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Abstract
Description
この発明は、表示装置に係り、特に、自発光性の表示素子を備えた構成の表示装置に関する。 The present invention relates to a display device, and more particularly to a display device having a structure including a self-luminous display element.
近年、平面表示装置として、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置が注目されている。この有機EL表示装置は、自発光素子である有機EL素子を備えていることから、視野角が広く、バックライトを必要とせず薄型化が可能であり、消費電力が抑えられ、且つ応答速度が速いといった特徴を有している。 In recent years, organic electroluminescence (EL) display devices have attracted attention as flat display devices. Since this organic EL display device includes an organic EL element that is a self-luminous element, the viewing angle is wide, the backlight can be thinned, the power consumption can be reduced, and the response speed can be reduced. It has the feature of being fast.
これらの特徴から、有機EL表示装置は、液晶表示装置に代わる、次世代平面表示装置の有力候補として注目を集めている。有機EL表示装置としては、有機EL素子で発生したEL光をアレイ基板側から外部に取り出す下面発光(ボトムエミッション)方式、及び、有機EL素子で発生したEL光を封止基板側から外部に取り出す上面発光(トップエミッション)方式がある。 Because of these features, organic EL display devices are attracting attention as potential candidates for next-generation flat display devices that replace liquid crystal display devices. As an organic EL display device, a bottom emission method in which EL light generated in the organic EL element is extracted from the array substrate side and an EL light generated in the organic EL element is extracted from the sealing substrate side to the outside. There is a top emission method.
有機EL素子は、画素回路などとともにアレイ基板に備えられ、陽極と陰極との間に発光機能を有する有機化合物を含む有機活性層を保持して構成されている。陽極は、各画素を独立に駆動するために画素毎に配置されている。各画素は、隔壁によって分離されている。このような構成の有機EL素子は、水分の影響により劣化しやすい薄膜を含んで構成されている。このため、基板上に有機EL素子を形成しただけの構成の場合、短時間のうちにダークスポット、画素シュリンケージと呼ばれる点灯しない領域が発生し、また、このような領域が拡大して商品として使用できない状態になってしまう。 The organic EL element is provided on an array substrate together with a pixel circuit and the like, and is configured by holding an organic active layer containing an organic compound having a light emitting function between an anode and a cathode. The anode is arranged for each pixel in order to drive each pixel independently. Each pixel is separated by a partition wall. The organic EL element having such a configuration is configured to include a thin film that easily deteriorates due to the influence of moisture. For this reason, in the case of a configuration in which an organic EL element is simply formed on a substrate, a non-lighting area called a dark spot or pixel shrinkage occurs in a short time, and such an area expands as a product. It becomes unusable.
そこで、有機EL表示装置内の水分を除去するための吸湿材料を有機EL素子上に設置した基板を用意し、有機EL素子が配置された基板の周辺に設置したシール材を介して封止基板を貼り合わせることにより水分による劣化を防止する構成が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
有機EL素子は、その下層の凹凸の影響を受けないように平坦化された下地(平坦化層)の上に配置されることが多い。このような平坦化層は、樹脂材料をスピンコートするなどの手法によって形成されている。 In many cases, the organic EL element is disposed on a flattened base (planarized layer) so as not to be affected by the unevenness of the lower layer. Such a planarization layer is formed by a technique such as spin coating with a resin material.
このような樹脂材料は、水分を吸収しやすい性質を有している場合がある。このため、樹脂材料に吸収された水分が拡散して、有機EL素子を劣化させる現象が発生し得るモードがある。すなわち、有機EL素子は水分浸入によって劣化するため、輝度が低下し、時間の経過に伴って正常輝度で発光しなくなるという事態を生じることがある。 Such a resin material may have a property of easily absorbing moisture. For this reason, there is a mode in which moisture absorbed in the resin material diffuses and a phenomenon that the organic EL element is deteriorated may occur. That is, since the organic EL element deteriorates due to moisture intrusion, the luminance decreases, and there may be a situation in which the light does not emit light with normal luminance as time passes.
