JP2009084227A - ベンゼンの製造方法 - Google Patents
ベンゼンの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009084227A JP2009084227A JP2007256809A JP2007256809A JP2009084227A JP 2009084227 A JP2009084227 A JP 2009084227A JP 2007256809 A JP2007256809 A JP 2007256809A JP 2007256809 A JP2007256809 A JP 2007256809A JP 2009084227 A JP2009084227 A JP 2009084227A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- benzene
- ethylbenzene
- raw material
- weight
- aromatic hydrocarbon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 267
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 113
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 76
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 49
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 39
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 37
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims abstract description 36
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims description 37
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract description 38
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 15
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract description 14
- 238000011084 recovery Methods 0.000 abstract description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 abstract 1
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 description 37
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 27
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 25
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 16
- 239000000047 product Substances 0.000 description 16
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 13
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methylcyclopentane Chemical compound CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000006900 dealkylation reaction Methods 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- 230000020335 dealkylation Effects 0.000 description 9
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 9
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- -1 aluminum ions Chemical class 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 6
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- QWHNJUXXYKPLQM-UHFFFAOYSA-N dimethyl cyclopentane Natural products CC1(C)CCCC1 QWHNJUXXYKPLQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 5
- 230000006204 deethylation Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- QEGNUYASOUJEHD-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethylcyclohexane Chemical compound CC1(C)CCCCC1 QEGNUYASOUJEHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 4
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002407 reforming Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 3
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- QSHYGLAZPRJAEZ-UHFFFAOYSA-N 4-(chloromethyl)-2-(2-methylphenyl)-1,3-thiazole Chemical compound CC1=CC=CC=C1C1=NC(CCl)=CS1 QSHYGLAZPRJAEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 2
- IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N ethylcyclohexane Chemical group CCC1CCCCC1 IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N isopentane Chemical compound CCC(C)C QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 2
- 238000010555 transalkylation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 150000003738 xylenes Chemical class 0.000 description 2
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MUPYMRJBEZFVMT-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-dimethoxyphosphorylsulfanylbenzene Chemical compound COP(=O)(OC)SC1=CC=C(Cl)C=C1 MUPYMRJBEZFVMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- VXAUWWUXCIMFIM-UHFFFAOYSA-M aluminum;oxygen(2-);hydroxide Chemical group [OH-].[O-2].[Al+3] VXAUWWUXCIMFIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000004517 catalytic hydrocracking Methods 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000002050 diffraction method Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N ethyl ethylene Natural products CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000005194 ethylbenzenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000012438 extruded product Nutrition 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229930014626 natural product Natural products 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
【課題】本発明は、非芳香族炭化水素、エチルベンゼン、混合キシレンからなるC8芳香族炭化水素混合原料中のエチルベンゼンをベンゼンに変換し、蒸留分離のみで高純度のベンゼンを回収する、ベンゼンの製造法を提供することを課題とする。
【解決手段】少なくとも4重量%のエチルベンゼンと混合キシレンを含むC8芳香族炭化水素混合原料を、水素存在下でレニウムを含有してなるMFI型触媒と接触させて、60%以上の転化率で原料中のエチルベンゼンをベンゼンに変換し、蒸留分離のみで高純度のベンゼンを回収することを特徴とするベンゼンの製造方法。
【選択図】なし
【解決手段】少なくとも4重量%のエチルベンゼンと混合キシレンを含むC8芳香族炭化水素混合原料を、水素存在下でレニウムを含有してなるMFI型触媒と接触させて、60%以上の転化率で原料中のエチルベンゼンをベンゼンに変換し、蒸留分離のみで高純度のベンゼンを回収することを特徴とするベンゼンの製造方法。
【選択図】なし
Description
本発明は、ベンゼンの製造方法に関する。さらに詳しくは、C8芳香族炭化水素に含まれるエチルベンゼンを水素化脱エチルしてベンゼンに転化し、高純度でベンゼンを回収する方法に関するものである。
キシレン異性体のうち、最も重要なものはパラキシレンである。パラキシレンは、現在ナイロンと並んで主要ポリマーであるポリエステルのモノマー、テレフタル酸の原料に使われており、近年その需要はアジアを中心として旺盛である。
パラキシレンは、通常ナフサを改質処理し、その後分留により得られるC8芳香族炭化水素混合物、又は、トルエン或いはトルエンとC9芳香族炭化水素を原料として不均化、トランスアルキル化により得られるC8芳香族炭化水素混合物、更には、ナフサの熱分解により副生する分解ガソリンを芳香族抽出と分留(蒸留分離)により得られるC8芳香族炭化水素混合物などから製造される。このC8芳香族炭化水素混合物原料の組成は広範囲に変わるが、通常エチルベンゼンを10〜70重量%、パラ体、メタ体、オルソ体からなるキシレン異性体を30〜90重量%含む。通常C8芳香族炭化水素混合物原料は炭素数9以上高沸点成分を含んでいるため、これを蒸留により除去し、得られたC8芳香族炭化水素をパラキシレン分離工程に供給されパラキシレンは分離回収される。しかしながらパラキシレンとメタキシレンの沸点はそれぞれ、138.4℃、139℃とその差が僅か約1℃しかなく蒸留分離による回収は工業的に極めて非効率である。従って一般的に融点差を利用して分離する深冷分離法か、ゼオライト吸着剤により吸着性の差を利用して分離する吸着分離法がある。分離工程を出たパラキシレンに乏しいC8芳香族炭化水素は次に異性化工程に送られ、主にゼオライト触媒により熱力学的平衡組成に近いパラキシレン濃度までに異性化され、蒸留分離により低沸点である副生物を除去した後、上記の新たなC8芳香族炭化水素原料と混合されて高沸点成分を除去する蒸留塔にリサイクルされ、炭素数9以上の高沸点成分を蒸留除去後、パラキシレン分離工程で再度パラキシレンを分離回収する。この一連の循環系を以後「分離−異性化サイクル」と呼ぶ。
図1に、この「分離−異性化サイクル」のフローを示す。この「分離−異性化サイクル」は、基本的にリフォーマー等から得られたC8芳香族炭化水素混合原料と異性化工程からのリサイクル原料に含まれるC8芳香族炭化水素を回収し高沸点成分を分離除去する高沸点成分蒸留分離工程1、製品パラキシレンを分離するパラキシレン分離工程2、パラキシレン濃度の乏しいC8芳香族炭化水素原料のキシレン異性化とエチルベンゼン転化を行うキシレン異性化工程3、異性化工程で副生したベンゼン及びトルエンのような低沸点成分を分離回収する低沸点成分蒸留分離工程4を有する。まずC8芳香族炭化水素混合原料は、ストリーム5で示される供給ラインから高沸点成分蒸留分離工程1に送られ、高沸点成分をストリーム7で示されるラインを通じて除去する。高沸点成分が除去されたC8芳香族炭化水素原料はストリーム6で示されるラインを通じてパラキシレン分離工程2に送られ、ストリーム8で示されるラインから製品パラキシレンを分離回収する。そしてパラキシレン濃度の乏しいC8芳香族炭化水素原料は、ストリーム9で示されるラインを通じてキシレン異性化工程3に送られ、エチルベンゼンは後で述べるように、ベンゼン、或いはC8ナフテンパラフィンを経由してキシレンに転化するとともに、パラキシレン濃度の乏しい混合キシレンは、熱力学的平衡組成に近いパラキシレン濃度まで異性化される。尚、異性化工程にはストリーム10で示されるラインを通じて水素又は水素を含むガスも送られる。異性化工程から出てきた副生物を含むC8芳香族炭化水素は、ストリーム11で示されるラインを通じて、低沸点成分蒸留分離工程4に送られ、異性化工程で副生したベンゼン及びトルエンのような低沸点成分をストリーム12で示されるラインを通じて分離除去し、高沸点成分を含んだパラキシレンリッチなリサイクル原料がストリーム12で示されるラインを通じて高沸点成分蒸留分離工程1に送られる。この高沸点成分蒸留分離工程1で高沸点成分を除去し、再度パラキシレン分離工程2にリサイクルされる。尚、この「分離−異性化サイクル」に蒸留塔を1塔組み入れてオルソキシレンも併産するオプションもある。
