A metal salt is introduced. This cyclized product or alkali metal salt thereof is then converted to an oxymethylene bridged acene compound of the general formula (3) by dehydrogenation reaction (2) -A. This oxymethylene bridged acene compound is converted to a hydroxymethylene bridged acene compound of the general formula (2) by the decomposition reaction (3) under acid, alkali or neutral conditions. This hydroxymethylene bridged acene compound is further derived into a carbonyl bridged acene compound of the general formula (1) by oxidation reaction (4).
Figure 2009120570
(In the figure, Z, m, n, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined for Reaction Scheme 1.)

上記の反応スキーム2に示される各反応についてさらに具体的に説明する。
反応(1)−A
反応(1)−Aは、一般式(4)のジメチリデンノルボルネン類と一般式(5)の縮合ベンザイン類のDiels−Alder反応により一般式(6)の環化体を得る反応である。
反応(1)−Aに用いられる一般式(4)のジメチリデンノルボルネン類としては、例えば7−アセトキシ―2,3−ビスメチリデン−5,6−ベンゾノルボルネン、7−(p−クロロベンゾイルオキシ)―2,3−ビスメチリデン−5,6−ベンゾノルボルネン、7−ベンジルオキシ―2,3−ビスメチリデン−5,6−ベンゾノルボルネン、7−t−ブトキシ―2,3−ビスメチリデン−5,6−ベンゾノルボルネン、7−(α−エトキシ)エトキシ―2,3−ビスメチリデン−5,6−ベンゾノルボルネン、7−(α−ピラニル)オキシ―2,3−ビスメチリデン−5,6−ベンゾノルボルネン、7−アセトキシ―2,3−ビスメチリデン−5,6−ナフトノルボルネン、7−(p−クロロベンゾイルオキシ)―2,3−ビスメチリデン−5,6−ナフトノルボルネン、7−ベンジルオキシ―2,3−ビスメチリデン−5,6−ナフトノルボルネン、7−t−ブトキシ―2,3−ビスメチリデン−5,6−ナフトノルボルネン、7−(α−エトキシ)エトキシ―2,3−ビスメチリデン−5,6−ナフトノルボルネン、7−(α−ピラニル)オキシ―2,3−ビスメチリデン−5,6−ナフトノルボルネン、7−アセトキシ―2,3−ビスメチリデン−5,6−アントラノルボルネン、7−(p−クロロベンゾイルオキシ)―2,3−ビスメチリデン−5,6−アントラノルボルネン、7−ベンジルオキシ―2,3−ビスメチリデン−5,6−アントラノルボルネン、7−t−ブトキシ―2,3−ビスメチリデン−5,6−アントラノルボルネン、7−(α−エトキシ)エトキシ―2,3−ビスメチリデン−5,6−アントラノルボルネン、7−(α−ピラニル)オキシ―2,3−ビスメチリデン−5,6−アントラノルボルネンおよびこれらの化合物のベンゼン環上に前記の置換基R(RはH、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)が結合した化合物を挙げることができる。
Each reaction shown in the above reaction scheme 2 will be described more specifically.
Reaction (1) -A
Reaction (1) -A is a reaction for obtaining a cyclized product of general formula (6) by Diels-Alder reaction of dimethylidene norbornenes of general formula (4) and condensed benzines of general formula (5).
Examples of the dimethylidene norbornene of the general formula (4) used in the reaction (1) -A include 7-acetoxy-2,3-bismethylidene-5,6-benzonorbornene, 7- (p-chlorobenzoyloxy)- 2,3-bismethylidene-5,6-benzonorbornene, 7-benzyloxy-2,3-bismethylidene-5,6-benzonorbornene, 7-t-butoxy-2,3-bismethylidene-5,6-benzonorbornene, 7- (α-ethoxy) ethoxy-2,3-bismethylidene-5,6-benzonorbornene, 7- (α-pyranyl) oxy-2,3-bismethylidene-5,6-benzonorbornene, 7-acetoxy-2 3-bismethylidene-5,6-naphthonorbornene, 7- (p-chlorobenzoyloxy) -2,3-bismethylidene -5,6-naphthonorbornene, 7-benzyloxy-2,3-bismethylidene-5,6-naphthonorbornene, 7-t-butoxy-2,3-bismethylidene-5,6-naphthonorbornene, 7- (α- Ethoxy) ethoxy-2,3-bismethylidene-5,6-naphthnorbornene, 7- (α-pyranyl) oxy-2,3-bismethylidene-5,6-naphthnorbornene, 7-acetoxy-2,3-bismethylidene-5 , 6-anthranorbornene, 7- (p-chlorobenzoyloxy) -2,3-bismethylidene-5,6-anthranorbornene, 7-benzyloxy-2,3-bismethylidene-5,6-anthrannorbornene, 7-t -Butoxy-2,3-bismethylidene-5,6-anthranorbornene, 7- (α-ethoxy) ethoxy 2,3 Bisumechiriden 5,6 anthrahydroquinone norbornene, 7- (alpha-pyranyl) the substituent on the benzene ring of the oxy-2,3-Bisumechiriden 5,6 anthranilamide norbornene and the compounds R 1 ( R 1 is H, C1-C30 alkyl, C1-C30 alkyl halide, C6-C30 aryl, C4-C30 heteroaryl, C1-C30 alkoxy, C6-C30 aryloxy, C3-C30 tri And a compound to which alkylsilyl or halogen is bound).

置換基RにおけるC1〜30のアルキルは特に限定されず、例えばメチル、エチル、プロピル、n−ブチル、イソブチル、ネオペンチル、オクチル、ドデシル等を挙げることができ;C1〜C30のハロゲン化アルキル基は特に限定されず、例えばトリフルオロメチル、トリフルオロエチル、パーフルオロヘキシル等を挙げることができ;C6〜C30のアリールは特に限定されず、フェニル、パーフルオロフェニル、メチルフェニル、ジオクチルフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ナフチル、ビフェニル等を挙げることができ;C4〜C30のヘテロアリールは特に限定されず、例えばチエニル、ピロリル、ピリジル、ヘキシルチエニル、ベンゾチエニル、カルバゾリル等を挙げることができ;C1〜C30のアルコキシもしくはC6〜C30アリールオキシは特に限定されず、例えばメトキシ、エトキシ、オクチルオキシ、フェノキシ、ナフトキシ、パーフルオロフェノキシ、パーフルオロナフトキシ等を挙げることができ、C3〜C30のトリアルキルシリル基は特に限定されず、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリn−オクチルシリル基等を挙げることができ、ハロゲンは特に限定されず、例えばフッ素、クロル、ブロモ等を挙げることができる。 The C1-30 alkyl in the substituent R 1 is not particularly limited, and examples thereof include methyl, ethyl, propyl, n-butyl, isobutyl, neopentyl, octyl, dodecyl, etc .; the C1 to C30 halogenated alkyl group includes Although not particularly limited, for example, trifluoromethyl, trifluoroethyl, perfluorohexyl and the like can be mentioned; C6-C30 aryl is not particularly limited, and phenyl, perfluorophenyl, methylphenyl, dioctylphenyl, trifluoromethyl Phenyl, naphthyl, biphenyl and the like can be mentioned; C4-C30 heteroaryl is not particularly limited, and examples thereof include thienyl, pyrrolyl, pyridyl, hexylthienyl, benzothienyl, carbazolyl, etc .; C1-C30 alkoxy Or C6-C30 aryloxy is not particularly limited, and examples thereof include methoxy, ethoxy, octyloxy, phenoxy, naphthoxy, perfluorophenoxy, perfluoronaphthoxy and the like, and C3-C30 trialkylsilyl groups are particularly limited. Examples thereof include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a triisopropylsilyl group, and a tri-n-octylsilyl group. Halogen is not particularly limited, and examples thereof include fluorine, chloro, and bromo.

これらの一般式(4)の化合物は以下の公知文献1〜3を参考にして合成することができる。
公知文献1:Org.Biomol.Chem.,,448(2005)
公知文献2:Helvetica Chimca Acta,68,236(1985)
公知文献3:J.Amer.Chem.Soc.,98,1810(1976)
These compounds of the general formula (4) can be synthesized with reference to the following publicly known documents 1 to 3.
Known Document 1: Org. Biomol. Chem. , 3 , 448 (2005)
Known Document 2: Helvetica Chimca Acta, 68, 236 (1985)
Known Document 3: J. Org. Amer. Chem. Soc. , 98 , 1810 (1976)

反応(1)−Aに用いられる一般式(5)の縮合ベンザイン類は通常、2,3−ジハロゲン化アセン系化合物に脱ハロゲン化剤を作用させることにより反応系中にて反応活性種として得ることができる。2,3−ジハロゲン化アセン系化合物としては1−フルオロ−2−ヨードベンゼン、1−フルオロ−2−ブロモベンゼン、1,2−ジブロモベンゼン、1,2−ジヨードベンゼン、2−フルオロ−3−ヨードナフタレン、2−ブロモ−3−フルオロベンゼン、2−フルオロ−3−ブロモナフタレン、2−クロロ−3−ヨードナフタレン、2−クロロ−3−ブロモナフタレン、2,3−ジヨードナフタレン、2,3−ジブロモナフタレン、2,3−ジヨードアントラセン、2,3−ジブロモアントラセン、2,3−ジヨードテトラセン、2,3−ジブロモテトラセン、およびこれらの化合物のベンゼン環上に前記の置換基R(RはH、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)が結合した化合物を挙げることができる。 The condensed benzynes of the general formula (5) used in the reaction (1) -A are usually obtained as reactive species in the reaction system by allowing a 2,3-dihalogenated acene compound to act on a dehalogenating agent. be able to. Examples of 2,3-dihalogenated acene compounds include 1-fluoro-2-iodobenzene, 1-fluoro-2-bromobenzene, 1,2-dibromobenzene, 1,2-diiodobenzene, 2-fluoro-3- Iodonaphthalene, 2-bromo-3-fluorobenzene, 2-fluoro-3-bromonaphthalene, 2-chloro-3-iodonaphthalene, 2-chloro-3-bromonaphthalene, 2,3-diiodonaphthalene, 2,3 -Dibromonaphthalene, 2,3-diiodoanthracene, 2,3-dibromoanthracene, 2,3-diiodotetracene, 2,3-dibromotetracene, and the above substituent R 2 on the benzene ring of these compounds ( R 2 is H, alkyl of C1-C30, a halogenated alkyl C1-C30, a C6~C30 aryl, C4~C3 Heteroaryl, alkoxy of C1-C30, aryloxy C6 to C30, may be mentioned compounds.) Bound to represent one of trialkylsilyl or halogen C3 to C30.

置換基RにおけるC1〜30のアルキルは特に限定されず、例えばメチル、エチル、プロピル、n−ブチル、イソブチル、ネオペンチル、オクチル、ドデシル等を挙げることができ;C1〜C30のハロゲン化アルキル基は特に限定されず、例えばトリフルオロメチル、トリフルオロエチル、パーフルオロヘキシル等を挙げることができ;C6〜C30のアリールは特に限定されず、フェニル、パーフルオロフェニル、メチルフェニル、ジオクチルフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ナフチル、ビフェニル等を挙げることができ;C4〜C30のヘテロアリールは特に限定されず、例えばチエニル、ピロリル、ピリジル、ヘキシルチエニル、ベンゾチエニル、カルバゾリル等を挙げることができ;C1〜C30のアルコキシもしくはC6〜C30アリールオキシは特に限定されず、例えばメトキシ、エトキシ、オクチルオキシ、フェノキシ、ナフトキシ、パーフルオロフェノキシ、パーフルオロナフトキシ等を挙げることができ、C3〜C30のトリアルキルシリル基は特に限定されず、例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリn−オクチルシリル基等を挙げることができ、ハロゲンは特に限定されず、例えばフッ素、クロル、ブロモ等を挙げることができる。 The C1-30 alkyl in the substituent R 2 is not particularly limited, and examples thereof include methyl, ethyl, propyl, n-butyl, isobutyl, neopentyl, octyl, dodecyl and the like; the C1 to C30 halogenated alkyl group includes Although not particularly limited, for example, trifluoromethyl, trifluoroethyl, perfluorohexyl and the like can be mentioned; C6-C30 aryl is not particularly limited, and phenyl, perfluorophenyl, methylphenyl, dioctylphenyl, trifluoromethyl Phenyl, naphthyl, biphenyl and the like can be mentioned; C4-C30 heteroaryl is not particularly limited, and examples thereof include thienyl, pyrrolyl, pyridyl, hexylthienyl, benzothienyl, carbazolyl, etc .; C1-C30 alkoxy Or C6-C30 aryloxy is not particularly limited, and examples thereof include methoxy, ethoxy, octyloxy, phenoxy, naphthoxy, perfluorophenoxy, perfluoronaphthoxy and the like, and C3-C30 trialkylsilyl groups are particularly limited. Examples thereof include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a triisopropylsilyl group, and a tri-n-octylsilyl group. Halogen is not particularly limited, and examples thereof include fluorine, chloro, and bromo.

脱ハロゲン化剤としては、Li、Na、Kなどのアルカリ金属類もしくはメチルリチウム、n−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、N,N−ジイソプロピルリチウムアミド、フェニルリチウムなどアルカリ有機金属類を使用することができる。   As a dehalogenating agent, alkali metals such as Li, Na, K, or alkali organic metals such as methyllithium, n-butyllithium, t-butyllithium, N, N-diisopropyllithium amide, and phenyllithium should be used. Can do.