このような水分の影響を抑制する対策として、多量の乾燥剤を設置することが有効であるが、コストの増大を招くとともに、特にトップエミッション方式では乾燥剤を設置可能な領域が限られており、十分な対策となりえない。 It is effective to install a large amount of desiccant as a measure to suppress the influence of such moisture, but it causes an increase in cost and the area where desiccant can be installed is limited especially in the top emission method. It cannot be a sufficient measure.
この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、表示品位が良好であり、且つ、長寿命化が可能な表示装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a display device that has good display quality and can have a long lifetime.
この発明の態様による表示装置は、
複数の画素によって構成されたアクティブエリアを備えた表示装置であって、
支持基板上に配置された有機絶縁膜と、
前記有機絶縁膜のアクティブエリアに対応した表面において、画素毎に配置された第1電極と、
前記第1電極上に配置された有機活性層と、
前記有機活性層上に配置され、複数の画素に共通の第2電極と、
前記第1電極と同一材料によって形成され、前記有機絶縁膜におけるアクティブエリア外の表面を覆うバリア膜と、
を備えたことを特徴とする。
A display device according to an aspect of the present invention includes:
A display device having an active area composed of a plurality of pixels,
An organic insulating film disposed on a support substrate;
A first electrode disposed for each pixel on the surface corresponding to the active area of the organic insulating film;
An organic active layer disposed on the first electrode;
A second electrode disposed on the organic active layer and common to a plurality of pixels;
A barrier film formed of the same material as the first electrode and covering a surface outside the active area in the organic insulating film;
It is provided with.
この発明によれば、有機絶縁膜と隔壁とがバリア膜によって分断されているため、たとえ隔壁から水分が浸入したとしても有機絶縁膜への拡散を抑制することが可能となるとともに、逆に、有機絶縁膜に含まれる水分の隔壁への拡散も抑制することが可能となる。このため、一部の画素の急速な劣化を抑制することができ、発光輝度のムラを抑制できるため、表示品位を改善することが可能となるとともに、長寿命化が可能となる。したがって、製造歩留まりを改善することが可能となり、また、多量の乾燥剤も必要としないため、コストの増大を抑制することが可能となる。特に、トップエミッション方式においては、少量の乾燥剤により、十分な水分対策を実現することができる。 According to the present invention, since the organic insulating film and the partition are separated by the barrier film, even if moisture enters from the partition, it is possible to suppress diffusion to the organic insulating film, and conversely, It is also possible to suppress diffusion of moisture contained in the organic insulating film into the partition walls. For this reason, rapid deterioration of some pixels can be suppressed, and unevenness in light emission luminance can be suppressed, so that display quality can be improved and life can be extended. Therefore, the production yield can be improved, and a large amount of desiccant is not required, so that an increase in cost can be suppressed. In particular, in the top emission method, a sufficient countermeasure against moisture can be realized with a small amount of desiccant.
以下、この発明の一実施の形態に係る表示装置について図面を参照して説明する。なお、この実施の形態では、表示装置として、自己発光型表示装置、例えば有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置を例にして説明する。 A display device according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In this embodiment, a self-luminous display device such as an organic EL (electroluminescence) display device will be described as an example of the display device.