この「分離−異性化サイクル」に供給されるC8芳香族炭化水素は上記の通り、かなりの量のエチルベンゼンを含んでいるが、上記「分離−異性化サイクル」においては、このエチルベンゼンは除去されずに、サイクル中に残り、エチルベンゼンが蓄積してしまう。このエチルベンゼンの蓄積を防ぐために、何らかの方法でエチルベンゼンを除去すれば、その除去率に応じた量のエチルベンゼンが「分離−異性化サイクル」を循環する。このエチルベンゼンの循環量が少なくなれば全体の循環量も少なくなるので、パラキシレン分離工程以降の工程の用役使用量が少なくなり経済的なメリットが大きい。
エチルベンゼン除去として一般的な方法は2つあり、1つは異性化工程でキシレンの異性化を行うと同時にエチルベンゼンをキシレンに異性化する改質法、もう1つは同じくキシレンの異性化工程でエチルベンゼンを水素化脱アルキルしてベンゼンに転換し、その後の蒸留分離工程でベンゼンを蒸留分離する脱アルキル化法である。しかし異性化法はエチルベンゼンとキシレンとの間にある平衡により、エチルベンゼン転化率は20〜30%程度しかならないのに対し、上記脱アルキル化反応は実質的に非平衡反応であるので、エチルベンゼン転化率を高くすることが可能である。故に現在は脱アルキル化法でエチルベンゼンを除去する方法が一般的である。
ところで、通常この脱アルキル化法で使用される触媒には、エチルベンゼンから脱アルキルされたエチレンを迅速に水素化してエタンに変換するために、水素化活性金属を担持させて高い脱アルキル化活性を持たせるのが一般的であるが、これにより副反応としてC8芳香族炭化水素原料の核水素化反応、あるいはC8芳香族炭化水素混合物中に含まれている非芳香族炭化水素の一部又は全部の水素化分解により、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン、n−ヘキサン、ジメチルシクロペンタンに代表されるC7のナフテンパラフィンといった、ベンゼンとの蒸留による分離が困難な共沸不純物を生成し、分留後もなお、ベンゼンに同伴コンタミするが、ここで得られたベンゼンが分留のみで、現在化学品用途グレードとして最も一般的な純度品質である、99.80重量%又はそれ以上の純度レベルに達しない場合が多く、通常、抽出精製処理して共沸不純物の除去を行い製品化している。
一般に溶剤抽出精製工程は、溶剤と混合して芳香族炭化水素を抽出する抽出塔、溶剤と抽出物を分ける蒸留塔、非芳香族炭化水素リッチのラフィネート中に含まれる溶剤を水で洗浄除去する水洗塔など多くの機器を有するため、設備の新設あるいは増能力を行うのに多額の費用がかかることに加え、用役・薬品使用量も多くてランニングコストが高いこともあり、従って溶剤抽出精製を行わずに分留のみでベンゼンを製品化できることは、工業的に非常に有意義なことである。
ベンゼンとの共沸不純物(以下、共沸不純物とする)の発生を抑える方法の1つに、ベンゼンとの共沸不純物生成原因となる非芳香族炭化水素濃度が低いC8芳香族炭化水素混合物原料を使うことが好ましい。この混合物原料は、分留によりベンゼン等の低沸成分が除去されたものであるため、通常、炭素数8〜9の非芳香族炭化水素を多く含む。非芳香族炭化水素の含有量については、ナフサ改質から得られるC8芳香族炭化水素混合物、あるいは、トルエン・C9芳香族炭化水素から不均化、トランスアルキル化に得られるC8芳香族炭化水素混合物は、通常、分留だけで0.1重量%以下の非芳香族炭化水素濃度が得られるのに対し、分解ガソリンから得られるC8芳香族炭化水素混合物は、分留後も尚、0.5〜20重量%の高濃度の非芳香族炭化水素を含んでおり、ベンゼンの精製簡略化から見ると適した原料とはいえず、これを有効利用するためには、高濃度の非芳香族炭化水素を含む原料であっても、共沸不純物の生成を抑えられる脱アルキル化法、即ち、脱アルキル化触媒が必要となる。
非芳香族炭化水素を多く含むC8芳香族炭化水素混合物の処理については、例えば特許文献1では、MFI型ゼオライトに白金を含ませた触媒を使い、非常に高い転化率でエチルベンゼンをベンゼンに変換し、非芳香族炭化水素を水素化分解している例がある。しかしながら、上記特許文献で使用されている白金は非常に水素化活性の強い金属であることが一般的に知られており、本発明者等の検討によれば核水素化による芳香族炭化水素の開環反応でシクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの共沸不純物の生成が多く、純度の高いベンゼンを分留のみで回収することは困難であった。
他にMFI型ゼオライトと水素化活性金属の組み合わせた触媒によるエチルベンゼンの脱アルキル化の例としては、特許文献2が挙げられるが、然しながら、非芳香族炭化水素を多く含む原料の使用については開示されていない。
米国特許第4899011号明細書
特開平01−056626号公報
本発明は、非芳香族炭化水素、エチルベンゼン、混合キシレンを含む、C8芳香族炭化水素原料中のエチルベンゼンを、水素化脱アルキル化により、分留のみで純度の高いベンゼンを回収する方法を提供することを課題とする。
本発明者は、非芳香族炭化水素、エチルベンゼン、混合キシレンを含む混合原料を、水素存在下でMFI型ゼオライト触媒と接触させて、エチルベンゼンの脱エチル化反応を行うことにより、上記課題を達成し得ることを見出し、本発明に到達した。
すなわち、本発明は下記の構成からなる。
(1)少なくとも4重量%のエチルベンゼンと混合キシレンを含む原料であって、非芳香族炭化水素を少なくとも0.15重量%以上含む混合原料を、MFI型ゼオライトと非結晶性無機酸化物からなり、レニウムを0.05〜2重量%含有する触媒組成物と接触させて、エチルベンゼン転化率60%以上でエチルベンゼンをベンゼンに転化し、そのベンゼンを蒸留のみで純度99.80重量%以上のベンゼンとして回収することを特徴とするベンゼンの製造方法。
非芳香族炭化水素、エチルベンゼン、混合キシレンを含むC8芳香族炭化水素混合原料を、水素存在下でレニウムを含有してなるMFI型ゼオライト触媒と接触させて、C8芳香族炭化水素を含む原料中のエチルベンゼンを高度に転化させ、生成した反応物中から99.80重量%以上の高純度ベンゼンを分留のみで回収する方法を提供することができる。
