JP2009054218A5 - - Google Patents

Claims (18)

1. 第１の基板厚を有する第１の光情報記録媒体に第１の開口数でレーザ光を集光し、前記第１の基板厚よりも厚い第２の基板厚を有する第２の光情報記録媒体に前記第１の開口数より小さな第２の開口数で前記レーザ光を集光する対物光学素子であって、
   屈折レンズ部と、
   収差補償素子部とを有し、
   前記屈折レンズ部は、前記第２の開口数の範囲では、前記第１の基板厚と前記第２の基板厚の間の特定の基板厚に対してＲＭＳ波面収差量が極小となるように設計され、前記第２の開口数の外側かつ前記第１の開口数の内側の環状領域では、前記第１の基板厚に対してＲＭＳ波面収差が０．０５λ以下であり、
   前記収差補償素子部は、第１の透明基板と第２の透明基板で液晶を挟んだ構造を有し、少なくとも前記第１の透明基板は透明電極を備えており、前記透明電極は、前記屈折レンズ部により前記第１の光情報記録媒体及び前記第２の光情報記録媒体に集光するときのＲＭＳ波面収差を、前記第２の開口数の範囲で電圧印加によっていずれも１／４以下に補償できる電極配置を有する
   ことを特徴とする対物光学素子。
2. 請求項１記載の対物光学素子において、前記第１の透明基板に形成された透明電極は前記第２の開口数に対応する領域に形成された同心円状のパターン電極であることを特徴とする対物光学素子。
3. 請求項１記載の対物光学素子において、前記第１の光情報記録媒体に前記レーザ光を集光するときと前記第２の光情報記録媒体に前記レーザ光を集光するときとで前記透明電極に印加する電圧の極性が逆であることを特徴とする対物光学素子。
4. 請求項１記載の対物光学素子において、前記特定の基板厚ｄは、８５μｍ＜ｄ＜６００μｍであることを特徴とする対物光学素子。
5. 請求項１記載の対物光学素子において、前記第１の光情報記録媒体は多層記録媒体であり、前記収差補償素子部の前記第２の透明基板は透明電極を備え、当該透明電極は、前記第１の光情報記録媒体の基本記録層以外の層に前記レーザ光を集光するときのＲＭＳ波面収差を、前記第１の開口数の範囲で電圧印加によって１／４以下に補償できる電極配置を有することを特徴とする対物光学素子。
6. 請求項５記載の対物光学素子において、前記第１の透明基板に形成された透明電極は前記第２の開口数に対応する領域に形成された同心円状のパターン電極であり、前記第２の透明基板に形成された透明電極は前記第１の開口数に対応する領域に形成された同心円状のパターン電極であることを特徴とする対物光学素子。
7. 請求項５記載の対物光学素子において、前記第１の光情報記録媒体の基本記録層に前記レーザ光を集光するときは前記第１の透明基板に形成された透明電極に電圧を印加し、前記第１の光情報記録媒体の基本記録層以外の層に前記レーザ光を集光するときは前記第１の透明基板に形成された透明電極と前記第２の透明基板に形成された透明電極に電圧を印加し、前記第２の光情報記録媒体に前記レーザ光を集光するときは前記第１の透明基板に形成された透明電極に電圧を印加することを特徴とする対物光学素子。
8. 請求項１記載の対物光学素子において、前記第１の光情報記録媒体は多層記録媒体であり、前記収差補償素子部の前記第１の透明基板に形成された透明電極は、前記第２の開口数に対応する領域に、前記第１の光情報記録媒体の各記録層に前記レーザ光を集光するときのＲＭＳ波面収差及び前記第２の光情報記録媒体に前記レーザ光を集光するときのＲＭＳ波面収差を電圧印加によって１／４以下に補償できる電極配置を有し、前記第２の開口数の外側かつ前記第１の開口数の内側に対応する環状領域に、前記第１の光情報記録媒体の各記録層に前記レーザ光を集光するときのＲＭＳ波面収差を電圧印加によって１／４以下に補償できる電極配置を有することを特徴とする対物光学素子。
9. 請求項８記載の対物光学素子において、前記第１の光情報記録媒体の基本記録層に前記レーザ光を集光するときは前記第２の開口数に対応する領域に形成された透明電極に電圧を印加し、前記第１の光情報記録媒体の基本記録層以外の層に前記レーザ光を集光するときは前記第２の開口数に対応する領域に形成された透明電極と前記環状領域に形成された透明電極に電圧を印加し、前記第２の光情報記録媒体に前記レーザ光を集光するときは前記第２の開口数に対応する領域に形成された透明電極に電圧を印加することを特徴とする対物光学素子。
