JP2009109314A - Semiconductor device and its inspecting method - Google Patents

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Masahito Osawa
雅人 大澤
Tatsuya Takei
達也 武井
Kiminari Tamiya
公成 田宮
Hitoshi Tsuchiya
仁司 土屋
Mitsutomo Kariya
三友 刈屋
Tetsuhisa Kikuchi
哲央 菊地
Koichi Nakada
康一 中田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which enables to inspect a temperature detecting circuit formed on a semiconductor integrated circuit without additionally installing temperature control devices such as a remote temperature sensor and the like, and also to provide its inspecting method. <P>SOLUTION: A semiconductor unit 100 is provided with: a temperature detecting circuit 110 which comprises a first current source 111 outputting the first current which changes according to temperature change, a second current source 112 enabling to control the output current with a reference signal VREF and outputting the second current which is substantially constant with respect to temperature, and a current-voltage converting circuit 113 which inputs the difference between the first current and the second current as a third current and outputs as the temperature signal VTMP after converting to voltage; and a signal processing circuit 120, formed on the same chip of the temperature detecting circuit 110, whose heating value changes with a setting signal VSET. A determining means determines whether the semiconductor unit 100 is suitable for use by comparing the temperature signal VTMP outputted from the temperature detecting circuit 110, when the setting signal VSET and the reference signal VREF are applied, with the inspection reference value VTEST. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体装置および半導体装置の検査方法に関し、詳しくは、半導体基板上に構成される温度検出回路を検査する機能を有する半導体装置および半導体装置の検査方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor device and a semiconductor device inspection method, and more particularly, to a semiconductor device having a function of inspecting a temperature detection circuit formed on a semiconductor substrate and a semiconductor device inspection method.

半導体集積回路上に温度検出回路を形成し、この温度検出回路の出力に基づいて環境温度を測定する半導体装置が知られている。このような半導体装置内の温度検出回路が適正に動作するかを検査する必要があり、このための特許文献1に開示されるような半導体検査装置が知られている。
特開2003−4799号公報
2. Description of the Related Art A semiconductor device is known in which a temperature detection circuit is formed on a semiconductor integrated circuit, and an environmental temperature is measured based on the output of the temperature detection circuit. It is necessary to inspect whether the temperature detection circuit in such a semiconductor device operates properly, and a semiconductor inspection device as disclosed in Patent Document 1 for this purpose is known.
JP 2003-4799 A

特許文献1に開示された半導体検査装置は、図8に示すように、検査対象の半導体素子10を載置台11に載せ、温度コントローラ31によって熱流通手段14を制御することにより、載置台11の温度を変化させる。この状態でリモート温度センサ30は非接触で載置台11の温度を測定し、半導体素子10の温度が所定温度となるように熱流通手段14の発熱体と吸熱体を制御する。したがって、リモート温度センサ30は載置台11から離れた位置より半導体素子10の温度を非接触で測定することができ、このため載置台11に測温素子を埋め込む必要がなくなり、信号線が引き回されてノイズの影響受け、また信号線が断線することがなくなる。   As shown in FIG. 8, the semiconductor inspection apparatus disclosed in Patent Document 1 places the semiconductor element 10 to be inspected on the mounting table 11, and controls the heat flow means 14 by the temperature controller 31. Change the temperature. In this state, the remote temperature sensor 30 measures the temperature of the mounting table 11 in a non-contact manner, and controls the heat generator and the heat absorber of the heat distribution means 14 so that the temperature of the semiconductor element 10 becomes a predetermined temperature. Therefore, the remote temperature sensor 30 can measure the temperature of the semiconductor element 10 from a position away from the mounting table 11 in a non-contact manner, so that it is not necessary to embed the temperature measuring element in the mounting table 11 and the signal line is routed. As a result, it is not affected by noise and the signal line is not disconnected.

このような従来の半導体検査装置は、半導体素子を所望の温度に加熱し、また吸熱した状態で検査するために、熱流通手段、温度コントローラおよびリモート温度センサ等の温度制御装置を設ける必要がある。このため半導体集積回路上に形成された温度測定回路の測定にあたって、コストが上昇してしまうという課題があった。   In such a conventional semiconductor inspection device, it is necessary to provide a temperature control device such as a heat distribution means, a temperature controller, and a remote temperature sensor in order to heat the semiconductor element to a desired temperature and inspect the semiconductor element while absorbing heat. . For this reason, in the measurement of the temperature measurement circuit formed on the semiconductor integrated circuit, there is a problem that the cost increases.

本願発明は、このような事情を鑑みてなされたものであり、熱流通手段、温度コントローラおよびリモート温度センサ等の温度制御装置を追加設置することなく半導体集積回路上に形成された温度検出回路の検査を行うことが可能な半導体装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and a temperature detection circuit formed on a semiconductor integrated circuit without additionally installing a temperature control device such as a heat distribution means, a temperature controller, and a remote temperature sensor. An object of the present invention is to provide a semiconductor device that can be inspected.

上記目的を達成するため第1の発明に係わる半導体装置は、温度変化に応じて出力が変化する電流を第1電流として出力する第1電流源、および外部から入力される基準信号により出力電流が制御可能かつ温度に対して略一定の電流を第2電流として出力する第2電流源、および前記第1電流と前記第2電流との差を第3電流として入力し前記第3電流を電圧に変換して温度信号として出力する電流電圧変換回路より構成される温度検出回路と、前記温度検出回路と同一チップ上に形成され、外部から入力される設定信号により発熱量が変化する信号処理回路とを同一チップ上に具備する半導体ユニットと、前記設定信号および前記基準信号を出力する制御信号生成手段と、前記半導体ユニットの検査基準値を保持する検査基準値保持手段と、前記設定信号および前記基準信号に応じた前記温度信号を前記検査基準値と比較し、前記半導体ユニットの適否を判定する判定手段を具備する。   In order to achieve the above object, the semiconductor device according to the first aspect of the invention has a first current source that outputs, as a first current, a current that changes in response to a temperature change, and an output current that is generated by a reference signal input from the outside. A second current source that outputs a controllable and substantially constant current as a second current, and a difference between the first current and the second current is input as a third current, and the third current is converted into a voltage. A temperature detection circuit configured by a current-voltage conversion circuit that converts and outputs as a temperature signal; and a signal processing circuit that is formed on the same chip as the temperature detection circuit and whose heat generation amount is changed by a setting signal input from the outside; On the same chip, control signal generation means for outputting the setting signal and the reference signal, and inspection reference value holding means for holding the inspection reference value of the semiconductor unit; It said temperature signal corresponding to the setting signal and the reference signal is compared with the inspection standard value, comprising a determining means for determining suitability of the semiconductor unit.

第2の発明に係わる半導体装置は、上記第1の発明において、前記信号処理回路は、外部より入力される前記設定信号に応じて消費電流が変化するアナログ回路より構成される。   According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the first aspect, the signal processing circuit includes an analog circuit whose current consumption changes according to the setting signal input from the outside.

また、第3の発明に係わる半導体装置は、上記第1の発明において、前記信号処理回路は、外部より入力される前記設定信号に応じて動作周波数が変更可能なデジタル回路より構成される。   According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the first aspect, the signal processing circuit comprises a digital circuit whose operating frequency can be changed according to the setting signal input from the outside.

さらに、第4の発明に係わる半導体装置は、上記第1の発明において、
前記第1電流源は、各々の第1端子が第1の電圧を出力する第1電圧源に接続され、pn接合の面積が1:N(Nは任意の正の値)である第1のダイオードおよび第2のダイオードと、一端が前記第2のダイオードの第2端子に接続された第1の抵抗器と、第1端子が前記第1のダイオードの第2端子に接続された第1導電型の第1のトランジスタと、第1端子が前記第1の抵抗器の他端に接続され、制御端子が第2端子および前記第1のトランジスタの制御端子に接続された第1導電型の第2のトランジスタと、第1端子が第2の電圧を出力する第2電源に接続され、第2端子が制御端子と、前記第1導電型の第1のトランジスタの第2端子に接続された第2導電型の第3のトランジスタと、第1端子が前記第2電源に接続され、制御端子が前記第2導電型の第3のトランジスタの制御端子に共通に接続され、第2の端子が前記第2のトランジスタの第2端子に接続された第2導電型の第4のトランジスタと、第1端子が前記第2電圧源に接続され、制御端子が前記第3および第4のトランジスタの制御端子に共通に接続され、第2端子が前記第1電流の出力端子となる第2導電型の第5のトランジスタとから構成され、
前記第2電流源は、非反転入力端子が前記基準信号の入力端子に接続された第1の演算増幅器と、一端が前記第1の演算増幅器の反転入力端子に接続され、他端が前記第2電圧源に接続された第2の抵抗と、制御端子が前記第1の演算増幅器の出力端子に接続され、第1端子が前記第1の演算増幅器の反転入力端子に接続された第6の第2導電型トランジスタと、入力端子が前記第6の第2導電型トランジスタの第2端子に接続され、出力端子が前記第2電流の出力端子となるカレントミラー回路とで構成され、
前記電流電圧変換回路は非反転入力端子が前記基準信号の入力端子に接続され、反転入力端子が前記第1電流の出力端子および前記第2電流の出力端子に接続され、出力端子が前記温度信号の出力端子となる第2の演算増幅器と、一端が前記第2の演算増幅器の反転入力端子に接続され、他端が前記第2の演算増幅器の出力端子に接続された第3の抵抗器とで構成される。
Furthermore, a semiconductor device according to a fourth invention is the above first invention,
The first current source is connected to a first voltage source in which each first terminal outputs a first voltage, and an area of a pn junction is 1: N (N is an arbitrary positive value). A first resistor having one end connected to the second terminal of the second diode, and a first conductive terminal having a first terminal connected to the second terminal of the first diode; A first transistor of the first type, a first terminal connected to the other end of the first resistor, and a control terminal connected to a second terminal and a control terminal of the first transistor. And a second terminal connected to a control terminal and a second terminal of the first-conductivity-type first transistor. The second transistor is connected to a second power source that outputs a second voltage. A third transistor of two conductivity type, a first terminal connected to the second power source, and a control terminal; A fourth transistor of the second conductivity type commonly connected to a control terminal of the second transistor of the second conductivity type, and a second terminal of which the second terminal is connected to the second terminal of the second transistor; A second conductive type second terminal having a terminal connected to the second voltage source, a control terminal commonly connected to the control terminals of the third and fourth transistors, and a second terminal serving as an output terminal of the first current; 5 transistors,
The second current source includes a first operational amplifier having a non-inverting input terminal connected to the reference signal input terminal, one end connected to the inverting input terminal of the first operational amplifier, and the other end connected to the first operational amplifier. A second resistor connected to the two voltage sources, a control terminal connected to the output terminal of the first operational amplifier, and a first terminal connected to the inverting input terminal of the first operational amplifier. A second conductivity type transistor; and a current mirror circuit having an input terminal connected to the second terminal of the sixth second conductivity type transistor and an output terminal serving as an output terminal of the second current,
The current-voltage conversion circuit has a non-inverting input terminal connected to the reference signal input terminal, an inverting input terminal connected to the first current output terminal and the second current output terminal, and an output terminal connected to the temperature signal. A second operational amplifier serving as an output terminal of the second operational amplifier, a third resistor having one end connected to the inverting input terminal of the second operational amplifier and the other end connected to the output terminal of the second operational amplifier; Consists of.