本発明はエチルベンゼンの脱エチル化反応の際、供給するエチルベンゼンを含むC8芳香族炭化水素混合原料に、ベンゼンとの共沸不純物生成の原因となる非芳香族炭化水素を相当量含む原料であっても、エチルベンゼン濃度が少なくとも4重量%含む原料を、レニウム、非結晶性無機酸化物を含むMFI型ゼオライト触媒と接触させて、エチルベンゼン転化率を60%以上で反応させることにより、反応生成液中に含まれるベンゼンを分留のみで化学品用途グレードの純度品質99.80重量%を得られることを特徴とするものである。
本発明に使用されるMFI型ゼオライトとしては、天然品、合成品(例えば、特公昭60−35284号公報第4−5頁の実施例1、特公昭46−10064号公報第7頁の例1参照)のいずれも使用することができるが、好ましくは、合成ゼオライトである。又、同じゼオライト構造であっても、その組成、特に、シリカ/アルミナモル比(SiO2/Al2O3モル比)、或いは、ゼオライト結晶子の大きさ等によってもその触媒性能は変化する。
ゼオライトを構成するシリカ/アルミナモル比の好ましい範囲は、ゼオライト構造にも依存している。例えば、合成MFI型ゼオライトでは、好ましいシリカ/アルミナモル比は20〜60、より好ましくは25〜55である。ゼオライト合成時の組成比を制御することによって、達成できる。更には、ゼオライト構造を構成するアルミニウムを塩酸等の酸水溶液、或いは、アルミニウムキレート剤、例えば、エチレンジアミン4酢酸(EDTA)等で除去することにより、ゼオライトのシリカ/アルミナモル比を増加させることが出来る。又、逆に、アルミニウムイオンを含む水溶液、例えば、硝酸アルミニウム水溶液、アルミン酸ソーダ水溶液等で処理することによりゼオライト構造の中にアルミニウムを導入しゼオライトのシリカ/アルミナモル比を増加させ好ましいシリカ/アルミナモル比にすることも可能である。シリカ/アルミナモル比の測定は、原子吸光法、蛍光X線回折法、ICP(誘導結合プラズマ)発光分光法等で容易に知ることが出来る。
かかるゼオライトを適宜、選択して触媒として利用する。
合成ゼオライトは、一般に粉末であるので、使用に当たっては、成型することが好ましい。成型法には、圧縮成型法、転動法、押出法等が例として挙げられるが、より好ましくは、押出法である。押出法では、合成ゼオライト粉末にアルミナゾル、アルミナゲル、ベントナイト、カオリン等のバインダー及び必要に応じて、ドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウム、スパン、ツインなどの界面活性剤が成型助剤として添加され、混練りされる。必要によっては、ニーダーなどの機械が使用される。
更には、ゼオライト成型時にアルミナ、チタニア等の非結晶性無機酸化物を加え、触媒に添加する金属の担持量を増加させたり、分散性を向上させたりする。混練りされた混練り物は、スクリーンから押し出される。工業的には、例えば、エクストリューダーと呼ばれる押出機が使用される。スクリーンから押し出された混練り物はヌードル状物となる。使用するスクリーン径により成形体の大きさが決定される。スクリーン径としては、好ましくは0.2〜2.0mmφが用いられる。スクリーンから押し出されたヌードル状成形体は、角を丸めるために、マルメライザーにより処理されるのが好ましい。このようにして成型された成型体は、50〜250℃で乾燥される。乾燥後、成形強度を向上させる為、250〜6
00℃、好ましくは350〜600℃で焼成される。
00℃、好ましくは350〜600℃で焼成される。
このようにして調製された成形体は、固体酸性を付与するためのイオン交換処理が行われる。固体酸性を付与する方法としては、アンモニウムイオンを含む化合物(例えば、NH4Cl、NH4NO3、(NH4)2SO4等)でイオン交換処理し、ゼオライトのイオン交換サイトにNH4イオンを導入し、しかる後、乾燥、焼成により、水素イオンに変換する方法、或いは、直接、酸を含む化合物(例えば、HCl、HNO3、H3PO4等)で、ゼオライトのイオン交換サイトに水素イオンを導入する方法もあるが、後者は、ゼオライト構造を破壊する恐れがあるので、好ましくは前者、即ち、アンモニウムイオンを含む化合物でイオン交換処理される。或いは、2価、3価金属イオンをゼオライトイオン交換サイトに導入することによってもゼオライトに固体酸性を付与することが出来る。2価金属イオンとしては、アルカリ土類金属イオンであるMg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+を例として挙げることが出来る。3価金属イオンとしては、希土類金属イオンであるCe3+、La3+等を例として挙げることが出来る。2価及び/又は3価金属イオンを導入する方法とアンモニウムイオン或いは直接水素イオンを導入する方法と組み合わせて用いることもできるし、より好ましい時もある。本発明で特に好ましいのはCa2+である。イオン交換処理は通常水溶液で、バッチ法或いは流通法で行われる。処理温度は、室温から100℃で行われるのが通常である。
このようにしてイオン交換処理された後、水素化活性金属を担持させる。水素化活性金属の役割は、原料中のエチルベンゼンから脱アルキル化されたエチル基や、分解した非芳香族炭化水素に対し、水素存在下で迅速に水素を供給させて、これら脱アルキル化、分解反応を促進させ、更には触媒を被毒させるオリゴマーの生成を抑える機能があるが、水素化活性金属としてはレニウムを用い、好ましい担持量は0.01〜5.0重量%であり、より好ましくは0.1〜2重量%である。水添金属担持量が多くなると芳香族炭化水素が核水添され好ましくない。また水添金属担持量が少なくすぎると、脱エチル化反応の際の水素供給が十分でなくなるため触媒活性低下を招く。一般には、水溶液に触媒を浸漬して担持され、過レニウム酸水溶液、過レニウムアンモニウム水溶液等が利用される。
このようにして調製された触媒は、50〜250℃で30分以上乾燥され、使用に先立って、350〜600℃で30分以上焼成される。
以上、述べたようにして調製された触媒は、従来知られている種々の反応操作に準じて行うことが出来る。反応方式は、固定床、移動床、流動床何れの方法も用いられるが、操作の容易さから固定床反応方式が、特に、好ましい。これら反応方式で、触媒は、次のような反応条件のもとで使用される。即ち、反応操作温度は200〜500℃、好ましくは、250〜450℃である。反応操作圧力は大気圧から10MPa、好ましくは、0.3〜2MPaである。反応の接触時間を表す重量時間空間速度(WHSV)は0.1〜50hr−1、好ましくは0.5〜20.0hr−1である。水素対供給原料油のモル比率は0.5〜10mol/molで、好ましくは1.5〜5.0mol/molである。供給原料油は、液相或いは気相状態どちらでもよい。
