JP2009079140A - Curable composition, curable resin transfer film, method for manufacturing spacer, substrate for liquid crystal display and liquid crystal display - Google Patents

Curable composition, curable resin transfer film, method for manufacturing spacer, substrate for liquid crystal display and liquid crystal display Download PDF

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JP2009079140A
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Hidenori Goto
英範 後藤
Hideyuki Nakamura
秀之 中村
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable composition and a curable resin transfer film, suppressing degradation in developing property of a curable resin layer formed on a substrate with lapse of time and degradation in display irregularity of a liquid crystal display when the composition is used as a spacer. <P>SOLUTION: The curable composition comprises at least: a resin (A) having a branched and/or alicyclic structure, an acidic group and a group having an ethylenically unsaturated bond, in a side chain; a polymerizable compound (B); and an initiator (C) having two or more polybenzene structures having a (4,6-bistrihalomethyl-S-triazin-2-yl) group or a 2-(5-trihalomethyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl)ethenyl group and a group having a valence of n in the benzene ring. The curable resin transfer film has a curable resin layer formed by using the above composition, on a temporary support. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、硬化性組成物、硬化性樹脂転写フイルム及びスペーサーの製造方法、並びにこの方法により作製されたスペーサーを備えた液晶表示装置用基板、及び液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a method for producing a curable composition, a curable resin transfer film and a spacer, a substrate for a liquid crystal display device provided with the spacer produced by this method, and a liquid crystal display device.

従来、液晶表示装置は、高画質画像を表示する表示装置に広く利用されている。液晶表示装置は一般に、一対の基板間に所定の配向により画像表示を可能とする液晶層が配置されており、この基板間隔、すなわち液晶層の厚みを均一に維持することが画質を決定する要素の一つであり、そのために液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサーが配設されている。この基板の間の厚みは一般に「セル厚」と称され、セル厚は通常、前記液晶層の厚み、換言すれば、表示領域の液晶に電界をかけている2枚の電極間の距離を示すものである。   Conventionally, liquid crystal display devices are widely used in display devices that display high-quality images. In general, a liquid crystal display device is provided with a liquid crystal layer capable of displaying an image with a predetermined orientation between a pair of substrates, and maintaining the spacing between the substrates, ie, the thickness of the liquid crystal layer, is an element that determines image quality. For this purpose, a spacer for keeping the thickness of the liquid crystal layer constant is provided. The thickness between the substrates is generally referred to as “cell thickness”, and the cell thickness usually indicates the thickness of the liquid crystal layer, in other words, the distance between two electrodes applying an electric field to the liquid crystal in the display region. Is.

スペーサーは、従来ビーズ散布により形成されていたが、近年では、硬化性樹脂組成物を用いてプロキシミティー露光により位置精度の高いスペーサーが形成されるようになってきている。このような硬化性樹脂組成物を用いて形成されたスペーサーは、フォトスペーサーと呼ばれている。   Conventionally, the spacer has been formed by bead dispersion, but in recent years, a spacer having high positional accuracy has been formed by proximity exposure using a curable resin composition. A spacer formed using such a curable resin composition is called a photospacer.

硬化性樹脂組成物を用いてパターニング、アルカリ現像、及びベークを経て作製されたフォトスペーサーについては、そのスペーサドットの圧縮強度が弱く、パネル形成時に塑性変形が大きくなる傾向を有している。高画質の画像表示には、これに起因して液晶層の厚みが設計値より小さくなる等して均一性が保持できない問題や、画像ムラを生ずるといった問題がないことが要求される。また、硬化性樹脂組成物の液安定性、液晶表示装置の高精度化の点では、硬化性樹脂組成物のアルカリ現像残渣が生じないことも重要である。
さらには近年、生産調整のため、硬化性樹脂組成物及び硬化性樹脂転写フィルムを用いて硬化性樹脂層をガラス基板に積層した後、一旦ラック等に保管され、一定時間経過した後、露光以降のプロセス行なわれることがある。このような場合、保管する時間の影響により現像性、力学特性(変形回復率など)及び表示性などが悪化することがあった。
About the photo spacer produced through patterning, alkali development, and baking using the curable resin composition, the compressive strength of the spacer dots is weak, and the plastic deformation tends to increase during panel formation. For high-quality image display, it is required that there is no problem that the uniformity cannot be maintained due to the thickness of the liquid crystal layer being smaller than the design value, and that there is no problem of image unevenness. Moreover, it is also important that the alkali development residue of a curable resin composition does not arise in the point of the liquid stability of a curable resin composition, and the high precision of a liquid crystal display device.
Furthermore, in recent years, for production adjustment, after laminating a curable resin layer on a glass substrate using a curable resin composition and a curable resin transfer film, it is once stored in a rack or the like, and after a certain period of time, after exposure The process may be carried out. In such a case, developability, mechanical properties (deformation recovery rate, etc.), display properties, etc. may deteriorate due to the influence of storage time.

プロキシミティー露光による位置精度の高いスペーサーに関しては、エチレン性不飽和カルボン酸及び/又はエチレン性不飽和カルボン酸無水物とエポキシ基含有エチレン性不飽和化合物と他のエチレン性不飽和化合物との共重合体と、トリハロメチルトリアジン類を含有する感放射線性樹脂組成物により、プロキシミティー露光によってもマスクパターンの設計サイズを忠実に再現でき、かつスペーサーとして必要な強度、耐熱性等に優れた表示パネル用スペーサーを形成する方法が提案されている。(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら上記の方法では低温で保管された組成物では良好な性能が得られるものの安定性が悪く、常温で保管された組成物を塗布すると、塗布ムラが発生したり、塗布不可能な場合があった。
これを改良すべく、側鎖にカルボキシル基を有するセグメントA、側鎖にエステル結合を介して重合性二重結合を有する化合物が結合したセグメントB、及び、非イオン性のセグメントCとからなる共重合体を含有することを特徴とする光硬化性樹脂組成物が提案されている。(例えば、特許文献2参照)
For spacers with high positional accuracy by proximity exposure, co-polymerization of ethylenically unsaturated carboxylic acid and / or ethylenically unsaturated carboxylic acid anhydride, epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound and other ethylenically unsaturated compounds For display panels that can faithfully reproduce the mask pattern design size even with proximity exposure, and have excellent strength, heat resistance, etc., required for spacers, using a radiation-sensitive resin composition containing coalescence and trihalomethyltriazines A method for forming a spacer has been proposed. (For example, refer to Patent Document 1).
However, in the above method, a composition stored at a low temperature provides good performance, but the stability is poor, and when a composition stored at room temperature is applied, uneven coating may occur or coating may not be possible. It was.
In order to improve this, a segment consisting of a segment A having a carboxyl group in the side chain, a segment B in which a compound having a polymerizable double bond is bonded to the side chain via an ester bond, and a nonionic segment C A photocurable resin composition characterized by containing a polymer has been proposed. (For example, see Patent Document 2)

また、液晶層の厚さ(セル厚)を一定に保つためのスペーサー形成技術として、スペーサー形成用にアリル基を有する樹脂を用いることが開示されている(例えば、特許文献3参照)。
これらの提案では液安定性が改善されるものの、硬化性樹脂層をガラス基板に積層して、一定時間経過した後、露光プロセス行うと現像性、力学特性(変形回復率など)及び表示性などが悪化することがあった。
特開2002−278064号公報 特開2005−62620号公報 特開2003−207787号公報
In addition, as a spacer forming technique for keeping the thickness (cell thickness) of the liquid crystal layer constant, it is disclosed that a resin having an allyl group is used for spacer formation (see, for example, Patent Document 3).
Although these proposals improve the liquid stability, developability, mechanical properties (deformation recovery rate, etc.), display properties, etc., when a curable resin layer is laminated on a glass substrate and after an elapse of a certain time, the exposure process is performed. Could get worse.
JP 2002-278064 A JP 2005-62620 A JP 2003-207787 A

本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の課題を解決することを目的とする。即ち、本発明は、液安定性が良好な硬化性組成物、基板上に硬化性樹脂層を形成した後の、経時による、現像性及びスペーサーとして適用したときの液晶表示装置の表示ムラの劣化を抑制可能な硬化性組成物及び硬化性樹脂転写フイルム、硬化性組成物又は硬化性樹脂転写フイルムを用いたスペーサーの製造方法、並びにこの方法により作製されたスペーサーを備えた液晶表示装置用基板、及び高品質な画像を表示可能な液晶表示装置を提供することを目的とする。   The object of the present invention is to solve the conventional problems and to solve the following problems. That is, the present invention provides a curable composition with good liquid stability, deterioration of display unevenness of a liquid crystal display device when applied as a spacer and a developing property over time after a curable resin layer is formed on a substrate. Curable composition and curable resin transfer film, method for producing spacer using curable composition or curable resin transfer film, and substrate for liquid crystal display device provided with the spacer produced by this method, An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of displaying a high-quality image.

本発明者等は、鋭意検討の結果、特定の共重合体と開始剤とを組み合わせることにより上記課題が達成されることを見出した。
即ち、本発明は、
<1> 分岐及び/又は脂環構造を有する基、酸性基、及びエチレン性不飽和結合を有する基を側鎖に有する樹脂(A)、重合性化合物(B)及び下記一般式(I)で表される開始剤(C)を少なくとも含んでなることを特徴とする硬化性組成物である。
As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problem can be achieved by combining a specific copolymer and an initiator.
That is, the present invention
<1> Resin (A), polymerizable compound (B) having the group having a branched and / or alicyclic structure, an acidic group, and a group having an ethylenically unsaturated bond in the side chain, and the following general formula (I) It is a curable composition characterized by including the initiator (C) represented at least.

Figure 2009079140
Figure 2009079140

式中、Tは(4,6−ビストリハロメチル−S−トリアジン−2−イル)基又は2−(5−トリハロメチル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)エテニル基を、Yはn価の基を、nは2以上の整数を表す。ベンゼン環はT以外の置換基を有していてもよい。   In the formula, T represents a (4,6-bistrihalomethyl-S-triazin-2-yl) group or a 2- (5-trihalomethyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl) ethenyl group, Y represents an n-valent group, and n represents an integer of 2 or more. The benzene ring may have a substituent other than T.

<2> 前記脂環構造を有する基が、置換基を有していてもよい炭素数6以上の環状構造を有する基であることを特徴とする<1>に記載の硬化性組成物である。   <2> The curable composition according to <1>, wherein the group having an alicyclic structure is a group having a cyclic structure having 6 or more carbon atoms which may have a substituent. .

<3> 微粒子(D)を更に含むことを特徴とする<1>又は<2>に記載の硬化性組成物である。   <3> The curable composition according to <1> or <2>, further comprising fine particles (D).

<4> 前記微粒子(D)の平均粒子径が5〜50nmであり、硬化性組成物中の全固形分に対する質量比率が5〜50質量%であることを特徴とする<3>に記載の硬化性組成物である。   <4> The average particle size of the fine particles (D) is 5 to 50 nm, and the mass ratio with respect to the total solid content in the curable composition is 5 to 50 mass%. It is a curable composition.

<5> 前記微粒子(D)がコロイダルシリカであることを特徴とする<3>又は<4>に記載の硬化性組成物である。   <5> The curable composition according to <3> or <4>, wherein the fine particles (D) are colloidal silica.

<6> 仮支持体上に、少なくとも硬化性樹脂層を有する硬化性樹脂転写フイルムであって、前記硬化性樹脂層が、<1>乃至<5>のいずれか1つに記載の硬化性組成物を用いて形成されたことを特徴とする硬化性樹脂転写フイルムである。   <6> A curable resin transfer film having at least a curable resin layer on a temporary support, wherein the curable resin layer is a curable composition according to any one of <1> to <5>. A curable resin transfer film formed using a product.

<7> 前記硬化性樹脂層と前記仮支持体との間に、中間層及び/又は熱可塑性樹脂層を有することを特徴とする<6>に記載の硬化性樹脂転写フイルムである。   <7> The curable resin transfer film according to <6>, further comprising an intermediate layer and / or a thermoplastic resin layer between the curable resin layer and the temporary support.

<8> <1>乃至<5>のいずれか1つに記載の硬化性組成物を用いて、塗布することで支持体上に硬化性樹脂層を形成する工程を有することを特徴とするスペーサーの製造方法である。   <8> A spacer having a step of forming a curable resin layer on a support by coating with the curable composition according to any one of <1> to <5>. It is a manufacturing method.

<9> <6>又は<7>に記載の硬化性樹脂転写フイルムを用いて、加熱及び/又は加圧により支持体上に硬化性樹脂層を転写する工程を有することを特徴とするスペーサーの製造方法である。   <9> A spacer having a step of transferring a curable resin layer onto a support by heating and / or pressurization using the curable resin transfer film according to <6> or <7>. It is a manufacturing method.

<10> <8>又は<9>に記載のスペーサーの製造方法により製造したスペーサーを備えたことを特徴とする液晶表示装置用基板である。   <10> A substrate for a liquid crystal display device, comprising a spacer produced by the method for producing a spacer according to <8> or <9>.

<11> <10>に記載の液晶表示装置用基板を備えたことを特徴とする液晶表示装置である。   <11> A liquid crystal display device comprising the substrate for a liquid crystal display device according to <10>.

本発明によれば、液安定性が良好な硬化性組成物、基板上に硬化性樹脂層を形成した後の、経時による、現像性及びスペーサーとして適用したときの液晶表示装置の表示ムラの劣化を抑制可能な硬化性組成物及び硬化性樹脂転写フイルム、硬化性組成物又は硬化性樹脂転写フイルムを用いたスペーサーの製造方法、並びにこの方法により作製されたスペーサーを備えた液晶表示装置用基板、及び高品質な画像を表示可能な液晶表示装置が提供される。   According to the present invention, a curable composition with good liquid stability, deterioration of display unevenness of a liquid crystal display device when applied as a spacer, and developability over time after a curable resin layer is formed on a substrate. Curable composition and curable resin transfer film, method for producing spacer using curable composition or curable resin transfer film, and substrate for liquid crystal display device provided with the spacer produced by this method, In addition, a liquid crystal display device capable of displaying a high-quality image is provided.

以下、本発明の硬化性組成物、硬化性樹脂転写フイルム、スペーサーの製造方法、液晶表示装置用基板及び液晶表示装置について詳細に説明する。   Hereinafter, the curable composition, the curable resin transfer film, the method for producing a spacer, the substrate for a liquid crystal display device and the liquid crystal display device of the present invention will be described in detail.

<硬化性組成物>
本発明の硬化性組成物は、分岐及び/又は脂環構造を有する基、酸性基、及びエチレン性不飽和結合を有する基を側鎖に有する樹脂(A)、重合性化合物(B)及び下記一般式(I)で表される開始剤(C)を少なくとも含んでなることを特徴とする。
<Curable composition>
The curable composition of the present invention includes a resin (A) having a branched and / or alicyclic structure, an acidic group, and a group having an ethylenically unsaturated bond in the side chain (A), the polymerizable compound (B), and the following. It is characterized by comprising at least the initiator (C) represented by the general formula (I).

Figure 2009079140
Figure 2009079140

式中、Tは(4,6−ビストリハロメチル−S−トリアジン−2−イル)基又は2−(5−トリハロメチル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)エテニル基を、Yはn価の基を、nは2以上の整数を表す。ベンゼン環はT以外の置換基を有していてもよい。   In the formula, T represents a (4,6-bistrihalomethyl-S-triazin-2-yl) group or a 2- (5-trihalomethyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl) ethenyl group, Y represents an n-valent group, and n represents an integer of 2 or more. The benzene ring may have a substituent other than T.

本発明の硬化性組成物によれば、本発明の硬化性組成物を用いて基板上に硬化性樹脂層を形成した後の、経時による、現像性及びスペーサーとして適用したときの液晶表示装置の表示ムラの劣化を抑制することが可能となる。また、本発明の硬化性組成物を液体として用いた際に、良好な液安定性を実現可能となる。   According to the curable composition of the present invention, after forming a curable resin layer on a substrate using the curable composition of the present invention, the development of the liquid crystal display device when applied as a spacer over time. Deterioration of display unevenness can be suppressed. Moreover, when the curable composition of the present invention is used as a liquid, good liquid stability can be realized.