第5の発明に係わる半導体装置の検査方法は、温度検出回路と同一基板上に設けられた信号処理回路に消費電力を設定するための第1の設定信号を設定し、このときの温度検出回路から第1の温度信号を保持し、前記信号処理回路に消費電力を設定するための第2の設定信号を設定し、このときの温度検出回路から第2の温度信号を保持し、前記第1の温度信号と前記第2の温度信号の差分値を求め、この差分値が検査基準値の許容範囲内にあるか否かを判定する。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device inspection method in which a first setting signal for setting power consumption is set in a signal processing circuit provided on the same substrate as the temperature detection circuit, and the temperature detection circuit at this time The first temperature signal is held, a second setting signal for setting power consumption is set in the signal processing circuit, the second temperature signal is held from the temperature detection circuit at this time, and the first temperature signal is set. A difference value between the second temperature signal and the second temperature signal is obtained, and it is determined whether or not the difference value is within an allowable range of the inspection reference value.

第6の発明に係わる半導体装置の検査方法は、温度検出回路内に設けられ、基準信号により出力電流が制御可能であり、かつ温度に対して略一定の電流を出力する電流源に対して、第1の基準信号を設定し、このときの温度検出回路の第1の温度信号を保持し、前記電流源に対して、第2の基準信号を設定し、このときの温度検出回路の第2の温度信号を保持し、前記第1の温度信号と前記第2の温度信号の差分値を求め、この差分値が検査基準値の許容範囲内にあるか否かを判定する。   According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method for inspecting a semiconductor device, comprising: a temperature detection circuit, wherein an output current can be controlled by a reference signal; and a current source that outputs a substantially constant current with respect to temperature. A first reference signal is set, a first temperature signal of the temperature detection circuit at this time is held, a second reference signal is set for the current source, and a second reference signal of the temperature detection circuit at this time is set And a difference value between the first temperature signal and the second temperature signal is obtained, and it is determined whether or not the difference value is within an allowable range of the inspection reference value.

第7の発明に係わる半導体ユニットは、温度変化に応じて出力が変化する電流を第1電流として出力する第1電流源、外部から入力される基準信号により出力電流が制御可能かつ温度に対して略一定の電流を第2電流として出力する第2電流源、および前記第1電流と前記第2電流との差を第3電流として入力し前記第3電流を電圧に変換して温度信号として出力する電流電圧変換回路から構成される温度検出回路と、前記温度検出回路と同一チップ上に形成され、外部から入力される設定信号により発熱量が変化する信号処理回路とを具備する。   According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a semiconductor unit including a first current source that outputs, as a first current, a current whose output changes according to a temperature change, an output current that can be controlled by a reference signal input from the outside, A second current source that outputs a substantially constant current as a second current, and a difference between the first current and the second current is input as a third current, and the third current is converted into a voltage and output as a temperature signal And a signal processing circuit which is formed on the same chip as the temperature detection circuit and whose heat generation amount is changed by a setting signal input from the outside.

第8の発明に係わる半導体検査装置は、温度変化に応じて出力が変化する第1電流を出力する第1電流源、基準信号により出力電流が制御可能かつ温度に対して略一定の第2電流を出力する第2電流源、および前記第1電流と前記第2電流との差を第3電流として入力し電圧に変換して温度信号として出力する電流電圧変換回路より構成される温度検出回路と、設定信号により発熱量が変化する信号処理回路とを具備する半導体ユニットの半導体検査装置であって、前記設定信号および前記基準信号を出力する制御信号生成手段と、前記半導体ユニットの検査基準値を保持する検査基準値保持手段と、前記設定信号および前記基準信号に応じた前記温度信号を前記検査基準値と比較し、前記半導体ユニットの適否を判定する判定手段を具備する。   According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor inspection apparatus including a first current source that outputs a first current whose output changes according to a temperature change, and a second current that can be controlled by a reference signal and is substantially constant with respect to temperature. A temperature detection circuit configured by a second current source that outputs a difference between the first current and the second current as a third current that is converted into a voltage and output as a temperature signal A semiconductor inspection apparatus for a semiconductor unit comprising a signal processing circuit whose calorific value changes according to a setting signal, the control signal generating means for outputting the setting signal and the reference signal, and an inspection reference value for the semiconductor unit. An inspection reference value holding means for holding; and a determination means for comparing the setting signal and the temperature signal corresponding to the reference signal with the inspection reference value to determine suitability of the semiconductor unit. .

第1の発明によれば、設定信号の変化に応じて変化する温度信号、および基準信号の変化に応じて変化する温度信号の測定結果を検査基準値と比較することにより、半導体ユニット上に形成された温度検出回路の適否判定を行うことができる。このような半導体装置は、温度検出回路の検査のために温度制御装置を必要としないため、オンチップ温度検出回路の検査にかかるコストを低下させることができる。   According to the first aspect of the present invention, the temperature signal that changes in accordance with the change in the setting signal and the measurement result of the temperature signal that changes in accordance with the change in the reference signal are compared with the inspection reference value to form on the semiconductor unit. It is possible to determine the suitability of the temperature detection circuit. Since such a semiconductor device does not require a temperature control device for the inspection of the temperature detection circuit, the cost for the inspection of the on-chip temperature detection circuit can be reduced.

第2および第3の発明によれば、外部より入力される設定信号により発熱量を制御可能な信号処理回路を半導体ユニット上に実現できる。したがって、熱流通手段や温度コントローラを用いずに温度検出回路の検査に必要な温度条件を作り出せる半導体装置を提供することができる。   According to the second and third aspects of the invention, a signal processing circuit capable of controlling the amount of heat generated by a setting signal input from the outside can be realized on the semiconductor unit. Therefore, it is possible to provide a semiconductor device capable of creating a temperature condition necessary for the inspection of the temperature detection circuit without using a heat distribution means or a temperature controller.

第4の発明によれば、基準信号の変化に対応して出力される温度信号の変化と、設定信号により制御される半導体装置の温度変化に対応して出力される温度信号の変化の両方を検出できる温度検出回路を提供することができる。   According to the fourth invention, both the change of the temperature signal output corresponding to the change of the reference signal and the change of the temperature signal output corresponding to the temperature change of the semiconductor device controlled by the setting signal are performed. A temperature detection circuit capable of detection can be provided.

第5の発明によれば、設定信号により発熱量を制御可能な信号処理回路を有する場合に、少なくとも2点における設定信号の変化に対応する温度信号の差分値に基づいて半導体装置の検査を行っている。このため少なくとも2点での発熱量の変化範囲において温度検出回路が適正に動作するかを判定することができる。   According to the fifth invention, when the signal processing circuit capable of controlling the heat generation amount by the setting signal is provided, the semiconductor device is inspected based on the difference value of the temperature signal corresponding to the change of the setting signal at at least two points. ing. For this reason, it is possible to determine whether the temperature detection circuit operates properly in the change range of the calorific value at least at two points.

第6の発明によれば、基準信号により出力電流が制御可能であり、かつ温度に対して略一定の電流を出力する電流源を有する場合に、少なくとも2点における基準信号の変化に対応する温度信号の差分値に基づいて半導体装置の検査を行っている。このため少なくとも2点での電流の変化範囲において温度検出回路が適正に動作するかを判定することができる。   According to the sixth invention, when the output current can be controlled by the reference signal and the current source outputs a substantially constant current with respect to the temperature, the temperature corresponding to the change of the reference signal at at least two points. The semiconductor device is inspected based on the difference value of the signal. For this reason, it is possible to determine whether the temperature detection circuit operates properly in the current change range at at least two points.

第7の発明によれば、基準信号や設定信号を変化させることにより温度信号検出回路の適否を容易に検査でき、温度検出回路の検査のために温度制御装置等を必要としない半導体ユニットを提供することができる。   According to the seventh aspect of the invention, there is provided a semiconductor unit that can easily inspect the suitability of the temperature signal detection circuit by changing the reference signal and the setting signal, and does not require a temperature control device or the like for the inspection of the temperature detection circuit. can do.

第8の発明によれば、基準信号や設定信号を変化させ、その際、判定手段は温度検出回路からの温度信号に基づいて適否を判定していることから、検査のために温度制御装置等を必要としない半導体検査装置を提供することができる。   According to the eighth invention, the reference signal and the setting signal are changed, and at that time, the determination means determines the suitability based on the temperature signal from the temperature detection circuit. It is possible to provide a semiconductor inspection apparatus that does not require the above.

(第1実施形態)
以下、図面に従って本発明を適用した半導体装置を用いて好ましい実施形態について説明する。図1は、第1実施形態に係わる半導体装置1000のブロック図である。半導体装置1000は、半導体ユニット100、制御信号生成手段200、判定手段300および検査基準値保持手段400とから構成される。
(First embodiment)
A preferred embodiment will be described below using a semiconductor device to which the present invention is applied according to the drawings. FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor device 1000 according to the first embodiment. The semiconductor device 1000 includes a semiconductor unit 100, a control signal generation unit 200, a determination unit 300, and an inspection reference value holding unit 400.

半導体ユニット100には、温度検出回路110および信号処理回路120が同一チップ上に形成され、ユニット化されている。温度検出回路110は、第1電流源111、第2電流源112、電流電圧変換回路113および差分器114から構成される。第1電流源111は、温度変化に応じて出力が変化する第1電流IPTATを出力する。第2電流源112は、外部から入力する基準信号VREFに依存し、かつ温度に対して略一定の第2電流ICONSTを出力する。   In the semiconductor unit 100, a temperature detection circuit 110 and a signal processing circuit 120 are formed on the same chip and unitized. The temperature detection circuit 110 includes a first current source 111, a second current source 112, a current-voltage conversion circuit 113, and a differentiator 114. The first current source 111 outputs a first current IPTAT whose output changes according to a temperature change. The second current source 112 outputs a second current ICONST that depends on a reference signal VREF input from the outside and is substantially constant with respect to temperature.

差分器114は、第1電流IPTATと第2電流ICONSTの差を第3電流として出力する。なお、差分器114は、単に第2電流から第1電流を引き抜くように回路接続すればよく、特段の回路素子をもたなくてもよい。電流電圧変換回路113は、第3電流を入力し、この第3電流を電圧に変換し、温度信号VTMPとして出力する。   The differentiator 114 outputs the difference between the first current IPTAT and the second current ICONST as a third current. The subtractor 114 may be simply connected in a circuit so as to draw the first current from the second current, and may not have a special circuit element. The current-voltage conversion circuit 113 receives the third current, converts the third current into a voltage, and outputs it as a temperature signal VTMP.

信号処理回路120は、温度検出回路110と同一チップ上に形成されており、外部から設定される設定信号VSETにより発熱量が変化する。この信号処理回路120は、発熱させるために特別に設けられた回路ではなく、半導体ユニット100が、本来、果たすべき信号処理やアクチュエータの駆動等を実行するための回路である。   The signal processing circuit 120 is formed on the same chip as the temperature detection circuit 110, and the amount of heat generated is changed by a setting signal VSET set from the outside. The signal processing circuit 120 is not a circuit specially provided for generating heat, but is a circuit for the semiconductor unit 100 to perform signal processing, actuator driving, and the like that should be originally performed.

制御信号生成手段200は、半導体ユニット100の温度検出回路110が適正に動作するかを検査するために、設定信号VSETおよび基準信号VREFを出力する。検査基準値保持手段400は、半導体ユニット100の検査基準値VTESTを保持する。判定手段300は、温度信号VTEMPと検査基準値VTESTの値を比較し、半導体ユニット100内の温度検出回路110の適否を判定する。   The control signal generation means 200 outputs a setting signal VSET and a reference signal VREF in order to check whether the temperature detection circuit 110 of the semiconductor unit 100 operates properly. The inspection reference value holding unit 400 holds the inspection reference value VTEST of the semiconductor unit 100. The determination unit 300 compares the temperature signal VTEMP and the inspection reference value VTEST to determine whether the temperature detection circuit 110 in the semiconductor unit 100 is appropriate.

