JP2009120450A - Method for producing optical element - Google Patents

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JP2009120450A JP2007298095A JP2007298095A JP2009120450A JP 2009120450 A JP2009120450 A JP 2009120450A JP 2007298095 A JP2007298095 A JP 2007298095A JP 2007298095 A JP2007298095 A JP 2007298095A JP 2009120450 A JP2009120450 A JP 2009120450A
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Yusuke Nakagawa
裕介 中川
Hiroyuki Seki
博之 関
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Olympus Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To perform a process setup without any time loss from the molding of an optical element to film deposition, and to shorten the lead time of production. <P>SOLUTION: The time required for film deposition in a film deposition machine 50 is defined as T1, the number of treatment chambers 58 in the film deposition machine 50 is defined as N1 (natural number), the time required for molding in a molding machine 10 is defined as T2 and the number of treatment chambers 22 in the molding machine 10 is defined as N2 (natural number), in the case of T1>T2, T1/T2≤N1 and N2=1 are satisfied, and, in the case of T1<T2, T2/T1≤N2 and N=1 are satisfied. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、光学素子の成形からコーティング膜の成膜に至るまでの工程設定を有効に行って光学素子を製造する光学素子の製造装置に関する。   The present invention relates to an optical element manufacturing apparatus that manufactures an optical element by effectively performing process settings from forming an optical element to forming a coating film.

通常、光学素子の製造において、光学素子に反射防止膜等を形成するコーティング作業は、成形工程とは別工程で行われる。この場合、成形機にて成形された成形品を成膜機に搬送する途中で、成形品が塵埃により汚染されるおそれがある。これを解決するため、例えば特許文献１では、真空雰囲気中での基板の成形及び成形された基板への成膜を連続して行う技術が開示されている。   Usually, in the production of an optical element, a coating operation for forming an antireflection film or the like on the optical element is performed in a process separate from the molding process. In this case, the molded product may be contaminated with dust while the molded product molded by the molding machine is being conveyed to the film forming machine. In order to solve this problem, for example, Patent Document 1 discloses a technique for continuously forming a substrate in a vacuum atmosphere and forming a film on the formed substrate.

この特許文献１によれば、大気圧雰囲気中での基板の搬送が不要となるため、搬送途中での成形品の汚染の防止が図られるとともに、成形品のクリーン環境での保管や成膜前の洗浄作業が必要なくなる。あるいは、成形品を成膜用ヤトイに詰め替える等の成膜の前工程を簡略化若しくは省略でき、リードタイム短縮の効果も見込まれるというものである。
特開平５−４４０３３号公報 According to this patent document 1, since it is not necessary to transport the substrate in an atmospheric pressure atmosphere, it is possible to prevent the molded product from being contaminated during the transportation, and to store the molded product in a clean environment and before film formation. No need for cleaning work. Alternatively, a pre-deposition process such as refilling a molded product with a film-forming yatoi can be simplified or omitted, and an effect of shortening the lead time can be expected.
JP-A-5-44033

しかしながら、特許文献１では、基板の成形時間と基板への成膜時間を考慮した工程設定に関する考察は何らなされていない。すなわち、特許文献１では、成形工程に要する時間と成膜工程に要する時間が一致しておらず、時間差があるので問題となる。生産のリードタイムは、成形時間と成膜時間との長い方に左右されるためであり、この時間差を有効活用できれば、リードタイムの一層の短縮化が図られるものと予想される。   However, in Patent Document 1, no consideration is given to the process setting in consideration of the molding time of the substrate and the deposition time on the substrate. That is, in Patent Document 1, there is a problem because the time required for the molding process and the time required for the film forming process do not match and there is a time difference. This is because the production lead time depends on the longer one of the molding time and the film formation time. If this time difference can be effectively used, it is expected that the lead time will be further shortened.

従って、作業工程における時間的ロス（滞留）が発生せず、成形品を連続して製造するためには、例えば成形サイクルに合わせた成膜の装置構成、及び工程設定を行う等の工程の最適化を図ることが必要である。   Therefore, there is no time loss (stagnation) in the work process, and in order to manufacture a molded product continuously, for example, a film forming apparatus configuration adapted to the molding cycle and process optimization such as process setting are performed. It is necessary to make it easier.

本発明は斯かる課題を解決するためになされたもので、成形から成膜に至るまで時間的ロスのない工程設定を行い生産のリードタイムの短縮化を図り得る光学素子の製造装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve such a problem, and provides an optical element manufacturing apparatus capable of setting a process without time loss from molding to film formation and shortening the production lead time. For the purpose.

前記目的を達成するため、請求項１に係る発明は、
処理室を有し成形素材を成形する成形機と、処理室を有し前記成形機にて成形された成形品に薄膜を形成する成膜機と、を備えた光学素子の製造装置において、
前記成膜機で成膜に要する時間をＴ１、該成膜機の処理室の数をＮ１（自然数）とし、
前記成形機で成形に要する時間をＴ２、該成形機の処理室の数をＮ２（自然数）とした場合に、
Ｔ１＞Ｔ２のときは
Ｔ１／Ｔ２≦Ｎ１，Ｎ２＝１
であり、
Ｔ１＜Ｔ２のときは
Ｔ２／Ｔ１≦Ｎ２，Ｎ１＝１
であることを特徴とする。 In order to achieve the object, the invention according to claim 1
In an optical element manufacturing apparatus comprising a molding machine that has a processing chamber and molds a molding material, and a film forming machine that has a processing chamber and forms a thin film on a molded product molded by the molding machine,
The time required for film formation by the film forming machine is T1, the number of processing chambers of the film forming machine is N1 (natural number),
When the time required for molding by the molding machine is T2, and the number of processing chambers of the molding machine is N2 (natural number),
When T1> T2, T1 / T2 ≦ N1, N2 = 1
And
When T1 <T2, T2 / T1 ≦ N2, N1 = 1
It is characterized by being.

請求項２に係る発明は、請求項１に記載の光学素子の製造装置において、
Ｔ１＞Ｔ２のときは
前記成膜機の処理室は直列に配置され、
Ｔ１＜Ｔ２のときは
前記成形機の処理室は直列に配置されていることを特徴とする。 The invention according to claim 2 is the optical element manufacturing apparatus according to claim 1,
When T1> T2, the deposition chambers are arranged in series,
When T1 <T2, the processing chambers of the molding machine are arranged in series.

請求項３に係る発明は、請求項１に記載の光学素子の製造装置において、
Ｔ１＞Ｔ２のときは
前記成膜機の処理室は並列に配置され、
Ｔ１＜Ｔ２のときは
前記成形機の処理室は並列に配置されていることを特徴とする。 The invention according to claim 3 is the optical element manufacturing apparatus according to claim 1,
When T1> T2, the processing chambers of the film forming apparatus are arranged in parallel,
When T1 <T2, the processing chambers of the molding machine are arranged in parallel.

請求項４に係る発明は、請求項１〜３のいずれかに記載の光学素子の製造装置において、
成形素材又は成形品を保持した状態で前記成形機から連結機を介して前記成膜機に搬送する搬送リングをさらに具備することを特徴とする。 The invention according to claim 4 is the optical element manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 3,
It further comprises a transport ring for transporting the molding material or molded product from the molding machine to the film forming machine via a coupling machine in a state where the molding material or the molded product is held.

本発明によれば、成膜に要する時間をＴ１、成膜機の処理室の数をＮ１（自然数）とし、成形に要する時間をＴ２、成形機の処理室の数をＮ２（自然数）とした場合に、例えばＴ１＞Ｔ２のときは、Ｔ１／Ｔ２≦Ｎ１，Ｎ２＝１としたので、光学素子を成形から成膜に至るまで時間的ロスのない工程設定を行い、生産のリードタイムの短縮化を図ることができる。   According to the present invention, the time required for film formation is T1, the number of processing chambers of the film forming machine is N1 (natural number), the time required for forming is T2, and the number of processing chambers of the forming machine is N2 (natural number). In this case, for example, when T1> T2, since T1 / T2 ≦ N1, N2 = 1, the optical element is set up without any time loss from molding to film formation, and the production lead time is shortened. Can be achieved.

以下、図面に基づき本発明の実施の形態を説明する。
［光学素子の製造装置の基本構成］
図１は、本実施形態における光学素子の製造装置１００の基本構成を示している。この製造装置１００は、成形素材３２を成形する成形機１０、成形品４２を搬送する連結機４０、及び成形品４２に薄膜を形成する成膜機５０を有している。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[Basic configuration of optical element manufacturing apparatus]
FIG. 1 shows a basic configuration of an optical element manufacturing apparatus 100 according to this embodiment. The manufacturing apparatus 100 includes a molding machine 10 that molds the molding material 32, a connecting machine 40 that transports the molded product 42, and a film forming machine 50 that forms a thin film on the molded product 42.

本実施形態では、この製造装置１００を用いて、成形機１０により成形素材３２を所望の形状に成形して成形品４２を得た後、次に、成膜機５０により成形品４２の光学機能面に反射防止膜等の薄膜をコーティングする場合を想定して説明する。   In this embodiment, after using the manufacturing apparatus 100 to form the molding material 32 into a desired shape by the molding machine 10 to obtain the molded product 42, the optical function of the molded product 42 is then performed by the film forming machine 50. Description will be made assuming that the surface is coated with a thin film such as an antireflection film.

成形機１０は、上下に対向して配置された一対の上加熱板１２及び下加熱板１４と、これら上加熱板１２及び下加熱板１４を固定して支持する不図示の上プレート支持軸及び下プレート支持軸と、上加熱板１２及び下加熱板１４の夫々に内蔵されているカートリッジヒータ１８，２０と、上プレート支持軸（図示せず）及び上加熱板１２を上下（対向）方向に駆動する不図示のエアシリンダと、装置全体を覆い真空又は不活性ガス雰囲気に置換可能な処理室２２と、から構成されている。   The molding machine 10 includes a pair of an upper heating plate 12 and a lower heating plate 14 disposed so as to face each other, an upper plate support shaft (not shown) that fixes and supports the upper heating plate 12 and the lower heating plate 14, and The lower plate support shaft, the cartridge heaters 18 and 20 incorporated in the upper heating plate 12 and the lower heating plate 14, respectively, the upper plate support shaft (not shown) and the upper heating plate 12 in the vertical (opposite) direction. It comprises an air cylinder (not shown) to be driven and a processing chamber 22 that covers the entire apparatus and can be replaced with a vacuum or an inert gas atmosphere.

また、処理室２２と不図示の上下プレート支持軸の嵌合部は、処理室２２の内部気密を保持できるだけのシールが施されている。この処理室２２には、雰囲気を低真空にしたり、又は雰囲気を不活性ガスに置換するための不図示の雰囲気吸排気孔が形成されている。   Further, the fitting portion between the processing chamber 22 and the upper and lower plate support shafts (not shown) is provided with a seal that can maintain the internal airtightness of the processing chamber 22. In the processing chamber 22, an atmosphere intake / exhaust hole (not shown) is formed for making the atmosphere low vacuum or replacing the atmosphere with an inert gas.

この成形機１０の下加熱板１４上には、処理室２２に搬入された型セット１６が載置されるようになっている。
この型セット１６は、上型２６及び下型２８を有しており、この上型２６及び下型２８は、夫々の成形面２６ａ，２８ａが対向するように、かつ型の中心軸Ｏが一致するように配置されている。 On the lower heating plate 14 of the molding machine 10, the mold set 16 carried into the processing chamber 22 is placed.
The mold set 16 includes an upper mold 26 and a lower mold 28, and the upper mold 26 and the lower mold 28 are arranged so that the molding surfaces 26a and 28a face each other, and the center axis O of the mold coincides. Are arranged to be.