一般式(5)の縮合ベンザイン類の調製は以下の公知文献4〜6を参考に行なうことができる。
公知文献4:J.Chem.Soc.(C),2162(1970)
公知文献5:European Polym.J.,27,27−33(1991)
公知文献6:J.Amer.Chem.Soc.,128,9612(2006)
Preparation of the condensed benzines of the general formula (5) can be carried out with reference to the following known documents 4 to 6.
Known Document 4: J. Org. Chem. Soc. (C), 2162 (1970)
Known Document 5: European Polym. J. et al. , 27, 27-33 (1991)
Known document 6: J. Org. Amer. Chem. Soc. , 128 , 9612 (2006)

反応(1)−Aにおいて、一般式(5)の縮合ベンザイン類の原料となる2,3−ジハロゲン化アセン系化合物の使用量は一般式(4)のジメチリデンノルボルネン類1重量部に対して1〜10重量部であることが好ましく、さらに好ましくは1〜4重量部である。また、脱ハロゲン化剤の使用量は2,3−ジハロゲン化アセン系化合物1重量に対して1〜6重量部であることが好ましく、さらに好ましくは1〜4重量部である。   In the reaction (1) -A, the amount of the 2,3-dihalogenated acene compound used as a raw material for the condensed benzynes of the general formula (5) is 1 part by weight of the dimethylidene norbornenes of the general formula (4). It is preferable that it is 1-10 weight part, More preferably, it is 1-4 weight part. Moreover, it is preferable that the usage-amount of a dehalogenating agent is 1-6 weight part with respect to 1 weight of 2, 3- dihalogenated acene type compounds, More preferably, it is 1-4 weight part.

本反応は、実質的に2,3−ジハロゲン化アセン系化合物を用いて一般式(5)の縮合ベンザイン類を調製する条件に準じて行なわれ、アルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気において反応容器に2,3−ジハロゲン化アセン系化合物、一般式(4)のジメチリデンノルボルネン類および脱ハロゲン化剤を仕込み、−90〜120℃、好ましくは−70〜80℃の条件で1〜60時間、好ましくは1〜30時間反応させることによって行うことができる。反応試剤の仕込み方法は一括添加もしくは逐次添加が好ましく、滴下等のように反応試剤の濃度を調節するなどの方法も適用することができる。また、本反応は通常、常圧開放系で実施されるが、密閉容器を用いて常圧〜加圧下で実施することもできる。   This reaction is carried out substantially under the conditions for preparing the condensed benzynes of the general formula (5) using a 2,3-dihalogenated acene-based compound, and the reaction vessel is used in an inert gas atmosphere such as argon or nitrogen. 2,3-dihalogenated acene-based compound, dimethylidene norbornene of general formula (4) and a dehalogenating agent are charged, and the temperature is -90 to 120 ° C, preferably -70 to 80 ° C for 1 to 60 hours. Preferably it can carry out by making it react for 1 to 30 hours. The reaction reagent is preferably added all at once or sequentially, and a method of adjusting the concentration of the reaction reagent such as dropwise addition can also be applied. In addition, this reaction is usually carried out in a normal pressure open system, but it can also be carried out under normal pressure to pressure using a sealed container.

本反応では必要に応じて溶媒を使用する。溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ジエチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒;クロロベンゼン、フルオロベンゼン、α、α、α−トリフルオロトルエン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等のエーテル系溶媒などを使用することができる。これらの溶媒は1種単独で使用してもよいし、2種以上を同時に使用してもよい。溶媒の使用量は一般式(4)のジメチリデンノルボルネン類1重量部に対して5〜500重量部であることが好ましく、さらに好ましくは5〜250重量部である。   In this reaction, a solvent is used as necessary. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, and diethylbenzene; halogenated aromatic hydrocarbon solvents such as chlorobenzene, fluorobenzene, α, α, and α-trifluorotoluene; diethyl ether , Ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, diglyme, anisole, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, and the like can be used. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The amount of the solvent used is preferably 5 to 500 parts by weight, more preferably 5 to 250 parts by weight, based on 1 part by weight of the dimethylidene norbornenes of the general formula (4).

本反応の生成物である一般式(6)の環化体の単離方法としては抽出、晶析、カラムクロマトグラフィーもしくはこれらを組み合わせた操作を用いることができる。場合によっては濃縮や溶媒置換を行ってからこれらの操作を行うことが適当である。また、さらに高純度の目的物を得る必要がある場合には単離物に対して抽出、晶析、カラムクロマトグラフィーなどの精製操作をさらに行うことができる。また、生成物の単離は必ずしも本反応工程には必要なく、次反応(2)−Aもしくは次々反応(3)を実施してから単離することもできる。   As a method for isolating the cyclized product of the general formula (6), which is the product of this reaction, extraction, crystallization, column chromatography or a combination of these can be used. In some cases, it is appropriate to perform these operations after concentration or solvent replacement. In addition, when it is necessary to obtain a higher-purity target product, purification operations such as extraction, crystallization, and column chromatography can be further performed on the isolated product. Further, the isolation of the product is not necessarily required for this reaction step, and the product can be isolated after the next reaction (2) -A or the subsequent reaction (3).

反応(2)−A
反応(2)−Aは、反応(1)−Aにより得られた一般式(6)の環化体を脱水素して一般式(3)のオキシメチレン架橋型アセン系化合物を得る反応である。本反応に用いられる脱水素反応試剤としては2,3,5,6−テトラクロロ−p−ベンゾキノン,2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン等のベンゾキノン類、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、4,4’−アゾビス−4−シアノ吉草酸、1−アゾビス−1−シクロヘキサンカルボニトリル、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート等の低温分解性のアゾ化合物、Li、Na、Kなどのアルカリ金属類もしくはメチルリチウム、n−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、N,N−ジイソプロピルリチウムアミド、フェニルリチウムなどアルカリ有機金属類が挙げられる。なお、前記の反応(1)−Aに続いて本反応を行う場合、反応(1)−Aにおいて使用される脱ハロゲン化反応試剤が本反応の脱水素反応試剤としても作用するので、反応(1)−Aにおいて使用された脱ハロゲン化反応試剤が反応後も反応系中に残存しているように脱ハロゲン化反応試剤の添加量を調節することにより、実質的に脱水素反応試剤を新たに加えることなく反応(2)−Aを行うことも可能である。
Reaction (2) -A
Reaction (2) -A is a reaction in which the cyclized product of general formula (6) obtained by reaction (1) -A is dehydrogenated to obtain an oxymethylene bridged acene compound of general formula (3). . Dehydrogenation reagents used in this reaction include benzoquinones such as 2,3,5,6-tetrachloro-p-benzoquinone, 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone, 2, 2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, 4,4'-azobis-4-cyanovaleric acid, 1-azobis-1-cyclohexanecarbonitrile, dimethyl- Low temperature decomposable azo compounds such as 2,2′-azobisisobutyrate, alkali metals such as Li, Na and K, or methyl lithium, n-butyl lithium, t-butyl lithium, N, N-diisopropyl lithium amide And alkali organic metals such as phenyl lithium. In addition, when performing this reaction following said reaction (1) -A, since the dehalogenation reaction reagent used in reaction (1) -A acts also as a dehydrogenation reaction reagent of this reaction, reaction ( 1) A dehydrogenation reaction reagent is substantially renewed by adjusting the amount of the dehalogenation reaction reagent so that the dehalogenation reaction reagent used in -A remains in the reaction system after the reaction. It is also possible to carry out the reaction (2) -A without adding to.

前記の脱水素反応試剤の使用量は一般式(6)の環化体1重量部に対して1〜10重量部であることが好ましく、さらに好ましくは1〜5重量部である。   It is preferable that the usage-amount of the said dehydrogenation reaction reagent is 1-10 weight part with respect to 1 weight part of cyclization bodies of General formula (6), More preferably, it is 1-5 weight part.

本反応は一般的には常圧条件下、0〜200℃、好ましくは0〜150℃、1〜50時間、好ましくは1〜30時間で行うことができる。   This reaction can be generally carried out under normal pressure conditions at 0 to 200 ° C., preferably 0 to 150 ° C., for 1 to 50 hours, preferably 1 to 30 hours.

本反応では必要に応じて溶媒を使用する。溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ジエチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、フルオロベンゼン、ジフルオロベンゼン、ヘキサフルオロベンゼン、α、α、α−トリフルオロトルエン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒;ジクロロメチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等のエーテル系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等のアミド系溶媒、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル系溶媒などを使用することができる。これらの溶媒は1種単独で使用してもよいし、2種以上を同時に使用してもよい。溶媒の使用量は原料の一般式(6)の化合物1重量部に対して5〜500重量部であることが好ましく、さらに好ましくは5〜250重量部である。   In this reaction, a solvent is used as necessary. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, and diethylbenzene; chlorobenzene, dichlorobenzene, trichlorobenzene, fluorobenzene, difluorobenzene, hexafluorobenzene, α, α, α-trifluorotoluene. Halogenated aromatic hydrocarbon solvents such as dichloromethylene, chloroform, dichloroethane and the like, ether ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diglyme, anisole, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether Solvent: Amide-based solution such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone , It is possible to use acetonitrile, and the like nitrile solvents butyronitrile. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The amount of the solvent used is preferably 5 to 500 parts by weight, more preferably 5 to 250 parts by weight, based on 1 part by weight of the compound of the general formula (6) of the raw material.

本反応の生成物である一般式(3)のオキシメチレン架橋型アセン系化合物の単離方法としては抽出、晶析、カラムクロマトグラフィーもしくはこれらを組み合わせた操作を用いることができる。場合によっては濃縮や溶媒置換を行ってからこれらの操作を行うことが適当である。また、さらに高純度の目的物を得る必要がある場合には単離物に対して抽出、晶析、カラムクロマトグラフィーなどの精製操作をさらに行うことができる。また、生成物の単離は必ずしも本反応工程には必要なく、次反応(3)を実施してから単離することもできる。   As an isolation method of the oxymethylene bridged acene compound of the general formula (3), which is a product of this reaction, extraction, crystallization, column chromatography, or a combination of these can be used. In some cases, it is appropriate to perform these operations after concentration or solvent replacement. In addition, when it is necessary to obtain a higher-purity target product, purification operations such as extraction, crystallization, and column chromatography can be further performed on the isolated product. Further, the isolation of the product is not necessarily required for this reaction step, and the product can be isolated after the next reaction (3) is carried out.

反応(3)
反応(3)は、反応(2)−Aにより得られた一般式(3)のオキシメチレン架橋型アセン系化合物を分解して一般式(2)のヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物を得る反応である。本反応に用いられる反応試剤は一般式(3)のオキシメチレン架橋型アセン系化合物の置換基Rの構造に応じて酸、塩基もしくは中性条件下で反応が行なわれる接触水添触媒やエステル加水分解酵素が用いられる。酸性条件にするための酸としては塩酸、硫酸、ギ酸、シュウ酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、フッ化水素酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、酢酸、クロル酢酸、フルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の無機、有機の酸、およびこれらの水溶液を使用することができる。また塩基性条件にするための塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサイド、リチウムメトキサイド、カリウムメトキサイド、アンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、プロピルアミン、ヒドラジン、メチルヒドラジン等の無機、有機の塩基およびこれらの水溶液を使用することができる。
Reaction (3)
Reaction (3) is a reaction for decomposing the oxymethylene bridged acene compound of general formula (3) obtained by reaction (2) -A to obtain a hydroxymethylene bridged acene compound of general formula (2). is there. The reaction reagent used in this reaction is a catalytic hydrogenation catalyst or ester which is reacted under acid, base or neutral conditions depending on the structure of the substituent R 3 of the oxymethylene bridged acene compound of general formula (3) A hydrolase is used. Acids for making the acidic conditions include hydrochloric acid, sulfuric acid, formic acid, oxalic acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, hydrofluoric acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfone Inorganic and organic acids such as acid, acetic acid, chloroacetic acid, fluoroacetic acid, trifluoroacetic acid, and aqueous solutions thereof can be used. In addition, bases for basic conditions include sodium hydroxide, lithium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methoxide, sodium ethoxide, lithium methoxide, potassium methoxide, ammonia, methylamine, dimethylamine, propylamine, Inorganic and organic bases such as hydrazine and methyl hydrazine and aqueous solutions thereof can be used.

前記の酸の使用量は一般式(3)の化合物1重量部に対して0.0001〜10重量部であることが好ましく、さらに好ましくは0.001〜1重量部である。また、塩基の使用量は一般式(3)の化合物1重量部に対して0.1〜20重量部であることが好ましく、さらに好ましくは1〜10重量部である。   The amount of the acid used is preferably 0.0001 to 10 parts by weight, more preferably 0.001 to 1 part by weight with respect to 1 part by weight of the compound of the general formula (3). Moreover, it is preferable that the usage-amount of a base is 0.1-20 weight part with respect to 1 weight part of compounds of General formula (3), More preferably, it is 1-10 weight part.

本反応は一般的には常圧条件下、0〜200℃、好ましくは0〜150℃、1〜50時間、好ましくは1〜30時間で行うことができる。   This reaction can be generally carried out under normal pressure conditions at 0 to 200 ° C., preferably 0 to 150 ° C., for 1 to 50 hours, preferably 1 to 30 hours.

本反応では必要に応じて溶媒を使用する。溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ジエチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、フルオロベンゼン、ジフルオロベンゼン、ヘキサフルオロベンゼン、α、α、α−トリフルオロトルエン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等のエーテル系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等のアミド系溶媒、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒もしくは水などを使用することができる。これらの溶媒は1種単独で使用してもよいし、2種以上を同時に使用してもよい。溶媒の使用量は一般式(3)の化合物1重量部に対して5〜500重量部であることが好ましく、さらに好ましくは5〜250重量部である。   In this reaction, a solvent is used as necessary. Examples of the solvent include alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol and butanol; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene and diethylbenzene; chlorobenzene, dichlorobenzene, trichlorobenzene, fluorobenzene, difluorobenzene, Halogenated aromatic hydrocarbon solvents such as hexafluorobenzene, α, α, α-trifluorotoluene; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diglyme, anisole, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether Solvent: Amide-based solution such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone Acetonitrile, nitrile solvents butyronitrile; can be used acetone, and the like ketone solvents or water such as methyl ethyl ketone. These solvents may be used alone or in combination of two or more. It is preferable that the usage-amount of a solvent is 5-500 weight part with respect to 1 weight part of compounds of General formula (3), More preferably, it is 5-250 weight part.