この半導体装置1000は、制御信号生成手段200、判定手段300および検査基準値保持手段400からなる検査装置に、半導体ユニット100を装着し、半導体ユニット100内の温度検出回路110の適否の検査を行う。なお、検査装置内のいずれか少なくとも1つの手段は、CPU(Central Processing Unit)を有し、後述するフローチャートに沿って各手段の制御を行うことにより、半導体装置1000における温度検出回路の検査を行う。   In the semiconductor device 1000, the semiconductor unit 100 is mounted on an inspection apparatus including the control signal generation unit 200, the determination unit 300, and the inspection reference value holding unit 400, and the suitability of the temperature detection circuit 110 in the semiconductor unit 100 is inspected. . Note that at least one means in the inspection apparatus has a CPU (Central Processing Unit), and controls each means according to a flowchart to be described later, thereby inspecting the temperature detection circuit in the semiconductor device 1000. .

次に、このように構成された半導体装置1000の動作原理について、図2および図3を用いて説明する。最初に半導体ユニット100に入力される設定信号VSETおよび基準信号VREFに対応して出力される温度信号VTEMPとの関係について説明する。   Next, the operating principle of the semiconductor device 1000 configured as described above will be described with reference to FIGS. First, the relationship between the setting signal VSET input to the semiconductor unit 100 and the temperature signal VTEMP output corresponding to the reference signal VREF will be described.

電流電圧変換回路113の電流・電圧変換係数をGとすると、温度信号VTEMPは、差分器114によって第2電流源112から出力される第2電流IPTATと第1電流源111から出力される第1電流ICONSTの差分が、電流電圧変換回路113によって電圧に変換された電圧であることから、次の式1で表される。
VTMP = G(IPTAT(T)−ICONST(VREF)) ・・・(式1)
ここで、式1中のTは、半導体ユニット100の絶対温度を示す。
When the current / voltage conversion coefficient of the current-voltage conversion circuit 113 is G, the temperature signal VTEMP is output from the second current source 112 by the differentiator 114 from the second current source 112 and the first current source 111 output from the first current source 111. Since the difference of the current ICONST is a voltage converted into a voltage by the current-voltage conversion circuit 113, it is expressed by the following formula 1.
VTMP = G (IPTAT (T) -ICONST (VREF)) (Formula 1)
Here, T in Formula 1 indicates the absolute temperature of the semiconductor unit 100.

次に、基準信号VREFが一定の条件で設定信号VSETを変化させた場合に測定される温度信号VTMPの変化について説明する。信号処理回路120の発熱量は、設定信号VSETに応じて変化するから、半導体ユニット100の絶対温度Tは設定信号VSETの関数で表される。即ち、
T = T(VSET) ・・・(式2)
が成立する。これから、式1は式2を用いて、次のように表すことができる。
VTMP = G{IPTAT(T(VSET))−ICONST(VREF)}
= G(IPTAT(VSET)−ICONST(VREF)) ・・・(式3)
Next, a change in the temperature signal VTMP measured when the setting signal VSET is changed under the condition that the reference signal VREF is constant will be described. Since the heat generation amount of the signal processing circuit 120 changes according to the setting signal VSET, the absolute temperature T of the semiconductor unit 100 is expressed as a function of the setting signal VSET. That is,
T = T (VSET) (Formula 2)
Is established. From this, Equation 1 can be expressed as follows using Equation 2.
VTMP = G {IPTAT (T (VSET))-ICONST (VREF)}
= G (IPTAT (VSET) -ICONST (VREF)) (Equation 3)

したがって、第1の設定信号VSET_normに応じて出力される第1の温度信号VTMP_norm1、および第2の設定信号VSET_testに応じて出力される第2の温度信号VTMP_test1は、式3を用いて、それぞれ以下の式で表される。
VTMP_norm1=G(IPTAT(VSET_norm)−ICONST(VREF)) ・・・(式4)
VTMP_test1=G(IPTAT(VSET_test)−ICONST(VREF)) ・・・(式5)
Therefore, the first temperature signal VTMP_norm1 output in response to the first setting signal VSET_norm and the second temperature signal VTMP_test1 output in response to the second setting signal VSET_test are respectively expressed as It is expressed by the following formula.
VTMP_norm1 = G (IPTAT (VSET_norm) −ICONST (VREF)) (Formula 4)
VTMP_test1 = G (IPTAT (VSET_test) −ICONST (VREF)) (Formula 5)

半導体ユニット100の絶対温度Tが設定信号VSETに一次比例して上昇する場合、設定温度VSETと温度信号VTMPの関係は図2の様に表される。ここで、単純化のために、絶対温度Tは、設定温度VSETに一次比例する場合のみを図示したが、式2に示す通り、半導体ユニット100の絶対温度Tと設定信号VSETの間には、任意の単調関数で表される対応関係が成立していればよい。   When the absolute temperature T of the semiconductor unit 100 rises linearly in proportion to the setting signal VSET, the relationship between the setting temperature VSET and the temperature signal VTMP is expressed as shown in FIG. Here, for simplification, only the case where the absolute temperature T is linearly proportional to the set temperature VSET is illustrated, but as shown in Equation 2, between the absolute temperature T of the semiconductor unit 100 and the set signal VSET, It suffices if the correspondence represented by an arbitrary monotone function is established.

ただし、第1の設定信号VSET_normと第2の設定信号VSET_testは、VSET_norm≠VSET_testである限り、検査対象の半導体ユニット100の動作定格内であれば、任意の値をとることができる。したがって、式4と式5の差は、
VTMP_norm1−VTMP_test1=G(IPTAT(VSET_norm)−IPTAT(VSET_test))
・・・(式6)
と表される。
However, the first setting signal VSET_norm and the second setting signal VSET_test can take arbitrary values as long as VSET_norm ≠ VSET_test is within the operation rating of the semiconductor unit 100 to be inspected. Therefore, the difference between Equation 4 and Equation 5 is
VTMP_norm1−VTMP_test1 = G (IPTAT (VSET_norm) −IPTAT (VSET_test))
... (Formula 6)
It is expressed.

即ち、判定手段300は、第1の設定信号VSET_normに対応して出力される第1の温度信号VTMP_norm1と第2の設定信号VSET_testに対応して出力される第2の温度信号VTMP_test1を測定し、それらの差分が検査基準値保持手段400から読み出された第1の検査基準値VTEST=VTEST1±ΔVTEST1の範囲内であるか否かを判定することにより、温度検出回路110内の第1電流源111および電流電圧変換回路113が正常に動作しているか否かを判定することができる。   That is, the determination unit 300 measures the first temperature signal VTMP_norm1 output corresponding to the first setting signal VSET_norm and the second temperature signal VTMP_test1 output corresponding to the second setting signal VSET_test, The first current source in the temperature detection circuit 110 is determined by determining whether or not the difference is within the range of the first inspection reference value VTEST = VTEST1 ± ΔVTEST1 read from the inspection reference value holding means 400. Whether or not 111 and the current-voltage conversion circuit 113 are operating normally can be determined.

なお、ここで、VTEST1は半導体ユニット100が良品である際に期待される、VTMP_norm1−VTMP_test1の標準的な値である。また、ΔVTEST1は検査した半導体ユニット100を良品サンプルとして判定するための許容範囲である。   Here, VTEST1 is a standard value of VTMP_norm1-VTMP_test1 expected when the semiconductor unit 100 is a non-defective product. ΔVTEST1 is an allowable range for determining the inspected semiconductor unit 100 as a non-defective sample.

次に、設定信号VSETが一定、即ち半導体ユニット100の絶対温度Tを一定とし、この状態で基準信号VREFを変化させた場合に測定される温度信号VTMPの変化について説明する。   Next, changes in the temperature signal VTMP measured when the setting signal VSET is constant, that is, when the absolute temperature T of the semiconductor unit 100 is constant and the reference signal VREF is changed in this state will be described.

まず、第1の基準信号VREF=VREF_normに応じて出力される第3の温度信号VTMP=VTMP_norm2、および第2の基準信号VREF=VREF_testに対応して出力される第4の温度信号VTMP_test2は、それぞれ式1を用いて、以下の式で表される。
VTMP_norm2=G(IPTAT(T)−ICONST(VREF_norm)) ・・・(式7)
VTMP_test2=G(IPTAT(T)−ICONST(VREF_test)) ・・・(式8)
First, the third temperature signal VTMP = VTMP_norm2 output in response to the first reference signal VREF = VREF_norm and the fourth temperature signal VTMP_test2 output corresponding to the second reference signal VREF = VREF_test are respectively Using Equation 1, it is represented by the following equation.
VTMP_norm2 = G (IPTAT (T) -ICONST (VREF_norm)) (Formula 7)
VTMP_test2 = G (IPTAT (T) -ICONST (VREF_test)) (Expression 8)

また、第2電流ICONST が基準信号VREFの一次関数で表される場合、基準信号VREFと温度信号VTMPの関係は、図3のように表される。ただし、第1の基準信号VREF_normと第2の基準信号VREF_testは、VREF_norm≠VREF_testである限り、検査対象の半導体ユニット100の動作定格内であれば、任意の値をとることができる。また、基準信号VREFはアナログ信号であってもよいし、またアナログ信号に対応したデジタル信号であってもよい。   Further, when the second current ICONST is expressed by a linear function of the reference signal VREF, the relationship between the reference signal VREF and the temperature signal VTMP is expressed as shown in FIG. However, as long as VREF_norm ≠ VREF_test, the first reference signal VREF_norm and the second reference signal VREF_test can take arbitrary values as long as they are within the operation rating of the semiconductor unit 100 to be inspected. The reference signal VREF may be an analog signal or a digital signal corresponding to the analog signal.

第3の温度信号VTMP_norm2と第4の温度信号VTMP_test2との差分は、式7と式8の差より、
VTMP_norm2−VTMP_test2=−G(ICONST(VREF_norm)−ICONST(VREF_test))
・・・(式9)
として求められる。
The difference between the third temperature signal VTMP_norm2 and the fourth temperature signal VTMP_test2 is as follows:
VTMP_norm2−VTMP_test2 = −G (ICONST (VREF_norm) −ICONST (VREF_test))
... (Formula 9)
As required.

即ち、判定手段300は、第1の基準信号VREF_normに対応して出力される第3の温度信号VTEM_norm2と第2の基準信号VREF_testに対応して出力される第4の温度信号VTMP_test2を測定し、それらの差分が検査基準値保持手段400から読み出される第2の検査基準値VTEST=VTEST2±ΔVTEST2の範囲内であるか否かを判定する。これによって、温度検出回路110内の第2電流源112および電流電圧変換回路113が正常に動作しているか否かを判定することができる。   That is, the determination unit 300 measures the third temperature signal VTEM_norm2 output corresponding to the first reference signal VREF_norm and the fourth temperature signal VTMP_test2 output corresponding to the second reference signal VREF_test, It is determined whether or not the difference is within the range of the second inspection reference value VTEST = VTEST2 ± ΔVTEST2 read from the inspection reference value holding means 400. Thus, it can be determined whether or not the second current source 112 and the current-voltage conversion circuit 113 in the temperature detection circuit 110 are operating normally.

なお、ここで、VTEST2は半導体ユニット100が良品である際に期待されるVTMP_norm2−VTMP_test2の標準的な値である。また、ΔVTEST2は検査した半導体ユニット100を良品サンプルとして判定するための許容範囲を示す。   Here, VTEST2 is a standard value of VTMP_norm2-VTMP_test2 expected when the semiconductor unit 100 is a good product. ΔVTEST2 represents an allowable range for determining the inspected semiconductor unit 100 as a non-defective sample.