なお、上型２６及び下型２８を嵌挿する不図示のスリーブは、必要に応じて適宜使用することができる。上型２６は、型の中心軸Ｏに沿って上下に摺動可能となっている。これら成形面２６ａ，２８ａ間には成形素材３２が配置される。この成形素材３２は、搬送が容易なように予め円筒状の搬送リング３４に保持されている。   Note that a sleeve (not shown) into which the upper die 26 and the lower die 28 are inserted can be used as needed. The upper die 26 can slide up and down along the central axis O of the die. A molding material 32 is disposed between the molding surfaces 26a and 28a. The molding material 32 is held in advance by a cylindrical conveyance ring 34 so that the conveyance is easy.

成形素材３２又は成形品４２は、搬送時のみならず成形時及び成膜時においても、この搬送リング３４に保持された状態で処理が行なわれる。このように、搬送リング３４を用いることで、成形から成膜に至るまでのハンドリングの向上が図られている。   The molding material 32 or the molded product 42 is processed while being held by the conveyance ring 34 not only during conveyance but also during molding and film formation. In this way, by using the transport ring 34, handling from molding to film formation is improved.

上型２６及び下型２８の材料は、タングステンカーバイド（ＷＣ）等の超硬合金を研削、研磨して所望の形状に仕上げたものを用いている。成形素材３２としては、例えば市販の光学ガラス材料を円柱状に加工したものが用いられる。   As the material of the upper mold 26 and the lower mold 28, a material obtained by grinding and polishing a cemented carbide such as tungsten carbide (WC) to a desired shape is used. As the molding material 32, for example, a commercially available optical glass material processed into a cylindrical shape is used.

成形機１０の搬入口には、シャッタ３８を介して搬入室３６が隣接して設けられている。この搬入室３６では、後述する搬送リング３４に保持された成形素材３２を複数収容でき、かつ成形素材３２を予備加熱可能な構成を有している。また、この搬入室３６は、室内を真空雰囲気にすることが可能であり、シャッタ３８の作用で成形機１０内の雰囲気を破壊せずに搬送リング３４に保持された成形素材３２を搬入することができる。   A carry-in chamber 36 is provided adjacent to the carry-in port of the molding machine 10 via a shutter 38. The carry-in chamber 36 has a configuration in which a plurality of molding materials 32 held by a later-described transport ring 34 can be accommodated and the molding materials 32 can be preheated. Further, the carry-in chamber 36 is capable of creating a vacuum atmosphere in the chamber, and carries in the molding material 32 held by the transport ring 34 without destroying the atmosphere in the molding machine 10 by the action of the shutter 38. Can do.

なお、搬送リング３４に保持された成形素材３２を、処理室２２又は処理室５８等に搬入又は搬出等する作業は、オートハンド６２によって行われる。
次に、連結機４０について説明する。 Note that the operation of carrying the molding material 32 held by the transport ring 34 into or out of the processing chamber 22 or the processing chamber 58 is performed by the auto hand 62.
Next, the coupling machine 40 will be described.

この連結機４０は、成形品４２の搬送方向の上流側にてシャッタ４４を介して成形機１０に連繋され、また、搬送方向の下流側にてシャッタ４６を介して成膜機５０に連繋されている。この連結機４０は、成形品４２を成形機１０から成膜機５０に搬送する役目を有している。   The connecting device 40 is connected to the molding machine 10 via the shutter 44 on the upstream side in the conveying direction of the molded product 42, and is connected to the film forming machine 50 via the shutter 46 on the downstream side in the conveying direction. ing. The connecting machine 40 has a function of transporting the molded product 42 from the molding machine 10 to the film forming machine 50.

また、連結機４０は、相対的に低真空又は不活性ガス雰囲気の成形機１０と、相対的に高真空の成膜機５０との間で、雰囲気の調整を行うためのチャンバー機能を有している。この連結機４０により、成形品４２をオートハンド６２により成形機１０から搬出する際、又は成形品４２を成膜機５０に搬入する際、成形機１０及び成膜機５０を停止することなく連続して稼動することができる。このようにして、生産性の向上が図られている。   Further, the connecting device 40 has a chamber function for adjusting the atmosphere between the molding machine 10 having a relatively low vacuum or inert gas atmosphere and the film forming machine 50 having a relatively high vacuum. ing. When the molding product 42 is carried out of the molding machine 10 by the auto hand 62 or when the molding product 42 is carried into the film forming machine 50 by the connecting machine 40, the molding machine 10 and the film forming machine 50 are continuously stopped without stopping. Can be operated. In this way, productivity is improved.

なお、連結機４０は、成形品４２を洗浄する機能を備えることもできるし、成形品４２の外観検査や形状検査を行う機能を備えることもできる。これにより、不良品が発生した場合に、これを工程の途中で排出して成膜機５０に流さないようにすることができる。   The coupling machine 40 can also have a function of cleaning the molded product 42, and can also have a function of performing an appearance inspection and a shape inspection of the molded product 42. Thereby, when a defective product occurs, it can be discharged in the middle of the process so as not to flow into the film forming machine 50.

次に、成膜機５０について説明する。
この成膜機５０は処理室５８を有していて、例えば搬入された成形品４２の表面に蒸着によりコーティング膜を形成する役目をなす。処理室５８は、相対的に高真空雰囲気にすることが可能な構成となっており、室内は常時高真空に保持されている。 Next, the film forming machine 50 will be described.
The film forming machine 50 has a processing chamber 58 and serves to form a coating film on the surface of the carried-in molded product 42 by vapor deposition, for example. The processing chamber 58 is configured to be able to have a relatively high vacuum atmosphere, and the chamber is always kept at a high vacuum.

この成膜機５０は、コーティング膜の原料（金属）５１、この原料５１を加熱する加熱部５４、及び搬送リング３４に保持された成形品４２を保持し加熱する試料保持部材５６を有している。   The film forming machine 50 includes a coating film raw material (metal) 51, a heating unit 54 that heats the raw material 51, and a sample holding member 56 that holds and heats the molded product 42 held on the transport ring 34. Yes.

成膜機５０の搬出口には、シャッタ５９を介して搬出室６０が隣接して設けられている。この搬出室６０では、搬送リング３４に保持された最終成形品としての光学素子５２を複数収容できるようになっている。また、この搬出室６０は、成膜機５０における処理室５８内の雰囲気を破壊せずに搬送リング３４に保持された光学素子５２を搬出することが可能となっている。   A carry-out chamber 60 is provided adjacent to the carry-out port of the film forming machine 50 via a shutter 59. In the carry-out chamber 60, a plurality of optical elements 52 as final molded products held by the transport ring 34 can be accommodated. Further, the carry-out chamber 60 can carry out the optical element 52 held by the transfer ring 34 without destroying the atmosphere in the processing chamber 58 of the film forming machine 50.

以上において、成形機１０の処理室２２内に搬入された成形素材３２は、ここで所望の形状に成形される。
すなわち、成形機１０では、雰囲気を不活性ガスに置換された処理室２２で、上型２６及び下型２８が上加熱板１２及び下加熱板１４により所定温度に加熱され、搬送リング３４に保持された成形素材３２が所定の温度にまで加熱される。 In the above, the molding material 32 carried into the processing chamber 22 of the molding machine 10 is molded into a desired shape here.
That is, in the molding machine 10, the upper mold 26 and the lower mold 28 are heated to a predetermined temperature by the upper heating plate 12 and the lower heating plate 14 in the processing chamber 22 in which the atmosphere is replaced with an inert gas, and held by the transport ring 34. The formed molding material 32 is heated to a predetermined temperature.

次いで、不図示のエアシリンダにより、上型２６を下型２８に接近移動（下降）させて搬送リング３４に保持された成形素材３２の押圧成形が行われる。この押圧成形により、成形素材３２が所望の中心肉厚に変形したら、次に、型セット１６の冷却が行われる。こうして、型セット１６が所定の冷却温度に達したら、上型２６を前記と反対方向に移動（上昇）させて、搬送リング３４に保持された成形品４２を取り出す。   Next, the upper die 26 is moved (lowered) toward the lower die 28 by an air cylinder (not shown), and the molding material 32 held by the transport ring 34 is pressed. If the molding material 32 is deformed to a desired center thickness by this press molding, the mold set 16 is then cooled. Thus, when the mold set 16 reaches a predetermined cooling temperature, the upper mold 26 is moved (raised) in the opposite direction to the above, and the molded product 42 held by the transport ring 34 is taken out.

このときの成形品４２の取り出しは、オートハンド６２によって行われる。
次いで、成形機１０から連結機４０に成形品４２を搬入するときは、成形機１０と連結機４０との間のシャッタ４４を開け、取り出された成形品４２（搬送リング３４を含む）をオートハンド６２により連結機４０内に搬入する。次いで、シャッタ４４を閉め、連結機４０の雰囲気を真空状態にする。 At this time, the molded product 42 is taken out by the auto hand 62.
Next, when the molded product 42 is carried from the molding machine 10 to the coupling machine 40, the shutter 44 between the molding machine 10 and the coupling machine 40 is opened, and the molded product 42 (including the transport ring 34) taken out is automatically loaded. It is carried into the coupling machine 40 by the hand 62. Next, the shutter 44 is closed and the atmosphere of the coupling machine 40 is brought into a vacuum state.

さらに、この連結機４０から成形品４２を成膜機５０に搬送するときは、連結機４０と成膜機５０の間のシャッタ４６を開け、オートハンド６２により成膜機５０内の試料保持部材５６に成形品４２を位置決め配置する。   Further, when the molded product 42 is conveyed from the connecting device 40 to the film forming device 50, the shutter 46 between the connecting device 40 and the film forming device 50 is opened, and the sample holding member in the film forming device 50 is used by the auto hand 62. The molded product 42 is positioned at 56.

この成膜機５０において、搬入された成形品４２に蒸着によりコーティング膜を形成する際は、原料５１をさらに加熱して蒸着を開始する。すなわち、真空中で金属または／および金属化合物（原料５１）を加熱蒸発させ、その蒸気を成形品４２の表面に薄膜として付着させる。こうして、所定時間経過後、成形品４２への成膜が終了したら原料５１の加熱を停止する。   In the film forming machine 50, when forming a coating film on the carried-in molded product 42 by vapor deposition, the raw material 51 is further heated to start vapor deposition. That is, the metal or / and the metal compound (raw material 51) is heated and evaporated in vacuum, and the vapor is attached to the surface of the molded product 42 as a thin film. Thus, when the film formation on the molded product 42 is completed after a predetermined time has elapsed, the heating of the raw material 51 is stopped.

こうして、成膜された光学素子５２は、オートハンド６２により成膜機５０の処理室５８から搬出室６０に搬送される。
この場合、成膜機５０と搬出室６０との間のシャッタ５９を開け、オートハンド６２により光学素子５２を搬出室６０に移送する。なお、搬出室６０は真空雰囲気となっていて処理室５８内の雰囲気を破壊しない。 The optical element 52 thus formed is transferred from the processing chamber 58 of the film forming machine 50 to the carry-out chamber 60 by the auto hand 62.
In this case, the shutter 59 between the film forming machine 50 and the carry-out chamber 60 is opened, and the optical element 52 is transferred to the carry-out chamber 60 by the auto hand 62. The carry-out chamber 60 is in a vacuum atmosphere and does not destroy the atmosphere in the processing chamber 58.