本反応の生成物である一般式(2)のヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物の単離方法としては抽出、晶析、カラムクロマトグラフィーもしくはこれらを組み合わせた操作を用いることができる。場合によっては濃縮や溶媒置換を行ってからこれらの操作を行うことが適当である。また、さらに高純度の目的物を得る必要がある場合には単離物に対して抽出、晶析、カラムクロマトグラフィーなどの精製操作をさらに行うことができる。また、生成物の単離は必ずしも本反応工程には必要なく、次反応(4)を実施してから単離することもできる。   As a method for isolating the hydroxymethylene bridged acene compound of the general formula (2), which is the product of this reaction, extraction, crystallization, column chromatography or a combination of these can be used. In some cases, it is appropriate to perform these operations after concentration or solvent replacement. In addition, when it is necessary to obtain a higher-purity target product, purification operations such as extraction, crystallization, and column chromatography can be further performed on the isolated product. Further, the isolation of the product is not necessarily required for this reaction step, and the product can be isolated after the next reaction (4) is carried out.

本反応をより効率的に行なうために、酸、塩基のいずれを用いる場合においても相関移動触媒を用いて反応を加速することが望ましい。酸を用いる場合の相関移動触媒としてはテトラ−N−エチルアンモニウムブロミド、テトラ−N−ブチルアンモニウムブロミド、N−ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、N−ベンジルトリエチルアンモニウムブロミド、トリエチルオクチルアンモニウムアイオダイドなどの四級アンモニウム塩類を挙げることができ、塩基を用いる場合の相関移動触媒としては前記の4級アミン塩、18−クラウン−5、18−クラウン−6、ベンゾ−15−クラウン−5、ベンゾ−18−クラウン−6、ジベンゾ−18−クラウン−6、5,6−ベンゾ−4,7,13,16,21,24−ヘキサオクサ−1,10−ジアザビシクロ[8,8,8]ヘキサコサンなどのクラウンエーテル類を挙げることができる。相間移動触媒の使用量は一般式(3)の化合物1重量部に対して0.0001〜0.1重量部であることが好ましく、さらに好ましくは0.0005〜0.05重量部である。   In order to carry out this reaction more efficiently, it is desirable to accelerate the reaction using a phase transfer catalyst when either acid or base is used. Quaternary ammonium such as tetra-N-ethylammonium bromide, tetra-N-butylammonium bromide, N-benzyltrimethylammonium chloride, N-benzyltriethylammonium bromide, triethyloctylammonium iodide as the phase transfer catalyst when using acid Examples of the phase transfer catalyst in the case of using a base include the quaternary amine salt, 18-crown-5, 18-crown-6, benzo-15-crown-5, benzo-18-crown- 6, crown ethers such as dibenzo-18-crown-6,5,6-benzo-4,7,13,16,21,24-hexoxa-1,10-diazabicyclo [8,8,8] hexacosane be able to. The amount of the phase transfer catalyst used is preferably 0.0001 to 0.1 parts by weight, more preferably 0.0005 to 0.05 parts by weight, per 1 part by weight of the compound of the general formula (3).

本反応の実施はアルコール保護基の分解やエステル類の加水分解などに関する以下の公知文献7、8を参考に行なうことができる。本反応は前記の酸、塩基を用いる反応以外にエステル加水分解酵素を用いる中性条件の反応でも実施することができる。
公知文献7:Protective Groups In Organic Syn-thesis,PP10〜142(1990:John Wily & Sons)
公知文献8:第5版実験化学講座、No.16、10(2005:日本化学会)
This reaction can be carried out with reference to the following publicly known documents 7 and 8 relating to decomposition of alcohol protecting groups and hydrolysis of esters. This reaction can be carried out in a reaction under neutral conditions using an ester hydrolase in addition to the above reaction using an acid or a base.
Known Document 7: Protective Groups In Organic Synthesis-PP, PP 10-142 (1990: John Wily & Sons)
Known Document 8: 5th Edition Experimental Chemistry Course, No. 16, 10 (2005: The Chemical Society of Japan)

反応(4)
反応(4)は、反応(3)により得られた一般式(2)のヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物を酸化して一般式(1)のカルボニル架橋型アセン系化合物を得る反応である。本反応は2級アルコールである一般式(2)のヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物をケトンに変換する酸化反応であり、下記の公知文献に報告されているようにJones試薬,Sarett試薬,Collins試薬、PCC,PDCなどように酸化クロムを利用する酸化反応(公知文献9、10)、超原子価ヨウ素化合物剤を利用する酸化反応(公知文献11)、ジメチルスルホキシドを酸化剤とするスワ−ン酸化(公知文献12)、スルフィンイミドイルクロリド類を用いる酸化反応(公知文献13)などを利用することができる。安全性の面からは有害な酸化クロムを使用しない方法(公知文献12、13)が望ましく、臭気を発生しない方法(公知文献13)を用いることによってより簡便に実施することができる。
公知文献9:Tetrahedron Letters.,1975,2647
公知文献10:Tetrahedron Letters.,1979,399
公知文献11:J.Org.Chem.,48,4156(1983)
公知文献12:Tetrahedron,34,1651(1978)
公知文献13:Bull.Chem.Soc.Jpn.,75,223(2002)
Reaction (4)
Reaction (4) is a reaction in which the hydroxymethylene bridged acene compound of general formula (2) obtained by reaction (3) is oxidized to obtain a carbonyl bridged acene compound of general formula (1). This reaction is an oxidation reaction for converting a hydroxymethylene bridged acene compound of the general formula (2), which is a secondary alcohol, into a ketone. As reported in the following publicly known literature, Jones reagent, Saratt reagent, Collins reagent , Oxidation reaction using chromium oxide such as PCC, PDC, etc. (known documents 9 and 10), oxidation reaction using hypervalent iodine compound agent (known document 11), swallow acidification using dimethyl sulfoxide as an oxidizing agent (Known Document 12), oxidation reaction using sulfinimidoyl chlorides (Known Document 13), and the like can be used. From the viewpoint of safety, a method that does not use harmful chromium oxide (Known Documents 12 and 13) is desirable, and a method that does not generate odor (Known Document 13) can be used more easily.
Known Document 9: Tetrahedron Letters. 1975, 2647
Known Document 10: Tetrahedron Letters. , 1979, 399
Known Document 11: J. Org. Org. Chem. , 48, 4156 (1983)
Known Document 12: Tetrahedron, 34, 1651 (1978)
Known Document 13: Bull. Chem. Soc. Jpn. , 75, 223 (2002)

前記のスルフィンイミドイルクロリドを用いて本反応を行う場合、スルフィンイミドイルクロリドとしてはN−tert−ブチルフェニルスルフィンイミドイルクロリドが好適であり、併用する塩基としては1、8−ジアザビシクロ[5、4、0]ウンデカ−7−エン、1、5−ジアザビシクロ[4、3、0]ノナ−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどを使用できる。スルフィンイミドイルクロリド類の使用量は一般式(2)の化合物1重量部に対して1〜10重量部であることが好ましく、さらに好ましくは1〜3重量部である。併用する塩基の使用量は一般式(2)の化合物1重量部に対して1〜15重量部であることが好ましく、さらに好ましくは1〜5重量部である。   When this reaction is carried out using the above sulfinimidoyl chloride, N-tert-butylphenylsulfinimidoyl chloride is suitable as the sulfinimidoyl chloride, and 1,8-diazabicyclo [5,4 as the base used in combination. , 0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4,3,0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane, triethylamine, diisopropylethylamine and the like. It is preferable that the usage-amount of sulfinimidoyl chlorides is 1-10 weight part with respect to 1 weight part of compounds of General formula (2), More preferably, it is 1-3 weight part. The amount of the base used in combination is preferably 1 to 15 parts by weight, more preferably 1 to 5 parts by weight with respect to 1 part by weight of the compound of the general formula (2).

本反応に前記のスワーン酸化を用いる場合、活性な酸化剤はジメチルスルホキシドおよび塩化オキサリルから調製される。ジメチルスルホキシドの使用量は一般式(2)の化合物1重量部に対して1〜20重量部であることが好ましく、さらに好ましくは2〜10重量部であり、塩化オキサリルの使用量は一般式(2)の化合物1重量部に対して1〜10重量部であることが好ましく、さらに好ましくは1.2〜5重量部である。併用する塩基としては1、8−ジアザビシクロ[5、4、0]ウンデカ−7−エン、1、5−ジアザビシクロ[4、3、0]ノナ−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどの3級アミン類を使用できる。3級アミン類の使用量は一般式(2)の化合物1重量部に対して1〜15重量部であることが好ましく、さらに好ましくは1.5〜10重量部である。   When the above swarnidation is used in this reaction, the active oxidant is prepared from dimethyl sulfoxide and oxalyl chloride. The amount of dimethyl sulfoxide used is preferably 1 to 20 parts by weight, more preferably 2 to 10 parts by weight with respect to 1 part by weight of the compound of the general formula (2), and the amount of oxalyl chloride used is the general formula ( It is preferable that it is 1-10 weight part with respect to 1 weight part of compounds of 2), More preferably, it is 1.2-5 weight part. As the base to be used in combination, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4,3,0] non-5-ene, 1,4-diazabicyclo [2,2 , 2] Tertiary amines such as octane, triethylamine, diisopropylethylamine can be used. The amount of the tertiary amine used is preferably 1 to 15 parts by weight, more preferably 1.5 to 10 parts by weight with respect to 1 part by weight of the compound of the general formula (2).

本反応は一般的には常圧条件下、−80〜150℃、好ましくは−80〜100℃、1〜50時間、好ましくは1〜30時間で行うことができる。   This reaction can be generally carried out under normal pressure conditions at −80 to 150 ° C., preferably −80 to 100 ° C., for 1 to 50 hours, preferably 1 to 30 hours.

本反応では必要に応じて溶媒を使用する。溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ジエチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、フルオロベンゼン、ジフルオロベンゼン、ヘキサフルオロベンゼン、α、α、α−トリフルオロトルエン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等のエーテル系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等のアミド系溶媒、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル系溶媒などを使用することができる。これらの溶媒は1種単独で使用してもよいし、2種以上を同時に使用してもよい。溶媒の使用量は一般式(2)の化合物の1重量部に対して5〜500重量部であることが好ましく、さらに好ましくは5〜250重量部である。   In this reaction, a solvent is used as necessary. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, and diethylbenzene; chlorobenzene, dichlorobenzene, trichlorobenzene, fluorobenzene, difluorobenzene, hexafluorobenzene, α, α, α-trifluorotoluene. Halogenated aromatic hydrocarbon solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diglyme, anisole, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether; N, N-dimethylformamide, N, N- Use amide solvents such as dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, and nitrile solvents such as acetonitrile and butyronitrile. It can be. These solvents may be used alone or in combination of two or more. It is preferable that the usage-amount of a solvent is 5-500 weight part with respect to 1 weight part of the compound of General formula (2), More preferably, it is 5-250 weight part.

本反応の生成物である一般式(1)のカルボニル架橋型アセン系化合物の単離方法としては抽出、晶析、カラムクロマトグラフィーもしくはこれらを組み合わせた操作を用いることができる。場合によっては濃縮や溶媒置換を行ってからこれらの操作を行うことが適当である。また、さらに高純度の目的物を得る必要がある場合には単離物に対して抽出、晶析、カラムクロマトグラフィーなどの精製操作をさらに行うことができる。   As a method for isolating the carbonyl bridged acene compound of the general formula (1), which is the product of this reaction, extraction, crystallization, column chromatography or a combination of these can be used. In some cases, it is appropriate to perform these operations after concentration or solvent replacement. In addition, when it is necessary to obtain a higher-purity target product, purification operations such as extraction, crystallization, and column chromatography can be further performed on the isolated product.

合成ルート(B)を利用した本発明のカルボニル架橋型アセン系化合物の製造方法
合成ルート(B)を利用した本発明のカルボニル架橋型アセン系化合物の製造方法の詳細を以下の反応スキーム3に示す。この製造方法ではまず、一般式(7)のノルボルナジエン類と一般式(8)のオルトジハロキノジメタン類のDiels−Alder反応(1)−Bにより一般式(9)の環化生成物が導かれる。この環化生成物は次に脱ハロゲン化水素反応(2)−Bにより一般式(3)のオキシメチレン架橋型アセン系化合物に変換される。このオキシメチレン架橋型アセン系化合物は酸、アルカリ、もしくは中性条件の分解反応(3)により一般式(2)のヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物に変換される。このヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物はさらに酸化反応(4)により一般式(1)のカルボニル架橋型アセン系化合物に誘導される。

Figure 2009120570
(図中、Z、m、n、R、R及びRは反応スキーム1について定義されるものと同じである。) Method for producing carbonyl bridged acene compound of the present invention using synthetic route (B) :
The details of the method for producing a carbonyl bridged acene compound of the present invention using the synthetic route (B) are shown in the following reaction scheme 3. In this production method, first, the cyclized product of the general formula (9) is derived by the Diels-Alder reaction (1) -B of the norbornadiene of the general formula (7) and the orthodihaloquinodimethane of the general formula (8). It is burned. This cyclized product is then converted to an oxymethylene bridged acene compound of general formula (3) by dehydrohalogenation reaction (2) -B. This oxymethylene bridged acene compound is converted to a hydroxymethylene bridged acene compound of the general formula (2) by the decomposition reaction (3) under acid, alkali or neutral conditions. This hydroxymethylene bridged acene compound is further derived into a carbonyl bridged acene compound of the general formula (1) by oxidation reaction (4).
Figure 2009120570
(In the figure, Z, m, n, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined for Reaction Scheme 1.)

