JP2009054371A - Display unit - Google Patents

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Shirou Sumida
祉朗 炭田
Motokuni Aoki
基晋 青木
Masashi Takahashi
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display unit that ensures excellent display quality and an extended lifetime. <P>SOLUTION: A display unit which has an active area composed of many pixels comprises an organic insulation film 114 that is divided into an island-shaped pixel center 114C and a pixel peripheral part 114S surrounding the pixel center 114C, a first electrode 60 that is arranged at each pixel on the organic insulation film 114 and extends from the pixel center 114C to the pixel peripheral part 114S, a bulkhead 70 arranged to cover the peripheral edge of the first electrode 60 on the pixel peripheral part 114S of the organic insulation film 114 for separating each pixel, an organic active layer 62 arranged on the first electrode 60, and a second electrode 64 that is arranged on the organic active layer 62 and is shared by many pixels in common. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

この発明は、表示装置に係り、特に、自発光性の表示素子を備えた構成の表示装置に関する。   The present invention relates to a display device, and more particularly to a display device having a structure including a self-luminous display element.

近年、平面表示装置として、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置が注目されている。この有機EL表示装置は、自発光素子である有機EL素子を備えていることから、視野角が広く、バックライトを必要とせず薄型化が可能であり、消費電力が抑えられ、且つ応答速度が速いといった特徴を有している。   In recent years, organic electroluminescence (EL) display devices have attracted attention as flat display devices. Since this organic EL display device includes an organic EL element that is a self-luminous element, the viewing angle is wide, the backlight can be thinned, the power consumption can be reduced, and the response speed can be reduced. It has the feature of being fast.

これらの特徴から、有機EL表示装置は、液晶表示装置に代わる、次世代平面表示装置の有力候補として注目を集めている。有機EL表示装置としては、有機EL素子で発生したEL光をアレイ基板側から外部に取り出す下面発光(ボトムエミッション)方式、及び、有機EL素子で発生したEL光を封止基板側から外部に取り出す上面発光(トップエミッション)方式がある。   Because of these features, organic EL display devices are attracting attention as potential candidates for next-generation flat display devices that replace liquid crystal display devices. As an organic EL display device, a bottom emission method in which EL light generated in the organic EL element is extracted from the array substrate side and an EL light generated in the organic EL element is extracted from the sealing substrate side to the outside. There is a top emission method.

有機EL素子は、画素回路などとともにアレイ基板に備えられ、陽極と陰極との間に発光機能を有する有機化合物を含む有機活性層を保持して構成されている。陽極は、各画素を独立に駆動するために画素毎に配置されている。各画素は、隔壁によって分離されている。このような構成の有機EL素子は、水分の影響により劣化しやすい薄膜を含んで構成されている。このため、基板上に有機EL素子を形成しただけの構成の場合、短時間のうちにダークスポット、画素シュリンケージと呼ばれる点灯しない領域が発生し、また、このような領域が拡大して商品として使用できない状態になってしまう。   The organic EL element is provided on an array substrate together with a pixel circuit and the like, and is configured by holding an organic active layer containing an organic compound having a light emitting function between an anode and a cathode. The anode is arranged for each pixel in order to drive each pixel independently. Each pixel is separated by a partition wall. The organic EL element having such a configuration is configured to include a thin film that easily deteriorates due to the influence of moisture. For this reason, in the case of a configuration in which an organic EL element is simply formed on a substrate, a non-lighting area called a dark spot or pixel shrinkage occurs in a short time, and such an area expands as a product. It becomes unusable.

そこで、有機EL表示装置内の水分を除去するための吸湿材料を有機EL素子上に設置した基板を用意し、有機EL素子が配置された基板の周辺に設置したシール材を介して封止基板を貼り合わせることにより水分による劣化を防止する構成が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
特開2002−299040号公報
Therefore, a substrate in which a moisture absorbing material for removing moisture in the organic EL display device is provided on the organic EL element is prepared, and a sealing substrate is provided via a sealing material provided around the substrate on which the organic EL element is arranged. The structure which prevents deterioration by a water | moisture content by sticking together is proposed (for example, refer patent document 1).
JP 2002-299040 A

有機EL素子は、その下層の凹凸の影響を受けないように平坦化された下地の上に配置されることが多い。このような下地は、樹脂材料をスピンコートするなどの手法によって形成されている。   In many cases, the organic EL element is arranged on a flattened base so as not to be affected by the unevenness of the lower layer. Such a base is formed by a technique such as spin coating with a resin material.

このような有機EL素子の形成プロセスにおいて、例えば有機活性層や陰極を形成する工程において、ゴミ等の異物や汚れなどの影響により、陰極にピンホールが形成されることがある。本来、陰極は隔壁を全体的に覆うように形成されるが、ピンホールによって隔壁の一部が陰極から露出する場合がある。   In such an organic EL element formation process, for example, in the step of forming the organic active layer and the cathode, pinholes may be formed in the cathode due to the influence of foreign matters such as dust and dirt. Originally, the cathode is formed so as to entirely cover the partition wall, but a part of the partition wall may be exposed from the cathode by the pinhole.

隔壁は、一般に樹脂材料をパターニングすることによって形成される。このような樹脂材料は、性質上、若干の透湿性を有している場合がある。このため、陰極のピンホールから水分が浸入し、隔壁内に拡散していく現象が発生し得るモードがある。特に、下地となる有機絶縁膜の上に有機EL素子を配置する構成の場合には、陽極の切れ目で隔壁と有機絶縁膜とが繋がっている。このため、隔壁から浸入した水分は、有機絶縁膜を介して拡散しやすい。   The partition wall is generally formed by patterning a resin material. Such a resin material may have some moisture permeability in nature. For this reason, there is a mode in which moisture may enter from the pinhole of the cathode and diffuse into the partition wall. In particular, in the case of the configuration in which the organic EL element is disposed on the organic insulating film serving as a base, the partition wall and the organic insulating film are connected at the anode break. For this reason, moisture that has entered from the partition walls is likely to diffuse through the organic insulating film.