次に、成膜機５０と搬出室６０との間のシャッタ５９を閉めた後、オートハンド６２により搬出室６０から光学素子５２を搬出する。搬出した光学素子５２はパレット上に載置され、冷却される。   Next, after closing the shutter 59 between the film forming machine 50 and the unloading chamber 60, the optical element 52 is unloaded from the unloading chamber 60 by the auto hand 62. The unloaded optical element 52 is placed on a pallet and cooled.

以上により、成形素材３２（搬送リング３４を含む）の成形機１０への搬入から、光学素子５２の成膜機５０からの搬出までが、オートハンド６２によって連続的に行われる。オートハンド６２は、各処理室２２、５８の外部に駆動源を持ち、成形素材３２、成形品４２、及び光学素子５２を搬送リング３４と共に移送する。   From the above, the auto-hand 62 continuously performs the process from carrying the molding material 32 (including the transport ring 34) into the molding machine 10 to carrying out the optical element 52 from the film forming machine 50. The auto hand 62 has a drive source outside each processing chamber 22, 58 and transports the molding material 32, the molded product 42, and the optical element 52 together with the transport ring 34.

なお、成形機１０において、多数個成形のように、一度に複数の成形品４２が、成形機１０から同時に搬出されてくる場合には、連結機４０および成膜機５０においても、１つの連結機４０内、１つの処理室内で、複数同時に処理を行うようにしてもよい。また、成形機１０は、上記構成に限らず、射出成形のような形態でもよい。   In the molding machine 10, when a plurality of molded products 42 are simultaneously carried out from the molding machine 10, as in the case of a large number of moldings, the coupling machine 40 and the film forming machine 50 also have one coupling. A plurality of processes may be performed simultaneously in one processing chamber within the machine 40. Further, the molding machine 10 is not limited to the above configuration, and may be a form such as injection molding.

連結機４０内においては、レールやベルトコンベア等により、搬送リング３４に保持された成形素材３２を移送するようにしてもよい。
次に、光学素子の製造装置１００の具体的な実施形態について説明する。
［第１の実施の形態］
図２は、第１の実施形態の光学素子の製造装置１００の構成を示している。なお、搬入室３６と搬出室６０の図示は省略している。 In the coupling machine 40, the molding material 32 held by the transport ring 34 may be transferred by a rail, a belt conveyor, or the like.
Next, a specific embodiment of the optical element manufacturing apparatus 100 will be described.
[First Embodiment]
FIG. 2 shows a configuration of the optical element manufacturing apparatus 100 according to the first embodiment. Note that the carry-in chamber 36 and the carry-out chamber 60 are not shown.

本実施形態では、成膜機５０で成膜に要する時間をＴ１、成膜機５０の処理室５８の数をＮ１（自然数＝正の整数）とし、成形機１０で成形に要する時間をＴ２、成形機１０の処理室２２の数をＮ２（自然数）とした場合に、
例えば成膜に要する時間Ｔ１が、Ｔ１＝１５分、また、成形に要する時間Ｔ２が、Ｔ２＝５分とする。 In the present embodiment, the time required for film formation by the film forming machine 50 is T1, the number of processing chambers 58 of the film forming machine 50 is N1 (natural number = positive integer), and the time required for forming by the forming machine 10 is T2. When the number of processing chambers 22 of the molding machine 10 is N2 (natural number),
For example, the time T1 required for film formation is T1 = 15 minutes, and the time T2 required for molding is T2 = 5 minutes.

この場合、Ｔ１＞Ｔ２であり、Ｔ１／Ｔ２＝３であるから、Ｔ１／Ｔ２≦Ｎ１を満足するように、Ｎ１＝３とし、また、Ｎ２＝１とする。すなわち、成膜機５０の処理室５８の数を３個とし、成形機１０の処理室２２の数を１個とする。   In this case, since T1> T2 and T1 / T2 = 3, N1 = 3 and N2 = 1 so as to satisfy T1 / T2 ≦ N1. That is, the number of the processing chambers 58 of the film forming machine 50 is three, and the number of the processing chambers 22 of the molding machine 10 is one.

図２では、成形機１０、連結機４０、及び成膜機５０が、処理の流れ方向（矢印方向）に沿って配置されている。成形機１０は１個の処理室２２を有しているが、成膜機５０は３個の処理室５８（第１の処理室５８１、第２の処理室５８２、第３の処理室５８３）を有している。 In FIG. 2, the molding machine 10, the coupling machine 40, and the film forming machine 50 are arranged along the process flow direction (arrow direction). The molding machine 10 has one processing chamber 22, but the film forming machine 50 has three processing chambers 58 (first processing chamber 58 1 , second processing chamber 58 2 , third processing chamber). 58 3 ).

成膜機５０の処理室５８１、５８２、５８３は、処理の流れ方向（矢印方向）に対して並列に配置されている。この各処理室５８１、５８２、５８３において、移送されてきた成形品４２に蒸着方式によりコーティング膜を形成する。 The processing chambers 58 1 , 58 2 , 58 3 of the film forming machine 50 are arranged in parallel to the processing flow direction (arrow direction). In each of the processing chambers 58 1 , 58 2 , 58 3 , a coating film is formed on the transferred molded product 42 by a vapor deposition method.

本実施形態では、成形機１０から連結機４０には５分ごとに成形品４２が搬送されてくるものとする。また、連結機４０では、搬送されてきた成形品４２を、成膜機５０の各処理室５８１、５８２、５８３に、５分毎に分配する機能を有している。 In the present embodiment, it is assumed that the molded product 42 is conveyed from the molding machine 10 to the coupling machine 40 every 5 minutes. The connecting device 40 has a function of distributing the conveyed molded product 42 to the processing chambers 58 1 , 58 2 , and 58 3 of the film forming device 50 every 5 minutes.

こうして、成膜機５０の各処理室５８１、５８２、５８３には、５分ごとに成形品４２が移送されてくることになる。
なお、本実施形態では、１個の連結機４０を配置した場合について説明するが、これに限らない。例えば、成膜機５０の処理室５８の数（３個）に対応して連結機４０を夫々配置してもよい。 Thus, the molded product 42 is transferred to the processing chambers 58 1 , 58 2 , 58 3 of the film forming machine 50 every 5 minutes.
In addition, although this embodiment demonstrates the case where the one coupling machine 40 is arrange | positioned, it is not restricted to this. For example, the coupling devices 40 may be arranged corresponding to the number (three) of the processing chambers 58 of the film forming device 50.

成膜機５０の各処理室５８１、５８２、５８３では、成形品４２にコーティング膜を形成するための膜の原料（金属、金属化合物）５１を有している。そして、各処理室５８１、５８２、５８３において、順次移送されてきた成形品４２に多層膜（又は単層膜）が形成される。 Each processing chamber 58 1 , 58 2 , 58 3 of the film forming machine 50 has a film material (metal, metal compound) 51 for forming a coating film on the molded product 42. In each of the processing chambers 58 1 , 58 2 , and 58 3 , a multilayer film (or a single layer film) is formed on the molded product 42 that has been sequentially transferred.

従って、成膜機５０の第１の処理室５８１からは、コーティング膜５３が施された１個目の最終成形品としての光学素子５２が、成形品４２が搬入されてから１５分後に搬出される。また、成膜機５０の第２の処理室５８２からは、その５分後に２個目の光学素子５２が搬出される。さらに、成膜機５０の第３の処理室５８３からは、さらにその５分後に３個目の光学素子５２が搬出される。 Thus, from the first processing chamber 58 1 of the film forming apparatus 50 out, the optical element 52 as a 1 -th final molded article is coated film 53 was subjected to 15 minutes after the molded article 42 is loaded Is done. Further, from the second processing chamber 58 2 of the film forming apparatus 50, after 5 minutes in the 2 th optical element 52 is unloaded. Furthermore, the third processing chamber 58 third deposition device 50, further five minutes after the 3 th optical element 52 are unloaded.

こうして、コーティング膜５３が施された光学素子５２は、成膜機５０の処理室５８１、５８２、５８３から順次５分ごとに連続的に搬出される。
なお、成膜機５０における処理室５８の数を、例えば４個にした場合でも、同様に、順次５分ごとに成膜機５０の処理室５８から光学素子５２が搬出される。ただし、この場合は、第１の処理室５８１では、１個目の光学素子５２を搬出した後に、連結機４０から次の成形品４２を受け取るまでに５分の待ち時間が生じることになる。 Thus, the optical element 52 on which the coating film 53 has been applied is successively carried out every 5 minutes sequentially from the processing chambers 58 1 , 58 2 , 58 3 of the film forming machine 50.
Even when the number of the processing chambers 58 in the film forming apparatus 50 is, for example, four, the optical elements 52 are similarly carried out from the processing chamber 58 of the film forming apparatus 50 sequentially every 5 minutes. However, in this case, the first processing chamber 58 1, so that after unloading the 1 th optical element 52, to a connecting device 40 until it receives the molded article 42 of the following five minutes waiting time occurs .

同様に、成膜機５０の処理室５８の数を５個以上にした場合も、各処理室で待ち時間が生じてくる。よって、本実施形態の場合は、成膜機５０の処理室５８の数を３個とするのが最も効率的であるといえる。   Similarly, when the number of the processing chambers 58 of the film forming apparatus 50 is five or more, a waiting time is generated in each processing chamber. Therefore, in the case of this embodiment, it can be said that it is most efficient to set the number of the processing chambers 58 of the film forming machine 50 to three.

なお、連結機４０として、例えば成形機１０と成膜機５０の間の雰囲気を調整して搬送する役目の他に、成形品４２の成膜前洗浄（プラズマ洗浄、ＵＶ洗浄）や外観検査機能や形状検査機能を備えていてもよい。その場合は、連結機４０は、搬送されてきた成形品４２を複数収容することができ、洗浄工程や外観検査工程、形状検査工程を５分毎に搬送する機能を備えることもできる。さらに、不良の成形品の搬送を途中でカットして工程外に排出する不図示の排出口を設ける。   In addition to the role of adjusting and transporting the atmosphere between the molding machine 10 and the film forming machine 50, for example, the connecting device 40 can be cleaned before the film formation (plasma cleaning, UV cleaning) and appearance inspection function of the molded product 42. Or a shape inspection function. In that case, the coupling machine 40 can accommodate a plurality of molded articles 42 that have been conveyed, and can also have a function of conveying the cleaning process, the appearance inspection process, and the shape inspection process every 5 minutes. Furthermore, a discharge port (not shown) is provided to cut the conveyance of a defective molded product halfway and discharge it outside the process.

また、成膜機５０における成膜方式は蒸着に限らない。例えば、スパッタリング等による成膜方式であってもよい。
なお、本実施形態では、成膜に要する時間Ｔ１（１５分）が成形に要する時間Ｔ２（５分）よりも長い場合（Ｔ１＞Ｔ２）について説明したが、これに限らない。 Further, the film forming method in the film forming machine 50 is not limited to vapor deposition. For example, a film forming method by sputtering or the like may be used.
In the present embodiment, the case where the time T1 (15 minutes) required for film formation is longer than the time T2 (5 minutes) required for forming (T1> T2) is described, but the present invention is not limited thereto.

例えば、成膜に要する時間Ｔ１よりも成形に要する時間Ｔ２の方が長い場合（Ｔ１＜Ｔ２）は、Ｔ２／Ｔ１≦Ｎ２とし，Ｎ１＝１とすることで、前述した実施形態と同様の効果が得られる。なお、これについては、後述の図６及び図７において詳しく説明する。   For example, when the time T2 required for molding is longer than the time T1 required for film formation (T1 <T2), T2 / T1 ≦ N2 and N1 = 1 can be used to achieve the same effect as the above-described embodiment. Is obtained. This will be described in detail in FIGS. 6 and 7 described later.