次に、半導体装置1000の検査時における動作について、図4に示すフローチャートを用いて説明する。このフローチャートは、半導体装置1000の検査手順の一例を示す。この検査のフローに入ると、最初に、制御信号生成手段200は、半導体ユニット100に対し、第1の設定信号VSET=VSET_normを印加する(S1)。第1の設定信号VSET_normが印加されると、信号処理回路120は第1の設定信号に応じた電力で動作し、これに伴って発熱する。   Next, the operation at the time of inspection of the semiconductor device 1000 will be described using the flowchart shown in FIG. This flowchart shows an example of an inspection procedure for the semiconductor device 1000. When entering the inspection flow, first, the control signal generating means 200 applies the first setting signal VSET = VSET_norm to the semiconductor unit 100 (S1). When the first setting signal VSET_norm is applied, the signal processing circuit 120 operates with electric power corresponding to the first setting signal, and generates heat accordingly.

続いて、判定手段300は、半導体ユニット100より出力される第1の温度信号VTMP=VTMP_norm1を測定し、測定結果を判定手段300内のメモリ(不図示)に保持する(S2)。すなわち、ここで、温度検出回路110によって半導体ユニット100の温度に相当する温度信号が検出される。   Subsequently, the determination unit 300 measures the first temperature signal VTMP = VTMP_norm1 output from the semiconductor unit 100, and holds the measurement result in a memory (not shown) in the determination unit 300 (S2). That is, here, the temperature signal corresponding to the temperature of the semiconductor unit 100 is detected by the temperature detection circuit 110.

この後、制御信号生成手段200は、半導体ユニット100に対し、第2の設定信号VSET=VSET_testを印加する(S3)。第2の設定信号VSET_testが印加されると、信号処理回路120は、第2の設定信号に応じた電力で動作し、これに伴って発熱する。   Thereafter, the control signal generation means 200 applies the second setting signal VSET = VSET_test to the semiconductor unit 100 (S3). When the second setting signal VSET_test is applied, the signal processing circuit 120 operates with power corresponding to the second setting signal, and generates heat accordingly.

続いて、判定手段300は、半導体ユニット100より出力される第2の温度信号VTMP=VTMP_test1を測定し、測定結果を判定手段300内のメモリ(不図示)に保持する(S4)。すなわち、ステップS1と異なる温度設定し、この状態で温度検出回路110によって検出される半導体ユニット100の温度の測定結果を保持する。   Subsequently, the determination unit 300 measures the second temperature signal VTMP = VTMP_test1 output from the semiconductor unit 100, and holds the measurement result in a memory (not shown) in the determination unit 300 (S4). That is, a temperature different from that in step S1 is set, and the measurement result of the temperature of the semiconductor unit 100 detected by the temperature detection circuit 110 in this state is held.

次に判定手段300は、第1の温度信号VTMP_norm1と第2の温度信号VTMP_test1の差分を演算し、この演算結果が検査基準値保持手段400から読み出した第1の検査基準値VTEST=VTEST1±ΔVTEST1の範囲内であるか否かを判定する(S5)。判定の結果、第1および第2の温度信号の差分値が、第1の検査基準値の許容範囲内であれば、ステップS5に進み、許容範囲外であればステップS12に進む。   Next, the determination unit 300 calculates the difference between the first temperature signal VTMP_norm1 and the second temperature signal VTMP_test1, and the calculation result is the first test reference value VTEST = VTEST1 ± ΔVTEST1 read from the test reference value holding unit 400. It is determined whether it is within the range (S5). As a result of the determination, if the difference value between the first and second temperature signals is within the allowable range of the first inspection reference value, the process proceeds to step S5, and if it is outside the allowable range, the process proceeds to step S12.

すなわち、ステップS1〜ステップS5においては、基準信号VREFを一定に維持したままで(すなわち、ICONST一定)、設定信号VSETを変化させることにより、信号処理回路120における発熱量を変化させている。設定信号VSETの変化は予め決められていることから、温度検出回路110が正常に動作していれば、そのときの第1および第2の温度信号VTMPの差分値のバラツキは、許容範囲ΔVTEST1内に収まる。ステップS5における判定の結果、差分値が検査基準値の範囲内であれば、一応合格とし、ステップS6以下で次の検査に進み、一方、差分値が検査基準値の範囲外であれば、ステップS12において不合格としている。   That is, in steps S1 to S5, the heat generation amount in the signal processing circuit 120 is changed by changing the setting signal VSET while keeping the reference signal VREF constant (that is, constant ICONST). Since the change of the setting signal VSET is determined in advance, if the temperature detection circuit 110 operates normally, the variation in the difference value between the first and second temperature signals VTMP at that time is within the allowable range ΔVTEST1. Fits in. As a result of the determination in step S5, if the difference value is within the range of the inspection reference value, the determination is accepted, and the process proceeds to the next inspection in step S6 and below. In S12, it is determined as rejected.

ステップS5の判定の結果、温度信号の差分値が検査基準値内であり、検査対象の半導体ユニット100が合格した場合には、次に、制御信号生成手段200は第1の基準信号VREF=VREF_normを印加する(S6)。続いて、判定手段300は、半導体ユニット100より出力される第3の温度信号VTMP=VTMP_norm2を測定し、測定結果を判定手段300内のメモリに保持する(S7)。   As a result of the determination in step S5, if the difference value of the temperature signal is within the inspection reference value and the semiconductor unit 100 to be inspected passes, then the control signal generating means 200 first outputs the first reference signal VREF = VREF_norm. Is applied (S6). Subsequently, the determination unit 300 measures the third temperature signal VTMP = VTMP_norm2 output from the semiconductor unit 100, and holds the measurement result in the memory in the determination unit 300 (S7).

次に、制御信号生成手段200は第2の基準信号VREF=VREF_testを印加する(S8)。続いて、判定手段300は、半導体ユニット100より出力される第4の温度信号VTMP=VTMP_test2を測定し、測定結果を判定手段300内のメモリに保持する(S9)。   Next, the control signal generating means 200 applies the second reference signal VREF = VREF_test (S8). Subsequently, the determination unit 300 measures the fourth temperature signal VTMP = VTMP_test2 output from the semiconductor unit 100, and holds the measurement result in the memory in the determination unit 300 (S9).

次に、判定手段300は、第3の温度信号VTMP_norm2と第4の温度信号VTMP_test2の差分を演算し、この演算結果が検査基準値保持手段400から読み出した第2の検査基準値VTEST=VTEST2±ΔVTEST2の範囲内であるか否かを判定する(S10)。判定の結果、第3および第4の温度信号の差分値が、第2の検査基準値の範囲内であれば、ステップS11に進み、範囲外であればステップS12に進む。   Next, the determination unit 300 calculates the difference between the third temperature signal VTMP_norm2 and the fourth temperature signal VTMP_test2, and the calculation result is the second test reference value VTEST = VTEST2 ± read from the test reference value holding unit 400. It is determined whether it is within the range of ΔVTEST2 (S10). As a result of the determination, if the difference value between the third and fourth temperature signals is within the range of the second inspection reference value, the process proceeds to step S11, and if not, the process proceeds to step S12.

すなわち、ステップS6〜ステップS10においては、設定信号VSETを一定に維持したままで(即ち、信号処理回路120の発熱量は一定)、基準信号VREFを変化させ、基準信号VREFに依存し、かつ温度に対して略一定の第2電流ICONSTを変化させている。信号処理回路120において発熱量が変化しないことから第1電流IPTATは変化しないが、第2電流ICONSTが変化するので、結局、温度信号VTMPは変化することになる。基準信号VREFの変化は予め決められていることから、温度検出回路110が正常に動作していれば、そのときの第3および第4の温度信号の差分値のバラツキは、許容範囲ΔVTEST2内に収まる。   That is, in step S6 to step S10, the setting signal VSET is kept constant (that is, the amount of heat generated by the signal processing circuit 120 is constant), the reference signal VREF is changed, depends on the reference signal VREF, and the temperature The second current ICONST that is substantially constant is changed. Since the amount of heat generated in the signal processing circuit 120 does not change, the first current IPTAT does not change, but the second current ICONST changes, so that the temperature signal VTMP changes eventually. Since the change of the reference signal VREF is determined in advance, if the temperature detection circuit 110 is operating normally, the variation in the difference value between the third and fourth temperature signals at that time is within the allowable range ΔVTEST2. It will fit.

ステップS10における判定の結果、差分値が検査基準値の許容範囲内であれば、ステップS11に進み、合格とする。一方、判定の結果、差分値が検査基準値の許容範囲外であれば、ステップS12に進み、検査対象の半導体ユニット100は、不合格としている。なお、判定結果は、外部に出力・表示させ、良品サンプルのみを選択できるようにしている。   As a result of the determination in step S10, if the difference value is within the allowable range of the inspection reference value, the process proceeds to step S11 and is determined to be acceptable. On the other hand, if the difference value is outside the allowable range of the inspection reference value as a result of the determination, the process proceeds to step S12, and the semiconductor unit 100 to be inspected is rejected. The determination result is output and displayed externally so that only non-defective samples can be selected.

以上、説明したように、本実施形態においては、設定信号VSETの変動に対応する温度信号VTMPの変動が式6の表す応答を示すことと、基準信号VREFの変動に対応する温度信号VTMPの変動が式9の表す応答を示すことの両方を確認することのできるサンプル(半導体ユニット100)のみを良品と判断する判定手段300を設けている。このため、半導体装置1000は、熱流通手段や温度コントローラおよびリモート温度センサ等の温度制御装置を設ける必要がなく、温度検出回路110の適否を判定することができる。   As described above, in the present embodiment, the fluctuation of the temperature signal VTMP corresponding to the fluctuation of the setting signal VSET indicates the response represented by Equation 6, and the fluctuation of the temperature signal VTMP corresponding to the fluctuation of the reference signal VREF. Is provided with a determination unit 300 that determines that only a sample (semiconductor unit 100) that can confirm both of the responses represented by Equation 9 is a non-defective product. For this reason, the semiconductor device 1000 does not need to provide a temperature control device such as a heat distribution means, a temperature controller, and a remote temperature sensor, and can determine whether the temperature detection circuit 110 is appropriate.

また、温度検出回路110の検査にあたって、設定信号VSETおよび基準信号VREFのいずれか一方を用いるだけでも検査は可能であるが、本実施形態のように両信号VSETおよび基準信号VREFを用いていることにより、第1電流源111および第2電流源112の両方が適切に動作しているかを判定することができる。   Further, when the temperature detection circuit 110 is inspected, the inspection can be performed by using only one of the setting signal VSET and the reference signal VREF. However, both the signals VSET and the reference signal VREF are used as in the present embodiment. Thus, it can be determined whether both the first current source 111 and the second current source 112 are operating properly.

さらに、本実施形態においては、設定信号VSETおよび基準信号VREFについて、それぞれ2つの信号(VSET_normとVSET_test、またはVREF_normとVREF_test)を印加して、丁度、グラフ上の2点で検査するようにしている。このため、規格に適合した動作をしているか否かを判定することができる。   Further, in the present embodiment, two signals (VSET_norm and VSET_test, or VREF_norm and VREF_test) are applied to the setting signal VSET and the reference signal VREF, respectively, and inspection is performed at exactly two points on the graph. . Therefore, it can be determined whether or not the operation conforms to the standard.