以下、本発明の硬化性組成物を構成する各成分について詳細に説明する。
−樹脂(A)−
本発明に係る樹脂(A)は、分岐及び/又は脂環構造を有する基:X(xモル%)、酸性基:Y(yモル%)、及びエチレン性不飽和結合を有する基:Z(zモル%)を側鎖に有し、必要に応じてその他の基:L(lモル%)を有していてもよい。分岐及び/又は脂環構造を有する基、酸性基、エチレン性不飽和結合を有する基は、それぞれが異なる側鎖中に含まれていてもよいし、一部が組み合わされて同じ側鎖中に含まれていてもよいし、全てが同じ側鎖中に含まれていてもよい。
Hereinafter, each component which comprises the curable composition of this invention is demonstrated in detail.
-Resin (A)-
The resin (A) according to the present invention comprises a group having a branched and / or alicyclic structure: X (x mol%), an acidic group: Y (y mol%), and a group having an ethylenically unsaturated bond: Z ( z mol%) in the side chain, and may optionally have other groups: L (1 mol%). A group having a branched and / or alicyclic structure, an acidic group, and a group having an ethylenically unsaturated bond may be contained in different side chains, or a part of them may be combined in the same side chain. It may be contained, or all may be contained in the same side chain.

なお、本明細書中において、(メタ)アクリロイル基はアクリロイル基又はメタクリロイル基を表し、(メタ)アクリレートはアクリレート又はメタクリレートを表し、(メタ)アクリルはアクリル又はメタクリルを表し、(メタ)アクリルアミドはアクリルアミド又はメタクリルアミドを表す。   In the present specification, (meth) acryloyl group represents acryloyl group or methacryloyl group, (meth) acrylate represents acrylate or methacrylate, (meth) acryl represents acryl or methacryl, and (meth) acrylamide represents acrylamide. Or represents methacrylamide.

−分岐及び/又は脂環構造を有する基:X−
前記「分岐及び/又は脂環構造を有する基」について説明する。
まず、分岐構造を有する基としては、炭素原子数3〜12個の分岐状のアルキル基が挙げられる。具体的には、例えば、i−プロピル基、i−ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、2−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、i−アミル基、t−アミル基、3−オクチル基、t−オクチル基等が挙げられる。これらの中でも、i−プロピル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基等が好ましく、さらにi−プロピル基、s−ブチル基、t−ブチル基等が好ましい。
-Group having a branched and / or alicyclic structure: X-
The “group having a branched and / or alicyclic structure” will be described.
First, examples of the group having a branched structure include a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms. Specifically, for example, i-propyl group, i-butyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 2-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl Group, i-amyl group, t-amyl group, 3-octyl group, t-octyl group and the like. Among these, i-propyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group and the like are preferable, and i-propyl group, s-butyl group, t-butyl group and the like are more preferable.

脂環構造を有する基としては、炭素原子数5〜20個の脂環式炭化水素基が挙げられる。具体的には、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、及びトリシクロペンタニル基等が挙げられる。
本発明においては、前記脂環構造を有する基が、置換基を有していてもよい炭素数6以上の環状構造を有する基であることが好ましい。具体的には、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、トリシクロペンテニル基、トリシクロペンタニル基等が好ましく、更にシクロヘキシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロペンテニル基等が好ましい。
Examples of the group having an alicyclic structure include alicyclic hydrocarbon groups having 5 to 20 carbon atoms. Specifically, for example, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, norbornyl group, isobornyl group, adamantyl group, tricyclodecyl group, dicyclopentenyl group, dicyclopentanyl group, tricyclopentenyl group And a tricyclopentanyl group.
In the present invention, the group having an alicyclic structure is preferably a group having a cyclic structure having 6 or more carbon atoms which may have a substituent. Specifically, a cyclohexyl group, a norbornyl group, an isobornyl group, an adamantyl group, a tricyclodecyl group, a tricyclopentenyl group, a tricyclopentanyl group and the like are preferable, and a cyclohexyl group, a norbornyl group, an isobornyl group, and a tricyclopentenyl group are more preferable. Etc. are preferred.

前記分岐及び/又は脂環構造を有する基を含有する単量体としては、スチレン類、(メタ)アクリレート類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、(メタ)アクリルアミド類などが挙げられ、(メタ)アクリレート類、ビニルエステル類、(メタ)アクリルアミド類が好ましく、さらに好ましくは(メタ)アクリレート類である。   Examples of the monomer containing a group having a branched and / or alicyclic structure include styrenes, (meth) acrylates, vinyl ethers, vinyl esters, (meth) acrylamides, and the like (meth) acrylates. , Vinyl esters and (meth) acrylamides are preferred, and (meth) acrylates are more preferred.

前記分岐構造を有する基を含有する単量体の具体例としては、(メタ)アクリル酸i−プロピル、(メタ)アクリル酸i−ブチル、(メタ)アクリル酸s−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸i−アミル、(メタ)アクリル酸t−アミル、(メタ)アクリル酸sec−iso−アミル、(メタ)アクリル酸2−オクチル、(メタ)アクリル酸3−オクチル、(メタ)アクリル酸t−オクチル等が挙げられ、その中でも、(メタ)アクリル酸i−プロピル、(メタ)アクリル酸i−ブチル、メタクリル酸t−ブチル等が好ましく、さらに好ましくは、メタクリル酸i−プロピル、メタクリル酸t−ブチル等である。   Specific examples of the monomer containing the group having a branched structure include i-propyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid. t-butyl, i-amyl (meth) acrylate, t-amyl (meth) acrylate, sec-iso-amyl (meth) acrylate, 2-octyl (meth) acrylate, 3-octyl (meth) acrylate , (Meth) acrylic acid t-octyl, and the like. Among them, i-propyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, t-butyl methacrylate and the like are preferable, and methacrylic acid is more preferable. i-propyl, t-butyl methacrylate and the like.

前記脂環構造を有する基を含有する単量体の具体例としては、炭素原子数5〜20個の脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリレートが挙げられる。具体的な例としては、(メタ)アクリル酸(ビシクロ〔2.2.1]ヘプチル−2)、(メタ)アクリル酸−1−アダマンチル、(メタ)アクリル酸−2−アダマンチル、(メタ)アクリル酸−3−メチル−1−アダマンチル、(メタ)アクリル酸−3,5−ジメチル−1−アダマンチル、(メタ)アクリル酸−3−エチルアダマンチル、(メタ)アクリル酸−3−メチル−5−エチル−1−アダマンチル、(メタ)アクリル酸−3,5,8−トリエチル−1−アダマンチル、(メタ)アクリル酸−3,5−ジメチル−8−エチル−1−アダマンチル、(メタ)アクリル酸2−メチル−2−アダマンチル、(メタ)アクリル酸2−エチル−2−アダマンチル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチル、(メタ)アクリル酸オクタヒドロ−4,7−メンタノインデン−5−イル、(メタ)アクリル酸オクタヒドロ−4,7−メンタノインデン−1−イルメチル、(メタ)アクリル酸−1−メンチル、(メタ)アクリル酸トリシクロデシル、(メタ)アクリル酸−3−ヒドロキシ−2,6,6−トリメチル−ビシクロ〔3.1.1〕ヘプチル、(メタ)アクリル酸−3,7,7−トリメチル−4−ヒドロキシ−ビシクロ〔4.1.0〕ヘプチル、(メタ)アクリル酸(ノル)ボルニル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸フエンチル、(メタ)アクリル酸−2,2,5−トリメチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、などが挙げられる。これら(メタ)アクリル酸エステルの中でも、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸(ノル)ボルニル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸−1−アダマンチル、(メタ)アクリル酸−2−アダマンチル、(メタ)アクリル酸フエンチル、(メタ)アクリル酸1−メンチル、(メタ)アクリル酸トリシクロデシルなどが好ましく、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸(ノル)ボルニル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸−2−アダマンチルが特に好ましい。   Specific examples of the monomer containing a group having the alicyclic structure include (meth) acrylate having an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms. Specific examples include (meth) acrylic acid (bicyclo [2.2.1] heptyl-2), (meth) acrylic acid-1-adamantyl, (meth) acrylic acid-2-adamantyl, (meth) acrylic. Acid-3-methyl-1-adamantyl, (meth) acrylic acid-3,5-dimethyl-1-adamantyl, (meth) acrylic acid-3-ethyladamantyl, (meth) acrylic acid-3-methyl-5-ethyl -1-adamantyl, (meth) acrylic acid-3,5,8-triethyl-1-adamantyl, (meth) acrylic acid-3,5-dimethyl-8-ethyl-1-adamantyl, (meth) acrylic acid 2- Methyl-2-adamantyl, 2-ethyl-2-adamantyl (meth) acrylate, 3-hydroxy-1-adamantyl (meth) acrylate, oct (meth) acrylate Hydro-4,7-mentanoinden-5-yl, octahydro-4,7-mentanoinden-1-ylmethyl (meth) acrylate, (meth) acrylate-1-menthyl, tricyclo (meth) acrylate Decyl, (meth) acrylic acid-3-hydroxy-2,6,6-trimethyl-bicyclo [3.1.1] heptyl, (meth) acrylic acid-3,7,7-trimethyl-4-hydroxy-bicyclo [ 4.1.0] heptyl, (nor) bornyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, fuentyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid-2,2,5-trimethylcyclohexyl, (meth) And cyclohexyl acrylate. Among these (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylic acid cyclohexyl, (meth) acrylic acid (nor) bornyl, (meth) acrylic acid isobornyl, (meth) acrylic acid-1-adamantyl, (meth) acrylic acid- 2-adamantyl, (meth) acrylic acid fuentyl, (meth) acrylic acid 1-menthyl, (meth) acrylic acid tricyclodecyl, etc. are preferable, (meth) acrylic acid cyclohexyl, (meth) acrylic acid (nor) bornyl, ( Particularly preferred are isobornyl (meth) acrylate and 2-adamantyl (meth) acrylate.

前記脂環構造を有する基を含有する単量体の具体例としては、更に下記一般式(1)又は(2)で表される化合物が挙げられる。ここで、一般式(1)、(2)において、xは1又は2を表し、Rは水素又はメチル基を表す。m及びnはそれぞれ独立に0〜15を表す。一般式(1)、(2)の中でも、x=1又は2、m=0〜8、n=0〜4が好ましく、m=1〜4、n=0〜2がより好ましい。一般式(1)又は(2)で表される化合物の好ましい具体例として、下記化合物D−1〜D−5、T−1〜T−8が挙げられる。   Specific examples of the monomer containing a group having an alicyclic structure further include compounds represented by the following general formula (1) or (2). Here, in the general formulas (1) and (2), x represents 1 or 2, and R represents hydrogen or a methyl group. m and n each independently represent 0-15. Among general formulas (1) and (2), x = 1 or 2, m = 0 to 8, and n = 0 to 4 are preferable, and m = 1 to 4 and n = 0 to 2 are more preferable. Preferable specific examples of the compound represented by the general formula (1) or (2) include the following compounds D-1 to D-5 and T-1 to T-8.

Figure 2009079140
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Figure 2009079140
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Figure 2009079140
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前記脂環構造を有する基を含有する単量体は適宜製造したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。
前記市販品としては、日立化成工業(株)製:FA−511A、FA−512A(S)、FA−512M、FA−513A、FA−513M、TCPD−A、TCPD−M、H−TCPD−A、H−TCPD−M、TOE−A、TOE−M、H−TOE−A、H−TOE−M等が挙げられる。これらの中でも現像性に優れ、変形回復率に優れる点で、FA−512A(S),512Mが好ましい。
As the monomer containing a group having an alicyclic structure, an appropriately produced monomer may be used, or a commercially available product may be used.
As said commercial item, Hitachi Chemical Co., Ltd. product: FA-511A, FA-512A (S), FA-512M, FA-513A, FA-513M, TCPD-A, TCPD-M, H-TCPD-A , H-TCPD-M, TOE-A, TOE-M, H-TOE-A, H-TOE-M and the like. Among these, FA-512A (S) and 512M are preferable because they are excellent in developability and excellent in the deformation recovery rate.

−酸性基:Y−
前記酸性基としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミド基、リン酸基、フェノール性水酸基等が挙げられる。これらの中でも、現像性、及び硬化膜の耐水性が優れる点から、カルボキシ基、フェノール性水酸基であることが好ましい。
-Acidic group: Y-
There is no restriction | limiting in particular as said acidic group, It can select suitably from well-known things, For example, a carboxyl group, a sulfonic acid group, a sulfonamide group, a phosphoric acid group, a phenolic hydroxyl group etc. are mentioned. Among these, a carboxy group and a phenolic hydroxyl group are preferable from the viewpoint of excellent developability and water resistance of the cured film.

前記酸性基を有する単量体としては、特に制限はなく、スチレン類、(メタ)アクリレート類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、(メタ)アクリルアミド類などが挙げられ、(メタ)アクリレート類、ビニルエステル類、(メタ)アクリルアミド類が好ましく、さらに好ましくは(メタ)アクリレート類である。   The monomer having an acidic group is not particularly limited, and examples thereof include styrenes, (meth) acrylates, vinyl ethers, vinyl esters, (meth) acrylamides, (meth) acrylates, vinyl esters. And (meth) acrylamides are preferred, and (meth) acrylates are more preferred.

前記酸性基を有する単量体の具体例としては、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、(メタ)アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、α−シアノ桂皮酸、アクリル酸ダイマー、水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは、適宜製造したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。   Specific examples of the monomer having an acidic group can be appropriately selected from known ones such as (meth) acrylic acid, vinyl benzoic acid, maleic acid, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid, Itaconic acid, crotonic acid, cinnamic acid, sorbic acid, α-cyanocinnamic acid, acrylic acid dimer, addition reaction product of hydroxyl group-containing monomer and cyclic acid anhydride, ω-carboxy-polycaprolactone mono (meth) acrylate Etc. As these, those produced as appropriate may be used, or commercially available products may be used.

前記水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物に用いられる水酸基を有する単量体としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。前記環状酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。   Examples of the monomer having a hydroxyl group used in the addition reaction product of the monomer having a hydroxyl group and a cyclic acid anhydride include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. Examples of the cyclic acid anhydride include maleic anhydride, phthalic anhydride, and cyclohexanedicarboxylic anhydride.

前記市販品としては、東亜合成化学工業(株)製:アロニックスM−5300、アロニックスM−5400、アロニックスM−5500、アロニックスM−5600、新中村化学工業(株)製:NKエステルCB−1、NKエステルCBX−1、共栄社油脂化学工業(株)製:HOA−MP、HOA−MS、大阪有機化学工業(株)製:ビスコート#2100等が挙げられる。これらの中でも現像性に優れ、低コストである点で(メタ)アクリル酸等が好ましい。   As said commercial item, Toa Gosei Chemical Industry Co., Ltd .: Aronix M-5300, Aronix M-5400, Aronix M-5500, Aronix M-5600, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Ester CB-1, NK ester CBX-1, manufactured by Kyoeisha Oil Chemical Co., Ltd .: HOA-MP, HOA-MS, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd .: Biscote # 2100, and the like. Among these, (meth) acrylic acid and the like are preferable in terms of excellent developability and low cost.