供給原料油に含有される非芳香族炭化水素は供給原料中に0.15重量%以上存在していればよい。本発明においては、0.5重量%以上、特に1.0重量%以上存在している場合でも本発明の効果を有効に発揮する。また上限としては通常40重量%以下であることが好ましく、35重量%以下であることがより好ましい。従って、ナフサを改質、或いは熱分解させたものから、抽出精製を行わずに分留のみで得られたC8芳香族炭化水素混合物は、前記のとおり非芳香族炭化水素、特にC8からC9非芳香族炭化水素を多く含むので、これをこのまま用いてもよい。純度の高いベンゼンを回収する観点から、本発明で用いる原料(供給原料油)は、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン、ノルマルヘキサン、及びジメチルシクロペンタンに代表されるC7ナフテンパラフィンといった、ベンゼンに比較的沸点が近く蒸留分離が困難な共沸不純物が少ない方が好ましく、供給原料油中のエチルベンゼンを1000重量部に対して2重量部以下であり、共沸不純物の濃度が少ないほど回収されるベンゼン純度が高くなる。なかでも、上記のようなC8芳香族炭化水素混合物など通常用いられる供給原料油中の共沸不純物の濃度としては、供給原料油中100ppm以下であることが好ましく、10ppm以下であることがより好ましい。
エチルベンゼンの水素化脱アルキルで得られたベンゼンを分留のみで高純度化するためには、供給原料油に含まれる非芳香族炭化水素が少ないことが好ましいが、これ以外には生成するベンゼンの量が多い方が好ましく、よって、供給原料油中のエチルベンゼンの濃度を4重量%、好ましくは8重量%以上含み、エチルベンゼン転化率を60%、好ましくは65%以上、更に好ましくは70%以上となるよう、主に反応温度を調整して運転を行う。
また本発明においては、エチルベンゼン及びキシレンを含むC8芳香族炭化水素混合原料を用いて、前記のエチルベンゼンの転化方法を行うことにより、エチルベンゼンをベンゼンに転化するだけでなく、キシレン異性化も同時に起こるため、例えば、パラキシレンを分離した後の、パラキシレンの乏しいキシレンを含む分離残があるが、この分離残に含まれるキシレンを、単独又は前記3種のC8芳香族炭化水素混合原料と混合させて、原料に含まれるエチルベンゼンの水素化脱アルキル化と、異性化反応による混合キシレンのパラキシレンへの変換を同時に行い、パラキシレン製造用原料としてパラキシレン分離工程へ供給することもできる。
また本発明においては、エチルベンゼン及びキシレンを含むC8芳香族炭化水素混合原料を用いて、前記のエチルベンゼンの転化方法を行うことにより、エチルベンゼンをベンゼンに転化するだけでなく、キシレン異性化も同時に起こるため、例えば、パラキシレンを分離した後の、パラキシレンの乏しいキシレンを含む分離残があるが、この分離残に含まれるキシレンを、単独又は前記3種のC8芳香族炭化水素混合原料と混合させて、原料に含まれるエチルベンゼンの水素化脱アルキル化と、異性化反応による混合キシレンのパラキシレンへの変換を同時に行い、パラキシレン製造用原料としてパラキシレン分離工程へ供給することもできる。
供給原料油を前記MFI型ゼオライト触媒と接触させた場合、非芳香族炭化水素を多く含む原料であっても、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン、ノルマルヘキサン(n−C6パラフィン)、及びジメチルシクロペンタンに代表されるC7ナフテンパラフィンといった、ベンゼンに比較的沸点が近く蒸留分離が困難な共沸不純物の生成が少ないため、溶剤抽出分離による精製処理が必要なく、蒸留分離のみで高純度のベンゼンを得ることができる。
反応生成液組成から、蒸留分離した製品ベンゼンの純度推定式として、例えば、特表2002−504946号公報に記載されているような下式が紹介されている。本発明におけるベンゼン純度はこの製品ベンゼンの純度推定式により求められるベンゼン純度をいう。
製品ベンゼン推定純度=([ベンゼン濃度]/(a+b+c+d+[ベンゼン濃度])×100(%))
ここで、a〜dは以下に定義される。
a=0.1*[n−C6パラフィン濃度]
b=0.7*[メチルシクロペンタン濃度]
c=1.0*[シクロヘキサン濃度]
d=1.0*[C7ナフテンパラフィン濃度]
レニウムを含有するMFI型ゼオライト触媒を使用した反応生成液組成を、上式で定義される製品ベンゼン推定式にあてはめると、推定純度が99.80重量%以上となり、さらに好ましい態様においては、純度99.90重量%以上となり、ベンゼンを蒸留分離のみで化学品用途グレードの純度品質で製品化が可能となる。
反応生成液組成から、蒸留分離した製品ベンゼンの純度推定式として、例えば、特表2002−504946号公報に記載されているような下式が紹介されている。本発明におけるベンゼン純度はこの製品ベンゼンの純度推定式により求められるベンゼン純度をいう。
製品ベンゼン推定純度=([ベンゼン濃度]/(a+b+c+d+[ベンゼン濃度])×100(%))
ここで、a〜dは以下に定義される。
a=0.1*[n−C6パラフィン濃度]
b=0.7*[メチルシクロペンタン濃度]
c=1.0*[シクロヘキサン濃度]
d=1.0*[C7ナフテンパラフィン濃度]
レニウムを含有するMFI型ゼオライト触媒を使用した反応生成液組成を、上式で定義される製品ベンゼン推定式にあてはめると、推定純度が99.80重量%以上となり、さらに好ましい態様においては、純度99.90重量%以上となり、ベンゼンを蒸留分離のみで化学品用途グレードの純度品質で製品化が可能となる。
(MFI型ゼオライトの合成)
苛性ソーダ水溶液(NaOH含量48.0重量%、H2O含量52.0重量%、東亞合成株式会社)54.2グラム、酒石酸粉末(酒石酸含量99.7重量%、H2O含量0.3重量%、株式会社カーク)16.6グラム、を水698.6グラムに溶解した。この溶液にアルミン酸ソーダ溶液(Al2O3含量13.4重量%、Na2O含量13.8重量%、H2O含量43.9重量%、住友化学工業株式会社)9.9グラムを加え、均一な溶液とした。この混合液に含水ケイ酸(SiO2含量89.4重量%、Al2O3含量2.4重量%、Na2O含量1.6重量%、ニップシールVN−3、日本シリカ工業株式会社)111.5グラムを撹拌しながら徐々に加え、均一なスラリー状水性反応混合物を調製した。この反応混合物の組成比(モル比)は次のとおりであった。
SiO2/Al2O3:77
OH−/SiO2: 0.3002
A/Al2O3: 5.14 (A:酒石酸塩)
H2O/SiO2: 25。
苛性ソーダ水溶液(NaOH含量48.0重量%、H2O含量52.0重量%、東亞合成株式会社)54.2グラム、酒石酸粉末(酒石酸含量99.7重量%、H2O含量0.3重量%、株式会社カーク)16.6グラム、を水698.6グラムに溶解した。この溶液にアルミン酸ソーダ溶液(Al2O3含量13.4重量%、Na2O含量13.8重量%、H2O含量43.9重量%、住友化学工業株式会社)9.9グラムを加え、均一な溶液とした。この混合液に含水ケイ酸(SiO2含量89.4重量%、Al2O3含量2.4重量%、Na2O含量1.6重量%、ニップシールVN−3、日本シリカ工業株式会社)111.5グラムを撹拌しながら徐々に加え、均一なスラリー状水性反応混合物を調製した。この反応混合物の組成比(モル比)は次のとおりであった。