なお、本実施形態において、制御信号生成手段200および判定手段300および検査基準値保持手段400は、一体の検査装置として説明したが、半導体装置1000を構成する個別の部品または装置であってもよい。また、制御信号生成手段200および判定手段300および検査基準値保持手段400の何れか1つ以上の要素が、マイクロコンピュータなどの半導体チップ上に形成されていても良い。さらに、制御信号生成手段200および判定手段300および検査基準値保持手段400の何れか1つ以上の要素が、半導体ユニット100と同一基板上に形成されていても良い。   In the present embodiment, the control signal generation unit 200, the determination unit 300, and the inspection reference value holding unit 400 have been described as an integrated inspection apparatus, but may be individual components or apparatuses that constitute the semiconductor device 1000. . Further, any one or more elements of the control signal generation unit 200, the determination unit 300, and the inspection reference value holding unit 400 may be formed on a semiconductor chip such as a microcomputer. Furthermore, any one or more elements of the control signal generation unit 200, the determination unit 300, and the inspection reference value holding unit 400 may be formed on the same substrate as the semiconductor unit 100.

また、本実施形態における検査の手順として、先に設定信号VSETを変化させ、次に基準信号VREFを変化させていた。これは、半導体ユニット100自体の温度を変化させ、そのときの温度依存性のある第1電流源111が正常に動作しているか否かの検査を優先させるためである。しかし、第1電流源111および第2電流源112の両方について検査する場合には、基準信号VREFを先に変化させるようにしても勿論かまわない。   Further, as the inspection procedure in this embodiment, the setting signal VSET is changed first, and then the reference signal VREF is changed. This is for changing the temperature of the semiconductor unit 100 itself and giving priority to the inspection as to whether or not the first current source 111 having temperature dependency at that time is operating normally. However, of course, when both the first current source 111 and the second current source 112 are inspected, the reference signal VREF may be changed first.

次に、半導体装置1000の信号処理回路120の構成について、図5を用いて説明する。図5は、信号処理回路120の内部ブロック図である。アナログ回路121は入力される設定信号VSETに応じて消費電流が変化する回路である。このアナログ回路121の消費電流Iは、
I=I(VSET) ・・・(式10)
と表される。
Next, the configuration of the signal processing circuit 120 of the semiconductor device 1000 will be described with reference to FIG. FIG. 5 is an internal block diagram of the signal processing circuit 120. The analog circuit 121 is a circuit whose current consumption changes according to the input setting signal VSET. The consumption current I of the analog circuit 121 is
I = I (VSET) (Equation 10)
It is expressed.

また、アナログ回路121の等価抵抗をRとすると、アナログ回路121の仕事率PANALOGは、=PANALOGRで表されるから、時刻t0から時刻t1の間にアナログ回路121が発生する熱量Qは、下記の式11(数1)で表される。
Further, assuming that the equivalent resistance of the analog circuit 121 is R, the work rate P ANALOG of the analog circuit 121 is expressed by = P ANALOG I 2 R. Therefore, the amount of heat generated by the analog circuit 121 from time t0 to time t1. Q is represented by the following formula 11 (Equation 1).

また、半導体ユニット100の定積比熱がCvであるとした場合、Cv≡dQ/dTと定義されるから、
dT・Cv=dQ ・・・(式12)
と書ける。
In addition, when the constant volume specific heat of the semiconductor unit 100 is Cv, it is defined as Cv≡dQ / dT.
dT · Cv = dQ (Formula 12)
Can be written.

したがって、微小時間dtにおける半導体ユニット100の絶対温度の微小変化分dTは、式10および式11を用いて、式13(数2)で表される。
Therefore, the minute change dT of the absolute temperature of the semiconductor unit 100 in the minute time dt is expressed by Expression 13 (Expression 2) using Expression 10 and Expression 11.

半導体ユニット100の単位時間当たりの熱散逸量をPDISPとした場合の影響を加えて式13を変形すると、信号処理回路120により半導体ユニット100を時刻t0から時刻t1の間に加熱した場合の上昇温度dTは、以下の式14(数3)の通りとなる。
したがって、半導体ユニット100の絶対温度Tは設定信号VSETにより制御することができる。
When Expression 13 is modified by adding the influence of the case where P DISP is the amount of heat dissipation per unit time of the semiconductor unit 100, the rise when the semiconductor unit 100 is heated from time t0 to time t1 by the signal processing circuit 120. The temperature dT is expressed by the following Expression 14 (Equation 3).
Therefore, the absolute temperature T of the semiconductor unit 100 can be controlled by the setting signal VSET.

このように、本実施形態において、アナログ回路121により構成される信号処理回路120を基板上に有する半導体ユニット100の温度は外部より入力される設定信号VSETを調整することにより制御できる。このため、熱流通手段や温度コントローラを特別に設けなくても、温度検出回路110の検査に必要な温度条件を作り出すことができる。   As described above, in this embodiment, the temperature of the semiconductor unit 100 having the signal processing circuit 120 constituted by the analog circuit 121 on the substrate can be controlled by adjusting the setting signal VSET input from the outside. Therefore, it is possible to create a temperature condition necessary for the inspection of the temperature detection circuit 110 without specially providing a heat distribution means or a temperature controller.

次に、半導体装置1000の温度検出回路110の詳細な構成について、図7を用いて説明する。図7は、温度検出回路110の回路図である。温度検出回路110は、第1電流源111、第2電流源112および電流電圧変換回路113とから構成されている。なお、図1において差分器114を図示したが、差分器114の機能は、第1電流源111のトランジスタQ5において果たしているので、特別に差分器114を設けていない。   Next, a detailed configuration of the temperature detection circuit 110 of the semiconductor device 1000 will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a circuit diagram of the temperature detection circuit 110. The temperature detection circuit 110 includes a first current source 111, a second current source 112, and a current-voltage conversion circuit 113. Although the differentiator 114 is illustrated in FIG. 1, the function of the differentiator 114 is performed by the transistor Q <b> 5 of the first current source 111, and thus the differencer 114 is not specially provided.

第1電流源111は、前述したように、温度変化に応じて出力が変化する電流を第1電流IPTATとして出力する。また、第2電流源112は制御信号生成手段200から入力される基準信号VREFにより出力電流が制御可能、かつ温度に対して略一定の第2電流ICONSTを出力する。電流電圧変換回路113は、第1電流IPTATと第2電流ICONSTとの差を第3電流として入力し、この第3電流を電圧に変換し、温度信号VTMPとして出力する。   As described above, the first current source 111 outputs a current whose output changes according to a temperature change as the first current IPTAT. The second current source 112 outputs a second current ICONST whose output current can be controlled by the reference signal VREF input from the control signal generating means 200 and is substantially constant with respect to temperature. The current-voltage conversion circuit 113 inputs the difference between the first current IPTAT and the second current ICONST as a third current, converts the third current into a voltage, and outputs it as a temperature signal VTMP.

第1電流源111は、第1の電圧を出力する第1電圧源VSS1と、第2の電圧を出力する第2電圧源VSS2の間に接続された、第1のダイオードD1と第1のトランジスタQ1と第3のトランジスタQ3の直列回路、第2のダイオードD2と第1の抵抗器Rdと第2のトランジスタQ2と第4のトランジスタQ4の直列回路、および後述するカレントミラー回路CM1の出力端子と第2の電圧源VSS2の間に接続された第5のトランジスタQ5とから構成されている。   The first current source 111 includes a first diode D1 and a first transistor connected between a first voltage source VSS1 that outputs a first voltage and a second voltage source VSS2 that outputs a second voltage. A series circuit of Q1 and a third transistor Q3, a series circuit of a second diode D2, a first resistor Rd, a second transistor Q2 and a fourth transistor Q4, and an output terminal of a current mirror circuit CM1 to be described later The fifth transistor Q5 is connected between the second voltage source VSS2.

第1のダイオードD1の第1端子は第1電圧源VSS1に接続され、第2端子は第1トランジスタQ1の第1端子に接続されている。また、第2のダイオードD2の第1端子は第1電圧源VSS1に接続され、第2端子は第1の抵抗器Rd(抵抗値がRD)を介して、第2のトランジスタQ2の第1端子に接続されている。第1のダイオードD1のpn接合の面積を1とすると、第2のダイオードD2のpn接合の面積はNであり、両者のpn接合の面積比は1:N(Nは任意の正の値)となっている。 The first terminal of the first diode D1 is connected to the first voltage source VSS1, and the second terminal is connected to the first terminal of the first transistor Q1. The first terminal of the second diode D2 is connected to the first voltage source VSS1, and the second terminal of the second transistor Q2 is connected to the first voltage of the second transistor Q2 via the first resistor Rd (resistance value R D ). Connected to the terminal. Assuming that the area of the pn junction of the first diode D1 is 1, the area of the pn junction of the second diode D2 is N, and the area ratio of both pn junctions is 1: N (N is an arbitrary positive value) It has become.

第1および第2のトランジスタQ1、Q2は、第1導電型のトランジスタで構成され、両トランジスタQ1、Q2の制御端子は互いに接続されている。また、第2のトランジスタQ2の制御端子は、第2のトランジスタQ2の第2端子にも接続されている。第1のトランジスタQ1の第2端子は第3のトランジスタQ3の第2端子に接続され、第2のトランジスタQ2の第2端子は第4のトランジスタQ4の第2端子に接続されている。   The first and second transistors Q1 and Q2 are formed of a first conductivity type transistor, and the control terminals of both transistors Q1 and Q2 are connected to each other. The control terminal of the second transistor Q2 is also connected to the second terminal of the second transistor Q2. The second terminal of the first transistor Q1 is connected to the second terminal of the third transistor Q3, and the second terminal of the second transistor Q2 is connected to the second terminal of the fourth transistor Q4.

第3および第4のトランジスタQ3、Q4は、第2導電型のトランジスタで構成され、両トランジスタQ3、Q4の制御端子は互いに接続されている。また、第3のトランジスタQ3の制御端子は、第3のトランジスタQ3の第2端子にも接続されている。第3および第4のトランジスタQ3、Q4の第1端子は、第2電圧源VSS2に接続されている。   The third and fourth transistors Q3 and Q4 are composed of a second conductivity type transistor, and the control terminals of both transistors Q3 and Q4 are connected to each other. The control terminal of the third transistor Q3 is also connected to the second terminal of the third transistor Q3. The first terminals of the third and fourth transistors Q3 and Q4 are connected to the second voltage source VSS2.

第5のトランジスタQ5は、第2導電型のトランジスタで構成され、制御端子は第3および第4のトランジスタの制御端子に接続され、第1の端子は第2電圧源VSS2に接続され、第2の端子は前述の第1電流IPTATの出力端子となる。   The fifth transistor Q5 is composed of a second conductivity type transistor, the control terminal is connected to the control terminals of the third and fourth transistors, the first terminal is connected to the second voltage source VSS2, and the second terminal The terminal becomes an output terminal of the first current IPTAT.

第2電流源112は、第1の演算増幅器A1と、第2の抵抗器Rofstと、第6のトランジスタQ6と、カレントミラー回路CM1とから構成されている。第1の演算増幅器A1の非反転入力端子は基準信号VREFの端子に接続され、反転入力端子は抵抗値がROFSTである第2の抵抗器Rofstの一端に接続されている。この第2の抵抗器Rofstの他端は、第2電源VSS2に接続されている。 The second current source 112 includes a first operational amplifier A1, a second resistor Rofst, a sixth transistor Q6, and a current mirror circuit CM1. The non-inverting input terminal of the first operational amplifier A1 is connected to the terminal of the reference signal VREF, and the inverting input terminal is connected to one end of the second resistor Rofst whose resistance value is R OFST . The other end of the second resistor Rofst is connected to the second power supply VSS2.