有機EL素子は水分によって劣化するため、輝度の低下を招き、時間の経過に伴って正常輝度で発光しなくなるという事態を生じることがある。つまり、陰極のピンホール周辺の画素においては、他の画素よりも有機EL素子の劣化が急速に進行し、発光輝度にムラが生ずることにつながる。このため、製造歩留まりの低下を招くおそれがある。   Since the organic EL element is deteriorated by moisture, the luminance is lowered, and there is a case where light is not emitted with normal luminance as time passes. In other words, in the pixels around the pinhole of the cathode, the deterioration of the organic EL element proceeds more rapidly than in the other pixels, leading to unevenness in the light emission luminance. For this reason, there is a possibility of causing a decrease in manufacturing yield.

この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、表示品位が良好であり、且つ、長寿命化が可能な表示装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a display device that has good display quality and can have a long lifetime.

この発明の態様による表示装置は、
複数の画素によって構成されたアクティブエリアを備えた表示装置であって、
島状の画素中央部と、この画素中央部を囲む画素周辺部とに分割された有機絶縁膜と、
前記有機絶縁膜上において画素毎に配置され、前記画素中央部から前記画素周辺部まで延在する第1電極と、
前記有機絶縁膜の画素周辺部上において、前記第1電極の周縁を覆うように配置され、各画素を分離する隔壁と、
前記第1電極上に配置された有機活性層と、
前記有機活性層上に配置され、複数の画素に共通の第2電極と、
を備えたことを特徴とする。
A display device according to an aspect of the present invention includes:
A display device having an active area composed of a plurality of pixels,
An organic insulating film divided into an island-shaped pixel central portion and a pixel peripheral portion surrounding the pixel central portion;
A first electrode disposed on the organic insulating film for each pixel and extending from the pixel central portion to the pixel peripheral portion;
A partition wall is disposed on the periphery of the pixel of the organic insulating film so as to cover the periphery of the first electrode, and separates each pixel.
An organic active layer disposed on the first electrode;
A second electrode disposed on the organic active layer and common to a plurality of pixels;
It is provided with.

この発明によれば、有機絶縁膜は、隔壁が配置される画素周辺部と、主に発光に寄与する画素中央部とに分割された構造であるため、たとえ隔壁から水分が浸入したとしても画素周辺部から画素中央部への拡散を抑制することが可能となる。このため、一部の画素の急速な劣化を抑制することができ、発光輝度のムラを抑制できるため、表示品位を改善することが可能となるとともに、長寿命化が可能となる。したがって、製造歩留まりを改善することが可能となり、また、多量の乾燥剤も必要としないため、コストの増大を抑制することが可能となる。特に、トップエミッション方式においては、少量の乾燥剤により、十分な水分対策を実現することができる。   According to the present invention, since the organic insulating film has a structure divided into a pixel peripheral portion where the partition wall is disposed and a pixel central portion mainly contributing to light emission, even if moisture enters the partition wall, It is possible to suppress diffusion from the peripheral portion to the pixel central portion. For this reason, rapid deterioration of some pixels can be suppressed, and unevenness in light emission luminance can be suppressed, so that display quality can be improved and life can be extended. Therefore, the production yield can be improved, and a large amount of desiccant is not required, so that an increase in cost can be suppressed. In particular, in the top emission method, a sufficient countermeasure against moisture can be realized with a small amount of desiccant.

以下、この発明の一実施の形態に係る表示装置について図面を参照して説明する。なお、この実施の形態では、表示装置として、自己発光型表示装置、例えば有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置を例にして説明する。   A display device according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In this embodiment, a self-luminous display device such as an organic EL (electroluminescence) display device will be described as an example of the display device.

有機EL表示装置1は、図1に示すように、画像を表示するアクティブエリア102を有するアレイ基板100を備えている。アクティブエリア102は、マトリクス状に配置された複数の画素PXによって構成されている。また、図1では、カラー表示タイプの有機EL表示装置1を例に示しており、アクティブエリア102は、複数種類の色画素、例えば3原色に対応した赤色画素PXR、緑色画素PXG、及び、青色画素PXBによって構成されている。   As shown in FIG. 1, the organic EL display device 1 includes an array substrate 100 having an active area 102 for displaying an image. The active area 102 is composed of a plurality of pixels PX arranged in a matrix. Further, FIG. 1 shows a color display type organic EL display device 1 as an example, and the active area 102 includes a plurality of types of color pixels, for example, a red pixel PXR, a green pixel PXG, and a blue color corresponding to three primary colors. A pixel PXB is used.

アレイ基板100の少なくともアクティブエリア102は、封止体200によって封止されている。すなわち、これらのアレイ基板100と封止体200とは、アクティブエリア102を囲むように枠状に配置されたシール材300により貼り合せられている。シール材300は、感光性樹脂(例えば紫外線硬化型樹脂)であっても良いし、フリットであっても良い。   At least the active area 102 of the array substrate 100 is sealed with a sealing body 200. That is, the array substrate 100 and the sealing body 200 are bonded together by the sealing material 300 arranged in a frame shape so as to surround the active area 102. The sealing material 300 may be a photosensitive resin (for example, an ultraviolet curable resin) or a frit.

各画素PX(R、G、B)は、画素回路10及びこの画素回路10によって駆動制御される表示素子40を備えている。図1に示した画素回路10は、一例であって、他の構成の画素回路を適用しても良いことは言うまでもない。図1に示した例では、画素回路10は、駆動トランジスタDRT、第1スイッチSW1、第2スイッチSW2、第3スイッチSW3、蓄積容量素子CSなどを備えて構成されている。駆動トランジスタDRTは、表示素子40に供給する電流量を制御する機能を有している。第1スイッチSW1及び第2スイッチSW2は、サンプル・ホールドスイッチとして機能する。第3スイッチ素子SW3は、駆動トランジスタDRTから表示素子40への駆動電流の供給、つまり表示素子40のオン/オフを制御する機能を有している。蓄積容量素子CSは、駆動トランジスタDRTのゲートーソース間の電位を保持する機能を有している。   Each pixel PX (R, G, B) includes a pixel circuit 10 and a display element 40 that is driven and controlled by the pixel circuit 10. The pixel circuit 10 shown in FIG. 1 is an example, and it goes without saying that a pixel circuit having another configuration may be applied. In the example shown in FIG. 1, the pixel circuit 10 includes a drive transistor DRT, a first switch SW1, a second switch SW2, a third switch SW3, a storage capacitor element CS, and the like. The drive transistor DRT has a function of controlling the amount of current supplied to the display element 40. The first switch SW1 and the second switch SW2 function as a sample / hold switch. The third switch element SW3 has a function of controlling driving current supply from the driving transistor DRT to the display element 40, that is, on / off of the display element 40. The storage capacitor element CS has a function of holding the potential between the gate and source of the drive transistor DRT.

