JP2009086192A - Forgery prevention structure and forgery prevention sheet using the same, and method for determining authenticity of the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a forgery prevention structure, which is hardly forged and has a concealed pattern that is hardly recognized with a usual visible light source and can be checked by an extremely simple verification method without using a specified polarization film or a specified verification device or the like, and to provide a forgery prevention sheet using the structure and a method for determining authenticity of the structure. <P>SOLUTION: The forgery prevention structure 1, the forgery prevention sheet and the method for determining authenticity of the sheet are characterized in that: the forgery prevention structure 1 comprises a diffraction structure 2 having a concavo-convex pattern on one surface, a reflection layer 3 provided to cover the concavo-convex pattern, and a polarizer 4 provided on the whole surface in the side opposite to the reflection layer 3; and the diffraction structure 2 has a diffraction grating structure having a periodical cycle of ≤400 nm and an aspect ratio of ≥0.3 or a cross grating structure. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、商品券やクレジットカード等有価証券類、あるいはブランド品や高級品等のステッカー等偽造防止枚葉体に使用する偽造防止構造体及びその真偽判定方法に関するものであり、特に検証機器や器具を使わずに、簡便に目視で真偽の判定を可能にする偽造防止構造体及びそれを用いた偽造防止枚葉体、並びにその真偽判定方法に関する。   The present invention relates to an anti-counterfeit structure used for a counterfeit-preventing sheet such as a gift certificate, a credit card, or a securities, or a sticker such as a branded product or a high-end product, and a method for determining the authenticity thereof. The present invention relates to an anti-counterfeit structure that enables simple and true determination of authenticity without using a tool or an instrument, an anti-counterfeit structure using the anti-counterfeit structure, and an authenticity determination method thereof.

近年、商品券やクレジットカード等の有価証券類の偽造防止対策とか、ブランド品や高級品等の一般に高価な物へ適用希望が多い、真正品であることの証明の為の偽造防止対策としては、大きく分けて2種類の技術があり、その1つは、一般ユーザがその外観を確認しただけで偽造防止技術と認知でき真偽判定できるオバート技術であり、一方、特定のユーザのみが偽造防止技術の存在を知り、某かの特殊な検証を行う事で初めてその偽造防止技術が確認でき、真偽判定できるコバート技術とに分けられる。   In recent years, forgery prevention measures for securities such as gift certificates and credit cards, and anti-counterfeiting measures for proof of authenticity that are often applied to generally expensive items such as branded items and luxury items In general, there are two types of technologies, one of which is an overt technology that can be recognized as a forgery prevention technology by a general user confirming its appearance, and that only a specific user can prevent forgery. It is divided into covert technology that can confirm the anti-counterfeit technology for the first time by knowing the existence of the technology and performing some special verification, and can judge the authenticity.

上記のオバート技術の例としては、反射光同士の干渉やこの反射光の分散を用いて立体画像や特殊な装飾画像とかあるいは特殊な色の変化などを表現し得るホログラムや回折格子、また、光学特性の異なる薄膜を光学的に適当な多層に重ねることによって見る角度により色の変化(カラーシフト)を生じる多層薄膜、等々の技術を利用した、いわゆるOVDが利用されている。[OVDは、”Optical(ly) Variable Device”の略。尚、OVDの同義語にDOVIDもあり、”Diffractive Optical(ly) Variable Imaging Device”の略である。]。   Examples of the above-mentioned overt technology include holograms and diffraction gratings that can express stereoscopic images, special decorative images, or special color changes using interference between reflected light and dispersion of the reflected light, and optical A so-called OVD using a technique such as a multilayer thin film that causes a color change (color shift) depending on the viewing angle by superimposing thin films having different characteristics on an optically appropriate multilayer is used. [OVD is an abbreviation for “Optical (ly) Variable Device”. Note that DOVID is also a synonym for OVD, and is an abbreviation for “Differential Optical (ly) Variable Imaging Device”. ].

このOVDは高度な製造技術を要すること、独特な視覚効果を有し、一瞥で真偽が判定できることから有効な偽造防止手段としてクレジットカード、有価証券、証明書類等の一部にあるいは全面に形成され使用されている。最近では、有価証券以外にもスポーツ用品やコンピュータ部品をはじめとする電気製品ソフトウエアー等に貼り付けられ、その製品の真正さを証明する認証ステッカーや、それら商品のパッケージに貼りつけられる封印ステッカーとしても広く使われるようになってきた。また、このOVDは一般に精巧な偽造が難しく確認が容易な偽造防止手段であるが、商品券や紙幣、パスポート、若しくは株券等の紙媒体に添付する場合には張り替えが容易でない熱転写方式が多くの場合採用されている。これは、熱転写されたOVDを張り替えようとすると、このOVDに利用されている光学薄膜が物理的に破壊されてしまい、本来の視覚効果が損なわれるためであり、薄膜にする事により貼り替え防止、及び改竄防止効果を付与している。   This OVD requires advanced manufacturing technology, has a unique visual effect, and can determine authenticity at a glance, so it can be formed on a part or all of credit cards, securities, certificates, etc. as an effective counterfeiting measure. Is being used. Recently, in addition to securities, it is affixed to sports equipment, computer parts and other electrical product software, etc., as an authentication sticker to prove the authenticity of the product, and as a seal sticker to be affixed to the package of those products Has also become widely used. In addition, this OVD is generally a forgery prevention means that is difficult to elaborate and easy to check, but when attached to paper media such as gift certificates, banknotes, passports, stock certificates, etc. The case has been adopted. This is because if the OVD that has been thermally transferred is to be replaced, the optical thin film used in the OVD is physically destroyed, and the original visual effect is impaired. , And an anti-tampering effect.

一方、上記のコバート技術の例としては、蛍光印刷、万線潜像、偏光潜像、特定波長吸収印刷等が挙げられ、ともに、現在でも重要な地位を占めている。   On the other hand, examples of the above-mentioned covert technology include fluorescent printing, line latent image, polarization latent image, specific wavelength absorption printing, etc., all of which occupy an important position even today.

上記蛍光印刷の代表的な例としては、紫外線で励起され可視蛍光を発する蛍光体を利用した印刷インキを使用し印刷した蛍光印刷が挙げられる。これらの印刷に含まれる蛍光体は、通常の可視光光源下では視認しにくく、紫外線照射により可視領域の蛍光を発する。照射する紫外線の波長としては、使用する蛍光体の種類により種々の光源を選択することが可能である。一般には、365nm波長の紫外線を発光するブラックライトが使用される事が多い。これら蛍光印刷に関する近年の技術としては、2種以上の蛍光体を混合する事で偽造防止効果を向上させる事で発色再現性を困難にする事で偽造防止効果を向上させている(例えば、特許文献1参照。)。   As a typical example of the fluorescent printing, there is fluorescent printing that is printed using a printing ink using a phosphor that is excited by ultraviolet rays and emits visible fluorescence. The phosphors included in these prints are difficult to visually recognize under a normal visible light source, and emit fluorescence in the visible region when irradiated with ultraviolet rays. As the wavelength of the ultraviolet rays to be irradiated, various light sources can be selected depending on the type of phosphor used. In general, a black light that emits ultraviolet light having a wavelength of 365 nm is often used. As a recent technology related to these fluorescent printings, the anti-counterfeiting effect is improved by making the color reproducibility difficult by improving the anti-counterfeiting effect by mixing two or more kinds of phosphors (for example, patents) Reference 1).

また、上記万線潜像の代表的な例としては、凹版印刷による万線潜像印刷が挙げられる。万線潜像印刷では、2種以上の方向性のある、線幅数十ミクロンの線画パターンによって構成され、見る角度や方向によって異なるパターンを発現させる事が特徴である。また、線画の幅や濃度を複写機の解像度以上に精細に調節し、パターン印刷する事で、複写機による複写によって任意のパターンを発現させる事も可能である。これら万線潜像における近年の技術としては、インキ自体に前記の蛍光顔料を混合させる事による機能付加や、更に精密、精細な印刷を行う事による、更なるコピー牽制を行う事で偽造防止効果を向上させている(例えば、特許文献2参照。)。   A typical example of the line latent image is line latent image printing by intaglio printing. The line latent image printing is characterized by two or more types of line drawing patterns having a line width of several tens of microns and different patterns depending on the viewing angle and direction. It is also possible to express an arbitrary pattern by copying with a copying machine by adjusting the width and density of the line drawing more finely than the resolution of the copying machine and performing pattern printing. Recent technologies in these line latent images include anti-counterfeiting effects by adding functions by mixing the above-mentioned fluorescent pigments into the ink itself, and by further controlling the copy by performing more precise and fine printing. (For example, refer to Patent Document 2).

また、上記偏光潜像の代表的な例としては、液晶を利用した物が挙げられる。液晶材料は近年の液晶ディスプレーの需要拡大に伴い、高度な偏光技術が種々開発されているが、これらの偏光技術が偽造防止用デバイスにもコバート技術としていろいろな形態で応用されはじめている。例えば、ネマチック液晶の複屈折性を用いた潜像媒体や、複屈折性を有するプラスチックフィルムを利用した潜像体等があり、これら潜像体は偏光素子を用いたときに所望の潜像情報が可視化出来るようにした技術である(例えば、特許文献3及び特許文献4参照。)。   A typical example of the polarized latent image is a liquid crystal display. As for the liquid crystal materials, various advanced polarization technologies have been developed in accordance with the recent increase in demand for liquid crystal displays, and these polarization technologies are beginning to be applied in various forms as anti-counterfeiting devices as covert technologies. For example, there are latent image media using the birefringence of nematic liquid crystal, and latent image bodies using a plastic film having birefringence, and these latent image bodies have desired latent image information when a polarizing element is used. Can be visualized (see, for example, Patent Document 3 and Patent Document 4).