第6のトランジスタQ6は、第2導電型トランジスタで構成され、その制御端子は第1の演算増幅器A1の出力端子に接続され、第1端子は第1演算増幅器の非反転入力端子および第2の抵抗器Rofstの一端に接続されている。第6のトランジスタQ6および第2の抵抗器Rofstには、電流Iofstが流れる。   The sixth transistor Q6 is composed of a second conductivity type transistor, its control terminal is connected to the output terminal of the first operational amplifier A1, the first terminal is the non-inverting input terminal of the first operational amplifier and the second Connected to one end of resistor Rofst. The current Iofst flows through the sixth transistor Q6 and the second resistor Rofst.

カレントミラー回路CM1の入力端は、第6のトランジスタQ6の第2端子に接続され、出力端は前述の第1電流IPTATの出力端子、および後述する第2の演算増幅器A2の反転入力端子に接続されている。カレントミラー回路CM1の入力端には前述の電流Iofstが流れ、また出力端から前述の第2電流ICONSTが流れる。   The input terminal of the current mirror circuit CM1 is connected to the second terminal of the sixth transistor Q6, and the output terminal is connected to the output terminal of the first current IPTAT described above and the inverting input terminal of the second operational amplifier A2 described later. Has been. The current Iofst flows through the input terminal of the current mirror circuit CM1, and the second current ICONST flows through the output terminal.

電流電圧変換回路113は、第2の演算増幅器A2と、抵抗値がRGである第3の抵抗器Rgとから構成される。第2の演算増幅器A2の非反転入力端子は、基準信号VREFの端子に接続され、反転入力端子と出力端子の間に第2の抵抗器Rgが接続されている。また反転入力端子は、前述したように、カレントミラー回路CM1の第2電流ICONSTの出力端子と、第1電流IPTATの出力端子に接続されている。 The current-voltage conversion circuit 113 includes a second operational amplifier A2 and a third resistor Rg having a resistance value R G. The non-inverting input terminal of the second operational amplifier A2 is connected to the terminal of the reference signal VREF, and the second resistor Rg is connected between the inverting input terminal and the output terminal. Further, as described above, the inverting input terminal is connected to the output terminal of the second current ICONST and the output terminal of the first current IPTAT of the current mirror circuit CM1.

本実施形態に係わる温度検出回路110は以上のように構成されているが、第1、第2端子等の割り当てを下記のようにした場合について、詳細な動作説明を行う。ダイオードD1、D2の第1端子をアノードとし、第2端子をカソードとする。第1導電型のトランジスタをPMOSトランジスタとし、第2導電型のトランジスタをNMOSトランジスタとする。PMOSトランジスタおよびNMOSトランジスタの第1端子をソースとし、第2端子をドレインとし、制御端子をゲートとする。また、第1電圧源VSS1の電圧が、第2電圧VSS2の電圧よりも高いとする。   Although the temperature detection circuit 110 according to the present embodiment is configured as described above, a detailed operation will be described in the case where the first and second terminals are assigned as follows. The first terminals of the diodes D1 and D2 are anodes, and the second terminal is a cathode. The first conductivity type transistor is a PMOS transistor, and the second conductivity type transistor is an NMOS transistor. The first terminal of the PMOS transistor and NMOS transistor is the source, the second terminal is the drain, and the control terminal is the gate. Further, it is assumed that the voltage of the first voltage source VSS1 is higher than the voltage of the second voltage VSS2.

上述のように各素子を割り当てた場合における温度検出回路110の動作は次の通りである。まず、第1電流源111の動作について説明する。一般にダイオードの順方向電圧VFは、式15(数4)で与えられる。
The operation of the temperature detection circuit 110 when each element is assigned as described above is as follows. First, the operation of the first current source 111 will be described. In general, the forward voltage V F of the diode is given by Equation 15 (Equation 4).

ここで、Ioはダイオードに流れる順方向電流、Isはダイオードの逆方向飽和電流である。また、VTは熱電圧と呼ばれる値であり、VT=kT/qの関係式で表される。なお、qは素電荷量、kはボルツマン定数である。 Here, Io is a forward current flowing through the diode, and Is is a reverse saturation current of the diode. V T is a value called a thermal voltage, and is expressed by a relational expression of V T = kT / q. Note that q is an elementary charge amount and k is a Boltzmann constant.

また、ダイオードが拡散電流領域で動作する場合には、Is<<Ioであるから、式15は式16(数5)のように近似できる。
When the diode operates in the diffusion current region, since Is << Io, Equation 15 can be approximated as Equation 16 (Equation 5).

MOSトランジスタで構成されるトランジスタQ1、Q2は、同一サイズで同一特性のトランジスタであり、また、MOSトランジスタで構成されるトランジスタQ3、Q4は同一サイズで同一特性であるとする。この場合には、図示しない起動回路により第1電流源111が動作した時には、ダイオードD1、MOSトランジスタQ1とダイオードD2、抵抗Rd、MOSトランジスタQ2とで構成される系において、式16を考慮すると式17(数6)が成立する。
The transistors Q1 and Q2 configured by MOS transistors are transistors having the same size and the same characteristics, and the transistors Q3 and Q4 configured by MOS transistors are the same size and have the same characteristics. In this case, when the first current source 111 is operated by a startup circuit (not shown), in the system constituted by the diode D1, the MOS transistor Q1 and the diode D2, the resistor Rd, and the MOS transistor Q2, the equation 16 is considered. 17 (Equation 6) holds.

ここで、l1はダイオードD1に流れる電流、I2はダイオードD2に流れる電流、VGS1はMOSトランジスタQ1のゲートソース間電圧、VGS2はMOSトランジスタQ2のゲートソース間電圧である。また、NはダイオードD1に対するダイオードD2のpn接合面積比であり、任意の正の値である。 Here, l1 is the current flowing through the diode D1, I2 is the current flowing through the diode D2, V GS1 is a gate-source voltage, V GS2 of the MOS transistor Q1 is the gate-source voltage of the MOS transistor Q2. N is a pn junction area ratio of the diode D2 to the diode D1, and is an arbitrary positive value.

さて、MOSトランジスタQ3、Q4のゲートは共通に接続され、各々のソースが第2電圧源VSS2に接続されていることにより、MOSトランジスタのゲートソース間電圧VGSは等しい。また、MOSトランジスタQ3とQ4は、同一サイズかつ同一特性であることから、MOSトランジスタQ3に流れる電流I1とMOSトランジスタQ4に流れる電流I2は等しくなる。 Now, the gates of the MOS transistors Q3 and Q4 are connected in common, and the sources thereof are connected to the second voltage source VSS2, so that the gate-source voltage V GS of the MOS transistors is equal. Since the MOS transistors Q3 and Q4 have the same size and the same characteristics, the current I1 flowing through the MOS transistor Q3 is equal to the current I2 flowing through the MOS transistor Q4.

MOSトランジスタQ1、Q2に着目すると、MOSトランジスタQ1、Q2に流れる電流は等しく、MOSトランジスタQ1、Q2のサイズが同一であることにより、VGS1=VGS2となる。また、I1=I2=Ioとおくと、式17は下記の式18(数7)となる。
Focusing on the MOS transistors Q1 and Q2, the currents flowing through the MOS transistors Q1 and Q2 are equal, and the sizes of the MOS transistors Q1 and Q2 are the same, so that V GS1 = V GS2 . If I1 = I2 = Io, Expression 17 becomes Expression 18 (Expression 7) below.

この式18からIoを求めると、
Io=(VT/RD)×ln(N) ・・・(式19)
となる。すなわち、MOSトランジスタQ1、Q2を流れる電流I1=I2=Ioは、熱電圧VT以外は定数であり、したがって、この電流Ioは熱電圧VTに比例することが分かる。
If Io is calculated from this equation 18,
Io = (V T / R D ) × ln (N) (Equation 19)
It becomes. That is, it can be seen that the current I1 = I2 = Io flowing through the MOS transistors Q1 and Q2 is a constant other than the thermal voltage V T , and thus the current Io is proportional to the thermal voltage V T.

また、MOSトランジスタQ3、Q4、Q5により構成されるカレントミラー回路において、MOSトランジスタQ3、Q4のゲート幅に対するMOSトランジスタQ5のゲート幅の比をM1とした場合、MOSトランジスタQ5のドレインより流れる第1電流IPTATは、下記の式20となる。
IPTAT=M1×Io=M1×(kT/qRD)ln(N) ・・・(式20)
すなわち、MOSトランジスタQ5を流れる第1電流IPTATは、絶対温度T以外は定数であり、したがって、この第1電流IPTATは絶対温度Tに比例することが分かる。
In the current mirror circuit composed of the MOS transistors Q3, Q4, and Q5, when the ratio of the gate width of the MOS transistor Q5 to the gate width of the MOS transistors Q3 and Q4 is M1, the first current that flows from the drain of the MOS transistor Q5. The current IPTAT is expressed by the following Equation 20.
IPTAT = M1 × Io = M1 × (kT / qR D ) ln (N) (Equation 20)
That is, it can be seen that the first current IPTAT flowing through the MOS transistor Q5 is a constant other than the absolute temperature T, and therefore the first current IPTAT is proportional to the absolute temperature T.

次に、温度検出回路110内の第2電流源112の動作について説明する。第1の演算増幅A1の非反転入力端子には、基準信号VREFが入力されると、反転入力端子の入力電圧もVREFとなる。この基準電圧VREFは、そのまま第2の抵抗器Rofstの一端側に印加されることから、第2の抵抗器Rofstに流れる電流Iofstは、VSS2がグランドレベルの場合には、式21のようになる。
Iofst=VREF/ROFST ・・・(式21)
Next, the operation of the second current source 112 in the temperature detection circuit 110 will be described. When the reference signal VREF is input to the non-inverting input terminal of the first operational amplification A1, the input voltage at the inverting input terminal is also VREF. Since this reference voltage VREF is applied as it is to one end side of the second resistor Rofst, the current Iofst flowing through the second resistor Rofst is expressed by Equation 21 when VSS2 is at the ground level. .
Iofst = VREF / R OFST (Formula 21)

カレントミラー回路CM1は、入力端子側に流れる電流がM2倍されて出力端子側より出力されるとすると、カレントミラー回路CM1の出力端子より流れる第2電流ICONSTは、式22のようになる。
ICONST=M2×Iofst=M2×(VREF/ROFST) ・・・(式22)
この第2電流ICONSTは、VREFを除くと、いずれも定数であることから、第2電流ICONSTは基準信号VREFに依存する電流となることが分かる。
In the current mirror circuit CM1, if the current flowing to the input terminal side is multiplied by M2 and output from the output terminal side, the second current ICONST flowing from the output terminal of the current mirror circuit CM1 is expressed by Equation 22.
ICONST = M2 × Iofst = M2 × (VREF / R OFST ) (Formula 22)
Since the second current ICONST is constant except for VREF, it can be seen that the second current ICONST is a current dependent on the reference signal VREF.

次に、温度検出回路110内の電流電圧変換回路113の動作について説明する。電流電圧変換回路113を構成する第2の演算増幅器A2の非反転入力端子に基準信号VREFが入力され、第2の抵抗器Rgに第3の電流ICONST−IPTATが流れるとすると、演算増幅器A2の出力端子から出力される温度信号VTMPは、式23で表される。
VTMP=−RG(ICONST −IPTAT)+VREF ・・・(式23)
Next, the operation of the current-voltage conversion circuit 113 in the temperature detection circuit 110 will be described. When the reference signal VREF is input to the non-inverting input terminal of the second operational amplifier A2 constituting the current-voltage conversion circuit 113 and the third current ICONST-IPTAT flows through the second resistor Rg, the operational amplifier A2 The temperature signal VTMP output from the output terminal is expressed by Equation 23.
VTMP = −R G (ICONST−IPTAT) + VREF (Equation 23)

この式23に、式20で表される第1電流IPTATと、式22で表される第2電流ICONSTを代入すると、式24(数8)で示される温度信号VTMPを得る。
By substituting the first current IPTAT expressed by Expression 20 and the second current ICONST expressed by Expression 22 into Expression 23, a temperature signal VTMP expressed by Expression 24 (Equation 8) is obtained.