10. レーザ光を出射するレーザ光源と、前記レーザ光を集光し球面収差補正を行う対物光学素子と、前記対物光学素子での球面収差補正量を制御する制御部とを備え、前記対物光学素子により第１の基板厚を有する第１の光情報記録媒体に第１の開口数でレーザ光を集光し、前記第１の基板厚よりも厚い第２の基板厚を有する第２の光情報記録媒体に前記第１の開口数より小さな第２の開口数で前記レーザ光を集光して記録再生を行う光ヘッド装置において、
    前記対物光学素子は、屈折レンズ部と収差補償素子部とを有し、前記屈折レンズ部は、前記第２の開口数の範囲では、前記第１の基板厚と前記第２の基板厚の間の特定の基板厚に対してＲＭＳ波面収差量が極小となるように設計され、前記第２の開口数の外側でかつ前記第１の開口数の内側の環状領域では、前記第１の基板厚に対してＲＭＳ波面収差が０．０５λ以下であり、前記収差補償素子部は第１の透明基板と第２の透明基板で液晶を挟んだ構造を有し、少なくとも前記第１の透明基板は透明電極を備えており、前記透明電極は、前記屈折レンズ部により前記第１の光情報記録媒体及び前記第２の光情報記録媒体に集光するときのＲＭＳ波面収差を、前記第２の開口数の範囲で電圧印加によっていずれも１／４以下に補償できる電極配置を有することを特徴とする光ヘッド装置。
11. 請求項１０記載の光ヘッド装置において、前記第１の透明基板に形成された透明電極は前記第２の開口数に対応する領域に形成された同心円状のパターン電極であることを特徴とする光ヘッド装置。
12. 請求項１０記載の光ヘッド装置において、前記第１の光情報記録媒体に前記レーザ光を集光するときと前記第２の光情報記録媒体に前記レーザ光を集光するときとで前記透明電極に印加する電圧の極性が逆であることを特徴とする光ヘッド装置。
13. 請求項１０記載の光ヘッド装置において、前記特定の基板厚ｄは、８５μｍ＜ｄ＜６００μｍであることを特徴とする光ヘッド装置。
14. 請求項１０記載の光ヘッド装置において、前記第１の光情報記録媒体は多層記録媒体であり、前記収差補償素子部の前記第２の透明基板は透明電極を備え、当該透明電極は、前記第１の光情報記録媒体の基本記録層以外の層に前記レーザ光を集光するときのＲＭＳ波面収差を、前記第１の開口数の範囲で電圧印加によって１／４以下に補償できる電極配置を有することを特徴とする光ヘッド装置。
15. 請求項１４記載の光ヘッド装置において、前記第１の透明基板に形成された透明電極は前記第２の開口数に対応する領域に形成された同心円状のパターン電極であり、前記第２の透明基板に形成された透明電極は前記第１の開口数に対応する領域に形成された同心円状のパターン電極であることを特徴とする光ヘッド装置。
16. 請求項１４記載の光ヘッド装置において、前記第１の光情報記録媒体の基本記録層に前記レーザ光を集光するときは前記第１の透明基板に形成された透明電極に電圧を印加し、前記第１の光情報記録媒体の基本記録層以外の層に前記レーザ光を集光するときは前記第１の透明基板に形成された透明電極と前記第２の透明基板に形成された透明電極に電圧を印加し、前記第２の光情報記録媒体に前記レーザ光を集光するときは前記第１の透明基板に形成された透明電極に電圧を印加することを特徴とする光ヘッド装置。
17. 請求項１０記載の光ヘッド装置において、前記第１の光情報記録媒体は多層記録媒体であり、前記収差補償素子部の前記第１の透明基板に形成された透明電極は、前記第２の開口数に対応する領域に、前記第１の光情報記録媒体の各記録層に前記レーザ光を集光するときのＲＭＳ波面収差及び前記第２の光情報記録媒体に前記レーザ光を集光するときのＲＭＳ波面収差を電圧印加によって１／４以下に補償できる電極配置を有し、前記第２の開口数の外側かつ前記第１の開口数の内側に対応する環状領域に、前記第１の光情報記録媒体の各記録層に前記レーザ光を集光するときのＲＭＳ波面収差を電圧印加によって１／４以下に補償できる電極配置を有することを特徴とする光ヘッド装置。
18. 請求項１７記載の光ヘッド装置において、前記第１の光情報記録媒体の基本記録層に前記レーザ光を集光するときは前記第２の開口数に対応する領域に形成された透明電極に電圧を印加し、前記第１の光情報記録媒体の基本記録層以外の層に前記レーザ光を集光するときは前記第２の開口数に対応する領域に形成された透明電極と前記環状領域に形成された透明電極に電圧を印加し、前記第２の光情報記録媒体に前記レーザ光を集光するときは前記第２の開口数に対応する領域に形成された透明電極に電圧を印加することを特徴とする光ヘッド装置。