上記の反応スキーム3に示される各反応についてさらに具体的に説明する。
反応(1)−B
反応(1)−Bは、一般式(7)のノルボルナジエン類と一般式(8)のオルトジハロキノジメタン類のDiels−Alder反応により一般式(9)の環化体を得る反応である。
反応(1)−Bに用いられる一般式(7)のノルボルナジエン類としては、例えば7−アセトキシ−5,6−ベンゾノルボルナジエン、7−(p−クロロベンゾイルオキシ)−5,6−ベンゾノルボルナジエン、7−ベンジルオキシ−5,6−ベンゾノルボルナジエン、7−t−ブトキシ−5,6−ベンゾノルボルナジエン、7−(α−エトキシ)エトキシ−5,6−ベンゾノルボルナジエン、7−(α−ピラニル)オキシ−5,6−ベンゾノルボルナジエン、7−アセトキシ−5,6−ナフトノルボルナジエン、7−(p−クロロベンゾイルオキシ)−5,6−ナフトノルボルナジエン、7−ベンジルオキシ−5,6−ナフトノルボルナジエン、7−t−ブトキシ−5,6−ナフトノルボルナジエン、7−(α−エトキシ)エトキシ−5,6−ナフトノルボルナジエン、7−(α−ピラニル)オキシ−5,6−ナフトノルボルナジエン、7−アセトキシ−5,6−アントラノルボルナジエン、7−(p−クロロベンゾイルオキシ)−5,6−アントラノルボルナジエン、7−ベンジルオキシ−5,6−アントラノルボルナジエン、7−t−ブトキシ−5,6−アントラノルボルナジエン、7−(α−エトキシ)エトキシ−5,6−アントラノルボルナジエン、7−(α−ピラニル)オキシ−5,6−アントラノルボルナジエンおよびこれらの化合物のベンゼン環上に前記の置換基R(RはH、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)が結合した化合物を挙げることができる。
Each reaction shown in the above reaction scheme 3 will be described more specifically.
Reaction (1) -B
Reaction (1) -B is a reaction for obtaining a cyclized product of general formula (9) by Diels-Alder reaction of norbornadienes of general formula (7) and orthodihaloquinodimethanes of general formula (8).
Examples of the norbornadiene of the general formula (7) used in the reaction (1) -B include 7-acetoxy-5,6-benzonorbornadiene, 7- (p-chlorobenzoyloxy) -5,6-benzonorbornadiene, 7 -Benzyloxy-5,6-benzonorbornadiene, 7-t-butoxy-5,6-benzonorbornadiene, 7- (α-ethoxy) ethoxy-5,6-benzonorbornadiene, 7- (α-pyranyl) oxy-5 , 6-Benzonorbornadiene, 7-acetoxy-5,6-naphthonorbornadiene, 7- (p-chlorobenzoyloxy) -5,6-naphthonorbornadiene, 7-benzyloxy-5,6-naphthonorbornadiene, 7-t- Butoxy-5,6-naphthonorbornadiene, 7- (α-ethoxy) ethoxy-5,6 Naphthonorbornadiene, 7- (α-pyranyl) oxy-5,6-naphthonorbornadiene, 7-acetoxy-5,6-anthranorbornadiene, 7- (p-chlorobenzoyloxy) -5,6-anthrannorbornadiene, 7-benzyl Oxy-5,6-anthranorbornadiene, 7-t-butoxy-5,6-anthranorbornadiene, 7- (α-ethoxy) ethoxy-5,6-anthranorbornadiene, 7- (α-pyranyl) oxy-5,6 On the benzene rings of the anthornorbornadiene and these compounds R 1 (R 1 is H, C1-C30 alkyl, C1-C30 halogenated alkyl, C6-C30 aryl, C4-C30 heteroaryl , C1-C30 alkoxy, C6-C30 aryloxy Represents one of trialkylsilyl or halogens C3 to C30.) Can be exemplified compounds bound.

置換基Rの内容は、合成ルート(A)の反応(1)−Aに用いられる一般式(4)のジメチリデンノルボルネン類の置換基Rと実質的に同様である。 The contents of the substituents R 1 are substantially similar to the substituent R 1 of dimethylol isopropylidene norbornene reaction synthesis route (A) (1) General formula for use in -A (4).

これらの一般式(7)の化合物は以下の公知文献14〜16を参考にして合成することができる。
公知文献14:J.Org.Chem.,33,324(1968)
公知文献15:Tetrahedron,59,6609−6614(2003)
公知文献16:Synthesis,326(1986)
These compounds of the general formula (7) can be synthesized with reference to the following publicly known documents 14 to 16.
Known Document 14: J. Org. Org. Chem. , 33 , 324 (1968)
Known Document 15: Tetrahedron, 59, 6609-6614 (2003)
Known Document 16: Synthesis, 326 (1986)

反応(1)−Bに用いられる一般式(8)のオルトジハロキノジメタン類としては、例えば1,2−(α、α’−ジクロロ)キノジメタン、1,2−(α、α’−ジブロモ)キノジメタン、2,3−(α、α’−ジクロロ)ナフトキノジメタン、2,3−(α、α’−ジブロモ)ナフトキノジメタン、2,3−(α、α’−ジクロロ)アントラキノジメタン、2,3−(α、α’−ジブロモ)アントラキノジメタンおよびこれらの化合物のベンゼン環上に前記の置換基R(RはH、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)が結合した化合物を挙げることができる。 Examples of the orthodihaloquinodimethanes of the general formula (8) used in the reaction (1) -B include 1,2- (α, α′-dichloro) quinodimethane, 1,2- (α, α′-dibromo. ) Quinodimethane, 2,3- (α, α'-dichloro) naphthoquinodimethane, 2,3- (α, α'-dibromo) naphthoquinodimethane, 2,3- (α, α'-dichloro) anthra Quinodimethane, 2,3- (α, α′-dibromo) anthraquinodimethane and the above substituents R 2 (R 2 is H, C 1 -C 30 alkyl, C 1 -C 30 on the benzene ring of these compounds. Or a C6 to C30 aryl, a C4 to C30 heteroaryl, a C1 to C30 alkoxy, a C6 to C30 aryloxy, a C3 to C30 trialkylsilyl, or a halogen). Mention may be made of the compound.

置換基Rの内容は合成ルート(A)の反応(1)−Aに用いられる一般式(5)のベンザイン類の置換基Rと実質的に同様である。 The contents of the substituents R 2 is substantially similar to the substituent R 2 of the benzyne such reactions (1) General formula for use in -A synthetic routes (A) (5).

これらの一般式(8)オルトジハロキノジメタン類は2,3−ビス(α、α−ジハロゲン化メチル)アセン系化合物に脱ハロゲン化剤を作用させることにより、反応系中にて反応活性種として生成させることができる。2,3−ビス(α、α−ジハロゲン化メチル)アセン系化合物は、市販試薬として容易に入手することができ、あるいは以下の公知文献17〜19を参考にして合成することができる。
公知文献17:Synthesis,328(1986)
公知文献18:Synthesis,416(1973)
公知文献19:Chem.Ber.,89,708(1956)
These general formula (8) orthodihaloquinodimethanes react with 2,3-bis (α, α-dihalogenated methyl) acene compounds by reacting with a dehalogenating agent in the reaction system. Can be generated as The 2,3-bis (α, α-dihalogenated methyl) acene compound can be easily obtained as a commercially available reagent, or can be synthesized with reference to the following publicly known documents 17-19.
Known Document 17: Synthesis, 328 (1986)
Known Document 18: Synthesis, 416 (1973)
Known Document 19: Chem. Ber. , 89 , 708 (1956)

2,3−ビス(ジハロゲン化メチル)アセン系化合物からの一般式(8)のオルトジハロキノジメタン類の生成は、前記公知文献17〜19を参考に行うことができる。   The production of orthodihaloquinodimethanes of the general formula (8) from 2,3-bis (dihalogenated methyl) acene compounds can be carried out with reference to the above-mentioned known documents 17-19.

反応(1)−Bにおいて、一般式(8)のオルトジハロキノジメタン類の原料となる2,3−ビス(α、α−ジハロゲン化メチル)アセン系化合物の使用量は一般式(7)のノルボルナジエン類1重量部に対して1〜10重量部であることが好ましく、さらに好ましくは1〜4重量部である。また、脱ハロゲン化剤の使用量は2,3−ビス(α、α−ジハロゲン化メチル)アセン系化合物1重量に対して1〜20重量部であることが好ましく、さらに好ましくは1〜10重量部である。   In the reaction (1) -B, the amount of 2,3-bis (α, α-dihalogenated methyl) acene compound used as a raw material for the orthodihaloquinodimethanes of the general formula (8) is the general formula (7). It is preferable that it is 1-10 weight part with respect to 1 weight part of norbornadiene of this, More preferably, it is 1-4 weight part. The amount of the dehalogenating agent used is preferably 1 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight based on 1 part by weight of the 2,3-bis (α, α-dihalogenated methyl) acene compound. Part.

本反応の条件は使用する脱ハロゲン化剤の種類に依存する。脱ハロゲン化剤としてヨウ化アルカリ金属類を使用する場合、本反応は、反応容器に一般式(7)のノルボルナジエン類、2,3−ビス(α、α−ジハロゲン化メチル)アセン系化合物、脱ハロゲン化剤および溶媒を仕込み、5〜150℃、好ましくは10〜100℃の条件で1〜60時間、好ましくは1〜30時間反応させることによって行うことができる。反応試剤の仕込み方法は一括添加もしくは逐次添加が好ましく、滴下等のように反応試剤の濃度を調節するなどの方法も適用することができる。反応は通常、常圧開放系で実施されるが、密閉容器を用いて常圧〜加圧下で実施することもできる。   The conditions for this reaction depend on the type of dehalogenating agent used. When alkali metal iodides are used as the dehalogenating agent, this reaction is carried out in a reaction vessel with norbornadiene of general formula (7), 2,3-bis (α, α-dihalogenated methyl) acene compound, The reaction can be carried out by charging a halogenating agent and a solvent and reacting at 5 to 150 ° C., preferably 10 to 100 ° C. for 1 to 60 hours, preferably 1 to 30 hours. The reaction reagent is preferably added all at once or sequentially, and a method of adjusting the concentration of the reaction reagent such as dropwise addition can also be applied. The reaction is usually carried out in a normal pressure open system, but it can also be carried out under normal pressure to pressure using a sealed container.

溶媒としては、例えばホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、N,N’−ジメチルピロリジノン、N,N,N’,N’−テトラメチルウレア等のアミド系溶媒;アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル系溶媒;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、フルオロベンゼン、ジフルオロベンゼン、ヘキサフルオロベンゼン、α、α、α−トリフルオロトルエン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒などを使用することができる。これらの溶媒は1種単独で使用してもよいし、2種以上を同時に使用してもよい。溶媒の使用量は一般式(7)のノルボルナジエン類1重量部に対して5〜500重量部であることが好ましく、さらに好ましくは5〜250重量部である。   Examples of the solvent include amides such as formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, N, N′-dimethylpyrrolidinone, N, N, N ′, N′-tetramethylurea and the like. Solvents: Nitrile solvents such as acetonitrile and butyronitrile; Halogenated aromatic hydrocarbon solvents such as chlorobenzene, dichlorobenzene, trichlorobenzene, fluorobenzene, difluorobenzene, hexafluorobenzene, α, α, α-trifluorotoluene, etc. Can be used. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The amount of the solvent used is preferably 5 to 500 parts by weight, more preferably 5 to 250 parts by weight, based on 1 part by weight of the norbornadiene of the general formula (7).

一方、本反応の脱ハロゲン化剤としてヨウ化アルカリ金属類以外のアルカリ金属類もしくはアルカリ有機金属を使用する場合、本反応は、アルゴン、窒素等の不活性ガス雰囲気において反応容器に一般式(7)のノルボルナジエン類、2,3−ビス(α、α−ジハロゲン化メチル)アセン系化合物および脱ハロゲン化剤を仕込み、−90〜120℃、好ましくは−70〜80℃の条件で1〜60時間、好ましくは1〜30時間反応させることによって行うことができる。反応試剤の仕込み方法は一括添加もしくは逐次添加が好ましく、滴下等のように反応試剤の濃度を調節するなどの方法も適用することができる。反応は通常、常圧開放系で実施されるが、密閉容器を用いて常圧〜加圧下で実施することもできる。   On the other hand, when an alkali metal other than an alkali metal iodide or an alkali organic metal is used as a dehalogenating agent for this reaction, this reaction is carried out in a reaction vessel in an inert gas atmosphere such as argon or nitrogen. ) Norbornadiene, 2,3-bis (α, α-dihalogenated methyl) acene compound and dehalogenating agent are charged, and the temperature is -90 to 120 ° C, preferably -70 to 80 ° C for 1 to 60 hours. The reaction can be preferably carried out by reacting for 1 to 30 hours. The reaction reagent is preferably added all at once or sequentially, and a method of adjusting the concentration of the reaction reagent such as dropwise addition can also be applied. The reaction is usually carried out in a normal pressure open system, but it can also be carried out under normal pressure to pressure using a sealed container.

本反応では必要に応じて溶媒を使用する。溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ジエチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、フルオロベンゼン、ジフルオロベンゼン、ヘキサフルオロベンゼン、α、α、α−トリフルオロトルエン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等のエーテル系溶媒などを使用することができる。これらの溶媒は1種単独で使用してもよいし、2種以上を同時に使用してもよい。溶媒の使用量は一般式(7)のノルボルナジエン類1重量部に対して5〜500重量部であることが好ましく、さらに好ましくは5〜250重量部である。   In this reaction, a solvent is used as necessary. Examples of the solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, and diethylbenzene; chlorobenzene, dichlorobenzene, trichlorobenzene, fluorobenzene, difluorobenzene, hexafluorobenzene, α, α, α-trifluorotoluene. And halogenated aromatic hydrocarbon solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diglyme, anisole, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and diethylene glycol methyl ethyl ether. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The amount of the solvent used is preferably 5 to 500 parts by weight, more preferably 5 to 250 parts by weight, based on 1 part by weight of the norbornadiene of the general formula (7).

本反応の生成物である一般式(9)の環化生成物の単離方法としては抽出、晶析、カラムクロマトグラフィーもしくはこれらを組み合わせた操作を用いることができる。場合によっては濃縮や溶媒置換を行ってからこれらの操作を行うことが適当である。また、さらに高純度の目的物を得る必要がある場合には単離物に対して抽出、晶析、カラムクロマトグラフィーなどの精製操作をさらに行うことができる。また、生成物の単離は必ずしも本反応工程には必要なく、次反応(2)−Bを実施してから単離することもできる。   As a method for isolating the cyclized product of the general formula (9), which is a product of this reaction, extraction, crystallization, column chromatography or a combination of these can be used. In some cases, it is appropriate to perform these operations after concentration or solvent replacement. In addition, when it is necessary to obtain a higher-purity target product, purification operations such as extraction, crystallization, and column chromatography can be further performed on the isolated product. Further, the isolation of the product is not necessarily required for this reaction step, and the product can be isolated after carrying out the next reaction (2) -B.