さらにまた、上記特定波長吸収印刷の代表的な例としては、赤外吸収インキを使用した印刷が挙げられる。これらの印刷に使用される赤外吸収インキは、赤外線の特定波長域(例えば波長700〜1500nmの赤外光を吸収する等)に吸収をもつ顔料とインキバインダーで構成され、人間が認識できない印刷パターンであり、検証の際には、赤外線領域に感度を持つCCDカメラを使用し可視光カットフィルタを付けた赤外スコープ等により確認することができる。これら特定波長吸収印刷に関する近年の技術としては、吸収波長の異なる2種以上の吸収体を混合する事で、波長領域の再現を困難にし、偽造防止効果を向上させる事や、特殊で入手困難な特定波長吸収体を利用する事で偽造防止効果を向上させている(例えば、特許文献5参照。)。   Furthermore, a representative example of the specific wavelength absorption printing includes printing using an infrared absorbing ink. Infrared absorbing ink used in these printings is composed of pigments and ink binders that absorb in the specific wavelength range of infrared rays (for example, absorbing infrared light having a wavelength of 700 to 1500 nm), and cannot be recognized by humans. This is a pattern, and can be confirmed by using an infrared scope with a visible light cut filter using a CCD camera having sensitivity in the infrared region. Recent technologies related to specific wavelength absorption printing include mixing two or more absorbers having different absorption wavelengths, making it difficult to reproduce the wavelength region, improving the anti-counterfeiting effect, and special and difficult to obtain. The anti-counterfeiting effect is improved by using a specific wavelength absorber (see, for example, Patent Document 5).

以下に、上記先行技術文献を示す。
特開平10−250214号公報 特開平11−291609号公報 特開2005−091786号公報 特表2002−530687号公報 特開2004−181791号公報
The above prior art documents are shown below.
Japanese Patent Laid-Open No. 10-250214 JP 11-291609 A JP 2005-091786 A Japanese translation of PCT publication No. 2002-530687 JP 2004-181791 A

しかしながら、上記蛍光印刷技術において、その蛍光体は、一般にブラックライトと呼ばれる比較的波長の長い365nm付近と、254nm付近の波長の紫外線で励起される蛍光体の2種類に大別され、それら蛍光印刷物の検証には、それに応じたブラックライト等の検証機が必要となるという煩わしさがあった。また、上記万線潜像技術においては、その検証に特殊な検証器具を必要としない為、何時でも何処でも検証可能であるが、近年のインクジェットプリンターでは、1plの液滴を制御するまでに向上しており、線画の印刷精度だけでは偽造防止の効果は低くくなっているという問題点があり、また、上記従来の液晶技術においては、その偏光特性の向上や、パターンの精密性、精細性向上によっ
て更に偽造防止効果を向上させているが、発現される隠し文字、及び隠しパターンは、偏光フィルムを使用するか、又は偏光光源を用いなければ隠しパターンを確認する事が出来ないという煩わしさがあり、さらにまた、上記従来の特定波長吸収印刷の技術においても、特定波長の吸収を確認するための検証機が必要となるという問題点があった。
However, in the above-described fluorescent printing technology, the phosphors are generally classified into two types of phosphors that are generally called black light and are excited by ultraviolet rays having a relatively long wavelength of 365 nm and ultraviolet rays having a wavelength of about 254 nm. In the verification, there is an annoyance that a verification device such as a black light is required. In addition, since the above-mentioned line latent image technology does not require a special verification instrument for verification, it can be verified anytime and anywhere, but in recent inkjet printers, it can be improved to control 1 pl droplets. However, there is a problem that the anti-counterfeiting effect is low only by the printing accuracy of the line drawing. In addition, in the above conventional liquid crystal technology, the polarization characteristics are improved and the precision and precision of the pattern are improved. The anti-counterfeiting effect is further improved by the improvement, but the hidden characters and hidden patterns that are expressed cannot be confirmed without using a polarizing film or a polarized light source. Furthermore, the above-described conventional specific wavelength absorption printing technique also has a problem that a verification machine for confirming absorption at a specific wavelength is required.

本発明は、かかる従来技術の問題点を解決するものであり、その課題とするところは、偽造がされにくく、かつ通常の可視光源下では視認しにくく、特定の偏光フィルム等やブラックライト、赤外スコープ等特定の検証機等を使わずに、極簡単な検証方法によって、複雑な変化をする隠しパターンを確認する事が出来る偽造防止構造体及びそれを用いた偽造防止枚葉体並びにその真偽判定方法を提供する事にある。   The present invention solves such problems of the prior art, and the problem is that it is difficult to counterfeit and difficult to view under a normal visible light source, such as a specific polarizing film, black light, red, etc. An anti-counterfeit structure capable of confirming a hidden pattern that changes in a complex manner by a very simple verification method without using a specific verification device such as an outer scope, an anti-counterfeit structure using the same, and its true It is to provide a false judgment method.

本発明に於いて上記課題を達成するために、まず請求項1の発明では、少なくとも一方の面に凹凸部を有する回折構造体と、該凹凸部を覆うように設けられている反射層と、該反射層と反対側の面もしくは該反射層の面のいずれかに全面もしくは部分的に設けられている偏光子とからなる偽造防止構造体であって、前記回折構造体は、400nm以下の周期と0.3以上のアスペクト比を有する回折格子構造、又はクロスグレーティング構造を有していることを特徴とする偽造防止構造体としたものである。   In order to achieve the above object in the present invention, first, in the invention of claim 1, a diffractive structure having an uneven portion on at least one surface, a reflective layer provided so as to cover the uneven portion, An anti-counterfeit structure comprising a polarizer provided on the entire surface or part of the surface opposite to the reflective layer or the surface of the reflective layer, wherein the diffractive structure has a period of 400 nm or less And an anti-counterfeit structure characterized by having a diffraction grating structure having an aspect ratio of 0.3 or more or a cross grating structure.

また、請求項2の発明では、少なくとも一方の面に凹凸部を有する回折構造体と、該凹凸部を覆うように設けられている反射層と、該反射層と反対側の面もしくは該反射層の面のいずれかに全面もしくは部分的に設けられている偏光子とからなる偽造防止構造体であって、前記回折構造体は、400nm以下の周期と0.3以上のアスペクト比を有する回折格子と、401nm以上の周期と0.3以上のアスペクト比を有する回折格子とからなるクロスグレーティング構造を有していることを特徴とする偽造防止構造体としたものである。   According to a second aspect of the present invention, there is provided a diffractive structure having a concavo-convex portion on at least one surface, a reflective layer provided so as to cover the concavo-convex portion, and a surface opposite to the reflective layer or the reflective layer. A forgery-preventing structure comprising a polarizer provided on the entire surface or a part of the surface, wherein the diffraction structure has a diffraction grating having a period of 400 nm or less and an aspect ratio of 0.3 or more And a forgery-preventing structure characterized by having a cross-grating structure composed of a diffraction grating having a period of 401 nm or more and an aspect ratio of 0.3 or more.

また、請求項3の発明では、前記偏光子は、1つ以上の方向性を持つパターンを有し、該パターンが全面に又は部分的に設けられていることを特徴とする請求項1または2記載の偽造防止構造体としたものである。   According to a third aspect of the invention, the polarizer has a pattern having one or more directions, and the pattern is provided on the entire surface or a part thereof. This is a forgery prevention structure described above.

また、請求項4の発明では、前記回折構造体は、1つ以上のパターンを有し、該パターンが全面に又は部分的に設けられていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の偽造防止構造体としたものである。   According to a fourth aspect of the present invention, the diffractive structure has one or more patterns, and the patterns are provided on the entire surface or partially. The anti-counterfeit structure described in 1.

また、請求項5の発明では、請求項1乃至4のいずれかに記載の偽造防止構造体を用いた偽造防止枚葉体。   Moreover, in invention of Claim 5, the forgery prevention sheet | seat body using the forgery prevention structure in any one of Claims 1 thru | or 4.

また、請求項6の発明では、請求項1乃至4のいずれかに記載の偽造防止構造体の真偽判定方法であって、前記偽造防止構造体を構成する偏光子面側から該偏光子面に対し45°以下の浅い角度で偏光子の有無を目視で確認することを特徴とする偽造防止構造体の真偽判定方法としたものである。   The invention according to claim 6 is the method for determining the authenticity of the forgery prevention structure according to any one of claims 1 to 4, wherein the polarizer surface is from the side of the polarizer constituting the forgery prevention structure. The anti-counterfeit structure authenticity determination method is characterized in that the presence or absence of a polarizer is visually confirmed at a shallow angle of 45 ° or less.

さらにまた、請求項7の発明では、請求項5に記載の偽造防止枚葉体の真偽判定方法であって、前記偽造防止枚葉体を構成する偏光子面側から該偏光子面に対し45°以下の浅い角度で偏光子の有無を目視で確認することを特徴とする偽造防止枚葉体の真偽判定方法としたものである。   Furthermore, the invention of claim 7 is the method for determining the authenticity of the forgery-preventing single wafer according to claim 5, wherein the anti-counterfeit single-wafer is from the side of the polarizer constituting the anti-counterfeit single-piece body to the polarizer surface. This is a method for determining the authenticity of a forgery-preventing sheet, characterized by visually confirming the presence or absence of a polarizer at a shallow angle of 45 ° or less.

本発明は以上の構成であるから、下記に示す如き効果がある。   Since this invention is the above structure, there exist the following effects.