駆動トランジスタDRTは、高電位電源線P1と第3スイッチSW3との間に接続されている。表示素子40は、第3スイッチSW3と低電位電源線P2との間に接続されている。第1スイッチSW1及び第2スイッチSW2のゲート電極は、第1ゲート線GL1に接続されている。第3スイッチSW3のゲート電極は、第2ゲート線GL2に接続されている。第1スイッチSW1のソース電極は、映像信号線SLに接続されている。これらの駆動トランジスタDRT、第1スイッチSW1、第2スイッチSW2、及び、第3スイッチ素子SW3は、例えば薄膜トランジスタによって構成され、その半導体層は、ここではポリシリコンによって形成されている。   The drive transistor DRT is connected between the high potential power supply line P1 and the third switch SW3. The display element 40 is connected between the third switch SW3 and the low potential power line P2. The gate electrodes of the first switch SW1 and the second switch SW2 are connected to the first gate line GL1. The gate electrode of the third switch SW3 is connected to the second gate line GL2. The source electrode of the first switch SW1 is connected to the video signal line SL. The drive transistor DRT, the first switch SW1, the second switch SW2, and the third switch element SW3 are configured by, for example, thin film transistors, and the semiconductor layer is formed of polysilicon here.

このような回路構成の場合、第1ゲート線GL1からオン信号が供給されたのに基づいて第1スイッチSW1及び第2スイッチSW2がオンとなり、映像信号線SLを流れる電流量に応じて高電位電源線P1から駆動トランジスタDRTに電流が流れ、また、駆動トランジスタDRTを流れる電流に応じて蓄積容量素子CSが充電される。これにより、駆動トランジスタDRTは、映像信号線SLから供給された電流量と同一の電流量を、高電位電源線P1から表示素子40に供給可能となる。   In the case of such a circuit configuration, the first switch SW1 and the second switch SW2 are turned on based on the ON signal supplied from the first gate line GL1, and the high potential is set according to the amount of current flowing through the video signal line SL. A current flows from the power supply line P1 to the drive transistor DRT, and the storage capacitor element CS is charged according to the current flowing through the drive transistor DRT. As a result, the drive transistor DRT can supply the same amount of current as that supplied from the video signal line SL to the display element 40 from the high potential power supply line P1.

そして、第2ゲート線GL2からオン信号が供給されたのに基づいて第3スイッチSW3がオンとなり、蓄積容量素子CSで保持した容量に応じて、駆動トランジスタDRTは、高電位電源線P1から第3スイッチSW3を介して表示素子40に所定輝度に対応した所定量の電流を供給する。これにより、表示素子40は、所定の輝度に発光する。   Then, the third switch SW3 is turned on based on the ON signal supplied from the second gate line GL2, and the driving transistor DRT is connected to the first potential from the high potential power supply line P1 according to the capacitance held in the storage capacitor element CS. A predetermined amount of current corresponding to a predetermined luminance is supplied to the display element 40 via the three switch SW3. Thereby, the display element 40 emits light with a predetermined luminance.

表示素子40は、自発光性の表示素子である有機EL素子40(R、G、B)によって構成されている。すなわち、赤色画素PXRは、主に赤色波長に対応した光を出射する有機EL素子40Rを備えている。緑色画素PXGは、主に緑色波長に対応した光を出射する有機EL素子40Gを備えている。青色画素PXBは、主に青色波長に対応した光を出射する有機EL素子40Bを備えている。   The display element 40 includes an organic EL element 40 (R, G, B) that is a self-luminous display element. That is, the red pixel PXR includes an organic EL element 40R that mainly emits light corresponding to the red wavelength. The green pixel PXG includes an organic EL element 40G that mainly emits light corresponding to the green wavelength. The blue pixel PXB includes an organic EL element 40B that mainly emits light corresponding to the blue wavelength.

各種有機EL素子40(R、G、B)は、基本的に同一構成であり、例えば、図2に示すように、配線基板120上に配置されている。なお、配線基板120は、ガラス基板やプラスチックシートなどの絶縁性の支持基板101上に、アンダーコート層111、ゲート絶縁膜112、層間絶縁膜113、有機絶縁膜114などの絶縁層を備える他に、各種スイッチSW、駆動トランジスタDRT、蓄積容量素子Cs、各種配線(ゲート線、映像信号線、電源線等)などを備えて構成されたものとする。アンダーコート層111、ゲート絶縁膜112、及び、層間絶縁膜113は、樹脂材料よりも透水性の低い無機系材料、例えば酸化シリコン膜(SiO)や窒化シリコン膜(SiN)などによって形成されている。なお、必要に応じて、層間絶縁膜113と有機絶縁膜114との間に無機系材料(酸化シリコン膜や窒化シリコン膜など)によって形成されたパッシベーション膜を配置しても良い。 The various organic EL elements 40 (R, G, B) have basically the same configuration, and are disposed on the wiring board 120 as shown in FIG. The wiring board 120 includes an insulating layer such as an undercoat layer 111, a gate insulating film 112, an interlayer insulating film 113, and an organic insulating film 114 on an insulating support substrate 101 such as a glass substrate or a plastic sheet. , And various switches SW, driving transistors DRT, storage capacitor elements Cs, various wirings (gate lines, video signal lines, power supply lines, etc.), and the like. The undercoat layer 111, the gate insulating film 112, and the interlayer insulating film 113 are formed of an inorganic material having a lower water permeability than the resin material, such as a silicon oxide film (SiO 2 ) or a silicon nitride film (SiN). Yes. Note that a passivation film formed of an inorganic material (such as a silicon oxide film or a silicon nitride film) may be disposed between the interlayer insulating film 113 and the organic insulating film 114 as necessary.