反応(2)−B
反応(2)−Bは、反応(1)−Bにより得られた一般式(9)の環化生成物を脱ハロゲン化水素して一般式(3)のオキシメチレン架橋型アセン系化合物を得る反応である。本反応は、脱ハロゲン化水素反応試剤を使用して行うことができる。脱ハロゲン化水素反応試剤としては有機アミン系のものを使用することができ、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン等の3級アミン類;ピリジン、2−メチルピコリン、2,4,6−トリメチルピコリン等の芳香族アミン類を使用することができる。なお、前記の反応(1)−Bに続いて本反応を行う場合、反応(1)−Bにおいて使用される脱ハロゲン化反応試剤が本反応の脱ハロゲン化水素反応試剤としても作用するので、反応(1)−Bにおいて使用された脱ハロゲン化反応試剤が反応後も反応系中に残存しているように脱ハロゲン化反応試剤の添加量を調節することにより、実質的に脱ハロゲン化水素反応試剤を新たに加えることなく反応(2)−Bを行うことも可能である。
Reaction (2) -B
In reaction (2) -B, the cyclized product of general formula (9) obtained by reaction (1) -B is dehydrohalogenated to obtain an oxymethylene bridged acene compound of general formula (3). It is a reaction. This reaction can be carried out using a dehydrohalogenation reagent. As the dehydrohalogenation reagent, organic amines can be used. For example, tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, diisopropylethylamine, tributylamine; pyridine, 2-methylpicoline, 2,4,6- Aromatic amines such as trimethylpicoline can be used. In addition, when performing this reaction following said reaction (1) -B, since the dehalogenation reaction reagent used in reaction (1) -B acts also as a dehydrohalogenation reaction reagent of this reaction, By adjusting the addition amount of the dehalogenation reagent so that the dehalogenation reagent used in the reaction (1) -B remains in the reaction system after the reaction, the dehydrohalogenation agent is substantially reduced. It is also possible to perform the reaction (2) -B without newly adding a reaction reagent.

前記の有機アミン系脱ハロゲン化水素反応試剤の使用量は一般式(9)の環化生成物1重量部に対して2〜20重量部であることが好ましく、さらに好ましくは2〜10重量部である。   The amount of the organic amine-based dehydrohalogenation reagent used is preferably 2 to 20 parts by weight, more preferably 2 to 10 parts by weight with respect to 1 part by weight of the cyclized product of the general formula (9). It is.

本反応は、反応容器に一般式(9)の環化生成物および溶媒を仕込み、新たに脱ハロゲン化水素反応試剤を添加もしくは添加することなく−70〜150℃、好ましくは−40〜100℃の条件で1〜60時間、好ましくは1〜30時間反応させることによって行うことができる。反応試剤の仕込み方法は一括添加もしくは逐次添加が好ましく、滴下等のように反応試剤の濃度を調節するなどの方法も適用することができる。反応は通常は、常圧開放系で実施されるが、密閉容器を用いて常圧〜加圧下で実施することもできる。   In this reaction, a cyclization product of the general formula (9) and a solvent are charged in a reaction vessel, and −70 to 150 ° C., preferably −40 to 100 ° C., without newly adding or adding a dehydrohalogenation reagent. The reaction can be carried out by reacting for 1 to 60 hours, preferably 1 to 30 hours. The reaction reagent is preferably added all at once or sequentially, and a method of adjusting the concentration of the reaction reagent such as dropwise addition can also be applied. The reaction is usually carried out in a normal pressure open system, but can also be carried out under normal pressure to pressure using a sealed container.

溶媒としては、例えばホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、N,N’−ジメチルピロリジノン、N,N,N’,N’−テトラメチルウレア等のアミド系溶媒;アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル系溶媒;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、フルオロベンゼン、ジフルオロベンゼン、ヘキサフルオロベンゼン、α、α、α−トリフルオロトルエン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ジエチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、フルオロベンゼン、ジフルオロベンゼン、ヘキサフルオロベンゼン、α、α、α−トリフルオロトルエン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等のエーテル系溶媒などを使用することができる。これらの溶媒は1種単独で使用してもよいし、2種以上を同時に使用してもよい。溶媒の使用量は一般式(9)の環化生成物1重量部に対して5〜500重量部であることが好ましく、さらに好ましくは5〜250重量部である。   Examples of the solvent include amides such as formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, N, N′-dimethylpyrrolidinone, N, N, N ′, N′-tetramethylurea and the like. Nitrile solvents such as acetonitrile and butyronitrile; halogenated aromatic hydrocarbon solvents such as chlorobenzene, dichlorobenzene, trichlorobenzene, fluorobenzene, difluorobenzene, hexafluorobenzene, α, α, α-trifluorotoluene; Aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, diethylbenzene; chlorobenzene, dichlorobenzene, trichlorobenzene, fluorobenzene, difluorobenzene, hexafluorobenzene, α, α, α-trifluorotoluene It diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diglyme, anisole, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, the use of such ether solvents such as diethylene glycol methyl ethyl ether; halogenated aromatic hydrocarbon solvents. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The amount of the solvent used is preferably 5 to 500 parts by weight, more preferably 5 to 250 parts by weight, based on 1 part by weight of the cyclized product of the general formula (9).

本反応は前反応(1)−Bに続いて新たに脱ハロゲン化水素反応試剤を添加もしくは添加せずにワンポットで行うことがより簡易であり、実質的に反応(1)−Bの反応条件に準じて実施できる。   This reaction is simpler to carry out in one pot with or without the addition of a new dehydrohalogenation reagent following the previous reaction (1) -B, and substantially the reaction conditions of reaction (1) -B It can carry out according to.

本反応の生成物である一般式(3)のオキシメチレン架橋型アセン系化合物の単離方法としては抽出、晶析、カラムクロマトグラフィーもしくはこれらを組み合わせた操作を用いることができる。場合によっては濃縮や溶媒置換を行ってからこれらの操作を行うことが適当である。また、さらに高純度の目的物を得る必要がある場合には単離物に対して抽出、晶析、カラムクロマトグラフィーなどの精製操作をさらに行うことができる。また、生成物の単離は必ずしも本反応工程には必要なく、次反応(3)を実施してから単離することもできる。   As an isolation method of the oxymethylene bridged acene compound of the general formula (3), which is a product of this reaction, extraction, crystallization, column chromatography, or a combination of these can be used. In some cases, it is appropriate to perform these operations after concentration or solvent replacement. In addition, when it is necessary to obtain a higher-purity target product, purification operations such as extraction, crystallization, and column chromatography can be further performed on the isolated product. Further, the isolation of the product is not necessarily required for this reaction step, and the product can be isolated after the next reaction (3) is carried out.

反応(3)
本反応は前記の合成ルート(A)を利用した製造方法における、一般式(3)のオキシメチレン架橋型アセン系化合物を分解して一般式(2)のヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物を得る反応(3)と同じであり、同様に行うことができる。
Reaction (3)
This reaction is a reaction for decomposing the oxymethylene bridged acene compound of the general formula (3) to obtain a hydroxymethylene bridged acene compound of the general formula (2) in the production method using the synthesis route (A). This is the same as (3) and can be performed in the same manner.

反応(4)
本反応は前記の合成ルート(A)を利用した製造方法における、一般式(2)のヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物を酸化して一般式(1)のカルボニル架橋型アセン系化合物を得る反応(4)と同じであり、同様に行なうことができる。
Reaction (4)
This reaction is a reaction in which a hydroxymethylene bridged acene compound of the general formula (2) is oxidized to obtain a carbonyl bridged acene compound of the general formula (1) in the production method using the synthesis route (A) ( It is the same as 4) and can be performed similarly.

一般式(1)のカルボニル架橋型アセン系化合物からの目的とする一般式(10)のアセン系化合物の製造方法
本発明の製造方法が最終目的とする一般式(10)のアセン系化合物は、上述のようにして製造された一般式(1)のカルボニル架橋型アセン系化合物をその分解温度まで加熱して分解することにより容易に製造することができる。一般式(1)のカルボニル架橋型アセン系化合物の分解温度は個々の化合物の分子構造に依存して変動するが、一般的に100〜150℃程度である。加熱時間は短時間で良く、一般的に5分も加熱すれば十分である。一般式(1)のカルボニル架橋型アセン系化合物は通常白色〜微黄色であるが、加熱により分解されて目的の一般式(10)のアセン系化合物に変換されると、橙色(テトラセンの場合)や青紫色(ペンタセンの場合)に変化するので、この色の変化を指標にして分解反応の終了を確認することができる。
Production method of target acene compound of general formula (10) from carbonyl bridged acene compound of general formula (1) :
The acene compound of the general formula (10) which is the final object of the production method of the present invention is decomposed by heating the carbonyl bridged acene compound of the general formula (1) produced as described above to its decomposition temperature. By doing so, it can be easily manufactured. The decomposition temperature of the carbonyl bridged acene compound of the general formula (1) varies depending on the molecular structure of each compound, but is generally about 100 to 150 ° C. The heating time may be short, and it is generally sufficient to heat for 5 minutes. The carbonyl-bridged acene compound of the general formula (1) is usually white to slightly yellow, but when decomposed by heating and converted to the target acene compound of the general formula (10), orange (in the case of tetracene) Or blue-violet (in the case of pentacene), the end of the decomposition reaction can be confirmed using this color change as an index.

実際に本反応を応用して基板上に導電性薄膜を作成する場合は、一般式(1)のカルボニル架橋型アセン系化合物をモノクロロベンゼンやキシレンなどの適当な溶媒に溶解させて溶液を調製し、導電性薄膜を形成させたい基板(一般的に、ガラス、サファイヤ、ジルコニアなどのセラミックス、シリコン、アルミニウムなどの無機系材料、あるいはプラスチックなどの有機系材料)にこの溶液を塗布して100〜150℃の温度で5分程度加熱すればよい。加熱により溶液中の一般式(1)のカルボニル架橋型アセン系化合物は架橋部分が分解されて一般式(10)のアセン系化合物に変換され、次にこのアセン系化合物が自己組織化して基板上に導電性薄膜を形成する。   When actually creating a conductive thin film on a substrate by applying this reaction, a solution is prepared by dissolving the carbonyl bridged acene compound of general formula (1) in a suitable solvent such as monochlorobenzene or xylene. The solution is applied to a substrate (generally ceramics such as glass, sapphire, zirconia, inorganic materials such as silicon and aluminum, or organic materials such as plastic) on which a conductive thin film is to be formed. What is necessary is just to heat about 5 minutes at the temperature of degreeC. By heating, the carbonyl bridged acene compound of the general formula (1) in the solution is decomposed into a bridged portion and converted to an acene compound of the general formula (10). Then, the acene compound is self-assembled on the substrate. A conductive thin film is formed.

以上、本発明の方法によれば、100〜150℃の温度で5分程度加熱することにより基体上に導電性薄膜を形成されることができる。また、本発明の方法では、溶媒としてハロゲン数の少ないモノクロロベンゼンやハロゲンを含まないキシレンなどの環境に優しい溶媒を使用することができる。従って、本発明の方法によれば、規則性の高い導電性薄膜を簡易かつ環境に優しい方法で効率良く作成することができる。   As described above, according to the method of the present invention, a conductive thin film can be formed on a substrate by heating at a temperature of 100 to 150 ° C. for about 5 minutes. In the method of the present invention, an environmentally friendly solvent such as monochlorobenzene having a small number of halogens or xylene containing no halogen can be used as the solvent. Therefore, according to the method of the present invention, a highly regular conductive thin film can be efficiently produced by a simple and environmentally friendly method.