即ち、上記請求項に係る発明によれば、少なくとも一方の面に凹凸部を有する回折構造体と、該凹凸部を覆うように設けられている反射層と、該反射層と反対側の面もしくは該反射層の面のいずれかに全面もしくは部分的に設けられている偏光子とからなる偽造防止構造体において、前記回折構造体が、400nm以下の周期と0.3以上のアスペクト比を有する回折格子構造、又はクロスグローティング構造を有する、又は400nm以下の周期と0.3以上のアスペクト比を有する回折格子と、401nm以上の周期と0.3以上のアスペクト比を有する回折格子とからなるクロスグレーティング構造を有する偽造防止構造体とすることによって、この偽造防止構造体を構成する偏光子面側から該偏光子面に対し45°以下の浅い角度で偏光子の有無、即ち複雑な変化をする隠しパターンが目視で確認できるもので、従来のように煩わしさのある偏光フィルムや検証機等を使用せずに、簡便に真偽判定が可能な防止構造体及びそれを用いた偽造防止枚葉体とすることができる。   That is, according to the invention according to the above-described claim, a diffraction structure having an uneven portion on at least one surface, a reflective layer provided so as to cover the uneven portion, and a surface opposite to the reflective layer or An anti-counterfeit structure comprising a polarizer provided entirely or partially on one of the surfaces of the reflective layer, wherein the diffractive structure has a period of 400 nm or less and an aspect ratio of 0.3 or more. A cross having a grating structure or a cross-growing structure, or a diffraction grating having a period of 400 nm or less and an aspect ratio of 0.3 or more, and a diffraction grating having a period of 401 nm or more and an aspect ratio of 0.3 or more By forming the anti-counterfeit structure having a grating structure, the polarizer surface constituting the anti-counterfeit structure has a shallow angle of 45 ° or less with respect to the polarizer surface. Presence of photons, that is, a hidden pattern with complex changes can be visually confirmed, and a prevention structure that can easily determine authenticity without using a troublesome polarizing film or verification machine as in the past It can be set as a body and a forgery prevention sheet body using the same.

以下本発明を実施するための最良の形態を図面を用いて詳細に説明する。   The best mode for carrying out the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

図1は、本発明に係る第1の偽造防止構造体の断面図である。この偽造防止構造体(1)は、少なくとも、回折構造体(2)、反射層(3)、偏光子(4)を有している。この図では、回折構造体(2)に接するように偏光子(4)を設けているが、反射層(4)側に偏光子を設けても良い。   FIG. 1 is a cross-sectional view of a first forgery prevention structure according to the present invention. The forgery prevention structure (1) includes at least a diffraction structure (2), a reflective layer (3), and a polarizer (4). In this figure, the polarizer (4) is provided in contact with the diffractive structure (2), but a polarizer may be provided on the reflective layer (4) side.

図2は、本発明に係る第2の偽造防止構造体の断面図である。この偽造防止構造体(1)は、少なくとも、400nm以下の周期と0.3以上のアスペクト比を有する回折格子と、401nm以上の周期と0.3以上のアスペクト比を有する回折格子とからなるクロスグレーティング構造を有する回折構造体(6)、反射層(7)、偏光子(8)を有している。   FIG. 2 is a cross-sectional view of a second forgery prevention structure according to the present invention. This anti-counterfeit structure (1) is a cross comprising at least a diffraction grating having a period of 400 nm or less and an aspect ratio of 0.3 or more, and a diffraction grating having a period of 401 nm or more and an aspect ratio of 0.3 or more. It has a diffractive structure (6) having a grating structure, a reflective layer (7), and a polarizer (8).

図3は、本発明に係る第3の偽造防止構造体の断面図である。この偽造防止構造体(9)は、少なくとも回折構造体(10)、反射層(11)、偏光子(12)からなり、偏光子(12)が、1つ以上の方向性を持つパターンであり、パターンA(13)とパターンB(14)を有している。   FIG. 3 is a cross-sectional view of a third forgery prevention structure according to the present invention. The anti-counterfeit structure (9) is composed of at least a diffractive structure (10), a reflective layer (11), and a polarizer (12), and the polarizer (12) is a pattern having one or more directions. Pattern A (13) and pattern B (14).

図4は、本発明に係る第3の偽造防止構造体の断面図である。この偽造防止構造体(15)は、少なくとも回折構造体(16)、反射層(17)、偏光子(18)からなり、回折構造体(16)が、1つ以上の方向性を持つパターンであり、パターンC(19)とパターンD(20)を有している。   FIG. 4 is a cross-sectional view of a third forgery prevention structure according to the present invention. The anti-counterfeit structure (15) includes at least a diffractive structure (16), a reflective layer (17), and a polarizer (18), and the diffractive structure (16) has a pattern having one or more directions. Yes, it has pattern C (19) and pattern D (20).

図5は、本発明に係る偽造防止枚葉体の1事例としての偽造防止媒体の断面図である。この偽造防止媒体(32)は、基材(33)に対し、偽造防止構造体(34)を積層した構造を有している。   FIG. 5 is a cross-sectional view of an anti-counterfeit medium as an example of a forgery-preventing single wafer according to the present invention. The forgery prevention medium (32) has a structure in which a forgery prevention structure (34) is laminated on a base material (33).

また、図6は、本発明に係る偽造防止枚葉体の他の1事例としての偽造防止ステッカーの断面図である。この偽造防止ステッカー(21)は、少なくとも、シート状の支持体(22)、偽造防止構造体(23)、接着剤(24)を順次積層した構造を有している。これらステッカーには、カッティングノッチや切り込みを入れ、脆性化することにより貼付後の再剥離を防止し、貼替え不正を困難にすることができ、よりセキュリティ性を向上させることができるものである。   FIG. 6 is a cross-sectional view of an anti-counterfeit sticker as another example of the anti-counterfeit sheet according to the present invention. This anti-counterfeit sticker (21) has a structure in which at least a sheet-like support (22), an anti-counterfeit structure (23), and an adhesive (24) are sequentially laminated. These stickers have cutting notches and cuts and become brittle to prevent re-peeling after sticking, making it difficult for improper replacement and improving security.

また、図7は、本発明に係る偽造防止枚葉体の他の1事例としての偽造防止転写箔の断
面図である。この偽造防止転写箔(25)は、少なくとも、シート状の支持体(26)、偽造防止構造体(27)を順次積層した構造を有しており、少なくとも、偽造防止構造体によって構成される転写層(28)は、支持体(26)より剥離し被転写体(図示せず)に移行可能としたものである。
FIG. 7 is a cross-sectional view of an anti-counterfeit transfer foil as another example of the anti-counterfeit sheet according to the present invention. The anti-counterfeit transfer foil (25) has a structure in which at least a sheet-like support (26) and an anti-counterfeit structure (27) are sequentially laminated, and at least a transfer composed of the anti-counterfeit structure. The layer (28) is peeled off from the support (26) and can be transferred to a transfer target (not shown).

また、図8は、本発明に係る偽造防止枚葉体の他の1事例としての偽造防止用紙を説明するもので、(a)は、その正面図であり、(b)は、(a)のA−A’面の断面図である。この偽造防止用紙(35)は、偽造防止構造体(36)と支持フィルム(37)で構成される偽造防止媒体(38)をマイクロスリットし、部分的に窓の開いた紙(39)の間に漉き込まれた構造を有している。   FIG. 8 illustrates a forgery-preventing sheet as another example of a forgery-preventing sheet according to the present invention. (A) is a front view thereof, and (b) is (a). It is sectional drawing of an AA 'surface. This anti-counterfeit paper (35) is a micro-slit of anti-counterfeit medium (38) composed of an anti-counterfeit structure (36) and a support film (37), and is partially between paper (39) with a window open. It has a structure embedded in.

図9は、本発明に係わる偽造防止枚葉体に用いる偽造防止インキの模式図である。この偽造防止インキ(29)は、偽造防止構造体(30)を鱗片状粉末に加工し、バインダー樹脂(31)に分散、混合されているものである。   FIG. 9 is a schematic diagram of the anti-counterfeit ink used for the anti-counterfeit sheet according to the present invention. This anti-counterfeit ink (29) is obtained by processing the anti-counterfeit structure (30) into a scaly powder and dispersing and mixing it in a binder resin (31).

図10は、本発明に係わる偽造防止構造体の真偽判定方法を説明する模式図である。   FIG. 10 is a schematic diagram for explaining the authenticity determination method for a forgery prevention structure according to the present invention.

以下に、本発明の偽造防止構造体及びそれを用いた偽造防止媒体の事例を、それに用いる材料等を含め詳細に説明する。   Hereinafter, examples of the anti-counterfeit structure of the present invention and an anti-counterfeit medium using the same will be described in detail including materials used therein.

本発明の偽造防止構造体は、可視光以下(400nm以下)の周期の回折格子にる回折光と、その偏光特性を利用している。例えば、300nmの周期でアスペクト比が1のクロスグレーティング構造を有する回折構造体では、45°以下の浅い角度における観察にて、青から緑の回折光が得られる。この回折光は、サブ波長格子の偏光分離効果により、TE偏光(s偏光)の特性を有する。この偏光特性を持つ、鮮やかな青から緑の回折光は、通常の光源下では確認出来ないが、45°以下の浅い角度によってのみ確認が出来る。この偏光特性を持つ回折光と、偏光子を組み合わせる事によって、45°以下の浅い角度によってのみ現れる、色鮮やかな隠しパターンを得る事が出来る。また同様に、該偽造防止構造体を45°以下の浅い角度のまま回転させる事で、色鮮やかな回折光のパターンがネガポジ反転する。   The anti-counterfeit structure of the present invention utilizes diffracted light produced by a diffraction grating having a period of not more than visible light (400 nm or less) and its polarization characteristics. For example, in a diffractive structure having a cross grating structure with a period of 300 nm and an aspect ratio of 1, diffracted light from blue to green can be obtained by observation at a shallow angle of 45 ° or less. This diffracted light has TE polarization (s-polarization) characteristics due to the polarization separation effect of the sub-wavelength grating. Vivid blue to green diffracted light having this polarization characteristic cannot be confirmed under a normal light source, but can be confirmed only at a shallow angle of 45 ° or less. By combining the diffracted light having polarization characteristics and a polarizer, a colorful hidden pattern that appears only at a shallow angle of 45 ° or less can be obtained. Similarly, by rotating the anti-counterfeit structure with a shallow angle of 45 ° or less, the pattern of colorful diffracted light is negative-positive inverted.