すなわち、図2に示した例では、アンダーコート層111の上には、スイッチや駆動トランジスタなどのトランジスタ素子(図1に示した回路構成においては第3スイッチSW3)20の半導体層21が配置されている。半導体層21は、ゲート絶縁膜112によって覆われている。ゲート絶縁膜112の上には、トランジスタ素子20のゲート電極20Gなどが配置されている。ゲート電極20Gは、層間絶縁膜113によって覆われている。層間絶縁膜113の上には、トランジスタ素子20のソース電極20S及びドレイン電極20Dなどが配置されている。これらのソース電極20S及びドレイン電極20Dは、ゲート絶縁膜112及び層間絶縁膜113を半導体層21まで貫通するコンタクトホールを介して半導体層21にそれぞれコンタクトしている。   That is, in the example shown in FIG. 2, the semiconductor layer 21 of the transistor element (the third switch SW3 in the circuit configuration shown in FIG. 1) 20 is disposed on the undercoat layer 111. ing. The semiconductor layer 21 is covered with the gate insulating film 112. On the gate insulating film 112, the gate electrode 20G of the transistor element 20 and the like are disposed. The gate electrode 20G is covered with an interlayer insulating film 113. On the interlayer insulating film 113, the source electrode 20S and the drain electrode 20D of the transistor element 20 are disposed. The source electrode 20S and the drain electrode 20D are in contact with the semiconductor layer 21 through contact holes that penetrate the gate insulating film 112 and the interlayer insulating film 113 to the semiconductor layer 21, respectively.

これらのソース電極20S及びドレイン電極20Dは、有機絶縁膜114によって覆われている。このような有機絶縁膜114は、下層の凹凸の影響を緩和しその表面を平坦化する目的で、樹脂材料をコーティングするなどの手法により形成されている。   The source electrode 20S and the drain electrode 20D are covered with an organic insulating film 114. Such an organic insulating film 114 is formed by a technique such as coating with a resin material in order to alleviate the influence of the unevenness of the lower layer and flatten the surface.

有機EL素子40は、有機絶縁膜114の上に配置されている。この有機EL素子40は、第1電極60と第2電極64との間に有機活性層62を保持した構成であり、以下に詳細な構造について説明する。   The organic EL element 40 is disposed on the organic insulating film 114. The organic EL element 40 has a configuration in which an organic active layer 62 is held between a first electrode 60 and a second electrode 64, and a detailed structure will be described below.

すなわち、第1電極60は、有機絶縁膜114の上において色画素PX毎に独立島状に配置され、陽極として機能する。この第1電極60は、有機絶縁膜114をドレイン電極20Dまで貫通するコンタクトホールCHを介して、ドレイン電極20Dにコンタクトしている。このような第1電極60は、インジウム・ティン・オキサイド(ITO)などの光透過性を有する導電材料によって形成された透過層60Tと、アルミニウム(Al)などの光反射性を有する導電材料によって形成された反射層60Rとを積層した積層体によって構成されている。なお、第1電極60は、透過層単層また反射層単層で構成しても良い。   That is, the first electrode 60 is disposed on the organic insulating film 114 in an independent island shape for each color pixel PX, and functions as an anode. The first electrode 60 is in contact with the drain electrode 20D through a contact hole CH that penetrates the organic insulating film 114 to the drain electrode 20D. The first electrode 60 is formed of a transmissive layer 60T formed of a light-transmitting conductive material such as indium tin oxide (ITO) and a light-reflective conductive material such as aluminum (Al). It is comprised by the laminated body which laminated | stacked the reflecting layer 60R. The first electrode 60 may be composed of a single transmission layer or a single reflection layer.

有機活性層62は、第1電極60上に配置され、少なくとも発光層を含んでいる。この有機活性層62は、発光層以外の機能層を含むことができ、例えば、ホール注入層、ホール輸送層、ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層、バッファ層などの機能層を含むことができる。このような有機活性層62は、複数の機能層を複合した単層で構成されても良いし、各機能層を積層した多層構造であっても良い。有機活性層62においては、発光層が有機系材料であればよく、発光層以外の層は無機系材料でも有機系材料でも構わない。有機活性層62において、発光層以外の機能層は共通層であってもよい。発光層は、赤、緑、または青に発光する発光機能を有した有機化合物によって形成される。   The organic active layer 62 is disposed on the first electrode 60 and includes at least a light emitting layer. The organic active layer 62 can include functional layers other than the light emitting layer, and includes, for example, functional layers such as a hole injection layer, a hole transport layer, a blocking layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and a buffer layer. it can. Such an organic active layer 62 may be composed of a single layer in which a plurality of functional layers are combined, or may have a multilayer structure in which the functional layers are laminated. In the organic active layer 62, the light emitting layer may be an organic material, and layers other than the light emitting layer may be an inorganic material or an organic material. In the organic active layer 62, the functional layer other than the light emitting layer may be a common layer. The light emitting layer is formed of an organic compound having a light emitting function that emits red, green, or blue light.

また、有機活性層62は、高分子系材料によって形成された薄膜を含んでいても良い。このような薄膜は、インクジェット法などの選択塗布法により成膜可能である。また、有機活性層62は、低分子系材料によって形成された薄膜を含んでいても良い。このような薄膜は、マスク蒸着法などの手法により成膜可能である。   The organic active layer 62 may include a thin film formed of a polymer material. Such a thin film can be formed by a selective coating method such as an inkjet method. The organic active layer 62 may include a thin film formed of a low molecular material. Such a thin film can be formed by a technique such as mask vapor deposition.

第2電極64は、複数の色画素PXに共通であって、各色画素PXの有機活性層62の上に配置され、陰極として機能する。この第2電極64は、半透過層を含んでいてもよい。すなわち、第2電極64は、ITOなどの光透過性を有する導電材料を用いて形成された透過層と、透過層と有機活性層62との間に配置され銀(Ag)とマグネシウム(Mg)との混合物などによって形成された半透過層との2層構造としても良いし、半透過層単層の電極として構成してもよい。なお、第2電極64は、透過層単層で構成してもよいことは言うまでもない。   The second electrode 64 is common to the plurality of color pixels PX, is disposed on the organic active layer 62 of each color pixel PX, and functions as a cathode. The second electrode 64 may include a semi-transmissive layer. That is, the second electrode 64 is disposed between a transmissive layer formed using a light-transmitting conductive material such as ITO, and between the transmissive layer and the organic active layer 62. Silver (Ag) and magnesium (Mg) It may be a two-layer structure with a semi-transparent layer formed of a mixture thereof or a semi-transparent layer electrode. Needless to say, the second electrode 64 may be formed of a single transmissive layer.