有機EL表示装置1は、図1に示すように、画像を表示するアクティブエリア102を有するアレイ基板100を備えている。アクティブエリア102は、マトリクス状に配置された複数の画素PXによって構成されている。また、図1では、カラー表示タイプの有機EL表示装置1を例に示しており、アクティブエリア102は、複数種類の色画素、例えば3原色に対応した赤色画素PXR、緑色画素PXG、及び、青色画素PXBによって構成されている。
As shown in FIG. 1, the organic EL display device 1 includes an
アレイ基板100の少なくともアクティブエリア102は、封止体200によって封止されている。すなわち、これらのアレイ基板100と封止体200とは、アクティブエリア102を囲むように枠状に配置されたシール材300により貼り合せられている。シール材300は、感光性樹脂(例えば紫外線硬化型樹脂)であっても良いし、フリットであっても良い。
At least the
各画素PX(R、G、B)は、画素回路10及びこの画素回路10によって駆動制御される表示素子40を備えている。図1に示した画素回路10は、一例であって、他の構成の画素回路を適用しても良いことは言うまでもない。図1に示した例では、画素回路10は、駆動トランジスタDRT、第1スイッチSW1、第2スイッチSW2、第3スイッチSW3、蓄積容量素子CSなどを備えて構成されている。駆動トランジスタDRTは、表示素子40に供給する電流量を制御する機能を有している。第1スイッチSW1及び第2スイッチSW2は、サンプル・ホールドスイッチとして機能する。第3スイッチ素子SW3は、駆動トランジスタDRTから表示素子40への駆動電流の供給、つまり表示素子40のオン/オフを制御する機能を有している。蓄積容量素子CSは、駆動トランジスタDRTのゲートーソース間の電位を保持する機能を有している。
Each pixel PX (R, G, B) includes a
駆動トランジスタDRTは、高電位電源線P1と第3スイッチSW3との間に接続されている。表示素子40は、第3スイッチSW3と低電位電源線P2との間に接続されている。第1スイッチSW1及び第2スイッチSW2のゲート電極は、第1ゲート線GL1に接続されている。第3スイッチSW3のゲート電極は、第2ゲート線GL2に接続されている。第1スイッチSW1のソース電極は、映像信号線SLに接続されている。これらの駆動トランジスタDRT、第1スイッチSW1、第2スイッチSW2、及び、第3スイッチ素子SW3は、例えば薄膜トランジスタによって構成され、その半導体層は、ここではポリシリコンによって形成されている。
The drive transistor DRT is connected between the high potential power supply line P1 and the third switch SW3. The
このような回路構成の場合、第1ゲート線GL1からオン信号が供給されたのに基づいて第1スイッチSW1及び第2スイッチSW2がオンとなり、映像信号線SLを流れる電流量に応じて高電位電源線P1から駆動トランジスタDRTに電流が流れ、また、駆動トランジスタDRTを流れる電流に応じて蓄積容量素子CSが充電される。これにより、駆動トランジスタDRTは、映像信号線SLから供給された電流量と同一の電流量を、高電位電源線P1から表示素子40に供給可能となる。
In the case of such a circuit configuration, the first switch SW1 and the second switch SW2 are turned on based on the ON signal supplied from the first gate line GL1, and the high potential is set according to the amount of current flowing through the video signal line SL. A current flows from the power supply line P1 to the drive transistor DRT, and the storage capacitor element CS is charged according to the current flowing through the drive transistor DRT. As a result, the drive transistor DRT can supply the same amount of current as that supplied from the video signal line SL to the
そして、第2ゲート線GL2からオン信号が供給されたのに基づいて第3スイッチSW3がオンとなり、蓄積容量素子CSで保持した容量に応じて、駆動トランジスタDRTは、高電位電源線P1から第3スイッチSW3を介して表示素子40に所定輝度に対応した所定量の電流を供給する。これにより、表示素子40は、所定の輝度に発光する。
Then, the third switch SW3 is turned on based on the ON signal supplied from the second gate line GL2, and the driving transistor DRT is connected to the first potential from the high potential power supply line P1 according to the capacitance held in the storage capacitor element CS. A predetermined amount of current corresponding to a predetermined luminance is supplied to the