−エチレン性不飽和結合を有する基:Z−
前記「エチレン性不飽和結合を有する基」としては、特に制限はないが、(メタ)アクリロイル基が好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基は、エステル基、アミド基、カルバモイル基などの2価の連結基を介して樹脂(A)の側鎖に導入されるが、該2価の連結基に特に制限はない。樹脂(A)の側鎖にエチレン性不飽和結合を有する基を導入する方法は公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、酸性基を持つ繰り返し単位にエポキシ基を持つ(メタ)アクリレートを付加する方法、ヒドロキシル基を持つ繰り返し単位にイソシアネート基を持つ(メタ)アクリレートを付加する方法、イソシアネート基を持つ繰り返し単位にヒドロキシ基を持つ(メタ)アクリレートを付加する方法などが挙げられる。
その中でも、酸性基を持つ繰り返し単位にエポキシ基を持つ(メタ)アクリレートを付加する方法が最も製造が容易であり、低コストである点で好ましい。
-Group having an ethylenically unsaturated bond: Z-
The “group having an ethylenically unsaturated bond” is not particularly limited, but is preferably a (meth) acryloyl group. The group having an ethylenically unsaturated bond is introduced into the side chain of the resin (A) via a divalent linking group such as an ester group, an amide group, or a carbamoyl group, but is particularly limited to the divalent linking group. There is no. The method of introducing a group having an ethylenically unsaturated bond into the side chain of the resin (A) can be appropriately selected from known ones. For example, (meth) acrylate having an epoxy group in a repeating unit having an acidic group , A method of adding a (meth) acrylate having an isocyanate group to a repeating unit having a hydroxyl group, a method of adding a (meth) acrylate having a hydroxy group to a repeating unit having an isocyanate group, and the like.
Among these, the method of adding (meth) acrylate having an epoxy group to a repeating unit having an acidic group is most preferable because it is the easiest to produce and is low in cost.

前記エポキシ基を有する(メタ)アクリレートとしては特に制限はないが、例えば、下記構造式(1)で表される化合物及び下記構造式(2)で表される化合物が好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular as (meth) acrylate which has the said epoxy group, For example, the compound represented by following Structural formula (1) and the compound represented by following Structural formula (2) are preferable.

Figure 2009079140
Figure 2009079140

ただし、前記構造式(1)中、Rは水素原子又はメチル基を表す。Lは有機基を表す。 In the Structural Formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. L 1 represents an organic group.

Figure 2009079140
Figure 2009079140

ただし、前記構造式(2)中、Rは水素原子又はメチル基を表す。Lは有機基を表す。Wは4〜7員環の脂肪族炭化水素基を表す。 In the Structural formula (2), R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group. L 2 represents an organic group. W represents a 4- to 7-membered aliphatic hydrocarbon group.

前記構造式(1)で表される化合物及び構造式(2)で表される化合物の中でも、構造式(1)で表される化合物が構造式(2)よりも好ましい。前記構造式(1)及び(2)においては、L及びLがそれぞれ独立に炭素数1〜4のアルキレン基のものがより好ましい。 Of the compound represented by the structural formula (1) and the compound represented by the structural formula (2), the compound represented by the structural formula (1) is more preferable than the structural formula (2). In the structural formulas (1) and (2), it is more preferable that L 1 and L 2 are each independently an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.

前記構造式(1)で表される化合物又は構造式(2)で表される化合物としては、特に制限はないが、例えば、以下の例示化合物(1)〜(10)が挙げられる。   Although there is no restriction | limiting in particular as a compound represented by the said Structural formula (1) or a structural formula (2), For example, the following exemplary compounds (1)-(10) are mentioned.

Figure 2009079140
Figure 2009079140

−その他の基:L−
樹脂(A)は、必要に応じてその他の基を有していてもよく、該その他の基を樹脂(A)に導入するための単量体としては、特に制限はなく、例えば分岐及び/又は脂環構造をもたない(メタ)アクリル酸エステル;スチレン;ビニルエーテル基、二塩基酸無水物基、ビニルエステル基又は炭化水素アルケニル基等を有する単量体などが挙げられる。
前記ビニルエーテル基としては、特に制限はなく、例えば、ブチルビニルエーテル基などが挙げられる。
-Other groups: L-
The resin (A) may have other groups as necessary, and the monomer for introducing the other groups into the resin (A) is not particularly limited. Or a (meth) acrylic acid ester having no alicyclic structure; styrene; a monomer having a vinyl ether group, a dibasic acid anhydride group, a vinyl ester group, or a hydrocarbon alkenyl group.
There is no restriction | limiting in particular as said vinyl ether group, For example, a butyl vinyl ether group etc. are mentioned.

前記二塩基酸無水物基としては、特に制限はなく、例えば、無水マレイン酸基、無水イタコン酸基などが挙げられる。
前記ビニルエステル基としては、特に制限はなく、例えば、酢酸ビニル基などが挙げられる。
前記炭化水素アルケニル基としては、特に制限はなく、例えば、ブタジエン基、イソプレン基などが挙げられる。
The dibasic acid anhydride group is not particularly limited, and examples thereof include a maleic anhydride group and an itaconic anhydride group.
There is no restriction | limiting in particular as said vinyl ester group, For example, a vinyl acetate group etc. are mentioned.
There is no restriction | limiting in particular as said hydrocarbon alkenyl group, For example, a butadiene group, an isoprene group, etc. are mentioned.

樹脂(A)中におけるその他の単量体の含有率としては、モル組成比で、0〜30モル%であることが好ましく、0〜20モル%であることがより好ましい。   As content rate of the other monomer in resin (A), it is preferable that it is 0-30 mol% by molar composition ratio, and it is more preferable that it is 0-20 mol%.

樹脂(A)の具体例としては、例えば、下記化合物P−1〜P−35で表される化合物が挙げられる。   Specific examples of the resin (A) include compounds represented by the following compounds P-1 to P-35.

Figure 2009079140
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―樹脂(A)の製造方法―
樹脂(A)は、単量体を(共)重合反応させて(共)重合体を得る工程及びエチレン性不飽和基を該(共)重合体に導入する工程の二段階の工程を経て製造することができる。
まず、(共)重合反応は種々の単量体を用いて実施され、特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、重合の活性種については、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、配位重合などを適宜選択することができる。これらの中でも合成が容易であり、低コストである点からラジカル重合であることが好ましい。また、重合方法についても特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、バルク重合法、懸濁重合法、乳化重合法、溶液重合法などを適宜選択することができる。これらの中でも、溶液重合法であることがより望ましい。
-Manufacturing method of resin (A)-
Resin (A) is produced through two steps: a step of (co) polymerizing monomers to obtain a (co) polymer and a step of introducing an ethylenically unsaturated group into the (co) polymer. can do.
First, the (co) polymerization reaction is carried out using various monomers, and is not particularly limited and can be appropriately selected from known ones. For example, radical polymerization, cationic polymerization, anionic polymerization, coordination polymerization and the like can be appropriately selected for the active species of polymerization. Among these, radical polymerization is preferable from the viewpoint of easy synthesis and low cost. Moreover, there is no restriction | limiting in particular also about the polymerization method, It can select suitably from well-known things. For example, a bulk polymerization method, a suspension polymerization method, an emulsion polymerization method, a solution polymerization method and the like can be appropriately selected. Among these, the solution polymerization method is more desirable.

−分子量−
樹脂(A)の重量平均分子量は、10,000〜100,000が好ましく、12,000〜60,000が更に好ましく、15,000〜45,000が特に好ましい。重量平均分子量が前記範囲内であると、樹脂(A)の製造適性、現像性の点で望ましい。また、溶融粘度の低下により形成された形状が潰れ難い点で、架橋不良となり難い点で、また、現像でのスペーサー形状の残渣がない点で好ましい。
-Molecular weight-
The weight average molecular weight of the resin (A) is preferably 10,000 to 100,000, more preferably 12,000 to 60,000, and particularly preferably 15,000 to 45,000. When the weight average molecular weight is within the above range, it is desirable from the viewpoint of the production suitability and developability of the resin (A). Further, it is preferable in that the shape formed by the decrease in melt viscosity is difficult to be crushed, the crosslinking is difficult to occur, and there is no spacer-shaped residue in development.

−ガラス転移温度−
樹脂(A)として好適なガラス転移温度(Tg)は、40〜180℃であることが好ましく、45〜140℃であることはより好ましく、50〜130℃であることが特に好ましい。ガラス転移温度(Tg)が前記好ましい範囲内であると、良好な現像性、力学強度を有するスペーサーが得られる。
-Glass transition temperature-
The glass transition temperature (Tg) suitable for the resin (A) is preferably 40 to 180 ° C, more preferably 45 to 140 ° C, and particularly preferably 50 to 130 ° C. When the glass transition temperature (Tg) is within the preferred range, a spacer having good developability and mechanical strength can be obtained.

−酸価−
樹脂(A)として好適な酸価は、とりうる分子構造により好ましい範囲は変動するが、一般には20mgKOH/g以上であることが好ましく、50mgKOH/g以上であることがより好ましく、70〜130mgKOH/gであることが特に好ましい。酸価が前記好ましい範囲内であると、良好な現像性、力学強度を有するスペーサーが得られる。
-Acid value-
The preferred range of the acid value suitable as the resin (A) varies depending on the molecular structure that can be taken, but generally it is preferably 20 mgKOH / g or more, more preferably 50 mgKOH / g or more, and 70 to 130 mgKOH / g. Particularly preferred is g. When the acid value is within the preferred range, a spacer having good developability and mechanical strength can be obtained.

前記樹脂(A)のガラス転移温度(Tg)が40〜180℃であり、かつ重量平均分子量が10,000〜100,000であることが良好な現像性、力学強度を有するスペーサーが得られる点で好ましい。
更に、前記樹脂(A)の好ましい例は、好ましい前記分子量、ガラス転移温度(Tg)、及び酸価のそれぞれの組合せがより好ましい。
The glass transition temperature (Tg) of the resin (A) is 40 to 180 ° C., and the weight average molecular weight is 10,000 to 100,000, whereby a spacer having good developability and mechanical strength can be obtained. Is preferable.
Furthermore, the preferable example of the said resin (A) has more preferable each combination of the said preferable molecular weight, glass transition temperature (Tg), and an acid value.

本発明に係る樹脂(A)は、分岐及び/又は脂環構造を有する基:X(xモル%)と、酸性基:Y(yモル%)と、エチレン性不飽和結合を有する基:Z(zモル%)とをそれぞれ別の共重合単位に有する少なくとも3元共重合以上の共重合体であることが変形回復率、現像残渣、レチキュレーションの観点から好ましい。具体的には、前記X,Y,Zを含有する各々の単量体を少なくとも1つ共重合させてなる共重合体が好ましい。
前記樹脂(A)の前記各成分の共重合組成比については、ガラス転移温度と酸価を勘案して決定され、一概に言えないが、分岐及び/又は脂環構造を有する基は10〜70モル%が好ましく、15〜65モル%が更に好ましく、20〜60モル%が特に好ましい。分岐及び/又は脂環構造を有する基が前記範囲内であると、良好な現像性が得られると共に、画像部の現像液耐性も良好である。
また、酸性基は5〜70モル%が好ましく、10〜60モル%が更に好ましく、20〜50モル%が特に好ましい。酸性基が前記範囲内であると、良好な硬化性、現像性が得られる。
また、エチレン性不飽和結合を有する基は10〜70モル%が好ましく、20〜70モル%が更に好ましく、30〜70モル%が特に好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基が前記範囲内であると、顔料分散性に優れると共に、現像性及び硬化性も良好である。
The resin (A) according to the present invention includes a group having a branched and / or alicyclic structure: X (x mol%), an acidic group: Y (y mol%), and a group having an ethylenically unsaturated bond: Z. From the viewpoint of deformation recovery rate, development residue, and reticulation, a copolymer of at least ternary copolymer having (z mol%) in different copolymer units is preferable. Specifically, a copolymer obtained by copolymerizing at least one of the respective monomers containing X, Y, and Z is preferable.
The copolymer composition ratio of the respective components of the resin (A) is determined in consideration of the glass transition temperature and the acid value, and cannot be generally described. However, the group having a branched and / or alicyclic structure is 10 to 70. Mol% is preferable, 15 to 65 mol% is more preferable, and 20 to 60 mol% is particularly preferable. When the group having a branched and / or alicyclic structure is within the above range, good developability is obtained and the developer resistance of the image area is also good.
The acidic group is preferably 5 to 70 mol%, more preferably 10 to 60 mol%, particularly preferably 20 to 50 mol%. When the acidic group is within the above range, good curability and developability can be obtained.
Further, the group having an ethylenically unsaturated bond is preferably from 10 to 70 mol%, more preferably from 20 to 70 mol%, particularly preferably from 30 to 70 mol%. When the group having an ethylenically unsaturated bond is within the above range, the pigment dispersibility is excellent, and the developability and curability are also good.

樹脂(A)の含有量としては、本発明の硬化性組成物全固形分に対して、5〜70質量%が好ましく、10〜50質量%がより好ましい。樹脂(A)と併用して後述のその他の樹脂を本発明の硬化性組成物に含有することができるが、樹脂(A)のみが好ましい。   As content of resin (A), 5-70 mass% is preferable with respect to curable composition total solid of this invention, and 10-50 mass% is more preferable. Other resins described later can be contained in the curable composition of the present invention in combination with the resin (A), but only the resin (A) is preferable.

−その他の樹脂−
樹脂(A)と併用することができるその他の樹脂としては、アルカリ性水溶液に対して膨潤性を示す化合物が好ましく、アルカリ性水溶液に対して可溶性である化合物がより好ましい。
アルカリ性水溶液に対して膨潤性又は可溶性を示す樹脂としては、例えば、酸性基を有するものが好適に挙げられ、具体的には、エポキシ化合物にエチレン性不飽和二重結合と酸性基とを導入した化合物(エポキシアクリレート化合物)、側鎖に(メタ)アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体、エポキシアクリレート化合物と、側鎖に(メタ)アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体との混合物、マレアミド酸系共重合体、などが好ましい。
前記酸性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、などが挙げられ、これらの中でも、原料の入手性などの観点から、カルボキシル基が好ましく挙げられる。
-Other resins-
The other resin that can be used in combination with the resin (A) is preferably a compound that shows swelling property with respect to the alkaline aqueous solution, and more preferably a compound that is soluble in the alkaline aqueous solution.
As the resin exhibiting swellability or solubility with respect to the alkaline aqueous solution, for example, those having an acidic group are preferably mentioned. Specifically, an ethylenically unsaturated double bond and an acidic group are introduced into the epoxy compound. Compound (epoxy acrylate compound), vinyl copolymer having (meth) acryloyl group and acidic group in side chain, epoxy acrylate compound and vinyl copolymer having (meth) acryloyl group and acidic group in side chain And a mixture of maleamic acid and the like.
The acidic group is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include a carboxyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group. Among these, the availability of raw materials, etc. From the viewpoint, a carboxyl group is preferable.

−樹脂(A)とその他の樹脂の比率−
前記樹脂(A)と前記その他の樹脂との合計の含有量としては、本発明の硬化性組成物全固形分に対して、5〜70質量%が好ましく、10〜50質量%がより好ましい。該固形分含有量が、5質量%未満であると、後述する硬化性樹脂層の膜強度が弱くなりやすく、該硬化性樹脂層の表面のタック性が悪化することがあり、70質量%を超えると、露光感度が低下することがある。
-Ratio of resin (A) to other resins-
The total content of the resin (A) and the other resin is preferably 5 to 70% by mass and more preferably 10 to 50% by mass with respect to the total solid content of the curable composition of the present invention. When the solid content is less than 5% by mass, the film strength of the curable resin layer described later tends to be weak, and the tackiness of the surface of the curable resin layer may be deteriorated. When it exceeds, exposure sensitivity may fall.

−重合性化合物(B)−
本発明において、重合性化合物(B)として公知の組成物を構成する成分を好適に用いることができ、例えば、特開2006−23696号公報の段落番号[0011]に記載のモノマー又はオリゴマーや、特開2006−64921号公報の段落番号[0040]〜[0049]に記載の重合性モノマーが挙げられる。
-Polymerizable compound (B)-
In the present invention, a component constituting a known composition as the polymerizable compound (B) can be suitably used. For example, the monomer or oligomer described in paragraph [0011] of JP-A-2006-23696, Examples thereof include polymerizable monomers described in paragraph numbers [0040] to [0049] of JP-A No. 2006-64921.

前記樹脂(A)との関係において、重合性化合物(B)の樹脂(A)に対する質量比率((B)/(A)比)が0.5〜2.0であることが好ましく、0.6〜1.4であることはより好ましく、0.7〜1.2であることが特に好ましい。(B)/(A)比が前記好ましい範囲内であると、良好な現像性、力学強度を有するスペーサーが得られる。   In the relationship with the resin (A), the mass ratio ((B) / (A) ratio) of the polymerizable compound (B) to the resin (A) is preferably 0.5 to 2.0, and It is more preferably 6 to 1.4, and particularly preferably 0.7 to 1.2. When the ratio (B) / (A) is within the preferred range, a spacer having good developability and mechanical strength can be obtained.