この式24から分かるように、温度信号VTMPは、式1に示したような、基準信号VREFおよび半導体ユニット100の絶対温度Tに比例した電圧信号である。すなわち、温度信号VTMPは、基準信号VREFが一定であれば、温度信号VTMPは絶対温度Tに比例し、また絶対温度Tが一定ならば、基準信号VREFに比例した電圧信号となる。   As can be seen from Equation 24, the temperature signal VTMP is a voltage signal proportional to the reference signal VREF and the absolute temperature T of the semiconductor unit 100 as shown in Equation 1. That is, the temperature signal VTMP is a voltage signal proportional to the absolute temperature T if the reference signal VREF is constant, and a voltage signal proportional to the reference signal VREF if the absolute temperature T is constant.

以上、図7に示した温度検出回路110について、前述したように、ダイオードD1、D2の第1端子、第2端子としてアノードおよびカソードを割り当てた場合について説明したが、本実施形態はこの割り当てに限られない。たとえば、下記のような変形も可能である。   As described above, the temperature detection circuit 110 illustrated in FIG. 7 has been described with respect to the case where the anode and the cathode are assigned as the first terminal and the second terminal of the diodes D1 and D2, as described above. Not limited. For example, the following modifications are possible.

まず、第1の変形例として、ダイオードD1、D2の第1端子をカソードとし、第2端子をアノードとする。第1導電型トランジスタをNMOSトランジスタとし、第2導電型トランジスタをPMOSトランジスタとする。PMOSトランジスタおよびNMOSトランジスタの第1端子をソースとし、第2端子をドレインとし、制御端子をゲートとする。第1電圧源VSS1の電圧が第2電圧源VSS2の電圧よりも低くする。   First, as a first modification, the first terminals of the diodes D1 and D2 are set as cathodes, and the second terminal is set as an anode. The first conductivity type transistor is an NMOS transistor, and the second conductivity type transistor is a PMOS transistor. The first terminal of the PMOS transistor and NMOS transistor is the source, the second terminal is the drain, and the control terminal is the gate. The voltage of the first voltage source VSS1 is set lower than the voltage of the second voltage source VSS2.

また、第2の変形例として、ダイオードD1、D2の第1端子をアノードとし、第2端子をカソードとする。第1導電型トランジスタをpnpトランジスタとし、第2導電型トランジスタをnpnトランジスタとする。pnpトランジスタおよびnpnトランジスタの第1端子をエミッタとし、第2端子をコレクタとし、制御端子をベースとする。第1電圧源VSS1の電圧が第2電圧源VSS2の電圧よりも高くする。   As a second modification, the first terminals of the diodes D1 and D2 are anodes and the second terminals are cathodes. The first conductivity type transistor is a pnp transistor, and the second conductivity type transistor is an npn transistor. The first terminal of the pnp transistor and the npn transistor is an emitter, the second terminal is a collector, and the control terminal is a base. The voltage of the first voltage source VSS1 is set higher than the voltage of the second voltage source VSS2.

さらに、第3の変形例として、ダイオードD1、D2の第1端子をカソードとし、第2端子をアノードとする。第1導電型トランジスタをnpnトランジスタとし、第2導電型トランジスタをpnpトランジスタとする。pnpトランジスタおよびnpnトランジスタの第1端子をエミッタとし、第2端子をコレクタとし、制御端子をベースとする。第1電圧源VSS1の電圧が第2電圧源VSS2の電圧よりも低くする。   Furthermore, as a third modification, the first terminals of the diodes D1 and D2 are the cathodes and the second terminal is the anode. The first conductivity type transistor is an npn transistor, and the second conductivity type transistor is a pnp transistor. The first terminal of the pnp transistor and the npn transistor is an emitter, the second terminal is a collector, and the control terminal is a base. The voltage of the first voltage source VSS1 is set lower than the voltage of the second voltage source VSS2.

(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態について、図6を用いて説明する。第1実施形態においては、信号処理回路120としてアナログ処理回路121を用いた例について説明したが、第2実施形態においては、デジタル回路を用いた例である。この第2実施形態は、第1実施形態において図5で示した信号処理回路を図6に示す信号処理回路に置き換える以外は、第1実施形態と同様であるので、相違点を中心に説明する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the first embodiment, an example in which the analog processing circuit 121 is used as the signal processing circuit 120 has been described. In the second embodiment, a digital circuit is used. Since the second embodiment is the same as the first embodiment except that the signal processing circuit shown in FIG. 5 in the first embodiment is replaced with the signal processing circuit shown in FIG. 6, the differences will be mainly described. .

図6は、図1に示す半導体装置1000における信号処理回路120の内部ブロック図である。信号処理回路120は、設定信号VSETに応じて動作周波数が変更可能なデジタル回路122により構成されている。デジタル回路122の動作周波数は、入力される設定信号VSETに対応して変化するから、デジタル回路122の動作周波数fは設定信号VSETの関数として、下記の式25によって表される。
f=f(VSET) ・・・(式25)
FIG. 6 is an internal block diagram of the signal processing circuit 120 in the semiconductor device 1000 shown in FIG. The signal processing circuit 120 is configured by a digital circuit 122 whose operating frequency can be changed according to the setting signal VSET. Since the operating frequency of the digital circuit 122 changes corresponding to the input setting signal VSET, the operating frequency f of the digital circuit 122 is expressed by the following Expression 25 as a function of the setting signal VSET.
f = f (VSET) (Equation 25)

一般に、論理回路の消費電力PDIGITALは、下記の式26によって表される。
DIGITAL=CVDD fclk+IQDD ・・・(式26)
ただし、式26において、Cは論路回路の容量であり、VDDは論理回路に供給される電源電圧であり、fclkは論理回路の動作周波数であり、IQは論理回路のリーク電流である。
In general, the power consumption P DIGITAL of the logic circuit is expressed by the following Expression 26.
P DIGITAL = CV DD 2 fclk + I Q V DD (Equation 26)
In Expression 26, C is the capacitance of Ronro circuit, V DD is a power supply voltage supplied to the logic circuit, fclk is the frequency of operation of the logic circuit, I Q is the leakage current of the logic circuit .

したがって、論理回路(デジタル回路122)の消費電力(仕事率)PDIGITALは、上述の式25を式26に代入した下記の式27から分かるように、設定信号VSETにより制御することができる。
DIGITAL=CVDD f+IQDD =CVDD f(VSET)+IQDD ・・・(式27)
Therefore, the power consumption (power) P DIGITAL of the logic circuit (digital circuit 122) can be controlled by the setting signal VSET as can be seen from the following equation 27 in which the above equation 25 is substituted into the equation 26.
P DIGITAL = CV DD 2 f + I Q V DD = CV DD 2 f (VSET) + I Q V DD (Equation 27)

前述の式14に示したアナログ回路121の仕事率PANALOGに対する半導体ユニット100の温度変化はデジタル回路122においても同様に成り立つため、信号処理回路120の発熱により、時刻t0から時刻t1間、半導体ユニット100を加熱した場合の温度変化dTは、下記の式28(数9)で表される。
ここで、PDISPは半導体ユニット100の単位時間当たりの熱散逸量である。
Since the temperature change of the semiconductor unit 100 with respect to the power P ANALOG of the analog circuit 121 shown in the above-described equation 14 is similarly established in the digital circuit 122, the semiconductor unit 100 is heated from time t0 to time t1 due to heat generation of the signal processing circuit 120. The temperature change dT when 100 is heated is expressed by the following Equation 28 (Equation 9).
Here, P DISP is the amount of heat dissipation per unit time of the semiconductor unit 100.

したがって、判定手段300がデジタル回路の動作周波数f(VSET)の変化に応じて出力される温度信号VTMPと、検査基準値VTESTとを比較し、適否判定を行うことにより、第2実施形態における半導体装置は、温度制御用の設備を特別に設けることなく、半導体ユニット上に形成された温度検出回路の検査を行うことができる。   Therefore, the determination unit 300 compares the temperature signal VTMP output in accordance with the change in the operating frequency f (VSET) of the digital circuit and the inspection reference value VTEST, and determines whether or not the semiconductor device according to the second embodiment. The apparatus can inspect the temperature detection circuit formed on the semiconductor unit without specially providing a temperature control facility.

以上、第1および第2実施形態を用いて説明したが、本発明は、上記実施形態にそのまま限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素の幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。   As described above, the first and second embodiments have been described. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments as they are, and in the implementation stage, the components are modified and embodied without departing from the scope of the invention. it can. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of components disclosed in the embodiment. For example, you may delete some components of all the components shown by embodiment. Furthermore, constituent elements over different embodiments may be appropriately combined.

本発明の第1実施形態に係わる半導体装置の構成を示すブロック図である。1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態において、設定信号VSETの入力値に対する温度信号VTMPの出力値の関係を示すグラフである。5 is a graph showing a relationship between an input value of a setting signal VSET and an output value of a temperature signal VTMP in the first embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態において、基準信号VREFの入力値に対する温度信号VTMPの出力値の関係を示すグラフである。6 is a graph showing a relationship between an input value of a reference signal VREF and an output value of a temperature signal VTMP in the first embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態に係わる半導体装置における検査の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of the test | inspection in the semiconductor device concerning 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係わる半導体装置の信号処理回路の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the signal processing circuit of the semiconductor device concerning 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態に係わる半導体装置の信号処理回路の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the signal processing circuit of the semiconductor device concerning 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係わる半導体装置の温度検出回路の詳細な構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the detailed structure of the temperature detection circuit of the semiconductor device concerning 1st Embodiment of this invention. 従来の加温検査装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the conventional heating test | inspection apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

10・・・半導体素子
11・・・載置台
12・・・コンタクタ
13・・・電気接続用端子
14・・・熱流通手段
30・・・リモート温度センサ
31・・・温度コントローラ
100・・・半導体ユニット
110・・・温度検出回路
111・・・第1電流源
112・・・第2電流源
113・・・電流電圧変換回路
114・・・差分器
120・・・信号処理回路
121・・・アナログ回路
122・・・デジタル回路
200・・・制御信号生成手段
300・・・判定手段
400・・・検査基準値保持手段
A1・・・第1の演算増幅器
A2・・・第2の演算増幅器
CM1・・・カレントミラー回路
D1・・・第1のダイオード
D2・・・第2のダイオード
IPTAT・・・第1電流
ICONST・・・第2電流
Rd・・・第1の抵抗器
Rofst・・・第2の抵抗器
Rg・・・第3の抵抗器
Q1・・・第1のトランジスタ(第1導電型)
Q2・・・第2のトランジスタ(第1導電型)
Q3・・・第3のトランジスタ(第2導電型)
Q4・・・第4のトランジスタ(第2導電型)
Q5・・・第5のトランジスタ(第2導電型)
Q6・・・第6のトランジスタ(第2導電型)
VSS1・・・第1電圧源
VSS2・・・第2電圧源
VSET・・・設定信号
VREF・・・基準信号
VTMP・・・温度信号
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Semiconductor element 11 ... Mounting stand 12 ... Contactor 13 ... Electrical connection terminal 14 ... Heat distribution means 30 ... Remote temperature sensor 31 ... Temperature controller 100 ... Semiconductor Unit 110 ... temperature detection circuit 111 ... first current source 112 ... second current source 113 ... current-voltage conversion circuit 114 ... difference unit 120 ... signal processing circuit 121 ... analog Circuit 122 ··· Digital circuit 200 ··· Control signal generation means 300 ··· Determination means 400 ··· Inspection reference value holding means A1 ··· First operational amplifier A2 ··· second operational amplifier CM1 ..Current mirror circuit D1 ... first diode D2 ... second diode IPTAT ... first current ICONST ... second current Rd ... first resistor Rofst ... second Resistor Rg · ..Third resistor Q1 ... first transistor (first conductivity type)
Q2 ... Second transistor (first conductivity type)
Q3 ... Third transistor (second conductivity type)
Q4 ... Fourth transistor (second conductivity type)
Q5 ... Fifth transistor (second conductivity type)
Q6 ... Sixth transistor (second conductivity type)
VSS1 ... first voltage source VSS2 ... second voltage source VSET ... setting signal VREF ... reference signal VTMP ... temperature signal