また、アレイ基板100は、アクティブエリア102において、少なくとも隣接する色画素PX(R、G、B)間を分離する隔壁70を備えている。この隔壁70は、有機絶縁膜114の上において、各第1電極60の周縁を覆うように配置され、アクティブエリア102において格子状またはストライプ状に形成されている。このような隔壁70は、例えば樹脂材料をパターニングすることによって形成される。この隔壁70は、第2電極64によって覆われている。   In addition, the array substrate 100 includes a partition wall 70 that separates at least adjacent color pixels PX (R, G, B) in the active area 102. The partition wall 70 is disposed on the organic insulating film 114 so as to cover the periphery of each first electrode 60, and is formed in a lattice shape or a stripe shape in the active area 102. Such a partition 70 is formed by patterning a resin material, for example. The partition wall 70 is covered with the second electrode 64.

以下に、第1実施形態について説明する。   The first embodiment will be described below.

図3及び図4に示すように、第1実施形態によれば、有機絶縁膜114は、島状の画素中央部114Cと、この画素中央部114Cを囲む画素周辺部114Sとに分割されている。すなわち、有機絶縁膜114には、色画素毎にループ状の溝Gが形成されている。この溝Gは、有機絶縁膜114を貫通し、下層の絶縁膜すなわち層間絶縁膜113まで到達している。このような溝Gは、コンタクトホールCHと同一工程で形成可能であり、この溝Gを形成するための別途の工程を追加する必要はない。   As shown in FIGS. 3 and 4, according to the first embodiment, the organic insulating film 114 is divided into an island-shaped pixel central portion 114C and a pixel peripheral portion 114S surrounding the pixel central portion 114C. . That is, in the organic insulating film 114, a loop-shaped groove G is formed for each color pixel. The groove G penetrates the organic insulating film 114 and reaches the lower insulating film, that is, the interlayer insulating film 113. Such a groove G can be formed in the same process as the contact hole CH, and it is not necessary to add a separate process for forming the groove G.

このような溝Gは、各色画素において、有機絶縁膜114を画素中央部114Cと画素周辺部114Sとに2分割するものである。つまり、画素中央部114Cは溝Gの内側に形成され、また、画素周辺部114Sは溝Gの外側に形成される。   Such a groove G divides the organic insulating film 114 into a pixel central portion 114C and a pixel peripheral portion 114S in each color pixel. That is, the pixel central portion 114C is formed inside the groove G, and the pixel peripheral portion 114S is formed outside the groove G.

第1電極60は、画素中央部114Cから画素周辺部114Sまで延在し、しかも、溝Gを覆うように配置されており、画素中央部114Cと画素周辺部114Sとで電気的に導通している。このような第1電極60は、画素周辺部114Sに形成されたコンタクトホールCHを介してトランジスタ素子20のドレイン電極20Dに電気的に接続されている。   The first electrode 60 extends from the pixel central portion 114C to the pixel peripheral portion 114S and is disposed so as to cover the groove G, and is electrically connected between the pixel central portion 114C and the pixel peripheral portion 114S. Yes. Such a first electrode 60 is electrically connected to the drain electrode 20D of the transistor element 20 through a contact hole CH formed in the pixel peripheral portion 114S.

隔壁70は、画素周辺部114Sの上において、第1電極60の周縁を覆うように配置されている。また、画素周辺部114Sは、色画素毎に島状に配置された第1電極60の間から露出する。このため、隔壁70は、画素周辺部114Sと部分的に繋がっている。しかしながら、溝Gによって画素周辺部114Sと画素中央部114Cとが分割されているため、隔壁70と画素中央部114Cとは分断されている。   The partition wall 70 is disposed on the pixel peripheral portion 114 </ b> S so as to cover the periphery of the first electrode 60. The pixel peripheral portion 114S is exposed from between the first electrodes 60 arranged in an island shape for each color pixel. For this reason, the partition wall 70 is partially connected to the pixel peripheral portion 114S. However, since the pixel peripheral portion 114S and the pixel central portion 114C are divided by the groove G, the partition wall 70 and the pixel central portion 114C are separated.

このような第1実施形態によれば、たとえ第2電極64のピンホールを介して隔壁70から水分が浸入したとしても、有機絶縁膜114の画素周辺部114Sに水分が拡散することはあっても、主に発光に寄与する画素中央部114Cへの水分の拡散を抑制することが可能となる。これにより、一部の色画素PXの急速な劣化を抑制することができ、発光輝度のムラを抑制できるため、表示品位を改善することが可能となるとともに、長寿命化が可能となる。   According to the first embodiment, even if moisture enters from the partition wall 70 through the pinhole of the second electrode 64, the moisture does not diffuse into the pixel peripheral portion 114S of the organic insulating film 114. In addition, it becomes possible to suppress the diffusion of moisture to the pixel central portion 114C which mainly contributes to light emission. As a result, rapid deterioration of some of the color pixels PX can be suppressed, and unevenness in light emission luminance can be suppressed, so that display quality can be improved and life can be extended.

また、有機絶縁膜114は、透水性の低い無機系材料によって形成された層間絶縁膜113の上に配置されている。このため、有機絶縁膜114を貫通する溝Gを形成するのみで有機絶縁膜114の下地を介した画素周辺部114Sから画素中央部114Cへの水分の拡散も抑制することが可能となる。これにより、色画素PXの劣化をさらに抑制することが可能となる。   The organic insulating film 114 is disposed on the interlayer insulating film 113 formed of an inorganic material with low water permeability. For this reason, it is possible to suppress diffusion of moisture from the pixel peripheral portion 114S to the pixel central portion 114C via the base of the organic insulating film 114 only by forming the groove G penetrating the organic insulating film 114. Thereby, it is possible to further suppress the deterioration of the color pixel PX.

次に、第2実施形態について説明する。   Next, a second embodiment will be described.

図5及び図6に示すように、第2実施形態によれば、有機絶縁膜114は、島状の画素中央部114Cと、この画素中央部114Cを囲む画素周辺部114Sとに分割されている。すなわち、この第2実施形態においては、有機絶縁膜114には、色画素毎に複数の縦溝GY及び複数の横溝GXが形成されている。ここに示した例では、2本の縦溝GY1及びGY2が形成されているとともに、これらの縦溝に交差するように2本の横溝GX1及びGX2が形成されている。つまり、有機絶縁膜114には、色画素毎にシャープ記号(♯)状の溝が形成されている。   As shown in FIGS. 5 and 6, according to the second embodiment, the organic insulating film 114 is divided into an island-shaped pixel central portion 114C and a pixel peripheral portion 114S surrounding the pixel central portion 114C. . That is, in the second embodiment, the organic insulating film 114 is formed with a plurality of vertical grooves GY and a plurality of horizontal grooves GX for each color pixel. In the example shown here, two vertical grooves GY1 and GY2 are formed, and two horizontal grooves GX1 and GX2 are formed so as to intersect these vertical grooves. That is, a sharp symbol (#)-shaped groove is formed in the organic insulating film 114 for each color pixel.