−開始剤(C)−
本発明に係る開始剤(C)は、下記一般式(I)で表される。
-Initiator (C)-
The initiator (C) according to the present invention is represented by the following general formula (I).

Figure 2009079140
Figure 2009079140

式中、Tは(4,6−ビストリハロメチル−S−トリアジン−2−イル)基又は2−(5−トリハロメチル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)エテニル基を、Yはn価の有機基を、nは2以上の整数を表す。ベンゼン環はT以外の置換基を有していてもよい。nとしては、2〜6が好ましく、2〜4が更に好ましい。   In the formula, T represents a (4,6-bistrihalomethyl-S-triazin-2-yl) group or a 2- (5-trihalomethyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl) ethenyl group, Y represents an n-valent organic group, and n represents an integer of 2 or more. The benzene ring may have a substituent other than T. As n, 2-6 are preferable and 2-4 are still more preferable.

n価の基Yとしては、特に限定されるものではないが、例えば、末端に−COO−、−O−、−N(CH)−、−N(C)−、−N(CHOCOCH)−、−N(CHOCO)−、−NH−、−N(CH)CO−、−N(C)CO−もしくは−NHCO−を有する脂肪族若しくは芳香族炭化水素等が挙げられる。これらの中でも、末端に−COO−、−O−、−N(C)−、−N(CHOCOCH)−、−NH−、−N(C)CO−もしくは−NHCO−を有する脂肪族若しくは芳香族炭化水素等が好ましく、末端に−COO−、−O−、−N(C)−、−NH−、もしくは−NHCO−を有する脂肪族若しくは芳香族炭化水素等が更に好ましい。 The n-valent group Y, is not particularly limited, for example, the terminal -COO -, - O -, - N (CH 3) -, - N (C 2 H 5) -, - N ( CH 3 OCOCH 2) -, - N (CH 3 OCO) -, - NH -, - N (CH 3) CO -, - N (C 2 H 5) CO- or aliphatic or aromatic having a -NHCO- A hydrocarbon etc. are mentioned. Among these, the terminal -COO -, - O -, - N (C 2 H 5) -, - N (CH 3 OCOCH 2) -, - NH -, - N (C 2 H 5) CO- or - aliphatic or aromatic hydrocarbons are preferred having NHCO-, -COO terminated -, - O -, - N (C 2 H 5) -, - NH-, or aliphatic or aromatic having a -NHCO- More preferred are hydrocarbons.

開始剤(C)の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。   Specific examples of the initiator (C) include the following compounds.

Figure 2009079140
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Figure 2009079140
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Figure 2009079140
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Figure 2009079140
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上記化合物例中、Tは(4,6−ビストリハロメチル−S−トリアジン−2−イル)基を表し、Acはアセチル基を表す。   In the above compound examples, T represents a (4,6-bistrihalomethyl-S-triazin-2-yl) group, and Ac represents an acetyl group.

上記化合物例に係る化合物は以下の式1又は式2の方法により、合成することができる。   Compounds according to the above compound examples can be synthesized by the method of the following formula 1 or formula 2.

Figure 2009079140
Figure 2009079140

Figure 2009079140
Figure 2009079140

上記式中、Xはハロゲン原子を、Y、Y1は2価の基を、Uは,−O−、−NR−もしくは−NHCO(C64)O−を、Zはハロゲン原子または置換スルホニルオキシ基を、Rは水素原子または炭素原子数1〜10のアルキル基を表す。すなわち、式1はビスベンゾニトリルとトリハロアセトニトリルを反応させるものであり、式2はトリアジン骨格を有するフェノールまたはアニリン誘導体を2官能の酸ハライド,活性ハライドまたは活性スルホン酸エステル等を用いて、2量化するものである。同様に3量体以上のものも常法に従い合成される。 In the above formula, X represents a halogen atom, Y, Y 1 represents a divalent group, U represents —O—, —NR— or —NHCO (C 6 H 4 ) O—, and Z represents a halogen atom or a substituent. In the sulfonyloxy group, R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. That is, Formula 1 is a reaction of bisbenzonitrile and trihaloacetonitrile, and Formula 2 is a dimerization of a phenol or aniline derivative having a triazine skeleton using a bifunctional acid halide, active halide, or active sulfonate. To do. Similarly, those having a trimer or higher are synthesized according to a conventional method.

開始剤(C)の含有量としては、樹脂(A)に対して0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜10質量%がより好ましい。   As content of an initiator (C), 0.1-20 mass% is preferable with respect to resin (A), and 0.5-10 mass% is more preferable.

−微粒子(D)−
本発明の硬化性組成物は、微粒子(D)を含有することが好ましい。微粒子(D)としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、特開2003−302639号公報[0035]〜[0041]に記載の体質顔料が好ましく、中でも良好な現像性、力学強度を有するスペーサーが得られるという観点からコロイダルシリカが好ましい。
-Fine particles (D)-
The curable composition of the present invention preferably contains fine particles (D). The fine particles (D) are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, extender pigments described in JP-A-2003-302539 [0035] to [0041] are preferable, and among them, good Colloidal silica is preferable from the viewpoint that a spacer having excellent developability and mechanical strength can be obtained.

微粒子(D)の平均粒子径は、高い力学強度を有するスペーサーが得られることから、5〜50nmであることが好ましく、10〜40nmであることがより好ましく、15〜30nmであることが特に好ましい。   The average particle size of the fine particles (D) is preferably 5 to 50 nm, more preferably 10 to 40 nm, and particularly preferably 15 to 30 nm because a spacer having high mechanical strength can be obtained. .

また、微粒子(D)の含有量は、高い力学強度を有するスペーサーが得られることから、本発明における硬化性組成物中の全固形分に対する質量比率が5〜50質量%であることが好ましく、10〜40質量%であることがより好ましく、15〜30質量%であることが特に好ましい。   Further, the content of the fine particles (D) is preferably 5 to 50% by mass with respect to the total solid content in the curable composition in the present invention, since a spacer having high mechanical strength is obtained. It is more preferably 10 to 40% by mass, and particularly preferably 15 to 30% by mass.

−溶媒−
本発明の硬化性組成物においては、上記成分の他に、更に溶媒を含有してもよい。溶媒の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができるがこれらに限定されるものではない。本発明の硬化性組成物を液体として用いる際の溶媒の含有量は粘度等を勘案して適宜調整することができ、例えば、硬化性組成物中に50〜90質量%含まれることが好ましく、60〜85質量%含まれることが更に好ましい。
-Solvent-
In the curable composition of this invention, you may contain a solvent other than the said component. Examples of the solvent include, but are not limited to, methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, cyclohexanol, methyl isobutyl ketone, ethyl lactate, methyl lactate, and caprolactam. . The content of the solvent when the curable composition of the present invention is used as a liquid can be appropriately adjusted in consideration of the viscosity and the like. For example, the curable composition preferably contains 50 to 90% by mass, More preferably, it is contained in an amount of 60 to 85% by mass.

−その他の成分−
本発明の硬化性組成物は、必要に応じてその他の成分として組成物を構成する公知の成分を好適に用いることができる。その他の成分の具体例としては、例えば、特開2006−23696号公報の段落番号[0014]〜[0020]に記載の成分や、特開2006−64921号公報の段落番号[0053]に記載の成分が挙げられる。
-Other ingredients-
The curable composition of this invention can use suitably the well-known component which comprises a composition as another component as needed. Specific examples of other components include, for example, the components described in paragraph numbers [0014] to [0020] of JP-A-2006-23696 and the paragraph numbers [0053] of JP-A-2006-64921. Ingredients.

<硬化性樹脂転写フイルム>
本発明の硬化性樹脂転写フイルムは、仮支持体上に、少なくとも本発明の硬化性組成物を用いて形成された硬化性樹脂層を有することを特徴とする。硬化性樹脂層の膜厚は、0.2〜2.0μm程度が好ましく、更には0.2〜0.9μmが好ましい。
本発明の硬化性樹脂転写フイルムによれば、本発明の硬化性樹脂転写フイルムを用いて基板上に硬化性樹脂層を形成した後の、経時による現像性及びスペーサーとして適用したときの液晶表示装置の表示ムラの劣化を抑制することが可能となる。
<Curable resin transfer film>
The curable resin transfer film of the present invention is characterized by having a curable resin layer formed on the temporary support using at least the curable composition of the present invention. The film thickness of the curable resin layer is preferably about 0.2 to 2.0 μm, and more preferably 0.2 to 0.9 μm.
According to the curable resin transfer film of the present invention, after the curable resin layer is formed on the substrate using the curable resin transfer film of the present invention, the liquid crystal display device when applied as a developability with time and as a spacer It is possible to suppress the deterioration of display unevenness.

本発明の硬化性樹脂転写フイルムは、仮支持体上に、少なくとも本発明の硬化性組成物を用いて形成された硬化性樹脂層を有するものであるが、必要に応じて硬化性樹脂層と前記仮支持体との間に、中間層及び/又は熱可塑性樹脂層を有していてもよい。以下、本発明の硬化性樹脂転写フイルムを構成する各成分について詳細に説明する。   The curable resin transfer film of the present invention has a curable resin layer formed using at least the curable composition of the present invention on a temporary support, and if necessary, a curable resin layer and An intermediate layer and / or a thermoplastic resin layer may be provided between the temporary support. Hereinafter, each component constituting the curable resin transfer film of the present invention will be described in detail.

(仮支持体)
本発明において仮支持体としては、可撓性を有し、加圧若しくは加圧及び加熱下においても著しい変形、収縮若しくは伸びを生じないことが必要である。そのような支持体の例としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等を挙げることができ、中でも2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。仮支持体の厚みは5〜300μmが適当であり、特に20〜150μmが好ましい。
(Temporary support)
In the present invention, the temporary support is required to be flexible and not to cause significant deformation, shrinkage or elongation even under pressure or pressure and heating. Examples of such a support include a polyethylene terephthalate film, a cellulose triacetate film, a polystyrene film, and a polycarbonate film, and among them, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferable. The thickness of the temporary support is suitably 5 to 300 μm, particularly preferably 20 to 150 μm.

(熱可塑性樹脂層)
熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平5−72724号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーVicat法(具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーASTMD1235によるポリマー軟化点測定法)による軟化点が約80℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。
(Thermoplastic resin layer)
As the component used for the thermoplastic resin layer, organic polymer substances described in JP-A-5-72724 are preferable, and the polymer softening point according to the Viker Vicat method (specifically, the American Material Testing Method ASTM D1 ASTM D1235). It is particularly preferable that the softening point by the measurement method is selected from organic polymer substances having a temperature of about 80 ° C. or less.

具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル及びそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと(メタ)アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと(メタ)アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の(メタ)アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、N−アルコキシメチル化ナイロン、N−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。
尚、熱可塑性樹脂層の乾燥厚さは、2〜30μmが一般的であり、5〜20μmが好ましく、7〜16μmが特に好ましい。
Specifically, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, ethylene copolymers such as ethylene and vinyl acetate or saponified products thereof, ethylene and acrylic acid esters or saponified products thereof, polyvinyl chloride, vinyl chloride and vinyl acetate and saponified products thereof. Vinyl chloride copolymer such as fluoride, polyvinylidene chloride, vinylidene chloride copolymer, polystyrene, styrene copolymer such as styrene and (meth) acrylic acid ester or saponified product thereof, polyvinyl toluene, vinyl toluene and (meta ) Vinyl toluene copolymer such as acrylic ester or saponified product thereof, poly (meth) acrylic ester, (meth) acrylic ester copolymer such as butyl (meth) acrylate and vinyl acetate, vinyl acetate copolymer Combined nylon, copolymer nylon, N-alkoxyme Le nylon, and organic polymeric polyamide resins such as N- dimethylamino nylon.
The dry thickness of the thermoplastic resin layer is generally 2 to 30 μm, preferably 5 to 20 μm, and particularly preferably 7 to 16 μm.

(中間層)
本発明の硬化性樹脂転写フイルムにおいては、複数の塗布層の塗布時、及び塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を設けることが好ましい。該中間層としては、特開平5−72724号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜を用いることが好ましく、この場合、露光時感度がアップし、露光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。
該酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの組み合わせである。尚、中間層の乾燥厚さは、0.2〜5μmが一般的であり、0.5〜3μmが好ましく、1〜2.5μmが特に好ましい。
(Middle layer)
In the curable resin transfer film of the present invention, it is preferable to provide an intermediate layer for the purpose of preventing mixing of components during application of a plurality of application layers and during storage after application. As the intermediate layer, it is preferable to use an oxygen-blocking film having an oxygen-blocking function, which is described as “separation layer” in JP-A-5-72724. This reduces the time load and improves productivity.
The oxygen barrier film is preferably one that exhibits low oxygen permeability and is dispersed or dissolved in water or an aqueous alkali solution, and can be appropriately selected from known ones. Among these, a combination of polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone is particularly preferable. The dry thickness of the intermediate layer is generally 0.2 to 5 μm, preferably 0.5 to 3 μm, particularly preferably 1 to 2.5 μm.

(保護フイルム)
硬化性樹脂層の上には、硬化性樹脂転写フイルムの貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために薄い保護フイルムを設けることが好ましい。保護フイルムは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、硬化性樹脂層から容易に分離されねばならない。保護フイルム材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。尚、保護フイルムの厚さは、4〜40μmが一般的であり、5〜30μmが好ましく、10〜25μmが特に好ましい。
(Protective film)
It is preferable to provide a thin protective film on the curable resin layer in order to protect it from contamination and damage during storage of the curable resin transfer film. The protective film may be made of the same or similar material as the temporary support, but it must be easily separated from the curable resin layer. For example, silicone paper, polyolefin or polytetrafluoroethylene sheet is suitable as the protective film material. The thickness of the protective film is generally 4 to 40 μm, preferably 5 to 30 μm, and particularly preferably 10 to 25 μm.

(硬化性樹脂転写フイルムの作製方法)
本発明の硬化性樹脂転写フイルムは、仮支持体上に熱可塑性樹脂層を構成する組成物を溶解した塗布液(熱可塑性樹脂層用塗布液)を塗布し、乾燥することにより熱可塑性樹脂層を設け、その後熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤からなる中間層材料の溶液を塗布、乾燥し、その後硬化性樹脂層を、中間層を溶解しない溶剤を用いて塗布、乾燥して設けることにより作製することができる。
また、前記の仮支持体上に熱可塑性樹脂層及び中間層を設けたシート、及び保護フイルム上に硬化性樹脂層を設けたシートを用意し、中間層と硬化性樹脂層が接するように相互に貼り合わせることによっても、更には、前記の仮支持体上に熱可塑性樹脂層を設けたシート、及び保護フイルム上に硬化性樹脂層及び中間層を設けたシートを用意し、熱可塑性樹脂層と中間層が接するように相互に貼り合わせることによっても、作製することができる。
(Method for producing curable resin transfer film)
The curable resin transfer film of the present invention is a thermoplastic resin layer obtained by applying a coating solution (coating solution for a thermoplastic resin layer) in which a composition constituting the thermoplastic resin layer is dissolved on a temporary support and drying the coating solution. Then, apply and dry a solution of an intermediate layer material composed of a solvent that does not dissolve the thermoplastic resin layer on the thermoplastic resin layer, and then apply and dry the curable resin layer using a solvent that does not dissolve the intermediate layer. It can produce by providing.
In addition, a sheet provided with the thermoplastic resin layer and the intermediate layer on the temporary support and a sheet provided with the curable resin layer on the protective film are prepared, and the intermediate layer and the curable resin layer are in contact with each other. In addition, a sheet provided with a thermoplastic resin layer on the temporary support and a sheet provided with a curable resin layer and an intermediate layer on a protective film are prepared, and a thermoplastic resin layer is prepared. Can also be produced by bonding them so that the intermediate layer is in contact with each other.