表示素子40は、自発光性の表示素子である有機EL素子40(R、G、B)によって構成されている。すなわち、赤色画素PXRは、主に赤色波長に対応した光を出射する有機EL素子40Rを備えている。緑色画素PXGは、主に緑色波長に対応した光を出射する有機EL素子40Gを備えている。青色画素PXBは、主に青色波長に対応した光を出射する有機EL素子40Bを備えている。
The
各種有機EL素子40(R、G、B)は、基本的に同一構成であり、例えば、図2に示すように、配線基板120上に配置されている。なお、配線基板120は、ガラス基板やプラスチックシートなどの絶縁性の支持基板101上に、アンダーコート層111、ゲート絶縁膜112、層間絶縁膜113、有機絶縁膜(平坦化層)114などの絶縁層を備える他に、各種スイッチSW、駆動トランジスタDRT、蓄積容量素子Cs、各種配線(ゲート線、映像信号線、電源線等)などを備えて構成されたものとする。
The various organic EL elements 40 (R, G, B) have basically the same configuration, and are disposed on the
すなわち、図2に示した例では、アンダーコート層111の上には、スイッチや駆動トランジスタなどのトランジスタ素子(図1に示した回路構成においては第3スイッチSW3)20の半導体層21が配置されている。半導体層21は、ゲート絶縁膜112によって覆われている。ゲート絶縁膜112の上には、トランジスタ素子20のゲート電極20Gなどが配置されている。ゲート電極20Gは、層間絶縁膜113によって覆われている。層間絶縁膜113の上には、トランジスタ素子20のソース電極20S及びドレイン電極20Dなどが配置されている。これらのソース電極20S及びドレイン電極20Dは、ゲート絶縁膜112及び層間絶縁膜113を半導体層21まで貫通するコンタクトホールを介して半導体層21にそれぞれコンタクトしている。これらのソース電極20S及びドレイン電極20Dは、有機絶縁膜114によって覆われている。このような有機絶縁膜114は、下層の凹凸の影響を緩和しその表面を平坦化する目的で、樹脂材料をコーティングするなどの手法により形成されている。
That is, in the example shown in FIG. 2, the
有機EL素子40は、有機絶縁膜114の上に配置されている。この有機EL素子40は、第1電極60と第2電極64との間に有機活性層62を保持した構成であり、以下に詳細な構造について説明する。
The
すなわち、第1電極60は、有機絶縁膜114の上において色画素PX毎に独立島状に配置され、陽極として機能する。この第1電極60は、有機絶縁膜114をドレイン電極20Dまで貫通するコンタクトホールを介して、ドレイン電極20Dにコンタクトしている。このような第1電極60は、インジウム・ティン・オキサイド(ITO)などの光透過性を有する導電材料によって形成されている。
That is, the
有機活性層62は、第1電極60上に配置され、少なくとも発光層を含んでいる。この有機活性層62は、発光層以外の機能層を含むことができ、例えば、ホール注入層、ホール輸送層、ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層、バッファ層などの機能層を含むことができる。このような有機活性層62は、複数の機能層を複合した単層で構成されても良いし、各機能層を積層した多層構造であっても良い。有機活性層62においては、発光層が有機系材料であればよく、発光層以外の層は無機系材料でも有機系材料でも構わない。有機活性層62において、発光層以外の機能層は共通層であってもよい。発光層は、赤、緑、または青に発光する発光機能を有した有機化合物によって形成される。
The organic
有機活性層62は、高分子系材料によって形成された薄膜を含んでいても良い。このような薄膜は、インクジェット法などの選択塗布法により成膜可能である。また、有機活性層62は、低分子系材料によって形成された薄膜を含んでいても良い。このような薄膜は、マスク蒸着法などの手法により成膜可能である。
The organic
第2電極64は、複数の色画素PXに共通であって、各色画素PXの有機活性層62の上に配置され、陰極として機能する。この第2電極64は、半透過層を含んでいてもよい。すなわち、第2電極64は、ITOなどの光透過性を有する導電材料を用いて形成された透過層と、透過層と有機活性層62との間に配置され銀(Ag)とマグネシウム(Mg)との混合物などによって形成された半透過層との2層構造としても良いし、半透過層単層の電極として構成してもよい。なお、第2電極64は、透過層単層で構成してもよいことは言うまでもない。
The
また、アレイ基板100は、アクティブエリア102において、少なくとも隣接する色画素PX(R、G、B)間を分離する隔壁70を備えている。この隔壁70は、各第1電極60の周縁を覆うように配置され、アクティブエリア102において格子状またはストライプ状に形成されている。このような隔壁70は、例えば樹脂材料をパターニングすることによって形成される。
In addition, the