本実施形態によれば、成膜機５０から５分に１個ずつ最終成形品としての光学素子５２を連続的に搬出することができる。これに対し、従来装置では、例えば成膜機５０の成膜処理に１５分を要する場合は、１５分に１個ずつしか光学素子５２を搬出することができなかった。このように、本実施形態では、成形サイクルに合わせた成膜工程を設定することで、時間的ロスのない工程設定を実現することができる。   According to this embodiment, the optical element 52 as a final molded product can be continuously carried out from the film forming machine 50 one by one every 5 minutes. On the other hand, in the conventional apparatus, for example, when the film forming process of the film forming machine 50 requires 15 minutes, only one optical element 52 can be carried out every 15 minutes. Thus, in this embodiment, the process setting without time loss is realizable by setting the film-forming process according to the shaping | molding cycle.

また、本実施形態では、成膜機５０の処理室５８１、５８２、５８３を、処理の流れ方向（矢印方向）に対し並列に配置したので、例えば成形品４２に同一種類の膜を所定厚さで形成する場合等、工程を複数に細分化するメリットが少ない場合に特に適している。 In the present embodiment, the processing chambers 58 1 , 58 2 , 58 3 of the film forming machine 50 are arranged in parallel with respect to the processing flow direction (arrow direction). It is particularly suitable when there are few merits to subdivide a plurality of processes, such as when forming with a predetermined thickness.

さらに、本実施形態によれば、成形素材３２の成形から光学素子５２の成膜完了に至るまで、タイムロスがなくなるため、リードタイム短縮によるコストダウンを実現することができる。特に、成形素材３２（又は成形品４２）を保持した状態で、成形機１０から連結機４０を介して成膜機５０に搬送する搬送リング３４を備えているので、搬送性の向上を図ることができる。   Furthermore, according to the present embodiment, since there is no time loss from the molding of the molding material 32 to the completion of the film formation of the optical element 52, it is possible to realize cost reduction by shortening the lead time. In particular, since the conveyance ring 34 that conveys the molding material 32 (or the molded product 42) from the molding machine 10 to the film forming machine 50 via the coupling machine 40 is held, the transportability is improved. Can do.

また、蒸着によりコーティング膜５３を形成する場合は、膜の密着性を高めるために成形品４２の予備加熱が必要となるが、この予備加熱の代わりに、成形機１０での冷却、搬出温度を予備加熱温度以上とし、連結機４０で保温を行って成膜機５０に投入する、もしくは、予備加熱を連結機４０で行ってから成膜機５０に投入することで、加熱時間を短縮することができる。これにより、一層生産性の向上を図ることができる。
［第２の実施の形態］
図３は、第２の実施形態の製造装置１００の構成を示している。なお、第１の実施の形態と同一又は相当する部材には同一の符号を付して説明する。 Further, when the coating film 53 is formed by vapor deposition, preheating of the molded product 42 is necessary in order to improve the adhesion of the film. Instead of this preheating, the cooling and unloading temperatures in the molding machine 10 are set. Heating time can be shortened by setting the temperature to the preheating temperature or higher and keeping the temperature in the coupling device 40 and putting it into the film forming machine 50, or performing the preheating in the coupling machine 40 and then putting it into the film forming machine 50. Can do. Thereby, productivity can be further improved.
[Second Embodiment]
FIG. 3 shows a configuration of the manufacturing apparatus 100 according to the second embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected and demonstrated to the member which is the same as that of 1st Embodiment, or corresponds.

本実施形態では、前述と同様に、成膜機５０で成膜に要する時間をＴ１、成膜機５０の処理室５８の数をＮ１（自然数）とし、成形機１０で成形に要する時間をＴ２、成形機１０の処理室２２の数をＮ２（自然数）とした場合に、
例えば成膜に要する時間Ｔ１が、Ｔ１＝１５分、また、成形に要する時間Ｔ２が、Ｔ２＝５分とする。 In the present embodiment, as described above, the time required for film formation by the film forming machine 50 is T1, the number of processing chambers 58 of the film forming machine 50 is N1 (natural number), and the time required for forming by the forming machine 10 is T2. When the number of processing chambers 22 of the molding machine 10 is N2 (natural number),
For example, the time T1 required for film formation is T1 = 15 minutes, and the time T2 required for molding is T2 = 5 minutes.

この場合、Ｔ１＞Ｔ２であり、Ｔ１／Ｔ２＝３であるから、Ｔ１／Ｔ２≦Ｎ１を満足するように、Ｎ１＝３とし、また、Ｎ２＝１とする。すなわち、成膜機５０の処理室５８の数を３個とし、成形機１０の処理室２２の数を１個とする。成形に要する時間Ｔ２に合わせて成膜工程を細分化したものである。   In this case, since T1> T2 and T1 / T2 = 3, N1 = 3 and N2 = 1 so as to satisfy T1 / T2 ≦ N1. That is, the number of the processing chambers 58 of the film forming machine 50 is three, and the number of the processing chambers 22 of the molding machine 10 is one. The film forming process is subdivided according to the time T2 required for molding.

図３では、成形機１０は１個の処理室２２を有しているが、成膜機５０は３個の処理室５８（第１の処理室５８１、第２の処理室５８２、第３の処理室５８３）を有している。また、成膜機５０での成膜工程において、成膜に要する時間（Ｔ１＝１５分）を３つの工程に分割し、夫々の工程で５分ずつ成膜作業を行うこととする。 In FIG. 3, the molding machine 10 has one processing chamber 22, but the film forming machine 50 has three processing chambers 58 (first processing chamber 58 1 , second processing chamber 58 2 , first processing chamber 58 2 , 3 processing chambers 58 3 ). Further, in the film forming process of the film forming apparatus 50, the time required for film formation (T1 = 15 minutes) is divided into three processes, and the film forming operation is performed every 5 minutes in each process.

本実施形態では、この処理室５８１、５８２、５８３を、処理の流れ方向（矢印方向）に沿って直列に配置した点が第１の実施の形態と相違している。
また、成膜機５０の各処理室５８１、５８２、５８３では、複数層のコーティング膜を形成するための膜の原料５１を有しており、移送されてきた成形品４２に多層膜を形成するものとする。そこで、成形品４２に形成される多層膜として、例えば異なる膜種、膜厚の３層膜を形成する場合を考える。この場合、第１の処理室５８１で１層目を成膜し、第２の処理室５８２で２層目を成膜し、第３の処理室５８３で３層目を成膜することとする。 The present embodiment is different from the first embodiment in that the processing chambers 58 1 , 58 2 , 58 3 are arranged in series along the processing flow direction (arrow direction).
Further, each of the processing chambers 58 1 , 58 2 , 58 3 of the film forming machine 50 has a film raw material 51 for forming a coating film of a plurality of layers, and a multilayer film is formed on the transferred molded product 42. Shall be formed. Therefore, consider a case where, for example, a three-layer film having different film types and film thicknesses is formed as the multilayer film formed on the molded product 42. In this case, in the first processing chamber 58 1 by forming a first layer, in the second processing chamber 58 2 is deposited a second layer, depositing a third layer in the third treatment chamber 58 3 I will do it.

本実施形態では、成形機１０から５分ごとに連結機４０に成形品４２が搬送されてくる。連結機４０では、この成形品４２を、成膜機５０の第１の処理室５８１に５分後に分配する機能を有している。こうして、第１の処理室５８１に搬入された成形品４２は、該第１の処理室５８１で５分の成膜工程を終えて成形品４２１となる。この成形品４２１は、１層目が成膜されたものである。 In this embodiment, the molded product 42 is conveyed from the molding machine 10 to the coupling machine 40 every 5 minutes. In connection unit 40 has a function to distribute the molded article 42, the first processing chamber 58 1 of the film forming apparatus 50 after 5 minutes. Thus, the first processing chamber 58 1 moldings 42 carried into is a molded article 42 1 in the processing chamber 58 1 of the first finishing 5 min deposition process. The molded article 42 1 is a first layer is deposited.

なお、ここでの成形品４２に付した符号「４２」、「４２１」、・・・等は、個々の処理室５８に搬入された時点での成膜状態で区別している。例えば、成形品４２は成膜されていない状態、成形品４２１は１層目が成膜された状態、成形品４２２は、２層目が成膜された状態、・・・を意味する。 Here, the reference numerals “42”, “42 1 ”,..., Etc. attached to the molded product 42 are distinguished by the film formation state at the time when they are carried into the individual processing chambers 58. For example, a state where the molded article 42 is not formed, the molded product 42 1 is the state in which the first layer is deposited, the molded article 42 2, a state in which the second layer is deposited, it means ... .

その後、この成形品４２１が第２の処理室５８２に搬送され、この第２の処理室５８２で５分の成膜工程を終え２層目が成膜されて成形品４２２となる。さらに、この成形品４２２は第３の処理室５８３に搬送され、この第３の処理室５８３で５分の成膜工程を終えて３層目が成膜され（成形品４２３に相当）、該第３の処理室５８３から最終成形品としての光学素子５２が搬出される。 Thereafter, the molded article 42 1 is transported to the second processing chamber 58 2, the molded article 42 2 2-layer finish this second processing chamber 58 2 at 5 minutes of deposition process is deposited . Further, the molded article 42 2 is conveyed to the third process chamber 58 3, in the third 3-layer process chamber 58 3 finishing 5 min deposition process of the film formation (the molded article 42 3 Correspondingly), the optical element 52 as the final molded product is unloaded from the third processing chamber 583.

これにより、順次５分ごとに成膜機５０に搬送されてきた成形品４２は、各処理室５８１、５８２、５８３で成膜されて５分ごとに成膜機５０から光学素子５２として連続的に外部に搬出される。 Thus, the molded article 42 that has been sequentially transferred to the film forming machine 50 every 5 minutes is formed into a film in each of the processing chambers 58 1 , 58 2 , 58 3 , and the optical element 52 from the film forming machine 50 every 5 minutes. Are continuously carried out to the outside.

なお、本実施形態では、成膜機５０における処理室５８の数を３個としたが、これに限らない。例えば、成膜工程を４個以上に細分化してもよい。
また、多層膜としての３層それぞれの膜種、膜厚が異なり、成膜に要する所要時間も異なる場合は、さらに成膜機５０の処理室５８を細分化することもできる。これについては後述の実施形態で説明する。 In the present embodiment, the number of the processing chambers 58 in the film forming machine 50 is three, but is not limited thereto. For example, the film forming process may be subdivided into four or more.
Further, when the film types and film thicknesses of the three layers as the multilayer film are different and the time required for film formation is also different, the processing chamber 58 of the film forming machine 50 can be further subdivided. This will be described in an embodiment described later.

このように、成形機１０における成形に要する時間Ｔ２＝５分に合わせて、成膜機５０の処理室５８の数を細分化（本実施形態では３工程に分割）したことで、成膜機５０から連続的に光学素子５２を搬出することができる。これに対し、従来装置では、例えば成膜機５０の成膜処理に１５分を要する場合は、１５分に１個ずつしか光学素子５２を搬出することができなかった。   As described above, the number of the processing chambers 58 of the film forming machine 50 is subdivided (divided into three steps in this embodiment) in accordance with the time T2 = 5 minutes required for forming in the molding machine 10. The optical element 52 can be carried out continuously from 50. On the other hand, in the conventional apparatus, for example, when the film forming process of the film forming machine 50 requires 15 minutes, only one optical element 52 can be carried out every 15 minutes.