これらの縦溝GY及び横溝GXは、有機絶縁膜114を貫通し、下層の絶縁膜すなわち層間絶縁膜113まで到達している。このような縦溝GY及び横溝GXは、コンタクトホールCHと同一工程で形成可能である。   These vertical grooves GY and horizontal grooves GX penetrate the organic insulating film 114 and reach the lower insulating film, that is, the interlayer insulating film 113. Such vertical grooves GY and horizontal grooves GX can be formed in the same process as the contact holes CH.

このような縦溝GY及び横溝GXは、各色画素において、有機絶縁膜114を3×3の9領域に分割するものである。つまり、図5に示した例において、図の中央の色画素PXに着目すると、有機絶縁膜114は、9領域A1〜A9に分割されている。画素中央部114Cは中央の領域A5に相当し、2本の縦溝GY1及びGY2と、2本の横溝GX1及びGX2とで囲まれた内側に形成される。また、画素周辺部114Sは、周辺の8領域A1〜A4及びA6〜A9に相当する。   Such vertical grooves GY and horizontal grooves GX divide the organic insulating film 114 into nine 3 × 3 regions in each color pixel. That is, in the example shown in FIG. 5, when attention is paid to the color pixel PX in the center of the drawing, the organic insulating film 114 is divided into nine regions A1 to A9. The pixel center portion 114C corresponds to the center region A5 and is formed on the inner side surrounded by the two vertical grooves GY1 and GY2 and the two horizontal grooves GX1 and GX2. The pixel peripheral portion 114S corresponds to the peripheral eight regions A1 to A4 and A6 to A9.

第1電極60は、画素中央部114Cから画素周辺部114Sまで延在し、しかも、溝Gを覆うように配置されており、画素中央部114Cと画素周辺部114Sとで電気的に導通している。このような第1電極60は、画素周辺部114S、すなわち領域A2に形成されたコンタクトホールCHを介してトランジスタ素子20のドレイン電極20Dに電気的に接続されている。   The first electrode 60 extends from the pixel central portion 114C to the pixel peripheral portion 114S and is disposed so as to cover the groove G, and is electrically connected between the pixel central portion 114C and the pixel peripheral portion 114S. Yes. Such a first electrode 60 is electrically connected to the drain electrode 20D of the transistor element 20 through a contact hole CH formed in the pixel peripheral portion 114S, that is, the region A2.

隔壁70は、画素周辺部114Sの上において、第1電極60の周縁を覆うように配置されている。また、画素周辺部114Sは、色画素毎に島状に配置された第1電極60の間から露出する。このため、隔壁70は、画素周辺部114Sと部分的に繋がっている。しかしながら、縦溝GY及び横溝GXによって画素周辺部114Sと画素中央部114Cとが分割されているため、隔壁70と画素中央部114Cとは分断されている。また、これらの縦溝GY及び横溝GXによって、画素周辺部114Sも複数の領域に分割されている。   The partition wall 70 is disposed on the pixel peripheral portion 114 </ b> S so as to cover the periphery of the first electrode 60. The pixel peripheral portion 114S is exposed from between the first electrodes 60 arranged in an island shape for each color pixel. For this reason, the partition wall 70 is partially connected to the pixel peripheral portion 114S. However, since the pixel peripheral portion 114S and the pixel central portion 114C are divided by the vertical groove GY and the horizontal groove GX, the partition wall 70 and the pixel central portion 114C are separated. Further, the pixel peripheral portion 114S is also divided into a plurality of regions by the vertical grooves GY and the horizontal grooves GX.

このような第2実施形態によれば、画素中央部114Cと画素周辺部114Sとが分割されているため、たとえ第2電極64のピンホールを介して隔壁70から水分が浸入したとしても、有機絶縁膜114の画素周辺部114Sから画素中央部114Cへの水分の拡散を抑制することが可能となる。また、画素周辺部114Sが複数の領域に分割されているため、隔壁70から浸入した水分の画素周辺部114Sでの拡散も抑制することが可能となる。   According to the second embodiment, since the pixel central portion 114C and the pixel peripheral portion 114S are divided, even if moisture enters from the partition wall 70 through the pinhole of the second electrode 64, the organic portion It becomes possible to suppress the diffusion of moisture from the pixel peripheral portion 114S of the insulating film 114 to the pixel central portion 114C. In addition, since the pixel peripheral portion 114S is divided into a plurality of regions, it is possible to suppress diffusion of moisture that has entered from the partition wall 70 in the pixel peripheral portion 114S.

これにより、上述した第1実施形態よりもさらに一部の色画素PXの急速な劣化を抑制することができる。   Thereby, it is possible to suppress the rapid deterioration of some of the color pixels PX as compared with the first embodiment described above.

次に、この実施の形態に係る有機EL表示装置について効果を検証した。   Next, the effect of the organic EL display device according to this embodiment was verified.

まず、アクティブエリア102の対角寸法が3.5型となるアレイ基板を24枚分形成可能な寸法(400mm×500mm)のガラス基板(支持基板)を用意し、3種類(A,B,C)のサンプルを準備した。   First, a glass substrate (support substrate) having a size (400 mm × 500 mm) capable of forming 24 array substrates having a diagonal size of 3.5 inches in the active area 102 is prepared, and three types (A, B, C) are prepared. ) Sample was prepared.

サンプルAは、溝が形成されていない全面ベタ形状の有機絶縁膜114を備えた構成である。第1電極60は、有機絶縁膜114の上に配置された反射層60R及び反射層60Rの上に積層された透過層60Tを備え、有機絶縁膜114に形成されたコンタクトホールを介してトランジスタ素子20と電気的に接続されている。つまり、有機絶縁膜114は、隣接する色画素の第1電極60の間から露出しており、この露出部分で隔壁70と繋がっている。隔壁70は、有機絶縁膜114の上において格子状に形成されている。   The sample A has a configuration including a solid organic insulating film 114 having a full surface without grooves. The first electrode 60 includes a reflective layer 60R disposed on the organic insulating film 114 and a transmissive layer 60T stacked on the reflective layer 60R, and a transistor element through a contact hole formed in the organic insulating film 114. 20 is electrically connected. That is, the organic insulating film 114 is exposed from between the first electrodes 60 of the adjacent color pixels, and is connected to the partition wall 70 at the exposed portion. The partition walls 70 are formed in a lattice shape on the organic insulating film 114.