尚、上記作製方法における塗布は、公知の塗布装置等によって行うことができるが、本発明においては、スリット状ノズルを用いた塗布装置(スリットコータ)によって行うことが好ましい。スリットコータの好ましい具体例等は後述する。   In addition, although application | coating in the said preparation method can be performed with a well-known coating apparatus etc., in this invention, it is preferable to perform with the coating apparatus (slit coater) using a slit-shaped nozzle. Preferred specific examples of the slit coater will be described later.

<スペーサーの製造方法>
本発明の第一のスペーサーの製造方法は、本発明の硬化性組成物を用いて、塗布することで支持体上に硬化性樹脂層を形成する工程を有することを特徴とする。また、本発明の第二のスペーサーの製造方法は、本発明の硬化性樹脂転写フイルムを用いて、加熱及び/又は加圧により支持体上に硬化性樹脂層を転写する工程を有することを特徴とする。
<Method for manufacturing spacer>
The manufacturing method of the 1st spacer of this invention has the process of forming a curable resin layer on a support body by apply | coating using the curable composition of this invention, It is characterized by the above-mentioned. The second spacer production method of the present invention includes a step of transferring a curable resin layer onto a support by heating and / or pressurization using the curable resin transfer film of the present invention. And

硬化性組成物の塗布は、公知の塗布法、例えば、スピンコート法、カーテンコート法、スリットコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、あるいは米国特許第2681294号明細書に記載のポッパーを使用するエクストルージョンコート法等により行なうことができる。中でも、特開2004−89851号公報、特開2004−17043号公報、特開2003−170098号公報、特開2003−164787号公報、特開2003−10767号公報、特開2002−79163号公報、特開2001−310147号公報等に記載のスリット状ノズルあるいはスリットコータによる方法が好適である。
本発明の硬化性組成物を用いて塗布により硬化性樹脂層を形成する場合には、本発明の硬化性組成物に溶剤を適量添加し、組成物の粘度を使用する塗布法に適した粘度に調製して用いられる。硬化性組成物の塗布後、塗布により形成された塗膜を乾燥させることにより硬化性樹脂層が得られる。
The curable composition can be applied by a known application method such as spin coating, curtain coating, slit coating, dip coating, air knife coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, or It can be carried out by an extrusion coating method using a popper described in US Pat. No. 2,681,294. Among them, JP 2004-89851 A, JP 2004-17043 A, JP 2003-170098 A, JP 2003-164787 A, JP 2003-10767 A, JP 2002-79163 A, A method using a slit-shaped nozzle or a slit coater described in JP-A No. 2001-310147 is suitable.
When a curable resin layer is formed by coating using the curable composition of the present invention, a suitable amount of solvent is added to the curable composition of the present invention, and the viscosity suitable for the coating method using the viscosity of the composition. It is prepared and used. After application of the curable composition, a curable resin layer is obtained by drying the coating film formed by application.

硬化性樹脂転写フイルムを用いる場合、仮支持体上に膜状に形成された硬化性組成物を支持体面に加熱及び/又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着することによって貼り合せた後、仮支持体を剥離することにより硬化性樹脂層を支持体上に形成する。具体的には、特開平7−110575号公報、特開平11−77942号公報、特開2000−334836号公報、特開2002−148794号公報に記載のラミネーター及びラミネート方法が挙げられ、低異物の観点で、特開平7−110575号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。   When using a curable resin transfer film, after the curable composition formed in a film form on the temporary support is bonded to the surface of the support by pressing or heat pressing with a roller or flat plate heated and / or pressed The curable resin layer is formed on the support by peeling off the temporary support. Specific examples include laminators and laminating methods described in JP-A-7-110575, JP-A-11-77942, JP-A-2000-334836, and JP-A-2002-148794. From the viewpoint, it is preferable to use the method described in JP-A-7-110575.

硬化性樹脂層の形成される支持体としては、例えば、透明基板(例えばガラス基板やプラスチックス基板)、透明導電膜(例えばITO膜)付基板、カラーフィルタ付きの基板(カラーフィルタ基板ともいう。)、駆動素子(例えば薄膜トランジスタ[TFT])付駆動基板、などが挙げられる。支持体の厚みとしては、700〜1200μmが一般に好ましい。   Examples of the support on which the curable resin layer is formed are also referred to as a transparent substrate (for example, a glass substrate or a plastics substrate), a substrate with a transparent conductive film (for example, an ITO film), and a substrate with a color filter (a color filter substrate). ), A driving substrate with a driving element (for example, a thin film transistor [TFT]), and the like. The thickness of the support is generally preferably 700 to 1200 μm.

硬化性樹脂層を形成した後、支持体上に形成された硬化性樹脂層を露光及び現像してパターニングする(パターニング工程)。パターニング工程の具体例としては、特開2006−64921号公報の段落番号[0071]〜[0077]に記載の形成例や、特開2006−23696号公報の段落番号[0040]〜[0051]に記載の工程などが、本発明においても好適な例として挙げられる。パターニング工程を経ることにより、所望の形状を有するスペーサーが得られる。   After forming the curable resin layer, the curable resin layer formed on the support is exposed and developed to be patterned (patterning step). Specific examples of the patterning process include the formation examples described in paragraphs [0071] to [0077] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-64921 and the paragraph numbers [0040] to [0051] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-23696. The described steps and the like are also preferable examples in the present invention. Through the patterning step, a spacer having a desired shape is obtained.

本発明のスペーサーは、ブラックマトリクス等の黒色遮蔽部及び着色画素等の着色部を含むカラーフィルタを形成した後に形成することができる。
前記黒色遮蔽部及び着色部とスペーサーとは、硬化性組成物を塗布する塗布法と硬化性組成物からなる硬化性樹脂層を有する転写材料を用いる転写法と、を任意に組合せて形成することが可能である。
前記黒色遮蔽部及び着色部並びに前記スペーサーはそれぞれ硬化性組成物から形成できる。具体的には、例えば、基板に液体の硬化性組成物を直接塗布することにより硬化性樹脂層を形成した後に、露光・現像を行い、前記黒色遮蔽部及び着色部をパターン状に形成する。その後、別の液体の硬化性組成物を前記基板とは異なる別の基板(仮支持体)上に設置して硬化性樹脂層を形成することにより作製された硬化性樹脂転写フイルムを用い、この硬化性樹脂転写フイルムを前記黒色遮蔽部及び着色部が形成された前記基板に密着させて硬化性樹脂層を転写した後に、露光・現像を行うことによりスペーサーをパターン状に形成することができる。このようにして、スペーサーが設けられたカラーフィルタを作製することができる。
The spacer of the present invention can be formed after forming a color filter including a black shielding portion such as a black matrix and a colored portion such as a colored pixel.
The black shielding part, the colored part, and the spacer are formed by arbitrarily combining an application method for applying a curable composition and a transfer method using a transfer material having a curable resin layer made of the curable composition. Is possible.
The black shielding part, the colored part, and the spacer can each be formed from a curable composition. Specifically, for example, after a curable resin layer is formed by directly applying a liquid curable composition to a substrate, exposure and development are performed to form the black shielding portion and the colored portion in a pattern. Then, using a curable resin transfer film produced by placing another liquid curable composition on another substrate (temporary support) different from the substrate to form a curable resin layer, After the curable resin transfer film is brought into close contact with the substrate on which the black shielding portion and the colored portion are formed and the curable resin layer is transferred, the spacer can be formed in a pattern by exposure and development. In this way, a color filter provided with a spacer can be produced.

<液晶表示装置用基板>
本発明の液晶表示装置用基板は、前記本発明のスペーサーの製造方法により製造したスペーサーを備えたものである。スペーサーは、支持体上に形成されたブラックマトリクス等の表示用遮光部の上やTFT等の駆動素子上に形成されることが好ましい。また、ブラックマトリクス等の表示用遮光部やTFT等の駆動素子とスペーサーとの間にITO等の透明導電層(透明電極)やポリイミド等の液晶配向膜が存在していてもよい。
<Liquid crystal display substrate>
The substrate for a liquid crystal display device of the present invention is provided with the spacer manufactured by the spacer manufacturing method of the present invention. The spacer is preferably formed on a display light-shielding portion such as a black matrix formed on a support or a driving element such as a TFT. Further, a transparent conductive layer (transparent electrode) such as ITO or a liquid crystal alignment film such as polyimide may be present between the display light-shielding portion such as a black matrix or a driving element such as TFT and the spacer.

例えば、スペーサーが表示用遮光部や駆動素子の上に設けられる場合、該支持体に予め配設された表示用遮光部(ブラックマトリクスなど)や駆動素子を覆うようにして、例えば硬化性樹脂転写フイルムの硬化性樹脂層を支持体面にラミネートし、剥離転写して硬化性樹脂層を形成した後、これに露光、現像、加熱処理等を施してスペーサーを形成することによって、本発明の液晶表示装置用基板を作製することができる。
本発明の液晶表示装置用基板には更に、必要に応じて赤色(R)、青色(B)、緑色(G)3色等の着色画素が設けられていてもよい。
For example, when the spacer is provided on the display light-shielding part or the driving element, the display light-shielding part (black matrix or the like) or the driving element previously disposed on the support is covered, for example, curable resin transfer After laminating the curable resin layer of the film on the support surface and peeling and transferring to form the curable resin layer, the liquid crystal display of the present invention is formed by subjecting it to exposure, development, heat treatment, etc. to form a spacer. A device substrate can be manufactured.
The substrate for a liquid crystal display device of the present invention may further be provided with colored pixels of three colors such as red (R), blue (B), and green (G) as necessary.

<液晶表示素子>
前記本発明の液晶表示装置用基板を用いて液晶表示素子を構成することができる。液晶表示素子の1つとして、少なくとも一方が光透過性の一対の支持体(本発明の液晶表示装置用基板を含む。)間に液晶層と液晶駆動手段(単純マトリックス駆動方式及びアクティブマトリックス駆動方式を含む。)を少なくとも備えたものが挙げられる。
<Liquid crystal display element>
A liquid crystal display element can be configured using the substrate for a liquid crystal display device of the present invention. As one of the liquid crystal display elements, a liquid crystal layer and liquid crystal driving means (simple matrix driving method and active matrix driving method) are provided between a pair of supports (including the substrate for a liquid crystal display device of the present invention), at least one of which is transparent. Including at least).

この場合、本発明の液晶表示装置用基板は、複数のRGB画素群を有し、該画素群を構成する各画素が互いにブラックマトリックスで離画されているカラーフィルタ基板として構成できる。このカラーフィルタ基板には、高さが均一で変形回復性に優れたスペーサーが設けられるため、該カラーフィルタ基板を備えた液晶表示素子は、カラーフィルタ基板と対向基板との間にセルギャップムラ(セル厚変動)の発生が抑えられ、色ムラ等の表示ムラの発生を効果的に防止することができる。これにより、作製された液晶表示素子は鮮やかな画像を表示できる。   In this case, the substrate for a liquid crystal display device of the present invention can be configured as a color filter substrate having a plurality of RGB pixel groups and each pixel constituting the pixel group being separated from each other by a black matrix. Since this color filter substrate is provided with a spacer having a uniform height and excellent deformation recovery property, a liquid crystal display element equipped with the color filter substrate has a cell gap unevenness between the color filter substrate and the counter substrate ( Occurrence of cell thickness fluctuations) can be suppressed, and display unevenness such as color unevenness can be effectively prevented. Thereby, the produced liquid crystal display element can display a vivid image.

また、液晶表示素子の別の態様として、少なくとも一方が光透過性の一対の支持体(本発明の液晶表示装置用基板を含む。)間に液晶層と液晶駆動手段とを少なくとも備え、前記液晶駆動手段がアクティブ素子(例えばTFT)を有し、かつ一対の基板間が、高さが均一で変形回復性に優れたスペーサーにより所定幅に規制して構成されたものが挙げられる。
この場合も、本発明の液晶表示装置用基板は、複数のRGB画素群を有し、該画素群を構成する各画素が互いにブラックマトリックスで離画されたカラーフィルタ基板として構成されている。
As another aspect of the liquid crystal display element, at least one of the liquid crystal display elements includes a liquid crystal layer and a liquid crystal driving unit between a pair of light transmissive supports (including the liquid crystal display device substrate of the present invention), and the liquid crystal The driving means includes an active element (for example, TFT), and a pair of substrates is configured to be regulated to a predetermined width by a spacer having a uniform height and excellent deformation recovery.
Also in this case, the substrate for a liquid crystal display device of the present invention is configured as a color filter substrate having a plurality of RGB pixel groups, and each pixel constituting the pixel group is separated from each other by a black matrix.

本発明において使用可能な液晶としては、ネマチック液晶、コレステリック液晶、スメクチック液晶、強誘電液晶が挙げられる。
また、前記カラーフィルタ基板の前記画素群は、互いに異なる色を呈する2色の画素からなるものでも、3色の画素、4色以上の画素からなるものであってもよい。例えば3色の場合、赤(R)、緑(G)及び青(B)の3つの色相で構成される。RGB3色の画素群を配置する場合には、モザイク型、トライアングル型等の配置が好ましく、4色以上の画素群を配置する場合にはどのような配置であってもよい。カラーフィルタ基板の作製は、例えば2色以上の画素群を形成した後既述のようにブラックマトリックスを形成してもよいし、逆にブラックマトリックスを形成した後に画素群を形成するようにしてもよい。RGB画素の形成については、特開2004−347831号公報等を参考にすることができる。
Examples of liquid crystals that can be used in the present invention include nematic liquid crystals, cholesteric liquid crystals, smectic liquid crystals, and ferroelectric liquid crystals.
In addition, the pixel group of the color filter substrate may be composed of two-color pixels exhibiting different colors, or may be composed of three-color pixels, four-color pixels or more. For example, in the case of three colors, it is composed of three hues of red (R), green (G), and blue (B). When arranging pixel groups of three colors of RGB, arrangement of mosaic type, triangle type, etc. is preferable, and when arranging pixel groups of four colors or more, any arrangement may be used. For producing the color filter substrate, for example, a black matrix may be formed as described above after forming a pixel group of two or more colors, or conversely, a pixel group may be formed after forming a black matrix. Good. Regarding the formation of RGB pixels, JP 2004-347831 A can be referred to.

<液晶表示装置>
本発明の液晶表示装置は、本発明の液晶表示装置用基板を備えて構成されたものである。また、本発明の液晶表示装置は、前記液晶表示素子を設けて構成されたものであってもよい。すなわち、互いに向き合うように対向配置された一対の基板間を既述のように、本発明のスペーサーの製造方法により作製されたスペーサーで所定幅に規制し、規制された間隙に液晶材料を封入(封入部位を液晶層と称する。)して構成されており、液晶層の厚さ(セル厚)が所望の均一厚に保持されるようになっていてもよい。
<Liquid crystal display device>
The liquid crystal display device of the present invention comprises the liquid crystal display device substrate of the present invention. In addition, the liquid crystal display device of the present invention may be configured by providing the liquid crystal display element. In other words, as described above, the space between a pair of substrates arranged to face each other is regulated to a predetermined width by the spacer produced by the spacer production method of the present invention, and a liquid crystal material is sealed in the regulated gap ( The enclosing portion is referred to as a liquid crystal layer.), And the thickness (cell thickness) of the liquid crystal layer may be maintained at a desired uniform thickness.

液晶表示装置における液晶表示モードとしては、STN型、TN型、GH型、ECB型、強誘電性液晶、反強誘電性液晶、VA型、IPS型、OCB型、ASM型、その他種々のものが好適に挙げられる。中でも、本発明の液晶表示装置においては、最も効果的に本発明の効果を奏する観点から、液晶セルのセル厚の変動により表示ムラを起こし易い表示モードが望ましく、セル厚が2〜4μmであるVA型表示モード、IPS型表示モード、OCB型表示モードに構成されるのが好ましい。   The liquid crystal display mode in the liquid crystal display device includes STN type, TN type, GH type, ECB type, ferroelectric liquid crystal, antiferroelectric liquid crystal, VA type, IPS type, OCB type, ASM type, and various other types. Preferably mentioned. Among them, in the liquid crystal display device of the present invention, from the viewpoint of exhibiting the effect of the present invention most effectively, a display mode that easily causes display unevenness due to fluctuations in the cell thickness of the liquid crystal cell is desirable, and the cell thickness is 2 to 4 μm. The VA display mode, the IPS display mode, and the OCB display mode are preferably configured.