ところで、有機絶縁膜114は、樹脂材料によって形成されているため、水分を吸収しやすい性質を有している。このため、水分による有機EL素子40の劣化を抑制するために、有機絶縁膜114は、露出しないことが望ましく、そのアクティブエリア外すなわち周辺エリア104に延在した端部114Eは、第2電極64によって覆われていることが望ましい。
Incidentally, since the organic insulating
このような有機絶縁膜114は、その表面を平坦化するために、比較的厚い膜厚、例えば2〜3μmの膜厚を有するように形成されている。このため、周辺エリア104においては、有機絶縁膜114の端部114Eによって大きな段差が形成される。つまり、支持基板101の表面101Aと有機絶縁膜114の上面114Tとでは、有機絶縁膜114の膜厚相当の高低差が形成される。また、有機絶縁膜114の端面114Sも急峻な斜面として形成される。
Such an organic
一方で、第1電極60は、有機絶縁膜114の上に導電材料を成膜した後、フォトリソグラフィプロセスを経てパターン化される。すなわち、有機絶縁膜114の表面に、アクティブエリア102のみならず周辺エリア104にも導電材料を成膜する。そして、導電材料を覆うようにレジストを塗布し、第1電極のパターンに対応するようにレジストをパターニングする。そして、レジストから露出した導電材料を除去した後、レジストを除去することにより、第1電極60が形成される。
On the other hand, the
このとき、有機絶縁膜114の端部114Eにおいて大きな段差が形成されているため、この部分に塗布されるレジストの膜厚が厚くなりやすく、レジストが除去しきれないため、結果として、有機絶縁膜114の端面114Sと支持基板101とが接する付近において、除去し切れなかった導電材料が残ってしまうことがある。
At this time, since a large step is formed at the
このため、後の工程で第2電極64をマスク蒸着などの手法によって形成するが、第1電極60を形成した際の導電材料の残渣の影響により、周辺エリア104においては、有機絶縁膜114の端部114Eのカバレッジ不良を招くおそれがある。つまり、第2電極64に形成されたピンホールから有機絶縁膜114が露出するため、水分の浸入経路が形成されてしまう。
For this reason, the
そこで、図2に示した第1実施形態によれば、有機絶縁膜114における周辺エリア104の表面は、第1電極60と同一材料によって形成されたバリア膜130によって覆われている。すなわち、バリア膜130は、最外周の隔壁70Xと有機絶縁膜114との間に配置され、隔壁70Xより外方(つまり、アレイ基板100の端部側)に向かって延在し、有機絶縁膜114の上面114T及び端面114Sを覆うとともに、支持基板101の表面101Aに接している。また、このバリア膜130は、最外周画素の第1電極60とは切り離されている。
Therefore, according to the first embodiment shown in FIG. 2, the surface of the
このバリア膜130は、第1電極60と同様に、透水性の低い無機系材料によって形成されており、ここではITOによって形成されている。このため、周辺エリア104においては、有機絶縁膜114への水分の浸入を抑制することが可能となる。なお、アクティブエリア102においては、ITOによって形成された第1電極60が有機絶縁膜114から有機活性層62への水分の浸入を抑制している。
Similar to the
また、第1電極60を形成する工程において、第1電極60をパターン化するのと同時に、有機絶縁膜114の端部114Eを覆うバリア膜130を形成することにより、上述したような第1電極60を形成した際の導電材料の残渣の影響を解消することができる。つまり、バリア膜130のみによって、有機絶縁膜114の十分なカバレッジが可能となる。
In the step of forming the
さらに、第2電極64によって周辺エリア104まで覆う場合、第2電極64がバリア膜130に密着し、しかも、支持基板101に接するように配置される。このとき、第2電極64については、第1電極を形成した際の残渣の影響によるピンホールの形成を抑制できる。このため、有機絶縁膜114の端部114Eがバリア膜130及び第2電極64の積層体によって覆われ、より高いカバレッジ性能を実現できる。
Further, when the
なお、隔壁70も有機絶縁膜114と同様に樹脂材料によって形成されるが、最外周の隔壁70Xも含めてすべてが第2電極64によって覆われている。すなわち、バリア膜130は隔壁70Xより外方に延在しているが、同様に、第2電極64も隔壁70Xよりも外方に延在しており、有機絶縁膜114の端部114Eにおいてバリア膜130と第2電極64とが密着している。つまり、隔壁70Xは、露出することがない。このため、隔壁70Xからの水分の浸入を抑制することが可能となる。
The
これにより、アクティブエリアの外周に位置する色画素PXの有機EL素子40の急速な劣化を抑制することができ、発光輝度のムラを抑制できるため、表示品位を改善することが可能となるとともに、長寿命化が可能となる。また、多量の乾燥剤を設置することなく水分の影響による有機EL素子の劣化を抑制することができるため、たとえトップエミッション方式を適用したとしても、限られたスペースに少量の乾燥剤を配置するのみで十分な水分対策を達成できる。
As a result, rapid deterioration of the
次に、他の実施形態について説明する。 Next, another embodiment will be described.