本実施形態によれば、成膜が完了した光学素子５２を、成膜機５０から５分ごとに連続して搬出することができる。こうして、時間的ロスのない工程設定を行うことにより、リードタイムの短縮を図ることができる。   According to this embodiment, the optical element 52 in which film formation has been completed can be continuously carried out from the film forming machine 50 every 5 minutes. Thus, the lead time can be shortened by setting the process without time loss.

また、本実施形態では、成膜機５０の処理室５８１、５８２、５８３を、処理の流れ方向（矢印方向）に沿って直列に配置したので、異なる膜種の多層膜を形成する場合等、工程を複数に細分化しやすい場合に適している。
［第３の実施の形態］
図４は、第３の実施形態の製造装置１００の構成を示している。なお、第１の実施の形態と同一又は相当する部材には同一の符号を付して説明する。 In the present embodiment, since the processing chambers 58 1 , 58 2 , and 58 3 of the film forming machine 50 are arranged in series along the processing flow direction (arrow direction), multilayer films of different film types are formed. This is suitable when the process is easily subdivided into a plurality of processes.
[Third Embodiment]
FIG. 4 shows the configuration of the manufacturing apparatus 100 according to the third embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected and demonstrated to the member which is the same as that of 1st Embodiment, or corresponds.

本実施形態では、前述と同様に、成膜機５０で成膜に要する時間をＴ１、成膜機５０の処理室５８の数をＮ１（自然数）とし、成形機１０で成形に要する時間をＴ２、成形機１０の処理室２２の数をＮ２（自然数）とした場合に、
例えば成膜に要する時間Ｔ１が、Ｔ１＝１５分、また、成形に要する時間Ｔ２が、Ｔ２＝５分とする。 In the present embodiment, as described above, the time required for film formation by the film forming machine 50 is T1, the number of processing chambers 58 of the film forming machine 50 is N1 (natural number), and the time required for forming by the forming machine 10 is T2. When the number of processing chambers 22 of the molding machine 10 is N2 (natural number),
For example, the time T1 required for film formation is T1 = 15 minutes, and the time T2 required for molding is T2 = 5 minutes.

この場合、Ｔ１＞Ｔ２であり、Ｔ１／Ｔ２＝３であるから、Ｔ１／Ｔ２≦Ｎ１を満足するように、Ｎ１＝４とし、また、Ｎ２＝１とする。すなわち、成膜機５０の処理室５８の数を４個とし、成形機１０の処理室２２の数を１個とする。成形に要する時間Ｔ２に合わせて成膜工程を細分化したものである。   In this case, since T1> T2 and T1 / T2 = 3, N1 = 4 and N2 = 1 are set so that T1 / T2 ≦ N1 is satisfied. That is, the number of the processing chambers 58 of the film forming machine 50 is four, and the number of the processing chambers 22 of the molding machine 10 is one. The film forming process is subdivided according to the time T2 required for molding.

本実施形態では、成膜機５０において、膜種、膜厚の異なる３層の多層膜を形成する場合を考える。そして、１層目を成膜するのに７分、２層目を成膜するのに４分、３層目を成膜するのに４分を要するものとする。   In the present embodiment, the case where the film forming machine 50 forms three multilayer films having different film types and film thicknesses is considered. Then, it takes 7 minutes to form the first layer, 4 minutes to form the second layer, and 4 minutes to form the third layer.

図４では、成形機１０は１個の処理室２２を有しているが、成膜機５０は４個の処理室５８（第１の処理室５８１、第２の処理室５８２、第３の処理室５８３、第４の処理室５８４）を有している。この処理室５８１、５８２、５８３、５８４を、処理の流れ方向（矢印方向）に沿って直列に配置した。 In FIG. 4, the molding machine 10 has one processing chamber 22, but the film forming machine 50 has four processing chambers 58 (first processing chamber 58 1 , second processing chamber 58 2 , first processing chamber 58 2 , 3 processing chambers 58 3 and a fourth processing chamber 58 4 ). The processing chambers 58 1 , 58 2 , 58 3 , 58 4 were arranged in series along the processing flow direction (arrow direction).

そして、成形機１０から連結機４０には５分ごとに成形品４２が搬送されてくるものとする。すなわち、成形品４２は、連結機４０から成膜機５０の第１の処理室５８１に５分ごとに順次移送されてくる。 Then, it is assumed that the molded product 42 is conveyed from the molding machine 10 to the connecting device 40 every 5 minutes. That is, molded articles 42 are connected machine 40 first processing chamber 58 1 into coming sequentially transferred every 5 minutes of the film-forming machine 50 from.

このため、成形機１０で成形素材３２を成形するに要する時間Ｔ２＝５分に合わせて、成膜機５０の処理室５８の数を４つに細分化した。具体的には、成膜機５０の４つの処理室５８１〜５８４では、１層目を第１と第２の処理室５８１、５８２で成膜処理し、２層目を第３の処理室５８３で成膜処理し、さらに、３層目を第４の処理室５８４で成膜処理する。 For this reason, the number of the processing chambers 58 of the film forming machine 50 is subdivided into four in accordance with the time T2 = 5 minutes required for molding the molding material 32 by the molding machine 10. Specifically, in the four processing chambers 58 1 to 58 4 of the film forming apparatus 50, the first layer is subjected to the film forming process in the first and second processing chambers 58 1 and 58 2 , and the second layer is the third layer. in the processing chamber 58 3 to the film forming process, further deposition processes third layer in the fourth treatment chamber 58 4.

具体的には、成膜機５０の４つの処理室５８１〜５８４では、第１の処理室５８１で１層目の下層を３．５分で成膜処理し、１．５分待機して成形品４２１となる。この成形品４２１は第２の処理室５８２に搬送され、この第２の処理室５８２で１層目の上層を３．５分で成膜処理し、１．５分待機して成形品４２２となる。 Specifically, the four processing chambers 58 1 to 58 4 of the film forming apparatus 50, film formation was treated with 3.5 minutes a lower first layer in the first processing chamber 58 1, and waits 1.5 minutes the molded article 42 1 Te. The molded article 42 1 is transported to the 2 second treatment chamber 58, the second processing chamber 58 2 of the upper layer of the first layer and film treated with 3.5 minutes, molded waiting 1.5 minute the goods 42 2.

さらに、この成形品４２２は第３の処理室５８３に搬送され、この第３の処理室５８３で２層目を４分で成膜処理し、１分待機して成形品４２３となる。さらに、この成形品４２３は第４の処理室５８４に搬送され、この第４の処理室５８４で４分の成膜工程と１分の待機を終えて（成形品４２４に相当）、光学素子５２として搬出される。 Further, the molded article 42 2 is conveyed to the third process chamber 58 3, and the third process chamber 58 3 second layer at and deposition at 4 minutes, the molded article 42 3 Wait 1 minute Become. Further, the molded article 42 3 is transported to the fourth treatment chamber 58 4, finishing stand 4 minutes deposition step and 1 minute in the processing chamber 58 4 of the fourth (corresponding to the molded article 42 4) The optical element 52 is carried out.

なお、この第４の処理室５８４は最後の処理室なので、１分待機することなく光学素子５２を搬出してもよい。また、待機時間を設けたのは、成形機１０での成形に要する時間（Ｔ２＝５分）に合わせたものである。 Since the fourth treatment chamber 58 4 is the last treatment chamber, the optical element 52 may be carried out without waiting for 1 minute. The standby time is provided in accordance with the time required for molding by the molding machine 10 (T2 = 5 minutes).

これにより、順次５分ごとに成膜機５０に搬送されてきた成形品４２は、各処理室５８１、５８２、５８３、５８４で成膜されて５分ごとに成膜機５０から連続して外部に搬出される。これに対し、従来装置では、例えば成膜機５０の成膜処理に１５分を要する場合は、１５分に１個ずつしか光学素子５２を搬出することができなかった。 As a result, the molded product 42 that has been sequentially transferred to the film forming machine 50 every 5 minutes is formed into a film in each of the processing chambers 58 1 , 58 2 , 58 3 , 58 4 , and from the film forming machine 50 every 5 minutes. It is continuously carried out to the outside. On the other hand, in the conventional apparatus, for example, when the film forming process of the film forming machine 50 requires 15 minutes, only one optical element 52 can be carried out every 15 minutes.

なお、本実施形態では、成膜機５０における処理室５８の数を４個としたが、これに限らない。例えば５個以上に細分化してもよい。また、本実施形態では、４つの処理室５８１〜５８４を処理の流れ方向（矢印方向）に沿って直列に配置したが、並列に配置してもよい。ただし、並列配置の場合は各処理室において３層の膜を全て形成することになる。 In the present embodiment, the number of the processing chambers 58 in the film forming apparatus 50 is four, but is not limited thereto. For example, it may be subdivided into 5 or more. Further, in this embodiment, arranged in series along the four processing chambers 58 1 to 58 4 to process the flow direction (arrow direction), it may be arranged in parallel. However, in the case of parallel arrangement, all three layers of films are formed in each processing chamber.

また、本実施形態では、第１と第２の処理室５８１、５８２で、１層目を２回に分けて７分（３．５分と３．５分）で成膜処理し、３分待機するようにしたが、これに限らない。例えば第１と第２の処理室５８１、５８２で、１層目を２回に分けて７分（例えば５分と２分）で成膜処理し、その後３分待機するようにしてもよい。 In the present embodiment, the first and second processing chambers 58 1 and 58 2 perform the film formation process in 7 minutes (3.5 minutes and 3.5 minutes) by dividing the first layer twice. Although it waited for 3 minutes, it is not restricted to this. For example, in the first and second processing chambers 58 1 and 58 2 , the first layer is divided into two times, and the film is formed in 7 minutes (for example, 5 minutes and 2 minutes), and then waits for 3 minutes. Good.

本実施形態によれば、成膜が完了した光学素子５２を、成膜機５０から５分ごとに連続して搬出することができる。こうして、リードタイムの短縮を図ることができる。また、本実施形態では、成膜機５０の４個の処理室５８を直列に配置し、成形品４２に１層目の膜を形成する場合に、第１と第２の処理室５８１、５８２にて２回に分けて１層目の膜を形成するようにしたので、その１層目の膜厚が特に大きい場合等に効果を有する。
［第４の実施の形態］
図５は、第４の実施形態の製造装置１００の構成を示している。なお、第１の実施の形態と同一又は相当する部材には同一の符号を付して説明する。 According to this embodiment, the optical element 52 in which film formation has been completed can be continuously carried out from the film forming machine 50 every 5 minutes. Thus, the lead time can be shortened. Further, in the present embodiment, when the four processing chambers 58 of the film forming machine 50 are arranged in series and the first layer film is formed on the molded product 42, the first and second processing chambers 58 1 , since so as to form a first layer of film is divided into 58 2 at twice, have an effect on or when the film thickness of the first layer is particularly large.
[Fourth Embodiment]
FIG. 5 shows the configuration of the manufacturing apparatus 100 according to the fourth embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected and demonstrated to the member which is the same as that of 1st Embodiment, or corresponds.

本実施形態では、前述と同様に、成膜機５０で成膜に要する時間をＴ１、成膜機５０の処理室５８の数をＮ１（自然数）とし、成形機１０で成形に要する時間をＴ２、成形機１０の処理室２２の数をＮ２（自然数）とした場合に、
例えば成膜に要する時間Ｔ１が、Ｔ１＝１５分、また、成形に要する時間Ｔ２が、Ｔ２＝５分とする。 In the present embodiment, as described above, the time required for film formation by the film forming machine 50 is T1, the number of processing chambers 58 of the film forming machine 50 is N1 (natural number), and the time required for forming by the forming machine 10 is T2. When the number of processing chambers 22 of the molding machine 10 is N2 (natural number),
For example, the time T1 required for film formation is T1 = 15 minutes, and the time T2 required for molding is T2 = 5 minutes.