以下本発明の内容を実施例により具体的に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本実施例に関連する原料化合物(4−a)、(4−b)、(5−a)、(5−b)、中間化合物(2−i)、(2−ii)、(2−iii)、および目的化合物(1−i)、(1−ii)、(1−iii)を以下に示す。

Figure 2009120570
The contents of the present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
Raw material compounds (4-a), (4-b), (5-a), (5-b), intermediate compounds (2-i), (2-ii), (2-iii) related to this Example ) And target compounds (1-i), (1-ii), and (1-iii) are shown below.
Figure 2009120570

実施例1:反応(1)−A、反応(2)−A及び反応(3)による中間化合物(2−i)の合成
Ar雰囲気下、原料化合物(4−a)1.00gと1,2−ジブロモベンゼン1.10gのトルエン溶液10mlに−60℃の冷却下、n−BuLi(15%ヘキサン溶液:7.4ml)を滴下し、4hr反応した。原料の消失を確認後、反応溶液を濃縮し、得られた粗体についてシリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒系:酢酸エチル/ヘキサン)により必要な生成物を分離した。分離した取得物は環化体であり、原料化合物に由来するα−エトキシエチル基の一部が脱離した物も含まれる。
上記操作により取得した環化体をMeOH10mlに溶解し、触媒量のp−トルエンスルホン酸を加えてから室温にて1hr反応した。反応後に水を加え、クロロホルム抽出を行った。抽出液を濃縮して得られた黄色オイルをシリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒系:酢酸エチル/ヘキサン)により精製し、微黄色粉状の結晶を380mg(収率38%)得た。得られた結晶についてH−NMRを測定し、化合物(2−i)であることを確認した。そのNMRデータを以下に示す。
H−NMR](DMSO−d:δ)4.29(d,2H),4.33(ddd,H),5.70(d,H),6.99−7.01(m,2H),7.31−7.38(m,4H),7.72−7.75(m,4H)
Example 1 : Synthesis of intermediate compound (2-i) by reaction (1) -A, reaction (2) -A, and reaction (3) Under an Ar atmosphere, 1.00 g of raw material compound (4-a) and 1, 2 -N-BuLi (15% hexane solution: 7.4 ml) was added dropwise to 10 ml of a toluene solution of 1.10 g of dibromobenzene under cooling at -60 ° C, and reacted for 4 hours. After confirming the disappearance of the raw materials, the reaction solution was concentrated, and the required product was separated from the obtained crude product by silica gel chromatography (developing solvent system: ethyl acetate / hexane). The separated acquired product is a cyclized product, and includes a product in which a part of the α-ethoxyethyl group derived from the raw material compound is eliminated.
The cyclized product obtained by the above operation was dissolved in 10 ml of MeOH, a catalytic amount of p-toluenesulfonic acid was added, and then reacted at room temperature for 1 hr. Water was added after reaction and chloroform extraction was performed. The yellow oil obtained by concentrating the extract was purified by silica gel chromatography (developing solvent system: ethyl acetate / hexane) to obtain 380 mg (38% yield) of slightly yellow powdery crystals. 1 H-NMR of the obtained crystal was measured and confirmed to be compound (2-i). The NMR data is shown below.
[< 1 > H-NMR] (DMSO-d: [delta]) 4.29 (d, 2H), 4.33 (ddd, H), 5.70 (d, H), 6.99-7.01 (m, 2H), 7.31-7.38 (m, 4H), 7.72-7.75 (m, 4H)

実施例2:反応(1)−B、反応(2)−B及び反応(3)による中間化合物(2−i)の合成
原料化合物(5−a)1.0g(4.67mmol),α,α,α’,α’−テトラブロモ−o−キシレン4.92g(11.7mmol)、NaI4.2g(28.0mmol)およびDMF50mlをフラスコに仕込み、窒素雰囲気下に65℃で20hr反応した。反応後に水を加え、トルエン抽出を行った。次いで抽出液をチオ硫酸ナトリウムにて洗浄し、減圧にて濃縮した。得られた黄色オイルをMeOH40mlに溶解し、触媒量の50%硫酸を加えてから室温にて60℃で1hr反応した。反応後に水を加え、クロロホルム抽出を行った。抽出液を濃縮して得られた黄色オイルをシリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒系:酢酸エチル/ヘキサン)により精製し、微黄色粉状の結晶を570mg(収率47%)得た。得られた結晶についてH−NMRを測定し、実施例1と同様なNMRデータが得られたことから化合物(2−i)であることを確認した。
Example 2 : Synthesis of intermediate compound (2-i) by reaction (1) -B, reaction (2) -B, and reaction (3) Raw material compound (5-a) 1.0 g (4.67 mmol), α, α, α ′, α′-Tetrabromo-o-xylene (4.92 g, 11.7 mmol), NaI (4.2 g, 28.0 mmol) and DMF (50 ml) were charged into a flask and reacted at 65 ° C. for 20 hours in a nitrogen atmosphere. Water was added after reaction and toluene extraction was performed. The extract was then washed with sodium thiosulfate and concentrated under reduced pressure. The obtained yellow oil was dissolved in 40 ml of MeOH, and a catalytic amount of 50% sulfuric acid was added, followed by a reaction at 60 ° C. for 1 hr at room temperature. Water was added after reaction and chloroform extraction was performed. The yellow oil obtained by concentrating the extract was purified by silica gel chromatography (developing solvent system: ethyl acetate / hexane) to obtain 570 mg (47% yield) of slightly yellow powdery crystals. 1 H-NMR was measured for the obtained crystals, and the same NMR data as in Example 1 was obtained. Thus, it was confirmed to be the compound (2-i).

実施例3:反応(4)による化合物(1−i)の合成
Ar雰囲気下、実施例1又は2で得られた中間化合物(2−i)374mgおよびトリエチルアミン293mgのTHF溶液20mlにN−tert−ブチルベンゼンスルフィンイミドイルクロリド470mgのジクロロメタン溶液5mlを−60℃以下にて滴下し、3hr反応した。反応後に水を添加し、酢酸エチルにて抽出操作を行った。抽出液を減圧濃縮し、冷却すると微黄色の粉状結晶が析出した。析出物をろ過、乾燥し、130mg(収率36%)の粉状結晶を単離した。このH−NMRを測定し、化合物(1−i)であることを確認した。その分析データを以下に示す。
分解温度:112〜115℃(分解により橙色に変化)
FT−IR(KBr:cm−1)1784(C=O)
H−NMR](CDCl3:δ)4.88(s,2H),7.18〜7.20(m,2H),7.44〜7.51(m,4H),7.78〜7.82(m,2H),7.90(s,2H)
[EI−Mass](m/z(%))=228(100,M−CO)
Example 3 Synthesis of Compound (1-i) by Reaction (4) Under Ar atmosphere, N-tert- was added to 20 ml of THF solution of 374 mg of the intermediate compound (2-i) obtained in Example 1 or 2 and 293 mg of triethylamine. 5 ml of a dichloromethane solution of 470 mg of butylbenzenesulfinimidoyl chloride was added dropwise at -60 ° C. or lower and reacted for 3 hours. After the reaction, water was added and extraction operation was performed with ethyl acetate. The extract was concentrated under reduced pressure and cooled to precipitate a slightly yellow powdery crystal. The precipitate was filtered and dried to isolate 130 mg (yield 36%) of powdery crystals. This 1 H-NMR was measured and confirmed to be compound (1-i). The analysis data is shown below.
Decomposition temperature: 112-115 ° C (changes orange when decomposed)
FT-IR (KBr: cm −1 ) 1784 (C═O)
[< 1 > H-NMR] (CDCl3: [delta]) 4.88 (s, 2H), 7.18-7.20 (m, 2H), 7.44-7.51 (m, 4H), 7.78- 7.82 (m, 2H), 7.90 (s, 2H)
[EI-Mass] (m / z (%)) = 228 (100, M + -CO)

実施例4:テトラセンの製造
(1)実施例3で得られた化合物(1−i)の粉末10mgをフラスコに入れ、Ar雰囲気下に加熱すると112〜115℃で橙色の粉末9mgに変化した。この物はTHFに難溶であり、TOFF−Massスペクトル:M228を示すことからテトラセンであることを確認した。
(2)Ar雰囲気下、実施例3で得られた化合物(1−i)10mgをTHF1mlに溶解し、ガラス基板上に塗布した。塗布膜を乾燥し、115℃に加熱すると橙色に変化した。この薄膜のTOFF−Massスペクトルは上記のスペクトルと同じであった。また、熱分析の結果、化合物(1−i)からテトラセンへの変換による重量変化は5分後で90%以上であった。
Example 4 Production of Tetracene (1) When 10 mg of the compound (1-i) powder obtained in Example 3 was placed in a flask and heated in an Ar atmosphere, it changed to 9 mg of an orange powder at 112 to 115 ° C. This product was hardly soluble in THF, and was confirmed to be tetracene from TOFF-Mass spectrum: M + 228.
(2) Under an Ar atmosphere, 10 mg of the compound (1-i) obtained in Example 3 was dissolved in 1 ml of THF and applied on a glass substrate. When the coating film was dried and heated to 115 ° C., it turned orange. The TOFF-Mass spectrum of this thin film was the same as the above spectrum. As a result of thermal analysis, the weight change due to the conversion of compound (1-i) to tetracene was 90% or more after 5 minutes.

実施例5:反応(1)−A、反応(2)−A及び反応(3)による中間化合物(2−ii)の合成
Ar雰囲気下、原料化合物(4−a)7.5gと2,3−ジブロモナフタレン8.37gのトルエン溶液300mlに−60℃の冷却下、PhLi(19%ブチルエ−テル溶液:39.6g)を滴下し、22hr反応した。反応後、反応液を濃縮し、得られた残渣についてシリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒系:酢酸エチル/ヘキサン)を行い、微黄色固体2.57g(収率23%)を得た。このH−NMRを測定し、化合物(2−ii)の前駆体であることを確認した。そのNMRデータを以下に示す。
H−NMR](CDCl3:δ)1.17(t,3H),1.26(d,3H),3.33(dq,H),3.52(dq,H),4.46(t,H),4.47(d,2H),4.82(q,H),7.06〜7.09(m,2H),7.33〜7.42(m,4H),7.83(d,2H),7.92〜7.95(m,2H),8.24(s,2H)
得られた化合物(2−ii)の前駆体2.06gをメタノール(300ml)に懸濁し、p−トルエンスルホン酸・1水和物1.03gを加え、室温で1hr反応した。反応後に水を添加し、クロロホルムにて抽出操作を行った。抽出液を10%重曹水で洗浄し、濃縮すると微黄色残渣が得られた。この残渣を酢酸エチル/n−ヘキサン混合液で処理すると微橙色粉末1.46g(収率88%)が得られた。このH−NMRを測定し、化合物(2−ii)であることを確認した。そのNMRデータを以下に示す。
H−NMR](DMSO−d:δ)4.33(s,3H),5.78(d,H),7.01〜7.04(m,2H),7.33〜7.36(m,2H),7.42〜7.45(m,2H),7.86(s,2H),7.98〜8.01(m,2H),8.35(s,2H)
Example 5 : Synthesis of intermediate compound (2-ii) by reaction (1) -A, reaction (2) -A and reaction (3) In an Ar atmosphere, 7.5 g and 2,3 of raw material compound (4-a) -PhLi (19% butyl ether solution: 39.6 g) was added dropwise to 300 ml of a toluene solution of 8.37 g of dibromonaphthalene under cooling at -60 ° C, and reacted for 22 hours. After the reaction, the reaction solution was concentrated, and the resulting residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent system: ethyl acetate / hexane) to obtain 2.57 g (yield 23%) of a slightly yellow solid. This 1 H-NMR was measured and confirmed to be a precursor of compound (2-ii). The NMR data is shown below.
[< 1 > H-NMR] (CDCl3: [delta]) 1.17 (t, 3H), 1.26 (d, 3H), 3.33 (dq, H), 3.52 (dq, H), 4.46 (T, H), 4.47 (d, 2H), 4.82 (q, H), 7.06 to 7.09 (m, 2H), 7.33 to 7.42 (m, 4H), 7.83 (d, 2H), 7.92-7.95 (m, 2H), 8.24 (s, 2H)
2.06 g of the precursor of the obtained compound (2-ii) was suspended in methanol (300 ml), 1.03 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate was added, and the mixture was reacted at room temperature for 1 hr. Water was added after reaction and extraction operation was performed with chloroform. The extract was washed with 10% aqueous sodium bicarbonate and concentrated to give a slightly yellow residue. When this residue was treated with an ethyl acetate / n-hexane mixture, 1.46 g (88% yield) of a slightly orange powder was obtained. This 1 H-NMR was measured and confirmed to be compound (2-ii). The NMR data is shown below.
[< 1 > H-NMR] (DMSO-d: [delta]) 4.33 (s, 3H), 5.78 (d, H), 7.01 to 7.04 (m, 2H), 7.33 to 7. 36 (m, 2H), 7.42-7.45 (m, 2H), 7.86 (s, 2H), 7.98-8.01 (m, 2H), 8.35 (s, 2H)

実施例6:反応(1)−B、反応(2)−B及び反応(3)による中間化合物(2−ii)の合成
原料化合物(5−a)1.0g,2,3−ビス(ジブロモメチル)ナフタレン5.52g、NaI4.2gおよびDMF60mlをフラスコに仕込み、窒素雰囲気下に65℃で20hr反応した。反応後に水を加え、トルエン抽出を行った。次いで抽出液をチオ硫酸ナトリウムにて洗浄してから減圧にて濃縮した。この濃縮物についてシリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒系:酢酸エチル/ヘキサン)を行い、黄色固体を得た。これをさらにTHF40mlに溶解し、触媒量の50%硫酸を加えてから50℃で1hr反応した。反応後、水を加えてからクロロホルム抽出を行い、抽出液を濃縮して得られた黄色固体をMeOHに懸濁すると白色粉状の結晶が560mg(収率39%)得られた。この結晶のH−NMRを測定し、実施例5と同じNMRデータが得られたことから化合物(2−ii)であることを確認した。
Example 6 : Synthesis of intermediate compound (2-ii) by reaction (1) -B, reaction (2) -B and reaction (3) 1.0 g of raw material compound (5-a), 2,3-bis (dibromo) Methyl) naphthalene (5.52 g), NaI (4.2 g) and DMF (60 ml) were charged into a flask and reacted at 65 ° C. for 20 hours in a nitrogen atmosphere. Water was added after reaction and toluene extraction was performed. The extract was then washed with sodium thiosulfate and concentrated under reduced pressure. The concentrate was subjected to silica gel chromatography (developing solvent system: ethyl acetate / hexane) to obtain a yellow solid. This was further dissolved in 40 ml of THF, a catalytic amount of 50% sulfuric acid was added, and then reacted at 50 ° C. for 1 hr. After the reaction, water was added, followed by extraction with chloroform, and the yellow solid obtained by concentrating the extract was suspended in MeOH to obtain 560 mg (yield 39%) of white powdery crystals. 1 H-NMR of this crystal was measured, and the same NMR data as in Example 5 was obtained, so that it was confirmed to be the compound (2-ii).