第1電極60は、反射層を含むような構成であっても良い。このような構成は、特にトップエミッション方式に適用可能である。
The
図3に示した第2実施形態においては、第1電極60は、有機絶縁膜114の上に配置された反射層60Rと、反射層60Rの上に積層された透過層60Tとを有して構成されている。反射層60Rは、アルミニウム(Al)などの光反射性を有する導電材料によって形成されている。また、透過層60Tは、第1実施形態と同様に、ITOなどの光透過性を有する導電材料によって形成されている。
In the second embodiment shown in FIG. 3, the
このような第2実施形態において、バリア膜130は、少なくとも透過層60Tと同一材料によって形成されており、図3に示した例では、反射層60R及び透過層60Tと同一材料によって形成された2層構造である。つまり、バリア膜130は、反射層60Rと同一材料によって形成された第1バリア層130A及び透過層60Tと同一材料によって形成された第2バリア層130Bとの積層体によって構成されている。
In such a second embodiment, the
このような構成のバリア膜130は、有機絶縁膜114における周辺エリア104の表面を覆っている。すなわち、第1バリア層130A及び第2バリア層130Bは、ともに最外周の隔壁70Xと有機絶縁膜114との間に配置され、隔壁70Xより外方に向かって延在し、有機絶縁膜114の上面114T及び端面114Sを覆うとともに、支持基板101の表面101Aに接している。また、このバリア膜130を構成する第1バリア層130A及び第2バリア層130Bは、それぞれ最外周画素の第1電極60を構成する反射層60R及び透過層60Tとは切り離されている。
The
このような構成によれば、周辺エリア104において、有機絶縁膜114への水分の浸入を抑制することが可能となる。
According to such a configuration, it is possible to prevent moisture from entering the organic insulating
また、第1電極60を形成する工程において、反射層60Rをパターン化するのと同時に、有機絶縁膜114の端部114Eを覆う第1バリア層130Aを形成することにより、反射層60Rを形成した際の導電材料の残渣の影響を解消することができる。同様に、透過層60Tをパターン化するのと同時に、第1バリア層130Aの上に有機絶縁膜114の端部114Eを覆う第2バリア層130Bを形成することにより、透過層60Tを形成した際の導電材料の残渣の影響を解消することができる。
Further, in the step of forming the
このため、実質的に透過層単層からなるバリア膜130によって有機絶縁膜114の端部114Eを覆う第1実施形態と比較して、第2実施形態においては、有機絶縁膜114の端部114Eが無機系材料からなる2層構造のバリア膜によって覆われているため、より高いカバレッジ性能を実現できる。
For this reason, in the second embodiment, the
さらに、第2電極64によって周辺エリア104まで覆う場合、第2電極64が第2バリア層130Bに密着し、しかも、支持基板101に接するように配置される。このとき、第2電極64については、第1電極を形成した際の残渣の影響によるピンホールの形成を抑制できる。このため、有機絶縁膜114の端部114Eがバリア膜130及び第2電極64の積層体によって覆われ、さらに高いカバレッジ性能を実現できる。
Furthermore, when the
これにより、第1実施形態と同様の効果が得られる。 Thereby, the effect similar to 1st Embodiment is acquired.