本発明の液晶表示装置の基本的な構成態様としては、(a)薄膜トランジスタ(TFT)等の駆動素子と画素電極(導電層)とが配列形成された駆動側基板と、対向電極(導電層)を備えた対向基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成したもの、(b)駆動基板と、対向電極(導電層)を備えた対向基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成したもの、等が挙げられ、本発明の液晶表示装置は、各種液晶表示機器に好適に適用することができる。   The basic configuration of the liquid crystal display device of the present invention includes: (a) a driving side substrate in which driving elements such as thin film transistors (TFTs) and pixel electrodes (conductive layers) are arranged; and a counter electrode (conductive layer). And (b) a drive substrate and a counter substrate provided with a counter electrode (conductive layer). For example, the liquid crystal display device of the present invention can be suitably applied to various liquid crystal display devices.

液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術(内田龍男編集、側工業調査会、1994年発行)」に記載がある。本発明の液晶表示装置には、本発明の液晶表示装置用基板を備える以外に特に制限はなく、例えば前記「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載された種々の方式の液晶表示装置に構成することができる。中でも特に、カラーTFT方式の液晶表示装置を構成するのに有効である。カラーTFT方式の液晶表示装置については、例えば「カラーTFT液晶ディスプレイ(共立出版(株)、1996年発行)」に記載がある。   The liquid crystal display device is described in, for example, “Next-generation liquid crystal display technology (edited by Tatsuo Uchida, side industry research committee, published in 1994)”. The liquid crystal display device of the present invention is not particularly limited except that it includes the substrate for the liquid crystal display device of the present invention. Can do. In particular, it is effective in constructing a color TFT liquid crystal display device. The color TFT liquid crystal display device is described in, for example, “Color TFT liquid crystal display (Kyoritsu Publishing Co., Ltd., issued in 1996)”.

本発明の液晶表示装置は、既述の本発明の液晶表示装置用基板を備える以外は、電極基板、偏光フイルム、位相差フイルム、バックライト、視野角補償フイルム、反射防止フイルム、光拡散フイルム、防眩フイルムなどの様々な部材を用いて一般的に構成できる。これら部材については、例えば「’94液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場(島健太郎、(株)シーエムシー、1994年発行)」、「2003液晶関連市場の現状と将来展望(下巻)(表良吉、(株)富士キメラ総研、2003等発行)」に記載されている。   The liquid crystal display device of the present invention includes an electrode substrate, a polarization film, a retardation film, a backlight, a viewing angle compensation film, an antireflection film, a light diffusion film, except that the liquid crystal display device of the present invention described above is provided. It can be generally constructed using various members such as an antiglare film. Regarding these members, for example, “'94 Liquid Crystal Display Peripheral Materials / Chemicals Market (Kentaro Shima, CMC Co., Ltd., published in 1994)”, “Current Status and Future Prospects of the 2003 Liquid Crystal Related Market (Part 2)” (Fuji Chimera Research Institute, Inc., 2003, etc.) ”.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「%」及び「部」は質量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof. Unless otherwise specified, “%” and “part” are based on mass.

前記化合物構造P−1で表される樹脂(A)の合成方法を下記合成例1に示す。
(合成例1)
反応容器中に1−メトキシ−2−プロパノール(ダイセル化学工業(株)製) 8.57部をあらかじめ加え90℃に昇温し、イソプロピルメタクリレート 6.27部、メタクリル酸 5.15部、アゾ系重合開始剤(和光純薬社製、V−601) 1部、及び1−メトキシ−2−プロパノール8.57部からなる混合溶液を窒素ガス雰囲気下、90℃の反応容器中に2時間かけて滴下した。滴下後4時間反応させて、アクリル樹脂溶液を得た。
次いで、前記アクリル樹脂溶液に、ハイドロキノンモノメチルエーテル 0.025部、及びテトラエチルアンモニウムブロマイド 0.084部を加えた後、グリシジルメタクリレート 5.41部を2時間かけて滴下した。滴下後、空気を吹き込みながら90℃で4時間反応させた後、固形分濃度が45%になるように1−メトキシ−2−プロピルアセテート(MMPGAC)を添加することにより調製し、不飽和基を持つ前記化合物構造P−1で表される樹脂溶液を得た。該樹脂の分子量Mwは30000であった。
なお、前記化合物構造P−1で表される樹脂の分子量Mwは、重量平均分子量のことを示し、前記分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)を用いて測定した。
A synthesis method of the resin (A) represented by the compound structure P-1 is shown in Synthesis Example 1 below.
(Synthesis Example 1)
8.57 parts of 1-methoxy-2-propanol (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) was added in advance to the reaction vessel, and the temperature was raised to 90 ° C., 6.27 parts of isopropyl methacrylate, 5.15 parts of methacrylic acid, azo series A mixed solution consisting of 1 part of a polymerization initiator (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., V-601) and 8.57 parts of 1-methoxy-2-propanol was placed in a 90 ° C. reaction vessel over 2 hours in a nitrogen gas atmosphere. It was dripped. Reaction was performed for 4 hours after the dropwise addition to obtain an acrylic resin solution.
Next, 0.025 part of hydroquinone monomethyl ether and 0.084 part of tetraethylammonium bromide were added to the acrylic resin solution, and then 5.41 parts of glycidyl methacrylate was added dropwise over 2 hours. After the dropwise addition, the mixture was reacted at 90 ° C. for 4 hours while blowing air, and then prepared by adding 1-methoxy-2-propyl acetate (MMPGAC) so that the solid concentration was 45%. A resin solution represented by the compound structure P-1 was obtained. The molecular weight Mw of the resin was 30000.
In addition, the molecular weight Mw of the resin represented by the compound structure P-1 represents a weight average molecular weight, and the molecular weight was measured using a gel permeation chromatograph (GPC).

次いで、前記化合物構造P−25、P−29〜P−35及びP−21で表される樹脂の合成方法を下記合成例2〜合成例10に示す。   Next, synthesis methods of resins represented by the compound structures P-25, P-29 to P-35, and P-21 are shown in Synthesis Examples 2 to 10 below.

(合成例2〜10)
前記化合物構造P−25、P−29〜P−35及びP−21で表される樹脂の合成は前記化合物構造P−25、P−29〜P−35及びP−21中のx:l:y:zが表1に記載のモル比(モル%)になるように、表1のxユニットに記載の各化合物、メタクリル酸メチル、メタクリル酸、及びグリシジルメタクリレート等の添加量を変更し、重量平均分子量が30000になるように合成した以外は、合成例1と同様の方法により不飽和基を持つ前記化合物構造P−25、P−29〜P−35及びP−21で表される樹脂溶液を得た。
(Synthesis Examples 2 to 10)
The synthesis of the resins represented by the compound structures P-25, P-29 to P-35 and P-21 was carried out using x: l in the compound structures P-25, P-29 to P-35 and P-21: The addition amount of each compound, methyl methacrylate, methacrylic acid, glycidyl methacrylate and the like described in the x unit of Table 1 is changed so that y: z becomes the molar ratio (mol%) described in Table 1, and the weight Resin solutions represented by the compound structures P-25, P-29 to P-35 and P-21 having unsaturated groups by the same method as in Synthesis Example 1 except that the average molecular weight was 30000. Got.

Figure 2009079140
Figure 2009079140

表1において[1]は特開2002−278064号公報の実施例1に使用された合成1のバインダーを、[2]は特開2003−207787の実施例1<熱可塑性樹脂層用塗布液H1>記載のメタクリル酸/アリルメタクリレート共重合体(モル比)=20/80(重量平均分子量=4万)を、[3]は特開2005−62620号公報の実施例1に使用のバインダーを、[4]はIRUGACURE907(チバスペシャリティケミカルズ社製)を、[5]はベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体((モル比)=76/24、重量平均分子量4万)を、ADMAは2−アダマンチルメタクリレートを表す。   In Table 1, [1] is the binder of Synthesis 1 used in Example 1 of JP-A-2002-278064, and [2] is Example 1 of JP-A-2003-207787 <Coating liquid H1 for thermoplastic resin layer > Methacrylic acid / allyl methacrylate copolymer (molar ratio) = 20/80 (weight average molecular weight = 40,000) described in [3] is a binder used in Example 1 of JP-A-2005-62620, [4] is IRUGACURE907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), [5] is benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer ((molar ratio) = 76/24, weight average molecular weight 40,000), and ADMA is 2-adamantyl methacrylate. Represents.

(実施例1):転写法
−硬化性樹脂転写フイルムの作製−
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体(PET仮支持体)上に、下記処方Aからなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥層厚16.5μmの熱可塑性樹脂層を形成した。
(Example 1): Transfer Method—Preparation of Curable Resin Transfer Film—
On a 75 μm-thick polyethylene terephthalate film temporary support (PET temporary support), a coating solution for a thermoplastic resin layer having the following formulation A is applied and dried to form a thermoplastic resin layer having a dry layer thickness of 16.5 μm. did.

〔熱可塑性樹脂層用塗布液の処方A〕
・メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 … 25.0部
(=55/11.7/4.5/28.8[モル比]、重量平均分子量90,000)
・スチレン/アクリル酸共重合体 … 58.4部
(=63/37[モル比]、重量平均分子量8,000)
・2,2−ビス〔4−(メタクリロキシポリエトキシ)フェニル〕プロパン
… 39.0部
・界面活性剤1(メガファックF−780−F、大日本インキ化学工業株式会社製)
… 10.0部
・メタノール … 90.0部
・1−メトキシ−2−プロパノール … 51.0部
・メチルエチルケトン … 700部
[Prescription A for Coating Solution for Thermoplastic Resin Layer]
Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer 25.0 parts (= 55 / 11.7 / 4.5 / 28.8 [molar ratio], weight average molecular weight 90,000)
-Styrene / acrylic acid copolymer: 58.4 parts (= 63/37 [molar ratio], weight average molecular weight 8,000)
2,2-bis [4- (methacryloxypolyethoxy) phenyl] propane
39.0 parts-Surfactant 1 (Megafac F-780-F, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
... 10.0 parts · Methanol ... 90.0 parts · 1-methoxy-2-propanol ... 51.0 parts · Methyl ethyl ketone ... 700 parts

次に、形成した熱可塑性樹脂層上に、下記処方Bからなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させて、乾燥層厚1.6μmの中間層を積層した。
〔中間層用塗布液の処方B〕
・ポリビニルアルコール … 3.22部
(PVA−205、鹸化率88%、(株)クラレ製)
・ポリビニルピロリドン … 1.49部
(PVP K−30、アイエスピー・ジャパン株式会社製)
・メタノール … 42.3部
・蒸留水 … 524部
Next, on the formed thermoplastic resin layer, an intermediate layer coating solution having the following formulation B was applied and dried to laminate an intermediate layer having a dry layer thickness of 1.6 μm.
[Prescription B of coating solution for intermediate layer]
Polyvinyl alcohol: 3.22 parts (PVA-205, saponification rate 88%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
-Polyvinylpyrrolidone: 1.49 parts (PVP K-30, manufactured by IS Japan Co., Ltd.)
・ Methanol: 42.3 parts ・ Distilled water: 524 parts

次に、形成した中間層上に更に、下記表2に示す処方1からなる硬化性樹脂層用塗布液(硬化性組成物)を塗布、乾燥させて、乾燥層厚3.5μmの硬化性樹脂層を積層した。   Next, a coating liquid for a curable resin layer (curable composition) comprising the formulation 1 shown in Table 2 below is further applied onto the formed intermediate layer and dried to obtain a curable resin having a dry layer thickness of 3.5 μm. Layers were laminated.

Figure 2009079140
Figure 2009079140

表2において、化合物構造P−1(45%)溶液*2における分子量Mwは30000;溶媒比率=MMPGAC/1−メトキシ−2−プロパノール(wt/wt) = 0.3664)である。   In Table 2, the molecular weight Mw in the compound structure P-1 (45%) solution * 2 is 30000; solvent ratio = MMPGAC / 1-methoxy-2-propanol (wt / wt) = 0.3664).

表2において、化合物1は以下のとおりである。   In Table 2, Compound 1 is as follows.

Figure 2009079140
Figure 2009079140

以上のようにして、PET仮支持体/熱可塑性樹脂層/中間層/硬化性樹脂層の積層構造に構成した後、硬化性樹脂層の表面に更に、カバーフィルムとして厚み12μmのポリプロピレン製フィルムを加熱・加圧して貼り付け、硬化性樹脂転写フイルム(1)を得た。   After forming the laminated structure of the PET temporary support / thermoplastic resin layer / intermediate layer / curable resin layer as described above, a polypropylene film having a thickness of 12 μm is further formed as a cover film on the surface of the curable resin layer. Affixed by heating and pressing to obtain a curable resin transfer film (1).

−カラーフィルタ基板の作製−
特開2005−3861号公報の段落番号[0084]〜[0095]に記載の方法でブラックマトリクス、R画素、G画素、B画素を有するカラーフィルタを作製した。次いで、カラーフィルタ基板のR画素、G画素、及びB画素並びにブラックマトリクスの上に更に、ITO(Indium Tin Oxide)の透明電極をスパッタリングにより形成した。
-Fabrication of color filter substrate-
A color filter having a black matrix, an R pixel, a G pixel, and a B pixel was produced by the method described in paragraph Nos. [0084] to [0095] of JP-A-2005-3861. Next, a transparent electrode of ITO (Indium Tin Oxide) was further formed on the R pixel, G pixel, B pixel and black matrix of the color filter substrate by sputtering.

−スペーサーの作製−
得られた硬化性樹脂転写フイルム(1)のカバーフィルムを剥離し、露出した硬化性樹脂層の表面を、上記で作製したITO膜がスパッタ形成されたカラーフィルタ基板のITO膜上に重ね合わせ、ラミネーターLamicII型〔(株)日立インダストリイズ製〕を用いて、線圧100N/cm、130℃の加圧・加熱条件下で搬送速度2m/分にて貼り合わせた。その後、PET仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離除去し、硬化性樹脂層を熱可塑性樹脂層及び中間層と共に転写した(層形成工程)。
-Production of spacer-
The cover film of the obtained curable resin transfer film (1) is peeled off, and the exposed surface of the curable resin layer is overlaid on the ITO film of the color filter substrate on which the ITO film prepared above is sputtered, Using a laminator Lamic II type (manufactured by Hitachi Industries, Ltd.), the films were bonded together at a conveyance speed of 2 m / min under pressure and heating conditions of a linear pressure of 100 N / cm and 130 ° C. Thereafter, the PET temporary support was peeled and removed at the interface with the thermoplastic resin layer, and the curable resin layer was transferred together with the thermoplastic resin layer and the intermediate layer (layer forming step).

次に、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機(日立ハイテク電子エンジニアリング(株)製)を用いて、マスク(画像パターンを有する石英露光マスク)と、該マスクと熱可塑性樹脂層とが向き合うように配置したカラーフィルタ基板とを略平行に垂直に立てた状態で、マスク面と硬化性樹脂層の中間層に接する側の表面との間の距離を100μmとし、マスクを介して熱可塑性樹脂層側から露光量90mJ/cmにてプロキシミティー露光した。なお、硬化性樹脂層を転写してからプロキシミティー露光を行うまでの期間は23℃、55%RHで20分以内とした。 Next, using a proximity type exposure machine (manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) having an ultra-high pressure mercury lamp, the mask (quartz exposure mask having an image pattern) and the mask and the thermoplastic resin layer face each other. The distance between the mask surface and the surface of the curable resin layer on the side in contact with the intermediate layer is 100 μm with the color filter substrate placed in a vertical position substantially parallel and perpendicular to the thermoplastic resin layer through the mask. Proximity exposure was performed at an exposure amount of 90 mJ / cm 2 from the side. The period from the transfer of the curable resin layer to the proximity exposure was set to within 20 minutes at 23 ° C. and 55% RH.