サンプルBは、第1実施形態に相当し、図3に示したような溝Gによって画素中央部114Cと画素周辺部114Sとに分割された有機絶縁膜114を備えた構成である。第1電極60は、サンプルAと同様に反射層60R及び透過層60Tを備え、画素中央部114C及び画素周辺部114Sに延在し、画素周辺部114Sに形成されたコンタクトホールを介してトランジスタ素子20と接続されている。隔壁70は、画素周辺部114Sの上において格子状に形成されている。   Sample B corresponds to the first embodiment, and includes an organic insulating film 114 divided into a pixel central portion 114C and a pixel peripheral portion 114S by a groove G as shown in FIG. Like the sample A, the first electrode 60 includes a reflective layer 60R and a transmissive layer 60T, extends to the pixel central portion 114C and the pixel peripheral portion 114S, and is a transistor element through a contact hole formed in the pixel peripheral portion 114S. 20 is connected. The partition wall 70 is formed in a lattice shape on the pixel peripheral portion 114S.

サンプルCは、第2実施形態に相当し、図5に示したような縦溝GY及び横溝GXによって9分割された有機絶縁膜114を備えた構成である。第1電極60は、サンプルAと同様に反射層60R及び透過層60Tを備え、画素中央部114C及び画素周辺部114Sに延在し、画素周辺部114Sに形成されたコンタクトホールを介してトランジスタ素子20と接続されている。隔壁70は、画素周辺部114Sの上において格子状に形成されている。   The sample C corresponds to the second embodiment, and has a configuration including the organic insulating film 114 divided into nine by the vertical groove GY and the horizontal groove GX as shown in FIG. Like the sample A, the first electrode 60 includes a reflective layer 60R and a transmissive layer 60T, extends to the pixel central portion 114C and the pixel peripheral portion 114S, and is a transistor element through a contact hole formed in the pixel peripheral portion 114S. 20 is connected. The partition wall 70 is formed in a lattice shape on the pixel peripheral portion 114S.

上述した3種類のサンプルについて、第1電極60及び隔壁70を形成したそれぞれの基板を抵抗加熱方式の有機EL成膜装置にセットし、有機活性層62として、正孔輸送層として機能するα−NPDを200nmの膜厚に成膜した後、発光層兼電子輸送層として機能するAlqを50nmの膜厚に成膜し、さらに、電子注入層兼ダメージバッファ層としてMgAgを2nmの膜厚に成膜した。そして、これらの有機活性層を成膜済み基板に、プラズマコーティング法を用いて第2電極64として膜厚100nmのITOを成膜した。 With respect to the three types of samples described above, each substrate on which the first electrode 60 and the partition wall 70 are formed is set in a resistance heating type organic EL film forming apparatus, and the organic active layer 62 serves as a hole transport layer. After depositing NPD to a thickness of 200 nm, Alq 3 functioning as a light emitting layer / electron transport layer is deposited to a thickness of 50 nm, and MgAg is deposited to a thickness of 2 nm as an electron injection layer / damage buffer layer. A film was formed. Then, ITO having a film thickness of 100 nm was formed as the second electrode 64 on the substrate on which these organic active layers had been formed, using the plasma coating method.

各サンプルのアクティブエリア102は、封止体200によって封止した。すなわち、封止体200の上に、紫外線硬化型の樹脂材料を額縁状に塗布した後に、各サンプルのアレイ基板に貼りあわせ、所定条件の紫外線照射によって樹脂材料を硬化させた。これにより、気密空間内に有機EL素子が配置される。各サンプルの基板対を割断した後、周辺回路を実装して、各サンプルについて24個の有機EL表示装置を作成した。なお、各サンプルについて、短時間で顕著な効果を確認するために、通常必要な乾燥剤を気密空間の内部に設置しなかった。   The active area 102 of each sample was sealed with a sealing body 200. That is, an ultraviolet curable resin material was applied in a frame shape on the sealing body 200, and then bonded to the array substrate of each sample, and the resin material was cured by ultraviolet irradiation under a predetermined condition. Thereby, an organic EL element is arrange | positioned in airtight space. After cleaving the substrate pair of each sample, peripheral circuits were mounted, and 24 organic EL display devices were created for each sample. In addition, in order to confirm a remarkable effect in a short time for each sample, a normally necessary desiccant was not installed in the airtight space.

これらの3×24台の有機EL表示装置を高温高湿環境(85℃×85%RH)の中に放置し、所定時間経過後に表示確認を行ってダークスポット等の水分による劣化の発生状況を目視にて観察した。この結果を図7に示す。   These 3x24 organic EL display devices are left in a high-temperature, high-humidity environment (85 ° C x 85% RH), and the display is checked after a lapse of a predetermined time to show the state of deterioration due to moisture such as dark spots. It was observed visually. The result is shown in FIG.

図7に示した結果から、有機絶縁膜と隔壁とが繋がった構成のサンプルAについては、他のサンプルよりも先に(約20時間経過後に)ダークスポットの発生が確認され、水分の影響による劣化が進行しやすいことが確認された。一方、有機絶縁膜を画素中央部と画素周辺部とに分割した構成のサンプルB及びCについては、ダークスポット等の水分の影響による劣化の発生を遅らせることが可能であることが確認できた。サンプルBについては約30時間後にダークスポットの発生が確認され、サンプルCについては約35時間後にダークスポットの発生が確認された。特に、サンプルCのように、画素周辺部についても複数の領域に分割した構成では、よりいっそう水分の拡散が抑制され、有機EL素子の劣化の進行を抑制できることが確認できた。なお、サンプルB及びCについて、顕微鏡で観察したところ、画素周辺部では一部にダークスポットが発生していたものの画素中央部での発光輝度が充分であるために、目視評価には影響を与えない事が判明した
なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
From the results shown in FIG. 7, in the sample A having the configuration in which the organic insulating film and the partition wall are connected, the occurrence of dark spots was confirmed before the other samples (after about 20 hours), and the influence of moisture It was confirmed that deterioration is likely to proceed. On the other hand, for samples B and C having a configuration in which the organic insulating film is divided into the pixel central portion and the pixel peripheral portion, it was confirmed that the occurrence of deterioration due to the influence of moisture such as dark spots can be delayed. For sample B, dark spots were confirmed after about 30 hours, and for sample C, dark spots were confirmed after about 35 hours. In particular, it was confirmed that in the configuration in which the pixel peripheral portion is divided into a plurality of regions as in Sample C, the diffusion of moisture is further suppressed and the progress of the deterioration of the organic EL element can be suppressed. Samples B and C were observed with a microscope, and although a dark spot was partially generated in the periphery of the pixel, the light emission luminance at the center of the pixel was sufficient, which affected visual evaluation. It has been found that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the scope of the invention in the stage of implementation. Further, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, you may combine suitably the component covering different embodiment.