有機EL表示装置は、さらに、第2電極64を覆う保護膜150を備えた構成であっても良い。
The organic EL display device may further include a
図4に示した第3実施形態においては、アクティブエリア102に配置された各有機EL素子40の第2電極64は、保護膜150によって覆われている。このような保護膜150は、例えば窒化シリコン膜や酸化シリコン膜などの無機系材料によって形成された薄膜を含んでいる。また、この保護膜150は、有機系材料によって形成された薄膜を含んでもいても良い。
In the third embodiment shown in FIG. 4, the
このような第3実施形態において、保護膜150は、周辺エリア104に延在し、有機絶縁膜114の端部114Eを覆っている。すなわち、第1実施形態と同様に、第1電極60と同一材料によって形成されたバリア膜130は、有機絶縁膜114の上面114T及び端面114Sを覆うとともに、支持基板101の表面101Aに接している。保護膜150は、バリア膜130を覆うように配置され、支持基板101の表面101Aに接している。
In the third embodiment, the
この第3実施形態においては、有機絶縁膜114の端部114Eが少なくともバリア膜130及び保護膜150の積層体によって覆われている。このため、周辺エリア104において、より高いカバレッジ性能を実現でき、有機絶縁膜114への水分の浸入を抑制することが可能となる。
In the third embodiment, the
さらに、第2電極64によって周辺エリア104まで覆う場合、周辺エリア104において、第2電極64がバリア膜130に密着し、しかも、支持基板101に接するように配置される。加えて、周辺エリア104においては、保護膜150が第2電極64に密着し、しかも、支持基板101に接するように配置される。このとき、第2電極64及び保護膜150について、第1電極を形成した際の残渣の影響によるピンホールの形成を抑制できる。このため、有機絶縁膜114の端部114Eがバリア膜130、第2電極64、及び、保護膜150の積層体によって覆われることになり、さらに高いカバレッジ性能を実現できる。
Further, when the
これにより、第1実施形態と同様の効果が得られる。 Thereby, the effect similar to 1st Embodiment is acquired.
次に、この実施の形態に係る有機EL表示装置について効果を検証した。 Next, the effect of the organic EL display device according to this embodiment was verified.
まず、アクティブエリア102の対角寸法が3.5型となるアレイ基板を24枚分形成可能な寸法(400mm×500mm)のガラス基板(支持基板)を用意し、3種類(A,B,C)のサンプルを準備した。
First, a glass substrate (support substrate) having a size (400 mm × 500 mm) capable of forming 24 array substrates having a diagonal size of 3.5 inches in the
サンプルAは、有機絶縁膜114の上に色画素毎に配置した第1電極60が反射層60R及び透過層60Tを備えた構成であり、有機絶縁膜114の端部114Eは、バリア膜によって覆われておらず、第2電極64のみによって覆われた構成である。
In the sample A, the
サンプルBは、図2に示した第1実施形態に相当する構成であり、有機絶縁膜114の端部114Eは、第1電極(透過層)60と同一材料によって形成されたバリア膜130によって覆われており、しかも、第2電極64によってさらにバリア膜130が覆われた構成である。
Sample B has a configuration corresponding to that of the first embodiment shown in FIG. 2, and an
サンプルCは、図3に示した第2実施形態に相当する構成であり、有機絶縁膜114の端部114Eは、第1電極60を構成する反射層60Rと同一材料によって形成された第1バリア層130A及び透過層60Tと同一材料によって形成された第2バリア層130Bによって覆われており、しかも、第2電極64によってさらに第2バリア層130Bが覆われた構成である。
The sample C has a configuration corresponding to the second embodiment shown in FIG. 3, and the
上述した3種類のサンプルについて、第1電極60及び隔壁70を形成したそれぞれの基板を抵抗加熱方式の有機EL成膜装置にセットし、有機活性層62として、正孔輸送層として機能するα−NPDを200nmの膜厚に成膜した後、発光層兼電子輸送層として機能するAlq3を50nmの膜厚に成膜し、さらに、電子注入層兼ダメージバッファ層としてMg・Agを2nmの膜厚に順次成膜した。そして、成膜済みの基板を平行平板マグネトロンスパッタ装置にセットし、膜厚100nmのITOを成膜した。
With respect to the three types of samples described above, each substrate on which the
各サンプルのアクティブエリア102は、封止体200によって封止した。すなわち、封止体200の上に、紫外線硬化型の樹脂材料を額縁状に塗布した後に、各サンプルのアレイ基板に貼りあわせ、所定条件の紫外線照射によって樹脂材料を硬化させた。これにより、気密空間内に有機EL素子が配置される。各サンプルの基板対を割断した後、周辺回路を実装して、各サンプルについて24個の有機EL表示装置を作成した。なお、各サンプルについて、短時間で顕著な効果を確認するために、通常必要な乾燥剤を気密空間の内部に設置しなかった。