次に、トリエタノールアミン系現像液(トリエタノールアミン30%含有、商品名:T−PD2(富士フイルム(株)製)を純水で12倍(T−PD2を1部と純水11部の割合で混合)に希釈した液)を30℃で50秒間、フラットノズル圧力0.04MPaでシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去した。引き続き、このガラス基板の上面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより10秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて基板上の液だまりを減らした。
引き続き、炭酸Na系現像液(0.38モル/リットルの炭酸水素ナトリウム、0.47モル/リットルの炭酸ナトリウム、5%のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、及び安定剤含有;商品名:T−CD1(富士フイルム(株)製)を純水で10倍に希釈した液)を用いて29℃で50秒間、コーン型ノズル圧力0.15MPaでシャワー現像し、スペーサーのパターン像を得た。
引き続き、洗浄剤(燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有;商品名:T−SD3(富士フイルム(株)製))を純水で10倍に希釈した液を用いて33℃で20秒間、コーン型ノズル圧力0.02MPaにてシャワーで吹きかけ、形成されたパターン像の周辺の残渣除去を行ない、所望のスペーサーパターンを得た(パターニング工程)。
Next, a triethanolamine developer (containing 30% triethanolamine, trade name: T-PD2 (manufactured by FUJIFILM Corporation) 12 times with pure water (1 part of T-PD2 and 11 parts of pure water). The mixture was diluted with a ratio at a flat nozzle pressure of 0.04 MPa for 30 seconds at 30 ° C. to remove the thermoplastic resin layer and the intermediate layer. Subsequently, after air was blown off on the upper surface of the glass substrate, pure water was sprayed for 10 seconds by a shower, pure water shower cleaning was performed, and air was blown to reduce a liquid pool on the substrate.
Subsequently, a sodium carbonate developer (0.38 mol / liter sodium bicarbonate, 0.47 mol / liter sodium carbonate, 5% sodium dibutylnaphthalenesulfonate, anionic surfactant, antifoaming agent, and stabilizer Contained; Trade name: T-CD1 (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) diluted 10 times with pure water) and developed at 29 ° C. for 50 seconds at a cone type nozzle pressure of 0.15 MPa. A pattern image was obtained.
Subsequently, a solution obtained by diluting a cleaning agent (containing phosphate, silicate, nonionic surfactant, antifoaming agent, stabilizer; trade name: T-SD3 (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.)) 10 times with pure water Then, spraying was performed with a shower at 33 ° C. for 20 seconds at a cone type nozzle pressure of 0.02 MPa, and the residue around the formed pattern image was removed to obtain a desired spacer pattern (patterning step).

次に、スペーサーパターンが設けられたカラーフィルタ基板を、240℃下で50分間加熱処理を行ない(熱処理工程)、スペーサーを作製した。
得られたスペーサーパターンは、直径15μm、平均高さ3.2μmの円柱状であった。尚、平均高さは、得られたスペーサ1000個を三次元表面構造解析顕微鏡(メーカー:ZYGO Corporation、型式:New View 5022)を用い、ITOの透明電極形成面からの最も高い位置を測定し、その平均をスペーサーの平均高さとした。
Next, the color filter substrate provided with the spacer pattern was subjected to a heat treatment at 240 ° C. for 50 minutes (heat treatment step) to produce a spacer.
The obtained spacer pattern was a cylindrical shape having a diameter of 15 μm and an average height of 3.2 μm. In addition, average height measured the highest position from the transparent electrode formation surface of ITO, using three-dimensional surface structure analysis microscope (manufacturer: ZYGO Corporation, model: New View 5022). The average was taken as the average height of the spacer.

<液晶表示装置の作製>
別途、対向基板としてガラス基板を用意し、上記で得られたカラーフィルタ基板の透明電極上及び対向基板上にそれぞれPVAモード用にパターニングを施し、その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
<Production of liquid crystal display device>
Separately, a glass substrate was prepared as a counter substrate, and the PVA mode was patterned on the transparent electrode and the counter substrate of the color filter substrate obtained above, and an alignment film made of polyimide was further provided thereon.

その後、カラーフィルタの画素群を取り囲むように周囲に設けられたブラックマトリックス外枠に相当する位置に紫外線硬化樹脂のシール剤をディスペンサ方式により塗布し、PVAモード用液晶を滴下し、対向基板と貼り合わせた後、貼り合わされた基板をUV照射した後、熱処理してシール剤を硬化させた。このようにして得た液晶セルの両面に、(株)サンリッツ製の偏光板HLC2−2518を貼り付けた。   After that, a UV curable resin sealant is applied by a dispenser method at a position corresponding to the outer periphery of the black matrix provided so as to surround the pixel group of the color filter, and a liquid crystal for PVA mode is dropped and attached to the counter substrate. After bonding, the bonded substrate was irradiated with UV, and then heat-treated to cure the sealant. Polarizing plates HLC2-2518 manufactured by Sanlitz Co., Ltd. were attached to both surfaces of the liquid crystal cell thus obtained.

次いで、赤色(R)LEDとしてFR1112H(スタンレー電気(株)製のチップ型LED)、緑色(G)LEDとしてDG1112H(スタンレー電気(株)製のチップ型LED)、青色(B)LEDとしてDB1112H(スタンレー電気(株)製のチップ型LED)を用いてサイドライト方式のバックライトを構成し、前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置し、液晶表示装置とした。   Next, FR1112H (chip type LED manufactured by Stanley Electric Co., Ltd.) as a red (R) LED, DG1112H (chip type LED manufactured by Stanley Electric Co., Ltd.) as a green (G) LED, and DB1112H (as a blue (B) LED. A side-light type backlight was constructed using a chip-type LED manufactured by Stanley Electric Co., Ltd. and placed on the back side of the liquid crystal cell provided with the polarizing plate to obtain a liquid crystal display device.

(実施例2)
実施例1において、硬化性樹脂層用塗布液の処方1の化合物構造P−1の代わりに、合成例2の化合物構造P−25を用いた以外は、実施例1と同様の方法でスペーサーと液晶表示装置を作成した。得られたスペーサーパターンは、直径15μm、平均高さ3.2μmの円柱状であった。
(Example 2)
In Example 1, instead of the compound structure P-1 of the formulation 1 of the coating liquid for curable resin layer, the compound structure P-25 of the synthesis example 2 was used, and the spacer and the spacer were formed in the same manner as in the example 1. A liquid crystal display device was created. The obtained spacer pattern was a cylindrical shape having a diameter of 15 μm and an average height of 3.2 μm.

(実施例3〜14)
実施例2において、硬化性樹脂層用塗布液の処方1の化合物1の代わりに、それぞれ下記化合物2〜7、9〜14に変更した以外は、実施例2と同様の方法でスペーサーと液晶表示装置を作成した。得られたスペーサーパターンは、いずれも直径15μm、平均高さ3.2μmの円柱状であった。
(Examples 3 to 14)
In Example 2, a spacer and a liquid crystal display were prepared in the same manner as in Example 2 except that the compound 1 was changed to the following compounds 2 to 7 and 9 to 14 instead of the compound 1 in the formulation 1 of the coating solution for the curable resin layer. Created a device. All of the obtained spacer patterns were cylindrical with a diameter of 15 μm and an average height of 3.2 μm.

Figure 2009079140
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(実施例15):塗布法
−スペーサーの作製(液レジ法)−
上記で作製したITO膜がスパッタ形成されたカラーフィルタ基板のITO膜上に、スリット状ノズルを有するガラス基板用コーターMH−1600(エフ・エー・エス・アジア社製)にて表3に示す下記処方を塗布した。引き続き、真空乾燥機VCD(東京応化社製)を用いて30秒間溶媒の一部を乾燥させて塗布膜の流動性をなくした後、120℃で3分間プリベークして膜厚3.5μmの硬化性樹脂層を形成した(層形成工程)。
(Example 15): Coating method-Spacer production (liquid cash register method)-
The following is shown in Table 3 on a glass substrate coater MH-1600 (manufactured by FS Asia Co.) having a slit-shaped nozzle on the ITO film of the color filter substrate on which the ITO film produced above is formed by sputtering. The formulation was applied. Subsequently, using a vacuum dryer VCD (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.), part of the solvent was dried for 30 seconds to eliminate the fluidity of the coating film, and then pre-baked at 120 ° C. for 3 minutes to cure to a film thickness of 3.5 μm. A functional resin layer was formed (layer forming step).

Figure 2009079140
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表3において、化合物構造P−25(45%)溶液*2における分子量Mwは30000;溶媒比率=MMPGAC/1−メトキシ−2−プロパノール(wt/wt) = 0.3664)である。   In Table 3, the molecular weight Mw in the compound structure P-25 (45%) solution * 2 is 30000; solvent ratio = MMPGAC / 1-methoxy-2-propanol (wt / wt) = 0.3664).

続いて、実施例1と同様のパターニング工程及び熱処理工程により、カラーフィルタ基板上にスペーサーを作製した。但し、露光量は300mJ/cm、炭酸Na系現像液による現像は23℃、60秒間とした。得られたスペーサーパターンは、直径15μm、平均高さ3.2μmの円柱状であった。 Subsequently, spacers were produced on the color filter substrate by the same patterning process and heat treatment process as in Example 1. However, the exposure amount was 300 mJ / cm 2 , and development with a sodium carbonate-based developer was 23 ° C. for 60 seconds. The obtained spacer pattern was a cylindrical shape having a diameter of 15 μm and an average height of 3.2 μm.

スペーサーの作製後、このカラーフィルタ基板を用い、実施例1と同様にして、液晶表示装置を作製した。   After producing the spacer, a liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 1 using this color filter substrate.

(実施例16〜23)
実施例3において、P−25の代わりに表に示すバインダー(P29〜35、P21)を用いた以外は、実施例3と同様の方法でスペーサーと液晶表示装置を作成した。得られたスペーサーパターンは、直径15μm、平均高さ3.2μmの円柱状であった。
(Examples 16 to 23)
In Example 3, a spacer and a liquid crystal display device were produced in the same manner as in Example 3 except that the binders (P29 to 35, P21) shown in the table were used instead of P-25. The obtained spacer pattern was a cylindrical shape having a diameter of 15 μm and an average height of 3.2 μm.

(比較例1)
実施例15において、樹脂(A)をP−25から特開2002−278064号公報の実施例1で使用した合成1のバインダーに、開始剤(C)を化合物2から、下記化合物8(2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン)に変更し、全固形分濃度及び組成物中のハイドロキノンモノメチルエーテル濃度をあわせた以外は実施例15と同様の方法でスペーサーと液晶表示装置を作成した。得られたスペーサーパターンは、直径15μm、平均高さ3.2μmの円柱状であった。
(Comparative Example 1)
In Example 15, the resin (A) was changed from P-25 to the binder of Synthesis 1 used in Example 1 of JP-A-2002-278064, the initiator (C) was changed from Compound 2 to the following Compound 8 (2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine), except that the total solid content and the hydroquinone monomethyl ether concentration in the composition were combined. A spacer and a liquid crystal display device were prepared. The obtained spacer pattern was a cylindrical shape having a diameter of 15 μm and an average height of 3.2 μm.

Figure 2009079140
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(比較例2)
実施例3において、化合物構造P−25の代わりに、特開2003−207787の実施例1<熱可塑性樹脂層用塗布液H1>記載のメタクリル酸/アリルメタクリレート共重合体(モル比)=20/80(重量平均分子量=4万)を用い、開始剤(C)を化合物2から、下記化合物15(2,4−ビス−(トリクロロメチル)−6−[4−(N,N−ジエトキシカルボニルチルアミノ)−3−ブロモフェニル]−s−トリアジン)に変更し、全固形分濃度及び組成物中のハイドロキノンモノメチルエーテル濃度をあわせた以外は実施例3と同様の方法でスペーサーと液晶表示装置を作成した。得られたスペーサーパターンは、直径15μm、平均高さ3.2μmの円柱状であった。
(Comparative Example 2)
In Example 3, instead of the compound structure P-25, the methacrylic acid / allyl methacrylate copolymer (molar ratio) described in Example 1 <Coating liquid H1 for thermoplastic resin layer> in JP-A-2003-207787 = 20 / 80 (weight average molecular weight = 40,000), the initiator (C) was changed from compound 2 to the following compound 15 (2,4-bis- (trichloromethyl) -6- [4- (N, N-diethoxycarbonyl) Tilamino) -3-bromophenyl] -s-triazine) and the spacer and the liquid crystal display device were prepared in the same manner as in Example 3 except that the total solid content and the hydroquinone monomethyl ether concentration in the composition were combined. Created. The obtained spacer pattern was a cylindrical shape having a diameter of 15 μm and an average height of 3.2 μm.

Figure 2009079140
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(比較例3)
実施例15において、樹脂(A)をP−25から特開2005−62620号公報の実施例1に使用のバインダーに、開始剤(C)を化合物2から、IRUGACURE907(チバスペシャリティケミカルズ社製)に変更し、全固形分濃度及び組成物中のハイドロキノンモノメチルエーテル濃度をあわせた以外は実施例15と同様の方法でスペーサーと液晶表示装置を作成した。得られたスペーサーパターンは、直径15μm、平均高さ3.2μmの円柱状であった。
(Comparative Example 3)
In Example 15, the resin (A) is changed from P-25 to the binder used in Example 1 of JP-A-2005-62620, and the initiator (C) is changed from Compound 2 to IRUGACURE907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals). A spacer and a liquid crystal display device were prepared in the same manner as in Example 15 except that the total solid content concentration and the hydroquinone monomethyl ether concentration in the composition were combined. The obtained spacer pattern was a cylindrical shape having a diameter of 15 μm and an average height of 3.2 μm.

(比較例4)
実施例3において、開始剤(C)を化合物2から、化合物−15(2,4−ビス−(トリクロロメチル)−6−[4−(N,N−ジエトキシカルボニルチルアミノ)−3−ブロモフェニル]−s−トリアジン)に変更した以外は実施例3と同様の方法でスペーサーと液晶表示装置を作成した。得られたスペーサーパターンは、直径15μm、平均高さ3.2μmの円柱状であった。
(Comparative Example 4)
In Example 3, the initiator (C) was changed from compound 2 to compound-15 (2,4-bis- (trichloromethyl) -6- [4- (N, N-diethoxycarbonyltylamino) -3-bromo. A spacer and a liquid crystal display device were prepared in the same manner as in Example 3 except that the phenyl] -s-triazine) was used. The obtained spacer pattern was a cylindrical shape having a diameter of 15 μm and an average height of 3.2 μm.

(比較例5)
実施例3において、樹脂(A)をP−25からベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体((モル比)=76/24、重量平均分子量4万)に変更し、固形分濃度及び溶剤組成を合わせた以外は実施例3と同様の方法でスペーサーと液晶表示装置を作成した。得られたスペーサーパターンは、直径15μm、平均高さ3.2μmの円柱状であった。
(Comparative Example 5)
In Example 3, the resin (A) was changed from P-25 to benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer ((molar ratio) = 76/24, weight average molecular weight 40,000), and the solid content concentration and the solvent composition were combined. A spacer and a liquid crystal display device were prepared in the same manner as in Example 3 except that. The obtained spacer pattern was a cylindrical shape having a diameter of 15 μm and an average height of 3.2 μm.

[評価]
各実施例及び比較例で得られた硬化性樹脂層用塗布液、スペーサー及び液晶表示装置に対して下記評価を実施した。得られた結果を表4に示す。
[Evaluation]
The following evaluation was implemented with respect to the coating liquid for curable resin layers obtained by each Example and the comparative example, a spacer, and a liquid crystal display device. Table 4 shows the obtained results.