例えば、隔壁70は、1画素につき1辺に少なくとも1箇所の分断部を有していてもよい。すなわち、隔壁70は、格子状またはストライプ状に形成されているため、隔壁70に浸入した水分は、隔壁70が延在する方向に沿って拡散しやすい。そこで、隔壁70の一部を分断することにより、隔壁70内での水分の拡散を抑制することが可能となる。   For example, the partition wall 70 may have at least one dividing portion on one side per pixel. That is, since the partition wall 70 is formed in a lattice shape or a stripe shape, moisture that has entered the partition wall 70 is likely to diffuse along the direction in which the partition wall 70 extends. Therefore, by dividing a part of the partition wall 70, it is possible to suppress the diffusion of moisture in the partition wall 70.

図1は、この発明の一実施の形態に係る有機EL表示装置の構成を概略的に示す図である。FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of an organic EL display device according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1に示した有機EL表示装置を切断したときの構造を概略的に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a structure when the organic EL display device shown in FIG. 1 is cut. 図3は、第1実施形態に係る有機EL表示装置のアレイ基板、特に有機絶縁膜の形状を概略的に示す平面図である。FIG. 3 is a plan view schematically showing the shape of the array substrate of the organic EL display device according to the first embodiment, particularly the shape of the organic insulating film. 図4は、図3に示した第1実施形態に係るアレイ基板をIV−IVに沿って切断したときの構造を概略的に示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a structure when the array substrate according to the first embodiment shown in FIG. 3 is cut along IV-IV. 図5は、第2実施形態に係る有機EL表示装置のアレイ基板、特に有機絶縁膜の形状を概略的に示す平面図である。FIG. 5 is a plan view schematically showing the shape of the array substrate, in particular, the organic insulating film, of the organic EL display device according to the second embodiment. 図6は、図5に示した第2実施形態に係るアレイ基板をVI−VIに沿って切断したときの構造を概略的に示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a structure when the array substrate according to the second embodiment shown in FIG. 5 is cut along VI-VI. 図7は、有機絶縁膜を画素中央部と画素周辺部とに分割したことによる効果の検証結果を示す図である。FIG. 7 is a diagram illustrating a verification result of the effect obtained by dividing the organic insulating film into the pixel central portion and the pixel peripheral portion.

符号の説明Explanation of symbols

1…有機EL表示装置 PX(R、G、B)…色画素
10…画素回路 DRT…駆動トランジスタ SW1…第1スイッチ SW2…第2スイッチ SW3…第3スイッチ Cs…蓄積容量素子
40…有機EL素子 60…第1電極 62…有機活性層 64…第2電極
70…隔壁
100…アレイ基板 102…アクティブエリア 104…周辺エリア
114…有機絶縁膜 G…溝 GY…縦溝 GX…横溝
120…配線基板
200…封止体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL display device PX (R, G, B) ... Color pixel 10 ... Pixel circuit DRT ... Drive transistor SW1 ... First switch SW2 ... Second switch SW3 ... Third switch Cs ... Storage capacitor element 40 ... Organic EL element DESCRIPTION OF SYMBOLS 60 ... 1st electrode 62 ... Organic active layer 64 ... 2nd electrode 70 ... Partition 100 ... Array substrate 102 ... Active area 104 ... Peripheral area 114 ... Organic insulating film G ... Groove GY ... Vertical groove GX ... Horizontal groove 120 ... Wiring board 200 ... sealed body

Claims (4)

複数の画素によって構成されたアクティブエリアを備えた表示装置であって、
島状の画素中央部と、この画素中央部を囲む画素周辺部とに分割された有機絶縁膜と、
前記有機絶縁膜上において画素毎に配置され、前記画素中央部から前記画素周辺部まで延在する第1電極と、
前記有機絶縁膜の画素周辺部上において、前記第1電極の周縁を覆うように配置され、各画素を分離する隔壁と、
前記第1電極上に配置された有機活性層と、
前記有機活性層上に配置され、複数の画素に共通の第2電極と、
を備えたことを特徴とする表示装置。
A display device having an active area composed of a plurality of pixels,
An organic insulating film divided into an island-shaped pixel central portion and a pixel peripheral portion surrounding the pixel central portion;
A first electrode disposed on the organic insulating film for each pixel and extending from the pixel central portion to the pixel peripheral portion;
A partition wall is disposed on the periphery of the pixel of the organic insulating film so as to cover the periphery of the first electrode, and separates each pixel.
An organic active layer disposed on the first electrode;
A second electrode disposed on the organic active layer and common to a plurality of pixels;
A display device comprising:
前記有機絶縁膜には、画素毎にループ状の溝が形成され、
前記画素中央部は、溝の内側に形成されたことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
In the organic insulating film, a loop-shaped groove is formed for each pixel,
The display device according to claim 1, wherein the pixel central portion is formed inside the groove.
前記有機絶縁膜には、画素毎に複数の縦溝と複数の横溝とが形成され、
前記画素中央部は、複数の縦溝及び横溝で囲まれた内側に形成されたことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
In the organic insulating film, a plurality of vertical grooves and a plurality of horizontal grooves are formed for each pixel,
The display device according to claim 1, wherein the central portion of the pixel is formed inside a plurality of vertical grooves and horizontal grooves.
前記有機絶縁膜は、無機系材料によって形成された絶縁膜上に配置されたことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the organic insulating film is disposed on an insulating film formed of an inorganic material.
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