The
これらの3×24台の有機EL表示装置を高温高湿環境(85℃×85%RH)の中に放置し、所定時間経過後に表示確認を行ってダークスポット等の水分による劣化の発生状況を目視にて観察した。この結果を図5に示す。 These 3x24 organic EL display devices are left in a high-temperature, high-humidity environment (85 ° C x 85% RH), and the display is checked after a lapse of a predetermined time to show the state of deterioration due to moisture such as dark spots. It was observed visually. The result is shown in FIG.
図5に示した結果から、有機絶縁膜114の端部114Eを第2電極64のみによって覆うサンプルAについては、他のサンプルよりも先(20時間経過後)にダークスポットの発生が確認され、水分の影響による劣化が進行しやすいことが確認された。一方、有機絶縁膜114の端部114Eをバリア膜130及び第2電極64によって覆うサンプルB及びCについては、サンプルAよりもダークスポット等の水分の影響による劣化の発生を遅らせる(30時間経過後)ことが可能であることが確認できた。
From the results shown in FIG. 5, with respect to the sample A in which the
なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。 Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the spirit of the invention in the stage of implementation. Further, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, you may combine suitably the component covering different embodiment.
1…有機EL表示装置 PX(R、G、B)…色画素
10…画素回路 DRT…駆動トランジスタ
SW1…第1スイッチ SW2…第2スイッチ
SW3…第3スイッチ Cs…蓄積容量素子
40…有機EL素子 60…第1電極
60R…反射層 60T…透過層
62…有機活性層 64…第2電極
70…隔壁
100…アレイ基板 102…アクティブエリア 104…周辺エリア
114…有機絶縁膜 114E…端面
120…配線基板
130…バリア膜 130A…第1バリア層 130B…第2バリア層
150…保護膜 200…封止体 300…シール材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL display device PX (R, G, B) ...
60R ...
Claims (5)
支持基板上に配置された有機絶縁膜と、
前記有機絶縁膜のアクティブエリアに対応した表面において、画素毎に配置された第1電極と、
前記第1電極上に配置された有機活性層と、
前記有機活性層上に配置され、複数の画素に共通の第2電極と、
前記第1電極と同一材料によって形成され、前記有機絶縁膜におけるアクティブエリア外の表面を覆うバリア膜と、
を備えたことを特徴とする表示装置。 A display device having an active area composed of a plurality of pixels,
An organic insulating film disposed on a support substrate;
A first electrode disposed for each pixel on the surface corresponding to the active area of the organic insulating film;
An organic active layer disposed on the first electrode;
A second electrode disposed on the organic active layer and common to a plurality of pixels;
A barrier film formed of the same material as the first electrode and covering a surface outside the active area in the organic insulating film;
A display device comprising:
前記バリア膜は、少なくとも前記透過層と同一材料によって形成されたことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。 The first electrode has a reflective layer and a transmissive layer laminated on the reflective layer,
The display device according to claim 1, wherein the barrier film is formed of the same material as at least the transmissive layer.
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