一般に、可視光以下の周期を有する回折格子(サブ波長格子)の偏光分離効果は、格子の溝に対して垂直に振動する方向をTE偏光(s偏光)と呼び、水平に振動する方向をTM偏光(p偏光)と呼ぶ。回折格子が波長λに対し、入射角度θ0、周期aを用いて下式(A)の条件が満たされた時、その回折格子構造は、光にとって有効屈折率Neffで表される薄膜構造内を進行しているように認識される。このとき、有効屈折率Neffは、入射の偏光方向によって異なり、第一次近似では下式(B)(C)で書き表される。 In general, the polarization separation effect of a diffraction grating (subwavelength grating) having a period of less than or equal to visible light is referred to as TE polarized light (s-polarized light) in a direction that oscillates perpendicularly to the groove of the grating, and TM refers to the direction that oscillates horizontally. This is called polarized light (p-polarized light). When the diffraction grating satisfies the condition of the following formula (A) using the incident angle θ 0 and the period a with respect to the wavelength λ, the diffraction grating structure is a thin film structure represented by an effective refractive index N eff for light. It is recognized as progressing inside. At this time, the effective refractive index N eff varies depending on the incident polarization direction, and is expressed by the following equations (B) and (C) in the first approximation.

a cosθ0 < λ ─(A)
TE偏光:NTM=((1−f)n1 2+fn2 21/2 ─(B)
TM偏光:NTE=(n1 2fn2 2/fn1 2+(1−f)n2 21/2 ─(C)
ここで、n1、n2はそれぞれ、空気層と、回折構造層表面の屈折率を表し、fは周期aに対する回折構造のヤマ部分のデューティー比を示す。式(B)、(C)から、fが0,1以外では各々の偏光に対する有効屈折率が異なっている事が判る。この条件下で、各々の偏光成分における有効屈折率Neff =NTEまたは、Neff =NTM(ただしNTE≠NTM)のいずれかが、異なる媒質を進行する光の屈折の関係式(Snellの式)にて、
1sinθ0 >Neff ─ (D)
を満たすと、その偏光方向をもつ入射光は有効屈折率Neff のもつ薄膜層を通過出来なくなる。この状態は有効屈折率Neff のもつ薄膜層での屈折角度θ1がほぼ90°の達しており、n2側への層に光が移動出来ない状態に相当し、入射したエネルギーの発散先として
反射光が生じる事となる。以上、いずれか一方の偏光方向の光が格子構造から認識される、有効屈折率Neff の効果によって式(D)が成立すると、微小周期による偏光素子が機能する事が知られている。
〔参考文献〕岡田 真 光学,35巻5号(2006)280-281
〔参考文献〕北川清一郎ほか o plus E ,26 (2004) 1058-1063
〔参考文献〕岡田 真 JETI, 6月号臨時増刊号(2005)65-67
〔参考文献〕岡田 真 光アライアンス,16(2005)No.10
本発明における回折構造体は上記の「可視光以下の周期を有する回折格子(サブ波長格子)の偏光分離効果」を応用しており、また同時に、この偏光回折光が、特定の観察角度でのみ目視可能な、色鮮やかな「可視偏光回折光」である事を特徴としている。
a cosθ 0 <λ ─ (A)
TE polarized light: N TM = ((1-f) n 1 2 + fn 2 2 ) 1/2 ─ (B)
TM polarization: N TE = (n 1 2 fn 2 2 / fn 1 2 + (1−f) n 2 2 ) 1/2 ─ (C)
Here, n 1 and n 2 represent the refractive index of the air layer and the surface of the diffractive structure layer, respectively, and f represents the duty ratio of the yama part of the diffractive structure with respect to the period a. From equations (B) and (C), it can be seen that the effective refractive index for each polarized light is different when f is other than 0 and 1. Under this condition, either effective refractive index N eff = N TE or N eff = N TM (where N TE ≠ N TM ) in each polarization component is a relational expression of refraction of light traveling through different media ( Snell's formula)
N 1 sinθ 0 > N eff ─ (D)
If the above condition is satisfied, incident light having the polarization direction cannot pass through the thin film layer having the effective refractive index N eff . This state corresponds to a state where the refraction angle θ 1 in the thin film layer having the effective refractive index N eff reaches approximately 90 °, and light cannot move to the layer toward the n 2 side, and the divergence destination of the incident energy As a result, reflected light is generated. As described above, it is known that when the expression (D) is established by the effect of the effective refractive index N eff in which light in one of the polarization directions is recognized from the lattice structure, the polarizing element with a minute period functions.
[References] Makoto Okada Optics, Vol.35, No.5 (2006) 280-281
[References] Seiichiro Kitagawa et al. O plus E, 26 (2004) 1058-1063
[References] Okada Makoto JETI, June Special Issue (2005) 65-67
[References] Okada Makoto Alliance, 16 (2005) No. 10
The diffractive structure in the present invention applies the above-mentioned “polarization separation effect of a diffraction grating (sub-wavelength grating) having a period of less than visible light”, and at the same time, this polarized diffracted light is only at a specific observation angle. It is characterized by being visible and colorful “visible polarized diffracted light”.

また、上記の特性を有する回折構造体と、更に別の偏光子層とを組み合わせる事によって、浅い角度(又は再帰反射方向)でのみ観察される。この回折構造体による色鮮やかな偏光回折光を、その上に設置された偏光子によって、領域制御することで偽造防止構造体を得ることができる。   In addition, by combining a diffractive structure having the above characteristics with another polarizer layer, it is observed only at a shallow angle (or retroreflective direction). An anti-counterfeit structure can be obtained by controlling the area of the colorful polarized diffracted light from the diffractive structure with a polarizer placed thereon.

また、以下に光源及び観測位置の違いによる回折について更に詳細に説明する。   Further, the diffraction due to the difference between the light source and the observation position will be described in more detail below.

図12は、回折構造面に対し反射する方向の場合で且つ、回折構造面に対する垂線に対し、光源と、観測点がそれぞれ異なる側にある場合の、側面模式図である。この場合、式(E)が成立する。   FIG. 12 is a schematic side view in the case of the direction of reflection with respect to the diffractive structure surface and when the light source and the observation point are on different sides with respect to the perpendicular to the diffractive structure surface. In this case, the formula (E) is established.

a(sinθa−sinθb)= mλ ─(E)
また、図13は、回折構造面に対し反射する方向の場合で且つ、回折構造面に対する垂線に対し、光源と、観測点が同じ側にある場合の、側面模式図である。この場合、式(F)が成立する。
a (sin θ a −sin θ b ) = mλ − (E)
FIG. 13 is a schematic side view of the case where the light is reflected from the diffractive structure surface and the light source and the observation point are on the same side with respect to the perpendicular to the diffractive structure surface. In this case, Formula (F) is materialized.

a(sinθa+sinθc) = mλ ─(F)
上記図12、図13、および式(E)、式(F)における、aは球状微粒子回折構造の粒径、θaは光源の入射角、θb、θc、θd、θeは回折角、mは回折次数、λは回折光の波長である。
a (sin θ a + sin θ c ) = mλ − (F)
In FIG. 12, FIG. 13, and the equations (E) and (F), a is the particle size of the spherical fine particle diffraction structure, θ a is the incident angle of the light source, θ b , θ c , θ d , θ e are the rotation times. The folding angle, m is the diffraction order, and λ is the wavelength of the diffracted light.

ここで、本発明に係わる400nm以下の粒径aである球状微粒子回折構造の場合、式(E)では、どの角度のθa、θbの組み合わせでも可視の回折光(400〜700nm)が、確認出来ない。ただし、式(F)では、90°>θa >60°、90°>θc >0°の範囲で、700>λ>400 を満たす、何れかの範囲の可視の回折光を確認する事が出来る。 Here, in the case of a spherical fine particle diffractive structure having a particle diameter a of 400 nm or less according to the present invention, in the formula (E), visible diffracted light (400 to 700 nm) is obtained by any combination of θ a and θ b at any angle. I can't confirm. However, in the formula (F), visible diffracted light in any range satisfying 700>λ> 400 in the range of 90 °> θ a > 60 °, 90 °> θ c > 0 ° is confirmed. I can do it.

また、特に、図12、式(E)の様な観察条件で、どの角度のθa、θbの組み合わせでも可視の回折光(400〜700nm)が、確認出来ず、図11、式(F)の様な観察条件にて、回折構造面に対して30°以下の回折光と入射光の組み合わせにおいてのみ、回折光が得られる場合には、通常の可視光源下で回折光が判りにくい(黒色又はダーク単色)。この様に入射角、及び回折角と波長領域を設定することによって、通常光源下では可視偏光回折光が判り難く、一方、図13の様な光源と、観測点が同じ側にある場合において、平面に対して45°以下の浅い角度での入射、及び回折角の組み合わせでのみ、鮮やかな可視偏光回折光を観察する事が可能となる。 In particular, under the observation conditions as shown in FIG. 12 and formula (E), no visible diffracted light (400 to 700 nm) can be confirmed in any combination of θ a and θ b , and FIG. When the diffracted light can be obtained only in the combination of the diffracted light of 30 ° or less and the incident light with respect to the diffractive structure surface under the observation conditions such as), the diffracted light is difficult to understand under a normal visible light source ( Black or dark single color). By setting the incident angle, the diffraction angle, and the wavelength region in this way, it is difficult to understand visible polarized diffracted light under a normal light source. On the other hand, when the observation point is on the same side as the light source as shown in FIG. Visible visible polarized diffracted light can be observed only by a combination of incidence at a shallow angle of 45 ° or less with respect to the plane and a diffraction angle.

このような可視光領域の回折光を利用する場合の球状微粒子回折構造の粒径は、200nmから400nmの範囲から所望の回折波長に応じて選択することが好ましい。200nm未満の周期では、上式(E)、及び(F)のどちらの場合でも可視の回折光を確認す
る事が出来ず、また、400nmを超える周期の場合は、可視光と同等以上の周期となる為に、偏光分離効果が著しく低下する為である。
The particle size of the spherical fine particle diffractive structure when using such diffracted light in the visible light region is preferably selected from a range of 200 nm to 400 nm according to a desired diffraction wavelength. If the period is less than 200 nm, visible diffracted light cannot be confirmed in either of the above formulas (E) and (F). If the period exceeds 400 nm, the period is equal to or greater than that of visible light. This is because the polarization separation effect is significantly reduced.