この場合、Ｔ１＞Ｔ２であり、Ｔ１／Ｔ２＝３であるから、Ｔ１／Ｔ２≦Ｎ１を満足するように、Ｎ１＝４とし、また、Ｎ２＝１とする。すなわち、成膜機５０の処理室５８の数を４個とし、成形機１０の処理室２２の数を１個とする。成形に要する時間Ｔ２に合わせて成膜工程を細分化したものである。   In this case, since T1> T2 and T1 / T2 = 3, N1 = 4 and N2 = 1 are set so that T1 / T2 ≦ N1 is satisfied. That is, the number of the processing chambers 58 of the film forming machine 50 is four, and the number of the processing chambers 22 of the molding machine 10 is one. The film forming process is subdivided according to the time T2 required for molding.

本実施形態では、膜厚、膜種の異なる５層の多層膜を形成する場合を考える。そして、１層目を成膜するのに３分、２層目を成膜するのに２分、３層目を成膜するのに３分、４層目を成膜するのに３分、５層目を成膜するのに４分を要するものとする。   In the present embodiment, a case is considered where five multilayer films having different film thicknesses and film types are formed. 3 minutes to deposit the first layer, 2 minutes to deposit the second layer, 3 minutes to deposit the third layer, 3 minutes to deposit the fourth layer, Assume that it takes 4 minutes to form the fifth layer.

図５では、成形機１０は１個の処理室２２を有しているが、成膜機５０は４個の処理室５８（第１の処理室５８１、第２の処理室５８２、第３の処理室５８３、第４の処理室５８４）を有している。 In FIG. 5, the molding machine 10 has one processing chamber 22, but the film forming machine 50 has four processing chambers 58 (first processing chamber 58 1 , second processing chamber 58 2 , first processing chamber 58 2 , 3 processing chambers 58 3 and a fourth processing chamber 58 4 ).

これらの各処理室５８１、５８２、５８３、５８４を、処理の流れ方向（矢印方向）に沿って直列に配置した。
そして、連結機４０から成形品４２が成膜機５０の第１の処理室５８１に５分ごとに順次移送されてくるものとする。 Each of these processing chambers 58 1 , 58 2 , 58 3 , 58 4 was arranged in series along the processing flow direction (arrow direction).
Then, it is assumed that the molded article 42 comes sequentially transferred every 5 minutes to the first processing chamber 58 1 of the film forming device 50 from the coupling device 40.

また、本実施形態では、成形に要する時間Ｔ２＝５分に合わせて成膜機５０の処理室５８の数を４個に細分化している。
例えば、成膜機５０の４つの処理室５８１、５８２、５８３、５８４において、第１の処理室５８１で１層目及び２層目を５分で成膜処理して成形品４２１となる（待機なし）。 In the present embodiment, the number of processing chambers 58 of the film forming machine 50 is subdivided into four in accordance with the time T2 = 5 minutes required for molding.
For example, four processing chambers 58 1 of the film forming device 50, 58 2, 58 3, 58 at 4, the first processing chamber 58 1 by deposition process to moldings first and second layers in 5 minutes 42 1 (no waiting).

このとき、例えば２種類の原料５１１，５１２の上方に夫々不図示のシャッタを配置し、一方の原料５１１を蒸着しているときは、他方の原料５１２の蒸着を禁止するようにする。例えば、一方の原料５１１を蒸着しているときは、その原料５１１に対応するシャッタを開放するとともに、他方の原料５１２に対応するシャッタを覆う。 In this case, for example, the two kinds of raw materials 51 1, 51 2 of the above to each of the not shown shutter is arranged, when being deposited one of the raw materials 51 1, to prohibit the other ingredients 51 2 deposition To do. For example, when you are deposited one of the raw material 51 1, as well as opens the shutter corresponding to the raw material 51 1, cover the shutter corresponding to the other raw materials 51 2.

また、一方の原料５１１の蒸着を禁止しているときは、その原料５１１に対応するシャッタを覆い、他方の原料５１２に対応するシャッタを開放する。
次に、この成形品４２１は第２の処理室５８２に搬送され、この第２の処理室５８２で３層目を３分で成膜処理し、２分待機して成形品４２２となる。 Further, when that disable one deposition material 51 1, the raw material 51 covers the shutter corresponding to one, it opens the shutter corresponding to the other raw materials 51 2.
Next, the molded article 42 1 is transported to the 2 second treatment chamber 58, a third layer in the second processing chamber 58 2 and film treated with 3 minutes, 2 minutes waiting to moldings 42 2 It becomes.

この成形品４２２は第３の処理室５８３に搬送され、この第３の処理室５８３で４層目を３分で成膜処理し、２分待機して成形品４２３となる。さらに、この成形品４２３は第４の処理室５８４に搬送され、この第４の処理室５８４で５層目を４分で成膜処理し（成形品４２４に相当）、１分待機して最終成形品としての光学素子５２となる。 The molded article 42 2 is conveyed to the third process chamber 58 3, a fourth layer in the third treatment chamber 58 3 film treated with 3 minutes, wait 2 minutes the molded article 42 3. Further, the molded article 42 3 is transported to the fourth treatment chamber 58 4, film formation was treated with 4 minutes 5 th layer in the processing chamber 58 4 The fourth (corresponding to the molded article 42 4), 1 minute It waits and becomes the optical element 52 as a final molded product.

なお、この第４の処理室５８４は最後の処理室なので、１分待機することなく光学素子５２を搬出してもよい。
これにより、順次５分ごとに成膜機５０に搬送されてきた成形品４２は、各処理室５８１、５８２、５８３、５８４で成膜されて５分ごとに成膜機５０から連続して外部に搬出される。これに対し、従来装置では、例えば成膜機５０の成膜処理に１５分を要する場合は、１５分に１個ずつしか光学素子５２を搬出することができなかった。 Since the fourth treatment chamber 58 4 is the last treatment chamber, the optical element 52 may be carried out without waiting for 1 minute.
As a result, the molded product 42 that has been sequentially transferred to the film forming machine 50 every 5 minutes is formed into a film in each of the processing chambers 58 1 , 58 2 , 58 3 , 58 4 , and from the film forming machine 50 every 5 minutes. It is continuously carried out to the outside. On the other hand, in the conventional apparatus, for example, when the film forming process of the film forming machine 50 requires 15 minutes, only one optical element 52 can be carried out every 15 minutes.

なお、本実施形態では、成膜機５０における処理室５８の数を４個としたが、これに限らない。例えば５個以上に細分化してもよい。また、本実施形態では、４つの処理室５８１〜５８４を処理の流れ方向（矢印方向）に沿って直列に配置したが、並列に配置してもよい。ただし、並列配置の場合は各処理室において５層の膜を全て形成することになる。 In the present embodiment, the number of the processing chambers 58 in the film forming apparatus 50 is four, but is not limited thereto. For example, it may be subdivided into 5 or more. Further, in the present embodiment, arranged in series along the four processing chambers 58 1 to 58 4 to process the flow direction (arrow direction), it may be arranged in parallel. However, in the case of parallel arrangement, all the five layers of films are formed in each processing chamber.

本実施形態によれば、成膜が完了した光学素子５２を、成膜機５０から５分ごとに連続して搬出することができる。こうして、時間的ロスのない工程設定を行い、リードタイムの短縮を図ることができる。   According to this embodiment, the optical element 52 in which film formation has been completed can be continuously carried out from the film forming machine 50 every 5 minutes. Thus, the process setting without time loss can be performed, and the lead time can be shortened.

また、本実施形態では、成膜機５０の４個の処理室５８を直列に配置し、特に第１の処理室５８１にて、成形品４２に１層目及び２層目の膜を形成するようにしたので、１層目及び２層目の膜厚が特に小さい場合等に効果的である。
［第５の実施の形態］
図６は、第５の実施形態の光学素子の製造装置１００の構成を示している。なお、搬入室３６と搬出室６０の図示は省略している。また、第１の実施の形態と同一又は相当する部材には同一の符号を付して説明する。 Further, in this embodiment, four process chambers 58 of the film forming device 50 disposed in series, in particular in the first processing chamber 58 1, the first and second layers of film to the molded article 42 formed This is effective when the film thicknesses of the first and second layers are particularly small.
[Fifth Embodiment]
FIG. 6 shows a configuration of an optical element manufacturing apparatus 100 according to the fifth embodiment. Note that the carry-in chamber 36 and the carry-out chamber 60 are not shown. Further, the same or corresponding members as those in the first embodiment will be described with the same reference numerals.

本実施形態では、成膜機５０で成膜に要する時間をＴ１、成膜機５０の処理室５８の数をＮ１（自然数）とし、成形機１０で成形に要する時間をＴ２、成形機１０の処理室２２の数をＮ２（自然数）とした場合に、
例えば成膜に要する時間Ｔ１が、Ｔ１＝５分、また、成形に要する時間Ｔ２が、Ｔ２＝１５分とする。 In the present embodiment, the time required for film formation by the film forming machine 50 is T1, the number of processing chambers 58 of the film forming machine 50 is N1 (natural number), the time required for forming by the forming machine 10 is T2, and the time of the forming machine 10 is When the number of processing chambers 22 is N2 (natural number),
For example, the time T1 required for film formation is T1 = 5 minutes, and the time T2 required for molding is T2 = 15 minutes.

この場合、Ｔ１＜Ｔ２であり、Ｔ２／Ｔ１＝３であるから、Ｔ２／Ｔ１≦Ｎ２を満足するように、Ｎ２＝３とし、また、Ｎ１＝１とする。すなわち、成形機１０の処理室２２の数を３個とし、成膜機５０の処理室５８の数を１個とする。   In this case, since T1 <T2 and T2 / T1 = 3, N2 = 3 and N1 = 1 so as to satisfy T2 / T1 ≦ N2. That is, the number of the processing chambers 22 of the molding machine 10 is three, and the number of the processing chambers 58 of the film forming machine 50 is one.

図６では、成形機１０、連結機４０、及び成膜機５０が、処理の流れ方向（矢印方向）に沿って配置されている。成形機１０は、並列に配置された３個の処理室２２（第１の処理室２２１、第２の処理室２２２、第３の処理室２２３）を有し、成膜機５０は１個の処理室５８を有している。 In FIG. 6, the molding machine 10, the coupling machine 40, and the film forming machine 50 are arranged along the process flow direction (arrow direction). The molding machine 10 includes three processing chambers 22 (a first processing chamber 22 1 , a second processing chamber 22 2 , and a third processing chamber 22 3 ) arranged in parallel. One processing chamber 58 is provided.

ここで、成形機１０の処理室２２１、２２２、２２３には、上流側の搬入室３６（図１参照）から、搬送リング３４に保持された成形素材３２が１個ずつ、かつ５分ごとに搬入されるものとする。 Here, in the processing chambers 22 1 , 22 2 , and 22 3 of the molding machine 10, the molding material 32 held by the transport ring 34 from the upstream carry-in chamber 36 (see FIG. 1) one by one and 5 It shall be carried in every minute.

すなわち、第１の処理室２２１に１個目の成形素材３２が搬入され、その５分後に第２の処理室２２２に２個目の成形素材３２が搬入され、さらにその５分後に第３の処理室２２３に３個目の成形素材３２が搬入される場合を考える。 That is, the first processing chamber 22 1 to 1 -th forming material 32 is loaded, its after 5 minutes the second processing chamber 22 2 to 2 -th forming material 32 is loaded, the further five minutes later 3 of the processing chamber 22 3 to 3 -th molding material 32 consider the case to be carried.