SiO2/Al2O3:77
OH−/SiO2: 0.3002
A/Al2O3: 5.14 (A:酒石酸塩)
H2O/SiO2: 25。
反応混合物は、1000ml容のオートクレーブに入れ密閉し、その後250rpmで撹拌しながら160℃で72時間反応させた。反応終了後、蒸留水で5回水洗、濾過を繰り返し、約120℃で一晩乾燥した。
得られた生成物を、Cu管球、Kα線を用いるX線回折装置で測定した結果、得られたゼオライトはMFI型ゼオライトであることがわかった。
このMFI型ゼオライトのシリカ/アルミナモル比は蛍光X線回折分析の結果、49.0であった。
(触媒Aの製造)
上記のようにして合成されたMFI型ゼオライトを絶対乾燥基準(500℃、
20分間焼成した時の灼熱減量から計算)で10グラム、擬ベーマイト構造を有する含水アルミナ(住友化学工業株式会社製)を絶対乾燥基準で30グラム、アルミナゾル(Al2O3含量10重量%、日産化学工業株式会社製)を60グラム加え、充分混合した。その後、120℃の乾燥器に入れ、粘土状の水分になるまで、乾燥した。その混練り物を1.2mmφの穴を有するスクリーンを通して押出した。押出し成形物を、120℃で一晩乾燥し、次いで、350℃から徐々に540℃に昇温し、540℃で2時間焼成した。このMFI型ゼオライト成型体20グラムを対成型体絶対乾燥基準100重量部あたり、11重量部のNH4Clと5重量CaClを溶かした水溶液に入れ、純水にて固液比2.0Kg/Lに調製し、温度80℃、1時間接触させた。その後、純水で洗浄し、純水でバッチ的に6回水洗した。このイオン交換したMFI型ゼオライト成型体の乾燥品20グラムを、Reとして80ミリグラム含む過レニウム酸水溶液40ml中に室温で浸漬し、2時間放置した。30分毎に撹拌した。その後、液を切り、120℃で一晩乾燥した。触媒反応の使用に先立って、硫化水素気流中250℃で2時間硫化処理を行い、大気中にて540℃、2時間焼成し、触媒Aとした。触媒Aに担持されたReをICP発光分析で分析した結果、触媒Aに担持されているレニウムはReとして2010重量ppmであった。
上記のようにして合成されたMFI型ゼオライトを絶対乾燥基準(500℃、
20分間焼成した時の灼熱減量から計算)で10グラム、擬ベーマイト構造を有する含水アルミナ(住友化学工業株式会社製)を絶対乾燥基準で30グラム、アルミナゾル(Al2O3含量10重量%、日産化学工業株式会社製)を60グラム加え、充分混合した。その後、120℃の乾燥器に入れ、粘土状の水分になるまで、乾燥した。その混練り物を1.2mmφの穴を有するスクリーンを通して押出した。押出し成形物を、120℃で一晩乾燥し、次いで、350℃から徐々に540℃に昇温し、540℃で2時間焼成した。このMFI型ゼオライト成型体20グラムを対成型体絶対乾燥基準100重量部あたり、11重量部のNH4Clと5重量CaClを溶かした水溶液に入れ、純水にて固液比2.0Kg/Lに調製し、温度80℃、1時間接触させた。その後、純水で洗浄し、純水でバッチ的に6回水洗した。このイオン交換したMFI型ゼオライト成型体の乾燥品20グラムを、Reとして80ミリグラム含む過レニウム酸水溶液40ml中に室温で浸漬し、2時間放置した。30分毎に撹拌した。その後、液を切り、120℃で一晩乾燥した。触媒反応の使用に先立って、硫化水素気流中250℃で2時間硫化処理を行い、大気中にて540℃、2時間焼成し、触媒Aとした。触媒Aに担持されたReをICP発光分析で分析した結果、触媒Aに担持されているレニウムはReとして2010重量ppmであった。
参考例 1
上記触媒Aについてそれぞれ反応管に充填して反応テストを行った。使用した供給原料の組成を表1に示す。尚、供給原料及び反応生成物の組成分析は水素炎検出器付きガスクロマトグラフィー3台を用いた。分離カラムは次の通りである。
上記触媒Aについてそれぞれ反応管に充填して反応テストを行った。使用した供給原料の組成を表1に示す。尚、供給原料及び反応生成物の組成分析は水素炎検出器付きガスクロマトグラフィー3台を用いた。分離カラムは次の通りである。
(1)ガス成分(ガス中のメタンからn−ブタンまでの成分):
充填剤:“ユニパックS”(“Unipak S” )100〜150メッシュ、
カラム:ステンレス製 長さ4m 内径3mmφ
N2:1.65kg/cm2−G
温度:80℃
(2)液成分中のベンゼン周りの沸点を有する成分(液中に溶解しているメタンからn−ブタンと液成分の2−メチル−ブタンからベンゼン成分まで):
充填剤 25%ポリエチレングリコール20M/担体“シマライト” 60〜80メッシュ、
カラム:ステンレス製 長さ12m 内径3mmφ
N2:2.25kg/cm2−G
温度:68℃から2℃/分の昇温速度で180℃まで実施した。
充填剤:“ユニパックS”(“Unipak S” )100〜150メッシュ、
カラム:ステンレス製 長さ4m 内径3mmφ
N2:1.65kg/cm2−G
温度:80℃
(2)液成分中のベンゼン周りの沸点を有する成分(液中に溶解しているメタンからn−ブタンと液成分の2−メチル−ブタンからベンゼン成分まで):
充填剤 25%ポリエチレングリコール20M/担体“シマライト” 60〜80メッシュ、
カラム:ステンレス製 長さ12m 内径3mmφ
N2:2.25kg/cm2−G
温度:68℃から2℃/分の昇温速度で180℃まで実施した。
(3)液成分ベンゼンより沸点の重い成分(ベンゼンからヘビーエンド成分まで):
スペルコ ワックス フューズド シリカキャピラリィー; 長さ60m 内径0.32mmφ、膜厚0.5μm
He線速:23cm/秒
温度:67℃から1℃/分の昇温速度、80℃から2℃/分の昇温速度で200℃まで実施した。
スペルコ ワックス フューズド シリカキャピラリィー; 長さ60m 内径0.32mmφ、膜厚0.5μm
He線速:23cm/秒
温度:67℃から1℃/分の昇温速度、80℃から2℃/分の昇温速度で200℃まで実施した。
NAは非芳香族炭化水素を示し、主にジメチルシクロヘキサンを含む炭素数8の非芳香族炭化水素、EBはエチルベンゼン、PXはパラキシレン、MXはメタキシレン、OXはオルソキシレン、を表す。またC9+AはC9以上の炭素数を有する芳香族炭化水素を表す。なお、原料中に含まれるシクロヘキサン、メチルシクロペンタン、ノルマルヘキサン及びC7ナフテンパラフィンの濃度は、10ppm以下であった。
上記原料油について、触媒Aを反応管に7.5グラム充填して次の条件で反応させた。その後、反応生成物を蒸留し製品ベンゼンを回収した。
反応条件
WHSV(hr−1): 3.5
反応温度(℃): 410
反応圧力(MPa): 0.9
H2/Feed(mol /mol ):3.5
表2にそのテスト結果を示す。
尚、反応テスト結果からのベンゼン純度推定については、下式を用いて計算を行った。