次に、本発明の偽造防止構造体に係る偏光子について説明する。この偏光子は、公知の方法で設ける事が出来、例えば、二色性染料を添加したフィルムを延伸して得られる偏光フィルムの類がある。また、ポリイミド、ポリアミド、ポリビニルアルコールをスピンコーティングにより塗布し、乾燥・焼成して形成される配向膜にラビング処理を施すことにより配向膜を得た後、ネマチック液晶を塗布し配向させ、硬化する事により得られる偏光子の類や、光配向膜をパターン露光して配向膜を使用し、2色性染料もしくは2色性染料を混ぜた液晶を配向させることにより偏光子を得ても良いがこれに限定されない。また、この偏光子は、上記回折格子上に直接設けるか、又は、偏光子上に直接回折構造を形成する、又は偏光子と回折構造体を別々で作成した後に、接着剤を介してドライラミ法、ルーダーラミ法、転写法等の公知の方法で貼り合わせても良い。   Next, the polarizer which concerns on the forgery prevention structure of this invention is demonstrated. This polarizer can be provided by a known method. For example, there is a kind of polarizing film obtained by stretching a film to which a dichroic dye is added. In addition, an alignment film obtained by applying a rubbing treatment to an alignment film formed by applying polyimide, polyamide and polyvinyl alcohol by spin coating, drying and baking, and then applying and aligning nematic liquid crystal to cure. A polarizer may be obtained by aligning a dichroic dye or a liquid crystal mixed with a dichroic dye by using an alignment film after pattern exposure of a photo-alignment film or a photo-alignment film. It is not limited to. In addition, the polarizer is provided directly on the diffraction grating, or directly forms a diffractive structure on the polarizer, or after the polarizer and the diffractive structure are separately formed, the dry lamination method is performed via an adhesive. Further, they may be bonded together by a known method such as a ruder lamination method or a transfer method.

次に、本発明の偽造防止構造体に係る回折構造体について説明する。   Next, the diffraction structure according to the forgery prevention structure of the present invention will be described.

次に、回折構造体について詳細を説明する。本発明の回折構造体の製造方法としては、既知の回折構造体の製造方法を利用して良く、例えば、熱可塑性樹脂を熱圧エンボスして成型する方法や、光硬化樹脂を利用したフォトポリマー法、又はその両方の製造方法を利用したハイブリッド法でも良いが、これに限定されない。   Next, details of the diffractive structure will be described. As a method for producing a diffractive structure of the present invention, a known method for producing a diffractive structure may be used. For example, a method of molding a thermoplastic resin by hot-pressure embossing, or a photopolymer using a photocurable resin. However, the present invention is not limited to this.

次に、本発明の偽造防止構造体に使用される反射層について説明する。本発明の反射層は、回折構造体を覆うようにして設けられた光学薄膜からなり、偏光子を透過した光を反射させる事を特徴とする。この為、回折構造体よりも屈折率が高い高屈折率材料を使用することによって光学効果を得ることもできる。この場合、両層の屈折率の差は、0.2以上であることが好ましい。屈折率の差を0.2以上にすることによって、回折構造体と反射層との界面で屈折および反射が起こり、回折構造体の構造による光学効果を得ることができる。上記反射層の材料としては、Al、Sn、Cr、Ni、Cu、Au、Agなどの金属材料の単体、またはこれらの化合物などが挙げられる。   Next, the reflection layer used for the forgery prevention structure of the present invention will be described. The reflective layer of the present invention is made of an optical thin film provided so as to cover the diffractive structure, and is characterized by reflecting light transmitted through the polarizer. For this reason, an optical effect can also be obtained by using a high refractive index material having a higher refractive index than that of the diffractive structure. In this case, the difference in refractive index between the two layers is preferably 0.2 or more. By setting the difference in refractive index to 0.2 or more, refraction and reflection occur at the interface between the diffractive structure and the reflective layer, and an optical effect due to the structure of the diffractive structure can be obtained. Examples of the material for the reflective layer include simple substances such as Al, Sn, Cr, Ni, Cu, Au, and Ag, or compounds thereof.

また、透明な反射層(4)として使用できる高屈折率材料の例を以下に挙げる。以下に示す化学式または化合物名の後に続くカッコ内の数値は屈折率nを示す。セラミックスとしては、Sb23(3.0)、Fe23(2.7)、TiO2(2.6)、CdS(2.6)、CeO2(2.3)、ZnS(2.3)、PbCl2(2.3)、CdO(2.2)、Sb23(5)、WO3(5)、SiO(5)、Si23(2.5)、In23(2.0)、PbO(2.6)、Ta23(2.4)、ZnO(2.1)、ZrO2(5)、MgO(1)、Si22(10)、MgF2(4)、CeF3(1)、CaF2(1.3〜1.4)、AlF3(1)、Al23(1)、GaO(2)などが挙げられる。有機ポリマーとしては、ポリエチレン(1.51)、ポリプロピレン(1.49)、ポリテトラフルオロエチレン(1.35)、ポリメチルメタクリレート(1.49)、ポリスチレン(1.60)などが挙げられる。これらの材料は、屈折率、反射率、透過率などの光学特性や、耐候性、層間密着性などに基づいて適宜選択され、薄膜の形態で形成される。形成方法としては、膜厚、成膜速度、積層数、光学膜厚などの制御が可能な、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法など公知の方法を適宜使用することができる。また、斜方蒸着法、斜方スパッタリング法等によって、回折格子を設けることで、回折光の方向や角度を制御した複雑な光学効果を得ることもできる。 Moreover, the example of the high refractive index material which can be used as a transparent reflection layer (4) is given below. The numerical value in parentheses following the chemical formula or compound name shown below indicates the refractive index n. As ceramics, Sb 2 O 3 (3.0), Fe 2 O 3 (2.7), TiO 2 (2.6), CdS (2.6), CeO 2 (2.3), ZnS (2 .3), PbCl 2 (2.3), CdO (2.2), Sb 2 O 3 (5), WO 3 (5), SiO (5), Si 2 O 3 (2.5), In 2 O 3 (2.0), PbO (2.6), Ta 2 O 3 (2.4), ZnO (2.1), ZrO 2 (5), MgO (1), Si 2 O 2 (10) MgF 2 (4), CeF 3 (1), CaF 2 (1.3 to 1.4), AlF 3 (1), Al 2 O 3 (1), GaO (2), and the like. Examples of the organic polymer include polyethylene (1.51), polypropylene (1.49), polytetrafluoroethylene (1.35), polymethyl methacrylate (1.49), polystyrene (1.60) and the like. These materials are appropriately selected based on optical characteristics such as refractive index, reflectance, and transmittance, weather resistance, interlayer adhesion, and the like, and are formed in the form of a thin film. As a formation method, a known method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, or a CVD method capable of controlling the film thickness, the film formation speed, the number of stacked layers, the optical film thickness, and the like can be appropriately used. Further, by providing a diffraction grating by an oblique deposition method, an oblique sputtering method, or the like, a complicated optical effect in which the direction and angle of diffracted light are controlled can be obtained.

また、これら材料の微粒子を各種溶媒に分散した高輝性インキや、上記の金属、セラミックス、又は有機ポリマーの微細な粉末やゾルまたは金属ナノ粒子などを有機高分子樹脂に分散して得られる高輝性光反射インキ、有機ポリマーや有機ポリマーの微粒子を使用することもできる。この場合、回折構造体を溶剤によりアタックさせないようにする注意が必要であるが、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法など公知の印刷法により形成できる。このような印刷法により反射層を設ける場合には、乾燥後の膜厚が0.001〜10μm程度になるように調整すればよい。   High glitter ink obtained by dispersing fine particles of these materials in various solvents and fine powders or sols or metal nanoparticles of the above metals, ceramics, or organic polymers in organic polymer resins. Light reflecting ink, organic polymer or organic polymer fine particles can also be used. In this case, care must be taken not to attack the diffractive structure with a solvent, but the diffractive structure can be formed by a known printing method such as a gravure printing method, a flexographic printing method, or a screen printing method. When the reflective layer is provided by such a printing method, the thickness after drying may be adjusted to be about 0.001 to 10 μm.

また、金属等でなる反射層(4)又は透明な反射層(4)は部分的に設けてもよい。この場合、パスタ加工、水洗シーライト加工、レーザー加工などが例として挙げられるほか、例えば錫等を真空蒸着する事で微細な海島状の反射層をに設ける事も可能である。   The reflective layer (4) made of metal or the like or the transparent reflective layer (4) may be partially provided. In this case, pasta processing, water-washed celite processing, laser processing, and the like can be cited as examples. It is also possible to provide a fine sea-island-like reflective layer by, for example, vacuum deposition of tin or the like.

上記透明な反射層(4)の透過率は400nm〜700nmの波長領域での透過率が20%以上であり、この範囲であれば、反射層(4)の下に配置された情報、例えば顔写真、文字、パターン等の印刷情報が確認可能となる為である。また、透明な反射層(4)が配置された部分では、該反射層の下部に視認可能な情報を設ける事が出来、必要な情報と偽造防止構造を積層する事が可能となる。これらの技術により、例えば、IDカードやパスポート等で使用可能な、偽造防止用オーバーシート等に応用する事が可能である。   The transmittance of the transparent reflection layer (4) is 20% or more in the wavelength region of 400 nm to 700 nm, and information within the reflection layer (4), for example, a face, is within this range. This is because printing information such as photographs, characters, patterns, etc. can be confirmed. Further, in the portion where the transparent reflective layer (4) is disposed, visible information can be provided below the reflective layer, and necessary information and a forgery prevention structure can be laminated. With these technologies, for example, it can be applied to an anti-counterfeit oversheet that can be used in an ID card, a passport, or the like.