こうして、第１の処理室２２１において１個目の成形素材３２が１５分の成形工程を終えて所望の形状の成形品４２に成形される。また、その５分後に、第２の処理室２２２において２個目の成形素材３２が１５分の成形工程を終えて所望の形状の成形品４２に成形される。さらに、その５分後に、第３の処理室２２３において３個目の成形素材３２が１５分の成形工程を終えて所望の形状の成形品４２に成形される。 Thus, 1 -th molding material 32 in the first processing chamber 22 1 is formed into a molded article 42 having a desired shape after 15 minutes of the molding process. Further, five minutes later, it is formed into a molded article 42 having a desired shape second processing chamber 22 2 in the two eyes of the molding material 32 is completed in 15 minutes molding process. Furthermore, after five minutes, 3 -th molding material 32 in the third process chamber 22 3 is formed into a molded article 42 having a desired shape after the 15 minutes forming process.

成形された成形品４２は、各処理室２２１、２２２、２２３から５分ごとに連結機４０に向けて搬送される。このため、連結機４０には、第１の処理室２２１から１個目の成形品４２が搬入され、その５分後に、第２の処理室２２２から２個目の成形品４２が搬入され、さらにその５分後に、第３の処理室２２３から３個目の成形品４２が搬入される。 The molded product 42 that has been molded is conveyed from the processing chambers 22 1 , 22 2 , and 22 3 to the coupler 40 every 5 minutes. Therefore, the coupling device 40, the first processing chamber 22 1 from 1 th of the molded article 42 is loaded, five minutes later, the second processing chamber 22 2 of two eyes of the molded article 42 is transported is further five minutes later, the third treatment chamber 22 3 from 3 th of the molded article 42 is carried.

成膜機５０の処理室５８では、搬入された成形品４２にコーティング膜を形成するための膜の原料（金属、金属化合物）５１を有している。そして、処理室５８において、移送されてきた成形品４２に多層膜（又は単層膜）が形成される。このとき、成膜機５０の処理室５８にて成膜に要する時間は５分である。   The processing chamber 58 of the film forming machine 50 has a film raw material (metal, metal compound) 51 for forming a coating film on the carried-in molded product 42. In the processing chamber 58, a multilayer film (or a single layer film) is formed on the transferred molded product 42. At this time, the time required for film formation in the processing chamber 58 of the film forming machine 50 is 5 minutes.

従って、成膜機５０の処理室５８からは、コーティング膜５３が施された１個目の光学素子５２（最終成形品）が、成形品４２が搬入されてから５分後に搬出される。次いで、その５分後に２個目の光学素子５２が搬出され、さらに、その５分後に３個目の光学素子５２が搬出される。   Accordingly, the first optical element 52 (final molded product) on which the coating film 53 is applied is unloaded from the processing chamber 58 of the film forming machine 50 5 minutes after the molded product 42 is carried in. Next, the second optical element 52 is carried out 5 minutes later, and further, the third optical element 52 is carried out 5 minutes later.

こうして、コーティング膜５３が施された光学素子５２は、成膜機５０の処理室５８から順次５分ごとに連続的に搬出される。
一方、成形機１０の第１の処理室２２１には、１個目の成形品４２を成形した後に、次の４個目の成形素材３２（搬送リング３４を含む）が搬入される。この４個目の成形素材３２は、第１の処理室２２１に搬入されてから１５分後に成形品４２として成形され、連結機４０に搬送される。連結機４０では、４個目の成形品４２が搬入されると、その５分後に、その成形品４２を成膜機５０の処理室５８に搬送する。こうして、成膜機５０の処理室５８では、４個目の成形品４２が搬入されると、５分の成膜処理を行ってコーティング膜を形成し、光学素子５２として搬出する。 In this way, the optical element 52 on which the coating film 53 has been applied is continuously carried out from the processing chamber 58 of the film forming machine 50 sequentially every 5 minutes.
On the other hand, in the first processing chamber 22 1 of the molding machine 10, after forming the molded article 42 of the 1 th, (including the transport ring 34) forming material 32 of the next 4 th is carried. The fourth molding material 32 is molded as a molded product 42 15 minutes after being carried into the first processing chamber 221, and is conveyed to the coupler 40. In the connecting device 40, when the fourth molded product 42 is carried in, the molded product 42 is transferred to the processing chamber 58 of the film forming machine 50 after 5 minutes. Thus, in the processing chamber 58 of the film forming machine 50, when the fourth molded product 42 is carried in, a film forming process is performed for 5 minutes to form a coating film, which is carried out as the optical element 52.

以下、同様にして、順次５分毎に、成形機１０の第２の処理室２２２には５個目の成形素材３２（搬送リング３４を含む）が搬入され、さらに、成形機１０の第３の処理室２２３には６個目の成形素材３２（搬送リング３４を含む）が搬入される。こうして、成膜機５０の処理室５８にてコーティング膜５３が形成される。 In the same manner, sequentially every 5 minutes, (including the transport ring 34) the second processing chamber 22 2 5 th of the molding material 32 in the molding machine 10 is carried further, the molding machine 10 the third treatment chamber 22 3 of 6 th molding material 32 (including the transport ring 34) is carried. Thus, the coating film 53 is formed in the processing chamber 58 of the film forming machine 50.

本実施形態によれば、成膜に要する時間Ｔ１（５分）よりも成形に要する時間Ｔ２（１５分）が長い場合に、成形機１０の３個の処理室２２１、２２２、２２３を並列に配置することで、成膜機５０から５分ごとに最終成形品としての光学素子５２を連続的に搬出することができる。 According to the present embodiment, when the time T2 (15 minutes) required for molding is longer than the time T1 (5 minutes) required for film formation, the three processing chambers 22 1 , 22 2 , 22 3 of the molding machine 10 are used. Are arranged in parallel, the optical element 52 as the final molded product can be continuously carried out from the film forming machine 50 every 5 minutes.

これに対し、従来装置では、例えば成形機１０の成形処理に１５分を要する場合は、１５分に１個ずつしか光学素子５２を搬出することができなかった。
本実施形態によれば、成形素材３２の成形から光学素子５２の成膜完了に至るまでタイムロスがなくなるため、リードタイムの短縮化を図ることができる。
［第６の実施の形態］
図７は、第６の実施形態の光学素子の製造装置１００の構成を示している。なお、第１の実施の形態と同一又は相当する部材には同一の符号を付して説明する。 On the other hand, in the conventional apparatus, for example, when the molding process of the molding machine 10 requires 15 minutes, only one optical element 52 can be carried out every 15 minutes.
According to the present embodiment, since there is no time loss from the molding of the molding material 32 to the completion of the film formation of the optical element 52, the lead time can be shortened.
[Sixth Embodiment]
FIG. 7 shows a configuration of an optical element manufacturing apparatus 100 according to the sixth embodiment. In addition, the same code | symbol is attached | subjected and demonstrated to the member which is the same as that of 1st Embodiment, or corresponds.

本実施形態では、成膜機５０で成膜に要する時間をＴ１、成膜機５０の処理室５８の数をＮ１（自然数＝正の整数）とし、成形機１０で成形に要する時間をＴ２、成形機１０の処理室２２の数をＮ２（自然数）とした場合に、
例えば成膜に要する時間Ｔ１が、Ｔ１＝５分、また、成形に要する時間Ｔ２が、Ｔ２＝１５分とする。 In the present embodiment, the time required for film formation by the film forming machine 50 is T1, the number of processing chambers 58 of the film forming machine 50 is N1 (natural number = positive integer), and the time required for forming by the forming machine 10 is T2. When the number of processing chambers 22 of the molding machine 10 is N2 (natural number),
For example, the time T1 required for film formation is T1 = 5 minutes, and the time T2 required for molding is T2 = 15 minutes.

この場合、Ｔ１＜Ｔ２であり、Ｔ２／Ｔ１＝３であるから、Ｔ２／Ｔ１≦Ｎ２を満足するように、Ｎ２＝３とし、また、Ｎ１＝１とする。すなわち、成形工程を細分化して成形機１０の処理室２２の数を３個とし、成膜機５０の処理室５８の数を１個とする。成膜に要する時間Ｔ１に合わせて成形工程を細分化したものである。   In this case, since T1 <T2 and T2 / T1 = 3, N2 = 3 and N1 = 1 so as to satisfy T2 / T1 ≦ N2. That is, the molding process is subdivided so that the number of the processing chambers 22 of the molding machine 10 is three and the number of the processing chambers 58 of the film forming machine 50 is one. The molding process is subdivided according to the time T1 required for film formation.

図７では、成形機１０、連結機４０、及び成膜機５０が、処理の流れ方向（矢印方向）に沿って配置されている。成形機１０は、直列に配置された３個の処理室２２（第１の処理室２２１、第２の処理室２２２、第３の処理室２２３）を有し、成膜機５０は１個の処理室５８を有している。 In FIG. 7, the molding machine 10, the coupling machine 40, and the film forming machine 50 are arranged along the process flow direction (arrow direction). The molding machine 10 includes three processing chambers 22 (a first processing chamber 22 1 , a second processing chamber 22 2 , and a third processing chamber 22 3 ) arranged in series. One processing chamber 58 is provided.

成形機１０の処理室２２１、２２２、２２３には、上流側の搬入室３６（図１参照）から搬送リング３４に保持された成形素材３２が１個ずつ搬入されてくるものとする。搬入された成形素材３２（搬送リング３４を含む）は、各処理室２２１、２２２、２２３において所望の形状に成形されて成形品４２が得られる。 It is assumed that the molding material 32 held by the conveyance ring 34 is carried into the processing chambers 22 1 , 22 2 , and 22 3 of the molding machine 10 one by one from the upstream loading chamber 36 (see FIG. 1). . The carried molding material 32 (including the transport ring 34) is molded into a desired shape in each of the processing chambers 22 1 , 22 2 , and 22 3 to obtain a molded product 42.

本実施形態では、成形機１０での成形工程において、成形に要する時間（Ｔ２＝１５分）を３つの工程（例えば、加熱・押圧工程、形状安定化工程、冷却工程）に分割し、夫々の工程で５分ずつの処理作業を行うこととする。そして、この３つの工程のうち、第１の処理室２２１で加熱・押圧工程を行い、第２の処理室２２２で形状安定化工程を行い、第３の処理室２２３で冷却工程を行うこととする。 In the present embodiment, in the molding process in the molding machine 10, the time required for molding (T2 = 15 minutes) is divided into three processes (for example, a heating / pressing process, a shape stabilization process, and a cooling process). A processing operation is performed every 5 minutes in the process. Then, out of these three steps, subjected to heat-pressing step in the first processing chamber 22 1 performs shape stabilizing step in the second processing chamber 22 2, a third process chamber 22 3 in the cooling step I will do it.

加熱・押圧工程では、第１の処理室２２１に成形素材３２（搬送リング３４を含む）が搬入されると、不図示のエアシリンダにより上型２６が下型２８に接近移動（下降）して、成形素材３２が加熱および押圧成形される。ここで、上型２６と下型２８は、不図示の固定部材により上加熱板１２と下加熱板１４にそれぞれ固定されている。 The heating and pressing step, the first processing chamber 22 1 into the molding material 32 (including the transport ring 34) is carried, the upper die 26 is moved closer to (down) the lower die 28 by the unillustrated air cylinder Thus, the molding material 32 is heated and pressed. Here, the upper mold 26 and the lower mold 28 are respectively fixed to the upper heating plate 12 and the lower heating plate 14 by fixing members (not shown).