製品ベンゼン推定純度=([ベンゼン濃度]/(a+b+c+d+[ベンゼン濃度])×100(%))
ここで、a〜dは以下に定義される。
a=0.1*[n−C6パラフィン濃度]
b=0.7*[メチルシクロペンタン濃度]
c=1.0*[シクロヘキサン濃度]
d=1.0*[C7ナフテンパラフィン濃度]。
反応条件
WHSV(hr−1): 3.5
反応温度(℃): 410
反応圧力(MPa): 0.9
H2/Feed(mol /mol ):3.5
表2にそのテスト結果を示す。
尚、反応テスト結果からのベンゼン純度推定については、下式を用いて計算を行った。
製品ベンゼン推定純度=([ベンゼン濃度]/(a+b+c+d+[ベンゼン濃度])×100(%))
ここで、a〜dは以下に定義される。
a=0.1*[n−C6パラフィン濃度]
b=0.7*[メチルシクロペンタン濃度]
c=1.0*[シクロヘキサン濃度]
d=1.0*[C7ナフテンパラフィン濃度]。
比較例1
触媒Aの製造と同様にしてアンモニウム及びカルシウム交換したMFI型ゼオライト成型体の乾燥品20グラムを、Ptとして4ミリグラム含む塩化白金酸水溶液40ml中に室温で浸漬し、2時間放置した。30分毎に撹拌した。その後、液を切り、120℃で一晩乾燥した。触媒反応の使用に先立って、硫化水素気流中250℃で2時間硫化処理を行い、大気中にて540℃、2時間焼成し、触媒Bとした。触媒Bに担持されたPtをICP発光分光分析で分析した結果、触媒Bに担持されている白金はPtとして169重量ppmであった。
触媒Aの製造と同様にしてアンモニウム及びカルシウム交換したMFI型ゼオライト成型体の乾燥品20グラムを、Ptとして4ミリグラム含む塩化白金酸水溶液40ml中に室温で浸漬し、2時間放置した。30分毎に撹拌した。その後、液を切り、120℃で一晩乾燥した。触媒反応の使用に先立って、硫化水素気流中250℃で2時間硫化処理を行い、大気中にて540℃、2時間焼成し、触媒Bとした。触媒Bに担持されたPtをICP発光分光分析で分析した結果、触媒Bに担持されている白金はPtとして169重量ppmであった。
上記原料油Aについて、触媒Bを反応管に7.5グラム充填して実施例1と同じ条件で反応させた
ここで、n−C6はノルマルシクロヘキサン、MCPはメチルシクロヘキサン、CXはシクロヘキサン、DMCPはジメチルシクロヘキサン、MCXはメチルシクロヘキサンを表す。
参考例1、及び比較例1の結果から、水素化活性金属であるレニウムを担持したMFI型ゼオライト触媒を用いて、エチルベンゼンの転化を行うと、高い脱アルキル化活性を保持しつつ、ベンゼンとの共沸不純物の生成を低く抑えられるため、ベンゼンを分留のみで純度99.80重量%以上の高純度ベンゼンを得られることが解る。上記テストはエチルベンゼン濃度が8重量%の原料を使用しているが、参考例1ではベンゼンとの共沸不純物が製品ベンゼン中に0.1重量%分しか生成していないため、原料中のエチルベンゼン濃度が半分の4重量%になって、ベンゼン生成量が半分になっても、なお、分留のみで純度99.80重量%以上ベンゼンを得られる。
上記参考例1で得られた反応液約1kgを実際に使って、まずベンゼン・トルエンを含む炭素数7以下の芳香族炭化水素と炭素数8以上の芳香族炭化水素とに蒸留分離を行い、次に留出液である上記炭素数7以下の芳香族炭化水素を蒸留にて、主に炭素数6以下の非芳香族炭化水素を除去、最後にベンゼンとトルエンを蒸留で分離して製品ベンゼン約35gを回収した。ベンゼンの純度は推定純度とほとんど同じ99.93%であった。尚、使用した蒸留塔の段数は約40段、各蒸留作業の蒸留圧力は常圧、還流比条件は5〜20、ベンゼンの蒸留回収率はおおよそ90%であった。
参考例2、及び、実施例1〜6
次に、触媒Aを用いて、原料中のエチルベンゼン濃度、並びに、非芳香族炭化水素濃度が変化したときの、ベンゼンとの共沸不純物の生成について調べるため、表3に示す7種類の供給原料を使って反応テストを行った。
次に、触媒Aを用いて、原料中のエチルベンゼン濃度、並びに、非芳香族炭化水素濃度が変化したときの、ベンゼンとの共沸不純物の生成について調べるため、表3に示す7種類の供給原料を使って反応テストを行った。
尚、n−C8はノルマルオクタン、Et−CXはエチルシクロヘキサン、EBはエチルベンゼン、PXはパラキシレン、MXはメタキシレン、OXはオルソキシレン、を表す。またC9+AはC9以上の炭素数を有する芳香族炭化水素を表す。
上記原料油について、触媒Aを反応管に7.5グラム充填して次の条件で反応させた。反応結果を表4に示す。
反応条件
WHSV(hr−1): 3.5
反応圧力(MPa): 0.9
H2/Feed(mol /mol ):3.5 表2にそのテスト結果を示す。
反応条件
WHSV(hr−1): 3.5
反応圧力(MPa): 0.9
H2/Feed(mol /mol ):3.5 表2にそのテスト結果を示す。
実施例1〜6の結果より、供給原料中に非芳香族炭化水素が含有されていても、高い脱アルキル化活性を保持しながら、ベンゼンとの共沸不純物の生成を低く抑えられるため、ベンゼンを分留のみで純度99.80重量%以上の高純度ベンゼンを得られることが解る。又、参考例1と同様、例えば、原料中のエチルベンゼン濃度が4重量%まで減少し、且つ、エチルベンゼン転化率が60%まで下がって、ベンゼンの生成が少なくなったとしても、なお分留のみで純度99.80重量%のベンゼンを得ることができる。
1:高沸点成分蒸留分離工程
2:パラキシレン分離工程
3:キシレン異性化工程
4:低沸点成分蒸留分離工程
5:ストリーム
6:ストリーム
7:ストリーム
8:ストリーム
9:ストリーム
10:ストリーム
11:ストリーム
12:ストリーム
13:ストリーム
14:高沸点成分蒸留分離工程
15:脱エチル化・キシレン異性化工程
16:低沸点成分蒸留分離工程
17:ストリーム
18:ストリーム
19:ストリーム
20:ストリーム
21:ストリーム
22:ストリーム
23:脱エチル化・キシレン異性化工程バイパスライン。
2:パラキシレン分離工程
3:キシレン異性化工程
4:低沸点成分蒸留分離工程
5:ストリーム
6:ストリーム
7:ストリーム
8:ストリーム
9:ストリーム
10:ストリーム
11:ストリーム
12:ストリーム
13:ストリーム
14:高沸点成分蒸留分離工程
15:脱エチル化・キシレン異性化工程
16:低沸点成分蒸留分離工程
17:ストリーム
18:ストリーム
19:ストリーム
20:ストリーム
21:ストリーム
22:ストリーム
23:脱エチル化・キシレン異性化工程バイパスライン。
Claims (9)
- 少なくとも4重量%のエチルベンゼンと混合キシレンを含む原料であって、非芳香族炭化水素を少なくとも0.15重量%以上含む混合原料を、MFI型ゼオライトと非結晶性無機酸化物からなり、レニウムを0.05〜2重量%含有する触媒組成物と接触させて、エチルベンゼン転化率60%以上でエチルベンゼンをベンゼンに転化し、そのベンゼンを蒸留のみで純度99.80重量%以上のベンゼンとして回収することを特徴とするベンゼンの製造方法。