本発明の偽造防止枚葉体の1事例として、例えば、図6に示すような偽造防止ステッカー(21)において、支持体(22)および接着剤(24)は、例えば、公知のステッカー製造に用いられる材料および手法を適宜用いて製造できる。 また、貼り付けられたステッカーを不正に剥すと、ステッカーが破壊してしまうように、層間に剥離する部分を設けたり、ステッカーに切れ込みを入れることも可能である。これによると、ステッカーが破壊されるので、もしステッカーを別の基材に貼り替えて利用しようとする不正を図られても再利用を阻止することに有効である。また、これによると、ステッカーが破壊されるので、(もしステッカーの下方に秘密の情報が設けてある場合に)秘密の情報の盗み読みした後に元の箇所にこの本物のステッカーを貼りつけたり、秘密の情報を改ざんした後に元の箇所にこの本物のステッカーを貼りつけたりといった不正を阻止することにも有効である。   As one example of the anti-counterfeit sheet according to the present invention, for example, in the anti-counterfeit sticker (21) as shown in FIG. 6, the support (22) and the adhesive (24) are used, for example, for manufacturing a known sticker. Can be produced using appropriate materials and techniques. In addition, it is possible to provide a part to be peeled between layers or to make a notch in the sticker so that the sticker will be destroyed if it is illegally peeled off. According to this, since the sticker is destroyed, it is effective in preventing reuse even if an attempt is made to replace the sticker with another base material and try to use it. This also destroys the sticker, so if you have read the secret information (if there is secret information underneath the sticker) It is also effective in preventing fraud such as pasting this genuine sticker on the original part after falsifying the information.

また、本発明の偽造防止枚葉体の1事例として、例えば、図6に示すような偽造防止転写箔(25)における支持体(26)は、厚みが安定しており、かつ耐熱性の高いポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用いるのが一般的であるが、その材料は特に限定されない。その他のフィルム材料として、高い耐熱性を示すポリエチレンナフタレート樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルムなどを同様の目的で使用することができる。また、真空転写法のような、加熱条件下での3次元形状への追従転写を行う場合には、加熱により軟化するフィルム材料、たとえばポリエチレン、ポリプロピレン、塩化ビニル、A−PETなども使用することが出来る。   Moreover, as one example of the forgery-preventing sheet material of the present invention, for example, the support (26) in the forgery-preventing transfer foil (25) as shown in FIG. 6 has a stable thickness and high heat resistance. A polyethylene terephthalate resin film is generally used, but the material is not particularly limited. As other film materials, a polyethylene naphthalate resin film, a polyimide resin film, or the like exhibiting high heat resistance can be used for the same purpose. Also, when performing follow-up transfer to a three-dimensional shape under heating conditions, such as vacuum transfer, use film materials that soften by heating, such as polyethylene, polypropylene, vinyl chloride, A-PET, etc. I can do it.

また、上記偽造防止転写箔(25)において、偽造防止構造体(27)は支持体(26)から剥離可能であってもよい。なお、支持体(26)と偽造防止構造体(27)との間に、支持体から剥離可能な剥離保護層(図示せず)、又は、支持体から剥離しない離型層と呼ばれる層が設けられる場合があるが、これらの層はいずれも必須ではない。すなわち、これらの層は、転写された偽造防止構造体(27)の表面を保護する意図で、又は安定した剥離強度を得る事で、転写する際の転写性能を高める意図で設計により適宜設けてもよいオプションである。この図示しない剥離保護層としては、ポリメチルメタクリレート樹脂と他の熱可塑性樹脂たとえば塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体もしくはニトロセルロース樹脂との混合物、またはポリメチルメタクリレート樹脂とポリエチレンワックスとの混合物などが挙げられる。また、酢酸セルロース樹脂と熱硬化性樹脂たとえばエポキシ樹脂、フェノール樹脂、熱硬化型アクリル樹脂またはメラミン樹脂との混合物を塗工した後、熱により硬化させたものも好ましい例として挙げられる。又、離型層としては、シリコン樹脂、フッ素樹脂等の離型性のある樹脂が挙げられ、特に離型紙用の材料が用いられる
。これらの樹脂を支持体(26)に塗工する事で、積層体の離型性、剥離性を制御する事が可能である。
In the forgery prevention transfer foil (25), the forgery prevention structure (27) may be peelable from the support (26). A layer called a release protective layer (not shown) that can be peeled off from the support or a release layer that is not peeled off from the support is provided between the support (26) and the forgery prevention structure (27). However, none of these layers are required. That is, these layers are appropriately provided by design for the purpose of protecting the surface of the transferred anti-counterfeit structure (27) or for the purpose of improving the transfer performance at the time of transfer by obtaining a stable peel strength. Is also a good option. Examples of the peeling protection layer (not shown) include polymethyl methacrylate resin and other thermoplastic resins such as a mixture of vinyl chloride / vinyl acetate copolymer or nitrocellulose resin, or a mixture of polymethyl methacrylate resin and polyethylene wax. It is done. A preferable example is one obtained by applying a mixture of a cellulose acetate resin and a thermosetting resin such as an epoxy resin, a phenol resin, a thermosetting acrylic resin, or a melamine resin, and then curing it by heat. Examples of the release layer include resins having a release property such as a silicon resin and a fluorine resin, and a release paper material is particularly used. By applying these resins to the support (26), it is possible to control the release property and peelability of the laminate.

また、上記偽造防止転写箔(25)において、接着剤層は必ずしも必須でない。転写時に密着させるための接着剤は、転写箔の偽造防止構造体(27)に対し、支持体と異なる側の最表層に設けるか、又は非転写物の最表層に設けてれば良い。該接着層は任意のパターンで形成する事も可能である。一般に、接着剤としては、様々な被転写材(例えば、紙・プラスチック)に接した状態で熱および圧力を与えられることにより、被転写材に接着する機能を有する公知の感熱樹脂(感熱性接着材料)が使用される。   Moreover, in the said forgery prevention transfer foil (25), an adhesive bond layer is not necessarily essential. The adhesive for adhering at the time of transfer may be provided on the outermost layer on the side different from the support relative to the anti-counterfeit structure (27) of the transfer foil, or may be provided on the outermost layer of the non-transferred material. The adhesive layer can be formed in an arbitrary pattern. In general, as an adhesive, a known heat-sensitive resin (heat-sensitive adhesive having a function of adhering to a transfer material by being applied with heat and pressure in contact with various transfer materials (for example, paper and plastic). Material) is used.

本発明の偽造防止枚葉体に使用する偽造防止インキ(29)において、例えば、図7に示すように、偽造防止構造体(30)は、鱗片状粉末に加工される。印刷インキの顔料として使用される場合は、その印刷方法、塗布量等によって粒径を調節すればよく、バインダー樹脂(31)は公知の印刷用バインダー又はビヒクルが使用できる。   In the anti-counterfeit ink (29) used for the anti-counterfeit sheet according to the present invention, for example, as shown in FIG. 7, the anti-counterfeit structure (30) is processed into a scaly powder. When used as a pigment for printing ink, the particle size may be adjusted by the printing method, coating amount, etc., and a known printing binder or vehicle can be used as the binder resin (31).

例えば、図5に示すような偽造防止媒体(32)において、その基材(33)としては、例えば、紙幣、ポリマー紙幣、商品券やクレジットカード等の有価証券類や、ブランド品や高級品等の一般に高価なものそれ自体やパッケージ等が挙げられるがこの限りでない。これら基材(33)に対し積層する為に、接着剤(図示せず)を介して偽造防止構造体(34)を設けることができる。あるいは図6に示すような偽造防止ステッカー(21)、図6に示すような偽造防止転写箔(25)を基材に貼付したものとすることもできる。さらには、図8に示すような偽造防止インキ(29)を基材(33)に塗工する事が可能である。   For example, in the anti-counterfeit medium (32) as shown in FIG. 5, as the base material (33), for example, banknotes, polymer banknotes, securities such as gift certificates and credit cards, brand goods, luxury goods, etc. In general, expensive ones, packages and the like are not limited thereto. In order to laminate the base material (33), an anti-counterfeit structure (34) can be provided via an adhesive (not shown). Alternatively, a forgery prevention sticker (21) as shown in FIG. 6 and a forgery prevention transfer foil (25) as shown in FIG. Furthermore, forgery prevention ink (29) as shown in FIG. 8 can be applied to the base material (33).

また、本発明の偽造防止枚葉体の事例としての偽造防止用紙(35)において、図8(b)に示す支持フィルム(37)としては、厚みが安定しており、かつ耐熱性の高いポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム、ポリエチレンナフタレート樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルムなどの他に、ポリエチレン、ポリプロピレン、塩化ビニル等が使用できるが、用紙の耐性、寸法安定性等の要求品質に見合うものであればこれに限定されない。また、偽造防止用紙(35)は、必ずしも支持フィルム(37)を必要としない。通常、紙への漉き込みの場合、偽造防止構造体(36)、あるいは図6に示す偽造防止ステッカー(21)、図7に示す偽造防止転写箔(25)、図5に示す偽造防止媒体(32)のいずれか一つ以上を任意の形状にした後に、紙(39)中に漉き込んだものとしてもよい。例えば、細長いスリット形状の物を連続直線状に透き込む、又は微細紛を透き込むこと等が例として挙げられる。   In the anti-counterfeit paper (35) as an example of the anti-counterfeit sheet according to the present invention, the support film (37) shown in FIG. 8 (b) has a stable thickness and a high heat resistance polyethylene. In addition to terephthalate resin film, polyethylene naphthalate resin film, polyimide resin film, etc., polyethylene, polypropylene, vinyl chloride, etc. can be used, but it is limited to this as long as it meets the required quality of paper, dimensional stability, etc. Not. Further, the anti-counterfeit paper (35) does not necessarily require the support film (37). Usually, in the case of squeezing into paper, a forgery prevention structure (36), a forgery prevention sticker (21) shown in FIG. 6, a forgery prevention transfer foil (25) shown in FIG. 7, or a forgery prevention medium ( Any one or more of 32) may be formed into an arbitrary shape and then inserted into paper (39). For example, an elongate slit-shaped object can be seen as a continuous straight line, or fine powder can be seen as an example.