成形素材３２が所望の中心肉厚に変形したら上型２６の下降を停止する。この加熱・押圧工程では、５分で成形素材３２が所望形状に成形されて中間成形素材３２１となる。
次いで、所望形状に成形された中間成形素材３２１は、第２の処理室２２２に搬入され、形状安定化工程が施される。この形状安定化工程では、上型２６が中間成形素材３２１を押圧したままの状態で５分間徐冷され、最終成形素材３２２となる。この形状安定化工程により、最終成形素材３２２は内部歪等が取り除かれて安定した組織が形成される。 When the molding material 32 is deformed to a desired center thickness, the lowering of the upper mold 26 is stopped. In this heating and pressing step, the molding material 32 in 5 minutes is molded an intermediate molding material 32 1 in a desired shape.
Then, the intermediate molding material 32 1 is formed into a desired shape, loaded into the second processing chamber 22 2, the shape stabilizing step is performed. This shape stabilizing step, the upper die 26 is gradually cooled for 5 minutes in a state of pressing the intermediate molding material 32 1, the final molding material 32 2. This shape stabilizing step, the final molding material 32 2 stable tissue internal strain or the like is removed is formed.

続いて、この最終成形素材３２２は、第３の処理室２２３に搬入され、ここで冷却工程が行われる。この冷却工程では、例えば上型２６が最終成形素材３２２を押圧したまま（又は上型２６が上昇した状態のまま）、５分間冷却されて最終成形素材３２２が固化され、成形品４２となる。 Subsequently, the final molding material 32 2 is carried into the third process chamber 22 3, wherein the cooling step is performed. In this cooling step, for example, while the upper die 26 presses the final molding material 32 2 (or remain the upper die 26 rises), cooled 5 min final molding material 32 2 is solidified, the molded product 42 Become.

次に、成形機１０の第３の処理室２２３から、連結機４０に向けて成形品４２が搬送される。連結機４０では、搬入された成形品４２を、その５分後に成膜機５０の処理室５８に搬送する。こうして、成膜機５０の処理室５８に搬入された成形品４２は、該処理室５８で５分の成膜工程を終えてコーティング膜が形成され、最終成形品としての光学素子５２として外部に搬出される。 Next, the third process chamber 22 3 of the molding machine 10, the molded article 42 is transported toward the coupling device 40. In the connecting device 40, the carried-in molded product 42 is transferred to the processing chamber 58 of the film forming device 50 after 5 minutes. Thus, the molded product 42 carried into the processing chamber 58 of the film forming machine 50 is subjected to a film forming process for 5 minutes in the processing chamber 58 to form a coating film, and is externally provided as an optical element 52 as a final molded product. It is carried out.

一方、第１の処理室２２１には、１個目の成形素材３２（搬送リング３４を含む）が搬入されてから、その５分後に２個目の成形素材３２が搬入される。この２個目の成形素材３２は、前記と同様の成形工程、成膜工程を経て光学素子５２として外部に搬出される。こうして、成形機１０において連続的な成形作業が繰り返される。 On the other hand, in the first processing chamber 22 1, from 1 -th molding (including transport ring 34) material 32 is conveyed, after 5 minutes to 2 -th molding material 32 is conveyed. The second molding material 32 is carried out as an optical element 52 through the same molding process and film formation process as described above. In this way, a continuous molding operation is repeated in the molding machine 10.

以上により、成形機１０の第１の処理室２２１に搬入された成形素材３２は、３つの処理室２２１、２２２、２２３における押圧工程、形状安定化工程、冷却工程を経て成形品４２が成形され、その成形品４２は５分ごとに連結機４０に搬送されて、成膜機５０から５分ごとに光学素子５２として連続的に外部に搬出される。 By the above, the first processing chamber 22 forming material 32 which is carried on one of the molding machine 10 includes three processing chambers 22 1, 22 2, the pressing step at 22 3, the shape stabilizing step, the molded article through a cooling step 42 is molded, and the molded product 42 is conveyed to the connecting device 40 every 5 minutes, and is continuously carried out as an optical element 52 from the film forming device 50 every 5 minutes.

なお、本実施形態では、上型２６と下型２８は、３つの処理室２２１、２２２、２２３の上加熱板１２と下加熱板１４にそれぞれ固定されており、成形素材３２（搬送リング３４を含む）のみを、３つの処理室２２１、２２２、２２３および連結機４０へと搬送したが、型セットごと、移動するようにしても構わない。この場合、連結機４０に、型セットから成形素材３２（搬送リング３４を含む）を取り出し、かつ、上型２６、下型２８を成形機１０の処理室２２１へ戻す、不図示の型搬送機構を設ける。 In the present embodiment, the upper mold 26 and the lower mold 28 are respectively fixed to the upper heating plate 12 and the lower heating plate 14 of the three processing chambers 22 1 , 22 2 , and 22 3 , and the molding material 32 (conveyance) (Including the ring 34) is transported to the three processing chambers 22 1 , 22 2 , 22 3 and the coupling device 40, but may be moved for each mold set. In this case, the coupling device 40 takes the molding material 32 from the mold sets (including the transport ring 34), and returning the upper die 26, lower die 28 to the processing chamber 22 1 of the molding machine 10, the mold transport (not shown) Provide a mechanism.

また、成形機１０における処理室２２の数を３個としたが、これに限らない。例えば、成形工程を４個以上に細分化してもよい。
本実施形態によれば、成膜に要する時間Ｔ１（５分）よりも成形に要する時間Ｔ２（１５分）が長い場合に、成膜機５０における成膜に要する時間Ｔ１（５分）に合わせて、成形機１０の処理室２２の数を細分化（３つに分割）したことで、成膜機５０から時間Ｔ１（５分）ごとに連続的に光学素子５２を搬出することができる。 Moreover, although the number of the processing chambers 22 in the molding machine 10 is three, it is not limited to this. For example, the molding process may be subdivided into four or more.
According to the present embodiment, when the time T2 (15 minutes) required for forming is longer than the time T1 (5 minutes) required for film formation, the time T1 (5 minutes) required for film formation in the film forming apparatus 50 is adjusted. Thus, by dividing the number of the processing chambers 22 of the molding machine 10 into three (divided into three), the optical element 52 can be continuously carried out from the film forming machine 50 every time T1 (5 minutes).

これに対し、従来装置では、例えば成形機１０の成形工程に１５分を要する場合は、１５分に１個ずつしか光学素子５２を搬出することができなかった。
本実施形態によれば、成形機１０の処理室22を複数に細分化して直列に配置したので、例えば成形工程を複数工程に分割して作業することが可能な場合等に、時間的ロスのない工程設定を実現することができる。 On the other hand, in the conventional apparatus, for example, when the molding process of the molding machine 10 requires 15 minutes, only one optical element 52 can be carried out every 15 minutes.
According to this embodiment, since the processing chamber 22 of the molding machine 10 is divided into a plurality of parts and arranged in series, for example, when it is possible to work by dividing the molding process into a plurality of processes, the time loss is reduced. No process settings can be realized.

光学素子の製造装置の基本構成を示す図である。It is a figure which shows the basic composition of the manufacturing apparatus of an optical element. 第１の実施形態の製造装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the manufacturing apparatus of 1st Embodiment. 第２の実施形態の製造装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the manufacturing apparatus of 2nd Embodiment. 第３の実施形態の製造装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the manufacturing apparatus of 3rd Embodiment. 第４の実施形態の製造装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the manufacturing apparatus of 4th Embodiment. 第５の実施形態の製造装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the manufacturing apparatus of 5th Embodiment. 第６の実施形態の製造装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the manufacturing apparatus of 6th Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

１００ 光学素子の製造装置
１０ 成形機
１２ 上加熱板
１４ 下加熱板
１６ 型セット
１８ カートリッジヒータ
２０ カートリッジヒータ
２２ 処理室
２６ 上型
２６ａ 成形面
２８ 下型
２８ａ 成形面
３２ 成形素材
３４ 搬送リング
３６ 搬入室
３８ シャッタ
４０ 連結機
４２ 成形品
４２１ 成形品
４２２ 成形品
４２３ 成形品
４４ シャッタ
４６ シャッタ
５０ 成膜機
５１ 原料
５２ 光学素子
５３ コーティング膜
５４ 加熱部
５６ 試料保持部材
５８ 処理室
５８１ 処理室
５８２ 処理室
５８３ 処理室
５８４ 処理室
５９ シャッタ
６０ 搬出室
６２ オートハンド DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Optical element manufacturing apparatus 10 Molding machine 12 Upper heating plate 14 Lower heating plate 16 Mold set 18 Cartridge heater 20 Cartridge heater 22 Processing chamber 26 Upper mold 26a Molding surface 28 Lower mold 28a Molding surface 32 Molding material 34 Carrying ring 36 Carrying-in chamber 38 Shutter 40 Connecting machine 42 Molded product 42 1 Molded product 42 2 Molded product 42 3 Molded product 44 Shutter 46 Shutter 50 Film forming machine 51 Raw material 52 Optical element 53 Coating film 54 Heating part 56 Sample holding member 58 Processing chamber 58 1 Processing chamber 58 2 Processing chamber 58 3 Processing chamber 58 4 Processing chamber 59 Shutter 60 Unloading chamber 62 Auto hand

Claims (4)

処理室を有し成形素材を成形する成形機と、処理室を有し前記成形機にて成形された成形品に薄膜を形成する成膜機と、を備えた光学素子の製造装置において、
前記成膜機で成膜に要する時間をＴ１、該成膜機の処理室の数をＮ１（自然数）とし、
前記成形機で成形に要する時間をＴ２、該成形機の処理室の数をＮ２（自然数）とした場合に、
Ｔ１＞Ｔ２のときは
Ｔ１／Ｔ２≦Ｎ１，Ｎ２＝１
であり、
Ｔ１＜Ｔ２のときは
Ｔ２／Ｔ１≦Ｎ２，Ｎ１＝１
である
ことを特徴とする光学素子の製造装置。 In an optical element manufacturing apparatus comprising a molding machine that has a processing chamber and molds a molding material, and a film forming machine that has a processing chamber and forms a thin film on a molded product molded by the molding machine,
The time required for film formation by the film forming machine is T1, the number of processing chambers of the film forming machine is N1 (natural number),
When the time required for molding by the molding machine is T2, and the number of processing chambers of the molding machine is N2 (natural number),
When T1> T2, T1 / T2 ≦ N1, N2 = 1
And
When T1 <T2, T2 / T1 ≦ N2, N1 = 1
An optical element manufacturing apparatus. Ｔ１＞Ｔ２のときは
前記成膜機の処理室は直列に配置され、
Ｔ１＜Ｔ２のときは
前記成形機の処理室は直列に配置されている
ことを特徴とする請求項１に記載の光学素子の製造装置。 When T1> T2, the deposition chambers are arranged in series,
The apparatus for manufacturing an optical element according to claim 1, wherein when T1 <T2, the processing chambers of the molding machine are arranged in series. Ｔ１＞Ｔ２のときは
前記成膜機の処理室は並列に配置され、
Ｔ１＜Ｔ２のときは
前記成形機の処理室は並列に配置されている
ことを特徴とする請求項１に記載の光学素子の製造装置。 When T1> T2, the processing chambers of the film forming apparatus are arranged in parallel,
The apparatus for manufacturing an optical element according to claim 1, wherein when T1 <T2, the processing chambers of the molding machine are arranged in parallel. 成形素材又は成形品を保持した状態で前記成形機から連結機を介して前記成膜機に搬送する搬送リングをさらに具備する
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学素子の製造装置。 The optical element according to any one of claims 1 to 3, further comprising a transport ring that transports the molding material or the molded product from the molding machine to the film forming machine via a coupling machine in a state where the molding material or the molded product is held. Manufacturing equipment.
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