Claims (8)

温度変化に応じて出力が変化する電流を第1電流として出力する第1電流源、および外部から入力される基準信号により出力電流が制御可能かつ温度に対して略一定の電流を第2電流として出力する第2電流源、および前記第1電流と前記第2電流との差を第3電流として入力し前記第3電流を電圧に変換して温度信号として出力する電流電圧変換回路より構成される温度検出回路と、前記温度検出回路と同一チップ上に形成され、外部から入力される設定信号により発熱量が変化する信号処理回路とを同一チップ上に具備する半導体ユニットと、
前記設定信号および前記基準信号を出力する制御信号生成手段と、
前記半導体ユニットの検査基準値を保持する検査基準値保持手段と、
前記設定信号および前記基準信号に応じた前記温度信号を前記検査基準値と比較し、前記半導体ユニットの適否を判定する判定手段と、
を具備することを特徴とする半導体装置。
A first current source that outputs a current whose output changes in response to a temperature change as a first current, and an output current that can be controlled by a reference signal input from the outside and that is substantially constant with respect to the temperature is a second current. A second current source for output, and a current-voltage conversion circuit for inputting a difference between the first current and the second current as a third current, converting the third current into a voltage, and outputting the voltage as a temperature signal. A semiconductor unit comprising a temperature detection circuit and a signal processing circuit which is formed on the same chip as the temperature detection circuit and whose heat generation amount is changed by a setting signal input from the outside, on the same chip;
Control signal generating means for outputting the setting signal and the reference signal;
Inspection reference value holding means for holding the inspection reference value of the semiconductor unit;
A determination means for comparing the temperature signal according to the setting signal and the reference signal with the inspection reference value to determine suitability of the semiconductor unit;
A semiconductor device comprising:
前記信号処理回路は、外部より入力される前記設定信号に応じて消費電流が変化するアナログ回路より構成されることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。   2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the signal processing circuit includes an analog circuit whose current consumption changes in accordance with the setting signal input from the outside. 前記信号処理回路は、外部より入力される前記設定信号に応じて動作周波数が変更可能なデジタル回路より構成されることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the signal processing circuit includes a digital circuit whose operating frequency can be changed according to the setting signal input from the outside. 前記第1電流源は、各々の第1端子が第1の電圧を出力する第1電圧源に接続され、pn接合の面積が1:N(Nは任意の正の値)である第1のダイオードおよび第2のダイオードと、一端が前記第2のダイオードの第2端子に接続された第1の抵抗器と、第1端子が前記第1のダイオードの第2端子に接続された第1導電型の第1のトランジスタと、第1端子が前記第1の抵抗器の他端に接続され、制御端子が第2端子および前記第1のトランジスタの制御端子に接続された第1導電型の第2のトランジスタと、第1端子が第2の電圧を出力する第2電源に接続され、第2端子が制御端子と、前記第1導電型の第1のトランジスタの第2端子に接続された第2導電型の第3のトランジスタと、第1端子が前記第2電源に接続され、制御端子が前記第2導電型の第3のトランジスタの制御端子に共通に接続され、第2の端子が前記第2のトランジスタの第2端子に接続された第2導電型の第4のトランジスタと、第1端子が前記第2電圧源に接続され、制御端子が前記第3および第4のトランジスタの制御端子に共通に接続され、第2端子が前記第1電流の出力端子となる第2導電型の第5のトランジスタとから構成され、
前記第2電流源は、非反転入力端子が前記基準信号の入力端子に接続された第1の演算増幅器と、一端が前記第1の演算増幅器の反転入力端子に接続され、他端が前記第2電圧源に接続された第2の抵抗と、制御端子が前記第1の演算増幅器の出力端子に接続され、第1端子が前記第1の演算増幅器の反転入力端子に接続された第6の第2導電型トランジスタと、入力端子が前記第6の第2導電型トランジスタの第2端子に接続され、出力端子が前記第2電流の出力端子となるカレントミラー回路とで構成され、
前記電流電圧変換回路は非反転入力端子が前記基準信号の入力端子に接続され、反転入力端子が前記第1電流の出力端子および前記第2電流の出力端子に接続され、出力端子が前記温度信号の出力端子となる第2の演算増幅器と、一端が前記第2の演算増幅器の反転入力端子に接続され、他端が前記第2の演算増幅器の出力端子に接続された第3の抵抗器とで構成されることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
The first current source is connected to a first voltage source in which each first terminal outputs a first voltage, and an area of a pn junction is 1: N (N is an arbitrary positive value). A first resistor having one end connected to the second terminal of the second diode, and a first conductive terminal having a first terminal connected to the second terminal of the first diode; A first transistor of the first type, a first terminal connected to the other end of the first resistor, and a control terminal connected to a second terminal and a control terminal of the first transistor. And a second terminal connected to a control terminal and a second terminal of the first-conductivity-type first transistor. The second transistor is connected to a second power source that outputs a second voltage. A third transistor of two conductivity type, a first terminal connected to the second power source, and a control terminal; A fourth transistor of the second conductivity type commonly connected to a control terminal of the second transistor of the second conductivity type, and a second terminal of which the second terminal is connected to the second terminal of the second transistor; A second conductive type second terminal having a terminal connected to the second voltage source, a control terminal commonly connected to the control terminals of the third and fourth transistors, and a second terminal serving as an output terminal of the first current; 5 transistors,
The second current source includes a first operational amplifier having a non-inverting input terminal connected to the reference signal input terminal, one end connected to the inverting input terminal of the first operational amplifier, and the other end connected to the first operational amplifier. A second resistor connected to the two voltage sources, a control terminal connected to the output terminal of the first operational amplifier, and a first terminal connected to the inverting input terminal of the first operational amplifier. A second conductivity type transistor; and a current mirror circuit having an input terminal connected to the second terminal of the sixth second conductivity type transistor and an output terminal serving as an output terminal of the second current,
The current-voltage conversion circuit has a non-inverting input terminal connected to the reference signal input terminal, an inverting input terminal connected to the first current output terminal and the second current output terminal, and an output terminal connected to the temperature signal. A second operational amplifier serving as an output terminal of the second operational amplifier, a third resistor having one end connected to the inverting input terminal of the second operational amplifier and the other end connected to the output terminal of the second operational amplifier; The semiconductor device according to claim 1, comprising:
温度検出回路と同一基板上に設けられた信号処理回路に消費電力を設定するための第1の設定信号を設定し、このときの温度検出回路から第1の温度信号を保持し、
前記信号処理回路に消費電力を設定するための第2の設定信号を設定し、このときの温度検出回路から第2の温度信号を保持し、
前記第1の温度信号と前記第2の温度信号の差分値を求め、この差分値が検査基準値の許容範囲内あるか否かを判定する半導体装置の検査方法。
A first setting signal for setting power consumption is set in a signal processing circuit provided on the same substrate as the temperature detection circuit, and the first temperature signal is held from the temperature detection circuit at this time,
Set a second setting signal for setting power consumption in the signal processing circuit, hold the second temperature signal from the temperature detection circuit at this time,
A semiconductor device inspection method for obtaining a difference value between the first temperature signal and the second temperature signal and determining whether the difference value is within an allowable range of an inspection reference value.
温度検出回路内に設けられ、基準信号により出力電流が制御可能であり、かつ温度に対して略一定の電流を出力する電流源に対して、第1の基準信号を設定し、このときの温度検出回路の第1の温度信号を保持し、
前記電流源に対して、第2の基準信号を設定し、このときの温度検出回路の第2の温度信号を保持し、
前記第1の温度信号と前記第2の温度信号の差分値を求め、この差分値が検査基準値の許容範囲内あるか否かを判定する半導体装置の検査方法。
A first reference signal is set for a current source provided in the temperature detection circuit, the output current of which can be controlled by the reference signal, and which outputs a substantially constant current with respect to the temperature. Holding a first temperature signal of the detection circuit;
A second reference signal is set for the current source, and the second temperature signal of the temperature detection circuit at this time is held,
A semiconductor device inspection method for obtaining a difference value between the first temperature signal and the second temperature signal and determining whether the difference value is within an allowable range of an inspection reference value.
温度変化に応じて出力が変化する電流を第1電流として出力する第1電流源、
外部から入力される基準信号により出力電流が制御可能かつ温度に対して略一定の電流を第2電流として出力する第2電流源、および
前記第1電流と前記第2電流との差を第3電流として入力し前記第3電流を電圧に変換して温度信号として出力する電流電圧変換回路、
から構成される温度検出回路と、
前記温度検出回路と同一チップ上に形成され、外部から入力される設定信号により発熱量が変化する信号処理回路と、
を具備することを特徴とする半導体ユニット。
A first current source that outputs, as a first current, a current whose output changes in response to a temperature change;
A second current source capable of controlling an output current by a reference signal input from the outside and outputting a substantially constant current with respect to temperature as a second current; and a difference between the first current and the second current is a third A current-voltage conversion circuit for inputting the current and converting the third current into a voltage and outputting the voltage as a temperature signal;
A temperature detection circuit comprising:
A signal processing circuit which is formed on the same chip as the temperature detection circuit and whose calorific value is changed by a setting signal input from the outside;
A semiconductor unit comprising:
温度変化に応じて出力が変化する第1電流を出力する第1電流源と、基準信号により出力電流が制御可能かつ温度に対して略一定の第2電流を出力する第2電流源と、前記第1電流と前記第2電流との差を第3電流として入力し電圧に変換して温度信号として出力する電流電圧変換回路とより構成される温度検出回路と、設定信号により発熱量が変化する信号処理回路を具備する半導体ユニットの半導体検査装置であって、
前記設定信号および前記基準信号を出力する制御信号生成手段と、
前記半導体ユニットの検査基準値を保持する検査基準値保持手段と、
前記設定信号および前記基準信号に応じた前記温度信号を前記検査基準値と比較し、前記半導体ユニットの適否を判定する判定手段と、
を具備することを特徴とする半導体検査装置。
A first current source that outputs a first current whose output changes in response to a temperature change; a second current source that outputs a second current that is controllable by a reference signal and that is substantially constant with respect to temperature; The difference between the first current and the second current is input as a third current, converted into a voltage and output as a temperature signal, a temperature detection circuit, and the amount of heat generated is changed by the setting signal. A semiconductor inspection apparatus for a semiconductor unit comprising a signal processing circuit,
Control signal generating means for outputting the setting signal and the reference signal;
Inspection reference value holding means for holding the inspection reference value of the semiconductor unit;
A determination means for comparing the temperature signal according to the setting signal and the reference signal with the inspection reference value to determine suitability of the semiconductor unit;
A semiconductor inspection apparatus comprising:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013527930A (en) * 2010-05-06 2013-07-04 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 Circuit for controlling temperature and enabling testing of semiconductor chips
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CN114100709A (en) * 2021-11-16 2022-03-01 福州大学 Temperature control device for micro-fluidic chip and working method thereof

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