以上、事例を基に各部材の詳細な説明をしてきたが、意匠性を向上すべく各層を着色することや、表面もしくは層間に印刷を施すことや、パターン状に設置した任意の層の段差を目立たなくさせるオーバーコートを施す事など、使用の目的により適宜利用可能である。また、各層の接着性を鑑み、各層間に接着アンカー層を設けることや、コロナ放電処理・プラズマ処理・フレーム処理等の各種易接着処理を施すことも可能である。更には、回折構造体の回折光以外の光を除去する目的で、この偽造防止構造体(1)の下に、黒色層(光吸収層)や着色層(特定波長吸収層)を全面、又は任意のパターンで設置する、又は、回折構造体の回折光以外の光を正反射方向へ反射、散乱させる為の反射層や散乱層を追加で設ける事も可能である。   In the above, detailed explanation of each member has been made based on the examples, but each layer is colored to improve the design, printing on the surface or between layers, or the step of any layer installed in a pattern It can be used appropriately depending on the purpose of use, such as applying an overcoat that makes the film inconspicuous. Moreover, in view of the adhesiveness of each layer, it is possible to provide an adhesion anchor layer between each layer, and to perform various easy adhesion treatments such as corona discharge treatment, plasma treatment, and flame treatment. Further, for the purpose of removing light other than the diffracted light of the diffractive structure, a black layer (light absorption layer) or a colored layer (specific wavelength absorption layer) is entirely provided under the anti-counterfeit structure (1), or It is possible to provide an arbitrary pattern, or to additionally provide a reflection layer or a scattering layer for reflecting and scattering light other than the diffracted light of the diffractive structure in the regular reflection direction.

次に、本発明の真偽判定方法について説明する。この真偽判定方法として、例えば、図10に示すように、偽造防止構造体(1)をこの偽造防止構造体に対し45°以下の角度にて偏光子(6)の存在を確認すればよい。また、特に図示しないが、例えば、偽造防止構造体の平面に対して45°以下の角度から偏光光源からの平行光を当て、隠しパターン
の回折光を再帰反射方向から確認する事も可能である。この場合、ある程度離れた場所からでも検証が可能となる。
Next, the authenticity determination method of the present invention will be described. As this true / false determination method, for example, as shown in FIG. 10, the anti-counterfeit structure (1) may be checked for the presence of the polarizer (6) at an angle of 45 ° or less with respect to the anti-counterfeit structure. . Although not specifically illustrated, for example, it is possible to apply parallel light from a polarized light source from an angle of 45 ° or less with respect to the plane of the anti-counterfeit structure and confirm the diffracted light of the hidden pattern from the retroreflection direction. . In this case, verification can be performed even from a certain distance.

以下に、本発明の具体的実施例について説明する。   Specific examples of the present invention will be described below.

<実施例1>
25μmPETフィルムに、バーコート印刷法にてアクリル樹脂を乾燥膜厚1.0μmで印刷し、120℃オーブンにて3分乾燥させた後、熱エンボス方式によって、周期300nmで、アスペクト比が1の回折構造体を作成した。その後、回折構造体上に真空蒸着法によってアルミニウムを800Å蒸着して反射層を設けた。得られた反射層付きの回折構造体は、通常光源下では濃い赤紫色を呈しているが、45°以下の浅い角度でのみ青から緑の回折光を発し、この回折光の80%以上がTE偏光(s偏光)であることを確認した。
<Example 1>
Acrylic resin is printed on a 25 μm PET film by a bar coat printing method with a dry film thickness of 1.0 μm, dried in an oven at 120 ° C. for 3 minutes, and then diffracted with a period of 300 nm and an aspect ratio of 1 by a heat embossing method. Created a structure. Thereafter, 800 mm of aluminum was deposited on the diffractive structure by vacuum deposition to provide a reflective layer. The obtained diffractive structure with a reflective layer usually exhibits a deep reddish purple color under a light source, but emits diffracted light from blue to green only at a shallow angle of 45 ° or less, and more than 80% of this diffracted light is emitted. It was confirmed to be TE polarized light (s polarized light).

得られた反射層付き回折構造体の回折構造体側にポリイミドを塗布し乾燥させ、レーヨンでパターン状にラビングする事で配向膜を得た後、ネマチック液晶を塗布硬化させることでパターン状の偏光子を作成し、偽造防止構造体を得た。   After applying polyimide to the diffractive structure side of the obtained diffractive structure with a reflective layer and drying, rubbing it in a pattern with rayon to obtain an alignment film, and then applying and curing nematic liquid crystal to form a patterned polarizer The forgery prevention structure was obtained.

得られた偽造防止構造体は、通常の光源下では判りにくく、検証機を使用せずとも、45°以下の観察角度にする事によって、鮮やかな色調の隠しパターンを確認する事が出来、且つ、その観察角度を維持したまま、偽造防止構造体を回転させる事によって、隠しパターンがネガポジ反転した。   The obtained anti-counterfeit structure is difficult to understand under a normal light source, and by using an observation angle of 45 ° or less without using a verification machine, it is possible to confirm a hidden pattern with vivid colors, and The hidden pattern was negative-positive inverted by rotating the anti-counterfeit structure while maintaining the observation angle.

<実施例2>
25μmPETフィルムに、バーコート印刷法にて、アクリル樹脂を乾燥膜厚1.0μmで印刷し、120℃オーブンにて3分乾燥させた後、熱エンボス方式によって、周期300nmで、アスペクト比が1の回折構造体を作成した。その後、この回折構造体上に真空蒸着法によってアルミニウムを800Å蒸着して反射層を設けた。得られた反射層付きの回折構造体は、通常光源下では濃い赤紫色を呈しているが、30°以下の浅い角度でのみ青から緑の回折光を発し、この回折光の80%以上がTE偏光(s偏光)であることを確認した。
<Example 2>
An acrylic resin is printed on a 25 μm PET film by a bar coat printing method with a dry film thickness of 1.0 μm, dried in an oven at 120 ° C. for 3 minutes, and then a thermal embossing method with a period of 300 nm and an aspect ratio of 1 A diffractive structure was created. Thereafter, 800 mm of aluminum was deposited on the diffractive structure by a vacuum deposition method to provide a reflective layer. The obtained diffractive structure with a reflective layer usually exhibits deep reddish purple under a light source, but emits blue to green diffracted light only at a shallow angle of 30 ° or less, and more than 80% of this diffracted light is emitted. It was confirmed to be TE polarized light (s polarized light).

得られた反射層付き回折構造体の反射層側に、偏光フィルムをアクリル粘着剤によってパターン状に貼り合わせる事によって偽造防止構造体を得た。   A forgery prevention structure was obtained by attaching a polarizing film in a pattern with an acrylic pressure-sensitive adhesive to the reflection layer side of the obtained diffraction structure with a reflection layer.

得られた偽造防止構造体は、通常の光源下では判りにくく、検証機を使用せずとも、45°以下の観察角度にする事によって、鮮やかな色調の隠しパターンを確認する事が出来、且つ、その観察角度を維持したまま、偽造防止構造体を回転させる事によって、隠しパターンがネガポジ反転した。   The obtained anti-counterfeit structure is difficult to understand under a normal light source, and by using an observation angle of 45 ° or less without using a verification machine, it is possible to confirm a hidden pattern with vivid colors, and The hidden pattern was negative-positive inverted by rotating the anti-counterfeit structure while maintaining the observation angle.

<実施例3>
25μmPETフィルムに、バーコート印刷法にて、アクリル樹脂を乾燥膜厚1.0μmで印刷し、120℃オーブンにて3分乾燥させた後、熱エンボス方式による型押しによって、周期300nmアスペクト比1の回折構造部分と周期500nmアスペクト比1の回折構造部分との各々のパターンを同時に作成した。その後、この回折構造体上に真空蒸着法によってアルミニウムを800Å蒸着して反射層を得た。
<Example 3>
An acrylic resin is printed on a 25 μm PET film by a bar coat printing method with a dry film thickness of 1.0 μm, dried in an oven at 120 ° C. for 3 minutes, and then stamped by a hot embossing method so that the period ratio is 300 nm. Each pattern of the diffractive structure part and the diffractive structure part having a period of 500 nm aspect ratio of 1 was prepared simultaneously. Thereafter, 800 mm of aluminum was deposited on the diffractive structure by vacuum deposition to obtain a reflective layer.

得られた反射層付きの回折構造体の、周期500nmアスペクト比1の回折構造部分では、通常光源下の目視にて緑色を呈しており、観察角度を変化させることによって、緑か
ら赤へ徐々にカラーチェンジする鮮やかな回折光が得られることを確認した。
In the diffractive structure with a reflection layer of the obtained diffractive structure having a period of 500 nm and an aspect ratio of 1, the color is usually green by visual observation under a light source, and gradually changes from green to red by changing the observation angle. It was confirmed that vivid diffracted light that changes color can be obtained.

一方、周期300nmアスペクト比1の回折構造部分では、通常光源下では、濃い赤紫色を呈しており、カラーチェンジは無いが、30°以下の浅い角度でのみ青から緑の鮮やかな回折光を発し、この回折光の80%以上がTE偏光(s偏光)であることを確認した。得られた反射層付き回折構造体の反射層側に、偏光フィルムをアクリル粘着剤によってパターン状に貼り合わせる事によって偽造防止構造体を得た。   On the other hand, the diffractive structure with a period of 300 nm aspect ratio of 1 exhibits a deep reddish purple color under normal light source and does not change color, but emits bright blue to green diffracted light only at a shallow angle of 30 ° or less. It was confirmed that 80% or more of the diffracted light was TE polarized light (s-polarized light). A forgery prevention structure was obtained by attaching a polarizing film in a pattern with an acrylic pressure-sensitive adhesive to the reflection layer side of the obtained diffraction structure with a reflection layer.