−変形回復率−
スペーサーの各々について、微小硬度計(DUH−W201、(株)島津製作所製)により次のようにして測定を行ない、評価した。測定は、50μmφの円錘台圧子を採用し、最大荷重50mN、保持時間5秒として、負荷−除荷試験法により行なった。この測定値から下記式により変形回復率〔%〕を求め、下記基準にしたがって評価した。測定は、22±1℃、50%RHの環境下で行った。
変形回復率(%)=(加重開放後の回復量[μm]/加重による変形量[μm])×100
-Deformation recovery rate-
Each of the spacers was measured and evaluated by a micro hardness tester (DUH-W201, manufactured by Shimadzu Corporation) as follows. The measurement was performed by a load-unloading test method using a frustum-type indenter with a diameter of 50 μm, a maximum load of 50 mN, and a holding time of 5 seconds. From this measured value, the deformation recovery rate [%] was obtained by the following formula and evaluated according to the following criteria. The measurement was performed in an environment of 22 ± 1 ° C. and 50% RH.
Deformation recovery rate (%) = (Recovery amount after weight release [μm] / Deformation amount by weight [μm]) × 100

〈評価基準〉
5:変形回復率が90%以上であった。
4:変形回復率が87%以上90%未満であった。
3:変形回復率が85%以上87%未満であった。
2:変形回復率が80%以上85%未満であった。
1:変形回復率が75%以上80%未満であった。
0:変形回復率が75%未満であった。
<Evaluation criteria>
5: Deformation recovery rate was 90% or more.
4: The deformation recovery rate was 87% or more and less than 90%.
3: The deformation recovery rate was 85% or more and less than 87%.
2: Deformation recovery rate was 80% or more and less than 85%.
1: The deformation recovery rate was 75% or more and less than 80%.
0: Deformation recovery rate was less than 75%.

−現像性−
「−スペーサーの作製−」の段階において、プロキシミティー露光後、各実施例及び比較例の現像条件と同様の条件で現像し、形成したスペーサー周辺部分のSEM観察を行い周辺に残渣が残っているか否かを確認した。
-Developability-
At the stage of “--Production of the spacer”, after the proximity exposure, develop under the same conditions as the development conditions of each Example and Comparative Example, and observe the SEM observation of the peripheral part of the spacer, and whether there are residues in the periphery Confirmed no.

〈評価基準〉
5: 残渣がまったく見られない。
4: パターン周辺に微かな残渣が見られた。
3: パターン周辺に若干の残渣が見られた。
2: パターン周辺とパターン近傍の基板上に残渣が見られた。
1: 基板上所々に残渣が確認できた。
<Evaluation criteria>
5: No residue is seen at all.
4: A slight residue was observed around the pattern.
3: Some residue was observed around the pattern.
2: Residue was observed on the periphery of the pattern and on the substrate in the vicinity of the pattern.
1: Residue could be confirmed in some places on the substrate.

−ラミネート適性<ラミ泡>評価−
カラーフィルタ基板に硬化性樹脂転写フイルムの硬化性樹脂層を転写した状態について、仮支持体剥離後、光学顕微鏡にてラミネート状態を観察し、カラーフィルタ基板と硬化性樹脂層との間に気泡(ラミ泡)が存在するか否かを観察した。
-Laminate suitability <Lami foam> evaluation-
Regarding the state in which the curable resin layer of the curable resin transfer film is transferred to the color filter substrate, the laminate is observed with an optical microscope after the temporary support is peeled off, and air bubbles (between the color filter substrate and the curable resin layer ( The presence or absence of lami bubbles was observed.

<評価基準>
3:ラミ泡がまったく無い。
2:ラミ泡が、パターン形成箇所以外に発生した。
1:ラミ泡がパターン形成部に発生した。
<Evaluation criteria>
3: No lami bubbles.
2: Lami bubbles were generated in places other than the pattern formation location.
1: Lami bubbles were generated in the pattern forming portion.

−レチキュレーション−
硬化性樹脂転写フイルムを45℃/75%RH環境下で24時間放置した後、放置後の硬化性樹脂転写フイルムの表面を顕微鏡を用いて観察し、下記基準にしたがって目視による評価を行なった。
-Reticulation-
The curable resin transfer film was allowed to stand for 24 hours in an environment of 45 ° C./75% RH, and then the surface of the curable resin transfer film after being allowed to stand was observed using a microscope, and visually evaluated according to the following criteria.

〈評価基準〉
4:細かい「しわ」等の発生は、全く認められなかった。
3:細かい「しわ」等の発生が僅かに認められたが、実用上使用可能な程度であった。
2:細かい「しわ」等の発生が少し認められた。
1:細かい「しわ」等の発生がかなり認められた。
<Evaluation criteria>
4: Occurrence of fine “wrinkles” was not recognized at all.
3: The occurrence of fine “wrinkles” was slightly observed, but was practically usable.
2: Occurrence of fine “wrinkles” was slightly observed.
1: Generation | occurrence | production of fine "wrinkles" etc. was recognized considerably.

−表示ムラ−
液晶表示装置の各々について、グレイのテスト信号を入力させたときのグレイ表示を目視及びルーペにて観察し、表示ムラの発生の有無を下記評価基準にしたがって評価した。
-Display unevenness-
For each liquid crystal display device, the gray display when a gray test signal was input was observed visually and with a loupe, and the presence or absence of display unevenness was evaluated according to the following evaluation criteria.

〈評価基準〉
5:液晶セルのいずれの箇所にも表示ムラは全く認められなかった。
4:液晶セルの四つ角にのみ僅かな表示ムラが認められた。
3:液晶セルの四辺の縁取り部分にのみ僅かな表示ムラが認められた。
2:液晶セルの中央部分にも表示ムラが認められた。
1:液晶セルの全面に顕著な表示ムラが認められた。
<Evaluation criteria>
5: No display unevenness was observed at any part of the liquid crystal cell.
4: Slight display unevenness was observed only at the four corners of the liquid crystal cell.
3: Slight display unevenness was observed only at the edge portions of the four sides of the liquid crystal cell.
2: Display unevenness was also observed in the central portion of the liquid crystal cell.
1: Remarkable display unevenness was observed on the entire surface of the liquid crystal cell.

−保存性(液安定性)−
硬化性樹脂層用塗布液を25℃で1週間保存した後、各実施例及び比較例の条件と同様の条件で仮支持体に塗布、若しくはカラーフィルタ基板に塗布を行ない、前記の三次元表面構造解析顕微鏡でムラの厚みを10点測定し、評価基準にしたがって評価した。
-Storage stability (liquid stability)-
After storing the coating solution for the curable resin layer at 25 ° C. for 1 week, it is applied to the temporary support under the same conditions as those of the examples and comparative examples, or is applied to the color filter substrate, and the above three-dimensional surface is applied. Ten thicknesses of unevenness were measured with a structural analysis microscope and evaluated according to evaluation criteria.

〈評価基準〉
5:硬化性樹脂層のムラが±0.5%未満で極めて良好。
4:硬化性樹脂層のムラが±1%未満で良好。
3:硬化性樹脂層のムラが±3%未満で普通。
2:硬化性樹脂層のムラが±3%以上で悪い。
1:粘度上昇が顕著で塗布が出来なかった。
<Evaluation criteria>
5: Unevenness of curable resin layer is extremely good with less than ± 0.5%.
4: The unevenness of the curable resin layer is good with less than ± 1%.
3: Ordinary unevenness of curable resin layer is less than ± 3%.
2: Unevenness of curable resin layer is bad at ± 3% or more.
1: The viscosity increased remarkably and could not be applied.

−保存性(現像性)−
カラーフィルタ基板に塗布またはラミネートにより硬化性樹脂層を積層した後、23℃/55%RHの温湿度で24時間放置した後、プロキシミティー露光し、各実施例又は比較例の現像条件と同様の条件で現像し、形成したスペーサー周辺部分のSEM観察を行い周辺に残渣が残っているか否か確認し、評価基準にしたがって評価した。
-Preservability (developability)-
After a curable resin layer is laminated on the color filter substrate by coating or laminating, it is left for 24 hours at a temperature / humidity of 23 ° C./55% RH, and then subjected to proximity exposure, which is the same as the development conditions of each example or comparative example. Development was performed under conditions, and SEM observation of the peripheral portion of the formed spacer was performed to confirm whether or not a residue remained in the periphery, and evaluation was performed according to the evaluation criteria.

〈評価基準〉
5: 残渣がまったく見られない。
4: パターン周辺に微かな残渣が見られた。
3: パターン周辺に若干の残渣が見られた。
2: パターン周辺とパターン近傍の基板上に残渣が見られた。
1: 基板上所々に残渣が確認できた。
<Evaluation criteria>
5: No residue is seen at all.
4: A slight residue was observed around the pattern.
3: Some residue was observed around the pattern.
2: Residue was observed on the periphery of the pattern and on the substrate in the vicinity of the pattern.
1: Residue could be confirmed in some places on the substrate.

−保存性(表示ムラ)−
カラーフィルタ基板上に塗布または転写により硬化性樹脂層を積層し、23℃/55%RHの温湿度で24時間放置した後、プロキシミティー露光し、各実施例又は比較例の現像条件と同様の条件で現像し作成した液晶表示装置の各々について、グレイのテスト信号を入力させたときのグレイ表示を目視及びルーペにて観察し、表示ムラの発生の有無を下記評価基準にしたがって評価した。
-Preservability (uneven display)-
A curable resin layer is laminated on the color filter substrate by coating or transfer, and left for 24 hours at a temperature / humidity of 23 ° C./55% RH, and then subjected to proximity exposure, which is the same as the development conditions of each example or comparative example. With respect to each of the liquid crystal display devices that were developed under conditions, the gray display when the gray test signal was input was observed visually and with a magnifying glass, and the presence or absence of display unevenness was evaluated according to the following evaluation criteria.

〈評価基準〉
5:液晶セルのいずれの箇所にも表示ムラは全く認められなかった。
4:液晶セルの四つ角にのみ僅かな表示ムラが認められた。
3:液晶セルの四辺の縁取り部分にのみ僅かな表示ムラが認められた。
2:液晶セルの中央部分にも表示ムラが認められた。
1:液晶セルの全面に顕著な表示ムラが認められた。
<Evaluation criteria>
5: No display unevenness was observed at any part of the liquid crystal cell.
4: Slight display unevenness was observed only at the four corners of the liquid crystal cell.
3: Slight display unevenness was observed only at the edge portions of the four sides of the liquid crystal cell.
2: Display unevenness was also observed in the central portion of the liquid crystal cell.
1: Remarkable display unevenness was observed on the entire surface of the liquid crystal cell.

−保存性(変形回復率)−
カラーフィルタ基板上に塗布または転写により硬化性樹脂層を積層し、23℃/55%RHの温湿度で24時間放置した後、プロキシミティー露光し、各実施例又は比較例の現像条件と同様の条件で現像し作成したスペーサーの各々について微小硬度計(DUH−W201、(株)島津製作所製)により次のようにして測定を行ない、評価した。測定は、50μmφの円錘台圧子を採用し、最大荷重50mN、保持時間5秒として、負荷−除荷試験法により行なった。この測定値から下記式により変形回復率〔%〕を求め、下記基準にしたがって評価した。測定は、22±1℃、50%RHの環境下で行った。
変形回復率(%)=(加重開放後の回復量[μm]/加重による変形量[μm])×100
-Preservability (deformation recovery rate)-
A curable resin layer is laminated on the color filter substrate by coating or transfer, and left for 24 hours at a temperature / humidity of 23 ° C./55% RH, and then subjected to proximity exposure, which is the same as the development conditions of each example or comparative example. Each of the spacers developed by developing under conditions was measured and evaluated by a micro hardness tester (DUH-W201, manufactured by Shimadzu Corporation) as follows. The measurement was performed by a load-unloading test method using a frustum-type indenter with a diameter of 50 μm, a maximum load of 50 mN, and a holding time of 5 seconds. From this measured value, the deformation recovery rate [%] was obtained by the following formula and evaluated according to the following criteria. The measurement was performed in an environment of 22 ± 1 ° C. and 50% RH.
Deformation recovery rate (%) = (Recovery amount after weight release [μm] / Deformation amount by weight [μm]) × 100

〈評価基準〉
5:変形回復率が90%以上であった。
4:変形回復率が87%以上90%未満であった。
3:変形回復率が85%以上87%未満であった。
2:変形回復率が80%以上85%未満であった。
1:変形回復率が75%以上80%未満であった。
0:変形回復率が75%未満であった。
<Evaluation criteria>
5: Deformation recovery rate was 90% or more.
4: The deformation recovery rate was 87% or more and less than 90%.
3: The deformation recovery rate was 85% or more and less than 87%.
2: Deformation recovery rate was 80% or more and less than 85%.
1: The deformation recovery rate was 75% or more and less than 80%.
0: Deformation recovery rate was less than 75%.

Figure 2009079140
Figure 2009079140

Claims (11)

分岐及び/又は脂環構造を有する基、酸性基、及びエチレン性不飽和結合を有する基を側鎖に有する樹脂(A)、重合性化合物(B)及び下記一般式(I)で表される開始剤(C)を少なくとも含んでなることを特徴とする硬化性組成物。
Figure 2009079140

式中、Tは(4,6−ビストリハロメチル−S−トリアジン−2−イル)基又は2−(5−トリハロメチル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)エテニル基を、Yはn価の基を、nは2以上の整数を表す。ベンゼン環はT以外の置換基を有していてもよい。
It is represented by the resin (A), the polymerizable compound (B), and the following general formula (I) having a group having a branched and / or alicyclic structure, an acidic group, and a group having an ethylenically unsaturated bond in the side chain. A curable composition comprising at least an initiator (C).
Figure 2009079140

In the formula, T represents a (4,6-bistrihalomethyl-S-triazin-2-yl) group or a 2- (5-trihalomethyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl) ethenyl group, Y represents an n-valent group, and n represents an integer of 2 or more. The benzene ring may have a substituent other than T.
前記脂環構造を有する基が、置換基を有していてもよい炭素数6以上の環状構造を有する基であることを特徴とする請求項1に記載の硬化性組成物。   The curable composition according to claim 1, wherein the group having an alicyclic structure is a group having a cyclic structure having 6 or more carbon atoms which may have a substituent. 微粒子(D)を更に含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の硬化性組成物。   The curable composition according to claim 1 or 2, further comprising fine particles (D). 前記微粒子(D)の平均粒子径が5〜50nmであり、硬化性組成物中の全固形分に対する質量比率が5〜50質量%であることを特徴とする請求項3に記載の硬化性組成物。   4. The curable composition according to claim 3, wherein the fine particles (D) have an average particle diameter of 5 to 50 nm and a mass ratio to the total solid content in the curable composition of 5 to 50 mass%. object. 前記微粒子(D)がコロイダルシリカであることを特徴とする請求項3又は4に記載の硬化性組成物。   The curable composition according to claim 3 or 4, wherein the fine particles (D) are colloidal silica. 仮支持体上に、少なくとも硬化性樹脂層を有する硬化性樹脂転写フイルムであって、前記硬化性樹脂層が、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の硬化性組成物を用いて形成されたことを特徴とする硬化性樹脂転写フイルム。   A curable resin transfer film having at least a curable resin layer on a temporary support, wherein the curable resin layer is formed using the curable composition according to any one of claims 1 to 5. A curable resin transfer film characterized by being made. 前記硬化性樹脂層と前記仮支持体との間に、中間層及び/又は熱可塑性樹脂層を有することを特徴とする請求項6に記載の硬化性樹脂転写フイルム。   The curable resin transfer film according to claim 6, further comprising an intermediate layer and / or a thermoplastic resin layer between the curable resin layer and the temporary support. 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の硬化性組成物を用いて、塗布することで支持体上に硬化性樹脂層を形成する工程を有することを特徴とするスペーサーの製造方法。   A method for producing a spacer, comprising a step of forming a curable resin layer on a support by applying the curable composition according to any one of claims 1 to 5. 請求項6又は7に記載の硬化性樹脂転写フイルムを用いて、加熱及び/又は加圧により支持体上に硬化性樹脂層を転写する工程を有することを特徴とするスペーサーの製造方法。   A method for producing a spacer, comprising using the curable resin transfer film according to claim 6 or 7 to transfer a curable resin layer onto a support by heating and / or pressing. 請求項8又は9に記載のスペーサーの製造方法により製造したスペーサーを備えたことを特徴とする液晶表示装置用基板。   A substrate for a liquid crystal display device, comprising a spacer manufactured by the spacer manufacturing method according to claim 8. 請求項10に記載の液晶表示装置用基板を備えたことを特徴とする液晶表示装置。   A liquid crystal display device comprising the liquid crystal display device substrate according to claim 10.
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