実施例7:反応(4)による化合物(1−ii)の合成
Ar雰囲気下、実施例5又は6で得られた中間化合物(2−ii)1.0g(3.24mmol)およびトリエチルアミン2.46gのテトラヒドロフラン溶液80mlにN−tert−ブチルベンゼンスルフィンイミドイルクロリド3.5gのジクロロメタン溶液15mlを−10℃以下にて滴下し、2.5hr反応した。次いで反応析出物をろ過し、含水メタノールで洗浄すると白色粉末が得られた。この粉末をさらに含水テトラヒドロフランで懸濁精製し、白色粉末880mg(収率89%)を得た。このH−NMRを測定し、化合物(1−ii)であることを確認した。その分析データを以下に示す。
分解温度:120〜123℃(分解により青紫色に変化)
FT−IR(KBr:cm−1)1782(C=O)
H−NMR](THF−d:δ)4.92(s,2H),7.19〜7.22(m,2H),7.41〜7.44(m,2H),7.53〜7.56(m,2H),7.97〜8.01(m,2H),8.07(s,2H),8.42(s,2H)
[EI−Mass](m/z(%))=278(100,M−CO)
Example 7 : Synthesis of Compound (1-ii) by Reaction (4) 1.0 g (3.24 mmol) of Intermediate Compound (2-ii) obtained in Example 5 or 6 and 2.46 g of triethylamine under Ar atmosphere 15 ml of a dichloromethane solution of 3.5 g of N-tert-butylbenzenesulfinimidoyl chloride was added dropwise to 80 ml of a tetrahydrofuran solution at −10 ° C. and reacted for 2.5 hours. The reaction precipitate was then filtered and washed with hydrous methanol to obtain a white powder. This powder was further purified by suspension with hydrous tetrahydrofuran to obtain 880 mg (yield 89%) of white powder. This 1 H-NMR was measured and confirmed to be compound (1-ii). The analysis data is shown below.
Decomposition temperature: 120-123 ° C (changes to blue-violet by decomposition)
FT-IR (KBr: cm −1 ) 1782 (C═O)
[ 1 H-NMR] (THF-d: δ) 4.92 (s, 2H), 7.19 to 7.22 (m, 2H), 7.41 to 7.44 (m, 2H), 7. 53 to 7.56 (m, 2H), 7.97 to 8.01 (m, 2H), 8.07 (s, 2H), 8.42 (s, 2H)
[EI-Mass] (m / z (%)) = 278 (100, M + -CO)

実施例8:ペンタセンの製造(I)
実施例7で得られた化合物(1−ii)の粉末10mgをフラスコに入れ、Ar雰囲気下に加熱すると120〜123℃で青紫色の粉末9mgに変化した。この物はTHFに難溶であり、TOFF−Massスペクトル:M+278を示すことからペンタセンであることを確認した。また、熱分析の結果、化合物(1−ii)からペンタセンへの変換による重量変化は5分後で90%以上であった。
Example 8 : Production of pentacene (I)
When 10 mg of the powder of the compound (1-ii) obtained in Example 7 was put in a flask and heated in an Ar atmosphere, it changed to 9 mg of a blue-violet powder at 120 to 123 ° C. This product was hardly soluble in THF and was confirmed to be pentacene from TOFF-Mass spectrum: M + 278. As a result of thermal analysis, the weight change due to conversion of compound (1-ii) to pentacene was 90% or more after 5 minutes.

実施例9:反応(1)−A、反応(2)−A及び反応(3)による中間化合物(2−iii)の合成
雰囲気下、原料化合物(4−b)610mgと1,2−ジブロモベンゼン1.04gを含むトルエン溶液20mlに−60℃の冷却下、n−BuLi(15%ヘキサン溶液:4ml)を滴下し、−60℃以下で2時間反応してから室温まで昇温した。反応後、トルエン抽出を行い、次いで抽出液を濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−にて精製することにより微黄色結晶を660mg(収率87%)得た。
次いでフラスコに前記の微黄色結晶660mg、1,2,4,5−テトラクロロ−p−キノン930mg、トルエン30mlを仕込み、1時間加熱還流下に反応を行った。反応後、室温に冷却してから飽和重炭酸ソーダ水を加え、析出した塩をろ過により除去した後にトルエン抽出を行った。次いでトルエン抽出液を減圧濃縮することにより褐色の結晶を得た。この物をメタノール30mlに溶解し、触媒量のp−トルエンスルホン酸を添加してから室温で1時間攪拌した。次いで反応液を炭酸カリウムで中和してから減圧濃縮を行った。この濃縮物を酢酸エチルにて抽出し、抽出液を減圧濃縮した。得られた残渣をメタノールに加熱溶解し、冷却すると微褐色粉末260mg(通算収率42%)が得られた。得られた結晶について以下の分析をおこない、化合物(2−iii)であることを確認した。その分析データを以下に示す。
融点:268〜270℃
H−NMR](CDCl3:δ)3.02(s,3H),3.24(s,3H),3.74(s,4H),4.02〜4.06(m,2H),6.66〜6.70(m,2H),7.35〜7.40(m,2H),7.66〜7.72(m,2H)
[EI−Mass](m/z(%))=308(6,M),291(5,M−OH),279(100,M−CHO)
Example 9 Synthesis of Intermediate Compound (2-iii) by Reaction (1) -A, Reaction (2) -A and Reaction (3) Under N 2 atmosphere, 610 mg of raw material compound (4-b) and 1,2- N-BuLi (15% hexane solution: 4 ml) was added dropwise to 20 ml of a toluene solution containing 1.04 g of dibromobenzene under cooling at −60 ° C., reacted at −60 ° C. or lower for 2 hours, and then warmed to room temperature. After the reaction, toluene extraction was performed, and then the residue obtained by concentrating the extract was purified by silica gel column chromatography to obtain 660 mg (yield 87%) of slightly yellow crystals.
Next, 660 mg of the above-mentioned slightly yellow crystals, 930 mg of 1,2,4,5-tetrachloro-p-quinone, and 30 ml of toluene were placed in the flask, and the reaction was carried out with heating under reflux for 1 hour. After the reaction, the reaction mixture was cooled to room temperature, saturated sodium bicarbonate water was added, and the precipitated salt was removed by filtration, followed by extraction with toluene. Subsequently, the toluene extract was concentrated under reduced pressure to obtain brown crystals. This product was dissolved in 30 ml of methanol, a catalytic amount of p-toluenesulfonic acid was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Next, the reaction solution was neutralized with potassium carbonate and concentrated under reduced pressure. This concentrate was extracted with ethyl acetate, and the extract was concentrated under reduced pressure. The obtained residue was heated and dissolved in methanol, and cooled to obtain 260 mg of a fine brown powder (total yield 42%). The following analysis was performed on the obtained crystal to confirm that it was the compound (2-iii). The analysis data is shown below.
Melting point: 268-270 ° C
[< 1 > H-NMR] (CDCl3: [delta]) 3.02 (s, 3H), 3.24 (s, 3H), 3.74 (s, 4H), 4.02 to 4.06 (m, 2H) 6.66 to 6.70 (m, 2H), 7.35 to 7.40 (m, 2H), 7.66 to 7.72 (m, 2H)
[EI-Mass] (m / z (%)) = 308 (6, M + ), 291 (5, M + —OH), 279 (100, M + —CHO)

実施例10:反応(1)−B、反応(2)−B及び反応(3)による中間化合物(2−iii)の合成
原料化合物(5−b)1.0g,α,α,α’,α’−テトラブロモ−o−キシレン4.00g、NaI3.41gおよびDMF60mlをフラスコに仕込み、窒素雰囲気下に65℃で20hr反応した。反応後に水を加え、トルエン抽出を行った。次いで抽出液をチオ硫酸ナトリウムにて洗浄し、減圧にて濃縮した。この濃縮物についてシリカゲルクロマトグラフィー(展開溶媒系:酢酸エチル/ヘキサン)を行い、黄色固体を得た。これをさらにTHF40mlに溶解し、触媒量の50%硫酸を加えてから50℃で1hr反応した。反応後、水を加えてからクロロホルム抽出を行い、抽出液を濃縮して得られた黄色固体をMeOHに懸濁すると白色粉状の結晶が640mg(収率55%)得られた。この結晶のH−NMRを測定し、実施例9と同じNMRデータが得られたことから、化合物(2−iii)であることを確認した。
Example 10 : Synthesis of intermediate compound (2-iii) by reaction (1) -B, reaction (2) -B, and reaction (3) 1.0 g of raw material compound (5-b), α, α, α ′, α'-Tetrabromo-o-xylene (4.00 g), NaI (3.41 g) and DMF (60 ml) were charged into a flask and reacted at 65 ° C. for 20 hours in a nitrogen atmosphere. Water was added after reaction and toluene extraction was performed. The extract was then washed with sodium thiosulfate and concentrated under reduced pressure. The concentrate was subjected to silica gel chromatography (developing solvent system: ethyl acetate / hexane) to obtain a yellow solid. This was further dissolved in 40 ml of THF, a catalytic amount of 50% sulfuric acid was added, and then reacted at 50 ° C. for 1 hr. After the reaction, water was added, followed by extraction with chloroform, and the yellow solid obtained by concentrating the extract was suspended in MeOH to obtain 640 mg (yield 55%) of white powdery crystals. 1 H-NMR of this crystal was measured, and the same NMR data as in Example 9 was obtained. Thus, it was confirmed to be the compound (2-iii).

実施例11:反応(4)による化合物(1−iii)の合成
窒素雰囲気下、フラスコに塩化オキサリル45mg、塩化メチレン2mlを仕込み、−50℃以下に冷却してからDMSO61mgを添加し、次いで実施例9又は10で得られた中間化合物(2−iii)50mgの塩化メチレン溶液2mlおよびトリエチルアミン820mgを添加し、−50℃より徐々に室温に昇温した。反応後、析出物をろ過、洗浄することにより白色粉末の結晶28mg(収率56%)を得た。得られた結晶について以下の分析を行い、化合物(1−iii)であることを確認した。その分析データを以下に示す。
分解温度:145〜147℃(青紫色に変化)
FT−IR(KBr:cm−1)1774(C=O)
H−NMR](THF−d:δ)5.02(s,2H),7.40〜7.47(m,4H),7.78〜7.85(m,2H),7.94〜8.00(m,4H)
[EI−Mass](m/z(%))=278(100,M−CO)
Example 11 : Synthesis of compound (1-iii) by reaction (4) In a nitrogen atmosphere, 45 mg of oxalyl chloride and 2 ml of methylene chloride were placed in a flask, cooled to -50 ° C or lower, and 61 mg of DMSO was added, and then Example 2 ml of a methylene chloride solution of 50 mg of the intermediate compound (2-iii) obtained in 9 or 10 and 820 mg of triethylamine were added, and the temperature was gradually raised from −50 ° C. to room temperature. After the reaction, the precipitate was filtered and washed to obtain 28 mg (yield 56%) of white powder crystals. The following analysis was performed on the obtained crystal to confirm that it was the compound (1-iii). The analysis data is shown below.
Decomposition temperature: 145-147 ° C (changes to blue-violet)
FT-IR (KBr: cm −1 ) 1774 (C═O)
[ 1 H-NMR] (THF-d: δ) 5.02 (s, 2H), 7.40-7.47 (m, 4H), 7.78-7.85 (m, 2H), 7. 94-8.00 (m, 4H)
[EI-Mass] (m / z (%)) = 278 (100, M + -CO)

実施例12:ペンタセンの製造(II)
実施例11で得られた化合物(1−iii)の粉末10mgをフラスコに入れ、Ar雰囲気下に加熱すると145〜147℃で青紫色の結晶9mgに変化した。この結晶は以下のマス分析によりペンタセンであることを確認した。また、熱分析の結果、化合物(1−iii)からペンタセンへの変換による重量変化は5分後で90%以上であった。
[Toff−Mass](m/z(%))=278(100,M
Example 12 : Production of pentacene (II)
When 10 mg of the powder of the compound (1-iii) obtained in Example 11 was put in a flask and heated in an Ar atmosphere, it changed to 9 mg of blue-violet crystals at 145 to 147 ° C. This crystal was confirmed to be pentacene by the following mass analysis. As a result of thermal analysis, the weight change due to the conversion of compound (1-iii) to pentacene was 90% or more after 5 minutes.
[Toff-Mass] (m / z (%)) = 278 (100, M + )

溶解度試験
本発明の一般式(1)のカルボニル架橋型アセン系化合物が目的のアセン系化合物より高い溶解度を有することを確認するため、実施例3、7および11で合成した化合物(1−i)、(1−ii)および(1−iii)の溶解度を30℃にて測定した。結果を以下の表に示す。

Figure 2009120570
Solubility test Compound (1-i) synthesized in Examples 3, 7 and 11 to confirm that the carbonyl bridged acene compound of general formula (1) of the present invention has higher solubility than the target acene compound. , (1-ii) and (1-iii) were measured at 30 ° C. The results are shown in the table below.
Figure 2009120570

表から明らかな通り、本発明のカルボニル架橋型アセン系化合物はいずれも目的のアセン系化合物より溶解度が高いことがわかる。従って、本発明のカルボニル架橋型アセン系化合物を原料として用いると、目的のアセン系化合物を原料として用いる従来の方法のように予め微粒子化したり何度も加熱する必要がなく、効率良く導電性薄膜を形成させることができる。具体的には、例えば本発明のカルボニル架橋型アセン系化合物は、常温もしくは低温加熱下で溶剤に溶解させて基板上に塗布し、簡易な加熱処理によりアセン系化合物を短時間に遊離させることができるので、高品質の配向構造を有する導電性薄膜を簡易な方法で効率良く形成させることができる。   As is apparent from the table, the carbonyl bridged acene compound of the present invention has higher solubility than the target acene compound. Therefore, when the carbonyl-bridged acene compound of the present invention is used as a raw material, it is not necessary to make fine particles or heat it many times as in the conventional method using the target acene compound as a raw material. Can be formed. Specifically, for example, the carbonyl bridged acene compound of the present invention can be dissolved in a solvent at room temperature or low temperature and applied onto a substrate, and the acene compound can be liberated in a short time by a simple heat treatment. Therefore, a conductive thin film having a high-quality alignment structure can be efficiently formed by a simple method.

また、本発明のカルボニル架橋型アセン系化合物は、実施例4、8および12に示されるように150℃以下の温度で単時間加熱するだけで簡単に目的のアセン系化合物へと変換される。従って、本発明のカルボニル架橋型アセン系化合物を用いると、光照射や高温加熱や低温での長時間加熱を必要とする従来の方法より簡便安価な設備で導電性薄膜を容易に形成させることができる。   In addition, as shown in Examples 4, 8 and 12, the carbonyl bridged acene compound of the present invention can be easily converted into the target acene compound simply by heating at a temperature of 150 ° C. or lower for a single time. Therefore, when the carbonyl bridged acene compound of the present invention is used, it is possible to easily form a conductive thin film with facilities that are simpler and less expensive than conventional methods that require light irradiation, high-temperature heating, or long-time heating at low temperatures. it can.