この偽造防止構造体は、通常の光源下では、周期500nmアスペクト比1の回折構造部分による回折光によって鮮やかなカラーチェンジが確認され、一方、周期300nmアスペクト比1の回折構造部は通常光源下の目視にて、30°以下の浅い観察角度でのみ鮮やかな緑の偏光回折光を発しており、偏光子等の検証フィルムを使用せずとも、目視観察によって偏光フィルムによる隠しパターンを確認することが出来た。なお、その観察角度を維持したまま、偽造防止構造体を回転させることによって、偏光フィルムによる隠しパターンのネガポジ反転を確認した。   In this anti-counterfeit structure, under a normal light source, a vivid color change is confirmed by diffracted light from a diffractive structure portion with a period of 500 nm aspect ratio 1, while a diffractive structure portion with a period of 300 nm aspect ratio 1 is under a normal light source. Visible green polarized diffracted light is emitted visually only at a shallow observation angle of 30 ° or less, and a hidden pattern by a polarizing film can be confirmed by visual observation without using a verification film such as a polarizer. done. In addition, the negative / positive reversal of the hidden pattern by the polarizing film was confirmed by rotating the forgery prevention structure while maintaining the observation angle.

以下に、本発明の比較例について説明する。   Below, the comparative example of this invention is demonstrated.

<比較例1>
回折構造体のアスペクト比が0.2である以外は実施例1と同様にして偽造防止構造体を作成した。得られた偽造防止構造体の隠しパターンのコントラストが低く、視認が困難であった。
<Comparative Example 1>
A forgery prevention structure was produced in the same manner as in Example 1 except that the aspect ratio of the diffractive structure was 0.2. The contrast of the hidden pattern of the obtained forgery prevention structure was low, and visual recognition was difficult.

<比較例2>
回折構造体の周期が500nmである以外は実施例1と同様にして偽造防止構造体を作成した。得られた偽造防止構造体の隠しパターンの視認が困難であった。
<Comparative example 2>
A forgery prevention structure was prepared in the same manner as in Example 1 except that the period of the diffraction structure was 500 nm. It was difficult to visually recognize the hidden pattern of the obtained forgery prevention structure.

本発明の偽造防止構造体の1実施の形態を断面で表した説明図である。It is explanatory drawing which represented one Embodiment of the forgery prevention structure of this invention in the cross section. 本発明の偽造防止構造体の他の実施の形態を断面で表した説明図である。It is explanatory drawing which represented other embodiment of the forgery prevention structure of this invention in the cross section. 本発明の偽造防止構造体の他の実施の形態を断面で表した説明図である。It is explanatory drawing which represented other embodiment of the forgery prevention structure of this invention in the cross section. 本発明の偽造防止構造体の他の実施の形態を断面で表した説明図である。It is explanatory drawing which represented other embodiment of the forgery prevention structure of this invention in the cross section. 本発明の偽造防止枚葉体の1実施の形態を断面で表した説明図である。It is explanatory drawing which represented one Embodiment of the forgery prevention sheet body of this invention with the cross section. 本発明の偽造防止枚葉体の他の実施の形態を断面で表した説明図である。It is explanatory drawing which represented in cross section other embodiment of the forgery prevention sheet body of this invention. 本発明の偽造防止枚葉体の他の実施の形態を断面で表した説明図である。It is explanatory drawing which represented in cross section other embodiment of the forgery prevention sheet body of this invention. 本発明の偽造防止枚葉体の他の実施の形態を説明するもので、(a)は、その正面図であり、(b)は、(a)のA−A’面を断面で表した説明図である。The other embodiment of the forgery prevention sheet material of this invention is demonstrated, (a) is the front view, (b) represented the AA 'surface of (a) with the cross section. It is explanatory drawing. 本発明の偽造防止枚葉体に用いる偽造防止インキの模式図である。It is a schematic diagram of the forgery prevention ink used for the forgery prevention sheet body of this invention. 本発明の偽造防止構造体の真偽判定方法を説明する概念図である。It is a conceptual diagram explaining the authenticity determination method of the forgery prevention structure of this invention. 本発明の偽造防止構造体の一事例を構成する回折格子による回折の概念図である。It is a conceptual diagram of the diffraction by the diffraction grating which comprises one example of the forgery prevention structure of this invention. 本発明の偽造防止構造体の観測位置の事例を説明する側面模式図である。It is a side surface schematic diagram explaining the example of the observation position of the forgery prevention structure of the present invention. 本発明の偽造防止構造体の観測位置の他の事例を説明する側面模式図である。It is a side surface schematic diagram explaining the other example of the observation position of the forgery prevention structure of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1,5‥‥偽造防止構造体
2,6‥‥回折構造体
3,7‥‥反射層
4,8‥‥偏光子
21‥‥偽造防止ステッカー
22‥‥シート状の支持体
23‥‥偽造防止構造体
24‥‥接着剤
25‥‥偽造防止転写箔
26‥‥シート状の支持体
27‥‥偽造防止構造体
28‥‥転写層
29‥‥偽造防止インキ
30‥‥偽造防止構造体
31‥‥バインダー樹脂
32‥‥偽造防止媒体
33‥‥基材
34‥‥偽造防止構造体
35‥‥偽造防止用紙
36‥‥偽造防止構造体
37‥‥支持フィルム
38‥‥偽造防止媒体
39‥‥紙
50‥‥偽造防止構造体が形成されている平面
55‥‥偽造防止構造体の平面に対して45°以下の角度の観測点
1, 5 ... Anti-counterfeit structure 2, 6 ... Diffraction structure 3, 7 ... Reflective layer 4, 8 ... Polarizer 21 ... Anti-counterfeit sticker 22 ... Sheet-like support 23 ... Anti-counterfeit Structure 24 ··· Adhesive 25 · · · Anti-counterfeit transfer foil 26 · · · Sheet-like support 27 · · · Anti-counterfeit structure 28 · · · Transfer layer 29 · · · Anti-counterfeit ink 30 · · · Anti-counterfeit structure 31 ··· Binder resin 32 ... Anti-counterfeit medium 33 ... Base material 34 ... Anti-counterfeit structure 35 ... Anti-counterfeit paper 36 ... Anti-counterfeit structure 37 ... Support film 38 ... Anti-counterfeit medium 39 ... Paper 50 ... ··· Plane on which anti-counterfeit structure is formed 55 · · · Observation point at an angle of 45 ° or less with respect to the anti-counterfeit structure

Claims (6)

少なくとも一方の面に凹凸部を有する回折構造体と、該凹凸部を覆うように設けられている反射層と、該反射層と反対側の面もしくは該反射層の面のいずれかに全面もしくは部分的に設けられている偏光子とからなる偽造防止構造体であって、前記回折構造体は、400nm以下の周期と0.3以上のアスペクト比を有する回折格子構造、又はクロスグレーティング構造を有していることを特徴とする偽造防止構造体。   A diffractive structure having a concavo-convex portion on at least one surface, a reflective layer provided so as to cover the concavo-convex portion, and a whole surface or a part of either the surface opposite to the reflective layer or the surface of the reflective layer The anti-counterfeiting structure is composed of a polarizer that is provided, and the diffraction structure has a diffraction grating structure having a period of 400 nm or less and an aspect ratio of 0.3 or more, or a cross grating structure. An anti-counterfeit structure characterized by that. 少なくとも一方の面に凹凸部を有する回折構造体と、該凹凸部を覆うように設けられている反射層と、該反射層と反対側の面もしくは該反射層の面のいずれかに全面もしくは部分的に設けられている偏光子とからなる偽造防止構造体であって、前記回折構造体は、400nm以下の周期と0.3以上のアスペクト比を有する回折格子と、401nm以上の周期と0.3以上のアスペクト比を有する回折格子とからなるクロスグレーティング構造を有していることを特徴とする偽造防止構造体。   A diffractive structure having a concavo-convex portion on at least one surface, a reflective layer provided so as to cover the concavo-convex portion, and a whole surface or a part of either the surface opposite to the reflective layer or the surface of the reflective layer The anti-counterfeiting structure is composed of a polarizer provided, and the diffraction structure includes a diffraction grating having a period of 400 nm or less and an aspect ratio of 0.3 or more, a period of 401 nm or more, and an O.D. An anti-counterfeit structure having a cross grating structure comprising a diffraction grating having an aspect ratio of 3 or more. 前記偏光子は、1つ以上の方向性を持つパターンを有し、該パターンが全面に又は部分的に設けられていることを特徴とする請求項1記載の偽造防止構造体。   The anti-counterfeit structure according to claim 1, wherein the polarizer has a pattern having one or more directions, and the pattern is provided on the entire surface or a part thereof. 前記回折構造体は、1つ以上のパターンを有し、該パターンが全面に又は部分的に設けられていることを特徴とする請求項1又は2記載の偽造防止構造体。   The anti-counterfeit structure according to claim 1 or 2, wherein the diffractive structure has one or more patterns, and the patterns are provided on the entire surface or partially. 請求項1乃至4のいずれかに記載の偽造防止構造体を用いた偽造防止枚葉体。   A forgery-preventing single wafer using the anti-counterfeit structure according to any one of claims 1 to 4. 請求項1乃至4のいずれかに記載の偽造防止構造体及び請求項5に記載の偽造防止枚葉体の真偽判定方法であって、前記偽造防止構造体又は偽造防止枚葉体を構成する偏光子面側から該偏光子面に対し45°以下の浅い角度で偏光子の有無を目視で確認することを特徴とする偽造防止構造体及び偽造防止枚葉体の真偽判定方法。   The anti-counterfeit structure according to any one of claims 1 to 4 and the authenticity determination method for anti-counterfeit sheet according to claim 5, wherein the anti-counterfeit structure or anti-counterfeit sheet is configured. A forgery-preventing structure and a forgery-preventing single-wafer authenticity determination method, wherein the presence or absence of a polarizer is visually confirmed from a polarizer surface side at a shallow angle of 45 ° or less with respect to the polarizer surface.
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