- 混合原料がエチルベンゼンを少なくとも8重量%以上含むことを特徴とする請求項1記載のベンゼンの製造方法。
- 混合原料が非芳香族炭化水素を少なくとも0.5重量%以上含むことを特徴とする請求項1または2に記載のベンゼンの製造方法。
- 混合原料が非芳香族炭化水素を少なくとも1.0重量%以上含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のベンゼンの製造方法。
- 非芳香族炭化水素の炭素数が8から9であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のベンゼンの製造方法。
- エチルベンゼンが転化したベンゼンを蒸留のみで純度99.90重量%以上のベンゼンとして回収することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のベンゼンの製造方法。
- 触媒組成物中レニウム含有量が0.1〜2重量%である請求項1〜6のいずれかに記載のベンゼンの製造方法。
- MFI型ゼオライトがシリカ・アルミナモル比が20〜60であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のベンゼンの製造方法。
- 触媒組成物がカルシウムを含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載のベンゼンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007256809A JP2009084227A (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | ベンゼンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007256809A JP2009084227A (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | ベンゼンの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009084227A true JP2009084227A (ja) | 2009-04-23 |
Family
ID=40658109
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007256809A Pending JP2009084227A (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | ベンゼンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009084227A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20120302798A1 (en) * | 2010-02-05 | 2012-11-29 | Dakka Jihad M | Dehydrogenation Process |
-
2007
- 2007-09-28 JP JP2007256809A patent/JP2009084227A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20120302798A1 (en) * | 2010-02-05 | 2012-11-29 | Dakka Jihad M | Dehydrogenation Process |
US9024078B2 (en) * | 2010-02-05 | 2015-05-05 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Dehydrogenation process |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101599491B1 (ko) | p-자일렌의 제조를 위한 통합공정 | |
KR101357387B1 (ko) | 에틸벤젠의 전화 방법 및 파라크실렌의 제조 방법 | |
EP2931686B1 (en) | Aromatic transalkylation using uzm-44 aluminosilicate zeolite | |
JP2011500486A (ja) | 長形シリカを含む芳香族化触媒並びにその作製及び使用方法 | |
TWI537051B (zh) | 轉烷化芳香烴之方法 | |
US6593504B1 (en) | Selective aromatics transalkylation | |
JP2009235247A (ja) | 炭素数6〜8の芳香族炭化水素の製造方法 | |
JP2002509523A (ja) | 実質的に無視し得ない量のエチル置換芳香族成分を含有するc▲下9▼芳香族炭化水素供給原料の、トルエン及び/又はキシレン類含量に富んだ生成物への、選択的接触転化法 | |
JP4735774B2 (ja) | エチルベンゼンの転化方法及びパラキシレン製造方法 | |
TWI773974B (zh) | 新穎沸石,其製法,及其於轉化芳族烴之用途 | |
JP5292699B2 (ja) | エチルベンゼンの転化方法およびパラキシレンの製造方法 | |
JP4830944B2 (ja) | エチルベンゼンの脱アルキル化及びキシレンの異性化二元機能触媒 | |
CN104353487A (zh) | 一种c8芳烃异构化催化剂及其应用 | |
KR101026787B1 (ko) | 에틸벤젠 함유 키실렌류의 변환촉매 및 그 촉매를 이용한에틸벤젠 함유 키실렌류의 변환방법 | |
JP2004203877A (ja) | メシチレンおよびズレンの製造方法 | |
JP2005224793A (ja) | エチルベンゼン含有キシレン類の変換触媒およびその触媒を用いたエチルベンゼン含有キシレン類の変換方法 | |
JP2009084227A (ja) | ベンゼンの製造方法 | |
JP2005224793A5 (ja) | ||
JP4423577B2 (ja) | Euo型構造を有するゼオライトを含有する触媒を使用する8個の炭素原子を含有する芳香族留分の異性化方法 | |
TWI490035B (zh) | 使用雙催化劑系統之芳香族化合物異構化 | |
JP2004238317A (ja) | 重質油からのキシレン類の製造方法 | |
JP2007203148A (ja) | 芳香族炭化水素の転化反応用触媒組成物とそれを用いた芳香族炭化水素の転化方法 | |
JP2012139618A (ja) | エチルベンゼン及びキシレンを含む混合原料の転化触媒、及び、その方法 | |
JPH0824661A (ja) | キシレン類の異性化触媒およびキシレン類の異性化方法 | |
JP2015530419A (ja) | 低圧アルキル交換プロセス |