また、本発明のカルボニル架橋型アセン系化合物は、実施例3,7及び11に示されるように分解温度が低く、モノクロロベンゼンの沸点(132℃)やキシレンの沸点(約140℃)に近いため、これらを溶媒として使用することができる。これらの溶媒はハロゲン数が少ない(モノクロロベンゼン)か又はハロゲンを含まず(キシレン)、環境に優しい溶媒である。従って、本発明によれば、環境に与える負荷を最小限にしながら導電性薄膜を形成させることができる。   The carbonyl bridged acene compound of the present invention has a low decomposition temperature as shown in Examples 3, 7 and 11, and is close to the boiling point of monochlorobenzene (132 ° C.) and the boiling point of xylene (about 140 ° C.). These can be used as solvents. These solvents have a low halogen number (monochlorobenzene) or do not contain halogen (xylene), and are environmentally friendly solvents. Therefore, according to the present invention, the conductive thin film can be formed while minimizing the load applied to the environment.

なお、上述の実施例では本発明の範囲に含まれる多数の化合物のうちほんの一例のみを合成しているが、他の化合物も上述の実施例を参考にすれば同様に合成できることは当業者には明らかである。例えば、以下に示すような中間化合物(2−iv)〜(2−ix)及び目的化合物(1−iv)〜(1−ix)は、実施例で合成した中間化合物や目的化合物にブロモ置換が導入されたもの、実施例で合成した中間化合物や目的化合物よりベンゼン環の数が増加されたもの、又は実施例で合成した中間化合物や目的化合物よりベンゼン環の数が増加されかつブロモ置換が導入されたものに相当するので、これらの化合物は実施例で使用した原料化合物を適宜変更することによって容易に合成することができる。

Figure 2009120570
In the above-mentioned examples, only one example is synthesized among many compounds included in the scope of the present invention. However, it will be understood by those skilled in the art that other compounds can be synthesized in the same manner with reference to the above-mentioned examples. Is clear. For example, the intermediate compounds (2-iv) to (2-ix) and the target compounds (1-iv) to (1-ix) as shown below have bromo substitution on the intermediate compounds and target compounds synthesized in the examples. Introduced, intermediate compound synthesized in the example or the target compound with an increased number of benzene rings, or intermediate compound synthesized in the example or the target compound with an increased number of benzene rings and introduction of bromo substitution Therefore, these compounds can be easily synthesized by appropriately changing the raw material compounds used in the examples.
Figure 2009120570

本発明のカルボニル架橋型アセン系化合物は規則性の高い導電性薄膜を簡易な方法で効率良く作成することができるので、有機半導体デバイス、有機トランジスタ等の広範囲の分野において極めて有用である。   The carbonyl-bridged acene-based compound of the present invention is very useful in a wide range of fields such as organic semiconductor devices and organic transistors because it can efficiently produce a highly regular conductive thin film by a simple method.

Claims (6)

一般式(1)
Figure 2009120570
(式中、Zは−C(=O)−を表わす。m,nは0以上の整数を表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)で表されるカルボニル架橋型アセン系化合物。
General formula (1)
Figure 2009120570
(In the formula, Z represents —C (═O) —. M and n each represents an integer of 0 or more. R 1 and R 2 each independently represent H, C1 to C30 alkyl, or C1 to C30. Alkyl halide, C6-C30 aryl, C4-C30 heteroaryl, C1-C30 alkoxy, C6-C30 aryloxy, C3-C30 trialkylsilyl or halogen. Carbonyl-bridged acene compound.
一般式(2)
Figure 2009120570
(式中、m,nは0以上の整数を表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)で表されるヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物。
General formula (2)
Figure 2009120570
(In the formula, m and n each represents an integer of 0 or more. R 1 and R 2 are each independently H, C1 to C30 alkyl, C1 to C30 alkyl halide, C6 to C30 aryl, C4 to C4) C30 heteroaryl, C1 to C30 alkoxy, C6 to C30 aryloxy, C3 to C30 trialkylsilyl, or halogen.).
一般式(4)
Figure 2009120570
(式中、mは0以上の整数を表わす。RはH、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。RはC2〜C30のアシル、C2〜C30のα−アルコキシアルキル、テトラヒドロピラニル、C4〜C30のt−アルキル、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはC8〜C30のアリルジアルキルシリルのいずれかを表わす。)で表されるジメチリデンノルボルネン類と
一般式(5)
Figure 2009120570
(式中、nは0以上の整数を表わす。RはH、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)で表される縮合ベンザイン類を反応させることにより、
一般式(6)
Figure 2009120570
(式中、m,nは0以上の整数を表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。RはC2〜C30のアシル、C2〜C30のα−アルコキシアルキル、テトラヒドロピラニル、C4〜C30のt−アルキル、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはC8〜C30のアリルジアルキルシリルのいずれかを表わす。)で表される環化体もしくはそのアルカリ金属塩を得、この環化体もしくはそのアルカリ金属塩を脱水素することにより、
一般式(3)
Figure 2009120570
(式中、m,nは0以上の整数を表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。RはC2〜C30のアシル、C2〜C30のα−アルコキシアルキル、テトラヒドロピラニル、C4〜C30のt−アルキル、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはC8〜C30のアリルジアルキルシリルのいずれかを表わす。)で表されるオキシメチレン架橋型アセン系化合物を得、このオキシメチレン架橋型アセン系化合物を分解することにより、
一般式(2)
Figure 2009120570
(式中、m,nは0以上の整数を表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)で表されるヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物を得ることを特徴とする請求項2に記載のヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物の製造方法。
General formula (4)
Figure 2009120570
(In the formula, m represents an integer of 0 or more. R 1 is H, C1-C30 alkyl, C1-C30 alkyl halide, C6-C30 aryl, C4-C30 heteroaryl, C1-C30 alkoxy. , C6-C30 aryloxy, C3-C30 trialkylsilyl or halogen R 3 is C2-C30 acyl, C2-C30 α-alkoxyalkyl, tetrahydropyranyl, C4-C30 t -Represents an alkyl, a C3-C30 trialkylsilyl or a C8-C30 allyldialkylsilyl) and a general formula (5)
Figure 2009120570
(In the formula, n represents an integer of 0 or more. R 2 is H, C1-C30 alkyl, C1-C30 alkyl halide, C6-C30 aryl, C4-C30 heteroaryl, C1-C30 alkoxy) , C6 to C30 aryloxy, C3 to C30 trialkylsilyl, or halogen).
General formula (6)
Figure 2009120570
(In the formula, m and n each represents an integer of 0 or more. R 1 and R 2 are each independently H, C1 to C30 alkyl, C1 to C30 alkyl halide, C6 to C30 aryl, C4 to C4) C30 heteroaryl, alkoxy of C1-C30, aryloxy C6 to C30, acyl .R 3 is C2 to C30, which represent one of trialkylsilyl or halogens C3 to C30, C2 to C30 of α- alkoxyalkyl , Tetrahydropyranyl, C4-C30 t-alkyl, C3-C30 trialkylsilyl, or C8-C30 allyldialkylsilyl), or an alkali metal salt thereof, By dehydrogenating this cyclized product or its alkali metal salt,
General formula (3)
Figure 2009120570
(In the formula, m and n each represents an integer of 0 or more. R 1 and R 2 are each independently H, C1 to C30 alkyl, C1 to C30 alkyl halide, C6 to C30 aryl, C4 to C4) C30 heteroaryl, alkoxy of C1-C30, aryloxy C6 to C30, acyl .R 3 is C2 to C30, which represent one of trialkylsilyl or halogens C3 to C30, C2 to C30 of α- alkoxyalkyl , Tetrahydropyranyl, C4-C30 t-alkyl, C3-C30 trialkylsilyl, or C8-C30 allyldialkylsilyl). By decomposing oxymethylene bridged acene compounds,
General formula (2)
Figure 2009120570
(In the formula, m and n each represents an integer of 0 or more. R 1 and R 2 are each independently H, C1 to C30 alkyl, C1 to C30 alkyl halide, C6 to C30 aryl, C4 to C4) C30 heteroaryl, C1 to C30 alkoxy, C6 to C30 aryloxy, C3 to C30 trialkylsilyl, or halogen)) is obtained. The method for producing a hydroxymethylene bridged acene compound according to claim 2.
一般式(7)
Figure 2009120570
(式中、mは0以上の整数を表わす。RはH、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。RはC2〜C30のアシル、C2〜C30のα−アルコキシアルキル、テトラヒドロピラニル、C4〜C30のt−アルキル、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはC8〜C30のアリルジアルキルシリルのいずれかを表わす。)で表されるノルボルナジエン類と
一般式(8)
Figure 2009120570
(式中、nは0以上の整数を表わす。Xはハロゲンを表わす。RはH、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)で表されるオルトジハロキノジメタン類を反応させることにより、一般式(9)
Figure 2009120570
(式中、m,nは0以上の整数を表わす。Xはハロゲンを表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。RはC2〜C30のアシル、C2〜C30のα−アルコキシアルキル、テトラヒドロピラニル、C4〜C30のt−アルキル、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはC8〜C30のアリルジアルキルシリルのいずれかを表わす。)で表される環化体を得、この環化体を脱ハロゲン化水素することにより、
一般式(3)
Figure 2009120570
(式中、m,nは0以上の整数を表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。RはC2〜C30のアシル、C2〜C30のα−アルコキシアルキル、テトラヒドロピラニル、C4〜C30のt−アルキル、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはC8〜C30のアリルジアルキルシリルのいずれかを表わす。)で表されるオキシメチレン架橋型アセン系化合物を得、このオキシメチレン架橋型アセン系化合物を分解することにより、
一般式(2)
Figure 2009120570
(式中、m,nは0以上の整数を表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)で表されるヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物を得ることを特徴とする請求項2に記載のヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物の製造方法。
General formula (7)
Figure 2009120570
(In the formula, m represents an integer of 0 or more. R 1 is H, C1-C30 alkyl, C1-C30 alkyl halide, C6-C30 aryl, C4-C30 heteroaryl, C1-C30 alkoxy. , C6-C30 aryloxy, C3-C30 trialkylsilyl or halogen R 3 is C2-C30 acyl, C2-C30 α-alkoxyalkyl, tetrahydropyranyl, C4-C30 t -Represents an alkyl, a C3-C30 trialkylsilyl or a C8-C30 allyldialkylsilyl.) And a norbornadiene represented by the general formula (8)
Figure 2009120570
(In the formula, n represents an integer of 0 or more. X represents a halogen. R 2 represents H, a C1-C30 alkyl, a C1-C30 halogenated alkyl, a C6-C30 aryl, or a C4-C30 heteroaryl. , C1 to C30 alkoxy, C6 to C30 aryloxy, C3 to C30 trialkylsilyl, or halogen) is reacted with an orthodihaloquinodimethane represented by the general formula (9 )
Figure 2009120570
(In the formula, m and n represent an integer of 0 or more. X represents a halogen. R 1 and R 2 each independently represents H, a C1-C30 alkyl, a C1-C30 halogenated alkyl, a C6- C3 aryl, C4 to C30 heteroaryl, C1 to C30 alkoxy, C6 to C30 aryloxy, C3 to C30 trialkylsilyl, or halogen, R 3 represents C2 to C30 acyl, C2 C30 α-alkoxyalkyl, tetrahydropyranyl, C4 to C30 t-alkyl, C3 to C30 trialkylsilyl, or C8 to C30 allyldialkylsilyl). By dehydrohalogenating this cyclized product,
General formula (3)
Figure 2009120570
(In the formula, m and n each represents an integer of 0 or more. R 1 and R 2 are each independently H, C1 to C30 alkyl, C1 to C30 alkyl halide, C6 to C30 aryl, C4 to C4) C30 heteroaryl, alkoxy of C1-C30, aryloxy C6 to C30, acyl .R 3 is C2 to C30, which represent one of trialkylsilyl or halogens C3 to C30, C2 to C30 of α- alkoxyalkyl , Tetrahydropyranyl, C4-C30 t-alkyl, C3-C30 trialkylsilyl, or C8-C30 allyldialkylsilyl). By decomposing oxymethylene bridged acene compounds,
General formula (2)
Figure 2009120570
(In the formula, m and n each represents an integer of 0 or more. R 1 and R 2 are each independently H, C1 to C30 alkyl, C1 to C30 alkyl halide, C6 to C30 aryl, C4 to C4) C30 heteroaryl, C1 to C30 alkoxy, C6 to C30 aryloxy, C3 to C30 trialkylsilyl, or halogen)) is obtained. The method for producing a hydroxymethylene bridged acene compound according to claim 2.
請求項2に記載のヒドロキシメチレン架橋型アセン系化合物を酸化することを特徴とする請求項1に記載のカルボニル架橋型アセン系化合物の製造方法。   The method for producing a carbonyl bridged acene compound according to claim 1, wherein the hydroxymethylene bridged acene compound according to claim 2 is oxidized. 請求項1に記載のカルボニル架橋型アセン系化合物をその分解温度まで加熱して分解することを特徴とする
一般式(10)
Figure 2009120570
(式中、m,nは0以上の整数を表わす。R、Rはそれぞれ独立して、H、C1〜C30のアルキル、C1〜C30のハロゲン化アルキル、C6〜C30のアリール、C4〜C30のヘテロアリール、C1〜C30のアルコキシ、C6〜C30のアリールオキシ、C3〜C30のトリアルキルシリルまたはハロゲンのいずれかを表わす。)で表されるアセン系化合物の製造方法。
The carbonyl bridged acene compound according to claim 1 is decomposed by heating to its decomposition temperature.
Figure 2009120570
(In the formula, m and n each represents an integer of 0 or more. R 1 and R 2 are each independently H, C1 to C30 alkyl, C1 to C30 alkyl halide, C6 to C30 aryl, C4 to C4) A C30 heteroaryl, a C1-C30 alkoxy, a C6-C30 aryloxy, a C3-C30 trialkylsilyl, or a halogen.
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